JP2004111179A

JP2004111179A - Method of manufacturing plasma display panel

Info

Publication number: JP2004111179A
Application number: JP2002271124A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kawamura; 河村　浩幸; Masaki Aoki; 青木　正樹; Kazuhiko Sugimoto; 杉本　和彦; Hiroshi Setoguchi; 瀬戸口　広志; Junichi Hibino; 日比野　純一
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2002-09-18
Filing date: 2002-09-18
Publication date: 2004-04-08

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a PDP achieving satisfactory image display, the method including the step of forming a phosphor layer by ejecting phosphor ink from a nozzle into a space between barrier ribs, in which the phosphor layer can be formed in a region excluding a portion of the barrier rib if the portion intersecting the scanning direction of the nozzle. <P>SOLUTION: The method of manufacturing a plasma display panel includes the step of removing a portion of the phosphor layer applied to a portion of the barrier rib intersecting the scanning direction of the nozzle by photolithography. This enables formation of the phosphor layer except in the portion of the barrier rib intersecting the scanning direction of the nozzle. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テレビなどの画像表示に用いられるプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、コンピュータやテレビなどの画像表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）は、大型で薄型軽量を実現することのできるカラー表示デバイスとして注目されている。
【０００３】
図５は、このＰＤＰの一部を断面で示す斜視図である。
【０００４】
ＰＤＰ１００は、前面ガラス基板１０１の一主面上に表示電極１０３ａと表示スキャン電極１０３ｂとからなる表示対電極１０４を複数有する前面板と、背面ガラス基板１０２の一主面上にアドレス電極１０７、誘電体ガラス層１０８、隔壁１０９、および蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂが配設された背面板とが貼り合わされ、前面板と背面板との間に形成される放電空間１１１内に放電ガスが封入され、放電セル１１２が形成された構成となっており、放電セル１１２内でのガス放電により発生する紫外線により蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂを励起させ発光させることで、画像表示を行う。
【０００５】
そして、上述の構成における蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂの形成方法としては、隔壁１０９の間の凹部形状内に精度良く塗布する必要性から、ノズルを用いて蛍光体インキを隔壁１０９間に連続的に吐出することで形成するという方法が挙げられる（例えば、特許文献１）。
【０００６】
ここで、上述の構造のＰＤＰに対しては、高精細への要求が高まっており、これに対応するには放電セル１１２の配列ピッチを狭くする必要があるが、そのような狭ピッチで配列された放電セル１１２においては、特に隔壁１０９の長手方向（図５中のＹ方向）に隣り合う放電セル１１２間で誤放電が発生するという問題の発生が見られた。
【０００７】
そこで、このような誤放電の問題を抑制するために、例えば図６にその一部分を示すように、隔壁１０９の長手方向をさらに仕切る補助隔壁１０９ａを設けた構成がある（例えば、特許文献２）。この補助隔壁１０９ａにより放電セル１１２は四方を物理的に仕切られることとなり、上下左右のいずれに隣接する放電セル１１２に対しても誤放電などの問題の発生を抑制することができる。
【０００８】
ここで、補助隔壁１０９ａと隔壁１０９とを同じ高さにしてしまうと、前面板と背面板とを対向配置した際、放電セル１１２の放電空間１１１が閉空間となってしまい、放電セル１１２内の排気および放電ガスの封入に支障をきたすため、補助隔壁１０９ａの高さを隔壁１０９より低くすることで、「通気孔」の役目を持たせている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−９６９１１号公報
【特許文献２】
特開２００１−１８９１３５号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図６に示すような隔壁１０９および補助隔壁１０９ａを有する背面板に対して、放電セル１１２内に蛍光体インキをノズルから吐出することで蛍光体層を形成しようとすると、補助隔壁１０９ａの頂部にも蛍光体層を形成してしまうことになる。
【００１１】
ここで、補助隔壁１０９ａの頂部の蛍光体層は、補助隔壁１０９ａを低くすることで形成した「通気孔」の部分を狭く、最悪は塞いだ状態としてしまい放電セル１１２内の排気および放電ガスの封入に支障を与えたり、補助隔壁１０９ａから欠落してＰＤＰ内部でのダストの原因となったりする等、ＰＤＰの信頼性に悪影響を与える原因となる。
【００１２】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、隔壁の間に蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成する工程において、隔壁がノズルの走査方向と交差する部分を有するものであっても、その部分を除いて蛍光体層を形成することを可能とすることで、良好な画像表示を行えるＰＤＰの製造方法を実現することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、放電空間を複数の隔壁により区画して形成した放電セル内に、蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記隔壁は、ノズルの走査方向に対して交差する部分を有し、ノズルの走査方向と交差する部分の隔壁に塗着した蛍光体層をフォトリソグラフィーによって除去する工程を有するものである。
【００１４】
また、上記課題を解決するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、放電空間を複数の隔壁により区画して形成した放電セル内に、反射材インキをノズルから吐出して反射層を形成し、その反射層の上に、蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記隔壁は、ノズルの走査方向に対して交差する部分を有し、ノズルの走査方向と交差する部分の隔壁に塗着した反射層と蛍光体層をフォトリソグラフィーによって除去する工程を有するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、放電空間を複数の隔壁により区画して形成した放電セル内に、蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記隔壁は、ノズルの走査方向に対して交差する部分を有し、ノズルの走査方向と交差する部分の隔壁に塗着した蛍光体層をフォトリソグラフィーによって除去する工程を有するプラズマディスプレイパネルである。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、放電空間を複数の隔壁により区画して形成した放電セル内に、反射材インキをノズルから吐出して反射層を形成し、その反射層の上に、蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記隔壁は、ノズルの走査方向に対して交差する部分を有し、ノズルの走査方向と交差する部分の隔壁に塗着した反射層と蛍光体層をフォトリソグラフィーによって除去する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１７】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、少なくとも蛍光体層が、感光性を有するというものである。
【００１８】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の発明において、前記蛍光体インキが、平均粒径０．５μｍから７μｍの蛍光体粉体と、１重量％以上、２０重量％以下の感光性化合物を含む水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体と、４重量％以上、６重量％以下の光重合開始剤と、０．０１重量％以上、０．０５重量％以下の重合禁止剤を備えるものである。
【００１９】
また、請求項５に記載の発明は、請求項２または３に記載の発明において、　前記反射材インキが、前記平均粒径０．０５μｍから２μｍの白色顔料と、１重量％以上、２０重量％以下の感光性化合物を含む水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体と、４重量％以上、６重量％以下の光重合開始剤と、０．０１重量％以上、０．０５重量％以下の重合禁止剤を備えるものである。
【００２０】
また、請求項６に記載の発明は、請求項２または３に記載の発明において、前記反射材インキが、平均粒径０．０５μｍから２μｍの白色顔料と、１重量％以上、２０重量％以下の水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体とを備えるものである。
【００２１】
また、請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載の発明において、白色顔料は、酸化チタン、窒化バリウム、酸化アルミナ、蛍光体の中から選ばれる少なくとも１つであるというものである。
【００２２】
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照にしながら説明する。
【００２３】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施の形態のＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰの概略構造を示す断面斜視図である。図５および図６に示す従来のＰＤＰと同じ構成部品には同じ番号を付している。
【００２４】
ＰＤＰ１００は、前面ガラス基板１０１の一主面上に表示電極１０３ａと表示スキャン電極１０３ｂとからなる表示対電極１０４、誘電体ガラス層１０５、ＭｇＯ保護層１０６を形成した前面板と、背面ガラス基板１０２の一主面上にアドレス電極１０７、誘電体ガラス層１０８、隔壁１０９、および隔壁の一部としての補助隔壁１０９ａ（隔壁１０９と補助隔壁１０９ａとは、つながっていても、独立していても、どちらでも構わない）、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂが配設された背面板とを貼り合わせ、前面板と背面板との間に形成される放電空間１１１内に放電ガスを封入することで、放電セル１１２（単位発光領域）を形成した構成としており、放電セル１１２内でのガス放電により発生する紫外線により蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂを励起させ発光させることで、画像表示を行う。
【００２５】
ここで、放電セル１１２は、隔壁１０９および補助隔壁１０９ａにより四方を物理的に仕切った構成としていることから、ＰＤＰの高精細化により、放電セル１１２のピッチを狭くする必要が生じても、上下左右のいずれに隣接する放電セル１１２に対しても誤放電などの問題の発生を抑制することができる。
【００２６】
さらに、放電セル１１２の放電空間１１１が、前面板と背面板とを対向配置した際に閉空間とならないように、補助隔壁１０９ａは、その高さを隔壁１０９より低くし、且つその頂部には蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂが形成されない構成であるので、前面板と補助隔壁１０９ａの頂部との間には隙間が形成され、その隙間が「通気孔」として機能するため、放電セル１１２内の排気や、放電ガスの封入を支障なく行うことが可能となっている。
【００２７】
そして上述の構造のＰＤＰ１００は、図２に示すプラズマディスプレイパネル駆動装置１５０と接続されることでプラズマディスプレイ装置１６０を構成している。
【００２８】
プラズマディスプレイパネル駆動装置１５０は、コントローラ１５１、表示ドライバ回路１５２、表示スキャンドライバ回路１５３、アドレスドライバ回路１５４を備え、表示ドライバ回路１５２はＰＤＰ１００の表示電極１０３ａと、表示スキャンドライバ回路１５３はＰＤＰ１００の表示スキャン電極１０３ｂと、アドレスドライバ回路１５４はＰＤＰ１００のアドレス電極１０７と接続され、コントローラ１５１による制御に従い、点灯させようとする放電セル１１２の表示スキャン電極１０３ｂとアドレス電極１０７に印加することにより、その間でアドレス放電を行った後に、表示電極１０３ａ、表示スキャン電極１０３ｂ間にパルス電圧を印加して維持放電を行う。この維持放電により、当該放電セル１１２において紫外線が発生し、この紫外線により励起された蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂが発光することで放電セル１１２が点灯し、各色放電セル１１２の点灯、非点灯の組み合わせによって画像を表示する。
【００２９】
次に、図１に示すＰＤＰの製造方法について述べる。
【００３０】
まず前面板は、前面ガラス基板１０１上にまず、各Ｎ本の表示電極１０３ａおよび表示スキャン電極１０３ｂを交互かつ平行にストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層１０５で被覆し、さらに誘電体ガラス層の表面にＭｇＯ保護層１０６を形成することによって作製する。
【００３１】
ここで、表示電極１０３ａおよび表示スキャン電極１０３ｂは、銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成する。
【００３２】
また、誘電体ガラス層１０５は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、所定温度、所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって、所定の層の厚み（約２０μｍ）となるように形成する。上記鉛系のガラス材料を含むペーストとしては、例えば、ＰｂＯ（７０ｗｔ％）、Ｂ_２Ｏ_３（１５ｗｔ％）、ＳｉＯ_２（１０ｗｔ％）、およびＡｌ_２Ｏ_３（５ｗｔ％）と有機バインダ（α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの）との混合物が使用される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトールなども使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。
【００３３】
また、ＭｇＯ保護層１０６は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成るものであり、例えばスパッタリング法やＣＶＤ法（化学蒸着法）によって層が所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成する。
【００３４】
次に背面板は、背面ガラス基板１０２上にまず、各Ｍ本のアドレス電極１０７をストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層１０８で被覆し、そして、アドレス電極１０７間に、同じくストライプ状に隔壁１０９と、隔壁１０９間に隔壁１０９の一部である補助隔壁１０９ａを形成し、隔壁１０９と補助隔壁１０９ａとで仕切られた放電セル１１２内に蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂを形成することによって作製する。
【００３５】
ここで、アドレス電極１０７は、銀ペーストをスクリーン印刷し、その後、焼成することによって形成する。
【００３６】
また、誘電体ガラス層１０８は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布した後、焼成することで形成する。
【００３７】
また、隔壁１０９、および隔壁１０９の一部としての補助隔壁１０９ａは、誘電体ガラス層１０８と同じく、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後、焼成することによって形成する。補助隔壁１０９ａを形成するための塗布の繰り返し数を、隔壁１０９を形成するための塗布の繰り返し数より少なくすることで、補助隔壁１０９ａの高さを隔壁１０９より低くなる様に形成する。これにより放電空間１１１は、四方を隔壁１０９および補助隔壁１０９ａで仕切られた放電セル１１２毎に区画される。
【００３８】
また、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂは、例えば、蛍光体インキとして、平均粒径０．５μｍから７μｍの蛍光体粉体と、１重量％以上、２０重量％以下の感光性化合物を含む水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体と、４重量％以上、６重量％以下の光重合開始剤と、０．０１重量％以上、０．０５重量％以下の重合禁止剤を備えるものを用い、隔壁１０９間にノズルから連続的に吐出させながら走査することで蛍光体層を形成した後、ノズルの走査方向に対して交差する部分の隔壁１０９である補助隔壁１０９ａの頂部に形成された蛍光体層を、パターン露光、現像という、いわゆるフォトリソグラフィーによるパターニングによって除去することにより形成する。つまり、蛍光体インキの感光性がネガタイプであるかポジタイプであるかに応じてマスクパターンを設計し、パターン露光、現像することで、補助隔壁１０９ａの頂部に形成された蛍光体層を除去する。これにより、隔壁１０９間に連続的に蛍光体インキを吐出して塗布しても、補助隔壁１０９ａ頂部には蛍光体インキが塗着されなくなることから、補助隔壁１０９ａを隔壁１０９に比べて低く設けることで形成した「通気孔」の部分を確実に確保できる。
【００３９】
ここで、蛍光体層１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのアドレス電極１０７上における積層方向の厚みは、各色蛍光体粒子の平均粒径のおよそ８〜２５倍程度に形成することが望ましい。すなわち、蛍光体層に一定の紫外線を照射したときの輝度（発光効率）を確保するために、蛍光体層は、放電空間において発生した紫外線を透過させることなく吸収するために蛍光体粒子が最低でも８層、好ましくは２０層程度積層された厚みを保持することが望ましく、それ以上の厚みとなれば蛍光体層の発光効率はほとんどサチュレートしてしまうとともに、２０層程度積層された厚みを超えると放電空間１１１の大きさを十分に確保できなくなるからである。
【００４０】
ここで、上述した蛍光体インキの塗布方法について説明する。
【００４１】
図３は、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂ等を形成する際に用いるインキ塗布装置２００の概略構成図を示す断面図である。図３に示すように、インキ塗布装置２００は、サーバ２１０、加圧ポンプ２２０、ヘッダ２３０などを備え、蛍光体インキを蓄えるサーバ２１０から供給される蛍光体インキは、加圧ポンプ２２０によりヘッダ２３０に加圧されて供給される。ヘッダ２３０にはインキ室２３０ａおよびノズル２４０が設けられており、加圧されてインキ室２３０ａに供給された蛍光体インキは、ノズル２４０から連続的に吐出されるようになっている。このノズル２４０の口径Ｄは、ノズルの目詰まり防止のため３０μｍ以上、かつ塗布の際の隔壁からのはみ出し防止のため隔壁１０９間の間隔Ｗ（３２インチから５０インチのＨＤ−ＴＶで１３０μｍ〜２４０μｍ程度）以下にすることが望ましく、通常３０μｍ〜１３０μｍに設定される。
【００４２】
ヘッダ２３０は、図示しないヘッダ走査機構によって直線的に駆動されるように構成されており、ヘッダ２３０を走査させる（図３においては、紙面と垂直方向）とともに、ノズル２４０から蛍光体インキ２５０を連続的に吐出することにより、背面ガラス基板１０２上の隔壁１０９間の凹部に蛍光体インキを均一に塗布する。ここで、使用する蛍光体インキの粘度は２５℃において、１５００〜５００００ＣＰの範囲に保つことが好ましい。
【００４３】
なお、上記サーバ２１０には図示しない攪拌装置が備えられており、その攪拌により蛍光体インキ中の粒子の沈殿が防止される。
【００４４】
また、塗布装置のヘッダ２３０は、インキ室２３０ａやノズル２４０の部分も含めて一体成形されたものであり、金属材料を機器加工ならびに放電加工することによって作製されたものである。
【００４５】
次に、蛍光体インキおよび蛍光体について説明する。
【００４６】
上述の蛍光体インキは、感光性化合物を含む有機成分を必須成分としている。感光性化合物を含む有機成分としては、感光性ポリマー、感光性モノマー、感光性オリゴマーのうち、少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに、光重合開始剤、重合禁止剤を加えたものを指す。
【００４７】
ここで、感光性化合物を含む有機成分量は、１０〜４０重量％であることが望ましい。１０重量％未満では感光不足のためパターン性が劣化し、４０重量％を超えると、過露光によるパターン性の劣化と焼成時の脱バインダー性が悪化してしまうためである。
【００４８】
また、感光性成分としては、光不溶化型と光可溶化型のものがあるが、本発明では、どちらでも使用可能である。それに対応したパターニングマスクとすれば良い。
【００４９】
また、実際に使用可能な感光性モノマーとしては、エチルアクリレート、メチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキルアクリレート、グリセロールアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングルコールアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、アクリルアミド、ポリプロピレングリコールジアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、アクリルアミド、トリフロロエチルアクリレートなどが挙げられる。本発明では、これらを１種あるいは２種以上使用することが可能である。
【００５０】
また、バインダーとしては、平均分子量３万から９０万のヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、カルボキシメチルセルロースのいずれか１つ以上を用いることができる。
【００５１】
また、光重合開始剤としては、４，４−ジクロロベゾフェノン、チオキサントン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、２，２−ジメチル−２−フェニルアセトフェノン、キノリンスルホニルクロライドが使用できる。本発明では、これらの１種または２種以上使用することができる。
【００５２】
また、光重合開始剤の添加量は、感光性成分に対し、５０重量％から８０重量％、より好ましくは、６０重量％から７０重量％に設定する。光重合開始剤の量が少なすぎると感度が鈍くなり、光重合開始剤の量が多すぎるとパターン性を劣化させる恐れがある。
【００５３】
また、一般に感光性インキに重合禁止剤を添加し、ポットライフを向上させることも行われている。例えば、メチルハイドロキノンのようなキノリン系染料、その他、アゾ系染料、アミノケトン系染料が有効である。
【００５４】
また、本発明では、蛍光体インキの粘度を調整したい場合、水に対して自由混合する多価アルコール誘導体としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、３−メトキシ−３−メチルブタノールのいずれか１種あるいは２種以上を用いることができる。
【００５５】
また、蛍光体インキを隔壁の底部と側壁に均一に付着させるため、インキに流動性を持たせる必要があり、可塑剤の添加が有効である。可塑剤としては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジルの１種あるいは２種以上を用いることができる。
【００５６】
なお、可塑剤の添加量は、インキ総量に対し０．１重量％以上、３重量％以下に設定する。可塑剤の添加量が０．１重量％未満では、流動性改善効果が得られない。また、添加量が３重量％を超えると粒子とバインダあるいはアクリレートの分散状態が悪化し、凝集が発生する。
【００５７】
蛍光体インキは、各色蛍光体粒子、バインダ、感光性化合物、溶媒とが混合され、粘度が１５００〜５００００センチポアズ（ＣＰ）となるように調合されたものであり、必要に応じて、可塑剤等を添加してもよい。
【００５８】
この蛍光体インキに調合される赤色蛍光体としては、（Ｙ、Ｇｄ）_１−ＸＢＯ_３：Ｅｕ_Ｘ、またはＹ_２−ＸＯ_３：Ｅｕ_Ｘで表される化合物が用いられる。これらは、その母体材料を構成するＹ元素の一部がＥｕに置換された化合物である。ここで、Ｙ元素に対するＥｕ元素の置換量Ｘは、０．０５≦Ｘ≦０．２０の範囲となることが好ましい。これ以上の置換量とすると、輝度は高くなるものの輝度劣化が著しくなることから実用上使用できにくくなると考えられる。一方、この置換量以下である場合には、発光中心であるＥｕの組成比率が低下し、輝度が低下して蛍光体として使用できなくなるためである。
【００５９】
緑色蛍光体としては、表面が正に帯電した（Ｚｎ_１−Ｘ、Ｍｎ_Ｘ）２ＳｉＯ_４で表される化合物が用いられる。（Ｚｎ_１−Ｘ、Ｍｎ_Ｘ）２ＳｉＯ_４は、その母体材料を構成するＺｎ元素の一部がＭｎに置換された化合物である。ここで、Ｚｎ元素に対するＭｎ元素の置換量Ｘは、０．０１≦Ｘ≦０．２０の範囲となることが好ましい。
【００６０】
青色蛍光体としては、Ｂａ_１−ＸＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕ_Ｘ、またはＢａ_{１−Ｘ−Ｙ}Ｓｒ_ＹＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕ_Ｘで表される化合物が用いられる。Ｂａ_１−ＸＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕ_Ｘ、Ｂａ_{１−Ｘ−Ｙ}Ｓｒ_ＹＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕ_Ｘは、その母体材料を構成するＢａ元素の一部がＥｕあるいはＳｒに置換された化合物である。ここで、Ｂａ元素に対するＥｕ元素の置換量Ｘは、上記と同様の理由により、前者の青色蛍光体は０．０３≦Ｘ≦０．２０，０．１≦Ｙ≦０．５の範囲となることが好ましい。
【００６１】
各色蛍光体インキは、調合後、３本ローラや混練機で均一になるまで混合分散して作製する。
【００６２】
次に、補助隔壁１０９ａの頂部に形成された蛍光体層を除去する工程について説明する。これは、通常のいわゆるフォトリソグラフィーによるものであり、パターン露光、現像の各工程からなるものである。
【００６３】
まず、前述した方法で蛍光体インキを塗布し、１００℃から１２０℃で５分から３０分乾燥し、常温まで冷却した後、通常のフォトリフォグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いて露光する。ここで、フォトマスクは、蛍光体インキの感光性がネガタイプであるかポジタイプであるかに応じてマスクパターンを設計し、露光および現像により、補助隔壁１０９ａの頂部に形成された蛍光体層が除去されるようにする。露光装置としては、プロキシミティ露光、ミラープロジェクション露光、ステッパー露光や、レーザ光を用いた描画を利用することができる。そして露光後、現像液により現像を行う。この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法を用いることができる。また、ポリマー、溶剤を水に対して可溶性の材料を用いると、現像液として、純水や水を用いることができる。また、現像液の温度は、２０℃から５０℃で行うことが、工程管理上、望ましい。
【００６４】
次に、以上のようにして、補助隔壁１０９ａの頂部を除いた隔壁１０９の間の領域に形成した蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂを焼成する。この焼成は、焼成炉にて行う。焼成雰囲気や、温度はインキや基板の種類によって異なるが、空気中で焼成することが望ましい。焼成温度は４００℃〜５８０℃で行う。焼成炉としてはバッチ式焼成炉、ベルト式焼成炉を用いることができる。
【００６５】
また、焼成工程中に２００℃から３８０℃に加熱過程を設け、熱分解などの予備反応を促進することができる。
【００６６】
以上のようにして作製した前面板と背面板とを、前面板の各電極と背面板のアドレス電極とが直交するように重ね合わせるとともに、パネル周縁に封着用ガラスを介挿し、これを例えば４５０℃程度で１０〜２０分間焼成して気密シール層を形成することにより封着する（いわゆる、封着工程）。そして、一旦、放電空間１２２内を加熱しながら高真空（例えば、１．１×１０^−４Ｐａ）に排気した後（いわゆる、排気ベーキング工程）、放電ガス（例えば、Ｈｅ−Ｘｅ系、Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰＤＰ１００が完成する。
【００６７】
（実施の形態２）
次に、本発明の他の実施の形態のＰＤＰの製造方法について述べる。本実施の形態と実施の形態１との違いは、図４にＰＤＰの一部断面図を示すように、背面板における誘電体ガラス層１０８と蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂとの間に反射層１１０Ｚを形成する工程が加わることである。
【００６８】
ここで、反射層１１０Ｚを蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂの下に形成することによる効果を説明する。蛍光体粒子は、紫外線により励起されて可視光を照射する働きと、その可視光を反射させる働きを有している。そのため、積層された蛍光体層数が増えるほど、背面板の裏面に進んだ可視光をパネルに使用することが可能となり、輝度が向上する。
【００６９】
しかし、蛍光体の平均粒子径は２μｍ近くあるため、積層する層数を増やすことができない。そこで、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂの背面に反射層１１０Ｚを設けることで、可視光を有効に取り出すことが可能になる。
【００７０】
ここで、反射層１１０Ｚは、例えば、反射材インキとして、平均粒径０．０５μｍから２μｍの白色顔料と、１重量％以上、２０重量％以下の感光性化合物を含む水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体と、４重量％以上、６重量％以下の光重合開始剤と、０．０１重量％以上、０．０５重量％以下の重合禁止剤を備えるものを用い、隔壁１０９間にノズルから連続的に吐出させながら走査することで反射層を形成した後、十分に乾燥させ、その後、実施の形態１と同様の方法で蛍光体層を塗布した後、隔壁１０９の、ノズルの走査方向に対して交差する部分である補助隔壁１０９ａの頂部に形成された反射層および蛍光体層を、パターン露光、現像という、いわゆるフォトリソグラフィーによるパターニングで除去する。
【００７１】
反射材インキの塗布方法については、実施の形態１で述べた、蛍光体インキの塗布方法と同様である。ただし、形成した反射層１１０Ｚ、その上に形成する蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂとが混ざることがないように、反射層インキを塗布後、例えば１００℃から１２０℃で５分から３０分、十分に乾燥させた後、蛍光体インキを塗布することが必要である。
【００７２】
次に、反射材インキおよび反射材について説明する。
【００７３】
本実施の形態の場合、反射材インキと蛍光体インキのうち、少なくとも蛍光体インキが感光性インキであれば足りる。これは、反射層１１０Ｚと蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂとは、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂの方が露出した積層関係であるため、パターン露光の際の露光が、蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂの方に効果的に作用するためである。
【００７４】
そこで、反射材インキとして感光性を有するものを用いる場合には、実施の形態１における蛍光体インキと同様、感光性化合物を含む有機成分を必須成分とし、感光性化合物を含む有機成分としては、感光性ポリマー、感光性モノマー、感光性オリゴマーのうち、少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに、光重合開始剤、重合禁止剤を加えたものであり、感光性化合物を含む有機成分の量、感光性成分の種類、感光性モノマーの具体例、バインダーの具体例、光重合開始剤の具体例、光重合開始剤の添加量、重合禁止材、多価アルコール誘導体、可塑剤の種類および添加量、および粘度の値など、蛍光体インキの場合と同様である。
【００７５】
また、反射材インキとして非感光性のものを用いる場合には、例えば、平均粒径０．０５μｍから２μｍの白色顔料と、１重量％以上、２０重量％以下の水溶性樹脂成分と、２０重量％以上、４５重量％以下の水に対して可溶性を有する多価アルコール誘導体とを備えるものとすれば良い。
【００７６】
また、反射材インキに調合される反射材としての白色顔料は、酸化チタン、窒化バリウム、アルミナ、蛍光体の中から選ばれる少なくとも一つを用いることができる。
【００７７】
次に、補助隔壁１０９ａの頂部に形成された反射層および蛍光体層を除去する工程について説明する。これは、通常のいわゆるフォトリソグラフィーによるものであり、パターン露光、現像の各工程からなるものである。
【００７８】
以下の例では、先にも述べたように、少なくとも蛍光体インキが感光性インキであれば足りる。
【００７９】
まず、前述した方法で反射層インキを塗布し、１００℃から１２０℃で５分から３０分乾燥し、常温まで冷却する。続いて、実施の形態１で述べた方法で蛍光体インキを塗布し、１００℃から１２０℃で５分から３０分乾燥し、常温まで冷却した後、通常のフォトリフォグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いて露光する。ここで、フォトマスクは、蛍光体インキの感光性がネガタイプであるかポジタイプであるかに応じてマスクパターンを設計し、露光および現像により、補助隔壁１０９ａの頂部に形成された反射層および蛍光体層が除去されるようにする。露光装置としては、プロキシミティ露光、ミラープロジェクション露光、ステッパー露光や、レーザ光を用いた描画を利用することができる。そして露光後、現像液により現像を行う。この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法を用いることができる。また、ポリマー、溶剤を水に対して可溶性の材料を用いると、現像液として、純水や水を用いることができる。また、現像液の温度は、２０℃から５０℃で行うことが、工程管理上、望ましい。
【００８０】
以上のようにして作製した背面板と、実施の形態１と同様の方法で作製された前面板とを重ねあわせてＰＤＰを作製し、そのＰＤＰと駆動装置とを接続してプラズマディスプレイ表示装置を作製する工程については、実施の形態１と同様である。
【００８１】
以下に、本発明の効果を確認するために、実際にＰＤＰを作製して評価した結果を示す。
【００８２】
（実施例１）
反射層インキとして、白色顔料としては平均粒径０．２５μｍのルチル型酸化チタンを４５重量％、ポリマーとしては分子量３５万のヒドロキシプロピルセルロースを３．５重量％、感光性化合物として２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレートを１０重量％、溶剤として３−メトキシ−３−メチルブタノールを４１．５重量％となるように混合し、３本ローラで均一になるまで混練した。
【００８３】
蛍光体については、表１に示すように混合し、３本ローラで均一になるまで混練した。
【００８４】
【表１】

【００８５】
次に、高さ１２０μｍ、幅３０μｍの隔壁１０９および高さ８０μｍ、幅３０μｍの補助隔壁１０９ａが形成された背面ガラス基板の隔壁の間に反射材インキを図３に示す装置で塗布した後、１００℃で１５分乾燥し、室温まで冷却した。続いて、同様に、赤色蛍光体インキを図３に示す装置で塗布した後、１００℃で１５分乾燥し、室温まで冷却した。続いて、緑色蛍光体インキを図３に示す装置で塗布した後、１００℃で１０分乾燥し、室温まで冷却した。続いて、青色蛍光体インキを図３に示す装置で塗布した後、１００℃で１０分乾燥し、室温まで冷却した。
【００８６】
次に、フォトマスクを用いて、１２０ｍＪ／ｃｍ^２で露光し、４０℃の純水で現像することで、補助隔壁１０９ａの頂部を除く隔壁１０９間にストライプ状に赤、緑、青の蛍光体層１１０Ｒ、Ｇ、Ｂを下に反射層１１０Ｚを設けた状態で形成することができた。さらに、得られたガラス基板を５２０℃で２０分間焼成した。
【００８７】
以上のＰＤＰの製造工程においては、放電セル内の排気および放電ガスの封入が支障なく行われることが確認でき、作製されたＰＤＰは良好な画像表示特性を有することを確認した。
【００８８】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、隔壁の間に蛍光体インキをノズルから吐出して蛍光体層を形成する工程において、隔壁がノズルの走査方向と交差する部分を有するものであっても、その部分を除いて蛍光体層を形成することが可能となり、良好な画像表示を行えるＰＤＰの製造方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルの概略構造を示す断面斜視図
【図２】プラズマディスプレイパネルの駆動装置のブロック図
【図３】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造において用いるインキ塗布装置の概略構成を示す断面図
【図４】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルの一部断面図
【図５】従来のプラズマディスプレイパネルの一部を断面で示す斜視図
【図６】従来のプラズマディスプレイパネルにおける隔壁および補助隔壁の概略構成を示す斜視図
【符号の説明】
１００　ＰＤＰ
１０１　前面ガラス基板
１０３ａ　表示電極
１０３ｂ　表示スキャン電極
１０５　誘電体ガラス層
１０６　ＭｇＯ保護層
１０７　アドレス電極
１０８　誘電体ガラス層
１０９　隔壁
１０９ａ　補助隔壁
１１０Ｒ　蛍光体層（赤）
１１０Ｇ　蛍光体層（緑）
１１０Ｂ　蛍光体層（青）
１１０Ｚ　反射層
１１１　放電空間
１１２　放電セル[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a plasma display panel used for displaying an image on a television or the like.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, among color display devices used for image display such as computers and televisions, a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP) has attracted attention as a color display device that can be large, thin, and lightweight.
[0003]
FIG. 5 is a perspective view showing a part of the PDP in cross section.
[0004]
The PDP 100 includes a front plate having a plurality of display counter electrodes 104 including a display electrode 103a and a display scan electrode 103b on one main surface of a front glass substrate 101, an address electrode 107 on one main surface of a rear glass substrate 102, and a dielectric. The body glass layer 108, the partition wall 109, and the back plate on which the phosphor layers 110R, G, and B are provided are bonded together, and discharge gas is sealed in a discharge space 111 formed between the front plate and the back plate. The discharge cells 112 are formed, and the

phosphor layers

110R, 110G, and 110B are excited by ultraviolet rays generated by gas discharge in the discharge cells 112 to emit light, thereby displaying an image.
[0005]
As a method for forming the phosphor layers 110R, G, and B in the above-described configuration, it is necessary to apply the phosphor ink between the partition walls 109 by using a nozzle because of the necessity of accurately applying the ink in the concave shape between the partition walls 109. There is a method of forming by ejecting liquid (for example, Patent Document 1).
[0006]
Here, with respect to the PDP having the above-described structure, the demand for high definition is increasing, and in order to respond to this, it is necessary to narrow the arrangement pitch of the discharge cells 112. In the discharged discharge cells 112, the problem that an erroneous discharge occurs particularly between the discharge cells 112 adjacent in the longitudinal direction of the partition wall 109 (the Y direction in FIG. 5) was observed.
[0007]
Therefore, in order to suppress such a problem of erroneous discharge, there is a configuration in which an auxiliary partition wall 109a that further partitions the longitudinal direction of the partition wall 109 is provided as shown in, for example, FIG. . The auxiliary partition wall 109a physically separates the discharge cells 112 on all four sides, so that the occurrence of problems such as erroneous discharge can be suppressed for any of the discharge cells 112 adjacent to the upper, lower, left, and right sides.
[0008]
Here, if the auxiliary partition wall 109a and the partition wall 109 have the same height, the discharge space 111 of the discharge cell 112 becomes a closed space when the front plate and the rear plate are opposed to each other. In this case, the height of the auxiliary partition wall 109a is made lower than that of the partition wall 109 so as to function as a "vent".
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-11-96911
[Patent Document 2]
JP 2001-189135 A
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the phosphor layer is formed on the back plate having the partition walls 109 and the auxiliary partition walls 109a as shown in FIG. A phosphor layer will also be formed on the top.
[0011]
Here, the phosphor layer on the top of the auxiliary partition wall 109a narrows the portion of the “vent hole” formed by lowering the auxiliary partition wall 109a, and in the worst case, blocks the exhaust hole and discharge gas in the discharge cell 112. This may adversely affect the reliability of the PDP, such as disturbing the encapsulation and causing dust inside the PDP by dropping from the auxiliary partition wall 109a.
[0012]
The present invention has been made in view of the above problems, and in a process of forming a phosphor layer by discharging phosphor ink from a nozzle between partitions, the partition has a portion that intersects the scanning direction of the nozzle. Even if it is, an object of the present invention is to realize a method of manufacturing a PDP capable of displaying a good image by enabling a phosphor layer to be formed excluding that portion.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention forms a phosphor layer by discharging phosphor ink from a nozzle into a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partitions. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein the partition has a portion intersecting with a scanning direction of a nozzle, and the phosphor layer applied to the partition intersecting with the scanning direction of the nozzle is removed by photolithography. It has a process of performing.
[0014]
According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a plasma display panel, wherein a reflective layer is formed by discharging a reflective ink from a nozzle into a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partitions. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein a phosphor ink is ejected from a nozzle on the reflective layer to form a phosphor layer, wherein the partition has a portion intersecting with a scanning direction of the nozzle. In addition, the method includes a step of removing, by photolithography, the reflective layer and the phosphor layer applied to the partition wall at a portion intersecting with the scanning direction of the nozzle.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
That is, the invention according to claim 1 of the present invention is directed to a plasma display panel in which a phosphor layer is formed by discharging phosphor ink from a nozzle into a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partition walls. The manufacturing method, wherein the partition has a portion that intersects with a nozzle scanning direction, and has a step of removing the phosphor layer applied to the portion of the partition that intersects with the nozzle scanning direction by photolithography. It is a plasma display panel.
[0016]
Further, the invention according to claim 2 forms a reflection layer by discharging a reflection material ink from a nozzle in a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partition walls, and forming a reflection layer on the reflection layer. A method of manufacturing a plasma display panel in which a phosphor ink is discharged from a nozzle to form a phosphor layer, wherein the partition has a portion that intersects a scanning direction of the nozzle, and intersects a scanning direction of the nozzle. This is a method for manufacturing a plasma display panel, which includes a step of removing, by photolithography, a reflective layer and a phosphor layer applied to partial partition walls.
[0017]
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, at least the phosphor layer has photosensitivity.
[0018]
The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the phosphor ink is a phosphor powder having an average particle size of 0.5 μm to 7 μm and 1% by weight or more. , A water-soluble resin component containing 20% by weight or less of a photosensitive compound, 20% by weight or more and 45% by weight or less of a water-soluble polyhydric alcohol derivative, and 4% by weight or more and 6% by weight or less. It comprises a photopolymerization initiator and 0.01 to 0.05% by weight of a polymerization inhibitor.
[0019]
According to a fifth aspect of the present invention, in the second or third aspect of the present invention, the reflector ink comprises the white pigment having an average particle diameter of 0.05 μm to 2 μm and 1% by weight or more and 20% by weight. A water-soluble resin component containing the following photosensitive compound, a polyhydric alcohol derivative having a solubility in water of 20% by weight or more and 45% by weight or less, and a photopolymerization initiator of 4% by weight or more and 6% by weight or less And 0.01 to 0.05% by weight of a polymerization inhibitor.
[0020]
The invention according to claim 6 is the invention according to

claim

2 or 3, wherein the reflective ink is a white pigment having an average particle size of 0.05 μm to 2 μm, and 1% by weight or more and 20% by weight or less. And a polyhydric alcohol derivative having a solubility in water of 20% by weight or more and 45% by weight or less.
[0021]
The invention according to claim 7 is the invention according to claim 5 or 6, wherein the white pigment is at least one selected from titanium oxide, barium nitride, alumina oxide, and a phosphor. is there.
[0022]
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0023]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional perspective view showing a schematic structure of a PDP manufactured by a PDP manufacturing method according to an embodiment of the present invention. The same components as those of the conventional PDP shown in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals.
[0024]
The PDP 100 includes a front plate having a display counter electrode 104 including a display electrode 103a and a display scan electrode 103b, a dielectric glass layer 105, and an MgO protective layer 106 formed on one main surface of a front glass substrate 101; Address electrode 107, dielectric glass layer 108, partition wall 109, and auxiliary partition wall 109a as a part of the partition wall (whether partition wall 109 and auxiliary partition wall 109a are connected or independent, It does not matter which one is used), by bonding a back plate on which the phosphor layers 110R, G, and B are provided, and filling a discharge gas into a discharge space 111 formed between the front plate and the back plate. , Discharge cells 112 (unit light-emitting regions) are formed, and the phosphor layers 110R, 110G, and 110B are formed by ultraviolet rays generated by gas discharge in the discharge cells 112. By to cause to emit light, an image is displayed.
[0025]
Here, since the discharge cell 112 has a configuration in which four sides are physically partitioned by the partition wall 109 and the auxiliary partition wall 109a, even if it is necessary to narrow the pitch of the discharge cell 112 due to the high definition of the PDP, the discharge cell 112 can be moved vertically. The occurrence of problems such as erroneous discharge can be suppressed for the discharge cells 112 adjacent to either the left or right.
[0026]
Further, the auxiliary partition wall 109a has a height lower than that of the partition wall 109 so that the discharge space 111 of the discharge cell 112 does not become a closed space when the front plate and the rear plate are arranged opposite to each other, and has a top portion. Since the phosphor layers 110R, G, and B are not formed, a gap is formed between the front plate and the top of the auxiliary partition wall 109a, and the gap functions as a “vent”. And discharge gas can be sealed without any trouble.
[0027]
The PDP 100 having the above-described structure forms a plasma display device 160 by being connected to the plasma display panel driving device 150 shown in FIG.
[0028]
The plasma display panel driving device 150 includes a controller 151, a display driver circuit 152, a display scan driver circuit 153, and an address driver circuit 154. The display driver circuit 152 displays the display electrode 103a of the PDP 100, and the display scan driver circuit 153 displays the display of the PDP 100. The scan electrode 103 b and the address driver circuit 154 are connected to the address electrode 107 of the PDP 100, and are applied to the display scan electrode 103 b and the address electrode 107 of the discharge cell 112 to be lit according to the control of the controller 151, and between them. After the address discharge is performed, a sustain voltage is applied by applying a pulse voltage between the display electrode 103a and the display scan electrode 103b. Due to the sustain discharge, ultraviolet rays are generated in the discharge cells 112, and the phosphor layers 110R, G, and B excited by the ultraviolet rays emit light, thereby lighting the discharge cells 112, and turning on and off the respective color discharge cells 112. The image is displayed by the combination of.
[0029]
Next, a method of manufacturing the PDP shown in FIG. 1 will be described.
[0030]
First, on the front plate, first, N display electrodes 103a and display scan electrodes 103b are alternately and parallelly formed in stripes on the front glass substrate 101, and the upper surface is covered with a dielectric glass layer 105. It is manufactured by forming the MgO protective layer 106 on the surface of the dielectric glass layer.
[0031]
Here, the display electrode 103a and the display scan electrode 103b are electrodes made of silver, and are formed by applying a silver paste for an electrode by screen printing and baking.
[0032]
The dielectric glass layer 105 is formed by applying a paste containing a lead-based glass material by screen printing, and then baking the paste at a predetermined temperature and a predetermined time (for example, at 560 ° C. for 20 minutes) to obtain a predetermined thickness (approximately 20 μm). Examples of the paste containing the lead-based glass material include PbO (70 wt%), B ₂ O ₃ (15 wt%), SiO ₂ (10 wt%), and Al ₂ O ₃ A mixture of (5% by weight) and an organic binder (10% ethyl cellulose dissolved in α-terpineol) is used. Here, the organic binder is obtained by dissolving a resin in an organic solvent. In addition to ethyl cellulose, an acrylic resin can be used as a resin, and butyl carbitol can be used as an organic solvent. Further, a dispersant (for example, glycerol trioleate) may be mixed in such an organic binder.
[0033]
The MgO protective layer 106 is made of magnesium oxide (MgO), and is formed by, for example, a sputtering method or a CVD method (chemical vapor deposition method) so that the layer has a predetermined thickness (about 0.5 μm).
[0034]
Next, on the rear plate, first, each of M address electrodes 107 is formed in a stripe shape on the rear glass substrate 102, and the upper surface thereof is covered with a dielectric glass layer 108. Partition walls 109 are formed in a stripe shape, and auxiliary partition walls 109a, which are parts of the partition walls 109, are formed between the partition walls 109. The phosphor layers 110R, G, and B are formed in the discharge cells 112 separated by the partition walls 109 and the auxiliary partition walls 109a. It is produced by forming.
[0035]
Here, the address electrodes 107 are formed by screen-printing a silver paste and then firing.
[0036]
Further, the dielectric glass layer 108 is formed by applying a paste containing a lead-based glass material by a screen printing method and then firing the paste.
[0037]
Similarly to the dielectric glass layer 108, the partition wall 109 and the auxiliary partition wall 109a as a part of the partition wall 109 are repeatedly coated with a paste containing a lead-based glass material at a predetermined pitch by a screen printing method and then baked. It forms by doing. By making the number of repetitions of application for forming the auxiliary partition 109a smaller than the number of repetitions of application for forming the partition 109, the height of the auxiliary partition 109a is formed to be lower than that of the partition 109. As a result, the discharge space 111 is divided into discharge cells 112 which are divided on four sides by the partition walls 109 and the auxiliary partition walls 109a.
[0038]
The phosphor layers 110R, 110G, and 110B are, for example, a phosphor ink having an average particle diameter of 0.5 μm to 7 μm and a water solution containing 1% by weight or more and 20% by weight or less of a photosensitive compound. Water-soluble polyhydric alcohol derivative having a solubility in water of 20% by weight or more and 45% by weight or less, a photopolymerization initiator of 4% by weight or more and 6% by weight or less, 0.01% by weight or more , 0.05% by weight or less of a polymerization inhibitor, and a phosphor layer is formed by scanning while continuously discharging from a nozzle between the partition walls 109, and then intersects the scanning direction of the nozzle. The phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition 109a, which is a part of the partition 109, is formed by removing by patterning by so-called photolithography called pattern exposure and development. That is, a mask pattern is designed according to whether the photosensitivity of the phosphor ink is a negative type or a positive type, and the phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition wall 109a is removed by pattern exposure and development. Accordingly, even if the phosphor ink is continuously discharged and applied between the partition walls 109, the phosphor ink is not applied to the tops of the auxiliary partition walls 109a. As a result, it is possible to reliably secure the portion of the “vent” formed.
[0039]
Here, it is desirable that the thickness of the phosphor layers 110R, 110G, 110B on the address electrode 107 in the laminating direction is formed to be about 8 to 25 times the average particle diameter of the phosphor particles of each color. In other words, in order to secure the luminance (luminous efficiency) when the phosphor layer is irradiated with a certain amount of ultraviolet rays, the phosphor layer absorbs the ultraviolet rays generated in the discharge space without transmitting the phosphor layers, so that the phosphor particles have a minimum particle diameter. However, it is desirable to maintain a thickness of about 8 layers, preferably about 20 layers. If the thickness is more than 8 layers, the luminous efficiency of the phosphor layer is almost saturated and exceeds the thickness of about 20 layers. This is because the size of the discharge space 111 cannot be sufficiently secured.
[0040]
Here, a method of applying the above-described phosphor ink will be described.
[0041]
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration diagram of an ink coating device 200 used when forming the phosphor layers 110R, G, B, and the like. As shown in FIG. 3, the ink application device 200 includes a server 210, a pressure pump 220, a header 230, and the like. The phosphor ink supplied from the server 210 that stores the phosphor ink is supplied to the header 230 by the pressure pump 220. Is supplied under pressure. The header 230 is provided with an ink chamber 230a and a nozzle 240, and the phosphor ink that is pressurized and supplied to the ink chamber 230a is continuously discharged from the nozzle 240. The diameter D of the nozzle 240 is 30 μm or more for preventing clogging of the nozzle, and the interval W between the partition walls 109 (130 μm to 240 μm for a 32-inch to 50-inch HD-TV) to prevent the nozzle 240 from protruding from the partition wall during coating. Degree) or less, and is usually set to 30 μm to 130 μm.
[0042]
The header 230 is configured to be driven linearly by a header scanning mechanism (not shown), and scans the header 230 (in FIG. 3, in a direction perpendicular to the plane of FIG. 3), and continuously emits the phosphor ink 250 from the nozzle 240. By uniformly discharging, the phosphor ink is uniformly applied to the concave portions between the partition walls 109 on the rear glass substrate 102. Here, it is preferable that the viscosity of the phosphor ink used is kept in the range of 1500 to 50,000 CP at 25 ° C.
[0043]
The server 210 is provided with a stirring device (not shown), and the stirring prevents precipitation of particles in the phosphor ink.
[0044]
Further, the header 230 of the coating apparatus is integrally formed including the ink chamber 230a and the nozzle 240, and is manufactured by subjecting a metal material to machine processing and electric discharge machining.
[0045]
Next, the phosphor ink and the phosphor will be described.
[0046]
The above-described phosphor ink contains an organic component containing a photosensitive compound as an essential component. As the organic component containing the photosensitive compound, a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, and a photosensitive oligomer, the photosensitive component is selected from at least one kind, and further, a photopolymerization initiator and a polymerization inhibitor are added. Points to something.
[0047]
Here, the amount of the organic component containing the photosensitive compound is desirably 10 to 40% by weight. If the amount is less than 10% by weight, the pattern property is deteriorated due to insufficient photosensitivity. If the amount is more than 40% by weight, the patterning property is deteriorated due to overexposure and the binder removal property during firing is deteriorated.
[0048]
As the photosensitive component, there are a photo-insolubilized type and a photo-solubilized type, and in the present invention, either type can be used. What is necessary is just to make the patterning mask corresponding to it.
[0049]
Further, as photosensitive monomers that can be actually used, ethyl acrylate, methyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, n-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, benzyl acrylate, Cyclohexyl acrylate, glycerol acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, triglycerol diacrylate, acrylamide, polypropylene glycol diacrylate, phenoxyethyl acrylate, Acrylamide, trifluoroethyl acrylate and the like can be mentioned. In the present invention, one or more of these can be used.
[0050]
Further, as the binder, any one or more of hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl ether, and carboxymethyl cellulose having an average molecular weight of 30,000 to 900,000 can be used.
[0051]
Examples of the photopolymerization initiator include 4,4-dichlorobezophenone, thioxanthone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, 2,2-dimethyl-2-phenylacetophenone, quinoline sulfonyl Chloride can be used. In the present invention, one or more of these can be used.
[0052]
The addition amount of the photopolymerization initiator is set at 50% by weight to 80% by weight, more preferably at 60% by weight to 70% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the photopolymerization initiator is too small, the sensitivity becomes low, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the pattern property may be deteriorated.
[0053]
In general, a polymerization inhibitor is added to photosensitive ink to improve the pot life. For example, quinoline dyes such as methylhydroquinone, azo dyes, and aminoketone dyes are effective.
[0054]
Further, in the present invention, when it is desired to adjust the viscosity of the phosphor ink, as the polyhydric alcohol derivative that is freely mixed with water, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, One or more of ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxy-3-methylbutanol can be used.
[0055]
In addition, in order to uniformly adhere the phosphor ink to the bottom and side walls of the partition, the ink needs to have fluidity, and the addition of a plasticizer is effective. As the plasticizer, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, octyl decyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate One or more of these can be used.
[0056]
The amount of the plasticizer added is set to 0.1% by weight or more and 3% by weight or less based on the total amount of the ink. If the amount of the plasticizer is less than 0.1% by weight, no fluidity improving effect can be obtained. On the other hand, if the addition amount exceeds 3% by weight, the dispersion state of the particles and the binder or the acrylate deteriorates, and aggregation occurs.
[0057]
The phosphor ink is a mixture of phosphor particles of each color, a binder, a photosensitive compound, and a solvent, and is prepared to have a viscosity of 1500 to 50,000 centipoise (CP). If necessary, a plasticizer or the like may be used. May be added.
[0058]
As the red phosphor prepared in this phosphor ink, (Y, Gd) _1-X BO ₃ : Eu _X Or Y _2-X O ₃ : Eu _X The compound represented by is used. These are compounds in which a part of the Y element constituting the base material is replaced by Eu. Here, the substitution amount X of the Eu element with respect to the Y element is preferably in a range of 0.05 ≦ X ≦ 0.20. If the substitution amount is larger than this, it is considered that the luminance becomes high but the luminance is significantly deteriorated, so that it becomes practically difficult to use. On the other hand, if the amount is less than this substitution amount, the composition ratio of Eu, which is the emission center, decreases, the luminance decreases, and the phosphor cannot be used as a phosphor.
[0059]
As a green phosphor, the surface is positively charged (Zn _1-X , Mn _X ) 2SiO ₄ The compound represented by is used. (Zn _1-X , Mn _X ) 2SiO ₄ Is a compound in which part of the Zn element constituting the base material is replaced by Mn. Here, the substitution amount X of the Mn element with respect to the Zn element is preferably in a range of 0.01 ≦ X ≦ 0.20.
[0060]
As a blue phosphor, Ba _1-X MgAl ₁₀ O ₁₇ : Eu _X Or Ba _1-XY Sr _Y MgAl ₁₀ O ₁₇ : Eu _X The compound represented by is used. Ba _1-X MgAl ₁₀ O ₁₇ : Eu _X , Ba _1-XY Sr _Y MgAl ₁₀ O ₁₇ : Eu _X Is a compound in which a part of the Ba element constituting the base material is replaced by Eu or Sr. Here, the replacement amount X of the Eu element with respect to the Ba element is in the range of 0.03 ≦ X ≦ 0.20 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.5 for the former blue phosphor for the same reason as described above. Is preferred.
[0061]
The phosphor inks of the respective colors are prepared by mixing and dispersing them using a three-roller or a kneader until they become uniform.
[0062]
Next, a step of removing the phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition wall 109a will be described. This is based on ordinary so-called photolithography, and includes pattern exposure and development steps.
[0063]
First, a phosphor ink is applied by the above-described method, dried at 100 ° C. to 120 ° C. for 5 to 30 minutes, cooled to room temperature, and then exposed using a photomask as in the usual photolithography. . Here, for the photomask, a mask pattern is designed according to whether the photosensitivity of the phosphor ink is negative or positive, and the phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition wall 109a is removed by exposure and development. To be done. As the exposure apparatus, proximity exposure, mirror projection exposure, stepper exposure, or drawing using laser light can be used. After exposure, development is performed with a developer. In this case, an immersion method, a spray method, or a brush method can be used. When a polymer and a solvent are soluble in water, pure water or water can be used as a developer. The temperature of the developing solution is preferably from 20 ° C. to 50 ° C. from the viewpoint of process control.
[0064]
Next, as described above, the phosphor layers 110R, 110G, and 110B formed in the regions between the partition walls 109 except for the tops of the auxiliary partition walls 109a are fired. This firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of ink or substrate, but firing in air is desirable. The firing temperature is 400 to 580 ° C. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type firing furnace can be used.
[0065]
In addition, a heating step from 200 ° C. to 380 ° C. is provided during the firing step, so that a preliminary reaction such as thermal decomposition can be promoted.
[0066]
The front plate and the back plate manufactured as described above are overlapped so that each electrode of the front plate and the address electrode of the back plate are orthogonal to each other, and a sealing glass is inserted around the panel periphery, and this is inserted into, for example, 450. It seals by baking at about 10 degreeC for about 10 to 20 minutes to form an airtight seal layer (so-called sealing step). Then, a high vacuum (for example, 1.1 × 10 ^-4 After evacuation (Pa), a discharge gas (for example, a He-Xe-based or Ne-Xe-based inert gas) is sealed at a predetermined pressure to complete the PDP 100.
[0067]
(Embodiment 2)
Next, a method of manufacturing a PDP according to another embodiment of the present invention will be described. The difference between the present embodiment and the first embodiment is that, as shown in a partial cross-sectional view of the PDP in FIG. 4, the reflection between the dielectric glass layer 108 and the phosphor layers 110R, G, and B on the back plate. The step of forming the layer 110Z is added.
[0068]
Here, the effect of forming the reflection layer 110Z under the phosphor layers 110R, G, and B will be described. The phosphor particles have a function of emitting visible light when excited by ultraviolet rays and a function of reflecting the visible light. Therefore, as the number of phosphor layers stacked increases, it becomes possible to use visible light that has proceeded to the back surface of the back plate for the panel, and the luminance is improved.
[0069]
However, since the average particle diameter of the phosphor is close to 2 μm, the number of layers to be laminated cannot be increased. Therefore, by providing the reflection layer 110Z on the back surface of the phosphor layers 110R, 110G, and 110B, visible light can be effectively extracted.
[0070]
Here, for example, the reflective layer 110Z includes, as a reflective ink, a white pigment having an average particle size of 0.05 μm to 2 μm, a water-soluble resin component containing a photosensitive compound of 1% by weight or more and 20% by weight or less, By weight of a polyhydric alcohol derivative having a solubility in water of not less than 45% by weight, not less than 4% by weight and not more than 6% by weight, and not less than 0.01% by weight and not more than 0.05% by weight. After forming a reflective layer by scanning while continuously discharging from a nozzle between the partition walls 109 using the one provided with the following polymerization inhibitor, the reflective layer is sufficiently dried, and then, in the same manner as in Embodiment 1, After the phosphor layer is applied, the reflective layer and the phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition 109a, which is the portion of the partition 109 that intersects the scanning direction of the nozzle, are subjected to pattern exposure and development, so-called photolithography. It is removed by patterning by lithography.
[0071]
The method for applying the reflector ink is the same as the method for applying the phosphor ink described in the first embodiment. However, after the reflective layer ink is applied, the reflective layer 110Z is sufficiently coated at, for example, 100 to 120 ° C. for 5 to 30 minutes so that the formed reflective layer 110Z and the phosphor layers 110R, G, and B formed thereon are not mixed. After drying, it is necessary to apply a phosphor ink.
[0072]
Next, the reflection material ink and the reflection material will be described.
[0073]
In the case of the present embodiment, it is sufficient that at least the phosphor ink is a photosensitive ink among the reflector ink and the phosphor ink. This is because the reflective layer 110Z and the phosphor layers 110R, G, and B have a layered relationship in which the phosphor layers 110R, G, and B are exposed, so that the exposure at the time of pattern exposure is performed by the phosphor layer 110R, This is to effectively act on G and B.
[0074]
Therefore, when a photosensitive ink is used as the reflector ink, an organic component containing a photosensitive compound is an essential component, as in the phosphor ink in Embodiment 1, and the organic component containing the photosensitive compound is: It contains a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, and a photosensitive oligomer, and further includes a photopolymerization initiator and a polymerization inhibitor. Component amount, type of photosensitive component, specific example of photosensitive monomer, specific example of binder, specific example of photopolymerization initiator, addition amount of photopolymerization initiator, polymerization inhibitor, polyhydric alcohol derivative, plasticizer The kind, addition amount, viscosity value, and the like are the same as those of the phosphor ink.
[0075]
When a non-photosensitive ink is used as the reflector ink, for example, a white pigment having an average particle size of 0.05 μm to 2 μm, a water-soluble resin component of 1% by weight or more and 20% by weight or less, % To 45% by weight of a polyhydric alcohol derivative having solubility in water.
[0076]
In addition, as the white pigment as a reflector prepared in the reflector ink, at least one selected from titanium oxide, barium nitride, alumina, and a phosphor can be used.
[0077]
Next, a step of removing the reflection layer and the phosphor layer formed on the top of the auxiliary partition wall 109a will be described. This is based on ordinary so-called photolithography, and includes pattern exposure and development steps.
[0078]
In the following example, as described above, it is sufficient that at least the phosphor ink is a photosensitive ink.
[0079]
First, the reflective layer ink is applied by the method described above, dried at 100 to 120 ° C. for 5 to 30 minutes, and cooled to room temperature. Subsequently, the phosphor ink is applied by the method described in Embodiment 1, dried at 100 ° C. to 120 ° C. for 5 minutes to 30 minutes, cooled to room temperature, and then subjected to photolithography as in usual photolithography. Exposure is performed using a mask. Here, the photomask is designed such that a mask pattern is designed according to whether the sensitivity of the phosphor ink is a negative type or a positive type, and the reflection layer and the phosphor formed on the top of the auxiliary partition wall 109a by exposure and development. Allow the layer to be removed. As an exposure apparatus, proximity exposure, mirror projection exposure, stepper exposure, or drawing using laser light can be used. After exposure, development is performed with a developer. In this case, an immersion method, a spray method, or a brush method can be used. When a polymer and a solvent are soluble in water, pure water or water can be used as a developer. The temperature of the developing solution is preferably from 20 ° C. to 50 ° C. from the viewpoint of process control.
[0080]
A back panel manufactured as described above and a front panel manufactured by the same method as in Embodiment 1 are overlapped to manufacture a PDP, and the PDP and a driving device are connected to form a plasma display device. The manufacturing process is the same as in the first embodiment.
[0081]
Hereinafter, in order to confirm the effects of the present invention, results of actually producing and evaluating a PDP are shown.
[0082]
(Example 1)
As a reflective layer ink, 45% by weight of rutile type titanium oxide having an average particle size of 0.25 μm as a white pigment, 3.5% by weight of hydroxypropyl cellulose having a molecular weight of 350,000 as a polymer, and 2-hydroxy- as a photosensitive compound. 10% by weight of 3-phenoxypropyl acrylate and 41.5% by weight of 3-methoxy-3-methylbutanol as a solvent were mixed and kneaded with three rollers until uniform.
[0083]
The phosphors were mixed as shown in Table 1 and kneaded with three rollers until uniform.
[0084]
[Table 1]

[0085]
Next, a reflector ink is applied by a device shown in FIG. 3 between the partition walls of the rear glass substrate on which the partition walls 109 having a height of 120 μm and a width of 30 μm and the auxiliary partition walls 109 a having a height of 80 μm and a width of 30 μm are formed. Dry at 15 ° C. for 15 minutes and cool to room temperature. Subsequently, similarly, the red phosphor ink was applied by the apparatus shown in FIG. 3, dried at 100 ° C. for 15 minutes, and cooled to room temperature. Subsequently, the green phosphor ink was applied by the apparatus shown in FIG. 3, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. Subsequently, the blue phosphor ink was applied by the apparatus shown in FIG. 3, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature.
[0086]
Next, using a photomask, 120 mJ / cm ² And developing with pure water at 40 ° C., the red, green, and blue phosphor layers 110R, G, and B are formed in a stripe pattern between the partition walls 109 except for the top of the auxiliary partition wall 109a. It could be formed in the state provided. Further, the obtained glass substrate was baked at 520 ° C. for 20 minutes.
[0087]
In the PDP manufacturing process described above, it was confirmed that the discharge in the discharge cell and the filling of the discharge gas were performed without any trouble, and it was confirmed that the produced PDP had good image display characteristics.
[0088]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, in the step of discharging the phosphor ink from the nozzle between the partition walls to form the phosphor layer, the partition wall may have a portion that intersects the scanning direction of the nozzle. It is possible to form a phosphor layer excluding that portion, and it is possible to realize a method of manufacturing a PDP capable of displaying an excellent image.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a sectional perspective view showing a schematic structure of a plasma display panel manufactured by a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram of a driving device of the plasma display panel.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an ink application device used in manufacturing a plasma display panel according to one embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a plasma display panel manufactured by the method for manufacturing a plasma display panel according to one embodiment of the present invention;
FIG. 5 is a perspective view showing a cross section of a part of a conventional plasma display panel.
FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of a partition and an auxiliary partition in a conventional plasma display panel.
[Explanation of symbols]
100 PDP
101 Front glass substrate
103a Display electrode
103b display scan electrode
105 dielectric glass layer
106 MgO protective layer
107 address electrode
108 dielectric glass layer
109 Partition
109a auxiliary partition
110R phosphor layer (red)
110G phosphor layer (green)
110B phosphor layer (blue)
110Z reflective layer
111 discharge space
112 discharge cell

Claims

A method for manufacturing a plasma display panel in which a phosphor layer is formed by discharging a phosphor ink from a nozzle in a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partitions, wherein the partition is arranged in a scanning direction of the nozzle. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: a step of removing, by photolithography, a phosphor layer applied to a partition wall at a portion that intersects with a scanning direction of a nozzle.

In a discharge cell formed by dividing a discharge space by a plurality of partition walls, a reflective material ink is discharged from a nozzle to form a reflective layer, and a phosphor ink is discharged from the nozzle on the reflective layer to form a fluorescent material. A method for manufacturing a plasma display panel for forming a layer, wherein the partition has a portion intersecting with a scanning direction of a nozzle, and a reflection layer and a fluorescent material applied to the partition at a portion intersecting with the scanning direction of a nozzle. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising a step of removing a body layer by photolithography.

3. The method according to claim 2, wherein at least the phosphor layer has photosensitivity.

The phosphor ink is a phosphor powder having an average particle diameter of 0.5 μm to 7 μm, a water-soluble resin component containing 1% by weight or more and 20% by weight or less of a photosensitive compound, and 20% by weight or more and 45% by weight. The following polyhydric alcohol derivative having solubility in water, 4 to 6% by weight of a photopolymerization initiator, and 0.01 to 0.05% by weight of a polymerization inhibitor are provided. A method for manufacturing a plasma display panel according to claim 1.

The reflective ink is a white pigment having an average particle size of 0.05 μm to 2 μm, a water-soluble resin component containing 1% by weight or more and 20% by weight or less of a photosensitive compound, and 20% by weight or more and 45% by weight or less. A polyhydric alcohol derivative having solubility in water, a photoinitiator of 4% by weight or more and 6% by weight or less, and a polymerization inhibitor of 0.01% by weight or more and 0.05% by weight or less. 4. The method for manufacturing a plasma display panel according to 2 or 3.

The reflector ink is a white pigment having an average particle size of 0.05 μm to 2 μm, a water-soluble resin component of 1% by weight or more and 20% by weight or less, and soluble in water of 20% by weight or more and 45% by weight or less. The method for producing a plasma display panel according to claim 2, further comprising a polyhydric alcohol derivative having the following formula:

The reflective layer ink according to claim 5, wherein the white pigment is at least one selected from titanium oxide, barium nitride, alumina oxide, and a phosphor.