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JP2004536133A - イミン配位子を有するルミネセントランタニド錯体およびそのような錯体から作製した素子 - Google Patents

イミン配位子を有するルミネセントランタニド錯体およびそのような錯体から作製した素子 Download PDF

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JP2004536133A
JP2004536133A JP2003513983A JP2003513983A JP2004536133A JP 2004536133 A JP2004536133 A JP 2004536133A JP 2003513983 A JP2003513983 A JP 2003513983A JP 2003513983 A JP2003513983 A JP 2003513983A JP 2004536133 A JP2004536133 A JP 2004536133A
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lanthanide
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JP2003513983A
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サビナ ラドゥ ノラ
デイビッド レックルークス ダニエル
ノーマン ヘロン
エム.クラークソン ルーシー
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Abstract

本発明は一般的に、イミン配位子を有するルミネセントランタニド化合物および該ランタニド化合物で作製した素子に関する。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、イミン配位子を有するランタニド金属のルミネセント錯体に関する。本発明はさらに、その中の活性層にランタニド錯体を含む電子素子に関する。
【背景技術】
【0002】
ルミネセント化合物は、分析、生物系分析および電子分野を含めた幅広い用途において関心を持たれている。ランタニド金属化合物についての精力的な研究が続けられているが、その理由は、それらが非常に狭いピーク幅の特徴的でシャープな発光スペクトルを呈するからである。ランタニド金属のルミネセント錯体の分析への使用については、たとえばベル(Bell)らによる(特許文献1)および(特許文献2)に開示されている。ランタニド金属のルミネセント有機金属錯体を使用した電子素子についても、開示されている。スコテイム(Skotheim)らによる米国特許公報(特許文献3)およびボーナー(Borner)らによる米国特許公報(特許文献4)などにあるように、ほとんどの素子では、ランタニド中心はジイミン配位子に結合されている。ヒーガー(Heeger)らは、半導性共役ポリマーとブレンドしたユウロピウム錯体を用いた素子について報告している(非特許文献1参照)。ホスフィンオキシド配位子に結合したランタニド中心を含む素子については、たとえば、カシルガマナタン(Kathirgamanathan)らによる(特許文献5)、(非特許文献2)、および(非特許文献3)に開示されている。
【0003】
【特許文献1】
EP 556 005号明細書
【特許文献2】
EP 744 451号明細書
【特許文献3】
米国特許第5,128,587号明細書
【特許文献4】
米国特許第5,756,224号明細書
【特許文献5】
国際公開第98/58037号パンフレット
【非特許文献1】
ヒーガー(Heeger)ら著、Adv. Mater.、 1999年、第11巻、pg.1349
【非特許文献2】
ウェンリヤン(Wenlian)ら著、Journal of the SID、1998年、第6巻、pg.133
【非特許文献3】
ガオ(Gao)ら著、Appl.Phys.Lett.、1998年、第72巻、pg.2217
【非特許文献4】
CRC ハンドブック・オブ・ケミストリー・アンド・フィジックス(CRC Handbook of Chemistry and Physics)、第81編、2000年
【非特許文献5】
フルエ マサオキ(Furue,Masaoki)、 マルヤマ カズノリ(Maruyama,Kazunori)、オオグニ タダヨシ(Oguni,Tadayoshi)、ナイキ マサヒロ(Naiki,Masahiro)、カマチ ミキハル(Kamachi,Mikiharu)著、無機化学(Inorg.Chem.)、1992年、第31(18)巻、pg.3792〜3795
【非特許文献6】
ニールス・H・ダムローワー(Damrauer,Niels H.)、トーマス・R・ボージー(Boussie,Thomas R.)、マーティン・デヴィニー(Devenney,Martin)、ジェームス・K・マッカスカー(McCusker,James K.)著、J.Am.Chem.Soc.、1997年、第119(35)巻、pg.8253−8268
【非特許文献7】
ジョン・マーカス(Markus,John)著、電子工学および原子力工学辞典(Electronics and Nucleonics Dictionary)、470および476 (マックグロー・ヒル社(McGraw−Hill.Inc.)、1966年)
【非特許文献8】
O・ロース(O.Lohse)、P・セヴィニン(P.Thevenin)、E・ウォールドボーゲル(E.Waldvogel)著、シンレット(Synlett)、1999年、pg.45〜48
【非特許文献9】
「可溶な電導性ポリマーから作製される軟質のLED(Flexible light−emitting diodes made from soluble conducting polymers)」、Nature、第357巻、pg.477〜479、(1992年6月11日)
【非特許文献10】
Y・ワン(Y・Wang)によるカークオスマー化学大辞典(Kirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology)、第4編、第18巻、pg.837〜860、1996年
【非特許文献11】
Z・M・トピロヴァ(Topilova,Z.M.)、G・I・ジェラシメンコ(Gerasimenko,G.I.)、L・S・クドリヤヴツェヴァ(Kudryavtseva,L.S.)、M・O・ロジンスキー(Lozinskii,M.O.)、S・B・メシュコヴァ(Meshkova,S.B.)著、Russian J.Inorg.Chem.、1989年、第34巻、pg.1265
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
改良されたルミネセントランタニド化合物に対する要望は依然として存在している。さらに、ランタニドイミン化合物の合成とルミネセントな性質については、現在でも不明な点が多いままである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、少なくとも1つのイミン配位子と錯体を形成したランタニド金属を含むルミネセント化合物に関する。本発明はさらに、(a)少なくとも1つのイミン配位子を有する少なくとも1種のランタニド化合物と、場合によっては(b)電荷輸送材料とを含む少なくとも1層の発光層を有する有機電子素子に関する。本明細書で使用するとき、「イミン配位子」という用語は、少なくとも1つのイミン基−R−N=R−を有する化合物から誘導した配位子を意味するものとする。このイミンは、図1に示した式Iのモノイミンおよび図2に示した式IIのジイミンから選択されるが、ここで、
式IおよびIIにおいて、
はそれぞれにおいて同一であっても異なっていてもよく、アルキル、フッ素化アルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリール、−QR、−QN(R、Xから選択されるか、または隣接するR基が結合して5員環または6員環を形成していてもよく、
はアルキルまたはアリールであり、
Qは単結合、アルキレン、アリーレン、または−C(O)−であり、
XはCl、F、Brまたは−CNであり、
アルファは1〜4の整数であり、
式IIにおいて、
γは1〜3の整数であり、そして
δは0または1〜3の整数であるが、
ただし、式II中には、フッ素化アルキルまたはX(X=Fの場合)である少なくとも1つのR基が存在する。
【0006】
本明細書で使用するとき、「化合物」という用語は分子で作られた、電荷を帯びていない物質を意味するが、その分子は複数の原子からなり、分子中での原子は物理的な手段によっては分離することができない。「配位子」という用語は、金属イオンの配位圏に結合した、分子、イオンまたは原子を意味するものとする。「錯体(complex)」という用語は、名詞として用いた場合には、少なくとも1つの金属イオンと少なくとも1つの配位子を有する化合物を意味するものとする。「基」という用語は、有機化合物内の置換基や、錯体内の配位子のような、化合物の一部を意味するものとする。「β−ジカルボニル」という用語は、その内部にCHR基によって分断された2つのケトン基が存在する中性の化合物を意味するものとする。「β−エノレート」という用語は、その内部で2つのカルボニル基の間のCHRからHが引き抜かれている、β−ジカルボニルのアニオンの形態を意味するものとする。「電荷輸送材料」という用語は、電極から電荷を受け取り、それをかなりの高効率、低損失でその材料中を移動させることが可能な材料を意味するものとする。「隣接した」という語句は、素子における層について使用する場合には、必ずしも1つの層が他の層に直かに接触していることを意味するものではない。他方、「隣接したR基」という語句は、化学式の中で直ぐ隣にあるR基を指すのに使用する(すなわち、R基が化学結合で結合された原子の上にある)。「光活性(photoactive)」という用語は、エレクトロルミネセンスおよび/または感光性を示すすべての材料を指す。さらに、本明細書全般において、周期律表の族は左から右に向かって1〜18の番号を付ける、IUPAC付番方式を使用した((非特許文献4)参照)。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
本発明のランタニド化合物において、ランタニド金属は、+3の酸化状態にあり、また7配位または8配位となっている。配位サイトの1つまたは複数が、式IおよびIIの1つを有する少なくとも1つの配位子によって占拠されている。これらの配位子の2つ以上、そして、2種類以上のタイプの配位子をこの金属に配位することができる。6つの配位位置がβ−エノレート配位子によって占拠され、1つまたは2つの配位位置がモノイミンまたはジイミン配位子によって占拠される。好適なランタニド金属は、Eu、TbおよびTmである。好適なランタニド錯体は中性かつ非イオン性で、分解することなく昇華できるものである。
【0008】
ランタニド化合物を蒸着法による層として塗着させる場合には、一般にその配位子は、最終の化合物が電荷的に中性になるように選択する。追加の配位子がβ−エノレートであるのが好ましい。より好適なランタニド化合物は、以下の式III−A、III−B、またはIVの内の1つで表される。
Ln(β−エノレート)(モノイミン) (III−A)
Ln(β−エノレート)(モノイミン) (III−B)
Ln(β−エノレート)(ジイミン) (IV)(ここで、
式(III−A)および(III−B)では、
モノイミンは、先に記した図1の式Iであり、そして
式(IV)では、
ジイミンは、先に記した図2の式IIである。)
好適なモノイミン配位子としては、ピリンジン配位子(式Iを有し、少なくとも1つのR基にはC(H+F)2n+1(ここでnは1〜12の整数)を含む)、−CN、−(C)、−(CS)、および−(CO)などが挙げられる。
【0009】
図1に示された式Iで表されるモノイミン配位子の好適な例を、以下の表(i)に挙げる。
【0010】
【表1】
Figure 2004536133
【0011】
好適なジイミン配位子(式IIを有するビピリジン配位子)としては、少なくとも1つのR基が−C(H+F)2n+1および−C5−m(ここでmは1〜5の整数)であるものが挙げられる。
【0012】
図2に示された式IIで表されるジイミン配位子の好適な例を、以下の表(ii)に挙げる。
【0013】
【表2】
Figure 2004536133
【0014】
いくつかのケースでは、ジイミンおよびモノイミン配位子はたとえば、ウィスコンシン州ミルウォーキー(Milwaukee、WI)のアルドリッチ・ケミカル・カンパニー(Aldrich Chemical Company)から市販されている。「FMbipy」は、(非特許文献5)に従って調製することができる。「2−FMPbipy」、「3−FMPbipy」および「FPbipy」は、(非特許文献6)に見出される類似文献手法にしたがって、スズキカップリング反応によって調製することができる。
【0015】
β−エノレート配位子
β−エノレート配位子は、一般には図3に示した式Vを有するが、ここでRはそれぞれで同一であっても異なっていてもよい。このR基は、水素、ハロゲン、置換または非置換のアルキル、アリール、アルキルアリールまたはヘテロ環状基であってよい。隣接するR基が結合して5員環または6員環を形成していてもよく、またそれらは置換されていてもよい。好適なR基は、H、F、C(H+F)2n+1、−C、−CS、および−COから選択されるが、ここでnは1〜12、好ましくは1〜6の整数である。
【0016】
好適なβ−エノレート配位子の例としては、以下の表(iii)に挙げる化合物があるが、これらに限定される訳ではない。β−エノレート形の略称はカッコの中に示されている。
【0017】
【表3】
Figure 2004536133
【0018】
これらのβ−ジカルボニルは一般に市販されている。1,1,1,3,5,5,5−ヘプタフルオロ−2,4−ペンタンジオネートのCFC(O)CFHC(O)CFは、ペルフルオロペンテン−2とアンモニアとの反応の後に加水分解工程を設ける、2段合成法によって調製することができる。この化合物は加水分解を受けやすいので、無水条件下で保存および反応をさせねばならない。
【0019】
本発明のランタニド錯体は2つの経路を用いて作製される。第1の経路は、イミン配位子をLn(b−エノレート)錯体と反応させることによる。それとは別の方法で、これらの錯体は、b−ジカルボニルおよびイミン化合物を、たとえば塩酸塩、硝酸塩または酢酸塩のような単純なランタニド金属塩に添加することによっても得ることができる。たとえば、1つの合成方法では、ジクロロメタン中に、無水のランタニドアセテート、所望のb−ジカルボニルおよびイミンを溶解させる。生成物は、ヘキサンを添加することによって、沈殿させることが可能である。この方法は、ヘプタフルオロアセチルアセトンを用いて錯体を形成させる場合には特に有用である。ヘプタフルオロアセチルアセトナトランタニド錯体は一般に、空気および湿分に対しては極めて安定である。
【0020】
式Iのイミンを用いた上記の式III−Aまたは式III−Bの形のランタニド錯体の例を下記の第1表に示す。
【0021】
【表4】
Figure 2004536133
【0022】
式IIを有するジイミンを用いた式IVの形のランタニド錯体の例を下記の第2表に示す。
【0023】
【表5】
Figure 2004536133
【0024】
電子素子
本発明はさらに、2層の電気接触層の間に位置する少なくとも1層の光活性層を含む電気素子にも関し、この素子の少なくとも1層の光活性層に、本発明のランタニド錯体が含まれる。図4に示すように、典型的な素子100には、アノード層110とカソード層150があり、アノード110とカソード150との間に電気活性層120、130および場合によっては140が存在している。アノードに隣接しているのが正孔注入/輸送層120である。カソードに隣接しているのが、電子輸送材料を含む任意の層140である。正孔注入/輸送層120とカソード(または任意の電子輸送層)との間に、光活性層130がある。
【0025】
素子100の用途に応じて、この光活性層130は、(たとえば発光ダイオードまたは発光電気化学セルの内部のような)印可される電圧によって活性化される発光層や、(たとえば、受光器の内部のような)放射エネルギーに応答してバイアス電圧の有無を問わず信号を発生する材料層であることができる。受光器の例としては、光導電セル、フォトレジスター、フォトスイッチ、フォトトランジスター、および光電管、および光電池などが挙げられるが、これらの用語については(非特許文献7)に記載がある。
【0026】
本発明のランタニド錯体は素子の光活性層130において有用である。いくつかのランタニド錯体(たとえばTbやEu)では、そのルミネセンススペクトルは金属内部でのf−f遷移に起因する。したがって、発光強度はランタニド金属に付いた配位子の性質による影響を受ける可能性があるが、その波長は同一の金属の錯体ではどれでもほぼ一定となる。典型的にはユウロピウム錯体は鮮明な赤色発光を有し、テルビウム錯体は鮮明な緑色発光を有する。ランタニドによっては(たとえばTm)、観察されるルミネセンスは、金属の原子遷移に起因するものではない。むしろ、それは配位子または金属−配位子相互作用のいずれかが原因である。そのような条件下では、ルミネセンスバンドは広いものとなり、波長が、使用した配位子の影響を受けやすくなる可能性がある。
【0027】
錯体は発光層の中で単独で使用することもできるが、その発光は通常強いものではない。ランタニド錯体を、電荷輸送を促進するような材料と組み合わせることによって、発光を著しく改良できることが見出された。そのような材料は、正孔輸送材料、電子輸送材料または良好な輸送性を有するその他の発光材料でよい。ランタニド錯体が良好な正孔輸送性能を有していない場合には、正孔輸送材料を同時にデポジット(co−deposit)させることもできる。逆に、そのランタニド錯体が良好な電子輸送性能を有していない場合には、電子輸送材料を同時にデポジットさせることができる。材料によっては電子と正孔の両方を輸送することができ、より多様に使用することができる。
【0028】
高性能LEDを達成するためには、正孔輸送材料のHOMO(最高被占軌道)をアノードの仕事関数に合わせ、電子輸送材料のLUMO(最低空軌道)をカソードの仕事関数に合わせる必要がある。電子輸送材料および正孔輸送材料を選択するにあたっては、化学的な相溶性やその材料の昇華温度などを配慮することも重要である。
【0029】
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(「TPD」)およびビス[4−(N,N−ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル](4−メチルフェニル)メタン(「MPMP」)のような正孔輸送材料、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(「BCP」)のような電子および正孔輸送材料、または、トリス(8−ヒドロキシキノラト)アルミニウム(「Alq」)のようなキレート化オキシノイド化合物、および、2−フェニルピリジン類を有するシクロメタレート化イリジウム錯体およびその誘導体などの、良好な電子および正孔輸送性能を有する発光材料を使用するのが好ましい。このイリジウム錯体については、同時係属出願中の出願番号第60/215362号に記載がある。それらは、以下の式VIを有する化合物として、一般的に説明できる。
IrL L’L” (VI)
(ここで、
x=0または1、y=0、1または2、そしてz=0または1であるが、ただし、
x=0またはy+z=0であり、そして
y=2のときはz=0であり、
L’=2座配位子または単座配位子であるが、フェニルピリジン、フェニルピリミジン、またはフェニルキノリンではなく、ただし、
L’が単座配位子の場合には、y+z=2であり、そして
L’が2座配位子の場合には、z=0であり;
L”=単座配位子であるが、フェニルピリジン、およびフェニルピリミジン、またはフェニルキノリンではなく;そして
、LおよびLは、互いに同様であっても異なっていてもよいが、L、LおよびLはそれぞれ図4に示した式VIIのものであり、
ここで、
〜RおよびR〜R11の隣接したペアは互いに結合して5員環または6員環を形成することもでき、
〜R11の少なくとも1つは、F、C2s+1、OC2s+1およびOCFYから選択され、
sは1〜6の整数であり、
YはH、Cl、またはBrであり、そして
AはCまたはNであるが、ただしAがNの場合にはRは存在しない。)
【0030】
好適なイリジウム化合物の例を挙げれば、L、LおよびLが類似していて、(i)RがCF、R10がF、その他のRがすべてHであるか、(ii)RがCFでその他のRがすべてHであるか、のいずれかである。上記のイリジウム錯体は一般的には、適切な置換2−フェニルピリジン、フェニルピリミジン、またはフェニルキノリンから調製される。この置換2−フェニルピリジン、フェニルピリミジン、およびフェニルキノリンは、(非特許文献8)に記載されているように、置換2−クロロピリジン、2−クロロピリミジンまたは2−クロロキノリンと、アリールボロン酸との間のスズキ・カップリング反応を使用することによって、良好ないし優秀な収率で調製される。次いで無溶媒で、過剰量の2−フェニルピリジン、フェニルピリミジン、またはフェニルキノリンを、三塩化イリジウム水和物および3当量のトリフルオロ酢酸銀と反応させることによって、イリジウム錯体を調製することができる。
【0031】
光活性層を形成させるために、ランタニド錯体を追加の電荷輸送材料と同時にデポジットさせる場合には、通常ランタニド錯体を、発光層の全容積を基準にして、約85容積%までの量で存在させる(電荷輸送材料が15容積%)。そのような条件下では、その電荷輸送材料が、電子および/または正孔をランタニドへ輸送する役目を果たす。電荷輸送材料の濃度は、輸送経路が確保できるように、約15容積%のパーコレーション閾値より上である必要がある。その材料の密度が1に近い場合には、パーコレーション閾値に達する限りでは15重量%でよい。通常ランタニド錯体は、発光層の全重量を基準にして、約0.5〜75重量%の量で存在させる。
【0032】
場合によっては、ランタニド錯体は2種以上の異性体の形で存在していてもよいし、異なった錯体の混合物であってもよい。以上の素子の説明において、「ランタニド化合物」という用語には、化合物の混合物および/または異性体も含むものとすることを理解されたい。
【0033】
通常素子には支持体(図示せず)も含まれ、それはアノードまたはカソードに隣接させることができる。最も多いのは、支持体をアノードに隣接させるものである。この支持体は可撓性であっても剛直であってもよく、また有機物でも無機物でもよい。一般的には、ガラスまたは可撓性のある有機フィルムが支持体として使用されている。アノード110は、陽電荷キャリアを特に効率よく注入したり捕集したりできる電極である。アノードは、金属、混合金属、合金、金属酸化物、または混合金属酸化物から作製するのが好ましい。好適な金属は、第11族金属、第4、5および6族の金属、および第8〜10族の遷移金属である。アノードが光透過性ならば、第12、13および14族金属の混合金属酸化物、たとえばインジウム−スズ酸化物が一般に使用される。アノード110は、(非特許文献9)に記載されているポリアニリンのように、有機材料を含んでいてもよい。
【0034】
このアノード層110は通常、物理蒸着法またはスピンキャスト法によって塗着させることができる。「物理蒸着」という用語は、真空で実施される各種のデポジット方法を指している。したがって、たとえば、物理蒸着としては、たとえばイオンビームスパッタリングのようなあらゆるタイプのスパッタリング、および電子ビームスパッタリングおよび抵抗加熱蒸着(resistance evaporation)のようなあらゆるタイプの蒸着を挙げることができる。有用な物理蒸着の具体的なものとしては、高周波マグネトロンがある。
【0035】
通常アノードに隣接して正孔輸送層120がある。層120のための正孔輸送材料の例は、たとえば(非特許文献10)などにまとめられている。正孔を輸送する分子およびポリマーのいずれも使用することが可能である。一般に使用される正孔輸送分子としては、先に述べたTPDおよびMPMPに加えて、以下のようなもの、つまり、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAPC)、N,N’−ビス(4−メチルフェニル)−N,N’−ビス(4−エチルフェニル)−[1,1’−(3,3’−ジメチル)ビフェニル]−4,4’−ジアミン(ETPD)、テトラキス−(3−メチルフェニル)−N,N,N’,N’−2,5−フェニレンジアミン(PDA)、a−フェニル−4−N,N−ジフェニルアミノスチレン(TPS)、p−(ジエチルアミノ)ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン(DEH)、トリフェニルアミン(TPA)、1−フェニル−3−[p−(ジエチルアミノ)スチリル]−5−[p−(ジエチルアミノ)フェニル]ピラゾリン(PPRまたはDEASP)、1,2−トランス−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)シクロブタン(DCZB)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TTB)、およびポルフィリニック化合物(たとえば銅フタロシアニン)が挙げられる。一般に使用される正孔輸送ポリマーは、ポリビニルカルバゾール、(フェニルメチル)ポリシラン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)およびポリアニリンである。ポリスチレンおよびポリカーボネートのようなポリマー中に、上で述べたような正孔輸送分子をドーピングすることにより、正孔輸送ポリマーを得ることも可能である。
【0036】
任意の層140は、電子輸送を促進するとともに、層の境界における消光反応を防止するための緩衝層または消光防止層(anti−quenching layer)としても機能させることができる。この層は、電子の移動を促し、消光反応を抑制するのが好ましい。任意層140のための電子輸送材料の例を挙げれば、金属キレート化オキシノイド化合物(たとえばトリス(8−ヒドロキシキノラト)アルミニウム(Alq))、フェナントロリン系化合物(たとえば2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(DDPA)または4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(DPA))、およびアゾール化合物(たとえば2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)および3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(TAZ))などがある。
【0037】
カソード150は、電子または陰電荷キャリアを特に効率よく注入したり捕集することができる電極である。このカソードは、第1電気接触層(この場合はアノード)よりも低い仕事関数を有する金属または非金属であるのがよい。第2の電気接触層の材料は、第1族のアルカリ金属(たとえば、Li、Cs)、第2族(アルカリ土類)金属、第12族金属、ランタニド、およびアクチニドから選択することができる。アルミニウム、インジウム、カルシウム、バリウム、サマリウムおよびマグネシウム、さらにはそれらの組み合わせのような材料を使用することができる。
【0038】
有機電子素子中のその他の層を置くことも知られている。たとえば、導電性ポリマー層120と活性層130との間に、陽電荷輸送および/または層のバンドギャップマッチングを促進したり、保護層として機能したりする層(図示せず)があってもよい。同様にして、活性層130とカソード層150との間に、陰電荷輸送および/または層の間のバンドギャップマッチングを促進したり、保護層として機能したりする層(図示せず)があってもよい。当業者に公知の層なら、使用することが可能である。さらに、上述の層はどれも、2層以上でできていてもよい。別な方法として、無機アノード層110、導電性ポリマー層120、活性層130およびカソード層150のいくつかまたは全部を表面処理して、電荷キャリア輸送効率を上げるようにしてもよい。それぞれの成分層のための材料の選択は、高い素子効率を有する素子を得るという目的に合うように、選択するのが好ましい。
【0039】
それぞれの官能層を2層以上で作ってもよいことは、理解されよう。
【0040】
この素子は、適切な基板の上に、個々の層を順に蒸着させることによって調製することができる。基板としては、たとえばガラスやポリマーフィルムが使用できる。たとえば、加熱蒸発、化学蒸着など慣用の蒸着技術を使用することができる。別な方法として、有機層を、各種のコーティング技術を使用して、適切な溶媒中の溶液または分散液からコーティングすることもできる。一般的に、それぞれの層は以下の範囲の厚みである。つまり、アノード110は、500〜5000Å、好ましくは1000〜2000Å、正孔輸送層120は、50〜2500Å、好ましくは200〜2000Å、発光層130は、10〜1000Å、好ましくは100〜800Å、任意の電子輸送層140は、50〜1000Å、好ましくは100〜800Å、カソード150は、200〜10,000Å、好ましくは300〜5000Å、の範囲の厚みである。素子中での電子正孔再結合ゾーンの位置、したがって素子の発光スペクトルは、それぞれの層の相対的な厚みの影響を受ける。たとえば、発光体たとえばAlqを電子輸送層として使用すると、電子正孔再結合ゾーンはAlq層の内部になる。その場合は、発光はAlqの発光となり、所望の鮮明なランタニド発光にはならない。したがって、電子輸送層の厚みを選択して、電子正孔再結合ゾーンが発光層の内部になるようにしなければならない。層の厚みの比をどのようにするかは、使用する材料の本質的な性質によって決まることになろう。
【0041】
ランタニド化合物を用いて作製される本発明の素子の効率は、素子中の他の層を最適化することによってさらに改良できることは、理解されよう。たとえば、より効率の高いカソードたとえばCa、BaまたはLiFを使用することもできる。操作電圧を低下させ、量子収率を向上させるような結果が得られる成形基板および新規な正孔輸送材料もまた、適用することが可能である。各層のエネルギーを所望のレベルに調節し、エレクトロルミネセンスを促進するような、追加の層をさらに加えることもできる。
【実施例】
【0042】
以下の実施例を用いて、本発明のいくつかの特徴と利点を説明する。それらは本発明の説明を目的としているものであって、限定するものではない。すべての%は、特に断らない限り、重量基準である。錯体(acac)Tb(phen)、(TTFA)Eu(phen)および(TTFA)Eu(DPphen)のタイプの錯体は、たとえば(非特許文献11)に記載されているような、当業者公知の方法によって合成した。
【0043】
(実施例1)
式III−AおよびIII−Bを含む錯体1−aから1−lまでのものは、相当するLn(β−エノレート)と目的のモノイミンとをジクロロメタン中で反応させることによって調製した。生成物は濾過により単離した。
【0044】
(実施例2)
Eu(TMH)(3−FMPbipy)
3−FMPbipy(0.148g、0.33mmol)のMeOH/CHCl(3mL、2種の溶媒の比1:2)溶液に、MeOH(2mL)に溶解させたEu(TMH)(0.234g、0.33mmol)を添加した。得られた溶液を室温で48時間攪拌した。溶媒を留去した後の白色固形物をヘキサンで洗浄すると、14%の収率(0.050g)で生成物が得られた。19F{H}NMR(CDCl、376MHz)δは−63.36である。
【0045】
(実施例3)
Eu(TMH)(Fpbipy)
Fpbipy(0.187g、0.27mmol)のMeOH/CHCl(3mL、2種の溶媒の比1:2)溶液に、MeOH(2mL)に溶解させたEu(TMH)(0.187g、0.27mmol)を添加した。得られた溶液を室温で48時間攪拌した。溶媒を留去した後の白色固形物をヘキサンで洗浄すると、70%の収率(0.138g)で生成物が得られた。
【0046】
同様の方法で、第2表の他の錯体を調製した。
【0047】
(実施例4)
この実施例では、本発明のランタニド錯体を使用したOLEDの作製について説明する。
【0048】
正孔輸送層(HT層)、エレクトロルミネセント層(EL層)および電子輸送層(ET層)を含む薄膜OLED素子を、熱蒸発法によって作製した。油拡散ポンプ付きのエドワード・オート(Edward Auto)306エバポレータを使用した。すべての薄膜蒸着のための基本真空度は10−6トルの範囲であった。この蒸着室は、真空を破らずに5層の異なった膜を蒸着させることができるものであった。
【0049】
スズドープしたインジウム酸化物(ITO)でコーティングしたガラス基板を使用したが、ITO層は約1000〜2000Åであった。その基板をまず1NのHCl溶液を用いて不要なITO領域をエッチング除去してパターン化して、第1電極のパターンを形成した。マスキングにはポリイミドテープを使用した。このパターン化したITO基板を次いで、洗浄剤水溶液中で超音波洗浄した。さらに基板を蒸留水、次いでイソプロパノールですすぎ、その後トルエン蒸気中で約3時間脱脂した。
【0050】
次いで洗浄したパターン化ITO基板を真空室に入れ、真空ポンプで室内を10−6トルまで下げた。そこでこの基板を、酸素プラズマを約5〜10分間使用してさらに清浄化した。清浄化の後、その基板の上に熱蒸発法を用いてHT層、EL層およびET層の薄膜多層を順次蒸着させた。最後に、Alのパターン化金属電極をマスクを介して蒸着させ、その厚みを700〜760Åにした。蒸着中に膜厚を、水晶モニター(quartz crystal monitor)(サイコン(Sycon)STC−200)を用いて測定した。記載した膜厚は公称のもので、蒸着させた材料の密度を1と仮定して計算したものである。次いで完成したOLED素子を真空室から取り出し、封止することはせずに直ちに測定にかけた。素子の各層の概要と厚みを以下の第3表に示す。
【0051】
このOLED試料は、(1)電流−電圧(I−V)曲線、(2)エレクトロルミネセンス放射輝度と電圧の関係、および(3)エレクトロルミネセンススペクトルと電圧の関係を測定することにより特性解析を行った。使用した装置200を図6に示す。OLED試料のI−V曲線220は、キースリー・ソース・メジャーメント・ユニット(Keithley Source−Measurement Unit)237型、280型を使用して測定した。エレクトロルミネセンス放射輝度(単位、cd/m)と電圧の関係は、ミノルタ(Minolta)LS−110型ルミネセンスメーター210を用いて測定し、一方電圧はキースリーSMUを使用してスキャンさせた。エレクトロルミネセンススペクトルは、1対のレンズ230を使用して集光し、電子シャッター240を通過させ、分光器250により分光させ、そしてダイオードアレー検出器260で測定することにより得た。これら3種の測定はすべて同時に実施し、コンピュータ270により制御した。ある電圧における素子の効率は、LEDのエレクトロルミネセンス放射輝度を、素子を動作させるのに必要な電流密度で除することによって求めた。その測定単位はCd/Aである。結果を以下の第3表に示す。
【0052】
【表6】
Figure 2004536133

【図面の簡単な説明】
【0053】
【図1】本発明において有用なモノイミン配位子のための式Iを示す。
【図2】本発明において有用なジイミン配位子のための式IIを示す。
【図3】本発明において有用なβ−エノレート配位子のための式Vを示す。
【図4】フェニルピリジン配位子のための式VIIを示す。
【図5】発光素子(LED)の概略図である。
【図6】LEDの試験装置の概略図である。

Claims (14)

  1. 以下の式III−A、III−BおよびIV:
    Ln(β−エノレート)(モノイミン) (III−A)
    Ln(β−エノレート)(モノイミン) (III−B)
    Ln(β−エノレート)(ジイミン) (IV)
    (ここで、
    式(III−A)および(III−B)において、
    モノイミンは図1における式Iを有し、
    式(IV)において、
    ジイミンは図2における式IIを有し、
    式IおよびIIのそれぞれにおいて、
    はそれぞれにおいて同一であっても異なっていてもよく、アルキル、フッ素化アルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリール、−QR、−QN(R、Xから選択されるか、または隣接するR基が結合して5員環または6員環を形成していてもよく、
    はアルキルまたはアリールであり、
    Qは単結合、アルキレン、アリーレン、または−C(O)−であり、
    XはCl、F、Brまたは−CNであり、
    アルファは1〜4の整数であり、
    γは1〜3の整数であり、そして
    δは0または1〜3の整数であるが、
    ただし、式IIにおいては、少なくとも1つのR基がフッ素を有している)
    の1つを有することを特徴とするランタニド化合物。
  2. LnがEu、TbおよびTmから選択されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  3. 前記モノイミンが、3−シアノピリジン、2−ジメチルアミノピリジン、イソキノリン、4−t−ブチル−ピリジン、4−フェニルピリジン、および2−(2−チエニル)ピリジンから選択されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  4. 前記ジイミン配位子が、5,5’−ビス(トリフルオロメチル)−2、2’−ビピリジン、6,6’−ビス(ペルフルオロヘキシル)−2,2’−ビピリジン、4,4’−ビス(2−トリフルオロメチルフェニル)−2,2’−ビピリジン、4,4’−ビス(4−フルオロフェニル)−2,2’−ビピリジンから選択されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  5. 前記b−エノレートが、2,4−ペンタンジオネート、1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオネート、2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート、4,4,4−トリフルオロ−1−(2−チエニル)−1,3−ブタンジオネート、7,7−ジメチル−1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロ−4,6−オクタンジオネート、1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタンジオネート、1−フェニル−3−メチル−4−i−ブチリル−ピラゾリノネート、および1,1,1,3,5,5,5−ヘプタフルオロ−2,4−ペンタンジオネートから選択されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  6. 光活性層を含む電子素子であって、該光活性層が請求項1のランタニド化合物を含むことを特徴とする電子素子。
  7. 前記ランタニド化合物が、光活性層の全容積を基準にして、約85容積%までの量で存在することを特徴とする請求項6に記載の素子。
  8. 前記発光層が(b)電荷輸送材料をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の素子。
  9. 前記電荷輸送材料(b)が、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミンおよびビス[4−(N,N−ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル](4−メチルフェニル)メタンから選択される正孔輸送材料であることを特徴とする請求項8に記載の素子。
  10. 前記電荷輸送材料(b)が、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル、アルミニウムのキレート化オキシノイド化合物、および2−フェニルピリジン類を有するシクロメタレート化イリジウム錯体、から選択される電子および正孔輸送材料であることを特徴とする請求項8に記載の素子。
  11. N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン、N,N’−ビス(4−メチルフェニル)−N,N’−ビス(4−エチルフェニル)−[1,1’−(3,3’−ジメチル)ビフェニル]−4,4’−ジアミン、テトラキス−(3−メチルフェニル)−N,N,N’,N’−2,5−フェニレンジアミン、α−フェニル−4−N,N−ジフェニルアミノスチレン、p−(ジエチルアミノ)ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン、トリフェニルアミン、ビス[4−(N,N−ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル](4−メチルフェニル)メタン、1−フェニル−3−[p−(ジエチルアミノ)スチリル]−5−[p−(ジエチルアミノ)フェニル]ピラゾリン、1,2−トランス−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)シクロブタン、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、ポルフィリニック化合物、およびそれらの組み合わせから選択される正孔輸送層をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の素子。
  12. トリス(8−ヒドロキシキノラト)アルミニウム、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール、およびそれらの組み合わせから選択される電子輸送層をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の素子。
  13. 第1表の1−aから1−lまでの化合物から選択される構造を有することを特徴とするランタニド化合物。
  14. 第2表の2−aから2−aaまでの化合物から選択される構造を有することを特徴とするランタニド化合物。
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