JP2004217456A - Method of forming carbon nano-thread - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カーボンからなるナノスケールの細線を形成するカーボンナノ細線の形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
直径がナノメータスケールのカーボンナノチューブは、パターンを形成した基板上に配置することにより、構造材や配線として、また、電子素子そのものとしての応用が期待される。さらに、カーボンナノチューブは、微細素子およびマイクロマシンの作製に利用される。
【0003】
このような応用を考えた場合、基板上に位置やサイズを制御してカーボンナノチューブを形成することが重要になる。基板上へのカーボンナノチューブの成長技術は、遷移金属を触媒として、炭化水素を600〜1000℃程度の温度で反応させる化学気相成長(CVD)法が用いられている。これには、炭化水素の熱分解のみのCVD法と、プラズマを併用するプラズマCVD法とがある。いずれの場合にも、カーボンナノチューブが得られる。炭化水素の熱分解のみのCVD法は次の文献1に記載され、プラズマを併用するプラズマCVD法は次の文献2に記載されている。
文献1:M.S.Dresselhaus, G.Dresselhaus, Ph.Avouris (Eds.) “Carbon Nanotubes, Synthesis, Structure, properties, and Applications”, Springer, Berlin, 2000, pp32−39.
文献2:特開2000−57934号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、先に述べたCVD法によるカーボンナノチューブの形成方法には、次のような問題点がある。CVD法では、成長温度が比較的低いため、成長したカーボンナノチューブには欠陥が多く、また、曲がりくねった形状になる。このため、位置やサイズを制御して、せっかく基板上にカーボンナノチューブを形成しても、直線的なカーボンナノ細線が得られず、構造材や配線としての利用に適さないという問題があった。
【0005】
また、2本ないしそれ以上のカーボンナノチューブが交差する接合構造を形成した場合、それらの間の電気的結合が弱いという問題があった。このため、複数のカーボンナノチューブを配線としてつないで、回路を形成することは困難であった。
【0006】
本発明の目的は、従来のカーボンナノチューブにおける上記の問題を解決し、直線性の優れたカーボンナノ細線を作製するためのカーボンナノ細線の形成方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、請求項1の発明は、空間に保持したカーボンナノチューブに、該カーボンナノチューブを貫通するイオンビームを照射することを特徴とするカーボンナノ細線の形成方法である。
請求項2の発明は、請求項1に記載のカーボンナノ細線の形成方法において、前記イオンビームがガリウムイオンビームであることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または2に記載のカーボンナノ細線の形成方法において、空間に保持した前記カーボンナノチューブを微細な構造物の間に架橋して成長したことを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項3に記載のカーボンナノ細線の形成方法において、空間に保持した前記カーボンナノチューブ以外のカーボンナノチューブを、イオンビーム照射により除去することを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカーボンナノ細線の形成方法において、前記イオンビームの照射中あるいは照射後に前記カーボンナノチューブを加熱することを特徴とする。
【0008】
上記の発明によれば、次のようにしてカーボンナノ細線を形成する。空間に保持したカーボンナノチューブに高速のイオンを照射した場合、イオンのエネルギーが十分に高ければ、カーボンナノチューブはグラファイト層が1層あるいは複数層からなる薄い物質であるので、イオンはカーボンナノチューブ中で停止せず、これを貫通する。イオンが固体中の原子と相互作用する過程で、イオンのエネルギーが固体原子に移譲され、固体原子の位置が大きく変異することにより、イオン損傷が生じる。この損傷は、イオンが減速されて低速になり、原子と衝突して止まる寸前に最大になる。
【0009】
ところが、カーボンナノチューブ中では、原子の総数が少ないので、高速イオンはほとんど減速を受けずに、カーボンナノチューブを通過する。すなわち、イオンによる損傷がバルクの固体に比較してはるかに少ない。しかし、相互作用が皆無ではなく、カーボンナノチューブを構成する炭素原子の電子とイオンの電荷とのクーロン相互作用のため、炭素原子は強い揺さぶりを受ける。このため、カーボンナノチューブのグラファイト構造の一部ないし全部が破壊され、破壊された部分はアモルファス状になる。この過程で炭素原子の移動が起こり、曲がっていたチューブの長さを最短とするように作用する。
【0010】
このように、高速のイオンを照射することにより、空間に保持したカーボンナノチューブをアモルファス化し、直線性の高いカーボンナノ細線に変えることができる。また、交差して接する2本ないし複数のカーボンナノチューブはアモルファスとして融合し、電気的に接触した接合構造に変化する。
【0011】
一方、カーボンナノチューブが基板表面に接触して存在する場合には、カーボンナノチューブを通過したイオンが基板表面で減速されて、基板原子をスパッタする。これによって、基板から飛び出す原子により、カーボンナノチューブが基板原子と一緒にスパッタされる。すなわち、基板表面に接触して存在するカーボンナノチューブを選択的に除去し、空間に保持したカーボンナノチューブだけをカーボンナノ細線として残すことができる。
【0012】
なお、カーボンナノチューブを貫通できる高速イオンのエネルギーの下限は、カーボンナノチューブの層数とイオンの質量とに依存する。カーボンナノチューブの層数が少ない程、また、イオンの質量が小さい程、低エネルギーのイオンを使用できる。たとえば、Arイオンの場合、単層のカーボンナノチューブに対しては1keVでも効果が期待できる。通常使用するエネルギー範囲としては3keV〜50keVが扱い易い。
【0013】
【発明の実施の形態】
つぎに、この発明の実施の形態について、図面を参照して詳しく説明する。
【0014】
[実施の形態1]
本実施の形態によるカーボンナノ細線の形成方法について、図1を用いて説明する。本実施の形態では、カーボンナノチューブにイオンを照射する。
【0015】
すなわち、シリコンのプロセス技術を用いて、基板1にシリコンの微細な構造物である微細柱2を複数作製する。つぎに、微細柱2を有する基板1に、触媒として鉄の薄膜(厚さ1nm以下、好ましくは0.5nm以下)を蒸着し、その後、メタンを原料として900〜950℃でCVD成長を行う。これによって、微細柱2間を架橋する中空状のカーボンナノチューブ3を成長することができる。
【0016】
こうして、CVD法により、シリコンの微細柱2の間にカーボンナノチューブ3を成長させる。具体的な成長条件は次の文献3に記述されている。
文献3:Y.Homma, T.Yamashita, Y.Kobayashi, and T.Ogino, ”Growth of suspended carbon nanotube networks on 100−nm−scale silicon pillars” Appl. Phys. Lett. 81(2002)2261−2263
【0017】
これらのカーボンナノチューブ3は主に微細柱2の上部をつないで成長する。上記の成長条件では、単層のカーボンナノチューブ3、あるいはその束が成長する。架橋の確率を増すには、微細柱2の高さと間隔とを同程度にすることが好ましい。架橋したカーボンナノチューブ3のほかに、基板1の表面にもカーボンナノチューブ4が成長する。異なる微細柱2から成長した複数のカーボンナノチューブ3が交差する構造5も形成される。CVD法では成長温度が比較的低いため、成長したこれらのカーボンナノチューブ3は曲がりくねった形状になる。
【0018】
つぎに、この試料に高速のガリウムイオンビームを照射する。これには、市販の収束イオンビーム(FIB)装置を用いるのが便利である。付属の走査電子顕微鏡、あるいはガリウムの収束イオンビーム照射によって生成させる二次電子像を用いて場所を特定すれば、特定の領域にあるカーボンナノチューブに選択的にガリウムイオンGa+を照射できる。照射条件は、例えば、加速エネルギーを30keVとし、ビーム電流を1〜3pAとし、照射領域を数μm×数μmとする。
【0019】
ガリウムイオンGa+の照射量を増すにつれて、曲がって架橋したカーボンナノチューブ3が直線化するのが、二次電子像として観察できる。したがって、二次電子像を見ながら照射量を調整できる。カーボンナノチューブ3あるいはその束の径により最適なイオン照射量は異なるが、多くの場合、全照射量として5×1014〜1×1016ions/cm2の範囲が適当である。これにより、図2に示すように、CVD成長後には曲がって架橋していた中空状のカーボンナノチューブ3がアモルファス化されることにより直線化し、微細柱2間を直線で結ぶ線状のカーボンナノ細線3Aから成るネットワーク状の形状が得られる。複数のカーボンナノチューブ3が交差する交差構造5は、アモルファス化により交差点が融合し、構造的にも電気的にも完全に接合したカーボンナノ細線3Aの接合構造5Aに変化する。
【0020】
カーボンナノチューブ3が直線化した後も、ガリウムイオンGa+の照射量をさらに増やしていくと、カーボンナノ細線3Aが切れ始める。これは、わずかながらも炭素原子がスパッタされるためと、微細柱2とカーボンナノ細線3Aとが接している部分で、微細柱2の表面がスパッタさせるため、この部分のカーボンナノ細線3Aもスパッタされて失われていくためである。一方、基板1の表面や微細柱2の側壁にあったカーボンナノチューブ4はすべてスパッタされるので、架橋したカーボンナノ細線3Aのみを残すことができる。
【0021】
イオン照射で直線化したカーボンナノ細線3Aを得た後、そのままでは機械的特性や電気的特性等の向上が不十分な場合には、イオン照射を行ったカーボンナノ細線3Aを熱処理する。これによって、カーボンナノ細線3Aのこれらの特性を改善することができる。たとえば、真空中あるいはアルゴンなどの希ガス雰囲気中で、800〜1200℃の熱処理を数分〜数10分行えばよい。あるいは、レーザーを特定のカーボンナノ細線3Aに選択的に照射して、熱処理を行うこともできる。熱処理はイオン照射中に行うこともできる。この場合には、500℃程度の比較的低い温度でも、カーボンナノ細線3Aの特性の改善効果が顕著に現れる場合もある。
【0022】
[実施の形態2]
本実施の形態によるカーボンナノ細線の形成方法について、図3を用いて説明する。本実施の形態では、マイクログリッド上にカーボンナノチューブを載せて、イオン照射を行う例を示す。
【0023】
すなわち、透過電子顕微鏡観察に用いられているような、薄膜状のメッシュであるマイクログリッド11上に、CVDで成長したカーボンナノチューブ12を載せる。これには、基板からカーボンナノチューブ12を削り取り、あるいは、基板を化学的に溶かして、溶液中からカーボンナノチューブ12をマイクログリッド11上にすくい取る方法などがある。また、基板を用いないCVD法の場合は、成長したカーボンナノチューブ12をそのままマイクログリッド11上に分散させればよい。CVD法では成長温度が比較的低いため、成長したカーボンナノチューブ12は曲がりくねった形状になる。
【0024】
カーボンナノチューブ12を配置した後のイオン照射は、上記の実施形態1と同様にして、高速のガリウムイオンビームによって行う。イオン照射の結果、図4に示すように、カーボンナノチューブ12のうち、マイクログリッド11の孔である開口部11Aに橋渡しされている部分、および、マイクログリッド11上であってもグリッドに密着せずに浮き上がっている部分の欠陥が除去され、直線的なカーボンナノ細線12Aに変えることができる。
【0025】
以上、本発明の実施の形態1、2を詳述してきたが、具体的な構成は本実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても、本発明に含まれる。たとえば、上記実施の形態では、イオンビーム照射でガリウムイオンビームを用いたが、イオンとしてはガリウムイオンに限らず、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガスイオン、水素、窒素、酸素、一酸化炭素などの気体のイオンをはじめ、他のイオン種を用いることができる。
【0026】
【発明の効果】
以上述べてきたように、空間に保持したカーボンナノチューブに、このカーボンナノチューブを貫通するイオンビームを照射することにより、カーボンナノチューブをアモルファス化し、直線性を向上させることができる。これによって、カーボンから成るナノメータスケールの細線を架橋させて形成することができ、カーボンナノ細線の産業応用に多大な進歩をもたらすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるカーボンナノ細線の形成方法におけるイオン照射時を説明するための説明図である。
【図2】本発明の実施の形態1によるカーボンナノ細線の形成方法におけるイオン照射後を説明するための説明図である。
【図3】本発明の実施の形態2におけるカーボンナノ細線の形成方法におけるイオン照射時を説明するための説明図である。
【図4】本発明の実施の形態2によるカーボンナノ細線の形成方法におけるイオン照射後を説明するための説明図である。
【符号の説明】
1 基板
2 微細柱
3、4 カーボンナノチューブ
3A カーボンナノ細線
5 交差構造
5A 接合構造
11 マイクログリッド
11A 開口部
12 カーボンナノチューブ
12A カーボンナノ細線[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for forming a carbon nanowire that forms a nanoscale wire made of carbon.
[0002]
[Prior art]
By placing carbon nanotubes having a diameter of nanometer scale on a substrate on which a pattern is formed, it is expected to be applied as a structural material or wiring, or as an electronic element itself. Further, carbon nanotubes are used for manufacturing fine elements and micromachines.
[0003]
When considering such applications, it is important to control the position and size on the substrate to form carbon nanotubes. As a technique for growing carbon nanotubes on a substrate, a chemical vapor deposition (CVD) method in which a hydrocarbon is reacted at a temperature of about 600 to 1000 ° C. using a transition metal as a catalyst is used. This includes a CVD method using only thermal decomposition of hydrocarbons and a plasma CVD method using plasma in combination. In each case, carbon nanotubes are obtained. A CVD method using only thermal decomposition of hydrocarbons is described in the following document 1, and a plasma CVD method using plasma is described in the following
Reference 1: M. S. Dresselhaus, G .; Dresselhaus, Ph. Avouris (Eds.) "Carbon Nanotubes, Synthesis, Structures, properties, and Applications", Springer, Berlin, 2000, pp 32-39.
Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-57934
[Problems to be solved by the invention]
However, the above-described method of forming carbon nanotubes by the CVD method has the following problems. In the CVD method, since the growth temperature is relatively low, the grown carbon nanotube has many defects and has a meandering shape. For this reason, even if the position and size are controlled and carbon nanotubes are formed on the substrate with great effort, linear carbon nanowires cannot be obtained, which is not suitable for use as a structural material or wiring.
[0005]
Further, when a junction structure in which two or more carbon nanotubes intersect is formed, there is a problem that electrical coupling between them is weak. For this reason, it has been difficult to form a circuit by connecting a plurality of carbon nanotubes as wiring.
[0006]
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in conventional carbon nanotubes and to provide a method of forming carbon nanowires for producing carbon nanowires having excellent linearity.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problem, the invention of claim 1 is a method for forming a carbon nanowire, which comprises irradiating a carbon nanotube held in a space with an ion beam penetrating the carbon nanotube.
According to a second aspect of the present invention, in the method for forming a carbon nanowire according to the first aspect, the ion beam is a gallium ion beam.
According to a third aspect of the present invention, in the method of forming a thin carbon nanowire according to the first or second aspect, the carbon nanotubes held in a space are grown by crosslinking between fine structures.
According to a fourth aspect of the present invention, in the method for forming a thin carbon nanowire according to the third aspect, the carbon nanotubes other than the carbon nanotubes held in the space are removed by ion beam irradiation.
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for forming a carbon nanowire according to any one of the first to fourth aspects, the carbon nanotubes are heated during or after the irradiation of the ion beam.
[0008]
According to the above invention, a carbon nanowire is formed as follows. When carbon nanotubes held in space are irradiated with high-speed ions, if the energy of the ions is sufficiently high, the carbon nanotubes are a thin substance consisting of one or more graphite layers. Without penetrating this. In the process in which the ions interact with the atoms in the solid, the energy of the ions is transferred to the solid atoms, and the position of the solid atoms is greatly changed, thereby causing ion damage. This damage is greatest just before the ions are slowed down and slowed down before colliding with the atoms and stopping.
[0009]
However, since the total number of atoms in the carbon nanotube is small, the fast ions pass through the carbon nanotube with little deceleration. That is, ionic damage is much less than bulk solids. However, the interaction is not completely absent, and the carbon atom is strongly shaken by the Coulomb interaction between the electron of the carbon atom constituting the carbon nanotube and the charge of the ion. For this reason, part or all of the graphite structure of the carbon nanotube is broken, and the broken part becomes amorphous. During this process, carbon atoms are transferred, which acts to minimize the length of the bent tube.
[0010]
By irradiating with high-speed ions in this way, the carbon nanotubes held in the space can be made amorphous to be converted into highly linear carbon nanowires. In addition, two or more carbon nanotubes that cross and contact each other are fused as amorphous, and change to a bonding structure that is in electrical contact.
[0011]
On the other hand, when the carbon nanotubes are present in contact with the substrate surface, ions passing through the carbon nanotubes are decelerated on the substrate surface to sputter the substrate atoms. Thereby, the carbon nanotubes are sputtered together with the substrate atoms by the atoms jumping out of the substrate. That is, the carbon nanotubes existing in contact with the substrate surface can be selectively removed, and only the carbon nanotubes held in the space can be left as carbon nanowires.
[0012]
Note that the lower limit of the energy of the fast ions that can penetrate the carbon nanotube depends on the number of layers of the carbon nanotube and the mass of the ions. As the number of layers of carbon nanotubes is smaller and the mass of ions is smaller, ions with lower energy can be used. For example, in the case of Ar ions, an effect of 1 keV can be expected for a single-walled carbon nanotube. An energy range of usually used is 3 keV to 50 keV for easy handling.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0014]
[Embodiment 1]
A method for forming a carbon nanowire according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment mode, the carbon nanotubes are irradiated with ions.
[0015]
That is, a plurality of
[0016]
Thus, the
Reference 3: Y. Homma, T .; Yamashita, Y .; Kobayashi, and T.W. Ogino, "Growth of suspended carbon nanonetworks on 100-nm-scale silicon pillars" Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 2261-2263
[0017]
These
[0018]
Next, the sample is irradiated with a high-speed gallium ion beam. For this purpose, it is convenient to use a commercially available focused ion beam (FIB) device. If the location is specified using an attached scanning electron microscope or a secondary electron image generated by irradiation of a focused ion beam of gallium, gallium ions Ga + can be selectively irradiated to carbon nanotubes in a specific region. The irradiation conditions are, for example, an acceleration energy of 30 keV, a beam current of 1 to 3 pA, and an irradiation area of several μm × several μm.
[0019]
It can be observed as a secondary electron image that the bent and
[0020]
Even after the
[0021]
After the
[0022]
[Embodiment 2]
A method for forming a carbon nanowire according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment, an example is described in which carbon nanotubes are placed on a microgrid and ion irradiation is performed.
[0023]
That is, the
[0024]
The ion irradiation after disposing the
[0025]
As described above, the first and second embodiments of the present invention have been described in detail. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and there are design changes and the like within a range not departing from the gist of the present invention. Are also included in the present invention. For example, in the above embodiment, a gallium ion beam is used for ion beam irradiation, but the ions are not limited to gallium ions, and rare gas ions such as helium, neon, argon, xenon, and krypton, hydrogen, nitrogen, oxygen, Other ionic species can be used, including gaseous ions such as carbon monoxide.
[0026]
【The invention's effect】
As described above, by irradiating the carbon nanotube held in the space with the ion beam penetrating the carbon nanotube, the carbon nanotube can be made amorphous and the linearity can be improved. Thereby, a nanometer-scale fine wire made of carbon can be formed by cross-linking, and a great advance can be brought about industrial application of the carbon nanowire.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining ion irradiation in a method of forming a carbon nanowire according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining after ion irradiation in the method for forming carbon nanowires according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining ion irradiation in a method for forming a carbon nanowire in
FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining after ion irradiation in a method of forming a carbon nanowire according to a second embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
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