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JP2004514036A - 特別なポリオールおよびシュウ酸から調製されるコーティング - Google Patents

特別なポリオールおよびシュウ酸から調製されるコーティング Download PDF

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Abstract

本発明は、エステル基を有さないポリオールとシュウ酸との混合物を焼き付けることによって製造されるコーティング、該コーティングの製造方法およびこのように被覆された基材に関する。

Description

【0001】
(技術分野)
本発明は、エステル基を有さないポリオールとシュウ酸との混合物を焼き付けることによって得られるコーティング、その製造方法およびこのように被覆された基材に関する。
【0002】
(背景技術)
既知のように、ポリオールは、アミノ樹脂またはブロックイソシアネートで、比較的高温で、架橋されうる(Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry, Fifth Edition, volume A18, pp.404−405および414−418を参照)。好ましくない物質、例えばホルムアルデヒドまたはブロッキング剤を、この操作の間に除去する。
【0003】
(発明の開示)
目的は、最初に無害の生成物、例えば水を除去する、ラッカーの焼き付けを供給することから生じる。
【0004】
エステルを有さないポリオールとシュウ酸との混合物を、高温で架橋させ、耐溶媒性の硬いコーティングを得ることを見い出した。
【0005】
本発明は、
A)エステルを有さない1〜10%のOH含量のポリオール1重量部、
B)シュウ酸0.05〜1重量部、
C)有機溶媒0.2〜5重量部、および
D)場合により存在する顔料およびラッカー助剤
からなる混合物を、120℃〜250℃の温度で、1〜100分の焼き付け時間で、基材上に焼付けることによって得られるコーティングを提供する。
【0006】
ラッカー塗布(混合物の基材への塗布)は、ナイフ塗布、噴霧、浸液また浸漬によって行う。次いで、焼き付けを、空気または不活性ガスの存在下で、120℃〜250℃の温度で行い、1〜100分間、続ける。
【0007】
本発明に従って使用されるエステルを有さないポリオールA)は、エステルを有さないビニル系モノマー、例えばスチレン、3−または4−メチルスチレン、アクリロニトリル、α−メチルスチレン、シクロヘキシルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルまたはメチルビニルエーテルと、エステルを有さないOH官能ビニル系コポリマー、例えばアリルアルコール、エテンオキシドまたはプロペンオキシドでヒドロキシアルキル化されたアリルアルコール、ヒドロキシメチルノルボルネン、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテルまたはシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテルから調製されるコポリマー、好ましくは、ジイソシアネート、例えばビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン、4、4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートで予備延長されたものである。
【0008】
本発明において、エステルを有さないモノマーを、アリルグリシジルエーテルと共重合し、エポキシ環を次いで、水、モノアルコールまたは2級アミンで開環し、次いで、場合により、ジイソシアネートで予備延長することも可能である。
【0009】
ジイソシアネート(プレポリマー)によって予備延長されたポリオール、例えばトリメチルプロパン、トリメチロールエタンまたはペンタエリスリトールの反応生成物またはエテンオキシドもしくはプロペンオキシドによるその反応生成物は、成分A)として使用され得る。
【0010】
ケタール基で保護されたポリオール、例えば、アセトン、シクロヘキサノン、またはベンゾアルデヒドによるペンタエリトリトールのモノケタール、アセトン、シクロヘキサノンまたはベンゾアルデヒドによる糖アルコール、例えばソルビトールまたはマンニトールのジケタノールを、ジイソシアネートと反応させ、重縮合生成物を得て、その後、ケタール保護基を除去してもよい。
ウレタン基を有する成分A)が好ましい。
【0011】
成分B)は、他の成分との混合前に、極性非プロトン性溶媒、好ましくは、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミドおよび/またはジメチルホルムアミド中で予備溶解されていることが好ましいシュウ酸であり、溶液は10〜40重量%であることが好ましい。
【0012】
成分C)は、例えば、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレンまたはアルキル化芳香族、エステル含有溶媒、例えば酢酸ブチル、酢酸メトキシプロピル、酢酸メトキシエチルまたは酢酸エチル、エーテル含有溶媒、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサンもしくはテトラヒドロフランまたは極性非プロトン性溶媒、例えばN−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホンまたはスルホランを含んでなり、極性非プロトン性溶媒が、シュウ酸を予備溶解するために使用されることが好ましい。
【0013】
成分A)〜D)を、原則的には、剪断(例えば、攪拌)しながら、50℃未満の温度で、所望の順序で、混合してよい。シュウ酸は、極性非プロトン性溶媒に予備溶解することが好ましく、この溶媒は、適所で、他の成分に添加されうる。
【0014】
成分A)〜D)の混合物は、少なくとも2週間、室温で安定であり、このことは、貯蔵安定性の単一成分ラッカーが処方されることを意味する。しかしながら、極性非プロトン性溶媒中のシュウ酸溶液は、塗布直前に、分配されうる。
【0015】
シュウ酸にさらに、例えばアミノ樹脂、ブロックイソシアネートまたは好ましくはエポキシドを、混合物A)〜D)の100重量部に対して1〜20重量部の量で添加することも可能である。
【0016】
本発明によるコーティングは、160℃を超える温度で安定な基板(基材)、例えば金属、ガラス、高温プラスチックまたは鉱物基板上で使用されうる。したがって、本発明は、本発明によるコーティングで被覆された基材をも提供する。
【0017】
これらは、高い硬度および溶媒耐性によって特徴づけられる。焼き付けの間、溶媒および水だけを(シュウ酸によるOH基のエステル化から)放出し、ホルムアルデヒドまたはイソシアネートブロック剤のような生成物を放出しない。
【0018】
(実施例)
実施例1
SAA(スチレン/アリルアルコールコポリマー;分子量Mn=1600、OH含量6%)270gを、MPA(メトキシプロピルアセテート)200gと混合し、NMP(N−メチルピロリドン)34g中のMDI(4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン)6.5gを添加し、混合物を120℃で4時間加熱した。
調製されたこの配合物100重量部を、33%のシュウ酸のNMP溶液30重量部と混合した。
【0019】
実施例2
MPA286g中のSAA300gを、HDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)15.1gと混合し、混合物を120℃で4時間、加熱した。
調製されたこの配合物100重量部を、33%のシュウ酸のNMP溶液30重量部と混合した。
【0020】
実施例3
MPA286g中のSAA300gを、IPDI(イソホロンジイソシアネート)20gと混合し、混合物を120℃で4時間、加熱した。
調製されたこの配合物100重量部を、33%のシュウ酸のNMP溶液30重量部と混合した。
【0021】
実施例4
MPA286g中のSAA300gを、ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン17.7gと混合し、混合物を120℃で4時間、加熱した。
調製されたこの配合物100重量部を、33%のシュウ酸のNMP溶液30重量部と混合した。
【0022】
実施例1〜4の混合物を、ガラスシート上に湿潤膜厚180μmでナイフ塗布し、160℃で10分、20分および30分間、焼き付けた。以下の振り子型硬度を得た(Koenig 法[s])。
【0023】
【表1】
Figure 2004514036
すべてのコーティングは、MEKワイプテストにおいて、100往復の動きに対して耐性であった。
【0024】
比較例
ヒドロキシエチルメタクリレート40g、スチレン40g、ブチルアクリレート20g、MPA80gおよびアゾビスイソブチロニトリル0.5gの混合物を、65℃で24時間、120℃で1時間加熱した。
混合物を33%シュウ酸のNMP溶液54gと混合した。
焼き付けは、160℃で30分間、行った。フィルムは粘着性であり、MEKに溶解性であった。
OH基は、エステル基によってラッカー樹脂に結合した。このことは、混合物の架橋を明らかに妨げる。

Claims (3)

  1. A)エステルを有さない1〜10%のOH含量のポリオール1重量部、
    B)シュウ酸0.05〜1重量部、
    C)有機溶媒0.2〜5重量部、および
    D)場合により存在する顔料およびラッカー助剤
    からなる混合物を、120℃〜250℃の温度で、1〜100分の焼き付け時間で、基材上に焼き付けることによって得られるコーティング。
  2. 成分A)〜D)の混合物を、基材上に適用し、120℃〜250℃の温度で、1〜100分間、焼き付けることを特徴とする請求項1に記載のコーティングの製造方法。
  3. 請求項1にしたがって被覆された基材。
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