JP2005086126A - Method for manufacturing stage, hot plate, processing machine, and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ステージ、ホットプレート、加工装置及び電子機器の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a stage, a hot plate, a processing apparatus, and an electronic apparatus manufacturing method.
電子機器の一例である液晶表示装置は、薄型・軽量でしかも消費電力が小さいことから、携帯電話や携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、TV受像機等で利用されており、CRT(Cathode Ray Tube)表示装置に代わって、急速に普及している。この液晶表示装置は、複雑な製造工程を経て生産されており、この製造工程における歩留を向上するための研究が、盛んに進められている。 A liquid crystal display device, which is an example of an electronic device, is thin and lightweight and consumes little power. Therefore, it is used in mobile phones, personal digital assistants, personal computers, TV receivers, etc., and has a CRT (Cathode Ray Tube) display. Instead of devices, it is rapidly becoming popular. This liquid crystal display device is produced through a complicated production process, and researches for improving the yield in this production process are being actively pursued.
液晶表示装置は、例えば、電極や配向膜等を有する2枚の基板の間に液晶の層を備えている。液晶表示装置の製造工程には、例えば、配向膜の予備乾燥を行う配向膜仮焼成工程や、配向膜表面に配向処理(ラビング)を施すラビング工程、基板にシール材のパターンを塗布するシール塗布工程、基板にトランスファ材を塗布するトランスファ電極塗布工程、基板をいくつかのセルに分断するセル分断工程等がある。これらの製造工程では、製造装置に設けられたステージ上に基板を固定して作業が行われる。このとき、基板をステージ上に固定するために真空吸着を行うことが一般的である。以下、ステージには、基板を固定し加熱処理を行うホットプレートも含まれるものとする。 The liquid crystal display device includes, for example, a liquid crystal layer between two substrates having electrodes, an alignment film, and the like. In the manufacturing process of the liquid crystal display device, for example, an alignment film temporary baking process for preliminarily drying the alignment film, a rubbing process for performing an alignment treatment (rubbing) on the alignment film surface, and a seal coating for applying a sealant pattern to the substrate There are a process, a transfer electrode application process for applying a transfer material to the substrate, a cell dividing process for dividing the substrate into several cells, and the like. In these manufacturing processes, the substrate is fixed on a stage provided in the manufacturing apparatus, and work is performed. At this time, vacuum suction is generally performed to fix the substrate on the stage. Hereinafter, the stage includes a hot plate that fixes the substrate and performs heat treatment.
従来の液晶表示装置の製造装置で用いられるステージとして、例えば、図6に示すものが知られている。ここで、図6(a)は上面図、図6(b)は断面図である。このステージ60は、図に示されるように、複数の吸着孔61を有している。例えば、ステージ60の上面に基板を置き、ステージ60の下方から吸着孔61を介して真空ポンプ等により吸引し、ステージ60の上面に基板を固定する。
As a stage used in a conventional apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, for example, a stage shown in FIG. 6 is known. Here, FIG. 6A is a top view and FIG. 6B is a cross-sectional view. As shown in the figure, the
図7は、従来のステージの上面に基板を固定した状態における断面図である。図6と同様に、60はステージ、61は吸着孔を示しており、70は基板を示している。基板70をステージ60に吸着した場合、図に示されるように、基板70と吸着孔61の吸着部分において、基板70にゆがみが生じてしまう。
FIG. 7 is a cross-sectional view in a state where a substrate is fixed to the upper surface of a conventional stage. As in FIG. 6, 60 is a stage, 61 is a suction hole, and 70 is a substrate. When the
このため、例えば、ラビング工程においては配向不良を、シール塗布工程やトランスファ電極塗布工程においては線幅や塗布径の異常を、セル分断工程においては切断不良を生じるなど種々の工程において工程不良を発生させる場合がある。 For this reason, for example, alignment defects occur in the rubbing process, line widths and application diameters abnormal in the seal coating process and transfer electrode coating process, and defective processes occur in various processes such as a cutting defect in the cell dividing process. There is a case to let you.
また、図6における60をホットプレートとして、上述と同様に基板を吸着し熱を加えた場合、吸着孔61の部分で温度差を生じてしまう。このため、例えば、配向膜仮焼成工程において乾燥ムラによる表示不良を起こす場合もある。
Further, when 60 in FIG. 6 is used as a hot plate and the substrate is adsorbed and heat is applied in the same manner as described above, a temperature difference occurs in the
特に、近年は基板の薄型化が進んでいるため、吸着による基板の変形の影響を受けやすくなっている。 In particular, since the thickness of the substrate has been reduced in recent years, it is easily affected by the deformation of the substrate due to adsorption.
尚、ステージと基板との間に保護紙を設けることにより表示不良を防ぐ方法が知られている(特許文献1参照)。
このように、従来のステージを用いた液晶表示装置等の電子機器の製造方法では、ステージへの基板の吸着による基板変形や温度分布のムラのため、工程不良や表示不良等の製造不良が発生するという問題点があった。 As described above, in the conventional method for manufacturing an electronic apparatus such as a liquid crystal display device using a stage, manufacturing defects such as process defects and display defects occur due to substrate deformation and uneven temperature distribution due to adsorption of the substrate to the stage. There was a problem of doing.
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、ステージへの基板の吸着による製造不良を防ぐことである。 The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to prevent manufacturing defects due to adsorption of a substrate to a stage.
本発明にかかるステージは、基板を吸着するステージであって、前記基板を吸着する吸着面に凹部(例えば、吸着孔)を形成された本体部と、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持するように、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着するものである。これにより、基板の吸着による基板変形を防ぐことができる。 A stage according to the present invention is a stage that adsorbs a substrate, and a main body portion in which a concave portion (for example, an adsorption hole) is formed on an adsorption surface that adsorbs the substrate, a porous member embedded in the concave portion, And adsorbing the substrate through the porous member embedded in the recess so that the porous member supports the substrate together with the adsorption surface. Thereby, the board | substrate deformation | transformation by adsorption | suction of a board | substrate can be prevented.
上述のステージにおいて、前記多孔質部材の上面は、前記本体部の吸着面とつら位置であってもよい。これにより、基板の吸着による基板変形をより確実に防ぐことができる。 In the above-described stage, the upper surface of the porous member may be in a position that is in the same position as the suction surface of the main body. Thereby, the board | substrate deformation | transformation by adsorption | suction of a board | substrate can be prevented more reliably.
上述のステージにおいて、前記多孔質部材は多孔質セラミックで形成されていてもよい。これにより、基板の吸着による基板変形をより確実に防ぐことができる。 In the above-described stage, the porous member may be formed of a porous ceramic. Thereby, the board | substrate deformation | transformation by adsorption | suction of a board | substrate can be prevented more reliably.
本発明にかかる加工装置は、基板を吸着するステージと、前記ステージに吸着された基板を加工する加工手段と、を備え、前記ステージは、前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持するように、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着するものである。これにより、基板を吸着した場合の基板変形による製造不良の発生を低減することができる。 A processing apparatus according to the present invention includes a stage that sucks a substrate and a processing unit that processes the substrate sucked on the stage, and the stage has a main body having a recess formed on the suction surface that sucks the substrate. And a porous member embedded in the recess, and the substrate adsorbs the substrate through the porous member embedded in the recess so that the porous member supports the substrate together with the adsorption surface. To do. Thereby, it is possible to reduce the occurrence of manufacturing defects due to substrate deformation when the substrate is adsorbed.
本発明にかかるホットプレートは、基板を吸着し、加熱するホットプレートであって、前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着するものである。これにより、基板の吸着による温度分布のムラを防ぐことができる。 A hot plate according to the present invention is a hot plate that sucks and heats a substrate, and includes a main body having a recess formed on the suction surface for sucking the substrate, and a porous member embedded in the recess. And adsorbing the substrate through a porous member embedded in the recess. Thereby, unevenness of the temperature distribution due to the adsorption of the substrate can be prevented.
本発明にかかる加工装置は、基板を吸着し、加熱するホットプレートと、前記ホットプレートに吸着された基板を過熱する加熱手段と、を備え、前記ホットプレートは、前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着するものである。これにより、基板を吸着した場合の温度分布のムラによる製造不良の発生を低減することができる。 A processing apparatus according to the present invention includes a hot plate that sucks and heats a substrate, and a heating unit that superheats the substrate sucked by the hot plate, and the hot plate has a suction surface that sucks the substrate. A main body having a concave portion and a porous member embedded in the concave portion are provided, and the substrate is adsorbed through the porous member embedded in the concave portion. Thereby, it is possible to reduce the occurrence of manufacturing defects due to uneven temperature distribution when the substrate is adsorbed.
本発明にかかる製造方法は、基板をステージ上に設置する工程と、前記ステージの本体部の凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して、前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持状態で、前記基板を前記ステージに吸着する工程と、前記ステージに吸着された前記基板を加工する工程とを有するものである。これにより、基板を吸着した場合の基板変形による製造不良の発生を低減することができる。 In the manufacturing method according to the present invention, the porous member supports the substrate together with the adsorption surface through the step of placing the substrate on the stage and the porous member embedded in the concave portion of the main body of the stage. Thus, the method includes a step of adsorbing the substrate to the stage and a step of processing the substrate adsorbed to the stage. Thereby, it is possible to reduce the occurrence of manufacturing defects due to substrate deformation when the substrate is adsorbed.
本発明にかかる製造方法は、基板をホットプレート上に設置する工程と、前記ホットプレートの本体部の凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して、前記吸着面が前記基板を支持状態で、前記基板を前記ホットプレートに吸着する工程と、前記本体部を加熱することによって、前記ホットプレートに吸着された前記基板を加熱する工程とを有するものである。基板を吸着した場合の温度分布のムラによる製造不良の発生を低減することができる。 The manufacturing method according to the present invention includes a step of placing a substrate on a hot plate and a porous member embedded in a concave portion of a main body portion of the hot plate, with the suction surface supporting the substrate, A step of adsorbing the substrate to the hot plate; and a step of heating the substrate adsorbed to the hot plate by heating the main body. Occurrence of manufacturing defects due to uneven temperature distribution when the substrate is adsorbed can be reduced.
本発明によれば、ステージへの基板の吸着による製造不良を防ぐことができる。 According to the present invention, it is possible to prevent manufacturing defects due to adsorption of the substrate to the stage.
本発明の実施の形態1.
まず、図1を用いて、本発明の実施の形態1にかかる液晶表示装置の製造装置の構成について説明する。この製造装置は、図に示されるように、架台1、ステージ2、ディスペンサ支持部3、ディスペンサ4及び搬送ロボット5から構成されている。また、この他にステージ搬送部等を備えてもよい。さらに、各製造工程で必要となる要素を備えてもよい。例えば、ラビング工程におけるラビングローラー等を備えたり、配向膜仮焼成工程における加熱部等を備えてもよい。
First, the configuration of a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device according to
例えば、搬送ロボット5により後述する液晶表示装置となる基板をステージ2上に搬送し、所定の位置に基板を吸着する。そして、後述するように、ディスペンサ4によりシール材やトランスファ電極等を基板に塗布する。
For example, a substrate serving as a liquid crystal display device (to be described later) is transported onto the
次に、図2を用いて、本実施形態で用いるステージの構成について説明する。ここで、図2(a)は上面図、図2(b)は断面図を示している。このステージ2は、図に示されるように、本体部23と、本体部23の凹部である吸着孔21に埋め込まれた多孔質セラミック部材22を有している。また、本体部23の上面及び下面と垂直方向に複数の吸着孔21を有し、これらの吸着孔21に多孔質セラミック部材22が埋め込まれている。
Next, the configuration of the stage used in this embodiment will be described with reference to FIG. Here, FIG. 2A shows a top view and FIG. 2B shows a cross-sectional view. As shown in the figure, the
ステージ2は、前述の製造装置において基板を吸着により固定し、各製造工程が行われるものである。例えば、ステージ2の下面には図示しない真空ポンプとの配管が備えられており、ステージ2の上面に置かれた基板を、ステージ2の下方から多孔質セラミック部材22を介して真空ポンプにより吸引し、ステージ2の上面に基板を固定する。また、ステージ2の上面は、基板の全体を均一に固定するため、平面となっている。例えば、ステージ2の上面及び下面の広さは吸着する基板よりも広く、厚さは5mm程度であるが、この大きさに限らない。本体部23は、金属等、真空吸着に耐えられる硬さのものであればよく、その材質等は限定されない。また、本体部23は、多孔質材料ではなく、無孔質材料で形成されており、これにより、多孔質セラミック部材22を介して基板が吸引される。
In the
吸着孔21は、基板全体を吸着し固定するように、複数設けられている。吸着孔21の数は、限定されず任意の数でよいが、例えば、縦×横で表すと、6個×8個や、15個×20個である。吸着孔21の直径は、特に限定されないが、例えば、1mmや3mmである。また、吸着孔21は、真空吸着できる凹部であればよく、形状等は限定されない。例えば、吸着孔21は、図に示すような、本体部23の上面及び下面に対し垂直で断面形状が丸型の貫通孔でもよいし、本体部23の上面に溝を設けて吸着溝としてもよい。吸着溝とした場合の形状は、例えば、本体部23の上面から見て、口の字状や、田の字状、碁盤の目状等でもよい。吸着溝の幅は、特に限定されないが、例えば、2mmや3mmである。また、吸着溝の場合、ステージ2の下面からではなく、側面から真空ポンプにより吸引してもよい。
A plurality of suction holes 21 are provided so as to suck and fix the entire substrate. The number of the suction holes 21 is not limited and may be an arbitrary number. For example, the number of the suction holes 21 is 6 × 8 or 15 × 20 when expressed in length × width. The diameter of the
多孔質セラミック部材22は、前述の通り真空吸着により基板を固定するものであるから、上面が本体部23の上面とつら位置となるように、吸着孔21に埋め込まれている。また、ステージ2がホットプレートの場合、吸着した基板に温度分布のムラがおきなければ、多孔質セラミック部材22は、上面が吸着した基板と接していなくてもよい。多孔質セラミック部材22の下面の位置は、特に限定されず、例えば、本体部23の下面とつら位置でもよいし、突出したり、へこんでいてもよい。また、多孔質セラミック部材22は、真空ポンプの吸引による気圧をフィルタのように通すことができる通気性の良いものであり、かつ、基板の吸着に耐えられる硬さのものであればよい。例えば、アルミナ、シリカ、窒化ケイ素等であるが、これに限らず、多孔質の金属等でもよい。多孔質セラミック部材22の内部の孔の大きさや数は、特に限定されないが、基板を真空吸着する力に影響が出ない程度であることが好ましい。尚、ステージ2がホットプレートの場合は、上記の他に、加えられる熱に耐えうる必要がある。
Since the porous
図3は、本実施形態で用いるステージの上面に基板を固定した状態における断面図である。図2と同様に、2はステージ、21は吸着孔、22は多孔質セラミック、23は本体部を示しており、30は基板を示している。この基板30は、後述する電極基板でもよいし、カラーフィルタ基板でもよい。基板30をステージ2に吸着した場合、図に示されるように、基板30がゆがむことなく本体部23及び多孔質セラミック部材22の上面と密着し固定されている。
FIG. 3 is a cross-sectional view in a state where the substrate is fixed to the upper surface of the stage used in the present embodiment. As in FIG. 2, 2 is a stage, 21 is an adsorption hole, 22 is a porous ceramic, 23 is a main body, and 30 is a substrate. The
このように、ステージ2の上面に基板を吸着した場合、多孔質セラミック部材22の上面により基板30を支持することにより、基板30の変形を防ぐことができる。また、ステージ2がホットプレートの場合には、本体部23と共に多孔質セラミック部材22が基板30の下面に熱を伝えるため、吸着孔のときに問題となる温度分布のムラを防ぐことができる。
As described above, when the substrate is adsorbed on the upper surface of the
続いて、図4を用いて、本実施形態により製造される液晶表示装置の構成について説明する。尚、ここでは、一例としてTFT液晶表示装置について説明する。この液晶表示装置400は、図に示されるように、電極基板410、カラーフィルタ基板420、電極基板410とカラーフィルタ基板420との間に充填された液晶430から構成されている。また、電極基板410は、ガラス基板411の一方の面に表示電極412、電極端子414及び配向膜413を有し、他方の面に偏光板414を有しており、さらに、図示しないスイッチング素子等を有している。カラーフィルタ基板420は、ガラス基板421の一方の面に共通電極422及び配向膜423を有し、他方の面に偏光板424を有しており、さらに、図示しないカラーフィルタ等を有している。そして、電極基板410とカラーフィルタ基板420とは、スペーサ433により所定のギャップとなるように、シール材431を介して貼り合わせられている。また、電極端子414と共通電極422は、トランスファ電極432により電気的に接続されている。さらに、液晶表示装置400は、この他に、図示しない駆動用ドライバ、光源となるバックライトユニット等を備えている。
Next, the configuration of the liquid crystal display device manufactured according to the present embodiment will be described with reference to FIG. Here, a TFT liquid crystal display device will be described as an example. As shown in the figure, the liquid
液晶表示装置400は、例えば、駆動用ドライバから電気信号を入力されると、表示電極412及び共通電極422に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶430の分子の方向が変わる。そして、光源の発する光が電極基板410、液晶430及びカラーフィルタ基板420を介して外部へ透過あるいは遮断されることにより、液晶表示装置400に映像等が表示される。
In the liquid
尚、この液晶表示装置400は、一例であり他の構成でもよい。液晶表示装置400の動作モードは、TN(twisted nematic)モードや、STN(supper twisted nematic)モード、強誘電性液晶モード等でもよく、駆動方法は、単純マトリックスやアクティブマトリックス等でもよい。
The liquid
次に、図5に示すフローチャートを用いて、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法について説明する。ガラス基板411の一方の面に、フォトリソグラフィー法等を用いて表示電極412やスイッチング素子、電極端子414を形成し、同様に、ガラス基板421の一方の面に、カラーフィルタや共通電極422を形成した後、S501が行われる。
Next, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Display electrodes 412, switching elements, and electrode terminals 414 are formed on one surface of the glass substrate 411 using a photolithography method or the like, and similarly, color filters and a common electrode 422 are formed on one surface of the
まず、基板洗浄工程において、表示電極412が形成されている電極基板410を洗浄する(S501)。次に、配向膜塗布工程において、電極基板410の一方の面に、配向膜413を塗布する(S502)。この工程は、例えば、印刷法によりJSR社製の配向膜AL3046を塗布することにより行われる。そして、配向膜仮焼成工程において、配向膜413を予備乾燥させる(S503)。この工程は、例えば、ステージ2であるホットプレート上に電極基板410を固定し80°で溶媒を乾燥させることにより行われる。さらに、配向膜本焼成工程において、配向膜413を完全に乾燥させる(S504)。この工程は、例えば、230°のオーブンで本焼成することにより行われる。その後、ラビング工程において、配向膜413にラビングを行い、配向膜413を配向させる(S505)。この工程は、例えば、ステージ2上に電極基板410を固定しラビングローラーを擦り付けることにより行われる。
First, in the substrate cleaning step, the
また、S501からS505と同様に、共通電極422が形成されているカラーフィルタ基板420について、洗浄、配向膜423の塗布、仮焼成、本焼成、ラビングを行う。
Similarly to S501 to S505, the
シール塗布工程において、電極基板410あるいはカラーフィルタ基板420の一方の面にシール材431を塗布する(S506)。この工程は、例えば、ステージ2上に電極基板410あるいはカラーフィルタ基板420を固定し、エポキシ系接着剤等の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂を、液晶注入口を形成するようにディスペンサ4で塗布することにより行われる。次に、トランスファ電極塗布工程において、電極基板410あるいはカラーフィルタ基板420の一方の面にトランスファ電極432を塗布する(S507)。この工程は、例えば、ステージ2上に電極基板410あるいはカラーフィルタ基板420を固定し、ディスペンサ4により導電性ペーストを塗布することにより行われる。そして、スペーサ散布工程において、電極基板410あるいはカラーフィルタ基板420の一方の面にスペーサ433を散布する(S508)。この工程は、例えば、湿式法や乾式法によりスペーサを分散させることにより行われる。その後、貼り合わせ工程において、電極基板410とカラーフィルタ基板420を張り合わせる(S509)。
In the seal application process, the seal material 431 is applied to one surface of the
シール硬化工程において、電極基板410とカラーフィルタ基板420を貼り合わせた状態で、シール材431を完全に硬化させる(S510)。この工程は、例えば、シール材431の材質に合わせて熱を加えたり、紫外線を照射することにより行われる。次に、セル分断工程において、貼り合わせた基板を個別セルに分解する(S511)。この工程は、例えば、ステージ2上に貼り合わせた基板を固定し、切断することにより行われる。そして、液晶注入工程において、液晶注入口から液晶を注入する(S512)。この工程は、例えば、Merck社製の液晶ZNL−4792を液晶注入口から真空注入により充填することにより行われる。さらに、封止工程において、液晶注入口を封止する(S513)。この工程は、例えば、光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。その後、偏光板貼付工程において、セルに偏光板414、424を貼り付ける(S514)。この工程は、例えば、ステージ2上にセルを固定し、貼り付けることにより行われる。
In the seal curing step, the seal material 431 is completely cured with the
このようにして、液晶表示装置400が得られる。上述の通り、配向膜仮焼成工程、ラビング工程、シール工程、トランスファ電極塗布工程、セル分断工程、偏光板貼付工程において、ステージ2を用いることにより、基板の吸着による変形や温度分布のムラに起因する工程不良や表示不良のない良質の画像の液晶表示装置400を得ることができる。
In this way, the liquid
このように、ステージ2では、吸着孔21に多孔質セラミック部材22が埋め込まれ、吸着された基板を多孔質セラミック部材22で支持しているため吸着孔部分の段差がなく、吸着された基板の変形がきわめて少ない。このため、基板に配向処理を行う場合や、シール材などを塗布する場合に基板の変形による塗布ムラ等の不良を生ずることがない。
As described above, in the
また、ステージ2をホットプレートとした場合も、従来のように吸着孔部分が中空になっている場合と異なり吸着部分でも基板とステージが接触できるため、温度分布の差が少ない。このため、配向膜の予備乾燥のような温度に敏感な工程においても表示不良を生ずることがない。
Also, when the
その他の本発明の実施の形態.
上述の例では、主に、液晶表示装置の製造工程における液晶セル組立工程について説明したが、これに限らず、スイッチング素子を形成する工程や、カラーフィルタを形成する工程、液晶モジュール組立工程としてもよい。
Other Embodiments of the Invention
In the above example, the liquid crystal cell assembling process in the manufacturing process of the liquid crystal display device has been mainly described. However, the present invention is not limited to this. Good.
また、上述の例では、液晶表示装置の製造方法として説明したが、これに限らず、プラズマ表示装置や有機EL表示装置、半導体等の製造方法としてもよい。 In the above example, the method for manufacturing a liquid crystal display device has been described. However, the present invention is not limited to this, and a method for manufacturing a plasma display device, an organic EL display device, a semiconductor, or the like may be used.
1 架台
2 ステージ
3 ディスペンサ支持部
4 ディスペンサ
5 搬送ロボット
21 吸着孔
22 多孔質セラミック
23 本体部
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、
前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持するように、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着する、ステージ。 A stage for adsorbing a substrate,
A main body having a recess formed in an adsorption surface for adsorbing the substrate;
A porous member embedded in the recess,
A stage that adsorbs the substrate through the porous member embedded in the recess so that the porous member supports the substrate together with the adsorption surface.
前記ステージに吸着された基板を加工する加工手段と、を備え、
前記ステージは、
前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、
前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持するように、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着する、
加工装置。 A stage for adsorbing the substrate;
Processing means for processing the substrate adsorbed on the stage,
The stage is
A main body having a recess formed in an adsorption surface for adsorbing the substrate;
A porous member embedded in the recess,
Adsorbing the substrate through the porous member embedded in the recess so that the porous member supports the substrate together with the adsorption surface;
Processing equipment.
前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着する、
ホットプレート。 A hot plate for adsorbing and heating a substrate,
A main body having a recess formed in an adsorption surface for adsorbing the substrate;
A porous member embedded in the recess,
Adsorbing the substrate through a porous member embedded in the recess;
Hot plate.
前記ホットプレートに吸着された基板を過熱する加熱手段と、を備え、
前記ホットプレートは、
前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、
前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着する、
加工装置。 A hot plate that adsorbs and heats the substrate;
Heating means for heating the substrate adsorbed on the hot plate,
The hot plate is
A main body having a recess formed in an adsorption surface for adsorbing the substrate;
A porous member embedded in the recess,
Adsorbing the substrate through a porous member embedded in the recess;
Processing equipment.
前記ステージの本体部の凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して、前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持状態で、前記基板を前記ステージに吸着する工程と、
前記ステージに吸着された前記基板を加工する工程と、
を有する、電子機器の製造方法。 Installing the substrate on the stage;
A step of adsorbing the substrate to the stage while the porous member supports the substrate together with the adsorption surface through the porous member embedded in the recess of the main body of the stage;
Processing the substrate adsorbed on the stage;
A method for manufacturing an electronic device.
前記ホットプレートの本体部の凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して、前記吸着面が前記基板を支持状態で、前記基板を前記ホットプレートに吸着する工程と、
前記本体部を加熱することによって、前記ホットプレートに吸着された前記基板を加熱する工程と、
を有する、電子機器の製造方法。 Installing the substrate on a hot plate;
A step of adsorbing the substrate to the hot plate with the adsorption surface supporting the substrate via a porous member embedded in a recess of the main body of the hot plate;
Heating the substrate adsorbed on the hot plate by heating the body portion; and
A method for manufacturing an electronic device.
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