JP2003181476A - キレート剤の分解方法 - Google Patents
キレート剤の分解方法Info
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Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 pH調整剤と酸化剤との反応により発生する
気体の処理工程を省略でき、従来よりも短時間かつ効率
よくキレート剤を分解することができる方法の提供。 【解決手段】 大気との接触を遮断した状態で、キレー
ト化合物を含有する溶液にpH調整剤及び酸化剤を添加
してpH値、好ましくは3.0以下、及び酸化還元電
位、好ましくは700〜1000mV、さらに好ましは
10〜25kPaに加圧しながら調整することにより、
前記キレート化合物に含まれるキレート剤を分解する。
気体の処理工程を省略でき、従来よりも短時間かつ効率
よくキレート剤を分解することができる方法の提供。 【解決手段】 大気との接触を遮断した状態で、キレー
ト化合物を含有する溶液にpH調整剤及び酸化剤を添加
してpH値、好ましくは3.0以下、及び酸化還元電
位、好ましくは700〜1000mV、さらに好ましは
10〜25kPaに加圧しながら調整することにより、
前記キレート化合物に含まれるキレート剤を分解する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、キレート化合物に
含まれるキレート剤の分解方法に関し、特に高効率でキ
レート剤を分解することのできるキレート剤の分解方法
に関する。
含まれるキレート剤の分解方法に関し、特に高効率でキ
レート剤を分解することのできるキレート剤の分解方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】化粧品製造、製薬製造、金属加工など各
種の製造工程で生じる溶液又は廃液中には重金属が含ま
れるため、そのままでは排水することはできない。そこ
で、現在このような重金属を安定化又は除去する目的で
キレート剤が多く使用されるようになったが、その反
面、キレート化合物を含む溶液が多量に排出されるよう
になった。例えば、金属加工としてのめっき作業では、
めっき液中に金属イオンを安定に存在させるために、エ
チレンジアミン等のキレート剤が使用されている。めっ
き液にキレート剤を投入すると、めっき液中の重金属イ
オンが安定な重金属キレート化合物となり、めっき性を
高めることができる。しかし、めっき後の廃液中には重
金属キレート化合物が液中に安定した状態で存在するた
め、例えば、消石灰等の中和剤を使用した中和沈澱分離
法などの通常の重金属分離法では、充分な廃液処理を行
うことはできない。
種の製造工程で生じる溶液又は廃液中には重金属が含ま
れるため、そのままでは排水することはできない。そこ
で、現在このような重金属を安定化又は除去する目的で
キレート剤が多く使用されるようになったが、その反
面、キレート化合物を含む溶液が多量に排出されるよう
になった。例えば、金属加工としてのめっき作業では、
めっき液中に金属イオンを安定に存在させるために、エ
チレンジアミン等のキレート剤が使用されている。めっ
き液にキレート剤を投入すると、めっき液中の重金属イ
オンが安定な重金属キレート化合物となり、めっき性を
高めることができる。しかし、めっき後の廃液中には重
金属キレート化合物が液中に安定した状態で存在するた
め、例えば、消石灰等の中和剤を使用した中和沈澱分離
法などの通常の重金属分離法では、充分な廃液処理を行
うことはできない。
【0003】このような事情からキレート剤を含む水溶
液の処理に対しては、これまでいくつかの方法が提案さ
れている。例えば、除染した水溶液中に含まれるキレー
ト化合物のキレート結合を分解するために、酸性下で酸
化剤を使用して電気分解を行う方法が提案されている
(特開平9−122691号公報、特開平5−1926
67号公報)。
液の処理に対しては、これまでいくつかの方法が提案さ
れている。例えば、除染した水溶液中に含まれるキレー
ト化合物のキレート結合を分解するために、酸性下で酸
化剤を使用して電気分解を行う方法が提案されている
(特開平9−122691号公報、特開平5−1926
67号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法では酸及び酸化剤が使用され、酸化剤が塩素系化合物
である場合、酸と塩素系化合物との反応により多量の塩
素ガスが発生する。この塩素ガスは、人体及び環境に有
毒であるばかりではなく、装置の腐蝕原因ともなり得る
ため、処理工程が不可欠であった。このような気体処理
には通常、専用の試薬、装置、施設等を必要とし、その
処理工程の分だけコスト高となっていた。特に1個あた
りの単価が安い製品の場合、製造コストを低く抑えるた
めには、製造工程におけるキレート処理コストをできる
だけ抑えることは重大な関心ごとである。したがって、
かねてからキレート剤を含有する水溶液の処理に際して
上記気体処理の簡略化又は省略化、コストダウン等が試
みられてきたが、これまでのところ有効な方法に関する
報告はされていない。
法では酸及び酸化剤が使用され、酸化剤が塩素系化合物
である場合、酸と塩素系化合物との反応により多量の塩
素ガスが発生する。この塩素ガスは、人体及び環境に有
毒であるばかりではなく、装置の腐蝕原因ともなり得る
ため、処理工程が不可欠であった。このような気体処理
には通常、専用の試薬、装置、施設等を必要とし、その
処理工程の分だけコスト高となっていた。特に1個あた
りの単価が安い製品の場合、製造コストを低く抑えるた
めには、製造工程におけるキレート処理コストをできる
だけ抑えることは重大な関心ごとである。したがって、
かねてからキレート剤を含有する水溶液の処理に際して
上記気体処理の簡略化又は省略化、コストダウン等が試
みられてきたが、これまでのところ有効な方法に関する
報告はされていない。
【0005】かくして、本発明は上記課題に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、酸等のpH調整剤と酸化
剤とを用いてキレート化合物を処理する方法であるが、
pH調整剤と酸化剤との反応により発生する気体の処理
工程を必要とせず、しかも従来よりも短時間で効率よく
低コストでキレート剤を分解することができる方法を提
供することにある。
れたものであり、その目的は、酸等のpH調整剤と酸化
剤とを用いてキレート化合物を処理する方法であるが、
pH調整剤と酸化剤との反応により発生する気体の処理
工程を必要とせず、しかも従来よりも短時間で効率よく
低コストでキレート剤を分解することができる方法を提
供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために、pH調整剤及び酸化剤の存在下でキレ
ート化合物を処理する場合の条件につき鋭意検討を重ね
た。その結果、これまで処理が問題とされていたpH調
整剤(酸)と酸化剤との反応時に生じる気体を大気中に
放散させることなしに、低コストかつ短時間でキレート
剤を分解することができる方法を見出し、本発明を完成
するに至った。
解決するために、pH調整剤及び酸化剤の存在下でキレ
ート化合物を処理する場合の条件につき鋭意検討を重ね
た。その結果、これまで処理が問題とされていたpH調
整剤(酸)と酸化剤との反応時に生じる気体を大気中に
放散させることなしに、低コストかつ短時間でキレート
剤を分解することができる方法を見出し、本発明を完成
するに至った。
【0007】すなわち、本発明は、pH調整剤及び酸化
剤のキレート化合物を含有する溶液にpH調整剤及び酸
化剤を添加してpH値及び酸化還元電位を調整すること
により、大気との接触を遮断した状態で前記キレート化
合物に含まれるキレート剤を分解することを特徴とする
キレート剤の分解方法に関する。
剤のキレート化合物を含有する溶液にpH調整剤及び酸
化剤を添加してpH値及び酸化還元電位を調整すること
により、大気との接触を遮断した状態で前記キレート化
合物に含まれるキレート剤を分解することを特徴とする
キレート剤の分解方法に関する。
【0008】本発明の方法は、大気との接触を遮断した
状態でキレート化合物を含有する溶液を処理するため、
pH調整剤と酸化剤との反応により生じる気体を大気中
に放散させることなく、キレート剤を分解することがで
きる。
状態でキレート化合物を含有する溶液を処理するため、
pH調整剤と酸化剤との反応により生じる気体を大気中
に放散させることなく、キレート剤を分解することがで
きる。
【0009】本発明の方法では、キレート化合物を含有
する溶液を連続的に移動させ、該移動の間に、前記pH
調整剤及び酸化剤の添加並びにキレート化合物中に含ま
れるキレート剤の分解を行うことができる。
する溶液を連続的に移動させ、該移動の間に、前記pH
調整剤及び酸化剤の添加並びにキレート化合物中に含ま
れるキレート剤の分解を行うことができる。
【0010】本発明の方法は、pH調整剤及び酸化剤の
添加とキレート化合物中に含まれるキレート剤の分解と
をいわゆる連続方式で行うので、無駄が少なく、低コス
トであり、しかも短時間かつ高効率でキレート化合物に
含まれるキレート剤を分解することができる。
添加とキレート化合物中に含まれるキレート剤の分解と
をいわゆる連続方式で行うので、無駄が少なく、低コス
トであり、しかも短時間かつ高効率でキレート化合物に
含まれるキレート剤を分解することができる。
【0011】本発明の方法では、キレート化合物を含有
する溶液として、アルカリエッチング溶液、化学研磨溶
液、化粧品廃液及び医薬品廃液を含む水溶液からなる群
から選ばれる少なくとも1種以上をキレート化合物を含
有する溶液として使用することができる。
する溶液として、アルカリエッチング溶液、化学研磨溶
液、化粧品廃液及び医薬品廃液を含む水溶液からなる群
から選ばれる少なくとも1種以上をキレート化合物を含
有する溶液として使用することができる。
【0012】本発明の方法では、pH値及び酸化還元電
位を調整した後の溶液中のpH値を3.0以下とするこ
とができ、酸化還元電位は700〜1000mVとする
ことができる。pH値及び酸化還元電位を上記のような
条件に調整すれば、短時間かつ効率よくキレート剤を分
解することができる。
位を調整した後の溶液中のpH値を3.0以下とするこ
とができ、酸化還元電位は700〜1000mVとする
ことができる。pH値及び酸化還元電位を上記のような
条件に調整すれば、短時間かつ効率よくキレート剤を分
解することができる。
【0013】また、本発明における酸化剤は、次亜塩素
酸ナトリウム又は過酸化水素であることができ、さらに
pH調整剤は、酸性化合物又は酸性溶液であることがで
きる。
酸ナトリウム又は過酸化水素であることができ、さらに
pH調整剤は、酸性化合物又は酸性溶液であることがで
きる。
【0014】さらに、本発明の方法におけるpH値及び
酸化還元電位の調整を10〜25kPa(0.1〜0.
25kgf/cm2)で行うこともできる。
酸化還元電位の調整を10〜25kPa(0.1〜0.
25kgf/cm2)で行うこともできる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法についてさら
に詳細に説明する。本発明の方法で使用されるキレート
化合物を含有する溶液中にはキレート化合物が含まれ
る。キレート化合物は、少なくとも溶液中でキレート化
合物として存在すれば、配位される金属の種類、配位子
の種類、配位数、キレート化合物の構造等については特
に限定はない。このようなキレート化合物の配位される
金属としては、例えば、金、銀、銅、水銀、ニッケル、
クロム、白金、鉄、バナジウム、コバルト、亜鉛、ス
ズ、鉛、マンガンなどが挙げられる。これらの金属は単
一でもよく2以上の金属を含むものであっても構わな
い。
に詳細に説明する。本発明の方法で使用されるキレート
化合物を含有する溶液中にはキレート化合物が含まれ
る。キレート化合物は、少なくとも溶液中でキレート化
合物として存在すれば、配位される金属の種類、配位子
の種類、配位数、キレート化合物の構造等については特
に限定はない。このようなキレート化合物の配位される
金属としては、例えば、金、銀、銅、水銀、ニッケル、
クロム、白金、鉄、バナジウム、コバルト、亜鉛、ス
ズ、鉛、マンガンなどが挙げられる。これらの金属は単
一でもよく2以上の金属を含むものであっても構わな
い。
【0016】また、キレート化合物の配位子としては、
例えば、2配位子としては、エチレンジアミン、2,2'
−ジピリジル、オクサトラ、o-フェニレンビス(ジメチ
ルアルシン)、3配位子としては、2,2',2''-テルピ
リジン、ジエチレントリアミン、4配位子としては、ト
リエチレンテトラミン、トリス(o-フェニルアルシノフ
ェニル)(QAS)アルシン、6配位子としては、エチ
レンジアミンテトラ酢酸(EDTA)などが挙げられ、
キレート化合物はこれらの配位子の数に応じた構造をと
ることができる。これらの配位子は、単一の種類でもよ
く、2以上の種類を含むものであっても構わない。
例えば、2配位子としては、エチレンジアミン、2,2'
−ジピリジル、オクサトラ、o-フェニレンビス(ジメチ
ルアルシン)、3配位子としては、2,2',2''-テルピ
リジン、ジエチレントリアミン、4配位子としては、ト
リエチレンテトラミン、トリス(o-フェニルアルシノフ
ェニル)(QAS)アルシン、6配位子としては、エチ
レンジアミンテトラ酢酸(EDTA)などが挙げられ、
キレート化合物はこれらの配位子の数に応じた構造をと
ることができる。これらの配位子は、単一の種類でもよ
く、2以上の種類を含むものであっても構わない。
【0017】キレート化合物を含有する溶液は、上記金
属及び配位子以外に金属を溶解するための溶媒やその他
の成分を有することができる。このような溶媒として
は、一般には水を挙げることができる。また、キレート
化合物を含有する溶液は、その他の成分として、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、次亜塩素酸、亜塩素酸、ホウ
酸、次亜硫酸、亜硫酸、フッ素酸、過マンガン酸、リン
酸などの酸や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウムなどの塩基のほか、銅含有化合物(化学
銅)などを含んでいてもよい。また、適宜、キレート助
剤、安定化剤、保存剤、分解剤などを含むものであって
も構わない。
属及び配位子以外に金属を溶解するための溶媒やその他
の成分を有することができる。このような溶媒として
は、一般には水を挙げることができる。また、キレート
化合物を含有する溶液は、その他の成分として、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、次亜塩素酸、亜塩素酸、ホウ
酸、次亜硫酸、亜硫酸、フッ素酸、過マンガン酸、リン
酸などの酸や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウムなどの塩基のほか、銅含有化合物(化学
銅)などを含んでいてもよい。また、適宜、キレート助
剤、安定化剤、保存剤、分解剤などを含むものであって
も構わない。
【0018】キレート化合物を含有する溶液の濃度は特
に限定されないが、濃度が高すぎると、その分だけ使用
すべき酸及び酸化剤が増加するため、安全面で問題があ
る。また、強酸又は強塩基溶液を処理する場合には、耐
酸又は耐塩基性を有する装置が必要となる、そこで、キ
レート化合物を含有する溶液の濃度は、0.5%(w/
w)以下であることが好ましく、0.3%(w/w)以
下であることがより好ましく、0.2%(w/w)以下
であることがさらに好ましい。
に限定されないが、濃度が高すぎると、その分だけ使用
すべき酸及び酸化剤が増加するため、安全面で問題があ
る。また、強酸又は強塩基溶液を処理する場合には、耐
酸又は耐塩基性を有する装置が必要となる、そこで、キ
レート化合物を含有する溶液の濃度は、0.5%(w/
w)以下であることが好ましく、0.3%(w/w)以
下であることがより好ましく、0.2%(w/w)以下
であることがさらに好ましい。
【0019】本発明の方法で使用するキレート化合物を
含有する溶液の状態は、通常の溶液であれば特に限定さ
れない。但し、例えば粉塵などの不純物をキレート化合
物を含有する溶液中に多く含む場合には、効率向上の観
点から予めフィルター等で粉塵等を濾取した後の溶液を
用いることが好ましい。また、使用されるキレート化合
物を含む溶液の粘度は、後述するpH調整剤及び酸化剤
を拡散しやすくする観点から、比較的低い方が好まし
い。本発明で使用するキレート化合物を含む溶液として
は、例えば、アルカリエッチング溶液、化学研磨溶液、
化粧品廃液及び医薬品廃液を含む水溶液からなる群から
選ばれる少なくとも1種以上であることができる。より
具体的には、例えば、重金属キレート化合物を含有する
プリント基板製造時の工業排水、次亜リン酸及び亜リン
酸を含有するメッキ製品製造時の工業用排水などを挙げ
ることができる。
含有する溶液の状態は、通常の溶液であれば特に限定さ
れない。但し、例えば粉塵などの不純物をキレート化合
物を含有する溶液中に多く含む場合には、効率向上の観
点から予めフィルター等で粉塵等を濾取した後の溶液を
用いることが好ましい。また、使用されるキレート化合
物を含む溶液の粘度は、後述するpH調整剤及び酸化剤
を拡散しやすくする観点から、比較的低い方が好まし
い。本発明で使用するキレート化合物を含む溶液として
は、例えば、アルカリエッチング溶液、化学研磨溶液、
化粧品廃液及び医薬品廃液を含む水溶液からなる群から
選ばれる少なくとも1種以上であることができる。より
具体的には、例えば、重金属キレート化合物を含有する
プリント基板製造時の工業排水、次亜リン酸及び亜リン
酸を含有するメッキ製品製造時の工業用排水などを挙げ
ることができる。
【0020】本発明の方法におけるpH値及び酸化還元
電位の調整は、大気との接触を遮断した状態で行う。本
明細書における「大気との接触を遮断した状態」とは、
キレート化合物を含有する溶液が大気から遮蔽されてい
る状態を意味し、少なくとも後述するpH調整剤及び酸
化剤の反応により生じる気体が大気中に放散されない状
態であることができる。大気との接触を遮断した状態で
pH値及び酸化還元電位の調整を行うことができるた
め、これまで課題とされていたpH調整剤及び酸化剤と
の反応時に発生する気体の処理工程を省くことができ
る。
電位の調整は、大気との接触を遮断した状態で行う。本
明細書における「大気との接触を遮断した状態」とは、
キレート化合物を含有する溶液が大気から遮蔽されてい
る状態を意味し、少なくとも後述するpH調整剤及び酸
化剤の反応により生じる気体が大気中に放散されない状
態であることができる。大気との接触を遮断した状態で
pH値及び酸化還元電位の調整を行うことができるた
め、これまで課題とされていたpH調整剤及び酸化剤と
の反応時に発生する気体の処理工程を省くことができ
る。
【0021】上記の大気との接触を遮断する方法は、キ
レート化合物を含有する溶液を大気と接触させない方法
であれば特に制限はない。例えば、所定容積の密閉容器
内をキレート化合物を含有する溶液で完全に満たし、該
容器中の大気が存在しないようにする方法や、所定長の
中空管内の一端から他端までをキレート化合物を含有す
る溶液で完全に満たした状態でキレート化合物を含有す
る溶液を連続的に移動させる方法などを挙げられる。前
者はバッチ方式の反応系に好適であり、後者は連続方式
の反応系に好適である。本発明の方法では、短時間で効
率よく反応を促進させることのできる連続方式で行うこ
とが好ましい。
レート化合物を含有する溶液を大気と接触させない方法
であれば特に制限はない。例えば、所定容積の密閉容器
内をキレート化合物を含有する溶液で完全に満たし、該
容器中の大気が存在しないようにする方法や、所定長の
中空管内の一端から他端までをキレート化合物を含有す
る溶液で完全に満たした状態でキレート化合物を含有す
る溶液を連続的に移動させる方法などを挙げられる。前
者はバッチ方式の反応系に好適であり、後者は連続方式
の反応系に好適である。本発明の方法では、短時間で効
率よく反応を促進させることのできる連続方式で行うこ
とが好ましい。
【0022】上記大気との接触を遮断するための条件
は、pH調整剤と酸化剤とが反応して発生する気体が大
気中に放散されなければ特に制限はなく、使用するキレ
ート化合物を含有する溶液の種類、量等に合わせて適宜
所望の温度及び圧力を選択することができる。なお、調
整時の温度及び圧力については後述する。
は、pH調整剤と酸化剤とが反応して発生する気体が大
気中に放散されなければ特に制限はなく、使用するキレ
ート化合物を含有する溶液の種類、量等に合わせて適宜
所望の温度及び圧力を選択することができる。なお、調
整時の温度及び圧力については後述する。
【0023】上記のような連続方式として本発明では、
キレート化合物を含有する溶液を連続的に移動させ、該
移動の間に、pH調整剤及び酸化剤の添加とキレート化
合物に含まれるキレート剤の分解とを行うことができ
る。この方法でキレート剤の分解を行えば、反応系の一
点における温度、圧力、濃度などを時間とは無関係に一
定(定常状態)にすることができ、熱や動力の経済の点
で大規模で行う場合に好適となる。
キレート化合物を含有する溶液を連続的に移動させ、該
移動の間に、pH調整剤及び酸化剤の添加とキレート化
合物に含まれるキレート剤の分解とを行うことができ
る。この方法でキレート剤の分解を行えば、反応系の一
点における温度、圧力、濃度などを時間とは無関係に一
定(定常状態)にすることができ、熱や動力の経済の点
で大規模で行う場合に好適となる。
【0024】上記キレート化合物を含有する溶液を連続
的に移動させる手段は、特に限定されないが、例えば、
所定の径及び長さを有する中空管の一端側から他端側に
ポンプ等の駆動装置を用いて順次連続的に注入して行う
ことができる。中空管内ではキレート化合物を含有する
溶液が連続して流れて移動するため、キレート化合物を
含有する溶液が大気と接触するのを有効に遮断すること
ができるため好ましい。
的に移動させる手段は、特に限定されないが、例えば、
所定の径及び長さを有する中空管の一端側から他端側に
ポンプ等の駆動装置を用いて順次連続的に注入して行う
ことができる。中空管内ではキレート化合物を含有する
溶液が連続して流れて移動するため、キレート化合物を
含有する溶液が大気と接触するのを有効に遮断すること
ができるため好ましい。
【0025】また、上記連続方式で本発明を行う場合、
pH調整剤及び酸化剤の添加の順序については特に限定
されるものではないが、反応効率の観点からpH調整剤
と酸化還元剤を同時に添加してpH値と酸化還元電位と
を同時に調整するか、あるいは、pH調整剤を添加して
pH値を調整した後に、酸化剤を添加して酸化還元電位
を調整することが望ましい。また、本発明では、pH値
及び酸化還元電位の調整の際に、攪拌して行うこともで
き、攪拌によりpH調整及び酸化還元電位の調整を効率
よく行うことができる。攪拌方法、攪拌速度及び攪拌時
間などの条件は、キレート化合物を含有する溶液、pH
調整剤及び酸化剤を均一に混合し得るものであれば特に
制限はなく、これらの使用量に応じて適宜決定をするこ
とができる。例えば、複数の攪拌羽を有する攪拌装置な
どを用いて攪拌を行えば、短時間かつ高効率でpH値及
び酸化還元電位の調整が可能となる。
pH調整剤及び酸化剤の添加の順序については特に限定
されるものではないが、反応効率の観点からpH調整剤
と酸化還元剤を同時に添加してpH値と酸化還元電位と
を同時に調整するか、あるいは、pH調整剤を添加して
pH値を調整した後に、酸化剤を添加して酸化還元電位
を調整することが望ましい。また、本発明では、pH値
及び酸化還元電位の調整の際に、攪拌して行うこともで
き、攪拌によりpH調整及び酸化還元電位の調整を効率
よく行うことができる。攪拌方法、攪拌速度及び攪拌時
間などの条件は、キレート化合物を含有する溶液、pH
調整剤及び酸化剤を均一に混合し得るものであれば特に
制限はなく、これらの使用量に応じて適宜決定をするこ
とができる。例えば、複数の攪拌羽を有する攪拌装置な
どを用いて攪拌を行えば、短時間かつ高効率でpH値及
び酸化還元電位の調整が可能となる。
【0026】本発明の方法で使用するpH調整剤は、キ
レート化合物を含有する溶液中に含まれる過剰の酸又は
塩基を化学過程において相互に打消し合うものであり、
酸性及び塩基性の両方のpH調整剤が含まれる。例え
ば、酸性pH調整剤としては、硫酸、塩酸、硝酸、炭
酸、炭酸ガスなどを使用することができる。また、塩基
性pH調整剤としては、塩基性ナトリウム塩、塩基性カ
ルシウム塩、塩基性カリウム塩、石灰(消石灰・生石
灰)などアルカリ化合物を使用することができる。本発
明では後述するようにpH値を3.0以下にする場合が
含まれるので、pH調整剤は酸性のものが好ましく、硫
酸であることが特に好ましい。
レート化合物を含有する溶液中に含まれる過剰の酸又は
塩基を化学過程において相互に打消し合うものであり、
酸性及び塩基性の両方のpH調整剤が含まれる。例え
ば、酸性pH調整剤としては、硫酸、塩酸、硝酸、炭
酸、炭酸ガスなどを使用することができる。また、塩基
性pH調整剤としては、塩基性ナトリウム塩、塩基性カ
ルシウム塩、塩基性カリウム塩、石灰(消石灰・生石
灰)などアルカリ化合物を使用することができる。本発
明では後述するようにpH値を3.0以下にする場合が
含まれるので、pH調整剤は酸性のものが好ましく、硫
酸であることが特に好ましい。
【0027】本発明の方法で使用する酸化剤は、キレー
ト化合物を酸化することができるものであればよく、例
えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム、
過ヨウ素酸カリウム、過マンガン酸カリウム、二クロム
酸カリウム、ハロゲン、過酸化物、塩化第二鉄(II
I)、二酸化鉛などが挙げられる。キレート化合物を含
有する溶液中に含まれる配位子を構成する化合物との相
互作用やその後の処理を考慮すると、重金属を含まない
酸化剤が好ましい。このような酸化剤としては、次亜塩
素酸ナトリウム又は過酸化水素のいずれかであることが
好ましい。
ト化合物を酸化することができるものであればよく、例
えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム、
過ヨウ素酸カリウム、過マンガン酸カリウム、二クロム
酸カリウム、ハロゲン、過酸化物、塩化第二鉄(II
I)、二酸化鉛などが挙げられる。キレート化合物を含
有する溶液中に含まれる配位子を構成する化合物との相
互作用やその後の処理を考慮すると、重金属を含まない
酸化剤が好ましい。このような酸化剤としては、次亜塩
素酸ナトリウム又は過酸化水素のいずれかであることが
好ましい。
【0028】本発明の方法で行うpH及び酸化還元電位
の調整は、所望のpH値及び酸化還元電位を得るように
調整することができる。本発明の方法におけるpH値
は、pH調整剤と酸化剤とが好適に反応することができ
るようpH3.0以下であることが好ましく、pH2.
5以下であることがより好ましく、pH1.8〜2.2
の範囲であることがさらに好ましい。一方、酸化還元電
位は、低すぎると充分な酸化反応が起こらないし、反対
に高すぎても過剰な反応が起こるため好ましくない。そ
こで、本発明の方法における酸化還元電位は、700〜
1000mVであることが好ましい。より具体的には、
本発明の方法における酸化還元電位は、pH値に応じて
適宜決定することがキレート分解効率の観点から好まし
い。例えば、pH値が3.0のときは、酸化還元電位を
900〜1000mVの範囲であることが好ましく、p
H値が2.0のときは700〜900mVの範囲である
ことが好ましい。
の調整は、所望のpH値及び酸化還元電位を得るように
調整することができる。本発明の方法におけるpH値
は、pH調整剤と酸化剤とが好適に反応することができ
るようpH3.0以下であることが好ましく、pH2.
5以下であることがより好ましく、pH1.8〜2.2
の範囲であることがさらに好ましい。一方、酸化還元電
位は、低すぎると充分な酸化反応が起こらないし、反対
に高すぎても過剰な反応が起こるため好ましくない。そ
こで、本発明の方法における酸化還元電位は、700〜
1000mVであることが好ましい。より具体的には、
本発明の方法における酸化還元電位は、pH値に応じて
適宜決定することがキレート分解効率の観点から好まし
い。例えば、pH値が3.0のときは、酸化還元電位を
900〜1000mVの範囲であることが好ましく、p
H値が2.0のときは700〜900mVの範囲である
ことが好ましい。
【0029】上記pH値及び酸化還元電位の調整を行う
温度及び圧力については、上記pH値及び酸化還元電位
を得ることができる温度及び圧力であれば特に限定され
ない。酸化還元電位は、温度に比例して大きくなること
を考慮すれば、酸化還元電位を調整する温度は、10〜
30℃であることが好ましく、20〜25℃であること
がより好ましく、常温(25℃)であることがさらに好
ましい。また圧力についても本発明の方法が実施できる
範囲であれば特に限定されない。反応速度、使用する装
置の構造などを考慮すると、10〜25kPa(0.1
0〜0.25kgf/cm2)の範囲であることが好ま
しく、13〜23kPa(0.13〜0.23kgf/
cm2)であることがより好ましく、15〜20kPa
(0.15〜0.20kgf/cm2)であることがさ
らに好ましい。
温度及び圧力については、上記pH値及び酸化還元電位
を得ることができる温度及び圧力であれば特に限定され
ない。酸化還元電位は、温度に比例して大きくなること
を考慮すれば、酸化還元電位を調整する温度は、10〜
30℃であることが好ましく、20〜25℃であること
がより好ましく、常温(25℃)であることがさらに好
ましい。また圧力についても本発明の方法が実施できる
範囲であれば特に限定されない。反応速度、使用する装
置の構造などを考慮すると、10〜25kPa(0.1
0〜0.25kgf/cm2)の範囲であることが好ま
しく、13〜23kPa(0.13〜0.23kgf/
cm2)であることがより好ましく、15〜20kPa
(0.15〜0.20kgf/cm2)であることがさ
らに好ましい。
【0030】さらに、上記pH値及び酸化還元電位の調
整では、反応溶液を攪拌して行うこともできる。攪拌方
法は特に限定はされず、公知の攪拌手段を用いることが
できる。例えば、磁気を利用したマグネティック・スタ
ーラー、攪拌羽根をモーターで回転させる攪拌装置、超
音波振動型の攪拌装置などを使用することもできる。
整では、反応溶液を攪拌して行うこともできる。攪拌方
法は特に限定はされず、公知の攪拌手段を用いることが
できる。例えば、磁気を利用したマグネティック・スタ
ーラー、攪拌羽根をモーターで回転させる攪拌装置、超
音波振動型の攪拌装置などを使用することもできる。
【0031】pH値及び酸化還元電位の調整は、所望の
pH値及び酸化還元電位に調整できれば、いずれを先に
調整しても、また両者を同時に調整してもよい。例え
ば、キレート化合物を含有する溶液が塩基性溶液である
場合には、先ずpH調整剤を添加して所定のpH値にし
た後、次いで得られた溶液に酸化剤を添加して酸化還元
電位を調整することができる。一方、キレート化合物を
含有する溶液が酸性溶液である場合に、pH調整剤と酸
化剤を同時に加えることも可能である。また、前述した
ように本発明を連続式で行う場合には、pH調整及び酸
化還元電位の調整を同時又はpH調整後に酸化還元電位
を調整することが好ましい。
pH値及び酸化還元電位に調整できれば、いずれを先に
調整しても、また両者を同時に調整してもよい。例え
ば、キレート化合物を含有する溶液が塩基性溶液である
場合には、先ずpH調整剤を添加して所定のpH値にし
た後、次いで得られた溶液に酸化剤を添加して酸化還元
電位を調整することができる。一方、キレート化合物を
含有する溶液が酸性溶液である場合に、pH調整剤と酸
化剤を同時に加えることも可能である。また、前述した
ように本発明を連続式で行う場合には、pH調整及び酸
化還元電位の調整を同時又はpH調整後に酸化還元電位
を調整することが好ましい。
【0032】上記pH調整及び酸化還元電位を調整して
得られた溶液は、その後、適宜処理することができる。
例えば、アルカリ処理を施して金属沈殿物を回収し、所
定の処理を行うことにより金属を再生をすることもでき
る。
得られた溶液は、その後、適宜処理することができる。
例えば、アルカリ処理を施して金属沈殿物を回収し、所
定の処理を行うことにより金属を再生をすることもでき
る。
【0033】次に本発明のキレート剤の分解方法を工程
図を用いて説明する。図1は、キレート化合物を含有す
る溶液を分解する場合における本発明の分解工程を説明
する工程図である。また、図2は、本発明のキレート剤
の分解方法を実施するための装置の概要を説明する説明
図である。図1及び図2に示されるように、キレート化
合物含有溶液1を密閉容器中で攪拌装置18(図2参
照)を用いて攪拌しながら、酸化剤3及びpH調整剤4
の添加を開始する。pH値測定計16と酸化還元電位測
定計17(図2参照)とにより酸化還元電位及びpH値
を測定しながら、所望のpH値及び酸化還元電位になる
まで酸化剤3及びpH調整剤4を添加し続け、pH値及
び酸化還元電位を調整する(図1の符号2)。所望のp
H値及び酸化還元電位に達したら酸化剤3及びpH調整
剤4の添加を終了する(キレート剤の分解5)。得られ
た溶液中には金属イオン6とキレート分解物7とが含ま
れる。この後、例えば、アルカリ処理8を行えば、前記
溶液中に含まれる金属イオンを金属沈殿物9として凝集
体として回収することができる。
図を用いて説明する。図1は、キレート化合物を含有す
る溶液を分解する場合における本発明の分解工程を説明
する工程図である。また、図2は、本発明のキレート剤
の分解方法を実施するための装置の概要を説明する説明
図である。図1及び図2に示されるように、キレート化
合物含有溶液1を密閉容器中で攪拌装置18(図2参
照)を用いて攪拌しながら、酸化剤3及びpH調整剤4
の添加を開始する。pH値測定計16と酸化還元電位測
定計17(図2参照)とにより酸化還元電位及びpH値
を測定しながら、所望のpH値及び酸化還元電位になる
まで酸化剤3及びpH調整剤4を添加し続け、pH値及
び酸化還元電位を調整する(図1の符号2)。所望のp
H値及び酸化還元電位に達したら酸化剤3及びpH調整
剤4の添加を終了する(キレート剤の分解5)。得られ
た溶液中には金属イオン6とキレート分解物7とが含ま
れる。この後、例えば、アルカリ処理8を行えば、前記
溶液中に含まれる金属イオンを金属沈殿物9として凝集
体として回収することができる。
【0034】本発明の上記キレート剤の分解方法は、図
2に示すキレート化合物分解装置11により行われる。
キレート分解化合物装置は、主としてキレート化合物含
有溶液槽12、クローズドパイプ13、pH調整剤専用
槽14、酸化剤専用槽15、pH測定計16、酸化還元
電位測定計17、攪拌装置18のほか、各槽の溶液の流
出量を調整するための弁及び各溶液を一定方向に送出す
るためのポンプ、さらに必要に応じてさらに温度制御装
置などを装備することができる。キレート化合物含有溶
液槽12からクローズドパイプ13中に送出された一定
量のキレート化合物含有溶液は、クローズドパイプ13
中でpH調整剤専用槽14及び酸化還元剤専用槽15か
ら送出された所定量のpH調整剤及び酸化還元剤と共に
混合され、攪拌装置18により充分攪拌された状態で所
望のpH値及び酸化還元電位に調製される。キレート化
合物含有溶液に混合されるpH調整剤及び酸化還元剤の
添加量は、pH調整計16及び酸化還元電位計17がそ
れぞれ所望の数値を示すように調整される。
2に示すキレート化合物分解装置11により行われる。
キレート分解化合物装置は、主としてキレート化合物含
有溶液槽12、クローズドパイプ13、pH調整剤専用
槽14、酸化剤専用槽15、pH測定計16、酸化還元
電位測定計17、攪拌装置18のほか、各槽の溶液の流
出量を調整するための弁及び各溶液を一定方向に送出す
るためのポンプ、さらに必要に応じてさらに温度制御装
置などを装備することができる。キレート化合物含有溶
液槽12からクローズドパイプ13中に送出された一定
量のキレート化合物含有溶液は、クローズドパイプ13
中でpH調整剤専用槽14及び酸化還元剤専用槽15か
ら送出された所定量のpH調整剤及び酸化還元剤と共に
混合され、攪拌装置18により充分攪拌された状態で所
望のpH値及び酸化還元電位に調製される。キレート化
合物含有溶液に混合されるpH調整剤及び酸化還元剤の
添加量は、pH調整計16及び酸化還元電位計17がそ
れぞれ所望の数値を示すように調整される。
【0035】
【実施例】以下に本発明の好適な実施例を図2を参酌し
ながら本発明をさらに詳細に説明する。なお、以下の実
施例に示す原料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神
から逸脱しない限り適宜変更することができる。したが
って、本発明の範囲は以下に示す実施例に具体的に限定
されるものではない。
ながら本発明をさらに詳細に説明する。なお、以下の実
施例に示す原料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神
から逸脱しない限り適宜変更することができる。したが
って、本発明の範囲は以下に示す実施例に具体的に限定
されるものではない。
【0036】(実施例1)重金属キレート化合物を含有
する溶液として、pH値10.5、酸化還元電位値42
0mVを有するプリント基板の製造時に排出された工業
排水(銅含有量:137ppm)を使用した。キレート
化合物分解装置において、19.6kPa(0.2kg
f/cm2)の圧力を加えながら上記排水1Lに対し、
5%硫酸溶液5ml、3%次亜塩素酸ナトリウム溶液1
mlをそれぞれ添加し、pH値2.0、酸化還元電位値
800mVに調整しながら約2秒間、前記排水中に含ま
れる重金属キレート化合物を分解した。上記重金属キレ
ート化合物の分解中、上記装置の内外部には塩素ガスは
発生しなかった。得られた溶液に還元剤として5%亜硫
酸水素ナトリウムを0.5ml添加して、酸化還元電位
値を350mVに調節した後、8%水酸化ナトリウム溶
液8mlを添加してpH値を9.5に調整すると、上澄
液と沈殿物とに完全に分離した。この上澄液からは塩素
は検出されず、また重金属の濃度は大幅に減少していた
(銅含有量:0.48ppm)。このことから上記排水
中に含まれていた重金属の大半が水酸化物として下層に
沈殿したことが理解される。
する溶液として、pH値10.5、酸化還元電位値42
0mVを有するプリント基板の製造時に排出された工業
排水(銅含有量:137ppm)を使用した。キレート
化合物分解装置において、19.6kPa(0.2kg
f/cm2)の圧力を加えながら上記排水1Lに対し、
5%硫酸溶液5ml、3%次亜塩素酸ナトリウム溶液1
mlをそれぞれ添加し、pH値2.0、酸化還元電位値
800mVに調整しながら約2秒間、前記排水中に含ま
れる重金属キレート化合物を分解した。上記重金属キレ
ート化合物の分解中、上記装置の内外部には塩素ガスは
発生しなかった。得られた溶液に還元剤として5%亜硫
酸水素ナトリウムを0.5ml添加して、酸化還元電位
値を350mVに調節した後、8%水酸化ナトリウム溶
液8mlを添加してpH値を9.5に調整すると、上澄
液と沈殿物とに完全に分離した。この上澄液からは塩素
は検出されず、また重金属の濃度は大幅に減少していた
(銅含有量:0.48ppm)。このことから上記排水
中に含まれていた重金属の大半が水酸化物として下層に
沈殿したことが理解される。
【0037】(実施例2)次亜リン酸・亜リン酸を含有
する溶液として、pH値4.0、酸化還元電位値620
mVを有するメッキ製品製造時の工業排水(リン酸含有
量:130ppm)を使用した。キレート化合物分解装
置を用いて14.7kPa(0.15kgf/cm2)
の圧力を加えながら上記排水1Lに対し、5%硫酸溶液
3ml、3%次亜塩素酸ナトリウム溶液4mlをそれぞ
れ添加し、pH値2.0、酸化還元電位800mVに調
整しながら約10秒間、前記排水中に含まれる次亜リン
酸・亜リン酸を酸化分解した。次亜リン酸・亜リン酸の
分解中は、上記装置の内外部には塩素ガスは発生しなか
った。得られた溶液に10%消石灰溶液を6ml添加し
て、pH値を13.0に調整すると、上澄液に含まれて
いた次亜リン酸・亜リン酸はリン酸塩として沈殿した。
また得られた上澄液からは塩素は検出されず、また、重
金属濃度は大幅に減少していた(リン酸含有量:0.8
ppm)。
する溶液として、pH値4.0、酸化還元電位値620
mVを有するメッキ製品製造時の工業排水(リン酸含有
量:130ppm)を使用した。キレート化合物分解装
置を用いて14.7kPa(0.15kgf/cm2)
の圧力を加えながら上記排水1Lに対し、5%硫酸溶液
3ml、3%次亜塩素酸ナトリウム溶液4mlをそれぞ
れ添加し、pH値2.0、酸化還元電位800mVに調
整しながら約10秒間、前記排水中に含まれる次亜リン
酸・亜リン酸を酸化分解した。次亜リン酸・亜リン酸の
分解中は、上記装置の内外部には塩素ガスは発生しなか
った。得られた溶液に10%消石灰溶液を6ml添加し
て、pH値を13.0に調整すると、上澄液に含まれて
いた次亜リン酸・亜リン酸はリン酸塩として沈殿した。
また得られた上澄液からは塩素は検出されず、また、重
金属濃度は大幅に減少していた(リン酸含有量:0.8
ppm)。
【0038】(比較例1)実施例1で使用した重金属キ
レート化合物を含有するプリント基板製造時の工業排水
を、キレート化合物分解装置を使用せずに大気と接触し
た状態で、上記排水1Lに対して5%硫酸5ml、3%
次亜塩素酸ナトリウム溶液1mlをそれぞれ添加して分
解を行った。重金属キレート化合物溶液の酸化分解中に
は多量の塩素ガスが発生した。これより、本発明の方法
のようにキレート剤と大気との接触を遮断した状態で分
解反応を行えば、大量の塩素ガスを発生しないでキレー
ト剤を分解することができることが分かる。
レート化合物を含有するプリント基板製造時の工業排水
を、キレート化合物分解装置を使用せずに大気と接触し
た状態で、上記排水1Lに対して5%硫酸5ml、3%
次亜塩素酸ナトリウム溶液1mlをそれぞれ添加して分
解を行った。重金属キレート化合物溶液の酸化分解中に
は多量の塩素ガスが発生した。これより、本発明の方法
のようにキレート剤と大気との接触を遮断した状態で分
解反応を行えば、大量の塩素ガスを発生しないでキレー
ト剤を分解することができることが分かる。
【0039】(比較例2)キレート化合物の分解時に加
圧しなかったことを除いて、実施例1と同様の方法でキ
レート化合物を分解した。キレート化合物分解装置内に
は塩素ガスが発生し、得られた溶液と共に塩素が排出さ
れた。また、排出された溶液中にも未反応の重金属キレ
ート化合物がかなり残存し、銅濃度が120ppmであ
った。これより、本発明の方法の好ましい態様のよう
に、pH調整及び酸化還元電位の調整を加圧状態で行う
方がキレート剤の分解がさらに好ましいことが分かる。
圧しなかったことを除いて、実施例1と同様の方法でキ
レート化合物を分解した。キレート化合物分解装置内に
は塩素ガスが発生し、得られた溶液と共に塩素が排出さ
れた。また、排出された溶液中にも未反応の重金属キレ
ート化合物がかなり残存し、銅濃度が120ppmであ
った。これより、本発明の方法の好ましい態様のよう
に、pH調整及び酸化還元電位の調整を加圧状態で行う
方がキレート剤の分解がさらに好ましいことが分かる。
【0040】(比較例3)実施例1のpH値及び酸化還
元電位値をpH値2.0、酸化還元電位値650mVに
それぞれ調整した以外は、実施例1と同様の方法で行っ
た。得られた溶液に還元剤として5%亜硫酸水素ナトリ
ウム0.3mlを添加して酸化還元電位350mVと
し、さらに8%水酸化ナトリウム溶液8mlを添加して
pH9.5とした。上澄液と沈殿物に分離したが、上澄
液の銅含有量は100ppmであり、重金属キレート化
合物が排水中に多量に残っていた。比較例3及び上記実
施例1より、本発明の方法の好ましい態様(実施例1)
のように酸化還元電位値が700mV以上であれば、キ
レート剤の分解率を向上させることができる。
元電位値をpH値2.0、酸化還元電位値650mVに
それぞれ調整した以外は、実施例1と同様の方法で行っ
た。得られた溶液に還元剤として5%亜硫酸水素ナトリ
ウム0.3mlを添加して酸化還元電位350mVと
し、さらに8%水酸化ナトリウム溶液8mlを添加して
pH9.5とした。上澄液と沈殿物に分離したが、上澄
液の銅含有量は100ppmであり、重金属キレート化
合物が排水中に多量に残っていた。比較例3及び上記実
施例1より、本発明の方法の好ましい態様(実施例1)
のように酸化還元電位値が700mV以上であれば、キ
レート剤の分解率を向上させることができる。
【0041】(比較例4)実施例2で使用した次亜リン
酸・亜リン酸を含有するメッキ製品製造時の工業排水を
使用した。前記排水1Lに対して、3%次亜塩素酸ナト
リウム溶液1.5Lを添加し、pH4.0、酸化還元電
位値1200mVに調整しながら、前記排水中に含まれ
る次亜リン酸・亜リン酸の分解を行った。分解してから
20分経過後に10%消石灰溶液8mlを添加してpH
13とし、上澄液と沈殿物に分離した。上澄み液のリン
酸含有量は18ppmであった。比較例4及び実施例2
より、本発明の方法の好ましい態様(実施例2)のよう
にpH値が3.0以下であり、かつ酸化還元電位値10
00mV以下であれば、キレート剤をより多く分解でき
ることが分かる。
酸・亜リン酸を含有するメッキ製品製造時の工業排水を
使用した。前記排水1Lに対して、3%次亜塩素酸ナト
リウム溶液1.5Lを添加し、pH4.0、酸化還元電
位値1200mVに調整しながら、前記排水中に含まれ
る次亜リン酸・亜リン酸の分解を行った。分解してから
20分経過後に10%消石灰溶液8mlを添加してpH
13とし、上澄液と沈殿物に分離した。上澄み液のリン
酸含有量は18ppmであった。比較例4及び実施例2
より、本発明の方法の好ましい態様(実施例2)のよう
にpH値が3.0以下であり、かつ酸化還元電位値10
00mV以下であれば、キレート剤をより多く分解でき
ることが分かる。
【0042】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の分解
方法によれば、pH調整剤と酸化剤との反応により生じ
る気体を大気中に放散することなく、キレート剤を分解
することができる。また、本発明の分解方法であれば、
前記pH調整剤と酸化剤との反応により発生する気体の
処理工程が不要となるため、当該処理のための設備等に
要するコストを大幅に削減することができるとともに、
短時間で効率よくキレート化合物を分解することができ
る。
方法によれば、pH調整剤と酸化剤との反応により生じ
る気体を大気中に放散することなく、キレート剤を分解
することができる。また、本発明の分解方法であれば、
前記pH調整剤と酸化剤との反応により発生する気体の
処理工程が不要となるため、当該処理のための設備等に
要するコストを大幅に削減することができるとともに、
短時間で効率よくキレート化合物を分解することができ
る。
【図1】 本発明のキレート剤の分解方法の分解工程を
説明する工程図である。
説明する工程図である。
【図2】 本発明のキレート剤の分解方法を実施するた
めの装置の概要を説明する説明図である。
めの装置の概要を説明する説明図である。
1 キレート化合物含有溶液
2 pH調整及び酸化還元電位調整
3 酸化剤
4 pH調整剤
5 キレート剤の分解
6 金属イオン
7 キレート剤分解物
8 アルカリ処理
9 金属沈殿物
11 キレート化合物分解装置
12 キレート化合物含有溶液槽
13 クローズドパイプ
14 pH調整剤専用槽
15 酸化剤専用槽
16 pH調整計
17 酸化還元電位計
18 攪拌装置
Claims (7)
- 【請求項1】 キレート化合物を含有する溶液にpH調
整剤及び酸化剤を添加してpH値及び酸化還元電位を調
整することにより前記キレート化合物に含まれるキレー
ト剤を分解する方法であって、 前記pH調整剤及び酸化剤の添加と前記キレート化合物
中に含まれるキレート剤の分解とを大気との接触を遮断
した状態で行うことを特徴とする前記方法。 - 【請求項2】 前記キレート化合物を含有する溶液を連
続的に移動させ、該移動の間に、前記pH調整剤及び酸
化剤の添加とキレート化合物に含まれるキレート剤の分
解とを行う請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記キレート化合物を含有する溶液が、
アルカリエッチング溶液、化学研磨溶液、化粧品廃液及
び医薬品廃液を含む水溶液からなる群から選ばれる少な
くとも1種以上である請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記pH値及び酸化還元電位を調整した
後の溶液のpH値が3.0以下であり、酸化還元電位が
700〜1000mVである請求項1〜3のいずれか1
項に記載の方法。 - 【請求項5】 前記酸化剤が次亜塩素酸ナトリウム又は
過酸化水素である請求項1〜4のいずれか1項に記載の
方法。 - 【請求項6】 前記pH調整剤が、酸性化合物又は酸性
溶液である請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 前記pH値及び酸化還元電位の調整を1
0〜25kPaで行う請求項1〜6のいずれか1項に記
載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001385054A JP2003181476A (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | キレート剤の分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001385054A JP2003181476A (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | キレート剤の分解方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003181476A true JP2003181476A (ja) | 2003-07-02 |
Family
ID=27594621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001385054A Pending JP2003181476A (ja) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | キレート剤の分解方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003181476A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007125481A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Japan Organo Co Ltd | キレート剤含有水のフッ素・リン処理方法および装置 |
JP2008055314A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 地下水浄化装置、および地下水の浄化方法 |
JP2010501349A (ja) * | 2006-08-25 | 2010-01-21 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板研磨液のユースポイント処理のための方法及びシステム |
JP2013236983A (ja) * | 2012-05-11 | 2013-11-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 廃水処理装置及び廃水処理方法 |
JPWO2012098924A1 (ja) * | 2011-01-20 | 2014-06-09 | 三菱レイヨン株式会社 | 廃水の処理装置、処理方法、および廃水処理システム |
CN114016010A (zh) * | 2021-11-05 | 2022-02-08 | 深圳市天熙科技开发有限公司 | 一种酸性整孔剂及无机非金属基材的表面金属化处理工艺方法 |
WO2025138917A1 (zh) * | 2023-12-25 | 2025-07-03 | 上海博士高环保科技有限公司 | 一种化学镀镍废液的预氧化处理设备及工艺控制方法 |
-
2001
- 2001-12-18 JP JP2001385054A patent/JP2003181476A/ja active Pending
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CN114016010B (zh) * | 2021-11-05 | 2024-05-24 | 深圳市天熙科技开发有限公司 | 一种酸性整孔剂及无机非金属基材的表面金属化处理工艺方法 |
WO2025138917A1 (zh) * | 2023-12-25 | 2025-07-03 | 上海博士高环保科技有限公司 | 一种化学镀镍废液的预氧化处理设备及工艺控制方法 |
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