JP2005012031A - Radio absorber - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報通信分野における電波障害や電波干渉を軽減する等のEMC(電磁的両立性)技術に用いられる電波吸収体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、マイクロ波やミリ波の電波利用が進むにつれて、電波障害や電波干渉等の問題が発生している。これらの問題の解決手段の一つとしては電波吸収体が利用され、これは大きな効果を奏している。一般に、マイクロ波やミリ波で利用されている電波吸収体には、フェライトやカーボン等の損失材料を樹脂等の保持材に混合させてなる電波吸収体や、電波反射体から1/4波長の位置に抵抗皮膜を配置してなるλ/4型電波吸収体等がある。
【0003】
抵抗皮膜を用いた電波吸収体は、古くから存在し、1940年代の初期には実用化されていたものと考える。初期の抵抗皮膜としては、油煙(lampblack)を注入した紙等が使用されていたようである。その後、導電性繊維とポリエステル糸で織った抵抗布やカーボンファイバ抵抗体を使用した電波吸収体が開発され、数多く実用化されている。近年では、透明タッチパネルや、エレクトロルミネッセンス素子等の表示素子の発展に伴い、抵抗皮膜として、透明性と導電性を併せ持つ薄膜である透明導電膜を用いた透明電波吸収体が研究および開発されている。
【0004】
透明導電膜の材料にはさまざまな材料が使用されるが、最も性能の良い材料は酸化インジウムスズ(以下、ITOと記す。)であり、これは、例えば透明導電性フィルムに用いられている。この透明導電性フィルムでは、一般的に、基材として、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。そして、この基材の表面に、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等によってITO膜を形成することによって、透明導電性フィルムが製造される。この導電性フィルムを用いたλ/4型電波吸収体は、スペーサと呼ばれる誘電体層の一方の面に電波反射体を貼り付け、スペーサの他方の面に導電性フィルムを貼り付けて構成される。
【0005】
通常、上記導電膜の電気的な特性は、その抵抗成分で特徴付けられている。そのため、上記導電膜は、容量性のサセプタンスを有しないものが大半である。このような導電膜を用いたλ/4型電波吸収体では、スペーサの厚さは、スペーサ内の波長の1/4となる。
【0006】
非特許文献1には、抵抗皮膜として布や紙を用いた場合には、それらの誘電率のために、抵抗皮膜が、その抵抗値に対して約10%の容量性のサセプタンスを有することが記載されている。また、非特許文献1には、抵抗皮膜として抵抗繊維列を用いた場合には、抵抗皮膜が誘導性のサセプタンスを有することが記載されている。更に、非特許文献1には、抵抗皮膜が容量性のサセプタンスを有する場合には、スペーサの厚さをスペーサ内の波長の1/4よりも小さくすることができ、抵抗皮膜が誘導性のサセプタンスを有する場合には、スペーサの厚さをスペーサ内の波長の1/4よりも大きくすることができることが記載されている。
【0007】
また、特許文献1には、スペーサ内の波長の1/5よりも薄い電波吸収体(電磁波吸収材)が記載されている。また、特許文献1には、電波吸収体を薄くできる理由は、抵抗層(抵抗皮膜)が高容量性のサセプタンスを有しているためと考えられる旨が記載されている。
【0008】
【特許文献1】
特開2001−320191号公報
【非特許文献1】
清水、杉浦、石野,「最新電磁波の吸収と遮蔽」,日経技術図書,1999年,p.135−138
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
特に屋内で使用される電波吸収体は薄い方が好ましい。しかし、容量性のサセプタンスを有しない抵抗皮膜を用いたλ/4型電波吸収体では、スペーサ内の波長の1/4よりも薄くすることはできない。そこで、λ/4型電波吸収体において、例えば、周波数選択板を、抵抗皮膜としての導電膜と並列になるようにスペーサ内に挿入し、この周波数選択板によってスペーサ内で電波の位相を変化させることにより、電波吸収体の厚さを小さくする工夫がなされている。しかし、この方法では、周波数選択板を電波反射体と導電膜との間に精度よく挿入する必要がある。そのため、この方法を用いた場合には、電波吸収体の製造が難しくなると共に、周波数選択板の製作コストを含めて電波吸収体の製造コストが高くなるという問題点がある。
【0010】
非特許文献1には、抵抗値に対して約10%の容量性のサセプタンスを有する抵抗皮膜が記載されている。しかし、この程度のサセプタンスを有する抵抗皮膜を用いても、電波吸収体はあまり薄くならない。
【0011】
特許文献1は、抵抗皮膜が容量性のサセプタンスを有することによって、スペーサ内の波長の1/4よりも薄い電波吸収体が得られることを示唆している。しかし、特許文献1には、スペーサ内の波長の1/4よりも薄い電波吸収体が得られることの理論的な説明は記載されていない。また、特許文献1には、薄膜に適した材料のサセプタンスを正確に、かつ直接求めることは極めて困難であると記載されている。これらのことから、特許文献1の記載からは、吸収しようとする電波の周波数に対して、どの程度の容量性のサセプタンスを有する抵抗皮膜を用いて、スペーサの厚さをどの程度にすればよいのかは分からない。すなわち、特許文献1の記載からは、所望の電波吸収体を設計および製造することが困難である。
【0012】
また、特許文献1には、実施例として、波長/厚さの値が22.5〜80となる電波吸収体、すなわち厚さが波長の0.044〜0.0125という極端に薄い電波吸収体が記載されている。しかしながら、このように極端に薄い電波吸収体では、スペーサを作製することが非常に困難になるという問題点がある。また、この電波吸収体では、スペーサの厚さの誤差が電波吸収体の電波吸収特性に与える影響が大きくなり、スペーサの厚さの制御も非常に困難になるという問題点がある。
【0013】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、容量性のサセプタンスを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体であって、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体に比べて薄く、且つ容易に設計および製造することのできる電波吸収体を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1ないし第5の電波吸収体は、いずれも、電波反射体と、この電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、この誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えている。
【0015】
本発明の第1の電波吸収体では、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜2000Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−15〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内である。
【0016】
本発明の第2の電波吸収体では、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は35〜2000Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−110〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内である。
【0017】
本発明の第3の電波吸収体では、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜350Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−15〜−190Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内である。
【0018】
本発明の第4の電波吸収体では、誘電体層の厚さをd、誘電体層内における電波の波長をλ、抵抗皮膜に対する電波の入射角度をθとしたときに、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部は、それぞれ、以下の式より得られる値の±30%の範囲内である。
実部:{sin(2πdcosθ/λ)}2・377/cosθ
虚部:−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377/cosθ
ただし、nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ(nは0以上の整数)
【0019】
本発明の第5の電波吸収体では、誘電体層の厚さをd、誘電体層内における電波の波長をλ、抵抗皮膜に対する電波の入射角度をθとしたときに、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部は、それぞれ、以下の式より得られる値の±30%の範囲内である。
実部:{sin(2πdcosθ/λ)}2・377・cosθ
虚部:−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377・cosθ
ただし、nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ(nは0以上の整数)
【0020】
本発明の電波吸収体は、更に、電波反射体と誘電体層との間、または抵抗皮膜における電波到来側に配置された1組以上の第2の誘電体層および第2の抵抗皮膜を備えていてもよい。
【0021】
また、本発明の電波吸収体は、更に、電波反射体から最も遠い面に配置された抵抗皮膜における電波到来側に配置された、他の誘電体層と、この他の誘電体層における電波到来側に配置された電波吸収特性調整用誘電体層とを備えていてもよい。
【0022】
また、本発明の電波吸収体は、更に、板状またはシート状の抵抗皮膜用基体を備え、抵抗皮膜は、コーティング剤に導電性材料が混合されて構成され抵抗皮膜用基体上に塗布された導電性塗料によって形成されていてもよい。
【0023】
コーティング剤は、無機系コーティング剤と有機系コーティング剤の少なくとも一方を含んでいてもよい。導電性材料は、鱗片状の導電性粉末と粒状の導電性粉末の少なくとも一方を含んでいてもよい。鱗片状の導電性粉末または粒状の導電性粉末の材料は、グラファイト、カーボン、金属粉末または金属酸化物を含んでいてもよい。また、導電性材料は、鱗片状の導電性粉末と粒状の導電性粉末の両方を含み、鱗片状の導電性粉末の材料と粒状の導電性粉末の材料は、グラファイト、カーボン、金属粉末および金属酸化物のうちの互いに異なる材料であってもよい。また、導電性材料における鱗片状の導電性粉末の割合は、85重量%以上であってもよい。また、抵抗皮膜用基体は、主に無機材料からなり、不燃性であってもよい。
【0024】
また、本発明の電波吸収体において、抵抗皮膜の厚さは、70μm以上、200μm以下であってもよい。
【0025】
また、本発明の電波吸収体において、誘電体層は、主に無機材料からなり、不燃性であってもよい。
【0026】
また、本発明の電波吸収体において、誘電体層は、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有する板状の部材、または板状の発泡体によって形成されていてもよい。この場合、誘電体層は、電波到来側の第1の面とその反対側の第2の面とを有し、この第1の面と第2の面のうち、少なくとも第1の面は、主に無機材料からなる板状またはシート状の部材によって覆われていてもよい。
【0027】
また、本発明の電波吸収体は、更に、電波反射体から最も遠い面を覆うように配置された内装材を備えていてもよい。
【0028】
また、本発明の電波吸収体において、電波反射体から最も遠い面には塗装が施されていてもよい。
【0029】
また、本発明の電波吸収体において、電波反射体は、主に無機材料からなる板状の電波反射体用基体と、電波反射体用基体における電波到来側の面上に配置された導電性膜とを有し、不燃性であってもよい。
【0030】
なお、本出願において、「不燃性」とは、建築基準法に定められた不燃材料に適合する不燃性能を有すること、および、建築基準法に定められた不燃材料の不燃性能と同等の不燃性能を有することを言う。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図1ないし図4を参照して、本実施の形態に係る電波吸収体の構成について説明する。図1ないし図4は、本実施の形態に係る電波吸収体の基本構成の第1ないし第4の例を示す断面図である。なお、図1ないし図4において、符号1で示した矢印は、電波の進行方向を表わしている。
【0032】
図1に示した電波吸収体10は、不燃性の電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置された不燃性の誘電体層121と、誘電体層121における電波到来側に配置された抵抗層131とを備えている。誘電体層121は、主に無機材料によって構成されている。抵抗層131は、後で詳しく説明するが、主に無機材料からなる板状またはシート状の抵抗皮膜用基体と、この抵抗皮膜用基体上に形成された抵抗皮膜とを含んでいる。電波吸収体10は、全体として不燃性になっている。
【0033】
本実施の形態に係る電波吸収体10は、図1に示した構成に、更に他の層を加えて、図2ないし図4に示した構成としてもよい。
【0034】
図2に示した電波吸収体10は、不燃性の電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置された2層の不燃性の誘電体層121,122と、隣り合う誘電体層121,122の間に配置された抵抗層131とを備えている。図2に示した電波吸収体10は、更に、電波反射体11から最も遠い誘電体層122における電波到来側に配置された電波吸収特性調整用誘電体層14を備えている。誘電体層121,122は、主に無機材料によって構成されている。抵抗層131の構成は、図1における抵抗層131と同様である。電波吸収特性調整用誘電体層14は、主に無機材料からなり、板状またはシート状になっている。電波吸収特性調整用誘電体層14は、電波反射体11から最も遠い誘電体層122を保護する。図2に示した電波吸収体10も、全体として不燃性になっている。
【0035】
図3に示した電波吸収体10は、不燃性の電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置されたn層(nは2以上の整数)の不燃性の誘電体層121〜12nと、隣り合う誘電体層の間、および電波反射体11から最も遠い位置に配置された誘電体層12nにおける電波到来側に配置された抵抗層131〜13nとを備えている。誘電体層121〜12nは、主に無機材料によって構成されている。抵抗層131〜13nの構成は、図1における抵抗層131と同様である。図3に示した電波吸収体10も、全体として不燃性になっている。
【0036】
図4に示した電波吸収体10は、不燃性の電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置されたm層(mは3以上の整数)の不燃性の誘電体層121〜12mと、隣り合う誘電体層の間に配置された抵抗層131〜13m−1とを備えている。図4に示した電波吸収体10は、更に、電波反射体11から最も遠い誘電体層12mにおける電波到来側に配置された電波吸収特性調整用誘電体層14を備えている。誘電体層121〜12mは、主に無機材料によって構成されている。抵抗層131〜13m−1の構成は、図1における抵抗層131と同様である。電波吸収特性調整用誘電体層14の構成は、図2における電波吸収特性調整用誘電体層14と同様である。電波吸収特性調整用誘電体層14は、電波吸収体10の電波到来側から見込んだ入力インピーダンスを調整することによって、反射減衰量がピークとなる周波数を任意に1つ追加する機能を有する。また、電波吸収特性調整用誘電体層14は、電波反射体11から最も遠い誘電体層12mを保護する機能も有する。図4に示した電波吸収体10も、全体として不燃性になっている。
【0037】
図2に示した電波吸収体10と図4に示した電波吸収体10の構成をまとめて表現すると、次のようになる。すなわち、図2または図4に示した電波吸収体10は、不燃性の電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置されたn層(nは2以上の整数)の不燃性の誘電体層121〜12nと、隣り合う誘電体層の間に配置された抵抗層131〜13n−1とを備えている。図2または図4に示した電波吸収体10は、更に、電波反射体11から最も遠い誘電体層12nにおける電波到来側に配置された電波吸収特性調整用誘電体層14を備えている。
【0038】
以下、図1ないし図4における各誘電体層を代表して誘電体層12と呼ぶ。また、図1ないし図4における各抵抗層を代表して抵抗層13と呼ぶ。
【0039】
本実施の形態に係る電波吸収体10において、誘電体層12の厚さ、抵抗層13における抵抗皮膜用基体の厚さ、電波吸収特性調整用誘電体層14の厚さおよび抵抗層13における抵抗皮膜の面抵抗値は、電波吸収体10が所定の周波数領域で所望の電波吸収特性を発揮できるように、それぞれ所定の値に設定される。これらについては、後で詳しく説明する。
【0040】
図1に示した構成の電波吸収体10の電波吸収特性は、任意の1つの周波数において反射減衰量のピークが存在するものとなる。これに対し、図2に示した構成の電波吸収体10では、任意の2つの周波数において反射減衰量のピークが存在する電波吸収特性を実現することができる。また、図3に示した構成の電波吸収体10では、任意のn個の周波数において反射減衰量のピークが存在する電波吸収特性を実現することができる。また、図4に示した構成の電波吸収体10では、任意のm個の周波数において反射減衰量のピークが存在する電波吸収特性を実現することができる。
【0041】
本実施の形態に係る電波吸収体10は、例えば、DSRC(専用狭域通信)システムまたは無線LAN(ローカルエリアネットワーク)システムにおける電波障害や電波干渉を軽減するために利用される。DSRCシステムでは、周波数帯として5.8GHz帯が利用されている。無線LANシステムでは、周波数帯として2.4GHz帯と5.2GHz帯が利用されている。電波吸収体10は、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で、その利用目的に応じた所望の周波数または周波数範囲において、反射減衰量が15dB以上となる特性を有することが好ましい。また、図2ないし図4のいずれかに示した電波吸収体10では、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内の複数の周波数または周波数範囲において反射減衰量が15dB以上となる特性を有することが好ましく、特に、2.4GHzと5.2GHzの各周波数において反射減衰量が15dB以上となる特性を有することが好ましい。
【0042】
本実施の形態に係る電波吸収体10は、衝立、壁、天井、床のいずれかにおける少なくとも一部として用いることができる。また、本実施の形態に係る電波吸収体10を含み、所定の大きさの板状をなす電波吸収パネルを構成してもよい。この電波吸収パネルは、衝立、壁、天井、床のいずれかにおける少なくとも一部として用いられる。
【0043】
また、図5に示したように、本実施の形態に係る電波吸収体10は、更に、電波反射体11から最も遠い面を覆うように配置された内装材15を備えていてもよい。なお、図5には、図3に示した構成の電波吸収体10において、電波反射体11から最も遠い面を覆うように内装材15を設けた例を示している。しかし、図1、図2または図4に示した電波吸収体10において、電波反射体11から最も遠い面を覆うように内装材15を設けてもよい。
【0044】
内装材15は、電波吸収体10を室内の壁面や衝立の少なくとも一部として用いる場合に、化粧材としての役割を果たす。内装材15としては、ガラスクロス等の不燃性のクロスや化粧クロスを用いることができるが、不燃性のクロスを用いることが好ましい。
【0045】
また、本実施の形態に係る電波吸収体10において、電波反射体11から最も遠い面に塗装を施してもよい。この塗装が施される面は、抵抗層13、電波吸収特性調整用誘電体層14または内装材15における電波到来側の面である。抵抗層13または電波吸収特性調整用誘電体層14の面に塗装を施す場合には、塗装の前処理として、抵抗層13または電波吸収特性調整用誘電体層14の面にプライマー処理を施してもよい。
【0046】
本実施の形態に係る電波吸収体10において、抵抗層13における抵抗皮膜は、容量性のサセプタンスを有している。
【0047】
次に、図6を参照して、本実施の形態における抵抗層13の形成方法について説明する。図6に示したように、抵抗層13は、主に無機材料からなる板状またはシート状の抵抗皮膜用基体21と、この抵抗皮膜用基体21上に形成された抵抗皮膜22とを含んでいる。
【0048】
抵抗皮膜22は、例えば、コーティング剤に導電性材料が均一に混合、分散されて構成された液状導電性塗料23を、抵抗皮膜用基体21上に塗布し、これを平面状に固化させることによって形成される。コーティング剤は、無機系コーティング剤と有機系コーティング剤の少なくとも一方を含む。導電性材料は、鱗片状の導電性粉末と粒状の導電性粉末の少なくとも一方を含む。鱗片状の導電性粉末または粒状の導電性粉末の材料は、例えば、グラファイト、カーボン、金属粉末または金属酸化物を含んでいてもよい。また、導電性材料が鱗片状の導電性粉末と粒状の導電性粉末の両方を含む場合、鱗片状の導電性粉末の材料と粒状の導電性粉末の材料は、グラファイト、カーボン、金属粉末および金属酸化物のうちの互いに異なる材料であってもよい。また、導電性材料における鱗片状の導電性粉末の割合は、85重量%以上であってもよい。また、抵抗皮膜22の厚さは、例えば、70μm以上、200μm以下である。
【0049】
図6に示したように、導電性塗料23の塗布方法としては、スプレー塗装が好ましい。スプレー塗装を用いることにより、導電性塗料23の塗布方向による電波吸収特性の差が極めて小さい電波吸収体10を製造することができる。なお、図6において、符号24は、スプレー塗装装置における導電性塗料23の吐出部を示している。特に、ロボット塗装装置を用いたスプレー塗装によって、抵抗皮膜用基体21上に導電性塗料23を塗布して抵抗皮膜22を形成することにより、安定した抵抗皮膜22の面抵抗値を得ることができる。
【0050】
導電性塗料23に用いられる無機系コーティング剤としては、特に制限はなく、不燃性を有する無機系コーティング剤として従来から用いられているものを使用することができる。ここで、導電性塗料23に用いられる無機系コーティング剤の一例を挙げる、この無機系コーティング剤は、主剤としてのアルキルシリケートと、このアルキルシリケートを加水分解するための水と、この加水分解反応を促進する反応触媒としてのアルミニウムキレートと、加水分解反応を抑制する反応抑止剤としてのメチルアシッドホスヘートと、アルキルシリケートと水とを溶解させる溶媒としてのアルコールとを含有する。アルキルシリケートは、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメチルシラン等である。導電性塗料23に用いられる無機系コーティング剤としては、上記の例の他に、水系の無機コーティング剤を用いてもよい。
【0051】
導電性塗料23に用いられる有機系コーティング剤としては、特に制限はなく、例えば市販の有機系塗料を用いることができる。
【0052】
また、導電性塗料23に用いられるコーティング剤としては、無機系コーティング剤と有機系コーティング剤とを混合してなるハイブリッドコーティング剤を用いてもよい。
【0053】
また、薄い抵抗皮膜用基体21に導電性塗料23を塗布して抵抗皮膜22を形成する場合には、抵抗皮膜用基体21の反りや撓みによって抵抗皮膜22に微細な亀裂が発生することを防止するために、柔軟性のあるコーティング剤を用いることが好ましい。
【0054】
ここで、抵抗皮膜用基体21の製造方法の一例を挙げる。この例では、抵抗皮膜用基体21は、含水無機化合物を主成分としたスラリーを用いて抄造される。スラリーは、セピオライトを60〜90重量%含有し、更に、バインダーと、無機繊維、ガラス繊維等の補強材とを含有する。バインダーは、抵抗皮膜用基体21の補強のための熱可塑性樹脂と、網目状の3次元構造を有し、凝集性および耐水性が付与された熱硬化性樹脂とを含む。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリアクリルイミド(分子量は80万から100万程度)等のアニオン系の熱可塑性樹脂を用いることができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン等のカチオン系の熱硬化性樹脂を用いることができる。このようなスラリーを用いて抄造によりシートを形成し、このシートを所定の温度で加熱して乾燥させることにより、水分の蒸発とバインダーの反応が進行して、シートが固化され、抵抗皮膜用基体21が得られる。
【0055】
抵抗皮膜用基体21が主に無機材料よりなるというのは、バインダーのような補助的な材料としては有機材料を含む場合もあるが、主成分は無機材料であることを意味している。
【0056】
抵抗層13は、例えば、無機系接着剤または有機系接着剤によって誘電体層12に貼り合わされる。
【0057】
なお、電波吸収特性調整用誘電体層14の材料および製造方法は、抵抗皮膜用基体21と同様である。また、電波吸収特性調整用誘電体層14も、例えば、無機系接着剤または有機系接着剤によって誘電体層12に貼り合わされる。
【0058】
無機系接着剤としては、制限はなく、不燃性を有する無機系接着剤として従来から用いられているものを使用することができる。無機系接着剤としては、例えば、リン酸アルミニウム溶液、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ等に、硬化剤、触媒等を混合して構成された水溶性または水分散タイプの無機系接着剤を用いることができる。
【0059】
抵抗層13または電波吸収特性調整用誘電体層14を有機系接着剤によって誘電体層12に貼り合せる場合には、電波吸収体10の不燃性を維持できるように、接着層を薄くする必要がある。
【0060】
次に、図7ないし図10を参照して、誘電体層12について詳しく説明する。電波吸収体10を軽量化すると共に、電波吸収体10に断熱性を持たせるために、誘電体層12は、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有する板状の部材、または板状の発泡体によって形成することが好ましい。図7ないし図10は、それぞれ、上述のような複数の孔を有する板状の部材によって形成された誘電体層12を有する電波吸収体10の構成の第1ないし第4の例を示す斜視図である。
【0061】
図7に示した第1の例の電波吸収体10は、電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置された誘電体層121と、誘電体層121における電波到来側に配置された抵抗層131とを備えている。誘電体層121は、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有するハニカム形状を有している。抵抗層131は、抵抗皮膜用基体211と、この抵抗皮膜用基体211上に形成された抵抗皮膜221とを含んでいる。抵抗皮膜221は、誘電体層121における電波到来側の面に接合されている。
【0062】
図8に示した第2の例の電波吸収体10は、電波反射体11と、電波反射体11における電波到来側に配置された誘電体層121と、誘電体層121における電波到来側に配置された抵抗層131と、抵抗層131における電波到来側に配置された誘電体層122と、誘電体層122における電波到来側に配置された抵抗層132とを備えている。誘電体層121,122は、それぞれ、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有するハニカム形状を有している。抵抗層131は、抵抗皮膜用基体211と、この抵抗皮膜用基体211上に形成された抵抗皮膜221とを含んでいる。抵抗皮膜用基体211は、誘電体層121における電波到来側の面に接合されている。抵抗皮膜221は、誘電体層122における電波到来側とは反対側の面に接合されている。抵抗層132は、抵抗皮膜用基体212と、この抵抗皮膜用基体212上に形成された抵抗皮膜222とを含んでいる。抵抗皮膜222は、誘電体層122における電波到来側の面に接合されている。
【0063】
図9に示した第3の例の電波吸収体10は、図8に示した電波吸収体10において、ハニカム形状の誘電体層121,122の代わりに、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有するコルゲート形状(波形)の誘電体層121,122を設けた構成になっている。
【0064】
図10に示した第4の例の電波吸収体10は、図8に示した電波吸収体10において、ハニカム形状の誘電体層121,122の代わりに、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有する格子形状の誘電体層121,122を設けた構成になっている。
【0065】
図7ないし図10に示した例のように、誘電体層12として、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有する板状の部材を用いることにより、前述のように、電波吸収体10の軽量化を可能にしながら、電波吸収体10の構造強度および耐荷重性を十分なものとすることができる。
【0066】
ハニカム形状、コルゲート形状または格子形状の誘電体層12は、例えば、含水無機化合物によって形成される。含水無機化合物としては、セピオライトや、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムの各水和物や、二水和石膏や、アルミン酸カルシウムや、ワラストナイト等がある。このうち、特にセピオライトが好ましい。セピオライトは、柔軟性を有する含水無機化合物であるため、曲げ強度が大きい。そのため、含水無機化合物としてセピオライトを用いた場合には、以下のようにして、ハニカム形状の誘電体層12を形成することができる。すなわち、まず、含水無機化合物よりなる複数枚のシートを製造する。次に、隣り合うシート同士を、所定の間隔で配列された複数の直線に沿って部分的に接着しながら複数枚のシートを積層する。次に、複数枚のシートの積層体を厚さ方向に展張する。これにより、ハニカム形状の誘電体層12が形成される。
【0067】
また、誘電体層12を板状の発泡体によって形成した場合には、電波吸収体10に吸音機能を持たせることができる。誘電体層12に用いられる発泡体としては、例えば、以下の組成の水酸化マグネシウム系無機質発泡板を用いることができる。この水酸化マグネシウム系無機質発泡板は、60重量%の水酸化マグネシウム、25重量%の炭酸カルシウム、10重量%の水酸化アルミニウム、3重量%の塩化ビニル樹脂、2重量%のシリコン系樹脂を含有する。誘電体層12に用いられる発泡体としては、上記の例の他に、イノシアヌレートフォーム、フェノールフォーム等の難燃フォームを用いることができる。
【0068】
誘電体層12が、電波の進行方向に貫通する複数の孔を有する板状の部材、または板状の発泡体によって形成されている場合には、誘電体層12における電波到来側の第1の面とその反対側の第2の面のうち、少なくとも第1の面は、主に無機材料からなる板状またはシート状の部材によって覆われていることが好ましい。この場合、誘電体層12の面を覆う板状またはシート状の部材は、抵抗層13でもよいし、電波吸収特性調整用誘電体層14でもよいし、電波反射体11でもよい。
【0069】
なお、誘電体層12が主に無機材料よりなるというのは、抵抗皮膜用基体21と同様に、バインダーのような補助的な材料としては有機材料を含む場合もあるが、主成分は無機材料であることを意味している。
【0070】
次に、電波反射体11について詳しく説明する。電波反射体11は、鋼板等の金属板でもよいが、主に無機材料からなる板状の電波反射体用基体と、この電波反射体用基体における電波到来側の面上に配置された導電性膜とを有する構成のものが好ましい。電波反射体用基体の材料および製造方法は、抵抗皮膜用基体21と同様である。導電性膜は、電波反射体用基体に貼り合わせた金属箔によって形成してもよいし、導電性塗料を電波反射体用基体上に塗布し、これを固化させることによって形成してもよい。電波反射体11の軽量化には、導電性塗料を電波反射体用基体上に塗布して導電性膜を形成する方法が効果的である。
【0071】
金属箔を電波反射体用基体に貼り合わせる際には、例えば無機系接着剤または有機系接着剤が用いられる。有機系接着剤を用いる場合には、電波吸収体10の不燃性を維持できるように、接着層を薄くする必要がある。
【0072】
導電性塗料は、有機系のものでもよいが、無機系のものが好ましい。有機系の導電性塗料を用いる場合には、電波吸収体10の不燃性を維持できるように、導電性塗料の塗布厚さを小さくする必要がある。
【0073】
電波反射体11は、例えば、無機系接着剤または有機系接着剤によって誘電体層12に貼り合わされる。有機系接着剤を用いる場合には、電波吸収体10の不燃性を維持できるように、接着層を薄くする必要がある。
【0074】
以下、本実施の形態に係る電波吸収体10の設計方法について説明する。ここでは、電波吸収体10の前面に対して電波が垂直に入射する場合について説明する。図11は、電波吸収体10の構成を簡略化して示す斜視図である。図11には、電波吸収体10の構成要素のうち、電波反射体11と抵抗皮膜22のみを示している。以下、電波反射体11と抵抗皮膜22との間の誘電体層をスペーサと呼ぶ。また、電波反射体11と抵抗皮膜22との距離、すなわちスペーサの厚さを記号dで表わす。また、スペーサ内における電波の波長を記号λで表わす。
【0075】
今、図11に示したように、抵抗皮膜22に対して、電波として平面波が垂直に入射した場合を考える。なお、図11において、符号1で示した矢印は、電波の進行方向を表わしている。
【0076】
スペーサ前面での規格化入力インピーダンスZ1 *(*は複素数であることを表す。)は、スペーサの材料の誘電率をεr´とすると、伝送線路理論から、式(1)で表される。なお、“j”は√(−1)を表わす。また、規格化入力インピーダンスにおける規格化とは、自由空間の特性インピーダンス(≒377Ω)で規格化したことを意味している。
【0077】
Z1 *={1/√(εr´)}・tanh{j・(2πd/λ)・√(εr´)}…(1)
【0078】
次に、抵抗皮膜22の面抵抗値Rs*が、実部と虚部とを有する複素量であるとすると、抵抗皮膜22の前面での規格化入力インピーダンスZin *は、入力インピーダンスZ1 *の素子と抵抗値Rs*の素子が並列に接続された回路の入力インピーダンスと見ることができる。従って、規格化入力インピーダンスZin *は、次の式(2)で表される。
【0079】
Zin *={(Rs*/377)・Z1 *}/{(Rs*/377)+Z1 *}…(2)
【0080】
インピーダンスZin *が1になると、抵抗皮膜22の表面における反射係数は0になる。ここで、インピーダンスZin *が1になるときの電波吸収体10が満たす条件を整合条件と言う。
【0081】
スペーサを空気とした場合には、式(2)が整合条件を満たすときの抵抗皮膜22の面抵抗値の複素量(実部および虚部)は、次の式(3)および式(4)のように簡素に表すことができる。なお、Real(Rs*)は、面抵抗値の実部を表わし、Imag(Rs*)は、面抵抗値の虚部を表わしている。
【0082】
Real(Rs*)={sin(2πd/λ)}2・377 …(3)
【0083】
Imag(Rs*)=−[{sin(4πd/λ)}/2]・377…(4)
【0084】
なお、厚さdは、下記の式(5)で表わされる範囲内とする。
【0085】
nλ/2<d<(n+1)λ/2 (nは0以上の整数) …(5)
【0086】
ここで、スペーサの厚さdを波長λで除した値d/λを規格化整合厚さと呼ぶ。式(3),(4)より、面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を求めた結果を図12に示す。
【0087】
式(3),(4)および図12から分かるように、面抵抗値の実部と虚部は、規格化整合厚さの変化に対して周期的に変化する。ここで、図12から、面抵抗値の虚部が負の値のとき、すなわち容量性であるときには、スペーサの厚さdは波長λの1/4よりも小さくなり、面抵抗値の虚部が正の値のとき、すなわち誘導性であるときには、スペーサの厚さdは波長λの1/4よりも大きくなることが分かる。このように、容量性のサセプタンスを有する抵抗皮膜22を用いることにより、スペーサの厚さdが波長λの1/4よりも小さい電波吸収体10を実現することができる。
【0088】
本実施の形態において、電波吸収体10の前面に対して電波が垂直に入射する場合には、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜22の面抵抗値の実部および虚部が、それぞれ、式(3),(4)より得られる値を含む所定の許容範囲内の値となるようにする。許容範囲は、式(3),(4)より得られる値に対して±30%の範囲であることが好ましく、±20%の範囲であることがより好ましく、±10%の範囲であることが更に好ましい。
【0089】
以下、本実施の形態に係る電波吸収体10の実施例について説明する。
始めに、実施例における抵抗皮膜22の作製方法について説明する。実施例における抵抗皮膜22に用いる導電性材料には、鱗片状のグラファイト粉末を使用した。実施例では、この粉末をバインダー中に均一に分散させて液状塗料を形成した。次に、この液状塗料を、ロボット塗装装置を用いたスプレー塗装によって、縦300mm、横300mm、厚さ2mmの無機系の抵抗皮膜用基体21に塗装した。次に、上記液状塗料を105℃の温度で乾燥させて抵抗皮膜22を形成した。抵抗皮膜22の厚さは、約70〜90μmとなるようにした。
【0090】
上記の方法で作製した抵抗皮膜22における導電性粉末とバインダーの配合量を以下の表に示す。また、実施例では、作製した抵抗皮膜22の直流における面抵抗値(以下、直流面抵抗値と言う。)を測定した。以下の表には、この直流面抵抗値も併せて記載している。
【0091】
【表1】
【0092】
上記の表に示したように、導電性粉末の配合量を約57〜72重量%の範囲内で変化させることにより、270〜3500Ω□の範囲内の直流面抵抗値を有する抵抗皮膜22を作製することができた。
【0093】
次に、実施例における抵抗皮膜22の面抵抗値の評価方法について説明する。この評価方法では、まず、電波反射体11から約10mmの距離の位置に、スペーサを介して、上記の方法で作製した抵抗皮膜22を配置して試料を作製した。ここでは、スペーサの材料として、空気の誘電率に近い誘電率を有する発泡ポリエチレンを用いた。次に、上記試料について、電波が抵抗皮膜22に対して垂直に入射する際の入力インピーダンスを、以下の方法で測定した。まず、上述のように配置した抵抗皮膜22の前面に、この抵抗皮膜22と同一の平面形状を有する金属板を配置し、この金属板の反射係数を測定した。次に、試料の反射係数を測定した。次に、金属板の反射係数と試料の反射係数との比に基づいて、試料前面の入力インピーダンスを算出した。次に、算出した入力インピーダンスから面抵抗値の複素量を計算により求めた。
【0094】
図13は、上述の面抵抗値の評価のために用いた測定システムの構成を示している。この測定システムは、評価しようとする試料120に電波を放射する送信アンテナ121と、試料120で反射された電波を受信する受信アンテナ122と、送信アンテナ121に接続されたネットワークアナライザ123と、入力端が受信アンテナ122に接続され、出力端がネットワークアナライザ123に接続された増幅器124とを備えている。送信アンテナ121と受信アンテナ122には、ダブルリジットガイドアンテナを用いた。送信アンテナ121と受信アンテナ122は、アンテナ121,122から試料120における電波の入射位置までの距離が等しくなるように配置される。実施例では、この距離を3mとしている。また、評価システムは、電波暗室125内に設置される。
【0095】
ネットワークアナライザ123は、送信アンテナ121に送信用の信号を送る。受信アンテナ122によって得られる受信信号は、増幅器124によって増幅された後、ネットワークアナライザ123に入力される。ネットワークアナライザ123は、送信用の信号と受信信号とに基づいて試料の特性を測定する。測定周波数は1〜9GHzとした。
【0096】
なお、送信アンテナ121から受信アンテナ122へ直接到達する直接波は、測定値に影響を与える。そのため、実施例では、試料120がない状態で直接波を測定し、試料120がある状態の測定値から、直接波の測定値をベクトル的に除去した。また、測定では、タイムドメイン法を併用した。
【0097】
図14は、作製した抵抗皮膜22の周波数2GHz〜8GHzにおける面抵抗値の複素量の周波数特性を示している。図15は、作製した抵抗皮膜22の2GHz、5GHz、8GHzにおける面抵抗値の複素量と直流面抵抗値との関係を示している。図14および図15から分かるように、作製した抵抗皮膜22の面抵抗値の実部および虚部の値は、周波数が高くなるに従って小さくなる傾向にある。
【0098】
また、図15から分かるように、作製した抵抗皮膜22の面抵抗値の複素量と直流面抵抗値には相関があり、作製した抵抗皮膜22の面抵抗値の複素量は、直流面抵抗値に対して周波数毎の直線で表すことができる。従って、周波数を決めると、直流面抵抗値から面抵抗値の実部および虚部が求まる。この関係により、電波吸収体10を設計する際には、抵抗皮膜の面抵抗値を1変数として取り扱うことが可能になる。その結果、電波吸収体10の設計を、ニュートン法等で行うことが可能になる。また、上記の関係により、所望の面抵抗値を有する抵抗皮膜22を安定して製造することが可能になる。
【0099】
[第1の実施例]
次に、第1の実施例の電波吸収体10として、上述の特性を有する抵抗皮膜22を用いて、図1に示したように抵抗層13が1層のみの構成の電波吸収体10(以下、単層型電波吸収体と言う。)を設計および製造した。
【0100】
まず、第1の実施例の単層型電波吸収体の設計方法について説明する。図16は、前述のようにして作製した抵抗皮膜22の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表したものである。図16において、記号Mを付した曲線は、単層型電波吸収体の整合曲線を表わしている。なお、ここで言う整合曲線とは、整合条件を満たす面抵抗値の複素量の軌跡を表わす曲線である。図16から、周波数2GHz〜8GHzの範囲では、抵抗皮膜22の直流面抵抗値が約350〜500Ω□の範囲内のときに整合条件を満たすことが可能であり、これにより、スペーサの厚さが0.17λ〜0.09λの単層型電波吸収体が得られることが分かる。また、図16から分かるように、周波数が高くなるに従い、整合条件を満たすときのスペーサの厚さ(以下、整合厚さと言う。)が小さくなる傾向にある。
【0101】
以上の結果から、実施例において作製した抵抗皮膜22を用いた単層型電波吸収体における整合厚さは0.17〜0.09λとなる。従って、この単層型電波吸収体では、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体と比較して、厚さを約30〜65%小さくすることができる。
【0102】
次に、周波数帯として5.8GHz帯を使用するDSRCシステムに適用できる単層型電波吸収体について設計および製造を行った。このDSRCシステムを応用した各種アプリケーションを想定すると、不燃性を有する電波吸収体が求められる。従って、単層型電波吸収体を構成する材料には無機材料を使用した。
【0103】
設計および製造した単層型電波吸収体の構成は、図7に示した通りである。この単層型電波吸収体において、誘電体層121は、主に無機材料によって構成され、ハニカム形状を有している。誘電体層121における1つの孔の径は15mmである。また、抵抗皮膜221には、厚さ2mmの無機系の抵抗皮膜用基体211上に形成したものを用いた。この構造において、周波数帯5.8GHzにおいて反射減衰量が最大になるように、誘電体層121の最適な厚さと、抵抗皮膜221の最適な直流面抵抗値Rsとを、ニュートン法により求めた。その結果、誘電体層121の厚さは4.3mmとなり、抵抗皮膜221の直流面抵抗値Rsは470Ω□となった。なお、抵抗皮膜用基体211の複素比誘電率は2.8−j0.28とし、誘電体層121の複素比誘電率は1.05−j0とした。
【0104】
上記の設計結果から、作製した抵抗皮膜を用いた5.8GHz帯用の単層型電波吸収体の全体の厚さは6.3mmとなった。抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた5.8GHz帯用の単層型電波吸収体では、全体の厚さは11.3mmとなる。従って、本実施例の単層型電波吸収体では、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた単層型電波吸収体に比べて、厚さを約45%小さくすることができることが分かる。
【0105】
次に、上記の設計結果に基づいて、以下のようにして、実際に単層型電波吸収体を製造した。まず、電波反射体11としての金属板に誘電体層121を接着剤にて接着した。次に、抵抗皮膜用基体211上に抵抗皮膜221を形成してなる抵抗層131を、抵抗皮膜221が誘電体層121に接するように、誘電体層121に対して接着剤にて接着して、図7に示した構造の単層型電波吸収体を完成させた。この電波吸収体の大きさは、縦300mm、横300mmとした。ここで、実際に作製した抵抗皮膜221の直流面抵抗値は、測定の結果、405Ω□であった。また、製造した単層型電波吸収体の全体の厚さは6.7mmであった。
【0106】
次に、製造した単層型電波吸収体の電波吸収特性を、図13に示した測定システムおよび図13を参照して説明した測定方法を用いて測定した。この単層型電波吸収体の電波吸収特性を図17に示す。図17において、破線で示した曲線は、設計値に基づいて計算によって求めた電波吸収特性(以下、計算値と言う。)を表わしている。また、図17において、実線で示した2本の曲線はいずれも、実際に製造した単層型電波吸収体の電波吸収特性(以下、測定値と言う。)を表わしている。
【0107】
図17に示したように、測定値では、最大の反射減衰量が得られる周波数は5.6GHz〜5.7GHzであり、周波数5.8GHzにおける反射減衰量は約27〜29dBとなった。計算値に対して測定値が若干異なっている原因は、作製した抵抗皮膜の直流面抵抗値が設計値に比べて65Ω□低く、また、製造した電波吸収体の全体の厚さが設計値に比べて0.4mm大きくなったためであると考えられる。
【0108】
また、製造した電波吸収体について、電界の方向に対する抵抗皮膜の方向性に起因して、電界の方向によって電波吸収特性に違いがあるか否かを調べた。その結果、電界の方向による電波吸収特性の違いは小さいことが分かった。
【0109】
[第2の実施例]
次に、第2の実施例の電波吸収体10として、図3に示したように抵抗層13が2層の構成の電波吸収体10(以下、2層型電波吸収体と言う。)を設計および製造した。ここでは、オフィス内で使用される無線LANの周波数帯である2.4GHz帯と5.2GHz帯で機能する2層型電波吸収体について設計を行った。ここで、オフィス内の壁に使用される電波吸収体では不燃性が求められることから、電波吸収体を構成する材料には無機材料を使用した。
【0110】
設計および製造した2層型電波吸収体の構成は、図8に示した通りである。この2層型電波吸収体において、誘電体層121,122はいずれも、主に無機材料によって構成され、ハニカム形状を有している。誘電体層121,122における1つの孔の径は15mmである。抵抗皮膜221には、厚さ1mmの無機系の抵抗皮膜用基体211上に形成したものを用いた。また、抵抗皮膜222には、厚さ2mmの無機系の抵抗皮膜用基体212上に形成したものを用いた。この構造において、ニュートン法を用いて、抵抗皮膜221,222の直流面抵抗値Rs1,Rs2と、誘電体層121,122の厚さd1,d2を求めた。この2層型電波吸収体の設計結果を、下記の表に示す。この表には、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた2層型電波吸収体の設計結果も併せて示している。
【0111】
【表2】
【0112】
上記の設計結果から、実施例において作製した抵抗皮膜を用いた2層型電波吸収体の全体の厚さは約25mmとなった。抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた2層型電波吸収体では、全体の厚さは約35mmとなる。従って、本実施例の2層型電波吸収体では、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた2層型電波吸収体に比べて、厚さを約30%小さくすることができることが分かる。
【0113】
次に、上記の設計結果に基づいて、以下のようにして、実際に2層型電波吸収体を製造した。まず、電波反射体11としての金属板に誘電体層121を接着剤にて接着した。次に、抵抗皮膜用基体211上に抵抗皮膜221を形成してなる抵抗層131を、抵抗皮膜用基体211が誘電体層121に接するように、誘電体層121に対して接着剤にて接着した。次に、抵抗層131に誘電体層122を接着剤にて接着した。次に、抵抗皮膜用基体212上に抵抗皮膜222を形成してなる抵抗層132を、抵抗皮膜222が誘電体層122に接するように、誘電体層122に対して接着剤にて接着して、図8に示した構造の2層型電波吸収体を完成させた。この電波吸収体の大きさは、縦300mm、横300mmとした。ここで、実際に作製した抵抗皮膜221,222の直流面抵抗値は、測定の結果、それぞれ270Ω□,1859Ω□であった。また、製造した2層型電波吸収体の全体の厚さは25mmであった。
【0114】
次に、製造した2層型電波吸収体の電波吸収特性を、図13に示した測定システムおよび図13を参照して説明した測定方法を用いて測定した。この2層型電波吸収体の電波吸収特性を図18に示す。図18において、破線で示した曲線は、設計値に基づいて計算によって求めた電波吸収特性(計算値)を表わしている。また、図18において、実線で示した2本の曲線はいずれも、実際に製造した2層型電波吸収体の電波吸収特性(測定値)を表わしている。
【0115】
図18に示したように、測定値では、周波数2.4GHzと周波数5.2GHzにおける反射減衰量はいずれも20dB以上となった。これにより、本実施例の2層型電波吸収体では、双峰特性が得られることが確認できた。なお、周波数5.2GHzにおいて、計算値に対して測定値が若干異なっている原因は、作製した抵抗皮膜221,222の直流面抵抗値が、設計値に比べて10〜15%程度異なっているためであると考える。
【0116】
また、製造した電波吸収体について、電界の方向に対する抵抗皮膜の方向性に起因して、電界の方向によって電波吸収特性に違いがあるか否かを調べた。その結果、電界の方向による電波吸収特性の違いは小さいことが分かった。
【0117】
ここまでは、電波吸収体10の前面に対して電波が垂直に入射する場合について説明してきた。以下、電波吸収体10の前面に対して電波が斜め方向から入射する場合における電波吸収体10の設計方法について説明する。
【0118】
まず、図11に簡略化して示した電波吸収体10において、抵抗皮膜22に対して電波が斜め方向から入射する場合を考える。ここで、抵抗皮膜22に対する電波の入射角度、すなわち抵抗皮膜22の法線と電波の入射方向とのなす角度をθとする。また、この場合には、入射電波を、電界が入射面に垂直な偏波すなわちTE波と、磁界が入射面に垂直な偏波すなわちTM波とに分けて考える必要がある。
【0119】
まず、入射電波がTE波の場合について説明する。この場合、前出の式(1),(3)〜(5)に対応する式は、それぞれ以下の式(6)〜(9)になる。なお、TE波の場合には、スペーサを空気とした場合の整合条件は、前出の式(2)で表わされるインピーダンスZin *が1/cosθになることである。
【0120】
Z1 *={1/√(εr´−sin2θ)}・tanh{j・(2πd/λ)・√(εr´−sin2θ)} …(6)
【0121】
Real(Rs*)={sin(2πdcosθ/λ)}2・377/cosθ…(7)
【0122】
Imag(Rs*)=−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377/cosθ …(8)
【0123】
nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ (nは0以上の整数)…(9)
【0124】
一方、入射電波がTM波の場合は、前出の式(1),(3)〜(5)に対応する式は、それぞれ以下の式(10)〜(13)になる。なお、TM波の場合には、スペーサを空気とした場合の整合条件は、前出の式(2)で表わされるインピーダンスZin *がcosθになることである。
【0125】
Z1 *={√(εr´−sin2θ)/εr´}・tanh{j・(2πd/λ)・√(εr´−sin2θ)}…(10)
【0126】
Real(Rs*)={sin(2πdcosθ/λ)}2・377・cosθ…(11)
【0127】
Imag(Rs*)=−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377・cosθ …(12)
【0128】
nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ (nは0以上の整数)…(13)
【0129】
なお、式(6),(10)においてθ=0とすると式(1)と一致する。また、式(7),(11)においてθ=0とすると式(3)と一致する。また、式(8),(12)においてθ=0とすると式(4)と一致する。また、式(9),(13)においてθ=0とすると式(5)と一致する。従って、式(6)〜(13)は、θ=0の場合も含めると、電波吸収体10の前面に対して電波が垂直に入射する場合にも適用可能である。なお、θ=0の場合は、TE波とTM波の区別はなくなる。
【0130】
ここで、単層型電波吸収体について、入射角度θが30°、40°、50°、60°、70°、80°の各場合における面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を求めた結果を図19〜図30に示す。図19は、入射角度θが30°で、TE波の場合について示している。図20は、入射角度θが30°で、TM波の場合について示している。図21は、入射角度θが40°で、TE波の場合について示している。図22は、入射角度θが40°で、TM波の場合について示している。図23は、入射角度θが50°で、TE波の場合について示している。図24は、入射角度θが50°で、TM波の場合について示している。図25は、入射角度θが60°で、TE波の場合について示している。図26は、入射角度θが60°で、TM波の場合について示している。図27は、入射角度θが70°で、TE波の場合について示している。図28は、入射角度θが70°で、TM波の場合について示している。図29は、入射角度θが80°で、TE波の場合について示している。図30は、入射角度θが80°で、TM波の場合について示している。
【0131】
本実施の形態において、電波吸収体10に対する入射電波がTE波の場合には、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜22の面抵抗値の実部および虚部が、それぞれ、式(7),(8)より得られる値を含む所定の許容範囲内の値となるようにする。許容範囲は、式(7),(8)より得られる値に対して±30%の範囲であることが好ましく、±20%の範囲であることがより好ましく、±10%の範囲であることが更に好ましい。
【0132】
また、本実施の形態において、電波吸収体10に対する入射電波がTM波の場合には、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜22の面抵抗値の実部および虚部が、それぞれ、式(11),(12)より得られる値を含む所定の許容範囲内の値となるようにする。許容範囲は、式(11),(12)より得られる値に対して±30%の範囲であることが好ましく、±20%の範囲であることがより好ましく、±10%の範囲であることが更に好ましい。
【0133】
ここで、上記の許容範囲について説明する。まず、計算によって、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部を設計値に対して変化させたときの、反射減衰量(電波吸収量)が最大となる周波数における反射減衰量の最低値を求めた。その結果、スペーサの厚さが0.05λの場合には、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部を設計値に対して±10%の範囲内で変化させたときの反射減衰量の最低値は15.3(≒15)dBとなった。また、スペーサの厚さが0.1λの場合には、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部を設計値に対して±20%の範囲内で変化させたときの反射減衰量の最低値は14.5(≒15)dBとなった。また、スペーサの厚さが0.2λの場合には、抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部を設計値に対して±30%の範囲内で変化させたときの反射減衰量の最低値は14.6(≒15)dBとなった。
【0134】
ここで、面抵抗値の実部および虚部の許容範囲を、反射減衰量が最大となる周波数における反射減衰量として15dB以上を確保できる範囲とする。この場合、許容範囲は、スペーサの厚さが0.05λの場合には±10%となり、スペーサの厚さが0.1λの場合には±20%となり、スペーサの厚さが0.2λの場合には±30%となる。従って、本実施の形態において、スペーサの厚さを0.2λとするには許容範囲は±30%以内とする必要がある。また、スペーサの厚さを0.1λ〜0.2λの範囲内の任意の厚さとするには許容範囲は±20%以内とする必要がある。また、スペーサの厚さを0.05λ〜0.2λの範囲内の任意の厚さとするには許容範囲は±10%以内とする必要がある。以上のことから、本実施の形態において、許容範囲は、±30%以内とすることが好ましく、±20%以内とすることがより好ましく、±10%以内とすることが更に好ましい。
【0135】
次に、図31および図32を参照して、本実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の実部と虚部との関係について考察する。図31は、入射電波がTE波の場合について、入射角度θが0〜80°の範囲において、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表したものである。図31中の注釈において、“0°”はθが0°の場合を表わしている。また、“TEα°(α=30,40,50,60,70,80)”は、それぞれTE波の場合で、入射角度θが30°、40°、50°、60°、70°、80°の場合を表わしている。
【0136】
また、図32は、入射電波がTM波の場合について、入射角度θが0〜80°の範囲において、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表したものである。図32中の注釈において、“0°”はθが0°の場合を表わしている。また、“TMα°(α=30,40,50,60,70,80)”は、それぞれTM波の場合で、入射角度θが30°、40°、50°、60°、70°、80°の場合を表わしている。
【0137】
なお、図31および図32では、スペーサの厚さを、0.05λ/cosθ〜0.2λ/cosθの範囲内としている。抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体では、整合条件を満たすスペーサの厚さは0.25λ/cosθとなる。従って、0.05λ/cosθ〜0.2λ/cosθというスペーサの厚さの範囲は、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体におけるスペーサの厚さの20〜80%の範囲である。本実施の形態では、このように、単層型電波吸収体におけるスペーサの厚さを、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体におけるスペーサの厚さの20〜80%とすることを目標とする。以下、その理由について説明する。
【0138】
本実施の形態におけるスペーサの厚さが、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体におけるスペーサの厚さの80%を超える場合には、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体に比べて、本実施の形態に係る電波吸収体の厚みは顕著には小さくならない。一方、本実施の形態におけるスペーサの厚さが、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体におけるスペーサの厚さの20%未満となる場合には、そのような薄いスペーサを作製することが非常に困難になる。また、この場合には、スペーサの厚さの誤差および抵抗皮膜の面抵抗値の誤差が電波吸収体の電波吸収特性に与える影響が大きくなり、スペーサの厚さの制御も非常に困難になる。これらのことから、製造および取り扱いが容易で、且つ抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体に比べて十分薄い電波吸収体を実現するには、スペーサの厚さを、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体におけるスペーサの厚さの20〜80%とするのが好ましい。
【0139】
ここで、入射角度θを0〜80°の範囲内とし、スペーサの厚さを0.05λ/cosθ〜0.2λ/cosθの範囲内とする条件の下で、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の実部と虚部との関係について考察する。図31および図32から分かるように、TE波の場合もTM波の場合も、虚部の値を実部の値で除した値“虚部/実部”(図では傾きと記す。)は、−0.3〜−3.1の範囲内となっている。また、図31から分かるように、TE波の場合には、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は35〜2000Ω□の範囲内であり、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の虚部の値は−110〜−1100Ω□の範囲内である。また、図32から分かるように、TM波の場合には、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜350Ω□の範囲内であり、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の虚部の値は−15〜−190Ω□の範囲内である。
【0140】
以上のことから、本実施の形態にかかる電波吸収体10では、TE波とTM波の少なくとも一方の電波を吸収できるように、抵抗皮膜の面抵抗値は、以下の条件を満たすことが好ましい。その条件とは、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜2000Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−15〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることである。
【0141】
また、本実施の形態にかかる電波吸収体10では、TE波の電波を吸収する場合には、抵抗皮膜の面抵抗値は、以下の条件を満たすことが好ましい。その条件とは、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は35〜2000Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−110〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることである。
【0142】
また、本実施の形態にかかる電波吸収体10では、TM波の電波を吸収する場合には、抵抗皮膜の面抵抗値は、以下の条件を満たすことが好ましい。その条件とは、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜350Ω□の範囲内であり、面抵抗値の虚部の値は−15〜−190Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることである。
【0143】
以上説明したように、本実施の形態によれば、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体に比べて薄く、且つ容易に設計および製造することのできる電波吸収体を実現することができる。
【0144】
電波吸収体10が複数組の誘電体層および抵抗皮膜を備えている場合には、そのうちの少なくとも1組の誘電体層および抵抗皮膜が、ここまで説明してきた条件を満たすことが好ましい。
【0145】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、電波吸収体10を構成する各層の材料は、実施の形態に示したものに限らず、適宜選択することができる。
【0146】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電波吸収体によれば、抵抗成分のみを有する抵抗皮膜を用いた電波吸収体に比べて薄く、且つ容易に設計および製造することのできる電波吸収体を実現することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の基本構成の第1の例を示す断面図である。
【図2】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の基本構成の第2の例を示す断面図である。
【図3】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の基本構成の第3の例を示す断面図である。
【図4】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の基本構成の第4の例を示す断面図である。
【図5】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の構成の他の例を示す断面図である。
【図6】本発明の一実施の形態における抵抗層の形成方法を示す説明図である。
【図7】複数の孔を有する板状の部材によって形成された誘電体層を有する電波吸収体の構成の第1の例を示す斜視図である。
【図8】複数の孔を有する板状の部材によって形成された誘電体層を有する電波吸収体の構成の第2の例を示す斜視図である。
【図9】複数の孔を有する板状の部材によって形成された誘電体層を有する電波吸収体の構成の第3の例を示す斜視図である。
【図10】複数の孔を有する板状の部材によって形成された誘電体層を有する電波吸収体の構成の第4の例を示す斜視図である。
【図11】本発明の一実施の形態に係る電波吸収体の構成を簡略化して示す斜視図である。
【図12】本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図13】抵抗皮膜の面抵抗値の評価のために用いられる測定システムの構成を示す説明図である。
【図14】本発明の一実施の形態における実施例で作製した抵抗皮膜の面抵抗値の複素量の周波数特性を示す特性図である。
【図15】本発明の一実施の形態における実施例で作製した抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と直流面抵抗値との関係を示す特性図である。
【図16】本発明の一実施の形態における実施例で作製した抵抗皮膜の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表した特性図である。
【図17】本発明の一実施の形態における実施例で製造した単層型電波吸収体の電波吸収特性を示す特性図である。
【図18】本発明の一実施の形態における実施例で製造した2層型電波吸収体の電波吸収特性を示す特性図である。
【図19】入射角度θが30°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図20】入射角度θが30°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図21】入射角度θが40°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図22】入射角度θが40°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図23】入射角度θが50°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図24】入射角度θが50°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図25】入射角度θが60°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図26】入射角度θが60°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図27】入射角度θが70°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図28】入射角度θが70°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図29】入射角度θが80°で入射電波がTE波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図30】入射角度θが80°で入射電波がTM波の場合について、本発明の一実施の形態における抵抗皮膜の面抵抗値の複素量と規格化整合厚さとの関係を示す特性図である。
【図31】入射電波がTE波の場合について、入射角度θが0〜80°の範囲において、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表した特性図である。
【図32】入射電波がTM波の場合について、入射角度θが0〜80°の範囲において、整合条件を満たす抵抗皮膜の面抵抗値の複素量をコールコールプロットとして表した特性図である。
【符号の説明】
10…電波吸収体、11…電波反射体、12,121,122…誘電体層、13,131,132…抵抗層、21,211,212…抵抗皮膜用基体、22,221,222…抵抗皮膜。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a radio wave absorber used in EMC (electromagnetic compatibility) technology for reducing radio wave interference and radio wave interference in the field of information communication.
[0002]
[Prior art]
In recent years, as microwave and millimeter wave radio waves have been used, problems such as radio wave interference and radio wave interference have occurred. As one of means for solving these problems, a radio wave absorber is used, which has a great effect. In general, radio wave absorbers used for microwaves and millimeter waves have a wave length of 1/4 wavelength from a wave absorber formed by mixing a loss material such as ferrite or carbon with a holding material such as resin, or a wave reflector. There is a λ / 4 type wave absorber having a resistive film disposed at a position.
[0003]
It is considered that a radio wave absorber using a resistance film has existed for a long time and was put into practical use in the early 1940s. It seems that paper and the like into which oil smoke was injected were used as the initial resistance film. Thereafter, wave absorbers using resistance cloths or carbon fiber resistors woven with conductive fibers and polyester yarn have been developed and put into practical use. In recent years, with the development of transparent touch panels and display elements such as electroluminescence elements, transparent wave absorbers using transparent conductive films, which are thin films having both transparency and conductivity, have been researched and developed as resistance films. .
[0004]
Various materials are used as the material of the transparent conductive film, and the material having the best performance is indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), which is used for, for example, a transparent conductive film. In this transparent conductive film, polyethylene terephthalate is generally used as a base material. A transparent conductive film is manufactured by forming an ITO film on the surface of the base material by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like. This λ / 4 type wave absorber using a conductive film is constructed by attaching a radio wave reflector to one surface of a dielectric layer called a spacer and attaching a conductive film to the other surface of the spacer. .
[0005]
Usually, the electrical characteristics of the conductive film are characterized by its resistance component. Therefore, most of the conductive films do not have a capacitive susceptance. In the λ / 4 type wave absorber using such a conductive film, the thickness of the spacer is 1/4 of the wavelength in the spacer.
[0006]
In
[0007]
[0008]
[Patent Document 1]
JP 2001-320191 A
[Non-Patent Document 1]
Shimizu, Sugiura, Ishino, "Latest absorption and shielding of electromagnetic waves", Nikkei Technical Books, 1999, p. 135-138
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
In particular, it is preferable that the radio wave absorber used indoors is thin. However, in a λ / 4 type wave absorber using a resistive film having no capacitive susceptance, it cannot be made thinner than ¼ of the wavelength in the spacer. Therefore, in the λ / 4 type wave absorber, for example, a frequency selection plate is inserted into the spacer so as to be in parallel with the conductive film as the resistance film, and the phase of the radio wave is changed in the spacer by the frequency selection plate. Thus, a device for reducing the thickness of the radio wave absorber has been made. However, in this method, it is necessary to insert the frequency selection plate between the radio wave reflector and the conductive film with high accuracy. Therefore, when this method is used, it is difficult to manufacture the radio wave absorber, and there is a problem that the manufacturing cost of the radio wave absorber including the manufacturing cost of the frequency selection plate is high.
[0010]
Non-Patent
[0011]
[0012]
[0013]
The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is a radio wave absorber using a resistive film having a capacitive susceptance, and a radio wave absorber using a resistive film having only a resistive component. An object of the present invention is to provide a radio wave absorber that is thinner than the above and can be easily designed and manufactured.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
Each of the first to fifth wave absorbers of the present invention is disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector, the dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector, and the dielectric layer. And a resistive film.
[0015]
In the first electromagnetic wave absorber of the present invention, the real part of the resistance value of the resistance film is 5 to 2000 Ω □ at a frequency at which the return loss is maximum in the frequency range of radio waves of 0.8 GHz to 18 GHz. Within the range, the value of the imaginary part of the sheet resistance value is within the range of −15 to −1100Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is −0.3 to −3.1. Within range.
[0016]
In the second wave absorber of the present invention, the real part value of the surface resistance value of the resistive film is 35 to 2000 Ω □ at the frequency at which the return loss is maximum in the frequency range of the radio wave of 0.8 GHz to 18 GHz. Within the range, the value of the imaginary part of the sheet resistance value is within the range of −110 to −1100Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is −0.3 to −3.1. Within range.
[0017]
In the third wave absorber of the present invention, the real part value of the surface resistance value of the resistance film is 5 to 350 Ω □ at the frequency at which the return loss is maximum in the frequency range of the radio wave of 0.8 GHz to 18 GHz. The value of the imaginary part of the sheet resistance value is in the range of −15 to −190Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is −0.3 to −3.1. Within range.
[0018]
In the fourth radio wave absorber of the present invention, when the thickness of the dielectric layer is d, the wavelength of the radio wave in the dielectric layer is λ, and the incident angle of the radio wave to the resistance film is θ, 0.8 GHz to 18 GHz The real part and the imaginary part of the surface resistance value of the resistance film are each within a range of ± 30% of the value obtained from the following equation at the frequency at which the return loss amount is maximum within the frequency range of the radio wave.
Real part: {sin (2πd cos θ / λ)}2・ 377 / cosθ
Imaginary part:-[{sin (4πdcosθ / λ)} / 2] · 377 / cosθ
However, nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer of 0 or more)
[0019]
In the fifth wave absorber of the present invention, when the thickness of the dielectric layer is d, the wavelength of the radio wave in the dielectric layer is λ, and the incident angle of the radio wave to the resistance film is θ, 0.8 GHz to 18 GHz The real part and the imaginary part of the surface resistance value of the resistance film are each within a range of ± 30% of the value obtained from the following equation at the frequency at which the return loss amount is maximum within the frequency range of the radio wave.
Real part: {sin (2πd cos θ / λ)}2・ 377 ・ cos θ
Imaginary part:-[{sin (4πdcosθ / λ)} / 2] · 377 · cosθ
However, nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer of 0 or more)
[0020]
The radio wave absorber of the present invention further includes one or more second dielectric layers and a second resistive film disposed between the radio wave reflector and the dielectric layer or on the radio wave arrival side of the resistive film. It may be.
[0021]
The radio wave absorber according to the present invention further includes another dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the resistive film disposed on the surface farthest from the radio wave reflector, and radio wave arrival at the other dielectric layer. And a radio wave absorption characteristic adjusting dielectric layer disposed on the side.
[0022]
The radio wave absorber of the present invention further includes a plate-shaped or sheet-shaped resistance film substrate, and the resistance film is formed by mixing a conductive material with a coating agent and applied to the resistance film substrate. It may be formed of a conductive paint.
[0023]
The coating agent may contain at least one of an inorganic coating agent and an organic coating agent. The conductive material may contain at least one of a scale-like conductive powder and a granular conductive powder. The material of the scale-like conductive powder or the granular conductive powder may contain graphite, carbon, metal powder or metal oxide. The conductive material includes both flaky conductive powder and granular conductive powder, and the flaky conductive powder material and granular conductive powder material include graphite, carbon, metal powder and metal. Different materials of oxides may be used. Moreover, 85 weight% or more may be sufficient as the ratio of the scale-like electroconductive powder in an electroconductive material. The resistance film substrate is mainly made of an inorganic material and may be nonflammable.
[0024]
In the radio wave absorber of the present invention, the thickness of the resistance film may be 70 μm or more and 200 μm or less.
[0025]
In the radio wave absorber of the present invention, the dielectric layer is mainly made of an inorganic material and may be nonflammable.
[0026]
In the radio wave absorber of the present invention, the dielectric layer may be formed of a plate-like member having a plurality of holes penetrating in the radio wave traveling direction or a plate-like foam. In this case, the dielectric layer has a first surface on the radio wave arrival side and a second surface on the opposite side, and at least the first surface of the first surface and the second surface is: It may be covered with a plate-like or sheet-like member mainly made of an inorganic material.
[0027]
The radio wave absorber of the present invention may further include an interior material arranged so as to cover the surface farthest from the radio wave reflector.
[0028]
In the radio wave absorber of the present invention, the surface farthest from the radio wave reflector may be coated.
[0029]
In the radio wave absorber of the present invention, the radio wave reflector includes a plate-like radio wave reflector base mainly made of an inorganic material, and a conductive film disposed on the radio wave arrival side surface of the radio wave reflector base. And may be nonflammable.
[0030]
In this application, “non-combustible” means that it has non-combustible performance that conforms to the non-combustible material specified in the Building Standard Law, and that is equivalent to the non-combustible performance of the non-combustible material specified in the Building Standard Law. Say that you have.
[0031]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, the configuration of the radio wave absorber according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4. 1 to 4 are sectional views showing first to fourth examples of the basic configuration of the radio wave absorber according to the present embodiment. 1 to 4, the arrow indicated by
[0032]
A
[0033]
The
[0034]
The
[0035]
The
[0036]
The
[0037]
The configurations of the
[0038]
Hereinafter, the dielectric layers in FIGS. 1 to 4 are representatively referred to as dielectric layers 12. Also, the resistance layers in FIGS. 1 to 4 are referred to as resistance layers 13 as representatives.
[0039]
In the
[0040]
The radio wave absorption characteristic of the
[0041]
The
[0042]
The
[0043]
As shown in FIG. 5, the
[0044]
The interior material 15 plays a role as a decorative material when the
[0045]
In the
[0046]
In the
[0047]
Next, a method for forming the
[0048]
The
[0049]
As shown in FIG. 6, as a method for applying the
[0050]
There is no restriction | limiting in particular as an inorganic coating agent used for the
[0051]
There is no restriction | limiting in particular as an organic type coating agent used for the
[0052]
Moreover, as a coating agent used for the
[0053]
Further, when the
[0054]
Here, an example of the manufacturing method of the
[0055]
The fact that the
[0056]
The
[0057]
The material and manufacturing method of the radio wave absorption characteristic adjusting
[0058]
There is no restriction | limiting as an inorganic adhesive, The thing conventionally used as an inorganic adhesive which has a nonflammability can be used. As the inorganic adhesive, for example, a water-soluble or water-dispersed inorganic adhesive configured by mixing an aluminum phosphate solution, colloidal silica, colloidal alumina or the like with a curing agent, a catalyst, or the like can be used. .
[0059]
When the
[0060]
Next, the
[0061]
The
[0062]
The
[0063]
The
[0064]
The
[0065]
As in the example shown in FIGS. 7 to 10, by using a plate-like member having a plurality of holes penetrating in the traveling direction of the radio wave as the
[0066]
The honeycomb-shaped, corrugated-shaped, or lattice-shaped
[0067]
When the
[0068]
When the
[0069]
The
[0070]
Next, the
[0071]
When the metal foil is bonded to the radio wave reflector substrate, for example, an inorganic adhesive or an organic adhesive is used. In the case of using an organic adhesive, it is necessary to make the adhesive layer thin so that the non-flammability of the
[0072]
The conductive paint may be organic, but is preferably inorganic. When using an organic conductive paint, it is necessary to reduce the coating thickness of the conductive paint so that the non-flammability of the
[0073]
The
[0074]
Hereinafter, a design method of the
[0075]
Now, as shown in FIG. 11, consider a case where a plane wave is vertically incident on the
[0076]
Normalized input impedance Z at the front of the spacer1 *(* Represents a complex number) is the dielectric constant of the spacer material εrIf it is set to ′, it is expressed by the equation (1) from the transmission line theory. “J” represents √ (−1). In addition, normalization in the normalized input impedance means that the normalized input impedance is normalized by the characteristic impedance (≈377Ω) in free space.
[0077]
Z1 *= {1 / √ (εr′)} · Tanh {j · (2πd / λ) · √ (εr')} ... (1)
[0078]
Next, the sheet resistance value Rs of the
[0079]
Zin *= {(Rs*/ 377) ・ Z1 *} / {(Rs*/ 377) + Z1 *} ... (2)
[0080]
Impedance Zin *Becomes 1, the reflection coefficient on the surface of the
[0081]
When the spacer is air, the complex amount (real part and imaginary part) of the surface resistance value of the
[0082]
Real (Rs*) = {Sin (2πd / λ)}2・ 377 (3)
[0083]
Imag (Rs*) = − [{Sin (4πd / λ)} / 2] · 377 (4)
[0084]
The thickness d is in the range represented by the following formula (5).
[0085]
nλ / 2 <d <(n + 1) λ / 2 (n is an integer greater than or equal to 0) (5)
[0086]
Here, a value d / λ obtained by dividing the spacer thickness d by the wavelength λ is called a normalized matching thickness. FIG. 12 shows the result of obtaining the relationship between the complex amount of the sheet resistance value and the normalized matching thickness from the equations (3) and (4).
[0087]
As can be seen from the equations (3), (4) and FIG. 12, the real part and the imaginary part of the sheet resistance value change periodically with respect to the change in the normalized matching thickness. Here, from FIG. 12, when the imaginary part of the sheet resistance value is a negative value, that is, when it is capacitive, the spacer thickness d becomes smaller than ¼ of the wavelength λ, and the imaginary part of the sheet resistance value. When is a positive value, that is, inductive, the thickness d of the spacer is found to be larger than ¼ of the wavelength λ. Thus, by using the
[0088]
In the present embodiment, when the radio wave is incident on the front surface of the
[0089]
Hereinafter, examples of the
First, a method for producing the
[0090]
The blending amounts of the conductive powder and the binder in the
[0091]
[Table 1]
[0092]
As shown in the above table, the
[0093]
Next, a method for evaluating the sheet resistance value of the
[0094]
FIG. 13 shows the configuration of the measurement system used for the above-described evaluation of the sheet resistance value. This measurement system includes a
[0095]
The
[0096]
A direct wave that directly reaches the receiving
[0097]
FIG. 14 shows the frequency characteristics of the complex amount of the surface resistance value at a frequency of 2 GHz to 8 GHz of the produced
[0098]
Further, as can be seen from FIG. 15, there is a correlation between the complex amount of the surface resistance value of the manufactured
[0099]
[First embodiment]
Next, as the
[0100]
First, the design method of the single layer type wave absorber of the first embodiment will be described. FIG. 16 shows a complex amount of the sheet resistance value of the
[0101]
From the above results, the matching thickness in the single-layer wave absorber using the
[0102]
Next, a single-layer wave absorber that can be applied to a DSRC system that uses the 5.8 GHz band as a frequency band was designed and manufactured. Assuming various applications to which this DSRC system is applied, a radio wave absorber having nonflammability is required. Therefore, an inorganic material is used as the material constituting the single-layer type electromagnetic wave absorber.
[0103]
The structure of the designed and manufactured single-layer wave absorber is as shown in FIG. In this single-layer type electromagnetic wave absorber, the
[0104]
From the above design results, the overall thickness of the single-layer type wave absorber for the 5.8 GHz band using the produced resistive film was 6.3 mm. In a single layer type wave absorber for a 5.8 GHz band using a resistance film having only a resistance component, the overall thickness is 11.3 mm. Therefore, it can be seen that the thickness of the single-layer wave absorber of this example can be reduced by about 45% compared to the single-layer wave absorber using a resistance film having only a resistance component.
[0105]
Next, based on the above design results, a single-layer wave absorber was actually manufactured as follows. First, a
[0106]
Next, the radio wave absorption characteristics of the manufactured single-layer type radio wave absorber were measured using the measurement system shown in FIG. 13 and the measurement method described with reference to FIG. FIG. 17 shows the radio wave absorption characteristics of this single-layer type radio wave absorber. In FIG. 17, a curve indicated by a broken line represents a radio wave absorption characteristic (hereinafter referred to as a calculated value) obtained by calculation based on a design value. In FIG. 17, the two curves shown by solid lines both represent the radio wave absorption characteristics (hereinafter referred to as measured values) of the actually manufactured single-layer type radio wave absorber.
[0107]
As shown in FIG. 17, in the measured value, the frequency at which the maximum return loss was obtained was 5.6 GHz to 5.7 GHz, and the return loss at the frequency of 5.8 GHz was about 27 to 29 dB. The reason why the measured value is slightly different from the calculated value is that the DC resistance value of the manufactured resistive film is 65Ω □ lower than the designed value, and the total thickness of the manufactured wave absorber is the designed value. This is considered to be due to 0.4 mm increase.
[0108]
Further, the manufactured radio wave absorber was examined for whether there is a difference in radio wave absorption characteristics depending on the direction of the electric field due to the directionality of the resistance film with respect to the direction of the electric field. As a result, it was found that the difference in radio wave absorption characteristics depending on the direction of the electric field was small.
[0109]
[Second Embodiment]
Next, as the
[0110]
The structure of the designed and manufactured two-layer type electromagnetic wave absorber is as shown in FIG. In this two-layer type electromagnetic wave absorber, the
[0111]
[Table 2]
[0112]
From the above design results, the overall thickness of the two-layered electromagnetic wave absorber using the resistance film produced in the example was about 25 mm. In a two-layer type electromagnetic wave absorber using a resistance film having only a resistance component, the overall thickness is about 35 mm. Therefore, it can be seen that the thickness of the two-layer type wave absorber of this example can be reduced by about 30% compared to the two-layer type wave absorber using a resistance film having only a resistance component.
[0113]
Next, based on the above design results, a two-layer type electromagnetic wave absorber was actually manufactured as follows. First, a
[0114]
Next, the radio wave absorption characteristics of the manufactured two-layer type radio wave absorber were measured using the measurement system shown in FIG. 13 and the measurement method described with reference to FIG. The radio wave absorption characteristics of this two-layer type radio wave absorber are shown in FIG. In FIG. 18, the curve indicated by the broken line represents the radio wave absorption characteristic (calculated value) obtained by calculation based on the design value. In FIG. 18, the two curves indicated by solid lines both represent the radio wave absorption characteristics (measured values) of the actually manufactured two-layer type radio wave absorber.
[0115]
As shown in FIG. 18, in the measured values, the return loss at the frequency of 2.4 GHz and the frequency of 5.2 GHz is both 20 dB or more. Thereby, it was confirmed that the two-layered electromagnetic wave absorber of this example can obtain the bimodal characteristics. The reason why the measured value is slightly different from the calculated value at the frequency of 5.2 GHz is that the produced
[0116]
Further, the manufactured radio wave absorber was examined for whether there is a difference in radio wave absorption characteristics depending on the direction of the electric field due to the directionality of the resistance film with respect to the direction of the electric field. As a result, it was found that the difference in radio wave absorption characteristics depending on the direction of the electric field was small.
[0117]
Up to this point, the case where radio waves are incident on the front surface of the
[0118]
First, let us consider a case where radio waves are incident on the
[0119]
First, the case where the incident radio wave is a TE wave will be described. In this case, the expressions corresponding to the above expressions (1) and (3) to (5) are the following expressions (6) to (9), respectively. In the case of the TE wave, the matching condition when the spacer is air is the impedance Z expressed by the above equation (2).in *Is 1 / cos θ.
[0120]
Z1 *= {1 / √ (εr'-Sin2θ)} · tanh {j · (2πd / λ) · √ (εr'-Sin2θ)} (6)
[0121]
Real (Rs*) = {Sin (2πdcos θ / λ)}2・ 377 / cos θ (7)
[0122]
Imag (Rs*) = − [{Sin (4πdcos θ / λ)} / 2] · 377 / cos θ (8)
[0123]
nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer greater than or equal to 0) (9)
[0124]
On the other hand, when the incident radio wave is a TM wave, the expressions corresponding to the above expressions (1) and (3) to (5) are the following expressions (10) to (13), respectively. In the case of the TM wave, the matching condition when the spacer is air is the impedance Z expressed by the above equation (2).in *Is cos θ.
[0125]
Z1 *= {√ (εr'-Sin2θ) / εr′} · Tanh {j · (2πd / λ) · √ (εr'-Sin2θ)} (10)
[0126]
Real (Rs*) = {Sin (2πdcos θ / λ)}2・ 377 ・ cos θ (11)
[0127]
Imag (Rs*) = − [{Sin (4πdcos θ / λ)} / 2] · 377 · cos θ (12)
[0128]
nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer greater than or equal to 0) (13)
[0129]
It should be noted that if θ = 0 in the equations (6) and (10), the equation (1) coincides. Further, when θ = 0 in the equations (7) and (11), it agrees with the equation (3). Further, in the equations (8) and (12), when θ = 0, the equation agrees with the equation (4). Further, in the equations (9) and (13), when θ = 0, the equation agrees with the equation (5). Therefore, Expressions (6) to (13) can be applied to a case where radio waves are incident on the front surface of the
[0130]
Here, regarding the single-layer type wave absorber, the relationship between the complex amount of the surface resistance value and the normalized matching thickness when the incident angle θ is 30 °, 40 °, 50 °, 60 °, 70 °, and 80 °. The results obtained are shown in FIGS. FIG. 19 shows a case where the incident angle θ is 30 ° and the TE wave. FIG. 20 shows the case of the TM wave when the incident angle θ is 30 °. FIG. 21 shows a case where the incident angle θ is 40 ° and the TE wave. FIG. 22 shows the case where the incident angle θ is 40 ° and the TM wave. FIG. 23 shows a case where the incident angle θ is 50 ° and the TE wave. FIG. 24 shows the case where the incident angle θ is 50 ° and the TM wave. FIG. 25 shows a case where the incident angle θ is 60 ° and the TE wave. FIG. 26 shows the case where the incident angle θ is 60 ° and the TM wave. FIG. 27 shows a case where the incident angle θ is 70 ° and the TE wave. FIG. 28 shows the case of the TM wave when the incident angle θ is 70 °. FIG. 29 shows a case where the incident angle θ is 80 ° and the TE wave. FIG. 30 shows the case where the incident angle θ is 80 ° and the TM wave.
[0131]
In the present embodiment, when the incident radio wave to the
[0132]
Further, in the present embodiment, when the incident radio wave to the
[0133]
Here, the allowable range will be described. First, the minimum value of the return loss at the frequency at which the return loss (radio wave absorption) is the maximum when the real and imaginary parts of the surface resistance value of the resistance film are changed with respect to the design value is calculated. Asked. As a result, when the thickness of the spacer is 0.05λ, the return loss when the real part and the imaginary part of the surface resistance value of the resistance film are changed within a range of ± 10% with respect to the design value. The lowest value was 15.3 (≈15) dB. When the spacer thickness is 0.1λ, the minimum return loss when the real part and the imaginary part of the surface resistance value of the resistive film are changed within a range of ± 20% of the design value. The value was 14.5 (≈15) dB. When the spacer thickness is 0.2λ, the minimum return loss when the real part and the imaginary part of the surface resistance value of the resistive film are changed within a range of ± 30% of the design value. The value was 14.6 (≈15) dB.
[0134]
Here, the allowable range of the real part and the imaginary part of the sheet resistance value is set to a range in which 15 dB or more can be secured as the return loss at the frequency at which the return loss is maximum. In this case, the allowable range is ± 10% when the spacer thickness is 0.05λ, ± 20% when the spacer thickness is 0.1λ, and the spacer thickness is 0.2λ. In this case, ± 30%. Therefore, in the present embodiment, the allowable range needs to be within ± 30% in order to set the spacer thickness to 0.2λ. In addition, in order to set the spacer thickness to an arbitrary thickness within the range of 0.1λ to 0.2λ, the allowable range needs to be within ± 20%. In addition, the allowable range needs to be within ± 10% in order to set the spacer thickness to an arbitrary thickness within the range of 0.05λ to 0.2λ. From the above, in the present embodiment, the allowable range is preferably within ± 30%, more preferably within ± 20%, and even more preferably within ± 10%.
[0135]
Next, with reference to FIGS. 31 and 32, the relationship between the real part and the imaginary part of the sheet resistance value of the resistance film in the present embodiment will be considered. FIG. 31 shows a Cole-Cole plot of the complex amount of the surface resistance value of the resistance film satisfying the matching condition when the incident radio wave is a TE wave and the incident angle θ is in the range of 0 to 80 °. In the annotation in FIG. 31, “0 °” represents the case where θ is 0 °. “TEα ° (α = 30, 40, 50, 60, 70, 80)” is the case of TE wave, and the incident angle θ is 30 °, 40 °, 50 °, 60 °, 70 °, 80, respectively. Indicates the case of °.
[0136]
FIG. 32 is a Cole-Cole plot showing the complex amount of the surface resistance value of the resistance film satisfying the matching condition when the incident radio wave is TM wave and the incident angle θ is in the range of 0 to 80 °. . In the annotation in FIG. 32, “0 °” represents the case where θ is 0 °. “TMα ° (α = 30, 40, 50, 60, 70, 80)” is the case of TM waves, and the incident angle θ is 30 °, 40 °, 50 °, 60 °, 70 °, 80. Indicates the case of °.
[0137]
In FIGS. 31 and 32, the thickness of the spacer is in the range of 0.05λ / cos θ to 0.2λ / cos θ. In the radio wave absorber using the resistance film having only the resistance component, the thickness of the spacer that satisfies the matching condition is 0.25λ / cos θ. Therefore, the range of the spacer thickness of 0.05λ / cos θ to 0.2λ / cos θ is a range of 20 to 80% of the thickness of the spacer in the radio wave absorber using the resistance film having only the resistance component. In the present embodiment, the thickness of the spacer in the single-layer wave absorber is thus set to 20 to 80% of the thickness of the spacer in the wave absorber using the resistance film having only the resistance component. Goal. The reason will be described below.
[0138]
When the thickness of the spacer in this embodiment exceeds 80% of the thickness of the spacer in the radio wave absorber using the resistance film having only the resistance component, the radio wave absorption using the resistance film having only the resistance component Compared with the body, the thickness of the radio wave absorber according to the present embodiment is not significantly reduced. On the other hand, when the thickness of the spacer in this embodiment is less than 20% of the thickness of the spacer in the radio wave absorber using the resistance film having only the resistance component, such a thin spacer is manufactured. Becomes very difficult. Further, in this case, the influence of the error in the spacer thickness and the error in the surface resistance value of the resistance film on the radio wave absorption characteristics of the radio wave absorber becomes large, and it becomes very difficult to control the thickness of the spacer. For these reasons, in order to realize a radio wave absorber that is easy to manufacture and handle and that is sufficiently thin compared to a radio wave absorber that uses a resistance film having only a resistance component, the thickness of the spacer is reduced only to the resistance component. The thickness of the spacer in the radio wave absorber using the resistance film is preferably 20 to 80%.
[0139]
Here, the surface of the resistance film satisfying the matching condition under the condition that the incident angle θ is in the range of 0 to 80 ° and the thickness of the spacer is in the range of 0.05λ / cos θ to 0.2λ / cos θ. Consider the relationship between the real part and the imaginary part of the resistance value. As can be seen from FIGS. 31 and 32, in both the case of the TE wave and the case of the TM wave, a value “imaginary part / real part” (denoted as a slope in the figure) obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part. , −0.3 to −3.1. Further, as can be seen from FIG. 31, in the case of the TE wave, the real part value of the surface resistance value of the resistance film satisfying the matching condition is in the range of 35 to 2000Ω □, and the surface of the resistance film satisfying the matching condition. The value of the imaginary part of the resistance value is within a range of −110 to −1100Ω □. Further, as can be seen from FIG. 32, in the case of TM waves, the real part of the surface resistance value of the resistance film satisfying the matching condition is in the range of 5 to 350Ω □, and the surface of the resistance film satisfying the matching condition The value of the imaginary part of the resistance value is in the range of −15 to −190Ω □.
[0140]
From the above, in the
[0141]
Moreover, in the
[0142]
In the
[0143]
As described above, according to the present embodiment, it is possible to realize a radio wave absorber that is thinner than a radio wave absorber using a resistance film having only a resistance component and can be easily designed and manufactured. it can.
[0144]
When the
[0145]
In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible. For example, the material of each layer constituting the
[0146]
【The invention's effect】
As described above, according to the radio wave absorber of the present invention, a radio wave absorber that is thinner than a radio wave absorber using a resistance film having only a resistance component and can be easily designed and manufactured is realized. There is an effect that can be.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first example of a basic configuration of a radio wave absorber according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second example of the basic configuration of the radio wave absorber according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a third example of the basic configuration of the radio wave absorber according to the embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a fourth example of the basic configuration of the radio wave absorber according to the embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of the configuration of the radio wave absorber according to the embodiment of the present invention.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a method of forming a resistance layer in one embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a perspective view showing a first example of a configuration of a radio wave absorber having a dielectric layer formed by a plate-like member having a plurality of holes.
FIG. 8 is a perspective view showing a second example of a configuration of a radio wave absorber having a dielectric layer formed by a plate-like member having a plurality of holes.
FIG. 9 is a perspective view showing a third example of a configuration of a radio wave absorber having a dielectric layer formed by a plate-like member having a plurality of holes.
FIG. 10 is a perspective view showing a fourth example of the configuration of the radio wave absorber having a dielectric layer formed by a plate-like member having a plurality of holes.
FIG. 11 is a perspective view showing a simplified configuration of a radio wave absorber according to an embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in one embodiment of the present invention.
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a configuration of a measurement system used for evaluating a surface resistance value of a resistance film.
FIG. 14 is a characteristic diagram showing a frequency characteristic of a complex amount of a surface resistance value of a resistance film produced in an example of one embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the sheet resistance value and the DC sheet resistance value of the resistance film produced in the example of the embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a characteristic diagram showing a complex amount of the surface resistance value of the resistance film produced in the example of the embodiment of the present invention as a Cole-Cole plot.
FIG. 17 is a characteristic diagram showing radio wave absorption characteristics of a single-layer radio wave absorber manufactured in an example of one embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a characteristic diagram showing radio wave absorption characteristics of the two-layer type radio wave absorber manufactured in the example of the embodiment of the present invention.
FIG. 19 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 30 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 20 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in one embodiment of the present invention when the incident angle θ is 30 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 21 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 40 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 22 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 40 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 23 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 50 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 24 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 50 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 25 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 60 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 26 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 60 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 27 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 70 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 28 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 70 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 29 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in an embodiment of the present invention when the incident angle θ is 80 ° and the incident radio wave is a TE wave. is there.
FIG. 30 is a characteristic diagram showing the relationship between the complex amount of the surface resistance value of the resistive film and the normalized matching thickness in one embodiment of the present invention when the incident angle θ is 80 ° and the incident radio wave is a TM wave. is there.
FIG. 31 is a characteristic diagram representing, as a Cole-Cole plot, a complex amount of a surface resistance value of a resistance film satisfying a matching condition when an incident radio wave is a TE wave and an incident angle θ is in a range of 0 to 80 °.
FIG. 32 is a characteristic diagram showing a complex amount of the surface resistance value of the resistance film satisfying the matching condition as a Cole-Cole plot when the incident radio wave is a TM wave and the incident angle θ is in the range of 0 to 80 °.
[Explanation of symbols]
10 ... Radio wave absorber, 11 ... Radio wave reflector, 12,121, 122...
Claims (21)
前記電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、
前記誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えた電波吸収体であって、
0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、前記抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜2000Ω□の範囲内であり、前記面抵抗値の虚部の値は−15〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることを特徴とする電波吸収体。Radio wave reflector,
A dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector,
A radio wave absorber comprising a resistive film disposed on the radio wave arrival side in the dielectric layer,
In the frequency range where the return loss is maximum within the frequency range of radio waves of 0.8 GHz to 18 GHz, the real part of the surface resistance value of the resistance film is in the range of 5 to 2000 Ω □, The value of the imaginary part is in the range of −15 to −1100Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is in the range of −0.3 to −3.1. Radio wave absorber.
前記電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、
前記誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えた電波吸収体であって、
0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、前記抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は35〜2000Ω□の範囲内であり、前記面抵抗値の虚部の値は−110〜−1100Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることを特徴とする電波吸収体。Radio wave reflector,
A dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector,
A radio wave absorber comprising a resistive film disposed on the radio wave arrival side in the dielectric layer,
In the frequency range where the return loss is maximum within the frequency range of radio waves of 0.8 GHz to 18 GHz, the real part of the surface resistance value of the resistance film is in the range of 35 to 2000 Ω □, The value of the imaginary part is in the range of −110 to −1100Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is in the range of −0.3 to −3.1. Radio wave absorber.
前記電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、
前記誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えた電波吸収体であって、
0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、前記抵抗皮膜の面抵抗値の実部の値は5〜350Ω□の範囲内であり、前記面抵抗値の虚部の値は−15〜−190Ω□の範囲内であり、虚部の値を実部の値で除した値は−0.3〜−3.1の範囲内であることを特徴とする電波吸収体。Radio wave reflector,
A dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector,
A radio wave absorber comprising a resistive film disposed on the radio wave arrival side in the dielectric layer,
In the frequency range where the return loss is maximum in the frequency range of radio waves of 0.8 GHz to 18 GHz, the real part of the surface resistance value of the resistance film is in the range of 5 to 350 Ω □, The value of the imaginary part is in the range of −15 to −190Ω □, and the value obtained by dividing the value of the imaginary part by the value of the real part is in the range of −0.3 to −3.1. Radio wave absorber.
前記電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、
前記誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えた電波吸収体であって、
前記誘電体層の厚さをd、前記誘電体層内における電波の波長をλ、前記抵抗皮膜に対する電波の入射角度をθとしたときに、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、前記抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部は、それぞれ、以下の式より得られる値の±30%の範囲内であることを特徴とする電波吸収体。
実部:{sin(2πdcosθ/λ)}2・377/cosθ
虚部:−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377/cosθ
ただし、nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ(nは0以上の整数)Radio wave reflector,
A dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector,
A radio wave absorber comprising a resistive film disposed on the radio wave arrival side in the dielectric layer,
Reflecting within the frequency range of radio waves from 0.8 GHz to 18 GHz, where d is the thickness of the dielectric layer, λ is the wavelength of the radio wave in the dielectric layer, and θ is the incident angle of the radio wave with respect to the resistive film. The radio wave absorber, wherein a real part and an imaginary part of the surface resistance value of the resistive film are within a range of ± 30% of a value obtained from the following expression at a frequency at which the attenuation amount is maximum. .
Real part: {sin (2πd cos θ / λ)} 2 · 377 / cos θ
Imaginary part:-[{sin (4πdcosθ / λ)} / 2] · 377 / cosθ
However, nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer of 0 or more)
前記電波反射体における電波到来側に配置された誘電体層と、
前記誘電体層における電波到来側に配置された抵抗皮膜とを備えた電波吸収体であって、
前記誘電体層の厚さをd、前記誘電体層内における電波の波長をλ、前記抵抗皮膜に対する電波の入射角度をθとしたときに、0.8GHz〜18GHzの電波の周波数領域内で反射減衰量が最大となる周波数において、前記抵抗皮膜の面抵抗値の実部および虚部は、それぞれ、以下の式より得られる値の±30%の範囲内であることを特徴とする電波吸収体。
実部:{sin(2πdcosθ/λ)}2・377・cosθ
虚部:−[{sin(4πdcosθ/λ)}/2]・377・cosθ
ただし、nλ/2cosθ<d<(n+1)λ/2cosθ(nは0以上の整数)Radio wave reflector,
A dielectric layer disposed on the radio wave arrival side of the radio wave reflector,
A radio wave absorber comprising a resistive film disposed on the radio wave arrival side in the dielectric layer,
Reflecting within the frequency range of radio waves from 0.8 GHz to 18 GHz, where d is the thickness of the dielectric layer, λ is the wavelength of the radio wave in the dielectric layer, and θ is the incident angle of the radio wave with respect to the resistive film. The radio wave absorber, wherein a real part and an imaginary part of the surface resistance value of the resistive film are within a range of ± 30% of a value obtained from the following expression at a frequency at which the attenuation amount is maximum. .
Real part: {sin (2πdcosθ / λ)} 2 · 377 · cosθ
Imaginary part:-[{sin (4πdcosθ / λ)} / 2] · 377 · cosθ
However, nλ / 2 cos θ <d <(n + 1) λ / 2 cos θ (n is an integer of 0 or more)
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009157544A1 (en) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | Kagawa Seiji | Electromagnetic wave absorptive film and electromagnetic wave absorbent |
JP2019004006A (en) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 日東電工株式会社 | Electromagnetic wave absorber and electromagnetic wave absorber-attached molded product |
JP2021034678A (en) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | Radio wave absorber |
KR20210111130A (en) * | 2020-03-02 | 2021-09-10 | 국방과학연구소 | Flexible electromagnetic wave absorbing layer |
CN114142246A (en) * | 2021-11-24 | 2022-03-04 | 中国人民解放军空军工程大学 | A broadband large-angle metamaterial absorber based on graded impedance and its preparation method |
WO2025041438A1 (en) * | 2023-08-18 | 2025-02-27 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | Electromagnetic wave absorber and method for manufacturing same |
-
2003
- 2003-06-19 JP JP2003175504A patent/JP2005012031A/en active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009157544A1 (en) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | Kagawa Seiji | Electromagnetic wave absorptive film and electromagnetic wave absorbent |
CN102067743A (en) * | 2008-06-26 | 2011-05-18 | 加川清二 | Electromagnetic wave absorptive film and electromagnetic wave absorbent |
EP2299795A4 (en) * | 2008-06-26 | 2012-12-19 | Seiji Kagawa | Electromagnetic wave absorptive film and electromagnetic wave absorbent |
JP2019004006A (en) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 日東電工株式会社 | Electromagnetic wave absorber and electromagnetic wave absorber-attached molded product |
JP7058475B2 (en) | 2017-06-13 | 2022-04-22 | 日東電工株式会社 | Electromagnetic wave absorber and molded product with electromagnetic wave absorber |
JP2021034678A (en) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | Radio wave absorber |
JP7445912B2 (en) | 2019-08-29 | 2024-03-08 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | radio wave absorber |
KR20210111130A (en) * | 2020-03-02 | 2021-09-10 | 국방과학연구소 | Flexible electromagnetic wave absorbing layer |
KR102324134B1 (en) * | 2020-03-02 | 2021-11-09 | 국방과학연구소 | Flexible electromagnetic wave absorbing layer |
CN114142246A (en) * | 2021-11-24 | 2022-03-04 | 中国人民解放军空军工程大学 | A broadband large-angle metamaterial absorber based on graded impedance and its preparation method |
WO2025041438A1 (en) * | 2023-08-18 | 2025-02-27 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | Electromagnetic wave absorber and method for manufacturing same |
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