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JP2005054172A - Polyamic acid, polyimide film comprising the same, method for producing the same, and flexible circuit board - Google Patents

Polyamic acid, polyimide film comprising the same, method for producing the same, and flexible circuit board Download PDF

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JP2005054172A
JP2005054172A JP2004203290A JP2004203290A JP2005054172A JP 2005054172 A JP2005054172 A JP 2005054172A JP 2004203290 A JP2004203290 A JP 2004203290A JP 2004203290 A JP2004203290 A JP 2004203290A JP 2005054172 A JP2005054172 A JP 2005054172A
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JP
Japan
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polyimide film
polyamic acid
diaminobiphenyl
peel strength
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004203290A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Ishibashi
忠司 石橋
Kenji Uhara
賢治 鵜原
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Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
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Abstract

【課題】 接着剤を介し金属箔と圧着された際の剥離強度が強いポリイミドフィルム、そのフィルムを容易に製造する方法およびそのフィルムを用いた回路基板を提供する。
【解決手段】 カルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルを1〜100モル%の割合で含有する芳香族ジアミンと、芳香族テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とから合成されるポリアミック酸と、これを熱的および/または化学的にイミド化させることにより得られるポリイミドフィルム。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film having high peel strength when it is pressure-bonded to a metal foil through an adhesive, a method for easily producing the film, and a circuit board using the film.
SOLUTION: A polyamic acid synthesized from an aromatic diamine containing carboxy-4,4'-diaminobiphenyl in a proportion of 1 to 100 mol% and an aromatic tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof, and A polyimide film obtained by thermally and / or chemically imidizing a polymer.
[Selection figure] None

Description

本発明は、ポリアミック酸、それからなるポリイミドフィルム、その製造方法およびフレキシブル回路基板に関するものである。更に詳しくは、接着剤を介して金属箔と接着した場合に、極めて大きな剥離強度を得ることのできるポリイミドフィルム、そのフィルムの製造方法およびそれらを利用したフレキシブル回路基板に関するものである。   The present invention relates to a polyamic acid, a polyimide film comprising the same, a method for producing the same, and a flexible circuit board. More specifically, the present invention relates to a polyimide film capable of obtaining extremely high peel strength when bonded to a metal foil via an adhesive, a method for producing the film, and a flexible circuit board using them.

ポリイミドフィルムは、その優れた絶縁性と耐熱性から、例えば銅箔などの金属箔と積層したフレキシブル回路基板用のベースフィルムなどの用途に幅広く利用されている。   The polyimide film is widely used for applications such as a base film for a flexible circuit board laminated with a metal foil such as a copper foil because of its excellent insulation and heat resistance.

しかしながら、ポリイミドフィルムは接着剤との剥離強度が十分でないため、長期的に使用された際に剥離することがあり、長期信頼性に欠けるという問題があった。この欠点を改良するために、ポリイミドフィルムに対するさまざまな電気、物理あるいは化学的処理が試みられてきたが、これらの処理はその処理工程に多くの試薬、時間、労力などを要するという問題があった。   However, since the polyimide film has insufficient peel strength with respect to the adhesive, it may peel off when used for a long period of time, resulting in a problem of lack of long-term reliability. In order to remedy this drawback, various electrical, physical or chemical treatments have been attempted on polyimide films. However, these treatments have a problem that a lot of reagents, time, and labor are required for the treatment steps. .

ポリイミドフィルムの接着力を改質する方法としては、例えば、フィルム表面をプラズマ処理する方法(例えば、特許文献1参照)が知られているが、この場合には、プラズマ処理を施すことによって工程数が増えるという問題があった。   As a method for modifying the adhesive force of the polyimide film, for example, a method of plasma-treating the film surface (see, for example, Patent Document 1) is known. In this case, the number of steps is achieved by performing plasma treatment. There was a problem that increased.

また、シラン系カップリング剤を塗布したポリイミドフィルム(例えば、特許文献2参照)も知られているが、この場合には、シラン系カップリング剤を塗布する工程数が増えるばかりか、シラン系カップリング剤がポリアミック酸からポリイミドに閉環する際の熱処理によって分解するため、接着力が低下してしまうという問題があった。   A polyimide film coated with a silane coupling agent (see, for example, Patent Document 2) is also known. In this case, the number of steps for coating the silane coupling agent is increased. Since the ring agent is decomposed by heat treatment when the ring is closed from polyamic acid to polyimide, there is a problem that the adhesive strength is reduced.

さらに、錫化合物を含有する接着性と耐久性に優れたポリイミドフィルム(例えば、特許文献3参照)も知られているが、このポリイミドフィルムの剥離強度が10N/cm以下であり、十分な接着力を有するものではなかった。   Furthermore, a polyimide film containing a tin compound and excellent in adhesion and durability (see, for example, Patent Document 3) is also known, but the peel strength of this polyimide film is 10 N / cm or less, and sufficient adhesive strength. Did not have.

さらにまた、接着性に優れた熱可塑性ポリイミド(例えば、特許文献4参照)も知られているが、この場合には、熱可塑性のために半田付けの際に熱によりポリイミドフィルム基板が沈み込むという欠点を有していた。
特開平8−41227号公報 特開平6−336533号公報 特開平4−261466号公報 特開2003−27014公報
Furthermore, a thermoplastic polyimide excellent in adhesiveness (see, for example, Patent Document 4) is also known, but in this case, the polyimide film substrate sinks due to heat during soldering due to thermoplasticity. Had drawbacks.
JP-A-8-41227 JP-A-6-336533 JP-A-4-261466 JP 2003-27014 A

本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果達成されたものである。   The present invention has been achieved as a result of studying the solution of the problems in the prior art described above as an issue.

したがって、本発明の第1の目的は、接着剤を介して金属箔と接着した場合に強い剥離強度を持つポリイミドフィルムを得ることにある。   Accordingly, a first object of the present invention is to obtain a polyimide film having a strong peel strength when bonded to a metal foil via an adhesive.

また、本発明の第2の目的は、ポリイミドフィルムの剥離強度を向上させるための処理に、多くの試薬、時間、労力などを必要とせず大量生産に適し、低コストでかつ高品質の高剥離強度ポリイミドを製造する方法を確立することにある。   In addition, the second object of the present invention is a process for improving the peel strength of the polyimide film, which does not require many reagents, time, labor, etc. and is suitable for mass production, low cost and high quality and high peel. The purpose is to establish a method for producing a strength polyimide.

上記の課題を達成するために、本発明のポリアミック酸は、下記一般式(I)で表されるカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルを1〜100モル%の割合で含有する芳香族ジアミンと、芳香族テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とから合成されたことを特徴とし、   In order to achieve the above object, the polyamic acid of the present invention comprises an aromatic diamine containing carboxy-4,4′-diaminobiphenyl represented by the following general formula (I) in a proportion of 1 to 100 mol%. , Synthesized from an aromatic tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof,

Figure 2005054172
Figure 2005054172

(ただし、式中のm、nは0を含む4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数である)   (However, m and n in the formula are integers of 4 or less including 0, and (m + n) is an integer of 1 or more.)

前記カルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルが下記一般式(II)で表される2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルおよび/または3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルであることを好ましい条件とする。    The carboxy-4,4′-diaminobiphenyl is represented by the following general formula (II): 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and / or 3,3′-dicarboxy-4,4 The preferred condition is' -diaminobiphenyl.

Figure 2005054172
Figure 2005054172

また、本発明のポリイミドフィルムは、上記ポリアミック酸からなることを特徴とし、
下記一般式(III)および(IV)で示される構造単位を有することを特徴とする。
Moreover, the polyimide film of the present invention is characterized by comprising the above polyamic acid,
It has the structural unit shown by the following general formula (III) and (IV), It is characterized by the above-mentioned.

Figure 2005054172
Figure 2005054172

Figure 2005054172
Figure 2005054172

(ただし、式中のR1 は、下記一般式で示される基のいずれかであり、   (However, R1 in the formula is one of the groups represented by the following general formula,

Figure 2005054172
Figure 2005054172

式中のR2 は下記一般式で示される基のいずれかである。 R2 in the formula is any of the groups represented by the following general formula.

Figure 2005054172
Figure 2005054172

また、式中のX:Yのモル比は1:99〜100:0である。)
接着剤を介して銅箔と熱圧着した際に、下記の方法により測定した剥離強度が10N/cm以上であること
が、いずれも好ましい条件として挙げられる。
Moreover, the molar ratio of X: Y in the formula is 1:99 to 100: 0. )
A preferable condition is that the peel strength measured by the following method is 10 N / cm or more when thermocompression-bonded with a copper foil via an adhesive.

(剥離強度:接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、4.4×107 Paで60分間加熱圧着し、得られた積層体をJIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さを剥離強度とする。)  (Peel strength: using Piralux R (registered trademark of DuPont) LF-0100, which is an adhesive film, a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13-T manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) at 180 ° C. (The peel strength is determined by thermocompression bonding at 4.4 × 10 7 Pa for 60 minutes and the resulting laminate is peeled off by the method described in JIS C5016-1994.)

さらに、本発明のポリイミドフィルムの製造方法は、上記ポリアミック酸を熱的および/または化学的にイミド化することを特徴とする。   Furthermore, the method for producing a polyimide film of the present invention is characterized in that the polyamic acid is thermally and / or chemically imidized.

さらにまた、本発明のフレキシブル回路基板は、上記のポリイミドフィルムに接着剤を介して金属箔を圧着してなることを特徴とする。   Furthermore, the flexible circuit board of the present invention is characterized in that a metal foil is pressure-bonded to the polyimide film via an adhesive.

本発明のポリアミック酸からなるポリイミドフィルムは、接着剤を介して金属箔に圧着された際の剥離強度が10N/cm以上と高く、フレキシブル回路基板用ベースフィルムとして使用された際に長期的に剥離強度を維持することができ、長期信頼性に優れたフレキシブル回路基板を与えることができる。   The polyimide film made of the polyamic acid of the present invention has a high peel strength of 10 N / cm or more when it is pressure-bonded to a metal foil via an adhesive, and peels off for a long time when used as a base film for a flexible circuit board. Strength can be maintained, and a flexible circuit board excellent in long-term reliability can be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

まず、本発明における剥離強度の定義について説明する。   First, the definition of peel strength in the present invention will be described.

すなわち、本発明でいう剥離強度とは、接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、450kg/cm2で60分間加熱圧着することにより得られた積層体を、JIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さである。   In other words, the peel strength as used in the present invention refers to a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13 manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) using Piralux R (registered trademark of DuPont) LF-0100 which is an adhesive film. T) is a strength obtained by peeling off a laminate obtained by thermocompression bonding at 180 ° C. and 450 kg / cm 2 for 60 minutes by the method described in JIS C5016-1994.

剥離強度は、必要に応じてプラズマ処理、コロナ処理などの電気処理や、物理、化学処理を行うことによって、さらに向上させることが可能である。しかしながら、本発明では、上記の処理を全く処理を施さない状態で、上記方法により測定した値を剥離強度と定義する。この値はポリイミドフィルムが本質的に有する剥離強度を的確に再現する。   The peel strength can be further improved by performing electrical treatment such as plasma treatment and corona treatment, physical treatment, and chemical treatment as necessary. However, in this invention, the value measured by the said method in the state which does not perform said process at all is defined as peeling strength. This value accurately reproduces the peel strength inherent to the polyimide film.

剥離強度は好ましくは10N/cm以上である。一方、剥離強度が10N/cm以下の場合はフレキシブル回路基板としての使用時に金属箔層の剥がれなどを生ずることがあるため好ましくない。   The peel strength is preferably 10 N / cm or more. On the other hand, a peel strength of 10 N / cm or less is not preferable because the metal foil layer may be peeled off when used as a flexible circuit board.

本発明のポリアミック酸に使用される芳香族ジアミンは、カルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルを含有することが必須の条件である。この芳香族ジアミンを含有しない場合は、得られたポリイミドフィルムが、目的とする剥離強度を示さないからである。   It is essential that the aromatic diamine used in the polyamic acid of the present invention contains carboxy-4,4'-diaminobiphenyl. This is because when the aromatic diamine is not contained, the obtained polyimide film does not exhibit the intended peel strength.

本発明のポリアミック酸に使用されるカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルの添加量は、1〜100モル%、好ましくは5〜100モル%の範囲とすることが重要である。すなわち、添加量が上記の範囲未満の場合は、目的とする剥離強度が得らないためである。   It is important that the amount of carboxy-4,4'-diaminobiphenyl used in the polyamic acid of the present invention is in the range of 1 to 100 mol%, preferably 5 to 100 mol%. That is, when the addition amount is less than the above range, the intended peel strength cannot be obtained.

次に、本発明のポリイミドフィルムの構成成分について説明する。   Next, the components of the polyimide film of the present invention will be described.

本発明のポリイミドフィルムにおけるポリイミドは、芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とからなるポリアミック酸を前駆体としてなり、次式(III)および(IV)に示される繰り返し単位で構成されものである。   The polyimide in the polyimide film of the present invention comprises a polyamic acid composed of aromatic tetracarboxylic acids and aromatic diamines as a precursor, and is composed of repeating units represented by the following formulas (III) and (IV). .

Figure 2005054172
Figure 2005054172

Figure 2005054172
Figure 2005054172

(ただし、式中のR1 は、下記一般式で示される基のいずれかであり、   (However, R1 in the formula is one of the groups represented by the following general formula,

Figure 2005054172
Figure 2005054172

式中のR2 は下記一般式で示される基のいずれかである。 R2 in the formula is any of the groups represented by the following general formula.

Figure 2005054172
Figure 2005054172

また、式中のX:Yのモル比は1:99〜100:0である。) Moreover, the molar ratio of X: Y in the formula is 1:99 to 100: 0. )

ポリアミドフィルムの前駆体としてのポリアミック酸を形成する芳香族テトラカルボン酸類の具体例としては、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸およびこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。ポリアミック酸の製造にあたっては、これらの芳香族テトラカルボン酸類の酸無水物が好ましく使用される。   Specific examples of aromatic tetracarboxylic acids that form polyamic acid as a precursor of polyamide film include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3 ′, 3,4 '-Biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, Examples include pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid and amide-forming derivatives thereof. In the production of polyamic acid, acid anhydrides of these aromatic tetracarboxylic acids are preferably used.

同じく前駆体としてのポリアミック酸を形成するカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル以外の芳香族ジアミン類の具体例としては、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンチジン、パラキシリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメトキシベンチジン、1,4−ビス(3メチル−5アミノフェニル)ベンゼンおよびこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。   Specific examples of aromatic diamines other than carboxy-4,4′-diaminobiphenyl which also form polyamic acid as a precursor include paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, benzidine, paraxylylenediamine, 4,4 ′. -Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene 3,3′-dimethoxybenzidine, 1,4-bis (3methyl-5aminophenyl) benzene and amide-forming derivatives thereof.

なお、上記カルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルのカルボキシル基の置換基数は多置換であってもかまわない。さらに、カルボキシル基の置換位置は任意の位置であり、その具体例としては2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルおよび2,3‘−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルがあげられる。しかし、合成面での簡便さの観点から2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルおよび/または3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルであることは好ましい条件である。   In addition, the number of substituents of the carboxyl group of the carboxy-4,4′-diaminobiphenyl may be polysubstituted. Further, the substitution position of the carboxyl group is an arbitrary position, and specific examples thereof include 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl. And 2,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl. However, from the viewpoint of simplicity in terms of synthesis, 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and / or 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl are preferable conditions. It is.

また、本発明において、ポリイミドフィルムの前駆体であるポリアミック酸溶液の形成に使用される有機溶媒の具体例としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−,m−,またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどの非プロトン性極性溶媒を挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、さらにはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。しかし、溶解度の観点から2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルを重合する場合の有機溶剤がN−メチル−2−ピロリドンであることは好ましい条件である。   In the present invention, specific examples of the organic solvent used for forming the polyamic acid solution that is a precursor of the polyimide film include, for example, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, Formamide solvents such as N, N-diethylformamide, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, pyrrolidone systems such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone Examples include solvents, phenolic solvents such as phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, and aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone. These alone Although it is desirable to use as a mixture, further xylene, the use of aromatic hydrocarbons such as toluene are also possible. However, from the viewpoint of solubility, it is preferable that the organic solvent for polymerizing 2,6'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl is N-methyl-2-pyrrolidone.

本発明で用いるポリアミック酸の有機溶媒溶液(ポリアミック酸溶液)は、固形分として5〜40重量%含有するのが好ましく、10〜30重量%を含有するのがより好ましい。またその粘度は、安定した送液のため、ブルックフィールド粘度計による測定値で10〜2000Pa・sの範囲が好ましく、100〜1000Pa・sの範囲がより好ましい。また、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。   The organic solvent solution (polyamic acid solution) of the polyamic acid used in the present invention preferably contains 5 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight as the solid content. In addition, the viscosity is preferably in the range of 10 to 2000 Pa · s, more preferably in the range of 100 to 1000 Pa · s as measured by a Brookfield viscometer, for stable liquid feeding. Moreover, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

本発明においてポリアミック酸を構成する芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とは、それぞれのモル数が大略等しくなる割合で重合されるが、その一方が10モル%の範囲内で他方に対して過剰に配合されることが好ましく、5モル%の範囲内で他方に対して過剰に配合されることもより好ましい。   In the present invention, the aromatic tetracarboxylic acids and aromatic diamines constituting the polyamic acid are polymerized at a ratio in which the respective mole numbers are approximately equal, and one of them is within a range of 10 mol% with respect to the other. It is preferably blended in excess, and more preferably blended excessively with respect to the other within the range of 5 mol%.

重合反応は、有機溶媒中で撹拌そして/または混合しながら、0〜80℃の温度の範囲で、10分〜30時間連続して進められるのが好ましく、必要により重合反応を分割したり、温度を上下させてもかまわない。両反応体の添加順序には特に制限はないが、芳香族ジアミン類の溶液中に芳香族テトラカルボン酸類を添加することが好ましい。重合反応中に真空脱泡することは、良質なポリアミック酸の有機溶媒溶液を製造するのにとって有効な方法である。   The polymerization reaction is preferably allowed to proceed continuously for 10 minutes to 30 hours in the temperature range of 0 to 80 ° C. while stirring and / or mixing in an organic solvent. You can move up and down. Although there is no restriction | limiting in particular in the addition order of both reactants, It is preferable to add aromatic tetracarboxylic acid in the solution of aromatic diamines. Vacuum degassing during the polymerization reaction is an effective method for producing a high-quality organic solvent solution of polyamic acid.

また、重合反応の前に芳香族ジアミン類に少量の末端封止剤を添加することによって、重合反応の制御を行ってもよい。   Further, the polymerization reaction may be controlled by adding a small amount of an end-capping agent to the aromatic diamine before the polymerization reaction.

次に、本発明のポリイミドフィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention is demonstrated.

本発明においては、回転粘度計で測定した25℃における粘度が10Pa・s以上500Pa・s以下程度のポリアミック酸溶液を調製する。本発明においてポリアミック酸溶液を得るための反応手順としては、有機極性溶媒中に芳香族ジアミンを添加し溶解したのち、芳香族テトラカルボン酸二無水物を添加する方法、または有機極性溶媒中に芳香族テトラカルボン酸二無水物を添加したのち、芳香族ジアミンを添加する方法などいずれの方法でも可能である。このとき芳香族テトラカルボン酸に無水物と芳香族ジアミンの添加量は、実質的に等モルとすることができる。   In the present invention, a polyamic acid solution having a viscosity at 25 ° C. of about 10 Pa · s to 500 Pa · s measured with a rotational viscometer is prepared. As a reaction procedure for obtaining a polyamic acid solution in the present invention, an aromatic diamine is added and dissolved in an organic polar solvent, and then an aromatic tetracarboxylic dianhydride is added. Any method such as a method of adding an aromatic diamine after adding an aromatic tetracarboxylic dianhydride is possible. At this time, the addition amount of the anhydride and the aromatic diamine to the aromatic tetracarboxylic acid can be substantially equimolar.

前記ポリアミック酸溶液を支持体上にキャストして自己支持性のポリアミック酸フィルムを得る。次いで、得られたポリアミック酸フィルムの端部を固定し、200℃以上400℃以下の温度で熱処理を行うことによりポリイミドフィルムを得るのが好ましい。   The polyamic acid solution is cast on a support to obtain a self-supporting polyamic acid film. Next, it is preferable to obtain a polyimide film by fixing the end portion of the obtained polyamic acid film and performing a heat treatment at a temperature of 200 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.

なお、ここでいう支持体とは、ガラス、金属、高分子フィルムなど平面を有し、ポリアミック酸をこの上にキャストした場合に、キャストされたポリアミック酸を支持することができるものを意味する。   In addition, a support body here means what has a plane, such as glass, a metal, and a polymer film, and can support the cast polyamic acid, when a polyamic acid is cast on this.

また、キャストとは、ポリアミック酸を支持体上に展開することを意味する。キャストの一例としては、バーコート、スピンコート、あるいは任意の空洞形状を有するパイプ状物質からポリアミック酸を押し出し、支持体上に展開する方法が挙げられる。   The cast means that the polyamic acid is developed on the support. As an example of the cast, there is a method of extruding a polyamic acid from a bar coat, a spin coat, or a pipe-shaped substance having an arbitrary cavity shape and spreading it on a support.

得られたポリアミック酸をイミド化閉環環化させて芳香族ポリイミドフィルムにする際には、脱水剤と触媒を用いて脱水する化学閉環法、熱的に脱水する熱閉環法、あるいはその両者を併用した閉環法のいずれで行ってもよい。   When the resulting polyamic acid is imidized and cyclized into an aromatic polyimide film, a chemical ring closure method using a dehydrating agent and a catalyst, a thermal ring closure method using thermal dehydration, or a combination of both Any of the ring closure methods described above may be used.

化学閉環法で使用する脱水剤としては、無水酢酸などの脂肪族酸無水物、フタル酸無水物などの酸無水物などが挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用するのが好ましい。   Examples of the dehydrating agent used in the chemical ring closure method include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and acid anhydrides such as phthalic anhydride, and these are preferably used alone or in combination.

また、触媒としては、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの複素環式第3級アミン類、トリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、N,N−ジメチルアニリンなどの第3級アミン類などが挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用するのが好ましい。   Examples of the catalyst include heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline and quinoline, aliphatic tertiary amines such as triethylamine, and tertiary amines such as N, N-dimethylaniline. These are preferably used alone or in combination.

本発明のポリイミドフィルムの厚みは3〜250μmであることが望ましい。すなわち、厚みが3μm未満では形状を保持することが困難となり、また250μmを越えると屈曲性に欠けるため、フレキシブル回路基板用途には不向きである。   The thickness of the polyimide film of the present invention is preferably 3 to 250 μm. That is, when the thickness is less than 3 μm, it is difficult to maintain the shape, and when the thickness exceeds 250 μm, the flexibility is insufficient, so that it is not suitable for a flexible circuit board.

ポリイミドフィルムは、延伸および未延伸のものをいずれも使用することができる。また、加工性改善などを目的として10重量%以下の無機質または有機質の添加物を含有することも可能である。   As the polyimide film, both stretched and unstretched films can be used. Further, it is possible to contain 10% by weight or less of an inorganic or organic additive for the purpose of improving processability.

かくして得られる本発明のポリイミドフィルムは、接着剤を介して金属箔に圧着された際の剥離強度が10N/cm以上と高く、フレキシブル回路基板用ベースフィルムとして使用された際に長期的にも高剥離強度を維持し、長期信頼性に優れたフレキシブル回路基板を与えることができる。   The polyimide film of the present invention thus obtained has a high peel strength of 10 N / cm or more when it is pressure-bonded to a metal foil via an adhesive, and it is high for a long time when used as a base film for a flexible circuit board. A flexible circuit board that maintains the peel strength and is excellent in long-term reliability can be provided.

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中の剥離強度は、以下の方法により測定した値である。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. In addition, the peeling strength in an Example is the value measured with the following method.

[剥離強度]
接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、4.4×107 Paで、60分間加熱圧着することにより得られた積層体を、JIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さを剥離強度とする。
[Peel strength]
By using Piralux R (registered trademark of DuPont) LF-0100 which is an adhesive film, a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13-T manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) are heated at 180 ° C., 4.4. The strength at which the laminate obtained by thermocompression bonding at × 107 Pa for 60 minutes is peeled off by the method described in JIS C5016-1994 is defined as the peel strength.

[実施例1]
DCスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル1.85g(6.8mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル18.23g(90mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド148.82gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物20.52g(94mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)11.21gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 1]
In a 300 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 1.85 g (6.8 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and 18.23 g (90 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 148.82 g of N, N′-dimethylacetamide was added and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Further, after 30 minutes to 1 hour, 20.52 g (94 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions. After stirring for 1 hour, 11.21 g of N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸100.00gを、株式会社キーエンス社製ハイブリットミキサーを用いて5分脱泡した。このポリアミック酸混合物の一部をポリエステルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な膜を形成した。これを100℃で1時間加熱し、自己保持性のポリアミック酸フィルムを得た。得られたフィルムを、200℃30分、300℃30分、400℃5分で熱処理を行い、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。   100.00 g of the obtained polyamic acid was degassed for 5 minutes using a hybrid mixer manufactured by Keyence Corporation. A part of this polyamic acid mixture was taken on a polyester film, and a uniform film was formed using a spin coater. This was heated at 100 ° C. for 1 hour to obtain a self-holding polyamic acid film. The obtained film was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes, 300 ° C. for 30 minutes, and 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

[実施例2]
DCスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル2.63g(9.7mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル17.56g(87mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド148.88gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物20.41g(94mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)11.15gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 2]
In a 300 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 2.63 g (9.7 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and 17.56 g (87 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 148.88 g of N, N′-dimethylacetamide was added and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Further, after 30 minutes to 1 hour, 20.41 g (94 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions. After stirring for 1 hour, 11.15 g of N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) of pyromellitic dianhydride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸を実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。   The obtained polyamic acid was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

[実施例3]
DCスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、3、3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル5.17g(19mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル15.35g(76mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド149.05gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物20.08g(92mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)10.97gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 3]
In a 300 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 3.17 g (19 mmol) of 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and 15.35 g (76 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether, N, 149.05 g of N′-dimethylacetamide was added and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Furthermore, pyromellitic dianhydride 20.08 g (92 mmol) was added in several portions over 30 minutes to 1 hour. After stirring for 1 hour, 10.97 g of a pyromellitic dianhydride N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸を実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。   The obtained polyamic acid was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

[実施例4]
DCスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、2、6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル3.10g(11.4mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル16.76g(83.7mmol)、N−メチル−2−ピロリドン149.70gを入れ、窒素雰囲気下、50℃で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物20.11g(92.2mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN−メチル−2−ピロリドン溶液(5wt%)9.3gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 4]
In a 300 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 3.10 g (11.4 mmol) of 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and 16.76 g (83.7 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether ) And 149.70 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added and stirred at 50 ° C. under a nitrogen atmosphere. Further, after 30 minutes to 1 hour, 20.11 g (92.2 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions. After stirring for 1 hour, 9.3 g of a pyromellitic dianhydride N-methyl-2-pyrrolidone solution (5 wt%) was added dropwise over 30 minutes, followed by further stirring for 1 hour.

得られたポリアミック酸を実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。   The obtained polyamic acid was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

[実施例5]
DCスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、2、6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル4.61g(16.9mmol)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル15.46g(77.2mmol)、N−メチル−2−ピロリドン149.65gを入れ、窒素雰囲気下、50℃で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物19.11g(87.7mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN−メチル−2−ピロリドン溶液(5wt%)9.6gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Example 5]
In a 300 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 4.61 g (16.9 mmol) of 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and 15.46 g (77.2 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether ) And 149.65 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added and stirred at 50 ° C. under a nitrogen atmosphere. Further, 19.11 g (87.7 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions over 30 minutes to 1 hour. After stirring for 1 hour, 9.6 g of an N-methyl-2-pyrrolidone solution of pyromellitic dianhydride (5 wt%) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 1 hour.

得られたポリアミック酸を実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。   The obtained polyamic acid was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

[比較例1]
DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中に、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル38.48g(190mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド320.00gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。さらに30分から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物40.27g(185mmol)を数回に分けて投入した。1時間撹拌した後、ピロメリット酸二無水物のN,N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)22.01gを30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。
[Comparative Example 1]
In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 38.48 g (190 mmol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 320.00 g of N, N′-dimethylacetamide were placed and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. Further, after 30 minutes to 1 hour, 40.27 g (185 mmol) of pyromellitic dianhydride was added in several portions. After stirring for 1 hour, 22.01 g of a pyromellitic dianhydride N, N′-dimethylacetamide solution (6 wt%) was added dropwise over 30 minutes, followed by further stirring for 1 hour.

得られたポリアミック酸を実施例1と同様の方法を用いて、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの剥離強度を測定した結果を表1に示した。  The obtained polyamic acid was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide film. The results of measuring the peel strength of the obtained polyimide film are shown in Table 1.

Figure 2005054172
Figure 2005054172

表1の結果から明らかなように、本発明のポリイミドフィルム(実施例1〜5)は、比較例1のポリイミドフィルムに比べて、接着力が著しく改質されたものである。   As is clear from the results in Table 1, the polyimide films (Examples 1 to 5) of the present invention have significantly improved adhesive strength as compared with the polyimide film of Comparative Example 1.

Claims (7)

下記一般式(I)で表されるカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルを1〜100モル%の割合で含有する芳香族ジアミンと、芳香族テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とから合成されたことを特徴とするポリアミック酸。
Figure 2005054172
(ただし、式中のm、nは0を含む4以下の整数であり、(m+n)は1以上の整数である)
It is synthesized from an aromatic diamine containing carboxy-4,4′-diaminobiphenyl represented by the following general formula (I) at a ratio of 1 to 100 mol% and an aromatic tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof. A polyamic acid characterized by that.
Figure 2005054172
(However, m and n in the formula are integers of 4 or less including 0, and (m + n) is an integer of 1 or more.)
前記カルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルが下記一般式(II)で表される2,6’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルおよび/または3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニルであることを特徴とする請求項1記載のポリアミック酸。
Figure 2005054172
The carboxy-4,4′-diaminobiphenyl is represented by the following general formula (II): 2,6′-dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl and / or 3,3′-dicarboxy-4,4 The polyamic acid according to claim 1, which is' -diaminobiphenyl.
Figure 2005054172
請求項1または請求項2記載のポリアミック酸からなることを特徴とするポリイミドフィルム。 A polyimide film comprising the polyamic acid according to claim 1. 下記一般式(III)および(IV)で示される構造単位を有することを特徴とする請求項3に記載のポリイミドフィルム。
Figure 2005054172
Figure 2005054172
(ただし、式中のR1 は、下記一般式で示される基のいずれかであり、
Figure 2005054172
式中のR2 は下記一般式で示される基のいずれかである。
Figure 2005054172
また、式中のX:Yのモル比は1:99〜100:0である。)
It has a structural unit shown by the following general formula (III) and (IV), The polyimide film of Claim 3 characterized by the above-mentioned.
Figure 2005054172
Figure 2005054172
(However, R1 in the formula is one of the groups represented by the following general formula,
Figure 2005054172
R2 in the formula is any of the groups represented by the following general formula.
Figure 2005054172
Moreover, the molar ratio of X: Y in the formula is 1:99 to 100: 0. )
接着剤を介して銅箔と熱圧着した際に、下記の方法により測定した剥離強度が10N/cm以上であることを特徴とする請求項3または請求項4に記載のポリイミドフィルム。
(剥離強度:接着剤フィルムであるパイララックスR(デュポン社の登録商標)LF−0100を用いて、ポリイミドフィルムと銅箔(厚み35μm、ジャパンエナジー社製BAC−13−T)とを、180℃、4.4×107 Paで60分間加熱圧着し、得られた積層体をJIS C5016−1994に記載の方法で引き剥がした強さを剥離強度とする。)
5. The polyimide film according to claim 3, wherein the peel strength measured by the following method is 10 N / cm or more when thermocompression bonded to the copper foil via an adhesive.
(Peel strength: using Piralux R (registered trademark of DuPont) LF-0100, which is an adhesive film, a polyimide film and a copper foil (thickness 35 μm, BAC-13-T manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) at 180 ° C. (The peel strength is the strength obtained by thermocompression bonding at 4.4 × 10 7 Pa for 60 minutes and the resulting laminate is peeled off by the method described in JIS C5016-1994.)
請求項1または請求項2記載のポリアミック酸溶液を製膜した後、これを熱的および/または化学的にイミド化することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 3. A method for producing a polyimide film, wherein the polyamic acid solution according to claim 1 or 2 is formed into a film and then imidized thermally and / or chemically. 請求項3〜5のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムに接着剤を介して金属箔を圧着してなることを特徴とするフレキシブル回路基板。 A flexible circuit board obtained by pressure-bonding a metal foil to the polyimide film according to any one of claims 3 to 5 via an adhesive.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007039527A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film and flexible circuit board
JP2007039528A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film, method for producing the same, and flexible circuit board
JP2010286666A (en) * 2009-06-11 2010-12-24 Jsr Corp Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
KR20150007335A (en) * 2012-05-11 2015-01-20 아크론 폴리머 시스템즈, 인코포레이티드 Thermally stable, flexible substrates for electronic devices
JP2017519884A (en) * 2014-06-30 2017-07-20 コーロン インダストリーズ インク High heat resistant polyamic acid solution and polyimide film

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007039527A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film and flexible circuit board
JP2007039528A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film, method for producing the same, and flexible circuit board
JP2010286666A (en) * 2009-06-11 2010-12-24 Jsr Corp Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
KR20150007335A (en) * 2012-05-11 2015-01-20 아크론 폴리머 시스템즈, 인코포레이티드 Thermally stable, flexible substrates for electronic devices
KR102104825B1 (en) * 2012-05-11 2020-04-28 아크론 폴리머 시스템즈, 인코포레이티드 Thermally stable, flexible substrates for electronic devices
JP2017519884A (en) * 2014-06-30 2017-07-20 コーロン インダストリーズ インク High heat resistant polyamic acid solution and polyimide film
US10538665B2 (en) 2014-06-30 2020-01-21 Kolon Industries, Inc. High heat-resistant polyamic acid solution and polyimide film

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