JP2004164910A - 異方導電性接着剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一、及び第二の回路の電極間に介在させ、該第一、及び第二の回路電極を互いに接続する異方導電性接着剤であって、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセルと、該エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と、成膜性を有する高分子化合物と、導電粒子とを含み、該導電粒子として粒子表面に突起を有する粒子を用いたことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、異方導電性接着剤に関するものであり、より詳細には、液晶ディスプレイ(以下、LCDという)やプラズマディスプレイ(以下、PDPという)等とこれらの駆動回路を搭載した回路基板等との接合に際して機械的及び電気的な接続に使用される異方導電性接着剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、異方導電性接着剤はLCDやPDP等からなる表示体とプラスチック基板(以下、PCBという)、フレキシブル基板(以下、FPC)等との接合、又は接続、あるいはPCBとFPCとの間の接合等に利用されている(例えば、特許文献1参照)。この異方導電性接着剤は絶縁性接着剤中に導電粒子を分散させたもので、上記のような被接続基板間に挟持させた後、熱と圧力とをかける、換言すれば熱圧着することにより基板同士の接合及び電極同士の電気的接続とを同時に行う。
【0003】
近年の電子機器の高機能、高精密化に伴い、表示体の電極間ピッチが非常に狭くなっており、このため接続の信頼性に対する要求が非常に高くなってきている。したがって、異方導電性接着剤に使用される絶縁性接着剤は熱可塑性樹脂よりむしろ、耐熱性、接着強度に優れる熱硬化性のものが最も良く使用されている(例えば、特許文献2参照)。特にエポキシ系樹脂はガラス、ポリイミド、ガラスエポキシ等の基板に対する接着力が強く、耐熱性に優れることから頻用されている。
【0004】
一般に異方導電性接着剤にあっては、上記の接着力や耐熱性という性能が求められる他にも、熱圧着時間の短縮により工程能力を向上させるため短時間で硬化すること、可能な限り低温で圧着すること、取り扱いが容易であること等も求められる。しかし、短時間で硬化したり、低温で硬化する熱硬化性樹脂は常温での可使時間が短いという課題がある。そこでこれを回避するため、従来から硬化剤をマイクロカプセル化して可使時間を延長できる潜在性硬化剤を含有する異方導電性接着剤が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開昭59−120436号公報(第2項)
【特許文献2】
特開昭61−074205号公報(第3〜5頁)
【特許文献3】
特公平7−65023号公報(第2〜4頁)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような潜在性硬化剤は常温でもゆるやかに反応しており、異方導電性接着剤の貯蔵安定性確保のために冷凍や冷蔵保存が必須となり、管理や取り扱いが頻雑である。また、マイクロカプセルの壁材は硬化剤との反応生成物であるため、従来の異方導電性接着剤より硬化物の特性は劣る。
【0007】
さらに、硬化剤のマイクロカプセルはその製法上、壁材の耐溶剤性が弱く、特にケトン系、アルコール系等の極性溶媒で容易に破壊されてしまうことから、異方導電性接着剤の調整に多くの制約がある。これは、硬化剤は短時間で硬化させるためになるべく速硬化性のもの、例えばアミン系、イミダゾール系の硬化剤を選択するが、従来の界面反応法によるマイクロカプセル化では耐溶剤性、耐熱性に優れるカプセル壁が形成できないことによる。特に市販の潜在性硬化剤は熱潜在性のものであり、このため、異方導電性接着剤を膜状に成形する際には硬化が開始しないよう低温(50℃〜80℃程度)で乾燥させばければならない。従って使用できる溶剤が低沸点溶剤に限定されるので、部分印刷が可能なスクリーン印刷法等の高沸点溶剤を必要とする製造方法を採用することができない。
【0008】
本発明者等は、上記欠点を解消する方法として、エポキシ樹脂を含むマイクロカプセルと、エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と、導電粒子を含んでなる異方導電性接着剤を提案している(特願2002−078631号)。このような接着剤によれば熱圧着時に短時間で低温圧着することができ、しかも、常温で保管することのできる取り扱い容易なものとなる。
【0009】
また、本発明者等は鋭意研究を進めたところ、上記の異方導電性接着剤にあっては、その後の検討により次の問題点を有していることも分かった。すなわち、マイクロカプセル化エポキシ樹脂のマイクロカプセル壁材が導電粒子と被接続基板の電極間に残存した場合、接触不良を起こし易く、接着界面も不均一になり、十分な接続安定性が得られないという課題点が見られた。
【0010】
本発明等は、上記課題に鑑みなされたもので、熱圧着時に短時間で低温圧着することができ、常温で保管、及び取り扱い容易性のある異方導電性接着剤であって、そのマイクロカプセル化エポキシ樹脂のマイクロカプセル壁材が導電粒子と被接続基板の電極間に残存した場合でも高接続信頼性が得られる接続安定性に優れた異方導電性接着剤を提供することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するために種々検討した結果、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセルを硬化剤と共に異方導電性接着剤に分散して互いに隔離すれば、熱圧着時まで室温状態にて安定な保存性を示し、かつ熱圧着時に低温、短時間で硬化できることを前提として、被接続基板等の相対向する回路電極間を電気的に接続するための導電粒子に着目し、該粒子の表面に複数の突起を設けて使用すれば、熱圧着時、低温、短時間で硬化し、しかもマイクロカプセル壁材が導電粒子と被接続基板の電極間に残存した場合にも導電粒子表面の突起が破壊したマイクロカプセル壁材を確実に突き破り、その後、被接続基板の電極面に食い込むことで導電粒子の接触面積の増大とトンネル効果により高い電気特性が得られ、またその楔効果により接合される互いの電極面での接続安定性に優れることを見出し、本発明に至ってものである。
【0012】
即ち、本発明に係る異方導電性接着剤は、以下の構成或いは手段からなることを特徴とし、上記課題を解決するものである。
本発明に係る異方導電性接着剤は、第一、及び第二の回路の電極間に介在させ、該第一、及び第二の回路電極を互いに接続する異方導電性接着剤であって、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセルと、該エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と、成膜性を有する高分子化合物と、導電粒子とを含み、該導電粒子として粒子表面に突起を有する粒子を用いたことを特徴とする。
【0013】
ここで、本発明に係る異方導電性接着剤は単独で使用することもできるが、ヒートシールコネクタの一部として利用することもできる。この場合、異方導電性接着剤は可撓性の基材の少なくとも一面に設けられた導電ラインの少なくとも接続部に印刷されたり、あるいは塗布される。
また、第一或いは第二回路として具体的には、上述のようにLCD、PDP、PCB、FPC等の基板を挙げることができるが、本発明においてはこのような例示基板等に限る必要はない。
【0014】
また、本発明に係る異方導電性接着にあっては、上記導電粒子の突起長は0.05乃至2.0μmの範囲にあることを特徴とすることができる。
更に、上記突起は、上記粒子の成形と共に表面に直接形成され、或いは上記粒子表面に突起を成長させて形成されるものであっても良く、上記導電粒子は、核材と、該核材を被覆して突起を形成する被覆材とからなることを特徴とすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を詳説する。
本実施形態における異方導電性接着剤1は図1及び図2に示すように、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセル2、このマイクロカプセル2のエポキシ樹脂2Aを硬化させる硬化剤3、粒子表面に複数の突起を有する導電粒子4、及び成膜性を有する高分子化合物5等を含み、第一、第二の絶縁性基材10、11における回路の電極10A、11Aに介在され、これら第一、第二の絶縁性基材10、11における回路の電極10A、11Aが熱圧着されることにより、これらを接続する。
【0016】
上記エポキシ樹脂2Aを内包するマイクロカプセル2としては、例えば液状または固形のビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を公知のカプセル化法によりカプセルにしたものが用いられる。すなわち、界面重合法、in−situ重合法等の化学的方法や、コアセルベーション法、液中乾燥法等の物理化学的方法、メカノフュージョン、メカノケミカル等の機械的方法、その他スプレードライ法、高速気流中衝撃法等によりカプセル化されたエポキシ樹脂マイクロカプセルが用いられる。
【0017】
マイクロカプセル2のエポキシ樹脂内包率としては30wt%以上であることが好ましい。これは、30wt%未満であると異方導電性接着剤1としたときに接着に関与しないマイクロカプセル2の壁材2Bの割合が多くなって接着性に欠けるからである。また、マイクロカプセル2のエポキシ樹脂内包率は99wt%以下であることが好ましい。これは、99wt%を超える場合には、マイクロカプセル2の壁材強度が弱化し、異方導電性接着剤1の調整時に損傷したり、保存安定性の悪いマイクロカプセル2になる可能性が大きいからである。
また、特に好ましい内包率は70乃至90wt%の範囲にある。
【0018】
内包率は壁材2Bに内包されたエポキシ樹脂2Aからなるマイクロカプセル2を乳鉢ですり潰し、これを秤量し、メチルエチルケトン(MEK)等からなるエポキシの良溶媒で洗浄後、乾燥して残存したカプセル壁の重量から求められる。[1−(カプセル壁)/(エポキシ樹脂+カプセル壁)]×100(wt%)
【0019】
マイクロカプセル壁材2Bの強度としては、マイクロカプセル2の平均破壊強度で1MPa〜50MPaが好ましい。この平均破壊強度とは微小圧縮試験機((株)島津製作所:MCTM‐500))等を用いた場合の塑性変形点或いは破壊点での強度の平均をいう。
【0020】
さらに、マイクロカプセル2の壁材2Bの厚み(T)は、以下の式の範囲であることが好ましい。
0.05≦T≦2.0(μm)
これは、0.05μm未満の場合には、マイクロカプセル2の壁材2Bの強度が弱く、異方導電性接着剤1の調整時に破壊したり、保存時に崩壊したり、保存安定性の悪いマイクロカプセル2になるからである。また、2.0μmよりも大きい場合には、異方導電性接着剤1としたときに接着に関与しないマイクロカプセル2の壁材2Bの割合が増加し接着性に欠ける。また、壁材の強度が必要以上に強くなり、熱圧着時に破壊されずに硬化が進行しない恐れがある。
【0021】
マイクロカプセル2の壁材2Bは、異方導電性接着剤1の配合に溶剤を使用することがある関係上、一般的な溶剤に対する耐性が強い方が好ましく、たとえばMEK、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、シクロヘキサノン、酢酸カルビトール、石油スピリット等の汎用溶剤に溶解したり、膨潤したりしない壁材が望まれる。さらにこれを、ヒートシールコネクタの接着部に直接スクリーン印刷する場合には、沸点の高い溶剤を乾燥させる必要があり、耐熱性が必要となるので、マイクロカプセル壁材2Bも耐熱性を有することが好ましい。
この場合、マイクロカプセル壁材2Bは100乃至200℃程度の耐熱性を有することが好ましい。
【0022】
エポキシ樹脂を硬化する硬化剤3としては、エポキシ樹脂用の通常の硬化剤で良い。例えば、アミン系化合物、イミダゾール系化合物、フェノール系化合物、メルカプト化合物、カルボン酸系化合物、水酸基含有化合物、イソシアネート類等があげられるが、特に、アミン系、イミダゾール系、メルカプト化合物等は反応速度が速いので好ましい。更に促進剤として各種の酸、アミン類等を混合することもできる。
【0023】
これら硬化剤3は特に溶剤の影響のない異方導電性接着剤1に使用するのであれば、潜在性を付与するためにマイクロカプセル化する事も可能である。例えば、市販の潜在性硬化剤であるノバキュア(旭化成エポキシ株式会社)、アミキュア(味の素ファインテクノ株式会社)、フジキュア(富士化成工業株式会社)を使用することができる。これは、保存時の硬化剤による吸湿を防止し、しかも、より高温の保存条件にも十分に耐えうる異方導電性接着剤1となるので有効であるが、硬化時間を遅延させる恐れもあるので選択には注意を要する。また、溶剤の影響が多少あっても製膜時におけるインクのポットライフを若干ながらも向上させることができるので、異方導電性接着剤膜やヒートシールコネクタの製造時に有効である。
【0024】
異方導電性接着剤1に分散される導電粒子4としては、従来使用されている種類の導電粒子を特に制限なく使用できる。
例えば、金、銀、ニッケル、銅、パラジウム、アルミニウム、亜鉛、錫、鉛、白金、コバルト、又は半田等のこれらの合金等の金属粒子、タングステンカーバイト、シリカカーバイト等のセラミック粒子、カーボン粒子等を導電性粒子を挙げることができる。また、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等硬質樹脂の表面に所定金属を部分的又は全部に被覆した導電粒子等を挙げることができる。これらは組み合わせて使用することができる。
【0025】
また、図2に示すように、導電粒子4は粒子表面に複数の突起を有しており、突起形成方法については特に制限しないが、例えば、それ自体公知の方法(特開昭60−193208号公報等)のように金属粒子等にその表面に直接突起部4Aを設けても良く(図3を参照。)、また表面の突起は導電粒子の製造の際に、又は球状金属粒子を製造の後、その表面に金属被覆を施してもよい。更に、既にそれ自体公知な方法(特開平1−208617号公報等)のように金属粒子の表面にウイスカーを成長させることで突起を設けてもよい。
【0026】
核材として金属粒子を用いてその表面に被覆するときの金属の材質は従来から使用されているものでよく、核材となる金属と同種の金属を用いても、異種の金属、もしくはこれらを組み合わせても用いてもよい。ただし、異種の金属を用いると界面で金属拡散が生じる可能性があるため、選定には注意が必要である。
【0027】
また、図4に示すように導電粒子の核材に金属粒子等と異なり導電性に乏しいものを用いる場合には、例えば、球状の核材4B表面に金属4C被覆によって突起を設けてもよいし、核材自身に突起を設けた後に、金属被覆することによって突起を設けてもよい。突起形状は、多角形、方片、樹枝状、針状、テトラポット状、イガ栗状等であるが、安定した接続が得られれば突起先端は尖鋭である必要はない。
【0028】
導電粒子4の平均粒子内径(尚、ここでの内径とは、突起部を無視した平均核材粒子径をいう。)は0.5乃至20μmが好ましい。また、突起の大きさは、電極10A、11Aと導電粒子4間に存在するマイクロカプセル壁材2Bを突き破る必要があるため、マイクロカプセル壁材2Bより厚いことが好ましく、導電粒子4の平均粒子内径より0.05乃至2.0μm突出していることが好ましい。また、1粒子あたりの表面の突起数については接続安定性のため少なくとも4個以上あることが好ましい。
【0029】
導電粒子の硬度は、導電粒子の表面突起によりマイクロカプセル壁材2Bを突き破り、電極10A、11A面に食い込ませるため、電極10A、11A面の硬度よりも大きいことが好ましい。また、金属被覆した導電粒子を用いる場合も、同様の理由で金属被覆材の硬度が電極10A、11A面の硬度より大きいことが好ましい。
【0030】
上記成膜性を有する高分子化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル変性エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体、ポリアミド、ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、スチレン−ブチレン−スチレン(SBS)共重合体、カルボキシル変性SBS共重合体、スチレン−イソプレン−スチレン(SIS)共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン(SEBS)共重合体、マレイン酸変性SBES共重合体、ポリブタジエンゴム、クロロプレンゴム(CR)、カルボキシル変性CR、スチレン−ブタジエンゴム、イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、カルボキシル変性NBR、アミン変性NBR、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーンゴム、アクリルゴム等から選択される1種または2種以上の組み合わせにより得られるものがあげられる。
【0031】
異方導電性接着剤1には、粘着付与剤としてのロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、石油樹脂、クマロン−インデン樹脂、スチレン系樹脂、イソプレン系樹脂、アルキルフェノール樹脂、キシレン樹脂などの1種または2種以上、反応性助剤、架橋剤としてのポリオール、イソシアネート類、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウトロピン類、アミン類、酸無水物、過酸化物、金属酸化物、トリフルオロ酢酸クロム塩などの有機金属塩、チタン、ジルコニア、アルミニウムなどのアルコキシド、ジブチル錫ジオキサイドなどの有機金属化合物、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルなどの光開始剤、アミン類、燐化合物、塩素化合物などの増感剤などを添加することは任意である。これにはまた、硬化剤、加硫剤、劣化防止剤、耐熱添加剤、熱伝導向上剤、軟化剤、着色剤、各種カップリング剤、金属不活性剤などを適宜添加することができる。
【0032】
異方導電性接着剤1は、接着剤中に導電粒子4が常法にしたがって分散混合することによって調整されるが、配合量は前記絶縁性接着剤100容量部に対して0.01〜100容量部、好ましくは1〜10容量部の範囲が良い。これは、配合量が0.01容量部未満であると導通不良を起こしやすく、逆に100容量部を超えると絶縁不良を起こしやすくなる。
【0033】
なお、この異方導電性接着剤1は接着、粘着成分が常温で固形、或いは高粘度液体の場合には、これをエステル系、ケトン系、エーテルエステル系、エーテル系、アルコール系、炭化水素系の溶剤、例えば酢酸エチル、メチルエチルケトン、酢酸ブチルセロソルブ、酢酸エチルカルビトール、ジイソアミルエーテル、シクロヘキサノール、石油スピリット、トルエンなどの溶剤に溶解して溶液とすることが望ましい。これを適宜の印刷法、コート法等によって接続すべき電極10A、11A上の所定位置に塗布したり、セパレータ上に形成して所定の寸法にカットし、その後、これを接続すべき電極10A、11A上に転写して用いることができる。また接着、粘着成分が液状の場合、接続作業時にこれを接続電極上に塗布して用いることもできる。
【0034】
このような異方導電性接着剤1は、上下方向に相対向する第一、第二の絶縁性基材10、11における回路の電極10A、11A間に介在され、これら第一の絶縁性基材10が上方から加熱加圧されることにより、接着剤を活性化させ、第一、第二の絶縁性基材10、11の回路の電極10A、11A同士を導電粒子4を介して電気的、機械的に接続する。
第一、第二の絶縁性基材10、11としては、例えばポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリブチレンテレフタレート、液晶ポリマー等の耐熱性、可撓性基材、液晶表示パネル等の透明ガラス基板、LSIチップなどのシリコン、ガラスクロスエポキシ樹脂からなるプラスチック基板等の硬質基材が用いられる。特に第一の絶縁基材10として可塑性、可撓性基材が好ましい。
【0035】
第一、第二の絶縁性基材10、11における回路の電極10A、11Aについては、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム等の金属粉末、及びファーネスブラック、チャネルブラック、グラファイト等のカーボン粉末等からなる導電粉末を導電性付与材とし、これと有機高分子バインダーとからなる導電性ペーストをスクリーン印刷等で印刷するか、銅箔等を貼着した後エッチングによってパターンを形成し、これに適宜ニッケル、金、ハンダ、すず等のメッキを施すことによって形成することもできる。もしくはフォトリソ法によりITO電極パターンとしても良い。
【0036】
第一、第二の絶縁性基材10、11における回路の電極の高さとしては特に限定されるのもではないが安定した導通抵抗の得られる電極10A、11Aの高さ、たとえば導電ペーストであれば5〜30μm、可撓性基材に形成する銅箔等であれば2〜36μmが好ましい。また、プラスチック基材に形成する銅箔等であれば5〜60μm、透明ガラス上のITO電極であれば400〜2000Åの範囲内にあるとよい。
【0037】
上記によれば、エポキシ樹脂をマイクロカプセル化するので異方導電性接着剤1を常温で長期間保存することが可能になり、しかも、表面に複数の突起を有する導電粒子4を用いることで、回路電極10A、11Aと導電粒子4間にマイクロカプセル壁材2Bの残さが存在した場合にも導電粒子4表面の複数の突起がマイクロカプセルの壁材を突き破り、さらに回路電極10A、11Aにくい込み接触面積の増大とトンネル効果により、良好な電気的特性が得られ、また複数の突起が回路電極10A、11Aにくい込むことによるくさび効果により、安定した接続信頼性が得られる。
【0038】
【実施例】
以下に本発明に係る異方導電性接着剤1の実施例について比較例と共に説明する。
(実施例1)
(1)絶縁性接着剤溶液の調製
フェノキシ樹脂(InChem製、商品名PKHH)100質量部、イミダゾール系の硬化剤(四国化成社製、商品名2MZ)15質量部、エポキシ当量184〜194の液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名エピコート828)を内包した内包率90%、平均粒径65μm、マイクロカプセル壁材厚み 0.3μm、平均破壊強度12.7MPaのマイクロカプセル150質量部にカルビトールアセテート300質量部を加えて絶縁性接着剤溶液を調製した。
【0039】
(2)異方導電性接着剤の調整
絶縁性接着剤溶液の固形分100質量部に対し、図3に示すような導電粒子4A、平均突起高1.0μmの複数の突起を有した平均粒径10μmのニッケル粒子(図6を参照。)を10容量部加えて異方導電性接着剤1を調整した。
(3)ヒートシールコネクタの作製
ポリイミドフィルムからなる厚さ25μmで可撓性の絶縁基材上に、厚さ18μmの銅箔より形成された0.20 mmピッチ(ライン/スペース=0.10 / 0.10 mm)の回路パターンを有するFPCの一方の接続端子部に上記異方導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布して異方導電性接着剤層を形成し、他方の接続端子部は露出するよう両接続端子部以外に絶縁レジストを設け、これを所定の寸法にカットしてヒートシールコネクタを作製した。異方導電性接着剤については、溶媒除去後のマイクロカプセルを除く部分の平均膜厚が15μmとなるように塗布した。
【0040】
(実施例2)
(1)絶縁性接着剤溶液の調整
実施例1と同様に絶縁性接着剤を調整した。
(2)異方導電性接着剤の作製
絶縁性接着剤溶液の固形分100質量部に対し、図4に示すように真球状スチレン樹脂粒子4B(平均粒径5μm)表面をNi−Auめっき4Cし、めっきにより平均突起高0.5μmの複数の突起を設けた導電粒子4を10容量部加えて異方導電性接着剤を調整した。
(3)ヒートシールコネクタの製作
実施例1と同様にして、ヒートシールコネクタを得た。
【0041】
(比較例1)
(1)絶縁性接着剤溶液の調製
実施例1と同様に絶縁性接着剤を調整した。
(2)異方導電性接着剤の作製
図5に示すように絶縁性接着剤溶液の固形分100質量部に対し、導電粒子として真球状の平均粒径10μmのニッケル粒子4Aを10容量部加えて異方導電性接着剤1を調整した。
(3)ヒートシールコネクタの製作
実施例1と同様に、ヒートシールコネクタをした。
【0042】
(比較例2)
(1)絶縁性接着剤溶液の調整
実施例1と同様に絶縁性接着剤を調整した。
(2)異方導電性接着剤1の作製
図6に示すように絶縁性接着剤溶液の固形分100質量部に対し、真球状スチレン樹脂粒子4B(平均粒径5μm)表面を平均めっき厚0.1μmで凹凸なく均一にNi−Auめっき4Cした導電粒子を10容量部加えて異方導電性接着剤1を調整した。
(3)ヒートシールコネクタの製作
実施例1と同様にして、ヒートシールコネクタを得た。
【0043】
<各実施例及び比較例の接続特性評価試験>
図3乃至図6において、実施例1、2および比較例1、2で作製したヒートシールコネクタにおいて、導電性接着剤の印刷された接続端子部と対向する位置に電極回路が形成された面積抵抗率50Ω/□の透明導電酸化膜ガラス基板12(ITO;導電酸化膜厚 600Å)とを、それぞれ温度180℃、4 MPa、15 secの条件下にて熱圧着し、ヒートシールコネクタの他方をフレキシブルコネクタ対応のZIF(ZeroInsertion Force)ソケットにセットし、平均剥離強度と信頼性試験を実施して以下の表1及び2にまとめた。
信頼性試験では、85℃、85%RH、1000時間前後における平均抵抗値の変化(1000時間後−初期)を測定した。
【0044】
【表1】
【0045】
【表2】
【0046】
実施例1と実施例2においては、導電粒子4が粒子表面に複数の突起を有するため、良好な剥離強度と抵抗値変化が得られた。
これに対し、比較例1、比較例2においては、真球状の導電粒子を用いたため良好な剥離強度と抵抗値変化を得ることができない場合があった。特に比較例2の場合には、硬度の低いプラスチック樹脂粒子4Bを導電粒子の核材として用いたため、圧着時に核材が弾性し、マイクロカプセル壁材2Bを導電粒子4が突き破ることができず、剥離強度、接続抵抗値とも良好な結果が得られなかった。
【0047】
【発明の効果】
以上のように本発明に係る異方導電性接着剤によれば、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセルと、該エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と、成膜性を有する高分子化合物と、導電粒子とを含み、該導電粒子として粒子表面に突起を有する粒子を用いたことにより、短時間で低温圧着することができ、常温で長期保存することが可能となり、しかも電気的、機械的に優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る異方導電性接着剤の実施形態を示す模式断面図である。
【図2】本発明に係る異方導電性接着剤の実施形態における絶縁性基材の第一、第二の回路電極と導電粒子とマイクロカプセルの壁材との関係を示す模式断面図である。
【図3】実施例1におけるヒートシールコネクタとITOガラス基板の圧着状態を示す模式断面図である。
【図4】実施例2におけるヒートシールコネクタとITOガラス基板の圧着状態を示す模式断面図である。
【図5】比較例1におけるヒートシールコネクタとITOガラス基板の圧着状態を示す模式断面図である。
【図6】比較例2におけるヒートシールコネクタとITOガラス基板の圧着状態を示す模式断面図である。
【図7】本発明に係る異方導電性接着剤の実施例に含まれる導電粒子を示す電子顕微鏡写真による図である。
【符号の説明】
1 異方導電性接着剤
2 マイクロカプセル
2A エポキシ樹脂
2B マイクロカプセル壁材
3 硬化剤
4 導電粒子
4A 金属粒子
4B プラスチック粒子
4C 金属皮膜
5 複合層
10 第一の絶縁性基材
11 第二の絶縁性基材
10A 電極
11A 電極
12 透明導電酸化膜ガラス基板
Claims (4)
- 第一、及び第二の回路の電極間に介在させ、該第一、及び第二の回路電極を互いに接続する異方導電性接着剤であって、エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセルと、該エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と、成膜性を有する高分子化合物と、導電粒子とを含み、該導電粒子として粒子表面に突起を有する粒子を用いたことを特徴とする異方導電性接着剤。
- 上記導電粒子の突起長は0.05乃至2.0μmの範囲にあることを特徴とする請求項1記載の異方導電性接着剤。
- 上記突起は、上記粒子の成形と共に表面に直接形成され、或いは上記粒子表面に突起を成長させて形成されることを特徴とする請求項1又は2記載の異方導電性接着剤。
- 上記導電粒子は、核材と、該核材を被覆して突起を形成する被覆材とからなることを特徴とする請求項1又は2記載の異方導電性接着剤。
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