JP2003222972A - Pattern forming material and image forming material - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はパターン形成材料及
び画像形成材料に関し、特に、解像度に優れた画像を容
易に形成することができるパターン形成材料、及びそれ
を用いたディスプレイ材料に有用な画像形成材料に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern forming material and an image forming material, and more particularly to a pattern forming material capable of easily forming an image having excellent resolution, and an image forming useful as a display material using the same. Regarding materials.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、パターン形成方法としては、
主に、フォトレジストでよく使用されているフォトリソ
グラフィーでパターンを得る方法が多く用いられてい
る。この手法では、光照射してパターン形成した後に、
現像するという煩雑なプロセスを経て親疎水性のパター
ン形成を行っている。現像処理工程において現像処理液
を必要とする方法は環境には適しておらず、現像処理が
いらない簡易なパターン形成方法が望まれていた。2. Description of the Related Art Conventionally, as a pattern forming method,
A method of obtaining a pattern by photolithography, which is often used for photoresists, is mainly used. In this method, after light irradiation and pattern formation,
A hydrophilic / hydrophobic pattern is formed through a complicated process of developing. The method that requires a developing solution in the developing process is not suitable for the environment, and a simple pattern forming method that does not require the developing process has been desired.
【0003】これらの問題を解決する手段として、近
年、現像を必要としないパターン形成材料を用いた表面
パターンニングが提案されている。その表面パターンニ
ングに用いられる材料としては、例えば、角岡正弘著
「表面」Vol.33,No.6(1995),374
−379における、光分解性の1,2,3,4−テトラ
ヒドロナフチリデンイミノ−p−スチレンスルホナート
が挙げられる。その手法とは、1,2,3,4−テトラ
ヒドロナフチリデンイミノ−p−スチレンスルホナート
と、メタクリル酸エステルあるいはスチレンとの共重合
体と、を用いることにより、光照射で疎水性であるスル
ホン酸エステルから親水性であるスルホン酸に官能基置
換させ、現像プロセスを経ることなく露光部と未露光部
で親疎水性のパターンを形成するものである。As a means for solving these problems, recently, surface patterning using a pattern forming material which does not require development has been proposed. Examples of the material used for the surface patterning include “Surface” Vol. 33, No. 6 (1995), 374
-379, the photodegradable 1,2,3,4-tetrahydronaphthylideneimino-p-styrenesulfonate. The method is a sulfone that is hydrophobic under light irradiation by using 1,2,3,4-tetrahydronaphthylideneimino-p-styrene sulfonate and a copolymer of methacrylic acid ester or styrene. A functional group is substituted with a hydrophilic sulfonic acid from an acid ester to form a hydrophilic / hydrophobic pattern in exposed and unexposed areas without going through a development process.
【0004】しかし、かかる表面パターンニングの手法
においては、光照射により発生した親水部が溶け出して
しまい、肝心の親疎水性のパターンが得られにくいとい
う問題点が生じていた。この問題を解決するために、架
橋性基を導入した共重合体を合成し、ポリマーを架橋し
て膜強度を向上させる手段をとることも考えられるが、
親水部の強度は向上するものの、親水性の官能基が架橋
性ポリマー鎖に潜り込んでしまい、親水部の親水性が不
充分となり、親水性と疎水性の差が小さくなり、解像度
の高いパターンを得難いという新たな問題が生じること
が分かった。However, such a surface patterning method has a problem that the hydrophilic portion generated by light irradiation is melted out, and it is difficult to obtain the essential hydrophilic / hydrophobic pattern. In order to solve this problem, it is also possible to synthesize a copolymer having a crosslinkable group introduced, and to take a means to crosslink the polymer to improve the film strength.
Although the strength of the hydrophilic part is improved, the hydrophilic functional group penetrates into the crosslinkable polymer chain, the hydrophilic part becomes insufficient in hydrophilicity, the difference between hydrophilicity and hydrophobicity becomes small, and a pattern with high resolution is formed. It turns out that a new problem arises that it is difficult to obtain.
【0005】また、市村國弘著「Polymer Pr
eprints」Vol.49,No.12(200
0)には、ビスピリジニオエチレン構造を有する化合物
を用いた光二量化反応を利用する手法が開示されてい
る。これは、ガラス基板上に、ビスピリジニオエチレン
構造を有する化合物を吸着させることにより、光照射で
ビスピリジニオエチレン構造を二量化させて疎水部が形
成され、食塩水につけるだけで露光部と未露光部で、親
疎水性のパターンを形成するものである。しかしなが
ら、この手法においても、親水性と疎水性の差は十分と
はいえなかった。Kunihiro Ichimura "Polymer Pr"
eprints "Vol. 49, No. 12 (200
0) discloses a method utilizing a photodimerization reaction using a compound having a bispyridinioethylene structure. This is because by adsorbing a compound having a bispyridinioethylene structure on a glass substrate, the bispyridinioethylene structure is dimerized by light irradiation to form a hydrophobic part, which is exposed only by exposing it to saline solution. The part and the unexposed part form a hydrophilic / hydrophobic pattern. However, even with this method, the difference between hydrophilicity and hydrophobicity was not sufficient.
【0006】また、配向が制御された緻密なパターンを
形成する方法として、例えば、特開2000−2477
99号公報には、機能性有機分子薄膜の製造方法が提案
されている。この方法によれば、緻密なパターンを形成
することができるが、像様の書込みは、従来の平版印刷
版原版の画像形成方法の如く、リスフィルムのようなマ
スクを介してUV露光を行うものであり、工程が煩雑で
あるという問題を有していた。Further, as a method for forming a dense pattern with controlled orientation, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-2477 is used.
Japanese Patent Laid-Open No. 99 proposes a method for producing a functional organic molecular thin film. According to this method, a fine pattern can be formed, but the imagewise writing is performed by UV exposure through a mask such as a lith film as in the conventional image forming method of a lithographic printing plate precursor. Therefore, there is a problem that the process is complicated.
【0007】パターン形成材料に、デジタル化された画
像データーからリスフィルムなどの媒介を用いずに直
接、像様の書込みを行う方法が注目され、種々提案され
てきている。このようなデジタル化された書込み方法を
利用すれば、パターン形成材料の面積や特性に係わら
ず、鮮明な画像を形成することが期待されるが、所望の
パターン形成材料に、このデジタル化されたデータに基
づいて、例えば、光照射を行うことにより、現像などの
他の工程を必要とせず、十分な親水性と疎水性の差を与
えるパターン形成技術は未だ確立されていないのが、現
状である。Attention has been drawn to various methods of directly writing imagewise on pattern forming materials from digitized image data without using media such as a lith film, and various proposals have been made. If such a digitized writing method is used, it is expected that a clear image will be formed regardless of the area and characteristics of the pattern forming material. Based on the data, for example, by performing light irradiation, there is no need to perform other steps such as development, and a pattern forming technique that provides sufficient hydrophilicity and hydrophobicity has not yet been established. is there.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術の欠点
を考慮してなされた本発明の目的は、露光後、現像工程
を行うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性
変化により親水性と疎水性の差が大きく明確な2つの領
域を形成することが可能であるパターン形成材料、及び
それを用いる高解像度の画像形成が可能な画像形成材料
を提供することにある。The object of the present invention, which has been made in consideration of the above-mentioned drawbacks of the prior art, is that a pattern can be formed after the exposure without performing a developing step, and the hydrophilicity can be obtained by changing the polarity. It is an object of the present invention to provide a pattern forming material capable of forming two distinct regions having a large difference in hydrophobicity and an image forming material capable of forming a high resolution image using the pattern forming material.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
した結果、露光により表面の特性が変化する高分子化合
物を応用することで上記目的が達成されることを見いだ
し本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by applying a polymer compound whose surface characteristics are changed by exposure, and complete the present invention. Came to.
【0010】すなわち、本発明のパターン形成材料は、
支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有
し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されう
る構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を
備え、該パターン形成層に、700nm以下の光照射を
行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させるこ
とを特徴とする。ここで、パターン形成層に用いられる
光により親疎水性が変化する官能基(以下、適宜、極性
変換基と称する。)を有し、かつ、該支持体上に直接化
学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物
が、高分子鎖の末端で直接化学結合により該支持体表面
に結合されている直鎖状高分子化合物であるか、もしく
は、高分子鎖の末端で幹高分子化合物を介して化学的結
合により該支持体表面に結合されている直鎖状高分子化
合物であることが好ましい態様である。本発明のパター
ン形成材料において用いられる極性変換基は、光により
親疎水性が高感度で変化すると共に、形成された親疎水
性を特徴づける極性変換基の優れた運動性により該極性
変換基が表面に現れているため、親水性と疎水性の差が
大きく、明確な2つの領域を形成することができる。That is, the pattern forming material of the present invention is
A pattern forming layer comprising a polymer having a functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light and having a structure capable of being directly bonded to the support by a chemical bond is provided on the support. Further, it is characterized in that the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface of the pattern forming layer is changed by performing light irradiation of 700 nm or less. Here, a structure having a functional group (hereinafter, appropriately referred to as a polar conversion group) whose hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light used for the pattern forming layer and having a structure capable of being directly bonded to the support by a chemical bond is used. The polymer compound has a linear polymer compound bound to the surface of the support by a direct chemical bond at the end of the polymer chain, or via a trunk polymer compound at the end of the polymer chain. In a preferred embodiment, the linear polymer compound is bound to the surface of the support by a chemical bond. The polar conversion group used in the pattern forming material of the present invention, the hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light with high sensitivity, and the polarity conversion group is characterized by the excellent mobility of the formed hydrophilicity / hydrophobicity on the surface. Since it appears, there is a large difference between hydrophilicity and hydrophobicity, and two distinct regions can be formed.
【0011】また、本発明の画像形成材料は、支持体上
に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、
該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有
する高分子化合物からなる画像記録層を備え、該画像記
録層に、700nm以下の光照射を行って、画像記録層
表面の親疎水性を変化させ、親疎水性が変化した領域に
可視像を形成可能な有機又は無機分子を吸着させること
を特徴とする。このように、本発明の画像形成材料は、
その表面に、光により親疎水性が変化する官能基を有す
る高分子化合物の表面の極性に応じて、親水性及び疎水
性の領域に、選択的に、可視像を形成する有機又は無機
分子を吸着させることで画像形成を行うため、画像形成
材料の面積に係わらず、デジタルデータに基づく高解像
度の画像を得ることができる。Further, the image-forming material of the present invention has a functional group on the support, the hydrophilicity / hydrophobicity of which is changed by light, and
An image recording layer composed of a polymer compound having a structure capable of being directly bonded by a chemical bond is provided on the support, and the image recording layer is irradiated with light of 700 nm or less to change the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface of the image recording layer. It is characterized in that organic or inorganic molecules capable of forming a visible image are adsorbed to the region where the hydrophilicity / hydrophobicity is changed. Thus, the image forming material of the present invention,
Depending on the polarity of the surface of the polymer compound having a functional group whose hydrophilicity and hydrophobicity is changed by light, organic or inorganic molecules that form a visible image are selectively formed in hydrophilic and hydrophobic regions according to the polarity of the surface. Since image formation is performed by adsorption, a high-resolution image based on digital data can be obtained regardless of the area of the image forming material.
【0012】画像形成材料の画像記録層として用いられ
る極性変換基を有する高分子化合物は、例えば、その末
端で直接または幹高分子化合物を介して支持体に結合し
ており、さらに、可視パターンを形成するための有機或
いは無機分子は極性に応じて記録層表面にイオン的に強
固に吸着するため、画像部領域、非画像部領域のいずれ
も高い強度と耐磨耗性を示すことになる。その結果、薄
層であっても、高強度な画像形成が可能であり、また、
有機分子として染料を或いは無機分子として各種の顔料
を使用した場合、極性変換基にイオン的に吸着するた
め、薄層であっても高濃度で鮮鋭度に優れた画像を形成
しうるものと考えられる。さらに、本発明においては、
有機又は無機分子の吸着能を有する極性変換基は、運動
性の高いグラフト鎖構造を有するため、一般的な架橋高
分子膜による分子の吸着に比較して、吸着速度が極めて
早く、単位面積当たりに吸着しうる分子の量が多くなる
という特徴を有する。本発明の画像形成材料では、画質
を維持しながらも、画像記録層を薄くして、一層の高感
度化を図ることが可能であると共に、画像記録層を構成
する高分子化合物が支持体(受像材料)と直接化学結合
されているため、薄層であっても耐久性に優れるという
利点を有する。The polymer compound having a polar conversion group which is used as the image recording layer of the image forming material is bound to the support directly at its terminal or through the trunk polymer compound, and further, a visible pattern is formed. Since the organic or inorganic molecules to be formed are ionically strongly adsorbed on the surface of the recording layer depending on the polarity, both the image area and the non-image area exhibit high strength and abrasion resistance. As a result, high-intensity image formation is possible even with a thin layer.
When a dye is used as an organic molecule or various pigments are used as an inorganic molecule, it is considered to be capable of forming an image with excellent sharpness even in a thin layer because it is ionically adsorbed to a polar conversion group. To be Furthermore, in the present invention,
The polarity conversion group, which has the ability to adsorb organic or inorganic molecules, has a graft chain structure with high mobility, so the adsorption rate is extremely fast compared to the adsorption of molecules by general cross-linked polymer membranes, and per unit area The feature is that the amount of molecules that can be adsorbed on is increased. In the image-forming material of the present invention, it is possible to make the image-recording layer thinner and further improve the sensitivity while maintaining the image quality, and the polymer compound constituting the image-recording layer is used as the support ( Since it is directly chemically bonded to the image receiving material), it has an advantage that it is excellent in durability even if it is a thin layer.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下に本発明のパターン形成材料
及び画像形成材料について詳細に説明する。本発明のパ
ターン形成材料及び画像形成材料の特徴である、光によ
り親疎水性が変化する官能基を有する高分子鎖の末端が
直接もしくは幹高分子を介して支持体表面に化学的に結
合されたパターン形成層及び画像記録層を作成するため
の手段について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The pattern forming material and image forming material of the present invention will be described in detail below. The end of the polymer chain having a functional group whose hydrophilicity and hydrophobicity is changed by light, which is a feature of the pattern forming material and the image forming material of the present invention, is chemically bonded to the surface of the support directly or through the trunk polymer. Means for forming the pattern forming layer and the image recording layer will be described.
【0014】〔表面グラフト重合〕本発明に係るパター
ン形成層及び画像記録層は、一般的に表面グラフト重合
と呼ばれる手段を用いて作成される。グラフト重合とは
高分子化合物鎖上に活性種を与え、これによって重合を
開始する別の単量体をさらに重合させ、グラフト(接ぎ
木)重合体を合成する方法で、特に活性種を与える高分
子化合物が固体表面を形成する時には表面グラフト重合
と呼ばれる。[Surface Graft Polymerization] The pattern forming layer and the image recording layer according to the present invention are prepared by a means generally called surface graft polymerization. Graft polymerization is a method of synthesizing a graft (grafting) polymer by giving an active species on the chain of a polymer compound, thereby further polymerizing another monomer that initiates the polymerization, and a polymer giving an active species in particular. When a compound forms a solid surface it is called surface graft polymerization.
【0015】本発明を実現するための表面グラフト重合
法としては、文献記載の公知の方法をいずれも使用する
ことができる。たとえば、新高分子実験学10、高分子
学会編、1994年、共立出版(株)発行、P135に
は表面グラフト重合法として、光グラフト重合法、プラ
ズマ照射グラフト重合法、が記載されている。また、吸
着技術便覧、NTS(株)、竹内監修、1999.2発
行、p203,p695には、γ線、電子線などの放射
線照射グラフト重合法が記載されている。光グラフト重
合法の具体的方法としては、特開平10−296895
号公報および特開平11−119413号公報に記載の
方法を使用することができる。As the surface graft polymerization method for realizing the present invention, any known method described in the literature can be used. For example, New Polymer Experiments 10, edited by Japan Society of Polymer Science, 1994, published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., P135 describes a photograft polymerization method and a plasma irradiation graft polymerization method as a surface graft polymerization method. Further, the radiation irradiation graft polymerization method using γ-rays, electron beams and the like is described in Adsorption Technology Handbook, NTS Corporation, supervised by Takeuchi, published in 1999.2, p203, p695. As a specific method of the photograft polymerization method, there is disclosed in JP-A-10-296895.
The methods described in JP-A No. 11-119413 and JP-A No. 11-119413 can be used.
【0016】高分子化合物鎖の末端が直接に化学的に結
合された表面グラフト層を作成するための手段として
は、これらの他、高分子化合物鎖の末端にトリアルコキ
シシリル基、イソシアネート基、アミノ基、水酸基、カ
ルボキシル基などの反応性官能基を付与し、これと支持
体表面に存在する官能基とのカップリング反応により形
成することもできる。なお、本発明における支持体表面
とは、その表面に、極性変換基を有する高分子化合物の
末端が直接または幹高分子化合物を介して化学的に結合
する機能を有する表面を示すものであり、支持体自体が
このような表面特性を有するものであってもよく、また
該支持体上に別途中間層を設け、該中間層がこのような
特性を有するものであってもよい。In addition to these means, a trialkoxysilyl group, an isocyanate group, an amino group may be added to the end of the polymer compound chain to form a surface graft layer in which the end of the polymer compound chain is chemically bonded directly. It can also be formed by providing a reactive functional group such as a group, a hydroxyl group, or a carboxyl group and coupling the functional group present on the surface of the support with the functional group. Incidentally, the support surface in the present invention, the surface, the end of the polymer compound having a polar conversion group has a function of chemically bonding directly or through the stem polymer compound, The support itself may have such surface characteristics, or an intermediate layer may be separately provided on the support and the intermediate layer may have such characteristics.
【0017】また、極性変換基を有する高分子化合物鎖
の末端が幹高分子化合物を介して化学的に結合された表
面を作成するための手段としては、支持体表面官能基と
カップリング反応しうる官能基を幹高分子高分子の側鎖
に付与し、グラフト鎖として親疎水性が変化する官能基
を有する高分子化合物鎖を組み込んだグラフト高分子化
合物を合成し、この高分子と下層表面官能基とのカップ
リング反応により形成することもできる。Further, as a means for preparing a surface in which the end of the polymer compound chain having a polar conversion group is chemically bound via the trunk polymer compound, a coupling reaction with a functional group on the surface of the support is carried out. Functional group is added to the side chain of the backbone polymer, and a graft polymer compound incorporating a polymer compound chain having a functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity changes as a graft chain is synthesized. It can also be formed by a coupling reaction with a group.
【0018】〔親疎水性が変化する官能基〕次に、本発
明のパターン形成材料及び画像形成材料の特徴の一つで
ある、光により親疎水性が変化する官能基(極性変換
基)について説明する。本発明に用いられる極性変換基
は、赤外線などの長波長露光や熱によらず、所定の波長
の光照射により直接に、分解、開環或いは二量化反応が
生じることで、高感度で極性が変化することを特徴とす
る。極性変換基としては、疎水性から親水性に変化する
官能基と、親水性から疎水性に変化する官能基の2種類
がある。[Functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity changes] Next, a functional group (polarity conversion group) whose hydrophilicity / hydrophobicity changes with light, which is one of the features of the pattern forming material and image forming material of the present invention, will be described. . The polarity conversion group used in the present invention is not sensitive to long-wavelength exposure such as infrared rays and heat, but directly decomposed by light irradiation of a predetermined wavelength, and undergoes ring-opening or dimerization reaction, resulting in high sensitivity and polarity. It is characterized by changing. There are two types of polarity conversion groups, a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic and a functional group that changes from hydrophilic to hydrophobic.
【0019】(疎水性から親水性に変化する官能基)疎
水性から親水性に変化する官能基としては、例えば、下
記一般式(1)〜(9)で表される官能基を用いること
ができる。(Functional group changing from hydrophobicity to hydrophilicity) As the functional group changing from hydrophobicity to hydrophilicity, for example, functional groups represented by the following general formulas (1) to (9) are used. it can.
【0020】本発明において、疎水性から親水性に変化
する官能基としては、下記一般式(1)で表されるもの
が挙げられる。In the present invention, examples of the functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic include those represented by the following general formula (1).
【0021】[0021]
【化1】 [Chemical 1]
【0022】(一般式(1)中、Lはポリマー骨格に連
結するのに必要な多価の非金属原子からなる有機基を表
す。R1、R2は、それぞれ独立に、アルキル基又は芳香
族環基を表す。また、R1及びR2は互いに結合して環を
形成してもよい。)(In the general formula (1), L represents an organic group composed of a polyvalent non-metal atom necessary for connecting to the polymer skeleton. R 1 and R 2 are each independently an alkyl group or an aromatic group. Represents a group ring group, and R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring.)
【0023】前記一般式(1)のR1、R2は、それぞれ
独立に、アルキル基又は芳香族環基を表し、R1及びR2
は互いに結合して環を形成してもよい。R1、R2で表さ
れるアルキル基は、炭素原子数1〜8の範囲であること
が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチ
ル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、
シクロペンチル基等が挙げられ、また、R1及びR2が、
−(CH2)n−、(n=1〜4)のユニットで互いに結
合していてもよい。これらの中でも、R1、R2は、−
(CH2)n−、(n=1〜4)のユニットで互いに結合
して環を形成していることが特に好ましい。R 1 and R 2 in the general formula (1) each independently represent an alkyl group or an aromatic ring group, and R 1 and R 2
May combine with each other to form a ring. The alkyl group represented by R 1 and R 2 preferably has 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and a heptyl group,
Octyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group,
A cyclopentyl group and the like, and R 1 and R 2 are
- (CH 2) n -, may be bonded to each other in units of (n = 1~4). Among these, R 1 and R 2 are-
It is particularly preferable that the units of (CH 2 ) n − and (n = 1 to 4) are bonded to each other to form a ring.
【0024】また、R1、R2で表されるアルキル基は、
置換もしくは非置換であってもよく、導入される置換基
としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ
る。好ましい例としては、F、Br、Cl、I等のハロ
ゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、
ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル
基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニ
ル基などが挙げられる。The alkyl group represented by R 1 and R 2 is
It may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group excluding hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group,
Formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group Methylphenyl group,
Examples thereof include a hydroxyphenyl group, a methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group and an acetoxyphenyl group.
【0025】R1、R2で表される芳香族環基は、炭素原
子数6〜14の範囲であることが好ましく、例えば、フ
ェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メシチル基が挙
げられ、中でも、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
また、R1、R2で表される芳香族環基は、置換もしくは
非置換であってもよく、導入される置換基としては、水
素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例
としては、F、Br、Cl、I等のハロゲン原子、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基などが挙げられる。The aromatic ring group represented by R 1 and R 2 preferably has 6 to 14 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group and a mesityl group. , Phenyl group and naphthyl group are preferred.
Further, the aromatic ring group represented by R 1 and R 2 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group and aryloxycarbonyl group.
【0026】上記のR1、R2のより具体的な例として
は、結合するカルボニル基、及び、該カルボニル基に結
合する窒素原子を含めた末端の構造が下記式で表される
ものが特に好ましい。More specific examples of R 1 and R 2 are those in which the terminal structure including the carbonyl group to be bonded and the nitrogen atom bonded to the carbonyl group is represented by the following formula. preferable.
【0027】[0027]
【化2】 [Chemical 2]
【0028】また、前記一般式(1)のLで表される非
金属原子からなる多価の連結基とは、1から60個まで
の炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から
50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原
子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つも
のである。その中でも、置換もしくは非置換の2価のベ
ンゼン環基、又は、炭素原子数1〜8のアルキル基が好
ましい。より具体的な連結基としては下記の構造単位が
組み合わさって構成されるものを挙げることができる。Further, the polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L in the general formula (1) means 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 It is composed of 1 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. Of these, a substituted or unsubstituted divalent benzene ring group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable. Examples of more specific linking groups include those formed by combining the following structural units.
【0029】[0029]
【化3】 [Chemical 3]
【0030】多価の連結基が置換基を有する場合、その
置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素数1から
20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭
素数6から16までのアリール基、水酸基、カルボキシ
ル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、ア
セトキシ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ
基、メトキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6ま
でのアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロ
ヘキシルオキシカルボニル基のような炭素数2から7ま
でのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカ
ーボネートのような炭酸エステル基等を用いることがで
きる。When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group, or a carbon number 6 to 16 such as a phenyl group or a naphthyl group. Up to aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfonamide groups, N-sulfonylamide groups, acetoxy groups such as acyloxy groups having 1 to 6 carbon atoms, methoxy groups, ethoxy groups having 1 to 6 carbon atoms An alkoxy group, a halogen atom such as chlorine or bromine,
It is possible to use an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonic acid ester group such as t-butyl carbonate.
【0031】本発明において、疎水性から親水性に変化
する官能基としては、下記一般式(2)で表されるもの
が挙げられる。In the present invention, examples of the functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic include those represented by the following general formula (2).
【0032】[0032]
【化4】 [Chemical 4]
【0033】(一般式(2)中、Lはポリマー骨格に連
結するのに必要な多価の非金属原子からなる有機基を表
す。R3、R4は、それぞれ独立に、一価の置換基を表
す。また、R3及びR4は互いに結合して環を形成しても
よい)(In the general formula (2), L represents an organic group composed of a polyvalent non-metal atom necessary for connecting to the polymer skeleton. R 3 and R 4 are each independently a monovalent substituent. Represents a group, and R 3 and R 4 may combine with each other to form a ring)
【0034】前記一般式(2)のR3、R4は、それぞれ
独立に、一価の置換基を表し、具体的には、アルキル
基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミ
ル基、アシル基、カルボキシル基、シアノ基、又は芳香
族環基を表す。R3、R4がアルキル基である場合は、炭
素原子数1〜8の範囲であることが好ましく、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イ
ソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、
イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基、シクロペンチル基などが挙げられ、また、R
1及びR2が、−(CH2)n−、(n=1〜4)のユニッ
トで互いに結合していてもよい。これらの中でも、
R3、R4は、メチル基、−(CH2)n−、(n=1〜
4)のユニットで互いに結合してなる環構造、又はシア
ノ基であることが特に好ましい。R 3 and R 4 in the general formula (2) each independently represent a monovalent substituent, specifically, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a formyl group, an acyl group. Represents a group, a carboxyl group, a cyano group, or an aromatic ring group. When R 3 and R 4 are alkyl groups, it is preferably in the range of 1 to 8 carbon atoms, for example,
Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group ,
Examples thereof include an isohexyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclopentyl group, and R.
1 and R 2 may be bonded to each other in a unit of — (CH 2 ) n —, (n = 1 to 4). Among these,
R 3, R 4 is a methyl group, - (CH 2) n - , (n = 1~
It is particularly preferred that it is a cyano group or a ring structure in which units 4) are bonded to each other.
【0035】また、R3、R4で表されるアルキル基、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、
アシル基、カルボキシル基、又はシアノ基は、それぞ
れ、置換もしくは非置換であってもよく、導入される置
換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いら
れる。好ましい例としては、F、Br、Cl、I等のハ
ロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフ
ェニル基などが挙げられる。Further, an alkyl group represented by R 3 and R 4 , a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, a formyl group,
The acyl group, the carboxyl group, or the cyano group may be substituted or unsubstituted, and as the substituent to be introduced, a monovalent nonmetallic atomic group except hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, phenyl group, Biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, etc. Is mentioned.
【0036】R3、R4で表される芳香族環基は、炭素原
子数6〜14の範囲であることが好ましく、例えば、フ
ェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メシチル基が挙
げられ、中でも、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
また、R3、R4で表される芳香族環基は、置換もしくは
非置換であってもよく、導入される置換基としては、水
素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例
としては、F、Br、Cl、I等のハロゲン原子、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基などが挙げられる。中でも、R
3、R4は、少なくとも1個のニトロ基を有し、かつ、置
換もしくは非置換であってもよい炭素原子数6〜14の
芳香族環基であることがより好ましい。The aromatic ring group represented by R 3 and R 4 preferably has 6 to 14 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group and a mesityl group. , Phenyl group and naphthyl group are preferred.
The aromatic ring group represented by R 3 and R 4 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group and aryloxycarbonyl group. Above all, R
More preferably, 3 and R 4 are an aromatic ring group having at least one nitro group and having 6 to 14 carbon atoms, which may be substituted or unsubstituted.
【0037】上記のR3、R4のより具体的な例として
は、一般式(2)における(−N=C)を含めた末端の
構造が下記式で表されるものが特に好ましい。As more specific examples of the above R 3 and R 4 , those in which the terminal structure including (-N = C) in the general formula (2) is represented by the following formula are particularly preferable.
【0038】[0038]
【化5】 [Chemical 5]
【0039】また、前記一般式(2)のLで表される非
金属原子からなる多価の連結基は、前記一般式(1)に
おけるLと同義であり、好ましい例も同様である。ま
た、より具体的な連結基としては、前記一般式(1)で
示されている構造単位が組み合わさって構成されるもの
と同様である。また、多価の連結基が置換基を有する場
合、その置換基としては、前記一般式(1)において用
いられるものと同様である。The polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L in the general formula (2) has the same meaning as L in the general formula (1), and the preferred examples are also the same. Further, a more specific linking group is the same as the one formed by combining the structural units represented by the general formula (1). When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent is the same as that used in the general formula (1).
【0040】本発明において、疎水性から親水性に変化
する官能基としては、下記一般式(3)で表されるもの
が挙げられる。In the present invention, examples of the functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic include those represented by the following general formula (3).
【0041】[0041]
【化6】 [Chemical 6]
【0042】(一般式(3)中、Lはポリマー骨格に連
結するのに必要な多価の非金属原子からなる有機基を表
す。R5、R6は、それぞれ独立に、アルキル基又は芳香
族環基を表す。)(In the general formula (3), L represents an organic group consisting of a polyvalent non-metal atom necessary for connecting to the polymer skeleton. R 5 and R 6 are each independently an alkyl group or an aromatic group. Represents a group ring group.)
【0043】前記一般式(1)のR5、R6は、それぞれ
独立に、アルキル基又は芳香族環基を表す。また、
R5、R6は、ポリマー骨格に連結するのに必要な多価の
非金属原子からなる有機基を表す。R5、R6で表される
アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基などの炭素原子数1〜25の
範囲の直鎖状のアルキル基、又は、イソプロピル基、t
−ブチル基、s−ブチル基、イソペンチル基、ネオペン
チル基などの炭素原子数1〜8の範囲の分岐状のアルキ
ル基であることが好ましい。中でも、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基よりが好ましい。ま
た、R5、R6で表されるアルキル基は、置換もしくは非
置換であってもよく、導入される置換基としては、水素
を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例と
しては、F、Br、Cl、I等のハロゲン原子、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、アシ
ル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ーロキシカルボニル基、カルバモイル基、フェニル基、
ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、アセトキシフェニル基などが挙げられ
る。R 5 and R 6 in the general formula (1) each independently represent an alkyl group or an aromatic ring group. Also,
R 5, R 6 represents an organic group comprising polyvalent non-metallic atoms necessary for coupling to the polymer backbone. The alkyl group represented by R 5 and R 6 is, for example, a linear alkyl group having 1 to 25 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or isopropyl group. Base, t
It is preferably a branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as -butyl group, s-butyl group, isopentyl group, neopentyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group are preferable. Further, the alkyl groups represented by R 5 and R 6 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group excluding hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, phenyl group,
Biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, etc. Is mentioned.
【0044】R5、R6で表される芳香族環基としては、
炭素環式芳香族環基と複素環式芳香族環基を含む。炭素
環式芳香族環基としては、炭素原子数6〜19の範囲で
あることが好ましく、中でも、フェニル基、ナフチル
基、アセトラセニル基、ピレニル基、ビフェニル基、キ
シリル基、メシチル基などのベンゼン環が1環〜4環の
ものがより好ましい。複素環式芳香族環基としては、炭
素原子数3〜20の範囲で、ヘテロ原子数を1〜5含む
ものが好ましく、中でも、ピリジル基、フリル基、ベン
ゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキ
サントン基、カルバゾール基などがより好ましい。ま
た、R5、R6で表される芳香族環基は、置換もしくは非
置換であってもよく、導入される置換基としては、水素
を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例と
しては、F、Br、Cl、I等のハロゲン原子、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、アシ
ル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ーロキシカルボニル基などが挙げられる。The aromatic ring group represented by R 5 and R 6 is
It includes a carbocyclic aromatic ring group and a heterocyclic aromatic ring group. The carbocyclic aromatic ring group preferably has 6 to 19 carbon atoms, and among them, a benzene ring such as a phenyl group, a naphthyl group, an acetracenyl group, a pyrenyl group, a biphenyl group, a xylyl group and a mesityl group. Are more preferably 1 to 4 rings. As the heterocyclic aromatic ring group, those having 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 hetero atoms are preferable, and among them, a pyridyl group, a furyl group, a quinolyl group in which a benzene ring is condensed, and a benzofuryl group. More preferred are groups, thioxanthone groups and carbazole groups. Further, the aromatic ring group represented by R 5 and R 6 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group and aryloxycarbonyl group.
【0045】また、前記一般式(3)のLで表される非
金属原子からなる多価の連結基は、前記一般式(1)に
おけるLと同義であり、好ましい例も同様である。ま
た、より具体的な連結基としては、前記一般式(1)で
示されている構造単位が組み合わさって構成されるもの
と同様である。また、多価の連結基が置換基を有する場
合、その置換基としては、前記一般式(1)において用
いられるものと同様である。The polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L in the general formula (3) has the same meaning as L in the general formula (1), and the preferred examples are also the same. Further, a more specific linking group is the same as the one formed by combining the structural units represented by the general formula (1). When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent is the same as that used in the general formula (1).
【0046】本発明において、疎水性から親水性に変化
する官能基としては、下記一般式(4)で表されるもの
が挙げられる。In the present invention, examples of the functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic include those represented by the following general formula (4).
【0047】[0047]
【化7】 [Chemical 7]
【0048】(一般式(4)中、Lはポリマー骨格に連
結するのに必要な多価の非金属原子からなる有機基を表
す。R7はアルキル基又は芳香族環基を表す。)(In the general formula (4), L represents an organic group composed of a polyvalent non-metal atom necessary for connecting to the polymer skeleton. R 7 represents an alkyl group or an aromatic ring group.)
【0049】前記一般式(4)のR7はアルキル基又は
芳香族環基を表す。R7で表されるアルキル基は、炭素
原子数1〜8の範囲であることが好ましく、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イ
ソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、
イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基、シクロペンチル基が挙げらる。また、R7で
表されるアルキル基は、置換もしくは非置換であっても
よく、導入される置換基としては、水素を除く一価の非
金属原子団が用いられる。好ましい例としては、F、B
r、Cl、I等のハロゲン原子、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、アミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、フェニル基、ビフェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ
メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、アセトキシフェニル基などが挙げられる。R 7 in the general formula (4) represents an alkyl group or an aromatic ring group. The alkyl group represented by R 7 preferably has 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, Isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group,
Examples thereof include an isohexyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, and a cyclopentyl group. The alkyl group represented by R 7 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples are F and B
halogen atom such as r, Cl, I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, phenyl group, biphenyl group,
Examples include naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and acetoxyphenyl group. .
【0050】R7で表される芳香族環基は、炭素原子数
6〜14の範囲であることが好ましく、例えば、フェニ
ル基、ビフェニル基、ナフチル基、メシチル基が挙げら
れ、中でも、フェニル基、ナフチル基が好ましい。ま
た、R7で表される芳香族環基は、置換もしくは非置換
であってもよく、導入される置換基としては、水素を除
く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例として
は、F、Br、Cl、I等のハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基、アミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基などが挙げられる。The aromatic ring group represented by R 7 preferably has 6 to 14 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group and a mesityl group. A naphthyl group is preferred. Further, the aromatic ring group represented by R 7 may be substituted or unsubstituted, and as the introduced substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms such as F, Br, Cl and I, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group and aryloxycarbonyl group.
【0051】上記のR7のより具体的な例としては、下
記式で表される構造が特に好ましい。As a more specific example of the above R 7 , a structure represented by the following formula is particularly preferable.
【0052】[0052]
【化8】 [Chemical 8]
【0053】また、前記一般式(4)のLで表される非
金属原子からなる多価の連結基は、前記一般式(1)に
おけるLと同義であり、好ましい例も同様である。ま
た、より具体的な連結基としては、前記一般式(1)で
示されている構造単位が組み合わさって構成されるもの
と同様である。また、多価の連結基が置換基を有する場
合、その置換基としては、前記一般式(1)において用
いられるものと同様である。The polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L in the general formula (4) has the same meaning as L in the general formula (1), and the preferred examples are also the same. Further, a more specific linking group is the same as the one formed by combining the structural units represented by the general formula (1). When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent is the same as that used in the general formula (1).
【0054】本発明において、疎水性から親水性に変化
する官能基としては、下記一般式(5)及び一般式
(6)で表されるものが挙げられる。In the present invention, examples of the functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic include those represented by the following general formulas (5) and (6).
【0055】[0055]
【化9】 [Chemical 9]
【0056】(一般式(5)及び一般式(6)中、Lは
ポリマー骨格に連結するのに必要な多価の非金属原子か
らなる有機基を表す。)(In the general formulas (5) and (6), L represents an organic group composed of a polyvalent non-metal atom necessary for connecting to the polymer skeleton.)
【0057】また、前記一般式(5)及び一般式(6)
のLで表される非金属原子からなる多価の連結基は、そ
れぞれ、前記一般式(1)におけるLと同義であり、好
ましい例も同様である。また、より具体的な連結基とし
ては、前記一般式(1)で示されている構造単位が組み
合わさって構成されるものと同様である。また、多価の
連結基が置換基を有する場合、その置換基としては、前
記一般式(1)において用いられるものと同様である。Further, the above general formulas (5) and (6)
The polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L has the same meaning as L in the general formula (1), and the preferred examples are also the same. Further, a more specific linking group is the same as the one formed by combining the structural units represented by the general formula (1). When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent is the same as that used in the general formula (1).
【0058】また、本発明において、疎水性から親水性
に変化する官能基としては、下記一般式(7)〜一般式
(9)で表される文献記載の公知の官能基を挙げること
もできる。なお、これらの式中のLも、前記一般式
(1)におけるLと同義である。Further, in the present invention, as the functional group which changes from hydrophobicity to hydrophilicity, there may be mentioned known functional groups represented by the following general formulas (7) to (9). . In addition, L in these formulas is also synonymous with L in the said General formula (1).
【0059】[0059]
【化10】 [Chemical 10]
【0060】前記一般式(7)は、P.Jaganna
than著、SPIE(1994)、2195ページに
記載のキノンジアジドポリマーである。前記一般式
(8)は、M.L.Schilling著、Macro
mol(1995)、110ページに記載のホスホン酸
ポリマーである。一般式(6)中、R8、R9は、それぞ
れ独立に、炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。)前
記一般式(9)は、M.Tsunooka著、J.Po
lym.Sci.,Chem.Ed、(1996)、2
181ページに記載のオキシムエステル基含有ポリマー
である。The general formula (7) is based on P. Jaganna
tan, SPIE (1994), p. 2195, a quinonediazide polymer. The general formula (8) is based on M. L. Schilling, Macro
mol (1995), page 110. In formula (6), R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. ) The general formula (9) is based on M. Tsunooka, J. Po
lym. Sci. Chem. Ed, (1996), 2
The oxime ester group-containing polymer described on page 181.
【0061】(親水性から疎水性に変化する官能基)本
発明において、親水性から疎水性に変化する官能基とし
ては、下記一般式(I)で表されるものが挙げられる。(Functional Group Changing from Hydrophilicity to Hydrophobicity) In the present invention, the functional group changing from hydrophilicity to hydrophobicity includes those represented by the following general formula (I).
【0062】
−L−N=N−SO3M 一般式(I)
(一般式(I)中、Lはポリマー骨格に連結するのに必
要な多価の非金属原子からなる有機基を表す。MはNH
4+又は金属原子を含む1価のカチオンを表す。)—L—N═N—SO 3 M General Formula (I) (In the general formula (I), L represents an organic group composed of a polyvalent non-metal atom necessary for linking to the polymer skeleton. M is NH
4+ or represents a monovalent cation containing a metal atom. )
【0063】前記一般式(I)のLで表される非金属原
子からなる多価の連結基は、疎水性から親水性に変化す
る官能基における前記一般式(1)におけるLと同義で
あり、好ましい例も同様である。また、より具体的な連
結基としては、前記一般式(1)で示されている構造単
位が組み合わさって構成されるものと同様である。ま
た、多価の連結基が置換基を有する場合、その置換基と
しては、前記一般式(1)において用いられるものと同
様である。The polyvalent linking group consisting of a non-metal atom represented by L in the general formula (I) has the same meaning as L in the general formula (1) in the functional group changing from hydrophobic to hydrophilic. The same applies to the preferred examples. Further, a more specific linking group is the same as the one formed by combining the structural units represented by the general formula (1). When the polyvalent linking group has a substituent, the substituent is the same as that used in the general formula (1).
【0064】また、前記一般式(I)のMに含まれる金
属原子としては、アルカリ金属原子や、Al、Cu、Z
n、加えて、アルカリ土類金属などの多価の金属原子が
挙げられる。Mに含まれる金属原子が、1価の金属原
子、例えば、ナトリウム(Na)である場合には、Mは
一般式(I)で表される官能基の末端における−SO3 -
とそのまま結合し、一般式(I)は、−L−N=N−S
O3Naとなる。なお、Mに含まれる金属原子が多価の
金属原子である場合、多価金属は配位子と共に一価のカ
チオンを形成して、一般式(I)で表される官能基の末
端における−SO3 -と結合する。また、多価の金属原子
が多価のカチオンとして、複数の一般式(I)で表され
る官能基の末端−SO3 -に結合する構造をとることもで
きる。The metal atom contained in M of the general formula (I) is an alkali metal atom, Al, Cu or Z.
n, in addition to polyvalent metal atoms such as alkaline earth metals. When the metal atom contained in M is a monovalent metal atom, for example, sodium (Na), M is —SO 3 — at the end of the functional group represented by the general formula (I).
And the general formula (I) is -L-N = N-S
It becomes O 3 Na. In addition, when the metal atom contained in M is a polyvalent metal atom, the polyvalent metal forms a monovalent cation together with the ligand, and at the terminal of the functional group represented by the general formula (I). Combines with SO 3 − . It is also possible to adopt a structure in which a polyvalent metal atom serves as a polyvalent cation and is bonded to the terminal —SO 3 — of the functional groups represented by the general formula (I).
【0065】また、本発明において、親水性から疎水性
に変化する官能基の他の例としては、例えば、ビスピリ
ジニオエチレン基が挙げられる。In the present invention, another example of the functional group which changes from hydrophilic to hydrophobic is a bispyridinioethylene group.
【0066】〔支持体表面〕本発明のパターン形成材料
及び画像形成材料は、前述の極性変換基を有する高分子
化合物の末端が直接または幹高分子化合物を介して化学
的に結合した表面グラフト層と該高分子化合物の末端が
直接または幹高分子化合物を介して化学的に結合できる
ような支持体表面を有するものである。先に述べたよう
に、支持体の表面自体がこのような特性を有していても
よく、このような特性を有する中間層を支持体表面に設
けてもよい。[Support Surface] The pattern-forming material and image-forming material of the present invention are a surface graft layer in which the terminal of the above-mentioned polymer compound having a polar conversion group is chemically bonded directly or through a trunk polymer compound. And a terminal of the polymer compound has a support surface on which the end can be chemically bonded directly or through the trunk polymer compound. As described above, the surface of the support itself may have such characteristics, and an intermediate layer having such characteristics may be provided on the surface of the support.
【0067】(支持体表面或いは中間層)このような支
持体表面は、前記表面グラフト層をグラフト合成して設
けるのに適した特性を有していれば、無機層、有機層の
いずれでもよい。また本発明においては、薄層の高分子
化合物からなるパターン形成層及び画像形成材料により
親疎水性の変化を発現するため表面の極性は問題ではな
く、親水性であってもまた疎水性であってもよい。(Support Surface or Intermediate Layer) Such a support surface may be either an inorganic layer or an organic layer as long as it has characteristics suitable for providing the surface graft layer by graft synthesis. . Further, in the present invention, since the pattern-forming layer made of a thin polymer compound and the image-forming material exhibit a change in hydrophilicity / hydrophobicity, the polarity of the surface does not matter, and hydrophilicity or hydrophobicity is not a problem. Good.
【0068】このような中間層においては、特に、光グ
ラフト重合法、プラズマ照射グラフト重合法、放射線照
射グラフト重合法により本発明の薄層ポリマーを合成す
る場合には、有機表面を有する層であることが好まし
く、特に有機ポリマーの層であることが好ましい。また
有機ポリマーとしてはエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂、フェノール樹脂、スチレン系樹脂、ビニル
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド系樹脂、メラミ
ン系樹脂、フォルマリン樹脂などの合成樹脂、ゼラチ
ン、カゼイン、セルロース、デンプンなどの天然樹脂の
いずれも使用することができるが、光グラフト重合法、
プラズマ照射グラフト重合法、放射線照射グラフト重合
法などではグラフト重合の開始が有機ポリマーの水素の
引き抜きから進行するため、水素が引き抜かれやすいポ
リマー、特にアクリル樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系
樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド系
樹脂、エポキシ樹脂などを使用することが、特に製造適
性の点で好ましい。このような中間層は、後述の基板
(支持体)を兼ねていても良く、また必要に応じて支持
体上に設けられた中間層であってもかまわない。Such an intermediate layer is a layer having an organic surface, particularly when the thin layer polymer of the present invention is synthesized by a photograft polymerization method, a plasma irradiation graft polymerization method, or a radiation irradiation graft polymerization method. A layer of an organic polymer is preferable. Further, as the organic polymer, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, phenol resin, styrene resin, vinyl resin, polyester resin, polyamide resin, melamine resin, formalin resin and other synthetic resins, gelatin, casein, cellulose, Although any of natural resins such as starch can be used, a photograft polymerization method,
In the plasma irradiation graft polymerization method, the radiation irradiation graft polymerization method, etc., the initiation of graft polymerization proceeds from the extraction of hydrogen from the organic polymer, so polymers that are susceptible to hydrogen abstraction, especially acrylic resins, urethane resins, styrene resins, vinyl resins It is particularly preferable to use a polyester resin, a polyamide resin, an epoxy resin or the like from the viewpoint of production suitability. Such an intermediate layer may also serve as a substrate (support) described later, or may be an intermediate layer provided on the support, if necessary.
【0069】また、本発明のパターン形成材料及び画像
形成材料においては、パターン形成層及び画像記録層の
形成性、パターン形成層及び画像記録層との密着性の観
点から、前記高分子化合物が直接化学結合している支持
体として、その表面が粗面化されているものを用いるこ
ともできる。粗面化した支持体を用いる場合には、その
表面性状は以下の条件を満たすものであることが好まし
い。粗面化された支持体の好ましい状態としては、2次
元粗さパラメータの中心線平均粗さ(Ra)が0.1〜
1μm、最大高さ(Ry)が1〜10μm、十点平均粗
さ(Rz)が1〜10μm、凹凸の平均間隔(Sm)が
5〜80μm、局部山頂の平均間隔(S)が5〜80μ
m、最大高さ(Rt)が1〜10μm、中心線山高さ
(Rp)が1〜10μm、中心線谷深さ(Rv)が1〜
10μmの範囲が挙げられ、これらのひとつ以上の条件
を満たすものが好ましく、全てを満たすことがより好ま
しい。Further, in the pattern forming material and the image forming material of the present invention, the polymer compound is directly added from the viewpoint of the formability of the pattern forming layer and the image recording layer and the adhesiveness to the pattern forming layer and the image recording layer. As the chemically bonded support, a support having a roughened surface can also be used. When a roughened support is used, its surface properties preferably satisfy the following conditions. As a preferred state of the roughened support, the center line average roughness (Ra) of the two-dimensional roughness parameter is 0.1 to 0.1.
1 μm, maximum height (Ry) is 1 to 10 μm, ten-point average roughness (Rz) is 1 to 10 μm, average interval of irregularities (Sm) is 5 to 80 μm, average interval of local peaks (S) is 5 to 80 μm.
m, maximum height (Rt) is 1 to 10 μm, center line peak height (Rp) is 1 to 10 μm, center line valley depth (Rv) is 1
The range is 10 μm, and one satisfying one or more of these conditions is preferable, and it is more preferable that all of them are satisfied.
【0070】(支持体基板)本発明のパターン形成材料
及び画像形成材料に使用され、その表面に前記特性を備
えた支持体表面を有する支持体(基板)は寸度的に安定
な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属
がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。本発明に使用される支持体と
しては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好
ましく、その中でも、前記下層を兼ねることができるポ
リエステルフィルムが特に好ましい。基材として使用す
るアルミニウム板には必要に応じて前述のような粗面化
処理、陽極酸化処理などの公知の表面処理を行なっても
よい。(Support Substrate) The support (substrate) used in the pattern forming material and image forming material of the present invention and having a support surface having the above-mentioned characteristics on the surface thereof is a dimensionally stable plate-like material. It is preferable that, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, trisulfate). Cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals. That. As the support used in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, a polyester film which can also serve as the lower layer is particularly preferable. The aluminum plate used as the base material may be subjected to known surface treatments such as the above-described roughening treatment and anodizing treatment, if necessary.
【0071】また、他の好ましい態様であるポリエステ
ルフィルム等のプラスチックフィルムを用いる場合に
も、親水性表面の形成性、密着性向上の目的で、前述の
粗面化処理を施されたものを用いることができる。In the case of using a plastic film such as a polyester film which is another preferred embodiment, the one subjected to the above-mentioned roughening treatment is used for the purpose of improving the formability of the hydrophilic surface and the adhesion. be able to.
【0072】なお、本発明のパターン形成材料及び画像
形成材料に使用される支持体が、前記中間層を兼ねる場
合は、前記中間層において詳述した樹脂材料からなるフ
ィルムそのものを用いることができ、この場合には、前
記のようにパターン形成層及び画像記録層を構成する高
分子化合物が直接化学結合している支持体表面が粗面化
されていることが好ましい。When the support used in the pattern forming material and the image forming material of the present invention also serves as the intermediate layer, the film itself made of the resin material described in detail for the intermediate layer can be used. In this case, it is preferable that the surface of the support to which the polymer compounds forming the pattern forming layer and the image recording layer are directly chemically bonded is roughened as described above.
【0073】〔パターン形成方法〕本発明のパターン形
成材料へのパターン形成(書込み)は、波長が700n
m以下の光の照射により行われる。光照射の手段として
は、パターン形成層内において、極性変換を生起させ
る、即ち、前述の極性変換基を分解、開環或いは二量化
させて、親疎水性を変化させることの可能なものであれ
ば、いずれも使用できる。例えば、紫外線ランプ、可視
光線などによる光照射が可能である。これらの光源とし
ては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等があ
る。その他、電子線、X線、イオンビーム、Deep−
UV光、高密度エネルギービーム(レーザービーム)を
使用することもできる。[Pattern Forming Method] The pattern forming (writing) on the pattern forming material of the present invention has a wavelength of 700 n.
It is performed by irradiation with light of m or less. As a means of light irradiation, as long as it is possible to cause polarity conversion in the pattern forming layer, that is, by decomposing, ring-opening or dimerizing the above-mentioned polarity converting group, it is possible to change the hydrophilicity / hydrophobicity. , Either can be used. For example, light irradiation with an ultraviolet lamp, visible light, or the like is possible. Examples of these light sources include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps and carbon arc lamps. Others, electron beam, X-ray, ion beam, Deep-
UV light and high-density energy beam (laser beam) can also be used.
【0074】また、コンピュータのデジタルデータによ
るダイレクトな書込みを行うためには、レーザ露光によ
り極性変換を生起させる方法が好ましい。レーザとして
は、炭酸ガスレーザ、窒素レーザ、Arレーザ、He/
Neレーザ、He/Cdレーザ、Krレーザ等の気体レ
ーザ、液体(色素)レーザ、ルビーレーザ、Nd/YA
Gレーザ等の固体レーザ、GaAs/GaAlAs、I
nGaAsレーザ等の半導体レーザ、KrFレーザ、X
eClレーザ、XeFレーザ、Ar2等のエキシマレー
ザ等を使用することができる。Further, in order to perform direct writing by digital data of a computer, a method of causing polarity conversion by laser exposure is preferable. As the laser, carbon dioxide laser, nitrogen laser, Ar laser, He /
Gas laser such as Ne laser, He / Cd laser, Kr laser, liquid (dye) laser, ruby laser, Nd / YA
Solid state laser such as G laser, GaAs / GaAlAs, I
Semiconductor laser such as nGaAs laser, KrF laser, X
An eCl laser, a XeF laser, an excimer laser such as Ar 2 or the like can be used.
【0075】〔画像形成方法〕前述のように、光照射を
行うと、極性変換基の極性に応じた親水性及び疎水性領
域が形成される。例えば、疎水性から親水性に極性変換
するパターン形成層(画像形成層)を用いると、露光領
域では親水性グラフトによる親水性パターン(親水性領
域)が形成され、未露光領域では疎水性の官能基を有す
るポリマー含有層表面により疎水性領域となる。この親
/疎水性パターンに、可視画像形成可能な有機又は無機
分子を付着させることで可視画像が形成される。つぎ
に、本発明に係る画像形成材料の画像形成方法について
説明する。[Image Forming Method] As described above, when light irradiation is performed, hydrophilic and hydrophobic regions are formed according to the polarity of the polarity conversion group. For example, when a pattern forming layer (image forming layer) that changes polarity from hydrophobic to hydrophilic is used, a hydrophilic pattern (hydrophilic region) is formed by hydrophilic graft in the exposed region, and a hydrophobic functional group is formed in the unexposed region. The surface of the polymer-containing layer having a group serves as a hydrophobic region. A visible image is formed by attaching organic or inorganic molecules capable of forming a visible image to the hydrophilic / hydrophobic pattern. Next, an image forming method of the image forming material according to the present invention will be described.
【0076】本発明の画像形成材料の画像形成機構で
は、前記画像記録層中の高分子化合物の極性変換基が光
照射領域において極性変換し、負の電荷を有するように
なる。この領域に有機又は無機分子を吸着させること
で、該領域が画像部領域となり、また、有機又は無機分
子が吸着しない部分が非画像部領域となる。In the image forming mechanism of the image forming material of the present invention, the polarity converting group of the polymer compound in the image recording layer is polarity converted in the light irradiation region to have a negative charge. By adsorbing organic or inorganic molecules to this area, the area becomes the image area and the area where the organic or inorganic molecules are not adsorbed becomes the non-image area.
【0077】また、極性変換して得られた親水性領域に
親水性の物質、例えば、水溶性染料を吸着させたり、疎
水性領域に疎水性の物質、例えば、親油性染料などを吸
着させて画像を形成することもできる。Further, a hydrophilic substance such as a water-soluble dye is adsorbed to the hydrophilic region obtained by converting the polarity, or a hydrophobic substance such as a lipophilic dye is adsorbed to the hydrophobic region. Images can also be formed.
【0078】(有機又は無機分子)ここで、極性変換し
た表面に吸着させる有機又は無機分子は、可視像を形成
しうる物質であれば、低分子化合物であっても高分子化
合物であってもよい。なお、可視像を形成可能であると
は、可視波長領域に吸収を有する物質を指し、具体的に
は、例えば、有色の染料或いは顔料、光非透過性の各種
顔料、金属微粒子などが挙げられる。(Organic or Inorganic Molecule) Here, the organic or inorganic molecule to be adsorbed on the polarity-converted surface may be a low molecular compound or a high molecular compound as long as it is a substance capable of forming a visible image. Good. The term "capable of forming a visible image" refers to a substance having absorption in the visible wavelength region, and specific examples thereof include colored dyes or pigments, various light-impermeable pigments, and metal fine particles. To be
【0079】(表面グラフト重合の極性と有機又は無機
分子との関係)先に具体的に例示した一般式(1)で表
されるような疎水性から親水性に変化する官能基を有す
る画像記録層では、露光領域のみが選択的に負の電荷を
有するようになり、ここに正の電荷を有する分子、例え
ば、カチオン染料などを吸着させることで可視像が形成
される。このような画像形成機構を用いる場合には、露
光部のみが極性変換して分子吸着能を有するようになる
ため、単色画像のみならず多色画像を形成することもで
きる。即ち、画像形成材料を露光して、露光領域にイエ
ローの色調を有するカチオン染料を吸着させ、水洗によ
り余分な染料を除去してイエロー画像を形成する。この
とき、未露光部の極性変換基は影響を受けていないた
め、同じ画像形成材料に対して、再度、像様の露光を行
って極性変換を生じさせ、露光領域にマゼンタの色調を
有するカチオン染料を吸着させてマゼンタ画像を形成
し、さらに、同様にしてシアン画像を形成するなど、段
階的な像様露光により多色画像を形成することが可能と
なるものである。(Relationship between Polarity of Surface Graft Polymerization and Organic or Inorganic Molecules) An image recording having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic as represented by the general formula (1) concretely exemplified above. In the layer, only the exposed areas become selectively negatively charged, and a visible image is formed by adsorbing a positively charged molecule, for example, a cationic dye. When such an image forming mechanism is used, only the exposed portion is converted in polarity to have a molecular adsorption ability, so that not only a single color image but also a multicolor image can be formed. That is, the image forming material is exposed to light so that a cationic dye having a yellow color tone is adsorbed in the exposed area and the excess dye is removed by washing with water to form a yellow image. At this time, since the polarity conversion group in the unexposed portion is not affected, the same image forming material is exposed again in an imagewise manner to cause polarity conversion, and the cation having a magenta color tone in the exposed region. It is possible to form a multicolor image by stepwise imagewise exposure such as forming a magenta image by adsorbing a dye and then forming a cyan image in the same manner.
【0080】このような画像形成に用い得るカチオン性
の有機または無機分子としては、カチオン染料やカチオ
ン性に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にカチ
オン性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒
子などが挙げられる。ここで、用い得るカチオン染料と
しては、公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じ
て適宜選択して使用することができる。このようなカチ
オン染料は前記極性変換基である酸性基(スルホン酸
基、カルボン酸基など)の機能により電気的に画像記録
層表面に引き寄せられ、表面のみならず内部へも浸透し
て最終的に酸性基と結合して画像が形成されるものと考
えられる。この画像はイオン性の相互作用によるため、
強固に吸着し、少ない染料で堅牢度の高い高濃度の画像
が形成される。Examples of the cationic organic or inorganic molecule that can be used for image formation include a cationic dye, a cationically charged inorganic pigment, metal fine particles, and a coated pigment formed by forming a cationic surface layer on the surface. , Coated metal fine particles and the like. Here, as the cationic dye that can be used, a known dye can be appropriately selected and used according to the purpose such as color tone and image density. Such a cationic dye is electrically attracted to the surface of the image recording layer due to the function of the acidic group (sulfonic acid group, carboxylic acid group, etc.) as the polarity conversion group, and penetrates not only to the surface but also to the inside to finally It is considered that an image is formed by bonding with an acidic group on. Because this image is due to ionic interactions,
Strongly adsorbs and forms a high-density image with high fastness with less dye.
【0081】カチオン染料としては、発色団の末端にア
ルキルアミノ、アラルキルアミノ結合を有する染料、ス
ルホン酸アルキルアミド結合などの酸アミド結合を有す
る染料、カチオンを形成し得る基を有するアゾ染料、メ
チン染料、チアゾール・アゾ染料などの複素環化合物な
どが挙げられる。カチオン染料の骨格としては、トリフ
ェニルメタン、ジフェニルメタン、キサンテン、アクリ
ジン、アジン、チアジン、チアゾール、オキサジン、ア
ゾなどが挙げられ、このような染料は例えば、「新染料
化学」細田 豊著、技報堂、(1957年)の第316
頁〜322頁に詳述されている。As the cationic dye, a dye having an alkylamino or aralkylamino bond at the terminal of the chromophore, a dye having an acid amide bond such as a sulfonic acid alkylamide bond, an azo dye having a group capable of forming a cation, or a methine dye. And heterocyclic compounds such as thiazole and azo dyes. Examples of the skeleton of the cationic dye include triphenylmethane, diphenylmethane, xanthene, acridine, azine, thiazine, thiazole, oxazine, azo, and the like. Examples of such a dye include “New Dye Chemistry”, Yutaka Hosoda, Gihodo, ( 316 of 1957)
See pages 322 to 322.
【0082】他の画像形成機構として、例えば、特開平
10−296895号公報に記載のアンモニウム基など
の如きカチオングラフト極性変換官能基を有する画像記
録層では、もともとの記録層材料表面が正の電荷を有し
ており、露光領域のみが電荷を消失するようになる。こ
こに負の電荷を有する分子、例えば、酸性染料などを吸
着させると、未露光部に酸性染料が吸着して可視像が形
成される。このような画像形成機構を用いる場合には、
未露光部のみに有機又は無機分子が吸着するため、単色
の画像形成に適する画像形成材料が得られる。As another image forming mechanism, for example, in an image recording layer having a cation graft polarity conversion functional group such as an ammonium group described in JP-A-10-296895, the surface of the original recording layer material is positively charged. Therefore, only the exposed region loses the electric charge. When a molecule having a negative charge, such as an acid dye, is adsorbed on the surface, the acid dye is adsorbed on the unexposed portion to form a visible image. When using such an image forming mechanism,
Since organic or inorganic molecules are adsorbed only on the unexposed portion, an image forming material suitable for monochromatic image formation can be obtained.
【0083】このような画像形成に用い得るアニオン性
の有機または無機分子としては、酸性染料やアニオン性
に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にアニオン
性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒子な
どが挙げられる。ここで、用い得る酸性染料としては、
公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じて適宜選
択して使用することができる。このような酸性染料とし
ては、アゾ系、アントラキノン系、トリフェニルメタン
系、キサンテン系、アジン、機のリンなどの染料が挙げ
られ、これらのいずれでも任意に用いることができる。
具体的には、例えば、C.I.Acid Yellow
1、C.I.AcidOrange 33、C.I.
Acid Red 80、C.I.Acid Viol
et 7、C.I.Acid Blue 93などが挙
げられ、このような染料は例えば、「染料便覧」有機合
成化学協会編、丸善、(1970年)の第392頁〜4
71頁に詳述されている。Examples of the anionic organic or inorganic molecule that can be used for such image formation include acidic dyes, anionically charged inorganic pigments, metal fine particles, and coated pigments formed by forming an anionic surface layer on the surface. , Coated metal fine particles and the like. Here, as the acid dye that can be used,
Known dyes can be appropriately selected and used according to purposes such as color tone and image density. Examples of such an acid dye include dyes such as azo type, anthraquinone type, triphenylmethane type, xanthene type, azine, and phosphorous, and any of these can be used.
Specifically, for example, C.I. I. Acid Yellow
1, C.I. I. Acid Orange 33, C.I. I.
Acid Red 80, C.I. I. Acid Viol
et 7, C.I. I. Acid Blue 93 and the like, and such dyes are described, for example, in "Handbook of Dyes" edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, Maruzen, (1970) pp. 392-4.
Details are given on page 71.
【0084】また、荷電を有する微粒子を用いる場合、
コアと呼ばれる微粒子の中心部分は無機物、有機物のど
ちらでもよく、コアが無機物の場合、好ましくは、金、
銀、パラジュウム、ロジュウム、白金などの貴金属粒子
である。また、コアが有機物の場合は、好ましくは有機
のポリマーである。荷電微粒子の粒径は、0.1nmか
ら1000nmの範囲であることが好ましく、1nmか
ら100nmの範囲であることがさらに好ましい。粒径
が0.1nmよりも小さくなると、ハンドリング性に劣
り、1000nmよりも大きくなると、極性変換された
官能基とイオン的に結合する接触面積が小さくなるため
形成された画像の強度が劣化する傾向がある。また、特
にガラスや透明なプラスチックフィルムなどの透明な支
持体を用いる場合には、光透過性、視認性を確保する観
点から、好ましくは0.2〜100nm、さらに好まし
くは1〜10nmの範囲のものを用いる。When using charged fine particles,
The central part of the fine particles called the core may be either an inorganic substance or an organic substance, and when the core is an inorganic substance, preferably gold,
Precious metal particles such as silver, palladium, rhodium and platinum. When the core is an organic substance, it is preferably an organic polymer. The particle size of the charged fine particles is preferably in the range of 0.1 nm to 1000 nm, more preferably in the range of 1 nm to 100 nm. If the particle size is smaller than 0.1 nm, the handling property is poor, and if it is larger than 1000 nm, the contact area for ionically bonding with the polarity-converted functional group is small and the strength of the formed image tends to be deteriorated. There is. In particular, when a transparent support such as glass or a transparent plastic film is used, it is preferably 0.2 to 100 nm, more preferably 1 to 10 nm, from the viewpoint of ensuring light transmission and visibility. Use one.
【0085】表面に高密度で荷電を有する微粒子は、例
えば、米澤徹らの方法、すなわち、T.Yonezaw
a,Chemistry Letters.,(199
9)page1061,T.Yonezawa,Lan
gumuir(2000),vol16,5218およ
び米澤徹,Polymer preprints,Ja
pan vol.49.2911(2000)に記載さ
れた方法にて作成することができる。米澤らは金属−硫
黄結合を利用し、金属粒子表面を荷電を有する官能基で
高密度に化学修飾できることを示している。The fine particles having high density and electric charge on the surface can be obtained by the method of Toru Yonezawa et al. Yonezawa
a, Chemistry Letters. , (199
9) page 1061, T.I. Yonezawa, Lan
gumuir (2000), vol16, 5218 and Toru Yonezawa, Polymer preprints, Ja.
pan vol. It can be created by the method described in 49.2911 (2000). Yonezawa et al. Have shown that the metal-sulfur bond can be used to chemically modify the surface of metal particles at high density with charged functional groups.
【0086】前記有機又は無機分子は1種のみならず、
必要に応じて複数種を併用することができる。また、所
望の色調を得るため、予め複数の材料を混合してもちい
ることもできる。有機又は無機分子を極性変換させた部
分に吸着させる方法としては、表面上に荷電を有する有
機又は無機分子を溶解又は分散させた液を露光などによ
り像様に極性変換された支持体表面に塗布する方法、及
び、これらの溶液又は分散液中に像様に極性変換された
支持体表面を浸漬する方法などが挙げられる。塗布、浸
漬のいずれの場合にも、過剰量の有機又は無機分子を供
給し、極性変換基との間に十分なイオン結合による導入
がなされるために、溶液又は分散液と支持体表面との接
触時間は、10秒から60分程度であることが好まし
く、1分から20分程度であることがさらに好ましい。
有機又は無機分子は、支持体表面の極性変換された領域
に吸着し得る最大量、結合されることが、画像の鮮鋭
度、色調及び耐久性の点で好ましい。また、吸着の効率
からは、溶液、分散液の濃度は、少なくとも10〜20
重量%程度が好ましい。The organic or inorganic molecule is not limited to one kind,
Multiple types can be used in combination as necessary. Further, in order to obtain a desired color tone, a plurality of materials may be mixed in advance. As a method of adsorbing an organic or inorganic molecule to a portion whose polarity has been changed, a liquid in which a charged organic or inorganic molecule is dissolved or dispersed on the surface is applied to a support surface image-wise changed in polarity by exposure or the like. And a method of immersing the surface of the image-polarized support in these solutions or dispersions. In both cases of coating and dipping, an excessive amount of organic or inorganic molecule is supplied, and since introduction by a sufficient ionic bond between the polar conversion group is made, the solution or dispersion and the surface of the support are The contact time is preferably about 10 seconds to 60 minutes, more preferably about 1 minute to 20 minutes.
It is preferable that the organic or inorganic molecule is bonded in the maximum amount that can be adsorbed to the polarity-converted region of the support surface in terms of the sharpness, color tone and durability of the image. From the viewpoint of adsorption efficiency, the concentration of the solution or dispersion should be at least 10-20.
About wt% is preferable.
【0087】これら有機又は無機分子の使用量は、画像
形成材料の画像形成機構により適宜選択することができ
るが、イオン性の吸着により導入され、殆ど単分子膜に
近い状態で導入されるため、一般的な画像形成材料に用
いる発色材料、有色材料の使用量に比較して、少量で、
高濃度、高鮮鋭度の画像を形成することができる。ま
た、支持体に前記したような表面性状を有する樹脂フィ
ルムを用いて、無機顔料や金属顔料などの光非透過性の
材料を吸着させた場合、或いは、光透過性の有色染料を
吸着させた場合には、OHPや街頭における電飾のごと
き光透過性のパターン形成材料、ディスプレイ材料をも
容易に得ることができる。The amount of these organic or inorganic molecules to be used can be appropriately selected depending on the image forming mechanism of the image forming material. However, since they are introduced by ionic adsorption and are introduced in a state close to a monomolecular film, Compared with the amount of color-forming materials and colored materials used for general image-forming materials, a small amount,
An image with high density and high sharpness can be formed. Further, when a light-impermeable material such as an inorganic pigment or a metal pigment is adsorbed by using the resin film having the above-mentioned surface texture on the support, or a light-transmitting colored dye is adsorbed. In this case, a light-transmissive pattern forming material such as OHP or street lighting, and a display material can be easily obtained.
【0088】以上の方法で、画像形成された本発明の画
像形成材料は、種々のパターン形成材料、あるいは、デ
ィスプレイ材料として広い用途が期待される。The image-forming material of the present invention on which an image is formed by the above method is expected to have a wide variety of uses as various pattern-forming materials or display materials.
【0089】[0089]
(パターン形成材料:画像形成材料の作製)膜厚0.1
88mmのコロナ処理されたポリエチレンテレフタレー
トフィルムを(製品名:M4100、東洋紡社製)支持
体として用い、その表面に下記の光重合性組成物をロッ
ドバー18番を用いて塗布し、80℃で2分乾燥し、膜
厚6μmの中間層を形成した。そして、中間層が形成さ
れた支持体を、400Wの高圧水銀灯(型番:UVL−
400P、理工科学産業社製)を使用して、10分間照
射し、予備硬化させた。(Pattern forming material: Preparation of image forming material) Thickness 0.1
A 88 mm corona-treated polyethylene terephthalate film (product name: M4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as a support, and the following photopolymerizable composition was coated on the surface using a rod bar No. 18 and then at 80 ° C. for 2 minutes. It was dried to form an intermediate layer having a film thickness of 6 μm. Then, the support on which the intermediate layer is formed is replaced with a 400 W high pressure mercury lamp (model number: UVL-
400P, manufactured by Riko Kagaku Sangyo Co., Ltd.) was used for irradiation for 10 minutes for pre-curing.
【0090】 (中間層塗布液) ・アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比率80/20、 平均分子量10万) 2g ・エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート (IR125 和光純薬剤) 4g ・1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 16g[0090] (Interlayer coating liquid) ・ Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (Copolymerization molar ratio 80/20, average molecular weight 100,000) 2 g ・ Ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate (IR125 Wako Pure Chemicals) 4g ・ 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1.6 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 16 g
【0091】予備硬化させた支持体を、アクリル酸(1
0wt%)及び過ヨウ素酸ナトリウム(NaIO4、
0.01wt%)を含む水溶液に浸漬し、アルゴン雰囲
気下で、上記の400Wの高圧水銀灯を使用し、30分
間光照射した。光照射後、得られたフィルムをイオン交
換水でよく洗浄し、アクリル酸がグラフトされた支持体
を得た。The pre-cured support was placed on acrylic acid (1
0 wt%) and sodium periodate (NaIO 4 ,
It was immersed in an aqueous solution containing 0.01 wt%), and was irradiated with light for 30 minutes under an argon atmosphere using the above 400 W high-pressure mercury lamp. After the light irradiation, the obtained film was thoroughly washed with ion-exchanged water to obtain a support grafted with acrylic acid.
【0092】次に、水1リットルと、N−エチル−N’
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
40gと、N−ヒドロキシスクシンイミド6gと、から
なる水溶液を調製し、そこにアクリル酸がグラフトされ
た支持体を1時間浸漬し、エステル変換を行った。その
後、更に、2−ニトロベンジルフェノール6gを加え、
反応させて、光分解性官能基を有するポリマーが表面に
固定されたパターン形成材料Aを得た。Next, 1 liter of water and N-ethyl-N '
An aqueous solution consisting of 40 g of (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 6 g of N-hydroxysuccinimide was prepared, and the support on which acrylic acid was grafted was immersed therein for 1 hour to perform ester conversion. After that, 6 g of 2-nitrobenzylphenol was further added,
The reaction was carried out to obtain a pattern forming material A in which a polymer having a photodegradable functional group was fixed on the surface.
【0093】(パターン形成:画像形成)得られたパタ
ーン形成材料Aを波長400nmの青色光を発するレー
ザ(ビーム径20μm)にて像様に露光した。露光後、
パターン形成材料Aをメチレンブルー(和光純薬製)
0.1重量%の水溶液に10分間浸漬した後、蒸留水で
洗浄したところ、レーザ露光部に選択的にメチレンブル
ーが像様に付着して青色の鮮明な画像が形成された。(Pattern formation: image formation) The obtained pattern forming material A was imagewise exposed with a laser (beam diameter 20 μm) which emits blue light having a wavelength of 400 nm. After exposure,
Pattern forming material A is methylene blue (Wako Pure Chemical Industries)
After immersion in a 0.1% by weight aqueous solution for 10 minutes and washing with distilled water, methylene blue selectively adhered imagewise to the laser-exposed portion, and a clear blue image was formed.
【0094】〔実施例2〕
(パターン形成材料:画像形成材料の作製)500ml
の三口フラスコに、N−ヒドロキシフタルイミド12g
と、ピリジン8.7gと、アセトニトリル140gと、
を入れ、室温窒素気流下、アセトニトリル40gに溶か
したp−スチレンスルホニルクロライド20gを加え、
5時間攪拌した。その後、その溶液を、水1リットル中
に投入し、析出した固体を濾取し、水洗して下記例示モ
ノマー(1)を得た。[Example 2] (Pattern forming material: preparation of image forming material) 500 ml
12 g of N-hydroxyphthalimide in a three-necked flask
And 8.7 g of pyridine and 140 g of acetonitrile,
And p-styrenesulfonyl chloride (20 g) dissolved in acetonitrile (40 g) were added under a nitrogen stream at room temperature.
Stir for 5 hours. Then, the solution was put into 1 liter of water, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain the following exemplified monomer (1).
【0095】[0095]
【化11】 [Chemical 11]
【0096】500mlの三口フラスコに、前記例示モ
ノマー(1)50gと、メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン3.4gと、ジメチルアセトアミド220g
と、を入れ、65℃窒素気流下、2,2−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.5gを加え、
6時間攪拌しながら、同温度に保持した後、室温まで冷
却した。その後、その溶液を、酢酸エチル2リットル中
に投入し、析出した固体を濾取し、水洗して下記例示モ
ノマー(2)を得た。In a 500 ml three-necked flask, 50 g of the exemplified monomer (1), 3.4 g of mercaptopropyltrimethoxysilane and 220 g of dimethylacetamide.
, And under a nitrogen stream at 65 ° C., 0.5 g of 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added,
After stirring at the same temperature for 6 hours, the mixture was cooled to room temperature. Thereafter, the solution was put into 2 liters of ethyl acetate, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain the following exemplified monomer (2).
【0097】[0097]
【化12】 [Chemical 12]
【0098】得られた例示モノマー(2)を、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート/メチルエ
チルケトン=4/1に溶解し、10質量%の溶液を調製
した。この溶液に、支持体としてのスライドガラス(2
5mm×75mm×5mm)を10分間浸漬した後、取
り出し、アセトニトリルで洗浄後、110℃で10分間
乾燥して、光分解性基を有するポリマーが表面に固定さ
れたパターン形成材料Bを得た。The obtained Exemplified Monomer (2) was dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate / methyl ethyl ketone = 4/1 to prepare a 10 mass% solution. Into this solution, slide glass (2
(5 mm × 75 mm × 5 mm) was immersed for 10 minutes, then taken out, washed with acetonitrile, and dried at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a pattern forming material B having a polymer having a photodegradable group fixed on the surface.
【0099】(パターン形成:画像形成)得られたパタ
ーン形成材料Bを波長400nmの青色光を発するレー
ザ(ビーム径20μm)にて像様に露光した。露光後、
パターン形成材料Bをメチレンブルー(和光純薬製)
0.1重量%の水溶液に10分間浸漬した後、蒸留水で
洗浄したところ、レーザ露光部に選択的にメチレンブル
ーが像様に付着して青色の鮮明な画像が形成された。(Pattern formation: image formation) The obtained pattern forming material B was imagewise exposed with a laser (beam diameter 20 μm) which emits blue light having a wavelength of 400 nm. After exposure,
Pattern forming material B is methylene blue (manufactured by Wako Pure Chemical Industries)
After immersion in a 0.1% by weight aqueous solution for 10 minutes and washing with distilled water, methylene blue selectively adhered imagewise to the laser-exposed portion, and a clear blue image was formed.
【0100】〔実施例3〕
(パターン形成材料:画像形成材料の作製)以下の反応
は、室内を暗くすることによるか又はフラスコをアルミ
ニウム箔でくるむことにより光から保護しながら行っ
た。まず、24gの亜硫酸ナトリウム及び40gの炭酸
ナトリウムを、250mlの水中に溶解し、溶液を調
液する。次に、15.02gのp−アミノアセトアニリ
ドを、100mlの水及び36.8mlの濃HCl(3
2%)中で希釈し、冷却浴を用いて0〜5℃に冷却し、
溶液を調液する。そして、6.8gの亜硝酸ナトリウ
ムを15mlの水中で希釈し、溶液を調液する。溶液
を冷却しながら(5℃未満)溶液に滴下し、次い
で、それを10分間攪拌する。濾過後に、強力な攪拌下
で該混合溶液を溶液中に迅速に注ぐ。そして、その混
合溶液を30分間攪拌する。混合溶液は攪拌開始時に赤
い場合があるが、数分後に黄色へと変わる。その後、溶
液中の固体生成物を溶液から濾別しておく。Example 3 (Pattern Forming Material: Preparation of Image Forming Material) The following reactions were carried out while darkening the room or wrapping the flask with aluminum foil while protecting it from light. First, 24 g of sodium sulfite and 40 g of sodium carbonate are dissolved in 250 ml of water to prepare a solution. Next, 15.02 g of p-aminoacetanilide was added to 100 ml of water and 36.8 ml of concentrated HCl (3
2%) and cooled to 0-5 ° C using a cooling bath,
Prepare the solution. Then, 6.8 g of sodium nitrite is diluted in 15 ml of water to prepare a solution. The solution is added dropwise to the solution with cooling (<5 ° C.), then it is stirred for 10 minutes. After filtration, the mixed solution is rapidly poured into the solution under vigorous stirring. Then, the mixed solution is stirred for 30 minutes. The mixed solution may be red at the start of stirring, but turns yellow after a few minutes. Then, the solid product in the solution is filtered off from the solution.
【0101】生成した固体生成物を150mlの水に溶
解し、8gのNaOHを加え、次いで、溶液を50℃に
1時間加熱し、後に、0℃に冷却する。そして、冷却し
ながら19.66mlの濃HCl(32%)を溶液に加
える。次いで、100mlの1%ピクリン酸(pier
inic acid)と、約350mlの水に33.6
gの炭酸ナトリウムを溶解した溶液と、を更に前記溶液
に注ぐ。そして、メタクリル酸塩化物を加える前の溶液
の温度を5℃未満に調整する。次いで、滴下ロートから
15mlのメタクリル酸塩化物を、非常にゆっくりと溶
液に滴下する(ここで、溶液が非常に発泡する)。生成
した混合物を0〜5℃において1時間攪拌し、更に、そ
の後室温で1時間攪拌する。次いで、300mlの酢酸
ナトリウムの飽和溶液を加え、溶液を冷蔵庫(約4℃)
内に終夜保存する。生成した固体生成物を濾過し、50
℃において減圧下で17時間乾燥する。無機塩の除去の
ために、生成物を150mlを、N,N−ジメチルホル
ムアルデヒド(DMF)中に溶解し、室温で少なくとも
2時間攪拌し、濾過する。そして、沈殿のために、濾液
を2リットルのジエチルエーテル中に注ぎ、次いで、濾
過し、真空下における3日間の乾燥を行い、下記例示モ
ノマー(3)を得た。The solid product formed is dissolved in 150 ml of water, 8 g of NaOH are added, then the solution is heated to 50 ° C. for 1 hour and subsequently cooled to 0 ° C. Then, with cooling, 19.66 ml of concentrated HCl (32%) is added to the solution. Then 100 ml of 1% picric acid (pier)
inic acid) and about 33.6 in about 350 ml of water
and a solution of g sodium carbonate dissolved therein are further poured into the solution. Then, the temperature of the solution before adding methacrylic acid chloride is adjusted to less than 5 ° C. Then, 15 ml of methacrylic acid chloride is added very slowly to the solution from the dropping funnel (where the solution foams very much). The resulting mixture is stirred at 0-5 ° C for 1 hour and then at room temperature for 1 hour. Then add 300 ml of saturated sodium acetate solution and cool the solution in the refrigerator (about 4 ° C).
Save it all night. The solid product formed is filtered and
Dry for 17 hours under reduced pressure at ° C. For the removal of the inorganic salts, 150 ml of the product are dissolved in N, N-dimethylformaldehyde (DMF), stirred at room temperature for at least 2 hours and filtered. Then, for the purpose of precipitation, the filtrate was poured into 2 liters of diethyl ether, then filtered, and dried under vacuum for 3 days to obtain the following exemplified monomer (3).
【0102】[0102]
【化13】 [Chemical 13]
【0103】500mlの三口フラスコに、前記例示モ
ノマー(3)50gと、メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン3.4gと、ジメチルアセトアミド220g
と、を入れ、65℃窒素気流下、2,2−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.5gを加え、
6時間攪拌しながら、同温度に保持した後、室温まで冷
却した。その後、その溶液を、酢酸エチル2リットル中
に投入し、析出した固体を濾取し、水洗して下記例示モ
ノマー(4)を得た。In a 500 ml three-necked flask, 50 g of the exemplified monomer (3), 3.4 g of mercaptopropyltrimethoxysilane and 220 g of dimethylacetamide.
, And under a nitrogen stream at 65 ° C., 0.5 g of 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added,
After stirring at the same temperature for 6 hours, the mixture was cooled to room temperature. Then, the solution was put into 2 liters of ethyl acetate, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain the following exemplified monomer (4).
【0104】[0104]
【化14】 [Chemical 14]
【0105】得られた例示モノマー(4)を、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート/メチルエ
チルケトン=4/1に溶解し、10質量%の溶液を調製
した。この溶液に、支持体としてのスライドガラス(2
5mm×75mm×5mm)を10分間浸漬した後、取
り出し、アセトニトリルで洗浄後、110℃で10分間
乾燥して、光分解性基を有するポリマーが表面に固定さ
れたパターン形成材料Cを得た。The exemplary monomer (4) obtained was dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate / methyl ethyl ketone = 4/1 to prepare a 10% by mass solution. Into this solution, slide glass (2
(5 mm × 75 mm × 5 mm) was soaked for 10 minutes, then taken out, washed with acetonitrile and dried at 110 ° C. for 10 minutes to obtain a pattern forming material C having a polymer having a photodegradable group fixed on the surface.
【0106】(パターン形成:画像形成)得られたパタ
ーン形成材料Cを波長400nmの青色光を発するレー
ザ(ビーム径20μm)にて像様に露光した。露光後、
パターン形成材料Cをメチレンブルー(和光純薬製)
0.1重量%の水溶液に10分間浸漬した後、蒸留水で
洗浄したところ、レーザ未露光部に選択的にメチレンブ
ルーが像様に付着して青色の鮮明な画像が形成された。(Pattern formation: image formation) The obtained pattern forming material C was imagewise exposed by a laser (beam diameter 20 μm) which emits blue light having a wavelength of 400 nm. After exposure,
Pattern forming material C is methylene blue (manufactured by Wako Pure Chemical Industries)
After immersion in a 0.1% by weight aqueous solution for 10 minutes and washing with distilled water, methylene blue selectively adhered image-wise to the unexposed portion of the laser to form a clear blue image.
【0107】[0107]
【発明の効果】本発明によれば、露光後、現像工程を行
うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性変化
により親水性と疎水性の差が大きく明確な2つの領域を
形成することが可能であるパターン形成材料、及びそれ
を用いた高解像度の画像形成が可能な画像形成材料を提
供することができる。従って、本発明のパターン形成材
料及び画像形成材料は、今後、広範な用途が期待される
ものである。EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to form a pattern after the exposure without performing a developing process, and to form two distinct regions having a large difference in hydrophilicity and hydrophobicity due to a change in polarity. It is possible to provide a pattern forming material capable of performing the above, and an image forming material capable of forming a high resolution image using the pattern forming material. Therefore, the pattern forming material and the image forming material of the present invention are expected to have a wide range of applications in the future.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA17 AB14 AB20 AC01 AC08 AD01 BH03 FA37 2H096 AA28 AA30 BA20 CA05 EA04 HA09 2H123 AE00 AE01 BA00 BA01 CA00 CA22 FA00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F term (reference) 2H025 AA17 AB14 AB20 AC01 AC08 AD01 BH03 FA37 2H096 AA28 AA30 BA20 CA05 EA04 HA09 2H123 AE00 AE01 BA00 BA01 CA00 CA22 FA00
Claims (3)
る官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合によ
り結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパタ
ーン形成層を備え、該パターン形成層に、700nm以
下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を
変化させることを特徴とするパターン形成材料。1. A pattern forming layer comprising a polymer compound having a functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light and having a structure capable of being directly bonded to the support by a chemical bond. A pattern forming material, wherein the pattern forming layer is irradiated with light of 700 nm or less to change the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface of the pattern forming layer.
を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合さ
れうる構造を有する高分子化合物が、高分子鎖の末端で
直接化学結合により該支持体表面に結合されている直鎖
状高分子化合物であるか、もしくは、高分子鎖の末端で
幹高分子化合物を介して化学的結合により該支持体表面
に結合されている直鎖状高分子化合物であることを特徴
とする請求項1に記載のパターン形成材料。2. A polymer compound having a functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light and having a structure capable of being bonded to the support by a direct chemical bond is a direct chemical bond at the end of the polymer chain. A linear polymer compound bound to the surface of the support by means of, or a linear polymer bound to the surface of the support by a chemical bond at the end of the polymer chain via a trunk polymer compound. The pattern forming material according to claim 1, wherein the pattern forming material is a polymer compound.
る官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合によ
り結合されうる構造を有する高分子化合物からなる画像
記録層を備え、該画像記録層に、700nm以下の光照
射を行って、画像記録層表面の親疎水性を変化させ、親
疎水性が変化した領域に可視像を形成可能な有機又は無
機分子を吸着させることを特徴とする画像形成材料。3. An image recording layer comprising a polymer compound having a functional group whose hydrophilicity / hydrophobicity is changed by light on a support and having a structure capable of being directly bonded to the support by a chemical bond. By irradiating the image recording layer with light having a wavelength of 700 nm or less, the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface of the image recording layer is changed, and an organic or inorganic molecule capable of forming a visible image is adsorbed in a region where the hydrophilicity / hydrophobicity is changed. Characteristic image forming material.
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