JP2003279730A - 位相差フィルム及び円偏光板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 優れた位相差フィルムとしての特性を具備
し、また、ハンドリング性も良好である、低Ｔｇの逆分
散型位相差フィルムを提供する。 【解決手段】 式（１）を部分構造として有する繰り返
し単位、式（２）の繰り返し単位、式（３）の繰り返し
単位、および、式（４）の繰り返し単位からなる樹脂を
用いてなる位相差フィルムであって、式（２）の繰り返
し単位（ａ）と式（４）の繰り返し単位（ｂ）のモル分
率が式（５）を満足し、かつ式（１）を部分構造として
有する繰り返し単位のモル分率を（ｃ）、式（３）の繰
り返し単位のモル分率を（ｄ）とした時、式（６）を満
足し、かつ該フィルムのガラス転移温度が１００℃以上
かつ１９０℃未満である位相差フィルム。 ［式中Ｒ”Ｒ’は水素、ハロゲン、脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基、ニトロ基から選ばれ、Ｒは脂肪族炭
化水素基または芳香族炭化水素基、Ｘは酸素、硫黄ある
いはセレンを表し、Ｙは単結合、酸素、硫黄、アルキレ
ン基、アルキリデン基等からなる群から選ばれる。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、有
機電界発光表示装置、防眩フィルムの光学素子に好適に
用いられる位相差フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】位相差フィルムは、液晶表示装置、有機
電界発光表示装置などに用いられ、色調などの問題を解
決するために用いられる。一般には、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、アモルファスポリオレフィンなどが用いら
れている。位相差フィルムの一種である１／４波長板
は、円偏光を直線偏光に、直線偏光を円偏光に変換する
機能を有している。

【０００３】上記の偏光板反射型液晶表示や反射防止フ
ィルム用途においては、可視光全領域である３８０ｎｍ
〜７８０ｎｍにおいて位相差がλ／４(ｎｍ)となること
が理想的特性である。

【０００４】一方、上記のような、現在一般的に用いら
れている位相差フィルムの構成材料については、短波長
ほど位相差が大きく、長波長ほど位相差が小さくなる傾
向で、すなわち理想的特性とは全く逆の特性を有して
る。つまり、高分子フィルム単層で光の波長３８０ｎｍ
〜７８０ｎｍの間において、理想的な１／４波長位相差
特性を得ることは困難であり、種々の工夫が試みられて
きた。

【０００５】例えば、特開平１０−６８８１６号公報に
は１／４波長板と１／２波長板を適当な角度で貼り合わ
せて用いる例、特開平２−２８５３０４号公報には、ア
ッベ数が異なる２枚のフィルムを積層するといった技術
などが提案されている。しかし、上記した理想的な１／
４波長板となるフィルムを得るためには、フィルムを２
枚以上用いなくてはならず、フィルム貼り合わせ工程等
によるコスト増、光学特性の悪化等の問題がある。

【０００６】また、樹脂の面からの改良では、フルオレ
ン骨格を部分構造に有する単層の高分子配向フィルムと
することで測定波長が短いほど位相差が小さくなる位相
差フィルムが特開２００２−４８９１９号公報等で提案
されている。一般に、このような位相差板逆分散型位相
差板と呼ばれている。しかし、当該ポリマーにおいて充
分な波長依存性を得るには４０モル％以上のフルオレン
骨格を部分構造に有するモノマーを用いなくてはなら
ず、係るフィルムは高Ｔｇで非常に脆いために加工上の
制約が多い。また、波長依存性についても改善の余地が
あった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、低
Ｔｇの単層のフィルムであって、かつ測定波長が短いほ
ど位相差が小さい逆分散特性を有し、波長依存性にも優
れた理想的な１／４波長板としての特性を具備し、ま
た、ハンドリング性も良好である位相差フィルムを提供
することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】式（１）を部分構造とし
て有する繰り返し単位、式（２）で示される繰り返し単
位、式（３）で示される繰り返し単位、および、式
（４）で示される繰り返し単位からなる樹脂を用いてな
る位相差フィルムであって、式（２）の繰り返し単位と
式（４）の繰り返し単位のモル分率が式（５）を満足
し、かつ式（１）を部分構造として有する繰り返し単位
のモル分率を（ｃ）、式（３）で示される繰り返し単位
のモル分率を（ｄ）とした時、式（６）を満足し、かつ
該フィルムのガラス転移温度が１００℃以上かつ１９０
℃未満であることを特徴とする位相差フィルム。

【０００９】

【発明の実施の形態】一般に位相差フィルムとは高分子
フィルムを１軸以上に延伸したフィルムであり、ある任
意の配向方向とその直交方向に屈折率差を生じさせたフ
ィルムである。位相差とは、膜厚ｄとフィルムの配向方
向とその直交方向との屈折率差（Δｎ：複屈折率）との
積であるΔｎ・ｄとして定義される。本発明において配
向とは、高分子分子鎖が特定の方向に並ぶ傾向を言い、
通常光の波長５５０ｎｍで位相差が１５ｎｍ以上である
ことを言う。高分子配向フィルムの面内における配向方
向の屈折率がその直交方向の屈折率より大きい場合を光
学的異方性が正といい、反対に配向方向の屈折率がその
直交方向の屈折率より小さい場合はを光学的異方性が負
という。位相差は絶対値であらわすこともあるが、光学
異方性が負の場合には位相差は負の値を有している。本
発明では特にことわりのない限りは絶対値で説明する。

【００１０】従来１枚のフィルムで理想の波長分散を発
現させる試みとして特開２００２−４８９１９号公報
に、波長依存性の大きいフルオレン骨格を含有する単層
の高分子配向フィルムが提案されている。式（１１）、
（１２）に記載する特性を満足する、すなわち光の波長
が長いほど位相差が大きくなる特性を得られることが提
案されている。このような特性は逆分散特性と呼ばれて
いる。なお、式（１１）、（１２）を満たす位相差特性
を得るためには、波長依存性の大きいフルオレン骨格を
有する成分を最低でも４０モル％以上含有させなければ
ならず、このようなフィルムは非常に脆いために加工上
の制約も多い。また、各光の波長の位相差が理想値から
大きくずれる等の波長依存性に問題があった。

【００１１】 Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１ （１１） Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＞１ （１２） [以下、式中それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎ
ｍ、６５０ｎｍにおける面内位相差をそれぞれＲ(４５
０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(６５０ｎｍ)と呼ぶ。]さ
らに、４０モル％以上のフルオレン骨格を含有した位相
差フィルムはガラス転移温度（以下Ｔｇと呼ぶ）が高く
なる傾向にあり、このような位相差フィルムのＴｇは２
００℃以上を示す。そのため、係るフィルムの延伸時に
は２００℃付近ないしそれ以上の温度に加熱する必要が
あり、熱劣化等による物性低下や樹脂が着色するなどの
問題が生じる。ただし、ディスプレイ用の位相差フィル
ムにおいては、耐熱性が必要であり最低でＴｇ１００℃
以上、より好ましくは１２０℃以上の耐熱性が必要であ
ることを考慮すると、一般的な位相差フィルムのＴｇは
１００℃〜２００℃の範囲であることが好ましい。

【００１２】そこで本発明者らは、これらの問題を解決
すべく鋭意検討した結果、５価のリン原子を有する構
造、中でもホスホン酸構造をポリマーの主鎖に導入した
無色透明熱可塑性樹脂を用いた位相差フィルムを作製す
ることによって、樹脂のフルオレン骨格を部分構造に有
するモノマーの含有量が４０モル％未満でも逆分散特性
を得られることを見いだし、すなわち式（１１）及び式
（１２）を満足し、かつＴｇが１００℃以上かつ１９０
℃未満であることを特徴とする位相差フィルムを見いだ
し本発明に至った。

【００１３】本発明は、単層のフィルムであり、４５０
ｎｍおよび５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの光線における
位相差（レタデーション値）が式（７）及び式（８）を
満たし、かつ該フィルムのＴｇが１００℃以上かつ１９
０℃未満であることを特徴とする位相差フィルムを提供
する。

【００１４】 ０．７０＜Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９０ （７） １．０５＜Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．２５ （８） 位相差フィルムの理想的な位相差特性とは、式（１３）
及び（１４）を満足するものであるが、現在までこのよ
うな特性を持つ樹脂は見いだされていない。

【００１５】 Ｒ(４５０ｎｍ）／Ｒ(５５０ｎｍ）＝０．８２ （１３） Ｒ(６５０ｎｍ）／Ｒ(５５０ｎｍ）＝１．１８ （１４） 本発明の位相差フィルムは正の複屈折率異方性を持つも
のと、負の複屈折率依存性のものを含有させることによ
って、低Ｔｇ、かつ単層の高分子配向フィルムで逆分散
特性である式（１１）、（１２）を満足する、優れた位
相差特性を有し、すなわちその波長依存性が好ましくは
式（１５）および式（１６）を満足し、より好ましくは
式（７）および式（８）を満足し、最も好ましくは式
（１７）かつ式（１８）を満足する。なお、正の複屈折
率異方性をもつものは、延伸方向と屈折率楕円体の長軸
方向が同一方向であるのに対し、負の複屈折率異方性を
もつものは、延伸方向と屈折率楕円体の長軸方向が直交
方向になる。

【００１６】 ０．７０＜Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９４ （１５） １．０３＜Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．２８ （１６） ０．７０＜Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９０ （７） １．０５＜Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．２５ （８） ０．７２＜Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．８７ （１７） １．１０１＜Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．２５ （１８） 負の屈折率異方性を有する負モノマ−には、前記式
（１）に記載のフルオレン骨格を部分構造に有する構造
が用いられ、さらには物質の安定性、製膜性が良好であ
るフルオレンビスフェノール（ＦＢＰ、式（９）記載）
やビスクレゾールフルオレン（ＢＣＦ、式（１０）記
載）の共重合体またはブレンド高分子が最も好ましく用
いられる。またフルオレン骨格成分の配合比は、５価の
リン原子を有する構造、中でもホスホン酸構造をポリマ
ーの主鎖に導入した位相差フィルムでは、樹脂のフルオ
レン骨格含有量が４０モル％未満でも逆分散特性が得ら
れる。すなわち式（１１）及び式（１２）を満足し、か
つＴｇが１００℃以上かつ１９０℃未満であることを見
いだされた。よって、式（９）記載のＦＢＰ、または式
（１０）記載のＢＣＦ等のフルオレン骨格成分を部分構
造に有するモノマーの含有率を低減させることができ
る。これらの配合比は５〜４０モル％で用いることがで
き、より好ましくは５〜３８モル％、さらには１５〜３
６モル％が最も好ましく用いられる。このようにして、
ハンドリング性が良好、かつ低Ｔｇで、波長依存性が従
来品よりも理想特性に近い位相差フィルムを得ることが
できる。

【００１７】本発明における、式（１１）かつ式（１
２）、式（７）かつ式（８）、式（１７）かつ式（１
８）のようなの特性を持つ、本発明の共重合体からなる
フィルムのフルオレン骨格成分量は、ビスフェノール成
分中の５〜４０モル％が用いることができ、最も好まし
くは１５〜３６モル％で用いることができると前記し
た。また、良好な位相差特性を得るための、ビスフェノ
ール成分中フルオレン骨格成分含有量（式８）は、式
（５）で表すホスホン酸残基（式（２）記載）とカーボ
ネート残基（式（４）記載）のモル分率によって異な
る。以下に限定されるものではないが例を挙げると、ホ
スホン酸残基７５モル％、カーボネート残基２５モル％
の場合、フルオレン骨格成分含有量はビスフェノール成
分中３０〜８０モル％が好ましく用いられ、式（７）及
び式（８）を満たし、かつ良好なハンドリング性、低Ｔ
ｇ、逆分散特性が得られる。

【００１８】また式（５）で示されるホスホン酸残基の
モル分率が７５モル％以上になると、ビスフェノール成
分中のフルオレン骨格成分を少なく／多くすることで式
（７）及び式（８）を満たし、かつ大きな波長分散特性
が得られる。また反対に、式（５）で示されるホスホン
酸残基のモル分率が７５モル％未満の場合はフルオレン
骨格成分を多く／少なく含有させることで、式（７）及
び式（８）を満足し、かつ大きな波長分散特性が得られ
る。ホスホン酸残基のモル分率については、 １≧〔（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝〕≧０．０５ （５） の範囲にあることが好ましい。［式（５）中、（ａ）は
式（２）の繰り返し単位のモル数、（ｂ）は式（４）の
繰り返し単位のモル数。］ 本発明の位相差フィルムは、波長依存性の大きいフルオ
レン骨格成分を有していることから発現しており、フル
オレン骨格成分含有量基が５モル％未満の時は、逆分散
特性が発現しない。また、フルオレン骨格成分含有量が
８０モル％以上の時も、フィルム面内複屈折率異方性が
負になるだけで、逆分散特性は発現しない。本発明によ
れば、逆分散特性を有する高分子配向フィルムからなる
位相差フィルムは、構成される部分構造が（Ａ）または
（Ｂ）の条件を満たす高分子配向フィルムによって得ら
れるものである。 （Ａ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位
（以下、正モノマー単位という。）と負の屈折率異方性
を有する高分子のモノマー単位（負モノマー単位とい
う。）とを含む高分子から構成されるフィルムであっ
て、（２）正のモノマー単位に基づく高分子のＲ（４５
０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）は、負モノマー単位に基づ
く高分子のＲ（４５０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも
小さく、かつ （３）正の屈折率異方性を有する、高分
子配向フィルム。 （Ｂ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子を形成する正モ
ノマー単位と負の屈折率異方性を有する高分子を形成す
る負モノマー単位とを含む高分子から構成されるフィル
ムであって、（２）正モノマー単位に基づく高分子のＲ
（４５０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）は、負モノマー単位
に基づく高分子のＲ（４５０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）
よりも大きく、かつ （３）負の屈折率異方性を有す
る、高分子配向フィルム。

【００１９】上記（Ａ）（Ｂ）の条件を満たす態様の例
として、下記条件（Ｃ）（Ｄ）を満たすものがある。 （Ｃ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子と負の屈折率異
方性を有する高分子とからなるブレンド高分子及び／又
は正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負
の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位とからな
る共重合体から構成されるフィルムであって、（２）該
正の屈折率異方性を有する高分子のＲ（４５０ｎｍ）／
Ｒ（５５０ｎｍ）は該負の屈折率異方性を有する高分子
のＲ（４５０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも小さく、
かつ（３）正の屈折率異方性を有する、高分子配向フィ
ルム。 （Ｄ） （１）正の屈折率異方性を有する高分子と負の屈折率異
方性を有する高分子とからなるブレンド高分子及び／又
は正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負
の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位とからな
る共重合体から構成されるフィルムであって、（２）該
正の屈折率異方性を有する高分子のＲ（４５０ｎｍ）／
Ｒ（５５０ｎｍ）は該負の屈折率異方性を有する高分子
のＲ（４５０ｎｍ）／Ｒ（５５０ｎｍ）よりも大きく、
かつ（３）負の屈折率異方性を有する、高分子配向フィ
ルム。

【００２０】ここで、正又は負の屈折率異方性を有する
高分子とは、正又は負の屈折率異方性を有する高分子配
向フィルムを与える高分子をいう。

【００２１】本発明のフィルムは、前記式（１）を部分
構造に有する繰り返し単位と（２）〜（４）の繰り返し
単位からなる、位相差フィルムを構成する部分構造が、
（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかの条件を満たす高分子配向フ
ィルムによって得られるものである。また、限定される
ものではないが、負モノマー系である式（１）を部分構
造にもつ繰り返し単位と正モノマー系である式（３）の
配合比によって、フィルムの屈折率異方性を正または負
とすることができ、かつ位相差特性も、式（１１）かつ
式（１２）、更に好ましくは式（７）かつ式（８）を満
足し、最も好ましくは式（１７）かつ（１８）を満足す
ることができる。

【００２２】式（１）を部分構造として有する繰り返し
単位、式（２）で示される繰り返し単位、式（３）で示
される繰り返し単位、および、式（４）で示される繰り
返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フィルムであ
って、式（２）の繰り返し単位と式（４）の繰り返し単
位のモル分率が式（５）を満足したポリホスホネートを
含むものからなる樹脂（Ｅ）と異種樹脂（Ｆ）からなる
ブレンド高分子でも、本発明を適用することができる。

【００２３】すなわち、ブレンド高分子は上記条件の
（Ｃ）または（Ｄ）のいずれかの条件を満足すれば、樹
脂（Ｅ）には何種類の樹脂（Ｆ）をブレンドすることが
できるが、式（１）を部分構造として有する繰り返し単
位の重量％がブレンド高分子中で１〜２５重量％で用い
られ、好ましくは１〜２２重量％未満であることが好ま
しく、最も好ましくは１〜２０重量％である。また位相
差特性も、式（１１）かつ式（１２）、更に好ましくは
式（７）かつ式（８）を満足し、最も好ましくは式（１
７）かつ（１８）を満足することができる。

【００２４】本発明におけるフィルムのブレンド高分子
とは既知の樹脂を用いることが可能で、樹脂（Ｆ）が、
正の複屈折率の場合、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、アモルファスポリオレフィン、ポリメチル
メタクリレート等が用いられ、また負の複屈折率の場合
はポリスチレンや、フルオレン構造を有する樹脂、例え
ば、フルオレン構造を有したポリカーボネートやフルオ
レン構造を有したポリアリレート等が好ましく用いるこ
とができる。

【００２５】この中でもさらに好ましくは、本発明の樹
脂との相溶性が良い、ポリカーボネート、ポリアリレー
トや式（１）のフルオレン構造を有するポリカーボネー
ト等のブレンドが最も好ましい。 また、これらの樹脂
のブレンド比によっても波長依存性特性をコントロール
することができる。

【００２６】また高分子ブレンドにするには、樹脂
（Ｅ）と樹脂（Ｆ）等の相溶性が重要であり、相溶性が
良好な場合は問題ないが、あまり良好でない場合、ブレ
ンド高分子のフィルムは無色、かつ高透過率なフィルム
にならない場合がある。このように相溶性が良好でない
場合は、モノマー段階で共重合体した方が無色、高透過
率のフィルムが得られる。

【００２７】またブレンド方法も特に限定されないが、
有機溶剤中に何種類の樹脂を溶解させて、樹脂を得る溶
液ブレンド法や何種類の樹脂を溶融させてブレンドする
溶融ブレンド法が好ましく用いられる。

【００２８】なお、一般に式（１１）かつ（１２）を満
足するような逆分散型位相差フィルムのＴｇは高くなる
傾向にあり、分子構造によっては２００〜２４０℃を示
す。そのため、係るフィルムの延伸時には２００〜２５
０℃付近ないし、それ以上の温度に加熱する必要があ
り、熱劣化等による物性低下や樹脂が着色するなどの問
題が生じる。ただし、ディスプレイ用の位相差フィルム
においては、ある程度耐熱性が必要でありＴｇ１００℃
以上、より好ましくは１２０℃以上必要であることを考
慮すると、Ｔｇは１２０℃〜１９５℃の範囲であること
が好ましく。さらに好ましくは１４０〜１９０℃であ
り、最も好ましくは１５０〜１８５℃である。

【００２９】本発明の位相差フィルムは従来以上に理想
特性に近づいた良好な位相差特性を有する１／４波長板
や、１／２波長板を得ることができる。

【００３０】更に本発明の位相差フィルムには、添加剤
を加えることも可能で、フェニルサリチル酸、２−ヒド
ロキシベンゾフェノン、トリフェニルホスホネートなど
の紫外線吸収剤や、ブルーイング剤、酸化防止剤等を添
加しても良い。

【００３１】位相差フィルムの膜厚は特に限定されるも
のではないが１μｍ〜５００μｍであることが好まし
い。なお本発明は位相差フィルムと表現しているが、シ
ート等も含む意味で用いている。

【００３２】本発明の位相差フィルムは透明であること
が好ましく、ヘーズ値３％以下、全光線透過率は８０％
以上であることが好ましい。また本発明の位相差フィル
ムは無色であることが好ましく、黄色度（ΔＹＩ）で
２．０以下であることが好ましく、さらには０．５以下
であることが最も好ましい。なお本発明で述べている全
光線透過率、ヘーズ値（曇価）とは、日本工業規格ＪＩ
Ｓ Ｋ７１０５に準じたものである。

【００３３】式（２）で表される化合物のリン原子上の
置換基Ｒの具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニ
ル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イ
ソプロピル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ベンジ
ル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換ア
ルキル、アルキルサルファイド基等が挙げられる。また
これら式（２）で表されるホスホン酸残基を構成するホ
スホン酸を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エ
チルホスホン酸、ｎ−プロピルホスホン酸、イソプロピ
ルホスホン酸、ｎ−ブチルホスホン酸、イソブチルホス
ホン酸、ｔ―ブチルホスホン酸、ｎ−ペンチルホスホン
酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン
酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジ
クロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジ
ブロモメチルホスホン酸、２−クロロエチルホスホン
酸、１、２−ジクロロエチルホスホン酸、２―ブロモエ
チルホスホン酸、１、２−ジブロモエチルホスホン酸、
３−クロロプロピルホスホン酸、２、３−ジクロロプロ
ピルホスホン酸３−ブロモプロピルホスホン酸、２、３
−ジブロモプロピルホスホン酸、２−クロロー１−メチ
ルエチルホスホン酸、１、２−ジクロロー１−メチルエ
チルホスホン酸、２−ブロモー１−メチルエチルホスホ
ン酸、１、２−ジブロモー１−メチルエチルホスホン
酸、４−クロロブチルホスホン酸、３、４−ジクロロブ
チルホスホン酸、４−ブロモブチルホスホン酸、３、４
−ジブロモブチルホスホン酸、３−クロロー１―メチル
プロピルホスホン酸、２、３−ジクロロ−１−メチルプ
ロピルホスホン酸、３−ブロモ−１メチルプロピルホス
ホン酸、２、３−ジブロモ−１−メチルホスホン酸、１
−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−クロロー１−
クロロメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモメチルプ
ロピルホスホン酸、１−ブロモ−１−ブロモメチルプロ
ピルホスホン酸、５−クロロペンチルホスホン酸、４、
５−ジクロロペンチルホスホン酸、５−ブロモペンチル
ホスホン酸、４、５−ジブロモペンチルホスホン酸、１
−ヒドロキシメチルホスホン酸、２−ヒドロキシエチル
ホスホン酸、３−ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−
ヒドロキシブチルホスホン酸、５−ヒドロキシペンチル
ホスホン酸、１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノ
エチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホン酸、４
−アミノブチルホスホン酸、５−アミノペンチルホスホ
ン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチオエチル
ホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチ
オブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エ
チルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホ
ン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエ
チルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニ
ルホスホン酸、４−クロロフェニルホスホン酸、３、４
−ジクロロフェニルホスホン酸、３、５−ジクロロフェ
ニルホスホン酸、４−ブロモフェニルホスホン酸、３、
４−ブロモフェニルホスホン酸、３、５−ブロモフェニ
ルホスホン酸、４−メトキシフェニルホスホン酸、３、
４−ジメトキシフェニルホスホン酸、１―ナフチルホス
ホン酸、２―ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン
酸、４−ブロモフェニルメチルホスホン酸、３、４−ジ
ブロモフェニルメチルホスホン酸、３、５−ジブロモフ
ェニルメチルホスホン酸、２−フェニルエチルホスホン
酸、２−(４−ブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−
(３、４−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、２−
(３、５−ジブロモフェニル)エチルホスホン酸、３−フ
ェニルプロピルホスホン酸、３−(４−ブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、３−(３、４−ジブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、３−(３、５−ジブロモフェニル)
プロピルホスホン酸、４−フェニルブチルホスホン酸、
４−(４−ブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−
(３、４−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、４−
(３、５−ジブロモフェニル)ブチルホスホン酸、２―ピ
リジルホスホン酸、３−ピリジルホスホン酸、４−ピリ
ジルホスホン酸、１−ピロリジノメチルホスホン酸、１
―ピロリジノエチルホスホン酸、１−ピロリジノプロピ
ルホスホン酸、１−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロ
ール−１−ホスホン酸、ピロール−２―ホスホン酸、ピ
ロール−３−ホスホン酸、チオフェン−２―ホスホン
酸、チオフェン−３―ホスホン酸、ジチアン−２―ホス
ホン酸、トリチアン−２―ホスホン酸、フラン−２―ホ
スホン酸、フラン−３―ホスホン酸、ビニルホスホン
酸、アリルホスホン酸などが挙げられ、またこれらのリ
ン原子に２重結合で結合している酸素原子が硫黄原子に
置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられる。これら
は１種類でも、複数種併用することもできる。

【００３４】また、これらホスホン酸はその酸塩化物、
エステル、アミドなどのホスホン酸誘導体であってもよ
い。

【００３５】またこれらホスホン酸残基については、そ
れぞれ対応する３価のリン官能基であるホスホナイト残
基に一部置き換えてもよい。これにより樹脂の耐酸化性
を付与することができるが、光学特性等の特性安定性を
考慮すると、その置換比率は５０モル％以下が好まし
く、より好ましくは２５モル％以下、さらに好ましくは
１０モル％以下である。なお、この場合、式（５）にお
ける（ａ）としては、ホスホナイト残基とホスホン酸残
基のモル分率の和として式（５）を満足することが好ま
しい。

【００３６】また、式（３）で表される２価フェノール
残基を構成する２価フェノールを具体的に例示すると、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−
ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）メタン、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘプタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロオクタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−２−エチルヘキサン、２，２−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、４，４'−ビフェノール、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプ
ロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、ビスフェノールフロー
レン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、
４，４'−〔１，４−フェニレン−ビス（２−プロピリ
デン）〕−ビス（２−メチルフェノール）、１，１−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル、
１，１−ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，
４'−メチレンビスフェノール、１，１−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−ブ
タン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、３，３−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
３，３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ペンタン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３，
５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１−ビス（３−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）デカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）デカン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、
テルペンジフェノール、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、２，２
−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（３，５−ジｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−
ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エ
タン、１，１−ビス（３−ノニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビ
ス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−６
−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸ブチルエステル、
１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−フル
オロフェニル）メタン、２，２−ビス（４ーヒドロキシ
フェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，
１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、３，３'−ジメチル−４，４'−ビフェノール、３，
３'，５，５'−テトラメチル−４，４'−ビフェノー
ル、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル−４，
４'−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ケトン、３，３'−ジフルオロ−４，４'−ビフェノー
ル、３，３'，５，５'−テトラフルオロ−４，４'−ビ
フェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチル
シラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、
ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオ
エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）チオエーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、１，１−ビ
ス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカ
ン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス
（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−２
−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−
３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸メチルエ
ステル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサ
チンビスクレゾール、２，２'，３，３'，５，５'−ヘ
キサメチル−４，４'−ビフェノール、ビス（２−ヒド
ロキシフェニル）メタン、２，４'−メチレンビスフェ
ノール、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、ビス（２−ヒドロキシ−３
−アリルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−メチルプロパ
ン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−５−フ
ェニルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘ
キシルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペン
タデカン、１，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタン、
２，２−ビス（３−スチリル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−（ｐ−ニトロフェニル）エタン、ビス（３，
５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビ
ス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−
１−フェニルメタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−
ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（３−フ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、
２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、３，３'，５，５'−テトラｔｅｒｔ−ブチル
−２，２'−ビフェノール、２，２'−ジアリル−４，
４'−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，
５，５−テトラメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチル
−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３−ジメチル−５−エチル−シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，
３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，
３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス
（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，
５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−ト
リメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジ
クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメ
チル−シクロヘキサン、α、α−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、ビスク
レゾールフルオレン等が挙げられ、これらは１種類で
も、複数種併用することもできる。これら２価フェノー
ルはフルオレン骨格を有する成分のモノマーと組合せて
用いることもできる。また、負モノマーに用いるフルオ
レン骨格を有する分子構造は特に限定されるものではな
いが、前述した様に、樹脂の靭性、製膜性、延伸性等を
考慮すると、請求項４記載のフルオレンビスフェノール
（ＦＢＰ、式（９）に対応）やビスクレゾールフルオレ
ン（ＢＣＦ、式（１０）に対応）を含む共重合体または
高分子ブレンドが最も好ましく用いられる。

【００３７】

【化１１】

【００３８】

【化１２】

【００３９】また、式（４）の繰り返し単位であるカー
ボネート残基とは、炭酸エステル、炭酸ハライドなどを
原料として得られる構造単位であり、例えばジフェニル
カーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロ
フェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、
ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネ
ート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、
ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネー
ト、ジシクロヘキシルカーボネートなどの炭酸エステ
ル、ホスゲン、トリホスゲンなどの炭酸ハライドが挙げ
られる。

【００４０】また、ジヒドロキシベンゼンを本発明の効
果が損なわれない範囲で用いることができ、これらジヒ
ドロキシベンゼンとしては、レゾルシノール、ハイドロ
キノン、１，２−ジヒドロキシベンゼン等が挙げられ、
これらは１種類でも、複数種併用することもできる。

【００４１】また、本発明のフィルムの樹脂組成物は必
ずしも直鎖状である必要はなく、得られるポリマーの性
能に応じて多価フェノールを共重合することができる。
このような多価フェノールを具体的に例示すると、トリ
ス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４'−〔１
−〔４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、
２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−
メトキシフェノール、トリス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、４−〔ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノー
ル、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、１，１，
１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，
１，１−トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，６−
ビス〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチ
ル〕−４−メチルフェノール、４−〔ビス（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−
ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−
フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−１，２−ジ
ヒドロキシベンゼン、４−メチルフェニル−１，２，３
−トリヒドロキシベンゼン、４−〔（４−ヒドロキシフ
ェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼ
ン、４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ル−エチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、４−
〔（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，４−
ビス〔１−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）−１
−メチル−エチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−１−メチル
−エチル〕ベンゼン、２，４−ビス〔（４−ヒドロキシ
フェニル）メチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、
２−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メ
チル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェイル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２
−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノー
ル、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−
〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−エト
キシフェノール、２−〔ビス（２，３−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル〕フェノール、３−〔ビス（３，５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス
（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチ
ル〕フェノール、４−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６
−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル〕−２−メトキシフェノール、３，６−〔ビス（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−
１，２−ジヒドロキシベンゼン、４，６−〔ビス（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−
１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、２−〔ビス
（２，３，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）
メチル〕フェノール、２−〔ビス（２，３，５−トリメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、
３−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，
５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フ
ェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−
ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシ
ベンゼン、３−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４
−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘ
キシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニ
ル）メチル〕−２−メトキシフェノール、２，４，６−
〔トリス（４−ヒドロキシフェニルメチル）−１，３−
ジヒドロキシベンゼン、１，１，２，２−テトラ（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，
２，２−テトラ（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、１，４−〔〔ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メチル〕〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、
１，４−ジ〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）メチル〕ベンゼン、４−〔１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）エチル〕アニリン、（２，４−
ジヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ケ
トン、２−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕
フェノール、１，３，３−トリ（４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種
併用することもできる。

【００４２】本発明のフィルムの樹脂組成物の製造方法
としては、酸ハライドと２価のフェノールを有機溶剤中
で反応させる溶液重合法（Ａ．Ｃｏｎｉｘ Ｉｎｄ．Ｅ
ｎｇ．ｃｈｅｍ．，５１，１４７，１９５９年、特公昭
３７−５５９９号公報）、酸ハライドと２価のフェノー
ルを塩化マグネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重
合法、２価の酸と２価のフェノールをジアリルカーボネ
ートの存在下で加熱する溶融重合法（特公昭３８−２６
２９９号公報）、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめ
た２価の酸ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた２
価のフェノールとを混合する界面重合法（Ｗ．Ｍ．ＥＡ
ＲＥＣＫＳＯＮ Ｊ．Ｐｏｌｙ．Ｓｃｉ．，ＸＬ３９
９，１９５９年、特公昭４０−１９５９号公報）等が挙
げられるが、特に溶液重合法が好適に採用される。溶液
重合法について一例を説明すると、ホスホン酸残基の前
駆体分子であるホスホン酸誘導体と、２価フェノールを
トリエチルアミンなどの塩基存在下混合して反応させ、
続いてカーボネート残基の前駆体分子、たとえばトリホ
スゲンなどを添加して縮合重合することによって本発明
の樹脂を得ることができる。ホスホン酸誘導体あるいは
カーボネート誘導体としてはそれらのハロゲン化物、酸
無水物、エステル等が用いられるが特に限定されない。

【００４３】本発明のフィルムの樹脂組成物の分子量を
調節する方法としては、重合時に一官能の物質を添加し
て行うことができる。ここで言う分子量調節剤として用
いられる一官能物質としては、フェノール、クレゾー
ル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等の一価フェノー
ル類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライ
ド、フェニルクロロホルメート等の一価酸クロライド類
が挙げられる。

【００４４】本発明のフィルムの樹脂組成物には、その
特性を損なわない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒ
ンダードアミン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化
剤を添加することができる。

【００４５】また、本発明のフィルムの樹脂組成物は、
有機溶媒に対して高い溶解性を有しており、このような
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，
２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタ
ン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエ
ン、キシレン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコー
ル、イソホロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。さら
に、本発明のフィルムの樹脂組成物は非晶性であり、非
晶性であるかどうかは、公知の方法例えば示差走差熱量
分析（ＤＳＣ）や動的粘弾性測定等により融点が存在し
ているかどうかを確認すればよい。

【００４６】本発明の位相差フィルムの樹脂溶液の作製
においては溶剤を撹拌しながら樹脂のペレットまたは粉
末を投入して完全に溶解させる。

【００４７】流延製膜に使用される樹脂溶液中の樹脂の
濃度は流延時の作業性と樹脂の数平均分子量によって樹
脂濃度を適宜選択できる。好ましい樹脂溶液の樹脂濃度
は５〜２８重量％である。より好ましい樹脂溶液の樹脂
濃度は、乾燥後のシート状物表面の品位や特性から１０
〜２６重量％である。

【００４８】溶液中に異物等が混入されている場合、フ
ィルムの品位を低下させるため、該異物を除去するため
に溶解後は溶液をろ過することが好ましい。ろ過に使用
するフィルターエレメントの材質はろ紙、ガラス、セラ
ッミックス、フッ素系樹脂、セルロース、羊毛フェル
ト、ポリエステル繊維、焼結金属等が挙げられる。フィ
ルターエレメントは目開きが０．６μｍ〜５００μｍの
範囲で目開きの異なるものを複数組み合わせて用いるこ
とが好適である。

【００４９】より品位の良好なシート状物を得るために
ろ過後の樹脂溶液は脱泡をおこなうことが好ましい。脱
泡方法は減圧または遠心脱泡が挙げられるが、溶剤の揮
発を防ぐために樹脂溶液温度を１５℃以下に保ち可能な
限り短時間でおこなうことが好ましい。

【００５０】流延する基材の材質はガラス板または有機
シランカップリング剤で表面処理されたガラス板、平滑
な金属板、硬質ゴム板、フッ素系樹脂板等を用いること
が出来、ドラム状、板状、エンドレスベルトなど種々の
形態が採用しうる。乾燥後のシート状物の均質性の観点
から、鏡面研磨加工された金属製のエンドレスベルトを
用ることが好ましい。

【００５１】本発明の位相差フィルムにおける樹脂溶液
の膜厚制御にはフィルムアプリケーター、ドクターブレ
ードでの掃け引き、ロールコーターによる塗り付け、押
し出しダイによる溶液の押し出し、スプレーによる吹き
付け、ノズルから溶液を流す方法が挙げられる。フィル
ムの厚みおよび幅の均一性、物理的および光学的欠点の
発生が少ないこと等から押出ダイによる溶液の押出が好
ましい。

【００５２】流延後の樹脂溶液の乾燥は自然乾燥、強制
乾燥のいずれでも可能であるが、強制乾燥の方が好まし
い。強制乾燥法としては常圧乾燥法と減圧乾燥法がある
が、樹脂溶液に使用される溶剤の沸点で適宜使い分ける
ことができる。どちらの方法にせよ、乾燥速度が重要で
あり、急激な乾燥は溶剤の揮発にともなう膜表面の結露
による膜の白化、膜面の凹凸（ユズ肌）、膜面の発泡等
の欠点を生じる原因となる。また、加熱延伸中の膜面の
発泡、白化、配向不良は膜中の残存溶剤による影響であ
り、乾燥不足に起因している。乾燥時は膜の表面乾燥速
度と膜内部の乾燥速度がほぼ等しくなるようにすること
が望ましい。

【００５３】本発明は上記基材上にて乾燥後、乾燥され
たシート状物を剥離する。この剥離されたシート状物中
に含まれる溶剤の含有量は該シート状物重量の１〜１５
重量％とすることが好ましい。より好ましいのは該シー
ト状物重量の１〜８重量％である。溶剤の含有量が１重
量％未満だとフィルムの剛性が高いためにフィルムの乾
燥収縮によるカール、基材からの自然剥離、剥離時の破
損、延伸時の破損等取扱い性不良の原因となる。また、
溶剤の含有量が１５重量％を超えるとフィルムの柔軟性
による表面の傷つき、剥離不良、加熱延伸中の膜面の発
泡、白化、配向不良の原因となる。

【００５４】このように剥離されたシート状物は、更に
乾燥・延伸を行う。このシート状物は通常非晶性である
ため、配向させるために等方的でない延伸をおこなう。
通常は１軸延伸である。１軸延伸は横方向の１軸延伸ま
たは縦方向の１軸延伸のいずれでも可能であるが、製膜
性に優れることから縦１軸延伸が好ましい。

【００５５】この乾燥・延伸工程おいて、延伸温度は樹
脂のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、Ｔｇ〜
（Ｔｇ±５０℃）の範囲で延伸することが好ましく、よ
り好ましくは、Ｔｇ〜（Ｔｇ±３０℃）の範囲で延伸す
ることがより好ましく、Ｔｇ〜（Ｔｇ±１５℃）の範囲
で延伸することが最も好ましい。また（Ｔｇ−５０℃）
以下ではフィルムが剛直となるため、引っ張り応力に抗
しきれず、延伸中にフィルムが破断したり、微細なクラ
ックによりフィルム表面が白化したりする場合がある。

【００５６】本発明におけるフィルムの延伸倍率は、配
向性の良好なフィルムを得るため、樹脂組成物の構造に
応じて元のフィルム長さの１．０１〜３．０倍の範囲で
延伸倍率を変えることができる。しかし、延伸倍率が高
いほど配向性は良くなるが、フィルムの破断、ネックダ
ウンの増大等加工性の問題が生じる。より好ましくは延
伸倍率は元の長さの１．０１〜２．５０倍の範囲で延伸
することにより表面品位、配向性の良好な位相差フィル
ムが得られる。

【００５７】本発明の位相差フィルムは、位相差フィル
ムの位相差を延伸温度、延伸倍率等の調整によって、波
長依存性が理想に近い良好な１／４波長板や１／２波長
板を構成する事もできる。なお、１／４波長板の場合は
８０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１８０ｎｍであることが好
ましく、より好ましくは１００ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦
１６０ｎｍである。また１／２波長板の場合は２２０ｎ
ｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦３２０ｎｍであることが好まし
く、より好ましくは２５０ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦３０
０ｎｍである。また、本発明の位相差板、円偏光板は反
射型液晶表示装置や有機電界発光表示装置などに用いる
ことが可能である。

【００５８】また本発明の位相差フィルムを以下の構成
にすることで円偏光板、楕円偏光板を得ることができ
る。波長５５０ｎｍで１００ｎｍ≦Ｒ(５５０ｎｍ)≦１
６０ｎｍの位相差を持つ本発明の位相差フィルムを粘着
層、接着層を介して、位相差フィルムの面内屈折率楕円
体の長軸方向と偏光フィルムを偏光軸４５°の積層角度
にて貼り合わせて円偏光板とすることができる。得られ
た円偏光板は偏光板側から光を入射させると広帯域波長
で円偏光化することができる。また、位相差フィルムの
位相差を１／３波長や１／５波長にしたり、積層角度を
任意の角度にすることで楕円偏光板を得ることもでき
る。なお、円偏光板、楕円偏光板の構成はこれに限定さ
れるものではない。

【００５９】

【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。

【００６０】実施例１ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５３.６ｍｍｏｌ)、９,９−ビ
ス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２６.４ｍｍ
ｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶
液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間
攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるト
リホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５
分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。

【００６１】その後、反応溶液を０．５μmの濾過で異
物を除去し、０.１N塩酸水溶液８０ｍｌと純水３００ｍ
ｌの混合液で数回洗浄し分離した。その後分離した有機
層をエタノール２０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマ
ーを濾取した後、(１)エタノール１０００ｍｌ(２)水／
エタノール＝１／１混合溶液１０００ｍｌ(３)水１００
０ｍｌの順で生成したポリマーを洗浄、乾燥して目的の
樹脂粉末を収率９０%で得た。得られた樹脂粉末をＤＳ
Ｃ（セイコー電子工業（株）製：ＳＳＣ５２００）にて
ガラス転移温度を測定した。また、得られた樹脂粉末は
下記に示す方法で高分子配向フィルム化し位相差特性評
価した。すなわち溶液キャスト製膜の場合は、塩化メチ
レンに溶解させ、ポリマー固形分濃度１５重量％のドー
プ溶液を作製した。このドープ溶液をガラス板上に製
膜、乾燥させることによってキャストフィルムを得た。
得られたキャストフィルムを温度１９０℃で１.７倍で
幅方向自由の１軸延伸し、位相差フィルムを得た。

【００６２】延伸時のフィルム幅と延伸方向の延伸前の
長さの比は１：１とした。得られたフィルムの位相差測
定はセルギャップ検査装置(大塚電子（株）製：ＲＥＴ
Ｓ−１１００）を用いて、各光の波長の位相差を測定し
た。屈折率異方性の確認は、直交に積層された２枚の偏
光板の間に得られたフィルムの延伸軸を４５°方向に積
層させ、その上にあらかじめ屈折率異方性が正だとわか
っている位相差８０ｎｍのポリカーボネート製の位相差
フィルムを４５°にて積層させて光を透過させる。その
光が明るくなったら得られたフィルムは屈折率異方性は
正であり、暗ければその得られたフィルムは屈折率異方
性は負である。反対に、ポリカーボネートに代わってあ
らかじめ屈折率異方性が負だとわかっているポリスチレ
ン製の位相差フィルムを４５°方向に積層させて光を透
過させた場合は、その光が明るくなったら得られたフィ
ルムは屈折率異方性は負であり暗くなれば、その得られ
たフィルムは屈折率異方性は正である。

【００６３】実施例２ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５３.４ｍｍｏｌ)、９,９−ビ
ス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２６.６ｍｍ
ｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶
液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間
攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるト
リホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５
分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その
後、実施例１と同様に処理（収率８９%）し、つづいて
実施例１と同様の方法で配向フィルム化して評価した。

【００６４】実施例３ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５３.２ｍｍｏｌ)、９,９−ビ
ス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２６.８ｍｍ
ｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶
液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間
攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるト
リホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５
分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その
後、実施例１と同様に処理（収率８７%）し、つづいて
実施例１と同様の方法で配向フィルム化して評価した。

【００６５】実施例４ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５３ｍｍｏｌ)、９,９−ビス
−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２７ｍｍｏｌ)
およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷
冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロラ
イド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１
５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌し
た。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホス
ゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけ
て滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施
例１と同様に処理（収率９１%）し、つづいて実施例１
と同様の方法で配向フィルム化して評価した。

【００６６】実施例５ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５２.８ｍｍｏｌ)、９,９−ビ
ス−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２７.２ｍｍ
ｏｌ)およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合
し、氷冷下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジ
クロライド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶
液を１５分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間
攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるト
リホスゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５
分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その
後、実施例１と同様に処理（収率８９%）し、つづいて
同様の方法で配向フィルム化して評価した。 実施例６ （樹脂Ａ）窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中に
メチルベンジリデンビスフェノール(８０ｍｍｏｌ)、お
よびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷
下攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライ
ド(６０ｍｍｏｌ)の塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５
分間かけて滴下し、滴下終了後室温で６０分間攪拌し
た。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホス
ゲンの塩化メチレン溶液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけ
て滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。

【００６７】その後、反応溶液を０．５μmの濾過で異
物を除去し、０.１N塩酸水溶液８０ｍｌと純水３００ｍ
ｌの混合液で数回洗浄し分離した。その後分離した有機
層をエタノール２０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマ
ーを濾取した後、(１)エタノール１０００ｍｌ(２)水／
エタノール＝１／１混合溶液１０００ｍｌ(３)水１００
０ｍｌの順で生成したポリマーを洗浄、乾燥して目的の
樹脂粉末を収率９０%で得た。

【００６８】（樹脂Ｂ）窒素雰囲気下、塩化メチレン
(４０ｍｌ)中に９,９−ビス−（４−ヒドロキフェニ
ル）フルオレン(８０ｍｍｏｌ)およびトリエチルアミン
(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌した。この混合
液にフェニルホスホン酸ジクロライド(６０ｍｍｏｌ)の
塩化メチレン(１０ｍｌ)溶液を１５分間かけて滴下し、
滴下終了後室温で６０分間攪拌した。その後、濃度０.
５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホスゲンの塩化メチレン溶
液(１１.４１ｍｌ)を１５分かけて滴下し、滴下終了後
６０分間攪拌した。

【００６９】その後、反応溶液を０．５μmの濾過で異
物を除去し、０.１N塩酸水溶液８０ｍｌと純水３００ｍ
ｌの混合液で数回洗浄し分離した。その後分離した有機
層をエタノール２０００ｍｌに投入して再沈し、ポリマ
ーを濾取した後、(１)エタノール１０００ｍｌ(２)水／
エタノール＝１／１混合溶液１０００ｍｌ(３)水１００
０ｍｌの順で生成したポリマーを洗浄、乾燥して目的の
樹脂粉末を収率８７%で得た。（ブレンド・配向フィル
ム化） 塩化メチレン３００ｍｌに正モノマー、負モノマーが実
施例５と同様の比率になるように樹脂Ａを１２．８２
ｇ、樹脂Ｂを７．６２ｇ投入した後、３時間攪拌し樹脂
溶液を得た。つづいて該溶液をエタノール３０００ｍｌ
に投入して再沈し、ポリマーを濾取後、乾燥して目的の
樹脂粉末を得た。つづいて実施例１と同様の方法で配向
フィルム化して評価した。また得られたフィルムは、非
常に透明であり、２つの樹脂は相溶系であることを確認
した。

【００７０】比較例１ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にビスフェノ
ールA(２５.６ｍｍｏｌ)、９,９−ビス−（４−ヒドロ
キフェニル）フルオレン(５４.４ｍｍｏｌ)およびトリ
エチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷冷下攪拌し
た。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであるトリホス
ゲンの塩化メチレン溶液(４５.６４ｍｌ)を１５分かけ
て滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。その後、実施
例１と同様に処理（収率９０%）し、つづいて実施例１
と同様の方法でキャストフィルム化して、得られたキャ
ストフィルムを温度２２０℃で１.８５倍で幅方向自由
の１軸延伸し、配向フィルム化して評価した。

【００７１】比較例２ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(５２ｍｍｏｌ)、９,９−ビス
−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(２８ｍｍｏｌ)
およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷
冷下攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであ
るトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４５.６４ｍｌ)を
１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。そ
の後、実施例１と同様に処理（収率８８%）し、つづい
て実施例１と同様の方法でキャストフィルム化して、得
られたキャストフィルムを温度２３０℃で１.６５倍で
幅方向自由の１軸延伸し、配向フィルム化して評価し
た。

【００７２】比較例３ 窒素雰囲気下、塩化メチレン(４０ｍｌ)中にメチルベン
ジリデンビスフェノール(４４ｍｍｏｌ)、９,９−ビス
−（４−ヒドロキフェニル）フルオレン(３６ｍｍｏｌ)
およびトリエチルアミン(１６８ｍｍｏｌ)を混合し、氷
冷下攪拌した。その後、濃度０.５８４ｍｏｌ／ｌであ
るトリホスゲンの塩化メチレン溶液(４５.６４ｍｌ)を
１５分かけて滴下し、滴下終了後６０分間攪拌した。そ
の後、実施例１と同様に処理（収率９１%）し、つづい
て実施例１と同様の方法でキャストフィルム化して、得
られたキャストフィルムを温度２４０℃で１．６５倍で
幅方向自由の１軸延伸し、配向フィルム化して評価し
た。実施例１〜６と比較例１〜３の方法で作成した高分
子配向フィルムの評価結果を行った。結果を表１に示
す。

【００７３】

【表１】

【００７４】表１からフルオレン成分を部分構造に有す
るモノマー（負モノマー）の含有量を低減させて、ハン
ドリング性を向上させながら、逆分散特性を有し、かつ
低Ｔｇであり、かつ波長依存性が良好な位相差フィルム
を提供することができた。

【００７５】

【発明の効果】本発明によりガラス転移温度が１００℃
以上かつ１９０℃未満である単層の高分子配向フィルム
で測定波長が短いほど位相差が小さい逆分散特性を有
し、かつ良好な波長依存性特性をもつ逆分散型位相差フ
ィルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 85:02 Ｃ０８Ｌ 85:02 Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA07 BA42 BB42 BC03 BC22 4F071 AA68 AF35 AH19 BB02 BC01 4F210 AA28A AE10 AG01 AH73 QC01 4J030 CB31 CB33 CE02 CG06

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（１）を部分構造として有する繰り返し
   単位、式（２）で示される繰り返し単位、式（３）で示
   される繰り返し単位、および、式（４）で示される繰り
   返し単位からなる樹脂を用いてなる位相差フィルムであ
   って、式（２）の繰り返し単位と式（４）の繰り返し単
   位のモル分率が式（５）を満足し、かつ式（１）を部分
   構造として有する繰り返し単位のモル分率を（ｃ）、式
   （３）で示される繰り返し単位のモル分率を（ｄ）とし
   た時、式（６）を満足し、かつ該フィルムのガラス転移
   温度が１００℃以上かつ１９０℃未満であることを特徴
   とする位相差フィルム。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 ［式（１）中Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原
   子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２
   ０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ば
   れ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝０〜８の整数。式（２）中Ｒは炭
   素数１〜２０の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素
   基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレンを表し、Ｒあるいは
   Ｘの異なるホスホン酸残基をともに含んでもよい。式
   （３）中Ｒ’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
   素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳
   香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、
   ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数。Ｙは単結合、酸素原子、硫
   黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキ
   レン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン
   基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン
   基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキ
   シド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン
   基、ジアルキルシラン基、フルオレン基からなる群から
   選ばれる。］ １≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （５） ［式（５）中、（ａ）は式（２）の繰り返し単位のモル
   数、（ｂ）は式（４）の繰り返し単位のモル数。］ ０．４０＞（ｃ）／｛（ｃ）＋（ｄ）｝≧０．０１ （６） ［式（６）中、（ｃ）は式（１）を部分構造として有す
   る繰り返し単位のモル数、（ｄ）は式（３）の繰り返し
   単位のモル数。］
2. 【請求項２】 式（１）を部分構造として有する繰り返
   し単位、式（２）で示される繰り返し単位、および、式
   （３）で示される繰り返し単位、及び／または、式
   （４）で示される繰り返し単位からなる樹脂（Ｅ）と該
   樹脂（Ｅ）と異なる樹脂（Ｆ）からなるブレンド高分子
   樹脂で構成される位相差フィルムであって、該フィルム
   の樹脂において式（１）を部分構造として有する繰り返
   し単位が樹脂組成物中の２５重量％以下であり、かつ樹
   脂（Ｅ）が式（２）で示される単位と式（４）で示され
   る繰り返し単位のモル分率が式（５）を満足することを
   特徴とする位相差フィルム。 【化５】 【化６】 【化７】 【化８】 ［式（１）中Ｒ”は各々独立に水素原子、ハロゲン原
   子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２
   ０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ば
   れ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝０〜８の整数。式（２）中Ｒは炭
   素数１〜２０の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素
   基、Ｘは酸素、硫黄あるいはセレンを表し、Ｒあるいは
   Ｘの異なるホスホン酸残基をともに含んでもよい。式
   （３）中Ｒ’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭
   素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳
   香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、
   ｑはｐ＋ｑ＝０〜８の整数。Ｙは単結合、酸素原子、硫
   黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキ
   レン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン
   基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン
   基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキ
   シド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン
   基、ジアルキルシラン基、フルオレン基からなる群から
   選ばれる。］ １≧（ａ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝≧０．０５ （５） ［式（５）中、（ａ）は式（２）の繰り返し単位のモル
   数、（ｂ）は式（４）の繰り返し単位のモル数。］
3. 【請求項３】 単層のフィルムであり、４５０ｎｍおよ
   び５５０ｎｍおよび６５０ｎｍの光線における位相差
   （レタデーション値）が式（７）及び（８）を満足する
   請求項１または２記載の位相差フィルム。 ０．７０＜Ｒ(４５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜０．９０ （７） １．０５＜Ｒ(６５０ｎｍ)／Ｒ(５５０ｎｍ)＜１．２５ （８） [式中、Ｒ(４５０ｎｍ)、Ｒ(５５０ｎｍ)、Ｒ(６５０ｎ
   ｍ)は、それぞれ光の波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、
   ６５０ｎｍにおける面内位相差である。］
4. 【請求項４】 式（１）を部分構造に有する繰り返し単
   位が、式（９）または／及び式（１０）で示される繰り
   返し単位である請求項１〜３いずれかに記載の位相差フ
   ィルム。 【化９】 【化１０】 [式（９）、式（１０）中Ｒ”は各々独立に水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭
   素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群
   から選ばれ、ｍ、ｎはｍ＋ｎ＝０〜８の整数。]
5. 【請求項５】 式（２）で示される繰り返し単位である
   ホスホン酸残基の５０モル％以下を対応するホスホナイ
   ト残基に置換した樹脂を用い、式（５）において（ａ）
   を該ホスホン酸残基と該ホスホナイト残基との和として
   式（５）を満足することを特徴とする請求項１〜４のい
   ずれかに記載の位相差フィルム。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の位相差フ
   ィルムを用いたことを特徴とする円偏光板。