JP2004529375A - レーザースペックル低減方法及び装置 - Google Patents
レーザースペックル低減方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004529375A JP2004529375A JP2002534903A JP2002534903A JP2004529375A JP 2004529375 A JP2004529375 A JP 2004529375A JP 2002534903 A JP2002534903 A JP 2002534903A JP 2002534903 A JP2002534903 A JP 2002534903A JP 2004529375 A JP2004529375 A JP 2004529375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- wavefront
- laser
- light
- display screen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 11
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 7
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 4
- 241001147444 Giardia lamblia virus Species 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000002307 isotope ratio mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/48—Laser speckle optics
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3102—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] using two-dimensional electronic spatial light modulators
- H04N9/312—Driving therefor
- H04N9/3126—Driving therefor for spatial light modulators in series
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3129—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] scanning a light beam on the display screen
- H04N9/3132—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] scanning a light beam on the display screen using one-dimensional electronic spatial light modulators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
Abstract
【選択図】図3
Description
【技術分野】
本発明はレーザー照明システム分野に関する。特に、本発明はレーザーによって発生されるラインイルミネーション(行照明)が放散(拡散)面を通して走査されるレーザー照明システムの分野に関する。
【0002】
【従来の技術】
粗面を照明する干渉性(可干渉)光はスペックル(斑点)を生じる(発生させる)。粗面からの反射は放散反射と呼ばれる。粗面を通じた伝達(伝送)は放散伝達と呼ばれる。放散反射、即ち、放散伝達では光は各種の方向に散乱する。放散反射によって散乱される干渉性光は、粗面から離れた空間で干渉パターンを形成する。人の目で見られると、「粒状」パターンの明及び暗に見えるであろう。その粒状パターンがスペックルである。干渉性光によって照明された粗面を見ると、光学システムの彩度検出器も同様にスペックルを検出するであろう。
【0003】
先行技術のスペックル表示装置が図1に例示される。スペックル表示装置1は、第1光軸8上に配置される表示レンズ2、放散レンズ4及び観察(視聴)スクリーン6を含む。表示レンズ2はレーザービーム10を発する。放散レンズ4はレーザービーム10を放散レーザービーム12に変換する。放散レーザービーム12は大領域14の観察スクリーン6を照明する。観察スクリーン6は放散レーザービーム12を拡散的に反射して干渉パターンを造りだす。第2光軸18上に配置される観察面16は、干渉パターンと交差する。観察面16は、そこで目又は光学システムの焦点が合わされる空間の視野である。視聴スクリーン6において目又は光学システムの焦点が合わされると、観察面16は視聴スクリーン6に位置づけられる。放散レンズ4はスペックルの表示を助長するが、それはスペックルの発生上不必要である。
【0004】
図2は、先行技術の典型的なスペックルパターン17の写真であり、観察面16において見られるスペックルを例示する。観察スクリーン16から拡散的に反射する放散レーザービーム12の建設的な干渉は観察面16の明るい斑点(スポット)を造り出す。破壊的な干渉は明るいスポット間に暗いスポットを造り出す。視聴スクリーン6からの放散反射は無作為の性質を有し、そのために明スポット及び暗スポットは観察面16全体を通して変化する。
【0005】
スペックルの程度(尺度)はコントラスト(C)である。コントラストは、百分率でC=100*IRMS/I’によって与えられ、ここではI’は平均彩度、IRMSは平均彩度に関する二乗平均平方根彩度変動である。
【0006】
Goodmanは、「スペックルに関する若干の基本性質」(J.Opt.Soc.A.,Vol.66,No.11,Nov.1976,pp 1145−1150)で、N個の相関関係のないスペックルパターンを重ねることによってスペックルが低減され得ることを教示している。N個の相関関係のないスペックルパターンが同一の平均彩度及びコントラストを有するとすれば、これはスッペクル低減係数(因数)N’だけコントラストを低減させる。N個の相関関係のないパターンが等しくない平均彩度又は等しくないコントラストを有するならば、スッペクル低減係数はN’未満であろう。従って、スッペクル低減係数N’は、N個の相関関係のないスペックルパターンに対するスッペクル低減に関して最大の場合である。Goodmanは、相関関係のないスペックルパターンは、時間、空間、周波数又は偏光によって得られることをさらに教示している。
【0007】
先行技術のスペックル低減方法は、視聴スクリーン6を移動させることによって多数のスペックルパターンを与えるものであり、そこではGoodmanによって教示された時間手段が用いられる。振動運動19は、概して光軸8の周りの小円又は小楕円に従う。これは、スペックルパターンを目又は視聴スクリーン6を観察する光学システムに関してスペックルパターンを移動させ、従って時間を通して多数のスペックルパターンを形成する。時間に合った任意の瞬間においてスペックルの量は変らないが、振動運動の速度が或る閾値を越えるならば目には低減されたスペックルが知覚される。スペックルパターンが有意の距離移動できるように露出時間が十分長いならば、同光学システムの彩度検出器は低減されたスペックルを検出する。
【0008】
レーザー照明されたディスプレシステム技術では、レーザースペックルを低減させるために能動放散器(ディフューザ)がレーザー照明された作像システムに加えられ得ることが知られている。能動放散器は中間像平面又は中間像平面の近くに配置される。ディスプレスクリーンにおいて移動する位相を与えるために能動放散器は、ディスプレスシステム光軸の回りにおいて回転又はトロイド(トーラス方向)パターンの形で中間像平面内で移動される。移動する位相は時間を通して相関関係のないスペックルパターンを与え、従って、Goodmanによって教示された時間手段を用いる。
【0009】
「レーザー投影システムにおける放散光学素子によるスペックル低減」(Applied Optics, Vol.37,No. 10, Apr. 1998, pp 1770−1775)でWang他は、レーザーテレビシステムのようなレーザー投影システムにおけるレーザースペックル低減方法を教示している。レーザー投影システムにおけるレーザースポットは、CRT(陰極線管)ディスプレにおいて電子ビームが像を形成するのと同様にラスタ走査によってディスプレスクリーン上に像を形成する。Wang他によって教示された方法は、レーザービームを拡張し、多数の小ビームを形成するために拡張されたレーザービーム内に放散性光学素子を配置し、次いでディスプレスクリーン上にレーザースポットを形成するために小レーザービームに焦点を合わせる。これは時間で変化するスペックルパターン及び結果的にスペックル低減を与える。Wang他は、さらにスペックル低減に関して僅かに改良するために放散性光学要素が回転され得ることを教示している。
【0010】
Bloom他は、参照により本明細書に組み入れられた、1999年11月9日発行の米国特許第5,982,553号において、格子光弁(GLV)赤、緑、青レーザー、各種のレンズ系、走査鏡、ディスプレスクリーン、電子機器を含むディスプレシステムを教示している。
【0011】
Bloom他により教示されたディスプレシステムでは、GLVはディスプレスクリーン上のピクセルの線形配列から成る行イメージを形成する。走査鏡は、GLVがピクセルの線形配列を変調するにつれて行イメージに垂直な方向でディスプレスクリーンを横切って行イメージを反復的に走査し、それによって2次元像を形成する。
【0012】
Bloom他により教示された2次元像はレーザーイルミネーションによって形成されるので、同2次元像はレーザースペックルを示し、像品質を劣化させる。
【0013】
行イメージを走査することによって2次元像が形成されるディスプレシステムで必要とされるのは、レーザースペックルを低減させる方法である。
【0014】
レーザーによって発生されたラインイルミネーションが放散面を通して走査される光学システムで必要とされるのは、レーザースペックルを低減させる方法である。
【0015】
【本発明の要約】
本発明は、低減されたレーザースペックルを示すディスプレスクリーンを横切って、2次元像が行イメージを走査することによって形成される2次元像を表示する方法及び装置である。ディスプレ装置は、光変調器、波面変調器及び投影・走査光学系を含む。光変調器は、ピクセルの線形配列から行イメージを形成するためにレーザーイルミネーションを変調する。波面変調器は、行イメージの幅を横切って位相を空間的に変化させ、従って、位相変調された波面を形成する。投影・走査光学系は、行イメージをディスプレスクリーン上に投影し、ディスプレスクリーンを横切って行イメージを走査する。位相変調された波面は、ディスプレスクリーンを通して行イメージが走査されるにつれて多数のスペックルパターンを発生させ、従って低減されたレーザースペックルを発生させる。
【0016】
その代わりに、本発明は、レーザーによって発生されるラインイルミネーションが放散面を横切って走査されるあらゆるレーザー照明されたシステムにおいてレーザースペックルを低減させるのに適している。
【0017】
【本発明の望ましい実施態様の詳細な説明】
本発明のディスプレシステムは、図式的に図3に示される。ディスプレシステム40は、ディスプレ光学機器42及びディスプレ電子機器44を含む。ディスプレ光学機器42は、レーザー46、イルミネーション電子機器48、格子光弁(GLV)50、シリーレン(Schlieren)光学機器52、波面変調器54、投影及び走査光学機器56及びディスプレスクリーン58から成る。ディスプレ電子機器44はレーザー源46、GLV50及び投影及び走査光学機器56に結合される。
【0018】
ディスプレ電子機器44は、レーザー46を作動させる。レーザー46はレーザーイルミネーションを発する。イルミネーション光学機器48は、レーザーイルミネーションをGLV50上に集中させる。GLV50は、第1像平面60内に配置される。ディスプレ電子機器44はGLV50を制御する。GLV50はレーザーイルミネーションを変調し、ピクセルの線形配列(アレイ)に関して反射された光又は放散された光を形成する。シリーレン光学機器52は、反射された光を放散された光から分離し、シリーレン光学機器52を通すために少なくともプラス1及びマイナス1の放散オーダー(order)を可能にする。
【0019】
シリーレン光学機器は、波面変調器54において行イメージ幅を有する行イメージを形成する。波面変調器54は、第2像平面に配置される。波面変調器54は、行イメージ幅を横切って位相を変調する。ディスプレ電子機器44は、投影及び走査光学機器56の走査鏡を駆動する。投影及び走査光学機器56行イメージをディスプレスクリーン58上に投影し、ディスプレスクリーン58上に2次元像を形成するためにディスプレスクリーン58を横切って行イメージを走査する。ディスプレスクリーン58は第3像平面64に配置される。
【0020】
波面変調器54は、ディスプレスクリーン58において行イメージ幅を横切って位相を変化させる。行イメージ幅でディスプレスクリーン58を横切って走査するにつれて位相が変化し、従って時間を通して多数のスペックルパターンを発生させる。多数のスペックルパターンを見る人の目又は光学システムの彩度検出器は低減されたスペックルを検出する。
【0021】
本発明のディスプレ光学機器42は、図4及び5にさらに例示される。図4はディスプレ光学機器42の平面図を示す。図5はディスプレ光学機器42の立面図を例示し、ディスプレ光学機器42は光軸70に沿って展開される。レーザー46はレーザーイルミネーション72を発(放出)する。イルミネーション光学機器48は拡散レンズ74、視準レンズ76及び円柱レンズ78から成る。イルミネーション光学機器48は、焦点幅を有する焦点ラインの形でGLV50上にレーザーイルミネーション72の焦点を合わせる。図4は、入射角45°でGLV50を照明するレーザーイルミネーション72を例示することに注目せよ。理想的には入射角度は最少にし、レーザーイルミネーション72でGLV50を照明するのを可能にすると同時に反射及び回折した光がシリーレン光学機器52達し得るようにすることである。GLV50を照明するために他の光学機器系が用いられ得ることは当業者にとっては容易に明らかであろう。本発明の各レンズの描写は単一構成成分のレンズに限らず、また任意の所与のレンズが複合レンズ又は反射による光学素子で置き換えられ得ることも同様に当業者にっては容易に明らかであろう。
【0022】
GLV50は焦点ラインに沿ってピクセルの線形配列としてレーザーイルミネーション72を変調し、各ピクセルにつきプラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1を含む、反射された光R又は回折された光を形成する。その代わりに、GLV50は、1080を越えるか又はそれ未満のピクセルを発生させる。図5は、反射された光及び例示のために2つのピクセルにつきプラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1を例示する。所与のピクセルが光りを反射するように変調されるならば、反射された光Rが現れ、プラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1は現れないであろう。その代わりに、所与のピクセルが光を回折するように変調されるならば、プラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1が現れ、反射された光Rは現れないであろう。場合によっては、結果的に生じる像内にグレースケール効果を与える、結果的に生じる像内の所与のピクセル輝度を低減させるために、反射された光及びプラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1を発生させるように所与のピクセルを変調するのが望ましい。
【0023】
シリーレン光学機器52は、第1及び第2レンズ82及び84間に配置されるシリーレン絞り80を含む。シリーレン絞り80は、反射された光Rを止めて、プラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1がシリーレン絞り80を通過するのを可能にする。シリーレン絞り80は第1変換平面85に配置されるのが望ましい。その代わりに、シリーレン絞り80は第1変換平面85に近接して配置される。
【0024】
第1及び第2リレー(中継)レンズ82及び84は、波面変調器54以内であることが望ましい、第2像平面62内の行イメージとしてピクセルの線形配列の像を作る(映す)。その代わりに、第2像平面62は波面変調器54に近接する。暗及び明ピクセルは行イメージを構成する。暗ピクセルは、反射される光Rを与えるように変調されるGLV50におけるピクセルに相当する。明ピクセルは、プラス1及びマイナス1回折オーダーD+1及びD‐1を含む、回折される光を与えるために変調されるGLV50におけるピクセルに相当する。
【0025】
波面変調器54は、波面変調器54における行イメージ幅を横切る波面の空間位相変量を形成する。望ましくは、レーザーイルミネーション72の波長に対して空間位相変量は0及び2πラジアン間にある。望ましくは、空間位相変量は波面変調器54においては行イメージ幅未満であるが、投影及び走査光学機器56の最小サイズ分解能と等しいか又はそれより大きい周期を有する。波面変調器54は、行イメージに対して少なくとも部分的に直角な格子輪郭(側面)を有する透過性回折格子から成るのが望ましい。その代わりに、波面変調器54は、行イメージに対して少なくとも部分的に直角な格子輪郭を有する反射性回折格子から成る。反射性回折格子を用いることで、反射性回折格子を考慮するディスプレ光学機器42の再配列を要することは当業者にとって容易に明らかであろう。高さを変化させる無作為輪郭が、行イメージ幅を横切って波面の空間位相変量を発生させるために格子輪郭の代わりに用いられ得ることも同様に当業者にとって容易に明らかであろう。
【0026】
投影及び走査光学機器56は、投影レンズ86及び走査鏡88から成る。投影レンズ86は、走査鏡88を介してディスプレスクリーン58上に行イメージ90を投影する。同様に投影レンズ86は、ディスプレスクリーン58上の行イメージ幅92を横切って空間位相変量を有する波面を修正する。走査鏡88は第2変換平面94の周りに配置されるのが望ましい。
【0027】
走査鏡88は、第1走査運動Aと共に移動し、従って第2走査運動Bと共にディスプレスクリーン58を横切って行イメージ90を走査する。望ましくは、第1走査運動Aは鋸歯状歯走査運動であり、そこでは走査サイクルの第1部分はディスプレスクリーン58を照明し、走査サイクルの第2部分は走査鏡88を走査サイクルの初めに戻す。ディスプレスクリーン58を横切って行イメージを反復走査することによって2次元像がディスプレスクリーン58上に形成される。ディスプレスクリーン58を横切って行イメージ90を走査するために他の走査運動が用いられ得ることは当業者にとって容易に明らかであろう。同様にゼロの光学パワーを有する対物走査装置のような透過性走査装置で走査鏡88を置き換え得ることは当業者とって容易に明らかであろう。
【0028】
行イメージ90がディスプレスクリーン58を横切って走査するにつれて、GLV50はピクセルの線形並列を変調し、従ってピクセル矩形配列から構成される2次元像を発生させる。高解像度テレビ(HDTV)フォーマットに関しては、行イメージ90がディスプレスクリーン58を横切って走査するにつれてGLV50は1920回変調する。従って、GLV50は、HDTVフォーマット用の2次元像を形成する、1920X1080の矩形配列を発生させるのが望ましい。 他の映像フォーマットに関しては、他のどの映像フォーマットが表示されるかに依存して、行イメージ90がディスプレスクリーン58を横切って走査するにつれて、GLV50は1920を越えるか又はそれ未満の回数の変調を行う。
【0029】
行イメージ幅92でディスプレスクリーン58を横切って走査するにつれて、空間位相変量を有する波面は時間と共に多数のスペックルパターンを発生させる。当該多重スペックルパターンは目又は光学システムの彩度検出器によって検出されるスペックルを低減させる。
【0030】
図3、4及び5に描写されたディスプレ光学機器は単色像を発生させる。 カラーディスプレ光学機器は、ディスプレ光学機器42、2つの追加レーザー、2つの追加イルミネーション光学機器、2つの追加GLV及び2色性フィルタ群から成る。カラーディスプレ光学機器では、赤、緑及び青レーザーは3つのGLVを照明し、ピクセルの赤、緑及び青線形配列を発生させる。2色性フィルタ群は3つのGLVから反射及び回折された光を結合し、反射及び回折された光をシリーレン光学機器52に方向づける。波面変調器54は、波面変調器54及びその結果としてディスプレスクリーン58において赤、緑及び青波面に対して行イメージ幅92を横切って位相を変化させる。カラーディスプレ光学機器に関しては、行イメージ幅92を横切る空間位相変量は、赤、緑及び青レーザーイルミネーションの1つ(例えば、緑レーザーイルミネーション)に対して最適振幅又は関係する波長の特殊な平均である波長を有するのが望ましい。行イメージ90がディスプレスクリーン58を横切って走査されるにつれて、赤、緑及び青波面は、時間を通して多数のスペックルパターンを発生させ、従って、カラーディスプレ光学機器内のスッペクルを低減させる。その代わりに、カラーカラーディスプレ光学機器では、2色性フィルタ群は、単一GLVを連続的に照明するために赤、緑及び青レーザーイルミネーションを結合させる。
【0031】
望ましい波面変調器54Aは図6A及び6Bに例示される。望ましい波面変調器54Aは、幅、高さ及び厚さ106、108及び109並びに格子輪郭110を有する透過性格子から成る。好ましい波面変調器54Aにおいて25.5μmの行イメージ幅を有する27.5mmの行イメージに対する便利な取扱サイズ及び冗長性を与えるために、幅106は約4mm、高さ108は約35mm及び厚さ109は約1mmであることが望ましい。その代わりに、高さ108及び幅106は、少なくとも行イメージのサイズになるように選択され、また好ましい波面変調器54Aにおける行ライン幅及び厚さ109は、少なくとも十分な取扱構造を与えるものになるように選択される。例示の目的のために図6A及び6Bは現実のものより遥かに大きくされたものとして格子輪郭110を描写していることに注目せよ。
【0032】
格子輪郭110は、高さ108に対して角度Cを形成し、27.5mmの行イメージに平行である。格子輪郭110は、好ましい波面変調器54Aにおいて27.5mmの行イメージに対して少なくとも部分的に直交し、従って角度Cは90°ではない。望ましくは、ディスプレ光学機器42(図4及び5)の投影レンズ86及び走査鏡88に対する光学的処理量を最適化するために角度Cは約45°である。45°の角度は、ディスプレスクリーン58において行イメージ幅92を横切る空間位相変量を与え、同時に第2変換平面94(図4及び5)の回りに配置される、走査鏡88における光学的足跡を最小にする。格子輪郭110、角度C、投影レンズ86及び走査鏡88は、ディスプレ光学機器42(図4、5、6A及び6B)の相互に関係のあるサブシステムを形成する。相互に関係のあるサブシステムは、異なった格子輪郭、角度Cに対する45°以外の角度、異なった投影レンズ及び異なった走査鏡を用いて最適化され得る。
【0033】
図6Cは、格子輪郭110をさらに例示する。格子輪郭110は2ピッチ格子輪郭から成る。投影レンズ86がf/2.5の速度を有する、融解石英(532nm光に対し1.46屈折率を有する)の格子材料、好ましい波面変調器54Aにおける像幅の格子材料及び相互に関係するサブシステムに対して最適化された好ましい格子輪郭を以下に示す。
【0034】
図6C基準 寸法
D 4μm
E 3.5
F 2
G 8.5
H 578nm
【0035】
寸法Hは、H=λ/[2(n−1)]によって決定され、ここではλは光波長であり、nは格子材料に関する屈折率である。好ましい格子輪郭は、走査鏡88がディスプレ光学機器42(図4及び5)の第2変換平面94の回りに配置された矩形鏡から成る、相互に関係するサブシステムに対する光学的足跡を最適化する。
【0036】
好ましい波面変調器54Aは写真平版パターンを溶解石英に食刻することによって製造されるのが望ましい。好ましい波面変調器54Aはむしろ反射防止膜を含む。好ましい反射防止膜は400−700nmBBAR(ブロードバンド反射防止性)膜である。
【0037】
既に述べたように、行イメージ幅92でディスプレスクリーン58を走査するにつれて空間位相変量を有する波面は時間と共に多数のスッペクルパターンを発生させる。目で検出されると当該多重スッペクルパターンは、本発明のスッペクル低減係数(率)だけスペックルを低減させる。
【0038】
本発明のスペックル低減係数は下式で与えられる。
【0039】
スペックル低減係数=(1+θproj2/θeye)1/2/(1+θproj1/θeye)1/2
ここで、θproj1=走査方向で、投影された光によって境界づけられた、投影された第1平面角度であり、波面変調器54のないディスプレ光学器
42に対するものである
θproj2=走査方向で、投影された光によって境界づけられた、投影された第2平面角度であり、波面変調器54を伴うディスプレ光学器42に対するものである
θeye=目によって境界づけられて見られた平面角度である
【0040】
波面変調器54をディスプレ光学器42に含めることによって、投影された第1平角度θproj1は第2平面角度θproj2に増大される。投影及び走査光学機器56の投影出口瞳孔を最大化するように波面変調器54を設計することによって、本発明のスペックル低減係数は最大化される。
【0041】
スペックル低減係数は本発明の総合的スペックル低減を評価するが、行イメージ幅92がディスプレスクリーン58を横切って走査されるにつれて、同幅に関してスッペクルがどのように低減されるかを理解することは有用である。
【0042】
行イメージ幅92でディスプレスクリーン58上の各ピクセルを横切って走査するにつれて、多重スペックルパターンが発生される。それは光波関数Ψtotal(x,t)が時間と共に変わるからである。即ち、
Ψtotal(x,t)=Ψscreen(x)+Ψbeam(x−vt)
ここで、Ψscreen=静止ディスプレスクリーン光波関数
Ψbeam=移動ビームを構成する可変光波
x=走査方向に沿ったディスプレスクリーン58上の位置
v=行イメージ幅92の走査速度
【0043】
走査動作が速く、1ピクセルを横切るのに10μs未満なので目で多重スペックルパターンの平均が取られる。
【0044】
例示的な1例では、第1、第2、第3及び第4の分散した領域及び2段階波面輪郭によって、多重パターンがどんな風に形成されるかが図7A及び7Bに図式的に示される。図7Aから始まる、ディスプレスクリーン58上の分散した領域、150、152、154及び156が初期時間t1において示され、2段階波面輪郭158で第1、第2及び第3分散領域150、152及び154が照明され、2段階波面輪郭158が観察者の目で見られる。
【0045】
観察者の目で見られる光を記述する第1光波関数Ψ(t1)が下式で与えられる。
【0046】
Ψ(t1)=A1eiΦ’+A2eiΦ’’+A3eiΦ’’’
ここで、A1=第1分散領域150から放散反射する光の第1振幅
A2=第2分散領域152から放散反射する光の第2振幅
A3=第3分散領域154から放散反射する光の第3振幅
Φ’=第1分散領域150から放散反射する光の第1位相
Φ’’=第2分散領域152から放散反射する光の第2位相
Φ’’’=第3分散領域154から放散反射する光の第3位相
【0047】
例示的例に関して、Φ’=πラジアン及びΦ’’=Φ’’’=0と仮定すると、光波関数Ψ(t1)は下式で与えられる。
【0048】
Ψ(t1)=‐A1+A2+A3
これは彩度を導き、第1光波関数Ψ(t1)に対する第1彩度I(t1)は下式で与えられる。
【0049】
I(t1)=Ψ(t1)2=A1 2+A2 2+A3 2‐2A1A2‐2A1A3+2A2A3
図7Bは、その後の時間t2におけるディスプレスクリーン58上の2段階波面輪郭158を図式的に描写し、そこでは2段階波面輪郭158は第2、第3及び第4分散領域152、154及び156を照明する。
【0050】
観察者の目で見られる光を記述する第2光は関数Ψ(t2)は下式で与えられる。
【0051】
Ψ(t2)=A2eiΦ’’+A3eiΦ’’’+A4eiΦ’’’’
ここで、A4=第3分散領域156から放散反射する光の第3振幅
Φ’’’’=第4分散領域156から放散反射する光の第4振幅
【0052】
例示的例に関して、Φ’=πラジアン及びΦ’’’=Φ’’’’=0と仮定すると、光波関数Ψ(t2)は下式で与えられる。
【0053】
Ψ(t2)=‐A2+A3+A4
これは第2光波関数Ψ(t2)に対する、下式で与えられる第2彩度I(t2)を導く。
【0054】
I(t2)=Ψ(t2)2=A2 2+A3 2+A4 2‐2A2A3‐2A2A4+2A3A4
【0055】
初期時間(t1)と、その後の時間(t2)との時間差は観察者の目に対する統合時間より遥かに小さいので、観察者の目は第1及び第2彩度I(t1)及びI(t2)の平均を取る。特に、第1及び第2彩度I(t1)及びI(t2)の比較は、第1彩度I(t1)の第1交差項(+2A2A3)が第2彩度I(t2)の第2交差項(−2A2A3)によって相殺されることを示す。観察者の目で見られるスペックルを低減させるのは交差項のこの相殺である。
【0056】
本発明の第1代替ディスプレ光学機器は、反射性光弁の線形配列を用いる。図4及び5を参照すると、そんなシステムはGLV50を反射性光弁の線形配列で置き換えるのでシリーレン絞り80を用いないであろう。第1の代替ディスプレ光学機器では、第1中継レンズ82からレーザーイルミネーションを反射することによって特殊の反射性光弁が暗ピクセルを発生させる。第1代替ディスプレ光学機器では、レーザーイルミネーションを第1中継レンズ82へ反射することによって特殊の反射性光弁が明ピクセルを発生させる。
【0057】
本発明の第2代替ディスプレ光学機器は、透過性光弁の線形配列を用いる。図4及び5を参照すると、そんなシステムはGLV50を透過性光弁の線形配列で置き換えるのでシリーレン絞り80を用いないであろう。第2の代替ディスプレ光学機器では、第1中継レンズ82へレーザーイルミネーションを伝導しないことによって特殊の透過性光弁が暗ピクセルを発生させる。第2代替ディスプレ光学機器では、レーザーイルミネーションを第1中継レンズ82へ伝導することによって特殊の反射性光弁が明ピクセルを発生させる。
【0058】
本発明の第3代替ディスプレ光学機器は、シリーレン光学機器を反射性シリーレン光学機器で置き換える。反射性シリーレン光学機器はオフナー(Offner)リレーを用いるのが望ましい。オフナーリレーは、凸面鏡及び凹面鏡を含む。凸面鏡は矩形スリットを含む。反射された光R及び、プラス1及びマイナス1回折オーダー、D+1及びD‐1を含む、回折された光は凸面鏡から凹面鏡へ反射する。反射された光Rは矩形スリットを通過する。プラス1及びマイナス1回折オーダー、D+1及びD‐1は凸面鏡から凹面鏡へ逆反射する。続いて、凹面鏡はプラス1及びマイナス1回折オーダー、D+1及びD‐1を波面変調器54へ反射する。
【0059】
代わりの波面変調器が図8に例示される。代替波面変調器54Bは、第1及び第2格子表面、136及び138、並びに同調(調整)表面139から成る。第2格子表面138は、ライン140を横切って反映される第1格子表面から成る。同調表面139は、ディスプレ光学機器42(図4、5及び8)の初期整列(調整)のために用いられる平坦な表面から成る。ディスプレ光学機器42の初期整列では、代替波面変調器54Bの光学的厚さを説明するようにディスプレ光学機器42を調整するために行イメージ90が同調表面139に又はその近くに集中される。初期整列後、波面を横切って空間位相変量を発生させるために第1又は第2格子表面、136又は138が選択される。このように、第1又は第2格子表面、136又は138のよりよい像品質(図4、5及び8)を与えるどちらかを選択することによって後続の光学機器の光学的欠点が最小にされる。
【0060】
好ましい格子輪郭を有する好ましい波面変調器54Aの性能を評価するために2つの試験が行われた。第1試験では、波面変調器は存在しなかった。同試験ではコントラストは44%であることが分かった。第2試験では、好ましい波面変調器54Aが存在した。同試験では、コントラストは20%であることが分かった。従って、2.2スペックル低減係数(N’)が好ましい波面変調器54Aによって発生された。
【0061】
本発明のディスプレシステム40に関して本発明は記載されているが、本発明はレーザーによって発生されるラインイルミネーションが放散表面を横切って走査される任意のレーザー照明されたシステムにおいてレーザースペックルを低減させるのに適している。
【0062】
添付された請求の範囲によって限定される本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく好ましい実施形態に各種の修正がなされ得ることは当業者にとって容易に明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】
図1は、先行技術のレーザースペックルを示す装置を例示する。
【図2】
図2は、先行技術の典型的なレーザースペックルパターンの写真である。
【図3】
図3は、本発明のディスプレ装置を図式的に例示する。
【図4】
図4は、本発明のディスプレ光学機器系の平面図を例示する。
【図5】
図5A及び5Bは、光軸に沿って展開された本発明のディスプレ光学機器系の立面図を例示する。
【図6】
図6A、6B及び6Cは本発明の望ましい波面変調器を例示する。
【図7】
図7A及び7Bは、行イメージが本発明のディスプレスクリーンを横切って走査されるつれて進行する波面を例示する。
【図8】
図8は、本発明の代わりの波面変調器を例示する。
Claims (22)
- ディスプレスクリーンに2次元像を表示する表示装置であって、
a.電子手段で駆動されかつレーザーイルミネーションによって照明される、第1像平面に配置される光変調器であって、行イメージを形成する直線配列ピクセルを形成する光変調器と、
b.第2像平面に配置される波面変調器であって、該行イメージの幅を横切って位相を空間的に変化させ、それによって位相変調された波面が形成される波面変調器と、
c.該電子手段によって駆動される投影・走査光学系であって、該ディスプレスクリーンに2次元像が形成されかつさらに該位相変調された波面がレーザースペックルを低減させるように、該行イメージを該ディスプレスクリーン上に投影すると共に該ディスプレスクリーンを通して該行イメージを走査する投影・走査光学系から成る2次元像表示装置。 - 該光変調器が回折光弁配列を含む、請求項1の装置。
- 該回折光弁配列が格子光弁を含む、請求項2の装置。
- 該第2像平面が該第1像平面と該投影・走査光学系との間に光学的に配置される、請求項3の装置。
- 該光変調器が反射光弁配列を含む、請求項1の装置。
- 該光変調器が透過光弁配列を含む、請求項1の装置。
- 該波面変調器が回折素子を含む、請求項1の装置。
- 該波面変調器が反射素子を含む、請求項1の装置。
- 該波面変調器が回折格子を含む、請求項1の装置。
- 該回折格子が2ピッチ回折格子を含む、請求項9の装置。
- 該投影・走査光学系が投影レンズ及び走査鏡を含みかつさらに該回折格子が光学処理量を最適化させるように構成される、請求項9の装置。
- ディスプレスクリーンに2次元像を表示する表示装置であって、
a.電子手段で制御されてレーザー出力を与えるレーザー源と、
b.焦点ライン上のレーザー出力を円柱状に集中させる第1光学系であって、該焦点ラインが焦点幅を有しかつ第1像平面に配置される第1光学系と、
c.該電子手段によって変調される光弁配列であって、第1像平面に配置されかつ行イメージを形成するピクセルの直線配列を発生させるように構成される光弁配列と、
d.第2像平面において該焦点幅を有する該焦点ラインを円柱状に集中させる第2光学系と、
e.該第2像平面に配置される波面変調器であって、位相変調された波面が行イメージ幅を横切って形成されるように該焦点幅を横切る空間位相を変調する波面変調器と、
f.電子手段によって駆動される第3光学系であって、
該ディスプレスクリーンに該2次元像が形成されかつさらに該位相変調された波面がレーザースペックルを低減させるように、該行イメージを該ディスプレスクリーン上に投影すると共に該ディスプレスクリーンを通して該行イメージを走査する2次元像表示装置。 - 該光弁配列が回折光弁配列を含む、請求項12の装置。
- 該回折光弁配列が光弁から成りかつさらに該第3光学系が回折された光と反射された光との結合から回折された部分を分離する手段を含み、該回折された部分が該回折された光の一部分である、請求項13の装置。
- 該回折された部分がプラス1回折オーダー及びマイナス1回折オーダーから成る、請求項14の装置。
- 該回折された光が該行イメージを形成する、請求項15の装置。
- 該光弁配列が反射性光弁配列から成る、請求項12の装置。
- 該光弁配列が透過性光弁配列から成る、請求項12の装置。
- ディスプレスクリーンに2次元像を表示する表示装置であって、
a.電子手段で制御されてレーザー出力を与えるレーザー源と、
b.焦点ライン上のレーザー出力を円柱状に集中させる第1光学系であって、該焦点ラインが焦点幅を有しかつ第1像平面に配置される第1光学系と、
c.焦点ラインによって照明されかつ該電子手段によって変調される第1像平面に配置される格子光弁であって、回折された光とピクセルの直線配列に配列された反射された光との結合を発生させ、ピクセルの該直線配列の回折された部分が行イメージを形成する格子光弁と、
d.該回折された光と該反射された光との結合から該回折された部分を分離する第2光学系であって、第2像平面に該行イメージを造る第2光学系と、
e.該第2像平面に配置されると共に行イメージ幅を横切って空間位相を変調し、それによって位相変調された行イメージが形成される波面変調器と、
f.該位相変調された行イメージを投影し、それによって投影された行イメージが形成される投影レンズと、
g.該電子手段によって駆動される走査鏡アッセンブリであって、該ディスプレスクリーンに2次元像が形成されかつさらに該位相変調された波面がレーザースペックルを低減させるように、該ディスプレスクリーンを通して該投影された行イメージを走査する走査鏡アッセンブリとから成る2次元像表示装置。 - レーザー照明されたディスプレシステムのレーザースペックルを低減させる方法であって、
a.ある幅を有するライン上のレーザー出力に焦点を合わせ、
b.ピクセルの直線配列を発生させるために該ラインに沿って該レーザー出力を変調し、ピクセルの該直線配列が行イメージ幅を有する行イメージを形成するようにさせ、
c.位相変調された波面が形成されるように該行イメージの幅を横切って空間位相をに変調し、
d.ディスプレスクリーン上に該行イメージを投影し、
e.該ディスプレスクリーンに2次元像が形成されかつさらに該位相変調された波面がレーザースペックルを低減させるように、該ディスプレスクリーンを通して該行イメージを走査することから成るレーザースペックル低減方法。 - 放散面上のある領域を照明する装置であって、
レーザーイルミネーションによって照明されかつ第1像平面に配置される波面変調器であって、該レーザーイルミネーションは該波面変調器においてラインイルミネーション幅を有するラインイルミネーションを形成し、該波面変調器は該ラインイルミネーション幅を横切って位相を空間的に変化させ、それによって位相変調された波面が形成される波面変調器と、
電子手段によって駆動される投影・走査光学系であって、該ラインイルミネーションを該放散面上に投影し、該領域が照明されかつさらに該位相変調された波面がレーザースペックルを低減させるように該放散面を通して該ラインイルミネーションを走査する投影・走査光学系とから成る放散面領域照明装置。 - レーザースペックルを低減させる方法であって、
a.あるラインイルミネーション幅を有するラインイルミネーションにレーザー出力の焦点を合わせ、
b.位相変調された波面が発生されるように該ラインイルミネーション幅を横切って空間位相を変調し、
c.放散面上に該ラインイルミネーションを投影し、
d.ある領域が照明されかつさらに該位相変調された波面でレーザースペックルが低減されるように、該放散面を通して該ラインイルミネーションを走査することから成るレーザースペックル低減方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/687,465 US6323984B1 (en) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | Method and apparatus for reducing laser speckle |
PCT/US2001/031418 WO2002031575A2 (en) | 2000-10-11 | 2001-10-04 | Method and apparatus for reducing laser speckle |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004529375A true JP2004529375A (ja) | 2004-09-24 |
JP2004529375A5 JP2004529375A5 (ja) | 2006-02-16 |
Family
ID=24760550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002534903A Pending JP2004529375A (ja) | 2000-10-11 | 2001-10-04 | レーザースペックル低減方法及び装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6323984B1 (ja) |
EP (1) | EP1330674A2 (ja) |
JP (1) | JP2004529375A (ja) |
KR (1) | KR20030046500A (ja) |
CN (1) | CN1211689C (ja) |
AU (1) | AU2002215319A1 (ja) |
TW (1) | TW507403B (ja) |
WO (1) | WO2002031575A2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008058963A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-13 | Samsung Electro Mech Co Ltd | スペックル除去回折型光変調システム |
JP2009258738A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Jds Uniphase Corp | レーザ照明システム用のリターダー・ベース・スペックル除去デバイス |
JP2010517275A (ja) * | 2007-01-24 | 2010-05-20 | オスラム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | オプトエレクトロニクスデバイス |
JP4763038B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-08-31 | エヴァンス・アンド・サザーランド・コンピューター・コーポレーション | レーザ・プロジェクタのためのスペックル及び干渉パターンの削減 |
Families Citing this family (138)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7832643B2 (en) | 1998-03-24 | 2010-11-16 | Metrologic Instruments, Inc. | Hand-supported planar laser illumination and imaging (PLIIM) based systems with laser despeckling mechanisms integrated therein |
US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
US6872984B1 (en) | 1998-07-29 | 2005-03-29 | Silicon Light Machines Corporation | Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle |
AU778319B2 (en) * | 1999-12-23 | 2004-11-25 | Shevlin Technologies Limited | A display device |
US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
US6738105B1 (en) * | 2000-11-02 | 2004-05-18 | Intel Corporation | Coherent light despeckling |
US8042740B2 (en) | 2000-11-24 | 2011-10-25 | Metrologic Instruments, Inc. | Method of reading bar code symbols on objects at a point-of-sale station by passing said objects through a complex of stationary coplanar illumination and imaging planes projected into a 3D imaging volume |
US6476848B2 (en) * | 2000-12-21 | 2002-11-05 | Eastman Kodak Company | Electromechanical grating display system with segmented waveplate |
US7177081B2 (en) | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
US6707591B2 (en) | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
US6865346B1 (en) | 2001-06-05 | 2005-03-08 | Silicon Light Machines Corporation | Fiber optic transceiver |
US6747781B2 (en) * | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
US6930364B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-16 | Silicon Light Machines Corporation | Microelectronic mechanical system and methods |
US6956995B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Optical communication arrangement |
US6692129B2 (en) * | 2001-11-30 | 2004-02-17 | Silicon Light Machines | Display apparatus including RGB color combiner and 1D light valve relay including schlieren filter |
US6611380B2 (en) * | 2001-12-21 | 2003-08-26 | Eastman Kodak Company | System and method for calibration of display system with linear array modulator |
US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
US6577429B1 (en) * | 2002-01-15 | 2003-06-10 | Eastman Kodak Company | Laser projection display system |
US6987240B2 (en) * | 2002-04-18 | 2006-01-17 | Applied Materials, Inc. | Thermal flux processing by scanning |
US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
US6839479B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-01-04 | Silicon Light Machines Corporation | Optical switch |
US7054515B1 (en) | 2002-05-30 | 2006-05-30 | Silicon Light Machines Corporation | Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor |
US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
US6908201B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
US6897994B2 (en) * | 2002-07-03 | 2005-05-24 | Agfa Corporation | System for correction of spatial cross-talk and pattern frame effects in imaging systems |
CN1470935A (zh) * | 2002-07-10 | 2004-01-28 | ��ʿ��Ƭ��ʽ���� | 显示装置 |
US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
US7057795B2 (en) | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
WO2004031753A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Applied Materials Israel, Ltd. | Inspection system with oblique viewing angle |
US6807010B2 (en) | 2002-11-13 | 2004-10-19 | Eastman Kodak Company | Projection display apparatus having both incoherent and laser light sources |
US6928207B1 (en) | 2002-12-12 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Apparatus for selectively blocking WDM channels |
US7057819B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
US6934070B1 (en) | 2002-12-18 | 2005-08-23 | Silicon Light Machines Corporation | Chirped optical MEM device |
US6927891B1 (en) | 2002-12-23 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches |
US20040145708A1 (en) * | 2003-01-24 | 2004-07-29 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Infrared projector |
US6751001B1 (en) | 2003-01-24 | 2004-06-15 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Non-sampled auto-format conversion method |
US7068372B1 (en) | 2003-01-28 | 2006-06-27 | Silicon Light Machines Corporation | MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor |
US7286764B1 (en) | 2003-02-03 | 2007-10-23 | Silicon Light Machines Corporation | Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer |
US6947613B1 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Silicon Light Machines Corporation | Wavelength selective switch and equalizer |
US6922272B1 (en) | 2003-02-14 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices |
US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
US7391973B1 (en) | 2003-02-28 | 2008-06-24 | Silicon Light Machines Corporation | Two-stage gain equalizer |
US6922273B1 (en) | 2003-02-28 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings |
US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
US7027202B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-04-11 | Silicon Light Machines Corp | Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer |
US7046420B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-05-16 | Silicon Light Machines Corporation | MEM micro-structures and methods of making the same |
US7042611B1 (en) | 2003-03-03 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Pre-deflected bias ribbons |
WO2004102258A2 (en) * | 2003-05-15 | 2004-11-25 | Stockeryale Canada Inc. | Static method for laser speckle reduction and apparatus for reducing speckle |
US7156522B2 (en) * | 2003-07-16 | 2007-01-02 | Plut William J | Projection-type display devices with reduced weight and size |
US7281807B2 (en) * | 2003-07-16 | 2007-10-16 | Honeywood Technologies, Llc | Positionable projection display devices |
US7111943B2 (en) * | 2003-07-28 | 2006-09-26 | Eastman Kodak Company | Wide field display using a scanned linear light modulator array |
JP4534453B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2010-09-01 | ソニー株式会社 | 投射型画像表示装置 |
EP1683074A1 (en) * | 2003-11-10 | 2006-07-26 | Technology Innovations, LLC | Digital imaging assembly and methods thereof |
CN100590509C (zh) * | 2003-12-24 | 2010-02-17 | 松下电器产业株式会社 | 二维图像显示装置 |
KR100605971B1 (ko) * | 2004-05-18 | 2006-07-31 | 삼성전자주식회사 | 레이저 텔레비전 |
JP4290095B2 (ja) * | 2004-08-16 | 2009-07-01 | キヤノン株式会社 | 表示光学系および画像表示システム |
KR100685989B1 (ko) * | 2004-09-06 | 2007-02-23 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 반점 감소 장치 |
KR100685968B1 (ko) * | 2004-09-06 | 2007-02-23 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 반점 감소 장치 |
CN101015217A (zh) * | 2004-09-08 | 2007-08-08 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 投影显示设备 |
KR100644644B1 (ko) | 2004-10-28 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 레이저 반점을 제거한 조명계 및 이를 채용한 1 패널식프로젝션 시스템 |
KR100682903B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 레이저 반점을 제거한 조명계 및 이를 채용한 프로젝션 tv |
KR100682902B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 레이저 반점을 제거한 조명계 및 이를 채용한 프로젝션 tv |
US7244028B2 (en) * | 2004-12-14 | 2007-07-17 | Coherent, Inc. | Laser illuminated projection displays |
US7119936B2 (en) * | 2004-12-15 | 2006-10-10 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
US7046446B1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-05-16 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
JP4311382B2 (ja) * | 2005-07-20 | 2009-08-12 | セイコーエプソン株式会社 | プロジェクタ |
KR100688863B1 (ko) | 2005-08-12 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | 스펙클을 저감하기 위한 한 쌍의 광학소자를 구비하는레이저 프로젝션 디스플레이 시스템 |
US20070047059A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Howard P G | Illumination path shifting |
US7413311B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-08-19 | Coherent, Inc. | Speckle reduction in laser illuminated projection displays having a one-dimensional spatial light modulator |
KR101234037B1 (ko) * | 2005-10-12 | 2013-02-15 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 반점 감소 장치 |
US7420177B2 (en) * | 2006-01-20 | 2008-09-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | High-resolution-imaging system for scanned-column projectors |
KR100901500B1 (ko) * | 2006-05-23 | 2009-06-08 | 삼성전기주식회사 | 레이저 반점을 감소시키는 광변조기 모듈 |
US7457330B2 (en) | 2006-06-15 | 2008-11-25 | Pavilion Integration Corporation | Low speckle noise monolithic microchip RGB lasers |
KR100890303B1 (ko) * | 2006-08-10 | 2009-03-26 | 삼성전기주식회사 | 왜곡 보정 기능이 구비된 회절형 광변조기 디스플레이 장치 |
US7400449B2 (en) * | 2006-09-29 | 2008-07-15 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for reduction of image artifacts for laser projectors |
US20080106779A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Infocus Corporation | Laser Despeckle Device |
KR100858084B1 (ko) * | 2006-12-01 | 2008-09-10 | 삼성전자주식회사 | 스펙클 노이즈를 저감하는 형상을 갖는 확산자 및 이를채용한 레이저 프로젝션 시스템 |
WO2008073449A2 (en) | 2006-12-12 | 2008-06-19 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for aligning rgb light in a single modulator projector |
US20080192327A1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-08-14 | Abu-Ageel Nayef M | Method and system for speckle reduction using an active device |
KR100890290B1 (ko) * | 2007-02-16 | 2009-03-26 | 삼성전기주식회사 | 개구수에 의존하는 초점심도를 갖는 회절형 광변조기를이용한 디스플레이 장치 |
US7502160B2 (en) | 2007-03-02 | 2009-03-10 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Speckle reduction in laser-projector images |
US20080219303A1 (en) * | 2007-03-02 | 2008-09-11 | Lucent Technologies Inc. | Color mixing light source and color control data system |
EP1975679A1 (en) | 2007-03-31 | 2008-10-01 | Sony Deutschland Gmbh | Image generating apparatus |
US7750286B2 (en) * | 2007-06-19 | 2010-07-06 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Compact image projector having a mirror for reflecting a beam received from a polarization beam splitter back to the polarization beam splitter |
US8643822B2 (en) * | 2007-07-03 | 2014-02-04 | Jds Uniphase Corporation | Non-etched flat polarization-selective diffractive optical elements |
DE102007038999A1 (de) * | 2007-08-17 | 2009-02-19 | Punch Graphix Prepress Germany Gmbh | Verfahren zur Steigerung des Durchsatzes und zur Reduzierung der Bewegungsunschärfe |
US7653097B2 (en) * | 2007-12-31 | 2010-01-26 | Corning Incorporated | Systems and methods for polarization modulation of an optical signal |
US8129669B2 (en) * | 2008-01-22 | 2012-03-06 | Alcatel Lucent | System and method generating multi-color light for image display having a controller for temporally interleaving the first and second time intervals of directed first and second light beams |
US8427727B2 (en) * | 2008-01-22 | 2013-04-23 | Alcatel Lucent | Oscillating mirror for image projection |
US20090184976A1 (en) * | 2008-01-22 | 2009-07-23 | Alcatel-Lucent | System and Method for Color-Compensating a Video Signal Having Reduced Computational Requirements |
WO2009094152A1 (en) * | 2008-01-22 | 2009-07-30 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | A light modulator for optical image projection |
US8109638B2 (en) * | 2008-01-22 | 2012-02-07 | Alcatel Lucent | Diffuser configuration for an image projector |
US8247999B2 (en) * | 2008-01-22 | 2012-08-21 | Alcatel Lucent | Time division multiplexing a DC-to-DC voltage converter |
US7970028B2 (en) * | 2008-01-30 | 2011-06-28 | Corning Incorporated | System and methods for speckle reduction |
US7997735B2 (en) * | 2008-03-27 | 2011-08-16 | Corning Incorporated | Systems and methods for speckle reduction |
US7959297B2 (en) | 2008-05-15 | 2011-06-14 | Eastman Kodak Company | Uniform speckle reduced laser projection using spatial and temporal mixing |
US8358317B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying a planar image on a curved surface |
US8702248B1 (en) | 2008-06-11 | 2014-04-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface |
US7969644B2 (en) | 2008-09-02 | 2011-06-28 | Elbit Systems Of America, Llc | System and method for despeckling an image illuminated by a coherent light source |
US7944598B2 (en) * | 2008-11-06 | 2011-05-17 | Corning Incorporated | Speckle mitigation in laser scanner projector systems |
US8077378B1 (en) | 2008-11-12 | 2011-12-13 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Calibration system and method for light modulation device |
US8077367B2 (en) * | 2009-04-29 | 2011-12-13 | Corning Incorporated | Speckle mitigation in laser projection systems |
US8130433B2 (en) * | 2009-04-29 | 2012-03-06 | Corning Incorporated | Spinning optics for speckle mitigation in laser projection systems |
US8226241B2 (en) * | 2009-05-15 | 2012-07-24 | Alcatel Lucent | Image projector employing a speckle-reducing laser source |
US8235531B2 (en) | 2009-06-22 | 2012-08-07 | Eastman Kodak Company | Optical interference reducing element for laser projection |
US8220931B2 (en) | 2009-07-07 | 2012-07-17 | Eastman Kodak Company | Etendue reduced stereo projection using segmented disk |
US8066382B2 (en) | 2009-07-14 | 2011-11-29 | Eastman Kodak Company | Stereoscopic projector with rotating segmented disk |
EP2284581A1 (en) | 2009-08-07 | 2011-02-16 | JDS Uniphase Corporation | LC Layers Having a Spatially-Varying Tilt Angle |
EP2534093B1 (en) * | 2010-02-11 | 2018-10-17 | Mezmeriz, Inc. | Microelectromechanical system with reduced speckle contrast |
US20110234985A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Despeckling laser-image-projection system |
TW201222009A (en) * | 2010-05-21 | 2012-06-01 | Corning Inc | Systems and methods for reducing speckle using diffusing surfaces |
US8469519B2 (en) | 2010-06-16 | 2013-06-25 | Eastman Kodak Company | Projection apparatus providing reduced speckle artifacts |
US8085467B1 (en) | 2010-06-16 | 2011-12-27 | Eastman Kodak Company | Projection display surface providing speckle reduction |
US8421844B2 (en) | 2010-08-13 | 2013-04-16 | Alcatel Lucent | Apparatus for correcting gaze, a method of videoconferencing and a system therefor |
US8573785B2 (en) | 2010-11-23 | 2013-11-05 | Corning Incorporated | Wavelength-switched optical systems |
US8848200B2 (en) | 2011-10-05 | 2014-09-30 | Daniel Feldkhun | Systems and methods for suppressing coherent structured illumination artifacts |
US9641826B1 (en) | 2011-10-06 | 2017-05-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface |
GB2498184A (en) * | 2012-01-03 | 2013-07-10 | Liang Kong | Interactive autostereoscopic three-dimensional display |
JP6127714B2 (ja) * | 2013-05-23 | 2017-05-17 | セイコーエプソン株式会社 | レーザープロジェクター |
CN103293678B (zh) * | 2013-06-04 | 2015-04-08 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 基于超连续谱光源的均匀激光照明装置 |
DE102013220448B4 (de) * | 2013-10-10 | 2022-03-17 | Zumtobel Lighting Gmbh | Beleuchtungsanordnung mit Laser als Lichtquelle |
JP6458580B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2019-01-30 | セイコーエプソン株式会社 | プロジェクター |
US10025170B2 (en) | 2016-06-13 | 2018-07-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Avoiding interference by reducing spatial coherence in a near-eye display |
JP6964093B2 (ja) * | 2016-12-12 | 2021-11-10 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 投影光学系、画像投影装置、および画像投影システム |
US10620447B2 (en) | 2017-01-19 | 2020-04-14 | Cognex Corporation | System and method for reduced-speckle laser line generation |
MY197907A (en) | 2017-03-14 | 2023-07-24 | Snap Inc | Laser illumination system with reduced speckle |
DE102019000272B4 (de) | 2018-01-19 | 2023-11-16 | Cognex Corporation | System zum bilden einer homogenisierten beleuchtungslinie, die als eine linie mit geringem speckle bildlich erfasst werden kann |
WO2020049971A1 (ja) * | 2018-09-06 | 2020-03-12 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 表面測定方法、部品の製造方法、部品の検査方法および部品の測定装置 |
CN109491189A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-03-19 | 北京华捷艾米科技有限公司 | 一种斑点投影模组 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2315658C3 (de) | 1973-03-29 | 1980-11-20 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren und Vorrichtung zur Verminderung oder Beseitigung der bei Laserstrahlprojektionen auftretenden Granulation |
US4035068A (en) | 1975-06-25 | 1977-07-12 | Xerox Corporation | Speckle minimization in projection displays by reducing spatial coherence of the image light |
US4143943A (en) | 1977-02-17 | 1979-03-13 | Xerox Corporation | Rear projection screen system |
US5272473A (en) | 1989-02-27 | 1993-12-21 | Texas Instruments Incorporated | Reduced-speckle display system |
JP2538456B2 (ja) * | 1991-08-12 | 1996-09-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学的変位量測定装置 |
US5313479A (en) | 1992-07-29 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Speckle-free display system using coherent light |
JPH08512003A (ja) | 1993-07-27 | 1996-12-17 | フィジィカル オプティクス コーポレーション | 光源の解体成形装置 |
WO1998024240A1 (en) * | 1996-11-27 | 1998-06-04 | Laser Power Corporation | Multi-beam laser scanning display system |
US6154259A (en) | 1996-11-27 | 2000-11-28 | Photera Technologies, Inc. | Multi-beam laser scanning display system with speckle elimination |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
-
2000
- 2000-10-11 US US09/687,465 patent/US6323984B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-10-04 CN CNB018202764A patent/CN1211689C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-04 KR KR10-2003-7005077A patent/KR20030046500A/ko not_active Ceased
- 2001-10-04 JP JP2002534903A patent/JP2004529375A/ja active Pending
- 2001-10-04 WO PCT/US2001/031418 patent/WO2002031575A2/en active Application Filing
- 2001-10-04 EP EP01983930A patent/EP1330674A2/en not_active Withdrawn
- 2001-10-04 AU AU2002215319A patent/AU2002215319A1/en not_active Abandoned
- 2001-10-09 TW TW090124948A patent/TW507403B/zh active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4763038B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-08-31 | エヴァンス・アンド・サザーランド・コンピューター・コーポレーション | レーザ・プロジェクタのためのスペックル及び干渉パターンの削減 |
JP2008058963A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-13 | Samsung Electro Mech Co Ltd | スペックル除去回折型光変調システム |
JP2010517275A (ja) * | 2007-01-24 | 2010-05-20 | オスラム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | オプトエレクトロニクスデバイス |
US8279514B2 (en) | 2007-01-24 | 2012-10-02 | Osram Ag | Optoelectronic device |
JP2009258738A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Jds Uniphase Corp | レーザ照明システム用のリターダー・ベース・スペックル除去デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1479879A (zh) | 2004-03-03 |
KR20030046500A (ko) | 2003-06-12 |
EP1330674A2 (en) | 2003-07-30 |
TW507403B (en) | 2002-10-21 |
WO2002031575A2 (en) | 2002-04-18 |
US6323984B1 (en) | 2001-11-27 |
WO2002031575A3 (en) | 2003-05-15 |
AU2002215319A1 (en) | 2002-04-22 |
CN1211689C (zh) | 2005-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004529375A (ja) | レーザースペックル低減方法及び装置 | |
US6747781B2 (en) | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle | |
JP4158987B2 (ja) | 2次元画像形成装置 | |
US9851581B2 (en) | Optical scanning device, illumination device, projection apparatus and optical device | |
US8783878B2 (en) | Optical system and method | |
US7484340B2 (en) | Displaying optical system and image projection apparatus | |
US7370973B2 (en) | Displaying optical system and image projection apparatus | |
US6147801A (en) | Rear projection screen with reduced speckle | |
US7944598B2 (en) | Speckle mitigation in laser scanner projector systems | |
WO2012153626A1 (ja) | 照明装置、投射型映像表示装置及び光学装置 | |
US7119936B2 (en) | Speckle reduction for display system with electromechanical grating | |
US20100296064A1 (en) | Projection with lenslet arrangement on speckle reduction element | |
JP5414891B2 (ja) | 曲面付スペックル低減素子を有する光投射機 | |
KR20060052809A (ko) | 프로젝션 디바이스 | |
JP2009527772A (ja) | レーザ投影ディスプレイのための角度走査によるスペックル低減装置及び方法 | |
US11662597B2 (en) | Homogenizing lens array for display imaging | |
US7095541B2 (en) | Method of generating area light source by scanning, scanning area light source and laser projection television using the same | |
US20150070659A1 (en) | Method for reducing speckles and a light source used in said method | |
US8240855B2 (en) | Diffuser having shape profile for reducing speckle noise and a laser projection system employing the same | |
US7046446B1 (en) | Speckle reduction for display system with electromechanical grating | |
US7443567B2 (en) | Image enhancement of a microdisplay through acoustooptics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20051219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060421 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060530 |