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JP2003507758A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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Publication number
JP2003507758A
JP2003507758A JP2001517215A JP2001517215A JP2003507758A JP 2003507758 A JP2003507758 A JP 2003507758A JP 2001517215 A JP2001517215 A JP 2001517215A JP 2001517215 A JP2001517215 A JP 2001517215A JP 2003507758 A JP2003507758 A JP 2003507758A
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JP
Japan
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chemical formula
acrylate
meth
compound
group
Prior art date
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Application number
JP2001517215A
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English (en)
Inventor
アン、ヤンシク
キム、キュンジュン
ファン、ユンイル
Original Assignee
エルジー・ケミカル・リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エルジー・ケミカル・リミテッド filed Critical エルジー・ケミカル・リミテッド
Publication of JP2003507758A publication Critical patent/JP2003507758A/ja
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G—PHYSICS
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、アルカリ水溶液下で現像が可能である感光性樹脂組成物にかかわり、露光過程のうち露光部位においてバインダ樹脂と架橋化合物との化学的結合と同時にバインダ樹脂鎖間の化学的結合を起こすことができるようにして、現像過程で露光部位と非露光部位との溶解度の差を極大化することにより分解能に優れており、また、架橋化合物の使用量を減少させることにより、全体ＵＶ露光量が減され、工程上有利であるだけでなく、膜特性に優れた感光性樹脂を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 ［関連出願への相互参照］ 本出願は、１９９９年８月１７日に出願された韓国特許出願Ｎｏ．１０−１９
９９−００３３８８４に基づいており、その出願は、言及することによって本明
細書に組み入れられている。
【０００２】 ［技術分野］ 本発明は、アルカリ水溶液で現像が可能である感光性樹脂組成物に関し、詳し
くは、ＬＣＤの製造工程においてカラーフィルターおよびＴＦＴ、回路保護膜と
して有用な感光性樹脂組成物に関する。
【０００３】 ［背景技術］ 最近、紫外線などのような活性光を利用して画像を形成するいわゆるフォトリ
ソグラフィー技術の発展により微細画像の形成が必要な多くの分野でアルカリ水
溶液で現像が可能な感光性樹脂に対する需要が増加している。
【０００４】 アルカリ現像型感光性樹脂は、印刷回路基板の製造に使用されるドライフィル
ムレジスト、半導体回路製作用フォトレジストなどに用いられており、最近は半
導体およびＬＣＤを含むＦＰＤ（Flat Panel Display）分野でカラーフィルター
および多くの回路保護膜としてもその用途が拡大されている。
【０００５】 アルカリ水溶液で現像が可能な感光性樹脂組成物は、一般的に、イ）アルカリ
水溶液により溶解されるかまたは膨潤されるバインダ樹脂；ロ）少なくとも２つ
のエチレン系不飽和結合を有する架橋化合物；ハ）光重合開始剤と、ニ）上述の
各成分などを溶解することができる溶剤とからなっており、ここに必要な場合、
染料、顔料、または製膜性能や基板との接着力を向上させる色々な添加剤を含有
することもある。
【０００６】 上記イ）はアルカリ水溶液により溶解または膨潤されるバインダ樹脂として一
般的に高分子鎖のうちカルボン酸または無水カルボン酸または水酸基、アミノ基
、アミド基を含有する構造になっており、ノボラックフェノル樹脂、またはアク
リル樹脂単独重合体または共重合体が広く利用されている。
【０００７】 とくに、ＦＰＤ分野でカラーフィルターおよびＴＦＴ回路保護膜として上記感
光性樹脂組成物が使用される場合は、可視光線で透明性に優れたアクリルバイン
ダー樹脂が広く利用されている。
【０００８】 上記アルカリ溶液に可溶性のアクリルバインダ樹脂としてはアクリル酸または
メタクリル酸とこれらのアルキルエステル、置換または非置換のアリルエステル
からなる群から選ばれた１以上の化合物を利用した共重合体が主に使用される。
【０００９】 アメリカ特許第４６２９６８０号明細書と米国特許第４１３９３９１号明細書
では、ベンジルアクリレート／メタクリル酸の共重合体を利用しており、日本国
特公昭５４−３４３２７号公報では、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシ
ルメタクリレート／メタクリル酸のターポリマーが開示されており、日本国特公
昭５５−６２１０号公報では、メチルメタクリレート／エチルアクリレート／ア
クリル酸からなるターポリマーが開示されている。また、日本国特開平９−２３
０５９号公報では、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルアクリレート、メ
タクリル酸などを利用する共重合体について開示されている。
【００１０】 上記ロ）の化合物は少なくとも２つのエチレン系不飽和結合を有する架橋化合
物であり、具体的な例としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリトリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールヘキサ(メタ)
アクリレートなどがある。
【００１１】 従来技術による感光性樹脂組成物ではこのような架橋化合物が組成物内でバイ
ンダ樹脂に単純分布されていて紫外線などの活性光により露光すると、架橋性反
応を起こすようになって、網状構造をなすことにより、アルカリ可溶性樹脂が現
像過程中に現像液により溶けていくことを防止することにより結果的に基板の上
にイメージを残す役割を果たす。
【００１２】 ところが、従来の感光性樹脂組成物では露光部位と非露光部位との溶解度の差
異が充分大きくなくて実際には現像過程中に残るべきバインダ樹脂が現像溶液に
より一部溶けていくこともあって、結果的に所望する微細パターンの形状を得に
くい場合が多い。
【００１３】 一方、このような現像を防止するために、架橋化合物を過多に使用すると、露
光後表面の硬度が低下して工程性を低下させるだけではなく、充分な架橋化反応
を起こすための露光量が多くなることにより、工程収率を低下させる。
【００１４】 また、この場合、非露光部位の溶解度も低下されるようになってレジストとし
ての分解能が減少する短所がある。
【００１５】 ［発明の背景］ 本発明は上記のような問題点を解決するために、露光過程のうち露光部位でバ
インダ樹脂と架橋化合物の化学的結合と同時に、バインダ樹脂鎖間の化学的結合
を起こすことができるようにして、現像過程中、露光部位と非露光部位との溶解
度の差異を極大化させ、架橋化合物の使用量を減少することにより、全体露光量
が減少して工程上有利であるだけでなく、膜特性に優れた感光性樹脂を提供する
ことを目的とする。
【００１６】 本発明は、上記目的を達成するために、自己硬化形バインダ樹脂、光重合開始
剤、少なくとも２つのエチレン系不飽和結合を有する架橋化合物および溶剤から
なる感光性樹脂組成物において、自己硬化形バインダ樹脂が下記化学式１である
感光性樹脂組成物を提供する。化学式１ −Ａ−Ｂ−Ｃ− ここで、Ａは下記化学式１−Ａで示される化合物であり、化学式１−Ａ
【００１７】
【化７】
【００１８】 Ｂは下記化学式１−Ｂで示される化合物であり、化学式１−Ｂ
【００１９】
【化８】
【００２０】 Ｃは、下記化学式１−Ｃおよび／または１−Ｃ′で示される化合物である。化学式１−Ｃ
【００２１】
【化９】
【００２２】化学式１−Ｃ′
【００２３】
【化１０】
【００２４】 上記式で、Ｒ1はＨまたはＣＨ3であり、Ｒ2は炭素原子数１〜８のアルキル基
、ヒドロキシ基が置き換えられたアルキル基、または置換または非置換の炭素原
子数１〜１２のアリル基であり、Ｒ3はベンゼンまたは炭素原子数１〜８のアル
キル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル置換基
を有するベンゼン、炭素原子数１〜８のアルコキシ置換基を有するベンゼン、水
酸基またはハロゲンが置き換えられたベンゼンである。
【００２５】 上記化学式１のバインダ樹脂のうちＡ部分が占める比率は、全体バインダ樹脂
に対し、１０〜５０モル％であり、Ｂ部分が占める部分は０〜１５モル％であり
、Ｃ部分が占める部分は５０〜９０モル％である。
【００２６】 上記感光性樹脂組成物には必要な場合、少なくとも２つの不飽和基を有する架
橋化合物をさらに使用することができる。
【００２７】 上記化学式１の自己硬化形バインダ樹脂は、下記化学式２、３および４からな
る群から選ばれた１種以上のカルボン酸基を有する化合物を構成成分とする共重
合体と下記化学式５の化合物を反応させて得る。化学式２ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＨ化学式３ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＲ2 化学式４ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−Ｒ3 化学式５
【００２８】
【化１１】
【００２９】 ここで、Ｒ1は水素またはメチル基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜８のアルキル
基、ヒドロキシ基が置き換えられたアルキル基、置換または非置換の炭素原子数
４〜１２のアリル基またはアリルアルキル基からなる群から選ばれた化合物であ
り、Ｒ3はベンゼンまたは炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８の
アルコキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル置換基を有するベンゼン、炭素原子
数１〜８のアルコキシ置換基を有するベンゼン、水酸基またはハロゲンが置き換
えられたベンゼンからなる群から選ばれた化合物である。
【００３０】 上記化学式１の自己硬化形バインダ樹脂を上記化学式２の化合物と、上記化学
式３または４の化合物の一つまたはその２つすべてと一定のモル比で共重合させ
て製造された共重合体を攪拌機、窒素投入口が取りつけられたフラスコに投入し
、メチルエチルケトンなどの溶媒を使用して溶解させる。使用される共重合体の
数平均分子量は、１，０００〜１００，０００であり、好ましくは、２，０００
〜３０，０００である。
【００３１】 このフラスコの温度を１２０℃まで上げて化学式５の化合物を１時間徐々に加
えた後、エポキシ基が完全に消えるまでさらに反応させる。反応物をｎ−ヘキサ
ンとメタノールの比が１：１である混合物を利用して沈殿を形成させ、真空下で
乾燥して、自己硬化形バインダ樹脂を製造する。
【００３２】 化学式５の化合物のエポキシ基をバインダ樹脂に存在するカルボン酸基と反応
させ、エステル結合を形成し、結果的に線形であるバインダ樹脂に反応性（メタ
）アクリル基が側鎖として導入された自己硬化形バインダ樹脂が形成される。
【００３３】 このように得られた自己硬化形バインダ樹脂は、アルカリ水溶液により溶解さ
れるか少なくとも膨潤される樹脂であって紫外線などのような活性光により硬化
反応を起こすことができる。
【００３４】 また、上記化学式２の化合物を上記化学式３または４の化合物の一つまたはそ
の２つの化合物のすべてで共重合させた化合物、光重合開始剤および溶剤を混合
して製造された感光性樹脂組成物を提供する。
【００３５】 従来の感光性樹脂成分は、ＵＶ露光工程で架橋化合物同士でのみ起こる化学反
応にて網状構造になるに対し、本願発明の感光性樹脂組成物は、架橋化合物だけ
でなく、バインダ樹脂鎖との化学結合で網状構造が形成される。これによって、
本発明の感光性樹脂組成物は露光部位と非露光部位とのあいだの最大の溶解度の
差を提供する。したがって、架橋化合物を使用しないかまたは使用量を減らすこ
とにより、非露光部位のアルカリ水溶液現像液に対する溶解度を増加させること
ができ、感度および分解能が従来技術に比して優れており、フィルム特性も優れ
ている。
【００３６】 上記化学式２の化合物としてはアクリル酸またはメタクリル酸などを使用する
ことができ、その使用量は共重合体のうち全体単量体のモル総量に対し１０〜９
０モル％である。
【００３７】 上記化学式３の化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（
メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）ア
クリレート、エチル（メタ）アクリレートまたは２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレートからなる群から選ばれた化合物が好ましく、さらに好ましくは、ベン
ジル（メタ）アクリレートまたはフェニル（メタ）アクリレートである。
【００３８】 上記化学式４の化合物としては、スチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−メ
チルスチレンまたは酢酸ビニルからなる群から選ばれた化合物が好ましい。
【００３９】 または、上記化学式５の化合物としては、グリシジルアクリレートまたはグリ
シジルメタクリレートが好ましい。この化合物は、化学式２のカルボン酸含有単
量体に対し０．１〜９０モル％を使用する。
【００４０】 必要な場合、本発明で使用できる少なくとも２つの不飽和基を有する架橋化合
物としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
、ペンタエリトリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（
メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペン
タエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群から選ばれた化合物を単独
または混合して使用することができ、好ましくはジペンタエリトリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレートを
使用することが好ましい。
【００４１】 上記架橋化合物を使用する場合は、上記自己硬化形バインダ樹脂の総重量に対
し、０〜２００重量％、好ましくは、０〜１５０重量％を使用する。
【００４２】 光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、アセトフェノンのようなベンゾフェ
ノン類；ビス−４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−４，４′−ジ
エチルアミノベンゾフェノンのように置き換えられたベンゾフェノン系；２，４
，６−トリス（トリクロロメチル）−トリアジンのようなトリアジン系光開始剤
；Ｎ−メチル−２−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾール、２，２−ジメ
トキシー１，２−ジフェニルエタンオンのようなケトン系光重合開始剤からなる
群から選ばれた化合物を単独または混合して使用することができる。
【００４３】 光重合開始剤の使用量は、光重合性組成物の総重量に対し０．１〜１０重量％
であることが望ましい。
【００４４】 溶媒としては、アクリル高分子の重合に主に用いられる一般的なものとして、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラハイドロフラン、メチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムアミド、プロピレングリコ
ールメチルエテルアセテートおよび２−メトキシエチルエテルからなる群から選
ばれた化合物を単独または混合して使用する。
【００４５】 一方、本発明の感光性樹脂組成物では、上記のように基本的な成分以外にも必
要に応じて、顔料、染料、または製膜性能をよくするために、消泡剤、界面活性
剤、熱重合防止剤、接着力増進剤などを少量添加して使用することができる。
【００４６】 最終的に得られた感光性樹脂組成物溶液を０．１〜５μｍのメンブレンフィル
ターを使用して濾過する。この濾過された樹脂組成物をスピンコーティング法、
ロールコーティング法、スプレーコーティング法などの公知の方法を用いて製膜
する。製膜用基板としてはガラス板やシリコンウェハーを使用することができる
。このとき、フィルム面の厚さは組成物の粘度、固形粉の濃度、製膜速度などの
ような製膜条件により決定され、本発明の組成物を使用する場合、０．１〜５０
０μｍ厚さの薄膜を得ることができる。
【００４７】 得られた薄膜を５０〜１５０℃で加熱板またはオーブンを利用して１０〜５０
０秒間維持しながら前処理をする。
【００４８】 ある程度乾燥された薄膜は、ポジティブ試験フォトマスク（Toppan Printing
Co.,Ltd製）を通じて紫外線を照射する。この際、紫外線光源は、ｇ，ｈ，ｉ線
を含有する１ｋＷ高圧水銀灯を利用して約３０〜５００ｍＪ／ｃｍ2内外の照度
で照射し、特別な光学フィルターは使用しない。
【００４９】 紫外線が照射された部分は紫外線が照射されなかった部分に比して溶解度がさ
らに少なくなって両者の溶解度の差異が極大化する。
【００５０】 紫外線が照射された薄膜はスプレー法や浸漬方式で２０〜３０℃で現像する。
このとき、現像液としては、ｐＨ９〜１２のＫＯＨ水溶液や０．１〜５重量％の
テトラメチルアンモニウムハイドライド水溶液を使用することができる。
【００５１】 ［発明の詳細な説明］ 以下の詳細な説明では、本発明を実施する発明者（など）が最善の様態とみな
すことを単純に例示することにより、本発明の好ましい具体例のみを提示または
説明した。ところが、当業者であれば周知するごとく、本発明から外れないで、
多様な観点で変形が可能である。
【００５２】 つぎは、本発明の理解を容易に理解するために、好ましい合成例および実施例
などを提示する。ただし、下記の合成例および実施例などは、本発明の理解のた
めのもので、本発明が下記の合成例および実施例などに限定するものではない。
【００５３】合成例１ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のモル比が６０／４０であり、数平均
分子量が１０，０００である共重合体１０ｇを攪拌機、窒素投入口が取りつけら
れたフラスコに投入し、メチルエチルケトン１００ｍｌを使用して溶解させた。
フラスコの温度を１２０℃まで上げ、グリシジルメタクリレート０．３ｇを１時
間徐々に加えた後、エポキシ基が完全に消えるまで反応させた。反応物をｎ−ヘ
キサンとメタノールの比が１：１である混合物を利用して沈殿を形成させ、真空
下で乾燥してバインダ樹脂を得た。
【００５４】合成例２ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のモル比が５０／５０であり、数平均
分子量が１５，０００である共重合体を１０ｇ使用することとグリシジルアクリ
レート０．６ｇを使用することを除いては、合成例１の方法によりバインダ樹脂
を得た。
【００５５】合成例３ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のモル比が７０／３０であり、数平均
分子量が１５，０００である共重合体を１０ｇ使用することとグリシジルアクリ
レート０．０５ｇを使用することを除いては、合成例１の方法によりバインダ樹
脂を得た。
【００５６】合成例４ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のモル比が７０／３０であり、数平均
分子量が１０，０００である共重合体を１０ｇ使用することとグリシジルアクリ
レート０．０４ｇを使用することを除いては、合成例１の方法によりバインダ樹
脂を得た。
【００５７】合成例５ エチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレンのモル比が５０／４０／１０
であり、数平均分子量が１４，５００であるターポリマー１０ｇを使用すること
とグリシジルアクリレート０．３ｇを使用することを除いては合成例１の方法に
よりバインダ樹脂を得た。
【００５８】合成例６ エチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレンのモル比が６０／３０／１０
であり、数平均分子量が１４，５００であるターポリマー１０ｇを使用すること
とグリシジルアクリレート０．０５ｇを使用することを除いては合成例１の方法
によりバインダ樹脂を得た。
【００５９】 上記合成例１〜６で製造したバインダ樹脂を使用して本願発明の感光性樹脂組
成物を製造した。
【００６０】実施例１ 下記の表１の組成で感光性樹脂組成物を製造した。
【００６１】
【表１】
【００６２】 上記のように製造された組成物溶液を０．２μｍ小孔を有するテフロン（登録
商標）メンブレンフィルターを利用して濾過した。スピンコーティング法を利用
して感光性樹脂組成物をガラス板上に塗布した後、加熱板上に載せて、８０℃で
３分間維持した。ついで、接触方式で、ポジティブ試験フォトマスク（Toppan P
ainting Co., Ltd.製）を薄膜上に載せて紫外線を照射した。このとき、紫外線
光源はｇ、ｈ、ｉ線をすべて含有する１ｋＷ高圧水銀灯を利用し、１００ｍＪ／
ｃｍ2の照度で照射した。このとき、特別な光学フィルターは使用しなかった。
紫外線が照射された薄膜をｐＨ１０．５のＫＯＨ水溶液現像溶液で２分間浸漬さ
せ現像した。薄膜が塗布されたガラス板を蒸留水を利用して洗い出した後、窒素
ガスを吹き込んで乾燥し、２５０℃の加熱オーブンで１時間加熱した。得られた
フィルムの厚さは３．５μｍであり、線幅および線間隔は８μｍである鮮やかな
パターンを得ることができた。
【００６３】実施例２ 下記の表２の組成で、感光性樹脂組成物を製造した。
【００６４】
【表２】
【００６５】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１００ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００６６】 得られたフィルムの厚さは３．５μｍであり、線幅および線間隔が７μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００６７】実施例３ 下記の表３の組成で、感光性樹脂組成物を製造した。
【００６８】
【表３】
【００６９】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１５０ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００７０】 得られたフィルムの厚さは４．０μｍであり、線幅および線間隔が９μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００７１】実施例４ 下記の表４の組成で感光性樹脂組成物を製造した。
【００７２】
【表４】
【００７３】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１５０ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００７４】 得られたフィルムの厚さは４．５μｍであり、線幅および線間隔が８μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００７５】実施例５ 下記の表５の組成で感光性樹脂組成物を製造した。
【００７６】
【表５】
【００７７】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１５０ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００７８】 得られたフィルムの厚さは３．８μｍであり、線幅および線間隔が９μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００７９】実施例６ 下記の表６の組成で感光性樹脂組成物を製造した。
【００８０】
【表６】
【００８１】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１００ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００８２】 得られたフィルムの厚さは３．１μｍであり、線幅および線間隔が７μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００８３】実施例７ 下記の表７の組成で感光性樹脂組成物を製造した。本実施例７では上記実施例
などとは異なり、バインダ樹脂を先に合成しないで、その出発物質と感光性樹脂
組成物をなす成分などを共に投入して感光性樹脂組成物を製造した。
【００８４】
【表７】
【００８５】 上記のように製造された感光性樹脂組成物を実施例１の方法でフィルムを形成
した後、１５０ｍＪ／ｃｍ2の照度で露光した後、現像した。
【００８６】 得られたフィルムの厚さは３．６μｍであり、線幅および線間隔が８μｍであ
るパターンを鮮やかに得ることができた。
【００８７】比較例１〜３ 下記の表８の組成で感光性樹脂組成物を製造した。
【００８８】
【表８】
【００８９】 上記のように得られた感光性樹脂組成物を使用して実施例１と同じ方法でフィ
ルムを製造した後、露光量を変化させながらパターンを形成して下記の結果を得
た。
【００９０】
【表９】
【００９１】 本発明により製造された自己硬化形バインダ樹脂を使用した感光性樹脂組成物
の場合、実施例１〜７から得られた結果によると、製造された感光性樹脂組成物
を利用して薄膜を形成する場合、露光量を１００〜１５０ｍＪ／ｃｍ2で照射す
ると、その薄膜の厚さが３〜５μｍであり、その線幅および線間隔は７〜９μｍ
である鮮やかなパターンを得ることができた。
【００９２】 これに反して、自己硬化形バインダ樹脂を使用しない比較例１〜３の感光性樹
脂組成物は、露光量１００ｍＪ／ｃｍ2の場合、パターン自体が遺失され、露光
量を１５０〜２００ｍＪ／ｃｍ2に増加させた場合、その薄膜の厚さが３．０〜
３．８μｍに示され、線幅および線間隔もまた２０μｍから１０μｍに減少した
。したがって、自己硬化形バインダ樹脂を使用しない感光性樹脂組成物は、露光
量が増加することにより、鮮やかなパターンを得られることがわかり、露光量が
増加するというのは工程時間が長くなるべきであることを意味する。また、露光
量２００ｍＪ／ｃｍ2の場合もその薄膜のパターンの厚さが３．８μｍ、線幅お
よび線間隔が１０μｍに示されるので、本発明による実施例の結果より鮮やかで
微細なパターンを得ることができない。
【００９３】 したがって、自己硬化形バインダ樹脂を使用する感光性樹脂組成物は、少ない
量の露光量が使用されても既存に比して鮮やかな微細パターンが得られ、ＵＶ露
光工程時間を短縮することができるため、本発明は分解能に優れており、工程上
有利であり、膜特性に優れた感光性樹脂組成物を提供することができる。
【００９４】 上述のごとく、本発明の好ましい実施態様をあげて詳細に説明したが、当業者
なら添付された特許請求の範囲に記載された本発明の精神および範囲から外れる
ことなく、多様な変形例および修正例が可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ファン、ユンイル 大韓民国、302−736 テジョン−シティ、 ソ−ク、ドーンサン−ドン、クムナモー アパート 201−1303（番地なし) Ｆターム(参考） 2H025 AB13 AB17 AC01 AD01 BC14 BC42 BC53 BC85 BC92 CA01 CA28 CC03 FA03 FA17 4J027 AA01 BA19 BA21 BA26 CB10 CC05 CD10 4J100 AB02R AB04R AB07R AJ02P AL03Q AL08Q BA03R BC04Q BC43Q CA04 CA05 CA31 DA01 HA53 HC00 HE22 HE41 JA37

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 自己硬化形バインダ樹脂、少なくとも２つのエチレン系不飽
    和結合を有する架橋化合物、光重合開始剤および溶剤からなる感光性樹脂組成物
    において、 自己硬化形バインダ樹脂が下記化学式１で表わされる化合物である感光性樹脂組
    成物。化学式１ −Ａ−Ｂ−Ｃ− ここで、Ａは下記化学式１−Ａで表わされる化合物であり、化学式１−Ａ 【化１】 Ｂは下記化学式１−Ｂで表わされる化合物であり、化学式１−Ｂ 【化２】 Ｃは、下記化学式１−Ｃおよび／または１−Ｃ′で表わされる化合物であり、
    化学式１−Ｃ 【化３】 化学式１−Ｃ′ 【化４】 上記式でＲ1はＨまたは−ＣＨ3であり、Ｒ2は炭素原子数１〜８のアルキル基
    、ヒドロキシ基が置き換えられたアルキル基、または、置換または非置換の炭素
    原子数１〜１２のアリル基であり、Ｒ3はベンゼン、炭素原子数１〜８のアルキ
    ル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル置換基を
    有するベンゼン、炭素原子数１〜８のアルコキシ置換基を有するベンゼンまたは
    水酸基またはハロゲンが置き換えられたベンゼンである。
  2. 【請求項２】 上記化学式１のバインダ樹脂のうちＡ部分が占める比率は、
    全体バインダ樹脂に対し、１０〜５０モル％であり、Ｂ部分が占める部分は０〜
    １５モル％であり、Ｃ部分が占める部分は５０〜９０モル％である請求項１記載
    の感光性樹脂組成物。
  3. 【請求項３】 上記自己硬化形バインダ樹脂は、下記化学式２の化学物を下
    記化学式３の化合物および下記化学式４の化合物の一つまたはその２つすべてで
    共重合させて生成された共重合体と下記化学式５の化合物とを反応させて得られ
    た自己硬化形バインダ樹脂である請求項１記載の感光性樹脂組成物。化学式２ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＨ化学式３ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＲ2 化学式４ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−Ｒ3 化学式５ 【化５】 ここで、Ｒ1は水素またはメチル基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜８のアルキル
    基、ヒドロキシ基が置き換えられたアルキル基、置換または非置換の炭素原子数
    ４〜１２のアリル基またはアリルアルキル基からなる群から選ばれた化合物であ
    り、Ｒ3はベンゼン、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアル
    コキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル置換基を有するベンゼン、炭素原子数１
    〜８のアルコキシ置換基を有するベンゼン、水酸基またはハロゲンが置き換えら
    れたベンゼンからなる群から選ばれる化合物である。
  4. 【請求項４】 上記共重合体を含む上記化学式２の化合物は、アクリル酸ま
    たはメタクリル酸であり、上記化学式３の化合物はベンジル（メタ）アクリレー
    ト、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メ
    チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、および２−エチルヘ
    キシル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた化合物であり、上記化学式
    ４の化合物はスチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−メチルスチレン、および
    酢酸ビニルからなる群から選ばれた化合物である請求項３記載の感光性樹脂組成
    物。
  5. 【請求項５】 上記化学式５の化合物はグリシジルアクリレートまたはグリ
    シジルメタクリレートである請求項３記載の感光性樹脂組成物。
  6. 【請求項６】 上記共重合体の数平均分子量が１，０００〜１００，０００
    である請求項３記載の感光性樹脂組成物。
  7. 【請求項７】 上記化学式５の化合物の量が化学式１のバインダ樹脂で化学
    式２のカルボン酸含有単量体に対し０．１〜９０モル％である請求項３記載の感
    光性樹脂組成物。
  8. 【請求項８】 上記化学式２の化合物の量が化学式２、３および４の化合物
    のモル合計に対し１０〜９０モル％である請求項３記載の感光性樹脂組成物。
  9. 【請求項９】 少なくとも２つの不飽和基を有する架橋化合物をさらに含む
    請求項１記載の感光性樹脂組成物。
  10. 【請求項１０】 上記架橋化合物が、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
    クリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジ
    オールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
    ト、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
    ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールジ（メタ）アクリレート、
    ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ
    （メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジ
    ペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘ
    キサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートからなる
    群から選ばれた化合物を単独または混合して使用する請求項９記載の感光性樹脂
    組成物。
  11. 【請求項１１】 上記架橋化合物の量が上記化学式１の自己硬化形バインダ
    樹脂に対し０〜２００重量％である請求項９記載の感光性樹脂組成物。
  12. 【請求項１２】 下記化学式２の化合物を下記化学式３の化合物または下記
    化学式４の化合物の一つまたはその２つすべてを共重合させて生成された共重合
    体と、下記化学式５の化合物、光開始剤、および溶剤を混合して製造された感光
    性樹脂組成物。化学式２ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＨ化学式３ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＲ2 化学式４ ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−Ｒ3 化学式５ 【化６】 ここで、Ｒ1は水素またはメチル基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜８のアルキル
    基、ヒドロキシ基が置き換えられたアルキル基、置換または非置換の炭素原子数
    ４〜１２のアリル基またはアリルアルキル基からなる群から選ばれた化合物であ
    り、Ｒ3はベンゼン、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアル
    コキシ基、炭素原子数１〜６のアルキル置換基を有するベンゼン、炭素原子数１
    〜８のアルコキシ置換基を有するベンゼン、および水酸化基またはハロゲンが置
    き換えられたベンゼンからなる群から選ばれた化合物である。
  13. 【請求項１３】 上記共重合体を含む上記化学式２の化合物はアクリル酸ま
    たはメタクリル酸であり、上記化学式３の化合物はベンジル（メタ）アクリレー
    ト、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メ
    チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、および２−エチルヘ
    キシル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた化合物であり、上記化学式
    ４の化合物はスチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−メチルスチレン、および
    酢酸ビニルからなる群から選ばれた化合物である請求項１２記載の感光性樹脂組
    成物。
  14. 【請求項１４】 上記化学式５の化合物はグリシジルアクリレートまたはグ
    リシジルメタクリレートである請求項１２記載の感光性樹脂組成物。
  15. 【請求項１５】 上記共重合体の数平均分子量が１，０００〜１００，００
    ０である請求項１２記載の感光性樹脂組成物。
  16. 【請求項１６】 上記化学式２の化合物の量が化学式２、３および４のモル
    合計に対し１０〜９０モル％である請求項１２記載の感光性樹脂組成物。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004206099A (ja) * 2002-12-13 2004-07-22 Dainippon Printing Co Ltd 色分割光透過構造物用光反応型配合物および色分割光透過構造物
JP2005231119A (ja) * 2004-02-18 2005-09-02 Unitika Ltd 易接着ポリエステルフィルム
JP2009001770A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Cheil Industries Inc Ｃｍｏｓイメージセンサーのカラーフィルター用熱硬化性樹脂組成物、該組成物を利用して製造された透明膜を含むカラーフィルター、及び該カラーフィルターを使用して製造されたイメージセンサー
JP2010044427A (ja) * 2002-12-13 2010-02-25 Dainippon Printing Co Ltd 色分割光透過構造物用光反応型配合物および色分割光透過構造物
US8389621B2 (en) 2007-06-19 2013-03-05 Cheil Industries Inc. Thermosetting resin composition for producing color filter for CMOS image sensor, color filter comprising transparent film formed using the composition and CMOS image sensor using the color filter
JP2013527937A (ja) * 2010-05-03 2013-07-04 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 低温適用のためのカラーフィルター

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8119327B2 (en) 2002-03-28 2012-02-21 Huntsman Advanced Materials Americas Llc Polymerisable composition
KR20050070619A (ko) * 2003-12-30 2005-07-07 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR100709891B1 (ko) * 2004-03-22 2007-04-20 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR100789590B1 (ko) 2005-01-25 2007-12-28 주식회사 엘지화학 보존 안정성이 우수한 열경화성 수지 조성물
KR100900138B1 (ko) 2007-02-08 2009-06-01 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지, 이의 제조방법 및 상기 알칼리 가용성수지를 포함하는 감광성 수지 조성물
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Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
DE3120052A1 (de) * 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
US4629680A (en) * 1984-01-30 1986-12-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable materials capable of being developed by a weak alkaline aqueous solution
JPH0642073B2 (ja) * 1984-04-10 1994-06-01 三菱レイヨン株式会社 光重合性樹脂組成物
JP2818768B2 (ja) * 1989-02-09 1998-10-30 三菱レイヨン株式会社 架橋硬化型樹脂組成物
CA2076727A1 (en) * 1991-08-30 1993-03-01 Richard T. Mayes Alkaline-etch resistant dry film photoresist
US5356754A (en) * 1992-09-25 1994-10-18 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Crosslinking curable resin composition
TW475098B (en) * 1995-10-27 2002-02-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same
JP3254572B2 (ja) * 1996-06-28 2002-02-12 バンティコ株式会社 光重合性熱硬化性樹脂組成物
JP3805438B2 (ja) * 1996-08-30 2006-08-02 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性ガラスペースト組成物及びそれを用いたプラズマディスプレイパネル隔壁の製造方法
JP3920449B2 (ja) * 1998-03-13 2007-05-30 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004206099A (ja) * 2002-12-13 2004-07-22 Dainippon Printing Co Ltd 色分割光透過構造物用光反応型配合物および色分割光透過構造物
JP2010044427A (ja) * 2002-12-13 2010-02-25 Dainippon Printing Co Ltd 色分割光透過構造物用光反応型配合物および色分割光透過構造物
JP2005231119A (ja) * 2004-02-18 2005-09-02 Unitika Ltd 易接着ポリエステルフィルム
JP2009001770A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Cheil Industries Inc Ｃｍｏｓイメージセンサーのカラーフィルター用熱硬化性樹脂組成物、該組成物を利用して製造された透明膜を含むカラーフィルター、及び該カラーフィルターを使用して製造されたイメージセンサー
US8389621B2 (en) 2007-06-19 2013-03-05 Cheil Industries Inc. Thermosetting resin composition for producing color filter for CMOS image sensor, color filter comprising transparent film formed using the composition and CMOS image sensor using the color filter
JP2013527937A (ja) * 2010-05-03 2013-07-04 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 低温適用のためのカラーフィルター

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