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JP2003288715A - Magnetic disk medium and magnetic disk device - Google Patents

Magnetic disk medium and magnetic disk device

Info

Publication number
JP2003288715A
JP2003288715A JP2002090910A JP2002090910A JP2003288715A JP 2003288715 A JP2003288715 A JP 2003288715A JP 2002090910 A JP2002090910 A JP 2002090910A JP 2002090910 A JP2002090910 A JP 2002090910A JP 2003288715 A JP2003288715 A JP 2003288715A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic disk
lubricant
magnetic
molecular weight
disk medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002090910A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Matsumoto
浩之 松本
Kouji Tani
谷  弘詞
Mitsuhiro Shoda
光広 正田
Koji Sonoda
幸司 園田
Takayuki Nakakawaji
孝行 中川路
Hiroshi Ishikawa
博 石川
Michinori Ozaki
倫典 小崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2002090910A priority Critical patent/JP2003288715A/en
Publication of JP2003288715A publication Critical patent/JP2003288715A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Lubricants (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】保護膜が薄膜で、耐摺動性が向上した磁気ディ
スクを提供すること。 【解決手段】磁気ディスク媒体上に潤滑剤が配置され、
この潤滑剤として、下記の式1及び式2で表わされる潤
滑剤を含み、式1で表わされる潤滑剤を、分子量が15
00以上、4500以下の部分が70重量%以上で、か
つ、分子量が1500未満の部分は20重量%以下、分
子量が4500を越える部分は10重量%以下であるよ
うにした磁気ディスク。 【化6】 (ただしa及びbはそれぞれ1又は2である) 【化7】
(57) [Problem] To provide a magnetic disk having a thin protective film and improved sliding resistance. A lubricant is disposed on a magnetic disk medium,
As the lubricant, a lubricant represented by the following formulas 1 and 2 is used.
A magnetic disk wherein a portion of not less than 00 and 4500 is 70% by weight or more, and a portion having a molecular weight of less than 1500 is 20% by weight or less, and a portion having a molecular weight of more than 4500 is 10% by weight or less. Embedded image (Where a and b are each 1 or 2)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性基板上に少
なくとも磁性膜、保護膜を形成し、その上に液体潤滑剤
を配置した磁気ディスク媒体及びそのような磁気ディス
ク媒体を有する磁気ディスク装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk medium in which at least a magnetic film and a protective film are formed on a non-magnetic substrate, and a liquid lubricant is arranged thereon, and a magnetic disk device having such a magnetic disk medium. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置における記録密度は著
しい増加の一途をたどり、最近は1平方インチ当たり1
00ギガビット以上のものまで発表されている。このよ
うな高記録密度を達成するためには、磁気ヘッドと磁気
ディスクの磁気記録層との間隔、すなわち損失間隔をで
きるだけ近付けることが必要であり、現在では20nm
以下にしなければならない状況にある。
2. Description of the Related Art The recording density in a magnetic disk device has been increasing remarkably, and recently, the recording density is 1
More than 00 gigabits have been announced. In order to achieve such a high recording density, it is necessary to make the distance between the magnetic head and the magnetic recording layer of the magnetic disk, that is, the loss distance as close as possible, and at present, 20 nm.
You are in a situation where you must:

【0003】この損失間隔の大半は、磁気ディスクの磁
気記録層の上に設けられた保護膜の厚さと、磁気ヘッド
の浮上高さによって占められる。従って磁気ディスクに
対してはできるだけ保護膜厚が薄く、磁気ヘッドが接触
した場合に対する耐摺動性の高いものが要求される。損
失間隔から予想して、今後は5nm以下の保護膜厚を達
成することが好ましい。
Most of this loss interval is occupied by the thickness of the protective film provided on the magnetic recording layer of the magnetic disk and the flying height of the magnetic head. Therefore, the magnetic disk is required to have a protective film as thin as possible and have high sliding resistance against contact with the magnetic head. As expected from the loss interval, it is preferable to achieve a protective film thickness of 5 nm or less in the future.

【0004】また、最近の磁気ディスク装置では、磁気
ヘッドと磁気ディスクの間隔をできるだけ近付けるため
に、磁気ディスクの表面粗さを極力小さくする必要があ
る。そのため従来は、コンタクトスタートストップ方
式、すなわち磁気ディスクの回転の停止時には磁気ディ
スクと磁気ヘッドが接触していて、磁気ディスクが回転
し始めるとその気流によって磁気ヘッドが浮上する方式
が用いられていたが、最近では、磁気ディスクの回転の
停止時には磁気ヘッドが磁気ディスク上から離れたとこ
ろに退避し(アンロード)、磁気ディスクが回転し始め
ると磁気ヘッドが磁気ディスク上にロードオンされるロ
ードアンロード方式が採用されつつある。この場合、耐
摺動性の要求は若干緩和されるが、しかし、ロードオン
時の衝撃や通常動作時でも突発的に発生する磁気ヘッド
の姿勢異常による接触等に耐えなければならない。
Further, in recent magnetic disk devices, it is necessary to minimize the surface roughness of the magnetic disk in order to make the distance between the magnetic head and the magnetic disk as close as possible. Therefore, conventionally, a contact start / stop method, that is, a method in which the magnetic disk and the magnetic head are in contact with each other when the rotation of the magnetic disk is stopped and the magnetic head levitates due to the air flow when the magnetic disk starts to rotate, has been used. , Recently, when the rotation of the magnetic disk is stopped, the magnetic head retracts (unloads) away from the magnetic disk, and when the magnetic disk starts to rotate, the magnetic head is loaded on the magnetic disk. The method is being adopted. In this case, the requirement for the sliding resistance is slightly relaxed, but it is necessary to withstand the impact at the time of load-on and the contact due to the abnormal posture of the magnetic head that occurs suddenly even during the normal operation.

【0005】保護膜としては、米国特許Re32464
号公報等で開示されているようなカーボン系のものが従
来から使用されているが、例えば、特開昭59−154
641号公報に記載のように水素の添加や、特開平8−
106629号公報に記載のようにスパッタ法による成
膜時に窒素ガスを添加する等の方法によりカーボン系保
護膜の硬度を増加させ、薄膜化を図ることが数多く提案
されている。
As the protective film, US Pat. No. Re32464 is used.
Carbon-based materials such as those disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 59-154 have been conventionally used.
Addition of hydrogen as described in Japanese Patent No.
As described in Japanese Patent No. 106629, many proposals have been made to increase the hardness of a carbon-based protective film to reduce its thickness by adding nitrogen gas during film formation by a sputtering method.

【0006】特に水素添加のカーボン保護膜の中でも硬
度の高いダイヤモンドライクカーボン膜は古くから注目
され、上述の特開昭59−154641号公報に記載の
ような炭素水素系のガスを用いて放電を生じさせてガス
を分解して基板に堆積させるケミカルベーパーデポジシ
ョン法(以下、CVD法と記す)や、熱したフィラメン
トを用いて発生させた熱電子を炭化水素ガスに照射して
イオン化し、そのイオンビームを基板に印加したバイア
ス電圧で加速してその基板に衝突させることにより堆積
させるイオンビームデポジション法(以下、IBD法と
記す)等の種々の製法が提案されている。
Particularly, a diamond-like carbon film having a high hardness among the hydrogenated carbon protective films has been attracting attention for a long time, and the discharge is carried out by using the carbon-hydrogen gas as described in JP-A-59-154641. A chemical vapor deposition method (hereinafter referred to as a CVD method) in which a generated gas is decomposed and deposited on a substrate, or a thermoelectron generated by using a heated filament is irradiated to a hydrocarbon gas for ionization, Various manufacturing methods such as an ion beam deposition method (hereinafter referred to as an IBD method) in which an ion beam is accelerated by a bias voltage applied to the substrate and collided with the substrate to deposit the ion beam have been proposed.

【0007】CVD法やIBD法で保護膜を形成する方
法は、設備の初期投資や磁気ディスクの生産設備に係る
ランニングコストの面で、従来から用いられているスパ
ッタ法に比べてコストが割高である。水素や窒素等を添
加する従来のスパッタ法による保護膜と適切な潤滑剤の
組合せで保護膜の薄膜化が達成できれば価格の面で好ま
しいことである。
The method of forming the protective film by the CVD method or the IBD method is more expensive than the conventionally used sputtering method in terms of initial investment of equipment and running cost for magnetic disk production equipment. is there. It would be preferable in terms of cost if a thin protective film could be achieved by combining a protective film by a conventional sputtering method in which hydrogen or nitrogen is added with an appropriate lubricant.

【0008】一方、特開昭61−126827号公報に
記載のように、カーボン系保護膜の硬度を上げるだけで
は耐摺動性は向上せず、パーフルオロポリエーテル構造
のフッ素系潤滑剤と併用しなければならないことも明ら
かにされており、潤滑剤との適切な組合せも磁気ディス
クを設計する上で重要な要素となっている。
On the other hand, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-126827, the sliding resistance cannot be improved only by increasing the hardness of the carbon-based protective film, and it is used in combination with a fluorine-based lubricant having a perfluoropolyether structure. It has been clarified that this must be done, and proper combination with a lubricant is also an important factor in designing a magnetic disk.

【0009】潤滑剤としては、イタリアのAUSIMO
NT社のFOMBLIN Z(商品名)の誘導体が使わ
れており、FOMBLIN Z DEAL、Z DIA
C、Z DISOC、Z DOL、Z DOL TX、
Z TETRAOL AM2001、AM3001が挙
げられる。これらの市販されている潤滑剤の分子量は広
範囲に分布しており、製造されるバッチによっても様々
である。そこで、特開2000−315314号公報や
米国特許6099937号公報に記載されているよう
に、広範囲に分布する分子量を適正範囲の成分のみを取
り出して使用することが提案されている。
As a lubricant, AUSIMO of Italy
A derivative of NT company's FOMBLIN Z (trade name) is used, and FOMBLIN Z DEAL, Z DIA
C, Z DISOC, Z DOL, Z DOL TX,
Z TETRAOL AM2001, AM3001 are mentioned. The molecular weights of these commercially available lubricants are widely distributed and vary with the batch produced. Therefore, as described in JP-A-2000-315314 and US Pat. No. 6,099,937, it has been proposed to extract and use only a component having an appropriate molecular weight distribution over a wide range.

【0010】また、潤滑剤の性能を向上させるために、
米国特許5908817号公報に記載されているよう
に、ホスファゼン環を持つ添加剤を混合することや、特
開平6−220077号公報に記載されているようにパ
ーフルオロポリエーテルの末端にホスファゼン環を持つ
潤滑剤も提案されている。さらにまた、特開平6−22
0077号公報には、磁気ディスクの耐摺動性に対して
は磁気記録層の下地膜の材質も影響することが記載され
ている。
In order to improve the performance of the lubricant,
As described in U.S. Pat. No. 5,908,817, an additive having a phosphazene ring is mixed, or as described in JP-A-6-220077, a perfluoropolyether having a phosphazene ring at the terminal is added. Lubricants have also been proposed. Furthermore, JP-A-6-22
Japanese Patent No. 0077 describes that the material of the base film of the magnetic recording layer also affects the sliding resistance of the magnetic disk.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、保護
膜を薄膜とした、例えば5nm程度以下とした磁気ディ
スクの耐摺動性については、十分配慮していなかった。
In the above-mentioned prior art, the sliding resistance of a magnetic disk having a thin protective film, for example, about 5 nm or less was not sufficiently considered.

【0012】本発明の第1の目的は、保護膜が薄膜であ
り、耐摺動性が向上した磁気ディスクを提供することに
ある。本発明の第2の目的は、高信頼性で耐久性に優れ
た磁気ディスク装置を提供することにある。
A first object of the present invention is to provide a magnetic disk having a thin protective film and improved sliding resistance. A second object of the present invention is to provide a magnetic disk device having high reliability and excellent durability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記第1の目的を達成す
るために、本発明の磁気ディスク媒体は、非磁性基板上
に、少なくとも磁気記録層及び保護膜が形成され、表面
に潤滑剤が配置されたもので、この潤滑剤として、下記
の式1及び式2で表わされる潤滑剤を含み、式1で表わ
される潤滑剤を、分子量が1500以上、4500以下
の部分が70重量%以上で、かつ、分子量が1500未
満の部分は20重量%以下、分子量が4500を越える
部分は10重量%以下となるように構成したものであ
る。
In order to achieve the first object, the magnetic disk medium of the present invention has at least a magnetic recording layer and a protective film formed on a non-magnetic substrate and a lubricant on the surface. The lubricant represented by the formula 1 and the formula 2 below is contained as the lubricant, and the lubricant represented by the formula 1 is added in an amount of 70% by weight or more in a portion having a molecular weight of 1500 or more and 4500 or less. Further, a portion having a molecular weight of less than 1500 is 20% by weight or less, and a portion having a molecular weight of more than 4500 is 10% by weight or less.

【0014】[0014]

【化3】 (ただしa及びbはそれぞれ1又は2である)[Chemical 3] (However, a and b are 1 or 2 respectively)

【0015】[0015]

【化4】 この式1で表わされる潤滑剤の分子量が1500未満の
部分及び4500を越える部分はそれぞれ0重量%であ
ってもよい。つまり、分子量が1500以上、4500
以下の部分は、100重量%であってもよい。しかし、
産業上利用されているものは、多くの場合シャープな分
子量分布を示すものは少なく、分子量が1500未満か
4500を越える部分の少なくとも一方には分子量が広
がっているものが多い。
[Chemical 4] The portion of the lubricant represented by Formula 1 having a molecular weight of less than 1500 and the portion having a molecular weight of more than 4500 may each be 0% by weight. That is, the molecular weight is 1500 or more and 4500
The following portion may be 100% by weight. But,
Most of those industrially used have a sharp molecular weight distribution, and most of them have a wide molecular weight in at least one of the parts having a molecular weight of less than 1500 or more than 4500.

【0016】分子量の1500未満の部分があるとき
は、1500未満、500以上の部分が大部分であるこ
と、例えば、その内の99〜100重量%であることが
好ましい。また、4500を越える部分があるときは、
4500を越え、13000以下の部分が大部分である
こと、例えば、その内の99〜100重量%であること
が好ましい。
When there is a portion having a molecular weight of less than 1500, it is preferable that the portion having a molecular weight of less than 1500 and 500 or more is the majority, for example, 99 to 100% by weight thereof. Also, when there is a portion exceeding 4500,
It is preferable that the portion exceeding 4500 and 13000 or less is the majority, for example, 99 to 100% by weight of the portion.

【0017】潤滑剤の組成は、後述する実施例で説明す
るように、式2で表される潤滑剤が10〜50重量%の
範囲であることが好ましい。
The composition of the lubricant is preferably in the range of 10 to 50% by weight of the lubricant represented by the formula 2, as will be described in Examples below.

【0018】保護膜は、薄膜であることが好ましい。例
えば、膜厚が2.5mm〜5mmの範囲のものが好まし
い。材質は、カーボン系のものが好ましく、単にカーボ
ンだけであってもよいが、水素添加カーボン、窒素添加
カーボンが特に好ましい。水素添加カーボン、窒素添加
カーボンはそれぞれ保護膜の形成時に水素ガス又は窒素
ガスを存在させて製造したものであるが、保護膜自体の
中に、水素又は窒素がガスの形で存在してもよく、ま
た、その全部又は一部が、ガス以外の何らかの状態で含
まれいてもよい。
The protective film is preferably a thin film. For example, a film having a thickness of 2.5 mm to 5 mm is preferable. The material is preferably a carbon-based material, and may be simply carbon, but hydrogenated carbon and nitrogen-added carbon are particularly preferable. Hydrogen-added carbon and nitrogen-added carbon are produced by allowing hydrogen gas or nitrogen gas to be present when the protective film is formed, but hydrogen or nitrogen may be present in the protective film itself in the form of gas. Also, all or part of them may be included in some state other than gas.

【0019】また、上記第2の目的を達成するために、
本発明の磁気ディスク装置は、上記のいずれかの磁気デ
ィスク媒体と、この磁気ディスク媒体の各面に対応して
設けられ、記録ヘッドと再生ヘッドを有する磁気ヘッド
と、磁気ディスク媒体と磁気ヘッドの相対的な位置を変
化させるための駆動部と、磁気ヘッドを所望の位置に位
置決めする磁気ヘッド駆動部と、磁気ヘッドへの信号入
力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再
生信号処理系とから構成するようにしたものである。
In order to achieve the second object,
A magnetic disk device of the present invention includes any one of the above magnetic disk mediums, a magnetic head provided corresponding to each surface of the magnetic disk medium and having a recording head and a reproducing head, a magnetic disk medium and a magnetic head. A drive unit for changing the relative position, a magnetic head drive unit for positioning the magnetic head at a desired position, and a recording / reproduction signal processing for inputting a signal to the magnetic head and reproducing an output signal from the magnetic head. It is configured to consist of a system.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明において非磁性磁気ディス
ク基板としては磁気ディスク用として市販されているガ
ラス基板が好適に使用される。磁気ディスク媒体表面の
面粗さは基板面の表面粗さを反映させるため、基板面の
粗さが、Ra0.35〜0.8nm、Rp4.0〜7.
0nmとしたものを用意した。ここで、Ra、Rpは、
それぞれJISB0601−1994の算術平均粗さ、
山頂線・平均線間距離である。磁性膜はCo合金膜が一
般的に使用される。磁性膜の下にはCr合金よりなる下
地膜及びCo合金、Ni合金等のシード層が形成され
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a glass substrate which is commercially available for a magnetic disk is preferably used as the non-magnetic magnetic disk substrate. Since the surface roughness of the magnetic disk medium surface reflects the surface roughness of the substrate surface, the roughness of the substrate surface is Ra 0.35 to 0.8 nm, Rp 4.0 to 7.
One having a thickness of 0 nm was prepared. Here, Ra and Rp are
The arithmetic mean roughness of JIS B0601-1994, respectively
It is the distance between the summit line and the average line. A Co alloy film is generally used as the magnetic film. A base film made of a Cr alloy and a seed layer made of a Co alloy, a Ni alloy or the like are formed under the magnetic film.

【0021】磁性膜の上にはカーボンを主成分とする保
護膜が形成される。保護膜はスパッタ法で成膜した窒素
添加カーボン保護膜を用いた。
A protective film containing carbon as a main component is formed on the magnetic film. As the protective film, a nitrogen-added carbon protective film formed by a sputtering method was used.

【0022】潤滑剤は、パーフルオロポリエーテル誘導
体が使用され、希釈可能な溶剤に適量を溶解し、磁気デ
ィスクをその中に浸漬し取り出して潤滑膜が形成され
る。
As the lubricant, a perfluoropolyether derivative is used, and an appropriate amount is dissolved in a dilutable solvent, and the magnetic disk is dipped in and taken out to form a lubricating film.

【0023】以下、実施例により本発明をさらに詳細に
説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0024】実施例及び比較例共に、84mm直径のガ
ラス基板を購入して用いた。基板種類としてRa0.7
nm、Rp5.6nmを使用した。基板の粗さは、AF
M(走査型プローブ顕微鏡;NanoscopeIII
(商標)Digital Instruments社
製)によりタッピングモードでスキャンサイズ10×1
0μm、スキャンレート1Hz、サンプル数512、Z
−limit440V、フィルター処理Flatte
n、Lowpass、カンチレバー単結晶シリコン製、
先端曲率半径5〜20nmという測定条件で測定を行っ
た。測定はそれぞれ数回の測定を行い、その平均値を測
定結果とした。測定値のばらつきは算術平均粗さRaで
0.1nm、最大突起高さRpで1.5nm程度であっ
た。
In both the example and the comparative example, a glass substrate having a diameter of 84 mm was purchased and used. Ra0.7 as substrate type
nm, Rp 5.6 nm was used. Substrate roughness AF
M (scanning probe microscope; Nanoscope III)
Scan size 10 × 1 in tapping mode by (trademark) (Digital Instruments)
0 μm, scan rate 1 Hz, sample number 512, Z
-Limit 440V, filtered Flatte
n, Lowpass, made of cantilever single crystal silicon,
The measurement was performed under the measurement condition that the tip curvature radius was 5 to 20 nm. The measurement was performed several times, and the average value was used as the measurement result. The dispersion of the measured values was about 0.1 nm in arithmetic mean roughness Ra and about 1.5 nm in maximum projection height Rp.

【0025】基板は洗浄を行った後にスパッタリング装
置MDP−250(商標)(Intevac社製)によ
り成膜を行った。まず最初に基板を290℃に加熱し、
その後にNiTa合金を30nm成膜した。この層はシ
ード層と呼ばれる下地膜の結晶制御の層である。さらに
その上に下地膜としてCrTiB合金を10nm、磁性
膜としてCoCrPt合金を4nm、Ruを0.5n
m、CoCrPtB合金を17nm形成した。
After cleaning the substrate, a film was formed by a sputtering apparatus MDP-250 (trademark) (manufactured by Intevac). First, heat the substrate to 290 ° C,
After that, a NiTa alloy was deposited to a thickness of 30 nm. This layer is a crystal control layer of a base film called a seed layer. Furthermore, a CrTiB alloy having a thickness of 10 nm as a base film, a CoCrPt alloy having a thickness of 4 nm, and Ru having a thickness of 0.5 n are further formed thereon.
m, a CoCrPtB alloy having a thickness of 17 nm was formed.

【0026】保護膜は、スパッタ法による窒素添加カー
ボン膜であり、成膜装置Intevac社製のものを使
用した。スパッタ法での成膜条件は、成膜レート0.4
から0.8nm/sであり、スパッタガスは窒素をアル
ゴンに対して濃度18%で添加した。保護膜の膜厚は
4.0nmを標準とした。保護膜厚の測定にはX線反射
法を用い、膜厚測定の精度を上げるために保護膜上にC
rを5nm成膜し定量化した。X線反射法での膜厚の定
量化は理学電機工業社製のSLX2000(商標)によ
りCu Kα1のX線を用いて測定を行った。測定原理
に関してはジャーナルオブアプライドフィジックス 6
6(4),15,8月1989p1861(J.App
l.Phy.66(4),15(1989)p186
1)に記載されている。
The protective film is a nitrogen-added carbon film formed by a sputtering method, and a film forming apparatus manufactured by Intevac Co. was used. The film forming conditions for the sputtering method are a film forming rate of 0.4.
To 0.8 nm / s, and nitrogen was added as a sputtering gas at a concentration of 18% with respect to argon. The standard thickness of the protective film was 4.0 nm. The X-ray reflection method is used to measure the protective film thickness, and C is placed on the protective film to improve the accuracy of the film thickness measurement.
A 5 nm film of r was formed and quantified. The film thickness was quantified by the X-ray reflection method using SLX2000 (trademark) manufactured by Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd. using X-rays of Cu K α1 . Regarding the measurement principle, Journal of Applied Physics 6
6 (4), 15, August 1989 p1861 (J. App.
l. Phy. 66 (4), 15 (1989) p186
It is described in 1).

【0027】ここで使用した潤滑剤の一覧を表1に示
す。表中の平均分子量は、NMR測定から求められたも
のである。
Table 1 shows a list of the lubricants used here. The average molecular weight in the table is obtained from NMR measurement.

【0028】[0028]

【表1】 市販の式(1)の構造を持つ潤滑剤を超臨界炭酸による
抽出操作を行って、ある分子量範囲ごとに分画したもの
を準備した。式(1)の潤滑剤は、イタリアAUSIM
ONT社より、FOMBLIN Z DOL TXとし
て販売されている。ここで分子量の範囲毎に準備された
潤滑剤を、潤滑剤1、潤滑剤2、潤滑剤3とする。図1
に潤滑剤1、2、3の分子量分布測定結果を示す。これ
らの潤滑剤は、購入時点では一つの潤滑剤であるが、平
均分子量及び分子量分布の異なる3種類の液体潤滑剤が
得られた。
[Table 1] A commercially available lubricant having the structure of formula (1) was extracted by supercritical carbonic acid to prepare fractions for each molecular weight range. The lubricant of formula (1) is AUSIM Italy
It is sold as FOMBLIN Z DOL TX by ONT. Here, the lubricant prepared for each molecular weight range is referred to as lubricant 1, lubricant 2, and lubricant 3. Figure 1
The results of measuring the molecular weight distribution of lubricants 1, 2, and 3 are shown in FIG. These lubricants were one lubricant at the time of purchase, but three types of liquid lubricants having different average molecular weights and molecular weight distributions were obtained.

【0029】また、式(1)で表わされるFOMBLI
N Z DOL TXは、ロットによって希釈溶剤であ
るHFE−7100、HFE−7200(住友スリーエ
ム社製)やVertrel XF(三井デュポンフロロ
ケミカル社製)に溶解しにくいものが存在した。潤滑剤
の濃度15%で比較すると目視レベルで明らかに白濁す
るものがあった。分子量をある範囲で分けると、分子量
1500未満のものが多く含まれていると、このような
溶剤に溶解しにくいことが分かった。それ故、溶剤に溶
解し難い分子量範囲を除くことで、磁気ディスクに潤滑
剤を塗布するのに使用する溶剤にも均一に溶解させるこ
とが可能となった。
Further, FOMBLI represented by the equation (1)
Depending on the lot, some NZ DOL TX were difficult to dissolve in HFE-7100, HFE-7200 (manufactured by Sumitomo 3M Limited) and Vertrel XF (manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemicals Ltd.) which were dilution solvents. When compared at a lubricant concentration of 15%, there was a clear cloudiness at the visual level. When the molecular weight was divided into a certain range, it was found that when a large amount of those having a molecular weight of less than 1500 was contained, it was difficult to dissolve in such a solvent. Therefore, by excluding the molecular weight range in which it is difficult to dissolve in a solvent, it became possible to uniformly dissolve it in the solvent used to apply the lubricant to the magnetic disk.

【0030】式(2)で表わされる潤滑剤は、式(3)
で表わされる化合物(平均分子量2000)の分子量分
布測定からMw/Mn=1.1の原料を用いて合成し
た。
The lubricant represented by the formula (2) is represented by the formula (3)
The compound (average molecular weight 2000) represented by the formula (1) was synthesized using the raw material of Mw / Mn = 1.1 from the measurement of the molecular weight distribution.

【0031】[0031]

【化5】 NMR(核磁気共鳴)測定より、末端合成置換率53
%、熱分析(TGA)において、5℃/minで昇温さ
せたときの原料消失温度における残存率から定義する合
成置換率91%であった。熱分析には、デュポン社製T
GA2000型を使用した。
[Chemical 5] From the NMR (nuclear magnetic resonance) measurement, the terminal synthetic substitution ratio 53
%, In thermal analysis (TGA), the synthetic substitution rate was 91%, which was defined from the residual rate at the raw material disappearance temperature when the temperature was raised at 5 ° C./min. For thermal analysis, DuPont T
GA2000 type was used.

【0032】これらの分析結果より、式2で表わされる
潤滑剤は、R1、R2共にフォスファゼン環を有する成
分がモル組成比で20%、R1、R2のどちらかがフォ
スファゼン環でどちらかは−OHを有する成分が66
%、元の原料が14%を含む混合物であると推察でき
る。式(2)のXは、構造上X=1〜5の範囲にあると
考えられるが、31P−NMRのスペクトルより、主要
スペクトルの積分強度比が約1:2になることから、X
=5に理論的に近いと推定される。ここで準備された式
(2)の潤滑剤を潤滑剤4とする。
From these analysis results, in the lubricant represented by the formula 2, a component having a phosphazene ring in both R1 and R2 is 20% in molar composition ratio, and one of R1 and R2 is a phosphazene ring and either one is -OH. 66 with
%, It can be inferred that the original raw material is a mixture containing 14%. X in the formula (2) is considered to be in the range of X = 1 to 5 structurally, but from the 31 P-NMR spectrum, the integral intensity ratio of the main spectrum is about 1: 2, so X
It is estimated to be theoretically close to = 5. The lubricant of the formula (2) prepared here is referred to as a lubricant 4.

【0033】また、式(3)で表わされる化合物の平均
分子量の異なる2種類の潤滑剤を潤滑剤5、潤滑剤6と
する。
Two kinds of lubricants having different average molecular weights of the compound represented by the formula (3) are referred to as a lubricant 5 and a lubricant 6.

【0034】平均分子量は、19F−NMR(核磁気共
鳴)分析によって、PFPEの両末端すぐ内側の−CF
CH−と−OCF−(式中m、p、rに相当)及
び−OC−(化学式中n、q、sに相当)にアサ
インされるピークの積分強度比より求めた。潤滑剤3の
末端合成置換率は、原料起因と合成生成物起因の−CF
CH−シグナルの積分強度比より計算した。
The average molecular weight was determined by 19 F-NMR (nuclear magnetic resonance) analysis to be --CF just inside both ends of PFPE.
2 CH 2 - and -OCF 2 - was determined from the integrated intensity ratio of peaks assigned to (in the chemical formula n, q, corresponds to s) - (wherein m, p, r considerably) and -OC 2 F 4 . The terminal synthetic substitution rate of the lubricant 3 is -CF due to the raw materials and the synthetic products.
It was calculated from the integrated intensity ratio of 2 CH 2 -signal.

【0035】また、分子量の分布測定には、昭和電工
(株)製GPCカラムKF604とKF602.5を溶
剤Vertrel XF (三井デュポンフロロケミカ
ル(株)社製)に置換して用い、日立製HPLCポンプ
(L6010)、昭和電工製示差屈折率検出器(RI−
74)を使って分析した。測定条件は、試料濃度約15
%、インジェクション体積5μl、流速0.5cm
min、圧力約95kgf/cmである。分子量値の
校正には、超臨界炭酸による抽出で得られた化学式
(1)を使い、NMR測定で求められたそれぞれの平均
分子量値と、各試料より得られるクロマトグラフのピー
クとなる溶出時間とで、3次式を使って校正した。分子
量1、000以下では校正基準が得られなかったため、
誤差を多く含んでいる。
For the measurement of the molecular weight distribution, GPC columns KF604 and KF602.5 manufactured by Showa Denko KK were used by substituting the solvent Vertrel XF (manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemicals Co., Ltd.) with a Hitachi HPLC pump. (L6010), Showa Denko differential refractive index detector (RI-
74). The measurement condition is a sample concentration of about 15
%, Injection volume 5 μl, flow rate 0.5 cm 3 /
min, pressure is about 95 kgf / cm 2 . To calibrate the molecular weight value, the chemical formula (1) obtained by extraction with supercritical carbonic acid was used, and each average molecular weight value obtained by NMR measurement and the elution time at which the peak of the chromatograph obtained from each sample was obtained. Then, it was calibrated using the cubic formula. Since the calibration standard could not be obtained when the molecular weight was 1,000 or less,
It contains a lot of error.

【0036】表1に示されるそれぞれの潤滑剤について
住友スリーエム社製HFE−7100を溶媒として濃度
を調整した潤滑剤溶液を作り、その中に磁気ディスク媒
体をディップし引き上げることで潤滑膜を形成した。そ
の後、磁気ディスク媒体を熱処理した。温度は80℃
で、時間は30分である。潤滑膜厚は、FTIR(フー
リエ変換型赤外分光光度計)により測定し、FOMBL
IN Z DOLの膜厚換算で1.8nmとした。
A lubricant solution was prepared by adjusting the concentration of each of the lubricants shown in Table 1 using HFE-7100 manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd. as a solvent, and a magnetic disk medium was dipped into the lubricant solution to form a lubricant film. . Then, the magnetic disk medium was heat-treated. The temperature is 80 ℃
And the time is 30 minutes. The lubricating film thickness is measured by FTIR (Fourier transform type infrared spectrophotometer), and FOMBL
The film thickness of IN Z DOL was set to 1.8 nm.

【0037】潤滑剤2と潤滑剤4の混合潤滑膜の作成
は、総潤滑剤の重量比に対して潤滑剤4を10、20、
30%と予め溶液の状態で混合させ、前述と同様に溶液
中に磁気ディスクをディップし、引き上げることで潤滑
膜を形成した。その後、80℃、30分熱処理を行っ
た。潤滑膜厚は同様に1.8nmとした。潤滑剤5、6
の潤滑膜作成も前述と同様にし、膜厚も1.8nmとし
た。
The preparation of the mixed lubricating film of the lubricant 2 and the lubricant 4 was carried out by using the lubricant 4 in an amount of 10, 20 with respect to the weight ratio of the total lubricant.
A lubricating film was formed by mixing 30% with a solution in advance, dipping the magnetic disk in the solution and pulling it up in the same manner as described above. Then, heat treatment was performed at 80 ° C. for 30 minutes. The lubricating film thickness was similarly set to 1.8 nm. Lubricants 5, 6
The lubricating film was prepared in the same manner as described above, and the film thickness was set to 1.8 nm.

【0038】これらのサンプルの信頼性、耐摩耗性の評
価は、次の方法で行った。極低浮上における耐摩耗性評
価のために、モータを逆回転することでヘッドを常時磁
気ディスク媒体と接触する状態にして、磁気記録媒体の
半径29〜31mmの間をシークし、クラッシュするま
での時間を測定した。環境温度は室温(約23℃)、回
転数は10000min−1である。
The reliability and wear resistance of these samples were evaluated by the following methods. In order to evaluate the wear resistance in extremely low levitation, the motor is rotated in the reverse direction to keep the head in contact with the magnetic disk medium at all times, seek between the radius of 29 to 31 mm of the magnetic recording medium, and crash. The time was measured. The environmental temperature is room temperature (about 23 ° C.), and the rotation speed is 10,000 min −1 .

【0039】次に各サンプルについての試験結果によ
り、本特許の有効性を説明する。まず、潤滑剤1、2、
3及び潤滑剤5、6を塗布した磁気ディスクの耐摩耗性
について評価した。その結果を図2に示す。図から明ら
かなように式(1)で表される潤滑剤1、2、3には、
耐摩耗性を向上させる適正な分子量の範囲が存在するこ
とが分かる。また、式(3)で表される潤滑剤5、6で
は分子量の範囲を変えても耐摩耗性の向上は見られなか
った。
Next, the effectiveness of the present patent will be explained by the test results of each sample. First, lubricants 1, 2,
The wear resistance of the magnetic disk coated with No. 3 and lubricants 5 and 6 was evaluated. The result is shown in FIG. As is clear from the figure, the lubricants 1, 2, 3 represented by the formula (1) include
It can be seen that there is an appropriate molecular weight range that improves wear resistance. Further, in the lubricants 5 and 6 represented by the formula (3), the wear resistance was not improved even if the molecular weight range was changed.

【0040】ここで、式(1)で表される潤滑剤の内、
分子量の低い潤滑剤1を用い、膜厚を厚くしていくと、
円板表面に液滴のような粒状の塊が光学顕微鏡で観察さ
れた。潤滑剤1では2.5nm以上で観察されたが、潤
滑剤2、3では、3nmまで観察されなかった。円板上
にこのような塊が発生すると、ヘッドの浮上性を劣化さ
せ磁気ディスク装置全体の信頼性を悪化させる。
Here, among the lubricants represented by the formula (1),
When using lubricant 1 having a low molecular weight and increasing the film thickness,
Droplet-like granular masses were observed by an optical microscope on the disc surface. Lubricant 1 was observed at 2.5 nm or more, but lubricants 2 and 3 were not observed up to 3 nm. When such a lump is generated on the disk, the flying property of the head is deteriorated and the reliability of the entire magnetic disk device is deteriorated.

【0041】光学顕微鏡の観察には、光源として水銀ラ
ンプを用い、対物20倍、中間変倍2倍で、暗視野にて
観察した。画像の取り込みには、蓄光型のCCDカメラ
で1秒間取り込んだ。
For observation with an optical microscope, a mercury lamp was used as a light source, and the observation was carried out in a dark field with an objective of 20 times and an intermediate magnification of 2 times. The image was captured by a phosphorescent CCD camera for 1 second.

【0042】また、潤滑剤1、2、3、5、6のスピン
オフ試験も行った。試験環境は、60℃で12000m
in−1にて磁気ディスクを回転させ、400時間後の
潤滑剤の残膜厚を初期膜厚と比較して、残存率として表
した。その結果を表2に示す。その結果、式(1)で表
される潤滑剤は、式(3)で表される潤滑剤と比較し
て、スピンオフ特性に優れていることが分かった。
Spin-off tests of lubricants 1, 2, 3, 5, 6 were also conducted. Test environment is 12000m at 60 ℃
The magnetic disk was rotated at in −1 and the residual film thickness of the lubricant after 400 hours was compared with the initial film thickness and expressed as a residual rate. The results are shown in Table 2. As a result, it was found that the lubricant represented by the formula (1) was superior in spin-off characteristics to the lubricant represented by the formula (3).

【0043】次に、潤滑剤2に式(2)で表される潤滑
剤4を混合して作成したサンプルについて耐摩耗試験を
行った。潤滑剤4は、溶液の状態で潤滑剤の総重量に対
して、混合率を変化させて作成した。
Next, an abrasion resistance test was conducted on a sample prepared by mixing the lubricant 2 with the lubricant 4 represented by the formula (2). The lubricant 4 was prepared by changing the mixing ratio with respect to the total weight of the lubricant in the solution state.

【0044】図3は、潤滑剤4の混合率を変化させたと
きの、耐摩耗性評価結果である。図より、潤滑剤4の混
合と共に潤滑剤2を単独で使用した場合と比較して、ク
ラッシュまでに至る時間が約2倍以上に延びていること
が分かった。また、耐摩耗性を向上させる潤滑剤2に対
する潤滑剤4の最適混合率が存在することも明らかとな
った。潤滑剤を塗布するときに使用した溶媒がHEE−
7100の場合には、潤滑剤4の混合率は10〜50重
量%の範囲が好ましい。
FIG. 3 shows the wear resistance evaluation results when the mixing ratio of the lubricant 4 was changed. From the figure, it was found that the time to the crash was extended by about twice or more as compared with the case where the lubricant 2 was used alone together with the mixture of the lubricant 4. It was also clarified that there is an optimum mixing ratio of the lubricant 4 to the lubricant 2 that improves wear resistance. The solvent used when applying the lubricant is HEE-
In the case of 7100, the mixing ratio of the lubricant 4 is preferably in the range of 10 to 50% by weight.

【0045】さらに、潤滑剤2と潤滑剤4を混合比率2
5%、潤滑膜厚を1.8nmとして、保護膜の膜厚を変
化させ耐摩耗性試験を行った。この結果を図4に示す。
従来の潤滑剤を用いたときは保護膜厚4nmでは1時間
足らずでクラッシュしたのに比べ、保護膜厚3nmでも
その10倍の時間まで保つようになった。
Further, the mixing ratio of the lubricant 2 and the lubricant 4 is 2
A wear resistance test was conducted by changing the film thickness of the protective film at 5% and the lubricating film thickness of 1.8 nm. The result is shown in FIG.
When a conventional lubricant was used, a crash occurred in less than 1 hour with a protective film thickness of 4 nm, but it became possible to keep the time up to 10 times that with a protective film thickness of 3 nm.

【0046】この結果より、従来では数nmの極薄膜で
はすぐクラッシュしてしまい高信頼性を得られなかった
磁気記録媒体が、従来の保護膜厚が5nm以上の実用レ
ベルの磁気記録媒体と同等以上の信頼性を付与すること
が可能となった。
From these results, it was found that the conventional magnetic recording medium, which could not achieve high reliability because it crashed immediately with an ultrathin film of several nm, was equivalent to a conventional magnetic recording medium with a protective film thickness of 5 nm or more. It has become possible to provide the above reliability.

【0047】以上の実施例より、使用される潤滑剤が、
分子量1500未満が20重量%以下であり、かつ、分
子量4500を越える部分が10重量%以下の構成であ
る式(1)に記載の構造の潤滑剤2と、式(2)に記載
の構造よりなる成分を含む磁気ディスク媒体、保護膜が
極薄膜であるにも係わらず、従来の磁気ディスク媒体と
同等以上の耐摩耗性を有すると考えられる。
From the above examples, the lubricant used is
A lubricant 2 having a structure represented by the formula (1) having a molecular weight of less than 1500 is 20% by weight or less and a portion having a molecular weight of more than 4500 is 10% by weight or less, and a structure represented by the formula (2). Despite the fact that the magnetic disk medium containing the following components and the protective film are extremely thin films, they are considered to have wear resistance equal to or higher than that of the conventional magnetic disk medium.

【0048】また、本発明の磁気ディスク装置は、磁気
ディスク媒体の各面に対応して設けられた、記録ヘッド
と再生ヘッドを有する磁気ヘッドと、磁気ディスク媒体
と磁気ヘッドの相対的な位置を変化させるための駆動部
と、磁気ヘッドを所望の位置に位置決めする磁気ヘッド
駆動部と、磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの
出力信号再生を行うための記録再生信号処理系とからな
り、上記の磁気ディスク媒体として、上記のいずれかの
磁気ディスク媒体を用いたところ、いずれも耐久性に優
れ、信頼性が高いものであった。
Further, in the magnetic disk device of the present invention, the magnetic head having the recording head and the reproducing head, which are provided corresponding to the respective surfaces of the magnetic disk medium, and the relative positions of the magnetic disk medium and the magnetic head are arranged. A drive unit for changing, a magnetic head drive unit for positioning the magnetic head at a desired position, and a recording / reproducing signal processing system for performing signal input to the magnetic head and reproduction of an output signal from the magnetic head, When any one of the above magnetic disk media was used as the above magnetic disk medium, all had excellent durability and high reliability.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明により、保護膜を極薄膜として
も、高信頼性で耐摩耗性に優れた磁気ディスク媒体を提
供することができた。また、高信頼性で耐久性に優れた
磁気ディスク装置をを提供することができた。
According to the present invention, it is possible to provide a magnetic disk medium having high reliability and excellent wear resistance even if the protective film is an extremely thin film. Further, it was possible to provide a magnetic disk device having high reliability and excellent durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】潤滑剤の分子量分布を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a molecular weight distribution of a lubricant.

【図2】潤滑剤の耐摩耗性を示す図。FIG. 2 is a diagram showing wear resistance of a lubricant.

【図3】潤滑剤の混合率と耐摩耗性の関係を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a mixing ratio of a lubricant and wear resistance.

【図4】保護膜の膜厚と耐摩耗性の関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a film thickness of a protective film and wear resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正田 光広 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 (72)発明者 園田 幸司 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 (72)発明者 中川路 孝行 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 石川 博 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 (72)発明者 小崎 倫典 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 Fターム(参考) 4H104 CD04A PA16 5D006 AA01 AA05 AA06 DA03 FA02 FA06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Mitsuhiro Masada             2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Stock Association             Company Hitachi Ltd. Storage Division (72) Inventor Koji Sonoda             2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Stock Association             Company Hitachi Ltd. Storage Division (72) Inventor Takayuki Nakagawa             7-1-1, Omika-cho, Hitachi-shi, Ibaraki Prefecture             Inside the Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd. (72) Inventor Hiroshi Ishikawa             2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Stock Association             Company Hitachi Ltd. Storage Division (72) Inventor Minori Ozaki             2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Stock Association             Company Hitachi Ltd. Storage Division F-term (reference) 4H104 CD04A PA16                 5D006 AA01 AA05 AA06 DA03 FA02                       FA06

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層及
び保護膜が形成され、表面に潤滑剤が配置された磁気デ
ィスク媒体において、該潤滑剤は、下記の式1及び式2
で表わされる潤滑剤を含み、式1で表わされる潤滑剤
は、分子量が1500以上、4500以下の部分が70
重量%以上であり、かつ、分子量が1500未満の部分
は20重量%以下、分子量が4500を越える部分は1
0重量%以下であることを特徴とする磁気ディスク媒
体。 【化1】 (ただしa及びbはそれぞれ1又は2である) 【化2】
1. A magnetic disk medium having at least a magnetic recording layer and a protective film formed on a non-magnetic substrate and a lubricant disposed on the surface thereof, wherein the lubricant is represented by the following formula 1 and formula 2.
The lubricant represented by the formula 1 contains a lubricant having a molecular weight of 1,500 or more and 4,500 or less.
20% by weight or less for the portion having a molecular weight of 1500 or more and less than 1500 and 1 for the portion having a molecular weight of more than 4500.
A magnetic disk medium characterized by being 0% by weight or less. [Chemical 1] (However, a and b are 1 or 2 respectively)
【請求項2】上記保護膜の厚さは、2.5nmから5n
mの範囲にあることを特徴とする請求項1記載の磁気デ
ィスク媒体。
2. The protective film has a thickness of 2.5 nm to 5 n.
The magnetic disk medium according to claim 1, wherein the magnetic disk medium is in the range of m.
【請求項3】請求項1又は2記載の磁気ディスク媒体
と、該磁気ディスク媒体の各面に対応して設けられ、記
録ヘッドと再生ヘッドを有する磁気ヘッドと、上記磁気
ディスク媒体と該磁気ヘッドの相対的な位置を変化させ
るための駆動部と、上記磁気ヘッドを所望の位置に位置
決めする磁気ヘッド駆動部と、上記磁気ヘッドへの信号
入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録
再生信号処理系とからなることを特徴とする磁気ディス
ク装置。
3. A magnetic disk medium according to claim 1, a magnetic head provided corresponding to each surface of the magnetic disk medium and having a recording head and a reproducing head, the magnetic disk medium and the magnetic head. Drive unit for changing the relative position of the magnetic head, a magnetic head drive unit for positioning the magnetic head at a desired position, and recording for performing signal input to the magnetic head and reproduction of an output signal from the magnetic head. A magnetic disk device comprising a reproduction signal processing system.
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