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JP2005024676A - 液晶表示装置 - Google Patents

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JP2005024676A
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JP2003187477A
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Shinichiro Tanaka
慎一郎 田中
Takao Yamauchi
隆夫 山内
Kohei Oda
幸平 小田
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Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Tottori Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

【課題】突起の高さを低くしても液晶の配向性を維持し、最適な表示状態が得られる液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】液晶表示装置は、画素電極4をマトリクス状に配置した第一基板1と、画素電極4に形成されたスリット6と、透明電極11を形成した第二基板8と、スリット6に対応して透明電極11の一部に溝状の段部が形成され、該溝状の段部の上に形成された帯状の突起12と、両基板上に積層した垂直配向処理を施した配向膜7、13と、両基板間に挟持した誘電率異方性が負の液晶層14と、第一基板1の外側に配置した第一偏光板15と、第二基板8の外側に配置されると共に第一偏光板15の透過軸と直交関係にある透過軸を有する第二偏光板16とを備える構成とする。
【選択図】 図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、1画素内に複数のドメインを設けた広視野角の液晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に液晶表示装置には薄型軽量、低消費電力という特徴があり、携帯端末から大型テレビに至るまで幅広く利用されている。この液晶表示装置としてTN型の液晶表示装置がよく使われ、表示装置として高い性能、品質を維持している。
【0003】
しかしTN型液晶表示装置等は視角依存性が大きい等の問題があった。そこでTN型よりも広視野角なVA(vertically aligned)型の液晶表示装置が提案されている。VA型の液晶表示装置の場合、一対のガラス基板間に誘電率異方性が負の液晶を封入し、一方のガラス基板に画素電極を、他方のガラス基板に共通電極を配置している。両ガラス基板上には垂直配向膜を積層し、両ガラス基板の外側に互いの透過軸方向が直交するように一対の偏光板を配置している。そして両電極間に電界が発生しないときは液晶分子が垂直配向膜に規制されて垂直配列し、一方の偏光板を通過した直線偏光の透過光がそのまま液晶層を通過して他方の偏光板によって遮られる。また両電極間に電界が発生するときはガラス基板間の液晶分子が電界に対して垂直方向に傾斜して水平配列するので、一方の偏光板を通過した直線偏光の透過光は液晶層を通過するときに複屈折され楕円偏光の通過光になり、他方の偏光板を通過する。
【0004】
このVA型液晶表示装置の視野角を更に改善するために、画素内に突起や溝を設けて1画素内に複数のドメインを形成するMVA(Multi−domain vertically aligned)方式が提案されている。これは例えば特許文献1に記載されている。
【0005】
この従来のMVA型液晶表示装置の画素構成について説明する。平行に対向配置する一対のガラス基板のうち、一方のガラス基板上には画素電極、走査線、信号線、TFTが形成され、他方のガラス基板にはカラーフィルタ、共通電極、突起が形成される。複数の走査線と信号線がガラス基板上にマトリクス状に配線され、その交差部分にTFTを、走査線と信号線で囲まれる領域内に画素電極をそれぞれ配置する。TFTのゲート電極は走査線に、ソース電極は信号線に、ドレイン電極は画素電極にそれぞれ接続される。画素電極に形成されるスリットは、ガラス基板の法線方向から見たときに複数の突起がジグザグ状に形成され、スリットはこの複数の突起の間に位置し、隣り合う突起と略平行に形成されている。液晶分子は突起及びスリットに対して90°方向に傾斜し、突起やスリットを境にして逆方向に傾斜する。一対のガラス基板の外側には直交ニコルの一対の偏光板が配置され、偏光板の透過軸と突起の方向との成す角度が45°になるように設定し、偏光板の法線方向から見たときに傾斜した液晶分子と偏光板の透過軸との成す角度が45°になるようにしている。傾斜した液晶分子と偏光板の透過軸との角度が45°になるとき、最も効率よく偏光板から透過光を得ることができる。
【0006】
しかしながら従来のMVA型の液晶表示装置では、実際の液晶分子の傾斜状態が理想的な状態になっていないために、最適な表示状態が得られなかった。この対策として、例えば特許文献2では、突起の断面形状を好適化することにより、透過率を高めている。
【0007】
【特許文献1】
特許第2947350号公報
【0008】
【特許文献2】
特開2000−267102号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献1や特許文献2において、液晶中に分散した球状のスペーサが突起部分に存在すると、その周辺の液晶層が厚くなりセルギャップにムラが生じ、突起部分を中心に輝度ムラが発生する。この点より、突起はできるだけ低いことでセルギャップのムラは小さくなるが、突起を低くすることにより液晶の配向性が悪くなり、残像等の問題が生じる。従って、従来は輝度ムラの発生と残像の発生等とが妥協できる範囲で突起の高さを決めていた。
【0010】
本発明は、上記の問題点に鑑み、突起の高さを低くしても液晶の配向性を維持し、最適な表示状態が得られる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、画素電極をマトリクス状に配置した第一基板と、透明電極を形成した第二基板と、前記第一基板又は前記第二基板の何れか一方に形成された帯状の突起と、前記第一基板又は前記第二基板の何れか他方に形成されると共に前記突起に対応して形成されたスリットと、前記両基板上に積層した垂直配向処理を施した配向膜と、前記両基板間に挟持した誘電率異方性が負の液晶層とを有し、前記液晶層に電界を印加しないときは液晶分子が垂直配列し、前記液晶層に電界を印加したときは前記スリット及び前記突起によって規制される方向に液晶分子が傾斜して配列する液晶表示装置において、前記突起が形成されている前記第一基板又は前記第二基板において、前記画素電極又は透明電極の一部に溝状の段部が形成され、該溝状の段部の上に前記突起が形成されることを特徴とするものである。
【0012】
この構成によると、溝の作用により等電位面を溝に沿って形成することができ、液晶分子を十分に傾斜させることができるので、突起の高さを低くして物理的に液晶分子を傾斜させる作用を弱くさせても液晶の配向性を維持でき、最適な表示状態が得ることができる。
【0013】
また本発明は、画素電極をマトリクス状に配置した第一基板と、前記画素電極に形成されたスリットと、透明電極を形成した第二基板と、前記スリットに対応して前記第二基板に形成された帯状の突起と、前記両基板上に積層した垂直配向処理を施した配向膜と、前記両基板間に挟持した誘電率異方性が負の液晶層と、前記第一基板の外側に配置した第一偏光板と、前記第二基板の外側に配置されると共に前記第一偏光板の透過軸と直交関係にある透過軸を有する第二偏光板とを備え、前記液晶層に電界を印加しないときは液晶分子が垂直配列し、前記液晶層に電界を印加したときは前記スリット及び前記突起によって規制される方向に液晶分子が傾斜して配列する液晶表示装置において、 前記第2基板上の前記透明電極の一部に溝状の段部が形成され、該溝状の段部の上に前記突起が形成されるようにしてもよい。
【0014】
なお、良好な輝度を得られる点から、前記突起の高さは1μm以下であることが好ましい。
【0015】
上記の第二基板側に透明電極を設ける場合においては、前記第二基板側に長孔を有するカラーフィルタを設け、前記溝状の段部は、該長孔に前記透明電極を形成することにより設けることができる。
【0016】
この構成により、液晶を配向させるのに十分な深さの溝を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図1は液晶表示装置の平面図であり、図2は図1のA−A線断面図である。
【0018】
1はガラス基板などの透明な第一基板であり、この第一基板1上には走査線2と信号線3がマトリクス状に配線されている。走査線2と信号線3で囲まれる領域が1画素に相当し、この領域内に画素電極4が配置され、走査線2と信号線3の交差部には画素電極4と接続するスイッチング素子であるTFT5が形成される。画素電極4の一部分は絶縁膜を介在させて隣接する走査線2と重なり、この部分が保持容量として作用する。画素電極4には後述するスリット6が複数形成されている。7は画素電極4を覆う配向膜であり、垂直配向処理が施されている。なお、図2では画素電極4の下方に存在する絶縁膜を省略している。
【0019】
8はガラス基板などの透明な第二基板であり、第二基板8上には各画素を区切るようにブラックマトリックス9が形成され、カラーフィルタ10が積層されている。カラーフィルタ10上には例えばITO(Indium Tin Oxide)などの透明電極11が積層され、透明電極11上には所定パターンの突起12が形成され、透明電極11及び突起12を垂直配向処理が施された配向膜13で覆っている。
【0020】
両基板1、8間には誘電率異方性が負の液晶層14が介在する。そして画素電極4と透明電極11の間に電界が生じないときは液晶分子が配向膜7、13に規制されて垂直配列し、画素電極4と透明電極11の間に電界が発生したときは液晶分子が水平方向に傾斜する。このとき液晶分子はスリット6や突起12に規制されて所定の方向に傾斜し、1画素内に複数のドメインを形成することができる。
【0021】
第一基板1の外側には第一偏光板15が、第二基板8の外側には第二偏光板16がそれぞれ配置され、第一偏光板15と第二偏光板16は互いの透過軸が直交するように設定されている。第二基板8の法線方向から観察したときに、偏光板15、16の透過軸と液晶分子の傾斜方向が約45°を成すとき、最も効率良く透過光が第二偏光板16を通過することができる。そして液晶分子は突起12やスリット6に対して約90°方向に傾斜するため、画素内のスリット6や突起12の延在方向と第二偏光板16の透過軸とが約45°を成すように両偏光板15、16は配置する。この実施例では第一偏光板15の透過軸が走査線2の延在方向と一致し、第二偏光板16の透過軸が信号線3の延在方向と一致するように設定する。
【0022】
そして画素電極4と透明電極11の間に電界が生じないときは液晶分子が垂直配列するため、第一偏光板15を通過した直線偏光の透過光が液晶層14を直線偏光のまま通過して第二偏光板16で遮断され、黒表示になる。また画素電極4に所定の電圧が印加されて画素電極4と透明電極11の間に電界が発生したとき、液晶分子が水平方向に傾斜するため、第一偏光板15を通過した直線偏光の透過光が液晶層14で楕円偏光になり第二偏光板16を通過して、白表示になる。
【0023】
次に、突起12の形状について説明する。カラーフィルタ10の突起が形成される部分に長孔が形成され、カラーフィルタ10の表面及び長孔を覆うように透明電極11が形成されている。即ち、透明電極11に溝状の段部が形成された状態である。そして、この溝状の段部を埋めるように突起12が形成されている。突起12は例えばアクリル樹脂等からなるレジストをフォトリソグラフィー法によって所定パターンに形成される。なお、突起12はネガ材料で形成するよりもポジ材料で形成した方が、透過率が向上する。これはポジ材料の方が突起12の表面が滑らかになり、より液晶分子に対する傾斜方向への規制力が向上するためである。また、突起の比誘電率は3〜4とすることができる。
【0024】
一般に、突起を高く(約1.5μm以上)すると液晶の配向性が向上して残像が出にくくなるが、球状のスペーサが突起に乗ったときのセルギャップのムラが大きくなり輝度ムラが発生する。一方、突起を低く(約1μm以下)するとセルギャップのムラは小さくなり輝度ムラは低減するが、逆に液晶の配向性は低下して残像等が生じやすくなる。そこで従来は、残像等の発生と輝度ムラの発生を考慮して、突起の高さは1.2μm程度としていた。
【0025】
それに対して本発明は、透明電極11に溝状の段部を形成している。これにより、液晶層14中の等電位面が溝の形状に合わせて発生する。図3は、等電位面及び液晶の配向を説明する液晶表示装置の断面図である。なお、図3は画素電極4と透明電極11の間に電界が発生した状態を模式的に示している。図中、破線が等電位面を示す。突起12の近傍において、この等電位面に平行になるように液晶分子14aが傾く。その影響を受けて周囲の液晶分子14aも同じ方向に傾斜する。
【0026】
また、突起12は物理的に液晶分子14aを傾ける作用がある。従来はこの物理的な作用を低下させないために突起の高さがある程度必要となり、突起を低くすることができなかったが、本発明によれば、上記のカラーフィルタ10の溝状の段部の作用により液晶分子14aを十分に傾斜させることができるので、突起12の高さh(透明電極11の溝状の段部以外の平坦部から突起12の最高部まで)を従来よりも低くすることが可能となる。
【0027】
そこで、具体的な突起12の高さhを決定するための実験を行った。従来例及び本発明の液晶表示装置のサンプルとして、それぞれ突起の高さが0.6〜1.2μmの液晶表示装置を作製した。そして、各サンプルの輝度ムラ及び残像を測定した。
【0028】
輝度ムラはセルギャップのムラに依存し、従来例及び本発明の液晶表示装置の何れにおいても、突起の高さが高くなるに従って同様に輝度ムラの発生が見られ、突起の高さが1μm以下の場合が良好であった。これは、セルギャップのムラが液晶層14中のスペーサが突起部分で狭持されることによって生じるため、突起の高さに依存することを示している。
【0029】
残像の発生などは液晶の配向性に依存し、従来例の液晶表示装置では、突起の高さが1.2μmの場合は良好であったが、0.6μmの場合は鑑賞に耐えられなかった。一方、本発明の液晶表示装置では、突起の高さhが0.9〜1.2μmの場合は従来例よりも残像が少なく、0.8μmの場合は従来例の1.2μm時の残像と同等であり、0.6〜0.7μmの場合は従来例の1.2μm時よりもやや残像が多い程度であった。
【0030】
上記の輝度ムラ及び残像の測定結果より、本発明の液晶表示装置の突起12の高さは輝度ムラが良好な1μm以下であることが好ましく、残像の程度を従来と同等に保ちながら輝度ムラを低減できる点から0.8μmであることが更に好ましい。
【0031】
なお、本発明の液晶表示装置は、携帯端末や大型テレビをはじめ、表示部を有する種々の装置に利用することができる。
【0032】
【発明の効果】
本発明によれば、画素電極又は透明電極の一部に溝が形成され、該溝上に突起が形成されることで、溝の作用により等電位面を溝に沿って形成することができ、液晶分子を十分に傾斜させることができるので、突起の高さを低く(1μm以下)して物理的に液晶分子を傾斜させる作用を弱くさせても液晶の配向性を維持でき、最適な表示状態が得ることができる。
【0033】
また本発明によれば、第二基板側に透明電極を設ける場合においては、第二基板側に長孔を有するカラーフィルタを設け、溝は、該長孔に沿って透明電極を形成することにより設けることができ、液晶を配向させるのに十分な深さの溝を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶表示装置の平面図である。
【図2】図1のA−A線断面図である。
【図3】本発明の等電位面及び液晶の配向を説明する液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
1 第一基板
4 画素電極
6 スリット
7、13 配向膜
8 第二基板
10 カラーフィルタ
11 透明電極
12 突起
14 液晶層

Claims (4)

  1. 画素電極をマトリクス状に配置した第一基板と、透明電極を形成した第二基板と、前記第一基板又は前記第二基板の何れか一方に形成された帯状の突起と、前記第一基板又は前記第二基板の何れか他方に形成されると共に前記突起に対応して形成されたスリットと、前記両基板上に積層した垂直配向処理を施した配向膜と、前記両基板間に挟持した誘電率異方性が負の液晶層とを有し、前記液晶層に電界を印加しないときは液晶分子が垂直配列し、前記液晶層に電界を印加したときは前記スリット及び前記突起によって規制される方向に液晶分子が傾斜して配列する液晶表示装置において、
    前記突起が形成されている前記第一基板又は前記第二基板において、前記画素電極又は透明電極の一部に溝状の段部が形成され、該溝状の段部の上に前記突起が形成されることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 画素電極をマトリクス状に配置した第一基板と、前記画素電極に形成されたスリットと、透明電極を形成した第二基板と、前記スリットに対応して前記第二基板に形成された帯状の突起と、前記両基板上に積層した垂直配向処理を施した配向膜と、前記両基板間に挟持した誘電率異方性が負の液晶層と、前記第一基板の外側に配置した第一偏光板と、前記第二基板の外側に配置されると共に前記第一偏光板の透過軸と直交関係にある透過軸を有する第二偏光板とを備え、前記液晶層に電界を印加しないときは液晶分子が垂直配列し、前記液晶層に電界を印加したときは前記スリット及び前記突起によって規制される方向に液晶分子が傾斜して配列する液晶表示装置において、
    前記第2基板上の前記透明電極の一部に溝状の段部が形成され、該溝状の段部の上に前記突起が形成されることを特徴とする液晶表示装置。
  3. 前記突起の高さは1μm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の液晶表示装置。
  4. 前記第二基板側に長孔を有するカラーフィルタを設け、前記溝状の段部は、該長孔に前記透明電極を形成することにより設けられることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。
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