JP2004532116A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの表面上に貫通孔及び陥凹部を有するシート状の基材と、基材の少なくとも１つの表面上の中間層と、前記層に接着する金属箔とから電子機器用コンポーネントを製造するための方法であって、（ａ）中間層を形成する組成物でシート状の基材をコーティングする工程、（ｂ）コーティングに対し金属箔を適用する工程、及び（ｃ）加圧加熱下で部品を接合させる工程を含み、
（ｄ）最初に、溶剤を含有し、熱硬化性の液体２成分系を、少なくとも１種の硬化剤及び少なくとも１種の硬化性化合物から配合し、
（ｅ）配合物を基材の少なくとも１つの表面上に１つの層として適用し、
（ｆ）適用した層を加熱し、溶剤を除去し、固体乾燥層を形成させ、
（ｇ）その後、金属箔を乾燥した層に適用し、基材、層及び金属箔を、層の硬化と共に高温及び高圧によって互いにしっかりと接合させることを特徴とする方法。
【請求項２】
金属箔を乾燥直後に中間層に適用する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
使用する金属箔が銅箔である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
方法の工程（ｄ）の配合物が、ブルックフィールド法により２５℃で測定した場合、２０Pa・sより小さい粘度を有する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
粘度が５〜１５Pa・sである、請求項４記載の方法。
【請求項６】
工程（ｆ）での乾燥を１００℃以下の温度で実施する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
乾燥を１０〜１２０分間実施する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
工程（ｄ）の配合物中の硬化性化合物が、分子中に平均１個を超えるエポキシド基を有するエポキシド化合物である、請求項１記載の方法。
【請求項９】
エポキシド化合物が、ビスフェノールの、場合によっては予め反応させたジグリシジルエーテルであるか、エポキシフェノールノボラックである、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｄ）の配合物中の硬化剤が、イミダゾール、無水物、アミド、アミン、フェノール樹脂及びシアナートエステルからなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｄ）の配合物が硬化促進剤、充填剤、チキソトロピー剤及び染料をさらに含有する、請求項１記載の方法。

たとえばプリント回路の製造において金属箔用の絶縁及び接着促進層を製造するために反応性２成分系の形での溶剤を含有する液体の熱硬化性組成物を使用することは、その保存寿命が短いためにこれまで回避されてきた。今、驚くべきことに、このような組成物を使用直前に配合し、基材に適用し、固形の乾燥層が形成するように溶剤を実質的に完全除去するならば、このような組成物を使用することができるということがわかった。したがって、乾燥層は驚くほどに流動性が高く、そのため、金属箔の適用及びその後の加圧硬化後、陥凹部及び孔は驚くほど完全に充填され、さらにきわめて高い平坦性が達成され、したがって続く加工は不要となる。加熱にもかかわらず、乾燥した層は硬化可能な状態にとどまり、加圧加熱下で積層された金属箔は、金属箔と基材との驚くほど高い接着強度をもつ複合材を形成する。得られる積層体は、設定された高度の要求を満たす。さらには、この方法は非常に経済的であり、自動化することさえでき、したがって記載された欠点全体を回避することができる。

本発明は、少なくとも１つの表面上に貫通孔及び陥凹部を有するシート状の基材と、基材の少なくとも１つの表面上の中間層と、この層に接着する金属箔とから電子機器用コンポーネントを製造するための方法であって、（ａ）中間層を形成する組成物でシート状の基材をコーティングする工程、（ｂ）コーティングに対し金属箔を適用する工程、及び（ｃ）加圧加熱下で部品を接合させる工程を含み、
（ｄ）最初に、溶剤を含有し熱硬化性の液体２成分系を、少なくとも１種の硬化剤及び少なくとも１種の硬化性化合物から配合し、
（ｅ）その配合物を基材の少なくとも１つの表面上に１つの層として適用し、
（ｆ）適用した層を加熱し、溶剤を除去し、固体乾燥層を形成させ、
（ｇ）その後、金属箔を乾燥した層に適用し、基材、層及び金属箔を、層の硬化と共に温度上昇及び圧力増大によって互いにしっかりと接合させる方法に関する。

配合物の成分は、室温で保管され、比較的長い時間きわめて安定している。配合物は、個々の成分を混合することにより適用直前に調製され、その直後、公知の方法及び装置、たとえばスクリーン印刷、ローラコーティング、カーテンコーティング又はシート状の基材上への吹き付けによって適用される。最適な方法は、適切な予備実験により、各ケースにおいて当業者により決定することができる。スクリーン印刷法及びローラコーティング法が、コーティング配合物の適用中に圧力を使用することにより、キャビティを確実かつ完全に充填することができるため、コーティング配合物の適用に特に適している。溶剤の添加により、コーティングパラメータ、たとえば粘度を適切に適合させることによって、当業者は、層の厚さを容易に変えることができる。問題を発生させやすかった空気の混入は、溶剤を用いて配合物を低粘度に調節できることから、換気により容易に排除できる。配合物は、ブルックフィールド法により２５℃で測定した場合、たとえば２０Pa・s未満、好ましくは３〜２０Pa・s、特に好ましくは５〜１５Pa・sの粘度を有することができる。

銅箔を有するシート状基材上の乾燥した中間層を高温で圧縮すると、コンポーネントが形成する。好ましくは、乾燥直後に金属箔を中間層に適用し、圧縮する。コンポーネントの品質にとっては、プレス板の表面の質が非常に重要であり、したがって、プレス板、中間層及び金属箔の間にはほこり粒子及び異物粒子が存在してはならない。標準的なプレス条件は、たとえばエポキシ樹脂又はその他の樹脂について、１２０〜２００℃、好ましくは１４０〜２００℃の温度で、たとえば２０〜１２０分、好ましくは２０〜８０分、特に好ましくは２０〜６０分である。圧縮は、異なる時間について上昇する温度で段階的に実施することもでき、１００℃未満の温度、たとえば８０℃から始めることが可能である。その他の樹脂についてのより標準的なプレス条件は、当業者にとって公知である。圧縮すると、コーティングから生ずる、乾燥後なお存在する層の厚さのわずかな差異が補償される。使用可能なプレスは、多層プレス又は連続作動プレスである。多層プレスを使用する圧縮工程においては、電気機器用のコンポーネント１０〜２０個を同時に製造することができる。

厚さの小さい銅箔は、レーザアブレーションによる直接的なせん孔／構造化が可能である。この目的で、金属箔に適用され、レーザ光の吸収を増大させる又は反射を低減させる層を適用することができる。この一例が、ＣＯ₂レーザの直接的使用を可能にする酸化銅層である。したがって、銅の構造化又は銅のせん孔のための時間及び費用を要する湿式化学エッチング工程（ウインドウエッチング工程）はもはや不要となる。中間層に対する銅箔の適用は、湿式／プラズマ化学粗化工程がもはや必要でないことを意味している。その結果、本発明の方法のために非常に広範囲の硬化性樹脂を使用することができる。

図３は、本発明の方法により製造された回路板７を示す。構造化された内部層１上の中間層６に金属箔８が適用され、高温でプレスされると、硬化性樹脂の硬化が起こる。圧縮の結果として、中間層６は平坦になる。

使用したプレスは、電磁誘導加熱を有するセダール（Cedal）製の多層プレス（Adara57型）であった。このプレスでは、加熱及び圧力プロフィールを個別に調整できる。以下のパラメータを使用した。

片面が構造化された３６μmの厚さをもつ銅箔を使用した。