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JP2003532905A - Direct recording image processing medium - Google Patents

Direct recording image processing medium

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Publication number
JP2003532905A
JP2003532905A JP2000539997A JP2000539997A JP2003532905A JP 2003532905 A JP2003532905 A JP 2003532905A JP 2000539997 A JP2000539997 A JP 2000539997A JP 2000539997 A JP2000539997 A JP 2000539997A JP 2003532905 A JP2003532905 A JP 2003532905A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
image processing
wavelength
light
recording image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000539997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ノーマン スウィート
Original Assignee
プレシジョン コーティングス インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プレシジョン コーティングス インコーポレイテッド filed Critical プレシジョン コーティングス インコーポレイテッド
Publication of JP2003532905A publication Critical patent/JP2003532905A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optics & Photonics (AREA)
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 直接記録画像処理フィルム(100)は、基板(110)上に配置される第1層(112)及びその第1層(112)上に配置される第2層(116)を含む。第1層(112)は、第1波長の光によって分散され、又はそうでなくとも破壊されて、第2層(116)のフィルム(100)に対する接着性を低減させうる。第2層(116)は、第1波長より短い第2波長の光に対して相対的に強い吸光度を有する。フィルム(100)の使用においては、第1波長の光を用いて第1層(112)の任意の部分を破壊し;そして、その上方にある第2層(116)の部分が除去されて、第2波長を強く吸収しており、かつ第2層(116)の残っている部分によって画定される画像を生成する。 (57) [Summary] The direct recording image processing film (100) comprises a first layer (112) disposed on a substrate (110) and a second layer (116) disposed on the first layer (112). including. The first layer (112) may be dispersed or otherwise destroyed by light of the first wavelength to reduce the adhesion of the second layer (116) to the film (100). The second layer (116) has a relatively strong absorbance for light of a second wavelength shorter than the first wavelength. In using the film (100), light of the first wavelength is used to destroy any portion of the first layer (112); and the portion of the second layer (116) above is removed, An image is generated that strongly absorbs the second wavelength and is defined by the remaining portion of the second layer (116).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】 (関連出願) 本特許出願は、1998年1月14日に提出し、発明の名称「直接記録画像処理媒体
」の仮特許出願番号60/071,413について優先権を主張する。 (発明の分野) 本発明は、一般的には、光応答性材料及びその使用方法に関する。さらに詳細
には、本発明は、いかなるフォトマスク又はネガをも使用せずに、光ビームによ
って、その上に直接画像を形成可能な直接記録画像処理フィルムに関する。
(Related Application) This patent application is filed on January 14, 1998, and claims priority to provisional patent application number 60 / 071,413 named "Direct Recording Image Processing Medium". FIELD OF THE INVENTION The present invention relates generally to photoresponsive materials and methods of use thereof. More particularly, the present invention relates to a direct recording image processing film that can be directly imaged thereon by a light beam without the use of any photomask or negative.

【0002】 (発明の背景) フォトリソグラフィック及び/又はフォトエッチング法は、プリント回路板、
半導体デバイスの製作、印刷板の製造、及び多くの他のこのようなプロセスで広
く使用されている。このような光技術は、一般に、フォトツールとも呼ばれるマ
スクを1つ以上利用する。フォトツールは、他の感光性物質の曝露下マスターと
して使用される。一般に、フォトツール用の材料は、非常に高い解像度を有して
おり、かつ画像処理波長で、画像に高いコントラストを与える能力があるべきで
ある。すなわち、フォトツール材料は、画像処理波長を高度に吸収する画像領域
、及び画像処理波長で高度に透明な背景領域を有しているべきである。
BACKGROUND OF THE INVENTION Photolithographic and / or photoetching methods include printed circuit boards,
It is widely used in semiconductor device fabrication, printing plate fabrication, and many other such processes. Such optical techniques generally utilize one or more masks, also called phototools. The phototool is used as a master under the exposure of other photosensitizers. In general, materials for phototools should have very high resolution and be capable of imparting high contrast to the image at the image processing wavelength. That is, the phototool material should have image areas that are highly absorbing at the image processing wavelengths and background areas that are highly transparent at the image processing wavelengths.

【0003】 多種多様な媒体が、フォトマスクの製作用に使用されている。材料の1つの群
は、直接記録媒体を含む。このような材料では、光ビーム、通常レーザーからの
高輝度光ビームは、フィルムを横断してスキャンされ、その材料上に直接画像を
形成する。このタイプのシステムは、コンピュータ処理データ格納及び処理シス
テムと容易に調和できることにおいては有利である。さらに、このタイプの画像
処理媒体は、通常、周囲の照明に対して比較的低い感度を有しており、普通の部
屋の光下で取り扱うことができる。
A wide variety of media are used for making photomasks. One group of materials includes direct recording media. In such materials, a light beam, typically a high intensity light beam from a laser, is scanned across the film to form an image directly on the material. This type of system is advantageous in that it is easily compatible with computerized data storage and processing systems. Moreover, this type of image processing medium typically has a relatively low sensitivity to ambient lighting and can be handled under normal room light.

【0004】 いくつかの異なったタイプの直接記録フィルムが、先行技術で知られている。
フィルムの1群は、アブレーション画像処理フィルムを含む。これらの材料では
、典型的にはレーザー由来の高輝度光ビームが、画像処理材料の本体に激突して
、揮発によって材料が物理的に除去される。1つのこのようなプロセスは、米国
特許第5,521,050号に示されている。光ビームが画像処理染料を除去又は分解す
る別の直接記録画像処理フィルムは、米国特許第5,747,197号に示されている。
多少類似のアプローチは、特許第5,256,506号に示されている。これらに開示さ
れているように、光吸収性の除去可能な染料含有材料の層は、アブレーション強
化材料の層の上に配置される。両層は、画像処理光ビームを高度に吸収し、アブ
レーション強化材料は、揮発性染料含有層をフィルムから追い出すことによって
、画像処理媒体の感度を向上させる。アブレーション画像処理フィルムは、広く
使用されているが、画像処理材料の比較的厚い層の揮発によって大容量の溶出物
が生じ、それは毒性かもしれず、いずれにしても画像処理装置から拭き取らなけ
ればならない。
Several different types of direct recording film are known in the prior art.
One group of films comprises ablative imaging films. In these materials, a high-intensity light beam, typically from a laser, strikes the body of the imaging material and the material is physically removed by volatilization. One such process is shown in US Pat. No. 5,521,050. Another direct recording image processing film in which a light beam removes or decomposes image processing dyes is shown in US Pat. No. 5,747,197.
A somewhat similar approach is shown in US Pat. No. 5,256,506. As disclosed therein, a layer of light absorbing removable dye-containing material is disposed over the layer of ablation enhancing material. Both layers are highly absorbing of the imaging light beam and the ablation enhancing material enhances the sensitivity of the imaging media by driving the volatile dye containing layer out of the film. Although ablation imaging films are widely used, volatilization of relatively thick layers of imaging materials results in large volumes of eluate, which may be toxic and must be wiped from the imaging device in any case. .

【0005】 直接記録媒体を提供する別のアプローチは、光分散性材料を含む。このタイプ
の画像処理フィルムでは、溶融性材料の層、典型的には金属の層が、連続シート
の基板上に配置される。光ビームがその層上に衝突してそれを溶かす。溶融層は
、表面張力によって小滴を形成し、それによって画像化領域の光学密度が低減す
る。非分散領域に十分な光学密度を与えるために、これらフイルムは、通常相対
的に厚い金属の層を必要とし、従って、分散させるためにかなり大きいエネルギ
ー束が必要である。このような画像処理材料の例は、米国特許第4,000,334号及
び第4,211,838号に示されている。
Another approach to providing a direct recording medium involves a light dispersive material. In this type of imaging film, a layer of fusible material, typically a metal, is placed on a substrate of continuous sheet. The light beam impinges on the layer and melts it. The molten layer forms droplets due to surface tension, which reduces the optical density of the imaged area. In order to provide sufficient optical density in the non-dispersive regions, these films usually require a relatively thick layer of metal, and therefore a fairly large energy flux to disperse. Examples of such image processing materials are shown in US Pat. Nos. 4,000,334 and 4,211,838.

【0006】 高解像度及び高コントラストを有し、かつ使用に際して大量の揮発物質を生じ
ない直接記録画像処理フィルムが要望されている。さらに、画像化フィルムは、
非常に良い寸法安定性を有するべきであり、周囲取扱い条件下でスクラッチング
、クラッキング及びフェージングに対して耐性であるべきである。
There is a need for a direct recording image processing film that has high resolution and high contrast and does not generate large amounts of volatiles in use. In addition, the imaging film
It should have very good dimensional stability and should be resistant to scratching, cracking and fading under ambient handling conditions.

【0007】 本発明は、上記基準のすべてに応じる直接記録画像処理フィルムを提供する。
本発明の直接記録画像処理フィルムは、いかなる湿潤な化学的処理も必要なく、
周囲光条件下で使用してよく、かつレーザー又は同様の光源が制御されて直接フ
ィルム上に記録するタイプのコンピュータ制御画像処理システムでの使用に容易
に適合できる。本発明の画像化フィルムは、スペクトルのUV部分で非常に高い
DMax及び非常に低いDMinを有するが、可視波長における画像領域及び背
景領域の両方で高度に透明である。これは、UV波長で高コントラストの「シー
スルー画像」を生成する。シースルー特性はフォトツールの配列を容易にするの
で、この透明性の組合せが、本発明の材料をフォトツール又はフォトマスク材料
として非常に有用にし、一方、強いUV吸収が、高コントラストの画像を作る。
The present invention provides a direct recording image processing film that meets all of the above criteria.
The direct recording image processing film of the present invention does not require any wet chemical treatment,
It may be used under ambient light conditions and is easily adapted for use in a computer controlled image processing system of the type in which a laser or similar light source is controlled to record directly on film. The imaging films of the present invention have a very high DMax and a very low DMin in the UV portion of the spectrum, but are highly transparent in both the image and background regions at visible wavelengths. This produces a high contrast "see-through image" at the UV wavelength. This transparency combination makes the material of the present invention very useful as a phototool or photomask material, as the see-through property facilitates alignment of the phototool, while the strong UV absorption produces high contrast images. .

【0008】 さらに詳細に後述するように、本フィルムの画像化領域は、退色又は光漂白に
対して非常に耐性である。本画像処理媒体は、スクラッチング又は化学的障害に
非常に耐性であり;従ってオーバーラミネーションは必要ない。本発明の画像処
理種は分子であり、粒子ではない;従って高解像度が達成される。本発明の材料
は、いかなる化学処理、特別な換気、又は特別な取扱いを必要としない。
As discussed in more detail below, the imaged areas of the film are very resistant to fading or photobleaching. The image processing medium is very resistant to scratching or chemical damage; thus no overlamination is required. The image processing species of the present invention are molecular, not particles; thus high resolution is achieved. The materials of the present invention do not require any chemical treatment, special ventilation, or special handling.

【0009】 (発明の簡単な説明) 本明細書では、基板上に配置される第1材料の第1層と、この第1材料の層と
重畳関係に配置される第2材料の第2層とを有する基板を含む直接記録画像処理
フィルムが開示される。第1層は、第2波長の光に対するよりも第1波長の光に
対してより高い吸光度を有し、第2波長の光は第1波長より短い。第2層は、第
1波長の光に対して、第1層より低い吸光度を有し、かつ第2波長の光に対して
、第1層より高い吸光度を有する。第1層の材料は、第1波長の光によって破壊
可能であり、かつ破壊されると、画像処理フィルムの残部への第2層のその上方
にある部分の接着性が減じて、第1層の破壊された領域の上方にある第2層の部
分が、画像処理フィルムの残部から容易に除去可能となる。
BRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION In this specification, a first layer of a first material disposed on a substrate and a second layer of a second material disposed in superposed relation with the layer of the first material. A direct recording image processing film is disclosed that includes a substrate having a. The first layer has a higher absorbance for light of the first wavelength than for light of the second wavelength, the light of the second wavelength being shorter than the first wavelength. The second layer has a lower absorbance for the light of the first wavelength than the first layer and a higher absorbance for the light of the second wavelength than the first layer. The material of the first layer is destructible by light of the first wavelength, and when destroyed, the adhesion of the overlying portion of the second layer to the rest of the image processing film is reduced, resulting in the first layer The portion of the second layer above the destroyed area of the can be easily removed from the rest of the image processing film.

【0010】 特定の実施形態では、第1材料の層は、金属層を含む。さらに他の実施形態で
は、第2材料の層は、その中に紫外線吸収染料を含有する。特定の実施形態では
、該紫外線吸収染料は、特有な群のアゾ染料の1メンバーである。 いくつかの実施形態では、第1層と第2層の間に、熱分散層が取り込まれる。
他の実施形態では、接着剤の本体が、第2層の上に配置され、この接着剤の本体
は、第1層の破壊された部分の上方にある第2層の部分を持ち上げる機能を果た
す。 また、本明細書には、本発明の直接記録画像処理フィルムの使用を包含するフ
ォトツールを製造する方法が開示されている。
In certain embodiments, the layer of first material comprises a metal layer. In yet another embodiment, the layer of second material contains a UV absorbing dye therein. In certain embodiments, the UV absorbing dye is a member of a unique group of azo dyes. In some embodiments, a heat spreading layer is incorporated between the first and second layers.
In another embodiment, a body of adhesive is disposed on the second layer, the body of adhesive serving to lift the portion of the second layer above the broken portion of the first layer. . Also disclosed herein is a method of making a phototool that includes the use of the direct recording image processing film of the present invention.

【0011】 (発明の詳細な説明) 本発明は、直接記録画像処理媒体、及びその使用方法に関する。図1は、本発
明の原理に従って構成された画像処理媒体10の断面図を示す。図1の媒体10
は、通常、スペクトルの可視及び紫外部で良い透明性を有する材料で形成される
基板12を含み;また、いくつかの実施形態では、この基板はスペクトルの近赤
外部でも相対的に透明である。基板は寸法安定性であり、かつ媒体の残りの層と
適合すべきである。多くの例では、柔軟な基板材料が好ましく、基板材料の1の
特定な群は、ポリエチレンテレフタレート(PET)のようなポリエステル材料
を含む。他の基板は、硬質ポリマー、ガラス等を包含する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a direct recording image processing medium and a method of using the same. FIG. 1 shows a cross-sectional view of an image processing medium 10 constructed in accordance with the principles of the present invention. Medium 10 of FIG.
Typically includes a substrate 12 formed of a material that has good transparency in the visible and ultraviolet regions of the spectrum; and in some embodiments, the substrate is also relatively transparent in the near infrared portion of the spectrum. . The substrate should be dimensionally stable and compatible with the rest of the media. In many instances, flexible substrate materials are preferred, and one particular group of substrate materials includes polyester materials such as polyethylene terephthalate (PET). Other substrates include rigid polymers, glass and the like.

【0012】 基板12の上には、材料14の第1層が配置され、その上に、材料16の第2
層が配置される。第1層の材料14及び第2層の材料16は、第1層の材料が、
第1波長の光に対して、該第1波長より短い第2波長の光に対するよりも高い吸
光度を有するように選択される。また、第2層を占める材料16は、第1波長の
光に対して、第1層の材料よりも低い吸光度を有し、かつより短い第2波長の光
に対して、第1層を占める材料14よりも高い吸光度を有する。さらに詳細には
、第1層の材料14は、スペクトルの赤外、近赤外及び赤色部の波長に対して相
対的に高い吸光度を有するが、大部分の可視スペクトルに対しては相対的に透明
であるように選択される。また、第1層の材料14は、光を吸収すると、分散可
能であり、又はそうでなくても破壊されうる。第2層の材料16は、紫外線を高
度に吸収するが、スペクトルの可視部に対して相対的に透明であるように選択さ
れる。層材料のいくつかの特定な例は、以下に示される。
A first layer of material 14 is disposed on the substrate 12, on which a second layer of material 16 is deposited.
The layers are arranged. The material 14 of the first layer and the material 16 of the second layer are
It is selected to have a higher absorbance for light of a first wavelength than for light of a second wavelength that is shorter than the first wavelength. The material 16 occupying the second layer has a lower absorbance for the light of the first wavelength than the material of the first layer, and occupies the first layer for the light of the shorter second wavelength. It has a higher absorbance than material 14. More specifically, the first layer material 14 has a relatively high absorbance for the infrared, near infrared, and red wavelengths of the spectrum, but relatively for most visible spectra. Selected to be transparent. Also, the material 14 of the first layer can be dispersible or otherwise destroyed upon absorbing light. The second layer material 16 is selected to be highly absorptive of UV radiation but relatively transparent to the visible portion of the spectrum. Some specific examples of layer materials are provided below.

【0013】 種々の層の吸光特性の新奇な組合せによって、本発明が可能になる。ここで、
図2及び図3を参照すると、本発明の1の特定な実施形態が示されている。図2
は、画像処理プロセスの第1工程を示し、通常図1に示される本体10と同様の
直接記録媒体の本体10上に、レーザー18によって記録される。図2に示され
るように、レーザー18は、光ビーム20を媒体10に向けるように配置される
。ビーム20は、相対的に長い波長を有し、最も好ましくは、YAGレーザー等
のような市販されている多くのレーザーから得られるような約1ミクロンの波長
を有する赤外線ビームである。上述したように、第2層16は、長波長の照明に
対して相対的に透明であり、それゆえ、レーザービーム20は第2層を貫いて比
較的容易に通過する。第1層14は、この赤外線を強く吸収し、吸収及び熱的加
温の結果として、第1層14のレーザービーム20によって打たれた部分は破壊
される。本開示の文脈においては、層の破壊は、層14の統合性が破壊されるい
ずれのプロセスをも指す。最も典型的には、レーザー加温が、層14を溶融し、
除去し、又は別の方法で物理的に分散させて、ダスト、小球等の形態の層残部を
含有する破壊領域14'を生成する。他の例では、破壊は、酸化等のような解重
合化学反応のような層内の化学的変化によって達成されうる。
The novel combination of light absorption properties of the various layers enables the present invention. here,
Referring to FIGS. 2 and 3, one particular embodiment of the present invention is shown. Figure 2
Shows the first step of the image processing process and is recorded by the laser 18 on the body 10 of a direct recording medium, which is usually similar to the body 10 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the laser 18 is arranged to direct a light beam 20 to the medium 10. Beam 20 has a relatively long wavelength, most preferably an infrared beam having a wavelength of about 1 micron, as obtained from many commercially available lasers such as YAG lasers and the like. As mentioned above, the second layer 16 is relatively transparent to long wavelength illumination, so that the laser beam 20 passes relatively easily through the second layer. The first layer 14 strongly absorbs this infrared light, and as a result of absorption and thermal heating, the part of the first layer 14 hit by the laser beam 20 is destroyed. In the context of this disclosure, destruction of a layer refers to any process by which the integrity of layer 14 is destroyed. Most typically, laser heating melts layer 14,
It is removed or otherwise physically dispersed to create a fracture region 14 'that contains the rest of the layer in the form of dust, globules, and the like. In another example, destruction may be accomplished by a chemical change within the layer such as a depolymerization chemistry such as oxidation and the like.

【0014】 第1層14の破壊領域14'の上方にある第1層16の部分は、もはや支持又
は保持されていないので、容易に除去されうる。図3には、第1層14の破壊領
域14'の上方にある第1層16の部分が除去される1つの方法が示されている
。図3に示されるように、微粘着性の接着剤外面24を有するローラー22が、
画像処理媒体10の第2層16の上面を横断して巻かれている。この微粘着性ロ
ーラーは、第1層14の破壊領域14'の真上にある第2層16の部分16'のみ
に接着して除去する。1の好ましい実施形態では、ローラーの接着面が、比較的
軟らかいウレタンポリマーの本体によって与えられる。これとは別の実施形態で
は、接着剤層等を利用して粘着面を与えうる。さらに他の実施形態では、ブラシ
、圧縮空気又は他の流体の流れを同様に使用して、第2層の支持されていない部
分を除去しうる。
The portion of the first layer 16 above the fracture region 14 ′ of the first layer 14 is no longer supported or retained and can be easily removed. FIG. 3 shows one way in which the portion of the first layer 16 above the breakdown region 14 'of the first layer 14 is removed. As shown in FIG. 3, the roller 22 having a slightly tacky adhesive outer surface 24 is
The image processing medium 10 is wound across the upper surface of the second layer 16. This slightly tacky roller adheres to and removes only the portion 16 'of the second layer 16 directly above the fracture area 14' of the first layer 14. In one preferred embodiment, the adhesive surface of the roller is provided by a relatively soft urethane polymer body. In another embodiment, an adhesive layer or the like may be used to provide the adhesive surface. In yet other embodiments, brushes, compressed air or other fluid streams may be used as well to remove the unsupported portion of the second layer.

【0015】 第1層の破壊により、その破壊された領域14'中にダスト又は他の残渣が生
成されうる。いずれの残渣ダスト又は第1層の残渣も、通常、フォトマスク又は
フォトツールとして画像化された本体のその後の使用を妨害しないだろうが、こ
のようなダスト残渣は種々の装置に蓄積されるか、そうでなくても厄介なもので
ある。従って、いかなる残渣ダストも除去することが望ましい。ある場合には、
第2層16の該部分の除去は、いずれのダスト又は第1層14の破壊領域14'
の他の残部をも除去するのに十分だろう。ダストは、ブラッシング、圧縮気体流
によるリンス、真空クリーニング等を含む従来のクリーニング法を使用して除去
しうる。
Destruction of the first layer can produce dust or other debris in the destroyed region 14 ′. Any residue dust or first layer residue will usually not interfere with the subsequent use of the imaged body as a photomask or phototool, but is such dust residue accumulated in various devices? If not, it's awkward. Therefore, it is desirable to remove any residual dust. In some cases,
Removal of that portion of the second layer 16 is accomplished by removing any dust or fracture area 14 ′ of the first layer 14.
It will be enough to remove the rest of the. Dust may be removed using conventional cleaning methods including brushing, rinsing with a stream of compressed gas, vacuum cleaning and the like.

【0016】 本発明は、他の態様及び構成で実施してよい。図4には、本発明による画像処
理媒体40の別の変形が示されている。図4の媒体40は、基板12、第1層1
4及び第2層16を含み、通常上述のものと同様である。図4の媒体40は、さ
らに第2層の上に配置される低粘着接着剤42の層、及びその接着剤本体42の
上に配置される支持シート44を包含する。該接着剤42は、第2層16に対し
て相対的に低度の接着性を有するように選択され、またこのような接着剤は技術
的に周知であり、再配置可能な印付け、接着性メモノート等に広く使用されてい
る。裏打ち材層44は、使用中画像処理媒体40の本体の視感度及び整列を容易
にするような柔軟な材料の透明シートが最も好ましいが、不透明なシートを使用
することもできるだろう。
The present invention may be implemented in other aspects and configurations. FIG. 4 shows another variant of the image processing medium 40 according to the invention. The medium 40 of FIG. 4 includes the substrate 12, the first layer 1
4 and the second layer 16 and are generally similar to those described above. The medium 40 of FIG. 4 further includes a layer of low tack adhesive 42 disposed on the second layer and a support sheet 44 disposed on the adhesive body 42. The adhesive 42 is selected to have a relatively low degree of adhesion to the second layer 16, and such adhesives are well known in the art and repositionable marking and gluing. Widely used in sex memo notebooks. The backing layer 44 is most preferably a transparent sheet of a flexible material that facilitates visibility and alignment of the body of the imaging medium 40 during use, although an opaque sheet could also be used.

【0017】 図4に示されるように、材料40の本体上に画像を形成する第1工程は、レー
ザー18又は同様の高輝度源からの光ビーム20で媒体40を照射することを含
む。この工程は、図2に示される第1工程と同様である;しかし、この例では、
照射は部材の基板側から行われ、基板はビーム20に対して相対的に透明である
べきである。しかし、第2層16は、画像処理ビーム20に対して特に透明であ
る必要はない。図2の実施形態に示されるように、照射によって、第1層14の
破壊領域14'が生じる。前述の実施例におけるように、第1層の破壊領域14'
は、第2層の対応部分の下にあり、画像処理媒体の残部に対する第2層16のそ
の部分の接着性を減少させている。
As shown in FIG. 4, the first step of forming an image on the body of material 40 involves illuminating the medium 40 with a light beam 20 from a laser 18 or similar high intensity source. This step is similar to the first step shown in Figure 2; however, in this example,
Irradiation is from the substrate side of the member and the substrate should be transparent to the beam 20. However, the second layer 16 need not be particularly transparent to the image processing beam 20. As shown in the embodiment of FIG. 2, the irradiation causes a fracture region 14 ′ of the first layer 14. As in the previous embodiment, the first layer breakdown region 14 '.
Underneath the corresponding portion of the second layer, reducing the adhesion of that portion of the second layer 16 to the rest of the image processing medium.

【0018】 図5には、画像形成の第2工程が示されている。この工程では、接着剤層42
及びその裏打ち層44は、画像処理材料40の本体の残部を占めている第2層1
6、第1層14及び基板12から剥がされる。接着剤層42は、第1層14の破
壊領域14'上にある第2層の部分16'をも取り去る。接着剤層42、裏打ち層
44及び第2層の除去された部分16'は処分され、構造40の残り部分は、使
用可能なフォトマスク又はフォトツールを包含している。上記実施例におけるよ
うに、ある場合には、破壊領域14'に残された第1層14のいずれの残部も除
去することが有利である。
FIG. 5 shows the second step of image formation. In this step, the adhesive layer 42
And its backing layer 44 occupy the balance of the body of the image processing material 40
6, peeled from the first layer 14 and the substrate 12. The adhesive layer 42 also removes the portion 16 ′ of the second layer that is above the fractured area 14 ′ of the first layer 14. The adhesive layer 42, the backing layer 44, and the removed portion 16 'of the second layer are disposed of, and the remainder of the structure 40 contains a photomask or phototool that can be used. As in the above embodiments, in some cases it may be advantageous to remove any remaining portion of the first layer 14 left in the breakdown region 14 '.

【0019】 図6は、次の処理で使用される本発明によって製造される画像化フォトツール
を示し、この図は、本発明の利点を図解している。図6は、上述したような本発
明によって作られたフォトマスク又はフォトツール60を具体的に示している。
フォトツール60は、上述したように、基板部12、第1層14、及び第2層1
6を包含する。基板12の一部分のみが第1層14及び第2層16で覆われてお
り、それらの残りの部分は、前述と通常同様な方法の工程で、これら層から離れ
ていることに留意すべきである。
FIG. 6 illustrates an imaging phototool made in accordance with the present invention for use in subsequent processing, which illustrates the advantages of the present invention. FIG. 6 illustrates a photomask or phototool 60 made according to the present invention as described above.
As described above, the photo tool 60 includes the substrate portion 12, the first layer 14, and the second layer 1.
Includes 6. It should be noted that only a portion of the substrate 12 is covered with the first layer 14 and the second layer 16 and the remaining portions thereof are separated from these layers in a manner generally similar to that described above. is there.

【0020】 さらに示されるように、フォトツール60は、中断された断面で示されている
部分、ワークピース62上に配置されている。このワークピース62は、エマル
ジョン又は他の光応答性組成物を含む。画像の側面が十分に統合性を有している
ので、画像をワークピース62のいたるところに直接接触させうることは、本発
明の注目すべき特徴である。このことは、エマルジョントゥーエマルジョンコン
タクト(emulsion to emulsion contact)として技術的に公知であり、それは、
ワークピースに接触するフォトツール又はフォトマスクの基板部分、又は画像と
ワークピース62との間に存在する保護上塗り層を必要とする先行技術の系と区
別される。エマルジョントゥーエマルジョンコンタクトは、解像度を減少させる
であろう回折及び視差の問題を取り除く。また、本図面では説明目的のため、種
々の層の垂直方向の厚さが拡大されていることに留意すべきである。典型的な組
成物では、本発明による第1層及び第2層の材料の総厚は、1/2〜10ミクロ
ンのオーダーだろう。
As further shown, the phototool 60 is disposed on the workpiece 62, the portion shown in interrupted cross section. The workpiece 62 comprises an emulsion or other photoresponsive composition. It is a notable feature of the present invention that the sides of the image are sufficiently cohesive that the image can be directly contacted everywhere on the workpiece 62. This is known in the art as an emulsion to emulsion contact, which
Distinguished from prior art systems that require a protective tooling layer present between the phototool or photomask substrate portion or the image and the workpiece 62 that contacts the workpiece. Emulsion-to-emulsion contact eliminates diffraction and parallax problems that would reduce resolution. It should also be noted that the vertical thicknesses of the various layers have been exaggerated in this figure for purposes of illustration. In a typical composition, the total thickness of the material of the first and second layers according to the invention will be on the order of 1/2 to 10 microns.

【0021】 さらに、図6は、本発明の材料と、可視光ビーム64及び紫外線ビーム66と
の間の相互作用を示す。示されるように、基板12、第1層14及び第2層16
は、すべて可視スペクトル64の主要部分に対して相対的に透明である。従って
、フォトツール60の画像担持部は、目に対して相対的に透明である。これは、
シースルー画像と呼ばれ、この特徴が、フォトツール60を基板62上に容易に
配置し、整列させる。第1層14及び第2層16を構成するフォトツールの画像
部分は、単波長UV、及び近UV線66を高度に吸収し、それによって、このよ
うなUV線66から基板62を能率的かつ効率的に遮蔽する。対照的に、フォト
ツール60の非画像担持部分は、基板12(及びことによると第1層14の破壊
部分)だけを含み、UV線66に対して相対的に透明であり、かつこのような放
射線を貫いて通過させ、基板62と相互作用させる。
Further, FIG. 6 illustrates the interaction between the material of the present invention and the visible light beam 64 and the ultraviolet light beam 66. As shown, the substrate 12, the first layer 14 and the second layer 16
Are all relatively transparent to the main part of the visible spectrum 64. Therefore, the image bearing portion of the photo tool 60 is relatively transparent to the eyes. this is,
Called the see-through image, this feature facilitates placement and alignment of the phototool 60 on the substrate 62. The image portion of the phototool that comprises the first layer 14 and the second layer 16 is highly absorptive of single wavelength UV and near UV radiation 66, thereby efficiently and efficiently removing the substrate 62 from such UV radiation 66. Shield efficiently. In contrast, the non-image bearing portion of the phototool 60 includes only the substrate 12 (and possibly the broken portion of the first layer 14), is transparent to UV radiation 66, and such. The radiation passes through and interacts with the substrate 62.

【0022】 上記画像処理媒体が、多くのフォトツール利用に好適な高品質、高解像度の画
像を生成するが、ある場合には、特定の人為的結果及び欠損が画像処理プロセス
に生じ、これら欠損は、特に非常に高解像度の用途に問題である。従って、本発
明に従い、さらにこのような欠損をかなり最小化する特有の画像処理構造が提供
される。
Although the image processing medium produces high quality, high resolution images suitable for many phototool applications, in some cases certain artifacts and defects occur in the image processing process, and these defects may occur. Is especially problematic for very high resolution applications. Accordingly, in accordance with the present invention, a unique image processing structure is further provided that further minimizes such defects.

【0023】 ここで、図7には、図1に示されるフィルムと通常同様の画像処理フィルム1
0の拡大平面図が示されている。フィルム10は、その上に染料を担持する第2
層の存在によって定義づけられる画像化領域72を有する。フィルムは、フィル
ムの長さに連続する細いストライプとして配置され、かつそこから除去された第
1層及び第2層を有するフィルムの部分で定義される背景領域74をも含む。図
7の説明図には多くの欠損領域が見られるが、このような欠損領域の頻度は、説
明目的のため、また実際問題として誇張されており、出現はずっと少ない頻度で
あることを理解すべきである。図解される欠損は、染料担持画像層の部分が背景
領域に突出して波形変形している領域76;通常、波形変形76と同様のスパイ
ク78を含む。また、欠損は、第2層の一部が、破壊領域に最も近い第1層から
剥がれたチップ化領域80を含む。欠損は、不完全な分散によって生じた第1層
の小球82、及び分散照明の結果として分散された第1層材が投げられるときに
形成される積み重ねられた第1層材の領域84をも包含する。図7の説明図には
、通常チップ化部分80の反対で、かつ第2層の一部が不完全に除去されるとき
に生じる架橋領域84も見られる。
Here, FIG. 7 shows an image processing film 1 which is generally the same as the film shown in FIG.
An enlarged plan view of 0 is shown. The film 10 comprises a second dye-bearing film thereon.
It has an imaged area 72 defined by the presence of layers. The film also includes a background area 74 defined as the portion of the film that has been arranged as thin stripes that are continuous in the length of the film and that has the first and second layers removed therefrom. Although there are many missing regions in the illustration of FIG. 7, it is understood that the frequency of such missing regions is exaggerated for illustration purposes and as a matter of fact, with a much lower frequency of occurrence. Should be. The illustrated defect comprises a region 76 in which a portion of the dye-bearing image layer projects and corrugates protruding into the background region; typically spikes 78 similar to corrugation 76. Further, the defect includes the chip formation region 80 in which a part of the second layer is peeled from the first layer closest to the destruction region. The defect causes the first layer globules 82 caused by the incomplete dispersion and the area 84 of the stacked first layer material formed when the dispersed first layer material is thrown as a result of distributed illumination. Also includes. Also visible in the illustration of FIG. 7 is the bridging region 84, which is normally opposite to the chipped portion 80 and occurs when a portion of the second layer is incompletely removed.

【0024】 他の種類の欠損は、第1層材の部分が破壊領域の縁に蓄積するときに形成され
る台形縁を含む。この種の欠損は、画像化領域の縁を横切って走る線を生じ、こ
のような欠損は、図7で参照番号86で示され、図7の画像化フィルムの8−8
線断面図である図8からより明らかになる。
Other types of defects include trapezoidal edges that are formed when portions of the first ply material accumulate at the edges of the fracture area. This type of defect results in a line running across the edges of the imaged area, such a defect being designated by reference numeral 86 in FIG. 7, and 8-8 of the imaging film of FIG.
It becomes more apparent from FIG. 8 which is a sectional view taken along the line.

【0025】 ここで、図8には、台形縁欠損84を図解する図7のフィルム10の断面部が
示されている。推測によって限定するものではないが、これらの発明者らは、分
散された第1層材が投げられる時に台形縁欠損が生じ、縁領域に集まると論理づ
けた。このような欠損は、生成されるフォトツールのジオメトリーを歪める。他
の列挙される欠損が、分散プロセスの熱的及び/又は機械的効果の結果として生
じると考えられる。ある場合には、このような欠損は許容できる;しかし他の例
では、それらは最少化すべきである。
Here, FIG. 8 shows a cross-section of the film 10 of FIG. 7 illustrating the trapezoidal edge defect 84. Without being limited by speculation, these inventors reasoned that trapped trapezoidal edge defects occur when the dispersed first ply material is thrown and collect in the edge region. Such defects distort the geometry of the phototool produced. Other listed defects are believed to occur as a result of thermal and / or mechanical effects of the dispersion process. In some cases, such defects are tolerable; but in other cases, they should be minimized.

【0026】 本発明のさらに別の観点に従い、上述の欠損、特に台形縁欠損及びチップ状欠
損は、相対的に薄い下塗り層を光分散性第1層と第2層の間に挿入すると、除去
又はかなり最小化できることがわかった。推測によって限定するものではないが
、この層が熱分散層として機能し、熱的効果を緩和及び平衡化して、それによっ
て上記欠損の形成を減じると理論づけられる。
According to yet another aspect of the present invention, the above-mentioned defects, in particular trapezoidal edge defects and chip-shaped defects, are removed by inserting a relatively thin undercoat layer between the light-dispersive first and second layers. Or it turned out that it can be minimized considerably. Without being speculated by way of limitation, it is theorized that this layer acts as a heat spreading layer, mitigating and equilibrating thermal effects, thereby reducing the formation of the defects.

【0027】 ここで、図9には、本発明の原理に従って構成された別の画像処理フィルム9
0の断面図が示されている。フィルム90は、前述したのと通常同様の基板12
、第1層14及び第2層16を包含する。しかし、図9のフィルム90は、さら
に熱分散層として機能する下塗り層92を包含し、これを含むことによって画像
化フィルムにおける欠損形成を最少化する。下塗り層92は、典型的にはかなり
薄く、通常厚さは1〜5ミクロンのオーダーである。それは、好ましくはポリマ
ー材料で形成され、第1層14の破壊に使用される長波長の照明、完成フォトツ
ールが用いられるときに使用される短波長の照明、及び可視波長の両者に対して
相対的に透明である。
Here, FIG. 9 shows another image processing film 9 constructed according to the principle of the present invention.
0 is shown in cross section. The film 90 has a substrate 12 similar to that described above.
, First layer 14 and second layer 16. However, the film 90 of FIG. 9 further includes a subbing layer 92 that functions as a heat dissipating layer, which is included to minimize defect formation in the imaging film. The subbing layer 92 is typically quite thin, typically with a thickness on the order of 1-5 microns. It is preferably formed of a polymeric material and is relative to both long wavelength illumination used to destroy the first layer 14, short wavelength illumination used when the finished phototool is used, and visible wavelengths. Transparent.

【0028】 下塗り層の製作に好ましい1つの材料は、加水分解化ポリビニルアセテートを
含む。本発明の使用に好適な市販されている1つの加水分解化ポリビニルアセテ
ートのグレードは、ミシガン、ウォールドレイクのPrecision Coatings Inc.か
ら、商品名HPVAで入手可能である。メタノールとエチルアセテートの50−
50混合物から鋳造されるこのポリマーの10%溶液が、欠損の形成を最小化す
る非常に良い下塗り層を与えることがわかった。他の下塗り層は、Morton Chemi
cal Companyから商品名Morton Polymer 10で入手可能な加水分解化ポリビニルア
セテートポリマーから調製されうる。2部の脱イオン水と、1部のイソプロパノ
ールの混合物中のこのポリマー溶液は、非常に良い下塗り層を与える。
One preferred material for making the subbing layer comprises hydrolyzed polyvinyl acetate. One commercially available hydrolyzed polyvinyl acetate grade suitable for use in the present invention is available under the tradename HPVA from Precision Coatings Inc. of Wall Drake, Michigan. 50- of methanol and ethyl acetate
It has been found that a 10% solution of this polymer cast from a 50 mixture gives a very good undercoat that minimizes the formation of defects. The other undercoat layer is Morton Chemi
It can be prepared from hydrolyzed polyvinyl acetate polymer available under the trade name Morton Polymer 10 from the Cal Company. This polymer solution in a mixture of 2 parts deionized water and 1 part isopropanol gives a very good subbing layer.

【0029】 本発明は、多種多様の材料で実施できる。上述したように、基板12は、紫外
線及び可視線に対して高度な透明性を有するべきで、照明が基板側を通して行わ
れる場合は、それは、第1層14の破壊を誘導するために使用される赤外及び近
赤外の波長に対しても相対的に透明であるべきである。また、基板は良い寸法安
定性を有するべきである。ある場合には、基板はガラスのような硬質材料から製
作してよいが、多くの場合、柔軟な基板が望ましい。従って、通常、基板は、P
ET、ポリイミド等のような良い寸法安定性を有する柔軟なポリマー材料から作
られる。
The present invention can be implemented with a wide variety of materials. As mentioned above, the substrate 12 should have a high degree of transparency to UV and visible radiation, which is used to induce destruction of the first layer 14 if illumination is provided through the substrate side. It should also be relatively transparent to infrared and near infrared wavelengths. Also, the substrate should have good dimensional stability. In some cases, the substrate may be made from a rigid material such as glass, but in many cases a flexible substrate is desirable. Therefore, usually the substrate is P
Made from flexible polymeric materials with good dimensional stability such as ET, polyimide and the like.

【0030】 第1層は、可視波長に対して相対的に透明性であるが、赤外及び近赤外波長は
高度に吸収する材料から作られる。さらに、この層を構成する材料は、吸収され
た赤外線によって破壊可能であるべきである。この第1層の製作に最も好適な材
料は、金属の薄膜を含むことがわかった。多くの金属は、真空蒸着、スパッタリ
ング等のような方法により、調整された厚さで、基板上に容易に蒸着されうる。
十分に薄くすると、該層は可視波長に対して高度に透明であるが、なお赤外線を
よく吸収する。さらに、赤外線は、薄い金属層を生じさせて、光分散させ、その
統合性を失わせる。本発明の実施で第1層として使用できる種々の材料がある。
適切な材料の選択は、基板に対するその材料の接着性、並びに周囲環境及び画像
処理媒体の残りの成分に対するその材料の安定性に依るだろう。本発明の第1層
に特に好ましい1つの材料はチタニウムを含む。ビスマス、ニッケル、バナジウ
ム、クロム、モリブデン等のような他の金属も同様に使用できる。典型的には、
金属層は、スパッタリングによって蒸着され、その厚さは、層の白色光に対する
光学密度が、約.1〜.8の範囲であるように選択される。典型的な厚さは、1ミク
ロン未満である。
The first layer is made of a material that is relatively transparent to visible wavelengths, but highly absorbing in the infrared and near infrared wavelengths. Furthermore, the material of which this layer is composed should be destructible by the infrared radiation absorbed. It has been found that the most suitable material for making this first layer comprises a thin film of metal. Many metals can be easily deposited on the substrate with a controlled thickness by methods such as vacuum deposition, sputtering and the like.
When sufficiently thin, the layer is highly transparent to visible wavelengths but still absorbs infrared light well. In addition, infrared radiation causes a thin metal layer to disperse light and lose its integrity. There are various materials that can be used as the first layer in the practice of the present invention.
The choice of a suitable material will depend on its adhesion to the substrate and its stability to the surrounding environment and the rest of the image processing medium. One particularly preferred material for the first layer of the present invention comprises titanium. Other metals such as bismuth, nickel, vanadium, chromium, molybdenum, etc. can be used as well. Typically,
The metal layer is deposited by sputtering and its thickness is selected such that the optical density of the layer for white light is in the range of about .1 to .8. Typical thickness is less than 1 micron.

【0031】 第2層の材料は、好ましくはポリマーマトリックス材料に溶解された紫外線吸
収染料を含む。第2層は、通常1〜10ミクロンの範囲の厚さである。本発明の
実施に使用可能な多くの公知かつ当業者に入手可能な紫外線吸収染料がある。し
かし、本発明の出願人は、紫外線を非常によく吸収するが、可視波長及び赤外波
長に対しては相対的に透明である新奇な種類の紫外線吸収染料を発見した。さら
に、これらの染料は、高レベルの照明下でも非常に安定であり、かつ非常に良い
熱安定性及び周囲大気条件に対する良い安定性を有する。この好ましい染料の群
は、アゾ染料を含む。
The material of the second layer preferably comprises a UV absorbing dye dissolved in a polymeric matrix material. The second layer is typically in the thickness range of 1-10 microns. There are many known and UV absorbing dyes available to those skilled in the art that can be used in the practice of the present invention. However, the Applicant of the present invention has discovered a novel class of UV absorbing dyes that absorb UV light very well, but are relatively transparent to visible and infrared wavelengths. Furthermore, these dyes are very stable even under high levels of illumination and have very good thermal stability and good stability to ambient atmospheric conditions. This preferred group of dyes comprises azo dyes.

【0032】 技術的に知られているように、アゾ染料は、ジアゾニウム塩と他の有機分子、
典型的には芳香族分子とのカップリングによって形成できる。本発明で有用なア
ゾ染料の形成に使用可能な1の特定なジアゾニウム塩は、下記式Iで表される。
As is known in the art, azo dyes include diazonium salts and other organic molecules,
It can typically be formed by coupling with an aromatic molecule. One particular diazonium salt that can be used to form the azo dyes useful in the present invention is represented by Formula I below.

【0033】 式I[0033] Formula I

【化5】 [Chemical 5]

【0034】 本発明の実施に有用な別のジアゾニウム塩は、下記式IIによって定義づけられ
る。
Another diazonium salt useful in the practice of the present invention is defined by Formula II below.

【0035】 式II[0035] Formula II

【化6】 [Chemical 6]

【0036】 両式において、Rは、水素又はアルキル基、最も好ましくはメチル、エチル、
又はプロピルであり;Yは、ハロゲン、好ましくは塩素又はフッ素であり;かつ
Xは、いずれかのアニオンで、最も典型的にはハロゲン、NO3 -、HSO4 -、B
4 -、PF6 -等を含む。
In both formulas, R is hydrogen or an alkyl group, most preferably methyl, ethyl,
Or propyl; Y is halogen, preferably chlorine or fluorine; and X is any anion, most typically halogen, NO 3 , HSO 4 , B
Including F 4 , PF 6 − and the like.

【0037】 ジアゾニウム塩と反応してジアゾ染料を形成するカップラー分子は、好ましく
は芳香族分子である。いくつかの特に好ましいカップラーは、下記式III及びIV
によって表される。
The coupler molecule which reacts with the diazonium salt to form the diazo dye is preferably an aromatic molecule. Some particularly preferred couplers have the formulas III and IV:
Represented by

【0038】 式III[0038] Formula III

【化7】 [Chemical 7]

【0039】 式IV[0039] Formula IV

【化8】 [Chemical 8]

【0040】 上式において、Rは、水素又は上記のようなアルキル基であり、かつこれら特
定のカップラーについては、Rは、最も好ましくは水素又は低分子量のアルキル
であり;nは0又は整数で、最も好ましくは1、2又は3である。
In the above formula, R is hydrogen or an alkyl group as described above, and for these particular couplers, R is most preferably hydrogen or a low molecular weight alkyl; n is 0 or an integer. , Most preferably 1, 2 or 3.

【0041】 上記構造式によって構成されるアゾ染料は容易に合成され、貯蔵安定性で、紫
外波長を高度に吸収し、かつ可視及び近赤外波長の吸収は相対的に少ない。本発
明で使用可能ないくつかの特定の染料については後述するが、このような例は、
本発明の説明のためであり、本発明の実施に関する制限ではないことを理解すべ
きである。
The azo dye constituted by the above structural formula is easily synthesized, is storage stable, highly absorbs ultraviolet wavelengths, and has relatively little absorption of visible and near infrared wavelengths. Some specific dyes that can be used in the present invention are described below, but such examples include
It should be understood that it is intended to be illustrative of the invention and not a limitation on the practice of the invention.

【0042】 本発明で有用な第1の染料は、上記一般式Iで、ハロゲン、Yが塩素で、両R
基がエチルであるジアゾニウム塩から調製される。この塩のカチオンは、p-ジ
アゾニウム-o-クロロ-N,N-ジエチルアニリンと呼ばれる。このイオンと、一
般式IIIで、両Rが水素(2,2'-ジヒドロキシ-ビフェニル)であるカップラー
との反応が、ジアゾニウム窒素を芳香環の1つに結合させ、HXを遊離させ、か
つ生成物アゾ染料を形成する。生成した染料は、青白い黄色に見え、スペクトル
の紫外部、特に360ナノメーター以下で高い吸光度を有する。
The first dye useful in the present invention is a halogen having the general formula I above, Y being chlorine, and both R
Prepared from a diazonium salt whose group is ethyl. The cation of this salt is called p-diazonium-o-chloro-N, N-diethylaniline. Reaction of this ion with a coupler of the general formula III in which both R are hydrogen (2,2'-dihydroxy-biphenyl) binds the diazonium nitrogen to one of the aromatic rings, liberates and produces HX. It forms an azo dye. The dye formed appears pale yellow and has a high absorbance in the ultraviolet region of the spectrum, especially below 360 nanometers.

【0043】 一般式IVで、両Rが水素、かつnが2(β-レゾルシル酸-エタノールアミド)
のカップラーとカップリング反応が起こる場合は、生成する染料は、茶色がかっ
た色に見え、主としてスペクトルの可視部の光を吸収するだろう。 化合物の同様な基は、一般式Iで、両R基がメチルで表されるジアゾニウム塩
と、上記カップラーとの反応によって調製された。生成したジアゾ染料は、一般
にジエチル化合物の使用で得られたものと同様であった。
In the general formula IV, both R are hydrogen and n is 2 (β-resorcylic acid-ethanolamide)
If a coupling reaction occurs with the coupler, the resulting dye will appear brownish and will absorb light primarily in the visible portion of the spectrum. Similar groups of compounds were prepared by reaction of a diazonium salt of the general formula I in which both R groups are represented by methyl with the above coupler. The diazo dye formed was generally similar to that obtained using the diethyl compound.

【0044】 他の群のジアゾ染料は、式IIで、イオウに対してパラ位のR基がメチルで、残
りの酸素に結合されたR基が両方ともエチルで表されるタイプのジアゾニウム塩
から調製された。対応するカチオンは、1-ジアゾニウム-2,5-ジエトキシ-4-
トリルメルカプト-ベンゼンと呼ばれる。このジアゾニウムイオンの上記カップ
ラーのいずれかとのカップリングにより、スペクトルの紫外部で高い吸光度を有
するアゾ染料が生じる。
Another group of diazo dyes consists of diazonium salts of the formula II in which the R groups para to the sulfur are methyl and the remaining oxygen-bound R groups are both ethyl. Was prepared. The corresponding cation is 1-diazonium-2,5-diethoxy-4-
Called trilymercapto-benzene. Coupling of this diazonium ion with any of the above couplers results in an azo dye having a high absorbance in the ultraviolet region of the spectrum.

【0045】 染料は、ポリマーマトリックス中に配置される。ジアゾニウム塩とマトリック
ス中のカップラーと反応させて、そこで染料を形成することも可能であるが、一
般に、別個の合成で染料を予備形成し、それから該染料をマトリックス中に取り
込むことが好ましい。本発明に使用可能な種々のマトリックス材料がある。マト
リックス材料は、染料と適合し、その材料の下にある第1層に対して良い接着性
を有するべきであり、かつ可視、近紫外及び近赤外波長に対して相対的に透明で
あるべきである。マトリックス材料の1の特に好ましい群は、セルロースアセテ
ートプロピオネート(CAP)を有するセルロースアセテートポリマーを含み、
特に好ましい材料である。CAPは、良いフィルム形成特性、良い広スペクトル
透明性を有し、かつチタニウムの下層に非常に良く接着する。さらに、CAPは
、下接の金属層が破壊されるときに、基板からきれいに壊れ、それによって正確
な高解像度画像を生成する。セルロースアセテートブチレート(CAB)、セル
ロースアセテート及びビニル材料のような他のポリマーも同様に使用できる。
The dye is placed in the polymer matrix. Although it is possible to react the diazonium salt with a coupler in the matrix to form the dye there, it is generally preferred to preform the dye in a separate synthesis and then incorporate the dye into the matrix. There are various matrix materials that can be used in the present invention. The matrix material should be compatible with the dye, have good adhesion to the underlying first layer and be relatively transparent to visible, near-ultraviolet and near-infrared wavelengths. Is. One particularly preferred group of matrix materials comprises a cellulose acetate polymer having cellulose acetate propionate (CAP).
It is a particularly preferable material. CAP has good film forming properties, good broad spectrum transparency, and adheres very well to the titanium underlayer. Further, the CAP cleanly breaks from the substrate when the underlying metal layer is destroyed, thereby producing an accurate high resolution image. Other polymers such as cellulose acetate butyrate (CAB), cellulose acetate and vinyl materials can be used as well.

【0046】 本発明の特に好ましい一実施形態では、第2層用のポリマーは、2つの異なっ
た粘度のCAPで、第1材料が相対的に低粘度のポリマーで、第2材料が高粘度
ポリマーである混合物を含む。技術的に知られるように、ポリマーの粘度は、所
定量のポリマー標準溶液が容器内の標準サイズの開口を通過するのにかかる時間
に注目することによって、しばしば定量される。樹脂の好ましい混合物は、同質
量で使用される.5秒樹脂及び20秒樹脂を含み、このような樹脂は、Eastman Ch
emical Companyから、商品名CAP 504-0.2及びCAP 482-20で入手できる。
In a particularly preferred embodiment of the present invention, the polymer for the second layer is two different viscosity CAPs, the first material being a relatively low viscosity polymer and the second material being a high viscosity polymer. Including a mixture that is As is known in the art, the viscosity of a polymer is often quantified by noting the time it takes for a given amount of polymer standard solution to pass through a standard sized opening in a container. A preferred mixture of resins is used in equal weight. 5 seconds resin and 20 seconds resin, such resins are available from Eastman Ch.
Available from emical Company under the trade names CAP 504-0.2 and CAP 482-20.

【0047】 第1層の材料は、十分な紫外染料を含んで、スペクトルの紫外部における光学
密度をかなり高めるが、スペクトルの赤外及び可視部での過度の吸収を避けるべ
きである。染料の典型的な装填量は、1cm2当たり約10〜1000ミリグラムを含む
。第2層のコーティングは、典型的には、ポリマーと染料の溶液をベースとする
溶媒からの押出コーティングによって達成されるが、ロッドコーティング、スピ
ンコーティング、ブレードコーティング、ディップコーティング等のような他の
コーティング法を使用してよい。
The material of the first layer should contain sufficient UV dye to significantly increase the optical density in the ultraviolet region of the spectrum, but avoid excessive absorption in the infrared and visible parts of the spectrum. A typical loading of dye contains about 10 to 1000 milligrams per cm 2 . The coating of the second layer is typically accomplished by extrusion coating from a solvent based solution of polymer and dye, but other coatings such as rod coating, spin coating, blade coating, dip coating and the like. You may use the method.

【0048】 本発明のさらに他の実施形態が実施されうる。例えば、第1層の材料は、必ず
しも金属から作る必要はなく、有機材料のような他の破壊性材料が同様に使用で
きる。第2層は、ここで記載された染料とは異なる吸収種を含んでもよい。また
、技術的に知られるような反射防止層、保護層等のような他の層材料を本発明の
媒体に取り込んでもよいことを理解すべきである。これらの層は、第1層と第2
層との間に配置して、さらに重畳関係を考慮するか、又はそれらは別のやりかた
で配置してもよい。
Still other embodiments of the invention may be implemented. For example, the material of the first layer does not necessarily have to be made of metal, but other destructible materials such as organic materials can be used as well. The second layer may include a different absorbing species than the dyes described herein. It should also be understood that other layer materials such as anti-reflective layers, protective layers, etc. as are known in the art may be incorporated into the media of the present invention. These layers are the first layer and the second layer.
It may be placed between the layers to take into account the overlapping relationship or they may be placed in another way.

【0049】 図10には、本発明の好ましい市販の一実施形態が示されている。図10は、
特定の直接記録フィルム10を図解する。該フィルムは、好ましくは良い光学的
透明度を有するPETのようなポリエステル材料から作られる基板110を含む
。典型的には、基板は、相対的に薄い材料本体から作られ、取扱い及び使用時十
分な剛性を与え、また、650ゲージポリエステルが本発明の実施に有利である
ことがわかった。基板110の上に配置されているのは、チタニウム金属の相対
的に薄い層112である。この層は、本発明のフィルム系の第1層として機能し
、レーザー照射によって容易に破壊される。典型的には、この層112の厚さは
、1ミクロン未満であり、その白色光光学密度が約.5〜.8であるように選択され
る。第1の金属層112の上には、熱分散下塗り層114が配置される。この層
は、約2ミクロンの厚さを有し、上述したように、台形縁、チップ等のような欠
損の形成を最小化するために機能する。この層は、好ましくは加水分解化ポリビ
ニルアセテートから作られる。下塗り層114の上には、染料被膜層116が配
置される。この層は、フィルムの第2層として機能し、その中に紫外線吸収染料
を含有する。染料被膜層の厚さは、約5〜6ミクロンである。
FIG. 10 shows a preferred commercial embodiment of the present invention. Figure 10
1 illustrates a particular direct recording film 10. The film comprises a substrate 110 preferably made of a polyester material such as PET which has good optical clarity. Typically, the substrate is made from a relatively thin body of material to provide sufficient rigidity during handling and use, and 650 gauge polyester has been found to be advantageous in the practice of the invention. Disposed over substrate 110 is a relatively thin layer 112 of titanium metal. This layer functions as the first layer of the film system of the present invention and is easily destroyed by laser irradiation. Typically, the thickness of this layer 112 is less than 1 micron and its white light optical density is selected to be about .5 to .8. A heat dispersion undercoat layer 114 is disposed on the first metal layer 112. This layer has a thickness of approximately 2 microns and, as mentioned above, serves to minimize the formation of defects such as trapezoidal edges, tips and the like. This layer is preferably made from hydrolyzed polyvinyl acetate. The dye coating layer 116 is disposed on the undercoat layer 114. This layer functions as the second layer of the film and contains the UV absorbing dye therein. The thickness of the dye coating layer is about 5-6 microns.

【0050】 さらに、図10の実施形態は、染料被膜層116上に配置されるカバーシート
アセンブリ118を含む。カバーシートアセンブリ118は、裏打ちシート12
2上に保持される接着剤本体120を含んでなる。図示された実施形態では、裏
打ちシート122は、それへの接着剤本体120の結合を促進させる下層124
を、該接着剤本体上に有する。任意であるが、カバーシート118は、好ましく
はその上面に技術的に公知の帯電防止被膜126を有し、この被膜126は、ダ
ストの山となるであろう帯電を防止するのに役立つ。
In addition, the embodiment of FIG. 10 includes a coversheet assembly 118 disposed on the dye coating layer 116. The cover sheet assembly 118 includes the backing sheet 12
2 comprises an adhesive body 120 carried on. In the illustrated embodiment, the backing sheet 122 has an underlayer 124 that facilitates bonding of the adhesive body 120 thereto.
On the adhesive body. Optionally, cover sheet 118 preferably has on its upper surface an antistatic coating 126 known in the art, which coating 126 serves to prevent charging which would be a pile of dust.

【0051】 この実施形態では、裏打ちシート122は、好ましくは約92ゲージの厚さを
有するPETのようなポリエステル材料から作られる。接着剤本体120は、染
料被膜層116に関して適度な粘度を有するいずれの市販されている接着剤でも
よい。下層124は、好ましくは、接着剤本体120が、裏打ちシート122に
対して、染料被膜層116に対してよりも強固に結合することを確実にするよう
に含められる。下層124の組成は、接着剤本体116と裏打ちシート122の
性質に依存し、この目的のため、市販材料が容易に入手できる。
In this embodiment, the backing sheet 122 is preferably made from a polyester material such as PET having a thickness of about 92 gauge. The adhesive body 120 can be any commercially available adhesive that has a suitable viscosity with respect to the dye coating layer 116. The underlayer 124 is preferably included to ensure that the adhesive body 120 bonds more firmly to the backing sheet 122 than to the dye coating layer 116. The composition of the underlayer 124 depends on the nature of the adhesive body 116 and the backing sheet 122, and commercially available materials are readily available for this purpose.

【0052】 図10のフィルムの特定な変形を、45%メタノール及び45%エチルアセテ
ート中の10%質量溶液をコーティングすることによって調製される下塗りを使
用して作ってもよい。 他の下塗り組成物は、質量で、50%の脱イオン水及び25%のイソプロパノ
ールに溶解された、Morton Chemical Companyから商品名Morton Polymer 10で販
売されている25%の加水分解化ポリビニルアセテートエマルジョンを含む。
A particular variation of the film of FIG. 10 may be made using a basecoat prepared by coating a 10% weight solution in 45% methanol and 45% ethyl acetate. Another basecoat composition was, by weight, a 25% hydrolyzed polyvinyl acetate emulsion sold by Morton Chemical Company under the tradename Morton Polymer 10 dissolved in 50% deionized water and 25% isopropanol. Including.

【0053】 1つの好ましい染料被膜層は、395.81グラムのアセトン、319.04グラムのメタ
ノール、193.42グラムの商品名Dowanol PMで販売されているプロピレングリコー
ルメチルエーテル溶媒、Eastman Chemical Companyによって商品名CAP 504-0.2
で販売されている28.91グラムのセルロースアセテートプロピオネート .5秒、Ea
stman Chemical Companyによって商品名CAP 482-20で販売されている28.91グラ
ムのセルロースアセテートプロピオネート,20秒、式Iのジアゾニウム塩と式III
のカップラーとのカップリングによって調製された商品名LPA dye T-113の紫外
線吸収染料を30.91グラム、及びByk Chemie 化学会社によって商品名BYK331で販
売されているジメチルポリシロキサンコポリマー変性されたポリマー.3グラムの
溶液をロッドコーティングすることによって調製される。この材料は、下塗り層
の上に、約5〜6ミクロンの厚さにロッドコーティングされる。
One preferred dye coating layer is 395.81 grams of acetone, 319.04 grams of methanol, 193.42 grams of propylene glycol methyl ether solvent sold under the trade name Dowanol PM, trade name CAP 504-0.2 by Eastman Chemical Company.
28.91 grams of Cellulose Acetate Propionate sold at .5 seconds, Ea
28.91 grams of cellulose acetate propionate sold under the tradename CAP 482-20 by stman Chemical Company, 20 seconds, diazonium salt of Formula I and Formula III
30.91 grams of a UV absorbing dye with the trade name LPA dye T-113 prepared by coupling with a coupler of, and a dimethylpolysiloxane copolymer modified polymer sold under the trade name BYK331 by Byk Chemie Chemical Company. 3 grams. Prepared by rod coating the solution of. This material is rod coated onto the subbing layer to a thickness of about 5-6 microns.

【0054】 押出コーティングに適する代替的な染料被膜配合は、質量を基準として、382
グラムのアセトン、310グラムのメタノール、188グラムのDowanol PM、38グラム
のCAP(.5秒)、38グラムのCAP(20秒)、40グラムのLPA dye T-113、及び.4グ
ラムのBYK331を含有する。この混合物は、約5〜6ミクロンの厚さに押出被膜さ
れる。
An alternative dye coating formulation suitable for extrusion coating is 382 by weight.
Grams of acetone, 310 grams of methanol, 188 grams of Dowanol PM, 38 grams of CAP (.5 seconds), 38 grams of CAP (20 seconds), 40 grams of LPA dye T-113, and .4 grams of BYK331. contains. This mixture is extrusion coated to a thickness of about 5-6 microns.

【0055】 図10の実施形態における好ましい接着剤の配合は、Morton Chemical Compan
yで商品名Morstick220で販売されているコンタクト接着剤を含む。この接着剤9
0グラムを10グラムの水と混ぜ、92ゲージの前処理されたポリエステルシー
ト上に、約12ミクロンの厚さにコーティングされる。
The preferred adhesive formulation in the embodiment of FIG. 10 is Morton Chemical Compan
Includes contact adhesive sold under the trade name Morstick 220 under y. This adhesive 9
0 grams is mixed with 10 grams water and coated onto a 92 gauge pretreated polyester sheet to a thickness of about 12 microns.

【0056】 このように、上述の図面、考察及び記述は、本発明の特定の実施形態を説明す
るものであるが、本発明の実施を制限する意図でないことを理解すべきである。
特許請求の範囲が、すべての均等物を含め、本発明の範囲を定義づけするもので
ある。
Thus, it should be understood that the drawings, discussions, and descriptions set forth above are illustrative of particular embodiments of the invention and are not intended to limit the practice of the invention.
The claims define the scope of the invention, including all equivalents.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の原理に従って構成された画像処理媒体の断面図である。[Figure 1]   1 is a cross-sectional view of an image processing medium configured according to the principles of the present invention.

【図2】 図1の媒体の画像処理の第1工程を示す断面図である。[Fig. 2]   It is sectional drawing which shows the 1st process of the image processing of the medium of FIG.

【図3】 図1の媒体の画像処理の第2工程を示す断面図である。[Figure 3]   It is sectional drawing which shows the 2nd process of the image processing of the medium of FIG.

【図4】 本発明の原理に従って構成された画像処理媒体の他の実施形態の断面図であっ
て、その画像処理の第1工程を示す。
FIG. 4 is a cross-sectional view of another embodiment of an image processing medium constructed in accordance with the principles of the present invention, showing the first step of the image processing.

【図5】 図4の画像処理媒体の断面図であって、画像処理媒体上の画像形成の第2工程
を示す。
5 is a cross-sectional view of the image processing medium of FIG. 4, showing a second step of image formation on the image processing medium.

【図6】 本発明の画像処理媒体のフォトマスクとしての使用を説明する概略図である。[Figure 6]   FIG. 6 is a schematic view illustrating the use of the image processing medium of the present invention as a photomask.

【図7】 本発明の画像処理フィルムの一部の平面図であって、その画像部分の特定の微
視的欠損を示す。
FIG. 7 is a plan view of a part of the image processing film of the present invention, showing a specific microscopic defect in the image part.

【図8】 図7の画像化媒体の8−8線断面図である。[Figure 8]   8 is a sectional view taken along line 8-8 of the imaging medium of FIG. 7.

【図9】 熱拡散層を含む、本発明の画像処理媒体の他の実施形態の断面図である。[Figure 9]   FIG. 7 is a cross-sectional view of another embodiment of the image processing medium of the present invention, which includes a heat diffusion layer.

【図10】 本発明の原理に従って構成された画像処理媒体の他の実施形態の断面図である
FIG. 10 is a cross-sectional view of another embodiment of an image processing medium constructed in accordance with the principles of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GE,GH,GM,HR ,HU,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP, KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,L V,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI, SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,U Z,VN,YU,ZW Fターム(参考) 2H025 AA02 AA04 AA11 AA13 AB08 AC08 AD03 BH02 CC02 DA13 FA10 2H123 AA00 AA51 BB00 BB13 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (81) Designated countries EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, I T, LU, MC, NL, PT, SE), OA (BF, BJ , CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, K E, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW), EA (AM , AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM) , AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, D K, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR , HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, L V, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ , PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, U Z, VN, YU, ZW F-term (reference) 2H025 AA02 AA04 AA11 AA13 AB08                       AC08 AD03 BH02 CC02 DA13                       FA10                 2H123 AA00 AA51 BB00 BB13

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 以下: 基板; 前記基板上に配置される第1材料の第1層;及び 前記第1層と重畳関係に配置される第2材料の第2層; を含んでなる直接記録画像処理フィルムであって、 前記第1層は、第1波長の光に対して第2波長の光に対するより高い吸光度を
有しており、第2波長の光は前記第1波長の光より短く;前記第2層は、前記第
1波長の光に対して、前記第1層より低い吸光度を有し、また前記第2波長の光
に対して、前記第1層より高い吸光度を有し、かつ前記第1層は、前記第1波長
の光によって破壊されうる、直接記録画像処理フィルム。
1. A direct recording comprising: a substrate; a first layer of a first material disposed on the substrate; and a second layer of a second material disposed in superposed relation with the first layer. An image processing film, wherein the first layer has a higher absorbance for the light of the second wavelength for the light of the first wavelength, and the light of the second wavelength is shorter than the light of the first wavelength. The second layer has a lower absorbance for the light of the first wavelength than the first layer, and a higher absorbance for the light of the second wavelength than the first layer, A direct recording image processing film, wherein the first layer can be destroyed by the light having the first wavelength.
【請求項2】 前記第1層が、金属の層を含む請求項1に記載の直接記録画
像処理フィルム。
2. The direct recording image processing film according to claim 1, wherein the first layer comprises a metal layer.
【請求項3】 前記第2層が、その中に紫外線吸収染料を含有している請求
項1に記載の直接記録画像処理フィルム。
3. The direct recording image processing film according to claim 1, wherein the second layer contains an ultraviolet absorbing dye therein.
【請求項4】 前記紫外線吸収染料が、アゾ染料である請求項3に記載の直
接記録画像処理フィルム。
4. The direct recording image processing film according to claim 3, wherein the ultraviolet absorbing dye is an azo dye.
【請求項5】 前記アゾ染料が、芳香族カップリング剤と、下記式: 【化1】 及び 【化2】 式中、Rは水素又はアルキルであり、Yはハロゲンであり、かつXはアニオンで
ある;から成る群より選択されるジアゾニウム塩との反応によって形成される、
請求項4に記載の直接記録画像処理フィルム。
5. The azo dye comprises an aromatic coupling agent and the following formula: And [Chemical 2] Wherein R is hydrogen or alkyl, Y is halogen, and X is an anion; formed by reaction with a diazonium salt selected from the group consisting of:
The direct recording image processing film according to claim 4.
【請求項6】 前記芳香族化合物が、下記式: 【化3】 及び 【化4】 式中、Rは水素又はアルキルであり、かつnは正の整数である;から成る群より
選択される、請求項5に記載の直接記録画像処理フィルム。
6. The aromatic compound has the following formula: And [Chemical 4] A direct-recording image-processing film according to claim 5, selected from the group consisting of: wherein R is hydrogen or alkyl, and n is a positive integer.
【請求項7】 前記第2層が、前記紫外線吸収染料がその中に溶解されるポ
リマーマトリックスを含む請求項3に記載の直接記録画像処理フィルム。
7. A direct recording image processing film according to claim 3, wherein said second layer comprises a polymer matrix in which said UV absorbing dye is dissolved.
【請求項8】 さらに、前記第1層と前記第2層との間に挿入された熱分散
層を含有する請求項1に記載の直接記録画像処理フィルム。
8. The direct recording image processing film according to claim 1, further comprising a heat dispersion layer inserted between the first layer and the second layer.
【請求項9】 前記熱分散層が、ポリマーマトリックスの層を含む請求項8
に記載の直接記録画像処理フィルム。
9. The heat dissipating layer comprises a layer of polymer matrix.
The direct recording image processing film described in 1.
【請求項10】 前記ポリマー材料が、加水分解化ポリビニルアセテートで
ある請求項9に記載の直接記録画像処理フィルム。
10. The direct recording image processing film according to claim 9, wherein the polymer material is hydrolyzed polyvinyl acetate.
【請求項11】 前記第1材料の前記第1層が、チタニウムの層を含む請求
項1に記載の直接記録画像処理フィルム。
11. The direct recording image processing film according to claim 1, wherein the first layer of the first material comprises a layer of titanium.
【請求項12】 前記チタニウムの層が、.1〜.8の範囲の光学密度を有する
請求項11に記載の直接記録画像処理フィルム。
12. A direct recording image processing film according to claim 11, wherein the titanium layer has an optical density in the range of .1 to .8.
【請求項13】 前記ポリマーマトリックスが、セルロースアセテートポリ
マーを含む請求項7に記載の直接記録画像処理フィルム。
13. The direct recording image processing film according to claim 7, wherein the polymer matrix comprises a cellulose acetate polymer.
【請求項14】 前記セルロースアセテートポリマーが、異なった粘度を有
する少なくとも2種のセルロースアセテートプロピオネートの混合物を含む請求
項13に記載の直接記録画像処理フィルム。
14. The direct-recording image processing film according to claim 13, wherein the cellulose acetate polymer comprises a mixture of at least two cellulose acetate propionates having different viscosities.
【請求項15】 前記セルロースアセテートポリマーが、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート
、及びそれらの組合せから成る群より選択される請求項13に記載の直接記録画
像処理フィルム。
15. The direct recording image processing film of claim 13, wherein the cellulose acetate polymer is selected from the group consisting of cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and combinations thereof.
【請求項16】 さらに、カバーシートアセンブリを含み、前記カバーシー
トアセンブリが、前記第2層に接触する接着剤の層を含む請求項1に記載の直接
記録画像処理フィルム。
16. The direct recording image processing film of claim 1, further comprising a cover sheet assembly, the cover sheet assembly including a layer of adhesive in contact with the second layer.
【請求項17】 以下: 基板; 前記基板上に配置される第1材料の第1層;及び 前記第1層と重畳関係に配置される第2材料の第2層; を含んでなる直接記録画像処理フィルムであって、 前記第1層は、第1波長の光に対して第2波長の光に対するより高い吸光度を
有しており、第2波長の光は前記第1波長の光より短く;前記第2層は、前記第
1波長の光に対して、前記第1層より低い吸光度を有し、また前記第2波長の光
に対して、前記第1層より高い吸光度を有し、かつ前記第1層は、前記第1波長
の光によって破壊されうる;かつ 前記第2層の上に配置される接着剤本体、及び前記接着剤本体の上に配置され
る裏打ちシートを含むカバーシートアセンブリを含んでなる直接記録画像処理フ
ィルム。
17. A direct recording comprising: a substrate; a first layer of a first material disposed on the substrate; and a second layer of a second material disposed in superposed relation with the first layer. An image processing film, wherein the first layer has a higher absorbance for the light of the second wavelength for the light of the first wavelength, and the light of the second wavelength is shorter than the light of the first wavelength. The second layer has a lower absorbance for the light of the first wavelength than the first layer, and a higher absorbance for the light of the second wavelength than the first layer, And a cover sheet including the first layer that can be destroyed by the light having the first wavelength; and an adhesive body disposed on the second layer, and a backing sheet disposed on the adhesive body. A direct recording image processing film comprising an assembly.
【請求項18】 フォトツールの製造方法であって、以下の工程: I. 直接記録画像処理フィルムを供給する工程であって、前記フィルムが以下: 基板; 前記基板上に配置される第1材料の第1層;及び 前記第1層と重畳関係に配置される第2材料の第2層; を含んでなる直接記録画像処理フィルムであって、 前記第1層は、第1波長の光に対して第2波長の光に対するより高い吸光度を
有しており、第2波長の光は前記第1波長の光より短く;前記第2層は、前記第
1波長の光に対して、前記第1層より低い吸光度を有し、また前記第2波長の光
に対して、前記第1層より高い吸光度を有し、かつ前記第1層は、前記第1波長
の光によって破壊されうる; を含んでなるものである工程; II. 前記画像処理フィルム上に前記第1波長の光ビームを向ける工程であって
、前記光ビームが、前記第1層を破壊するのに十分なエネルギーを有していて、
該第1層に破壊領域を生成し;それによって、前記破壊領域の上方にある前記第
2層のスーパージェイセント部分が、もはや前記基板に支持されなくなる工程;
及び III. 前記第2層の前記スーパージェイセント部分を前記フィルムから除去し;
それによって前記フィルムに、前記第2層が欠けている領域を生成する工程; を含んでなるフォトツールの製造方法。
18. A method of manufacturing a phototool, comprising the steps of: I. providing a direct recording image processing film, the film comprising: a substrate; a first material disposed on the substrate. A first layer of: and a second layer of a second material disposed in a superposed relationship with the first layer; By contrast, it has a higher absorbance for light of a second wavelength, the light of the second wavelength being shorter than the light of the first wavelength; Has a lower absorbance than the first layer, and has a higher absorbance than the first layer with respect to the light of the second wavelength, and the first layer can be destroyed by the light of the first wavelength. II. Optical beam of the first wavelength on the image processing film. Directing the beam of light having sufficient energy to destroy the first layer,
Creating a rupture region in the first layer; whereby the superjacent portion of the second layer above the rupture region is no longer supported by the substrate;
And III. Removing the superjacent portion of the second layer from the film;
Thereby producing a region of the film that lacks the second layer.
【請求項19】 前記スーパージェイセント部分を除去する工程が、前記ス
ーパージェイセント部分を、接着剤本体と接触させ、かつ前記フィルムの残部か
ら前記接着剤本体を除去することによって、前記接着剤本体を前記スーパージェ
イセント部分に接着させ、かつ取り去ることを含む請求項18に記載の方法。
19. The adhesive body comprises removing the superjacent portion by contacting the superjacent portion with an adhesive body and removing the adhesive body from the rest of the film. 19. The method of claim 18, including adhering and removing to the super-jacent portion.
【請求項20】 請求項18に記載の方法であって、 直接記録画像処理フィルムを供給する工程が、さらに、前記第2層に接触する
接着剤本体を含有するカバーシートアセンブリを有するフィルムを供給すること
を含み; 前記第1波長の前記光ビームを前記フィルム上に向ける工程が、前記基板を通
して前記ビームを向けることを含み;かつ 前記スーパージェイセント部分を除去する工程が、前記カバーシートアセンブ
リを除去することを含む;方法。
20. The method of claim 18, wherein the step of providing a direct recording image processing film further comprises providing a film having a cover sheet assembly containing an adhesive body in contact with the second layer. Directing the light beam of the first wavelength onto the film, directing the beam through the substrate; and removing the super-jacent portion of the cover sheet assembly. Including removing; a method.
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