JP2003280540A - 電子機器 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】素子アレイをアドレス基板を用いて駆動するタ
イプの電子機器の製造歩留まりおよび/または再利用効
率を向上する。 【解決手段】素子アレイ100Aは、互いに対向する一
対の第1主面と、一対の第1主面の間に設けられた、複
数の電極13を有する複数の素子領域10と、一対の第
1主面の一方に設けられ、それぞれが複数の電極13の
それぞれに電気的に接続された複数の第1端子電極16
とを備える。アドレス基板100Bは、素子アレイの上
記一方の第1主面に対向するように配置された第2主面
を有する基板21と、第2主面に設けられ、それぞれが
複数の第1端子電極16のそれぞれに電気的に接続され
た複数の第2端子電極23と、複数の素子領域を順次ア
ドレスしながら、第2端子電極を介して複数の素子領域
に所定の信号を伝送または複数の素子領域から所定の信
号を受信するアドレス駆動回路24、25、16とを備
える。
イプの電子機器の製造歩留まりおよび/または再利用効
率を向上する。 【解決手段】素子アレイ100Aは、互いに対向する一
対の第1主面と、一対の第1主面の間に設けられた、複
数の電極13を有する複数の素子領域10と、一対の第
1主面の一方に設けられ、それぞれが複数の電極13の
それぞれに電気的に接続された複数の第1端子電極16
とを備える。アドレス基板100Bは、素子アレイの上
記一方の第1主面に対向するように配置された第2主面
を有する基板21と、第2主面に設けられ、それぞれが
複数の第1端子電極16のそれぞれに電気的に接続され
た複数の第2端子電極23と、複数の素子領域を順次ア
ドレスしながら、第2端子電極を介して複数の素子領域
に所定の信号を伝送または複数の素子領域から所定の信
号を受信するアドレス駆動回路24、25、16とを備
える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器に関す
る。特に、電子機器の一部をアドレスしながら駆動され
る、表示装置や検出装置に関する。
る。特に、電子機器の一部をアドレスしながら駆動され
る、表示装置や検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、AV機器として用いられる家庭用
のテレビ、OA機器や携帯機器などに用いられる表示装
置として、各種フラットパネル型表示装置の開発が進ん
でいる。中でも、液晶を表示媒体に用いた液晶表示装置
(LCD)は、軽量、薄型、低消費電力といった特徴を
有することから実用化が進んでおり、用途に応じて各種
の液晶表示装置が開発・実用化されている。
のテレビ、OA機器や携帯機器などに用いられる表示装
置として、各種フラットパネル型表示装置の開発が進ん
でいる。中でも、液晶を表示媒体に用いた液晶表示装置
(LCD)は、軽量、薄型、低消費電力といった特徴を
有することから実用化が進んでおり、用途に応じて各種
の液晶表示装置が開発・実用化されている。
【0003】例えば、液晶パネルの背面側にバックライ
トを備え、液晶パネルを介してバックライトの光を観察
する方式の透過型液晶表示装置、液晶パネルの裏面ある
いは内部に反射板を備え、液晶パネルからの外光の反射
光を観察する方式の反射型液晶表示装置、プロジェクシ
ョンランプを用いて液晶パネルの画像をスクリーンに投
影し、その投影像を観察する投影型液晶表示装置(液晶
プロジェクター)などが実用化されている。
トを備え、液晶パネルを介してバックライトの光を観察
する方式の透過型液晶表示装置、液晶パネルの裏面ある
いは内部に反射板を備え、液晶パネルからの外光の反射
光を観察する方式の反射型液晶表示装置、プロジェクシ
ョンランプを用いて液晶パネルの画像をスクリーンに投
影し、その投影像を観察する投影型液晶表示装置(液晶
プロジェクター)などが実用化されている。
【0004】また、液晶表示装置以外のフラットパネル
型表示装置としては、EL発光層を用いたEL表示装置
(自発光型表示装置)、電子ペーパーを目指したトナー
表示装置や電気泳動型表示装置、ボールツイスト型表示
装置(いずれも外光の反射を利用した反射型表示装置)
など、幾つかの表示原理の異なる電子表示装置が提案・
開発されている。
型表示装置としては、EL発光層を用いたEL表示装置
(自発光型表示装置)、電子ペーパーを目指したトナー
表示装置や電気泳動型表示装置、ボールツイスト型表示
装置(いずれも外光の反射を利用した反射型表示装置)
など、幾つかの表示原理の異なる電子表示装置が提案・
開発されている。
【0005】これらの表示装置は、それぞれ表示原理
(方式)は異なるものの、表示容量(即ち画素数)が多
い場合には、一般に、各画素にスイッチ素子(アクティ
ブ素子)を形成したアクティブマトリクス基板(アドレ
ス基板)を用いてアクティブマトリクス駆動を行なうこ
とによって表示が行なわれている。このようなアドレス
基板(アクティブマトリクス基板)を用いた表示装置に
ついては、書籍「液晶ディスプレイ技術―アクティブマ
トリクスLCD―」(発行所:産業図書株式会社、編集
者:松本正一、1996年11月8日発行)などに詳細
が記載されている。
(方式)は異なるものの、表示容量(即ち画素数)が多
い場合には、一般に、各画素にスイッチ素子(アクティ
ブ素子)を形成したアクティブマトリクス基板(アドレ
ス基板)を用いてアクティブマトリクス駆動を行なうこ
とによって表示が行なわれている。このようなアドレス
基板(アクティブマトリクス基板)を用いた表示装置に
ついては、書籍「液晶ディスプレイ技術―アクティブマ
トリクスLCD―」(発行所:産業図書株式会社、編集
者:松本正一、1996年11月8日発行)などに詳細
が記載されている。
【0006】図8に、典型的な公知の液晶表示装置40
0の断面構造を模式的に示す。ここでは、簡単のため
に、液晶パネルの部分にのみ示しており、バックライト
や偏光板、周辺駆動回路、電源などは省略している。
0の断面構造を模式的に示す。ここでは、簡単のため
に、液晶パネルの部分にのみ示しており、バックライト
や偏光板、周辺駆動回路、電源などは省略している。
【0007】液晶表示装置400は、基板62と、基板
71と、基板62と基板71との間に設けられた液晶層
63とを有している。基板62および基板71は、典型
的にはガラス基板であり、液晶層63は、封止部69に
よって、これらの基板間に封入されている。基板71の
液晶層63側の表面には、走査線74、信号線75およ
びスイッチング素子(典型的にはTFT)76と、スイ
ッチング素子76を介して信号線75に接続された画素
電極73が形成されている。基板62の液晶層63側に
は対向電極64が設けられている。これらの基板には、
必要に応じて、配向膜やカラーフィルタ層などが形成さ
れる。
71と、基板62と基板71との間に設けられた液晶層
63とを有している。基板62および基板71は、典型
的にはガラス基板であり、液晶層63は、封止部69に
よって、これらの基板間に封入されている。基板71の
液晶層63側の表面には、走査線74、信号線75およ
びスイッチング素子(典型的にはTFT)76と、スイ
ッチング素子76を介して信号線75に接続された画素
電極73が形成されている。基板62の液晶層63側に
は対向電極64が設けられている。これらの基板には、
必要に応じて、配向膜やカラーフィルタ層などが形成さ
れる。
【0008】この液晶表示装置400は、次のように駆
動される。走査線74に供給する走査信号によって、ス
イッチング素子76を選択的にON状態とし、そのスイ
ッチング素子76に接続されている画素電極73に信号
線75から所定の表示信号(階調信号)が供給される。
すなわち、それぞれが画素電極73に対応して規定され
るマトリクス状に配列された複数の画素は、走査線74
毎に線順次でアドレスされる。対向電極64には共通電
極が供給され、アドレスされた画素電極73と対向電極
64との間の電位差に応じた電圧がそれぞれの画素の液
晶層63に印加される。液晶層63が印加された電圧に
応じて配向状態(光学異方性)を変化することを利用し
て、液晶層63を透過する光を変調することによって、
表示が行われる。
動される。走査線74に供給する走査信号によって、ス
イッチング素子76を選択的にON状態とし、そのスイ
ッチング素子76に接続されている画素電極73に信号
線75から所定の表示信号(階調信号)が供給される。
すなわち、それぞれが画素電極73に対応して規定され
るマトリクス状に配列された複数の画素は、走査線74
毎に線順次でアドレスされる。対向電極64には共通電
極が供給され、アドレスされた画素電極73と対向電極
64との間の電位差に応じた電圧がそれぞれの画素の液
晶層63に印加される。液晶層63が印加された電圧に
応じて配向状態(光学異方性)を変化することを利用し
て、液晶層63を透過する光を変調することによって、
表示が行われる。
【0009】アクティブマトリクス型液晶表示装置とし
ては上記の例に限られず、例えば、画素電極に共通電圧
を供給し、信号線に平行にストライプ状に形成した複数
の対向電極に表示信号を供給するタイプの液晶表示装置
も知られている(いわゆる対向ソース型)。
ては上記の例に限られず、例えば、画素電極に共通電圧
を供給し、信号線に平行にストライプ状に形成した複数
の対向電極に表示信号を供給するタイプの液晶表示装置
も知られている(いわゆる対向ソース型)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】例示したアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、高品位の表示が可能である
反面、価格が比較的高いという問題がある。
トリクス型液晶表示装置は、高品位の表示が可能である
反面、価格が比較的高いという問題がある。
【0011】その要因の一つは、アドレス基板に多くの
スイッチング素子を形成することにある。また、図8に
示すような従来の構造においては、アドレス基板を形成
した後の工程(例えば、2枚の基板を貼り合せる工程や
液晶材料を注入する工程)において、アドレス基板に不
良が発生することがあった。これらは、液晶表示装置の
製造歩留まりの低下を招き、コストの上昇をもたらして
いた。
スイッチング素子を形成することにある。また、図8に
示すような従来の構造においては、アドレス基板を形成
した後の工程(例えば、2枚の基板を貼り合せる工程や
液晶材料を注入する工程)において、アドレス基板に不
良が発生することがあった。これらは、液晶表示装置の
製造歩留まりの低下を招き、コストの上昇をもたらして
いた。
【0012】また、環境に配慮することが社会的に要請
されており、材料や部品の利用効率の向上や、材料や部
品の再利用が望まれている。しかしながら、図8に示し
た従来の液晶表示装置400は、封止部(シール剤)6
9によって基板62と基板71とが強固に接着された構
造を有しているので、例えばアドレス基板だけを分離し
て再利用することは難しい。
されており、材料や部品の利用効率の向上や、材料や部
品の再利用が望まれている。しかしながら、図8に示し
た従来の液晶表示装置400は、封止部(シール剤)6
9によって基板62と基板71とが強固に接着された構
造を有しているので、例えばアドレス基板だけを分離し
て再利用することは難しい。
【0013】アクティブマトリクス型液晶表示装置を例
に従来の問題を説明したが、有機EL表示装置や他の表
示装置も同様の問題を有している。さらに、表示装置に
限られず、アドレス基板を用いる検出装置あるいは入力
装置も同様の問題を有している。すなわち、素子アレイ
をアドレス基板を用いて駆動するタイプの電子機器に共
通の問題である。素子アレイは、例えば、個々の素子と
して画素を有する表示素子であり、個々の素子として容
量検出素子を有する容量検出素子アレイであってもよ
い。また、アドレス方式は、線順次方式に限らず、点順
次方式であっても良く、さらに、電気的なアドレス方式
に限られず光学的なアドレス方式であってもよい。
に従来の問題を説明したが、有機EL表示装置や他の表
示装置も同様の問題を有している。さらに、表示装置に
限られず、アドレス基板を用いる検出装置あるいは入力
装置も同様の問題を有している。すなわち、素子アレイ
をアドレス基板を用いて駆動するタイプの電子機器に共
通の問題である。素子アレイは、例えば、個々の素子と
して画素を有する表示素子であり、個々の素子として容
量検出素子を有する容量検出素子アレイであってもよ
い。また、アドレス方式は、線順次方式に限らず、点順
次方式であっても良く、さらに、電気的なアドレス方式
に限られず光学的なアドレス方式であってもよい。
【0014】本発明はかかる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その主な目的は、素子アレイをアドレス基板を
用いて駆動するタイプの電子機器の製造歩留まりおよび
/または再利用効率を向上することを目的とする。
であり、その主な目的は、素子アレイをアドレス基板を
用いて駆動するタイプの電子機器の製造歩留まりおよび
/または再利用効率を向上することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の電子機器は、互
いに対向する一対の第1主面と、前記一対の第1主面の
間にマトリクス状に配列された複数の素子領域であっ
て、前記複数の電極を有する複数の素子領域と、前記一
対の第1主面の一方に設けられ、それぞれが前記複数の
電極のそれぞれに電気的に接続された複数の第1端子電
極とを備える素子アレイと、前記素子アレイの前記一方
の第1主面に対向するように配置された第2主面を有す
る基板と、前記第2主面に設けられ、それぞれが前記複
数の第1端子電極のそれぞれに電気的に接続された複数
の第2端子電極と、前記複数の素子領域を順次アドレス
しながら、前記第2端子電極を介して前記複数の素子領
域に所定の信号を伝送または前記複数の素子領域から所
定の信号を受信するアドレス駆動回路とを備えるアドレ
ス基板とを有し、そのことによって上記目的が達成され
る。
いに対向する一対の第1主面と、前記一対の第1主面の
間にマトリクス状に配列された複数の素子領域であっ
て、前記複数の電極を有する複数の素子領域と、前記一
対の第1主面の一方に設けられ、それぞれが前記複数の
電極のそれぞれに電気的に接続された複数の第1端子電
極とを備える素子アレイと、前記素子アレイの前記一方
の第1主面に対向するように配置された第2主面を有す
る基板と、前記第2主面に設けられ、それぞれが前記複
数の第1端子電極のそれぞれに電気的に接続された複数
の第2端子電極と、前記複数の素子領域を順次アドレス
しながら、前記第2端子電極を介して前記複数の素子領
域に所定の信号を伝送または前記複数の素子領域から所
定の信号を受信するアドレス駆動回路とを備えるアドレ
ス基板とを有し、そのことによって上記目的が達成され
る。
【0016】前記素子アレイと前記アドレス基板とは着
脱可能とすることができる。
脱可能とすることができる。
【0017】前記複数の第1端子電極と前記複数の第2
端子電極との間に異方性導電層が設けられていることが
好ましい。
端子電極との間に異方性導電層が設けられていることが
好ましい。
【0018】前記一方の第1主面は異方性導電層によっ
て構成され、前記異方性導電層の一部が前記複数の電極
および前記複数の第1端子電極として機能する構成とし
てもよい。
て構成され、前記異方性導電層の一部が前記複数の電極
および前記複数の第1端子電極として機能する構成とし
てもよい。
【0019】前記複数の第1端子電極と前記複数の第2
端子電極は、互いに噛合する構造を有している構成とし
てもよい。
端子電極は、互いに噛合する構造を有している構成とし
てもよい。
【0020】前記素子アレイと前記アドレス基板との間
隙を減圧状態に保持することが可能なシール部を更に有
する構成としても良い。
隙を減圧状態に保持することが可能なシール部を更に有
する構成としても良い。
【0021】ある好ましい実施形態において、前記複数
の素子領域は複数の画素であり、前記複数の電極はマト
リクス状に配列された複数の画素電極であり、前記複数
の第1端子電極および前記第2端子電極は、前記複数の
画素電極に対応してマトリクス状に配列されており、前
記素子アレイは前記アドレス基板から伝送される所定の
信号に応じて表示素子として機能する。
の素子領域は複数の画素であり、前記複数の電極はマト
リクス状に配列された複数の画素電極であり、前記複数
の第1端子電極および前記第2端子電極は、前記複数の
画素電極に対応してマトリクス状に配列されており、前
記素子アレイは前記アドレス基板から伝送される所定の
信号に応じて表示素子として機能する。
【0022】前記アドレス基板は、複数の基準電圧と、
前記複数の基準電圧に対応した複数の階調電圧のセット
を生成する回路を備えることが好ましい。
前記複数の基準電圧に対応した複数の階調電圧のセット
を生成する回路を備えることが好ましい。
【0023】ある好ましい実施形態において、前記アド
レス基板、前記複数の第2端子電極に接続された複数の
スイッチング素子を有する。
レス基板、前記複数の第2端子電極に接続された複数の
スイッチング素子を有する。
【0024】前記画素は液晶層を含んでもよいし、ある
いは、有機EL発光層を含んでもよい。
いは、有機EL発光層を含んでもよい。
【0025】ある実施形態において、前記アドレス基板
は、前記複数の第2端子電極に接続された複数のスイッ
チング素子を有し、前記複数のスイッチング素子は光照
射によって導電率が変化する半導体層を有し、前記アド
レス基板は素子アレイと分離した状態でフォトセンサア
レイとして動作することができる。
は、前記複数の第2端子電極に接続された複数のスイッ
チング素子を有し、前記複数のスイッチング素子は光照
射によって導電率が変化する半導体層を有し、前記アド
レス基板は素子アレイと分離した状態でフォトセンサア
レイとして動作することができる。
【0026】前記複数の素子領域は、前記複数の電極
と、前記複数の電極を覆う絶縁層とを有し、前記絶縁層
を介して前記複数の電極上に存在する被検出物に応じて
容量を形成し、前記素子アレイは、前記アドレス基板か
ら送信される信号に応じて前記複数の電極に蓄積された
電荷を前記アドレス基板に伝送する、容量検出素子アレ
イとして機能する構成とすることができる。
と、前記複数の電極を覆う絶縁層とを有し、前記絶縁層
を介して前記複数の電極上に存在する被検出物に応じて
容量を形成し、前記素子アレイは、前記アドレス基板か
ら送信される信号に応じて前記複数の電極に蓄積された
電荷を前記アドレス基板に伝送する、容量検出素子アレ
イとして機能する構成とすることができる。
【0027】ある実施形態において、前記複数の電極は
マトリクス状に配列されており、前記複数の第1電極お
よび前記複数の第2端子電極は前記複数の画素電極に対
応してマトリクス状に配列されており、前記アドレス基
板は、前記複数の第2端子電極に接続された複数のスイ
ッチング素子を有する。
マトリクス状に配列されており、前記複数の第1電極お
よび前記複数の第2端子電極は前記複数の画素電極に対
応してマトリクス状に配列されており、前記アドレス基
板は、前記複数の第2端子電極に接続された複数のスイ
ッチング素子を有する。
【0028】ある実施形態において、前記複数のスイッ
チング素子は光照射によって導電率が変化する半導体層
を有し、前記アドレス基板は素子アレイと分離した状態
でフォトセンサアレイとして動作することができる。
チング素子は光照射によって導電率が変化する半導体層
を有し、前記アドレス基板は素子アレイと分離した状態
でフォトセンサアレイとして動作することができる。
【0029】本発明による他の電子機器は、互いに対向
する一対の電極と、前記一対の電極の間に設けられた表
示媒体層と、前記一対の電極の一方と前記表示媒体層と
の間に設けられた光導電層とを有する表示媒体基板と、
前記表示媒体基板の前記一方の電極に対向するように設
けられ、複数の発光素子を有する光アドレス基板と、前
記複数の発光素子から出射された光を用いて前記表示媒
体層の所定の領域を順次アドレスしながら、前記一対の
電極から印加される電圧に応じた表示を行うことを特徴
とする。
する一対の電極と、前記一対の電極の間に設けられた表
示媒体層と、前記一対の電極の一方と前記表示媒体層と
の間に設けられた光導電層とを有する表示媒体基板と、
前記表示媒体基板の前記一方の電極に対向するように設
けられ、複数の発光素子を有する光アドレス基板と、前
記複数の発光素子から出射された光を用いて前記表示媒
体層の所定の領域を順次アドレスしながら、前記一対の
電極から印加される電圧に応じた表示を行うことを特徴
とする。
【0030】ある実施形態において、前記表示媒体基板
は、前記光導電層と前記表示媒体層との間に反射層を有
し、外部から前記表示媒体層に入射した光を前記反射層
によって反射することによって表示を行うことができ
る。
は、前記光導電層と前記表示媒体層との間に反射層を有
し、外部から前記表示媒体層に入射した光を前記反射層
によって反射することによって表示を行うことができ
る。
【0031】前記表示媒体基板は、前記反射層および前
記一方の電極が形成されていない透過領域を有し、前記
複数の発光素子から出射され前記透過領域を透過した光
を用いて表示を行うことができる構成としてもよい。
記一方の電極が形成されていない透過領域を有し、前記
複数の発光素子から出射され前記透過領域を透過した光
を用いて表示を行うことができる構成としてもよい。
【0032】前記表示媒体基板と前記光アドレス基板と
を着脱可能としてもよい。
を着脱可能としてもよい。
【0033】前記表示媒体基板と前記光アドレス基板と
の間に、前記複数の発光素子のそれぞれから出射された
光の配光分布を制御する光学素子をさらに有する構成と
してもよい。
の間に、前記複数の発光素子のそれぞれから出射された
光の配光分布を制御する光学素子をさらに有する構成と
してもよい。
【0034】前記表示媒体基板と前記光アドレス基板と
の間隙を減圧状態に保持することが可能なシール部を更
に有する構成としてもよい。
の間隙を減圧状態に保持することが可能なシール部を更
に有する構成としてもよい。
【0035】前記複数の発光素子は、マトリクス状に配
列されており、前記複数の発光素子のそれぞれは画素に
対応するように設けられている構成としてもよい。
列されており、前記複数の発光素子のそれぞれは画素に
対応するように設けられている構成としてもよい。
【0036】前記光アドレス基板は、前記表示媒体基板
と分離した状態で、表示素子として機能する構成とする
ことができる。
と分離した状態で、表示素子として機能する構成とする
ことができる。
【0037】前記表示媒体層として液晶層を好適に用い
ることができる。また、前記複数の発光素子として、有
機EL発光素子を好適に用いることができる。
ることができる。また、前記複数の発光素子として、有
機EL発光素子を好適に用いることができる。
【0038】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
による実施形態の電子機器を説明するが、本発明は以下
の実施形態に限定されるものではない。
による実施形態の電子機器を説明するが、本発明は以下
の実施形態に限定されるものではない。
【0039】本発明による電子機器は、マトリクス状に
配列された素子領域を有する素子アレイと、素子アレイ
の素子領域をアドレスしながら駆動することができるア
ドレス基板とを有する。
配列された素子領域を有する素子アレイと、素子アレイ
の素子領域をアドレスしながら駆動することができるア
ドレス基板とを有する。
【0040】素子アレイは、互いに対向する一対の第1
主面と、一対の第1主面の間にマトリクス状に配列され
た複数の素子領域であって、複数の電極を有する複数の
素子領域と、一対の第1主面の一方に設けられ、それぞ
れが複数の電極のそれぞれに電気的に接続された複数の
第1端子電極とを備える。
主面と、一対の第1主面の間にマトリクス状に配列され
た複数の素子領域であって、複数の電極を有する複数の
素子領域と、一対の第1主面の一方に設けられ、それぞ
れが複数の電極のそれぞれに電気的に接続された複数の
第1端子電極とを備える。
【0041】アドレス基板は、素子アレイの上記一方の
第1主面に対向するように配置された第2主面を有する
基板と、第2主面に設けられ、それぞれが複数の第1端
子電極のそれぞれに電気的に接続された複数の第2端子
電極と、複数の素子領域を順次アドレスしながら、第2
端子電極を介して複数の素子領域に所定の信号を伝送ま
たは複数の素子領域から所定の信号を受信するアドレス
駆動回路とを備える。
第1主面に対向するように配置された第2主面を有する
基板と、第2主面に設けられ、それぞれが複数の第1端
子電極のそれぞれに電気的に接続された複数の第2端子
電極と、複数の素子領域を順次アドレスしながら、第2
端子電極を介して複数の素子領域に所定の信号を伝送ま
たは複数の素子領域から所定の信号を受信するアドレス
駆動回路とを備える。
【0042】本発明による実施形態の電子機器は、素子
アレイとアドレス基板との電気的な接続を行う第1端子
電極および第2端子電極が互いに異なる面(異なる基板
またはフィルム)に設けられているので、素子アレイと
アドレス基板とを容易に分離することできる。従って、
本発明によると、電子機器の製造歩留まりおよび/また
は再利用効率が向上する。
アレイとアドレス基板との電気的な接続を行う第1端子
電極および第2端子電極が互いに異なる面(異なる基板
またはフィルム)に設けられているので、素子アレイと
アドレス基板とを容易に分離することできる。従って、
本発明によると、電子機器の製造歩留まりおよび/また
は再利用効率が向上する。
【0043】(実施形態1)まず、表示装置に適用した
実施形態を説明する。
実施形態を説明する。
【0044】図1は、本発明による実施形態1の液晶表
示装置100の構造を示す概略図である。図1(a)
は、表示装置100の分解断面図であり、図1(b)は
表示装置100の完成品の断面図であり、図1(c)
は、表示装置100の平面図である。なお、図1におい
ては、簡単さのために、バックライトや偏光板、周辺駆
動回路、電源などは省略している。
示装置100の構造を示す概略図である。図1(a)
は、表示装置100の分解断面図であり、図1(b)は
表示装置100の完成品の断面図であり、図1(c)
は、表示装置100の平面図である。なお、図1におい
ては、簡単さのために、バックライトや偏光板、周辺駆
動回路、電源などは省略している。
【0045】液晶表示装置100は、素子アレイとして
の液晶パネル100Aと、アドレス基板100Bとを有
している。
の液晶パネル100Aと、アドレス基板100Bとを有
している。
【0046】液晶パネル100Aは、接続側基板11
と、対向基板12と、接続側基板11と対向基板12と
の間に設けらた液晶層15とを有している。液晶層15
は封止部19によって封入されている。接続側基板11
および対向基板12は、絶縁性基板であり、例えば、ガ
ラス基板やプラスチック基板である。
と、対向基板12と、接続側基板11と対向基板12と
の間に設けらた液晶層15とを有している。液晶層15
は封止部19によって封入されている。接続側基板11
および対向基板12は、絶縁性基板であり、例えば、ガ
ラス基板やプラスチック基板である。
【0047】接続側基板11の液晶層15側には、画素
電極13がマトリクス状の形成されている。画素電極1
3は、例えば、ITO膜をパターニングすることによっ
て形成される。対向基板12の液晶層15側には対向電
極14が設けられている。これらの基板11および12
には、必要に応じて、カラーフィルタ層やブラックマト
リクスが形成されても良い。
電極13がマトリクス状の形成されている。画素電極1
3は、例えば、ITO膜をパターニングすることによっ
て形成される。対向基板12の液晶層15側には対向電
極14が設けられている。これらの基板11および12
には、必要に応じて、カラーフィルタ層やブラックマト
リクスが形成されても良い。
【0048】液晶パネル100Aの接続側基板11上に
は、走査線、信号線、およびスイッチング素子が形成さ
れておらず、個々の画素電極13は互いに電気的に絶縁
されている。
は、走査線、信号線、およびスイッチング素子が形成さ
れておらず、個々の画素電極13は互いに電気的に絶縁
されている。
【0049】接続側基板11の液晶層15とは反対側の
面には、画素電極13のそれぞれに電気的に接続された
第1端子電極16が形成されている。第1端子電極16
は画素電極13に対応してマトリクス状に形成されてい
る。第1端子電極16は、例えば、図1に示したよう
に、基板面から突き出たバンプ電極であってもよい。第
1端子電極16は、例えば、Ni、Cu、Sn、ハンダ
等の金属材料を用いて形成され得る。画素電極13と第
1端子電極16との電気的な接続は、例えば、接続側基
板11に形成されたコンタクトホールを介して行われ
る。コンタクトホールは、例えば、公知のエッチングな
どの方法を用いて形成される。
面には、画素電極13のそれぞれに電気的に接続された
第1端子電極16が形成されている。第1端子電極16
は画素電極13に対応してマトリクス状に形成されてい
る。第1端子電極16は、例えば、図1に示したよう
に、基板面から突き出たバンプ電極であってもよい。第
1端子電極16は、例えば、Ni、Cu、Sn、ハンダ
等の金属材料を用いて形成され得る。画素電極13と第
1端子電極16との電気的な接続は、例えば、接続側基
板11に形成されたコンタクトホールを介して行われ
る。コンタクトホールは、例えば、公知のエッチングな
どの方法を用いて形成される。
【0050】なお、対向電極14と電極転移を介して電
気的に接続される接続電極(転移電極ということもあ
る。)を画素電極13と同様に接続側基板11の液晶層
15側に形成する場合、この対向電極14用の接続電極
と電気的に接続された第1端子電極を更に設けても良
い。電極転移は、カーボンペースト、金属ペースト、金
属粒などを用いて公知の方法で形成することができる。
気的に接続される接続電極(転移電極ということもあ
る。)を画素電極13と同様に接続側基板11の液晶層
15側に形成する場合、この対向電極14用の接続電極
と電気的に接続された第1端子電極を更に設けても良
い。電極転移は、カーボンペースト、金属ペースト、金
属粒などを用いて公知の方法で形成することができる。
【0051】アドレス基板100Bは、基板21上に、
走査線24、信号線25およびTFT26と、TFT2
6を介して信号線25に接続された画素電極(第2端子
電極ということもある)23が形成されている。図では
簡略化しているが、走査線24および信号線25はマト
リクス状に配置された画素電極23の間に設けられてお
り、個々の画素電極23の近傍にTFT26が設けられ
ている。さらに、基板21上には、走査線24に走査信
号を供給する走査線駆動回路および信号線25にデータ
信号を供給する信号線駆動回路(不図示)が設けられて
いる(図6(b)参照)。これらの駆動回路をまとめて
アドレス駆動回路ということもある。
走査線24、信号線25およびTFT26と、TFT2
6を介して信号線25に接続された画素電極(第2端子
電極ということもある)23が形成されている。図では
簡略化しているが、走査線24および信号線25はマト
リクス状に配置された画素電極23の間に設けられてお
り、個々の画素電極23の近傍にTFT26が設けられ
ている。さらに、基板21上には、走査線24に走査信
号を供給する走査線駆動回路および信号線25にデータ
信号を供給する信号線駆動回路(不図示)が設けられて
いる(図6(b)参照)。これらの駆動回路をまとめて
アドレス駆動回路ということもある。
【0052】基板21は、例えば、絶縁性基板(ガラス
基板、プラスチック基板)であってもよいし、半導体基
板(シリコン基板)であってもよい。走査線24および
信号線25はAl、Ta、Mo、Cu等の金属膜や、I
TOなどの導電性酸化膜を用いて形成することができ
る。TFT26は、Siや有機半導体を活性層として用
いることができる。また、画素電極23は、Al、T
a、Mo、Cu等の金属膜や、ITOなどの導電性酸化
膜を用いて形成される。アドレス基板100Bの基本的
な構造は従来の液晶表示装置(例えば図8の液晶表示装
置400)のアクティブマトリクス基板と同じである。
基板、プラスチック基板)であってもよいし、半導体基
板(シリコン基板)であってもよい。走査線24および
信号線25はAl、Ta、Mo、Cu等の金属膜や、I
TOなどの導電性酸化膜を用いて形成することができ
る。TFT26は、Siや有機半導体を活性層として用
いることができる。また、画素電極23は、Al、T
a、Mo、Cu等の金属膜や、ITOなどの導電性酸化
膜を用いて形成される。アドレス基板100Bの基本的
な構造は従来の液晶表示装置(例えば図8の液晶表示装
置400)のアクティブマトリクス基板と同じである。
【0053】但し、画素電極23は、液晶パネル100
Aの第1端子電極16と電気的に接続される必要があ
る。従って、走査線24、信号線25およびTFT26
を保護するための絶縁層(不図示)が設けられている場
合には、画素電極23は絶縁層から露出されている必要
がある。この場合、画素電極23は、第1端子電極16
と電気的に接続される第2端子電極として機能する。あ
るいは、画素電極23を絶縁層で覆い、絶縁層に形成し
たコンタクトホールを介して画素電極23に電気的に接
続された第2端子電極(不図示)を別途形成していもよ
い。
Aの第1端子電極16と電気的に接続される必要があ
る。従って、走査線24、信号線25およびTFT26
を保護するための絶縁層(不図示)が設けられている場
合には、画素電極23は絶縁層から露出されている必要
がある。この場合、画素電極23は、第1端子電極16
と電気的に接続される第2端子電極として機能する。あ
るいは、画素電極23を絶縁層で覆い、絶縁層に形成し
たコンタクトホールを介して画素電極23に電気的に接
続された第2端子電極(不図示)を別途形成していもよ
い。
【0054】液晶パネル100Aの第1端子電極16と
アドレス基板100Bの画素電極(または第2端子電
極)23との電気的な接続は、例えば、異方性導電層3
2を用いて行うことができる。このとき、液晶パネル1
00Aの第1端子電極16とアドレス基板100Bの画
素電極(または第2端子電極)23との位置がずれない
ように位置合わせを行ないながら貼り合わせる。異方性
導電層32が接着性を有する場合には、液晶パネル10
0Aとアドレス基板100Bとを互いに接着・固定する
こともできる。異方性導電層32としては、層面に直交
する方向にのみ導電性を有する公知のACF(Anis
otropic conductivefilm)やA
CP(Anisotropic conductive
paste)を用いることができる。
アドレス基板100Bの画素電極(または第2端子電
極)23との電気的な接続は、例えば、異方性導電層3
2を用いて行うことができる。このとき、液晶パネル1
00Aの第1端子電極16とアドレス基板100Bの画
素電極(または第2端子電極)23との位置がずれない
ように位置合わせを行ないながら貼り合わせる。異方性
導電層32が接着性を有する場合には、液晶パネル10
0Aとアドレス基板100Bとを互いに接着・固定する
こともできる。異方性導電層32としては、層面に直交
する方向にのみ導電性を有する公知のACF(Anis
otropic conductivefilm)やA
CP(Anisotropic conductive
paste)を用いることができる。
【0055】異方性導電層32の材料としては、例え
ば、樹脂中に導電性粒子が分散された樹脂シートやペー
ストを用いることができる。導電粒子としては、Auな
どの金属粒子にNiメッキを施した金属粒子、カーボン
粒子、プラスチック粒子にNi/Auメッキを施した金
属膜被覆プラスチック粒子、ITOなどの透明導電粒
子、Ni粒子をポリウレタンに混合させた導電粒子複合
プラスチック等を用いることができる。樹脂材料として
は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタンS
BS(スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合
体)、SEBS(スチレン−エチレンブチレン−スチレ
ンブロック共重合体)、PVB(ポリビニルブチラー
ル)等、各種の材料を用いることができる。
ば、樹脂中に導電性粒子が分散された樹脂シートやペー
ストを用いることができる。導電粒子としては、Auな
どの金属粒子にNiメッキを施した金属粒子、カーボン
粒子、プラスチック粒子にNi/Auメッキを施した金
属膜被覆プラスチック粒子、ITOなどの透明導電粒
子、Ni粒子をポリウレタンに混合させた導電粒子複合
プラスチック等を用いることができる。樹脂材料として
は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタンS
BS(スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合
体)、SEBS(スチレン−エチレンブチレン−スチレ
ンブロック共重合体)、PVB(ポリビニルブチラー
ル)等、各種の材料を用いることができる。
【0056】なお、ここで用いる樹脂材料として、加熱
により軟化する熱可塑性樹脂や、紫外線照射によって接
着力が低下する紫外線崩壊型樹脂を用いると、一旦、上
記の液晶パネル100Aとアドレス基板100Bとを貼
り合わせた後であっても、必要に応じて、容易に分離す
ることができる。再び液晶パネル100Aとアドレス基
板100Bとを貼り合わせる場合には、接着する面をア
ルコール等の溶剤を用いて清浄にした後、再度、異方導
電性層を用いて貼り合わせれば良い。このように、簡単
に着脱(貼り合せ/分離)が可能な構成を採用すると、
使用者が用途に応じて、液晶パネル100Aを交換する
ことが可能となる。
により軟化する熱可塑性樹脂や、紫外線照射によって接
着力が低下する紫外線崩壊型樹脂を用いると、一旦、上
記の液晶パネル100Aとアドレス基板100Bとを貼
り合わせた後であっても、必要に応じて、容易に分離す
ることができる。再び液晶パネル100Aとアドレス基
板100Bとを貼り合わせる場合には、接着する面をア
ルコール等の溶剤を用いて清浄にした後、再度、異方導
電性層を用いて貼り合わせれば良い。このように、簡単
に着脱(貼り合せ/分離)が可能な構成を採用すると、
使用者が用途に応じて、液晶パネル100Aを交換する
ことが可能となる。
【0057】液晶表示装置100は、従来と同様の方法
で駆動することができるので、その詳細は省略する。
で駆動することができるので、その詳細は省略する。
【0058】液晶表示装置100は、液晶パネル100
Aとアドレス基板100とを容易に分離できる構成を有
しているので、必要に応じて、液晶パネル100Aを交
換することができる。例えば、液晶パネル100Aに不
良が発生し良品と交換する場合、用途に応じた液晶パネ
ル(反射型パネルと透過型パネルとの交換や、視角特性
や応答速度の異なるパネルとの交換)に交換する場合な
どが考えられる。さらに、用途に応じて、液晶パネルを
他の表示パネル(例えば有機EL表示パネル)に交換す
ることもできる。
Aとアドレス基板100とを容易に分離できる構成を有
しているので、必要に応じて、液晶パネル100Aを交
換することができる。例えば、液晶パネル100Aに不
良が発生し良品と交換する場合、用途に応じた液晶パネ
ル(反射型パネルと透過型パネルとの交換や、視角特性
や応答速度の異なるパネルとの交換)に交換する場合な
どが考えられる。さらに、用途に応じて、液晶パネルを
他の表示パネル(例えば有機EL表示パネル)に交換す
ることもできる。
【0059】例えば、液晶パネル100Aを他の液晶パ
ネルに交換するために、アドレス基板100Bは、複数
の基準電圧と、複数の基準電圧に対応した複数の階調電
圧のセットを生成する回路を備えていることが好まし
い。このような回路を備えることによって、新たに装着
された液晶パネルに適した電圧(信号)を供給すること
ができる。さらに、基準電圧や階調電圧を必要に応じ
て、スイッチやボリュームを用いて変化させられる構成
を備えてもよい。また、異なる種類の表示媒体を用いる
場合に備えて、表示媒体の種類に応じて、最適なγ補正
が可能なように、予め複数種類のγ補正プログラムを準
備しておき、使用者などがγ補正プログラムの選択およ
び微調整をできる構成を設けてもよい。
ネルに交換するために、アドレス基板100Bは、複数
の基準電圧と、複数の基準電圧に対応した複数の階調電
圧のセットを生成する回路を備えていることが好まし
い。このような回路を備えることによって、新たに装着
された液晶パネルに適した電圧(信号)を供給すること
ができる。さらに、基準電圧や階調電圧を必要に応じ
て、スイッチやボリュームを用いて変化させられる構成
を備えてもよい。また、異なる種類の表示媒体を用いる
場合に備えて、表示媒体の種類に応じて、最適なγ補正
が可能なように、予め複数種類のγ補正プログラムを準
備しておき、使用者などがγ補正プログラムの選択およ
び微調整をできる構成を設けてもよい。
【0060】このように、本実施形態の液晶表示装置1
00は、液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと
を容易に分離することができるので、どちらか一方だけ
を交換し、他方をそのまま利用することが可能になるの
で、液晶表示装置の製造歩留まりおよび/または再利用
効率を向上することができる。また、使用者の用途に応
じて、液晶パネル100Aだけを交換することも可能に
なる。さらに、液晶パネル100Aに代えて、有機EL
発光材料や電気泳動材料、エレクトロクロミック材料な
どの各種の表示材料を用いた表示パネル(表示媒体基
板)を用いることができる。したがって、例えば、有機
EL材料など比較的寿命の短い表示媒体であっても、表
示パネルだけを交換すればよいので、実用に供すること
ができる。
00は、液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと
を容易に分離することができるので、どちらか一方だけ
を交換し、他方をそのまま利用することが可能になるの
で、液晶表示装置の製造歩留まりおよび/または再利用
効率を向上することができる。また、使用者の用途に応
じて、液晶パネル100Aだけを交換することも可能に
なる。さらに、液晶パネル100Aに代えて、有機EL
発光材料や電気泳動材料、エレクトロクロミック材料な
どの各種の表示材料を用いた表示パネル(表示媒体基
板)を用いることができる。したがって、例えば、有機
EL材料など比較的寿命の短い表示媒体であっても、表
示パネルだけを交換すればよいので、実用に供すること
ができる。
【0061】上述の例では、液晶パネル100Aとアド
レス基板100Bとを、後で剥がすことが容易な異方導
電性樹脂によって貼り合わせる構造を説明したが、両者
を貼り合わせるための材料や構造は、これに限定される
ものでは無い。例えは、表裏面がタック性(粘着性)を
有する異方導電性のゴムシート等を用いて両者を貼り合
わせることも可能である。また、液晶パネル100Aと
アドレス基板100Bの一方に磁石を配設し、他方の基
板に強磁性体(Ni、Fe、Coなど)を配設しておく
ことによって、両者を磁気的な吸引力を用いて接続する
こともできる。このとき、第1端子電極16や画素電極
(第2端子電極)23を強磁性体金属を用いて形成して
も良い。
レス基板100Bとを、後で剥がすことが容易な異方導
電性樹脂によって貼り合わせる構造を説明したが、両者
を貼り合わせるための材料や構造は、これに限定される
ものでは無い。例えは、表裏面がタック性(粘着性)を
有する異方導電性のゴムシート等を用いて両者を貼り合
わせることも可能である。また、液晶パネル100Aと
アドレス基板100Bの一方に磁石を配設し、他方の基
板に強磁性体(Ni、Fe、Coなど)を配設しておく
ことによって、両者を磁気的な吸引力を用いて接続する
こともできる。このとき、第1端子電極16や画素電極
(第2端子電極)23を強磁性体金属を用いて形成して
も良い。
【0062】液晶パネル100Aとアドレス基板100
Bとの位置合せを容易にするために図2に示した液晶表
示装置110のような構成としても良い。
Bとの位置合せを容易にするために図2に示した液晶表
示装置110のような構成としても良い。
【0063】液晶表示装置110は、図2(a)および
(b)に示したように、アドレス基板110Bの画素電
極(第2端子電極)23aが、液晶パネル100Aの第
1端子電極16と噛合する構造を有している点で、図1
に示した液晶表示装置100と異なっている。具体的に
は、第1端子電極16は基板面から突き出たバンプ電極
でり、画素電極(第2端子電極)23は、凸型の第1端
子電極16を受容する凹型の形状を有している。特に、
図示したように、第1端子電極16が球面を有するバン
プ電極の場合、画素電極23はその中心に向かって傾斜
する斜面を有していると、第1端子電極16をその中心
に導くように機能するので好ましい。
(b)に示したように、アドレス基板110Bの画素電
極(第2端子電極)23aが、液晶パネル100Aの第
1端子電極16と噛合する構造を有している点で、図1
に示した液晶表示装置100と異なっている。具体的に
は、第1端子電極16は基板面から突き出たバンプ電極
でり、画素電極(第2端子電極)23は、凸型の第1端
子電極16を受容する凹型の形状を有している。特に、
図示したように、第1端子電極16が球面を有するバン
プ電極の場合、画素電極23はその中心に向かって傾斜
する斜面を有していると、第1端子電極16をその中心
に導くように機能するので好ましい。
【0064】もちろん、第1端子電極16と画素電極2
3の形状を逆にしても良いし、他の形状としてもよい。
また、第1端子電極16および画素電極23の形状によ
っては、互いに信頼性良く噛合する場合には、異方性導
電層32を省略してもよい。
3の形状を逆にしても良いし、他の形状としてもよい。
また、第1端子電極16および画素電極23の形状によ
っては、互いに信頼性良く噛合する場合には、異方性導
電層32を省略してもよい。
【0065】さらに、図3に示す液晶表示装置120の
ように、接続側基板11を異方性導電シート17を用い
て形成することによって、液晶パネル110Aとアドレ
ス基板100Bとの位置合せを不要にすることができ
る。
ように、接続側基板11を異方性導電シート17を用い
て形成することによって、液晶パネル110Aとアドレ
ス基板100Bとの位置合せを不要にすることができ
る。
【0066】液晶表示装置120が有する液晶パネル1
10Aは、液晶表示装置100の接続側基板11に代え
て、異方性導電シート17を有している。異方性導電シ
ート17は、図3(c)に示すように、金属材料や導電
性樹脂で形成された導電性柱状体17aの周辺が絶縁層
17bで覆われた異方性導電材料がシート状に加工され
ている。個々の導電性柱状体17aの直径は例えば約2
0μmであり、高さは例えば150μm、絶縁層17b
の厚さは、例えば1μm〜5μm程度である。
10Aは、液晶表示装置100の接続側基板11に代え
て、異方性導電シート17を有している。異方性導電シ
ート17は、図3(c)に示すように、金属材料や導電
性樹脂で形成された導電性柱状体17aの周辺が絶縁層
17bで覆われた異方性導電材料がシート状に加工され
ている。個々の導電性柱状体17aの直径は例えば約2
0μmであり、高さは例えば150μm、絶縁層17b
の厚さは、例えば1μm〜5μm程度である。
【0067】図3(b)に示したように、この異方性導
電シート17は、アドレス基板100Bの画素電極23
と直接接触するように配置され、画素電極23と接触し
た部分は、液晶パネル110Aの画素電極(図1の画素
電極13)および第1端子電極(図1の第1端子電極1
6)として機能する。このような構成を採用すると、液
晶パネル110Aとアドレス基板100Bとの位置合せ
が不要となるとともに図1の画素電極13および第1端
子電極16とを省略することができる。なお、液晶パネ
ル100Aとアドレス基板100Bとを接着するため
に、上述の異方性導電層32を併用しても良い。
電シート17は、アドレス基板100Bの画素電極23
と直接接触するように配置され、画素電極23と接触し
た部分は、液晶パネル110Aの画素電極(図1の画素
電極13)および第1端子電極(図1の第1端子電極1
6)として機能する。このような構成を採用すると、液
晶パネル110Aとアドレス基板100Bとの位置合せ
が不要となるとともに図1の画素電極13および第1端
子電極16とを省略することができる。なお、液晶パネ
ル100Aとアドレス基板100Bとを接着するため
に、上述の異方性導電層32を併用しても良い。
【0068】この液晶表パネル110Aのように異方性
導電シート17を用いる場合や、液晶パネル100Aの
接続側基板11として高分子フィルムを用いる場合な
ど、機械的な強度が弱い基板(あるいはフィルム)を用
いる場合には、液晶材料の注入方法として、基板に高い
強度を必要としない、滴下方式などの方法を採用するこ
とが好ましい。滴下方式としては、例えば、特公平8−
20627号公報に記載されている方法を用いることが
できる。
導電シート17を用いる場合や、液晶パネル100Aの
接続側基板11として高分子フィルムを用いる場合な
ど、機械的な強度が弱い基板(あるいはフィルム)を用
いる場合には、液晶材料の注入方法として、基板に高い
強度を必要としない、滴下方式などの方法を採用するこ
とが好ましい。滴下方式としては、例えば、特公平8−
20627号公報に記載されている方法を用いることが
できる。
【0069】次に、図4(a)および(b)を参照しな
がら、図1に示した液晶パネル100Aとアドレス基板
100Bとを接合する他の方法を説明する。この方法
は、図2に示した液晶表示装置110および図3に示し
た液晶表示装置120や、後述する実施形態2の光アド
レスタイプの表示装置や実施形態3の電子機器にも適用
できる。
がら、図1に示した液晶パネル100Aとアドレス基板
100Bとを接合する他の方法を説明する。この方法
は、図2に示した液晶表示装置110および図3に示し
た液晶表示装置120や、後述する実施形態2の光アド
レスタイプの表示装置や実施形態3の電子機器にも適用
できる。
【0070】図4に示した液晶表示装置130は、液晶
パネル100Aとアドレス基板100Bとの間隙を減圧
状態に保持することが可能なシール部34をさらに有し
ている。液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと
間隙を減圧状態に維持することによって、液晶パネル1
00Aおよびアドレス基板100Bの全面に均一に大気
圧がかかり、良好な電気的な接続を実現することがき
る。このような構成を採用すると、液晶パネル100A
を簡単に着脱できるので、使用者が用途に応じて液晶パ
ネル100Aを交換することもできる。
パネル100Aとアドレス基板100Bとの間隙を減圧
状態に保持することが可能なシール部34をさらに有し
ている。液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと
間隙を減圧状態に維持することによって、液晶パネル1
00Aおよびアドレス基板100Bの全面に均一に大気
圧がかかり、良好な電気的な接続を実現することがき
る。このような構成を採用すると、液晶パネル100A
を簡単に着脱できるので、使用者が用途に応じて液晶パ
ネル100Aを交換することもできる。
【0071】液晶表示装置130は、例えば、図4
(b)に示すようにして作製できる。
(b)に示すようにして作製できる。
【0072】まず、液晶パネル100Aとアドレス基板
100Bとの間隙をシールするためのシール部34を形
成する。このシール部34は、例えば、シリコーンゴム
を用いて形成できる。例えば開閉可能なチャック35を
介して排気管36をシール部34の内部に挿入し、ポン
プやエジェクターを用いて、シール部34の内部(液晶
パネル100Aとアドレス基板100Bと間隙)を排気
することによって、減圧状態とすることができる。作業
性の観点から、排気管36にバルブ37を設けてもよ
い。液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと間隙
を十分に減圧した後は、チャック35を閉じて、減圧状
態を維持する。
100Bとの間隙をシールするためのシール部34を形
成する。このシール部34は、例えば、シリコーンゴム
を用いて形成できる。例えば開閉可能なチャック35を
介して排気管36をシール部34の内部に挿入し、ポン
プやエジェクターを用いて、シール部34の内部(液晶
パネル100Aとアドレス基板100Bと間隙)を排気
することによって、減圧状態とすることができる。作業
性の観点から、排気管36にバルブ37を設けてもよ
い。液晶パネル100Aとアドレス基板100Bと間隙
を十分に減圧した後は、チャック35を閉じて、減圧状
態を維持する。
【0073】更に、強度等が要求される場合には、シー
ル剤(接着剤)を用いて、シール部34の開口部分を封
止しても良いし、液晶パネル100Aおよびアドレス基
板100Bの周辺にさらなるシール部を形成してもよ
い。このように、液晶パネル100Aとアドレス基板1
00Bと間隙を減圧状態にする方法としては、特開平4
−291320号公報や特開2000−275656号
公報に記載されている方法を用いてもよい。
ル剤(接着剤)を用いて、シール部34の開口部分を封
止しても良いし、液晶パネル100Aおよびアドレス基
板100Bの周辺にさらなるシール部を形成してもよ
い。このように、液晶パネル100Aとアドレス基板1
00Bと間隙を減圧状態にする方法としては、特開平4
−291320号公報や特開2000−275656号
公報に記載されている方法を用いてもよい。
【0074】(実施形態2)実施形態2の表示装置は、
光アドレスタイプの表示装置である。図5(a)に実施
形態2の液晶表示装置200の分解断面図を示す。
光アドレスタイプの表示装置である。図5(a)に実施
形態2の液晶表示装置200の分解断面図を示す。
【0075】図5(a)に示した液晶表示装置200
は、表示媒体基板としての液晶パネル200Aと、光ア
ドレス基板200Bとを有している。
は、表示媒体基板としての液晶パネル200Aと、光ア
ドレス基板200Bとを有している。
【0076】液晶パネル200Aは、接続側基板11
と、対向基板12と、接続側基板11と対向基板12と
の間に設けらた液晶層15とを有している。液晶層15
は封止部19によって封入されている。接続側基板11
および対向基板12は、絶縁性基板であり、例えば、ガ
ラス基板やプラスチック基板である。
と、対向基板12と、接続側基板11と対向基板12と
の間に設けらた液晶層15とを有している。液晶層15
は封止部19によって封入されている。接続側基板11
および対向基板12は、絶縁性基板であり、例えば、ガ
ラス基板やプラスチック基板である。
【0077】液晶層15は、接続側基板11に設けられ
た電極13aと、対向基板12に設けられた電極14と
に挟持されている。電極13aと液晶層15との間に
は、光導電層13bが設けられており、光導電層13b
と液晶層15との間には反射層13cが設けられてい
る。電極13aと電極14との間には交流電圧が印加で
きるようになっている。反射層13cは、外部から液晶
層15に入射した光を観察者側(対向基板12側)に反
射する。光導電層13bは、例えばSiまたは有機半導
体を用いて形成することができる。反射層13cは、例
えば、誘電体ミラーである。
た電極13aと、対向基板12に設けられた電極14と
に挟持されている。電極13aと液晶層15との間に
は、光導電層13bが設けられており、光導電層13b
と液晶層15との間には反射層13cが設けられてい
る。電極13aと電極14との間には交流電圧が印加で
きるようになっている。反射層13cは、外部から液晶
層15に入射した光を観察者側(対向基板12側)に反
射する。光導電層13bは、例えばSiまたは有機半導
体を用いて形成することができる。反射層13cは、例
えば、誘電体ミラーである。
【0078】なお、アドレスに用いる光の波長および光
導電層13bの分光感度にも依存するが、反射層13c
を省略し、光導電層13bを反射層として機能させるこ
ともできる。また、トナー表示、電気泳動表示またはボ
ールツイスト表示など表示媒体自身が反射特性を有する
表示媒体層を液晶層15に代えて用いる場合ややELな
どの自発光型表示媒体層を用いる場合にも、反射層を省
略することができる。
導電層13bの分光感度にも依存するが、反射層13c
を省略し、光導電層13bを反射層として機能させるこ
ともできる。また、トナー表示、電気泳動表示またはボ
ールツイスト表示など表示媒体自身が反射特性を有する
表示媒体層を液晶層15に代えて用いる場合ややELな
どの自発光型表示媒体層を用いる場合にも、反射層を省
略することができる。
【0079】光アドレス基板200Bは、基板21上
に、走査線24、信号線25およびTFT26と、TF
T26を介して信号線25に接続された発光素子27が
形成されている。発光素子27は、図示しない保護絶縁
層(または保護基板)によって覆われていてもよい。基
板21は、例えば、絶縁性基板(ガラス基板、プラスチ
ック基板)であってもよいし、半導体基板(シリコン基
板)であってもよい。走査線24および信号線25はA
l、Ta、Mo、Cu等の金属膜や、ITOなどの導電
性酸化膜を用いて形成することができる。発光素子27
として、例えば、EL(有機ELや無機EL)素子、L
ED、FED(フィールドエミッションディスプレイ)
などを用いることができる。
に、走査線24、信号線25およびTFT26と、TF
T26を介して信号線25に接続された発光素子27が
形成されている。発光素子27は、図示しない保護絶縁
層(または保護基板)によって覆われていてもよい。基
板21は、例えば、絶縁性基板(ガラス基板、プラスチ
ック基板)であってもよいし、半導体基板(シリコン基
板)であってもよい。走査線24および信号線25はA
l、Ta、Mo、Cu等の金属膜や、ITOなどの導電
性酸化膜を用いて形成することができる。発光素子27
として、例えば、EL(有機ELや無機EL)素子、L
ED、FED(フィールドエミッションディスプレイ)
などを用いることができる。
【0080】発光素子27は、走査線24に供給する走
査信号を順次走査し、そのタイミングに同期させながら
信号線25にデータ信号を供給することによって、順次
発光する。なお、発光素子27として、TFT26など
のスイッチング素子を用いないマトリクス型発光デバイ
ス(例えば、プラズマ発光デバイスやELデバイス)を
用いることもできる。
査信号を順次走査し、そのタイミングに同期させながら
信号線25にデータ信号を供給することによって、順次
発光する。なお、発光素子27として、TFT26など
のスイッチング素子を用いないマトリクス型発光デバイ
ス(例えば、プラズマ発光デバイスやELデバイス)を
用いることもできる。
【0081】液晶パネル200Aと光アドレス基板20
0Bは、例えば、透明な接着剤層あるいは粘着剤層(不
図示)を用いて接合することができる。取り外しの容易
さから、粘着剤層を用いることが好ましく、接着剤層を
用いる場合には、加熱により軟化する熱可塑性樹脂や、
紫外線照射によって接着力が低下する紫外線崩壊型樹脂
を用いることが好ましい。また、図4に示した、シール
部34を設けて、液晶パネル200Aと光アドレス基板
200Bとの間隙を減圧状態にして接合することもでき
る。
0Bは、例えば、透明な接着剤層あるいは粘着剤層(不
図示)を用いて接合することができる。取り外しの容易
さから、粘着剤層を用いることが好ましく、接着剤層を
用いる場合には、加熱により軟化する熱可塑性樹脂や、
紫外線照射によって接着力が低下する紫外線崩壊型樹脂
を用いることが好ましい。また、図4に示した、シール
部34を設けて、液晶パネル200Aと光アドレス基板
200Bとの間隙を減圧状態にして接合することもでき
る。
【0082】液晶パネル200Aの光導電層13bは、
光アドレス基板200Bの発光素子27からの光が入射
すると、光で励起された電荷(電子−正孔対)が生成さ
れて電気抵抗値(またはインピーダンス)が低下する特
性を有する。従って、液晶パネル200Aの電極13a
と電極14に所定の電圧を印加した状態で光導電層13
bに光が入射すると、光が入射した領域のみ光導電層1
3bの電気抵抗値(またはインピーダンス)が低下し、
その結果、液晶層15に印加される電圧が増加する。一
方、光導電層13bに光が入射されない領域では、光導
電層13bの電気抵抗値(またはインピーダンス)が高
く、液晶層15にはほとんど電圧が印加されない。この
原理を利用して、光アドレス基板200Bから出射され
る光を用いて液晶層15の所定の領域を順次アドレスし
ながら、電極13aおよび14から液晶層15に印加さ
れる電圧に応じた表示を行うことができる。
光アドレス基板200Bの発光素子27からの光が入射
すると、光で励起された電荷(電子−正孔対)が生成さ
れて電気抵抗値(またはインピーダンス)が低下する特
性を有する。従って、液晶パネル200Aの電極13a
と電極14に所定の電圧を印加した状態で光導電層13
bに光が入射すると、光が入射した領域のみ光導電層1
3bの電気抵抗値(またはインピーダンス)が低下し、
その結果、液晶層15に印加される電圧が増加する。一
方、光導電層13bに光が入射されない領域では、光導
電層13bの電気抵抗値(またはインピーダンス)が高
く、液晶層15にはほとんど電圧が印加されない。この
原理を利用して、光アドレス基板200Bから出射され
る光を用いて液晶層15の所定の領域を順次アドレスし
ながら、電極13aおよび14から液晶層15に印加さ
れる電圧に応じた表示を行うことができる。
【0083】なお、光アドレス基板200Bの発光素子
27から出射される光の配光分布(発光強度の角度分
布)によっては、所定の領域(典型的には画素)以外の
領域までアドレスされる、いわゆるクロストーク現象が
発生することがある。すなわち発光素子27から出射さ
れる光の配光分布が広すぎる場合は、クロストークが起
こらないように、光導電層の所定の領域に光が入射する
ように配光分布を制御する光学系を設ける。
27から出射される光の配光分布(発光強度の角度分
布)によっては、所定の領域(典型的には画素)以外の
領域までアドレスされる、いわゆるクロストーク現象が
発生することがある。すなわち発光素子27から出射さ
れる光の配光分布が広すぎる場合は、クロストークが起
こらないように、光導電層の所定の領域に光が入射する
ように配光分布を制御する光学系を設ける。
【0084】例えば、図5(a)に示した液晶表示装置
200のように、液晶パネル200Aと光アドレス基板
200Bとの間に配光分布を制御するためのレンズアレ
イ18を設ければよい。もちろん、レンズアレイ18に
代えて、ピンホールアレイを用いてもよい。ピンホール
アレイは、例えば、ブラックマトリクスの形成に用いら
れる黒色樹脂を用いて、接続側基板11の裏面に直接形
成することができる。なお、マトリクス状に配列された
画素の列または行をアドレスするように列または行に沿
って短冊状に形成した場合には、幅方向に集光する機能
を有するレンズや線状のスリットを設ければよい。
200のように、液晶パネル200Aと光アドレス基板
200Bとの間に配光分布を制御するためのレンズアレ
イ18を設ければよい。もちろん、レンズアレイ18に
代えて、ピンホールアレイを用いてもよい。ピンホール
アレイは、例えば、ブラックマトリクスの形成に用いら
れる黒色樹脂を用いて、接続側基板11の裏面に直接形
成することができる。なお、マトリクス状に配列された
画素の列または行をアドレスするように列または行に沿
って短冊状に形成した場合には、幅方向に集光する機能
を有するレンズや線状のスリットを設ければよい。
【0085】光導電層13bの電気抵抗(またはインピ
ーダンス)を変化させるだけの強度の光が入射すればよ
いので、比較的強度の低い光を用いることができる。ま
た、クロストークを抑制するために、光導電層13を画
素に対応するように分離して形成しておいても良い。さ
らに、光導電層13の液晶層15側に導電層を設け、こ
の導電層を画素に応じて分離して形成してもよい。この
構成を採用すると、アドレス光によって導電率が変化す
る光導電層13の領域を画素より小さくしても、画素に
対向して形成された導電層には所定の電圧を印加するこ
とができる。この導電層を反射層として機能させること
もできる。
ーダンス)を変化させるだけの強度の光が入射すればよ
いので、比較的強度の低い光を用いることができる。ま
た、クロストークを抑制するために、光導電層13を画
素に対応するように分離して形成しておいても良い。さ
らに、光導電層13の液晶層15側に導電層を設け、こ
の導電層を画素に応じて分離して形成してもよい。この
構成を採用すると、アドレス光によって導電率が変化す
る光導電層13の領域を画素より小さくしても、画素に
対向して形成された導電層には所定の電圧を印加するこ
とができる。この導電層を反射層として機能させること
もできる。
【0086】このように、光アドレス方式を採用する
と、実施形態1で例示した電気的なアドレス方式より
も、液晶パネルとアドレス基板との接続が容易になり、
接続不良による表示不良の発生を防止することができ
る。
と、実施形態1で例示した電気的なアドレス方式より
も、液晶パネルとアドレス基板との接続が容易になり、
接続不良による表示不良の発生を防止することができ
る。
【0087】また、光アドレス基板200Bの発光素子
27として可視光を出射する発光素子を用い、マトリク
ス状に配置すれば、光アドレス基板200Bを液晶パネ
ル200Aから分離した状態で、自発光ディスプレイと
して利用するこもできる。従って、室内や比較的暗い環
境下では、光アドレス基板200Bのみを用いて自発光
型ディスプレイとして利用し、屋外など明るい環境下で
使用する時には反射型表示モードの液晶パネル200A
を装着し、反射型ディスプレイとして利用することが可
能になる。このように、本実施形態の液晶表示装置20
0は、使用者(観察者)の使用環境や要望に応じて表示
モードを切り替えることができる。
27として可視光を出射する発光素子を用い、マトリク
ス状に配置すれば、光アドレス基板200Bを液晶パネ
ル200Aから分離した状態で、自発光ディスプレイと
して利用するこもできる。従って、室内や比較的暗い環
境下では、光アドレス基板200Bのみを用いて自発光
型ディスプレイとして利用し、屋外など明るい環境下で
使用する時には反射型表示モードの液晶パネル200A
を装着し、反射型ディスプレイとして利用することが可
能になる。このように、本実施形態の液晶表示装置20
0は、使用者(観察者)の使用環境や要望に応じて表示
モードを切り替えることができる。
【0088】図5(a)に示した液晶パネル200A
は、光アドレス基板200Bから出射される光をアドレ
ス光として用いるだけであったが、可視光を発光する光
アドレス基板200Bと図5(b)に示す液晶パネル2
10Aを用いると、光アドレス基板200Bから出射さ
れる光をアドレス光として用いるだけでなく、表示に利
用することもできる。
は、光アドレス基板200Bから出射される光をアドレ
ス光として用いるだけであったが、可視光を発光する光
アドレス基板200Bと図5(b)に示す液晶パネル2
10Aを用いると、光アドレス基板200Bから出射さ
れる光をアドレス光として用いるだけでなく、表示に利
用することもできる。
【0089】液晶パネル210Aは、いわゆる反射透過
両用型の液晶パネルの一種であり、透過モードで表示を
行う領域(透過領域T)と反射モードで表示を行う領域
(反射領域R)とを有している。液晶パネル210Aの
電極13a’、光導電層13b’および反射層13c’
は反射領域Rに対応して選択的に形成されており、透過
領域Tには電極、光導電層および反射層は形成されてい
ない。反射領域Rは図5(a)に示した液晶表示装置2
00と同様に、発光素子27から出射された光によって
アドレスされ、反射モードで表示を行う。一方、透過領
域Tの液晶層15には電圧は印加されず、発光素子27
からの光を透過することによって表示を行う。すなわ
ち、液晶層15(および不図示の偏光板)はノーマリホ
ワイモードで表示を行うように設定されている。
両用型の液晶パネルの一種であり、透過モードで表示を
行う領域(透過領域T)と反射モードで表示を行う領域
(反射領域R)とを有している。液晶パネル210Aの
電極13a’、光導電層13b’および反射層13c’
は反射領域Rに対応して選択的に形成されており、透過
領域Tには電極、光導電層および反射層は形成されてい
ない。反射領域Rは図5(a)に示した液晶表示装置2
00と同様に、発光素子27から出射された光によって
アドレスされ、反射モードで表示を行う。一方、透過領
域Tの液晶層15には電圧は印加されず、発光素子27
からの光を透過することによって表示を行う。すなわ
ち、液晶層15(および不図示の偏光板)はノーマリホ
ワイモードで表示を行うように設定されている。
【0090】なお、反射モードの表示と透過モードの表
示を最適化するためには、図示したように、反射領域R
の液晶層15の厚さは、透過領域Tの液晶層15の厚さ
dの2分の1に設定することが好ましい。また、ここで
は、画素ごとに透過領域Tと反射領域Tとを有する構成
を例示しているが、これに限られない。また、他の公知
の反射透過両用型液晶表示パネルを用いることもでき
る。
示を最適化するためには、図示したように、反射領域R
の液晶層15の厚さは、透過領域Tの液晶層15の厚さ
dの2分の1に設定することが好ましい。また、ここで
は、画素ごとに透過領域Tと反射領域Tとを有する構成
を例示しているが、これに限られない。また、他の公知
の反射透過両用型液晶表示パネルを用いることもでき
る。
【0091】液晶パネル200Aや210Aと光アドレ
ス基板200Bとの接合は、実施形態1と同様の構成で
実現できる。但し、接着剤層や粘着剤層を用いる場合に
は、電気伝導性は不要で、透明性を備える接着剤層や粘
着剤層を用いる。もちろん、図4に示した構成を用いる
こともできるし、磁石等の磁気的な吸引力を用いて接合
することもできる。
ス基板200Bとの接合は、実施形態1と同様の構成で
実現できる。但し、接着剤層や粘着剤層を用いる場合に
は、電気伝導性は不要で、透明性を備える接着剤層や粘
着剤層を用いる。もちろん、図4に示した構成を用いる
こともできるし、磁石等の磁気的な吸引力を用いて接合
することもできる。
【0092】なお、実施形態2においても、表示媒体基
板として液晶パネルを用いた実施形態を示したが、液晶
材料に代えて、有機EL発光材料や電気泳動材料、エレ
クトロクロミック材料などの各種の表示材料を用いた表
示パネルを用いることもできる。
板として液晶パネルを用いた実施形態を示したが、液晶
材料に代えて、有機EL発光材料や電気泳動材料、エレ
クトロクロミック材料などの各種の表示材料を用いた表
示パネルを用いることもできる。
【0093】(実施形態3)次に、本発明による検出装
置の実施形態を説明する。
置の実施形態を説明する。
【0094】図6(a)、(b)および(c)を参照し
ながら、上記の実施形態における表示パネルの代わり
に、検出素子アレイを用いた検出装置300の構造と機
能を説明する。
ながら、上記の実施形態における表示パネルの代わり
に、検出素子アレイを用いた検出装置300の構造と機
能を説明する。
【0095】検出装置300は、検出素子アレイ300
Aとアドレス基板300Bとを有している。アドレス基
板300Bは、実施形態1の表示装置に用いられるアド
レス基板100Bまたはアドレス基板110Bと同様の
構造を有する。検出素子アレイ300Aは、接続側基板
11と、接続側基板11上にマトリクス状に配列された
複数の検出電極13と、検出電極13を覆う絶縁層(保
護膜)15aを有する。検出素子アレイ300Aとアド
レス基板300Bとの接続は、実施形態1と同じ構成で
実現できる。
Aとアドレス基板300Bとを有している。アドレス基
板300Bは、実施形態1の表示装置に用いられるアド
レス基板100Bまたはアドレス基板110Bと同様の
構造を有する。検出素子アレイ300Aは、接続側基板
11と、接続側基板11上にマトリクス状に配列された
複数の検出電極13と、検出電極13を覆う絶縁層(保
護膜)15aを有する。検出素子アレイ300Aとアド
レス基板300Bとの接続は、実施形態1と同じ構成で
実現できる。
【0096】検出装置300の動作原理を図6(c)を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
【0097】先ず、検出素子アレイ300Aの上面(即
ち絶縁層15aの上)に、人間の指などの凹凸面を有す
る被検出物(凹凸物)52を近接させる。このとき、被
検出物52は一種の電極とみなされるので、被検出物5
2と検出電極13との間に容量が生成される。
ち絶縁層15aの上)に、人間の指などの凹凸面を有す
る被検出物(凹凸物)52を近接させる。このとき、被
検出物52は一種の電極とみなされるので、被検出物5
2と検出電極13との間に容量が生成される。
【0098】被検出物52の凹凸面の凸部では、被検出
物52と検出電極13の間には絶縁層15aのみが存在
するが、被検出物52の凹凸面の凹部では、被検出物5
2と検出電極13との間に絶縁層15aと空気層とが存
在する。このため、被検出物52の凸部と凹部の形状に
応じて、検出電極13上に生成される容量の値(すなわ
ち電荷量)が異なる。この容量値の分布を、アドレス基
板300Bでアドレスしながら、アドレス基板300B
の信号線25の端部に備えられた電荷検出回路(または
電圧検出回路)23A(図6(b)参照)で読み取るこ
とで、被検出物52の表面形状(凹凸分布)を読み取る
ことが可能になる。検出装置300は、例えば入力デバ
イス(指紋センサ)などとして利用することができる。
物52と検出電極13の間には絶縁層15aのみが存在
するが、被検出物52の凹凸面の凹部では、被検出物5
2と検出電極13との間に絶縁層15aと空気層とが存
在する。このため、被検出物52の凸部と凹部の形状に
応じて、検出電極13上に生成される容量の値(すなわ
ち電荷量)が異なる。この容量値の分布を、アドレス基
板300Bでアドレスしながら、アドレス基板300B
の信号線25の端部に備えられた電荷検出回路(または
電圧検出回路)23A(図6(b)参照)で読み取るこ
とで、被検出物52の表面形状(凹凸分布)を読み取る
ことが可能になる。検出装置300は、例えば入力デバ
イス(指紋センサ)などとして利用することができる。
【0099】アドレス基板300Bは、図6(b)に示
したように、走査線24に走査信号を供給する走査線駆
動回路24A、信号線25にデータ信号を供給する信号
線駆動回路25Aおよび電荷検出回路(または電圧検出
回路)23Aを有する。電荷検出回路23A以外の構成
は、実施形態1で示したアドレス基板100Bおよび1
10Bと実質的に同じである。従って、実施形態1で例
示した表示パネル100Aに代えて検出素子アレイ30
0Aを装着するだけで、表示装置を検出装置として利用
することが可能になる。但し、表示装置として利用する
際は、信号線駆動回路25Aを利用し、検出装置として
利用する際には、電荷検出回路(または電圧検出回路)
23Aを利用するように、切り替えられるようにすれば
いよい。
したように、走査線24に走査信号を供給する走査線駆
動回路24A、信号線25にデータ信号を供給する信号
線駆動回路25Aおよび電荷検出回路(または電圧検出
回路)23Aを有する。電荷検出回路23A以外の構成
は、実施形態1で示したアドレス基板100Bおよび1
10Bと実質的に同じである。従って、実施形態1で例
示した表示パネル100Aに代えて検出素子アレイ30
0Aを装着するだけで、表示装置を検出装置として利用
することが可能になる。但し、表示装置として利用する
際は、信号線駆動回路25Aを利用し、検出装置として
利用する際には、電荷検出回路(または電圧検出回路)
23Aを利用するように、切り替えられるようにすれば
いよい。
【0100】また、実施形態1および実施形態3のアド
レス基板をフォトセンサアレイとして機能させることも
できる。
レス基板をフォトセンサアレイとして機能させることも
できる。
【0101】アドレス基板100CのTFT26が電気
的なスイッチング行うための半導体層と光照射によって
導電率が変化する半導体層とを有する構成を採用する
と、例えば、特許公報2796336号公報や特許公報
3019632号公報に開示されているような、フォト
センサアレイとして動作させることができる。
的なスイッチング行うための半導体層と光照射によって
導電率が変化する半導体層とを有する構成を採用する
と、例えば、特許公報2796336号公報や特許公報
3019632号公報に開示されているような、フォト
センサアレイとして動作させることができる。
【0102】このようなアドレス基板100Cは、図7
に示すように、密着型イメージセンサとして用いること
ができる。
に示すように、密着型イメージセンサとして用いること
ができる。
【0103】アドレス基板100Cの背面にバックライ
ト40を配置し、アドレス基板100Cの上面に原稿の
印刷面を対向させて配置する。バックライト40から出
射された光は、アドレス基板100Cを透過して、原稿
54の印刷面に入射し、印刷面の状態に応じて反射ある
いは吸収される。原稿54の印刷面で反射された光はT
FT26に入射し、TFT26は入射した光の強度に応
じて導電率が変化し、それによって、入射光の強度に応
じた信号が生成される。このようにして、原稿54の印
刷面に記録された情報を読み出すことができる。もちろ
ん、アドレス基板100Cには、上記信号を読み取るた
めの回路を形成しておく必要がある。これらの回路には
公知の回路を用いることができる。
ト40を配置し、アドレス基板100Cの上面に原稿の
印刷面を対向させて配置する。バックライト40から出
射された光は、アドレス基板100Cを透過して、原稿
54の印刷面に入射し、印刷面の状態に応じて反射ある
いは吸収される。原稿54の印刷面で反射された光はT
FT26に入射し、TFT26は入射した光の強度に応
じて導電率が変化し、それによって、入射光の強度に応
じた信号が生成される。このようにして、原稿54の印
刷面に記録された情報を読み出すことができる。もちろ
ん、アドレス基板100Cには、上記信号を読み取るた
めの回路を形成しておく必要がある。これらの回路には
公知の回路を用いることができる。
【0104】このような構成を採用すると、実施形態1
で説明した表示装置や実施形態3で説明した検出装置の
アドレス基板をこれらの装置から分離した状態でフォト
センサアレイとして利用することができる。
で説明した表示装置や実施形態3で説明した検出装置の
アドレス基板をこれらの装置から分離した状態でフォト
センサアレイとして利用することができる。
【0105】なお、上記の実施形態1および3では、ア
ドレス基板のスイッチング素子としいてTFT26を有
する構成を例示したが、スイッチング素子はTFTに限
られず、MIMなどの他のスイッチング素子を用いるこ
ともできる。また、スイッチグ素子をマトリクス状に設
けた例について主に説明したが、これに限られない。
ドレス基板のスイッチング素子としいてTFT26を有
する構成を例示したが、スイッチング素子はTFTに限
られず、MIMなどの他のスイッチング素子を用いるこ
ともできる。また、スイッチグ素子をマトリクス状に設
けた例について主に説明したが、これに限られない。
【0106】
【発明の効果】本発明によると、アドレス基板を素子ア
レイから分離できるので、電子機器の製造歩留まりおよ
び/または再利用効率が向上する。
レイから分離できるので、電子機器の製造歩留まりおよ
び/または再利用効率が向上する。
【0107】さらに、本発明によると、素子アレイとア
ドレス基板と組み合わせを変更することによる電子機器
の新しい利用方法や、素子アレイとアドレス基板とを分
離した状態で利用する新たな利用方法が提供される。
ドレス基板と組み合わせを変更することによる電子機器
の新しい利用方法や、素子アレイとアドレス基板とを分
離した状態で利用する新たな利用方法が提供される。
【図1】本発明による実施形態1の液晶表示装置100
の構造を示す概略図であり、(a)は、表示装置100
の分解断面図であり、(b)は表示装置100の完成品
の断面図であり、(c)は表示装置100の平面図であ
る。
の構造を示す概略図であり、(a)は、表示装置100
の分解断面図であり、(b)は表示装置100の完成品
の断面図であり、(c)は表示装置100の平面図であ
る。
【図2】本発明による実施形態1の他の液晶表示装置1
10の構造を示す概略図であり、(a)は、表示装置1
10の分解断面図であり、(b)は表示装置110の完
成品の断面図である。
10の構造を示す概略図であり、(a)は、表示装置1
10の分解断面図であり、(b)は表示装置110の完
成品の断面図である。
【図3】本発明による実施形態1のさらに他の液晶表示
装置120の構造を示す概略図であり、(a)は、表示
装置120の分解断面図であり、(b)は表示装置12
0の画素部を拡大した図であり、(c)は異方性導電シ
ートの構造をせつめいするための模式図である。
装置120の構造を示す概略図であり、(a)は、表示
装置120の分解断面図であり、(b)は表示装置12
0の画素部を拡大した図であり、(c)は異方性導電シ
ートの構造をせつめいするための模式図である。
【図4】(a)および(b)は、実施形態1の液晶パネ
ル100Aとアドレス基板100Bとを接合する他の方
法を説明するための図である。
ル100Aとアドレス基板100Bとを接合する他の方
法を説明するための図である。
【図5】(a)は、本発明による実施形態2の光アドレ
スタイプの液晶表示装置200の分解断面図であり、
(b)は液晶表示装置200に用いられる他の液晶パネ
ル210Aの画素部の断面構造を示す図である。
スタイプの液晶表示装置200の分解断面図であり、
(b)は液晶表示装置200に用いられる他の液晶パネ
ル210Aの画素部の断面構造を示す図である。
【図6】本発明による実施形態3の検出装置300の構
造と機能を説明するための図であり、(a)は検出装置
300の断面図であり、(b)は検出装置300の平面
図であり、(c)は検出装置300の動作状態を示す図
である。
造と機能を説明するための図であり、(a)は検出装置
300の断面図であり、(b)は検出装置300の平面
図であり、(c)は検出装置300の動作状態を示す図
である。
【図7】本発明の実施形態による表示装置または検出装
置に用いられるアドレス基板100Cの利用方法を説明
するための図である。
置に用いられるアドレス基板100Cの利用方法を説明
するための図である。
【図8】従来の液晶表示装置400の構造を模式的に示
す断面図である。
す断面図である。
11 接続側基板
12 対向基板
13 画素電極
14 対向電極
15 液晶層
16 第1端子電極(バンプ電極)
19 封止部
21 基板
23 画素電極(第2端子電極)
24 走査線
25 信号線
26 TFT
100 液晶表示装置
100A 液晶パネル(素子アレイ)
100B アドレス基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
G02F 1/1368 G02F 1/1368 5C094
G09F 9/30 365 G09F 9/30 365Z 5G435
9/35 9/35
H05B 33/14 H05B 33/14 A
// G01B 7/28 G01B 7/28 H
Fターム(参考) 2F063 AA43 BA29 BD11 BD20 DA02
DA05 DD07 HA04
2H091 FA14Y FA29Y FA44Z FA45Z
FA48Y FD12 FD14 GA02
GA13 GA14 GA17 LA09 LA12
LA13 MA10
2H092 GA28 GA29 GA40 GA41 GA43
GA45 GA46 GA48 GA54 GA55
HA06 HA25 JA03 JA24 LA06
MA17 MA31 NA29 NA30 PA06
PA12 RA10
2H093 NA16 NA42 NA43 NC34 NC38
NC54 NC72 NC73 ND60 NE03
NE07 NG15
3K007 AB18 BB07 DB03 FA02
5C094 AA42 AA52 BA03 BA27 BA43
BA75 CA19 DA12 DB05 EB02
ED11 FA04 GA01 HA08
5G435 AA17 BB05 BB12 CC09 DD16
EE42 FF11 GG02 HH13 LL06
LL07 LL08
Claims (25)
- 【請求項1】 互いに対向する一対の第1主面と、前記
一対の第1主面の間にマトリクス状に配列された複数の
素子領域であって、前記複数の電極を有する複数の素子
領域と、前記一対の第1主面の一方に設けられ、それぞ
れが前記複数の電極のそれぞれに電気的に接続された複
数の第1端子電極とを備える素子アレイと、 前記素子アレイの前記一方の第1主面に対向するように
配置された第2主面を有する基板と、前記第2主面に設
けられ、それぞれが前記複数の第1端子電極のそれぞれ
に電気的に接続された複数の第2端子電極と、前記複数
の素子領域を順次アドレスしながら、前記第2端子電極
を介して前記複数の素子領域に所定の信号を伝送または
前記複数の素子領域から所定の信号を受信するアドレス
駆動回路とを備えるアドレス基板と、 を有する電子機器。 - 【請求項2】 前記素子アレイと前記アドレス基板とは
着脱可能である、請求項1に記載の電子機器。 - 【請求項3】 前記複数の第1端子電極と前記複数の第
2端子電極との間に異方性導電層が設けられている、請
求項1または2に記載の電子機器。 - 【請求項4】 前記一方の第1主面は異方性導電層によ
って構成され、前記異方性導電層の一部が前記複数の電
極および前記複数の第1端子電極として機能する、請求
項1から3のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項5】 前記複数の第1端子電極と前記複数の第
2端子電極は、互いに噛合する構造を有している、請求
項1から3のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項6】 前記素子アレイと前記アドレス基板との
間隙を減圧状態に保持することが可能なシール部を更に
有する、請求項1から5のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項7】 前記複数の素子領域は複数の画素であ
り、前記複数の電極はマトリクス状に配列された複数の
画素電極であり、前記複数の第1端子電極および前記第
2端子電極は、前記複数の画素電極に対応してマトリク
ス状に配列されており、前記素子アレイは前記アドレス
基板から伝送される所定の信号に応じて表示素子として
機能する、請求項1から6のいずれかに記載の電子機
器。 - 【請求項8】 前記アドレス基板は、複数の基準電圧
と、前記複数の基準電圧に対応した複数の階調電圧のセ
ットを生成する回路を備える、請求項7に記載の電子機
器。 - 【請求項9】 前記アドレス基板、前記複数の第2端子
電極に接続された複数のスイッチング素子を有する、請
求項7または8に記載の電子機器。 - 【請求項10】 前記画素は液晶層を含む請求項7から
9のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項11】 前記画素は有機EL発光層を含む請求
項7から9のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項12】 前記アドレス基板は、前記複数の第2
端子電極に接続された複数のスイッチング素子を有し、
前記複数のスイッチング素子は光照射によって導電率が
変化する半導体層を有し、前記アドレス基板は素子アレ
イと分離した状態でフォトセンサアレイとして動作する
ことができる、請求項7から11のいずれかに記載の電
子機器。 - 【請求項13】 前記複数の素子領域は、前記複数の電
極と、前記複数の電極を覆う絶縁層とを有し、前記絶縁
層を介して前記複数の電極上に存在する被検出物に応じ
て容量を形成し、 前記素子アレイは、前記アドレス基板から送信される信
号に応じて前記複数の電極に蓄積された電荷を前記アド
レス基板に伝送する、容量検出素子アレイとして機能す
る、請求項1から6のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項14】 前記複数の電極はマトリクス状に配列
されており、前記複数の第1電極および前記複数の第2
端子電極は前記複数の画素電極に対応してマトリクス状
に配列されており、前記アドレス基板は、前記複数の第
2端子電極に接続された複数のスイッチング素子を有す
る、請求項13に記載の電子機器。 - 【請求項15】 前記複数のスイッチング素子は光照射
によって導電率が変化する半導体層を有し、前記アドレ
ス基板は素子アレイと分離した状態でフォトセンサアレ
イとして動作することができる、請求項14に記載の電
子機器。 - 【請求項16】 互いに対向する一対の電極と、前記一
対の電極の間に設けられた表示媒体層と、前記一対の電
極の一方と前記表示媒体層との間に設けられた光導電層
とを有する表示媒体基板と、 前記表示媒体基板の前記一方の電極に対向するように設
けられ、複数の発光素子を有する光アドレス基板と、 前記複数の発光素子から出射された光を用いて前記表示
媒体層の所定の領域を順次アドレスしながら、前記一対
の電極から印加される電圧に応じた表示を行う、電子機
器。 - 【請求項17】 前記表示媒体基板は、前記光導電層と
前記表示媒体層との間に反射層を有し、外部から前記表
示媒体層に入射した光を前記反射層によって反射するこ
とによって表示を行うことができる、請求項16に記載
の電子機器。 - 【請求項18】 前記表示媒体基板は、前記反射層およ
び前記一方の電極が形成されていない透過領域を有し、
前記複数の発光素子から出射され前記透過領域を透過し
た光を用いて表示を行うことができる、請求項17に記
載の電子機器。 - 【請求項19】 前記表示媒体基板と前記光アドレス基
板とは着脱可能である、請求項16から18のいずれか
に記載の電子機器。 - 【請求項20】 前記表示媒体基板と前記光アドレス基
板との間に、前記複数の発光素子のそれぞれから出射さ
れた光の配光分布を制御する光学素子をさらに有する、
請求項16から19のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項21】 前記表示媒体基板と前記光アドレス基
板との間隙を減圧状態に保持することが可能なシール部
を更に有する、請求項16から20のいずれかに記載の
電子機器。 - 【請求項22】 前記複数の発光素子は、マトリクス状
に配列されており、前記複数の発光素子のそれぞれは画
素に対応するように設けられている、請求項16から2
1のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項23】 前記光アドレス基板は、前記表示媒体
基板と分離した状態で、表示素子として機能する、請求
項22に記載の電子機器。 - 【請求項24】 前記表示媒体層は液晶層である、請求
項16から23のいずれかに記載の電子機器。 - 【請求項25】 前記複数の発光素子は、有機EL発光
素子である、請求項16から24のいずれかに記載の電
子機器。
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