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JP2003264438A - High frequency power amplifier - Google Patents

High frequency power amplifier

Info

Publication number
JP2003264438A
JP2003264438A JP2002063200A JP2002063200A JP2003264438A JP 2003264438 A JP2003264438 A JP 2003264438A JP 2002063200 A JP2002063200 A JP 2002063200A JP 2002063200 A JP2002063200 A JP 2002063200A JP 2003264438 A JP2003264438 A JP 2003264438A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
high frequency
power amplifier
transmission line
electrode layers
frequency power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002063200A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshito Masafuji
義人 正藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2002063200A priority Critical patent/JP2003264438A/en
Publication of JP2003264438A publication Critical patent/JP2003264438A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Amplifiers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To advantageously suppress lowering of power efficiency and output power in a high frequency power amplifier. <P>SOLUTION: The resistance loss is reduced by constituting a transmission line 28 provided to an amplifier circuit of two electrode layers 23 and 24 which are placed sandwiching a dielectric ceramic layer 22. Furthermore, occurrence of potential difference between the two electrode layers 23 and 24 is avoided by mutually connecting the two electrode layers 23 and 24 via a plurality of via hole conductors 29 provided at intervals equal to or less than 1/8 the wavelength of a high frequency signal passing through the transmission line 28. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、高周波電力増幅
器に関するもので、特に、たとえば移動体通信用高周波
電力増幅器モジュールのような多層セラミック基板を用
いて構成された高周波電力増幅器における伝送線路の構
造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency power amplifier, and more particularly to a structure of a transmission line in a high frequency power amplifier formed by using a multilayer ceramic substrate such as a high frequency power amplifier module for mobile communication. It is a thing.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、この発明にとって興味ある高周
波電力増幅器1の回路図である。図3に示した高周波電
力増幅器1は、移動体通信の分野において高周波電力増
幅器モジュールとして用いられるものであり、3段電界
効果トランジスタ(FET)電力増幅器を構成してい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a circuit diagram of a high frequency power amplifier 1 which is of interest to the present invention. The high frequency power amplifier 1 shown in FIG. 3 is used as a high frequency power amplifier module in the field of mobile communication, and constitutes a three-stage field effect transistor (FET) power amplifier.

【0003】図3を参照して、高周波電力増幅器1は、
増幅回路を構成するため、3段のFET2、3および4
と、入力整合回路5と、2つの段間整合回路6および7
と、FET2、3および4の各々のゲートバイアス回路
8、9および10ならびにドレインバイアス供給用チョ
ーク回路11、12および13と、出力整合回路14と
を備えている。
Referring to FIG. 3, the high frequency power amplifier 1 is
To form an amplifier circuit, three-stage FETs 2, 3 and 4
, Input matching circuit 5, and two interstage matching circuits 6 and 7
And gate bias circuits 8, 9 and 10 of each of FETs 2, 3 and 4, and drain bias supply choke circuits 11, 12 and 13, and an output matching circuit 14.

【0004】このような高周波電力増幅器1の中で、ド
レインバイアス供給用チョーク回路13において最も大
きな電流が流れる。たとえば、GSM(Global
System for Mobile Communi
cations)用電力増幅器では、2A前後の動作電
流が流れる。このため、ドレインバイアス供給用チョー
ク回路13の各々の直流抵抗が0.1Ωであったとして
も、その電圧降下は0.2Vとなり、たとえば3V程度
の電源電圧に対して、約6.7%の損失となり、電力付
加効率の低下はもちろん、出力電力の低下につながる。
In such high frequency power amplifier 1, the largest current flows in the drain bias supply choke circuit 13. For example, GSM (Global
System for Mobile Communi
The operating current of about 2 A flows in the power amplifier for the (stations). Therefore, even if the DC resistance of each of the drain bias supply choke circuits 13 is 0.1Ω, the voltage drop thereof is 0.2V, which is about 6.7% with respect to the power supply voltage of about 3V, for example. This results in loss, which leads to a reduction in output power as well as a reduction in power added efficiency.

【0005】また、GSM等の高出力の電力増幅器で用
いられるFETの最適負荷インピーダンスは数Ω以下で
あり、電力付加効率および出力電力の向上には、出力整
合回路14における伝送線路の抵抗成分をできるだけ零
に近づける必要がある。このため、出力整合回路14に
おける伝送線路で生じる直流抵抗は、最適負荷インピー
ダンスからのずれの原因となることはもちろん、抵抗損
失であるため、直接的に電力付加効率および出力電力の
低下を引き起こす。
The optimum load impedance of the FET used in a high output power amplifier such as GSM is several Ω or less. To improve the power added efficiency and the output power, the resistance component of the transmission line in the output matching circuit 14 is used. It is necessary to make it as close to zero as possible. Therefore, the DC resistance generated in the transmission line in the output matching circuit 14 causes not only the deviation from the optimum load impedance but also resistance loss, which directly causes a reduction in the power addition efficiency and the output power.

【0006】他方、図3に示したような高周波電力増幅
器1を構成する電力増幅器モジュールを、多層セラミッ
ク基板をもって構成した場合、ドレインバイアス供給用
チョーク回路11〜13や出力整合回路14に備える伝
送線路は、多層セラミック基板に備える電極層によって
与えられることになるが、通常、多層セラミック基板に
備える電極層の厚みは3〜15μm程度である。一般的
な樹脂製のプリント回路基板では、電極層の厚みは18
〜40μm程度であるが、これと比較して、多層セラミ
ック基板における電極層の厚みは半分以下である。この
ため、多層セラミック基板における電極層にあっては、
一般的な樹脂製のプリント回路基板の場合に比べて、抵
抗成分が2倍以上となってしまう。
On the other hand, when the power amplifier module constituting the high frequency power amplifier 1 as shown in FIG. 3 is formed of a multilayer ceramic substrate, the transmission lines provided in the drain bias supply choke circuits 11 to 13 and the output matching circuit 14. Will be given by the electrode layer provided on the multilayer ceramic substrate, but the thickness of the electrode layer provided on the multilayer ceramic substrate is usually about 3 to 15 μm. In a general resin printed circuit board, the thickness of the electrode layer is 18
Although it is about 40 μm, the thickness of the electrode layer in the multilayer ceramic substrate is less than half of that. Therefore, in the electrode layer in the multilayer ceramic substrate,
The resistance component becomes twice or more as compared with the case of a general resin printed circuit board.

【0007】この問題を解決するため、特開2001−
320251号公報においては、半導体素子に電流を供
給するバイアス回路の伝送線路を、誘電体セラミック層
の厚み方向に対向する2つ以上の電極層によって与える
ことが提案されている。この技術によれば、各電極層の
抵抗成分が並列に接続された状態となるので、伝送線路
全体としての抵抗損失を低減することができる。
In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-2001
In Japanese Patent No. 320251, it is proposed to provide a transmission line of a bias circuit for supplying a current to a semiconductor element with two or more electrode layers facing each other in the thickness direction of the dielectric ceramic layer. According to this technique, the resistance component of each electrode layer is connected in parallel, so that the resistance loss of the entire transmission line can be reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】図3に示したドレイン
バイアス供給用チョーク回路11〜13のようなバイア
ス回路では、本来、直流しか流れない。そのために、バ
イアス回路には、交流信号が流れないようにする必要が
ある。言い換えると、バイアス回路であっても、交流信
号のことを考慮して設計する必要がある。
In a bias circuit such as the drain bias supply choke circuits 11 to 13 shown in FIG. 3, only direct current flows originally. Therefore, it is necessary to prevent an AC signal from flowing in the bias circuit. In other words, even the bias circuit needs to be designed in consideration of the AC signal.

【0009】しかしながら、前述した特開2001−3
20251号公報に記載された技術によれば、高周波の
交流信号が少なくとも2つの経路を流れることができる
ようになっているので、2つの経路の間に電位差が生じ
る可能性がある。このように、電位差が生じると、一方
の経路のみにしか電流(直流および交流のいずれについ
ても)が流れなくなり、そのため、伝送線路を複数の電
極層によって与える意味がなくなるという問題を招く。
However, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2001-3
According to the technique described in Japanese Patent No. 20251, a high-frequency AC signal can flow through at least two paths, and thus a potential difference may occur between the two paths. In this way, when a potential difference occurs, current (both direct current and alternating current) flows only in one path, which causes a problem that it becomes meaningless to provide a transmission line with a plurality of electrode layers.

【0010】そこで、この発明の目的は、上述したよう
な問題を解決し得る高周波電力増幅器を提供しようとす
ることである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a high frequency power amplifier which can solve the above problems.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は、複数の誘電
体セラミック層と複数の電極層とが積層された構造を有
する多層セラミック基板と、増幅回路を構成するように
多層セラミック基板の表面または内部に実装される半導
体素子および受動素子とを備え、かつ、増幅回路に備え
る伝送線路が電極層の少なくとも一部によって与えられ
ている、高周波電力増幅器に向けられるものであって、
上述した技術的課題を解決するため、次のような構成を
備えることを特徴としている。
According to the present invention, there is provided a multilayer ceramic substrate having a structure in which a plurality of dielectric ceramic layers and a plurality of electrode layers are laminated, and a surface of the multilayer ceramic substrate so as to form an amplifier circuit or A semiconductor device and a passive device mounted inside, and a transmission line provided in an amplifier circuit is provided by at least a part of an electrode layer, which is directed to a high frequency power amplifier,
In order to solve the above-mentioned technical problem, the following features are provided.

【0012】すなわち、増幅回路に備える伝送線路を与
える電極層が、誘電体セラミック層を挟んで位置する少
なくとも2つの電極層から構成されるとともに、これら
少なくとも2つの電極層が、所定の間隔をもって設けら
れた複数のビアホール導体を介して互いに接続されてい
ることを特徴としている。
That is, the electrode layer for providing the transmission line included in the amplifier circuit is composed of at least two electrode layers positioned with the dielectric ceramic layer sandwiched therebetween, and these at least two electrode layers are provided with a predetermined interval. It is characterized in that they are connected to each other through a plurality of via-hole conductors.

【0013】好ましくは、上述の複数のビアホール導体
は、伝送線路を通る高周波信号の波長の1/8以下の間
隔をもって設けられる。
Preferably, the above-mentioned plurality of via-hole conductors are provided at intervals of ⅛ or less of the wavelength of the high frequency signal passing through the transmission line.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、この発明が、図3に示し
た高周波電力増幅器1におけるドレインバイアス供給用
チョーク回路13および出力整合回路14に適用された
実施形態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment in which the present invention is applied to the drain bias supply choke circuit 13 and the output matching circuit 14 in the high frequency power amplifier 1 shown in FIG. 3 will be described below.

【0015】図1は、高周波電力増幅器1における、図
3に示したドレインバイアス供給用チョーク回路13お
よび出力整合回路14が構成された部分を図解的に示す
平面図であり、図2は、高周波電力増幅器1の、図1に
示した回路要素を備える部分を図解的に示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a part of the high frequency power amplifier 1 in which the drain bias supply choke circuit 13 and the output matching circuit 14 shown in FIG. 3 are formed, and FIG. It is sectional drawing which shows the part provided with the circuit element shown in FIG. 1 of the power amplifier 1 diagrammatically.

【0016】図3に示した最終段のFET4を含むモノ
リシックマイクロ波集積回路(MMICチップ17が、
図1および図2に示されている。また、図3に示したコ
ンデンサC1、C2、C3およびC4をそれぞれ構成す
るコンデンサチップ18、19、20および21が図1
に示され、また、これらのうち、コンデンサC4を構成
するコンデンサチップ21が図2に示されている。
A monolithic microwave integrated circuit (MMIC chip 17 including the final stage FET 4 shown in FIG.
It is shown in FIGS. 1 and 2. Further, the capacitor chips 18, 19, 20 and 21 forming the capacitors C1, C2, C3 and C4 shown in FIG.
2 and, of these, the capacitor chip 21 forming the capacitor C4 is shown in FIG.

【0017】高周波電力増幅器1は、図2に示されてい
るように、複数の誘電体セラミック層22と複数の電極
層23,24,25,26,…とが積層された構造を有
する多層セラミック基板27を備えている。上述したM
MICチップ17およびコンデンサチップ18〜21
は、多層セラミック基板27の表面に実装されている。
なお、MMICチップ17のような半導体素子およびコ
ンデンサチップ18〜21のような受動素子の少なくと
も各一部は、多層セラミック基板27の内部に実装され
ることもある。
As shown in FIG. 2, the high frequency power amplifier 1 is a multi-layer ceramic having a structure in which a plurality of dielectric ceramic layers 22 and a plurality of electrode layers 23, 24, 25, 26, ... Are laminated. A substrate 27 is provided. M mentioned above
MIC chip 17 and capacitor chips 18-21
Are mounted on the surface of the multilayer ceramic substrate 27.
At least a part of the semiconductor element such as the MMIC chip 17 and the passive element such as the capacitor chips 18 to 21 may be mounted inside the multilayer ceramic substrate 27.

【0018】図1および図2には、ドレインバイアス供
給用チョーク回路13および出力整合回路14に備える
伝送線路28が図示されている。この伝送線路28は、
図2によく示されているように、誘電体セラミック層2
2を挟んで位置する2つの電極層23および24から構
成されている。また、これら2つの電極層23および2
4は、所定の間隔をもって設けられた複数のビアホール
導体29を介して互いに接続されている。
1 and 2 show a transmission line 28 provided in the drain bias supply choke circuit 13 and the output matching circuit 14. This transmission line 28 is
As best shown in FIG. 2, the dielectric ceramic layer 2
It is composed of two electrode layers 23 and 24 which are located with the electrode 2 in between. Also, these two electrode layers 23 and 2
4 are connected to each other via a plurality of via-hole conductors 29 provided at a predetermined interval.

【0019】これらビアホール導体29は、伝送線路2
8を通る高周波信号の波長の1/8以下の間隔をもって
設けられていることが好ましい。この高周波信号の波長
は、主として誘電体セラミック層22の誘電率によって
決まる。また、ビアホール導体29の間隔は、実際に
は、動作周波数の波長の1/8以下といっても、1/8
近傍ではなく、もっと短くされる。
These via-hole conductors 29 are used for the transmission line 2
It is preferable that they are provided at intervals of ⅛ or less of the wavelength of the high frequency signal passing through 8. The wavelength of the high frequency signal is mainly determined by the dielectric constant of the dielectric ceramic layer 22. In addition, the distance between the via-hole conductors 29 is actually ⅛ or less of the wavelength of the operating frequency,
Not shorter, but shorter.

【0020】このように、ビアホール導体29を、電極
層23および24間を接続するように設けることによっ
て、電極層23および24間での電位差をなくすことが
でき、伝送線路28を2つの電極層23および24によ
って与えたことの意義がより完璧なものとされることが
できる。
By providing the via-hole conductor 29 so as to connect the electrode layers 23 and 24 in this manner, the potential difference between the electrode layers 23 and 24 can be eliminated, and the transmission line 28 can be connected to the two electrode layers. The significance given by 23 and 24 can be made more perfect.

【0021】図示しないが、同様の構成が、他のドレイ
ンバイアス供給用チョーク回路11および12等におい
ても適用されてもよい。
Although not shown, the same configuration may be applied to other drain bias supply choke circuits 11 and 12 and the like.

【0022】この発明の要旨とは直接関係がないため、
詳細な説明は省略するが、図1および図2には、MMI
Cチップ17と電極層23とを電気的に接続するボンデ
ィングワイヤ30およびコンデンサチップ21の一方端
子に電気的に接続される導体パッド31が図示され、ま
た、図1には、コンデンサチップ18、19および20
の各々の一方端子に電気的に接続される導体パッド3
2、33および34ならびに導体パッド32、33およ
び34をグラウンド接続するためのビアホール導体3
5、36および37が図示され、また、図2には、電極
層25および26を互いに電気的に接続するためのビア
ホール導体38が図示されている。
Since it is not directly related to the gist of the present invention,
Although detailed description is omitted, in FIGS.
A bonding wire 30 that electrically connects the C chip 17 and the electrode layer 23 and a conductor pad 31 that is electrically connected to one terminal of the capacitor chip 21 are shown. Further, in FIG. 1, the capacitor chips 18 and 19 are shown. And 20
Pad 3 electrically connected to one terminal of each
Via hole conductor 3 for grounding 2, 33 and 34 and conductor pads 32, 33 and 34
5, 36 and 37 are shown, and in FIG. 2 via hole conductors 38 for electrically connecting the electrode layers 25 and 26 to each other are shown.

【0023】以上、この発明を特定的な実施形態に関連
して説明したが、この発明の範囲内において、その他、
種々の変形例が可能である。
Although the present invention has been described above with reference to specific embodiments, within the scope of the present invention, other
Various modifications are possible.

【0024】たとえば、上述の実施形態では、伝送線路
28を与える一方の電極層23が多層セラミック基板2
7の表面に形成され、他方の電極層24が多層セラミッ
ク基板27の内部に形成されたが、伝送線路を与える双
方の電極層のいずれもが多層セラミック基板の内部に形
成されてもよい。
For example, in the above-described embodiment, the one electrode layer 23 that provides the transmission line 28 is the multilayer ceramic substrate 2
Although the other electrode layer 24 formed on the surface of No. 7 and the other electrode layer 24 is formed inside the multilayer ceramic substrate 27, both of the electrode layers providing the transmission line may be formed inside the multilayer ceramic substrate.

【0025】また、伝送線路28は、2つの電極層23
および24によって与えられたが、3つ以上の電極層に
よって与えられてもよい。
The transmission line 28 has two electrode layers 23.
And 24, but may be provided by more than two electrode layers.

【0026】また、上述した実施形態では、2つの電極
層23および24によって与えられた伝送線路28は、
ドレインバイアス供給用チョーク回路13および出力整
合回路14の双方において適用されたが、これらのいず
れか一方のみに適用されてもよい。
In the above-described embodiment, the transmission line 28 provided by the two electrode layers 23 and 24 is
Although it is applied to both the drain bias supply choke circuit 13 and the output matching circuit 14, it may be applied to only one of them.

【0027】また、ドレインバイアス供給用チョーク回
路11〜13は、ミアンダラインであっても、スパイラ
ルインダクタであってもよい。
The drain bias supply choke circuits 11 to 13 may be meander lines or spiral inductors.

【0028】また、上述した実施形態は、FETを用い
た3段増幅器を例示して説明したが、半導体素子すなわ
ち能動素子としては、FETのほか、HBT、MOSF
ETなどであってもよく、また、FET等の半導体素子
の段数は、1段、2段あるいは4段以上であってもよ
い。
In the above-mentioned embodiment, the three-stage amplifier using the FET has been described as an example. However, as the semiconductor element, that is, the active element, in addition to the FET, HBT, MOSF may be used.
It may be ET or the like, and the number of semiconductor elements such as FET may be 1, 2, or 4 or more.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、増幅
回路に備える伝送線路が多層セラミック基板の電極層に
よって与えられながらも、この電極層は、誘電体セラミ
ック層を挟んで位置する少なくとも2つの電極層から構
成されるので、伝送線路の抵抗損失を低減することがで
き、また、これら少なくとも2つの電極層が、所定の間
隔をもって設けられた複数のビアホール導体を介して互
いに接続されるので、電極層間で電位差が生じることが
防止され、したがって、伝送線路を少なくとも2つの電
極層から構成したことによる意義が減殺されることを防
止することができる。
As described above, according to the present invention, although the transmission line provided in the amplifier circuit is provided by the electrode layers of the multilayer ceramic substrate, the electrode layers are located at least with the dielectric ceramic layers interposed therebetween. Since it is composed of two electrode layers, it is possible to reduce the resistance loss of the transmission line, and these at least two electrode layers are connected to each other through a plurality of via-hole conductors provided at a predetermined interval. Therefore, it is possible to prevent a potential difference from being generated between the electrode layers, and thus it is possible to prevent the significance of the transmission line being composed of at least two electrode layers from being diminished.

【0030】したがって、この発明によれば、高周波電
力増幅器における電力付加効率および出力電力の低下を
有利に抑えることができる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to advantageously suppress the reduction of the power added efficiency and the output power in the high frequency power amplifier.

【0031】上述したビアホール導体が伝送線路を通る
高周波信号の波長の1/8以下の間隔をもって設けられ
ていると、上述したような効果をより確実に発揮させる
ことができる。
If the via-hole conductors described above are provided at intervals of ⅛ or less of the wavelength of the high-frequency signal passing through the transmission line, the above-mentioned effects can be more reliably exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施形態による高周波電力増幅器
1の主要部を図解的に示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a main part of a high frequency power amplifier 1 according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示した部分を図解的に示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a sectional view schematically showing a portion shown in FIG.

【図3】この発明にとって興味ある高周波電力増幅器1
の全体を示す回路図である。
FIG. 3 is a high frequency power amplifier 1 of interest to the present invention.
It is a circuit diagram showing the whole of.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 高周波電力増幅器 2,3,4 FET 11,12,13 ドレインバイアス供給用チョーク回
路 14 出力整合回路 17 MMICチップ 18,19,20,21 コンデンサチップ 22 誘電体セラミック層 23,24,25,26 電極層 27 多層セラミック基板 28 伝送線路 29 ビアホール導体
1 High Frequency Power Amplifier 2, 3, 4 FET 11, 12, 13 Drain Bias Supply Choke Circuit 14 Output Matching Circuit 17 MMIC Chip 18, 19, 20, 21 Capacitor Chip 22 Dielectric Ceramic Layer 23, 24, 25, 26 Electrode Layer 27 Multilayer ceramic substrate 28 Transmission line 29 Via hole conductor

フロントページの続き Fターム(参考) 5J067 AA01 AA04 AA41 CA36 FA16 HA09 HA29 HA33 KA12 KA29 KA66 KA68 KS11 LS11 QA04 QS04 SA13 5J092 AA01 AA04 AA41 CA36 FA16 HA09 HA29 HA33 KA12 KA29 KA66 KA68 QA04 SA13 5J500 AA01 AA04 AA41 AC36 AF16 AH09 AH29 AH33 AK12 AK29 AK66 AK68 AQ04 AS13 Continued front page    F term (reference) 5J067 AA01 AA04 AA41 CA36 FA16                       HA09 HA29 HA33 KA12 KA29                       KA66 KA68 KS11 LS11 QA04                       QS04 SA13                 5J092 AA01 AA04 AA41 CA36 FA16                       HA09 HA29 HA33 KA12 KA29                       KA66 KA68 QA04 SA13                 5J500 AA01 AA04 AA41 AC36 AF16                       AH09 AH29 AH33 AK12 AK29                       AK66 AK68 AQ04 AS13

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の誘電体セラミック層と複数の電極
層とが積層された構造を有する多層セラミック基板と、
増幅回路を構成するように前記多層セラミック基板の表
面または内部に実装される半導体素子および受動素子と
を備え、かつ、前記増幅回路に備える伝送線路が前記電
極層の少なくとも一部によって与えられている、高周波
電力増幅器であって、 前記増幅回路に備える伝送線路を与える前記電極層は、
前記誘電体セラミック層を挟んで位置する少なくとも2
つの電極層から構成され、かつ、前記少なくとも2つの
電極層は、所定の間隔をもって設けられた複数のビアホ
ール導体を介して互いに接続されていることを特徴とす
る、高周波電力増幅器。
1. A multilayer ceramic substrate having a structure in which a plurality of dielectric ceramic layers and a plurality of electrode layers are laminated,
A semiconductor element and a passive element mounted on the surface or inside of the multilayer ceramic substrate so as to form an amplifier circuit, and a transmission line included in the amplifier circuit is provided by at least a part of the electrode layer. A high frequency power amplifier, wherein the electrode layer that provides a transmission line included in the amplification circuit,
At least two portions that are located with the dielectric ceramic layer sandwiched therebetween
A high-frequency power amplifier, comprising one electrode layer, wherein the at least two electrode layers are connected to each other via a plurality of via-hole conductors provided at a predetermined interval.
【請求項2】 複数の前記ビアホール導体は、前記伝送
線路を通る高周波信号の波長の1/8以下の間隔をもっ
て設けられている、請求項1に記載の高周波電力増幅
器。
2. The high frequency power amplifier according to claim 1, wherein the plurality of via hole conductors are provided at intervals of ⅛ or less of a wavelength of a high frequency signal passing through the transmission line.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006325096A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd High-frequency power amplifier
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