【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は蛍光体を表示媒体としたディスプレイにおいて、その製造工程において使用される蛍光体転写フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
蛍光体を表示媒体としたディスプレイは、陰極線管（ＣＲＴ）を代表として、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などがある。これらのディスプレイは蛍光体の自発光色によりカラー表示が行われる方式であるため、各方式に適合した蛍光体が選択され使用されているが、蛍光体画素のパターン精度や蛍光体密度などの画素状態が表示性能、品質に大きく影響する。また蛍光体画素の形成方法がディスプレイ価格に影響するため、製造方法も重要である。
【０００３】
蛍光体層の形成方法については、ＣＲＴの場合、特開昭６３−２７９５３９号、特開平６―８９６６０号、特開平１０−２７３６５３号などの公報に開示されているようにポリビニルアルコール―重クロム酸アンモニウム（ＰＶＡ―ＡＤＣ）系感光剤、あるいはポリビニルアルコール―重クロム酸ナトリウム（ＰＶＡ―ＳＤＣ）系感光剤に赤、緑、青に発光する各色発光の蛍光体を分散させて作製したスラリーを一種類づつ直接ガラス基板上に全面塗布し、乾燥後パターニング（露光・現像・乾燥）を繰り返すことにより蛍光体画素を形成している。またＰＤＰ、ＦＥＤの場合では、ポリビニルアルコールやアクリル系樹脂などに赤、緑、青に発光する各色蛍光体を分散させたペーストをそれぞれスクリーン印刷により付与して蛍光体画素を形成している。
【０００４】
蛍光体スラリーを使用する場合、特開平１０−２７３６５３号公報に開示されているように品質的に他色画素上への蛍光体残り（地汚れ）が発生することがあり大きな問題となる。これは地汚れ部の画素を発光させた場合に、地汚れした他色蛍光体も同時に発光するため、その画素は混色で発光する（色純度が低下）。その結果、蛍光面に形成される画像に色滲み等を引き起こし、クリアな画像が得られない。
蛍光体ペーストを使用するスクリーン印刷法では、印刷精度（位置精度、形状精度、膜厚精度）が悪く、蛍光体画素厚みの不均一性や、他色画素への蛍光体ペーストによる汚染で発色特性が悪化するという大きな問題がある。
【０００５】
蛍光体を使用したディスプレイの蛍光面の作製方法は、上述のような蛍光体スラリーを使用するスラリー法や蛍光体ペーストを使用するスクリーン印刷法が一般的に使用されている。これら蛍光面の製造工程においては、他色画素の汚染以外にも画素エッヂの直線性の悪化、欠けの発生、そしてゴミ、異物の混入による欠陥が発生する問題がある。
【０００６】
さらにＣＲＴの蛍光体塗布は、特開平５―１０１７７５号公報に開示されているようにスラリーをパネルガラス内に注入した後、回転塗布を行うため塗布厚を均一にすることが難しく、被着体毎で、または画素毎においても蛍光体塗布厚が不均一になりやすい。そのため連続生産において蛍光体塗布厚のバラツキが直接ディスプレイ画像の品質を悪化させる原因になっていた。
またスラリー法では製造装置自体が大型で高価であるばかりでなく、製造工程が非常に繁雑になってしまうため、製造コストが高くなるという問題を抱えている。
【０００７】
これらの問題を解決する方法として、それぞれのディスプレイの特性、蛍光体の特性に合わせて、最適厚で付与した蛍光体転写フィルムを使用する方法（転写法）が特開２００１−４３７９６号及び特開２００１−２０２８８４号の各公報に提案されている。転写法ではプラスチックフィルムなどの支持体上に予め均一膜厚の蛍光体層を形成することができるのでスラリー法の課題であった蛍光体塗布厚のバラツキを防止し、かつスラリー塗布のための装置に代わって小型の転写装置を使用することにより工程の簡略化、蛍光面の性能向上、そして低製造コスト化が達成できる。
【０００８】
蛍光体を使用したカラーディスプレイを転写法で製造する場合に使用される蛍光体転写フィルムは、例えば、感光性接着層と感光性蛍光体層を支持体とカバーフィルムの間に有し、かつ該感光性蛍光体層と該支持体の間にクッション層を設けた構成である。構成中のクッション層の機能は被着体となるガラスなどへの感光性接着層及び感光性蛍光体層の転写を補助する働きを持っている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、蛍光体転写フィルムを使用する場合、該フィルム上に予め設けた蛍光体層と接着層をガラスなどの被着体上に接着後、支持体を剥離除去する工程を含む。このときの剥離によって被着体や転写した蛍光体層に静電荷が蓄積し、周囲の異物や埃、ゴミなどを引き込んで画素の欠陥や抜けなどの弊害が起こしやすいという問題があった。また、前記のようにクッション層を設けた構成とした場合、軟らかい樹脂を支持体上にコーティング後に巻き取ると支持体の裏面に貼り付きやすいというブロッキングの問題がある。クッション層と反対側の支持体面にシリコン樹脂など離型性の良いコーティング層を設ければクッション層とのブロッキングを防止することは可能であるが、それらのコーティング層には帯電防止性がないので、依然剥離帯電による弊害を抑制できない。
本発明は、転写フィルムを被着体に接着後、支持体を剥離して感光性蛍光体層及び感光性接着層を転写する際に発生する剥離帯電を防止すると共に、支持体とクッション層とのブロッキングを防止することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはかかる課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、電子伝導型帯電防止剤である例えば酸化錫微粒子をポリエステル樹脂、またはアクリル樹脂で分散させた分散液を用いて蛍光体転写フィルムに帯電防止層を設けると、表面抵抗値が低く、被着体がガラスであっても接触帯電や剥離帯電による静電荷を効率よく散逸できること、及び帯電防止層を予め支持体に設けた後に、クッション層をコーティングで付与すると、コーティング後に巻き取ってもクッション層と支持体の貼り付きが顕著に軽減し、ブロッキングを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明の蛍光体転写フィルムは、少なくとも１層の感光性接着層と感光性蛍光体層を支持体とカバーフィルムとの間に有し、かつ該感光性蛍光体層と該支持体との間に熱可塑性樹脂からなるクッション層を設け、さらに、少なくとも、該感光性蛍光体層とは反対側の支持体面に電子伝導型の帯電防止剤を含有する帯電防止層を設ける。
上記電子伝導型の帯電防止剤としては、例えば酸化錫分散体が挙げられる。
上記帯電防止層を構成する酸化錫分散体は、酸化錫微粒子がポリエステル樹脂またはアクリル樹脂で分散されていることが好ましい。
このような帯電防止層が設けられた支持体面の表面抵抗値は１×１０９Ω／□より低く、良好な帯電防止性能を有する。
上記帯電防止層は、０．１〜２．０μｍの厚みで設けることで十分な効果を発揮できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
蛍光体を使用したカラーディスプレイを転写法で製造する場合に使用される本発明の蛍光体転写フィルムは、例えば、図１に示すような構成を有している。即ち、感光性接着層３と感光性蛍光体層４を支持体６とカバーフィルム２との間に有し、かつ該感光性蛍光体層４と該支持体６との間にクッション層５を設けた構成である。このクッション層５は、被着体となるガラスなどへの感光性接着層３及び感光性蛍光体層４の転写を補助する働きを持っている。さらに該感光性蛍光体層４及び該感光性接着層３とはそれぞれ反対側の支持体６面及びカバーフィルム２面には、酸化錫分散体で構成される帯電防止層１，７を設けている。
【００１３】
以下に図１に示される各層について説明する。
【００１４】
２のカバーフィルムは従来公知のプラスチックフィルムが利用できる。例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、トリアセテート等があげられる。特に機械強度に強く、熱安定性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、または安価で離型性に優れたポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）が好ましい。カバーフィルムの厚さは特に制限はないが、７５μｍ厚以下が好ましい。これは転写フィルムの製品形態、つまりロール状製品に仕上げる時、カバーフィルムが７５μｍを越える厚さのフィルムの場合では転写フィルムの剛度が高くなるため、ロール仕上げや既定幅へのスリット作業でカバーフィルムと感光性接着層の間に空気が入るようなカバーフィルムのウキが発生したり、単位長さあたりの製品重量が重くなり長尺巻き取り製品を製造しにくい、製造コストが高くなるなどの弊害が予想されるためである。
【００１５】
また、カバーフィルムの基材と感光性接着層との剥離性をより安定させるには離型層を設けることが好ましい。離型層に用いる樹脂としては、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、あるいはこれらとの共重合物、混合物等が挙げられる。離型層の塗工厚は特に限定されるものではないが、０．５〜５．０μｍの塗工厚が好ましい。
ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）などのように剥離性を有する基材を使用する場合には離型層を付与する必要はない。
【００１６】
３の感光性接着層は粘着剤、あるいはヒートシール剤と称される部類に属する一般的な樹脂、及び／又はこれらの樹脂に水溶性感光性樹脂を併用したものである。
粘着剤としては一般に公知であるエマルジョン型、溶剤型、及びホットメルト型の各粘着剤、及び水溶性タイプやＵＶ架橋タイプなどを使用することができる。ヒートシール剤も一般に公知のエマルジョン型や溶剤型の樹脂を使用することができる。
本発明に適した感光性接着層を形成するためには、感光性接着層に含まれる少なくとも１つ以上の樹脂成分のガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下であることが好ましい。
また感光性樹脂については、一般に公知な材料系が使用でき、配合比も材料の性能に応じて任意に決めることができる。感光性接着層は活性光線への暴露がなければ容易に水に溶解させることができる組成である。
【００１７】
４の感光性蛍光体層に用いられる蛍光体はディスプレイの種類によって異なるが、ＣＲＴ用の蛍光体としては、青色発光蛍光体としては銀および塩素付活硫化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ ／ ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｌ）、銀およびアルミニウム付活硫化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ）が、緑色発色蛍光体としては銅およびアルミニウム付活硫化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ）、銅、金およびアルミニウム付活硫化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｕ，Ａｌ）、マンガン付活珪酸亜鉛蛍光体（Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ）が、赤色発色蛍光体としてはユーロピウム及びサマリウム付活酸硫化イットリウム蛍光体（Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ ／ Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ）マンガン付活燐酸亜鉛蛍光体（Ｚｎ３（ＰＯ４）２：Ｍｎ）等を使用することができる。
また、ＰＤＰ用の蛍光体として、青色発光蛍光体としてはＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２３：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ、緑色発光蛍光体としてはＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、（Ｂａ，Ｓｒ，Ｍｇ）Ｏ・ａＡｌ２Ｏ３：Ｍｎ、赤色発光蛍光体としては（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ等を使用することができる。
さらに、ＦＥＤ用の蛍光体として、ＺｎＧａ２Ｏ４、ＳｒＴｉＯ３：Ｐｒ等を使用することができる。
【００１８】
感光性接着層及び感光性蛍光体層に使用される感光性樹脂は、紫外線又は可視光等で露光した前後で水に対する溶解度が変化する樹脂であれば何を用いても良い。非感光性水溶性樹脂に感光剤を混合しても良いし、樹脂分子中に感光性の官能基が存在してもかまわない。
【００１９】
水溶性感光性樹脂は一般に知られているものを使用することができる。特にスチルバゾリウム基、及びスチルキノリニウム基、または５−（４−アジド−２−スルホベンジリデン）−３−（４，４’−ジメトキシブチル）ローダニンナトリウム塩のようなアジド基含有官能基から選ばれた少なくとも１種を感光性成分付加基とした変成ポりビニルアルコールが好ましい。特に水溶性感光性樹脂として５−（４−アジド−２−スルホベンジリデン）−３−（４，４’−ジメトキシブチル）ローダニンナトリウム塩を付加させた変成ポリビニルアルコールが好ましく、さらにポリビニルピロリドンを併用すると形成される蛍光体画素のエッジがシャープになるのでさらに良い。
【００２０】
なお、感光性蛍光体層の組成に合わせて感光性接着層の材料を選定する必要がある。つまり、感光性接着層は被着体への接着性は当然有しながら、感光性蛍光体層との密着性が良く、該蛍光体層及び該接着層への露光、現像によるパターン形成時に非画像部に残渣が発生しない材料が好ましい。また、塗工厚は材料によって最適化が必要であるが、ディスプレイの製造においては該感光性接着層の厚みは０．５〜３μｍが好ましく、塗工厚みが０．５μｍより薄い場合、被着体への接着性が低下するため感光性蛍光体層の転写性悪化を引き起こす場合が多い。一方、該感光性接着層の厚みが３μｍより厚くなるとパターン形成が可能であっても、ＣＲＴ製造の場合、焼成工程において蛍光体パターンが剥がれ落ちてしまうことがある。従って、この塗工量範囲で充分な性能が得られない材料はこの用途には好ましくない。
【００２１】
感光性蛍光体層中の蛍光体と感光性樹脂との混合比率は蛍光体／感光性樹脂＝９７〜８０重量％／３〜２０重量％が好ましい。これ以上蛍光体比率が高いと光硬化後の層強度が弱くなり、現像で画素表面の削れや画素のエッヂの直線性が劣ることがある。感光性蛍光体層の厚みは使用する蛍光体粒子の平均粒径にもよるが、３．０〜３０μｍの範囲で調整することが可能である。
【００２２】
５はクッション層であり、特開２００１−４３７９６に示されるような蛍光体転写フィルムの使用法で被着体に既に形成された蛍光体パターンの上に転写する際、パターン間へ感光性接着層及び感光性蛍光体層を確実に埋め込み転写するために必要である。蛍光体パターンの厚みは通常３〜３０μｍであるため、パターン間に確実に感光性接着層及び感光性蛍光体層を転写するには、その材料特性にもよるがクッション層の厚みが蛍光体パターン厚みのおよそ２〜４倍は必要である。クッション層の厚みが蛍光体パターンの厚みに対してこれよりも低い比率となると、パターン間に確実に転写することが困難となり、パターンの底辺部、即ち被着体面と被着面から立ち上がる蛍光体パターンの側面の間に空気溜まり（テンティング）が発生して転写不良となりやすい。クッション層の厚みが１００μｍを越えると用いる樹脂の熱伝導度にもよるが、転写作業の際に熱ロールからの熱伝導速度が低下するため、クッション層を充分軟化できず、既形成蛍光体パターン間に新たな感光性接着層及び感光性蛍光体層を埋め込むように転写することが難しくなる。
【００２３】
クッション層５の材料としては、熱可塑性の樹脂が好ましく、例えばアクリル酸エステル共重合体、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンエチルアクリレート共重合体、スチレンとイソプレン、あるいはブタジエンの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂を単独で、あるいは適当な配合で混合したり、適当な組み合わせで積層させて使用することができる。また必要であれば、可塑剤を添加しても良い。
【００２４】
また、該クッション層５と感光性蛍光体層４の間には必要に応じて離型層を形成することも可能であるし、クッション層の内部にワックス状の離型性成分を内添させることが可能である。クッション層に用いる樹脂の種類によっては、離型層を設けたり離型成分を内添させることにより感光性蛍光体層の剥離が安定化し、被着体への該蛍光体層の転写をより容易ならしめる効果を発揮できる。
【００２５】
６は支持体である。支持体としては、カバーフィルムの説明で示したのと同様な従来公知のプラスチックフィルムが利用できる。支持体の厚さは特に制限はないが、２５〜１５０μｍ厚が適当である。２５μｍより薄いと作業性が悪化し、帯電防止層、クッション層付与時にカールが顕著に発生するため好ましくない。１５０μｍより厚くなると、ロール状製品が製造しづらくなるばかりでなく、被着体への転写作業において熱ロールによって蛍光体転写フィルムと被着体を熱圧着する際、感光性接着層への熱伝導速度が低下するため、熱ロール温度を高くするか、転写速度を低くする、あるいは被着体を十分に熱するなどの措置をしないと良好な転写が得られなくなる。これは作業性、経済性の観点から好ましくないので支持体の厚みはできるだけ薄い方が良い。特に好ましくは、４０〜５０μｍの厚みが支持体として適している。
【００２６】
１及び７は帯電防止層である。帯電防止層を形成するに適した塗剤（帯電防止剤）は一般に広く様々な種類が存在する。帯電防止剤は作用機構からイオン伝導型と電子伝導型の２種類に大別される。
【００２７】
イオン伝導型の帯電防止剤は、水の存在下でイオン分極する機構を通じて物体の静電荷を誘導的に散逸させるもので界面活性剤が多い。例えば、スルホン酸塩基を有する長鎖アルキル化合物等のような界面活性剤型のアニオン性帯電防止剤が知られている。他にもカチオン性、ノニオン性、両性界面活性剤でそれぞれ優れた材料がある。しかし、これらの帯電防止剤を用いた帯電防止層では、帯電防止剤の一部が塗膜中を移動して界面に集積しフィルムの反対面等に移行することによる表面のべとつきや、ゴミや埃の付着による汚染等を生じるという問題や帯電防止性が経時的に悪化するという問題がある。
【００２８】
また、高分子有機物の帯電防止剤としては、主鎖にイオン化された窒素元素を有するポリマーや、スルホン酸塩変性ポリスチレン等が知られている。これらの帯電防止剤を用いた帯電防止層では、良好な帯電防止性を発現するために帯電防止剤を高比率で添加する必要があったり、膜厚の厚い帯電防止層を形成させることが必要であるため経済的でない。
さらに、前記に示したイオン伝導型帯電防止剤を使用した場合、その帯電防止性は、湿度に依存し、絶乾条件下では、帯電防止性能が完全に失活する。酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂などのように極性基を有する樹脂のエマルジョンの塗膜を帯電防止層として用いることも可能であるが、本発明の場合、イオン伝導型の帯電防止層では蛍光体転写フィルムの剥離帯電を抑制するに足る十分に低い表面抵抗を実現できなかった。クッション層５とのブロッキング性も前記のイオン伝導型帯電防止層では改善できず、貼り付きが起こってしまう。
【００２９】
一方、電子伝導型の帯電防止剤は、発生した静電荷を帯電防止剤の電子伝導機構に電気的に散逸して物体への静電荷の蓄積が起こらないようにするものである。例えば、カーボンや金属の粉末、導電性金属酸化物、導電性有機ポリマーが代表的な電子伝導型の帯電防止剤である。
これらの電子伝導型の帯電防止剤を用いると表面抵抗が非常に低い塗膜が得られ、本発明の目的にかなう帯電防止層を形成することが可能である。
【００３０】
一般に紙やプラスチックフィルムが被着体となる用途の転写フィルムの場合は、接触、摩擦または剥離による帯電が転写フィルムに帯電防止層を設けることにより抑制できることが知られている。この場合、前記のイオン伝導型の帯電防止層が設けられた面の表面抵抗値（ＪＩＳ Ｋ６９１１で規定されている測定法による）が、１×１０９〜１×１０１１Ω／□であれば帯電した静電荷を拡散または放電によって散逸するので、静電荷帯電の抑制効果が顕著となる。しかしながら、本発明の転写フィルムのように被着体がガラスである場合には、この範囲の表面抵抗値では剥離帯電による静電荷を拡散または放電できず、帯電を抑制することができなかった。
【００３１】
ここで、図１の蛍光体転写フィルムの構成をもとに被着体への感光性蛍光体層と感光性接着層の転写工程を説明する。
まず、蛍光体転写フィルムのカバーフィルム２と感光性接着層３の間で剥離して感光性接着層３を露出する。次いで該感光性接着層３を被着体（ガラス）に加熱及び加圧して接着させた後、感光性蛍光体層４とクッション層５の間で該クッション層５と共に支持体６を剥離する。この段階で感光性蛍光体層４及び感光性接着層３のみが被着体へ転写される。
【００３２】
上記の転写工程において、カバーフィルム２及び支持体６をそれぞれ剥離したときに転写フィルムの基材と被着体に静電荷が蓄積されやすい。この静電荷は周囲の異物や埃、ゴミなどを引き込みやすく、それらが感光性蛍光体層４や感光性接着層３の表面に付着するため形成される蛍光体画素の品質を著しく低下させる。特に被着体がガラスの場合には、支持体６の剥離によって発生する静電荷が非常に高く、イオン伝導型の帯電防止層を設けても周囲の異物や埃、ゴミなどを引き込んで画素の欠陥や抜けなどの弊害が起こりやすかった。
【００３３】
一方、良好な転写性を得るためには、前記のようにクッション層５は柔軟性に富んだ軟らかい熱可塑性樹脂からなることが好ましいが、このような軟らかい樹脂を支持体６上にコーティング後に巻き取ると支持体６の裏面に貼り付きやすいというブロッキングの問題が起こる。因みにクッション層５と反対側の支持体６面にイオン伝導型の帯電防止層を設けてもブロッキングを防止することはできなかった。
【００３４】
本発明者らは、電子伝導型の帯電防止剤である例えば酸化錫微粒子の分散体が非常に低い表面抵抗値を示し、かつ透明な塗膜を形成し得ることに着目して種々の検討を行った。その結果、酸化錫微粒子の分散体は、０．１〜２．０μｍの厚みとしても、１×１０６〜９×１０８Ω／□の低表面抵抗が得られ、本発明の蛍光体転写フィルムの剥離帯電を抑制可能な帯電防止層を形成できることが分かった。
さらに、酸化錫微粒子をポリエステル樹脂やアクリル樹脂で分散させた分散体で形成した塗膜は、支持体６やカバーフィルム２との密着性が優れ、さらにクッション層５との離型性も良好であり、ブロッキング性が大きく改善されることを見出した。分散樹脂の配合量はブロッキングを引き起こさない範囲で任意に調整できるが、特に好ましい分散樹脂はポリエステル樹脂である。なお、酸化錫分散液にシリコーンを含有する化合物やフッ素系界面活性剤など離型性を付与するような添加剤を配合しても良い。
本発明において、帯電防止層は、転写フィルムの少なくとも支持体６側に設ける必要があるが、図１に示すように支持体６側とカバーフィルム２側の両方に設けることが特に望ましい。
【００３５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明の特徴とするところをより詳細に説明する。ここではＣＲＴ用に使用される蛍光体について本発明の有用性を例示するが、本発明はこれらの蛍光体に限定されるものではない。
【００３６】
実施例１
図１に示す構成の蛍光体転写フィルムを以下の通り作製した。
（１）カバーフィルムにはトーセロ社製の５０μｍ厚のポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）を、支持体としては帝人デュポン社製の５０μｍＰＥＴフィルムをそれぞれ用いた。
以下に示す組成の帯電防止層形成用分散液を調整し、ＯＰＰフィルム及びＰＥＴフィルム上にそれぞれ塗工厚みが１．４μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行い、帯電防止層を形成した。
（帯電防止層形成用分散液）
酸化錫分散液 ２０部
（マイクロソルバーＲＭｄ−１４２、ポリエステル樹脂分散体、ソルベックス社製）
メタノール １９０部
水 １９０部
【００３７】
（２）次いで以下に示す組成の感光液を調製し、前記（１）で形成した帯電防止層の反対面のＯＰＰフィルム上に塗工厚みが１．７μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行い、感光性接着層を形成した。
（感光性接着層形成用感光液）
感光性樹脂（感光成分付加 変性ＰＶＡ） ２５部
５−（４−アジド−２−スルホベンジリデン）−３−（４，４’−ジメトキシブチル）ローダニンナトリウム塩導入率：１．５モル％、平均重合度：１７００
アクリルエマルジョン １５部
（フルタイト２６０２ＨＳ、Ｔｇ−５℃、三井物産ソルベントコーティング社製）
アクリルエマルジョン ６０部
（モビニール１８５、クラリアントポリマー社製）
メタノール ９５０部
水 ９５０部
【００３８】
（３）前記（１）で形成した帯電防止層の反対面のＰＥＴフィルム上にＭＲ−７７６８（アクリル酸エステル共重合体：Ｔｇ９℃、三菱レイヨン社製）をマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で１２０℃４分間の乾燥を行い、５０μｍ厚のクッション層を形成した。次いで、テスファイン３２４（アクリルメラミン系樹脂：日立化成ポリマー株式会社製）の２％溶液を調製し、前記クッション層上に塗工厚みが０．４μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で１１０℃２分間の乾燥を行って離型層を形成した。
【００３９】
最後に、以下に示す組成の感光液を調製し、前記の離型層上に塗工厚みが１２μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行って感光性蛍光体層を形成した。
（蛍光体層形成用感光液）
緑色発光蛍光体（ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ） ９４部
感光性樹脂（感光成分付加 変性ＰＶＡ） １．２部
５−（４−アジド−２−スルホベンジリデン）−３−（４，４’−ジメトキシブチル）ローダニンナトリウム塩導入率：１．５モル％、平均重合度：１７００
ポリビニルピロリドン （Ｋ―３０、ＩＳＰ社製） ４．８部
水 １２３部
【００４０】
（４）蛍光体転写フィルムの貼合
前記（２）及び（３）で得られたフィルムを（２）のフィルムの感光性接着層面と（３）のフィルムの感光性蛍光体層面とを向かい合うように重ねた後、ラミネーターにニップした。加熱、加圧状態で両フィルムを貼合して一体化させて、緑色発光蛍光体転写フィルムを得た。
貼合条件を以下に示す。
貼合温度：１２０℃
貼合圧力：２ｋｇｆ／ｃｍ２
貼合速度：２ｍ／分
【００４１】
実施例２
帯電防止層形成用分散液として以下の組成の分散液を調整し、ＯＰＰフィルム及びＰＥＴフィルム上に塗工厚みが０．３μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行い、帯電防止層を形成した。他は実施例１と同様にして、緑色発光蛍光体転写フィルムを得た。
（帯電防止層形成用分散液）
酸化錫分散液 ２０部
（マイクロソルバーＭＭｄ−１４２、アクリル樹脂分散体、ソルベックス社製）
メタノール １９０部
水 １９０部
【００４２】
このようにして作製した実施例１及び実施例２に示した緑色にそれぞれ発光する蛍光体転写フィルムのまずカバーフィルムを剥離してから、ＣＲＴ用ブラウン管ガラスのパネルガラス内面に転写して支持体を剥離したところ、転写フィルム及びパネルガラスに帯電する静電荷は認められず、周囲のゴミ、埃などの異物の混入は認められなかった。さらに転写された感光性接着層及び感光性蛍光体層を高圧水銀灯を光源とする活性光線でパターン露光し、水で現像後乾燥して蛍光体画素を形成したところ、周囲の異物や埃、ゴミなどを引き込んだことによる欠けや抜けのない良好な画素が形成できた。なお、実施例１及び実施例２に示した蛍光体転写フィルムの帯電防止層を設けた面の表面抵抗値は、それぞれ５．４６×１０６Ω／□及び１．２×１０７Ω／□であった。
【００４３】
また、実施例１及び実施例２の前記（３）の工程において、ＰＥＴフィルム上に帯電防止層とクッション層までを設けたフィルムを用いてブロッキング試験を行った。ブロッキング試験はフィルムを５ｃｍ×５ｃｍの大きさに断裁し、帯電防止層とクッション層が触れ合うように５枚重ね合わせ、１０ｃｍ×１０ｃｍのアルミ板の間に挟み込み、アルミ板の上に２５００ｇの荷重をかけながら４０℃の雰囲気下２４時間放置した。その後、荷重を解き５枚のフィルムを剥がしたところ、帯電防止層とクッション層の貼り付きは認められずブロッキングは生じなかった。
【００４４】
比較例１
帯電防止層形成用分散液として以下の組成の分散液を調整し、ＯＰＰフィルム及びＰＥＴフィルム上に塗工厚みが３．５μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行い、帯電防止層を形成した。他は実施例１と同様にして、緑色発光蛍光体転写フィルムを得た。
（帯電防止層形成用分散液）
アクリルエマルジョン ４０部
（ウルトラゾール ＦＣＸ−８、ガンツ化成株式会社製）
ポリエステル／ポリエーテル系帯電防止剤 ２部
（イオンソルバー＃８、ソルベックス社製）
イソプロピルアルコール ５部
メタノール ２４部
水 ２９部
【００４５】
比較例２
帯電防止層形成用分散液として以下の組成の分散液を調整し、ＯＰＰフィルム及びＰＥＴフィルム上に塗工厚みが３．５μｍとなるようにマイヤーバーを用いて塗工し、熱風循環式乾燥機中で９０℃２分間の乾燥を行い、帯電防止層を形成した。他は実施例１と同様にして、緑色発光蛍光体転写フィルムを得た。
（帯電防止層形成用分散液）
アクリルエマルジョン ４０部
（ウルトラゾール ＦＣＸ−８、ガンツ化成株式会社製）
イソプロピルアルコール ５部
メタノール ２４部
水 ２９部
【００４６】
比較例３
ＯＰＰフィルム及びＰＥＴフィルム上に帯電防止層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして、緑色発光蛍光体転写フィルムを得た。
【００４７】
このようにして作製した比較例１〜比較例３に示した緑色にそれぞれ発光する蛍光体転写フィルムを前述の実施例と同様に、ＣＲＴ用ブラウン管ガラスのパネルガラス内面に転写して支持体を剥離したところ、剥離後にガラスに指で触れると静電気の放電が感じられ、転写フィルム及びパネルガラスに静電荷の帯電が起こっていることが確認された。また、周囲のゴミ、埃などの異物の混入も認められた。さらに転写された感光性接着層及び感光性蛍光体層を高圧水銀灯を光源とする活性光線でパターン露光し、水で現像後乾燥して蛍光体画素を形成したところ、実施例１及び実施例２に比べると周囲の異物や埃、ゴミなどを引き込んだことによる欠けや抜けと思われる欠陥が画素に残っていた。比較例１〜比較例３に示した蛍光体転写フィルムの帯電防止層を設けた面の表面抵抗値は、それぞれ４．４９×１０８Ω／□、３．７２×１０９Ω／□、１×１０１４Ω／□以上であった。なお、比較例１に示した帯電防止剤を１０部以上帯電防止層に配合すると表面抵抗はさらに低くなるものの表面のべとつきが強くなった。
【００４８】
また、比較例１〜比較例３の前記（３）の工程において、ＰＥＴフィルム上に帯電防止層とクッション層までを設けたフィルムを用いて前記実施例と同様な方法でブロッキング試験を行った。その結果、５枚のフィルムは容易に剥がすことができず、帯電防止層とクッション層が強く接着しブロッキングを起こしていた。
【００４９】
上述の実施例及び比較例で示した帯電防止層の物性をまとめて下記表１に示す。実施例で示したようにポリエステル樹脂とアクリル樹脂で分散させた酸化錫微粒子分散体で形成した帯電防止層が優れていることがこの表１からも明らかである。
なお、表１中の評価基準は以下のとおりである。
ａ）支持体剥離時の静電荷帯電
○：剥離後にガラスに指で触れても静電気の放電が感じられない
×：剥離後にガラスに指で触れると放電を少し感じる
××：剥離後にガラスに指で触れると放電を激しく感じる
ｂ）ブロッキング
○：ブロッキングなし ×：容易に剥がすことはできなかった ××：剥離不能
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】
以上詳細に述べてきたように本発明が提供する帯電防止層を付与した蛍光体転写フィルムを用いれば、剥離帯電を抑制することが可能となり、ゴミや埃を引き込まずに良好な蛍光体ディスプレイ用の画素を安定して製造できることが明らかになった。また、蛍光体転写フィルムを製造する際にもクッション層と帯電防止層のブロッキングが抑えられるので生産性が向上する効果がある。
また、上記帯電防止層を構成する酸化錫分散体は、酸化錫微粒子をポリエステル樹脂またはアクリル樹脂で分散させたことにより、支持体やカバーフィルムとの密着性が優れ、さらにクッション層との離型性も良好であり、ブロッキング性が大きく改善される。
また、このような帯電防止層が設けられたカバーフィルム面及び支持体面の表面抵抗値は１×１０９Ω／□より低いので、被着体がガラスのようなものでも良好な帯電防止性能を有する。
また、上記帯電防止層は、０．１〜２．０μｍの厚みでも十分な効果を発揮できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蛍光体転写フィルムの一実施形態を示す断面構成図である。
【符号の説明】
１，７ 帯電防止層
２ カバーフィルム
３ 感光性接着層
４ 感光性蛍光体層
５ クッション層
６ 支持体[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a phosphor transfer film used in a manufacturing process of a display using a phosphor as a display medium.
[0002]
[Prior art]
A display using a phosphor as a display medium includes a plasma display (PDP) and a field emission display (FED) as a representative of a cathode ray tube (CRT). Since these displays use a method in which color display is performed using the self-luminous color of the phosphor, phosphors suitable for each method are selected and used. The state greatly affects display performance and quality. Also, since the method of forming the phosphor pixels affects the display price, the manufacturing method is also important.
[0003]
Regarding the method of forming the phosphor layer, in the case of a CRT, as disclosed in JP-A-63-279439, JP-A-6-89660, JP-A-10-273653, etc. One type of slurry prepared by dispersing phosphors that emit red, green, and blue light in an ammonium (PVA-ADC) -based photosensitizer or polyvinyl alcohol-sodium dichromate (PVA-SDC) -based photosensitizer The phosphor pixels are formed by directly coating the entire surface of the glass substrate one by one, drying and repeating patterning (exposure, development, and drying). In the case of PDPs and FEDs, the phosphor pixels are formed by screen-printing pastes in which red, green, and blue light-emitting phosphors are dispersed in polyvinyl alcohol, acrylic resin, or the like.
[0004]
When a phosphor slurry is used, phosphor residue (background stain) on other color pixels may occur in quality as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-273653, which is a serious problem. This is because, when a pixel in a stained portion is caused to emit light, the stained phosphor of another color also emits light at the same time, so that the pixel emits light of a mixed color (color purity is reduced). As a result, color bleeding or the like is caused in an image formed on the phosphor screen, and a clear image cannot be obtained.
The screen printing method using phosphor paste has poor printing accuracy (position accuracy, shape accuracy, film thickness accuracy), color non-uniformity of phosphor pixel thickness, and contamination due to phosphor paste on other color pixels. There is a big problem that is worse.
[0005]
As a method for manufacturing a phosphor screen of a display using a phosphor, a slurry method using a phosphor slurry or a screen printing method using a phosphor paste as described above is generally used. In the manufacturing process of these phosphor screens, there is a problem that, besides the contamination of the pixels of other colors, the linearity of the pixel edge is deteriorated, chipped, and a defect is caused by dust and foreign matter.
[0006]
In addition, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-101775, it is difficult to make the coating thickness uniform since the slurry is injected into the panel glass and then spin-coated, as disclosed in JP-A-5-101775. The phosphor coating thickness tends to be non-uniform for each pixel or for each pixel. Therefore, in the continuous production, the variation in the thickness of the phosphor applied directly causes the quality of the display image to be deteriorated.
Further, the slurry method has a problem that not only the manufacturing apparatus itself is large and expensive, but also the manufacturing process becomes very complicated, so that the manufacturing cost increases.
[0007]
As a method for solving these problems, JP-A-2001-43796 and JP-A-2001-43796 disclose a method (transfer method) of using a phosphor transfer film provided with an optimum thickness according to the characteristics of each display and the characteristics of the phosphor. It is proposed in each of the publications of 2001-202888. In the transfer method, a phosphor layer having a uniform thickness can be formed in advance on a support such as a plastic film, so that the dispersion of the phosphor coating thickness, which was a problem of the slurry method, is prevented, and an apparatus for slurry coating is used. By using a small-sized transfer device instead of, the process can be simplified, the performance of the phosphor screen can be improved, and the manufacturing cost can be reduced.
[0008]
A phosphor transfer film used when a color display using a phosphor is produced by a transfer method has, for example, a photosensitive adhesive layer and a photosensitive phosphor layer between a support and a cover film, and In this configuration, a cushion layer is provided between the photosensitive phosphor layer and the support. The function of the cushion layer in the structure is to assist the transfer of the photosensitive adhesive layer and the photosensitive phosphor layer to glass or the like as an adherend.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, when a phosphor transfer film is used, the method includes a step of peeling off the support after bonding a phosphor layer and an adhesive layer provided in advance on the film to an adherend such as glass. The peeling at this time causes a problem that static charges accumulate on the adherend and the transferred phosphor layer, and attract foreign matter, dust, dust, and the like, thereby causing a problem such as defective or missing pixels. Further, in the case where the cushion layer is provided as described above, there is a problem of blocking that if a soft resin is coated on the support and then wound, it is likely to stick to the back surface of the support. It is possible to prevent blocking with the cushion layer by providing a coating layer with good releasability such as silicone resin on the surface of the support opposite to the cushion layer, but since these coating layers do not have antistatic properties, However, it is still not possible to suppress the adverse effects due to peeling charging.
The present invention, after bonding the transfer film to the adherend, peeling off the support to prevent the peeling electrification that occurs when transferring the photosensitive phosphor layer and the photosensitive adhesive layer, the support and the cushion layer To prevent the blocking of
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve such a problem, and as a result, phosphor transfer has been performed using a dispersion liquid in which, for example, tin oxide fine particles, which are electron conductive antistatic agents, are dispersed in a polyester resin or an acrylic resin. When the antistatic layer is provided on the film, the surface resistance is low, and even if the adherend is glass, it is possible to efficiently dissipate electrostatic charges due to contact charging or peeling charging, and after providing the antistatic layer on the support in advance. By applying the cushion layer by coating, it has been found that even if the cushion layer is wound after coating, sticking of the cushion layer to the support is remarkably reduced and blocking can be suppressed, and the present invention has been completed.
[0011]
That is, the phosphor transfer film of the present invention has at least one photosensitive adhesive layer and a photosensitive phosphor layer between a support and a cover film, and the photosensitive phosphor layer and the support A cushion layer made of a thermoplastic resin is provided therebetween, and an antistatic layer containing an electron conductive antistatic agent is provided on at least the surface of the support opposite to the photosensitive phosphor layer.
Examples of the electron conduction type antistatic agent include a tin oxide dispersion.
In the tin oxide dispersion constituting the antistatic layer, it is preferable that tin oxide fine particles are dispersed in a polyester resin or an acrylic resin.
The surface resistance of the support provided with such an antistatic layer is 1 × 109It is lower than Ω / □ and has good antistatic performance.
A sufficient effect can be exhibited by providing the antistatic layer with a thickness of 0.1 to 2.0 μm.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The phosphor transfer film of the present invention used when a color display using a phosphor is manufactured by a transfer method has, for example, a configuration as shown in FIG. That is, the photosensitive adhesive layer 3 and the photosensitive phosphor layer 4 are provided between the support 6 and the cover film 2, and the cushion layer 5 is provided between the photosensitive phosphor layer 4 and the support 6. It is a configuration provided. The cushion layer 5 has a function of assisting the transfer of the photosensitive adhesive layer 3 and the photosensitive phosphor layer 4 to glass or the like to be adhered. Further, antistatic layers 1 and 7 made of a tin oxide dispersion are provided on the surface of the support 6 and the surface of the cover film 2 opposite to the photosensitive phosphor layer 4 and the photosensitive adhesive layer 3, respectively. I have.
[0013]
Hereinafter, each layer shown in FIG. 1 will be described.
[0014]
As the cover film 2, a conventionally known plastic film can be used. For example, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polycarbonate, triacetate and the like can be mentioned. In particular, a polyethylene terephthalate (PET) film having high mechanical strength and excellent heat stability, or a polypropylene film (OPP film) which is inexpensive and has excellent release properties is preferable. The thickness of the cover film is not particularly limited, but is preferably 75 μm or less. This is because the stiffness of the transfer film increases when the cover film is over 75μm thick when finishing the transfer film into a product form, that is, a roll-shaped product. Of the cover film, such that air enters between the film and the photosensitive adhesive layer, the product weight per unit length increases, making it difficult to manufacture long rolled products, and the production cost increases. Is expected.
[0015]
Further, it is preferable to provide a release layer in order to further stabilize the releasability between the base material of the cover film and the photosensitive adhesive layer. Examples of the resin used for the release layer include a urethane resin, a melamine resin, a silicone resin, a copolymer thereof, a mixture thereof, and the like. The coating thickness of the release layer is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 5.0 μm.
When using a substrate having releasability such as a polypropylene film (OPP film), it is not necessary to provide a release layer.
[0016]
The photosensitive adhesive layer of No. 3 is a general resin belonging to a class called a pressure-sensitive adhesive or a heat sealant, and / or a resin obtained by using a water-soluble photosensitive resin in combination with these resins.
As the pressure-sensitive adhesive, generally known emulsion-type, solvent-type, and hot-melt-type pressure-sensitive adhesives, as well as a water-soluble type and a UV cross-linkable type, can be used. As the heat sealant, a generally known emulsion type or solvent type resin can be used.
In order to form a photosensitive adhesive layer suitable for the present invention, it is preferable that at least one resin component contained in the photosensitive adhesive layer has a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or less.
As for the photosensitive resin, generally known material systems can be used, and the compounding ratio can be arbitrarily determined according to the performance of the material. The photosensitive adhesive layer has a composition that can be easily dissolved in water without exposure to actinic rays.
[0017]
The phosphor used in the photosensitive phosphor layer of No. 4 varies depending on the type of display. However, as the phosphor for CRT, silver and chlorine activated zinc sulfide phosphor (ZnS: Ag / ZnS: Ag, Cl), silver and aluminum activated zinc sulfide phosphors (ZnS: Ag, Al), and green and green activated copper and aluminum activated zinc sulfide phosphors (ZnS: Cu, Al), copper, gold and Aluminum-activated zinc sulfide phosphor (ZnS: Cu, Au, Al) and manganese-activated zinc silicate phosphor (Zn2SiO4: Mn); europium and samarium-activated yttrium oxysulfide phosphor (Y2O2S: Eu / Y2O2S: Eu, Sm) manganese-activated zinc phosphate phosphor (Zn3 (PO4) 2: Mn) or the like can be used. That.
Further, as the phosphor for PDP, BaMgAl14O23: Eu, BaMgAl10O17: Eu as the blue light emitting phosphor, BaAl12O19: Mn, Zn2SiO4: Mn, (Ba, Sr, Mg) O.aAl2O3: Mn as the green light emitting phosphor. (Y, Gd) BO3: Eu or the like can be used as the red light-emitting phosphor.
Further, ZnGa2O4, SrTiO3: Pr, or the like can be used as a phosphor for FED.
[0018]
As the photosensitive resin used for the photosensitive adhesive layer and the photosensitive phosphor layer, any resin may be used as long as its solubility in water changes before and after exposure to ultraviolet light or visible light. A photosensitive agent may be mixed with the non-photosensitive water-soluble resin, or a photosensitive functional group may be present in the resin molecule.
[0019]
As the water-soluble photosensitive resin, those generally known can be used. Particularly selected from a stilbazolium group and a stilquinolinium group, or an azido group-containing functional group such as 5- (4-azido-2-sulfobenzylidene) -3- (4,4'-dimethoxybutyl) rhodanine sodium salt. A modified poly (vinyl alcohol) having at least one of the above-mentioned groups as a photosensitive component addition group is preferred. In particular, a modified polyvinyl alcohol to which 5- (4-azido-2-sulfobenzylidene) -3- (4,4′-dimethoxybutyl) rhodanine sodium salt is added as a water-soluble photosensitive resin is preferable, and polyvinyl pyrrolidone is further used in combination. Then, the edges of the formed phosphor pixels become sharper, which is even better.
[0020]
It is necessary to select a material for the photosensitive adhesive layer according to the composition of the photosensitive phosphor layer. That is, the photosensitive adhesive layer has good adhesiveness to the photosensitive phosphor layer while having adhesiveness to the adherend, and is not suitable for pattern formation by exposing and developing the phosphor layer and the adhesive layer. A material that does not generate residue in the image area is preferable. Further, the coating thickness needs to be optimized depending on the material. However, in the production of a display, the thickness of the photosensitive adhesive layer is preferably 0.5 to 3 μm, and when the coating thickness is less than 0.5 μm, In many cases, the transferability of the photosensitive phosphor layer is deteriorated because the adhesiveness to the body is reduced. On the other hand, if the thickness of the photosensitive adhesive layer is more than 3 μm, even if pattern formation is possible, in the case of CRT production, the phosphor pattern may be peeled off in the firing step. Therefore, a material that does not provide sufficient performance in this coating amount range is not preferable for this use.
[0021]
The mixing ratio of the phosphor and the photosensitive resin in the photosensitive phosphor layer is preferably phosphor / photosensitive resin = 97 to 80% by weight / 3 to 20% by weight. If the phosphor ratio is higher than this, the layer strength after photo-curing becomes weak, and the pixel surface may be scraped by development and the linearity of the pixel edge may be poor. The thickness of the photosensitive phosphor layer depends on the average particle size of the phosphor particles used, but can be adjusted in the range of 3.0 to 30 μm.
[0022]
Reference numeral 5 denotes a cushion layer, which is used to transfer a photosensitive adhesive layer onto a phosphor pattern already formed on an adherend by using a phosphor transfer film as shown in JP-A-2001-43796. In addition, it is necessary to embed and transfer the photosensitive phosphor layer reliably. Since the thickness of the phosphor pattern is usually 3 to 30 μm, in order to transfer the photosensitive adhesive layer and the photosensitive phosphor layer reliably between the patterns, the thickness of the cushion layer depends on the material characteristics of the phosphor pattern. About 2 to 4 times the thickness is required. When the thickness of the cushion layer is a lower ratio than the thickness of the phosphor pattern, it is difficult to reliably transfer between the patterns, and the bottom of the pattern, that is, the phosphor rising from the adherend surface and the adherend surface Air accumulation (tenting) is generated between the side surfaces of the pattern, and transfer failure is likely to occur. If the thickness of the cushion layer exceeds 100 μm, although depending on the thermal conductivity of the resin used, the rate of heat conduction from the heat roll during the transfer operation is reduced, so that the cushion layer cannot be sufficiently softened, and the pre-formed phosphor pattern It becomes difficult to transfer so as to embed a new photosensitive adhesive layer and photosensitive phosphor layer between them.
[0023]
As a material of the cushion layer 5, a thermoplastic resin is preferable, for example, an acrylate copolymer, a saponified product of ethylene and acrylate copolymer, a saponified product of styrene and acrylate copolymer, ethylene vinyl acetate Copolymers, ethylene ethyl acrylate copolymers, styrene and isoprene, or butadiene copolymers, polyester resins, polyolefin resins, and the like can be given. These resins can be used alone, mixed in an appropriate combination, or laminated in an appropriate combination. If necessary, a plasticizer may be added.
[0024]
In addition, a release layer can be formed between the cushion layer 5 and the photosensitive phosphor layer 4 if necessary, and a wax-like release component is internally added to the inside of the cushion layer. It is possible. Depending on the type of resin used for the cushion layer, the release of the photosensitive phosphor layer is stabilized by providing a release layer or internally adding a release component, and the transfer of the phosphor layer to an adherend is made easier. The effect of leveling can be exhibited.
[0025]
6 is a support. As the support, a conventionally known plastic film similar to that shown in the description of the cover film can be used. The thickness of the support is not particularly limited, but a thickness of 25 to 150 μm is appropriate. If the thickness is less than 25 μm, the workability is deteriorated, and the curl is remarkably generated when the antistatic layer and the cushion layer are provided, which is not preferable. When the thickness is more than 150 μm, not only is it difficult to manufacture a roll-shaped product, but also, when the phosphor transfer film and the adherend are thermocompression-bonded by a hot roll in a transfer operation to the adherend, heat transfer to the photosensitive adhesive layer is performed. Since the speed is reduced, good transfer cannot be obtained unless measures such as raising the temperature of the hot roll, lowering the transfer speed, or sufficiently heating the adherend are taken. Since this is not preferable from the viewpoint of workability and economy, the thickness of the support is preferably as thin as possible. Particularly preferably, a thickness of 40 to 50 μm is suitable as a support.
[0026]
1 and 7 are antistatic layers. There are generally a wide variety of coating agents (antistatic agents) suitable for forming an antistatic layer. Antistatic agents are broadly classified into two types, an ionic conduction type and an electron conduction type, according to the mechanism of action.
[0027]
The ion conduction type antistatic agent inductively dissipates an electrostatic charge of an object through a mechanism of ionic polarization in the presence of water, and is often a surfactant. For example, a surfactant-type anionic antistatic agent such as a long-chain alkyl compound having a sulfonate group is known. In addition, there are excellent materials of cationic, nonionic and amphoteric surfactants. However, in an antistatic layer using these antistatic agents, a part of the antistatic agent moves in the coating film, accumulates at the interface and moves to the opposite surface of the film, etc. There are problems such as contamination due to the adhesion of dust and a problem that antistatic properties deteriorate with time.
[0028]
Further, as an antistatic agent of a high molecular organic substance, a polymer having an ionized nitrogen element in a main chain, a sulfonate-modified polystyrene, and the like are known. In an antistatic layer using these antistatic agents, it is necessary to add an antistatic agent at a high ratio in order to exhibit good antistatic properties, or to form a thick antistatic layer. Is not economical.
Furthermore, when the above-mentioned ion conductive type antistatic agent is used, its antistatic property depends on humidity, and the antistatic property is completely deactivated under the condition of absolute dryness. It is also possible to use a coating film of an emulsion of a resin having a polar group such as a vinyl acetate resin, an acrylic resin, and an ethylene-vinyl acetate copolymer resin as the antistatic layer. With the antistatic layer of No. 1, it was not possible to realize a sufficiently low surface resistance sufficient to suppress peeling charging of the phosphor transfer film. The blocking property with the cushion layer 5 cannot be improved by the above-mentioned ion conductive type antistatic layer, and sticking occurs.
[0029]
On the other hand, the electron conduction type antistatic agent prevents the generated electrostatic charge from being electrically dissipated to the electron conduction mechanism of the antistatic agent, thereby preventing accumulation of the electrostatic charge on the object. For example, carbon or metal powders, conductive metal oxides, and conductive organic polymers are typical electron conduction type antistatic agents.
The use of such an electron conduction type antistatic agent can provide a coating film having a very low surface resistance, and can form an antistatic layer which meets the object of the present invention.
[0030]
In general, in the case of a transfer film for use in which paper or a plastic film is used as an adherend, it is known that charging due to contact, friction or peeling can be suppressed by providing an antistatic layer on the transfer film. In this case, the surface resistance value of the surface provided with the above-mentioned ion-conductive type antistatic layer (according to the measuring method defined in JIS K6911) is 1 × 109~ 1 × 1011In the case of Ω / □, the charged electrostatic charge is dissipated by diffusion or discharge, so that the effect of suppressing the electrostatic charge becomes remarkable. However, when the adherend is glass as in the transfer film of the present invention, electrostatic charges due to peeling charging cannot be diffused or discharged at a surface resistance value in this range, and charging cannot be suppressed.
[0031]
Here, a process of transferring the photosensitive phosphor layer and the photosensitive adhesive layer to the adherend based on the configuration of the phosphor transfer film of FIG. 1 will be described.
First, the photosensitive adhesive layer 3 is exposed by being peeled between the cover film 2 of the phosphor transfer film and the photosensitive adhesive layer 3. Next, after the photosensitive adhesive layer 3 is adhered to the adherend (glass) by heating and pressing, the support 6 is peeled off together with the cushion layer 5 between the photosensitive phosphor layer 4 and the cushion layer 5. At this stage, only the photosensitive phosphor layer 4 and the photosensitive adhesive layer 3 are transferred to the adherend.
[0032]
In the above-described transfer step, when the cover film 2 and the support 6 are separated from each other, static charges are easily accumulated on the base material and the adherend of the transfer film. The static charge easily attracts foreign matter, dust, dust and the like in the vicinity, and these adhere to the surfaces of the photosensitive phosphor layer 4 and the photosensitive adhesive layer 3, so that the quality of the phosphor pixels formed is significantly reduced. In particular, when the adherend is glass, the electrostatic charge generated by peeling of the support 6 is very high, and even if an ion-conductive type antistatic layer is provided, surrounding foreign substances, dust, dust, and the like are drawn in and the pixels are removed. Evils such as defects and omissions were likely to occur.
[0033]
On the other hand, in order to obtain good transferability, as described above, the cushion layer 5 is preferably made of a soft thermoplastic resin having a high degree of flexibility. However, such a soft resin is coated on the support 6 and then wound. If it is removed, a problem of blocking, which is likely to stick to the back surface of the support 6, occurs. Incidentally, even if an ion-conductive type antistatic layer was provided on the surface of the support 6 opposite to the cushion layer 5, blocking could not be prevented.
[0034]
The present inventors have conducted various studies focusing on the fact that a dispersion of, for example, tin oxide fine particles, which is an electron conduction type antistatic agent, has a very low surface resistance value and can form a transparent coating film. went. As a result, the dispersion of tin oxide fine particles has a thickness of 1 × 106~ 9 × 108A low surface resistance of Ω / □ was obtained, and it was found that an antistatic layer capable of suppressing peeling electrification of the phosphor transfer film of the present invention could be formed.
Further, a coating film formed of a dispersion obtained by dispersing tin oxide fine particles with a polyester resin or an acrylic resin has excellent adhesion to the support 6 and the cover film 2, and also has good releasability from the cushion layer 5. Yes, it was found that the blocking property was greatly improved. The amount of the dispersing resin can be arbitrarily adjusted within a range that does not cause blocking, but a particularly preferable dispersing resin is a polyester resin. The tin oxide dispersion may be compounded with an additive such as a compound containing silicone or a fluorine-based surfactant that imparts releasability.
In the present invention, the antistatic layer needs to be provided at least on the support 6 side of the transfer film, but it is particularly preferable to provide it on both the support 6 side and the cover film 2 side as shown in FIG.
[0035]
【Example】
Hereinafter, features of the present invention will be described in more detail with reference to examples. Here, the usefulness of the present invention will be illustrated for phosphors used for CRT, but the present invention is not limited to these phosphors.
[0036]
Example 1
A phosphor transfer film having the configuration shown in FIG. 1 was produced as follows.
(1) A 50 μm thick polypropylene film (OPP film) manufactured by Tocelo was used as the cover film, and a 50 μm PET film manufactured by Teijin DuPont was used as the support.
A dispersion for forming an antistatic layer having the following composition was prepared, and was coated on a OPP film and a PET film using a Meyer bar so that the coating thickness was 1.4 μm. At 90 ° C. for 2 minutes to form an antistatic layer.
(Dispersion for forming antistatic layer)
Tin oxide dispersion 20 parts
(Microsolver RMd-142, polyester resin dispersion, manufactured by Solvex)
Methanol 190 parts
190 copies of water
[0037]
(2) Next, a photosensitive solution having the following composition is prepared, and coated on the OPP film on the opposite side of the antistatic layer formed in (1) above using a Meyer bar so that the coating thickness is 1.7 μm. Then, drying was performed at 90 ° C. for 2 minutes in a hot air circulating dryer to form a photosensitive adhesive layer.
(Photosensitive liquid for forming photosensitive adhesive layer)
Photosensitive resin (addition of photosensitive component modified PVA) 25 parts
5- (4-azido-2-sulfobenzylidene) -3- (4,4'-dimethoxybutyl) rhodanine sodium salt introduction ratio: 1.5 mol%, average polymerization degree: 1700
Acrylic emulsion 15 parts
(Frutite 2602HS, Tg-5 ° C, Mitsui & Co. Solvent Coating Co., Ltd.)
Acrylic emulsion 60 parts
(Movinyl 185, Clariant Polymer)
Methanol 950 parts
950 copies of water
[0038]
(3) MR-7768 (acrylate copolymer: Tg 9 ° C., manufactured by Mitsubishi Rayon Co.) is coated on the PET film on the opposite side of the antistatic layer formed in (1) using a Mayer bar, Drying was performed at 120 ° C. for 4 minutes in a hot air circulating dryer to form a cushion layer having a thickness of 50 μm. Next, a 2% solution of Tesfine 324 (acrylic melamine resin: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was prepared, and was coated on the cushion layer using a Meyer bar so as to have a coating thickness of 0.4 μm. Then, drying was performed at 110 ° C. for 2 minutes in a hot air circulation type dryer to form a release layer.
[0039]
Finally, a photosensitive solution having the following composition is prepared, and is coated on the release layer using a Meyer bar so as to have a coating thickness of 12 μm, and is heated at 90 ° C. for 2 minutes in a hot-air circulation dryer. Was dried to form a photosensitive phosphor layer.
(Photosensitive solution for forming phosphor layer)
Green phosphor (ZnS: Cu, Al) Ａｌ94 parts
Photosensitive resin (addition of photosensitive component modified PVA) 1.2 parts
5- (4-azido-2-sulfobenzylidene) -3- (4,4'-dimethoxybutyl) rhodanine sodium salt introduction ratio: 1.5 mol%, average polymerization degree: 1700
Polyvinylpyrrolidone (K-30, manufactured by ISP) 4.8 parts
123 water
[0040]
(4) Lamination of phosphor transfer film
The films obtained in the above (2) and (3) were overlapped so that the surface of the photosensitive adhesive layer of the film (2) faced the surface of the photosensitive phosphor layer of the film (3), and then nipped with a laminator. The two films were bonded together under heat and pressure to obtain a green light-emitting phosphor transfer film.
The bonding conditions are shown below.
Pasting temperature: 120 ° C
Bonding pressure: 2kgf / cm2
Laminating speed: 2m / min
[0041]
Example 2
A dispersion having the following composition was prepared as a dispersion for forming an antistatic layer, and was coated on a OPP film and a PET film using a Meyer bar so as to have a coating thickness of 0.3 μm. Drying was performed at 90 ° C. for 2 minutes to form an antistatic layer. Otherwise in the same manner as in Example 1, a green light emitting phosphor transfer film was obtained.
(Dispersion for forming antistatic layer)
Tin oxide dispersion 20 parts
(Microsolver MMd-142, acrylic resin dispersion, manufactured by Solvex)
Methanol 190 parts
190 copies of water
[0042]
First, the cover film of the phosphor transfer film which emits green light shown in Example 1 and Example 2 thus produced was peeled off, and then transferred to the inner surface of the panel glass of a CRT CRT glass to form a support. Upon peeling, no electrostatic charges were found on the transfer film and the panel glass, and no foreign matter such as dust or dirt was mixed in. Further, the transferred photosensitive adhesive layer and photosensitive phosphor layer were pattern-exposed with actinic light using a high-pressure mercury lamp as a light source, developed with water, and dried to form phosphor pixels. A good pixel without chipping or omission due to drawing in was formed. The surface resistance of the phosphor transfer film shown in Example 1 and Example 2 on which the antistatic layer was provided was 5.46 × 106Ω / □ and 1.2 × 107Ω / □.
[0043]
Further, in the step (3) of Example 1 and Example 2, a blocking test was performed using a film in which an antistatic layer and a cushion layer were provided on a PET film. In the blocking test, the film was cut into a size of 5 cm × 5 cm, and five films were overlapped so that the antistatic layer and the cushion layer were in contact with each other, sandwiched between 10 cm × 10 cm aluminum plates, and applied with a load of 2500 g on the aluminum plates. It was left under an atmosphere of 40 ° C. for 24 hours. Thereafter, when the load was released and the five films were peeled off, sticking of the antistatic layer and the cushion layer was not recognized, and no blocking occurred.
[0044]
Comparative Example 1
A dispersion having the following composition was prepared as a dispersion for forming an antistatic layer, and was coated on an OPP film and a PET film using a Meyer bar so as to have a coating thickness of 3.5 μm. Drying was performed at 90 ° C. for 2 minutes to form an antistatic layer. Otherwise in the same manner as in Example 1, a green light emitting phosphor transfer film was obtained.
(Dispersion for forming antistatic layer)
Acrylic emulsion 40 parts
(Ultrasol FCX-8, manufactured by Ganz Chemical Co., Ltd.)
Polyester / polyether antistatic agent 2 parts
(Ion solver # 8, manufactured by Solvex)
Isopropyl alcohol 5 parts
Methanol 24 parts
29 copies of water
[0045]
Comparative Example 2
A dispersion having the following composition was prepared as a dispersion for forming an antistatic layer, and was coated on an OPP film and a PET film using a Meyer bar so as to have a coating thickness of 3.5 μm. Drying was performed at 90 ° C. for 2 minutes to form an antistatic layer. Otherwise in the same manner as in Example 1, a green light emitting phosphor transfer film was obtained.
(Dispersion for forming antistatic layer)
Acrylic emulsion 40 parts
(Ultrasol FCX-8, manufactured by Ganz Chemical Co., Ltd.)
Isopropyl alcohol 5 parts
Methanol 24 parts
29 copies of water
[0046]
Comparative Example 3
A green light emitting phosphor transfer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer was not formed on the OPP film and the PET film.
[0047]
The phosphor transfer films emitting green light shown in Comparative Examples 1 to 3 thus produced were transferred onto the inner surface of the panel glass of the CRT CRT glass in the same manner as in the above-mentioned example, and the support was peeled off. As a result, when the finger was touched to the glass after the peeling, electrostatic discharge was felt, and it was confirmed that static charge had occurred on the transfer film and the panel glass. In addition, foreign substances such as dust and dirt in the surrounding area were also found to be mixed. Further, the transferred photosensitive adhesive layer and photosensitive phosphor layer were pattern-exposed with actinic light using a high-pressure mercury lamp as a light source, developed with water, and dried to form phosphor pixels. Examples 1 and 2 In comparison with the above, a defect considered to be chipped or missing due to drawing in foreign matter, dust, dust and the like remained in the pixel. The surface resistance of the surface of the phosphor transfer film provided with the antistatic layer shown in Comparative Examples 1 to 3 was 4.49 × 10 48Ω / □, 3.72 × 109Ω / □, 1 × 1014Ω / □ or more. When 10 parts or more of the antistatic agent shown in Comparative Example 1 was added to the antistatic layer, the surface resistance was further reduced but the surface tackiness was increased.
[0048]
Further, in the step (3) of Comparative Examples 1 to 3, a blocking test was carried out in the same manner as in the above example using a film provided with an antistatic layer and a cushion layer on a PET film. As a result, the five films could not be easily peeled off, and the antistatic layer and the cushion layer were strongly adhered to each other to cause blocking.
[0049]
The physical properties of the antistatic layer shown in the above Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1 below. It is clear from Table 1 that the antistatic layer formed of the tin oxide fine particle dispersion dispersed with the polyester resin and the acrylic resin as shown in the examples is excellent.
The evaluation criteria in Table 1 are as follows.
a) Electrostatic charge when the support is peeled off
○: No electrostatic discharge is felt even if the finger touches the glass after peeling
×: Discharge is slightly felt when the glass is touched with a finger after peeling.
XX: Discharge is intense when touching the glass with a finger after peeling
b) Blocking
：: no blocking: could not be easily peeled ×: not peelable
[0050]
[Table 1]
[0051]
【The invention's effect】
As described in detail above, the use of the phosphor transfer film provided with the antistatic layer provided by the present invention makes it possible to suppress peeling electrification, and for a good phosphor display without drawing in dust and dirt. It became clear that the pixel of Example 1 can be manufactured stably. In addition, even when a phosphor transfer film is produced, the blocking between the cushion layer and the antistatic layer is suppressed, so that the productivity is improved.
In addition, the tin oxide dispersion constituting the antistatic layer has excellent adhesion to a support or a cover film by dispersing tin oxide fine particles with a polyester resin or an acrylic resin, and further has a release from a cushion layer. The property is also good, and the blocking property is greatly improved.
The surface resistance of the cover film surface and the support surface provided with such an antistatic layer is 1 × 109Since it is lower than Ω / □, it has good antistatic performance even when the adherend is like glass.
Further, the antistatic layer can exhibit a sufficient effect even with a thickness of 0.1 to 2.0 μm.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram showing one embodiment of a phosphor transfer film of the present invention.
[Explanation of symbols]
1,7 ° antistatic layer
2) Cover film
3) Photosensitive adhesive layer
4 Photosensitive phosphor layer
5 cm cushion layer
6 support
