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JP2004002702A - プレポリマー材料、ポリマー材料、インプリンティングプロセスおよびその使用 - Google Patents

プレポリマー材料、ポリマー材料、インプリンティングプロセスおよびその使用 Download PDF

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JP2004002702A
JP2004002702A JP2003053111A JP2003053111A JP2004002702A JP 2004002702 A JP2004002702 A JP 2004002702A JP 2003053111 A JP2003053111 A JP 2003053111A JP 2003053111 A JP2003053111 A JP 2003053111A JP 2004002702 A JP2004002702 A JP 2004002702A
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デービッド・スパロウ
Maxim Shkunov
マキシム・シュクノフ
Iain Mcculloch
イアン・マックローチ
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Merck Patent GmbH
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Abstract

【課題】表面にレリーフを有するポリマー製品の製造におけるインプリンティングの方法において、スタンプまたはモールドからのポリマー製品の優良なリリース特性を有するプレポリマー材料の提供。
【解決手段】プレポリマー材料であって、成分A: 少なくとも1つのエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1つのモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性化合物、B: 少なくとも1つの架橋剤、C: 前記材料の重合を、適切な反応条件下において開始するための少なくとも1つの開始剤、およびD: フッ素化有機シランを含む、少なくとも1つの界面活性剤
を含む、プレポリマー材料を使用する。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はプレポリマー材料およびこのプレポリマー材料の重合によって得られるポリマー材料に関する。さらに、本発明は、少なくとも1つの、ポリマー製品のレリーフに対して逆構造のレリーフをプリンティング表面に有す、モールド(mold)またはスタンプ(stamp)を用いる、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造におけるインプリンティングの方法に関する。
したがって、本発明は、本発明のインプリンティングの方法によって得られる、表面にレリーフを有するポリマー製品にも関する。さらに、本発明はインプリンティングの方法による、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造における、本発明記載のプレポリマー材料の使用に関する。
本発明はまた、ポリマー電子デバイスにも関する。
【0002】
【従来の技術】
ポリマー電子デバイス、例えば有機発光ダイオード(OLEDs)、有機電界効果トランジスタ(OFETs)、および高分子集積回路は、現在、多大な研究の対象である。ポリマー材料の1つの主要な利点は、従来のシリコンに基づく電子デバイスと比較し、安価な生産コストであり、特に、電子および/または光学機能を有する、多数の部品および/または広いエリアが含まれる場合にそうである。更なる利点は、そのようなポリマーに基づくデバイスの機械的フレキシビリティ(mechanical flexibility)に関する。典型的なデバイス構造は、非特許文献1、非特許文献2、非特許文献3参照、非特許文献4、非特許文献5、非特許文献6に、具体的に記載されている。
【0003】
商業的に実用可能なポリマー電子デバイスにおいて、低コスト、計測可能な製造方法の発展が不可欠である。典型的なOFETsは有機材料の多層から作製され、したがって、多くの製造工程が要求される。各層の低コストプロセッシングは最優先事項であり、したがって、スタンピングまたはプリンティングを利用する技術は、一般的に、従来のリソグラフィーに対する安価な代替法であると考えられる。これらの技術はミクロコンタクトプリンティング(micro−contact printing)、スクリーンプリンティング、およびナノプインプリンティングを含む。トランジスタの流入/排出構造の大規模で、低コストな製作における有望なアプローチは、高分解能スタンピングである(非特許文献7参照)。このプロセスにおいて、弾性体スタンプおよびモールドは数10nmという小ささの特徴を創出するために用いられる。
【0004】
一般に、インプリンティング技術(非特許文献8参照)には、プレポリマー材料に浸漬され、次に、そのスタンプフィーチャー(stamp features)に流入するスタンプが要求される。スタンプの除去において、前記材料はこれらのフィーチャーを保持しなければならず、および本質的に、スタンプのネガティブイメージ(negative images)を生じる。このイメージの形成は、簡易に、最適化界面エネルギーによる、基板に対する液体の固定、または液体からガラス状態への冷却のような、プレポリマー材料の硬化、または多くの場合好ましくは光化学的である化学反応であって、液体ポリマー樹脂または液体モノマーを架橋し、それぞれガラス転移を室温より高くし、または室温以上のガラス転移を有するポリマーを生成する、前記化学反応の結果から生じることが可能である。
【0005】
インプリンティング技術は多くの場合、良好なスタンプからのリリース特性を示し、および高温度、圧力変化に関し、小さな体積変化(0.5%以下)しか示さないという理由から、ポリメチル(メタ)アクリレート(PMMA)を用いる。このため、前記材料はプロセスにおいて決められたフィーチャー(feature registration)の損失なしに用いられる。しかし、そのPMMAを用いる方法は、スタンプ/モールドがPMMAのガラス転移温度(約105℃)においての加熱が必要であるという事実によって複雑化する。また、ポリマーの粘度は高いため、そのスタンプに流入するために必要な時間は長く、プロセスを遅化させる。
【0006】
ポリジメチルシロキサン(PDMS)もまた、インプリンティングの方法において使用可能である(非特許文献9参照)。このタイプの材料は室温において、PMMAより低粘度、液体状態で存在可能であり、およびスタンプ充填後、スタンプのパーマネントネガティブイメージ(permanent negative images)を固化および生成する化学変化を経る。この化学変化を起こさせるための1つの方法は、光重合開始剤も含む樹脂、および光重合開始剤に適合する振動数において、光透過性であるスタンプまたは基板を必要とする光学架橋プロセスである。しかし、小さなフィーチャー解像度(feature resolution)、特に約5μmが要求される場合、この材料には問題が生じる。多くの場合、樹脂は完全にまたは簡易にスタンプからリリースされないと考えられる(前記文書の図1参照)。インプリンティングの方法中、完全なリリースが不可欠であり、さもなければ欠陥がスタンプ上に集積し、次のスタンピングステップ中に再生される。
【0007】
非特許文献10には、分散形フィードバック(DFB)共振器製造の他のプレポリマーにおいて、アクリレートに基づくプレポリマー(NOA 72:Norland Products, Inc.)を用いることが記載されている。PDMSと比較し、この材料はシリカスタンプからより効果的にリリースする。該アクリレートに基づくプレポリマーは、より滑らかな表面を形成し、そして収縮は小さい。しかし、この材料のリリース力は、多数の同一インプリントを生産するにはまだ不十分である。
【0008】
【非特許文献1】
シー・ジェイ・ドルリーら(C.J.Drury et al)著,「アプライド フィジカル レターズ (Applied Physical Letters)」, 73巻, 1998年, p. 108−110
【非特許文献2】
ゼット・バオ(Z.Bao)著,「アドバンス マテリアルズ(Advanced Materials)」, 12巻, 2000年, p. 227−230
【非特許文献3】
エム・マタ−ズら(M.Matters et al)著,「オプティカル マテリアルズ(Optical Materials), 12巻, 1999年, p. 189−197
【非特許文献4】
エイチ・シリンガウスら(H.Sirringhaus et al)著,「アプライドフィジカル レターズ (Applied Physical Letters)」, 77巻, 2000年, p. 406−408
【非特許文献5】
ゼット・バオ(Z.Bao), ジェイ・エイ・ロジャース(J.A.Rogers) およびエイチ・イー・カッズ(H.E.Katz),「ジェイ マタ− ケム(J.Mater.Chem)」, 9巻, 1999年, p. 1895−1904
【非特許文献6】
ゼット・バオ(Z.Bao)およびワイ・フェングら(Y.Feng et al) 著,「ケム マタ−(Chem. Mater.)」, 9巻, 1997年, p. 1299−1301
【非特許文献7】
エス・ワイ・チョウら(S. Y. Chou et al.)著, 「アプライド フィジカル レターズ(Appl. Phys. Lett.), 67巻, 1995年, p. 3114−3116
【非特許文献8】
ジェイ・エイ・ロジャースら(J.A. Rogers et al)著, 「シンセティック メタルズ(Synthetic Metals)」, 115巻, 2000年, p. 5−11
【非特許文献9】
エイ・クマー(A.Kumar)および ジー・エム・ホワイトサイド(G.M. Whitesides)著, 「アプライド フィジカル レターズ (Applied Physical Letters)」, 63巻, 1993年, p. 2002−2004
【非特許文献10】
ジェイ・エイ・ロジャースら(J.A. Rogers et al)著,「アプライド フィジカル レターズ(Applied Physical Letters), 73巻, 1998年, p. 1766−1768
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、不完全なインプリンティングおよびインプリントスタンプまたはモールドに対する不必要な付着の問題を解決するプレポリマー材料の提供である。
本発明の更なる目的は、少なくとも1つの、ポリマー製品のレリーフに対して逆構造であるレリーフをプリンティング表面に有すモールドまたはスタンプを用いる、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造において、不完全なインプリンティングおよびインプリントスタンプまたはモールドに対する不必要な付着の問題を解決するインプリンティングの方法の提供である。
【0010】
さらに、本発明の目的は、本発明のプレポリマー材料の使用の提供およびこのプレポリマーから得られるポリマー材料の提供である。
さらに、本発明の目的は、インプリンティングの方法によって得られ、およびインプリンティングの方法中、不必要な付着による欠陥が本質的にない、表面にレリーフを有するポリマー製品およびポリマー電子デバイスの提供である。
以下の詳細な説明から、本発明の他の目的が当業者に対し、即時に明らかになる。
【0011】
用語の定義
用語ポリマーエレクトロデバイスは、電子光学機能、例えば、抵抗器、ダイオード、トランジスタ、集積回路、発光ダイオードおよび電子光学ディスプレイ、を含む電子的機能、好ましくはマイクロエレクトロニクス機能を有し、少なくとも1つの機能、例えば、伝導、半伝導、および/または発光のような機能が、ポリマーおよび/または有機材料によって得られる、全てのデバイスおよび構成部品を含む。
そのようなポリマー電子デバイスの例としては、有機発光ダイオード(OLEDs)、有機電界効果トランジスタ(OFETs)、および例えば、OFETsを含有する重合体集積回路、例えば、薄膜トランジスタ(TFTs)を含有する、および液晶ディスプレイ(LCDs)および他のディスプレイのアクティブマトリクスなどの構成部品を多数含むデバイスである。
【0012】
用語インプリンティングの方法は、少なくとも1つのレリーフ表面を有するスタンプおよび/またはモールドが、少なくとも部分的にレリーフを満たし、後に、プレポリマーから硬化ポリマー状態に変化するプレポリマー材料に浸漬され、そしてその硬化ポリマーがモールドまたはスタンプからリリースされる、すべての技術を含む。
したがって、用語インプリンティングの方法は、ミクロおよびナノコンタクトプリンティングを含むコンタクトプリンティング、連続リール−トゥ−リール(reel−to−reel)プリンティング、スタンピング、エンボシング、および弾性体スタンプおよび/またはモールドを用いているインプリンティングの方法を含む、インプリンティングの方法である。これらの技術の例は、導入部に引用した文書およびそこに引用された文献に記載されている。
【0013】
用語レリーフは、表面に存する少なくとも1つの一定の、例えば、エッジ、ステップ、チャネル、リブ、トレンチ、メサ、グリッドのような構造および/またはパターンであって、表面における異なる高さの1レベルまたは2もしくは3以上のレベルに配列されてもよい、それらの共通部分および/または接合部を含むものを意味する。好ましくは、少なくとも1つの構造および/またはパターンは、1mm未満、好ましくは100μm未満、さらに好ましくは10μm未満、最も好ましくは1μm未満の少なくとも1つのディメンションにおいて、最小サイズを示す。
【0014】
【課題を解決するための手段】
発明の概要
本発明の対象の1つは、プレポリマー材料であって、成分
A: 少なくとも1つのエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1つのモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性化合物、
B: 少なくとも1つの架橋剤、
C: 前記材料の重合を、適切な反応条件下において開始するための少なくとも1つの開始剤、および
D: フッ素化有機シランを含む、少なくとも1つの界面活性剤
を含む、前記プレポリマー材料である。
本発明の別の対象は、本発明記載のプレポリマー材料の重合によって得られるポリマー材料である。
【0015】
本発明の更なる対象は、少なくとも1つの、ポリマー製品のレリーフに対して反転して構築されたレリーフをインプリンティング表面に有するモールドまたはスタンプを用いる、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造におけるインプリンティングの方法であって、ステップ
a) モールドまたはスタンプ表面上への、インプリンティング表面が、少なくとも部分的に界面活性剤の薄膜によって被膜されるように、フッ素化有機シランを含む少なくとも1種の界面活性剤を適用すること、
b) モールドまたはスタンプのインプリンティング表面のレリーフが、少なくとも部分的にプレポリマー材料で満たされるように、モールドまたはスタンプおよびプレポリマー材料を前記ポリマー材料に接触させること、
c) モールドまたはスタンプに接触中に、その表面に、レリーフを有するポリマー製品を産生するように、プレポリマー材料を重合すること、および
d) モールドまたはスタンプからポリマー製品をリリースさせること
を含む、前記インプリンティングの方法である。
【0016】
本発明の更なる対象は、本発明記載のインプリンティングの方法によって得られる、表面にレリーフを有するポリマー製品に関する。
さらに、本発明の対象は、少なくとも1つの本発明記載のポリマー製品を含むことを特徴とする、ポリマー電子デバイスに関する。
本発明の更なる対象は、本発明記載のインプリンティングの方法による、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造におけるプレポリマー材料の使用に関する。
【0017】
発明者は、本発明記載の成分A〜Cを含むプレポリマー材料に対し、少なくとも1つの、フッ素化有機シラン(成分D)を含む界面活性剤の付加が、不十分なインプリティングおよびインプリントモールドおよび/またはスタンプへの不必要な付着の問題を解決することを発見した。
さらに、本発明者らは、本発明のインプリンティングの方法によるインプリンティングモールドおよび/またはスタンプの前処理の結果、モールドおよび/またはスタンプからインプリントされたポリマー材料が完全にリリースされることも発見した。
【0018】
したがって、本発明者らの両発見によれば、少なくとも1つの、フッ素化有機シランを含む界面活性剤が用いられ、本質的に完全なレリーフ表面を有するポリマー製品を得ることができるようになった。ある1つのインプリンティングサイクル後、モールドおよび/またはスタンプ上に、プレポリマーまたはポリマー材料のパーツが残存しないため、モールドおよび/またはスタンプは、そのサイクルから次のサイクルに欠陥を持ち越すことなしに、何度も用いることができる。したがって、多くの本質的に完全なインプリントが単一のモールドまたはスタンプから生じる。本発明の思想を用いることによって、多くの部分および/または大きな面積の低コストおよび/またはハイスピードな製作のためのインプリンティング技術、特に連続的リール−トゥ−リール(reel to reel)インプリンティングの方法、を用いることが可能になる。したがって、本発明は、低コストにおいて高い信頼性を、レリーフ表面を有するポリマー製品、特にポリマー電子デバイスに提供するために必須のステップである。
【0019】
プレポリマー材料の組成、特に好ましくは主要成分である成分AおよびBの組成は、プロセッシング特性の最適化の観点から、特に以下の要求項の1項または2項以上の観点から選択される:
・室温、すなわち約20℃において、液体であること。
・モールドおよび/またはスタンプの表面のレリーフへのキャピラリーフローを十分に可能にする低粘度、好ましくは≦500mPas、さらに好ましくは250mPas未満の粘度。低粘度はモールドおよび/またはスタンプの早い充填時間を達成するために好ましい。
・光重合に使用される波長領域中においてのプレポリマー材料の透明性。
・光重合開始剤の存在下、UV光に照射された場合の架橋。
・短いプロセス時間を可能にすること、最も好ましくは、要求される硬化操作中、乾燥または加熱を全く要しない、短いプロセス時間。
・低収縮率、好ましくは1%未満、さらに好ましくは0.5%未満。
・モールドおよび/またはスタンプのレリーフ解像度の転移および維持。
・同一性が高いポリマー材料、特にインプリンティングエリア全体上の粘着性ポリマー膜、例えば12インチウェファーの高い収率。
・平らでかつ滑らかな表面の提供、特にモールドおよび/またはスタンプがレリーフフィーチャーを示さない部位における、平らな表面。
・結果として生じるポリマー材料の十分な機械的特性。
【0020】
成分Aは、好ましくは、共重合可能成分を有するかまたは有さず、(メタ)アクリロイル重合可能材料を含む。(メタ)は、重合可能材料がメタクリルまたはアクリル材料でよいということを示している。(メタ)アクリロイルおよび共重合可能材料の混合物を用いてもよい。有用な材料には、モノマー、オリゴマー、アクリル酸のポリマーおよびコポリマー、メタアクリル酸、アクリレート、メタアクリレート、ポリビニルアセテートおよびポリスチレンを含む。好ましいアクリレートは、アルキルアクリレートおよびアルキルメタアクリレートであって、ここでアルキルは1〜12個の炭素原子を有する。好ましいアクリレートの例は、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレートである。好ましいアルキルメタアクリレートの例は、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、n−ブチルメタアクリレートおよびイソブチルメタアクリレートである。
【0021】
プレポリマー材料の成分Aは、好ましくは、(メタ)アクリレートベースモノマーまたは、2または3つ以上の(メタ)アクリレートベースモノマーの混合物を含む。(メタ)アクリレートベースモノマーは、好ましくは、メルカプトエステル(メタ)アクリレートモノマーである。
さらに、成分Aは、好ましくは、少なくとも1種のテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートを含む。
最も好ましくは、成分Aは、少なくとも1種のテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートを含む、2種または3種以上の(メタ)アクリレートベースモノマーの混合物である。
【0022】
成分Bの架橋剤は、少なくとも1つの成分Aの化合物を、架橋することができる多機能性成分である。好ましくは、成分Bは、モノマーに、2、3、4、5、6または7個以上のエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1種のポリ(メタ)アクリロイル材料を含む。
適した成分Bは、ポリヒドロアルコールのポリアクリルまたはポリメタクリル酸エステルであって、好ましくは2〜12個の炭素原子および2〜6個のOH基を有する直鎖、分枝または環状脂肪族基を有するもの、などの材料を含んでもよい。
好ましいポリヒドロアルコールのポリ(メタ)アクリレートは、
・エチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,3−シクロペンタンジオールなどの脂肪族ジオールのジ(メタ)アクリル酸エステル
・グリセリン、1,2,3−プロパントリメタノール、1,2,5−ペンタノール、1,3,6−ヘキサノールなどの脂肪族トリオールのトリ(メタ)アクリル酸エステル
・1,1,3,3−テトラメチロールプロパンおよびペンタエリトリトールなどの脂肪族テトラオールのテトラ(メタ)アクリル酸エステル、および
・これらの化合物のペンタおよびヘキサ対応物
である。
【0023】
成分Cは、前記混合物の重合を、適切な反応条件下において開始するための、少なくとも1つの開始剤である。エチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する化合物の重合のための開始剤は、当業者に既知である。原則として重合は、温度の上昇、pHの変化、に電磁気もしくは粒子照射または反応性化合物への曝露に対し、フリーラジカルまたはイオンを配置する開始剤によって開始されてもよい。化学線放射、特に315〜400nmの範囲のUV光線への曝露に対して、フリーラジカルまたはカチオンを生じることができる光重合開始剤が好ましい。適した光重合開始剤は、ジアリルヨードニウム塩、トリアリルスルホニウム塩およびs−トリアジンのような光酸を含むが、これらに限られない。好ましい光重合開始剤はフリーラジカル光重合開始剤、例えば、アシロインおよびその誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンジル、ジアセチルなどのジケトン、アセトフェノン、2,2,2−トリブロモ−1−1フェニルエタノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノンなどのフェノンなどである。
【0024】
成分Dは、少なくとも1つの、フッ素化有機シランを含む界面活性剤である。特に、それらの界面活性剤は、疎水性および疎脂肪性基の両方を有し、非常に良好なインプリンティング結果を生じる。
好ましい界面活性剤は、式I
(RO)SiR’4−n   I
式中、R、R’は互いに独立して、1〜15個の炭素原子を含有する直鎖、分枝または環状アルキル基であり、式中、1または2個以上の水素原子がフッ素および/または塩素によって置換されてもよく、および式中、4つの基R、R’の少なくとも1つが1個または2個以上のフッ素原子を含み、および
nは1、2、3または4である、
で表される、フッ素化有機シランである。
式IおよびIaの誘導体において、Rおよび/またはR’が2度または3度以上生じる場合、これらは同一または異なった意味を有する。好ましくは、基R、R’の少なくとも1つは、上記に定義されたアルキル基であり、少なくとも2個の水素原子がフッ素によって置換されている。nの好ましい意味は、2または3であり、最も好ましくは3である。
【0025】
好ましいフッ素化オルガノシランは、式Ia
(RO)SiR’  Ia
式中、Rは1〜6個の炭素原子を含有する直鎖、分枝または環状アルキル基であり、および
R’は1〜3個の炭素原子を有し、2個または3個以上の水素原子がフッ素によって置換されている、直鎖、分枝または環状アルキル基である、
で表される。
好ましくは、R’は、式CF(CF(CH−の基であり、xおよびyが等しいかまたは異なって0〜6であり、好ましくは1、2、3、4および/または5である。
好ましい基Rは、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、n−ペントキシおよびヘキソキシである。
【0026】
組成物A、BおよびCにおける界面活性剤の濃度は、モールドおよび/またはスタンプからの十分なリリース特性を達成するために、十分に高いものが選択されなければならない。一方、界面活性剤の濃度は、望ましくない表面の欠陥を引き起こす可能性がある、プレポリマー材料からの相分離を防ぐために、十分に低くすべきである。
適切な量は、モールドの表面積および関連する全表面積から計算することができる。下限は好ましくは、0.01mg/mであり、最も好ましくは、1mg/mである。上限は好ましくは、1000mg/mであり、最も好ましくは100mg/mである。
【0027】
成分の下限の好ましい値は:
・成分A:10重量%、最も好ましくは、60重量%。
・成分B:0.1重量%、最も好ましくは、1重量%。
・成分C:0.01重量%、最も好ましくは、0.1重量%。
・成分D:0.001重量%、最も好ましくは、0.005重量%。
成分の上限の好ましい値は:
・成分A:99.8重量%、最も好ましくは、99重量%。
・成分B:90重量%、最も好ましくは、40重量%。
・成分C:10重量%、最も好ましくは、5重量%。
・成分D:1重量%、最も好ましくは、0.1重量%。
極めて好ましい組成は、
・成分A:80〜90重量%。
・成分B:1〜20重量%。
・成分C:0.1〜5重量%。
・成分D:0.005〜0.1重量%。
を含有することを特徴とする。
【0028】
本発明者らは、接着剤NOA(Norland Products Inc.の商標)、特に接着剤NOA72、およびモールドまたはスタンプに対して、極めて低い粘着特性を含む、上記要件を満たす、フッ素化有機シランを含む少なくとも1つの、界面活性剤の組成物を発見した。したがって、少なくとも1つの1μm未満という極めて微小なディメンションを有するレリーフ表面をもインプリント可能であり、本質的に完全な結果を導く。NOA接着剤ベースの好ましい組成物は、少なくとも1つの本発明による界面活性剤、特に、前記において好ましいと記載された界面活性剤を50〜100ppm含む。
Norland Products Inc.の製品情報によれば、NOA72は、315〜400nmの紫外線光および400〜450nmの可視光によって硬化し、商業的に入手可能な接着剤である。最大吸収波長は320、365および450nmである。完全な硬化は315〜450nmにおいて、5Joules/cmのエネルギーを要求する。NOA72は光学的に透明、液体の接着剤であり、予備混合、フライング(frying)または加熱硬化を必要とせず、100%固体になり、および光学的結合アプリケーションに用いられる。NOA72は、25℃で、155cpsの粘度を有す。硬化したポリマー材料は、屈折率1.56、硬度75(Shore D)、誘電定数3.98(1MHz)および体積抵抗7.37×1014Ωcmを有する。
【0029】
以下に本発明記載のインプリンティングの方法の好ましい態様および変形が記載される。
ステップa) において、フッ素化有機シランを含む少なくとも1つの界面活性剤が、少なくともインプリンティング表面の部分が界面活性剤の薄膜で覆われるようにモールドまたはスタンプ表面に適用される。
好ましい技術は、スピンコーティング、噴霧、蒸着および/または浸漬コーティング法であり、界面活性剤自体または界面活性剤を含む溶液を適用するものである。適切な溶媒に前記界面活性剤を導入すると、製造コストを減少せしめ、およびプロセシングを促進する場合がある。適切な溶媒は、例えば、水、トルエンのような、炭化水素、ブタノン、またはメチルエチルケトンのようなケトン、およびこれらの混合物である。
【0030】
溶媒が用いられる場合、ステップb)の実行前にそれを蒸発せしめると都合がいい。前記界面活性剤は、好ましくは、0〜120℃、特に15〜40℃の温度で適用される。界面活性剤が、モールドまたはスタンプのインプリンティング表面上に均一な薄膜として適用された場合に、良好なインプリンティングの結果が達成される。薄膜の厚さは、好ましくは、500nm未満、特に10nm未満である。好ましくは、界面活性剤はモールドまたはスタンプ表面に、自己集合してもよい連続単分子膜として適用される。最初にスタンプまたはモールドを、完全な被覆および界面活性剤の配列(ordering)を確実にするために、少なくとも5分間以上、特に1時間および24時間までまたはそれ以上処理することは有利であることが証明されている。短い処理時間は、界面活性膜または層を復元するために、すなわちスタンプが以前に処理されている場合に、用いることができる。スタンプを界面活性剤によって処理した後、過剰の界面活性剤は、スタンプから回転除去または吹出除去される。
【0031】
フッ素化有機シランを含み、前記において好ましいとされた、界面活性剤は特に好ましい。極めて好ましくは、ステップa)は、上記定義の式Iの1種または2種以上のフッ素化有機シランを用いて実行される。
ステップb)において、モールドまたはスタンプは、モールドまたはスタンプのインプリンティング表面のレリーフが少なくとも部分的にプレポリマー材料によって満たされるように、プレポリマー材料に接触せしめられる。通常、モールドまたはスタンプのレリーフ表面は、プレポリマー材料が有利に完全にインプリンティング表面のレリーフを満たすようにプレポリマー材料上にプレスされる。インプリンティング深度は、僅か数マイクロメートルまたは1μm未満より遙かに小さくてよい。ここにおいて、適用可能なインプリンティング技術は、導入部および用語の定義セクションの引用文書およびそこに引用された文献中に記載されている。
【0032】
好ましいモールドまたはスタンプは、特に、リソグラフィープロセス、レーザーおよび電子ビームライティングを含むマイクロエレクトロニクス、ミクロおよびナノテクノロジーの分野における専門家に既知の技術を用いて、ミクロメーターおよび/またはナノメーター範囲での構築が可能な材料から作製される。最小サイズのレリーフより10倍小さいオーダーの表面粗度を生じせしめる構築技術は好ましい。光重合開始剤が使用される場合、モールドまたはスタンプ、もしくは基板にプレポリマー材料がコーティングされる場合、少なくとも光重合開始剤が重合を開始できる波長範囲において少なくても基板が、透明であると有利である。
【0033】
好ましいプロセスは、成分
A: 少なくとも1つのエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1つのモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性化合物、
B: 少なくとも1つの架橋剤、および
C: プレポリマー材料の重合を、適切な反応条件下において開始するための少なくとも1つの開始剤、
を含む、プレポリマー材料が使用されることを特徴とする。
好ましくは、それらの成分A、Bおよび/またはCならびに含有量は、前記において好ましいと記載されたものが用いられる。
最も好ましくは、本発明による成分A、B、CおよびDを含む、プレポリマー材料が用いられる。この態様によれば、モールドおよび/またはスタンプへの界面活性剤の適用によって、ポリマー材料のモールドまたはスタンプへの付着は劇的に減少し、および前記活性剤がプレポリマー材料の成分Dを含むことによっても増強される。しかし、本発明記載の界面活性剤を含まないプレポリマー材料を用いても、すなわち、既に界面活性剤がモールドまたはスタンプにコーティングされいても、本発明のインプリンティングの方法は良好な結果をもたらす。
【0034】
ステップc)において、プレポリマー材料はモールドまたはスタンプとの接触中において重合され、表面にレリーフを有すポリマー製品を産生する。重合プロセスは、使用された重合開始剤の化学種にしたがって開始される。光化学放射、特にUVおよび/または可視光による開始が好ましいが、プレポリマー材料の加熱によって実行されてもよい。光重合開始剤の場合において、プレポリマー材料は、放射されなければならないが、スタンプによって、基板にプレスされる場合、モールドまたはスタンプおよび/または基板が少なくとも使用した波長範囲において透明であることを要する。
モールドまたはスタンプおよび/または基板に適した透明材料は、既知の方法、特にリソグラフィーおよびエッチング法によって微小構築されてもよいシリカ、ガラス、およびクォーツを含む。10秒未満、好ましくは、3秒未満の硬化時間は多数の製品の低コスト製造において有利である。
【0035】
ステップd)において、ポリマー製品は、モールドまたはスタンプからリリースされる。これは既知の方法、特にインプリンティングおよびモールディング技術の分野における方法、例えば、エジェクションデバイスを用いることによって達成される。ステップb)およびc)の間、形成されたポリマー製品がモールドおよび/またはスタンプによって基板にプレスされている場合、ポリマー製品もまた基板からリリースされてもよく、または代わりに、基板上に維持されてもよくそれはポリマー製品の次の製造ステップへの運搬において利点となり得、および/または基板が製造品の集積された部分になってもよい。モールドおよび/またはスタンプからのポリマー製品のリリースが、モールドおよび/またはスタンプのレリーフ表面において、いずれかのポリマー材料が残存することなしに容易に実行可能であることは、本発明の特別な利点である。したがって、本発明によれば、モールドおよび/またはスタンプをクリーニングするための更なるステップを続けなければならないことは、一般的に不必要である。
【0036】
本発明によるインプリンティングの方法、を用いることによって、個々のプロセスサイクルにおいて、1個のポリマー製品だけでなく、多数のポリマー製品も同時に製造され得て、連続プロセス、例えば、リール・トゥー・リール技術のようなものが最も好ましいことは、当業者には明らかである。
【0037】
理想的には、モールドおよび/またはスタンプは、本発明にしたがって、一度だけ被覆される。しかし、ポリマー材料への付着および損失のため、通常多数のインプリンティングのサイクルの後、界面活性剤はモールドおよび/またはスタンプ表面上に、再び被覆されなければならない。サイクル数は、1〜10の間であり、使用されたポリマー材料、界面活性剤、モールドまたはスタンプの材料および特徴、および温度、圧力、速度等のようなプロセスのパラメーターに依存する。
【0038】
上記インプリンティングの方法によって得られる、本発明によるポリマー製品は、好ましくは、10μm未満、さらに好ましくは1μm未満、最も好ましくは100 nmと同様またはそれ未満、の少なくとも1つのディメンションの極めて微細なサイズの構造および/またはパターンを有する。ポリマー製品は、好ましくは、本発明記載の成分A、BおよびCのいずれかを含むプレポリマー材料の重合によって、所有可能なポリマー材料に基づく。ポリマー製品は同じまたは異なる材料の、他の構築または非構築部分を含んでもよい。
【0039】
本発明によるのインプリンティングの方法同様、プレポリマー材料は、ポリマー電子デバイスおよびその構成成分の製造において、極めて有利に有用である。例としては、薄膜トランジスタ、OFET、OLED、ディスプレイのための大面積駆動回路、特にLCDs、発電アプリケーションおよびスマートカード、電気荷物タグ、IDカード、クレジットカード、チケットなどの低コストメモリーデバイスである。本発明によるポリマー製品は、好ましくは、レリーフフィーチャー自体が機能性を有する、例えば、機械的なおよび/または光学的機能を有し、および/またはレリーフフィーチャーが、望ましい機能、例えば伝導性、半導性、光学、光輝性またはエレクトロルミネセンス特性、を有している材料で満たされた、レリーフ表面を有する絶縁体材料を含む、基板または誘電体として用いられる。
【0040】
好ましい例は、絶縁基板が、ソースおよびドレイン材料の取り込みのためのチャネルを示すOFETまたは多数のOFETである。基板は厚さ約50〜1000nmの層を有する。チャネルは部分的に平行に配列されてもよく、およびインターディジタル(interdigital)構造を形成してもよい。基板は本発明のプレポリマー材料および/または本発明のインプリンティングの方法によって作製される。インプリンティングの方法は、後に、OFETのソースおよびドレイン材料を構築するために、伝導性材料で満たされるチャネルを定める。そのようなOFETのさらなる製造ステップは、半導体材料でのコーティングを含み、次に誘電膜によるコーティングを含む。誘電膜上には、半導体材料とは逆におよび/またはソースおよびドレイン電極間にゲート材料が適用される。ソース、ドレインおよびゲート材料は、電気的に電極に接続されてもよい。全体のデバイスは、封入材料に、密封されてもよい。OFETの一般的な構造および製造は、引用文献中に詳細に記載されている。
【0041】
本発明記載のプレポリマー材料、インプリンティングの方法およびポリマー製品の、更なる有利な応用は、ミクロおよびナノ構造化されたポリマー製品、例えば、ミクロメカニカル、エレクトロメカニカル、光学または流体デバイスもしくはこれらの構成成分である。そのようなデバイスの例は、圧力または加速度センサー、電気的および/または光学的スイッチもしくはコネクター、光学格子またはリフレクター、ミクロリアクションコンポーネント、バイオチップおよびミクロ分析デバイス、である。
【0042】
本明細書中に記載する全ての出願、特許および刊行物の全ての開示内容は、参照により本明細書中に組み込まれる。
前記記載から、当業者は、本発明の本質的な特性を容易に確認することができ、およびその思想および範囲から離れることなく、種々の使用法または条件に適合させるために、本発明に様々な変化および修正を加えることができる。
【0043】
【実施例】
下記の例は、本発明を更に説明するものであり、発明の思想および範囲の限定として解釈されるべきではない。
1.プレポリマー材料
組成:
成分1 99.9重量% NOA72(Norland Inc.)
成分2 0.1重量% F8261(Degussa)
成分2はトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル−1−トリエトキシシランを含み、および本発明による有機シラン界面活性剤として用いられる。
上記定義の成分1および2からなるプレポリマー材料の特性は、本質的にプレポリマー単独に対して特定されたものと同様である。25℃で155mPasの粘度を示す。主な違いは、硬化ポリマーの小さな界面エネルギーである。硬化ポリマー材料は屈折率1.56、強度75(Shore D)、誘電定数3.98(1MHzにおいて)および体積抵抗7.37×1014Ωcmを有する。
【0044】
2.スタンプ
2.1スタンプの構造
十分に研磨された石英ガラスから作製された、直径2.5cmおよび厚さ5mmのディスクが使用される。1つの表面は、表面に対して平行な2次元において、すなわち幅、または長さにおいて、1μm〜5000μmサイズのレリーフ構造を含み、および約1μmのフィーチャーの深さを含む。そのパターンは、約1μmのチャネル幅を有するソース・ドレインインターデジタル化フィンガー(source−drain interdigitated finger)構造として記載されることができる。レリーフ構造を有する領域は2cmの直径を有し、およびスタンプ表面内の中央に位置する。スタンプ表面は光リソグラフィックまたは電子線リソグラフィー技術によって構築される。
【0045】
2.2スタンプ表面の洗浄
スタンプのインプリンティング表面は、スタンプを水、アセトンおよびイソプロパノールによって、互いに連続的に超音波浴で少なくとも10分間処理することによって、十分に洗浄される。
【0046】
2.3スタンプ表面の前処理
スタンプは十分な量の(約100mg)界面活性剤F8261によって処理され、スタンプ表面は完全に覆われる。界面活性剤はスタンプ表面上に20℃において、約2時間放置される。スタンプがあらかじめ処理されている場合、短い処理時間を用いることができる。スタンプが界面活性剤によって処理された後、スタンプの過剰な界面活性剤は吹出除去される。少なくとも界面活性剤の自己集合単分子膜(SAM)は残る。
【0047】
3.インプリンティングの方法
清潔で、十分に研磨されたシリコンウェファー基板を水平にクランプし、そしてその上側に、上記において定めたプレポリマー材料約100mgを中心に付加する。記載の前処理表面のスタンプもまた、水平にクランプし、そして4ミクロンの間隙を形成するようにシリコンウェファーに近接されその間隙は毛細管作用によって、プレポリマー材料で満たされる。過剰プレポリマーはスタンプのエッジに流れる。
プレポリマー材料はクオーツスタンプ上部に対する照射によって、光重合化される。5分間の所要時間において、365nmおよび5mW/cmの光線が用いられる。
スタンプはポリマー材料およびシリコン基板から離される。この瞬間、ポリマーがスタンプより基板に優先的に固着する、競合的デウェッティングが起こる。その結果、スタンプのレリーフ構造のUV硬化レプリカが基板に固定されたまま残り、そして界面活性剤はスタンプ上に連続単分子膜として残る。
【0048】
製造されたポリマー製品はスタンプの反転レリーフに対応するレリーフ構造を示す。この構造は機械的に強く、水平である。高コヒーレントなポリマー膜、特に均一層インプリンティング領域全体に広がる均一層が産生される。平らでかつスムーズな表面、特に、モールドまたはスタンプがレリーフフィーチャーを示さない均一な(flat)表面が得られる。さらに、このサイクルを用いることによって、この構造を、確実に、多くの回数にわたり製造することが可能である。

Claims (17)

  1. プレポリマー材料であって、成分
    A: 少なくとも1つのエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1つのモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性化合物、
    B: 少なくとも1つの架橋剤、
    C: 前記材料の重合を、適切な反応条件下において開始するための少なくとも1つの開始剤、および
    D: フッ素化有機シランを含む、少なくとも1つの界面活性剤
    を含む、前記プレポリマー材料。
  2. 成分Aが、1種の(メタ)アクリレートベースモノマーまたは、2種または3種以上の(メタ)アクリレートベースモノマーの混合物を含むことを特徴とする、請求項1に記載のプレポリマー材料。
  3. (メタ)アクリレートベースモノマーが、メルカプトエステル(メタ)アクリレートモノマーであることを特徴とする、請求項2に記載のプレポリマー材料。
  4. 成分Aが、少なくとも1種のテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のプレポリマー材料。
  5. 成分Bの架橋剤が、2種または3種以上のエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のプレポリマー材料。
  6. 請求項1〜5のいずれかに記載のプレポリマー材料であって、界面活性剤が、式I
    (RO)SiR’4−n   I
    式中、R、R’は互いに独立して、1〜15個の炭素原子を含有する直鎖、分枝または環状アルキル基であり、式中、1個または2個以上の水素原子がフッ素および/または塩素によって置換されてもよく、および式中、4つのR、R’基の少なくとも1つが、1個または2個以上のフッ素原子を含み、および
    nは1、2、3または4である、
    で表されるフッ素化有機シランであることを特徴とする、前記プレポリマー材料。
  7. 請求項1〜6のいずれかに記載のプレポリマー材料であって、
    成分A: 88〜99 重量%
    成分B: 1〜20 重量%
    成分C: 0.1〜5 重量%
    成分D: 0.005〜0.1 重量%
    を含むことを特徴とする、前記プレポリマー材料。
  8. 請求項1〜7のいずれかに記載のプレポリマー材料の重合によって得られるポリマー材料。
  9. 少なくとも1つの、ポリマー製品のレリーフに対して反転して造築されたレリーフをインプリンティング表面に有するモールドまたはスタンプを用いる、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造におけるインプリンティングの方法であって、ステップ
    a) モールドまたはスタンプ表面上への、インプリンティング表面が、少なくとも部分的に界面活性剤の薄膜によって被膜されるように、フッ素化有機シランを含む少なくとも1種の界面活性剤を適用すること、
    b) モールドまたはスタンプのインプリンティング表面のレリーフが、少なくとも部分的にプレポリマー材料で満たされるように、モールドまたはスタンプおよびプレポリマー材料を前記プレポリマー材料に接触させること、
    c) モールドまたはスタンプに接触中に、その表面に、レリーフを有するポリマー製品を産生するようにプレポリマー材料を重合すること、および
    d) モールドまたはスタンプからポリマー製品をリリースさせること
    を含む、前記インプリンティングの方法。
  10. 請求項9に記載のインプリンティングの方法であって、成分
    A: 少なくとも1つのエチレン性不飽和(メタ)アクリロイル基を有する、少なくとも1つのモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性化合物、
    B: 少なくとも1つの架橋剤、および
    C: プレポリマー材料の重合を、適切な反応条件下において開始するための少なくとも1つの開始剤
    を含む、プレポリマー材料が用いられることを特徴とする、前記インプリンティングの方法。
  11. 請求項2〜5のいずれかにおいて定義された、成分Aおよび/またはBを特徴とする、請求項10に記載のインプリンティングの方法。
  12. 請求項1〜7のいずれかに記載のプレポリマー材料が用いられることを特徴とする、請求項9に記載のインプリンティングの方法。
  13. 界面活性剤が、請求項6において定義された、式Iのフッ素化有機シランであることを特徴とする、請求項9〜12のいずれかに記載のインプリンティングの方法。
  14. 請求項9〜13のいずれかに記載のインプリンティングの方法によって得られる、表面にレリーフを有するポリマー製品。
  15. インプリンティングの方法による、表面にレリーフを有するポリマー製品の製造における、請求項1〜7のいずれかに記載のプレポリマー材料の使用。
  16. ポリマー製品がポリマー電子デバイスのパーツであることを特徴とする、請求項15に記載の使用。
  17. 少なくとも1つの請求項14に記載のポリマー製品を含むことを特徴とする、ポリマー電子デバイス。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006310565A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Asahi Glass Co Ltd 加工基板の製造方法
JP2006310566A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Asahi Glass Co Ltd 加工基板の製造方法
JP2007523249A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド インプリントリソグラフィ用の材料
JP2007314791A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Lg Phillips Lcd Co Ltd パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法
US8540925B2 (en) 2005-04-21 2013-09-24 Asahi Glass Company, Limited Photocurable composition, micropattern-formed product and its production process
CN113710768A (zh) * 2019-04-24 2021-11-26 赢创运营有限公司 具有增大的导热率的含有无机颗粒的液体分散体

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060108710A1 (en) * 2004-11-24 2006-05-25 Molecular Imprints, Inc. Method to reduce adhesion between a conformable region and a mold
US20050160934A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-28 Molecular Imprints, Inc. Materials and methods for imprint lithography
US7307118B2 (en) * 2004-11-24 2007-12-11 Molecular Imprints, Inc. Composition to reduce adhesion between a conformable region and a mold
US7157036B2 (en) 2003-06-17 2007-01-02 Molecular Imprints, Inc Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold
KR101179063B1 (ko) * 2004-02-23 2012-09-07 더 보드 오브 리전츠 오브 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 임프린트 리소그래피용 재료
US20060062922A1 (en) 2004-09-23 2006-03-23 Molecular Imprints, Inc. Polymerization technique to attenuate oxygen inhibition of solidification of liquids and composition therefor
WO2006057843A2 (en) * 2004-11-24 2006-06-01 Molecular Imprints, Inc. Method and composition providing desirable characteristics between a mold and a polymerizable composition
US7635263B2 (en) 2005-01-31 2009-12-22 Molecular Imprints, Inc. Chucking system comprising an array of fluid chambers
US20060177535A1 (en) * 2005-02-04 2006-08-10 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography template to facilitate control of liquid movement
US7636999B2 (en) 2005-01-31 2009-12-29 Molecular Imprints, Inc. Method of retaining a substrate to a wafer chuck
US7798801B2 (en) 2005-01-31 2010-09-21 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for nano-manufacturing
US8557351B2 (en) 2005-07-22 2013-10-15 Molecular Imprints, Inc. Method for adhering materials together
US8808808B2 (en) 2005-07-22 2014-08-19 Molecular Imprints, Inc. Method for imprint lithography utilizing an adhesion primer layer
US7759407B2 (en) 2005-07-22 2010-07-20 Molecular Imprints, Inc. Composition for adhering materials together
US8142703B2 (en) 2005-10-05 2012-03-27 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography method
EP2047199A2 (en) 2006-07-20 2009-04-15 Modine Manufacturing Company Flat tube, flat tube heat exchanger, and method of manufacturing same
US20080047930A1 (en) * 2006-08-23 2008-02-28 Graciela Beatriz Blanchet Method to form a pattern of functional material on a substrate
US7604836B2 (en) * 2006-12-13 2009-10-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Release layer and resist material for master tool and stamper tool
US8083953B2 (en) 2007-03-06 2011-12-27 Micron Technology, Inc. Registered structure formation via the application of directed thermal energy to diblock copolymer films
US8557128B2 (en) 2007-03-22 2013-10-15 Micron Technology, Inc. Sub-10 nm line features via rapid graphoepitaxial self-assembly of amphiphilic monolayers
US20080233489A1 (en) * 2007-03-22 2008-09-25 Graciela Beatriz Blanchet Method to form a pattern of functional material on a substrate using a stamp having a surface modifying material
US20080233280A1 (en) * 2007-03-22 2008-09-25 Graciela Beatriz Blanchet Method to form a pattern of functional material on a substrate by treating a surface of a stamp
US7875313B2 (en) 2007-04-05 2011-01-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method to form a pattern of functional material on a substrate using a mask material
US7959975B2 (en) 2007-04-18 2011-06-14 Micron Technology, Inc. Methods of patterning a substrate
US8294139B2 (en) * 2007-06-21 2012-10-23 Micron Technology, Inc. Multilayer antireflection coatings, structures and devices including the same and methods of making the same
US8097175B2 (en) 2008-10-28 2012-01-17 Micron Technology, Inc. Method for selectively permeating a self-assembled block copolymer, method for forming metal oxide structures, method for forming a metal oxide pattern, and method for patterning a semiconductor structure
US8372295B2 (en) 2007-04-20 2013-02-12 Micron Technology, Inc. Extensions of self-assembled structures to increased dimensions via a “bootstrap” self-templating method
US8404124B2 (en) 2007-06-12 2013-03-26 Micron Technology, Inc. Alternating self-assembling morphologies of diblock copolymers controlled by variations in surfaces
US8080615B2 (en) 2007-06-19 2011-12-20 Micron Technology, Inc. Crosslinkable graft polymer non-preferentially wetted by polystyrene and polyethylene oxide
US20090191356A1 (en) * 2008-01-28 2009-07-30 Hee Hyun Lee Method for forming a thin layer of particulate on a substrate
US8999492B2 (en) 2008-02-05 2015-04-07 Micron Technology, Inc. Method to produce nanometer-sized features with directed assembly of block copolymers
US8101261B2 (en) 2008-02-13 2012-01-24 Micron Technology, Inc. One-dimensional arrays of block copolymer cylinders and applications thereof
US8425982B2 (en) 2008-03-21 2013-04-23 Micron Technology, Inc. Methods of improving long range order in self-assembly of block copolymer films with ionic liquids
US8426313B2 (en) 2008-03-21 2013-04-23 Micron Technology, Inc. Thermal anneal of block copolymer films with top interface constrained to wet both blocks with equal preference
US8114301B2 (en) 2008-05-02 2012-02-14 Micron Technology, Inc. Graphoepitaxial self-assembly of arrays of downward facing half-cylinders
US20100109195A1 (en) 2008-11-05 2010-05-06 Molecular Imprints, Inc. Release agent partition control in imprint lithography
KR101363783B1 (ko) * 2008-11-14 2014-02-17 엘지디스플레이 주식회사 임프린팅용 감광성 수지 조성물 및 기판 상에 유기막을 형성하는 방법
KR101309865B1 (ko) * 2009-12-23 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 소자의 제조 장치 및 방법
US8900963B2 (en) 2011-11-02 2014-12-02 Micron Technology, Inc. Methods of forming semiconductor device structures, and related structures
US9087699B2 (en) 2012-10-05 2015-07-21 Micron Technology, Inc. Methods of forming an array of openings in a substrate, and related methods of forming a semiconductor device structure
US9229328B2 (en) 2013-05-02 2016-01-05 Micron Technology, Inc. Methods of forming semiconductor device structures, and related semiconductor device structures
US9177795B2 (en) 2013-09-27 2015-11-03 Micron Technology, Inc. Methods of forming nanostructures including metal oxides
JP6504653B2 (ja) 2014-03-31 2019-04-24 東洋合成工業株式会社 組成物及び部品の製造方法
JP6472189B2 (ja) * 2014-08-14 2019-02-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1109580A (en) * 1977-11-03 1981-09-22 Kohtaro Nagasawa Radiation curable resin composition
JPS5850664B2 (ja) * 1979-05-10 1983-11-11 信越化学工業株式会社 合成樹脂用改質剤
US4585833A (en) * 1983-05-26 1986-04-29 Union Carbide Corporation Low shrinkling curable poly(acrylate) molding compositions
DE69527969D1 (de) * 1994-09-22 2002-10-02 Micro Lithography Inc Verfahren zur verklebung einer optischen membranaddeckung für rahmen
US6593392B2 (en) * 2001-06-22 2003-07-15 Corning Incorporated Curable halogenated compositions

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523249A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド インプリントリソグラフィ用の材料
JP2012195610A (ja) * 2004-02-23 2012-10-11 Molecular Imprints Inc インプリントリソグラフィ用の材料
JP2015130499A (ja) * 2004-02-23 2015-07-16 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド インプリントリソグラフィ用の材料
US8540925B2 (en) 2005-04-21 2013-09-24 Asahi Glass Company, Limited Photocurable composition, micropattern-formed product and its production process
JP2006310565A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Asahi Glass Co Ltd 加工基板の製造方法
JP2006310566A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Asahi Glass Co Ltd 加工基板の製造方法
JP2007314791A (ja) * 2006-05-24 2007-12-06 Lg Phillips Lcd Co Ltd パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法
CN113710768A (zh) * 2019-04-24 2021-11-26 赢创运营有限公司 具有增大的导热率的含有无机颗粒的液体分散体
JP2022531143A (ja) * 2019-04-24 2022-07-06 エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー 無機粒子を含有する熱伝導率が向上した液体分散体

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