JP2005022986A

JP2005022986A - Ｅｄｇ受容体拮抗作用を有するアルキン誘導体

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Publication number: JP2005022986A
Application number: JP2003187530A
Authority: JP
Inventors: Susumu Sato; 佐藤　　進; Takeshi Nakamura; 毅中村; Futoshi Nara; 太奈良; Kiyoaki Yonesu; 清明米須
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 2003-06-30
Filing date: 2003-06-30
Publication date: 2005-01-27

Abstract

【課題】炎症疾患などに有効性を示すＥＤＧ−１受容体拮抗剤を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）〔Ｒ^１はアルキル基（２重結合、３重結合、ベンゼン環、酸素原子、又は硫黄原子などの部分構造を含んでいてもよく、アルコキシ基などの置換基を有していてもよい）；Ｒ^２は水素原子、ヒドロキシ基、又はカルボキシル基などの置換基；Ｒ^３は水素原子、ヒドロキシ基、又はアラルキルオキシ基などの置換基；Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又はアルコキシ基；Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基；Ｚは酸素原子又は硫黄原子など；Ａで表される環は−Ｑ＝Ｃ−（Ｑは炭素原子又は窒素原子を示す）を部分構造として含む４〜７員環（該環は−ＣＨ＝ＣＨ−又は窒素原子などの環構成部分構造を有していてもよい）を示す〕で表される化合物、その塩、又はそのエステル。
【化１】

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＥＤＧ受容体拮抗作用を有するアルキン酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、細胞膜からホスフォリパーゼの働きのより、プロスタグランジン、ロイコトリエン等のエイコサノイド、ＰＡＦ（血小板活性化因子）、リゾフォスファチジン酸（以下ＬＰＡと略記する）等の脂質メディエーターが産生され、様々な生理活性を生じていることが明らかにされている。スフィンゴシン−１−リン酸（以下、「ｓｐｈ−１−Ｐ」と略記する）はスフィンゴ脂質の代謝回転を通じて、特に細胞膜の主要構成成分、スフィンゴミエリンの代謝物として生成されるリゾ脂質であり、細胞間、細胞内のメッセンジャーとして働くことがこの約１０年間で提唱されてきている。当初はｓｐｈ−１−Ｐの細胞内セカンドメッセンジャーとしての可能性を示唆する結果が報告され、その後、ｓｐｈ−１−Ｐの細胞内へのインジェクション実験により、ｓｐｈ−１−Ｐが細胞内で生理機能を発現している可能性が現実的になってきた。
【０００３】
もっとも、決め手となるｓｐｈ−１−Ｐが直接作用する細胞内の分子は現在未だ見出されておらず、故にｓｐｈ−１−Ｐの細胞内セカンドメッセンジャーとしての可能性はその域を脱していない。近年、Ｇ蛋白質共役の７回膜貫通型受容体（以下ＧＰＣＲと略記する）であるＥｎｄｏｔｈｅｌｉａｌＤｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｔｉｏｎＧｅｎｅ−１（ＥＤＧ−１）とその類縁分子であるＥＤＧ−３、ＥＤＧ−５、ＥＤＧ−６、及びＥＤＧ−８がｓｐｈ−１−Ｐ受容体として機能することが相次いで示され、ｓｐｈ−１−Ｐが細胞間メッセンジャーとしてその受容体を介して様々な生理作用が起こしていることが明らかにされてきた。ごく最近では、新たにＧＰＲ−３、ＧＰＲ−４、及びＧＰＲ−１２もｓｐｈ−１−Ｐ受容体として機能していることが示唆され、ｓｐｈ−１−Ｐ受容体はＧＰＣＲの中でも一大ファミリーを形成しつつある（ＣｅｌｌｕｌａｒＳｉｇｎａｌｌｉｎｇ１４，９４１−９５３，２００２）。
【０００４】
一方、ＥＤＧ−１、ＥＤＧ−３、ＥＤＧ−５、ＥＤＧ−６、及びＥＤＧ−８（それぞれ、Ｓ１Ｐ１、Ｓ１Ｐ３、Ｓ１Ｐ２、Ｓ１Ｐ４、Ｓ１Ｐ５とも呼ばれる場合もある）は、ＬＰＡ受容体であるＥＤＧ−２、ＥＤＧ−４、ＥＤＧ−７を含め、ＥＤＧ受容体ファミリーと称されている。これは、ＥＤＧ−１がヒト臍帯静脈内皮細胞（ＨＵＶＥＣ）をＰｈｏｒｂｏｌ１２−ｍｙｒｉｓｔａｔｅ１３−ａｃｅｔａｔｅ（ＰＭＡ）刺激することで誘導発現されるオーファン受容体として１９９０年にＨｌａらにより初めに報告されたことを端緒としている。その後、複数のＥＤＧ−３、ＥＤＧ−５、ＥＤＧ−６、及びＥＤＧ−８遺伝子がクローニングされ、これら受容体間のアミノ酸レベルでの相同性が４４〜５０％程度あることが分かり、これら遺伝子はファミリーを形成していることが明らかになった。その後、ＥＤＧ−１がｓｐｈ−１−Ｐ受容体であることは１９９８年に同グループから始めて報告され、他の受容体もｓｐｈ−１−Ｐと反応することが示された。さらに、これらの受容体はＬＰＡ受容体とも高い相同性（約３０％）を有していることも明らかになり、ＥＤＧファミリーはｓｐｈ−１−Ｐ／ＬＰＡ受容体ファミリーとして位置付けらるに至った。
【０００５】
ＥＤＧ受容体に結合し得るＧ蛋白質としてはＧｓ、Ｇｉ、Ｇｑ、Ｇｏ、Ｇ１２／Ｇ１３などが知られており、これらの受容体は細胞増殖亢進作用あるいは抑制作用、細胞遊走促進作用あるいは抑制作用などの応答に関与するとされている。最近では、これら受容体がＧｉ蛋白質と相互作用し、Ｇｉ蛋白質を介してｐ４２ＭＡＰＫ／ＥＲＫ２の活性化を引き起こすことが示され、ｓｐｈ−１−Ｐ受容体は多彩なシグナルを伝達することが明らかになってきた。また、これらｓｐｈ−１−Ｐによる細胞応答の多くが百日咳毒素で阻害されることから、その細胞応答の多くはｓｐｈ−１−Ｐ受容体を介した作用であると考えられている。さらに、ｓｐｈ−１−Ｐは血小板に蓄えられており、血小板の活性化により血中に放出されることからも、ｓｐｈ−１−Ｐの生理作用は細胞膜上の受容体を介して発現する可能性が高いとされている。
【０００６】
Ｓｐｈ−１−Ｐの薬理作用としては、平滑筋細胞、メサンギウム細胞、及び癌細胞の増殖や運動の制御、血管の弛緩・収縮、血圧の調節、心拍数の調節、血小板の凝集、脳血管痙攣、脳虚血、肝繊維症、及び免疫調節機能などが知られているが、最近、ｓｐｈ−１−Ｐは血管新生に対しても重要な役割を果たすことが分かってきた。Ｍｅｎｑ−ＪｅｒＬｅｅらはＨＵＶＥＣを用いて、ｓｐｈ−１−ＰがＥＤＧ−１及びＥＤＧ−３受容体を介して該細胞のサーバイバル延長作用、接着点形成作用、微小血管形成作用を促すことを報告している（Ｃｅｌｌ９９，３０１−３１２，１９９９）。また、彼らはｓｐｈ−１−Ｐがｉｎｖｉｖｏにおいても血管新生に対して線維芽細胞増殖因子（ＦＧＦ）や血管内皮細胞増殖因子（ＶＥＧＦ）と相乗的に効果を示すことを報告している。ＯＫ−ＨｅｅＬｅｅらも同様にＨＵＶＥＣを用いてｓｐｈ−１−ＰのＨＵＶＥＣに対するＤＮＡ合成促進作用及び、遊走作用を明らかにし、ｉｎｖｉｖｏにおいても血管新生に対して、ｓｐｈ−１−Ｐが単独で血管新生を促進することを報告している（Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｂｉｏｐｈｙｓ．Ｒｅｓ．Ｃｏｍｍｕｎ．２６４，７４３−７５０，１９９９）。これらのことより、ｓｐｈ−１−Ｐの生体内での生理作用の一つとして血管新生促進作用があることが考えられる。更に、ＥＤＧ−１のノックアウトマウスが作製され、このマウスが血管形成異常で胎生致死になることから、ｓｐｈ−１−Ｐの血管新生作用はＥＤＧ−１を介する可能性が強く示唆された（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓ．１０６，９５１−９６１，２０００）。
【０００７】
一方、ごく最近、ｓｐｈ−１−Ｐの心臓機能調節への役割も指摘されている。すなわち、ｓｐｈ−１−Ｐには心筋収縮力を低下させる作用、心拍数減少作用があることが摘出心筋標本で示されている（Ｊ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．４８９，７０１−７０７，１９９５、ＥＭＢＯＪ．１５，５５２７−５５３４，１９９６、Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｊ．３５５，１８９−１９７，２００１）。また、ラット培養心筋細胞においてｓｐｈ−１−ＰはＥＤＧ−１を介して心肥大を生じること、カルシウムオーバーロードを生じること（Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃｅｌｌ．Ｃａｒｄｉｏｌ．３３，１５８９−１６０６，２００１、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．２６７，５６７９−２６８６，２０００）、虚血耐性を生じることが示されている（Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃｅｌｌ．Ｃａｒｄｉｏｌ．３３，１７１３−１７１７，２００１）。さらに、同様にラット心筋細胞においてｓｐｈ−１−Ｐはアポトーシスを生じることが示唆されている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９８，２８５４−２８６５，１９９６）。
【０００８】
従って、ＥＤＧ−１受容体に対する拮抗剤は、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬として有用である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するための手段】
本発明の課題は、ＥＤＧ受容体、とりわけＥＤＧ−１受容体に対して拮抗作用を有する新規化合物を提供することにある。本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、下記の一般式（Ｉ）で表される化合物がＥＤＧ−１受容体に対して強力な拮抗作用を有していることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明により、下記の一般式（Ｉ）：
【化２】

〔式中、
Ｒ^１は炭素原子数１〜１７個のアルキル基（該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｒ^２はＢ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｒ^３はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示し；
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ａで表される環は上記式に示される１個の−Ｑ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員環を示し、Ｑは炭素原子又は窒素原子を示し、該環は−ＣＨ＝ＣＨ−、窒素原子、酸素原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、硫黄原子、及び−Ｃ（Ｏ）−からなる群から選ばれる環構成部分構造を１個又は２個以上有していてもよく、該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。
「置換基群Ａ」
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基〕で表される化合物、その塩、又はそのエステルが提供される。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、
Ｒ^１がアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、フェノキシアルキル基（該フェノキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルキルカルバモイル基、アラカノイル置換アミノアルキル基、アルカノイル置換アルキルアミノアルキル基、又はアルキルスルホニル置換アミノアルキル基であり；Ｒ^２がＢ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシ基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｒ^３がＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、及びアルコキシアルコキシ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環が５又は６員環の芳香族又は部分飽和の炭化水素環（該炭化水素環はアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、又は５又は６員環の芳香族又は部分飽和のヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含み、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）である上記の化合物、その塩、又はそのエステル；
【００１２】
Ｒ^１がアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、フェノキシアルキル基（該フェノキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルキルカルバモイル基、アラカノイル置換アミノアルキル基、アルカノイル置換アルキルアミノアルキル基、又はアルキルスルホニル置換アミノアルキル基であり；Ｒ^２がＢ環上においてＹに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシ基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｒ^３がＣ環上においてＺに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、及びアルコキシアルコキシ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環が５又は６員環の芳香族又は部分飽和の炭化水素環（該炭化水素環はアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、、又は５又は６員環の芳香族又は部分飽和のヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含み、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）である上記の化合物、その塩、又はそのエステル；及び
【００１３】
Ｒ^１がアルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、フェノキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基を有していてもよい）であり；Ｒ^２がＢ環上においてＹに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、又はアミノアルキル基であり；Ｒ^３がＣ環上においてＺに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、又はアルコキシアルコキシ基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、又はスルフィニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環、シクロヘキセン環、シクロペンテン環、ピリジン環、又はピロール環である上記の化合物、その塩、又はそのエステルが提供される。
【００１４】
別の観点からは、本発明により、上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、及び薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む医薬が提供される。上記の医薬は、例えば、ＥＤＧ、好ましくはＥＤＧ−１が関与する疾患の予防及び／又は治療のための医薬として用いることができる。より具体的には、上記の医薬は、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬として有用である。
【００１５】
さらに別の観点からは、上記の医薬の製造のための上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質の使用；及び上記の上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含むＥＤＧ受容体拮抗剤が提供される。また、本発明により、ＥＤＧ、好ましくはＥＤＧ−１が関与する疾患の予防及び／又は治療方法であって、上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質の予防及び／又は治療有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法が提供される。上記の方法の適用対象となる疾患としては、より具体的には上記に例示した疾患を挙げることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本明細書において、アルキル基又はアルキル部分を含む他の置換基（例えばアルコキシ基など）の該アルキル部分としては、特に言及しない場合には、例えば、直鎖状、分枝鎖状、環状、又はそれらの組み合わせからなる炭素原子数１〜１７個のアルキル基を用いることができる。より具体的には、アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基などを挙げることができる。また、アルキル基は１個又は２個以上の環状部分を含んでいてもよい。
【００１７】
アルキル鎖に１個又は２個以上の不飽和結合を含む官能基（例えばアルケニル基、アルキニル基など）のアルキル鎖は上記のアルキル基と同様である。例えば、アルケニル基又はアルキニル基において、アルキル鎖に含まれる不飽和結合の数及び位置は特に限定されない。アルケニル部分又はアルキニル部分を含む官能基における該アルケニル部分又は該アルキニル部分についても同様である。アリール部分を有する官能基（例えばアラルキル基など）におけるアリール部分としては、単環性又は多環性の芳香族炭化水素を用いることができる。より具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などを用いることができる。本明細書において、ハロゲン原子という場合には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれであってもよい。
【００１８】
「置換基群Ａ」には、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、及びシアノ基が含まれる。本明細書において、ある官能基について「置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい」と定義されている場合には、該官能基が置換基群Ａから選ばれる置換基を任意の位置に１個又は２個以上有する場合があることを意味しているが、該官能基が２個以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００１９】
置換基群Ａにおいて、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、１−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチルプロポキシ基、１−エチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、２，３−ジメチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、１−エチルブトキシ基、１−エチル−１−メチルプロポキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、又はｎ−ヘプタデシルオキシ等のアルコキシ基が挙げられる。
【００２０】
アルケニルオキシ基としては、例えば、ビニルオキシ基、（プロパ−１−エン−１−イル）オキシ基、アリルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、（ブタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ブタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ブタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（２−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ基、（１−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−４−エン−１−イル）オキシ基、（３−メチルブタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（３−メチルブタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−４−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−５−エン−１−イル）オキシ基、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−６−エン−１−イル）オキシ基、（オクタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（オクタ−７−エン−１−イル）オキシ基、（ノナ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ノナ−８−エン−１−イル）オキシ基、（デカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（デカ−９−エン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１０−エン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１１−エン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１２−エン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１３−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１４−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１５−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１６−エン−１−イル）オキシ基などのアルケニルオキシ基が挙げられる。
【００２１】
アルキニルオキシ基としては、例えば、エチニルオキシ基、（プロパ−１−イン−１−イル）オキシ，（プロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ブタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ブタ−３−イン−１−イル）オキシ基、（１−メチルプロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ペンタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−４−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−５−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−６−イン−１−イル）オキシ基、（オクタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（オクタ−７−イン−１−イル）オキシ基、（ノナ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ノナ−８−イン−１−イル）オキシ基、（デカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（デカ−９−イン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１０−イン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１１−イン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１２−イン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１３−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１４−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１５−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１６−イン−１−イル）オキシ基などのアルキニル−オキシ基が挙げられる。
【００２２】
アラルキルオキシ基としては、１個又は２個以上のアリール基が置換したアルコキシ基を用いることができ、より具体的には、例えば、ベンジルオキシ基、１−ナフチルメトキシ基、２−ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、フェナントレニルメトキシ基、アセナフチレニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基、１−フェネチルオキシ基、２−フェネチルオキシ基、１−（１−ナフチル）エトキシ基、１−（２−ナフチル）エトキシ基、２−（１−ナフチル）エトキシ基、２−（２−ナフチル）エトキシ基、３−フェニルプロポキシ基、３−（１−ナフチル）プロポキシ基、３−（２−ナフチル）プロポキシ基、４−フェニルブトキシ基、４−（１−ナフチル）ブトキシ基、４−（２−ナフチル）ブトキシ基、５−フェニルペンチルオキシ基、５−（１−ナフチル）ペンチルオキシ基、５−（２−ナフチル）ペンチルオキシ基、６−フェニルヘキシルオキシ基、６−（１−ナフチル）ヘキシルオキシ基、６−（２−ナフチル）ヘキシルオキシ等を挙げることができる。
【００２３】
アルキルアミノ基基としては、モノアルキルアミノ基基又はジアルキルアミノ基基のいずれであってもよい。例えば、モノアルキルアミノ基として、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、（２−メチルブチル）アミノ基、（１−メチルブチル）アミノ基、ネオペンチルアミノ基、（１，２−ジメチルプロピル）アミノ基、（１−エチルプロピル）アミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、（４−メチルペンチル）アミノ基、（３−メチルペンチル）アミノ基、（２−メチルペンチル）アミノ基、（１−メチルペンチル）アミノ基、（３，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２，２−ジメチルブチル）アミノ基、（１，１−ジメチルブチル）アミノ基、（１，２−ジメチルブチル）アミノ基、（１，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２−エチルブチル）アミノ基、（１−エチルブチル）アミノ基、（１−エチル−１−メチルプロピル）アミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、ｎ−ウンデシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基、ｎ−トリデシルアミノ基、ｎ−テトラデシルアミノ基、ｎ−ペンタデシルアミノ基などのアルキルアミノ基が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、上記に例示したモノアルキルアミノ基の窒素原子上に上記に例示したアルキル基が１個置換したものを挙げることができる。
【００２４】
アルカノイルアミノ基としては、上記に例示したモノアルキルアミノ基において、窒素原子に結合する炭素原子上にオキソ基が置換した基を例示することができる。アミノ基上に置換するアルカノイル基は、例えば、炭素原子数１〜１７個のアルカノイル基であることが好ましい。アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、１−メチルブチルチオ基、ネオペンチルチオ基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、４−メチルペンチルチオ基、３−メチルペンチルチオ基、２−メチルペンチルチオ基、１−メチルペンチルチオ基、３，３−ジメチルブチルチオ基、２，２−ジメチルブチルチオ基、１，１−ジメチルブチルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、１，３−ジメチルブチルチオ基、２，３−ジメチルブチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、１−エチルブチルチオ基、１−エチル−１−メチルプロピルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｎ−ノニルチオ基、ｎ−デシルチオ基、ｎ−ウンデシルチオ基、ｎ−ドデシルチオ基、ｎ−トリデシルチオ基、ｎ−テトラデシルチオ基、ｎ−ペンタデシルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基、又はｎ−ヘプタデシルチオ等のアルキルチオ基が挙げられる。
【００２５】
Ｒ^１が示す炭素原子数１〜１７個のアルキル基としては、直鎖状、分枝鎖状、環状、又はそれらの組み合わせからなるアルキル基を用いることができ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、９−シクロヘキシルノニル基、１０−シクロヘキシルデシル基などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。Ｒ^１が示す直鎖状又は分枝鎖状の炭素原子数１〜１７個のアルキル基としては、炭素原子数が６個以上、より好ましくは炭素原子数が８個以上、さらに好ましくは炭素原子数が１０個以上のアルキル基を用いることができる。
【００２６】
Ｒ^１が示す直鎖状又は分枝鎖状の炭素原子数１〜１７個のアルキル基の「鎖中」（本明細書においてアルキル基の「鎖中」という用語は、アルキル基の主鎖中及びアルキル基の側鎖中のいずれか又は両方を意味しており、主鎖又は側鎖の末端を含む概念として用いる。「主鎖」とはアルキル基に含まれる最長の炭素原子鎖（ただし、一般式（Ｉ）に示されるエチニル基に結合するＲ^１中の炭素原子を一端とする）を意味し、「側鎖」は主鎖に結合する炭素原子鎖のことである。）に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよい。例えば、鎖中にベンゼン環が存在する場合、該ベンゼン環はフェニレン基を形成する。鎖中に上記の部分構造を２個以上有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。上記の部分構造を含むアルキル基としては、例えば、鎖中に１個の酸素原子を含むアルキル基が好ましい。酸素原子の位置は特に限定されないが、エチニル基に結合する炭素原子に隣接する位置に酸素原子を有することが好ましく、この場合、Ｒ^１はアルキルオキシメチル基を形成する。
【００２７】
また、Ｒ^１が示すアルキル基（鎖中に上記の部分構造を有する場合を含む）は、置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい。置換基の存在位置及び個数は特に限定されない。２以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。置換基としては、例えばヒドロキシ基が好ましい。Ｒ^１が示すアルキル基（鎖中に上記の部分構造を有する場合を含む）は無置換であることも好ましいが、１個のヒドロキシ基を有することも好ましい。鎖中に１個の酸素原子を含み、かつ鎖上に１個のヒドロキシ基を有する場合も好ましい。より具体的には、Ｒ^１がアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、フェノキシアルキル基（該フェノキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルキルカルバモイル基、アラカノイル置換アミノアルキル基、アルカノイル置換アルキルアミノアルキル基、又はアルキルスルホニル置換アミノアルキル基であることが好ましい。
【００２８】
Ｒ^２はＢ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示す。Ｂ環であるベンゼン環には３箇所の置換可能位置が存在するが、こ（れら）のいずれの位置にＲ^２が存在していてもよい。２個以上のＲ^２が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれるが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｒ^２がＢ環上においてＹに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシ基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基でありる。Ｒ^２が水素原子であることが好ましいが、Ｒ^２が水素原子以外の置換基であることも好ましく、この場合には、ベンゼン環上でＹに対してパラ位に１個のＲ^２が存在することが好ましく、この場合にはＲ^２がヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシ基、アルキル基（該アルキル基は１個のヒドロキシ基又は１個のアミノ基で置換されていてもよい）であることが好ましい。
【００２９】
Ｒ^３はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示す。Ｃ環であるベンゼン環には５箇所の置換可能位置が存在するが、れら）のいずれの位置にＲ^３が存在していてもよい。２個以上のＲ^３が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は置換基群Ａから選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれるが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｒ^３としては、アラルキルオキシ基、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基はハロゲン原子を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、又は炭素原子数１〜６個のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基がより好ましい。より具体的には、Ｒ^３がＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、及びアルコキシアルコキシ基からなる群から選ばれる置換基であることが好ましく、Ｒ^３がＣ環上においてＺに対してパラ位に１個存在する場合がより好ましい。
【００３０】
Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示すが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｘとしてはヒドロキシ基が好ましい。Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示すが、カルボキシル基又はスルホ基が好ましく、スルホ基がより好ましい。
【００３１】
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示すが、Ｚが硫黄原子、スルフィニル基（−Ｓ（Ｏ）−）、スルホニル基（−ＳＯ_２−）であることが好ましく、硫黄原子であることがより好ましい。
【００３２】
Ａで表される環は、上記式中に示される１個の−Ｑ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員環を示す。Ｑは炭素原子又は窒素原子を示すが、炭素原子であることが好ましい。該環は、−ＣＨ＝ＣＨ−、窒素原子、酸素原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、硫黄原子、及び−Ｃ（Ｏ）−からなる群から選ばれる環構成部分構造を１個又は２個以上有していてもよい。Ａで表される環は、部分飽和又は芳香族のいずれであってもよい。好ましくは、Ａで表される環は５又は６員環の芳香族環又は部分飽和環であり、炭化水素環であるか、あるいは窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含むヘテロ環である。環構成ヘテロ原子としては、窒素原子が好ましい。Ａで表される環としては、例えば、ベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、若しくはピラゾール環などの芳香環、又はこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（例えばシクロヘキセン環、シクロペンテン環など）、あるいはシクロペンテン環などを挙げることができ、これらの環を構成する炭素原子の１個又は２個以上が−Ｃ（Ｏ）−で置換されていることも好ましい。
【００３３】
一般式（Ｉ）で表される化合物は置換基の種類により、１個又は２個以上の不斉炭素を有する場合があり、こ（れら）の不斉炭素に基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体が存在する。純粋な形態の立体異性体及び立体異性体の等量又は非等量混合物などの物質は、いずれも本発明の範囲に包含されることを理解すべきである。一般式（Ｉ）で表される化合物は、置換基の種類によっては幾何異性体又は互変異性体として存在することもあるが、任意の異性体又はそれらの混合物も本発明の範囲に包含される。例えば、下記の表１に示されるように、Ａ環を構成する−Ｑ＝Ｃ−部分構造は互変異性により＝Ｑ−Ｃ＝で表される部分構造となる場合がある。
【００３４】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、酸付加塩として存在する場合がある。そのような塩としては、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化水素酸の塩；硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩のような無機酸塩；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のようなアリールスルホン酸の塩；グルタミン酸、アスパラギン酸のようなアミノ酸の塩；酢酸、フマール酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、マンデル酸、アスコルビン酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸のようなカルボン酸の塩を挙げることができる。また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は塩基付加塩として存在する場合もある。そのような塩としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属塩；カルシウム、バリウム、マグネシウムのようなアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩；アンモニウム塩；メチルアミン塩などの有機アミン塩を挙げることができる。さらに、グリシンなどのアミノ酸との塩を形成する場合もある。これらの塩はいずれも本発明の範囲に包含される。
【００３５】
また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｙで表されるカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基はエステル、好ましくは薬理上許容されるエステルを形成していてもよい。エステルの種類は特に限定されず、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物と同様に医薬上の有用性を有しており、薬理上受け入れられるものであれば、特に制限なくいかなる種類のエステルを用いてもよい。
例えば、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基（該アルキル基は、トリアルキルシリル基により置換されていてもよい）、炭素原子数７〜１９個のアラルキル基、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルカノイルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキルオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数５〜７個のシクロアルキルオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数６〜１０個のアリールオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、５位に置換基として炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基を有する２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル基などを挙げることができる。
【００３６】
より具体的には、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基としては、好適には炭素原子数１〜４個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基であり、さらに好適にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、又はイソブチル基であり、最適にはメチル基又はエチル基である。炭素原子数５〜７個のシクロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などを挙げることができ、好適にはシクロヘキシル基である。炭素原子数６〜１０個のアリール基としては、例えばフェニル基又はナフチル基を挙げることができ、好適にはフェニル基である。炭素原子数７〜１９個のアラルキル基としては、上記アリール基が前基アルキル基に結合した基を用いることができ、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、又はジフェニルメチル基などを挙げることができ、好適にはベンジル基である。
【００３７】
好適なエステル残基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、アセトキシメチル基、１−（アセトキシ）エチル基、プロピオニルオキシメチル基、１−（プロピオニルオキシ）エチル基、ブチリルオキシメチル基、１−（ブチリルオキシ）エチル基、イソブチリルオキシメチル基、１−（イソブチリルオキシ）エチル基、バレリルオキシメチル基、１−（バレリルオキシ）エチル基、イソバレリルオキシメチル基、１−（イソバレリルオキシ）エチル基、ピバロイルオキシメチル基、１−（ピバロイルオキシ）エチル基、メトキシカルボニルオキシメチル基、１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、プロポキシカルボニルオキシメチル基、１−（プロポキシカルボニルオキシ）エチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチル基、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル基、ブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（ブトキシカルボニルオキシ）エチル基、イソブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチル基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチル基、シクロペンタンカルボニルオキシメチル基、１−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチル基、シクロヘキサンカルボニルオキシメチル基、１−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチル基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル基、ベンゾイルオキシメチル基、１−（ベンゾイルオキシ）エチル基、フェノキシカルボニルオキシメチル基、１−（フェノキシカルボニルオキシ）エチル基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル基、又は２−トリメチルシリルエチル基などを挙げることができる。もっとも、一般式（Ｉ）で表される化合物のエステルは上記に限定されることはない。
【００３８】
さらに、生体内において代謝されて一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルに変換される化合物（例えばアミド誘導体のような、いわゆるプロドラッグとして利用可能な化合物）も本発明の範囲に包含される。また、一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルは、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあり、任意の水和物又は溶媒和物も本発明の範囲に包含されることも理解すべきである。
【００３９】
一般式（Ｉ）において、
（Ａ）Ｒ^１がアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、フェノキシアルキル基（該フェノキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルキルカルバモイル基、アラカノイル置換アミノアルキル基、アルカノイル置換アルキルアミノアルキル基、又はアルキルスルホニル置換アミノアルキル基であり；Ｒ^２がＢ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシ基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｒ^３がＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、及びアルコキシアルコキシ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環が５又は６員環の芳香族又は部分飽和の炭化水素環（該炭化水素環はアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、、又は５又は６員環の芳香族又は部分飽和のヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含み、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）であることが好ましく、
【００４０】
（Ｂ）Ｒ^１がアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、フェノキシアルキル基（該フェノキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルキルカルバモイル基、アラカノイル置換アミノアルキル基、アルカノイル置換アルキルアミノアルキル基、又はアルキルスルホニル置換アミノアルキル基であり；Ｒ^２がＢ環上においてＹに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、ヒドロキシ基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｒ^３がＣ環上においてＺに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、及びアルコキシアルコキシ基からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環が５又は６員環の芳香族又は部分飽和の炭化水素環（該炭化水素環はアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、、又は５又は６員環の芳香族又は部分飽和のヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含み、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）であることがより好ましく、
【００４１】
（Ｃ）Ｒ^１がアルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、フェノキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシ置換アルコキシアルキル基、アミノアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アラルキルオキシアルキル基（該アラルキルオキシアルキル基のベンゼン環はヒドロキシ基を有していてもよい）であり；Ｒ^２がＢ環上においてＹに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、又はアミノアルキル基であり；Ｒ^３がＣ環上においてＺに対してパラ位に存在する１個の置換基であり、該置換基が、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、又はアルコキシアルコキシ基であり；Ｘがヒドロキシ基又はアミノ基であり；Ｙがカルボキシル基又はスルホ基であり；Ｚが酸素原子、硫黄原子、又はスルフィニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環、シクロヘキセン環、シクロペンテン環、ピリジン環、又はピロール環（上記の環は、アルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、網のアルキル基、オキソ基、及びシアノ基からなる群から選ばれる１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）であることがさらに好ましい。
【００４２】
以下に一般式（Ｉ）に包含される本発明の化合物の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらの具体例に限定されることはない。表中、Ｍｅはメチル基を示し、ｃｙｃｌｏ−Ｃ_６Ｈ_１１はシクロヘキシル基を示し、表２においてＡ環の「１」及び「２」はＡ環の結合部位を示す（「１」で表される原子がＱに該当する）。
【００４３】
【表１】

【００４４】
【表２】

【００４５】
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、例えば、以下に説明する方法及び実施例に具体的に説明された方法を参照しつつ、出発原料、反応試薬、反応条件などを適宜選択し、必要に応じてこれらの方法に適宜の修飾や改変を加えることにより、公知化合物を出発原料として当業者が容易に製造できる。以下、各実施例のスキーム中の具体的に示された反応工程に言及しつつ、一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物を製造する方法を説明するが、本発明の化合物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではない。また、任意の方法で製造された一般式（Ｉ）に包含される化合物が、いずれも本発明の範囲に包含されることは言うまでもない。
【００４６】
本発明の化合物は、例えば、下記の工程により製造することができる。
【化３】

【００４７】
上記工程中、Ｙ及びＺはそれぞれ前記定義と同義である。Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ上記定義と同義であるが、これらの置換基に含まれる１又は２以上の官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により適宜保護した置換基を包含する。Ｘは上記定義と同義であるが、有機合成上適当と考えられる保護基により適宜保護されたものも含む。Ｈａｌはハロゲン原子を示し、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。ＹｐはＹが示すカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基のエステルを示し、より具体的には、下記の置換基群Ｂから選択される基をエステル形成基として有するカルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、又はホスホン酸エステル基を示す。
（置換基群Ｂ）：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、アリル基、２−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基
【００４８】
上記工程中、Ｒ^５はスルホン酸の保護基として適当なアルキル基又はアリール基を示し、例えば、置換基群Ｂから適宜選択される。Ｒ^６は炭素原子数１〜１０個のアルキル基（該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ（Ｒ^４）−（Ｒ^４は上記と同義である）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示す。Ｒ^７はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜４個のアルキル基を示し；Ｒ^８は水酸基の保護に通常用いられる保護基を示し；Ｒ^９は水素原子、炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、アジド基、又はシアノ基を示し；Ｒ^１０は炭素原子数１〜４個のアシル基を示し；Ｒ^１１はアルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。
【００４９】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記のＡ〜Ｇ工程のうち４〜８工程を経る工程により製造することができる。
＜Ａ工程＞
本工程は目的化合物の構造中にＹとしてスルホン酸基を有する場合に必要な工程であり、スルホン酸エステル（ＩＩＩ）を製造する工程である。本工程は出発原料であるスルホニルクロライド（ＩＩ）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルコールを作用させることにより達成される。出発原料となる２，６−ジハロゲノベンゼンスルホニルクロリドは多くの誘導体が市販されており、それらを購入して用いることができる。また、市販されていない化合物については、文献（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，６２巻、５１１項、（１９４０年））等の方法を用いて容易に合成することができる。使用される溶剤としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される塩基としては、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが、好適にはトリエチルアミンである。使用されるアルコールとしてはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノールなどのアルキルアルコール類；フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ハロゲン化フェノールなどのフェノール類が挙げられるが、好適にはフェノールである。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
【００５０】
＜Ｂ工程＞
本工程はＣ環部に相当する構造を求核剤として用い、中間体（ＩＶ）の置換基Ｙｐに対してオルト位に存在するハロゲン基を置換し、新たな中間体（Ｖ）を製造する工程である。目的化合物の構造中にＹとしてカルボン酸基を有する場合の出発原料である２，６−ジハロゲノ安息香酸は各種誘導体が市販されており、それら購入して用いることができる。本工程は中間体（ＩＶ）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下４−ヒドロキシベンゼンチオール等の求核剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが好適にはジイソプロピルエチルアミンである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
【００５１】
＜Ｃ工程＞
（第Ｃ工程）
本工程は目的化合物の構造中、置換基Ｒ^３としてアルコキシ基を有する場合に必要な工程であり、中間体（ＶＩ）を製造する工程である。本工程は中間体（Ｖ）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルキルハライドを作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；ＤＢＵ、ＤＢＮ等の有機強塩基類が挙げられるが好適にはＤＢＵである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。
反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
【００５２】
＜Ｄ工程＞
本工程は目的化合物の構造中にＺとしてスルホキシド（−Ｓ（Ｏ）−）又はスルホン（−Ｓ（Ｏ）_２−）を有する場合に必要な工程であり、中間体（ＶＩＩ）のスルフィド部位を酸化してスルホキシド部位を有する中間体（ＶＩＩＩ）を製造する工程である。本工程は中間体（ＶＩＩ）に対して不活性溶剤中、酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸のような過酸類；過ヨウ素酸ナトリウム、過臭素酸ナトリウムのような過ハロゲン酸アルカリ金属塩が挙げられるが、好適にはｍ−クロロ過安息香酸である。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
【００５３】
＜Ｅ工程＞
本工程は中間体（ＩＸ）に対してＡ環部の導入を行い、中間体（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、又は（ＸＸ）を製造する工程である。本工程を達成するための手法はａ〜ｄ法の４手法に大別でき、目的物の構造、試薬の入手しやすさ、効率等により任意の手法を適宜選択できる。
１．Ｅａ工程
本工程は有機合成化学において「鈴木−宮浦クロスカップリング反応」と総称される反応条件下、中間体（ＩＸ）とあらかじめ側鎖に対応するアルキン部位を含んだＡ環構造（Ｘ）を連結し、中間体（ＸＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒及び塩基の存在下、中間体（ＩＸ）に対してＡ環部に相当するホウ素試薬、例えば１−ボロン酸−２−（１’−ヒドロキシアルカ−２’−イン−１’−イル）構造を有し、かつ環骨格を有するホウ素試薬（Ｘ）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；が挙げられるが、好適にはエーテル類であり、特に好適には１，２−ジメトキシエタンである。使用される遷移金属触媒としては、例えば、ＮｉＣｌ_２（ｄｐｐｐ）、ＮｉＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２、Ｎｉ（ｃｏｄ）_２などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_２、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのようなリン酸アルカリ金属塩類；フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属塩が挙げられるが好適にはフッ化セシウムである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
【００５４】
２．Ｅｂ工程
本工程は有機合成化学において「鈴木−宮浦クロスカップリング反応」と総称される反応条件下、中間体（ＩＸ）とＡ環構造を連結し、中間体（ＸＩＩＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒及び塩基の存在下、中間体（ＩＸ）に対してＡ環部に相当するホウ素試薬、例えば１−ボロン酸−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するホウ素試薬（ＸＩＩ）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；が挙げられるが、好適にはエーテル類であり、特に好適には１，２−ジメトキシエタンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばＮｉＣｌ_２（ｄｐｐｐ）、ＮｉＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２、Ｎｉ（ｃｏｄ）_２などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_２、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのようなリン酸アルカリ金属塩類；フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属塩が挙げられるが好適には炭酸カリウムである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００度である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
【００５５】
３−１．Ｅｃ１工程
本工程は中間体（ＩＸ）のハロゲン部位をトリアルキルスタニル基へと変換し、有機スズ化合物である中間体（ＸＩＶ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（ＩＸ）に対してハロゲン−金属交換を行った後、塩化トリアルキルスタナンを始めとするトリアルキルスタニル化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはｎ−ブチルリチウムである。使用されるスタニル化剤としては、例えば、塩化トリメチルスタナン、塩化トリエチルスタナン、塩化トリブチルスタナンなどの塩化トリアルキルスタナン類；臭化トリメチルスタナン、臭化トリエチルスタナン、臭化トリブチルスタナンなどの臭化トリアルキルスタナン類が挙げられるが、好適には塩化トリブチルスタナンである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
【００５６】
３−２．Ｅｃ２工程
本工程は有機スズ化合物である中間体（ＸＩＶ）とＡ環構造を連結し、中間体（ＸＩＩＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒の存在下、中間体（ＸＩＶ）に対してＡ環部に相当するハロゲン化物、すなわち１−ハロ−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するハロゲン化物（ＸＶ）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはキシレンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばＮｉＣｌ_２（ｄｐｐｐ）、ＮｉＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２、Ｎｉ（ｃｏｄ）_２などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_２、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。反応温度は室温〜１８０℃で行われるが、好適には５０〜１２０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
【００５７】
４．Ｅｄ１工程
本工程は中間体（ＩＸ）とＡ環相当部位（ＸＶＩ）とのカップリングを行い、中間体（ＸＶＩＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（ＩＸ）に対してハロゲン−金属交換を行った後、２−ヒドロキシメチルシクロアルカ−２−エン−１−オン構造を有するＡ環相当部位（ＸＩＶ）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはｎ−ブチルリチウムである。
反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
【００５８】
４−２．Ｅｄ２工程
本工程は中間体（ＸＶＩＩ）が有する２重結合の異性化、及び置換基の導入を行い、中間体（ＸＶＩＩＩ）を製造する工程である。本工程はアルコール等の求核性を有する溶剤中、中間体（ＸＶＩＩ）に対して酸触媒を作用させることにより、又は不活性溶剤中、適当な求核剤の存在下で中間体（ＸＶＩＩ）に対して酸触媒を作用させることにより達成される。２通りの方法を以下に記載する。
（ｉ）アルコキシ基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノールなどの一級アルコール類；２−プロパノール、２−ブタノールなどの二級アルコール類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールなどの三級アルコール類が挙げられるが、好適には一級アルコール類であり、特に好適にはメタノールである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類などが挙げられるが、好適にはｐ−トルエンスルホン酸である。反応温度は−４５〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜４８時間であり、好適には３時間〜２４時間である。
【００５９】
（ｉｉ）アルコキシ基以外の置換基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが好適にはジクロロメタンである。使用される求核剤としては、例えば、トリメチルシリルアジド、トリメチルシリルシアニド、トリエチルシランなどのシリル系試剤が挙げられるが、好適にはトリメチルシリルアジドである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；３フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には３フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−１００〜６０℃で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
【００６０】
４−３．Ｅｄ３工程
本工程は中間体（ＸＶＩＩＩ）が有するヒドロキシメチル基上の保護基を除去し、中間体（ＸＩＸ）を製造する工程である。本工程は用いた保護基によって方法が異なるが、シリル系保護基を用いた場合について以下に記載する。それ以外の保護基についても、例えば文献「ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓｔｈｉｒｄｅｄｉｔｉｏｎ」（編集Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９年）等に記載されている方法により同様に脱保護が行える。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される脱保護試薬としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素ピリジン錯体、フッ化水素トリエチルアミン錯体などのフッ素化合物類；ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類；フッ化水素、塩化水素、硫酸などの無機酸などが挙げられるが、好適にはテトラブチルアンモニウムフルオライドである。反応温度は−４５〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
【００６１】
４−４．Ｅｄ４工程
本工程は中間体（ＸＩＸ）が有するヒドロキシメチル基上の水酸基を酸化してアルデヒド基を有する中間体（ＸＸ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（ＸＩＸ）に対して酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド−オキザリルクロリド等のジメチルスルホキシドを用いた酸化手法；ＰＤＣ、ＰＣＣ、ジョーンズ試薬などのクロム類；デス−マーチン試薬、ＤＤＱなどの有機酸化試薬類などが挙げられるが、好適にはデス−マーチン試薬である。反応温度は−４５〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
【００６２】
＜Ｆ工程＞
本工程は中間体（ＸＩＩＩ）ないし（ＸＸ）と側鎖に対応するアルキンとを連結し、プロパルギルアルコール構造を有する中間体（ＸＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、側鎖に対応するアルキンに対して強塩基を作用させることにより生じるアルキニル金属を中間体（ＸＩＩＩ）ないし（ＸＸ）に作用させることにより達成できる。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジドのようなアルカリ金属アミドが挙げられるが、好適にはｎ−ブチルリチウムである。
反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
【００６３】
＜Ｇ工程＞
本工程は側鎖部プロパルギル位にアミノ基を有する化合物を製造する際に必要な中間体（ＸＸＩＩ）を製造する工程である。
１．Ｇ１工程
本工程は中間体（ＸＩ）において、側鎖部プロパルギル位に存在する水酸基を脱離基へと変換し、中間体（ＸＸＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、塩基の存在下、中間体（ＸＩ）に対してアシル化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される塩基としては、例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジンなどのピリジン類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが、好適にはトリエチルアミンである。使用されるアシル化剤としては、例えば、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水プロピオン酸などのカルボン酸無水物類；酢酸クロライド、プロピオン酸クロライド、安息香酸クロライドなどの酸クロライド類が挙げられるが、好適には無水酢酸である。反応温度は−４５〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
【００６４】
２．Ｇ２工程
本工程は中間体（ＸＸＩ）のプロパルギル位をアミノ化し、化合物（ＸＸＩＩ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、酸触媒の存在下、中間体（ＸＸＩ）に対してカーバメート類をはじめとするアンモニア等価体を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが好適にはジクロロメタンである。使用されるアンモニア等価体としては、例えば、アジ化ナトリウム、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジドなどのアジド類；メチルカーバメート、ｔ−ブチルカーバメート、フェニルカーバメートなどのカーバメート類が挙げられるが、好適にはカーバメート類であり、特に好適にはフェニルカーバメートである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；３フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には３フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には−２３℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
【００６５】
＜Ｈ工程＞
本工程は化合物（ＸＸＩＩＩ）の置換基Ｙｐの脱保護を行い、式（Ｉ）で表される化合物を得る工程である。本工程は不活性溶剤中、水の存在下、塩基を作用させてエステル加水分解反応を行うことで達成することができる。なお、化合物（ＸＸＩＩＩ）の構造式中、Ｙｐ以外の置換基において他の保護基が存在している場合には本工程を行う前にすべて脱保護しておくことが望ましい。それらの脱保護法に関しては、例えば文献「ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓｔｈｉｒｄｅｄｉｔｉｏｎ」（編集Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９年）等に記載されている方法により行うことができる。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類が挙げられるが、好適にはジオキサンである。使用される塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類が挙げられるが好適には水酸化ナトリウムである。反応温度は０〜１５０℃で行われるが、好適には４０〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜２４時間であり、好適には３時間〜８時間である。
【００６６】
なお、上記Ｅ工程において、Ａ環に相当する反応剤として、（Ｘ）、（ＸＩＩ）のようなホウ酸化合物、（ＸＶ）のような２−ハロゲノ−１−ホルミル構造を有する化合物、及び（ＸＶＩ）のような２−ヒドロキシメチル−２−エン−１−オン構造を有する化合物を用いることができるが、このうち、（ＸＩＩ）、（ＸＶ）、（ＸＶＩ）については市販されている試薬を用いることができ、また市販されていないものについては、例えば（ＸＩＩ）に関しては文献（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６０，７５−８，１９９５）、（ＸＶ）に関しては文献（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２，３０６，１９９９）、（ＸＶＩ）に関しては（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．，３９，５９６５，１９９８）などの文献記載の手法を用いて合成することが可能である。
【００６７】
（Ｘ）に関する一般的合成法をＩ工程として以下に示す。
＜Ｉ工程＞
【化４】

１．Ｉ１工程
本工程は中間体（ＸＶ）と側鎖に対応するアルキンとを連結し、プロパルギルアルコール構造を有する中間体（ＸＸＩＶ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、側鎖に対応するアルキンに対して強塩基を作用させることにより生じるアルキニル金属を中間体（ＸＶ）に作用させることにより達成できる。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジドのようなアルカリ金属アミドが挙げられるが好適にはｎ−ブチルリチウムである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
【００６８】
２．Ｉ２工程
本工程は中間体（ＸＸＩＶ）のハロゲン部位をホウ酸基へと変換し、ホウ酸化合物である中間体（Ｘ）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（ＸＸＩＶ）に対してハロゲン−金属交換を行った後、トリアルキルホウ酸エステルを始めとするホウ素化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば、金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはｎ−ブチルリチウムである。使用されるホウ素化剤としては、例えば、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリイソプロピルなどのトリアルキルホウ酸類；３フッ化ホウ素、３塩化ホウ素、３臭化ホウ素などのハロゲン化ホウ素類が挙げられるが好適にはホウ酸トリイソプロピルである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
【００６９】
上記工程において、反応の目的物は、必要に応じて、常法に従って反応混合物から単離して精製することができる。例えば、反応混合物の液性を調節した後、濃縮し、例えばジエチルエーテルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで目的物を単離することができる。得られた目的物は、必要ならば常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、吸着カラムクロマトグラフィー法、分配カラムクロマトグラフィー法等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトグラフィーを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。あるいは、反応により得られた目的物を精製することなく次の工程に用いることもできる。
【００７０】
本発明の化合物は、以下の実施例に具体的に示すようにＥＤＧ受容体拮抗作用、好ましくはＥＤＧ−１受容体拮抗作用を有しており、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬の有効成分として有用である。
【００７１】
より具体的には、固形腫の中には、乳癌、肺癌、胃癌、食道癌、結腸直腸癌、肝臓癌、卵巣癌、卵胞膜細胞腫、男性胚腫、頚部癌、子宮内膜癌、前立腺癌、腎臓癌、皮膚癌、骨肉腫、膵臓癌、尿路癌、甲状腺癌、脳腫瘍などが含まれる。免疫性及び非免疫性疾患には、全身性エリトマトーデス、多発性筋炎、皮膚筋炎、血管炎症群、Ｗｅｇｅｎｅｒ肉芽腫、強皮症、ベーチェット病、ぶどう膜炎、特発性間質性肺炎、Ｇｏｏｄｐａｓｔｕｒｅ症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎・心筋症・心肥大を含む心肥大、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、Ｃｈｒｏｎ病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、肺線維症、間質性肺炎、慢性肝炎、肝硬変、閉塞性動脈硬化症、閉塞性血栓血管炎、バージャー病、糖尿病性ニューロパチーの末梢動脈疾患、敗血症、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、慢性腎不全、腎糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、浮腫性疾患、動脈硬化症、痔核、裂肛、痔ろうなどの静脈瘤、解離性動脈瘤、狭心症、ＤＩＣ、胸膜炎、うっ血性心不全、多臓器不全、潰瘍性大腸炎、とこずれ、火傷、クローン病、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、脳梗塞、創傷、ＧＶＨＤ、各種臓器移植での拒絶反応などが含まれる。
【００７２】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その薬理上許容される塩、及びその薬理上許容されるエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む本発明の医薬は、種々の形態で投与される。本発明の医薬の投与形態は特に限定はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸剤、散剤、顆粒剤、シロップ剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤およびカプセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の場合には単独であるいはぶどう糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される。
【００７３】
これらの医薬は、常法に従って、上記の有効成分に賦形剤、結合剤、崩壊剤、潤沢剤、溶解剤、矯味矯臭、コーティング剤等既知の医薬製剤分野において通常使用しうる既知の補助剤の１種又は２種以上を用いて医薬組成物として製剤化することができる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用できる。このような担体としては、例えば、乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ぶどう糖、尿素、澱粉、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ぶどう糖液、澱粉液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン糖の結合剤、乾燥澱粉、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、澱粉、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、澱粉等の保湿剤、澱粉、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、硼酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を例示できる。さらに、錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。
【００７４】
丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば、ぶどう糖、乳糖、澱粉、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等を例示することができる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば、ポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を例示することができる。注射剤として調製される場合には、液剤および懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤および懸濁剤の形態に成形するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用されている任意の希釈剤を使用できる。例えば水、エチルアルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げることができる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するに十分な量の食塩、ぶどう糖、あるいはグリセリンを医薬製剤中に添加してもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。さらに、必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬組成物に配合することもできる。
【００７５】
上記の医薬に含まれる有効成分の重量は特に限定されず、広範囲に適宜選択されるが、通常は全組成物重量に対して１〜７０重量％、好ましくは１〜３０重量％程度の含有量が適当である。本発明の医薬の投与量は、患者の症状、年令、体重や、投与方法および剤型等の条件によって異なるが、通常は成人に対して１日、下限として０．００１ｍｇ（好ましくは０．０１ｍｇ、さらに好ましくは０．１ｍｇ）であり、上限として２、０００ｍｇ（好ましくは２００ｍｇ、さらに好ましくは２０ｍｇ）を１回ないし数回投与することができる。
【００７６】
【実施例】
以下、実施例、参考例、試験例、及び製剤例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００７７】
【実施例１】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１ａ）フェニル２，５−ジブロモベンゼンスルホナート
１，４−ジブロモベンゼン（５０ｇ、２１２ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１５０ｍＬ）に溶解し、クロロ硫酸（５０ｍＬ）を加え，８０℃に加熱して３時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液をゆっくり氷水に注ぎ、反応を停止した。メチレンクロライドを用いて抽出操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去してスルホニルクロライドの粗製物（５８．２ｇ）を得た。得られた粗生成物をメチレンクロライド（２００ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後フェノール（１６．４ｇ、１７４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２９ｍＬ、２０９ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。飽和重曹水（２０ｍＬ）を加え反応を停止し、水（１００ｍＬ）を加えてエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶（メタノール）により精製を行い、標記目的化合物（５４．１ｇ、６５％）を結晶性固体として得た。
融点：１０４−１０６ ℃
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ７．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２７？７．３６（ｍ，３Ｈ），７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１４８５，１４４６，１３８７，１１９７，１０２３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１２Ｈ_８ ^７９Ｂｒ_２Ｏ_３Ｓ（Ｍ）^＋３９８．８５６１；ｆｏｕｎｄ：３９８．８５６６．
【００７８】
（１ｂ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ａ）で得られたフェニル２，５−ジブロモベンゼンスルホナート（４４ｇ、１１２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）に溶解し、ジイソプロピルエチルアミン（５７ｍＬ、３３６ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシチオフェノール（２１．２ｇ，１６８ｍｍｏｌ）を加え、８０℃に加熱して６時間攪拌した。飽和重曹水（３０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１００ｍＬ）を加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を３Ｍ塩酸水溶液（２００ｍＬ）、飽和食塩水で洗ったあと硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶（ヘキサン−酢酸エチル）、及びシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４〜２：３）により精製を行い、標記目的化合物（３４．７ｇ，７１％）を得た。
融点：１４８−１５０ ℃
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ５．６３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．
９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．
８Ｈｚ），７．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．
４５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４７２，１５９９，１５８４，１４９５，１４８７，１４４３，１３７９，１３６１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１８Ｈ_１３ ^７９ＢｒＯ_４Ｓ_２（Ｍ）^＋４５３．９４３９；ｆｏｕｎｄ：４５３．９４３６．
【００７９】
（１ｃ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られた化合物フェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（８．７ｇ，２０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解し、ブチルブロマイド（３．２ｍＬ、３０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（４．６ｍＬ，３０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃に加熱して４時間攪拌した。反応溶液を水５０ｍＬに注ぎ反応を停止した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）及びシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（８．１ｇ，８２％）を得た。
融点：８０−８２ ℃
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５１（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．８０（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．４７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９２，１４８９，１４４３，１３８４，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_２１ ^７９ＢｒＯ_４Ｓ_２（Ｍ）^＋４９２．００６５；ｆｏｕｎｄ：４９２．００５４．
【００８０】
（１ｄ）１−（２−ブロモフェニル）トリデク−２−イン−１−オール
１−ドデシン（７．７ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解し、−４５℃に冷却した。１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（１９ｍＬ，３０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した後、再び−４５℃に冷却した。２−ブロモベンズアルデヒド（２．３ｍＬ，２０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム（１０ｍＬ）を加え反応停止。水４０ｍＬを加えエーテルで抽出操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（７．０ｇ，１００％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０ − １．３４（ｍ，１２Ｈ），１．３６ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．５４（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
【００８１】
（１ｅ）３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール
−７８℃に冷却したテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウム（３７ｍＬ，６０ｍｍｏｌ）を加え、先の実施例１（１ｄ）で得られた１−（２−ブロモフェニル）トリデク−２−イン−１−オール（７．０ｇ，２０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液をキャヌラーを用いて滴下し、３０分攪拌した。ホウ酸トリイソプロピル（１１．５ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した後、室温まで昇温して更に１時間攪拌した。１Ｎ塩酸水溶液（２０ｍＬ）を加え反応停止。水２０ｍＬを加えエーテルで抽出操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝７：９３）により精製を行い、標記目的化合物（３．４ｇ，５７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２ − １．３４（ｍ，１２Ｈ），１．３６ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．４９（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），５．８３（ｓ，１Ｈ），７．３６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００８２】
（１ｆ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
フッ化セシウム（０．６５ｇ，４．３ｍｍｏｌ）を反応容器にとり、減圧下ヒートガンで強熱することで乾燥した。室温に冷却した後、実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．８４ｇ，１．７ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（０．６２ｇ，２．１ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（９０ｍｇ，０．０９ｍｍｏｌ）を、ジメトキシエタン（５ｍＬ）に溶解し、７０℃に加熱して４時間攪拌した。室温に冷却した後、水（５ｍＬ）を加え反応を停止した。反応溶液に水２０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（１０％酢酸エチル／ベンゼン溶液：ヘキサン＝１：３−１：１）により精製を行い、標記目的化合物（１．２ｇ、１００％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２０ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４５ − １．５５（ｍ，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．０１（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２５７．４２（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ９，７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３５，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６７，１２４８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４８ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０７．２８４１；ｆｏｕｎｄ：７０７．２８３６．
【００８３】
（１ｇ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｆ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２５ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）をジオキサン（１ｍＬ）、水（０．３ｍＬ）に溶解し、水酸化ナトリウム（０．１２ｇ，２．９ｍｍｏｌ）を加え，９０℃に加熱して８時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液をそのまま薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（０．１９ｇ，８４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２１ − １．３９（ｍ，１４Ｈ），１．４０ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，６．６Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９（ｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ_３）３３８６，１５９３，１４９４，１４５８，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４３Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５３．２３４７；ｆｏｕｎｄ：６５３．２３４５．
【００８４】
【実施例２】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２ａ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ２口フラスコに実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．４２ｇ，０．８５ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（２ｍＬ）で溶解した。０℃に冷却した後、ｍ−クロロ過安息香酸（０．２２ｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加えた後、反応溶液に水２０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．４４ｇ，１００％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４４（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７３（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ８．８Ｈｚ），６．９４６．９８（ｍ，２Ｈ），７．２８７．３４（ｍ，３Ｈ），７．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．９６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），８．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
【００８５】
（２ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２（２ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］ベンゼンスルホナート（５６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（４３ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（３９ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を用いて実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い、標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（２０ｍｇ，２６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），０．９８ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４１ − １．５２（ｍ，４Ｈ），１．６１ − １．７８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），３．９６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．９３（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．２６７．３７（ｍ，３Ｈ），７．４５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８６（Ｓ，１ｈ），７．９１（Ｄ，１ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．４５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３６４，１５９２，１４８９，１４６４，１３８９，１２５５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４８ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２３．２７９０；ｆｏｕｎｄ：７２３．２７９８
【００８６】
（２ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２（２ｂ）で得られた化合物フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）スルフィニル］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２０ｍｇ，０．０２９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３０ｍｇ）を用いて実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い、標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１５ｍｇ，７８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１ − １．３９（ｍ，１４Ｈ），１．４１ − １．５３（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ_３）３４１２，１５９４，１４９５，１４６７，１２５２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４３Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６９．２２９６；ｆｏｕｎｄ：６６９．２２９０．
【００８７】
【実施例３】ナトリウム４−［（ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３ａ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解し、１−ブロモプロパン（４０μＬ、０．４５ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（６７μＬ、０．４５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：７）により精製を行い、標記目的化合物（９３ｍｇ、収率６５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．０７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．８０１．９０（ｍ，２Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３３７．３８（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５９２，１４８９，１４４３，１３８４，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２１Ｈ_１９ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５００．９８０６；ｆｏｕｎｄ：５００．９７８１．
【００８８】
（３ｂ）フェニル４−［（ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３（３ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（６０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）をエチレングリコールジメチルエーテル（３ｍＬ）に溶解し、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（４８ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（５０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６４ｍｇ、収率５０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４３ − １．５２（ｍ，２Ｈ），１．８１１．９２（ｍ，３Ｈ），２．２０（ｔｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．９８ − ５．０２（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２０ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３０，２９２６，１５９２，１４８９，１４５８，１２４８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４６ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６９３．２６８４；ｆｏｕｎｄ：６９３．２７０７．
【００８９】
（３ｃ）ナトリウム４−［（ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３（３ｂ）で得られたフェニル４−［（ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６４ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）をジオキサン（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム（１２ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱環流した後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ、収率６０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３１ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４０１．５０（ｍ，２Ｈ），１．７７１．８８（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｔｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３６８，１５９３，１４９４，１４５８，１２４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４１Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）^−＋５９３．２３９６；ｆｏｕｎｄ：５９３．２３７５．
【００９０】
【実施例４】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［４−（ペンチルオキシ）フェニルチオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（ペンチルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモペンタン（０．１５ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（９０μＬ、０．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１４７ｍｇ、収率９７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．３５ − １．５２（ｍ，４Ｈ），１．７８ − １．８７（ｍ，２Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３３ − ７．３８（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９４，１４８９，１４４２，１３８３，１２５２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２３Ｈ_２３ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５２９．０１１９；ｆｏｕｎｄ：５２９．０１５５．
【００９１】
（４ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（ペンチルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４（４ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（ペンチルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１１２ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（７２ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（８４ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１１ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６６ｍｇ、収率４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３７（ｍ，２Ｈ），１．３７ − １．５３（ｍ，６Ｈ），１．７９ − １．８７（ｍ，２Ｈ），１．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，７．２Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．９８ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２１ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３５，１５９３，１４８９，１４５８，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２１．２９９７；ｆｏｕｎｄ：７２１．２９７６．
【００９２】
（４ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（ペンチルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４（４ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（ペンチルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６６ｍｇ、０．０９４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１２ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４２ｍｇ、収率６９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２９ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．３８ − １．５３（ｍ，６Ｈ），１．７６ − １．８５（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｔｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４１１，１５９４，１４９４，１４５８，１２４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６７．２５０４；ｆｏｕｎｄ：６６７．２４９３．
【００９３】
【実施例５】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（０１２５−１７０）
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、プロパルギルブロミド（９０μＬ、１．２０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（９０μＬ、０．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１１０ｍｇ、収率７７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．５８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．４２（ｍ，１Ｈ），７．４３ − ７．４８（ｍ，２Ｈ），７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３２８５，１５９１，１４９３，１４４３，１３７８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２１Ｈ_１５ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋４９６．９４９３；ｆｏｕｎｄ：４９６．９４９２．
【００９４】
（５ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５（５ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１１０ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（７５ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（８８ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１２ｍｇ、０．０１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：５）により精製を行い、標記目的化合物（２２ｍｇ、収率１４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．４４ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．１Ｈｚ），２．５８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．７７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．９９ − ５．０４（ｍ，１Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．１１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２０ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５１５，３３７５，３２９６，１５９１，１４８９，１４５７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４２ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６８９．２３７１；ｆｏｕｎｄ：６８９．２３８５．
【００９５】
（５ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０１２５−１７８）
実施例５（５ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（プロプ−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２２ｍｇ、０．０３３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（９ｍｇ、収率４５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２６（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．４１ − １．５０（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），２．９６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），５．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３７６，３３１０，１５９１，１４９１，１４５８，１２２０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_３７Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６３５．１８７８；ｆｏｕｎｄ：６３５．１８６８．
【００９６】
【実施例６】ナトリウム４−［４−［（２Ｅ）−ブト−２−エニルオキシ］フェニルチオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（６ａ）フェニル５−ブロモ−２−［４−［（２Ｅ）−２−エニルオキシ］フェニルチオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、クロチルブロミド（０．１４ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（９０μＬ、０．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１２５ｍｇ、収率８５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．７９（ｄｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．４Ｈｚ），４．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），５．７０ − ５．８０（ｍ，１Ｈ），５．９１（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２１．７Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９１，１４９０，１４４４，１３７７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_１９ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５１２．９８０６；ｆｏｕｎｄ：５１２．９８０５．
【００９７】
（６ｂ）フェニル４−［４−［（２Ｅ）−ブト−２−エニルオキシ］フェニルチオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例６（６ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［４−［（２Ｅ）−２−エニルオキシ］フェニルチオ］ベンゼンスルホナート（１２５ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（８２ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（９６ｍｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５７ｍｇ、収率３３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５２（ｍ，２Ｈ），１．７９（ｄｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．４Ｈｚ），１．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．１Ｈｚ），４．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），４．９８ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），５．７２ − ５．８０（ｍ，１Ｈ），５．９１（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２１．７Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２０ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３３，１５９１，１４８９，１４５８，１２４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４６ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０５．２６８５；ｆｏｕｎｄ：７０５．２６７２．
【００９８】
（６ｃ）ナトリウム４−［４−［（２Ｅ）−ブト−２−エニルオキシ］フェニルチオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例６（６ｂ）で得られたフェニル４−［４−［（２Ｅ）−ブト−２−エニルオキシ］フェニルチオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５７ｍｇ、０．０８３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率４６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４０ − １．５０（ｍ，２Ｈ），１．７５（ｄｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．４Ｈｚ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．５１（ｔｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，６．０Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），５．６８ − ５．７７（ｍ，１Ｈ），５．８９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２１．７Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３５，１５９２，１４９２，１４５８，１２３９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４１Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５１．２１９１；ｆｏｕｎｄ：６５１．２１６４．
【００９９】
【実施例７】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（７ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２−ペンテン（０．１８ｍＬ、１．５０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１８ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１３３ｍｇ、収率８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．０５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．１０ − ２．１９（ｍ，２Ｈ），４．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．２Ｈｚ），５．６６ − ５．７５（ｍ，１Ｈ），５．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１５．４Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９１，１４９０，１４４４，１３７７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２３Ｈ_２１ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５２６．９９６３；ｆｏｕｎｄ：５２６．９９７４．
【０１００】
（７ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例７（７ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１３３ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９２ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（９９ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率２４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３２ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．１１ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），２．１９ − ２．２６（ｍ，２Ｈ），４．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），４．９９ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），５．６９ − ５．７７（ｍ，１Ｈ），５．９０ − ５．９８（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２０ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２８ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３９７，１５９２，１４８９，１４５７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_４８ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７１９．２８４１；ｆｏｕｎｄ：７１９．２８４１．
【０１０１】
（７ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例７（７ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−［（２Ｅ）−ペンタ−２−エニルオキシ］フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４３ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（８ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１４ｍｇ、収率３５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２８ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４０ − １．５０（ｍ，２Ｈ），２．０８ − ２．１５（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．５４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，６．０Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），５．６７ − ５．７５（ｍ，１Ｈ），５．８８ − ５．９７（ｍ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４４４，１５９３，１４９２，１４５８，１２３８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４３Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６５．２３４８；ｆｏｕｎｄ：６６５．２３３６．
【０１０２】
【実施例８】ナトリウム４−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−ベンゼンスルホナート
（８ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１−ブテン（０．１５ｍＬ、１．５０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１８ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１２９ｍｇ、収率８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．５９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，６．７Ｈｚ），４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），５．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），５．２０（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１．６Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），５．９２（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１０．３Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．４９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５９２，１４８８，１４４３，１３８３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_１９ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５１２．９８０６；ｆｏｕｎｄ：５１２．９８２１．
【０１０３】
（８ｂ）フェニル４−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−ベンゼンスルホナート
実施例８（８ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１２８ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９２ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１１９ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：７）により精製を行い、標記目的化合物（１００ｍｇ、収率５６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．１Ｈｚ），２．５９（ｄｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，６．７Ｈｚ，６．７Ｈｚ），４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．９９ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），５．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），５．２０（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１．４Ｈｚ，１７．２Ｈｚ），５．９３（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１０．３Ｈｚ，１７．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２０ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３５３５，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４６ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０５．２６８４；ｆｏｕｎｄ：７０５．２７１２．
【０１０４】
（６ｃ）ナトリウム４−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−ベンゼンスルホナート
実施例８（８ｂ）で得られたフェニル４−［［４−（ブト−３−エニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−ベンゼンスルホナート（１００ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１８ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６４ｍｇ、収率７０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．４９（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），２．５５（ｄｄｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ，６．６Ｈｚ，６．６Ｈｚ），４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ），５．１８（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１７．２Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），５．９４（ｔｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１０．３Ｈｚ，１７．２Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３９，１５９３，１４９４，１４５８，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４１Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５１．２１９１；ｆｏｕｎｄ：６５１．２１５７．
【０１０５】
【実施例９】ナトリウム４−［［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（９ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−２−ブチン（０．１３ｍＬ、１．５０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１８ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１２５ｍｇ、収率８５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），４．７１（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．５１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５９１，１４９０，１４４２，１３８３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_１７ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５２０．９６４９；ｆｏｕｎｄ：５１０．９６５２．
【０１０６】
（９ｂ）フェニル４−［［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例９（９ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１２５ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９２ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１１９ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６５ｍｇ、収率３７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），１．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．１Ｈｚ），４．７２（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），４．９９ − ５．０４（ｍ，１Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，５．４Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２１ − ７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３６，１５９１，１４９０，１４５７，１３８７，１３６７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４４ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０３．２５２７；ｆｏｕｎｄ：７０３．２５４６．
【０１０７】
（９ｃ）ナトリウム４−［［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例９（９ｂ）で得られたフェニル４−｛［４−（ブト−２−イニルオキシ）フェニル］チオ｝−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６５ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１２ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ、収率６１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．５０（ｍ，２Ｈ），１．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．７２（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４４５，１５９２，１４９２，１４５８，１２２０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_３９Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６４９．２０３４；ｆｏｕｎｄ：６４９．２０１５．
【０１０８】
【実施例１０】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１０ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、３−フェニルプロピルブロミド（０．１８ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１３ｍＬ、０．９０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１４５ｍｇ、収率８７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．１１ − ２．２０（ｍ，２Ｈ），２．８４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９ − ７．２５（ｍ，４Ｈ），７．２６ − ７．３８（ｍ，６Ｈ），７．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．４９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）１５９２，１４９３，１４４３，１３８４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２７Ｈ_２３ＮａＯ_４ ^７９ＢｒＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５７７．０１１９；ｆｏｕｎｄ：５７７．０１０４．
【０１０９】
（１０ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１０（１０ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１４５ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９２ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１１９ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１１８ｍｇ、収率６１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．１２ − ２．１８（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．１Ｈｚ），２．８４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．９８ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．１８ − ７．２５（ｍ，５Ｈ），７．２７ − ７．４３（ｍ，８Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３５４１，１５９３，１４９０，１４５７，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４６Ｈ_５０ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６９．２９９７；ｆｏｕｎｄ：７６９．３０３５．
【０１１０】
（１０ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１０（１０ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１１８ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１９ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌを使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６８ｍｇ、収率６１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４２ − １．４９（ｍ，２Ｈ），２．０７ − ２．１５（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），２．８２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１４ − ７．２８（ｍ，７Ｈ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０
Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３８，１５９３，１４９４，１４５７，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７１５．２５０４；ｆｏｕｎｄ：７１５．２５３７．
【０１１１】
【実施例１１】ナトリウム４−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１１ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−３−クロロプロパン（０．１２ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１３ｍＬ、０．９０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１３７ｍｇ、収率８９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．２４ − ２．３３（ｍ，２Ｈ），３．７８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．５０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）１５９３，１４８８，１４４３，１３８３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２１Ｈ_１８ ^７９Ｂｒ^３５ＣｌＮａＯ_４Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５３４．９４１６；ｆｏｕｎｄ：５３４．９４２７．
【０１１２】
（１１ｂ）フェニル４−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１１（１１ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１３７ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９５ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１２３ｍｇ、０．８１ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１４ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ、収率４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２６（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３１ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４６ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．２７ − ２．３３（ｍ，２Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．２０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），５．００ − ５．０４（ｍ，１Ｈ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２ − ７．２５（ｍ，２Ｈ），７．２８ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３５３５，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４５ ^３５ＣｌＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２７．２２９５；ｆｏｕｎｄ：７２７．２３３４．
【０１１３】
（１１ｃ）ナトリウム４−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１１（１１ｂ）で得られたフェニル４−［［４−（３−クロロプロポキシ）フェニル］チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１４ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ、収率３７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．５０（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），２．２３ − ２．３０（ｍ，２Ｈ），３．７７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３５，１５９３，１４９４，１４５８，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４０ ^３５ＣｌＮａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６７３．１８０１；ｆｏｕｎｄ：６７３．１８０４．
【０１１４】
【実施例１２】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
（１２ａ）メチル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゾエート
２，５−ジブロモ安息香酸メチルエステル（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）をアセトン（３ｍＬ）に溶解し、４−ヒドロキシチオフェノール（４７ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１８８ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）、触媒量の１８−クラウン−６を加え、５時間加熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（１０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（１０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：５）により精製を行い、標記目的化合物（５６ｍｇ、収率４９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ３．９６（ｓ，３Ｈ），５．２５（ｓ，１Ｈ），６．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ），６．９２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．４３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．７Ｈｚ），８．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４０１，１７００，１４９６，１４５４，１４３６，１３０２，１２４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１４Ｈ_１１ ^７９ＢｒＯ_３Ｓ（Ｍ）^＋３３７．９６１２；ｆｏｕｎｄ：３３７．９６１１．
【０１１５】
（１２ｂ）メチル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゾエート
実施例１２（１２ａ）で得られたメチル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゾエート（５６ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、１−ブロモブタン（７３μＬ、０．６８ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（５１μＬ、０．３４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５６ｍｇ、収率８３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４６ − １．５７（ｍ，２Ｈ），１．７６ − １．８５（ｍ，２Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．４５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），８．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１７１６，１５９１，１３０２，１２４７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１８Ｈ_１９ ^７９ＢｒＮａＯ_３Ｓ（Ｍ＋Ｎａ）^＋４１７．０１３６；ｆｏｕｎｄ：４１７．０１６５．
【０１１６】
（１２ｃ）メチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例１２（１２ｂ）で得られたメチル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゾエート（５６ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（５１ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（６４ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ、収率３０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２８ − １．３７（ｍ，２Ｈ），１．４４ − １．５３（ｍ，４Ｈ），１．７６ − １．８４（ｍ，２Ｈ），２．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．２Ｈｚ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．３３ − ５．３７（ｍ，１Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ），７．３５（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．４２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４９１，１７１７，１５９４，１４９４，１４６５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３７Ｈ_４６ＮａＯ_４Ｓ（Ｍ＋Ｎａ）^＋６０９．３０１４；ｆｏｕｎｄ：６０９．３０１１．
【０１１７】
（１２ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例１２（１２ｄ）で得られたメチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート（２５ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（１７ｍｇ、収率６７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．４８（ｍ，２Ｈ），１．４８ − １．５８（ｍ，２Ｈ），１．７５ − １．８３（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．３１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．３１（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．４９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．８３（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４１４，１６２１，１５９３，１４９４，１４６３，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４４ＮａＯ_４Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋５９５．２８５８；ｆｏｕｎｄ：５９５．２８５４．
【０１１８】
【実施例１３】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１３ａ）フェニル２，５−ジブロモ−４−メチルベンゼンスルホナート
２，５−ジブロモトルエン（１．０ｇ，４．０ｍｍｏｌ）、クロロ硫酸（１．０ｍＬ）、フェノール（０．２９ｇ，３．１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．８６ｍＬ，６．２ｍｍｏｌ）を用い実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。再結晶（メタノール）により精製を行い、標記目的化合物（０．９２ｇ，５９％）を得た。
融点：９０−９２ ℃
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ２．４５（ｓ，３Ｈ），７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２５ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．６９（ｓ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１４８５，１４５２，１３８４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_１１ ^７９Ｂｒ_２Ｏ_３Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋４０４．８７９６；ｆｏｕｎｄ：４０４．８７９７．
【０１１９】
（１３ｂ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−４−メチルベンゼンスルホナート
実施例１３（１３ａ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−メチルベンゼンスルホナート（０．９３ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシチオフェノール（０．４３ｇ，３．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．２ｍＬ、６．８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．８８ｇ，８５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．２４（ｓ，３Ｈ），５．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７２（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９７（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４７８，１６０２，１５８４，１４９４，１４４９，１４２８，１３６０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１９Ｈ_１５ ^７９ＢｒＮａＯ_４Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋４７２．９４９３；ｆｏｕｎｄ：４７２．９５２０．
【０１２０】
（１３ｃ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−メチルベンゼンスルホナート
実施例１３（１３ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−４−メチルベンゼンスルホナート（０．９３ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、１−ブロモブタン（０．７９ｍＬ，７．５ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．５６ｍＬ，３．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。再結晶（酢酸エチル−ヘキサン）により精製を行い、標記目的化合物（０．８２ｇ，７４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．５２（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．２４（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．７２（ｓ，１Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９７（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５９３，１５７１，１４８７，１４７４，１４４５，１３７３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２３Ｈ_２３ ^７９ＢｒＮａＯ_４Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５２９．０１１８；ｆｏｕｎｄ：５２９．０１４０．
【０１２１】
（１３ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（７２ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、実施例１３（１３ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−メチルベンゼンスルホナート（０．１０ｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（７６ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ，５９％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．１８ − １．４０（ｍ，１４Ｈ），１．４１ − １．５８（ｍ，４Ｈ），１．７５ − １．８５（ｍ，２Ｈ），１．９３（ｓ，３Ｈ），２．１２ − ２．２０（ｍ，２Ｈ），４．０２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．７８（ｓ，０．５Ｈ），４．８２（ｓ，０．５Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９８ − ７．０３（ｍ，２Ｈ），７．２０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２５ − ７．４１（ｍ，５Ｈ），７．５６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６２（ｓ，０．５Ｈ），７．６３（ｓ，０．５Ｈ），７．７６（ｓ，．５Ｈ），７．７７（ｓ，０．５Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３６，１５９２，１４９０，１４６１，１３７８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２１．２９９８；ｆｏｕｎｄ：７２１．２９９６．
【０１２２】
（１３ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１３（１３ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７４ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（２６ｍｇ，３８％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９０（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０ − １．４２（ｍ，１４Ｈ），１．４４ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．８４（ｓ，１．５Ｈ），１．８６（ｓ，１．５Ｈ），２．１１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．２１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．０５（ｓ，０．５Ｈ），５．１１（ｓ，０．５Ｈ），６．７０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９８ − ７．０４（ｍ，３Ｈ），７．３１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７３（ｓ，１Ｈ），７．７７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６９０，３６３８，３６０６，３４３９，１５９５，１４９４，１４６４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６７．２５０４；ｆｏｕｎｄ：６６４．２５０１．
【０１２３】
【実施例１４】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１４ａ）フェニル２，５−ジブロモ−４−フルオロベンゼンスルホナート
１，４−ジブロモ−２−フルオロベンゼン（１．６ｇ，６．３ｍｍｏｌ）、クロロ硫酸（２ｍＬ）、フェノール（０．４９ｇ，５．２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．４ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を用い実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（１．９ｇ，８９％）を得た。
融点：６１−６３ ℃
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ７．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２５ − ７．３７（ｍ，３Ｈ），７．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５８６，１５７６，１５６０，１４８７，１４５９，１３８８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１２Ｈ_８ ^７９Ｂｒ_２ＦＯ_３Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋４０８．８５４５；ｆｏｕｎｄ：４０８．８５３０．
【０１２４】
（１４ｂ）フェニル２，５−ジブロモ−４−メトキシベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例１４（１４ａ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−フルオロベンゼンスルホナート（１．１ｇ，２．６ｍｍｏｌ）をとり、メタノール（５ｍＬ）で溶解した。１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．５９ｍＬ，３．９ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、室温で３時間撹拌した。析出した結晶を濾別、メタノールで洗浄し、標記目的化合物（１．０ｇ，９３％）を得た。
融点：１４９−１５１ ℃
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ４．００（ｓ，３Ｈ），７．１２ − ７．１７（ｍ，２Ｈ），７．２４ − ７．３６（ｍ，４Ｈ），８．０９（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５７１，１４７７，１４３４，１３８０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_１１ ^７９Ｂｒ_２Ｏ_４Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋４２０．８７４５；ｆｏｕｎｄ：４２０．８７４３．
【０１２５】
（１４ｃ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−４−メトキシベンゼンスルホナート
実施例１４（１４ｂ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−メトキシベンゼンスルホナート（０．８５ｇ，２．０ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシチオフェノール（０．３８ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．９１ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．８０ｇ，８６％）を得た。
融点：１２３−１２５ ℃
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ３．５７（ｓ，３Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４６８，１５９９，１５８３，１５７２，１４９４，１４８７，１４７０，１４３５，１３７１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１９Ｈ_１５ ^７９ＢｒＮａＦＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋４８８．９４４２；ｆｏｕｎｄ：４８８．９４３０．
【０１２６】
（１４ｄ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−メトキシベンゼンスルホナート
実施例１４（１４ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−４−メトキシベンゼンスルホナート（０．６０ｇ，１．２ｍｍｏｌ）、１−ブロモブタン（０．５１ｍＬ，４．８ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．３７ｍＬ，２．４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。再結晶（酢酸エチル−ヘキサン）により精製を行い、標記目的化合物（０．４０ｇ，６４％）を得た。
融点：１３１−１３３ ℃
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５１（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），３．５７（ｓ，３Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．３２（ｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２６ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９１，１５７２，１４９１，１４７１，１３７９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２３Ｈ_２３ ^７９ＢｒＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５４５．００６８；ｆｏｕｎｄ：５４５．００６８．
【０１２７】
（１４ｅ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（７２ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、実施例１４（１４ｄ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−メトキシベンゼンスルホナート（０．１０ｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（７６ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（７３ｍｇ，５１％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０ − １．４０（ｍ，１４Ｈ），１．４５ − １．５６（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），２．２３（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），３．４４（ｓ，１．５Ｈ），３．４５（ｓ，１．５Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．９６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．４１（ｓ，１Ｈ），６．９４ − ７．０４（ｍ，３Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２５ − ７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５５ − ７．６０（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｓ，０．５Ｈ），７．６８（ｓ，０．５Ｈ），７．７５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３９，１５９２，１４９１，１４７１，１３７８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３７．２９４７；ｆｏｕｎｄ：７３７．２９４９．
【０１２８】
（１４ｆ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１４（１４ｅ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７３ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（６．９ｍｇ，１０％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９９（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．０１（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０ − １．５８（ｍ，１６Ｈ），１．７４ − １．８３（ｍ，２Ｈ），２．１１ − ２．２０（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｓ，１．５Ｈ），３．３７（ｓ，１．５Ｈ），４．０４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８ｈｚ），５．８１（ｓ，０．５Ｈ），６．３１（ｓ，０．５Ｈ），６．３９（ｓ，０．５Ｈ），６．４０（ｓ，０．５Ｈ），７．０１ − ７．１０（ｍ，３Ｈ），７．２４ − ７．４３（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７０ − ７．７８（ｍ，１．５Ｈ），８．３８（ｓ，０．５Ｈ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３４２５，１５９４，１４９４，１４６８，１４４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６８３．２４５３；ｆｏｕｎｄ：６８３．２４５７．
【０１２９】
【実施例１５】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１５ａ）（２−ブロモ−３−メチルフェニル）メタノール
２−ブロモ−３−メチル安息香酸（１．１ｇ，５．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後水素化アルミニウムリチウム（０．２９ｇ，７．７ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１時間攪拌する。水０．３ｍＬ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０．３ｍＬ、水０．９ｍＬをこの順番でゆっくりと加え、エーテル２０ｍＬを加えて１時間攪拌した。生じた沈殿をセライトろ過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶により精製を行い、標記目的化合物（０．６８ｇ，７０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．５７（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），４．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），７．１９ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．２３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３３０，３２５９，１４５３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_８Ｈ_９ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋１９９．９８３７；ｆｏｕｎｄ：１９９．９８１９．
【０１３０】
（１５ｂ）２−ブロモ−３−メチルベンズアルデヒド
乾燥、窒素置換された５０ｍＬ二口フラスコにオキザリルクロリド（０．６１ｍＬ，７．０ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（１０ｍＬ）で希釈した。−７８℃に冷却した後、ジメチルスルホキシド（１．０ｍＬ，１４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１０分間撹拌した。実施例１５（１５ａ）で得られた（２−ブロモ−３−メチルフェニル）メタノール（０．７１ｇ，３．５ｍｍｏｌ）のメチレンクロライド溶液（４ｍＬ）を加え、１時間撹拌した。トリエチルアミン（３．９ｍＬ，２８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、０℃に昇温した後１時間撹拌した。
反応溶液を水２０ｍＬに注いだ後、エーテルを用いて分液操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（０．５５ｇ，７９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．４９（ｓ，３Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１０．４６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１６９７，１６７９，１５７４，１４５２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_８Ｈ_７ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋１７．９６８０；ｆｏｕｎｄ：１９７．９６８１．
【０１３１】
（１５ｃ）１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）トリデク−２−イン−１−オール
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに１−ドデシン（１．７ｍＬ，８．１ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（５ｍＬ）で希釈した。−４５℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（４．３ｍＬ，６．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１０分間撹拌した。実施例１５（１５ｂ）で得られた２−ブロモ−３−メチルベンズアルデヒド（０．５４ｇ，２．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３ｍＬ）を加え、１時間撹拌した。トリエチルアミン（３．９ｍＬ，２８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、０℃に昇温した後１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍＬ）を加え反応を停止した。反応溶液を水（２０ｍＬ）に注いだ後、エーテルを用いて分液操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（０．９８ｇ，１００％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２−１．４３（ｍ，１４Ｈ），１．５４（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．６４（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２．０Ｈｚ），２．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．４４（ｓ，３Ｈ），５．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），７．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３６５，２９２６，２８５４，１４６４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２０Ｈ_２９ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋３６４．１４０１；ｆｏｕｎｄ：３６４．１３９８．
【０１３２】
（１５ｄ）３−ドデク−１−イニル−７−メチル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール
実施例１５（１５ｃ）で得られた１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）トリデク−２−イン−１−オール（０．１２ｇ，０．３３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６３ｍＬ，１．０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリイソプロピル（０．１９ｍＬ，０．８３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｅ）と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（４１ｍｇ，４１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２０−１．４２（ｍ，１４Ｈ），１．５１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．２２（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２．２Ｈｚ），２．５４（ｓ，３Ｈ），５．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．８２（ｓ，１Ｈ），７．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３６７，２９１７，２８５２，１４７１ｃｍ^−１．
【０１３３】
（１５ｅ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（４９ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）、実施例１５（１５ｄ）で得られた３−ドデク−１−イニル−７−メチル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（３８ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（３８ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ，５３％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１８−１．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４０ − １．５８（ｍ，４Ｈ），１．７７ − １．８５（ｍ，５Ｈ），２．１３ − ２．２２（ｍ，２Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），７．００ − ７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１４ − ７．２２（ｍ，４Ｈ），７．２４ − ７．３５（ｍ，４Ｈ），７．５５ − ７．６８（ｍ，４Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５４２，３４３５，１５９３，１４９０，１４５５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２１．２９９７；ｆｏｕｎｄ：７２１．３０２１．
【０１３４】
（１５ｆ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１５（１５ｅ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−６’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４４ｍｇ，０．０６３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（９．０ｍｇ，２２％）を得た。
Ｍｉｘｔｕｒｅｏｆ２ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒｓ
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８６ − ０．９２（ｍ，３Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．１９ − １．４２（ｍ，１４Ｈ），１．４４ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７５ − １．８１（ｍ，２Ｈ），２．００（ｓ，３Ｈ），２．１１（ｄｔ，０．５Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，０．５Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．９９（ｓ，０．５Ｈ），５．０１（ｓ，０．５Ｈ），６．８２ − ６．８５（ｍ，１Ｈ），６．９７ − ７．０４（ｍ，３Ｈ），７．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．２６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（ｄ，２．５Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．６１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６９１，３６０５，３４３９，１５９４，１４９４，１４６７，１４５６ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６７．２５０７；ｆｏｕｎｄ：６６７．２５０１．
【０１３５】
【実施例１６】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１６ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモエチルメチルエーテル（８５μＬ、０．９０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１１ｍＬ、０．７５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（１３７ｍｇ、収率９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ３．４８（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．４９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５７１，１４８９，１４４３，１３８３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２１Ｈ_１９ ^７９ＢｒＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５１６．９７５５；ｆｏｕｎｄ：５１６．９７４４．
【０１３６】
（１６ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１６（１６ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１３７ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（９８ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１２８ｍｇ、０．８４ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１４ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６０ｍｇ、収率３１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．２Ｈｚ），３．４８（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），４．１９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），４．９８ − ５．０２（ｍ，１Ｈ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０７ − ７．１０（ｍ，１Ｈ），７．２０ − ７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４１４，１５７２，１４９０，１４５７，１３８７，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４６ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０９．２６３３；ｆｏｕｎｄ：７０９．２６３５．
【０１３７】
（１６ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１６（１６ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６０ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率７８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．５０（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．４４（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４１４，１５９３，１４９３，１４５７，１２４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４１Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５５．２１４０；ｆｏｕｎｄ：６５５．２１３７．
【０１３８】
【実施例１７】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１７ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１３１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−３−メチルブタン（０．１１ｍＬ、０．９０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．１１ｍＬ、０．７５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（１５０ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９９（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．７２（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．８２ − １．９２（ｍ，１Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２７ − ７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９３，１４８９，１４４３，１３８３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２３Ｈ_２３ ^７９ＢｒＯ_４Ｓ_２（Ｍ）^＋５０６．０２２１；ｆｏｕｎｄ：５０６．０２１１
【０１３９】
（１７ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１７（１７ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（１５０ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｅ）で得られた３−ドデク−１−イニル−２，１−ベンゾキサボロル−１（３Ｈ）−オール（１０７ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（１３７ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１５ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）使用して、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６８ｍｇ、収率３２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９９（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５３（ｍ，２Ｈ），１．７３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），１．８２ − １．９２（ｍ，１Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．１Ｈｚ），４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．９９ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２６ − ７．４４（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３５３３，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ）^＋６９８．３１００；ｆｏｕｎｄ：６９８．３０８４．
【０１４０】
（１７ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１７（１７ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４−［［４−（３−メチルブトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６８ｍｇ、０．０９７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１２ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ、収率５１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．９９（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３１ − １．３９（ｍ，２Ｈ），１．４１ − １．４９（ｍ，２Ｈ），１．７０（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．８３ − １．９２（ｍ，１Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８８，１５９３，１４９４，１４５９，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４４ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ−Ｈ）⁻ ^・６４３．２５２７；ｆｏｕｎｄ：６４３．２５２４．
【０１４１】
【実施例１８】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−５’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１８ａ）（２−ブロモ−４−メチルフェニル）メタノール
２−ブロモ−４−メチル安息香酸（１．５ｇ，７．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。水１０ｍＬを加え反応を停止した後、水２０ｍＬに反応溶液を注ぎエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（１．４ｇ，９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．０６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．３３（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３９（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３３３，１６０７，１５６４，１４９１，１４４８，１３９１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_８Ｈ_９ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋１９９．９８３７；ｆｏｕｎｄ：１９９．９８１５．
【０１４２】
（１８ｂ）２−ブロモ−４−メチルベンズアルデヒド
実施例１８（１８ａ）で得られた（２−ブロモ−４−メチルフェニル）メタノール（１．４ｇ，６．８ｍｍｏｌ）、オキザリルクロリド（１．２ｍＬ，１３．５ｍｍｏｌ）、ジメチルスルホキシド（１．９ｍＬ，２７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（７．５ｍＬ，５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１５（１５ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（０．７２ｇ，５３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．４１（ｓ，３Ｈ），７．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１０．３１（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１６９３，１６００，１３８２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_８Ｈ_７ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋１９７．９６８０；ｆｏｕｎｄ：１９７．９６７５．
【０１４３】
（１８ｃ）１−（２−ブロモ−４−メチルフェニル）トリデク−２−イン−１−オール
実施例１８（１８ｂ）で得られた２−ブロモ−４−メチルベンズアルデヒド（０．６８ｇ，３．４ｍｍｏｌ）、１−ドデシン（１．８ｍＬ，８．５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（４．７ｍＬ，７．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｄ）と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（１．１ｇ，９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２−１．４２（ｍ，１４Ｈ），１．５４（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．２６（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２．０Ｈｚ），２．３４（ｓ，３Ｈ），５．７４ − ５．７６（ｍ，１Ｈ），７．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３９（ｓ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３６５，２９２５，２８５５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２０Ｈ_２９ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋３６４．１４０１；ｆｏｕｎｄ：３６４．１４０３．
【０１４４】
（１８ｄ）３−ドデク−１−イニル−６−メチル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール
実施例１８（１８ｃ）で得られた１−（２−ブロモ−４−メチルフェニル）トリデク−２−イン−１−オール（０．７３ｇ，２．０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（３．８ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリイソプロピル（１．４ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｅ）と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（０．４４ｇ，７４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２３−１．４２（ｍ，１４Ｈ），１．４８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２２（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），２．３７（ｓ，３Ｈ），５．７８（ｓ，１Ｈ），７．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４２（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３９２，１４８１，１４４４，１４０３ｃｍ^−１．
【０１４５】
（１８ｅ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−５’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１８（１８ｄ）で得られた３−ドデク−１−イニル−６−メチル−２，１−ベンゾキサボロール−１（３Ｈ）−オール（５７ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（８０ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム（６１ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（９５ｍｇ，８６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２２ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４５ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７８ − １．８４（ｍ，３Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２．０Ｈｚ），２．３３（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８８（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０ − ７．２４（ｍ，３Ｈ），７．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３４ − ７．４１（ｍ，３Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３７，１５９３，１４８９，１４５９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ）^＋６９８．３１００；ｆｏｕｎｄ：６９８．３０７６．
【０１４６】
（１８ｆ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−５’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１８（１８ｅ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−５’−メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２８ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（２２ｍｇ，８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２０ − １．５７（ｍ，１８Ｈ），１．７９（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．１９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．３５（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），５．２５（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９８ − ７．０４（ｍ，４Ｈ），７．２１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９９（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３４３４，１５９４，１４９４，１４６０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６７．２５０４；ｆｏｕｎｄ：６６７．２５１０．
【０１４７】
【実施例１９】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１９ａ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（７．６ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）、２−ホルミルベンゼンボロン酸（２．８ｇ，１８．５ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０．８０ｇ，０．７ｍｍｏｌ）を、ジメトキシエタン（２０ｍＬ）に溶解した後、４．６Ｍ炭酸カリウム水溶液（１０ｍＬ，４６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃に加熱して５時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液を水３０ｍＬに注ぎ反応を停止した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９−２：８）及び再結晶（ヘキサン：酢酸エチル＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（６．７ｇ，８４％）を得た。融点：９５−９７ ℃
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．４７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１１（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．９８ − ７．０３（ｍ，３Ｈ），７．２２ − ７．２９（ｍ，３Ｈ），７．３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．５２ − ７．６０（ｍ，４Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９５（ｓ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ），１０．０４（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１７００，１５９４，１４８９，１２５０，１１９４，１１７４，１１４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２７Ｈ_２２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ）^＋４９０．０９０９；ｆｏｕｎｄ：４９０．０８９７．
【０１４８】
（１９ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に１−オクチルオキシプロプ−２−イン（４１ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．３ｍＬ）で溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１３ｍＬ，０．２０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、１０分間撹拌した。実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．３ｍＬ）をキャヌラーを用いて滴下し、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．２ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，７７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２１−１．３３（ｍ，１４Ｈ），１．４８−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．１６（ｓ，２Ｈ），５．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２７−７．４２（ｍ，５Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３０，３４１２，１５９３，１４８９，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４６Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ）^＋６８６．２７３６；ｆｏｕｎｄ：６８６．２７４８．
【０１４９】
（１９ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１２ｍｇ，２５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２２ − １．３４（ｍ，１０Ｈ），１．４６−１．５８（ｍ，４Ｈ），１．７８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．３６（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｄｔ，１Ｈ＜Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．３９（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３６３３，３３９３，１５９４，１４９４，１４５９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４２ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋６３３．２３２０；ｆｏｕｎｄ：６３３．２３１９．
【０１５０】
【実施例２０】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−フェノキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２０ａ）ウンデク−１０−イニルメタンスルホナート
１０−ウンデシン−１−オール（１．６８ｇ、１０．００ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（２．０９ｍＬ、１５．００ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（０．９３ｍＬ、１２．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（２．３７ｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２７ − １．４５（ｍ，１０Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，２Ｈ），１．７２ − １．７９（ｍ，２Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．００（ｓ，３Ｈ），４．２２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３２９１，１３５５，１１７５ｃｍ^−１．ＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２４６（Ｍ）^＋．
【０１５１】
（２０ｂ）（ウンデク−１０−イニルオキシ）ベンゼン
実施例２０（２０ａ）で得られたウンデク−１０−イニルメタンスルホナート（１２３ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）をアセトン（３ｍＬ）に溶解し、フェノール（５２ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２７６ｍｇ、２．００ｍｍｏｌ）を加え、８時間加熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（１０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（１０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（１０６ｍｇ、収率８７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２８ − １．４８（ｍ，１０Ｈ），１．４８ − １．５７（ｍ，２Ｈ），１．７４ − １．８２（ｍ，２Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．９５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，８．６Ｈｚ）．
【０１５２】
（２０ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−フェノキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２０（２０ｂ）で得られた（ウンデク−１０−イニルオキシ）ベンゼン（１０３ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、−７８℃で攪拌した。そこへｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３６ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分攪拌した後、０℃で１０分間攪拌した。次いで、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１０９ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を−７８℃で滴下し、１時間攪拌した後さらに室温で３０分間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１２４ｍｇ、収率７７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２３ − １．４０（ｍ，８Ｈ），１．４０ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７３ − １．８６（ｍ，４Ｈ），１．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．９８ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），６．８７ − ６．９６（ｍ，４Ｈ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２１ − ７．４３（ｍ，１０Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５４０，１５９４，１４９４，１４５８，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４６Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７８５．２９４７；ｆｏｕｎｄ：７８５．２９８３．
【０１５３】
（２０ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−フェノキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２０（２０ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−フェノキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１２４ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１９ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ、収率７２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２４ − １．４０（ｍ，８Ｈ），１．４０ − １．４８（ｍ，４Ｈ），１．４８ − １．５７（ｍ，２Ｈ），１．６９ − １．８２（ｍ，４Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８６ − ６．９０（ｍ，３Ｈ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１７ − ７．２７（ｍ，４Ｈ），７．３１（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４４３，１５９４，１４９６，１４５８，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４５Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３１．２４５３；ｆｏｕｎｄ：７３１．２４５７．
【０１５４】
【実施例２１】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２１ａ）１１−メトキシウンデク−１−イン
実施例２０（２０ａ）で得られたウンデク−１０−イニルメタンスルホナート（２４６ｍｇ、１．００ｍｏｌ）をメタノール（３ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（０．４６ｍＬ、２．４０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で３時間攪拌した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（１０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（１０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（１５８ｍｇ、収率８７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３０（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３４ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．４８ − １．６９（ｍ，４Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．３３（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）．
ＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，１８３（Ｍ＋Ｈ）^＋．
【０１５５】
（２１ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２１（２１ａ）で得られた１１−メトキシウンデク−１−イン（６６ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．２０ｍＬ、０．３１ｍｍｏｌ）、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ、収率６３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２４ − １．３８（ｍ，１２Ｈ），１．４５ − １．５５（ｍ，４Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，２Ｈ），１．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．３２（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．９９ − ５．０３（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２１ − ７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２７ − ７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３９０，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４８ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７２３．２７９０；ｆｏｕｎｄ：７２３．２７７０．
【０１５６】
（２１ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２１（２１ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１３ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（６０ｍｇ、収率８４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２３ − １．３８（ｍ，１０Ｈ），１．４２ − １．４８（ｍ，２Ｈ），１．４８ − １．５８（ｍ，４Ｈ），１．７４ − １．８３（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．３５（ｓ，３Ｈ），３．３７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４２６，１５９３，１４９４，１４５８，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４３Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６９．２２９７；ｆｏｕｎｄ：６６９．２２８９．
【０１５７】
【実施例２２】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（シクロヘキシルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２２ａ）（ウンデク−１０−イニルオキシ）シクロヘキサン
シクロヘキサノール（０．２１ｍＬ、２．００ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解し、水素化ナトリウム（１００ｍｇ、２．５０ｍｍｏｌ）加え、室温で３０分間攪拌した。さらに実施例２０（２０ａ）で得られたウンデク−１０−イニルメタンスルホナート（１２３ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。
有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２５）により精製を行い、標記目的化合物（１００ｍｇ、収率８０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．１８ − １．４０（ｍ，１４Ｈ），１．４０ − １．４８（ｍ，２Ｈ），１．４８１．５７（ｍ，４Ｈ），１．６９１．７７（ｍ，２Ｈ），１．７８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），１．８６１．９５（ｍ，２Ｈ），２．０８２．１５（ｍ，２Ｈ），３．１５３．２３（ｍ，１Ｈ），３．４２（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９３２，２８５６ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１７Ｈ_３０Ｏ（Ｍ）^＋２５０．２２９７；ｆｏｕｎｄ：２５０．２２９７．
【０１５８】
（２２ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（シクロヘキシルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２２（２２ａ）で得られた（ウンデク−１０−イニルオキシ）シクロヘキサン（１００ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．２２ｍＬ、０．３４ｍｍｏｌ）、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１０４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（６６ｍｇ、収率４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．１３ − １．３５（ｍ，１４Ｈ），１．３７ − １．４５（ｍ，２Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．６９ − １．７８（ｍ，２Ｈ），１．７８１．８７（ｍ，２Ｈ），１．８７１．９５（ｍ，２Ｈ），２．０７２．１４（ｍ，２Ｈ），２．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），３．１４３．２３（ｍ，１Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．５５４．６１（ｍ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．９７７．０３（ｍ，１Ｈ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１９７．４２（ｍ，８Ｈ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．９Ｈｚ），
７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４０８，１５９３，１４９０，１４５８，１３８７，１３６８ｃｍ^−１．ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４６Ｈ_５６ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９１．３４１６；ｆｏｕｎｄ：７９１．３４１２．
【０１５９】
（２２ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（シクロヘキシルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２２（２２ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（シクロヘキシルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６６ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（２０ｍｇ、収率３３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．１７ − １．３６（ｍ，１６Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７０ − １．８３（ｍ，４Ｈ），１．８７ − １．９３（ｍ，２Ｈ），１．９７ − ２．０４（ｍ，２Ｈ），２．４４２．４８（ｍ，２Ｈ），３．２１３．２８（ｍ，１Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．５６（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．２８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８９，１５９３，１４９４，１４５９，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_５１Ｎａ_２Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３７．２９２３；ｆｏｕｎｄ：７３７．２９２５．
【０１６０】
【実施例２３】ナトリウム２’−（１−アミノトリデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２３ａ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−アセトキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例１（１ｆ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１．１ｇ，１．５ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（１０ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．０ｍＬ，７．５ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（３ｍＬ）で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、無水酢酸（０．４３ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、３時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止し、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（１．０ｇ，９５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２０ − １．３３（ｍ，１４Ｈ），１．４５（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５２（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．９７（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．２１−７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１７４２，１５９３，１４８９，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４３Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７４９．２９４６；ｆｏｕｎｄ：７４９．２９４３．
【０１６１】
（２３ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−（フェニルオキシカルボニルアミノ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例２３（２３ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−アセトキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．６０ｇ，０．８３ｍｍｏｌ）、フェニルカーバメート（０．３４ｇ，２．５ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（１ｍＬ）で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エーテル錯体（０．１１ｍＬ，０．８３ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、室温で１時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止し、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７）により精製を行い、標記目的化合物（０．６０ｇ，８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１８１．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４２−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．８０（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），５．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．４５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００７．０７（ｍ，２Ｈ），７．１４７．４４（ｍ，８Ｈ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９２（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３９１，１７４１，１５９３，１４８８，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_５３ＮＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８２６．３２１２；ｆｏｕｎｄ：８２６．３２２２．
【０１６２】
（２３ｃ）フェニル２’−（１−アミノトリデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
２０ｍＬナスフラスコに実施例２３（２３ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−（フェニルオキシカルボニルアミノ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０６１ｍｍｏｌ）をとり、ジオキサン（０．２ｍＬ）で溶解した。水（０．１ｍＬ）を加え反応溶液を縣濁させた後、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応溶液に水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（４２ｍｇ，１００％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２３１．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４４−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，４．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００ − ７．０６（ｍ，３Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，３Ｈ），７．３２−７．４２（ｍ，４Ｈ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３３７６，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４９ＮＮａＯ_４Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０６．３０００；ｆｏｕｎｄ：７０６．３０１０．
【０１６３】
（２３ｄ）ナトリウム２’−（１−アミノトリデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２３（２３ｃ）で得られたフェニル２’−（１−アミノトリデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ，０．０４３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１２ｍｇ，４０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４２−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７８（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３６９１，１５９４，１４９４，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４４ＮＯ_４Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６０６．２７１２；ｆｏｕｎｄ：６０６．２７１５．
【０１６４】
【実施例２４】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２（２−メトキシエトキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２４ａ）１１−（２−メトキシエトキシ）ウンデク−１−イン
実施例２０（２０ａ）で得られたメチルウンデク−１０−イン−１−スルホナート（０．１２ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）、２−メトキシエタノール（５９μＬ、０．７５ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（３６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を用いて実施例２２（２２ａ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ、収率７３％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２３−１．４０（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４３−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．５７−１．６２（ｍ，２Ｈ），１．７７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），２．０９−２．１３（ｍ，１Ｈ），２．１８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，９．７Ｈｚ），３．３９（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．５３−３．５８（ｍ，４Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１１，２９３０，１１１０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１４Ｈ_２７Ｏ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋２０７．２０１１；ｆｏｕｎｄ：２２７．２０２７．
【０１６５】
（２４ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２（２−メトキシエトキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、実施例２４（２４ａ）で得られた１１−（２−メトキシエトキシ）ウンデク−１−イン（８２ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２０ｍＬ、０．３１ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。
薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８７ｍｇ、収率４１％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１３−１．３３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．６０（ｍ，６Ｈ），１．７７−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４３（ｓ，３Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５２−３．５８（ｍ，４Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２６−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３７−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４００，２９３１，１２４８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４３Ｈ_５２Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６７．３０５２；ｆｏｕｎｄ：７６７．３０４４．
【０１６６】
（２４ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２（２−メトキシエトキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２４（２４ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２（２−メトキシエトキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８８ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．２４ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ、収率４５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２６−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４３−１．４７（ｍ，２Ｈ），１．４９−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７４−１．８１（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．６Ｈｚ），３．３４（ｓ，３Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５２（ｄｄ，４Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，７．０Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１８−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．３２−７．３８（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８３，２９３０，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３７Ｈ_４７Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６６７．２７６３；ｆｏｕｎｄ：６６７．２７６２．
【０１６７】
【実施例２５】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２５ａ）２−（ウンデク−１０−イニロキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
乾燥、窒素置換された反応容器に１０−ウンデシン−１−オール（０．５０ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．４１ｍＬ、４．５ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロリド（３ｍＬ）に溶解した。０℃に冷却した後、ｐ−トルエンスルホン酸（０．２６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を加え３０分間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え、酢酸エチルによる抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．６９ｇ、収率９２％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２６−１．４２（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４９−１．５４（ｍ，４Ｈ），１．５５−１．６１（ｍ，４Ｈ），１．６９−１．７５（ｍ，１Ｈ），１．８０−１．８６（ｍ，１Ｈ），１．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），３．３５−３．４１（ｍ，１Ｈ），３．４８−３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７０−３．７６（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９０（ｍ，１Ｈ），４．５８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１２，２９３３，２８５７，１０３３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１６Ｈ_２７Ｏ_２（Ｍ−Ｈ）^＋２５１．２０１１；ｆｏｕｎｄ：２５１．２０１７．
【０１６８】
（２５ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナ−ト
実施例２５（２５ａ）で得られた２−（ウンデク−１０−イニロキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１０ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３６ｍｍｏｌ）、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１９（１９ｂ）と同様の実験操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｇ、収率６６％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．３６（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．６０（ｍ，１０Ｈ），１．６８−１．７４（ｍ，１Ｈ），１．７８−１．８５（ｍ，３Ｈ），１．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．３５−３．４０（ｍ，１Ｈ），３．４７−３．５２（ｍ，１Ｈ），３．６９−３．７５（ｍ，１Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，２Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．５６−４．５８（ｍ，１Ｈ），５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２７−７．４３（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９３３，２８５７，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４５Ｈ_５４Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９３．３２０８；ｆｏｕｎｄ：７９３．３１９３．
【０１６９】
（２５ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２５（２５ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）ドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナ−ト（０．１０ｇ、０．１３ｍｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ）を加え，室温で１時間半攪拌した。トリエチルアミン（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ、収率８７％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２３−１．３８（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．５７（ｍ，６Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．６１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０１（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２７−７．４２（ｍ，８Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８８，２９３１，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４６ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０９．２６２４；ｆｏｕｎｄ：７０９．２６１２．
【０１７０】
（２５ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２５（２５ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．６ｍＬ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ、収率３９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７−１．４２（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５０−１．５６（ｍ，４Ｈ），１．７５−１．９１（ｍ，２Ｈ），２．１７−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９８，２９２９，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４１Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６０９．２３４５；ｆｏｕｎｄ：６０９．２３５１．
【０１７１】
【実施例２６】ジナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−カルボキシメチルオキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例２５（２５ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ、０．０６０ｍｍｏｌ）、ブロモ酢酸エチル（１０μＬ、０．０９０ｍｍｏｌ）をとり、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に溶解した。０℃に冷却した後、水素化ナトリウム（８．０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を加え，室温で１時間半撹拌し、さらに８０℃で３時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（３ｍＬ）を加え、酢酸エチルによる抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、目的化合物であるフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−エトキシカルボニルメチルオキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナートを含む混合物（１２ｍｇ）を得た。このものはこれ以上精製することなく次の反応に用いた。
先の反応で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−１２−エトキシカルボニルメチルオキシドデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナートを含む混合物（１１ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ相当）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（６０μＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１１ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２２−１．４３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．５８（ｍ，６Ｈ），１．７５−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ），３．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．１６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３４−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１６３２，１４７１，１３７８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４２ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６８９．２２１８；ｆｏｕｎｄ：６８９．２１８１．
【０１７２】
【実施例２７】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ジメチルアミノ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２７ａ）Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−ウンデク−１０−イニルアミン
実施例２０（２０ａ）で得られたメチルウンデク−１０−イン−１−スルホナート（０．１２ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、２．０Ｍジメチルアミン−メタノール溶液（０．５ｍＬ、１．００ｍｍｏｌ）を加え，９０℃で５時間攪拌した。反応終了後反応溶液に水（５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルによる抽出操作を行い、有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（７９ｍｇ、収率８１％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２１−１．３０（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３５−１．３８（ｍ，２Ｈ），１．４８−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．１６−２．１９（ｍ，２Ｈ），２．４８（ｓ，６Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）２９３７，１５９２，１４０６，１１９９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_２６Ｎ_５（Ｍ＋Ｈ）^＋１９６．２０６５；ｆｏｕｎｄ：１９６．２０６０．
【０１７３】
（２７ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ジメチルアミノ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、実施例２７（２７ａ）で得られたＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−ウンデク−１０−イニルアミン（７９ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２２ｍＬ、０．３５ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）と同じ実験操作を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ、収率３４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７−１．４１（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４３−１．４６（ｍ，４Ｈ），１．５０−１．５８（ｍ，２Ｈ），１．７６−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．２１（ｓ，６Ｈ），２．２２−２．２９（ｍ，２Ｈ），３．３０−３．３５（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），４．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２７−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．４３（ｍ，３Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）２９３１，１５８９，１４４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５２ＮＯ_２Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋７１４．３２８７；ｆｏｕｎｄ：７１４．３２８５．
【０１７４】
（２７ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ジメチルアミノ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２７（２７ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ジメチルアミノ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６４ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１８ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２０ｍｇ、収率３４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２６−１．４６（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４７−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．６２−１．６７（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８１（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），２．８３（ｓ，６Ｈ），３．０１−３．０５（ｍ，２Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．４Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４１３，２９３０，１５９１，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５ＮａＮＯ_５Ｓ（Ｍ−Ｈ）^＋６３６．２８１７；ｆｏｕｎｄ：６０８．２８１９．
【０１７５】
【実施例２８】ナトリウム２’−（１２−アミノ−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２８ａ）１１−アジドウンデク−１−イン
実施例２０（２０ａ）で得られたメチルウンデク−１０−イン−１−スルホナート（５０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に溶解し、アジ化ナトリウム（７８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加え，８０℃で２時間攪拌した。水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルによる抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物（４４ｍｇ、収率９９％）を得た。このものは精製することなく次の反応に用いた。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３０−１．４３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４９−１．６３（ｍ，６Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５２Ｈｚ），３．２６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３０８，２９３２，２０９７，１２６１ｃｍ^−１．
【０１７６】
（２８ｂ）フェニル２’−（１２−アジド−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、実施例２８（２８ａ）で得られた１１−アジドウンデク−１−イン（３９ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ、０．１７ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４８ｍｇ、収率５２％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｄｔ，３Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１１．１Ｈｚ），１．２７−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４６−１．５３（ｍ，４Ｈ），１．５５−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．８３（ｍ，２Ｈ），２．１９−２．２２（ｍ，２Ｈ），３．２４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．０１（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２５−７．４１（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．９１（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９３２，２０９６，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４５Ｎ_３ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３４．２６９８；ｆｏｕｎｄ：
７３４．２７０５．
【０１７７】
（２８ｃ）フェニル２’−（１２−アミノ−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２８（２８ｂ）で得られたフェニル２’−（１２−アジド−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４７ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（０．５ｍＬ）に溶解し、トリフェニルホスフィン（２６ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間半、さらに８０℃で２時間攪拌した。この反応溶液にアンモニア水（０．５ｍＬ）を加え、さらに８０℃で１時間撹拌した。
水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルによる抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率５２％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３０−１．３３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４２−１．４８（ｍ，２Ｈ），１．５３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５８−１．６５（ｍ，２Ｈ），１．７６−１．８３（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），２．８７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２８−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．４３（ｍ，４Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３６４，２９２９，１２４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４８ＮＯ_５Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋６８６．２９７４；ｆｏｕｎｄ：６８６．２９４２．
【０１７８】
（２８ｄ）ナトリウム２’−（１２−アミノ−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２８（２８ｃ）で得られたフェニル２’−（１２−アミノ−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２３ｍｇ、０．０３４ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（９ｍｇ、収率４５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２２−１．３３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４３−１．５８（ｍ，６Ｈ），１．７５−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．１７−２．１８（ｍ，２Ｈ），２．８４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４０７，２９２７，１２２３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４１ＮａＮＯ_５Ｓ_２（Ｍ−Ｈ）⁻ ６０８．２５０４；ｆｏｕｎｄ：６０８．２５０９．
【０１７９】
【実施例２９】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニルチオ）］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２９ａ）フェニル２，５−ジブロモ−４−（ブロモメチル）ベンゼンスルホナート
実施例１３（１３ａ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−メチルベンゼンスルホナート（１．６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を四塩化炭素（８ｍＬ）に溶解し、１，３−ジブロモ−５、５−ジメチルヒダントイン（０．６９ｇ、２．４ｍｍｏｌ）、過酸化ベンゾイル（１０ｍｇ）を加え、２時間加熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（３０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（３０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１２）により精製を行い、標記目的化合物（１．０５ｇ、収率５４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ４．５２（ｓ，２Ｈ），７．１３ − ７．１８（ｍ，２Ｈ），７．２５ − ７．３８（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５８６，１４８６，１２５５，１３８５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_１０ ^７９Ｂｒ_３Ｏ_３Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋４８２．７９０１；ｆｏｕｎｄ：４８２．７８７１．
【０１８０】
（２９ｂ）フェニル２，５−ジブロモ−４−（ヒドロキシメチル）ベンゼンスルホナート
実施例２９（２９ａ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−（ブロモメチル）ベンゼンスルホナート（９８６ｍｇ、２．０３ｍｍｏｌ）をジオキサン（８ｍＬ）、水（８ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、炭酸カルシウム（５０８ｍｇ、５．０８ｍｍｏｌ）を加え、４８時間過熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（３０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（３０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．６５ｇ、収率７６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ２．１１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．２４ − ７．３０（ｍ，１Ｈ），７．３３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３５８７，１４８５，１３７７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_１１ ^７９Ｂｒ_２Ｏ_４Ｓ（Ｍ＋Ｈ）^＋４２０．８７４４；ｆｏｕｎｄ：４２０．８７３４．
【０１８１】
（２９ｃ）フェニル２，５−ジブロモ−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）ベンゼンスルホナート
実施例２９（２９ｂ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−（ヒドロキシメチル）ベンゼンスルホナート（０．６５ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、クロロ−ｔ−ブチルジメチルシラン（０．４６ｇ、３．１ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．２１ｇ、３．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．８２ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．１７（ｓ，６Ｈ），０．９９（ｓ，９Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．２４ − ７．３７（ｍ，３Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１４８７，１３８８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１９Ｈ_２４ ^７９Ｂｒ_２ＮａＯ_４ＳｉＳ（Ｍ＋Ｎａ）^＋５５６．９４２９；ｆｏｕｎｄ：５５６．９３９１．
【０１８２】
（２９ｄ）フェニル５−ブロモ−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例２９（２９ｃ）で得られたフェニル２，５−ジブロモ−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）ベンゼンスルホナート（０．８２ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をアセトン（１５ｍＬ）に溶解し、４−ヒドロキシチオフェノール（０．２３ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．８５ｇ、６．１ｍｍｏｌ）、１８−クラウン−６（０．１０ｍＬ）を加え、２時間加熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．７１ｇ、収率７９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，６Ｈ），０．８０（ｓ，９Ｈ），４．５８（ｓ，２Ｈ），５．１４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２０ − ７．２４（ｍ，３Ｈ），７．２７ − ７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３４ − ７．３８（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．９６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４５９，１５８５，１４８８，１４３４，１３８３，１３６３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２５Ｈ_２９ ^７９ＢｒＮａＯ_５ＳｉＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６０３．０３０７；ｆｏｕｎｄ：６０３．０２９１．
【０１８３】
（２９ｅ）フェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）ベンゼンスルホナート
実施例２９（２９ｄ）で得られたフェニル５−ブロモ−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．７１ｇ、１．２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解し、１−ブロモブタン（０．３９ｍＬ、３．７ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．３６ｍＬ、２．４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１２）により精製を行い、標記目的化合物（０．６９ｇ、収率８９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ −０．０３（ｓ，６Ｈ），０．７７（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４９１．５８（ｍ，２Ｈ），１．７６１．８５（ｍ，２Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．５６（ｓ，２Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９８７．２４（ｍ，３Ｈ），７．２５７．３１（ｍ，１Ｈ），７．３２７．３８（ｍ，２Ｈ），７．４９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９４（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１５９１，１４８９，１３７５，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２９Ｈ_３７ ^７９ＢｒＮａＯ_５ＳｉＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５９．０９３３；ｆｏｕｎｄ：６５９．０９２７．
【０１８４】
（２９ｆ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｅ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）ベンゼンスルホナート（０．６７ｇ、１．１ｍｍｏｌ）をエチレングリコールジメチルエーテル（６ｍＬ）、水（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、２−ホルミルフェニルホウ酸（０．６３ｇ、４．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．７３ｇ、５．３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（５０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．６５ｇ、収率９３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ −０．１９（ｓ，６Ｈ），０．６９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４９ − １．５８（ｍ，２Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，２Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１８ − ７．２２（ｍ，２Ｈ），７．２６ − ７．３７（ｍ，４Ｈ），７．５０ − ７．６３（ｍ，５Ｈ），７．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），９．４５（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）１６９７，１５９４，１４９３，１３７２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４２ＮａＯ_６ＳｉＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６８５．２０９０；ｆｏｕｎｄ：６８５．２１０２．
【０１８５】
（２９ｇ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｆ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１４ｍＬ、０．２２ｍｍｏｌ）、１−ドデシン（５５μＬ、０．２６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｇ、収率９３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ −０．１９（ｓ，１．５Ｈ）， −０．１８（ｓ，１．５Ｈ）， −０．１７（ｓ，３Ｈ），０．７０（ｓ，４．５Ｈ），０．７１（ｓ，４．５Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２６（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３０１．３７（ｍ，２Ｈ），１．４４１．６０（ｍ，４Ｈ），１．７７１．８５（ｍ，２Ｈ），２．０５（ｓ，０．５Ｈ），２．０９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），２．１５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．２１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．２５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．７４４．７７（ｍ，０．５Ｈ），４．８０４．８３（ｍ，０．５Ｈ），６．９１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９２（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１８７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２６７．３１（ｍ，３Ｈ），７．３２７．３７（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５４７．６０（ｍ，３Ｈ），７．７５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．７９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３６，１５９３，１４９３，１４６１，１３７４，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_６４ＮａＯ_６ＳｉＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８５１．３８１１；ｆｏｕｎｄ：８５１．３８３２．
【０１８６】
（２９ｈ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニルチオ）］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｇ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解し、テトラブチルアンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液（０．１６ｍＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２２ − １．３４（ｍ，１２Ｈ），１．３５１．４２（ｍ，２Ｈ），１．４９１．５９（ｍ，６Ｈ），１．７８１．８５（ｍ，２Ｈ），２．１４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．２６（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，７．２Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．０５４．０９（ｍ，１Ｈ），４．１９４．２６（ｍ，１Ｈ），４．８２４．８７（ｍ，１Ｈ），６．９３６．９７（ｍ，１Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０６（ｓ，０．５Ｈ），７．１５（ｍ，０．５Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）７．２７７．３７（ｍ，４Ｈ），７．３８７．４４（ｍ，１Ｈ），７．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６０（ｓ，０．５Ｈ），７．６９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．７０（ｓ，０．５Ｈ），７．８３（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３５８，１５９２，１４９１，１４５９，１３８１，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３７．２９４７；ｆｏｕｎｄ：７３７．２９５８．
【０１８７】
（２９ｉ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニルチオ）］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｈ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニルチオ）］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ、０．０４２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１２ｍｇ、収率４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２８（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３５１．４５（ｍ，２Ｈ），１．４６１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７４１．８２（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，７．０Ｈｚ），２．２３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，７．０Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．０８（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．１５（ｓ，１Ｈ），４．１６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），５．０７（ｓ，０．５Ｈ），５．０９（ｓ，０．５Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０７（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．１０（ｓ，０．５Ｈ），７．１８（ｓ，０．５Ｈ），７．３０（ｔ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．３２（ｔ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．５７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．７４（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．８１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９９，１５９３，１４９４，１４６５，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６３７．２６５８；ｆｏｕｎｄ：６３７．２６５２．
【０１８８】
【実施例３０】ナトリウム６−（アミノメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３０ａ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｇ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３８ｇ、０．４６ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．２３ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、メトキシメチルクロリド（０．２８ｍＬ、３．７ｍｍｏｌ）を加え、１時間３０分加熱環流した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（４０２ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ −０．１９（ｓ，３Ｈ）， −０．１７（ｓ，３Ｈ），０．６９（ｓ，４．５Ｈ），０．７０（ｓ，４．５Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２７ − １．３５（ｍ，２Ｈ），１．４２ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７７１．８４（ｍ，２Ｈ），２．１３２．２０（ｍ，２Ｈ），３．０６（ｓ，１．５Ｈ），３．１１（ｓ，１．５Ｈ），３．９８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．００（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１８４．３３（ｍ，２Ｈ），４．３４（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．３５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．７５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．８１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．８１（ｓ，０．５Ｈ），４．８８（ｓ，０．５Ｈ），６．８９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９３（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（ｓ，０．５Ｈ），７．２２（ｓ，０．５Ｈ），７．２３７．４５（ｍ，７Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６２（ｓ，０．５Ｈ），７．６７（ｓ，０．５Ｈ），７．７５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．７６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１５９３，１４９２，１４６２，１３７５，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_５０Ｈ_６８ＮａＯ_７ＳｉＳ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８９５．４０７４；ｆｏｕｎｄ：８９５．４０６１．
【０１８９】
（３０ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．４０ｇ、０．４６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、テトラヒドロアンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液（０．９２ｍＬ、０．９２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．３５ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２５（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３２１．３８（ｍ，２Ｈ），１．４０１．５８（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，６．８Ｈｚ），１．７８１．８５（ｍ，２Ｈ），２．１４（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．２１（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，７．２Ｈｚ），２．６２（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，８．９Ｈｚ），３．０７（ｓ，１．５Ｈ），３．１３（ｓ，１．５Ｈ），４．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．０２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１１（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１３．４Ｈｚ），４．２０（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１４．１Ｈｚ），４．２５４．２９（ｍ，０．５Ｈ），４．２９（ｄｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１３．４Ｈｚ），４．３６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．３９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．６８（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．７４（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．８６（ｓ，０．５Ｈ），４．９５（ｓ，０．５Ｈ），６．９２（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．９５（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１５（ｓ，０．５Ｈ），７．１６（ｓ，０．５Ｈ），７．２２７．３８（ｍ，６Ｈ），７．４０７．４５（ｍ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６８（ｓ，０．５Ｈ），７．７０（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．７６（ｓ，０．５Ｈ），７．７９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４７０，１５９２，１４９１，１４６２，１３８２，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５４ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７８１．３２０９；ｆｏｕｎｄ：７８１．３２１５．
【０１９０】
（３０ｃ）フェニル６−（アジドメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−６−（ヒドロキシメチル）−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３０ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、メタンスルホニルクロリド（６２μＬ、０．８０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１２ｍＬ、０．８８ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した後、アジ化ナトリウム（０．２１ｇ、３．２ｍｍｏｌ）を加え、さらに１時間攪拌した。反応溶液を氷水にあけ、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（０．３１ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．０３（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．０４（ｔ，１．５Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２９（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．４４ − １．６３（ｍ，４Ｈ），１．８２ − １．８９（ｍ，２Ｈ），２．１６ − ２．２３（ｍ，２Ｈ），３．１３（ｓ，１．５Ｈ），３．１７（ｓ，１．５Ｈ），３．９６４．１０（ｍ，４Ｈ），４．４０（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．４１（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．７８（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．８０（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．８５（ｓ，０．５Ｈ），４．９４（ｓ，０．５Ｈ），６．９６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），６．９９（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０１（ｓ，０．５Ｈ），７．０２（ｓ，０．５Ｈ），７．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２３７．４３（ｍ，６Ｈ），７．４４７．５２（ｍ，１Ｈ），７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６７．８３（ｍ，２Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２１０５，１５９２，１５７０，１４６２，１３８２，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５３Ｎ_３ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８０６．３２７３；ｆｏｕｎｄ：８０６．３２３９．
【０１９１】
（３０ｄ）フェニル６−（アジドメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ｃ）で得られたフェニル６−（アジドメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−（メトキシメトキシ）トリデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）をジオキサン（６ｍＬ）に溶解し、５％硫酸水溶液（１ｍＬ）を加え、４時間加熱環流した。飽和食塩水（５ｍＬ）を加え反応溶液を中和した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６８ｍｇ、収率３５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．０４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２９（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３７ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．６３（ｍ，４Ｈ），１．６６（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），１．８２ − １．９０（ｍ，２Ｈ），１．９８（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），２．１８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．９４４．１２（ｍ，４Ｈ），４．７７４．８０（ｍ，０．５Ｈ），４．８２４．８５（ｍ，０．５Ｈ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．９９（ｓ，０．５Ｈ），７．０１（ｓ，０．５Ｈ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２２７．２７（ｍ，２Ｈ），７．３２７．４３（ｍ，４Ｈ），７．４７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７０（ｓ，０．５Ｈ），７．７４（ｓ，０．５Ｈ），７．７８（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８４（ｄ，０．５Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５３３，２１０５，１５９２，１４９０，１４６１，１３８２，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_４９Ｎ_３ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６２．３０１１；ｆｏｕｎｄ：７６２．３０１４．
【０１９２】
（３０ｅ）フェニル６−（アミノメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ｄ）で得られたフェニル６−（アジドメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍＬ）に溶解し、金属亜鉛粉末（７２ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）、飽和塩化アンモニア水（１ｍＬ）を加え、７０℃で２時間攪拌した。飽和食塩水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（４９ｍｇ、収率６２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．０４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３０（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．４０１．４８（ｍ，２Ｈ），１．５４１．６３（ｍ，４Ｈ），１．７１１．９４（ｍ，４Ｈ），２．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．８８（ｓ，１Ｈ），６．８５（ｓ，１Ｈ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２９７．３６（ｍ，３Ｈ），７．３８７．４４（ｍ，２Ｈ），７．４６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６９（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３６１，３２９２，１５９２，１４９０，１４６０，１３８１，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５２Ｏ_５ＮＳ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋７１４．３２８７；ｆｏｕｎｄ：７１４．３２８６．
【０１９３】
（３０ｆ）ナトリウム６−（アミノメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ｅ）で得られたフェニル６−（アミノメチル）−４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４９ｍｇ、０．０６９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（８ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７ｍｇ、収率１５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２９（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３８１．４６（ｍ，２Ｈ），１．４８１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７５１．８３（ｍ，２Ｈ），２．２６（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），３．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．８０（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３（ｓ，１Ｈ），７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８３（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３４０，１５９２，１４９３，１４６５，１２４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４６Ｏ_５ＮＳ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６３６．３８１７；ｆｏｕｎｄ：６３６．２８１８．
【０１９４】
【実施例３１】ナトリウム２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３１ａ）フェニル５−ブロモ−２−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．８５ｇ、２．０ｍｍｏｌ）、２−ブロモエチルメチルエーテル（０．４６ｍＬ、４．９ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（０．８７ｍＬ、５．９ｍｍｏｌ）を用いて実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．９０ｇ、収率９３％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ３．４８（ｓ，３Ｈ），３．７８−３．８０（ｍ，２Ｈ），４．１７−４．１９（ｔ，２Ｈ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．２２（ｍ，２Ｈ），７．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．４９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）２９２７，１４４３，１２５１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２１Ｈ_１９ＮａＢｒＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５１６．９７５５；ｆｏｕｎｄ：
５１６．９７３５．
【０１９５】
（３１ｂ）フェニル２’−ホルミル−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３１（３１ａ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］ベンゼンスルホナート（０．６０ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、２−ホルミルフェニルボロン酸（０．５５ｇ、３．７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．８４ｇ、６．１ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ａ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（０．５８ｇ、収率９１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ３．４８（ｓ，３Ｈ），３．８０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．２０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２７−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５６−７．６２（ｍ，３Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．６５（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）２９２６，１６９３，１１９４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２８Ｈ_２４ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５４３．０９１２；ｆｏｕｎｄ：５４３．０８８９．
【０１９６】
（３１ｃ）フェニル２’−［１−ヒドロキシ−１２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）ドデク−２−イニル］−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３１（３１ｂ）で得られたフェニル２’−ホルミル−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、実施例２５（２５ａ）で得られた２−（ウンデク−１０−イロキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１５ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３３ｍＬ、０．５２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率７３％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２３−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４６−１．５９（ｂｒｓ，８Ｈ），１．６７−１．７２（ｍ，１Ｈ），１．７９−１．８５（ｍ，１Ｈ），２．１９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．３４−３．４０（ｍ，１Ｈ），３．４６（ｍ，３Ｈ），３．４９−３．５０（ｍ，１Ｈ），３．６９−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），３．８３−３．８８（ｍ，１Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０４−７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．９２（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４０１，２９３２，１４５７，１１９４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５２ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９５．３００１；ｆｏｕｎｄ：７９５．３００２．
【０１９７】
（３１ｄ）フェニル２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３１（３１ｃ）で得られたフェニル２’−［１−ヒドロキシ−１２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）ドデク−２−イニル］−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ）を用いて実施例２５（２５ｃ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率７４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２５−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４６−１．５７（ｍ，４Ｈ），２．１９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４６（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），５．０１（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２６−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３６−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４０６，２９３０，１４５７，１２５３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３９Ｈ_４４ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７１１．２４２６；ｆｏｕｎｄ：７１１．２４１０．
【０１９８】
（３１ｅ）ナトリウム２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３１（３１ｄ）で得られたフェニル２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．３０ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４５ｍｇ、収率４５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．２７−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４２−１．５２（ｍ，４Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４３（ｓ，３Ｈ），３．７５−３．７８（ｍ，２Ｈ），４．１５−４．１８（ｍ，２Ｈ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４０９，２９２７，１２４２，１０６９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_３９Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６１１．２１３７；ｆｏｕｎｄ：６１１．２１６０．
【０１９９】
【実施例３２】ナトリウム２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３２ａ）１１−メトキシウンデク−１−イン
実施例２０（２０ａ）で得られたメチルウンデク−１０−イン−１−スルホナート（０．２５ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解し、５Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液（０．４０ｍＬ、２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣に水（１０ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルによる抽出操作を行い、有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率９９％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２６−１．３０（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３５−１．４１（ｍ，４Ｈ），１．５０−１．５６（ｍ，４Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１２，２９３１，１１２２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１２Ｈ_２１Ｏ（Ｍ−Ｈ）^＋１８３．１７４９；ｆｏｕｎｄ：１８３．１７５８．
【０２００】
（３２ｂ）フェニル２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル２’−ホルミル−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、実施例３２（３２ａ）で得られた１１−メトキシウンデク−１−イン（９１ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２８ｍＬ、０．４５ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率７３％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２７−１．３３（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．５１（ｍ，２Ｈ），１．５３−１．５６（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．３Ｈｚ），３．３１（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４７（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４−７．０７（ｍ，３Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３１−７．３５（ｍ，３Ｈ），７．３７−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３９６，２９３０，１４９０，１１２２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４６ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６０７．２５８３；ｆｏｕｎｄ：７２５．２５８５．
【０２０１】
（３２ｃ）ナトリウム２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３２（３２ｂ）で得られたフェニル２’−（１−ヒドロキシ−１２−メトキシドデク−２−イニル）−４−［［４−（２−メトキシエトキシ）フェニル］チオ］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．３６ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６９ｍｇ、収率５９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．２６−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４１−１．４７（ｍ，２Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），２．１７−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４２（ｓ，３Ｈ），３．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８６，２９２８，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４１Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）^＋６０７．２３１２；ｆｏｕｎｄ：６２５．２３０３．
【０２０２】
【実施例３３】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（１１−ヒドロキシウンデシル）オキシ］ブト−２−イル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３３ａ）２−［（１１−ブロモウンデシル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
１１−ブロモ−１−ウンデカノール（０．３８ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．２０ｍＬ、２．３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．４７ｇ、収率９３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２８（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３７ − １．４６（ｍ，２Ｈ），１．４９ − １．６４（ｍ，６Ｈ），１．６７１．７５（ｍ，１Ｈ），１．７８１．９０（ｍ，３Ｈ），３．３５３．４１（ｍ，１Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．４７３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８４３．９１（ｍ，１Ｈ），４．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，４．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９２８，２８５５ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，３３３（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２０３】
（３３ｂ）２−［１１−（プロプ−２−イニルオキシ）ウンデシルオキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
プロパルギルアルコール（０．１２ｍＬ、２．１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、水素化ナトリウム（０．１７ｇ、４．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。さらに実施例３３（３３ａ）で得られた２−［（１１−ブロモウンデシル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．４７ｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（３１０ｍｇ、収率７１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２７（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．４８ − １．６３（ｍ，８Ｈ），１．６７ − １．７５（ｍ，１Ｈ），１．７８ − １．８８（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．３８（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４６３．５３（ｍ，１Ｈ），３．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．７３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８４３．９１（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，４．３Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１１，２９２９，１３５４ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，３０９（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２０４】
（３３ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［１１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ウンデシルオキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０２０４−２）
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．１５ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）、実施例３３（３３ｂ）で得られた２−［１１−（プロプ−２−イニルオキシ）ウンデシルオキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（９０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（７６ｍｇ、収率７６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２３ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４８ − １．６３（ｍ，１０Ｈ），１．６７１．７５（ｍ，１Ｈ），１．７８１．８６（ｍ，１Ｈ），２．００（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，５．１Ｈｚ），３．３８（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．４７３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８３３．９０（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．５７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），５．０６（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，５．１Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２１７．４４（ｍ，８Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８９，１５９３，１４８９，１３８８，１３６８，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_６０ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８５１．３６２７；ｆｏｕｎｄ：８５１．３６４９．
【０２０５】
（３３ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（１１−ヒドロキシウンデシル）オキシ］ブト−２−イル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［１１−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ウンデシルオキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７６ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）をエタノール（２ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（５．０ｍｇ，０．０２０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（１０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（６８ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２１ − １．３８（ｍ，１４Ｈ），１．４８ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７７ − １．８４（ｍ，２Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），４．９９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．３７７．４２（ｍ，３Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３７６，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６７，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４３Ｈ_５２ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６７．３０５２；ｆｏｕｎｄ：７６７．３０２９．
【０２０６】
（３３ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（１１−ヒドロキシウンデシル）オキシ］ブト−２−イル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（１１−ヒドロキシウンデシル）オキシ］ブト−２−イル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６８ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１１ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ、４７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２８ − １．４２（ｍ，１４Ｈ），１．５２ − １．６２（ｍ，６Ｈ），１．７９ − １．８６（ｍ，２Ｈ），３．４９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．４１（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３７．２８（ｍ，２Ｈ），７．３８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３７６，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６７，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３７Ｈ_４７Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６６７．２７６３；ｆｏｕｎｄ：６６７．２７５６．
【０２０７】
【実施例３４】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（９−ヒドロキシノニル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３４ａ）２−［（９−ブロモノニル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
９−ブロモ−１−ノナノール（０．３６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．２０ｍＬ、２．３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．４６ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３１（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３８ − １．４６（ｍ，２Ｈ），１．４８ − １．６３（ｍ，６Ｈ），１．６７ − １．７６（ｍ，１Ｈ），１．７８ − １．８９（ｍ，３Ｈ），３．３４ − ３．４２（ｍ，１Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８４ − ３．９１（ｍ，１Ｈ），４．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，４．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９３２，２８５６ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，３０５（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２０８】
（３４ｂ）２−［［９−（プロプ−２−イニルオキシ）ノニル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
プロパルギルアルコール（０．１３ｍＬ、２．３ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１８ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、実施例３４（３４ａ）で得られた２−［（９−ブロモノニル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．４６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）使用して、実施例３３（３３ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２９ｇ、収率５１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３０（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４８ − １．６３（ｍ，８Ｈ），１．６７１．７６（ｍ，１Ｈ），１．７９１．８８（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．３８（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４６３．５３（ｍ，１Ｈ），３．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８４３．９０（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，４．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１０，２９３４，２８５６，１３５４ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２８１（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２０９】
（３４ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−４−［［９−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ノニル］オキシ］ブト−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．１５ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）、実施例３４（３４ｂ）で得られた２−［［９−（プロプ−２−イニルオキシ）ノニル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（８２ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８８ｍｇ、収率９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２４ − １．３７（ｍ，１０Ｈ），１．４７ − １．５２（ｍ，１０Ｈ），１．６７ − １．７５（ｍ，１Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，３Ｈ），１．９９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，５．２Ｈｚ），３．３７（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８３ − ３．９０（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），４．５７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），５．０７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，５．２Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．２１ − ７．４４（ｍ，８Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３９７，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４６Ｈ_５６ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８２３．３３１５；ｆｏｕｎｄ：８２３．３３１１．
【０２１０】
（３４ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（９−ヒドロキシノニル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３４（３４ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［９−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ノニル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（５．０ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（７６ｍｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２３ − １．３７（ｍ，１０Ｈ），１．４８ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７７ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．９９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．３７ − ７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８３，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６６，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_４８ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３９．２７４０；ｆｏｕｎｄ：７３９．２７３９．
【０２１１】
（３４ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（９−ヒドロキシノニル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３４（３４ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（９−ヒドロキシノニル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７６ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１３ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ、収率４１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３２（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．５１ − １．６１（ｍ，６Ｈ），１．７９ − １．８６（ｍ，２Ｈ），３．４９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），４．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３ − ７．２８（ｍ，２Ｈ），７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３７６，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６７，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４３Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６３９．２４５２；ｆｏｕｎｄ：６３９．２４１６．
【０２１２】
【実施例３５】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３５ａ）２−［（７−ブロモヘプチル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン７−ブロモ−１−ヘプタノール（０．２９ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．２０ｍＬ、２．３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．３７ｇ、収率８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３１ − １．４８（ｍ，６Ｈ），１．４８ − １．６３（ｍ，６Ｈ），１．６８ − １．７５（ｍ，１Ｈ），１．７９ − １．８９（ｍ，３Ｈ），３．３５ − ３．４２（ｍ，１Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８４ − ３．９０（ｍ，１Ｈ），４．５７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．６Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９３７，２８５８ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２７７（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２１３】
（３５ｂ）２−［［７−（プロプ−２−イニルオキシ）ヘプチル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
プロパルギルアルコール（０．１２ｍＬ、２．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）、実施例３５（３５ａ）で得られた２−［（７−ブロモヘプチル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．３７ｇ、１．３ｍｍｏｌ）使用して、実施例３３（３３ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２４ｇ、収率７１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３２ − １．４２（ｍ，６Ｈ），１．４８ − １．６５（ｍ，８Ｈ），１．６８ − １．７５（ｍ，１Ｈ），１．７８ − １．８７（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．３８（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．７３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．７４３．８９（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，４．１Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３０７，２９３７，２８５８，１３５４ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２５５（Ｍ＋Ｈ）^＋．
【０２１４】
（３５ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘプチル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．１５ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）、実施例３５（３５ｂ）で得られた２−［［７−（プロプ−２−イニルオキシ）ヘプチル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（７４ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８９ｍｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３０ − １．３９（ｍ，６Ｈ），１．４８ − １．５２（ｍ，１０Ｈ），１．６６ − １．７４（ｍ，１Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，３Ｈ），２．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，５．２Ｈｚ），３．３９（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４６ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．８２ − ３．８８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），４．５５ − ４．５８（ｍ，１Ｈ），５．０７（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，５．２Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２１ − ７．４４（ｍ，８Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３９０，１５９３，１４８９，１４５８，１３８８，１３６８，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５２ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９５．３００２；ｆｏｕｎｄ：７９５．３０１９．
【０２１５】
（３５ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３５（３５ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘプチル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（５．０ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（７５ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２８ − １．３７（ｍ，６Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７７ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．９９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３０ − ７．３５（ｍ，２Ｈ），７．３７ − ７．４２（ｍ，３Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８６，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６６，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３９Ｈ_４４ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７１１．２４２６；ｆｏｕｎｄ：７１１．２４２７．
【０２１６】
（３５ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３５（３５ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７５ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１３ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ、収率４０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３１（ｂｒｓ，６Ｈ），１．４７ − １．５７（ｍ，６Ｈ），１．７５ − １．８２（ｍ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），５．３７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１９ − ７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．３９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３９９，１５９３，１４９３，１４５８，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_３９Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６１１．２１３７；ｆｏｕｎｄ：６１１．２１２６．
【０２１７】
【実施例３６】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（５−ヒドロキシペンチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３６ａ）２−［（５−ブロモペンチル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン５−ブロモ−１−ペンタノール（０．３３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．２７ｍＬ、３．０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（３４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率２８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．４７ − １．６６（ｍ，８Ｈ），１．６６ − １．７６（ｍ，１Ｈ），１．７８ − １．９４（ｍ，３Ｈ），３．３６ − ３．４３（ｍ，１Ｈ），３．４２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．４８ − ３．５４（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８３ − ３．９０（ｍ，１Ｈ），４．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，４．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９３７，２８５８ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２４９（Ｍ−Ｈ）^＋．
【０２１８】
（３６ｂ）２−［［５−（プロプ−２−イニルオキシ）ペンチル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
プロパルギルアルコール（６１μＬ、１．１ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（８４ｍｇ、４．０ｍｍｏｌ）、実施例３６（３６ａ）で得られた２−［（５−ブロモペンチル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１８ｇ、０．７０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（９８ｍｇ、６２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．４０ − １．７６（ｍ，１１Ｈ），１．７８ − １．８７（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．３９（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．８３３．９０（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），４．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，４．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３２６１，２９４１，２８６７，１３５４ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２４９（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
【０２１９】
（３６ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［５−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ペンチル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（０．１５ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）、実施例３６（３６ｂ）で得られた２−［［５−（プロプ−２−イニルオキシ）ペンチル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（６６ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８６ｍｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３８ − １．７３（ｍ，１４Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，２Ｈ），２．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，５．２Ｈｚ），３．３９（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，９．７Ｈｚ），３．４９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．４５３．５２（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，９．７Ｈｚ），３．８２３．８８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．５５４．５８（ｍ，１Ｈ），５．０７（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，５．２Ｈｚ），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．２１７．４４（ｍ，８Ｈ），７．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．７Ｈｚ），７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３９０，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６８，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_４８ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６７．２６８８；ｆｏｕｎｄ：７６７．２６９０．
【０２２０】
（３６ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（５−ヒドロキシペンチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［５−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ペンチル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８６ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（５．０ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：２）により精製を行い、標記目的化合物（７８ｍｇ、収率９８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３４ − １．４１（ｍ，２Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７７ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．９９（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３０７．３４（ｍ，２Ｈ），７．３７７．４２（ｍ，３Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８３，１５９３，１４８９，１４５８，１３８７，１３６６，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３７Ｈ_４０ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６８３．２１１３；ｆｏｕｎｄ：６８３．２１３０．
【０２２１】
（３６ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（５−ヒドロキシペンチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（５−ヒドロキシペンチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７８ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１４ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率３３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３３ − １．４０（ｍ，２Ｈ），１．４８ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７５ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），５．３７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１９７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．４０（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９９，１５９３，１４９４，１４５８，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３１Ｈ_３５Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ５８３．１８２４；ｆｏｕｎｄ：５８３．１８１４．
【０２２２】
【実施例３７】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（７−ヒドロキシヘプチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
（３７ａ）メチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例１２（１２ｂ）で得られたメチル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゾエート（７９ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、２−ホルミルフェニルホウ酸（０．１２ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．１４ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（１０ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８４ｍｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４８ − １．５７（ｍ，２Ｈ），１．７６ − １．８５（ｍ，２Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３７７．５３（ｍ，１Ｈ），７．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．６３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．０１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．９５（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１７１７，１６９５，１５９５，１４９４，１４６２，１２３７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２５Ｈ_２４Ｏ_４Ｓ（Ｍ）^＋４２０．１３９５；ｆｏｕｎｄ：４２０．１４０２．
【０２２３】
（３７ｂ）メチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシ−４−［［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘプチル］オキシ］ブト−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例３７（３７ａ）で得られたメチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート（０．１１ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２８ｍＬ、０．４３ｍｍｏｌ）、実施例３５（３５ｂ）で得られた２−［［７−（プロプ−２−イニルオキシ）ヘプチル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１３ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率７８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２９ − １．３８（ｍ，６Ｈ），１．４７ − １．５３（ｍ，１０Ｈ），１．６７ − １．７５（ｍ，１Ｈ），１．７７ − １．８６（ｍ，３Ｈ），２．２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，５．３Ｈｚ），３．３４３．４１（ｍ，１Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４７ − ３．５３（ｍ，１Ｈ），３．６８ − ３．７５（ｍ，１Ｈ），３．８２ − ３．８９（ｍ，１Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），４．５７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），５．４２（ｔｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，５．３Ｈｚ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ），７．３７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．４３（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．７Ｈｚ），７．８４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４０６，１７１７，１５９３，１４６５，１２４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_５０ＮａＯ_７Ｓ（Ｍ＋Ｎａ）^＋６９７．３１５７；ｆｏｕｎｄ：６９７．３１８１．
【０２２４】
（３７ｃ）メチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例３７（３７ｂ）で得られたメチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘプチルオキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート（０．１３ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例３３（３３ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝４：３）により精製を行い、標記目的化合物（９７ｍｇ、収率８２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２７ − １．３７（ｍ，６Ｈ），１．４７ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．７５ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．９３（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），５．３２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ），７．３６（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．４２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），７．４９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ），８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）．ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８９，１５９３，１４９４，１４６４，１２４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４２ＮａＯ_６Ｓ（Ｍ＋Ｎａ）^＋６１３．２６００；ｆｏｕｎｄ：６１３．２５４８．
【０２２５】
（３７ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（７−ヒドロキシヘプチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート
実施例３７（３７ｃ）で得られたメチル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシヘプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−カルボキシラート（９７ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１９ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７３ｍｇ、収率７６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３１ − １．４２（ｍ，６Ｈ），１．５２ − １．６２（ｍ，６Ｈ），１．８０ − １．８７（ｍ，２Ｈ），３．４９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．５２（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．３９（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．４５（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８５，１６９１，１５９３，１４９４，１４６４，１２４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_３９Ｏ_６Ｓ（Ｍ−Ｎａ）⁻ ５７５．２４６８；ｆｏｕｎｄ：５７５．２４４８．
【０２２６】
【実施例３８】ナトリウム４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシへプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３８ａ）フェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例９（９ｂ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−ベンゼンスルホナート（０．２４ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、２−ホルミルフェニルボロン酸（０．２９ｇ、１．９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．３３ｇ、２．４ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（５７ｍｇ、０．０４９ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ａ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ、収率５８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），４．７２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２８−７．３１（ｍ，３Ｈ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５７−７．６１（ｍ，３Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．９６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），９．６６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）１６９３，１４９０，１１９３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２９Ｈ_２２ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５３７．０８０７；ｆｏｕｎｄ：５３７．０７９５．
【０２２７】
（３８ｂ）フェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）へプチル］オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３８（３８ａ）で得られたフェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、実施例３５（３５ｂ）で得られた２−［［７−（プロプ−２−イニロキシ）へプチル］オキシ］−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１２ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２６ｍＬ、０．４１ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率７４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３３−１．３７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．４９−１．５８（ｂｒｓ，８Ｈ），１．６７−１．７３（ｍ，１Ｈ），１．７８−１．８４（ｍ，１Ｈ），１．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），３．３４−３．４２（ｍ，１Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４９−３．５０（ｍ，１Ｈ），３．７０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ），４．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），４．５６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），４．７２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，４．４Ｈｚ），５．０８（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２４−７．４３（ｍ，５Ｈ），７．５７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８７，２９３８，１４９０，１１４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_４８ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９１．２６８８；ｆｏｕｎｄ：７９１．２６７９．
【０２２８】
（３８ｃ）フェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシへプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３８（３８ｂ）で得られたフェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［７−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）へプチルオキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）を用いて実施例３３（３３ｄ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（９９ｍｇ、収率８６％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．３３−１．３７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．５４−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），３．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．６３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），４．７３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，４．４Ｈｚ），５．０９（ｓ，１Ｈ），６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０８−７．１１（ｍ，３Ｈ），７．２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３４−７．３６（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．５８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８３，２９３４，１４９０，１１４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３９Ｈ_４０ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０７．２１１３；ｆｏｕｎｄ：７０７．２１３０．
【０２２９】
（３８ｄ）ナトリウム４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−（７−ヒドロキシへプチルオキシ）ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３８（３８ｃ）で得られたフェニル４−［［４−（ブト−２−イニロキシ）フェニル］チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［（７−ヒドロキシへプチル）オキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．３ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従って反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１２ｍｇ、収率１３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．２９−１．３１（ｂｒｓ，６Ｈ），１．４９−１．５２（ｍ，４Ｈ），１．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３４（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．４０（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４０９，２９３０，１２２２，１０７０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_３５Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６０７．１８２４；ｆｏｕｎｄ：６０７．１８２４．
【０２３０】
【実施例３９】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチルトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３９ａ）メチルウンデク−１０−イノアート
１０−ウンデシン酸（０．１８ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をメタノール（１．５ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ）を加え、室温で１時間半攪拌した。反応溶液に飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルによる抽出操作を行い、有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。このものは精製することなく次の反応に用いた。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２７−１．３８（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３９−１．４２（ｍ，２Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．９４（ｓ，１Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．０Ｈｚ），
２．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．６７（ｓ，３Ｈ）．
【０２３１】
（３９ｂ）２−メチルドデク−１１−イン−２−オール
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例３９（３９ａ）で得られたメチルウンデク−１０−イノアートの粗製物をとり、ジエチルエーテル（２ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却した後、３．０Ｍメチルマグネシウムブロミド（１．０ｍＬ、３．００ｍｍｏｌ）を加え３０分間攪拌し、さらに室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え、反応を停止した後、反応溶液に水５ｍＬを加え酢酸エチルによる抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物（０．１７ｇ、２工程８６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２０（ｓ，６Ｈ），１．３１−１．３５（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３７−１．４１（ｍ，４Ｈ），１．４４−１．４９（ｍ，２Ｈ），１．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．３Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３８１，２９３３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１３Ｈ_２５Ｏ（Ｍ＋Ｈ）^＋１９７．１９０６；ｆｏｕｎｄ：１９７．１８９７．
【０２３２】
（３９ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチルトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例３９（３９ｂ）で得られた２−メチルドデク−１１−イン−２−オール（５０ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、ヘキサメチルホスホノトリアミド（０．１１ｍＬ、０．６５ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４１ｍＬ、０．６５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。この反応溶液に実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１ｍＬ）を加え、さらに３０分間攪拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（２１ｍｇ、収率１７％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２０（ｓ，６Ｈ），１．２４−１．４７（ｂｒｓ，８Ｈ），１．４９−１．５６（ｍ，６Ｈ），１．６６−１．６８（ｍ，２Ｈ），１．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．２０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，．７．３Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３８７，２９３１，１２４５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３７．２９４７；ｆｏｕｎｄ：７３７．２９４５．
【０２３３】
（３９ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチルトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３９（３９ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチルトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２１ｍｇ、０．０２９ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．２４ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８．０ｍｇ、収率４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１６（ｓ，６Ｈ），１．２２−１．２７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３１−１．３５（ｍ，４Ｈ），１．５３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．７５−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，．８．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９（ｓ，１Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝．８Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３２（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９８，２９３０，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_４５Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６３７．２６５７；ｆｏｕｎｄ：６３７．２６３９．
【０２３４】
【実施例４０】ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート
（４０ａ）１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ウンデク−１０−イン
１０−ウンデシン−１−オール（１．７ｇ、１０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）に溶解し、氷冷下、クロロ−ｔ−ブチルジメチルシラン（２．３ｇ、１５ｍｍｏｌ）、イミダゾール（１．０ｇ、１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（３０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３０）により精製を行い、標記目的化合物（２．８ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０８（ｓ，６Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．２９（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３４ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．４６ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．１８（ｔｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．６０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３１５，２９３１，２８５８ｃｍ^−１．
ＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｍ／ｚ，２８３（Ｍ＋Ｈ）^＋．
【０２３５】
（４０ｂ）フェニル２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホナート
２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩（１５．６ｇ、６０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（３０ｍＬ）、スルホラン（３０ｍＬ）に溶解し、ホスホリルクロリド（２２ｍＬ）を加え７０℃で８時間攪拌した。室温に冷やした後水（１５０ｍＬ）を加え、３０分放置した後、析出した結晶を濾別し、減圧下溶剤を除去してスルホニルクロライド（１１．０ｇ）を得た。得られた化合物をメチレンクロリド（４０ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後フェノール（４．０ｇ、４３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１２ｍＬ、８６ｍｍｏｌ）を加え、６時間攪拌した。水（２０ｍＬ）を加えた後、エーテルによる抽出操作を行い、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９〜１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１０．０ｇ、収率７４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２７ − ７．３７（ｍ，３Ｈ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），８．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５３２，１３４９，１２００ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１２Ｈ_８ＣｌＮＯ_５Ｓ（Ｍ）^＋３１２．９８１２；ｆｏｕｎｄ：３１２．９８０１．
【０２３６】
（４０ｃ）フェニル２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−５−ニトロベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｂ）で得られたフェニル２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホナート（３．３ｇ、１１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．４ｍＬ、２０ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシチオフェノール（１．３ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（３０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：５）により精製を行い、標記目的化合物（４．０ｇ、収率９９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ６．３２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．
０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．
８Ｈｚ），７．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），８．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０，１５９６，１５７９，１５１１，１４９３，１３７６，１３４１ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１８Ｈ_１３ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ）^＋４０３．０１８４；ｆｏｕｎｄ：４０３．０１９０．
【０２３７】
（４０ｄ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−ニトロベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｃ）で得られたフェニル２−［（４−ヒドロキシフェニル）チオ］−５−ニトロベンゼンスルホナート（４．０ｇ、９．９ｍｍｏｌ）、１−ブロモブタン（２．７ｍＬ、２５ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（３．０ｍＬ、２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（４．０ｇ、収率８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．４９ − １．５８（ｍ，２Ｈ），１．７９ − １．８６（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，９．８Ｈｚ），８．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）１５９２，１５７４，１５２０，１４８９，１３４２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_２１ＮＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋４８２．０６９０；ｆｏｕｎｄ：４８２．０６８８．
【０２３８】
（４０ｅ）フェニル５−アミノ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｄ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−ニトロベンゼンスルホナート（３．９ｇ、８．４ｍｍｏｌ）をエタノール（１２ｍＬ）、テトラヒドロフラン（１２ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、還元鉄（１．９ｇ、３３．５ｍｍｏｌ）、濃塩酸（０．５ｍＬ）を加え、６時間加熱環流した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに水（３０ｍＬ）、次いで、飽和重曹水（３０ｍＬ）で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３．３ｇ、収率９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４７ − １．５９（ｍ，２Ｈ），１．７５ − １．８３（ｍ，２Ｈ），３．７７（ｓ，２Ｈ），３．９７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，８．５Ｈｚ），６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１７７．２１（ｍ，３Ｈ），７．２３７．２７（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．４４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３４７９，３３８５，１６２５，１５９４，１４８９，１４６９，１３６６，１２４６ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_２３ＮＮａＯ_４Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋４５２．０９６６；ｆｏｕｎｄ：４５２．０９８２．
【０２３９】
（４０ｆ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（２−ホルミル−１Ｈ−ピロール−１−イル）ベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｅ）で得られたフェニル５−アミノ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．６９ｇ、１．６ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍＬ）に溶解し、２−フルアルデヒド（６６μＬ、０．８０ｍｍｏｌ）、２Ｎ塩酸（０．３８ｍＬ、０．４８ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で４時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．３７ｇ、収率９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．４７ − １．５８（ｍ，２Ｈ），１．７６ − １．８７（ｍ，２Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，４．０Ｈｚ），６．９０（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，４．０Ｈｚ），７．２１７．４０（ｍ，６Ｈ），７．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），９．４６（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）１６７２，１５９２，１４７８，１３７４，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２７Ｈ_２５ＮＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５３０．１０７２；ｆｏｕｎｄ：５３０．１０６５．
【０２４０】
（４０ｇ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｆ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（２−ホルミル−１Ｈ−ピロール−１−イル）ベンゼンスルホナート（７６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２６ｍＬ、０．４２ｍｍｏｌ）、実施例４０（４０ａ）で得られた１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ウンデク−１０−イン（０．１３ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（２２ｍｇ、収率１９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０４（ｓ，６Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２８（ｓ，１０Ｈ），１．３３ − １．３８（ｍ，２Ｈ），１．４５ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７８ − １．８５（ｍ，２Ｈ），１．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．１Ｈｚ），３．５９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），６．２０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．４９ − ６．５３（ｍ，１Ｈ），６．６５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５２３，１５９３，１４７９，１３７５，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５９ＮＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８１２．３４５１；ｆｏｕｎｄ：８１２．３４３４．
【０２４１】
（４０ｈ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｇ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート（２２ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．２８ｍＬ、０．２８ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後反応溶液に水（２ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８ｍｇ、収率４２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２２ − １．４２（ｍ，１２Ｈ），１．４７ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．７５ − １．８３（ｍ，２Ｈ），２．１１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．０５（ｓ，１Ｈ），６．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．３６ − ６．３９（ｍ，１Ｈ），６．６５ − ６．６８（ｍ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．３１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４７ − ７．５５（ｍ，３Ｈ），７．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３４７，１５９３，１４７９，１３７４，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３８Ｈ４５ＮＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６９８．２５８６；ｆｏｕｎｄ：６９８．２５９２．
【０２４２】
（４０ｉ）ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４０（４０ｈ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−１Ｈ−ピロール−１−イル］ベンゼンスルホナート（８ｍｇ、０．０１２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層カラムクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６ｍｇ、収率８０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３２（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３６ − １．４３（ｍ，２Ｈ），１．４３ − １．５７（ｍ，６Ｈ），１．７５ − １．８２（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，６．７Ｈｚ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），５．２４（ｓ，１Ｈ），６．１５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．４２ − ６．４４（ｍ，１Ｈ），６．７７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．５Ｈｚ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９８，１５９３，１４７８，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３２Ｈ_４０ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）^−？５９８．２２９７；ｆｏｕｎｄ：５９８．２３２８．
【０２４３】
【実施例４１】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４１ａ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
窒素置換された反応容器に実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．２０ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、４−メトキシ−２−ホルミルフェニルほう酸（０．２２ｇ、１．２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（０．２８ｇ、２．０ｍｍｏｌ）をとり、エチレングリコールジメチルエーテル（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（４７ｍｇ、０．０４１ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間攪拌した。水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率８８％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４９−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．７８−１．８４（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１５−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．２８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），９．５９（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９５９，１４５６，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３０Ｈ_２８ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５７１．１２２５；ｆｏｕｎｄ：５７１．１２３４．
【０２４４】
（４１ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４１（４１ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、１−ドデシン（０．１５ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４０ｍＬ、０．６４ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１９ｇ、収率７５％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．２９（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３１−１．３６（ｂｒｓ，２Ｈ），１．４５−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．７７−１．８８（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，．８．８Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．９８−５．００（ｍ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．１Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄｄ，３Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３３−７．３７（ｍ，４Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３５３１，２９５７，１５９３，１４９０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３７．２９４６；ｆｏｕｎｄ：７３７．２９５０．
【０２４５】
（４１ｃ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４１（４１ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）−４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．２７ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４８ｍｇ、収率４８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１６−１．２２（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２４−１．２６（ｂｒｓ，２Ｈ），１．３３−１．３９（ｍ，２Ｈ），１．４１−１．４９（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．７３（ｍ，２Ｈ），２．１１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．１８（ｓ，１Ｈ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．４６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３７５，２９２６，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６３７．２６５７；ｆｏｕｎｄ：６３７．２６３９．
【０２４６】
【実施例４２】ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
（４２ａ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（トリブチルスタニル）ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコにテトラヒドロフラン（３ｍＬ）をとり、−７８℃に冷却した後１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（３．３ｍＬ，５．２ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に対し実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（２．０ｇ，４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４ｍＬ）をゆっくりと滴下し、５分間撹拌した。塩化トリブチルスズ（１．４ｍＬ，５．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、さらに１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液を２０ｍＬの水に注ぎ、ヘキサンを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９）により精製を行い、標記目的化合物（２．５ｇ，８８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８４（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），０．９４−１．０４（ｍ，９Ｈ），１．２２−１．３０（ｍ，８Ｈ），１．３４−１．４５（ｍ，６Ｈ），１．５２（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１−７．３１（ｍ，４Ｈ），７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８３（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１５９３，１４９０，１３８０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４８Ｏ_４Ｓ_２Ｓｎ（Ｍ）^＋７００．２０１２；ｆｏｕｎｄ：７００．２００１．
【０２４７】
（４２ｂ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（３−ホルミルピリジン−２−イル）ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例４２（４２ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（トリブチルスタニル）ベンゼンスルホナート（０．２０ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−３−ホルミルピリジン（６７ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（３０ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）をとり、ジオキサン（０．５ｍＬ）で溶解する。オイルバスで８０℃に加熱し、３日間撹拌した。フッ化カリウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液を１０ｍＬの水に注ぎ、ヘキサンを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（７７ｍｇ，４０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５３（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．８２（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２３−７．３０（ｍ，３Ｈ），７．３２−７．３８（ｍ，２Ｈ），７．４３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．５３−７．５８（ｍ，３Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．２５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），８．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，４．９Ｈｚ），９．７０（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）１６９３，１５９４，１５７９，１４８０，１４６９，１４３０，１３８６ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２８Ｈ_２６ＮＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋５２０．１２５３；ｆｏｕｎｄ：５２０．１２４０．
【０２４８】
（４２ｃ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４２（４２ｂ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（３−ホルミルピリジン−２−イル）ベンゼンスルホナート（２８ｍｇ，０．０５３ｍｍｏｌ）、１−ドデシン（３４ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１０ｍＬ，０．１６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（２９ｍｇ，８０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２２−１．３７（ｍ，１４Ｈ），１．４６−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．８２（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），２．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２ − ７．２９（ｍ，３Ｈ），７．３０−７．３６（ｍ，３Ｈ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），８．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３２２３，１５９４，１４９１，１４６９，１４３４，１３６４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４８ＮＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋６８６．２９７４；ｆｏｕｎｄ：６８６．２９４８．
【０２４９】
（４２ｄ）ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４２（４２ｃ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート（４１ｍｇ，０．０５９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌを用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。
薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１７ｍｇ，４３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２２−１．３７（ｍ，１４Ｈ），１．４５（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２２−１．３７（ｍ，１４Ｈ），１．４５（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．５３（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．７９（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．３５（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．４５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．４９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３２００，１５９２，１４８９，１４７０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４２ＮＮａ_２Ｏ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６５４．２３００；ｆｏｕｎｄ：６５４．２３１５．
【０２５０】
【実施例４３】ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１，１２−ジヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
（４３ａ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４２（４２ｂ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（３−ホルミルピリジン−２−イル）ベンゼンスルホナート（４９ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）、実施例４０（４０ａ）で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシウンデカ−１−イン（７９ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１７ｍｌ，０．２６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１９（１９ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（５５ｍｇ，７４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０４（ｓ，６Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２２−１．３６（ｍ，１２Ｈ），１．４２−１．５８（ｍ，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），３．５９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｓ，１Ｈ），６．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１９−７．３８（ｍ，５Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．２７（ｓ，１Ｈ），８．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３１８４，１５９３，１４９１，１４７０，１４３４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４５Ｈ_６０ＮＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｈ）^＋８０２．３６３１；ｆｏｕｎｄ：８０２．３６２０．
【０２５１】
（４３ｂ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１，１２−ジヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
反応容器に実施例４３（４３ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート（４９ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．１ｍｌ）で溶解した。１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（０．１４ｍｌ，０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間撹拌した。水０．２ｍｌを加え反応を停止した後、反応溶液を１０ｍｌの水に注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（３３ｍｇ，６４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２４−１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．４４−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），３．６１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．０８（ｓ，１Ｈ），６．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１−７．２８（ｍ，３Ｈ），７．３０−７．３６（ｍ，３Ｈ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２３（ｓ，１Ｈ），８．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３２０５，１５９４，１４９１，１４６８，１４３４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３９Ｈ_４６ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋６８８．２７６６；ｆｏｕｎｄ：６８８．２７９８．
【０２５２】
（４３ｃ）ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１，１２−ジヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４３（４３ｂ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［３−（１，１２−ジヒドロキシトリデク−２−イニル）ピリジン−２−イル］ベンゼンスルホナート（２８ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（７．８ｍｇ，３０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．０１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２４−１．３８（ｍ，１２Ｈ），１．４３−１．５８（ｍ，４Ｈ），１．８０（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，５．９Ｈｚ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．４６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．５６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），８．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，４．９Ｈｚ）．ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６９１，３６０７，３４４２，１５９５，１４９４，１４６８，１４３４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_４０ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６１０．２２９７；ｆｏｕｎｄ：６１０．２２９４．
【０２５３】
【実施例４４】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４４ａ）１−（４−ブロモブチル）−４−メトキシベンゼン
４−（４−メトキシフェニル）−１−ブタノール（１．０ｇ、５．６ｍｍｏｌ）を四塩化炭素（１０ｍＬ）に溶解し、０℃で三臭化リン（１．０ｍＬ、１１ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４０ｇ、収率３０％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．６８−１．７５（ｍ，２Ｈ），１．８３−１．８９（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．７６（ｓ，３Ｈ），６．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９３５，１５１２，１２４７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１１Ｈ_１５ＢｒＯ（Ｍ）^＋２４２．０３０６；ｆｏｕｎｄ：２４２．０３１０．
【０２５４】
（４４ｂ）４−（４−ブロモブチル）フェノール
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例４４（４４ａ）で得られた１−（４−ブロモブチル）−４−メトキシベンゼン（０．４０ｇ、１．６ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却した後、１．０Ｍ三臭化ほう素−ヘキサン溶液（１．０ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加えて反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．３３ｍｇ、収率８９％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．６７−１．７４（ｍ，２Ｈ），１．８０−１．８８（ｍ，２Ｈ），２．５５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３５２，１５１４，１２３５ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１０Ｈ_１３ＢｒＯ（Ｍ）^＋２２８．０１５０；ｆｏｕｎｄ：２２８．０１５７．
【０２５５】
（４４ｃ）２−［４−（４−ブロモブチル）フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例４４（４４ｂ）で得られた４−（４−ブロモブチル）フェノール（０．３３ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、３，４−ジヒドロピラン（０．２０ｍＬ、２．１８ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（３ｍＬ）に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ）を加えて３０分間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．３１ｇ、収率６９％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．５８−１．７０（ｂｒｓ，３Ｈ），１．７１−１．７７（ｍ，２Ｈ），１．８２−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．９５−２．０３（ｍ，１Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５６−３．６１（ｍ，１Ｈ），３．８９−３．９５（ｍ，１Ｈ），５．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．９６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９４２，１５１０，１２３６ｃｍ^−１．
【０２５６】
（４４ｄ）２−［４−［４−（プロプ−２−イニロキシ）ブチル］フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例４４（４４ｃ）で得られた２−［４−（４−ブロモブチル）フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．３１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、プロパルギルアルコール（７３ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）をとり、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解した。０℃に冷却した後、水素化ナトリウム（５０ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率７４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．５９−１．６８（ｂｒｓ，７Ｈ），１．８３−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．９６−２．０４（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），２．５７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５７−３．６２（ｍ，１Ｈ），３．８９−３．９５（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），５．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．９６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．０８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９４２，１５１０，１２３４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１８Ｈ_２４ＮａＯ_３（Ｍ＋Ｎａ）^＋３１１．１６２３；ｆｏｕｎｄ：３１１．１６３０．
【０２５７】
（４４ｅ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）フェニル］ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、実施例４４（４４ｄ）で得られた２−［４−［４−（プロプ−２−イニロキシ）ブチル］フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１６ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４４ｍＬ、０．７０ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率７４％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４９−１．５５（ｂｒｓ，２Ｈ），１．５８−１．６９（ｂｒｓ，８Ｈ），１．７８−１．８６（ｍ，３Ｈ），１．９７−２．０１（ｍ，１Ｈ），２．５４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．５６−３．６０（ｍ，１Ｈ），３．８８−３．９４（ｍ，１Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．０５（ｓ，１Ｈ），５．３６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．０２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．２６−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９４１，１２４８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４７Ｈ_５０ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８２９．２８４５；ｆｏｕｎｄ：８２９．２８１９．
【０２５８】
（４４ｆ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｅ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イロキシ）フェニル］ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１８ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（１０ｍｇ）を用いて実施例２５（２５ｃ）と同様の実験操作を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率８８％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４９−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．５８−１．６３（ｂｒｓ，４Ｈ），１．７７−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），４．９９（ｓ，１Ｈ），６．７１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２５−７．２９（ｍ，１Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３７０，２９３６，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_４２ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７４５．２２７０；ｆｏｕｎｄ：７４５．２２６４．
【０２５９】
（４４ｇ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｆ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−４−［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］ブト−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．４２ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ、収率３０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４６−１．５９（ｂｒｓ，６Ｈ），１．７３−１．７９（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．００（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），５．３６（ｓ，１Ｈ），６．６７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．１Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８−７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．５１（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３５５，２９３３，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_３７Ｏ_７Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６４５．１９８１；ｆｏｕｎｄ：６４５．１９８６．
【０２６０】
【実施例４５】ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
（４５ａ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−ヒドロキシシクロヘキス−２−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍｌ二口フラスコにテトラヒドロフラン（２ｍｌ）をとり、−７８℃に冷却した後１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（２．０ｍｌ，３．２ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に対し実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１．２ｇ，２．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３ｍｌ）をゆっくりと滴下し、５分間撹拌した。２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル−２−シクロヘキセン−１−オン（０．８０ｍｌ，３．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、さらに１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍｌ）を加え反応を停止した後、反応溶液を１０ｍｌの水に注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝７：９３）により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｇ，９３％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ −０．１０（ｓ，６Ｈ），０．７８（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．４２−１．５６（ｍ，４Ｈ），１．７２−１．８５（ｍ，４Ｈ），１．９９−２．０８（ｍ，１Ｈ），３．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．２９（ｓ，１Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），６．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．１９ − ７．２６（ｍ，３Ｈ），７．２８ − ７．３４（ｍ，２Ｈ），７．４８ − ７．５５（ｍ，３Ｈ），７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４７３，１５９３，１４９０，１４５８ｃｍ^−１．ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４６ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋６７７．２４０３；ｆｏｕｎｄ：６７７．２４０９．
【０２６１】
（４５ｂ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ヒドロキシメチル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例４５（４５ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−ヒドロキシシクロヘキス−２−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（０．１６ｇ，０．２５ｍｍｏｌ）をとり、メタノール（１ｍＬ）で溶解した。ｐ−トルエンスルホン酸（２０ｍｇ）を加え、室温で１７時間撹拌した。トリエチルアミン（０．２ｍＬ）を加え反応を停止した後、減圧下メタノールを留去し、得られた粗生成物をエーテル１０ｍＬに溶かし、水１０ｍＬを加えて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ，９４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５２（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．５７−１．６４（ｍ，１Ｈ），１．７２−１．８８（ｍ，５Ｈ），２．１４（ｂｒｓ，２Ｈ），２．４８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），３．４１（ｓ，３Ｈ），３．７２？３．７９（ｍ，２Ｈ），３．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８ＨＺ），７．２３ − ７．２９（ｍ，３Ｈ），７．２９−７．３４（ｍ，２Ｈ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５４３，３４４３，１５９３，１４９０，１４５９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３０Ｈ_３４ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５７７．１６９５；ｆｏｕｎｄ：５７７．１７１０．
【０２６２】
（４５ｃ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例４５（４５ｂ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ヒドロキシメチル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（０．１３ｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（１ｍＬ）で溶解した。０℃に冷却した後、デス−マーチン試薬（０．２０ｇ，０．４６ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）、チオ硫酸ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物（０．１３ｇ）を得た。本粗生成物は精製することなく、次の反応に用いた。
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに１１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシウンデカ−１−イン（０．１２ｇ，０．４２ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）で溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２７ｍＬ，０．４２ｍｍｏｌ）を加え、０℃において１０分間撹拌した。再び−７８℃に冷却した後、先の反応で得られた粗生成物（０．１３ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（０．５ｍＬ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（６４ｍｇ，３３％）を得た。
Ｍａｊｏｒｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒのみ記載
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０５（ｓ，６Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２５−１．４０（ｍ，１６Ｈ），１．４６ − １．５５（ｍ，４Ｈ），１．７２ − １．９０（ｍ，４Ｈ），２．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．２１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４４（ｓ，３Ｈ），３．５９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．３９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），４．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２３ − ７．２７（ｍ，２Ｈ），７．３０ − ７．３５（ｍ，２Ｈ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４９９，１５９３，１４９０，１４６０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４７Ｈ_６６ＮａＯ_７Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８５７．３９１７；ｆｏｕｎｄ：８５７．３９１８．
【０２６３】
（４５ｄ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４５（４５ｃ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（３７ｍｇ，０．０４４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（０．１０ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例４０（４０ｈ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝４：６）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ，９５％）を得た。
Ｍａｊｏｒｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒのみ記載
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２６−１．４０（ｍ，１６Ｈ），１．４７ − １．６５（ｍ，８Ｈ），１．７２ − １．９０（ｍ，４Ｈ），２．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．２１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４４（ｓ，３Ｈ），３．６３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．３８（ｂｒｓ，１Ｈ），４．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２３ − ７．２８（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６５（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４６２，１５９３，１４９０，１４５９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４１Ｈ_５２ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７４３．３０５３；ｆｏｕｎｄ：７４３．３０４０．
【０２６４】
（４５ｅ）ナトリウム２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例４５（４５ｄ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３−メトキシシクロヘキス−１−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（２８ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１５ｍｇ，５４％）を得た。
Ｍａｊｏｒｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒのみ記載
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２７−１．４４（ｍ，１６Ｈ），１．４５ − １．５７（ｍ，４Ｈ），１．６１ − １．８８（ｍ，５Ｈ），１．９４ − ２．０１（ｍ，１Ｈ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），２．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），３．４４（ｓ，３Ｈ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．３９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３６９０，３６０６，３４６６，１５９５，１４９４，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４８ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋６６７．２７３９；ｆｏｕｎｄ：６６７．２７４１．
【０２６５】
【実施例４６】ナトリウム５−［３−アミノ−２−［１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
（４６ａ）フェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−ヒドロキシシクロペント−２−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート
実施例１（１ｃ）で得られたフェニル５−ブロモ−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．２４ｇ，０．４８ｍｍｏｌ）、２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル−２−シクロペンテン−１−オン（０．１４ｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４０ｍＬ，０．６２ｍｍｏｌ）を用い、実施例４５（４５ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ，６６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０９（ｓ，３Ｈ），０．１６（ｓ，３Ｈ），０．９６（ｓ，９Ｈ），１．１６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．６４ − １．７３（ｍ，４Ｈ），１．９７（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．１４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ，１３．７Ｈｚ），２．４０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１３．７Ｈｚ），２．４３ − ２．５１（ｍ，１Ｈ），２．６９ − ２．７７（ｍ，１Ｈ），３．９３（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），６．０４（ｓ，１Ｈ），７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３６ − ７．４３（ｍ，３Ｈ），７．４８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６４ − ７．６８（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３４８０，１５９３，１４９０，１４６２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４４ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋６６３．２２４６；ｆｏｕｎｄ：６６３．２２３１．
【０２６６】
（４６ｂ）フェニル５−［アジド−２−（ヒドロキシメチル）シクロペント−１−エン−１−イル−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例４６（４６ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−ヒドロキシシクロペント−２−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（０．１９ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．７ｍＬ）で溶解した。−７８℃に冷却した後、トリメチルシリルアジド（７９μＬ，０．６０ｍｍｏｌ）、３フッ化ホウ素エーテル錯体（３９μＬ，０．３０ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物（０．２０ｇ）を得た。本粗生成物は精製することなく、次の反応に用いた。
反応容器に先の反応で得られた粗製物（０．２０ｇ）をとり、テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）で溶解した。１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（０．４０ｍＬ，０．４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応溶液を１０ｍＬの水に注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（４６ｍｇ，２８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．５２（ｓｅｘｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．９７ − ２．０２（ｍ，１Ｈ），２．３６ − ２．４２（ｍ，１Ｈ），２．６３ − ２．７３（ｍ，２Ｈ），２．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），４．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），４．６７（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２４ − ７．３５（ｍ，５Ｈ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５５７，３４０６，２０９７，１５９３，１４８９，１４６３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２８Ｈ_２９Ｎ_３ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５７４．１４４６；ｆｏｕｎｄ：５７４．１４５５．
【０２６７】
（４６ｃ）フェニル５−［３−アジド−２−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例４６（４６ｂ）で得られたフェニル５−［アジド−２−（ヒドロキシメチル）シクロペント−１−エン−１−イル−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（５７ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．５ｍＬ）で溶解した。０℃に冷却した後、デス−マーチン試薬（８４ｍｇ，０．２０ｍｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。飽和重曹水（０．２ｍＬ）、チオ硫酸ナトリウム水溶液（０．２ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物（６１ｍｇ）を得た。本粗生成物は精製することなく、次の反応に用いた。
乾燥、窒素置換された２５ｍｌ二口フラスコに１１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシウンデカ−１−イン（８５ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）で溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１９ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ）を加え、０℃において１０分間撹拌した。再び−７８℃に冷却した後、先の反応で得られた粗生成物（６１ｍｇ）のテトラヒドロフラン溶液（０．５ｍＬ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ，３４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０４（ｓ，６Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２ − １．４０（ｍ，１４Ｈ），１．４５ − １．５８（ｍ，６Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．９４ − ２．０２（ｍ，１Ｈ），２．２２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．４０ − ２．４８（ｍ，１Ｈ），２．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．６０ − ２．７６（ｍ，２Ｈ），３．５９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．８９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２４ − ７．２９（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．４９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ）３５３９，２１００，１５９３，１４９０，１４６３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４５Ｈ_６１Ｎ_３ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８５４．３６６９；ｆｏｕｎｄ：８５４．３６５１．
【０２６８】
（４６ｄ）フェニル５−［３−アミノ−２−［１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
反応容器に実施例４６（４６ｃ）で得られたフェニル５−［３−アジド−２−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（３０ｍｇ，０．０３６ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．２ｍＬ）で溶解した。１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（５０μＬ，０．０５０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物（３５ｍｇ）を得た。本粗生成物は精製することなく、次の反応に用いた。
反応容器に先の反応で得られた粗生成物（３５ｍｇ）をとり、テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）で溶解した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．２ｍＬ）、金属亜鉛粉末（２４ｍｇ，０．３６ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（１５ｍｇ，５９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２ − １．４０（ｍ，１２Ｈ），１．４５ − １．６３（ｍ，６Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，６．８Ｈｚ），２．３６ − ２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４７ − ２．５７（ｍ，１Ｈ），２．６７ − ２．８６（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．４６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．９０（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２４ − ７．３０（ｍ，３Ｈ），７．３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３５５，３２９２，１５９２，１４９０，１４６２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３９Ｈ_５０ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋６９２．３０８０；ｆｏｕｎｄ：６９２．３０８６．
【０２６９】
（４６ｅ）ナトリウム５−［３−アミノ−２−［１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４６（４６ｄ）で得られたフェニル５−［３−アミノ−２−［１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル］シクロペント−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（１２ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５．０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｇ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｍｇ，２０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．２４ − １．４０（ｍ，１４Ｈ），１．４５ − １．５６（ｍ，４Ｈ），１．７７（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１．９４ − ２．０１（ｍ，１Ｈ），２．２３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，５．９Ｈｚ），２．４０ − ２．４８（ｍ，１Ｈ），２．６８ − ２．７６（ｍ，１Ｈ），３．０３ − ３．１１（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），５．２９（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）．
ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６９１，３６０７，１６０２，１４９４，１４５８ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_４４ＮＯ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６１４．２６１０；ｆｏｕｎｄ：６１４．２６１１．
【０２７０】
【実施例４７】ナトリウム５−［３−アミノ−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
（４７ａ）フェニル５−［３−アジド−２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例４５（４５ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−［２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−１−ヒドロキシシクロヘキス−２−エン−１−イル］ベンゼンスルホナート（０．１０ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルアジド（４０μＬ、０．３１ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロリド（２ｍＬ）に溶解した。
−７８℃に冷却した後、三フッ化ほう素ジエチルエーテル錯体（０．０２ｍＬ、０．１５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し２０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水５ｍＬを加え、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７８ｍｇ、収率７６％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，３Ｈ），０．０２（ｓ，３Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．０７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５７−１．６１（ｍ，２Ｈ），１．８５−１．８７（ｍ，３Ｈ），１．８８−１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０６−２．０７（ｍ，１Ｈ），２．１９−２．２０（ｍ，２Ｈ），３．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ），４．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ），４．０９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．３０（ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．２８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）２９５５，２０９９，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３５Ｈ_４５Ｎ_３ＮａＯ_５Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋７０２．２４６７；ｆｏｕｎｄ：７０２．２４６６．
【０２７１】
（４７ｂ）フェニル５−［３−アジド−２−（ヒドロキシメチル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ａ）で得られたフェニル５−［３−アジド−２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（７８ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（６７μＬ、０．０６７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６１ｍｇ、収率９４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５０−１．７４（ｍ，３Ｈ），１．７７−１．８５（ｍ，３Ｈ），１．８９−１．９３（ｍ，１Ｈ），１．９６−１．９９（ｍ，１Ｈ），２．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），３．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ），３．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０２−７．２４（ｍ，３Ｈ），７．２７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９５７，２０９９，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２９Ｈ_３１Ｎ_３ＮａＯ_５Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋５８８．１６０２；ｆｏｕｎｄ：５８８．１５９５．
【０２７２】
（４７ｃ）フェニル５−（３−アジド−２−ホルミルシクロへキサ−１−エン−１−イル）−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ｂ）で得られたフェニル５−［３−アジド−２−（ヒドロキシメチル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（０．１３ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１ｍＬ）に溶解し、０℃でデス−マーチン試薬（０．１３ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（９０ｍｇ、収率７０％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．５０−１．６４（ｍ，３Ｈ），１．７８−１．８６（ｍ，４Ｈ），２．００−２．０３（ｍ，１Ｈ），２．３３−２．４８（ｍ，２Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．６１（ｓ，１Ｈ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．０４−７．１７（ｍ，２Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２０−７．３１（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），９．１４（ｓ，１Ｈ）．
【０２７３】
（４７ｄ）フェニル５−［３−アジド−２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（ヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ｃ）で得られたフェニル５−（３−アジド−２−ホルミルシクロへキサ−１−エン−１−イル）−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（４０ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）、実施例４０（４０ａ）で得られた１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ウンデク−１０−イン（５０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１０ｍＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（４７ｍｇ、収率７９％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０４（ｓ，６Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２９−１．３３（ｂｒｓ，８Ｈ），１．３４−１．３７（ｂｒｓ，２Ｈ），１．４８−１．５５（ｍ，６Ｈ），１．７０−１．７３（ｍ，１Ｈ），１．７８−１．８４（ｍ，３Ｈ），１．９５−１．９７（ｍ，２Ｈ），２．１７−２．２３（ｍ，４Ｈ），３．５９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），４．５８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．２３−７．２５（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４６Ｈ_６３Ｎ_３ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８６８．３８２５；ｆｏｕｎｄ：８６８．３８４０．
【０２７４】
（４７ｅ）フェニル５−［３−アジド−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ｄ）で得られたフェニル５−［３−アジド−２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（ヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキサ−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（４７ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（８３μＬ、０．０８３ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（２７ｍｇ、収率６８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３０−１．３６（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４７−１．５７（ｍ，６Ｈ），１．６８−１．７４（ｍ，１Ｈ），１．７８−１．８５（ｍ，３Ｈ），１．９４−１．９７（ｍ，２Ｈ），２．１６−２．２４（ｍ，４Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），４．５８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），６．９９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．１７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２３−７．２７（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４０４，２１０４，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_４９Ｎ_３ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７５４．２９６０；ｆｏｕｎｄ：７５４．２９７６．
【０２７５】
（４７ｆ）フェニル５−［３−アミノ−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］
ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ｅ）で得られたフェニル５−［３−アジド−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（２７ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１ｍＬ）に溶解し、飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）及び金属亜鉛粉末（０．１３ｇ、０．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液をセライトを用いて濾過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（エタノール：メチレンクロリド＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ、収率９６％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３１−１．３８（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４５−１．５８（ｍ，６Ｈ），１．７２−１．８９（ｍ，６Ｈ），２．０７−２．１３（ｍ，１Ｈ），２．１８−２．２２（ｍ，３Ｈ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．５８−４．５９（ｍ，１Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３２８９，２９２９，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_５０Ｎ_３Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｈ）^＋７０６．３２３７；ｆｏｕｎｄ：７０６．３２５３．
【０２７６】
（４７ｇ）ナトリウム５−［３−アミノ−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキサ−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート
実施例４７（４７ｆ）で得られたフェニル５−［３−アミノ−２−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）シクロへキス−１−エン−１−イル］−２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］ベンゼンスルホナート（３３ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１１ｍｇ、収率３６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２９−１．３５（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４６−１．５５（ｍ，６Ｈ），１．７５−１．８３（ｍ，３Ｈ），１．８６−１．９０（ｍ，２Ｈ），１．９１−２．０３（ｍ，１Ｈ），２．２１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），２．２７−２．４２（ｍ，２Ｈ），３．５３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．２９（ｓ，１Ｈ），４．９５−４．９６（ｍ，１Ｈ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．９９−７．０２（ｍ，３Ｈ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３７７，２９２９，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３４Ｈ_４５ＮＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｈ）⁻ ６２８．２７６７；ｆｏｕｎｄ：６２８．２７６９．
【０２７７】
【実施例４８】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４８ａ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−３’，４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例４２（４２ａ）で得られたフェニル２−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−５−（トリブチルスタニル）ベンゼンスルホナート（０．５２ｇ、０．７４ｍｍｏｌ）及び６−ブロモ−２，３−ジメトキシベンズアルデヒド（０．１５ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）をとり、キシレン（２ｍＬ）で溶解した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．１１ｇ、０．１０ｍｍｏｌ）を加え９０℃で３時間攪拌した。フッ化カリウム水溶液（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後、生じた沈殿物をセライトを用いて濾過し、得られたろ液を減圧下溶媒留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率３７％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４７−１．５８（ｍ，２Ｈ），１．７８−１．８３（ｍ，２Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．８５（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．２６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），１０．１５（ｓ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）２９５５，１４５８，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３１Ｈ_３０ＮａＯ_７Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋６０１．１３３１；ｆｏｕｎｄ：６０１．１３３３．
【０２７８】
（４８ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］シクロへキス−１−エン−１−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−３’，４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、実施例４０（４０ａ）で得られた１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ウンデク−１０−イン（８５ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２０ｍＬ、０．３２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｇ、収率７７％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，３Ｈ），０．８５（ｓ，９Ｈ），０．９６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１９−１．２７（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４０−１．５３（ｂｒｓ，６Ｈ），１．７３−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．１４（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．５４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０１（ｓ，３Ｈ），４．８５−４．８８（ｍ，１Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．１８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１９−７．３２（ｍ，４Ｈ），７．４９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５２８，２９３３，１４６０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_６４ＮａＯ_８Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８８３．３７０９；ｆｏｕｎｄ：８８３．３７２６．
【０２７９】
（４８ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ｂ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−ヒドロキシドデク−２−イニル］シクロへキス−１−エン−１−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１８ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率５６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２６−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．４６−１．５６（ｂｒｓ，６Ｈ），１．７９−１．８３（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０５（ｓ，３Ｈ），５．５２−５．５４（ｍ，１Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２１−７．２４（ｍ，４Ｈ），７．２９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．３Ｈｚ），７．３５（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５１２，２９３４，１４６０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５０ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６９．２８４５；ｆｏｕｎｄ：７６９．２８４６．
【０２８０】
（４８ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシドデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４９ｍｇ、０．０６６ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１５ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２６ｍｇ、収率５８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２１−１．２８（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．３６−１．５０（ｂｒｓ，６Ｈ），１．７０−１．７７（ｍ，２Ｈ），２．１３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．９５−６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４１９，２９３１，１４５９，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３６Ｈ_４５Ｏ_８Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６６９．２５５６；ｆｏｕｎｄ：６６９．２５４２．
【０２８１】
【実施例４９】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−
ジヒドロキシ−１２−メチル−トリデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４９ａ）２−メチル−２−トリメチルシリルオキシドデク−１１−イン
実施例３９（３９ｂ）で得られた２−メチルドデク−１１−イン−２−オール（２．５ｇ、１３ｍｍｏｌ）及び２，６−ルチジン（４．４ｍＬ、３８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ）に溶解し、０℃でトリメチルシリルトリフラート（４．６ｍＬ、２５．０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（３０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝０：１０）により精製を行い、標記目的化合物（３．２ｇ、収率９４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０９（ｓ，９Ｈ），１．１９（ｓ，６Ｈ），１．２２ − １．４４（ｍ，１２Ｈ），１．５２（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．９２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，７．３Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３３１４，１４６６，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１５Ｈ_２９ＯＳｉ（Ｍ−ＣＨ_３）^＋２５３．１９８８；ｆｏｕｎｄ：２５３．１９８０．
【０２８２】
（４９ｂ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−メチル−１２−トリメチルシリルオキシトリデク−２−イニル］−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−３’，４’−メトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、実施例４９（４９ａ）で得られた２−メチル−２−トリメチルシリルオキシドデク−１１−イン（９６ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２ｍＬ、０．３２ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６４ｍｇ、収率４８％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０９（ｓ，９Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．２４−１．３４（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．３８−１．４１（ｍ，２Ｈ），１．４６−１．５５（ｍ，４Ｈ），１．７８−１．８１（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．３Ｈｚ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０５（ｓ，３Ｈ），４．９０−４．９２（ｍ，１Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．００（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，６．６Ｈｚ），７．２１−７．２３（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．２７（ｍ，１Ｈ），７．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．３３−７．３６（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３５２８，２９３３，１４６０，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_６４ＮａＯ_８Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８８３．３７０９；ｆｏｕｎｄ：８８３．３７２６．
【０２８３】
（４９ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチル−トリデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４９（４９ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−メチル−１２−トリメチルシリルオキシトリデク−２−イニル］−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６３ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン（０．１１ｍＬ、０．１１ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５５ｍｇ、収率９６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１９（ｓ，６Ｈ），１．２４−１．３２（ｂｒｓ，１０Ｈ），１．３９−１．５７（ｍ，６Ｈ），１．７８−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．８９（ｓ，３Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．０５（ｓ，３Ｈ），４．９０−４．９２（ｍ，１Ｈ），６．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２９−７．３７（ｍ，４Ｈ），７．５３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３５１３，２９３３，１４５９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５４ＮａＯ_８Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９７．３１５７；ｆｏｕｎｄ：７９７．３１９３．
【０２８４】
（４９ｄ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−
ジヒドロキシ−１２−メチル−トリデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４９（４９ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシ−１２−メチル−トリデク−２−イニル）−３’，４’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５５ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１８ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ、収率６９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１０（ｓ，６Ｈ），１．１５−１．２７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．２８−１．３６（ｂｒｓ，４Ｈ），１．３８−１．４３（ｍ，４Ｈ），１．４５−１．５０（ｍ，２Ｈ），１．７０−１．７７（ｍ，２Ｈ），２．１３（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．８４（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３４３４，２９３３，１４５９，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３８Ｈ_４９Ｏ_８Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６９７．２８６９；ｆｏｕｎｄ：６９７．２８６０．
【０２８５】
【実施例５０】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシイコス−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５０ａ）ウンデク−１０−イナ−ル
１０−ウンデシン−１−オール（１．６ｇ、９．９ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（２０ｍＬ）に溶解した後、０℃においてデス−マーチン試薬（５．６ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液を水２０ｍＬに注ぎ、エーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（１．２ｇ、収率７５％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ １．２９−１．３２（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３５−１．４１（ｂｒｓ，２Ｈ），１．４９−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．５８−１．６７（ｍ，２Ｈ），１．９４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），２．４２（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），９．７６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）２９３５，１５１２，１２４７ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１１Ｈ_１５ ^７９ＢｒＯ（Ｍ）^＋２４２．０３０６；ｆｏｕｎｄ：２４２．０３１０．
【０２８６】
（５０ｂ）ノナデク−１８−イン−９−オール
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例５０（５０ａ）で得られたウンデク−１０−イナ−ル（０．３０ｇ、１．８ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却した後、２．０Ｍオクチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（１．８ｍＬ、３．６ｍｍｏｌ）を加え１５分間攪拌した後、さらに０℃で１５分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．３０ｇ、収率５９％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２５−１．３０（ｂｒｓ，１６Ｈ），１．３９−１．４３（ｂｒｓ，８Ｈ），１．４９−１．５２（ｍ，４Ｈ），１．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），３．４９−３．５９（ｍ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８７，２９２０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１９Ｈ_３５Ｏ（Ｍ−Ｈ）^＋２７９．２６８８；ｆｏｕｎｄ：２７９．２６８５．
【０２８７】
（５０ｃ）１１−トリメチルシリルオキシノナデク−１−イン
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例５０（５０ｂ）で得られたノナデク−１８−イン−９−オール（０．１０ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．１０ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解した後、クロロトリメチルシラン（０．１０ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率８４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０５（ｓ，９Ｈ），０．７８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１６−１．１９（ｂｒｓ，２０Ｈ），１．２９−１．３０（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３８−１．４６（ｍ，２Ｈ），１．８２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．０７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．４６−３．５２（ｍ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１６，２９２９，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２２Ｈ_４３ＯＳｉ（Ｍ−Ｈ）^＋３５１．３０８３；ｆｏｕｎｄ：３５１．３０８３．
【０２８８】
（５０ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−［（トリメチルシリル）オキシ］イコス−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−
スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、実施例５０（５０ｃ）で得られた１１−トリメチルシリルオキシノナデク−１−イン（０．１１ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３４ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ、収率６１％）を黄色油状物質として得た。^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．１０（ｓ，９Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．３１（ｂｒｓ，２２Ｈ），１．３３−１．４１（ｂｒｓ，４Ｈ），１．４６−１．５３（ｍ，４Ｈ），１．６７−１．８４（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，９．０Ｈｚ），３．５８−３．６０（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２８−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３８−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３８６，２９２９，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_５１Ｈ_７０Ｏ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ）^＋８７０．４３８３；ｆｏｕｎｄ：８７０．４３７４．
【０２８９】
（５０ｅ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシイコス−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５０（５０ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−［（トリメチルシリル）オキシ］イコス−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７９ｍｇ、０．０９１ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１８２ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従って反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（６３ｍｇ、収率８７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８６−０．９３（ｍ，３Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．３６（ｂｒｓ，２２Ｈ），１．４２−１．４５（ｂｒｓ，４Ｈ），１．４７−１．５５（ｍ，４Ｈ），１．７８−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．５６−３．５８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２６−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３６−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３８２，２９２９，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４８Ｈ_６２ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋８２１．３８８６；ｆｏｕｎｄ：８２１．３８８１．
【０２９０】
（５０ｆ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシイコス−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５０（５０ｅ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシイコス−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６３ｍｇ、０．０７９ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１８ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ、収率６９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７−１．３６（ｂｒｓ，２２Ｈ），１．４０−１．４７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４９（ｓ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９−５．３０（ｍ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．３Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．３１（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３２，２９２９，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４２Ｈ_５７Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻７２１．３５９７；ｆｏｕｎｄ：７２１．３６０１．
【０２９１】
【実施例５１】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシオクタデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５１ａ）ヘプタデク−１６−イン−７−オール
実施例５０（５０ａ）で得られたウンデク−１０−イナ−ル（０．３０ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、２．０Ｍヘキシルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン溶液（１．８ｍＬ、３．６ｍｍｏｌ）を用いて実施例５０（５０ｂ）と同様の実験操作を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１９ｇ、収率４１％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２４−１．３０（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．３９−１．４５（ｂｒｓ，８Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，９．６Ｈｚ），３．５５−３．５８（ｍ，１Ｈ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９７，２９２０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１７Ｈ_３２Ｏ（Ｍ）^＋２５２．２４５３；ｆｏｕｎｄ：２５２．２４５９．
【０２９２】
（５１ｂ）７−トリメチルシリルオキシヘプタデク−１６−イン
実施例５１（５１ａ）で得られたヘプタデク−１６−イン−７−オール（０．１９ｇ、０．７４ｍｍｏｌ）、クロロトリメチルシラン（０．２８ｍＬ、２．２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．３１ｍＬ、２．２ｍｍｏｌ）を用いて実施例５０（５０ｃ）の方法に従い反応を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率８８％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，９Ｈ），０．７８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１７−１．２２（ｂｒｓ，１８Ｈ），１．２８−１．３５（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３８−１．４５（ｍ，２Ｈ），１．８１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．０７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１０．３Ｈｚ），３．４６−３．５２（ｍ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１６，２９３２，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_２０Ｈ_３９ＯＳｉ（Ｍ−Ｈ）^＋３２３．２７７０；ｆｏｕｎｄ：３２３．２７７３．
【０２９３】
（５１ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−トリメチルシリルオキシオクタデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、実施例５１（５１ｂ）で得られた７−トリメチルシリルオキシヘプタデク−１６−イン（０．１０ｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２４ｍＬ、０．３９ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（６４ｍｇ、収率４９％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．１０（ｓ，９Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．３７（ｂｒｓ，１８Ｈ），１．３９−１．４１（ｍ，４Ｈ），１．４６−１．５５（ｍ，４Ｈ），１．７８−１．８４（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，９．０Ｈｚ），３．５６−３．６１（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．２８−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３８−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３８３，２９３０，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４９Ｈ_６６Ｏ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ）^＋８４２．４０７０；ｆｏｕｎｄ：８４２．４０７０．
【０２９４】
（５１ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシオクタデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５１（５１ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−トリメチルシリルオキシオクタデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６３ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１５ｍＬ、０．１５ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４７ｍｇ、収率８７％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．００（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２８−１．３８（ｂｒｓ，１８Ｈ），１．４１−１．４２（ｍ，４Ｈ），１．４５−１．５６（ｍ，４Ｈ），１．７８−１．８４（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，９．０Ｈｚ），３．５６−３．５８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．２６−７．３３（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３８−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３７９，２９３０，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４９Ｈ_６６ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋７９３．３５７２；ｆｏｕｎｄ：７９３．３５９３．
【０２９５】
（５１ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシオクタデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５１（５１ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシオクタデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４６ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１５ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ、収率６６％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２７−１．３３（ｂｒｓ，１８Ｈ），１．３４−１．４８（ｍ，６Ｈ），１．４９−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．８２（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．４８−３．４９（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３１（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３７（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４３１，２９３０，１２４４ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４０Ｈ_５３ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７３９．３０７８；ｆｏｕｎｄ：７３９．３０８３．
【０２９６】
【実施例５２】ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシヘキサデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５２ａ）ペンタデク−１４−イン−５−オール
実施例５０（５０ａ）で得られたウンデク−１０−イナ−ル（０．３０ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、０．９Ｍｎ−ブチルマグネシウムクロリド（４．０ｍＬ、３．６ｍｍｏｌ）を用いて実施例５０（５０ｂ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（７７ｍｇ、収率１９％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２６−１．３６（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．３８−１．４７（ｂｒｓ，６Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），２．１７（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，９．７Ｈｚ），３．５６−３．６０（ｍ，１Ｈ）．ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１４，２９３０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１５Ｈ_２９Ｏ（Ｍ＋Ｈ）^＋２２５．２２１９；ｆｏｕｎｄ：２２５．２２１９．
【０２９７】
（５２ｂ）５−トリメチルシリルオキシペンタデク−１４−イン
ペンタデク−１４−イン−５−オール（７７ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）、クロロトリメチルシラン（８７μＬ、０．６９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９６μＬ、０．６９ｍｍｏｌ）を用いて実施例５０（５０ｃ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（７５ｍｇ、収率７４％）を無色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，９Ｈ），０．７９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１１−１．２２（ｂｒｓ，１２Ｈ），１．２３−１．３５（ｂｒｓ，６Ｈ），１．３８−１．４５（ｍ，２Ｈ），１．８２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．０５−２．０９（ｍ，２Ｈ），３．４６−３．５２（ｍ，１Ｈ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３１６，２９３３，１２５０ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_１８Ｈ_３５ＯＳｉ（Ｍ−Ｈ）^＋２９５．２４５７；ｆｏｕｎｄ：２９５．２４５１．
【０２９８】
（５２ｃ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−［（トリメチルシリル）オキシ］ヘキサデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８７ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、実施例５２（５２ｂ）で得られた５−トリメチルシリルオキシペンタデク−１４−イン（７５ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２１ｍＬ、０．３４ｍｍｏｌ）を用いて実施例１９（１９ｂ）の方法に従って反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率３６％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．０１（ｓ，９Ｈ），０．７９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．１０−１．３３（ｂｒｓ，１８Ｈ），１．３５−１．４７（ｍ，４Ｈ），１．６７−１．８３（ｍ，２Ｈ），２．１０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．５Ｈｚ），３．４６−３．５２（ｍ，１Ｈ），３．９２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．９１（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２７−７．４３（ｍ，３Ｈ），７．４４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ），７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｔｈｉｎｆｉｌｍ）３４０７，２９３３，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４７Ｈ_６２ＮａＯ_６Ｓ_２Ｓｉ（Ｍ＋Ｎａ）^＋８３７．３６５５；ｆｏｕｎｄ：８３７．３６７６．
【０２９９】
（５２ｄ）フェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシヘキサデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｃ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−［１−ヒドロキシ−１２−［（トリメチルシリル）オキシ］ヘキサデク−２−イニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４９ｍｇ、０．０６０ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１２ｍＬ、０．１２ｍｍｏｌ）を用いて実施例４０（４０ｈ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ、収率８３％）を黄色油状物質として得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．４３（ｂｒｓ，２０Ｈ），１．４５−１．５７（ｍ，２Ｈ），１．７７−１．８４（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．５６−３．５８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄｆｉｌｍ）３３８２，２９３１，１２４９ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_４４Ｈ_５４ＮａＯ_６Ｓ_２（Ｍ＋Ｎａ）^＋７６５．３２５９；ｆｏｕｎｄ：７６５．３２５０．
【０３００】
（５２ｅ）ナトリウム４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシヘキサデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｄ）で得られたフェニル４−［（４−ブトキシフェニル）チオ］−２’−（１，１２−ジヒドロキシヘキサデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３７ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１２ｍＬ）を用いて実施例１（１ｇ）の方法に従い反応を行い、標記目的化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ、収率６７％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．９１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２４−１．４５（ｂｒｓ，２０Ｈ），１．４９−１．５５（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．８１（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，８．８Ｈｚ），３．３１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），４．０３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．２９（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．３３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３８８，２９２９，１２４３ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３８Ｈ_４９Ｏ_６Ｓ_２（Ｍ−Ｎａ）⁻ ６６５．２９７０；ｆｏｕｎｄ：６６５．２９６３．
【０３０１】
【実施例５３】４−（４−エトキシフェノキシ）−２’−（ヒドロキシトリデク−２−イニル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホニックアシッド
５−アミノ−２−（４−エトキシフェノキシ）ベンゼンスルホニックアシッド（１．０ｇ、３．２ｍｍｏｌ）を４８％テトラフルオロボリックアシッド水溶液（３．５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後亜硝酸ナトリウム（０．８９ｇ、１３ｍｍｏｌ）を加え３０分間攪拌した。析出した粉末をろ取してメタノール（３．５ｍＬ）に溶解し、２−ホルミルフェニルほう酸（０．６３ｇ、４．２ｍｍｏｌ）及び酢酸パラジウム（９４ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間半攪拌した。反応終了後反応溶液をセライト濾過し、減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により大まかな精製を行い、目的化合物である４−（４−エトキシフェノキシ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホニックアシッドを含む混合物（０．１８ｇ）を得た。このものはこれ以上精製することなく次の反応に用いた。
乾燥、窒素置換された反応容器に１−ドデシン（０．２０ｇ、１．２ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−へキサン溶液（０．８５ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）を加え３０分攪拌し、先の反応で得られた４−（４−エトキシフェノキシ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホニックアシッド（０．１８ｇ）の無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）溶液を加えてさらに３０分間攪拌した。反応溶液にメタノール（２ｍＬ）を加え反応を終了させ、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７７ｍｇ、収率３０％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ） δ ０．８９（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２６−１．３５（ｂｒｓ，１４Ｈ），１．４０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４３−１．４９（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．３Ｈｚ），４．０３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．３３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．３３−７．３９（ｍ，３Ｈ），７．７９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．８Ｈｚ），７．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）．
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９２，２９２５，１４７３，１２３２ｃｍ^−１．
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，ｎｅｇａｔｉｖｅ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_３３Ｈ_３９Ｏ_６Ｓ（Ｍ−Ｈ）⁻ ５６３．２４６７；ｆｏｕｎｄ：５６３．２４６５．
【０３０２】
【試験例１】細胞内サイクリックＡＭＰ（ｃＡＭＰ）濃度変化測定試験
Ｅｄｇ−１発現細胞をＳ１Ｐで刺激した際に生じる、細胞内ｃＡＭＰの濃度変化を測定した。
Ｅｄｇ−１を発現させたＣＨＯ細胞を９６穴プレート（コーニング社）に４×１０^４個／ウェルで播種し、３７℃、５％ＣＯ_２存在下で一晩培養した。翌日、無血清培地に交換して３７℃、５％ＣＯ_２存在下で１５分間培養し、次いで１ｍＭの３−イソブチル−１−メチルキサンチン（ＩＢＭＸ）を含む培地で３７℃、５分間前処理した後、１ｍＭのＩＢＭＸ、３０μＭのフォルスコリン、１００ｎＭのＳ１Ｐ、及び被検化合物またはジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を含む培地に交換して３７℃で１５分間刺激した。培地を除去後、１％トライトンＸ−１００溶液で細胞を溶解し、ｃＡＭＰｋｉｔ（日本シェーリング社）を用いて溶液中のｃＡＭＰ濃度を測定した。また、個々の被検化合物についてＩＣ_５０値を求め、表１に示した。
【０３０３】
【表３】

【０３０４】
【試験例２】［^３２Ｐ］Ｓ１Ｐ−Ｅｄｇ−１結合試験
Ｅｄｇ−１発現細胞を１２穴プレート（コーニング社）に７．４×１０^５個／ウェルで播種し、３７℃、５％ＣＯ_２存在下で一晩培養した。プレートを氷上に移し、氷冷した無血清培地に交換した。ＤＭＳＯまたは種々の濃度の実施例１の化合物（以下、「化合物１」という）を加えた後、［^３２Ｐ］Ｓ１Ｐを添加して１時間氷上に静置した。細胞を氷冷したＰＢＳで３回洗浄し、１Ｎ水酸化ナトリウム溶液で溶解した後、その放射活性を液体シンチレーションカウンター（ＬＳ６５００、ベックマン社）で測定した。化合物１のＩＣ_５０値は０．３６μＭであった。
【０３０５】
【試験例３】Ｒａｃ活性化試験
Ｅｄｇの下流に位置し、細胞運動を制御している因子の一つ、即ちＲａｃに関して、Ｓ１Ｐ刺激によるその活性化状態の変動を確認した。活性化型Ｒａｃの検出にはＲａｃＡｃｔｉｖａｔｉｏｎＡｓｓａｙＫｉｔ（ｕｐｓｔａｔｅｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社）を使用した。ヒト臍帯静脈血管内皮細胞（ＨＵＶＥＣ）を１０ｃｍ皿（コーニング社）に１×１０^６個播種し、３７℃、５％ＣＯ_２存在下で２４時間培養した後、無血清培地に交換し、さらに１２時間培養した。この１０ｃｍ皿にＤＭＳＯもしくは終濃度７．９μＭとなるように化合物１を加え、直ちにＳ１Ｐを終濃度１０ｎＭとなるように添加して正確に３分間刺激した。培地を吸引し、１×ＭＬバッファー（キット由来）を加えて氷上で細胞を溶解した。この溶解液中からＲａｃＡｃｔｉｖａｔｉｏｎＡｓｓａｙＫｉｔを用いて活性化型Ｒａｃを回収した後、ＳＤＳ−ＰＡＧＥに供し、抗Ｒａｃモノクローナル抗体（キット付随）を用いてイムノブロットを行い検出した。７．９μＭの化合物１は１０ｎＭＳ１ＰによるＲａｃの活性化を１００％抑制した。
【０３０６】
【試験例４】ＨＵＶＥＣの［^３Ｈ］チミジン取り込み試験
ＨＵＶＥＣを１％ウシ胎児血清を含むＨｕＭｅｄｉａ培地（クラボウ社）に懸濁し、９６穴プレート（コーニング社）に２，５００個／ウェルで播種して３７℃、５％ＣＯ_２存在下で一晩培養した。翌日これにＳ１Ｐを終濃度１００ｎＭとなるように加え、次いでＤＭＳＯまたは種々の濃度の化合物１を加えた後、同条件下で２４時間培養した。各ウェルに０．４μＣｉの［^３Ｈ］チミジン溶液（アマシャム社）を添加し、同条件下で更に６時間培養した後、セルハーベスター（ＨＡＲＶＥＳＴＥＲ９６、トムテック社）を用いてＨＵＶＥＣをβプレート上に回収した。βプレート上の放射活性を１２０５ＢＥＴＡＰＬＡＴＥ（ワラック社）で測定し、各ウェルの［^３Ｈ］チミジン取り込み量を求めた。１００ｎＭのＳ１Ｐにより惹起された、ＨＵＶＥＣの［^３Ｈ］チミジン取り込み亢進現象に対する化合物１のＩＣ_５０値は０．３２μＭであった。
【０３０７】
【試験例５】ＨＵＶＥＣ遊走試験
遊走試験には９６穴ケモタキシスチャンバー（ＮｅｕｒｏＰｒｏｂｅ社）を用いた。８μｍ孔のフィルター（同社）を０．５ｍｇ／ｍｌのマトリゲル溶液（ベクトンディッキンソン社）に浸し、室温で１時間放置した。ＨＵＶＥＣを無血清培地に懸濁し、ＤＭＳＯまたは種々の濃度の化合物１を加えた後、３７℃、５％ＣＯ_２存在下で１０分間培養した。ケモタキシスチャンバーの下層に１００ｎＭのＳ１Ｐを含む無血清培地を入れ、フィルターをセットし、上層に先述のＨＵＶＥＣ懸濁液（８×１０^４個）を加え、同条件下で４時間培養した。フィルターをディフ・クイック（国際試薬社）で染色し、非遊走細胞を除去した後、スペクトラレインボーサーモ（テカンジャパン社）でＯＤ_５９５を測定し、遊走した細胞数の指標とした。化合物１のＩＣ_５０値は４．９μＭであった。
【０３０８】
【発明の効果】
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物はＥＤＧ受容体拮抗作用を有しており、炎症疾患、異常な血管新生を伴う疾患、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、又は慢性下痢の予防及び／又は治療のための医薬の有効成分として有用である。

Claims

下記の一般式（Ｉ）：

〔式中、
Ｒ^１は炭素原子数１〜１７個のアルキル基（該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｒ^２はＢ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｒ^３はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示し；
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ａで表される環は上記式に示される１個の−Ｑ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員環を示し、Ｑは炭素原子又は窒素原子を示し、該環は−ＣＨ＝ＣＨ−、窒素原子、酸素原子、−Ｎ（Ｒ^４）−（式中、Ｒ^４は前記と同義である）、硫黄原子、及び−Ｃ（Ｏ）−からなる群から選ばれる環構成部分構造を１個又は２個以上有していてもよく、該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。
「置換基群Ａ」
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基〕で表される化合物、その塩、又はそのエステル。
請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、及び薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む医薬。
ＥＤＧが関与する疾患の予防及び／又は治療のための請求項２に記載の医薬。
炎症疾患、異常な血管新生を伴う疾患、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、又は慢性下痢の予防及び／又は治療のための請求項２に記載の医薬。