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JP2003270131A - 特定成分の濃度測定方法 - Google Patents

特定成分の濃度測定方法

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JP2003270131A
JP2003270131A JP2002075732A JP2002075732A JP2003270131A JP 2003270131 A JP2003270131 A JP 2003270131A JP 2002075732 A JP2002075732 A JP 2002075732A JP 2002075732 A JP2002075732 A JP 2002075732A JP 2003270131 A JP2003270131 A JP 2003270131A
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JP
Japan
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concentration
measuring
light
contact
measurement
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002075732A
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English (en)
Inventor
Shinji Uchida
真司 内田
Kiyoko Oshima
希代子 大嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Priority to PCT/JP2003/003187 priority patent/WO2003078981A1/ja
Priority to US10/480,036 priority patent/US7167735B2/en
Priority to JP2003576940A priority patent/JPWO2003078981A1/ja
Priority to CNB038008165A priority patent/CN1280622C/zh
Priority to EP20030712725 priority patent/EP1486771A1/en
Publication of JP2003270131A publication Critical patent/JP2003270131A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 濃度測定用接触子が飲料物等の付着により汚
れている場合であっても高精度に特定成分の濃度を測定
することが可能な測定方法を提供する。 【解決手段】 光源、濃度測定用接触子及び光検出器を
備えた濃度測定装置を用い、測定対象物に接した濃度測
定用接触子に光源からの光を入射させ、濃度測定用接触
子から測定対象物に入射し伝播した後帰還した光量を光
検出器で計測する工程、測定対象物と離れた濃度測定用
接触子に光源からの光を入射させ、濃度測定用接触子か
ら出射した後帰還した光量を光検出器で計測する工程、
上記工程での計測結果に基づき測定対象物中の特定成分
濃度を算出する工程を含む方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、生体組織等の測定
対象物に含まれるグルコ−ス、コレステロ−ル、エタノ
−ル等の濃度を測定する、特定成分の濃度測定方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、減衰全反射(以降ATRと記述す
る)測定装置を用いて被検体、とりわけ生体や溶液の特
定成分を測定する方法が種々提案されている。
【0003】例えば、特開平9−113439号公報に
は、図6に示すように、平行に向かい合った一対の反射
面を備えた透明なATR素子51に上下の口唇52を密
着させて血糖値を測定する方法が提案されている。この
方法によると、ATR素子51を口にくわえて上下から
押さえつけた後、ATR素子51に光を入射させ、図6
の破線で示すようにATR素子51の反射面と口唇52
の境界で全反射を繰り返してATR素子51の外部にし
み出した光を分析する。
【0004】また、BME、Vol.5、No.8(日
本エムイー学会、1991)には、ZnSe光学結晶等
からなるATR素子を口唇の粘膜に密着させたのち、こ
のATR素子に波長9〜11ミクロンのレ−ザ光を進入
させてATR素子の内部で多重的に反射させ、その吸収
光、散乱反射光を分析することにより血糖値や血中エタ
ノ−ル濃度を測定する方法が提案されている。この方法
によると、リアルタイムに、かつ非侵襲的にグルコ−ス
濃度やエタノ−ル濃度、コレステロ−ル濃度等の特定成
分の濃度を測定することができる。この方法は、エバネ
ッセント光(いわゆる浸みだし光)を定量分析に応用し
たものである。ATR素子を進行する光はわずかに口唇
に浸入し、そこに存在する体液中の各成分の影響を受け
る。例えば、グルコ−スには光の波数が1080cm-1
において光吸収ピ−クが存在するため、この波数の光を
生体に照射した場合、生体中のグルコ−ス濃度の変化に
応じて、吸収量が異なってくる。従って、この光の生体
からの帰還光を測定することにより、体液の各種成分の
濃度変化にともなう吸収量の変化を検出することがで
き、すなわち、各成分の濃度を得ることが可能になる。
【0005】一般に、ATR測定装置を用いて、物質表
面の吸光度を測定したり、また吸光度を用いて濃度を算
出する場合、図7に示す測定方法を行っていた。
【0006】ます、バックグランド測定工程において、
光源から出射した光をATR素子に入射させ、ATR素
子を測定対象である試料に接触させないで、例えば空気
や純水等の参照物の分光計測を行い、計測結果をメモリ
に記憶することにより、バックグランドを測定する。バ
ックグランド測定を行うのは、光源や光検出器などの波
長特性を補正するためと、これらの特性が経年的に変化
した場合にも、正確な吸光度や濃度を算出できるように
するためである。
【0007】次に、測定対象である試料をATR素子と
接触するように設定した後、試料の測定を行う。
【0008】次に、バックグランド測定時の光検出器か
らの検出信号をIb、試料測定時の光検出器からの検出
信号をImとすると、log10(Ib/Im)を算出す
る。この値は一般に吸光度と呼ばれる。このようにする
と、吸光度と試料中の特定成分の濃度には相関関係があ
るため、予め吸光度と濃度との検量線を求めておけば、
算出された吸光度より試料中の特定成分の濃度を推定す
ることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のATR測定装置は、以下のような問題点を
有していた。
【0010】すなわち、バックグランド測定時に、AT
R素子表面が汚れていたり、前回の測定時の残留物等が
付着していたような場合、特定成分の測定精度が悪くな
っていた。
【0011】また、例えば口唇粘膜においてグルコース
濃度を測定する場合、口腔内の洗浄が不十分であると
き、お茶やジュース等の成分が口唇粘膜に残存し、測定
結果に悪影響を与えていた。
【0012】本発明は上記の問題点に鑑み、測定時に、
濃度測定用接触子が飲料物等の付着により汚れている場
合であっても、高精度に特定成分の濃度を測定すること
が可能な測定方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の特定成分の濃度測定方法は、光源、濃度測
定用接触子及び光検出器を備えた濃度測定装置を用い、
測定対象物に接した状態の前記濃度測定用接触子に前記
光源から出射した光を入射させ、前記濃度測定用接触子
から前記測定対象物内に入射し、前記測定対象物内を伝
播した後前記濃度測定用接触子に帰還した光の光量を前
記光検出器により計測する工程A、前記測定対象物と離
れた状態の前記濃度測定用接触子に前記光源から出射し
た光を入射させ、前記濃度測定用接触子から前記濃度測
定用接触子外に出射した後、前記濃度測定用接触子に帰
還した光の光量を前記光検出器により計測する工程B、
並びに前記工程A及び前記工程Bにおいて計測された結
果に基づいて、前記測定対象物に含まれる特定成分の濃
度を算出する工程Cを含むことを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0015】本発明の一実施の形態における特定成分の
濃度測定方法は、光源、濃度測定用接触子及び光検出器
を備えた濃度測定装置を用い、測定対象物に接した状態
の前記濃度測定用接触子に前記光源から出射した光を入
射させ、前記濃度測定用接触子から前記測定対象物内に
入射し、前記測定対象物内を伝播した後前記濃度測定用
接触子に帰還した光の光量を前記光検出器により計測す
る工程A、前記測定対象物と離れた状態の前記濃度測定
用接触子に前記光源から出射した光を入射させ、前記濃
度測定用接触子から前記濃度測定用接触子外に出射した
後、前記濃度測定用接触子に帰還した光の光量を前記光
検出器により計測する工程B、並びに前記工程A及び前
記工程Bにおいて計測された結果に基づいて、前記測定
対象物に含まれる特定成分の濃度を算出する工程Cを含
むことを特徴とする。
【0016】ここで、濃度測定用接触子がATR素子で
あり、測定対象物に入射する光が、前記ATR素子から
しみ出したエバネッセント光であることが好ましい。
【0017】本発明の特定成分の濃度測定方法におい
て、特定成分としては、グルコ−ス、コレステロ−ル、
エタノ−ル等が挙げられ、測定対象物としては、前記特
定成分を含む溶液、血液、血漿等の体液、生体組織等が
挙げられる。この中で、測定対象物が生体組織であり、
特定成分がグルコースであることが好ましい。
【0018】また、工程Cにおいて、工程Bにおいて計
測された光量を用いて、工程Aにおいて計測された光量
を補正し、得られた結果に基づいて測定対象物に含まれ
る特定成分の濃度を算出することが好ましい。
【0019】また、工程Bにおいて計測された光量が所
定の値よりも大きい場合、工程Aにおける計測結果が無
効であると判定する工程Dをさらに含んでいてもよい。
【0020】また、濃度測定装置が表示部をさらに備
え、工程Bにおいて計測された光量が所定の値よりも大
きい場合、測定対象物の洗浄を指示するメッセージを前
記表示部に表示する工程Eをさらに含んでいてもよい。
【0021】また、工程Aの前に、濃度測定用接触子上
に付着物が存在するか否かを判定する工程Fをさらに含
むことが好ましい。
【0022】ここで、濃度測定装置が表示部をさらに備
え、工程Fにおいて、濃度測定用接触子上に付着物が存
在すると判定された場合、前記濃度測定用接触子の表面
を清浄にするように指示するメッセージを前記表示部に
表示する工程Gをさらに含むことが好ましい。
【0023】また、工程Fにおいて、測定対象物と離れ
た状態の濃度測定用接触子に光源から出射した光を入射
させ、前記濃度測定用接触子から前記濃度測定用接触子
外に出射した後、前記濃度測定用接触子に帰還した光の
P偏光成分の光量とS偏光成分の光量とを光検出器によ
り計測し、前記P偏光成分の計測値と前記S偏光成分の
計測値とに基づいて、前記濃度測定用接触子上に付着物
が存在するか否かを判定することが好ましい。
【0024】ここで、工程Fにおいて、P偏光成分の計
測値をIp、S偏光成分の計測値をIsとしたとき、I
p/Isまたはlog10(Ip/Is)を算出し、算出
された値が所定の値以上である場合に、濃度測定用接触
子上に付着物が存在すると判定することが好ましい。
【0025】また、工程Fにおいて、P偏光成分の計測
値をIp、S偏光成分の計測値をIsとしたとき、Is
/Ipまたはlog10(Is/Ip)を算出し、算出さ
れた値が所定の値以下である場合に、濃度測定用接触子
上に付着物が存在すると判定してもよい。
【0026】(実施の形態1)以下、本発明の実施の形
態について、図面を用いてさらに詳しく説明する。図1
は本発明の一実施の形態における特定成分の濃度測定方
法に用いる濃度測定装置を示す概略図である。
【0027】本実施の形態では、一例として、測定対象
物中の特定成分であるグルコースの濃度を計測する例に
ついて説明する。
【0028】光源1には、例えば中赤外光を発生する光
源を用いる。例えばタングステンやSiC光源が好まし
い。特に、グルコ−スのような吸収波数が約1080c
-1や1033cm-1等の指紋領域にあるような物質の
濃度を測定するような場合、これらの光源を用いること
が好ましい。
【0029】濃度測定用接触子2の材料としては、中赤
外光を透過し、化学的に安定で、機械的強度に優れてい
るものが好ましく、例えば、ゲルマニウムやシリコンを
用いる。濃度測定用接触子2の材料としてシリコンを用
いる場合には、例えば、波長1.1〜10ミクロンで透
明なシリコン単結晶基板を用いる。特にホウ素やリン等
の不純物含有量が小さく、抵抗率も100Ωcm以上の
ものが好ましい。さらには、抵抗率が1500Ωcm以
上のものが好ましい。これら高抵抗率のシリコンは、約
9〜10ミクロンの赤外波長で透過率が高く、これらの
波長帯に吸収領域を有するグルコ−ス等の物質を測定す
る場合に好ましい。
【0030】光入力部3の表面には反射防止膜を設ける
ことが好ましい。反射防止膜の材料としては、例えばダ
イヤモンドライクカーボン(DLC)やZnSeを用い
る。膜厚としては約1.1から1.3ミクロンが好まし
く、更には1.2ミクロン程度が好ましい。
【0031】接触部4には、測定対象物を接触させる。
例えば、グルコース溶液を測定する場合、この部分にグ
ルコース溶液を滴下し、接触部4の表面上をすべて覆わ
せる。表面張力の効果によって、グルコースは接触部4
よりこぼれることなく計測に必要な適度の量が接触部4
に保持されるので、安定に計測することができる。
【0032】また、測定対象物が生体である場合には、
接触部4に生体を密着させる。ここで、生体と密着する
部分の面積が2cm2以下であることが好ましい。面積
を2cm2以下にすることにより、生体への食い込みが
大きくなり、密着性がよくなって安定に計測することが
できる。
【0033】接触部4の形状は特に限定するものではな
いが、略円形状であると、測定対象物が生体の場合は、
測定時の痛みが少ないため好ましい。更に外周部に面取
り部分、もしくは丸み部分を設けることにより、更に痛
みが低減化できるため好ましい。
【0034】光出力部5には、光入力部3と同様に反射
防止膜を設けることが好ましい。
【0035】偏光子7は、ある特定の偏光成分の光を取
り出す働きを有する。偏光子7を回転させることで、光
検出器6に到達する光の偏光成分をS偏光またはP偏光
に任意に設定することができる。偏光子7は、図1の位
置に限定されず、光源1と光検出器6との光路上にあれ
ばよい。
【0036】図中偏光子7の実線方向はS偏光成分の光
の振動方向を示し、破線方向はP偏光成分の光の振動方
向を示す。偏光子7は同一振動方向の光しか通過させな
いため、例えば図の実線方向に設定してS偏光成分の計
測を行った後、P偏光成分を測定するには、偏光子7を
90度回転させればよい。
【0037】また、図示しないが、例えば光源1と濃度
測定用接触子2との間に分光手段を設けると、特定成分
の波長分光特性が計測できるので、種々の波長での吸収
特性を得ることができるため好ましい。特に干渉計を用
いた分光法FT−IR法は高感度な計測ができるため好
ましい。
【0038】また、図示しないが、光検出器6での計測
結果や測定者に対するメッセージ等を表示する表示部を
備えていることが好ましい。
【0039】次に、上記の測定装置を用いた本実施の形
態の特定成分の濃度測定方法について、グルコース濃度
を口唇粘膜から測定する場合を例に取り説明する。図2
は、本実施の形態における特定成分の濃度測定方法の測
定フローを示す概略図である。
【0040】図2に示すように、最初にバックグランド
測定を行なう。バックグランド測定は、図1に示す接触
部4に口唇粘膜を密着させない状態で、濃度測定用接触
子2の光入力部3に光源1から出射した光を入射させ、
接触部4から接触部4外に出射した後、接触部4に帰還
し、光出力部5から濃度測定用接触子2外に出力した光
の光量を光検出器6により計測する。このとき偏光子7
は、P偏光またはS偏光のどちらに設定されていてもよ
い。また、接触部4の全面を覆うように、接触部4上を
水で濡らして分光測定してもよい。
【0041】次に、接触部4に口唇粘膜を密着させ、第
1の分光測定(測定1)を行う。このとき偏光子7は、
バックグランド測定時と同じ設定にして測定を行う。バ
ックグランド測定の場合と同様に、濃度測定用接触子2
の光入力部3に光源1から出射した光を入射させ、接触
部4から口唇粘膜内に入射し、口唇粘膜内を伝播した後
接触部4に帰還し、光出力部5から濃度測定用接触子2
外に出力した光の光量を光検出器6により計測する。次
に、バックグランド測定での計測値をIb、第1の分光
測定での計測値をIm1としたとき、log10(Ib/
Im1)を算出することにより、口唇粘膜の吸光度を求
める。
【0042】次に、接触部4を口唇粘膜から離し、接触
部4上に付着した唾液や汚れをふき取らずに、バックグ
ランド測定と同様の方法により第2の分光測定(測定
2)を行う。次に、第2の分光測定での計測値をIm2
としたとき、log10(Ib/Im2)を算出すること
により、唾液または汚れの吸光度を求める。
【0043】図3に、log10(Ib/Im2)の分光
特性の一例を示す。正常な計測が行われた場合は、接触
部4に残る体液成分はほとんど唾液であるので、図3に
示す通常特性のような分光特性となる。しかし、測定前
にお茶やジュース等の飲料物を飲んで、口腔内の洗浄が
不十分な場合は、同図に示す茶飲後のような分光特性と
なり、通常の場合と大きく異なることがある。通常の場
合と比較すると、吸光度が全体的に大きくなるととも
に、1100cm-1を中心とする1200cm-1から1
000cm-1近辺の、グルコースの吸収ピークが存在す
る波数領域でのスペクトル形状が変化していることがわ
かる。
【0044】図4に、お茶及び水の吸光度を示す。図
中、一点鎖線が水、破線が比較的濃度の薄いお茶、実線
が濃度が濃いお茶の吸光度である。このように、お茶の
濃度が濃い程、水に比べて吸光度が大きくなり、スペク
トル形状が変化していることがわかる。したがって、図
3において、茶飲後に第2の分光測定を行った場合に通
常と異なる測定結果が得られ、グルコース濃度の算出に
悪い影響を与えるのは、お茶の吸光度の影響であると考
えられる。
【0045】したがって、第2の分光測定を終了し、分
光特性を算出した際に、吸光度もしくはスペクトル形状
が大きく変化し、特定の波数の光に対する吸光度が所定
の値よりも大きい場合は、口唇粘膜と接触部4の間に妨
害成分を含んだ状態で第1の分光測定を行った可能性が
高いため、第1の分光測定における計測結果が無効であ
ると判定される。
【0046】ここで、口腔内を洗浄するように指示する
メッセージが表示部に表示されるように設定されていて
もよい。このようにすると、口腔内を冷水または温水等
で洗浄した後、再測定を行うことができるため、正確な
グルコース濃度を求めることができる。
【0047】また、第2の分光測定で得られた計測値I
m2に基づいて妨害成分の影響を計算し、第1の分光測
定で得られた計測値Im1を補正してもよい。このよう
にすると、妨害成分の影響を取り除くことができるの
で、正確なグルコース濃度を求めることができる。
【0048】(実施の形態2)本実施の形態における特
定成分の濃度測定方法では、バックグランド測定を行う
前に、濃度測定用接触子上に付着物が存在するか否かを
判定する工程を行う。これは、前の測定時に付着した残
留物等により接触部4上が汚れている状態でバックグラ
ンド測定を行い、測定値に悪影響を及ぼすのを防ぐため
に行う。
【0049】まず、偏光子7でS偏光成分の光が通過で
きるようにして、口唇粘膜を接触部4に密着させない状
態でS偏光成分の分光測定を行う。続いて、偏光子7を
90度回転させてP偏光成分の光が通過できるようにし
て、P偏光成分の分光特性を測定する。
【0050】次に、P偏光成分の計測値をIp、S偏光
成分の計測値をIsとし、例えばIp/Isを算出す
る。Ip/Isを算出することで、接触部4上の付着物
の吸光特性を評価することができる。
【0051】図5に、Ip/Isの分光特性を示す。図
中通常と示したグラフは、接触部4の表面が清浄な状態
での分光特性で、茶飲後と示したグラフは、お茶を飲ん
だ後口唇粘膜を一度密着させ、口唇粘膜を離した状態で
の分光特性を示す。このように、両者には大きな違いが
あることがわかる。したがって、Ip/Isの値が所定
の値以上を示した場合は、接触部4上に付着物が存在す
ると判断できるため、接触部4表面を洗浄するメッセー
ジを表示部に表示することが好ましい。接触部4表面を
洗浄後再び測定を行うことにより、グルコース濃度の測
定精度を向上させることができる。
【0052】ここで、接触部4に入射させる光の入射角
度λは、下記式(1)より求めたz/λが0.25以上
となるように設定することが好ましい。
【0053】
【数1】
【0054】ただし、zは接触部に入射する光の付着物
へのしみ出し深さ(単位ミクロン)、λは接触部に入射
する光の波長(単位ミクロン)、nfは接触部の屈折
率、θは接触部に入射する光の入射角度、ncは付着物
の屈折率をあらわす。
【0055】例えば、付着物がお茶の場合、波長約9.
6ミクロンでのお茶の屈折率ncを1.24とすると、
接触部に屈折率nfが4のゲルマニウムを用いたとき、
z/λ=0.25となる入射角度θは約45度となる。
このような入射角度で光を接触部に入射させることで、
S偏光とP偏光の付着物内での光の吸光度に大きな差が
生じる。このS偏光とP偏光との吸光度差により、付着
物の有無を検出することができる。入射角度は、45度
より小さければ有効であるが、臨界角よりも大きいこと
が好ましい。臨界角よりも小さくなると光が全反射条件
を満足しないために光が付着物中に拡散して帰還する光
の量が減少するとともに、P偏光とS偏光の光の光路差
が減少してしまうためである。実験の結果、z/λ=
0.9以上、すなわち接触部にゲルマニウムを使用した
場合、入射角度を21度や20度にすると特に良好な結
果が得られ、19度にすると更に好ましい結果が得られ
た。
【0056】なお、本実施の形態では、Ip/Isを用
いて濃度測定用接触子上に付着物が存在するか否かを判
定する工程を行ったが、これに限定されず、log
10(Ip/Is)を用いても同様の効果を得ることがで
きる。また、Is/Ipまたはlog10(Is/Ip)
を算出し、算出された値が所定の値以下である場合に、
濃度測定用接触子上に付着物が存在すると判定してもよ
い。
【0057】
【発明の効果】本発明によれば、濃度測定用接触子の接
触部表面に、特定成分の濃度測定を妨害する物質が付着
していることを判定することにより、濃度測定用接触子
が飲料物等の付着により汚れている場合であっても、高
精度に特定成分の濃度を測定することが可能な測定方法
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態における特定成分の濃度
測定方法に用いる濃度測定装置を示す概略図
【図2】同特定成分の濃度測定方法の測定フローを示す
概略図
【図3】同特定成分の濃度測定方法における、第2の分
光測定での分光特性を示す特性図
【図4】お茶及び水の分光特性を示す特性図
【図5】本発明の他の実施の形態における特定成分の濃
度測定方法において、濃度測定用接触子上に付着物が存
在するか否かを判定する工程での分光特性を示す特性図
【図6】従来のATR測定装置を示す概略図
【図7】従来の特定成分の濃度測定方法の測定フローを
示す概略図
【符号の説明】
1 光源 2 濃度測定用接触子 3 光入力部 4 接触部 5 光出力部 6 光検出器 7 偏光子 51 ATR素子 52 口唇
フロントページの続き Fターム(参考) 2G059 AA01 BB12 BB14 CC16 DD01 DD02 EE02 EE05 GG04 GG10 HH01 HH06 JJ01 JJ19 KK01 MM01 MM05 MM14 NN01 PP04 4C038 KK00 KK10 KL05 KL07 KM01 KX01 KX02 KY03 KY04

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源、濃度測定用接触子及び光検出器を
    備えた濃度測定装置を用い、測定対象物に接した状態の
    前記濃度測定用接触子に前記光源から出射した光を入射
    させ、前記濃度測定用接触子から前記測定対象物内に入
    射し、前記測定対象物内を伝播した後前記濃度測定用接
    触子に帰還した光の光量を前記光検出器により計測する
    工程A、前記測定対象物と離れた状態の前記濃度測定用
    接触子に前記光源から出射した光を入射させ、前記濃度
    測定用接触子から前記濃度測定用接触子外に出射した
    後、前記濃度測定用接触子に帰還した光の光量を前記光
    検出器により計測する工程B、並びに前記工程A及び前
    記工程Bにおいて計測された結果に基づいて、前記測定
    対象物に含まれる特定成分の濃度を算出する工程Cを含
    む特定成分の濃度測定方法。
  2. 【請求項2】 濃度測定用接触子がATR素子であり、
    測定対象物に入射する光が、前記ATR素子からしみ出
    したエバネッセント光であることを特徴とする、請求項
    1記載の特定成分の濃度測定方法。
  3. 【請求項3】 測定対象物が生体組織であり、特定成分
    がグルコースであることを特徴とする、請求項1または
    2記載の特定成分の濃度測定方法。
  4. 【請求項4】 工程Cにおいて、工程Bにおいて計測さ
    れた光量を用いて、工程Aにおいて計測された光量を補
    正し、得られた結果に基づいて測定対象物に含まれる特
    定成分の濃度を算出することを特徴とする、請求項1〜
    3のいずれか1項に記載の特定成分の濃度測定方法。
  5. 【請求項5】 工程Bにおいて計測された光量が所定の
    値よりも大きい場合、工程Aにおける計測結果が無効で
    あると判定する工程Dをさらに含むことを特徴とする、
    請求項1〜3のいずれか1項に記載の特定成分の濃度測
    定方法。
  6. 【請求項6】 濃度測定装置が表示部をさらに備え、工
    程Bにおいて計測された光量が所定の値よりも大きい場
    合、測定対象物の洗浄を指示するメッセージを前記表示
    部に表示する工程Eをさらに含むことを特徴とする、請
    求項1〜3のいずれか1項に記載の特定成分の濃度測定
    方法。
  7. 【請求項7】 工程Aの前に、濃度測定用接触子上に付
    着物が存在するか否かを判定する工程Fをさらに含むこ
    とを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の
    特定成分の濃度測定方法。
  8. 【請求項8】 濃度測定装置が表示部をさらに備え、工
    程Fにおいて、濃度測定用接触子上に付着物が存在する
    と判定された場合、前記濃度測定用接触子の表面を清浄
    にするように指示するメッセージを前記表示部に表示す
    る工程Gをさらに含むことを特徴とする、請求項7記載
    の特定成分の濃度測定方法。
  9. 【請求項9】 工程Fにおいて、測定対象物と離れた状
    態の濃度測定用接触子に光源から出射した光を入射さ
    せ、前記濃度測定用接触子から前記濃度測定用接触子外
    に出射した後、前記濃度測定用接触子に帰還した光のP
    偏光成分の光量とS偏光成分の光量とを光検出器により
    計測し、前記P偏光成分の計測値と前記S偏光成分の計
    測値とに基づいて、前記濃度測定用接触子上に付着物が
    存在するか否かを判定することを特徴とする、請求項7
    または8記載の特定成分の濃度測定方法。
  10. 【請求項10】 工程Fにおいて、P偏光成分の計測値
    をIp、S偏光成分の計測値をIsとしたとき、Ip/
    Isまたはlog10(Ip/Is)を算出し、算出され
    た値が所定の値以上である場合に、濃度測定用接触子上
    に付着物が存在すると判定することを特徴とする、請求
    項9記載の特定成分の濃度測定方法。
  11. 【請求項11】 工程Fにおいて、P偏光成分の計測値
    をIp、S偏光成分の計測値をIsとしたとき、Is/
    Ipまたはlog10(Is/Ip)を算出し、算出され
    た値が所定の値以下である場合に、濃度測定用接触子上
    に付着物が存在すると判定することを特徴とする、請求
    項9記載の特定成分の濃度測定方法。
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