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JP2004144965A - Semitransmissive liquid crystal display - Google Patents

Semitransmissive liquid crystal display Download PDF

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JP2004144965A
JP2004144965A JP2002309272A JP2002309272A JP2004144965A JP 2004144965 A JP2004144965 A JP 2004144965A JP 2002309272 A JP2002309272 A JP 2002309272A JP 2002309272 A JP2002309272 A JP 2002309272A JP 2004144965 A JP2004144965 A JP 2004144965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
liquid crystal
crystal display
contact hole
switching element
Prior art date
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Application number
JP2002309272A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4107047B2 (en
Inventor
Yoshihiro Akai
赤井 喜洋
Masayuki Kametani
亀谷 雅之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Tottori Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Sanyo Electric Co Ltd, Tottori Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
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  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semitransmissive liquid crystal display wherein the whole pixel including a contact hole is effectively utilized for display. <P>SOLUTION: A liquid crystal is interposed between a pair of electrodes, one electrode is used as a pixel electrode 18 and a backlight is disposed on the rear side of the pixel electrode 18. A transmitting part 9 transmitting light of the backlight and a reflecting part 12 reflecting light from the front surface side are provided in the pixel electrode. An aperture 8 is provided at a drain electrode D of a switching element 4, a transparent electrode 17 of the pixel electrode 18 is superposed on the surroundings of the aperture 8 and a connection part of the switching element and the pixel electrode forms the transmitting part. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はバックライトからの光を通す透明電極を備える透過部と外光を反射する反射電極を備える反射部からなる半透過型の液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、情報通信機器のみならず一般の電気機器においても液晶表示装置の適用が急速に普及している。特に、携帯型のものについては消費電力を低減させるためにバックライトを必要とせず外光を反射させて画像を表示させる反射型の液晶表示装置が多く用いられているが、この反射型液晶表示装置は、外光を光源とするために、暗い室内などでは見えにくくなってしまう。そこで、近年に至り特に透過型と反射型の性質を併せ持つ半透過型液晶表示装置の開発が進められてきている。
【0003】
この半透過型液晶表示装置の特徴は、一つの画素内に透明電極を備えた透過部と反射電極を備えた反射部を有しており、暗い場所ではバックライトを点灯し、その光を透過する透過部を利用して画像表示し、明るい室外などではバックライトを点灯することなく反射部で外光を利用して画像を表示させるため、消費電力を大幅に減少することができるという利点を有している。
【0004】
従来例として特許文献1に記載されている半透過型液晶表示装置のアレイ基板の画素断面図を図5に示す。
【0005】
ガラス基板1上には、それぞれの画素ごとにゲート電極G、補助容量電極Csが配置され、その表面を含むガラス基板1全体は窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜からなるゲート絶縁膜2で被われ、次いでゲート電極Gの周囲にアモルファスシリコン層3、ソース電極S、ドレイン電極D1が順次形成されてスイッチング素子であるMOS型の薄膜トランジスタ素子4(以下、TFT素子4という)が形成されている。
【0006】
そして、TFT素子4を被うように酸化シリコン膜又は窒化シリコン膜からなる保護膜5が形成され、保護膜5上にスキャタリング層又は平坦化膜からなる層間膜6が形成される。この保護膜5と層間膜6には、TFT素子4のドレイン電極D1の上方にコンタクトホール7が設けられ、TFT素子4から離れた場所には層間膜6が取除かれた溝部が設けられる。そして、この溝部が透過部9に該当する。
保護膜5や層間膜6の上には透明電極11Aが積層される。この透明電極11Aの材料としてITO(Indium−Tin−Oxide)を一画素全体に積層し、その透明電極11A上の透過部9を除いた部分に反射電極10A用の材料を積層させる。この反射電極10Aを積層させた部分が反射部12である。特許文献1では、反射電極10Aの材料に、一般的に広く用いられているAlに換えて高価なAgを用いている。その理由として、ITOとAlとはその間にTiを介在させないとオーミックな接触を形成しないためTi膜形成の工程を要するが、ITOとAgは良好なオーミックな接触を形成するので、工程が少なくてすむからである。透明電極11Aはコンタクトホール7部分でドレイン電極D1と電気的に接続されている。
【0007】
アレイ基板20と対向してカラーフィルター基板31が配置され、アレイ基板20とカラーフィルター31との間に液晶材料が挟持されている。カラーフィルタ基板31にはカラーフィルタや共通電極が形成されている。このアレイ基板20、カラーフィルタ基板31、液晶材料などにより液晶パネル30が構成されている。
【0008】
アレイ基板20の下方には図示していないが、周知の光源、導光板、拡散シート等を有するバックライト装置が配置され、このバックライト装置から透過した透過光は透過部9を通過し、外光は反射部12で反射される。この透過部9と反射部12を同一画素内に有するアレイ基板20と液晶材料、カラーフィルタ基板31、バックライト装置等が組み合わされて半透過型液晶表示装置となる。
【0009】
【特許文献1】
特開2002−350158号公報(2〜3頁、図4)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
従来の半透過型液晶装置では、コンタクトホール7に反射電極10Aが存在するため、この領域が反射部12として作用する。しかし、コンタクトホール7には層間膜6などが存在しないため、その他の反射部12と比べてカラーフィルター基板31までのセルギャップが広くなり、コンタクトホール7とその他の反射部12とで表示状態が異なってしまう。また、層間膜6の表面に凹凸をつけて反射効率を上げる場合があるが、コンタクトホール7ではそのような凹凸も形成できないため、反射部12としては十分に機能していなかった。
【0011】
本出願人は、コンタクトホールに反射電極を形成しない形態を別途出願している(例えば、特願2002−275060参照)。これは、透明電極11にITOの換わりにIZO(Indium−Zinc−Oxide)を使用してフリッカ及び焼き付きを防止し得る半透過型液晶表示装置である。この形態を図4に基づき説明する。なお、図4と図5で同じ構造のものには同一の符号をつけ、説明を省略する。
【0012】
図4の半透過型液晶表示装置では、層間膜6上に反射電極10が積層され、反射電極10及び保護膜5上に透明電極11が積層される。この反射電極10と透明電極11により画素電極を成し、反射部では反射電極10と透明電極11の二重構造となり、透過部では透明電極11のみが存在する。コンタクトホール7には透明電極11がドレイン電極D1と接続し、反射電極10は取除かれている。この形態のように、コンタクトホール7には透明電極11のみで反射電極10が存しない場合でも、そのコンタクトホール7には不透明なドレイン電極D1上に存在するため、バックライトからの光はドレイン電極D1で遮られ、結果としてコンタクトホール7は反射部になる。しかしコンタクトホール7は反射部としてほとんど寄与していなかった。
【0013】
そこで本発明は、コンタクトホールを透過部として利用することができる半透過型液晶表示装置を提供する。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、画素電極に透過部と反射部を有する半透過型液晶表示装置において、スイッチング素子と画素電極の接続部分に透過部を形成したことを特徴とする。スイッチング素子の画素電極との接続部分を透過部として利用することにより、画素電極全体を有効に表示に利用できる。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明の液晶パネルの断面図であり、図2は、本発明の液晶パネルを構成するアレイ基板20内の一画素を示す平面図である。尚、図1は図2のA−A´線部分の断面図に相当する。
【0016】
本発明では、図1に示すように、コンタクトホール15に沿って下方に突出した画素電極18の下部に対向する不透明なドレイン電極Dに開口8を形成したことにより、バックライトからの光が開口8を通してコンタクトホール15側へ導出される。開口8を設けることにより、一画素内における反射部12と透過部9の面積比率が変わり、バックライトを点灯して透過光を用いる時の透過率も向上する。尚、画素電極18は液晶に接する透明電極17とこの透明電極17と重層を成す反射電極16とから成っているが、コンタクトホール15の下部には、透明電極17のみが存する形態となっている。ただし、コンタクトホール15の下部に透明電極17も存在しないようにしてもよい。
【0017】
透明な絶縁性のガラス基板1上に、AlやCr等の金属からなる複数の走査線32が略等間隔で平行に形成されており、隣り合う走査線32間の略中央には走査線32と同時に補助容量電極Csが平行して形成される。そして、走査線32からはゲート電極Gが延設されている。
【0018】
ガラス基板1上には、走査線32、補助容量電極Cs、ゲート電極Gを被うようにして窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜からなるゲート絶縁膜2が積層され、このゲート電極G上にはゲート絶縁膜2を間に挟むようにして島状のアモルファスシリコン層3が形成され、またゲート絶縁膜2上には複数の映像線34が走査線32と直交するように形成されている。この映像線34からはソース電極Sが延設され、ソース電極Sはアモルファスシリコン層3の一部分に重複して接続している。
【0019】
さらに、映像線34、ソース電極Sと同一の材料で且つ同時形成されたドレイン電極Dがゲート絶縁膜2上に設けられており、アモルファスシリコン層3と接続している。ここで、走査線32と映像線34に囲まれた領域が一画素に相当する。このゲート電極G、ゲート絶縁膜2、アモルファスシリコン層3、ソース電極S、ドレイン電極Dによってスイッチング素子となるMOS型のTFT素子4が構成され、それぞれの画素にこのTFT素子4が形成される。そして、TFT素子4のドレイン電極Dと補助容量の電極Csによって各画素の補助容量を形成することになる。
【0020】
映像線34、TFT素子4、ゲート絶縁膜2を被うようにして例えば無機絶縁膜からなる保護膜13が積層され、この保護膜13上には有機絶縁膜からなる層間膜14が積層されている。そして保護膜13と層間膜14には、TFT素子4のドレイン電極Dの一部を露出させるコンタクトホール15が形成されている。この実施形態では、保護膜13のコンタクトホール15は層間膜14のコンタクトホール15よりも若干小さくなっており、両膜13、14のコンタクトホール15はともに四角形状をしている。保護膜13と層間膜14でコンタクトホール15の大きさを変えることにより、反射電極16がTFT素子4のドレイン電極Dに接触しないようにできる。TFT素子4から離れた位置に長方形状に透過部9が形成されている。透過部9では層間膜14が取除かれている。なお、本発明の透過部9とは画素電極18の背面側のバックライトからの光を通過する部分であり、反射部12とは画素電極18の前面側からの光を反射する部分を示す。
【0021】
ドレイン電極Dの形成時には、コンタクトホール15の中心部に開口8ができるように設計したフォトマスクパターンを用いる。この開口8は保護膜13のコンタクトホール15よりも小さく形成され、コンタクトホール15内では開口8の周囲に透明電極17が重なり合うことで、TFT素子4と画素電極18が接続できるようになっている。この開口8には反射電極16が配置されないため、開口8を透過部として利用することができる。コンタクトホール15では、TFT素子4のドレイン電極Dと画素電極18を直接重ね合わせて接続し、映像線34に流れる映像信号をTFT素子4を介して画素電極18に供給する。したがって、TFT素子4と画素電極18とを確実に接続するためには、画素電極18とドレイン電極Dの重合部分を多くする必要がある。しかし、ドレイン電極Dがコンタクトホール15内に占める割合を多くすると、それだけ開口8が小さくなり、コンタクトホール15内の透過部の割合が小さくなる。そこでコンタクトホール15が四角形状のときに、開口8を円形にすることで、限られた領域内で画素電極18とTFT素子4の接続を確実に取りながら、開口面積を広く確保することができる。本実施形態では、この開口8は、形成時に確実にコンタクト部内にできるように円形としたが、透過する面積を大きくとるために四角形としてもよい。
【0022】
それぞれの画素において、層間膜14上及びコンタクトホール15の内壁にはAlからなる反射電極16が形成され、保護膜13とは接触しているがTFT素子4のドレイン電極Dには接触しないようなっている。この構造は以下の工程により形成できる。開口8を有するドレイン電極Dを形成した後、ドレイン電極D上に保護膜13、層間膜14を順次積層する。その後、層間膜14にコンタクトホール15を形成し、保護膜13にはコンタクトホール15を形成しない。そして層間膜14上にAl層を積層し、パターニングして反射電極16を形成する。このときコンタクトホール15内の保護膜13上に積層されたAlも取除く。そしてコンタクトホール15内でAlをマスクにして保護膜13のエッチングを行い、保護膜13にコンタクトホール15を形成する。こうすることで、反射層16は保護膜13上で留まり、ドレイン電極Dに接触しない。Alは反射率が高く低抵抗であるため、反射電極の一部として一般的に用いられている。反射電極16の材料としてAlを含む合金を用いてもよい。反射電極16は隣接する画素の反射電極16と接しないで、且つ走査線32、映像線34と若干重なり、透過部9の周囲を囲むように形成されている。
【0023】
画素内の画素電極18が形成される領域の全体に透明電極17が設けられている。つまり透明電極17はコンタクトホール15及び透過部9に配置され、さらに反射部12では反射電極16の上に積層されている。この透明電極17はコンタクトホール15でドレイン電極Dに形成された開口8に重合し、そのドレイン電極Dと電気的に接触している。透明電極17の材料としては、本実施形態では透明電極17をエッチングして反射電極16を露出させる必要がないように、反射電極材料であるAlと同じエッチング液を使用する透明電極材料のIZOを使用している。
【0024】
液晶パネル30の下方には、図示していないが、バックライト装置が配置されている。また、アレイ基板の前面側には、アレイ基板と対向してカラーフィルタ基板31が配置されている。カラーフィルタ基板31には、図示していないが、RGBの3色のカラーフィルタ、共通電極等が設けられている。アレイ基板20とカラーフィルタ基板31を対向させて両基板を貼り合わせ、両基板間に液晶を注入することにより半透過型の液晶パネル30となる。
【0025】
この液晶パネル30において、バックライト装置から出射された光を通過させる部分が透明電極17を備えた透過部9であり、反射電極16が積層され、外光をこの反射電極11で反射させる部分が反射部12である。この反射部12の外光の反射量を増加させる方法としては、層間膜14表面をパターニング等により凹凸を設け、その上に積層する反射膜10表面を凹凸にする方法がある。層間膜14は有機絶縁膜であるため、凹凸形成を容易に行うことができる。
【0026】
本実施例では、透過部9は透明電極17を設ける際に層間膜14を取除いている。このような構造では、透過部9の透明電極17の部分と共通電極との距離(透過部9のセルギャップ)と、反射部12の透明電極17と共通電極との距離(反射部12のセルギャップ)が異なり、1つの画素内で2つのセルギャップ差が生じてしまう。そのセルギャップ差により駆動電圧に差を生じるフリッカ現象が起こる。
【0027】
図示はしないが、この現象を解消する方法として以下の方法が用いられている。透過部9に透明電極17を形成する際に層間膜14を残すことである。このことにより、セルギャップ差が生じず、フリッカ現象は解消される。また、反射部12と透過部9において、境界部に段差が無くなることにより、この段差に起因する液晶配向の乱れによって生じる表示ムラも低減される。
【0028】
この層間膜14は、エッチングの際にわずかに着色されることがあり、この着色が透過率の低下及び透過光の品質劣化につながるため、層間膜14が劣化しない程度に加熱しながら紫外線を照射することにより、着色を容易に除去することができる。
【0029】
次に、コンタクトホール15の部分の他の実施形態を図3に基づき説明する。この形態は、コンタクトホール15や開口8の構成は図1の実施形態と同じであるが、透明電極19がドレイン電極Dの開口8内に存在しないところが異なっている。
【0030】
本発明はスイッチング素子と画素電極のコンタクト部分を透過部として利用するものであり、本発明は上記の実施形態に限定するものではなく、本発明の趣旨に沿った各種変更が可能である。
【0031】
例えば、この実施形態ではコンタクトホールの形状を四角形にしたが、コンタクトホールを円形にしてもよい。この実施形態では、保護膜と反射電極のコンタクトホールの形状及び大きさが同じになるが、反射電極のコンタクトホールが多角形である場合、保護膜のコンタクトホールを形成する際にコンタクトホールの角部分でエッチング液のまわり込みが生じ、保護層のコンタクトホールのエッジが反射層のコンタクトホールのエッジよりも外側になるケースがある。その後に透明電極をコンタクトホールに積層すると、保護膜のコンタクトホールのエッジ部分と透明電極との間に隙間が生じるため、透明電極が断線する可能性がある。従って、コンタクトホールを円形にすることにより、コンタクトホール内の透明電極の断線を防ぐことができる。
【0032】
また、この実施形態ではドレイン電極の開口を円形にし、コンタクトホールを四角形にしたが、開口を四角形にしてコンタクトホールを円形にしてもよく、開口とコンタクトホールをともに同じ形状にして、円形又は多角形にしてもよい。開口とコンタクトホールを同じ形状にしたとき、開口のエッジとコンタクトホールのエッジとの間隔が開口の周囲にわたってほぼ均等になり、ドレイン電極が開口の周囲に均等に露出することになる。それに対して、開口とコンタクトホールを異なる形状にしたとき、開口のエッジとコンタクトホールのエッジの間隔が不均一になる。従ってドレイン電極が部分的に広く露出する部分ができ、画素電極とは主にその広く露出した部分で接続することになる。
【0033】
【発明の効果】
本発明によれば、スイッチング素子の不透明な電極であるドレイン電極に開口を設けることにより、これまで反射部に存在していてバックライトの光の透過にはほとんど寄与していなかったコンタクトホールを透過部として利用することができるようになり、画素全体を表示に有効且つ効率良く利用することができる。そして画素内における反射部と透過部の面積比率が変わり、透過光を使用できる割合が増えることにより、透過率の向上した半透過型液晶装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の半透過液晶表示装置の断面図である。
【図2】本発明の実施形態の半透過型液晶表示装置の一画素における平面図である。
【図3】本発明の他の実施形態であるコンタクトホール部分の断面図である。
【図4】従来の半透過型液晶装置の一画素における断面図である。
【図5】特許文献1に記載されている半透過型液晶装置の一画素における断面図である。
【符号の説明】
4  TFT素子
8  開口
9  透過部
12  反射部
13  保護膜
14  層間膜
15  コンタクトホール
16  反射電極
17  透明電極
D  ドレイン電極
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a transflective liquid crystal display device including a transmissive portion including a transparent electrode that transmits light from a backlight and a reflective portion including a reflective electrode that reflects external light.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, the application of liquid crystal display devices has rapidly spread to not only information communication devices but also general electric devices. In particular, for a portable type, a reflection type liquid crystal display device that displays an image by reflecting external light without using a backlight in order to reduce power consumption is often used. Since the device uses external light as a light source, it becomes difficult to see in a dark room or the like. In recent years, therefore, the development of transflective liquid crystal display devices having both transmissive and reflective properties has been promoted.
[0003]
The feature of this transflective liquid crystal display device is that one pixel has a transmissive part with a transparent electrode and a reflective part with a reflective electrode in one pixel, and turns on the backlight in a dark place to transmit the light. The image is displayed using the transmissive part, and the image is displayed using the external light in the reflective part without turning on the backlight in a bright outdoor environment, so that the power consumption can be greatly reduced. Have.
[0004]
FIG. 5 is a cross-sectional view of a pixel of an array substrate of a transflective liquid crystal display device described in Patent Document 1 as a conventional example.
[0005]
On the glass substrate 1, a gate electrode G and an auxiliary capacitance electrode Cs are arranged for each pixel, and the entire glass substrate 1 including the surface thereof is covered with a gate insulating film 2 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film. Next, an amorphous silicon layer 3, a source electrode S, and a drain electrode D1 are sequentially formed around the gate electrode G to form a MOS thin film transistor element 4 (hereinafter, referred to as a TFT element 4) as a switching element.
[0006]
Then, a protection film 5 made of a silicon oxide film or a silicon nitride film is formed so as to cover the TFT element 4, and an interlayer film 6 made of a scattering layer or a flattening film is formed on the protection film 5. In the protective film 5 and the interlayer film 6, a contact hole 7 is provided above the drain electrode D1 of the TFT element 4, and a groove portion from which the interlayer film 6 is removed is provided in a place away from the TFT element 4. This groove corresponds to the transmission section 9.
A transparent electrode 11A is stacked on the protective film 5 and the interlayer film 6. As a material of the transparent electrode 11A, ITO (Indium-Tin-Oxide) is laminated over one pixel, and a material for the reflective electrode 10A is laminated on a portion of the transparent electrode 11A except for the transmission part 9. The portion where the reflection electrodes 10A are stacked is the reflection portion 12. In Patent Literature 1, expensive Ag is used as the material of the reflective electrode 10A instead of Al, which is generally widely used. The reason is that a step of forming a Ti film is required because an ohmic contact is not formed between ITO and Al unless Ti is interposed between the ITO and Al. However, since ITO and Ag form a good ohmic contact, the number of steps is small. It is because it is. The transparent electrode 11A is electrically connected to the drain electrode D1 at the contact hole 7 portion.
[0007]
A color filter substrate 31 is arranged to face the array substrate 20, and a liquid crystal material is sandwiched between the array substrate 20 and the color filter 31. A color filter and a common electrode are formed on the color filter substrate 31. A liquid crystal panel 30 is constituted by the array substrate 20, the color filter substrate 31, the liquid crystal material and the like.
[0008]
Although not shown below the array substrate 20, a backlight device having a well-known light source, a light guide plate, a diffusion sheet, and the like is disposed, and transmitted light transmitted from the backlight device passes through the transmission unit 9, and The light is reflected by the reflector 12. A transflective liquid crystal display device is obtained by combining the array substrate 20 having the transmissive portion 9 and the reflective portion 12 in the same pixel, a liquid crystal material, a color filter substrate 31, a backlight device, and the like.
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-350158 (pages 2-3, FIG. 4)
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
In the conventional transflective liquid crystal device, since the reflective electrode 10 </ b> A exists in the contact hole 7, this region functions as the reflective portion 12. However, since the interlayer film 6 and the like do not exist in the contact hole 7, the cell gap up to the color filter substrate 31 is wider than that of the other reflective portions 12, and the display state of the contact hole 7 and the other reflective portions 12 is reduced. Will be different. In some cases, the surface of the interlayer film 6 is provided with irregularities to increase the reflection efficiency. However, such irregularities cannot be formed in the contact holes 7, so that the reflection portions 12 did not function sufficiently.
[0011]
The present applicant has separately filed an application in which a reflective electrode is not formed in a contact hole (for example, see Japanese Patent Application No. 2002-275060). This is a transflective liquid crystal display device that can prevent flicker and image sticking by using IZO (Indium-Zinc-Oxide) instead of ITO for the transparent electrode 11. This embodiment will be described with reference to FIG. 4 and 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
[0012]
In the transflective liquid crystal display device of FIG. 4, a reflective electrode 10 is laminated on the interlayer film 6, and a transparent electrode 11 is laminated on the reflective electrode 10 and the protective film 5. The reflective electrode 10 and the transparent electrode 11 form a pixel electrode. The reflective portion has a double structure of the reflective electrode 10 and the transparent electrode 11, and the transparent portion has only the transparent electrode 11. In the contact hole 7, the transparent electrode 11 is connected to the drain electrode D1, and the reflection electrode 10 is removed. Even in the case where only the transparent electrode 11 and the reflective electrode 10 do not exist in the contact hole 7 as in this embodiment, since the contact hole 7 exists on the opaque drain electrode D1, the light from the backlight is not drained. D1 blocks the contact hole 7 as a result. However, the contact hole 7 hardly contributed as a reflection part.
[0013]
Therefore, the present invention provides a transflective liquid crystal display device in which a contact hole can be used as a transmissive portion.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problem, the present invention is characterized in that in a transflective liquid crystal display device having a transmissive portion and a reflective portion in a pixel electrode, a transmissive portion is formed at a connection portion between the switching element and the pixel electrode. By using the connection portion of the switching element with the pixel electrode as a transmission portion, the entire pixel electrode can be effectively used for display.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal panel of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing one pixel in an array substrate 20 constituting the liquid crystal panel of the present invention. FIG. 1 corresponds to a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
[0016]
In the present invention, as shown in FIG. 1, the aperture 8 is formed in the opaque drain electrode D facing the lower part of the pixel electrode 18 protruding downward along the contact hole 15 so that light from the backlight can be prevented from opening. 8 is led out to the contact hole 15 side. The provision of the opening 8 changes the area ratio between the reflection part 12 and the transmission part 9 in one pixel, and also improves the transmittance when the backlight is turned on and the transmitted light is used. The pixel electrode 18 is composed of a transparent electrode 17 in contact with the liquid crystal and a reflective electrode 16 forming a layer with the transparent electrode 17, but only the transparent electrode 17 exists below the contact hole 15. . However, the transparent electrode 17 may not be present below the contact hole 15.
[0017]
A plurality of scanning lines 32 made of a metal such as Al or Cr are formed in parallel at substantially equal intervals on a transparent insulating glass substrate 1, and a scanning line 32 is provided substantially at the center between adjacent scanning lines 32. At the same time, the auxiliary capacitance electrode Cs is formed in parallel. A gate electrode G extends from the scanning line 32.
[0018]
A gate insulating film 2 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film is laminated on the glass substrate 1 so as to cover the scanning line 32, the auxiliary capacitance electrode Cs, and the gate electrode G. An island-shaped amorphous silicon layer 3 is formed with the insulating film 2 interposed therebetween, and a plurality of video lines 34 are formed on the gate insulating film 2 so as to be orthogonal to the scanning lines 32. A source electrode S extends from the video line 34, and the source electrode S is connected to a part of the amorphous silicon layer 3 so as to overlap.
[0019]
Further, a drain electrode D made of the same material as the image line 34 and the source electrode S and formed at the same time is provided on the gate insulating film 2 and is connected to the amorphous silicon layer 3. Here, a region surrounded by the scanning lines 32 and the video lines 34 corresponds to one pixel. The gate electrode G, the gate insulating film 2, the amorphous silicon layer 3, the source electrode S, and the drain electrode D form a MOS type TFT element 4 serving as a switching element, and the TFT element 4 is formed in each pixel. Then, the storage capacitor of each pixel is formed by the drain electrode D of the TFT element 4 and the storage capacitor electrode Cs.
[0020]
A protective film 13 made of, for example, an inorganic insulating film is laminated so as to cover the video line 34, the TFT element 4, and the gate insulating film 2, and an interlayer film 14 made of an organic insulating film is laminated on the protective film 13. I have. In the protective film 13 and the interlayer film 14, a contact hole 15 exposing a part of the drain electrode D of the TFT element 4 is formed. In this embodiment, the contact hole 15 of the protective film 13 is slightly smaller than the contact hole 15 of the interlayer film 14, and both the contact holes 15 of the films 13, 14 are square. By changing the size of the contact hole 15 between the protective film 13 and the interlayer film 14, the reflection electrode 16 can be prevented from contacting the drain electrode D of the TFT element 4. A transparent portion 9 is formed in a rectangular shape at a position away from the TFT element 4. In the transmission section 9, the interlayer film 14 has been removed. The transmissive portion 9 of the present invention is a portion that passes light from the backlight on the back side of the pixel electrode 18, and the reflective portion 12 is a portion that reflects light from the front side of the pixel electrode 18.
[0021]
When forming the drain electrode D, a photomask pattern designed so that an opening 8 is formed in the center of the contact hole 15 is used. The opening 8 is formed smaller than the contact hole 15 of the protective film 13, and the transparent electrode 17 overlaps around the opening 8 in the contact hole 15, so that the TFT element 4 and the pixel electrode 18 can be connected. . Since the reflection electrode 16 is not disposed in the opening 8, the opening 8 can be used as a transmission part. In the contact hole 15, the drain electrode D of the TFT element 4 and the pixel electrode 18 are directly overlapped and connected, and a video signal flowing through the video line 34 is supplied to the pixel electrode 18 via the TFT element 4. Therefore, in order to reliably connect the TFT element 4 and the pixel electrode 18, it is necessary to increase the overlapping portion between the pixel electrode 18 and the drain electrode D. However, when the ratio of the drain electrode D occupying the contact hole 15 is increased, the opening 8 is reduced accordingly, and the ratio of the transmission portion in the contact hole 15 is reduced. Therefore, when the contact hole 15 has a rectangular shape, the opening 8 is formed in a circular shape, so that the pixel electrode 18 and the TFT element 4 can be reliably connected in a limited area, and a large opening area can be secured. . In the present embodiment, the opening 8 is formed in a circular shape so as to be surely formed in the contact portion at the time of formation, but may be formed in a square shape in order to increase a transmission area.
[0022]
In each pixel, a reflective electrode 16 made of Al is formed on the interlayer film 14 and on the inner wall of the contact hole 15 so as to be in contact with the protective film 13 but not with the drain electrode D of the TFT element 4. ing. This structure can be formed by the following steps. After forming the drain electrode D having the opening 8, a protective film 13 and an interlayer film 14 are sequentially laminated on the drain electrode D. After that, a contact hole 15 is formed in the interlayer film 14, and the contact hole 15 is not formed in the protective film 13. Then, an Al layer is stacked on the interlayer film 14 and patterned to form the reflective electrode 16. At this time, Al laminated on the protective film 13 in the contact hole 15 is also removed. Then, the protective film 13 is etched in the contact hole 15 using Al as a mask, and the contact hole 15 is formed in the protective film 13. By doing so, the reflective layer 16 stays on the protective film 13 and does not contact the drain electrode D. Since Al has a high reflectance and a low resistance, it is generally used as a part of a reflective electrode. An alloy containing Al may be used as the material of the reflective electrode 16. The reflection electrode 16 is formed so as not to be in contact with the reflection electrode 16 of the adjacent pixel, slightly overlaps with the scanning line 32 and the video line 34, and surrounds the periphery of the transmission portion 9.
[0023]
The transparent electrode 17 is provided on the entire area of the pixel where the pixel electrode 18 is formed. That is, the transparent electrode 17 is disposed in the contact hole 15 and the transmission section 9, and is further stacked on the reflection electrode 16 in the reflection section 12. The transparent electrode 17 overlaps the opening 8 formed in the drain electrode D at the contact hole 15 and is in electrical contact with the drain electrode D. In this embodiment, as a material of the transparent electrode 17, IZO of a transparent electrode material using the same etchant as Al which is a reflective electrode material is used so that the transparent electrode 17 does not need to be etched to expose the reflective electrode 16. I'm using
[0024]
Although not shown, a backlight device is arranged below the liquid crystal panel 30. On the front side of the array substrate, a color filter substrate 31 is arranged so as to face the array substrate. Although not shown, the color filter substrate 31 is provided with color filters of three colors of RGB, a common electrode, and the like. The transflective liquid crystal panel 30 is obtained by bonding the two substrates with the array substrate 20 and the color filter substrate 31 facing each other and injecting liquid crystal between the two substrates.
[0025]
In this liquid crystal panel 30, a portion through which light emitted from the backlight device passes is the transmission portion 9 provided with the transparent electrode 17, a reflection electrode 16 is laminated, and a portion which reflects external light with the reflection electrode 11 is provided. The reflection unit 12. As a method of increasing the amount of external light reflected by the reflecting portion 12, there is a method of providing irregularities on the surface of the interlayer film 14 by patterning or the like and making the surface of the reflective film 10 laminated thereon uneven. Since the interlayer film 14 is an organic insulating film, unevenness can be easily formed.
[0026]
In this embodiment, the transparent portion 9 has the interlayer film 14 removed when the transparent electrode 17 is provided. In such a structure, the distance between the transparent electrode 17 of the transmissive part 9 and the common electrode (cell gap of the transmissive part 9) and the distance between the transparent electrode 17 of the reflective part 12 and the common electrode (the cell of the reflective part 12) Gap), and two cell gap differences occur in one pixel. A flicker phenomenon that causes a difference in driving voltage due to the cell gap difference occurs.
[0027]
Although not shown, the following method is used to solve this phenomenon. This is to leave the interlayer film 14 when forming the transparent electrode 17 in the transmission part 9. As a result, no cell gap difference occurs, and the flicker phenomenon is eliminated. Further, since there is no step at the boundary between the reflection section 12 and the transmission section 9, display unevenness caused by disturbance of liquid crystal alignment due to the step is also reduced.
[0028]
The interlayer film 14 may be slightly colored during etching, and this coloring leads to a decrease in transmittance and a deterioration in quality of transmitted light. Therefore, the interlayer film 14 is irradiated with ultraviolet rays while being heated to such an extent that the interlayer film 14 is not deteriorated. By doing so, coloring can be easily removed.
[0029]
Next, another embodiment of the contact hole 15 will be described with reference to FIG. This embodiment has the same configuration of the contact hole 15 and the opening 8 as the embodiment of FIG. 1 except that the transparent electrode 19 does not exist in the opening 8 of the drain electrode D.
[0030]
The present invention utilizes a contact portion between a switching element and a pixel electrode as a transmission portion, and the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications in accordance with the gist of the present invention are possible.
[0031]
For example, in this embodiment, the shape of the contact hole is square, but the contact hole may be circular. In this embodiment, the contact holes of the protective film and the reflective electrode have the same shape and size. However, when the contact holes of the reflective electrode are polygonal, the corners of the contact holes are formed when forming the contact holes of the protective film. In some cases, the etchant wraps around the portion, and the edge of the contact hole of the protective layer is located outside the edge of the contact hole of the reflective layer. Thereafter, when a transparent electrode is laminated on the contact hole, a gap is formed between the edge portion of the contact hole of the protective film and the transparent electrode, so that the transparent electrode may be disconnected. Therefore, by making the contact hole circular, disconnection of the transparent electrode in the contact hole can be prevented.
[0032]
Further, in this embodiment, the opening of the drain electrode is circular and the contact hole is square. However, the opening may be rectangular and the contact hole may be circular. It may be square. When the opening and the contact hole have the same shape, the distance between the edge of the opening and the edge of the contact hole becomes substantially uniform over the periphery of the opening, and the drain electrode is evenly exposed around the opening. On the other hand, when the opening and the contact hole have different shapes, the distance between the edge of the opening and the edge of the contact hole becomes uneven. Therefore, a part where the drain electrode is widely exposed is formed, and the pixel electrode is mainly connected at the widely exposed part.
[0033]
【The invention's effect】
According to the present invention, by providing an opening in the drain electrode, which is an opaque electrode of the switching element, it is possible to pass through the contact hole which has been present in the reflection part and has hardly contributed to the transmission of light of the backlight. As a result, the entire pixel can be effectively and efficiently used for display. Then, the area ratio between the reflective portion and the transmissive portion in the pixel changes, and the ratio in which transmitted light can be used is increased, so that a transflective liquid crystal device with improved transmittance can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a transflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of one pixel of the transflective liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a sectional view of a contact hole portion according to another embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of one pixel of a conventional transflective liquid crystal device.
FIG. 5 is a cross-sectional view of one pixel of a transflective liquid crystal device described in Patent Document 1.
[Explanation of symbols]
4 TFT element 8 Opening 9 Transmission part 12 Reflection part 13 Protective film 14 Interlayer film 15 Contact hole 16 Reflection electrode 17 Transparent electrode D Drain electrode

Claims (10)

液晶を挟んで対向する一対の電極のうち一方の電極を各画素に対応した画素電極とし、前記画素電極の背面側にバックライトを配置し、前記画素電極に前記バックライトの光を通過させる透過部と前面側からの光を反射させる反射部とを設けた半透過型液晶表示装置において、前記画素電極と電気的に接続するスイッチング素子を各画素ごとに設け、前記スイッチング素子と前記画素電極の接続部分に透過部を形成したことを特徴とする半透過型液晶表示装置。One of a pair of electrodes opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween is a pixel electrode corresponding to each pixel, a backlight is disposed on the back side of the pixel electrode, and the pixel electrode transmits light of the backlight. In a semi-transmissive liquid crystal display device provided with a portion and a reflecting portion for reflecting light from the front side, a switching element electrically connected to the pixel electrode is provided for each pixel, and the switching element and the pixel electrode A transflective liquid crystal display device, wherein a transmissive portion is formed at a connection portion. 前記画素電極は、透過部に透明電極を、反射部に反射電極を配置したことを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置。2. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrode includes a transparent electrode disposed on a transmission part and a reflection electrode disposed on a reflection part. 3. 前記スイッチング素子の不透明な電極に開口を形成し、前記画素電極は前記開口の周囲に重合して前記スイッチング素子と接続することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半透過型液晶表示装置。3. The transflective liquid crystal according to claim 1, wherein an opening is formed in the opaque electrode of the switching element, and the pixel electrode overlaps the periphery of the opening and is connected to the switching element. Display device. 前記スイッチング素子と前記画素電極の間に絶縁膜が介在し、前記絶縁膜には前記スイッチング素子の不透明な電極を一部露出させるコンタクトホールが形成され、前記スイッチング素子の不透明な電極には前記コンタクトホールに対応する部分に前記コンタクトホールよりも小さい開口が形成され、前記画素電極の透明電極が前記コンタクトホールを介して前記スイッチング素子の不透明な電極に重合することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半透過型液晶表示装置。An insulating film is interposed between the switching element and the pixel electrode, and a contact hole that partially exposes the opaque electrode of the switching element is formed in the insulating film. An opening smaller than the contact hole is formed at a portion corresponding to the hole, and the transparent electrode of the pixel electrode overlaps with the opaque electrode of the switching element via the contact hole. Item 3. A transflective liquid crystal display device according to item 2. 前記スイッチング素子の不透明な電極に形成された前記開口が円形状であることを特徴とする請求項3に記載の半透過型液晶表示装置。4. The transflective liquid crystal display according to claim 3, wherein the opening formed in the opaque electrode of the switching element has a circular shape. 前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールが円形状であることを特徴とする請求項4に記載の半透過型液晶表示装置。5. The transflective liquid crystal display device according to claim 4, wherein the contact hole formed in the insulating film has a circular shape. 前記スイッチング素子の電極に形成された開口の形状と前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールの形状が異なる形状であることを特徴とする請求項4に記載の半透過型液晶表示装置。The transflective liquid crystal display device according to claim 4, wherein the shape of the opening formed in the electrode of the switching element is different from the shape of the contact hole formed in the insulating film. 前記透明電極はIZO(Indium−Zinc−Oxide)から成ることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の半透過型液晶表示装置。8. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the transparent electrode is made of IZO (Indium-Zinc-Oxide). 前記反射部では反射電極上に透明電極が積層されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の半透過型液晶表示装置。9. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein a transparent electrode is laminated on the reflective electrode in the reflective portion. 前記スイッチング素子はMOS型の薄膜トランジスタであり、前記画素電極と接続する電極は前記薄膜トランジスタのドレイン電極であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の半透過型液晶表示装置。10. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the switching element is a MOS type thin film transistor, and an electrode connected to the pixel electrode is a drain electrode of the thin film transistor.
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