JP2003202189A - 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉 - Google Patents
加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉Info
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- JP2003202189A JP2003202189A JP2002002438A JP2002002438A JP2003202189A JP 2003202189 A JP2003202189 A JP 2003202189A JP 2002002438 A JP2002002438 A JP 2002002438A JP 2002002438 A JP2002002438 A JP 2002002438A JP 2003202189 A JP2003202189 A JP 2003202189A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理材の上下面を均一に加熱することのでき
る加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉を提
供する。 【解決手段】 加熱帯Ａ，Ｂおよび冷却帯Ｃを備えたト
レイ搬送式連続炉Ｔにおいて、トレイ２０を、基台の炉
内側壁の一方側に複数段の処理材支持部材２３を垂直方
向に所定間隔で水平に片持支持した構成とし、前記加熱
帯を、主ヒータＨ１，Ｈ２を備えるとともに、当該加熱
帯の炉内側壁の他方側に水平に片持支持され、かつ、炉
内搬送される前記トレイの支持部材間に位置する補助ヒ
ータＨ ３を備えた構成とした。
る加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉を提
供する。 【解決手段】 加熱帯Ａ，Ｂおよび冷却帯Ｃを備えたト
レイ搬送式連続炉Ｔにおいて、トレイ２０を、基台の炉
内側壁の一方側に複数段の処理材支持部材２３を垂直方
向に所定間隔で水平に片持支持した構成とし、前記加熱
帯を、主ヒータＨ１，Ｈ２を備えるとともに、当該加熱
帯の炉内側壁の他方側に水平に片持支持され、かつ、炉
内搬送される前記トレイの支持部材間に位置する補助ヒ
ータＨ ３を備えた構成とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、ガラス基板
あるいはガラスパネル等の平板状材料を熱処理するのに
最適な加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉
に関するものである。
あるいはガラスパネル等の平板状材料を熱処理するのに
最適な加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス基板あるいはガラスパネル
等の平板状材料（以下、処理材という）に、封着処理、
焼成処理あるいは加熱処理等の加熱工程と冷却工程とを
含む所定の熱処理を行なう場合、生産性の向上を図るた
め連続炉が採用され、この一形態として複数の処理材が
搭載されたトレイを使用するトレイ搬送式連続炉があ
る。
等の平板状材料（以下、処理材という）に、封着処理、
焼成処理あるいは加熱処理等の加熱工程と冷却工程とを
含む所定の熱処理を行なう場合、生産性の向上を図るた
め連続炉が採用され、この一形態として複数の処理材が
搭載されたトレイを使用するトレイ搬送式連続炉があ
る。
【０００３】また、このトレイ搬送式連続炉における処
理材のトレイへの搭載形式として、水平支持方式と垂直
支持方式とがあるが、均一な加熱と冷却を確保するた
め、搬送上のトラブルを防止するため、また、一対のガ
ラス基板を連続封着する場合においては、一対のガラス
基板を固定するクリップの位置ズレ防止あるいはチップ
管の組込み作業の容易性、さらにはガラス基板に塗布し
た被焼成物を焼成する場合における自重によるガラス基
板の変形防止等の観点から処理材を水平に支持すること
が必要である。
理材のトレイへの搭載形式として、水平支持方式と垂直
支持方式とがあるが、均一な加熱と冷却を確保するた
め、搬送上のトラブルを防止するため、また、一対のガ
ラス基板を連続封着する場合においては、一対のガラス
基板を固定するクリップの位置ズレ防止あるいはチップ
管の組込み作業の容易性、さらにはガラス基板に塗布し
た被焼成物を焼成する場合における自重によるガラス基
板の変形防止等の観点から処理材を水平に支持すること
が必要である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ように、複数枚の処理材をトレイに水平状態に支持する
とともに、加熱方式として輻射加熱方式を採用する場
合、処理材の両端部の温度が中央部に比べてより高くな
り、処理材を均一に加熱することができない。
ように、複数枚の処理材をトレイに水平状態に支持する
とともに、加熱方式として輻射加熱方式を採用する場
合、処理材の両端部の温度が中央部に比べてより高くな
り、処理材を均一に加熱することができない。
【０００５】一方、特許第２７９５４００号公報にて、
側壁、天井、炉床よりなる炉壁のうち、少なくとも側壁
にヒータを設けて輻射加熱するバッチ式熱処理炉におい
て、炉内に処理材の支持部材を垂直方向に所定間隔をも
って配設するとともに、処理材を上下に挟んで冷却器と
補助ヒータとを設け、前記ヒータと補助ヒータとを独立
して制御するようにしたものが提案されている。
側壁、天井、炉床よりなる炉壁のうち、少なくとも側壁
にヒータを設けて輻射加熱するバッチ式熱処理炉におい
て、炉内に処理材の支持部材を垂直方向に所定間隔をも
って配設するとともに、処理材を上下に挟んで冷却器と
補助ヒータとを設け、前記ヒータと補助ヒータとを独立
して制御するようにしたものが提案されている。
【０００６】この方式によれば、処理材を均一に加熱す
ることができるが、これはバッチ式熱処理炉に関するも
のであり、この思想をトレイ搬送式連続炉に適用しよう
とすると、トレイが移動することから、補助ヒータへの
電源供給機構等の炉構成が複雑になるという問題が生じ
る。
ることができるが、これはバッチ式熱処理炉に関するも
のであり、この思想をトレイ搬送式連続炉に適用しよう
とすると、トレイが移動することから、補助ヒータへの
電源供給機構等の炉構成が複雑になるという問題が生じ
る。
【０００７】したがって、本発明は、前記思想を複雑な
構成を採ることなく実現することのできる加熱帯および
冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉を提供することを目
的とする。
構成を採ることなく実現することのできる加熱帯および
冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉を提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送
式連続炉において、トレイを、基台の炉内側壁の一方側
に複数段の処理材支持部材を垂直方向に所定間隔で水平
に片持支持した構成とし、前記加熱帯を、主ヒータを備
えるとともに、当該加熱帯の炉内側壁の他方側に水平に
片持支持され、かつ、炉内搬送される前記トレイの支持
部材間に位置する補助ヒータを備えた構成としたもので
ある。
成するために、加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送
式連続炉において、トレイを、基台の炉内側壁の一方側
に複数段の処理材支持部材を垂直方向に所定間隔で水平
に片持支持した構成とし、前記加熱帯を、主ヒータを備
えるとともに、当該加熱帯の炉内側壁の他方側に水平に
片持支持され、かつ、炉内搬送される前記トレイの支持
部材間に位置する補助ヒータを備えた構成としたもので
ある。
【０００９】また、前記加熱帯が複数の真空加熱室から
なる第１加熱帯と複数の対流加熱室からなる第２加熱帯
とからなり、前記第１加熱帯と第２加熱帯とを置換室を
介して連結した構成としてもよい。
なる第１加熱帯と複数の対流加熱室からなる第２加熱帯
とからなり、前記第１加熱帯と第２加熱帯とを置換室を
介して連結した構成としてもよい。
【００１０】さらに、前記冷却帯を複数の対流冷却室か
ら構成してもよい。
ら構成してもよい。
【００１１】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態につ
いて図１〜図５にしたがって説明する。図１は、本発明
にかかるトレイ搬送式連続炉Ｔの概略図で、装入室１、
第１加熱帯Ａ、置換室４、第２加熱帯Ｂおよび冷却帯Ｃ
とからなり、炉内に多数の搬送ローラＲが配設されてい
る。
いて図１〜図５にしたがって説明する。図１は、本発明
にかかるトレイ搬送式連続炉Ｔの概略図で、装入室１、
第１加熱帯Ａ、置換室４、第２加熱帯Ｂおよび冷却帯Ｃ
とからなり、炉内に多数の搬送ローラＲが配設されてい
る。
【００１２】また、前記装入室１と第１加熱帯Ａとの間
には第１中間扉３が、置換室４の両側は第２中間扉５
Ａ，５Ｂで仕切られるとともに、前記第１加熱帯Ａ、第
２加熱帯Ｂおよび冷却帯Ｃは、それぞれ複数の真空加熱
室１１，複数の対流加熱室３１および複数の対流冷却室
３２にサイドスライド式断熱扉６で区画されている。な
お、２は装入扉、７は抽出扉である。
には第１中間扉３が、置換室４の両側は第２中間扉５
Ａ，５Ｂで仕切られるとともに、前記第１加熱帯Ａ、第
２加熱帯Ｂおよび冷却帯Ｃは、それぞれ複数の真空加熱
室１１，複数の対流加熱室３１および複数の対流冷却室
３２にサイドスライド式断熱扉６で区画されている。な
お、２は装入扉、７は抽出扉である。
【００１３】そして、前記各室１１，３１，３２にはそ
れぞれ独立して温度制御する制御系（図示せず）を備
え、所定の温度に制御されるようになっている。
れぞれ独立して温度制御する制御系（図示せず）を備
え、所定の温度に制御されるようになっている。
【００１４】つぎに、前記第１加熱帯Ａとトレイ２０に
ついて説明する。図２〜図５に示すように、前記第１加
熱帯Ａは、炉本体１０内にインナーチャンバー１２を備
え、このインナーチャンバー１２内は、図５に示すよう
に、サイドスライド式断熱扉６により複数の真空加熱室
１１に区画されるとともに、このインナーチャンバー１
２内の底部にはモータＭにより駆動される前記搬送ロー
ラＲが設置されている。なお、第１加熱帯Ａ内は真空排
気装置（図示せず）に接続されている。
ついて説明する。図２〜図５に示すように、前記第１加
熱帯Ａは、炉本体１０内にインナーチャンバー１２を備
え、このインナーチャンバー１２内は、図５に示すよう
に、サイドスライド式断熱扉６により複数の真空加熱室
１１に区画されるとともに、このインナーチャンバー１
２内の底部にはモータＭにより駆動される前記搬送ロー
ラＲが設置されている。なお、第１加熱帯Ａ内は真空排
気装置（図示せず）に接続されている。
【００１５】また、前記各真空加熱室１１を構成する炉
本体１０とインナーチャンバー１２の一方側壁に、下記
するヒータユニット１５を挿入する開口１３Ａ，１３Ｂ
（図では３ヶ所）が設けられるとともに、インナーチャ
ンバー１２内の天井、他側壁および底部にはそれぞれ主
ヒータＨ１が配設されている。
本体１０とインナーチャンバー１２の一方側壁に、下記
するヒータユニット１５を挿入する開口１３Ａ，１３Ｂ
（図では３ヶ所）が設けられるとともに、インナーチャ
ンバー１２内の天井、他側壁および底部にはそれぞれ主
ヒータＨ１が配設されている。
【００１６】前記ヒータユニット１５は、炉本体１０に
設けた前記開口１３Ａを閉鎖して炉本体１０の一部を構
成する蓋部材１８を備え、この蓋部材１８の側面に補助
ヒータＨ３である面状ヒータを垂直方向に所定間隔にて
水平状に片持支持するとともに、補助ヒータＨ３の基部
にはインナーチャンバー１２に設けた前記開口１３Ｂを
閉鎖してインナーチャンバー１２の一部を構成する金属
板１９を備え、また、前記金属板１９には前記主ヒータ
Ｈ１の一部を構成するヒータＨ２が設けられている。
設けた前記開口１３Ａを閉鎖して炉本体１０の一部を構
成する蓋部材１８を備え、この蓋部材１８の側面に補助
ヒータＨ３である面状ヒータを垂直方向に所定間隔にて
水平状に片持支持するとともに、補助ヒータＨ３の基部
にはインナーチャンバー１２に設けた前記開口１３Ｂを
閉鎖してインナーチャンバー１２の一部を構成する金属
板１９を備え、また、前記金属板１９には前記主ヒータ
Ｈ１の一部を構成するヒータＨ２が設けられている。
【００１７】前記トレイ２０は、搬送ローラＲに支持さ
れる基台２１を備え、この基台２１の前記開口１３Ａ，
１３Ｂ側と反対側に複数（図では５本）の支柱部材２２
が設けられ、この支柱部材２２には垂直方向に所定間隔
をもって処理材Ｗを水平に支持する支持部材２３が片持
状態で取り付けられた構成となっている。
れる基台２１を備え、この基台２１の前記開口１３Ａ，
１３Ｂ側と反対側に複数（図では５本）の支柱部材２２
が設けられ、この支柱部材２２には垂直方向に所定間隔
をもって処理材Ｗを水平に支持する支持部材２３が片持
状態で取り付けられた構成となっている。
【００１８】なお、前記第２加熱帯Ｂの各対流加熱室３
１は、循環ファン、マッフルおよび循環雰囲気加熱用ヒ
ータ等で、また、前記冷却帯Ｃの各対流冷却室３２は、
循環ファン、マッフルおよび循環雰囲気冷却用クーラ等
で構成され、これらは周知の構成であるため詳細な説明
は省略する。
１は、循環ファン、マッフルおよび循環雰囲気加熱用ヒ
ータ等で、また、前記冷却帯Ｃの各対流冷却室３２は、
循環ファン、マッフルおよび循環雰囲気冷却用クーラ等
で構成され、これらは周知の構成であるため詳細な説明
は省略する。
【００１９】つぎに、前記構成からなるトレイ搬送式連
続炉Ｔにて、処理材Ｗとして２枚のガラス基板のうち一
方のガラス基板の縁部にシールフリットを塗布してクリ
ップ等の治具で一体化したパネル組立体を封着処理する
場合の操業方法を説明する。
続炉Ｔにて、処理材Ｗとして２枚のガラス基板のうち一
方のガラス基板の縁部にシールフリットを塗布してクリ
ップ等の治具で一体化したパネル組立体を封着処理する
場合の操業方法を説明する。
【００２０】まず、前記支持部材２３上に前記パネル組
立体Ｗを載置したトレイ２０を装入扉２を開として装入
室１に装入した後、前記装入扉２を閉として装入室１内
を図示しない真空排気装置により第１加熱帯Ａ内と略同
一圧力（約１Ｐａ）まで真空排気する。
立体Ｗを載置したトレイ２０を装入扉２を開として装入
室１に装入した後、前記装入扉２を閉として装入室１内
を図示しない真空排気装置により第１加熱帯Ａ内と略同
一圧力（約１Ｐａ）まで真空排気する。
【００２１】装入室１内の真空排気が完了すると、装入
室１と第１加熱帯Ａとを区画する第１中間扉３を開とし
て搬送ローラＲをモータＭを駆動することによりトレイ
２０を第１加熱帯Ａの真空加熱室１１ａに移行させ、移
行が完了すると、前記第１中間扉３を閉とする。以降、
前記同様にしてトレイ２０を炉内に順次装入する。
室１と第１加熱帯Ａとを区画する第１中間扉３を開とし
て搬送ローラＲをモータＭを駆動することによりトレイ
２０を第１加熱帯Ａの真空加熱室１１ａに移行させ、移
行が完了すると、前記第１中間扉３を閉とする。以降、
前記同様にしてトレイ２０を炉内に順次装入する。
【００２２】そして、複数の真空加熱室１１からなる第
１加熱帯Ａでは、図２に示すように、支持部材２３とヒ
ータユニット１５の補助ヒータＨ３とは互いに対向する
方向で片持支持されているため、各補助ヒータＨ３は各
処理材Ｗ間に位置することになり、各パネル組立体Ｗが
前記第１加熱帯を通過する間、主ヒータＨ１，Ｈ２と補
助ヒータＨ３とにより加熱され、その間にシールフリッ
トの溶融開始温度近傍の温度まで均一加熱される。
１加熱帯Ａでは、図２に示すように、支持部材２３とヒ
ータユニット１５の補助ヒータＨ３とは互いに対向する
方向で片持支持されているため、各補助ヒータＨ３は各
処理材Ｗ間に位置することになり、各パネル組立体Ｗが
前記第１加熱帯を通過する間、主ヒータＨ１，Ｈ２と補
助ヒータＨ３とにより加熱され、その間にシールフリッ
トの溶融開始温度近傍の温度まで均一加熱される。
【００２３】その後、トレイ２０が第１加熱帯Ａの抽出
端の真空加熱室１１ｅに達すると、前記置換室４内を第
１加熱帯Ａと略同一圧力（約１Ｐａ）に真空排気し、第
２中間扉５Ａを開としてトレイ２０を移行させ前記第２
中間扉５Ａを閉とする。
端の真空加熱室１１ｅに達すると、前記置換室４内を第
１加熱帯Ａと略同一圧力（約１Ｐａ）に真空排気し、第
２中間扉５Ａを開としてトレイ２０を移行させ前記第２
中間扉５Ａを閉とする。
【００２４】前記のようにして、トレイ２０が置換室４
内へ移行すると、置換室４内を大気圧に復圧し、第２中
間扉５Ｂを開として置換室４内のトレイ２０を第２加熱
帯Ｂに移行させ前記第２中間扉５Ｂを閉じる。
内へ移行すると、置換室４内を大気圧に復圧し、第２中
間扉５Ｂを開として置換室４内のトレイ２０を第２加熱
帯Ｂに移行させ前記第２中間扉５Ｂを閉じる。
【００２５】以降、第２加熱帯Ｂに装入されたトレイ２
０は前記第１加熱帯Ａにおけると同様、順次抽出側に搬
送され、第２加熱帯Ｂを移動する間に対流加熱により封
着温度に昇温されるとともに所定時間保持されて封着処
理され、やがて冷却帯Ｃにて対流冷却により所定温度
（約１００℃）まで冷却され、抽出扉７を介して搬出さ
れる。
０は前記第１加熱帯Ａにおけると同様、順次抽出側に搬
送され、第２加熱帯Ｂを移動する間に対流加熱により封
着温度に昇温されるとともに所定時間保持されて封着処
理され、やがて冷却帯Ｃにて対流冷却により所定温度
（約１００℃）まで冷却され、抽出扉７を介して搬出さ
れる。
【００２６】なお、前記冷却帯Ｃにおいては、処理材Ｗ
の持性や処理パターンに対応し、自然放冷方式としても
よい。
の持性や処理パターンに対応し、自然放冷方式としても
よい。
【００２７】また、補助ヒータＨ３は、インナーチャン
バー１２あるいは炉本体１０に直接取り付けてもよい
が、前記実施の形態に示すように、ヒータユニット１５
を開口１３Ａ，１３Ｂから進退させるように構成すれ
ば、補助ヒータＨ３の故障時に補助ヒータＨ３を炉外に
退避させることにより容易に修理することができる。
バー１２あるいは炉本体１０に直接取り付けてもよい
が、前記実施の形態に示すように、ヒータユニット１５
を開口１３Ａ，１３Ｂから進退させるように構成すれ
ば、補助ヒータＨ３の故障時に補助ヒータＨ３を炉外に
退避させることにより容易に修理することができる。
【００２８】さらに、搬送方式はローラハース方式に限
らず、プッシャ方式、ウォーキングビーム方式あるいは
ピニオン・ラック方式等の他の方式としてもよい。
らず、プッシャ方式、ウォーキングビーム方式あるいは
ピニオン・ラック方式等の他の方式としてもよい。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉は、ト
レイの支持部材と補助ヒータとは互いに対向して片持支
持され、かつ、各補助ヒータは、各支持部材間に位置す
る構成としたため、トレイ上に水平支持した処理材を補
助ヒータを用いて均一に加熱する連続炉の構成が簡単な
構成で達成することができる。
加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉は、ト
レイの支持部材と補助ヒータとは互いに対向して片持支
持され、かつ、各補助ヒータは、各支持部材間に位置す
る構成としたため、トレイ上に水平支持した処理材を補
助ヒータを用いて均一に加熱する連続炉の構成が簡単な
構成で達成することができる。
【図１】 本発明にかかる加熱帯および冷却帯を備えた
トレイ搬送式連続炉の全体構成図。
トレイ搬送式連続炉の全体構成図。
【図２】 図１の第１加熱帯の一部断面図。
【図３】 図２のIII−III線断面図。
【図４】 図３のヒータユニットとトレイを取り外した
状態の断面図。
状態の断面図。
【図５】 図２のスライド式断熱扉部分の説明図。
１０〜炉本体、１１〜真空加熱室、１２〜インナーチャ
ンバー、１３Ａ，１３Ｂ〜開口、１５〜ヒータユニッ
ト、１６〜台車、１７〜支持部材、１８〜蓋部材、１９
〜金属板、２０〜トレイ、２１〜基台、２２〜支柱部
材、２３〜支持部材、Ａ〜第１加熱帯、Ｂ〜第２加熱
帯、Ｃ〜冷却帯、Ｈ１，Ｈ２〜主ヒータ、Ｈ３〜補助ヒ
ータ、Ｗ〜処理材。
ンバー、１３Ａ，１３Ｂ〜開口、１５〜ヒータユニッ
ト、１６〜台車、１７〜支持部材、１８〜蓋部材、１９
〜金属板、２０〜トレイ、２１〜基台、２２〜支柱部
材、２３〜支持部材、Ａ〜第１加熱帯、Ｂ〜第２加熱
帯、Ｃ〜冷却帯、Ｈ１，Ｈ２〜主ヒータ、Ｈ３〜補助ヒ
ータ、Ｗ〜処理材。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２７Ｂ 9/14 Ｆ２７Ｂ 9/14
Ｆ２７Ｄ 3/12 Ｆ２７Ｄ 3/12 Ｚ
Claims (3)
- 【請求項１】 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送
式連続炉において、トレイを、基台の炉内側壁の一方側
に複数段の処理材支持部材を垂直方向に所定間隔で水平
に片持支持した構成とし、前記加熱帯を、主ヒータを備
えるとともに、当該加熱帯の炉内側壁の他方側に水平に
片持支持され、かつ、炉内搬送される前記トレイの支持
部材間に位置する補助ヒータを備えた構成としたことを
特徴とする加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連
続炉。 - 【請求項２】 前記加熱帯が複数の真空加熱室からなる
第１加熱帯と複数の対流加熱室からなる第２加熱帯とか
らなり、前記第１加熱帯と第２加熱帯とを置換室を介し
て連結したことを特徴とする前記請求項１に記載の加熱
帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉。 - 【請求項３】 前記冷却帯が複数の対流冷却室からなる
ことを特徴とする前記請求項１または請求項２に記載の
加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002002438A JP3584241B2 (ja) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002002438A JP3584241B2 (ja) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003202189A true JP2003202189A (ja) | 2003-07-18 |
| JP3584241B2 JP3584241B2 (ja) | 2004-11-04 |
Family
ID=27642292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002002438A Expired - Fee Related JP3584241B2 (ja) | 2002-01-09 | 2002-01-09 | 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3584241B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009185349A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Ihi Corp | 多室型熱処理炉 |
| JP7167292B1 (ja) | 2021-11-04 | 2022-11-08 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
| CN118808647A (zh) * | 2024-09-19 | 2024-10-22 | 宁波招宝磁业有限公司 | 一种用于钕铁硼磁体的连续真空烧结系统 |
-
2002
- 2002-01-09 JP JP2002002438A patent/JP3584241B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP7167292B1 (ja) | 2021-11-04 | 2022-11-08 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
| JP2023070047A (ja) * | 2021-11-04 | 2023-05-18 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
| JP2023068694A (ja) * | 2021-11-04 | 2023-05-18 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 連続加熱炉 |
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