JP2003269655A

JP2003269655A - 真空バルブ

Info

Publication number: JP2003269655A
Application number: JP2003033312A
Authority: JP
Inventors: Thomas Blecha; トーマスブレカ
Original assignee: VAT Holding AG
Current assignee: VAT Holding AG
Priority date: 2002-02-26
Filing date: 2003-02-12
Publication date: 2003-09-25
Anticipated expiration: 2023-02-12
Also published as: US6685163B2; JP4296002B2; US20030160204A1

Abstract

(57)【要約】【課題】バルブ閉塞時に、閉塞体と弁開口部との接触に
より発生する粒子が真空室中へ放散することを減少さ
せ、真空室内での処理ガスやプラズマなどからシール体
を遮蔽できるシール構成を有するスライド・バルブ式の
真空バルブを提供する。【解決手段】弁開口部３の周囲に設けられるシーリング
面７は、軸線４方向にオフセットし軸線４に垂直方向に
離間している２つの主シーリング面８と接続面９とを有
して、弁本体1の隆起部１１上に形成されている。閉塞
体２の周囲に配置されるシール体１２は，主シーリング
面８に対応する主シール体１３と接合体１４とからな
る。主シール体１３は溝部１６を備え、閉塞体２の周囲
に設けられた凹部１５内に配置されている。バルブの閉
塞状態において、シーリング面７の隆起部１１が主シー
ル体１３の溝部１６に嵌入する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は真空バルブに関す
る。特に本発明は下記構成を有する真空バルブに関す
る。軸線を有する弁開口部を備える弁本体と、バルブ開
口位置と閉塞位置との間を弁開口部の軸線に角度を有し
て延びる閉塞方向に移動する閉塞体とを有し、弁開口部
の周囲に配置されるシーリング面は弁開口部の軸線方向
に互いにオフセットするように配置される少なくとも２
つの主シーリング面が接続面によって互いに接続され、
シーリング面の仮想創成線は閉塞方向に対して実質上直
角に延出する部分あるいは接線を有する。閉塞体の周囲
に配設されるシール体はシーリング面の２つの主シーリ
ング面に対応する２つの主シール部と該２つの主シール
部を接合する接合シール部とからなり、シール体はバル
ブの閉塞位置に閉塞体を移動することによりシーリング
面に対接する。

【０００２】

【従来の技術】バルブ本体を形成する弁ハウジングを有
するスライドバルブは知られている。その弁開口部の周
囲には弁開口部の軸線に対して直角な平面に配置された
シーリング面が設けられる。弁開口部は環状シールが固
着されたプレート状閉塞体により閉塞可能であり、環状
シールはシーリング面の平面に対して平行な面に配置さ
れている。シールに横方向の力が作用するのを防止する
ため、閉塞するための移動は２段階で行われる。第１段
階で、プレート状閉塞体は弁開口部に対面するがシーリ
ング面からは離れた位置に移動される。次の段階で、閉
塞体の多くの部品から構成されるシール支持部分が、該
シールがシーリング面に接触するまで弁開口部の方向に
移動する。かかる目的のため、多くの構成部品から構成
される閉塞体を広拡するための、例えば、広拡デバイス
が設けられている。かかる形式の真空バルブはよく知ら
れている（例えば特許文献１、２参照）が、比較的複雑
な構造を有し、閉塞工程の間、特に閉塞体の構成部品間
の広拡移動によって、望ましくない比較的大量の粒子が
真空中に放散される。

【０００３】最初に述べた形式の真空バルブも知られて
いる（特許文献３〜５参照）。これら特許文献３〜５の
記載内容を参考に援用する。これら特許文献３〜５に開
示されたバルブは簡単な構造を有し、早急な開閉が可能
で、シールに作用する横方向の力は防止され、上述のバ
ルブに比して開閉工程における粒子の放出は実質的に少
ない。

【０００４】真空バルブが閉塞するとき閉塞体の両側に
おける領域間に差圧が生じ、該差圧は、閉塞体のある程
度の側方移動、即ち弁開口部の軸線方向への移動、を引
起す。弁開口部方向への側方移動は弁本体によって規制
される。特許文献５のＦｉｇ．４、５に示す差圧枠は反
対方向への移動を規制するために設けられている。閉塞
体が差圧に起因する移動によって差圧枠または弁本体に
衝突すると、金属と金属との接触により望ましくない粒
子が真空中に放散する。かかる理由のため、差圧枠にゴ
ムのコーティングを設けることが既に提案されている。
しかし、このことはバルブのコストを増加させる。特許
文献４のＦｉｇ．５、及び特許文献３のＦｉｇ．８に、
閉塞状態において、シール面に設けられた溝に係合する
ように閉塞体に設けられた保護エッジが示されている。
この保護エッジは閉塞体が移動するときに弁開口部に進
入する流れからシールを遮蔽し、シールを保護するため
のものである。

【０００５】

【特許文献１】米国特許第４５６０１４１号明細書

【特許文献２】米国特許第４２９１８６１号明細書

【特許文献３】米国特許第４８８１７１７号明細書
（第８図）

【特許文献４】米国特許第４８０９９５０号明細書
（第５図）

【特許文献５】米国特許第５９０９８６７号明細書
（第４−５図）

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の重要な目的
は、冒頭に述べた形式の真空バルブであって、バルブの
閉塞状態のとき閉塞体に作用する差圧に抗することがで
き、真空中への粒子の放散を可能な限り少なくすること
ができる閉塞体の保持構造を有する真空バルブを提供す
ることにある。本発明の更なる目的は、冒頭に述べた形
式の真空バルブであって、真空バルブが使用される真空
室内において実行される処理によって生ずる影響からの
シールの保護、例えば、真空室内で使用される処理ガス
からの保護、あるいは真空室内で発生されるプラズマか
らの保護、の改良を達成できる真空バルブを提供するこ
とにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る真空バルブ
は、軸線を有する弁開口部を備える弁本体と、前記弁開
口部の軸線に対して角度を有して延出する閉塞方向に沿
ってバルブの開放位置と閉塞位置との間を移動する閉塞
体と、前記弁開口部の周囲に配置され、該弁開口部の軸
線の方向に互いにオフセットして配置される２つの主シ
ーリング面が接続面によって接続されるシーリング面
と、該シーリング面の仮想の創成線は前記閉塞方向に対
して実質的に垂直に延出する部分または接線を含み、前
記閉塞体の周囲に配設されて前記シーリング面の主シー
リング面に対応する２つの主シール体と該主シール体を
接合する接合体とからなる閉じた環状のシール体と、前
記閉塞体を前記シール体が前記シーリング面に対接する
ように閉塞方向に沿って移動する駆動手段とからなる真
空バルブであって、前記シール体における少なくとも１
つの主シール体が長さ方向の少なくとも一部に沿って、
側縁が前記シーリング面を向く横断面凹状の溝部を有
し、前記主シール体は前記閉塞体に備えられた凹部に配
置されて該凹部の側縁により側方が保持され、前記シー
リング面の前記主シール体に対応する部分は、前記弁本
体に設けられた隆起部上に配置されるか、あるいは隆起
して設けられており、バルブが閉塞するとき、前記隆起
部が前記溝部に嵌入することを特徴とする。

【０００８】改良された閉塞体の保持構造は、本発明に
係るシールの構造と閉塞体におけるシール体を受容する
領域及び弁本体におけるシーリング面を配置する領域の
構造により達成され、閉塞体と弁本体との間における金
属同士の接触を防止することができる。更に、閉塞体の
凹部に配置されたシール体は真空室内で行われる処理に
使用される処理ガスまたは真空室内で発生させるプラズ
マから充分に保護される。

【０００９】本発明における有利な実施の態様において
は、前記シール体の両主シール体の少なくとも全延出部
より長い前記閉塞体の凹部にシール体が配置され、シー
ル体には、弁本体の隆起部上に配置されたシ−リング面
またはシーリング面の隆起部が嵌入する溝部が設けられ
ている。本発明の特に有利な実施の態様に於いては、同
様の構造がシール体及びシーリング面の全延出部分に亘
って設けられる。処理領域からの活性ガス粒子のシール
体への浸透が緩和または防御され、シール体における処
理ガスによる腐食領域が最小化される。大きな機械的応
力を受けるシール体の領域が機械的な変形の少ない領域
よりも処理ガスの作用がより激しいことが知られてい
る。本発明によれば、シール体の大きな応力を受ける広
範囲の部分を影響する処理ガスから遮蔽することができ
る。

【００１０】シール体を活性ガス粒子の侵蝕から更に緩
和または遮蔽するために、前記シール体の少なくとも１
側に少なくとも１つの側溝を設け、該側溝は前記シール
体の全長に亘ってシール体の側方に沿って延出し、前記
弁本体の弁開口部を囲むシーリング面に沿って側方に設
けられた突条が前記側溝に突入する。かかる側溝及び突
条を２つ更にそれ以上設けると効果は更に大きくなる。
本発明による種々の特徴及び構成が請求の範囲に記載さ
れる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の更なる有利点及
び詳細を図に示す実施態様を参照して説明する。以下の
記載から本発明の更なる目的も理解されよう。図１は本
発明に係る真空バルブの開放状態を示す概略図である。
図２は図１の真空バルブの上方からの斜視図であり、図
３は図１の真空バルブの下方からの斜視図である。図４
は弁本体の上方からの斜視図であり、図５は図４の部分
的拡大図である。図６は閉塞体の下方からの斜視図であ
り、図７は閉塞体の部分的拡大図で、シール体を取り外
した底面からの斜視図を示す。図８は図７に対応する部
分のシール体を示す。図９は図１の真空バルブにおける
Ａ−Ａ線に沿った断面図であり、図１０及び図１１は図
９に示す断面図の部分的拡大図である。図１２は図９に
対応する断面の閉塞状態における真空バルブを示す断面
図である。図１３は図１２に対応する断面のシール領域
の概略図で、本発明の他の実施態様を示す。図１４、図
１５は図１２に対応する断面のシール領域の概略図で、
それぞれ本発明の他の実施態様を示す。

【００１２】本明細書においては種々の実施態様におけ
る類似の構成部分が同一の参照番号を付して記載され
る。図面に示す真空バルブは弁本体１と閉塞体２とを有
する。弁本体１には軸線４を有する弁開口部３を備え
る。閉塞体２は、バルブの開口位置（図９参照）と閉塞
位置（図１２参照）との間を閉塞方向５（図９又は図１
２参照）に移動可能である。弁ロッド６が、図には僅か
な部分しか示されていないが、閉塞体２が移動する目的
のために設けられている。弁ロッド６は直線状に作動さ
せる挿通装置などの慣例的な手段によって真空領域の外
に導出され、バルブの開放位置と閉塞位置との間を駆動
装置により移動される。これらの既知の構成部品は本発
明にとって本質的なものではないので、図にも示してい
ない。これらは、例えば、米国特許第４，８０９，９５
０号、米国特許第４，８８１，７１７号あるいは米国特
許第５，９０９，８６７号（上記特許文献３〜５）に知
られる方法で構成することができる。また、種々の他の
構造が考えられ、適用可能である。例えば、流体ピスト
ン−シリンダ装置を１個または複数の弁ロッドにより閉
塞体に結合して駆動装置とすることもできる。

【００１３】弁本体１は、例えば、フランジにより真空
室のフランジに結合されるバルブハウジングそれ自身に
より形成することができる。真空領域を有するバルブハ
ウジングの構成部が閉塞体の両側に設けられ、弁ロッド
６を直線状に作動させる挿通装置がバルブハウジングに
設けられているこの種の構成は、例えば、米国特許第
４，８０９，９５０号（上記特許文献４）に開示されて
いる。バルブハウジングは、米国特許第５，９０９，８
６７号（上記特許文献５）に示されるように、真空室の
内部に配置することもできる。更に、弁本体１は、米国
特許第４，８８１，７１７号（上記特許文献３）に示す
ように、真空室の内部構成部により形成することもでき
る。この場合は、弁ロッド６の挿通装置は真空室に設け
られる。

【００１４】閉塞方向５は、弁開口部３の軸線４に対し
て交差して延びている。有利な実施の態様においては、
閉塞方向５は弁開口部３の軸線４に対して実質的に直角
に延びている。この場合「実質的に直角」ということは
少なくとも約２５度の偏差までを考慮することを意味し
ている。閉塞体２が閉塞するための移動は直線状の移動
である。

【００１５】弁開口部３は円形または他の形状に形成す
ることができ、周囲にシーリング面７が配置される。該
シーリング面７は、弁開口部３の軸線４の方向に側方に
オフセットする面に配置されて本実施態様に於いては軸
線４に垂直方向に延出するように配置される２つの主シ
ーリング面８を有する。シーリング面７の２つの主シー
リング面８は弁本体１の隆起部１１上にそれぞれ配置さ
れ、該主シーリング面８の創成線１０ａ（図４，５参
照）は閉塞体２の閉塞方向５に直角に延出する。２つの
主シーリング面８は接続面９によって互いに連続し、シ
ーリング面７は全体として接続領域でＵ字状となる。接
続面９は同様に弁本体１の隆起部１１に配置される。従
って隆起部１１は、全体として、閉じた環状となり、弁
開口部３の全周囲を取囲むようになる。本実施態様にお
いては、シーリング面７の２つの接続面９は共通の面に
配置され、接続面９の創成線１０ｂは同様に閉塞方向５
に対して垂直に配向される。

【００１６】閉じた環状のシール体１２は、例えば、加
硫することによって閉塞体２に固定される。シール体１
２は、シーリング面７の主シーリング面８に形状が対応
する２つの主シール体１３を有する。そのためこれら主
シール体１３は、本実施態様に於いては、軸線４に対し
て垂直な面に延出するように配設される。この両面は互
いに弁開口部３の軸線４方向にオフセットしている。シ
ール体１２の主シール体１３は接合体１４により互いに
接合されている。バルブの閉塞状態においては、シール
体１２の主シール体１３がシーリング面７の主シーリン
グ面８に接触し、シール体１２の接合体１４はシーリン
グ面７の接続面９に接触してバルブがシールされる。

【００１７】シール体１２の主シール体１３は、溝状の
凹部１５において閉塞体２に固定される。更に、シール
体１２の主シール体１３それ自体にも溝部１６（窪み）
を備える。本実施態様に於いては、これらの凹部１５と
溝部１６とは、主シール体１３の長さ全体に亘って延出
している。シール体１２はこの領域では、横断面がＵ字
状の形状を有している。図１１に示すように凹部１５の
側縁１７は側方向に、即ち弁開口部３の軸線４の方向に
シール体１２を保持する。バルブを閉塞するときは、隆
起部１１がシール体１２の溝部１６内にガイドされ、配
置されたシーリング面７の主シーリング面８によりシー
ルされる。差圧が存在するときは、シール体１２の側片
１８が隆起部１１の側面に押圧されて、閉塞体２が保持
される。この保持する長さが長いために表面に生ずる圧
力は比較的小さい。更に、閉塞体２の閉塞状態において
シール体１２に直線的に作用する領域がないので、使用
される可能性のある処理ガスによるシール体１２の表面
侵蝕も少ない。このことは、真空室内で発生するプラズ
マの場合も云える。

【００１８】閉塞体２の凹部１５も、シール体１２の接
合体１４を越えて連続している。本実施態様の接合体１
４は、対比すると非常に小さい溝部のみを有している
が、他の実施態様においては、接合体１４にも大きい溝
部を備えることも可能である。図１乃至図１２に示す実
施の態様においては、シール体１２の主シール体１３に
おける溝部１６の底面は平らで閉塞方向５に垂直に配向
されている。この場合は、溝部１６の側縁１９は底面に
対し９０度の角度で取囲んでいる。

【００１９】図１４に示す実施態様においては、シール
体１２の溝部１６の底面は同様にフラットで閉塞方向５
に対し垂直に配向されている。この場合側縁１９は底面
と略６０度の角度２０を以って取囲んでいる。この実施
態様においては、側縁１９は接触面と同じようにシーリ
ング領域ともなっている。この場合、シーリング面７其
れ自体が隆起して形成され、シール体１２に形成された
溝部１６の側縁１９に接触する側縁部と、溝部１６の底
面と接触する上平面部とを備えている。上平面部及びシ
ーリング面と、側縁部との間の角度は、底面とシール体
１２の溝部１６の側縁１９とがなす角度２０に対応す
る。従って、シーリング面を形成するときの創成線は、
両側縁部と上平面部とからなる二等辺台形の形状を有す
る。シーリング面における該台形の上平面部に対応する
部分の創成線は、閉塞方向５に対して垂直に配向してい
る。

【００２０】図１５に示す本発明の実施態様において
は、閉塞体２の凹部１５は、シール体１２の溝部１６と
同じように、弧状、例えば、半円状である。明瞭な図と
するために、閉塞体２がバルブの完全な閉塞位置にない
ものを示している。弁本体１に配置されたシーリング面
７は２つの主シーリング面８の領域において隆起し、シ
ーリング面７は、その横断面が弧状、例えば略半円状
で、円弧の半径はシール体１２の溝部１６の半径に適合
し、望ましくは、シール体１２の溝部１６の半径よりや
や大きい。シール体１２の接合体１４と、シーリング面
７の接続面９とを同様に構成することもできる。従っ
て、シーリング面７の創成線は、少なくとも図１５に断
面を示す領域においては、弧状であり、該創成線は閉塞
方向５に垂直に配向された接線２２を有する。

【００２１】図１３に示す実施の態様においては、シー
ル領域から真空室への粒子の流出を緩和し又は防止する
一方、他方において、シール体を構成するエラストマー
に対して処理領域からの活性ガスが侵蝕することを緩和
又は防止するため、シール体とシーリング面との間の接
触領域に沿って側方向に一種のラビリンスを設けてい
る。該ラビリンスは、主シール体１３から見て、少なく
とも処理室側（真空室側）に配置される、即ち、ラビリ
ンスは、反応ガスやプラズマを使用する処理が行われる
真空室に面している。閉塞体２に２つの側溝２３が設け
られている。これらの側溝２３はシールの全長に亘って
延出するか、または、少なくともシール体１２の主シー
ル体１３に沿って延出する。弁本体１に設けられ、シー
リング面７に沿って側方に並ぶ突条２４が側溝２３の中
に突出している。二本の側溝と突条の代わりに、二本よ
り多数の側溝と突条あるいは一本の側溝と突条を設ける
こともできる。逆に、弁本体１に側溝２３を配置して閉
塞体２に突条２４を設ける配置は本発明における均等な
実施態様である。

【００２２】突条２４と協働してシーリング面を形成す
る更なるシールが２つの側溝２３の一方に、例えば、シ
ール体１２から遠い方（図１３中左方）の側溝に配置す
ることができる。この補助的シールは弁開口部３を完全
に取り巻くようにし、閉じた環状に構成することも出き
るので外方のシール体１２を保護することができる。こ
れら２つのシール間の空間を排気することも出きる。

【００２３】他の種々の変更案または異なる実施態様が
本発明の範囲から逸脱することなく考えることができ、
可能である。例えば、凹部１５を閉塞体２に配設し、溝
部１６をシール体１２に配設して、シーリング面が配置
された隆起部１１あるいはシーリング面の隆起部１１
を、シーリング面７及びシール体１２の主シーリング面
８、主シール体１３が延出している部分にのみ設けるこ
ともできる。この種の構成は、少なくとも主シール面８
または主シール体１３の延出部より大きいことが好まし
い。以上の記載から理解できるように、シーリング面７
における主シーリング面８の仮想創成線は、少なくとも
閉塞方向５と実質的に垂直である部分または接線を備え
ている。「実質的に垂直」とは直角±２５°の偏差を考
慮に入れることを意味する。

【００２４】以上の記載から理解できるように、本発明
の技術範囲はここに示す実施態様に限られるものではな
く、均等である可能性のある全ての範囲を含めて請求の
範囲を参照して決定されるべきである。特に、シーリン
グ面７とシール体１２との弁本体１と閉塞体２とに関す
る逆の配置、即ちシーリング面７が閉塞体２に配置さ
れ、シール体１２が弁本体１に配置される構成は、シー
ル交換がより困難であるという不利はあるが均等である
と考慮されるべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る真空バルブの開放状態を示す概略
図。

【図２】図１に示す真空バルブの一部を上方から見た斜
視図。

【図３】図１に示す真空バルブの一部を下方から見た斜
視図。

【図４】本発明に係る真空バルブの弁本体の上方から見
た斜視図。

【図５】図４に示す弁本体の部分的拡大図。

【図６】本発明に係る真空バルブの閉塞体の下方から見
た斜視図。

【図７】図６に示す閉塞体の部分的拡大図で、シール体
を取り外した底面からの斜視図。

【図８】図７に示す閉塞体に対応する部分のシール体を
示す斜視図。

【図９】図１に示す真空バルブにおけるＡ−Ａ線に沿っ
た断面図。

【図１０】図９に示す断面図の部分的拡大図。

【図１１】図９に示す断面図の部分的拡大図。

【図１２】図９に示す断面図に対応する閉塞状態におけ
る真空バルブを示す断面図。

【図１３】本発明の他の実施態様を示し、図１２に示す
断面に対応するシール領域の拡大概略図。

【図１４】本発明の他の実施態様を示し、図１２に示す
断面に対応するシール領域の拡大概略図。

【図１５】本発明の他の実施態様を示し、図１２に示す
断面に対応するシール領域の拡大概略図。

【符号の説明】

１・・・弁本体、２・・・閉塞体、３・・・弁開口部、４・・・弁開
口部の軸線、５・・・閉塞方向、６・・・弁ロッド、７・・・シ
ーリング面、８・・・主シーリング面、９・・・接続面、１０
ａ，１０ｂ・・・仮想創成線、１１・・・隆起部、１２・・・シ
ール体、１３・・・主シール体、１４・・・接合体、１５・・・
凹部、１６・・・溝部、２３・・・側溝、２４・・・突条。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】軸線を有する弁開口部を備える弁本体と、
前記弁開口部の軸線に対して角度を有して延出する閉塞
方向に沿ってバルブの開放位置と閉塞位置との間を移動
する閉塞体と、前記弁開口部の周囲に配置され、該弁開
口部の軸線の方向に互いにオフセットして配置される２
つの主シーリング面が接続面によって接続されるシーリ
ング面と、該シーリング面の仮想の創成線は前記閉塞方
向に対して実質的に垂直に延出する部分または接線を含
み、前記閉塞体の周囲に配設されて前記シーリング面の
主シーリング面に対応する２つの主シール体と該主シー
ル体を接合する接合体とからなる閉じた環状のシール体
と、前記閉塞体を前記シール体が前記シーリング面に対
接するように閉塞方向に沿って移動する駆動手段とから
なる真空バルブであって、前記シール体における少なくとも１つの主シール体が長
さ方向の少なくとも一部に沿って、側縁が前記シーリン
グ面を向く横断面凹状の溝部を有し、前記主シール体は
前記閉塞体に備えられた凹部に配置されて該凹部の側縁
により側方が保持され、前記シーリング面の前記主シー
ル体に対応する部分は、前記弁本体に設けられた隆起部
上に配置されるか、あるいは隆起して設けられており、
バルブが閉塞するとき、前記隆起部が前記溝部に嵌入す
ることを特徴とする真空バルブ。
【請求項２】前記シール体の２つの主シール体は、少な
くとも全延出部より長い溝部を備えて前記閉塞体の凹部
に配置され、これに対応するシーリング面の全延出部は
弁本体の隆起部上に配置されるかまたは隆起して設けら
れ、バルブが閉塞するとき、前記隆起部が前記溝部に嵌
入することを特徴とする請求項１に記載の真空バルブ。
【請求項３】前記シール体の２つの主シール体は、全延
出部に溝部を備えて前記閉塞体の凹部に配置され、これ
に対応するシーリング面の主シーリング面は弁本体の隆
起部上に配置されるかまたは隆起して設けられ、バルブ
が閉塞するとき、前記隆起部が前記溝部に嵌入すること
を特徴とする請求項２に記載の真空バルブ。
【請求項４】前記シール体の溝部は、閉塞方向に対して
実質的に垂直に配向されたフラットな底面を有し、該底
面に対して４０°から９０°の間の角度を有して形成さ
れる側縁からなることを特徴とする請求項１に記載の真
空バルブ。
【請求項５】前記シール体の溝部は、横断面が曲面を備
え、前記シーリング面も対応する曲面を備えることを特
徴とする請求項１に記載の真空バルブ。
【請求項６】前記シール体の溝部及び対応するシーリン
グ面は、弧状であることを特徴とする請求項５に記載の
真空バルブ。
【請求項７】前記閉塞体における前記シール体の少なく
とも１側に少なくとも１つの側溝を設け、該側溝は前記
シール体の全長に亘ってシール体の側方に沿って延出す
るか、または前記シール体の主シール体の全長に亘って
主シール体の側方に沿って延出し、前記弁本体のシーリ
ング面の側方に設けられた突条が前記側溝に突入するこ
とを特徴とする請求項１に記載の真空バルブ。
【請求項８】前記閉塞体の側溝は二本設けられ、該側溝
に突入する前記弁本体の突条も二本設けられていること
を特徴とする請求項７に記載の真空バルブ。
【請求項９】前記閉塞方向は、前記弁開口部の軸線に対
して実質的に直角であることを特徴とする請求項１に記
載の真空バルブ。
【請求項１０】前記閉塞体の閉塞方向の移動は直線状の
移動であることを特徴とする請求項１に記載の真空バル
ブ。
【請求項１１】軸線を有する弁開口部を備える弁本体
と、前記弁開口部の周囲に配置されるシーリング面と、
前記弁開口部の軸線に対して角度を有して延出する閉塞
方向に沿ってバルブの開放位置と閉塞位置との間を移動
する閉塞体とを備える真空バルブの閉塞体において、前記閉塞体は周囲に配設された閉じた環状のシール体を
備え、該シール体は２つの主シール体と該主シール体を
接合する接合体とからなり、前記主シール体は前記閉塞体の外周に設けられた凹部に
配置されて該凹部の側縁により側方が保持され、少なくとも１つの主シール体が長さ方向の少なくとも一
部に沿って、側縁が前記シーリング面を向く横断面凹状
の溝部を有し、バルブが閉塞するとき、前記シーリング面の隆起が前記
溝部に嵌入することを可能とすることを特徴とする真空
バルブの閉塞体。
【請求項１２】前記閉塞体は、前記シール体の少なくと
も１側に少なくとも１つの側溝を設け、該側溝は前記シ
ール体の全長に亘ってシール体の側方に沿って延出する
か、または前記シール体の主シール体の全長に亘って主
シール体の側方に沿って延出することを特徴とする請求
項１１に記載の真空バルブの閉塞体。