JP2003173870A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法Info
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Classifications
-
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フレキシブルな基板上に、効率よく連続的に
所定パターンの有機発光層を形成する。 【解決手段】 パターニング部２２にて走行する帯状の
転写基板１２に、この転写基板１２と同期して走行する
帯状のシャドウマスク１３を密着させ、転写基板１２上
に有機発光層４ａのパターンを形成する。その後、アラ
イメント機構２８により転写基板と基板１４との位置合
わせを行い、転写部２３にて転写基板１２を有機発光層
４ａのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ
２７によって加熱して、基板１４上に有機発光層４ａの
パターンを転写する。
所定パターンの有機発光層を形成する。 【解決手段】 パターニング部２２にて走行する帯状の
転写基板１２に、この転写基板１２と同期して走行する
帯状のシャドウマスク１３を密着させ、転写基板１２上
に有機発光層４ａのパターンを形成する。その後、アラ
イメント機構２８により転写基板と基板１４との位置合
わせを行い、転写部２３にて転写基板１２を有機発光層
４ａのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ
２７によって加熱して、基板１４上に有機発光層４ａの
パターンを転写する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フレキシブルな基
板上に有機発光層を含む有機ＥＬ層を形成する有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法に関
する。
板上に有機発光層を含む有機ＥＬ層を形成する有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、陰極線管（ＣＲＴ）に代わる各種
のフラットパネルディスプレイが開発されている。この
うち、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機
ＥＬ素子と称する。）を用いた有機エレクトロルミネッ
センス表示装置は、有機ＥＬ素子が完全にオールソリッ
ドな構造であるため、従来のガラス基板を用いた場合と
比較して軽量性、薄さ、可撓性等において優位性を持
ち、持ち運びにも便利なフレキシブルな基板を用いたデ
ィスプレイへの応用が注目されている。このように有機
ＥＬ素子の基板にフレキシブルな材料を用いた場合に
は、原理的にロールツーロール方式での効率的な製造が
可能となるため、低コストなフレキシブルディスプレイ
を実現することができる。
のフラットパネルディスプレイが開発されている。この
うち、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機
ＥＬ素子と称する。）を用いた有機エレクトロルミネッ
センス表示装置は、有機ＥＬ素子が完全にオールソリッ
ドな構造であるため、従来のガラス基板を用いた場合と
比較して軽量性、薄さ、可撓性等において優位性を持
ち、持ち運びにも便利なフレキシブルな基板を用いたデ
ィスプレイへの応用が注目されている。このように有機
ＥＬ素子の基板にフレキシブルな材料を用いた場合に
は、原理的にロールツーロール方式での効率的な製造が
可能となるため、低コストなフレキシブルディスプレイ
を実現することができる。
【０００３】従来、有機ＥＬ素子を使用したカラーディ
スプレイとしては、大きく分けて以下の３種の方式が提
案されている。まず第１の方式としては、白色発光の有
機ＥＬ素子を使用して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色に塗り分け
られたカラーフィルタを通してカラー化するものであ
る。この方式は、有機ＥＬ素子が白色発光を行う１種類
でよく、有機層のパターニングが不要となるため、カラ
ーディスプレイの製造が簡単になるという利点がある。
しかし、この方式では、カラーフィルタを通すことによ
って、有機ＥＬ素子の発光の多くの部分がロスとなるた
めに原理的に効率が悪いという問題がある。
スプレイとしては、大きく分けて以下の３種の方式が提
案されている。まず第１の方式としては、白色発光の有
機ＥＬ素子を使用して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色に塗り分け
られたカラーフィルタを通してカラー化するものであ
る。この方式は、有機ＥＬ素子が白色発光を行う１種類
でよく、有機層のパターニングが不要となるため、カラ
ーディスプレイの製造が簡単になるという利点がある。
しかし、この方式では、カラーフィルタを通すことによ
って、有機ＥＬ素子の発光の多くの部分がロスとなるた
めに原理的に効率が悪いという問題がある。
【０００４】また、第２の方式としては、青色発光有機
ＥＬ素子と色変換層とを使用する方法である。例えば、
特開平３−１５２８９７号公報においては、この色変換
層を用いた有機ＥＬ素子のカラー化技術が開示されてい
る。しかし、この方式は、有機ＥＬ素子の微細化は必要
ないが、色変換層の発光効率が高くないと有機ＥＬ素子
の発光の利用効率が低いという問題がある。
ＥＬ素子と色変換層とを使用する方法である。例えば、
特開平３−１５２８９７号公報においては、この色変換
層を用いた有機ＥＬ素子のカラー化技術が開示されてい
る。しかし、この方式は、有機ＥＬ素子の微細化は必要
ないが、色変換層の発光効率が高くないと有機ＥＬ素子
の発光の利用効率が低いという問題がある。
【０００５】上述した第１及び第２の方式において問題
となっている有機ＥＬ素子の発光効率を改善し、有機Ｅ
Ｌ素子の発光を効率よく利用し得る第３の方式として、
Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を有する有機ＥＬ素子をそれぞれ独
立に形成して配置する方法がある。この第３の方式にお
いては、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色の有機ＥＬ素子のパターニ
ングには水分や酸、アルカリの溶液が存在すると特性が
劣化するという有機ＥＬ素子の性質によりフォトリソ技
術が使用できないため、一般的にはメタルマスク等のシ
ャドウマスクを使用してパターニングを行う真空蒸着法
により有機ＥＬ素子の薄膜が形成される。
となっている有機ＥＬ素子の発光効率を改善し、有機Ｅ
Ｌ素子の発光を効率よく利用し得る第３の方式として、
Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を有する有機ＥＬ素子をそれぞれ独
立に形成して配置する方法がある。この第３の方式にお
いては、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色の有機ＥＬ素子のパターニ
ングには水分や酸、アルカリの溶液が存在すると特性が
劣化するという有機ＥＬ素子の性質によりフォトリソ技
術が使用できないため、一般的にはメタルマスク等のシ
ャドウマスクを使用してパターニングを行う真空蒸着法
により有機ＥＬ素子の薄膜が形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た第３の方式では、基板とシャドウマスクとを若干離し
た状態でアライメントを行っているが、このアライメン
ト時には一旦基板の走行を停止させていた。このよう
に、フレキシブルな材料を用いて基板上にロールツーロ
ール方式にて有機ＥＬ素子を形成する場合であっても、
基板とシャドウマスクとのアライメント時にはガラス基
板を用いた場合と同様なアライメントを行う必要がある
ため、生産性を向上させることが困難であった。
た第３の方式では、基板とシャドウマスクとを若干離し
た状態でアライメントを行っているが、このアライメン
ト時には一旦基板の走行を停止させていた。このよう
に、フレキシブルな材料を用いて基板上にロールツーロ
ール方式にて有機ＥＬ素子を形成する場合であっても、
基板とシャドウマスクとのアライメント時にはガラス基
板を用いた場合と同様なアライメントを行う必要がある
ため、生産性を向上させることが困難であった。
【０００７】そこで、本発明は、フレキシブルな基板上
に有機ＥＬ層を構成する有機発光層を形成する際に、効
率よく連続的に有機発光層の薄膜パターンを形成し得る
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造
方法を提供することを目的とするものである。
に有機ＥＬ層を構成する有機発光層を形成する際に、効
率よく連続的に有機発光層の薄膜パターンを形成し得る
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造
方法を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造
装置は、走行する素子作製基板上に有機発光層を形成す
るものであって、走行する帯状の転写基板上に、この転
写基板と一部が密着しかつ同期して走行する帯状のシャ
ドウマスクを用いて有機発光層のパターンを形成するパ
ターニング部と、転写基板を有機発光層のパターンが形
成された面と反対側の面から加熱して、素子作製基板上
に有機発光層のパターンを転写する転写部とを有する。
このような製造装置を用いる有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法は、走行する帯状の転写基板に、こ
の転写基板と同期して走行する帯状のシャドウマスクを
密着させ、転写基板上に有機発光層のパターンを形成す
るパターニング工程と、転写基板を有機発光層のパター
ンが形成された面と反対側の面から加熱して、素子作製
基板上に有機発光層のパターンを転写する転写工程とを
有する。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造
装置は、走行する素子作製基板上に有機発光層を形成す
るものであって、走行する帯状の転写基板上に、この転
写基板と一部が密着しかつ同期して走行する帯状のシャ
ドウマスクを用いて有機発光層のパターンを形成するパ
ターニング部と、転写基板を有機発光層のパターンが形
成された面と反対側の面から加熱して、素子作製基板上
に有機発光層のパターンを転写する転写部とを有する。
このような製造装置を用いる有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法は、走行する帯状の転写基板に、こ
の転写基板と同期して走行する帯状のシャドウマスクを
密着させ、転写基板上に有機発光層のパターンを形成す
るパターニング工程と、転写基板を有機発光層のパター
ンが形成された面と反対側の面から加熱して、素子作製
基板上に有機発光層のパターンを転写する転写工程とを
有する。
【０００９】また、本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造装置は、走行する帯状の転写基板の
片面の全域にわたって有機発光層を蒸着させる蒸着部
と、転写基板を有機発光層が形成された面と反対側の面
から加熱し、素子作製基板上に、この素子作成基板と同
期して走行する帯状のシャドウマスクを用いて素子作成
基板上に所定パターンの有機発光層を転写する転写部と
を有する。このような製造装置を用いる有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法は、走行する帯状の転写
基板の片面の全域にわたって有機発光層を蒸着させる蒸
着工程と、転写基板を有機発光層が形成された面と反対
側の面から加熱して、素子作成基板と同期して走行する
帯状のシャドウマスクを用いて素子作製基板上に所定パ
ターンの有機発光層を転写する転写工程とを有する。
ッセンス素子の製造装置は、走行する帯状の転写基板の
片面の全域にわたって有機発光層を蒸着させる蒸着部
と、転写基板を有機発光層が形成された面と反対側の面
から加熱し、素子作製基板上に、この素子作成基板と同
期して走行する帯状のシャドウマスクを用いて素子作成
基板上に所定パターンの有機発光層を転写する転写部と
を有する。このような製造装置を用いる有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法は、走行する帯状の転写
基板の片面の全域にわたって有機発光層を蒸着させる蒸
着工程と、転写基板を有機発光層が形成された面と反対
側の面から加熱して、素子作成基板と同期して走行する
帯状のシャドウマスクを用いて素子作製基板上に所定パ
ターンの有機発光層を転写する転写工程とを有する。
【００１０】さらに、本発明に係る有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造装置は、走行しかつ片面が所定の
パターンで凹部と凸部とが繰り返し形成された凹凸面と
される帯状の転写基板に対し、上記凹凸面側に上記有機
発光層を蒸着する蒸着部と、転写基板を凹凸面と反対側
の面から加熱して、凹部に形成された有機発光層を素子
作製基板上に所定のパターンで転写する転写部とを有す
る。このような製造装置を用いる有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造方法は、走行しかつ片面が所定のパ
ターンで凹部と凸部とが繰り返し形成された凹凸面とさ
れる帯状の転写基板に対し、上記凹凸面側に上記有機発
光層を蒸着する蒸着工程と、転写基板を凹凸面と反対側
の面から加熱して、凹部に形成された有機発光層を素子
作製基板上に所定のパターンで転写する転写工程とを有
する。
ネッセンス素子の製造装置は、走行しかつ片面が所定の
パターンで凹部と凸部とが繰り返し形成された凹凸面と
される帯状の転写基板に対し、上記凹凸面側に上記有機
発光層を蒸着する蒸着部と、転写基板を凹凸面と反対側
の面から加熱して、凹部に形成された有機発光層を素子
作製基板上に所定のパターンで転写する転写部とを有す
る。このような製造装置を用いる有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造方法は、走行しかつ片面が所定のパ
ターンで凹部と凸部とが繰り返し形成された凹凸面とさ
れる帯状の転写基板に対し、上記凹凸面側に上記有機発
光層を蒸着する蒸着工程と、転写基板を凹凸面と反対側
の面から加熱して、凹部に形成された有機発光層を素子
作製基板上に所定のパターンで転写する転写工程とを有
する。
【００１１】上述した本発明に係る有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造装置及び製造方法は、フレキシブ
ルな基板材料に対し、連続的に効率よく有機発光層のパ
ターンが形成される。このため、本発明に係る有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法によ
れば、ロールツーロール方式での連続的な有機発光層の
形成が可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子
の生産性が向上し、低コストでの製造が実現する。
ネッセンス素子の製造装置及び製造方法は、フレキシブ
ルな基板材料に対し、連続的に効率よく有機発光層のパ
ターンが形成される。このため、本発明に係る有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法によ
れば、ロールツーロール方式での連続的な有機発光層の
形成が可能となり、有機エレクトロルミネッセンス素子
の生産性が向上し、低コストでの製造が実現する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る有機エレクト
ロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法の実施の
形態について図面を参照して詳細に説明する。
ロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法の実施の
形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】まず、本実施の形態に係る製造装置及び製
造方法により製造される有機ＥＬ素子１の構成について
説明する。有機ＥＬ素子１は、図１に示すように、光透
過性を有する透明基板２上の透明電極層３と、この透明
電極層３上に形成された有機ＥＬ材料からなる有機ＥＬ
層４と、さらにこの有機ＥＬ層４上に形成されたカソー
ド電極層５とを基本的な構成要素としてなり、これら各
層がガスバリア層６で覆われている。この有機ＥＬ素子
1は、自発光型のため視認性が高い等の特徴を有するこ
とから、各種表示装置において用いられる発光素子とし
て注目を集めている。有機ＥＬ素子１においては、これ
ら透明電極層３及びカソード電極層５への通電により、
それぞれの電極から注入された正孔及び電子が有機ＥＬ
層４内で再結合し、このときのエネルギーにより発光現
象を生ずる。
造方法により製造される有機ＥＬ素子１の構成について
説明する。有機ＥＬ素子１は、図１に示すように、光透
過性を有する透明基板２上の透明電極層３と、この透明
電極層３上に形成された有機ＥＬ材料からなる有機ＥＬ
層４と、さらにこの有機ＥＬ層４上に形成されたカソー
ド電極層５とを基本的な構成要素としてなり、これら各
層がガスバリア層６で覆われている。この有機ＥＬ素子
1は、自発光型のため視認性が高い等の特徴を有するこ
とから、各種表示装置において用いられる発光素子とし
て注目を集めている。有機ＥＬ素子１においては、これ
ら透明電極層３及びカソード電極層５への通電により、
それぞれの電極から注入された正孔及び電子が有機ＥＬ
層４内で再結合し、このときのエネルギーにより発光現
象を生ずる。
【００１４】透明電極層3は、ポリカーボネートやポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の良好な可撓性を
有する透明プラスチック材料等からなる透明基板２上
に、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ）薄膜をスパッタ
法で成膜することにより形成される。
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の良好な可撓性を
有する透明プラスチック材料等からなる透明基板２上
に、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ）薄膜をスパッタ
法で成膜することにより形成される。
【００１５】有機ＥＬ層４は、詳しい図示は省略するが
３層構造とされており、透明電極層３と接する側に配さ
れる正孔注入層、この正孔注入層上に配される有機発光
層、及び有機発光層上に配されカソード電極層５と接す
る電子輸送層とから構成されてなる。正孔注入層は、透
明電極層３から注入された正孔を有機発光層まで輸送す
るという役割を果たすものである。有機発光層は、電圧
印加時に陽極側から正孔を、陰極側から電子を注入でき
ること、注入された電荷、すなわち正孔及び電子を移動
させ、これら正孔と電子が再結合できる場を提供できる
こと、発光効率が高いこと等の条件を満たしている材料
を用いて形成される。有機発光層は、例えば低分子蛍光
色素、蛍光性の高分子、金属錯体等の有機材料が挙げら
れ、このような材料としては、具体的にはアントラセ
ン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、
ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチル
ベン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、
ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジ
ベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯
体、ジトルイルビニルビフェニル等を挙げることができ
る。電子輸送層は、カソード電極層５から注入された電
子を有機発光層まで輸送するものである。
３層構造とされており、透明電極層３と接する側に配さ
れる正孔注入層、この正孔注入層上に配される有機発光
層、及び有機発光層上に配されカソード電極層５と接す
る電子輸送層とから構成されてなる。正孔注入層は、透
明電極層３から注入された正孔を有機発光層まで輸送す
るという役割を果たすものである。有機発光層は、電圧
印加時に陽極側から正孔を、陰極側から電子を注入でき
ること、注入された電荷、すなわち正孔及び電子を移動
させ、これら正孔と電子が再結合できる場を提供できる
こと、発光効率が高いこと等の条件を満たしている材料
を用いて形成される。有機発光層は、例えば低分子蛍光
色素、蛍光性の高分子、金属錯体等の有機材料が挙げら
れ、このような材料としては、具体的にはアントラセ
ン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、
ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチル
ベン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、
ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジ
ベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯
体、ジトルイルビニルビフェニル等を挙げることができ
る。電子輸送層は、カソード電極層５から注入された電
子を有機発光層まで輸送するものである。
【００１６】カソード電極層５は、効率良く電子を注入
するために、真空準位からの仕事関数が小さい電極材料
（金属）を用いることが望ましい。
するために、真空準位からの仕事関数が小さい電極材料
（金属）を用いることが望ましい。
【００１７】ガスバリア層6は、有機ＥＬ素子1の駆動の
信頼性を確保し、また有機ＥＬ素子の劣化を防止するた
めに設けられるもので、有機ＥＬ素子1を封止し、酸素
や水分を遮断する機能を有するものである。
信頼性を確保し、また有機ＥＬ素子の劣化を防止するた
めに設けられるもので、有機ＥＬ素子1を封止し、酸素
や水分を遮断する機能を有するものである。
【００１８】上述した有機ＥＬ素子１の有機ＥＬ層４を
構成する各層のうち有機発光層を形成する際に使用する
発光層形成装置１０について説明する。発光層形成装置
１０は、図２に示すように、真空チャンバ１１内で複数
のロール材を用いて転写基板１２、シャドウマスク１３
及び基板１４をそれぞれ所定の方向に走行させている。
発光層形成装置１０においては、転写基板１２に対する
有機発光層４ａのパターニングと、転写基板１２から基
板１４への有機発光層４ａの転写が行われる。
構成する各層のうち有機発光層を形成する際に使用する
発光層形成装置１０について説明する。発光層形成装置
１０は、図２に示すように、真空チャンバ１１内で複数
のロール材を用いて転写基板１２、シャドウマスク１３
及び基板１４をそれぞれ所定の方向に走行させている。
発光層形成装置１０においては、転写基板１２に対する
有機発光層４ａのパターニングと、転写基板１２から基
板１４への有機発光層４ａの転写が行われる。
【００１９】転写基板１２には、耐熱性を有する材質、
例えばスチールホイル等を使用し、特に熱膨張係数の低
い４２％ニッケル鋼等を使用することが望ましい。転写
基板１２は、環状とされるとともに、その内側及び外側
を複数のロール材により支持され、図２中矢印Ａ方向に
走行するように駆動されている。具体的には、転写基板
１２は、その内側に配されかつ駆動モータ１５により回
転駆動される少なくとも1つの駆動ロール１６と、この
駆動ロール１６に対して転写基板１２を挟んで対向して
配されるニップロール１７とによって駆動されるととも
に、内側に配された複数のガイドロール１８及び外側に
配されたエッジサポートロール１９によって支持されか
つ走行方向がガイドされている。ニップロール１７は、
弾性を有する材質、例えばゴム等により形成されてお
り、エッジ部付近の外周面が有機発光層４ａの形成され
ない部分、具体的には転写基板１２の側縁部付近に当接
している。転写基板１２を支持するガイドロール１８の
うち、後述するパターニング部２２から転写部２３への
経路上と転写部２３からパターニング部２２への経路上
との２箇所に配されるガイドロール１８ａ、１８ｂは、
その位置がそれぞれ同図中矢印Ｂ１、Ｂ２方向に移動す
ることが可能な構造とされている。エッジサポートロー
ル１９は、ニップロール１７と同様に、エッジ部付近の
外周面が有機発光層４ａの形成されない転写基板１２の
側縁部付近に当接して転写基板１２を支持している。
例えばスチールホイル等を使用し、特に熱膨張係数の低
い４２％ニッケル鋼等を使用することが望ましい。転写
基板１２は、環状とされるとともに、その内側及び外側
を複数のロール材により支持され、図２中矢印Ａ方向に
走行するように駆動されている。具体的には、転写基板
１２は、その内側に配されかつ駆動モータ１５により回
転駆動される少なくとも1つの駆動ロール１６と、この
駆動ロール１６に対して転写基板１２を挟んで対向して
配されるニップロール１７とによって駆動されるととも
に、内側に配された複数のガイドロール１８及び外側に
配されたエッジサポートロール１９によって支持されか
つ走行方向がガイドされている。ニップロール１７は、
弾性を有する材質、例えばゴム等により形成されてお
り、エッジ部付近の外周面が有機発光層４ａの形成され
ない部分、具体的には転写基板１２の側縁部付近に当接
している。転写基板１２を支持するガイドロール１８の
うち、後述するパターニング部２２から転写部２３への
経路上と転写部２３からパターニング部２２への経路上
との２箇所に配されるガイドロール１８ａ、１８ｂは、
その位置がそれぞれ同図中矢印Ｂ１、Ｂ２方向に移動す
ることが可能な構造とされている。エッジサポートロー
ル１９は、ニップロール１７と同様に、エッジ部付近の
外周面が有機発光層４ａの形成されない転写基板１２の
側縁部付近に当接して転写基板１２を支持している。
【００２０】シャドウマスク１３は、転写基板１２に有
機ＥＬ材料を蒸着させて所定のパターンの有機発光層４
ａを形成するための複数条のスリットからなる開口が形
成されている。なお、シャドウマスク１３に形成される
開口は、有機発光層４ａのパターンに応じて、例えばド
ット状等に変更可能であることは勿論である。シャドウ
マスク１３には、例えばスチールホイルを使用すること
ができ、特に熱膨張係数の低い４２％ニッケル鋼等を使
用することが望ましい。シャドウマスク１３は、転写基
板１２と同様に環状とされ、図示を省略する少なくとも
１つの駆動ロールによって同図中矢印Ｃ方向に走行する
よう駆動されるとともに、内側に配設された複数のガイ
ドロール２０によって走行方向がガイドされている。
機ＥＬ材料を蒸着させて所定のパターンの有機発光層４
ａを形成するための複数条のスリットからなる開口が形
成されている。なお、シャドウマスク１３に形成される
開口は、有機発光層４ａのパターンに応じて、例えばド
ット状等に変更可能であることは勿論である。シャドウ
マスク１３には、例えばスチールホイルを使用すること
ができ、特に熱膨張係数の低い４２％ニッケル鋼等を使
用することが望ましい。シャドウマスク１３は、転写基
板１２と同様に環状とされ、図示を省略する少なくとも
１つの駆動ロールによって同図中矢印Ｃ方向に走行する
よう駆動されるとともに、内側に配設された複数のガイ
ドロール２０によって走行方向がガイドされている。
【００２１】なお、これら転写基板１２とシャドウマス
ク１３とには、図示は省略するがそれらの走行経路に、
適正な張力を与えるための張力制御機構が設けられてい
る。また、発光層形成装置１０においては、同素材、例
えば４２％ニッケル鋼を転写基板１２とシャドウマスク
１３とに使用することにより、非常に高精度なパターニ
ングを行うことができる。
ク１３とには、図示は省略するがそれらの走行経路に、
適正な張力を与えるための張力制御機構が設けられてい
る。また、発光層形成装置１０においては、同素材、例
えば４２％ニッケル鋼を転写基板１２とシャドウマスク
１３とに使用することにより、非常に高精度なパターニ
ングを行うことができる。
【００２２】基板１４は、透明基板２の原反となる帯状
の素材であり、同図中矢印Ｄ方向に走行するよう駆動さ
れている。基板１４は、図示を省略する巻出しロールか
ら繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られる、い
わゆるロールツーロール方式で走行している。なお、基
板１４には、その一方面上に予め所定の薄膜パターン、
具体的には透明電極層３と、この透明電極層３の上に正
孔注入層のパターンが形成されている。
の素材であり、同図中矢印Ｄ方向に走行するよう駆動さ
れている。基板１４は、図示を省略する巻出しロールか
ら繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られる、い
わゆるロールツーロール方式で走行している。なお、基
板１４には、その一方面上に予め所定の薄膜パターン、
具体的には透明電極層３と、この透明電極層３の上に正
孔注入層のパターンが形成されている。
【００２３】上述したように転写基板１２、シャドウマ
スク１３及び基板１４がそれぞれ所定方向に走行するよ
う駆動されている発光層形成装置１０は、所定パターン
の有機発光層４ａを転写基板１２上に形成するパターニ
ング部２２と、転写基板１２に形成された有機発光層４
ａを基板１４上に転写する転写部２３とを真空チャンバ
１１内に有している。
スク１３及び基板１４がそれぞれ所定方向に走行するよ
う駆動されている発光層形成装置１０は、所定パターン
の有機発光層４ａを転写基板１２上に形成するパターニ
ング部２２と、転写基板１２に形成された有機発光層４
ａを基板１４上に転写する転写部２３とを真空チャンバ
１１内に有している。
【００２４】パターニング部２２には、内部に冷却され
た冷却媒体が流されるクーリングキャン２４と、蒸着さ
せるための有機ＥＬ材料が充填された蒸発源２５が配設
されている。クーリングキャン２４は、環状の転写基板
１２の内側に、その外周面の一部に転写基板１２が密着
するように配設されている。クーリングキャン２４の外
周面に密着した転写基板１２の更に外側には、シャドウ
マスク１３が重なって密着している。クーリングキャン
２４は、図示を省略する駆動源によって、外周面に沿っ
て密着する転写基板１２及びシャドウマスク１３の走行
と同期するように回転駆動される。
た冷却媒体が流されるクーリングキャン２４と、蒸着さ
せるための有機ＥＬ材料が充填された蒸発源２５が配設
されている。クーリングキャン２４は、環状の転写基板
１２の内側に、その外周面の一部に転写基板１２が密着
するように配設されている。クーリングキャン２４の外
周面に密着した転写基板１２の更に外側には、シャドウ
マスク１３が重なって密着している。クーリングキャン
２４は、図示を省略する駆動源によって、外周面に沿っ
て密着する転写基板１２及びシャドウマスク１３の走行
と同期するように回転駆動される。
【００２５】パターニング部２２においては、蒸発源２
５から蒸発した有機ＥＬ材料が転写基板１２の一方面、
具体的にはクーリングキャン２４と接している側と反対
側の面に蒸着される。パターニング部２２は、上述した
ように転写基板１２とシャドウマスク１３とが密着し、
かつ同期して走行することで、転写基板１２を走行させ
たまま転写基板１２上に連続的に所定パターンの有機発
光層４ａが形成される。
５から蒸発した有機ＥＬ材料が転写基板１２の一方面、
具体的にはクーリングキャン２４と接している側と反対
側の面に蒸着される。パターニング部２２は、上述した
ように転写基板１２とシャドウマスク１３とが密着し、
かつ同期して走行することで、転写基板１２を走行させ
たまま転写基板１２上に連続的に所定パターンの有機発
光層４ａが形成される。
【００２６】発光層形成装置１０においては、上述した
ようにシャドウマスク１３を環状にして繰り返し利用す
る構成としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得
るようにパターニング部２２での蒸着後、再度パターニ
ング部２２で蒸着が行われるまでのシャドウマスク１３
の走行経路上にマスククリーニングユニット２５を設け
ている。マスククリーニングユニット２５においては、
蒸着時にシャドウマスク１３に付着した有機ＥＬ材料
が、例えば赤外線ランプヒータ等により加熱されて除去
される。
ようにシャドウマスク１３を環状にして繰り返し利用す
る構成としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得
るようにパターニング部２２での蒸着後、再度パターニ
ング部２２で蒸着が行われるまでのシャドウマスク１３
の走行経路上にマスククリーニングユニット２５を設け
ている。マスククリーニングユニット２５においては、
蒸着時にシャドウマスク１３に付着した有機ＥＬ材料
が、例えば赤外線ランプヒータ等により加熱されて除去
される。
【００２７】転写部２３においては、転写基板１２と基
板１４とがギャップｄを隔てて対向して配されるととも
に、転写基板１２の内側に位置して有機発光層４ａが形
成された面と反対側の面から転写基板１２を加熱するヒ
ータ２７と、基板１４に対する転写基板１２の位置合わ
せを行うアライメント機構２８とが配設されている。ヒ
ータ２７は、転写基板１２を加熱できるものであれば良
く、例えば赤外線ランプヒータ等を使用する。アライメ
ント機構２８は、ヒータ２７を挟むようにして配設され
た一対のガイドロール１８ｃ、１８ｄの幅方向の位置及
び角度を調整することによって基板１４に対する転写基
板１２の位置合わせを行う。アライメント機構２８にお
けるガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置及び角度の調整
は、転写部２３よりも上流側に配設され転写基板１２側
の状態を認識する第１の画像認識カメラ２９と、同様に
転写部２３よりも上流側に配設され基板１４側の状態を
認識する第２の画像認識カメラ３０とによって、実際に
転写基板１２に形成された有機発光層４ａのパターン及
び基板１４に形成された薄膜パターン、又は転写基板１
２及び基板１４に設けられたアライメントマークを認識
し、これらの位置を合わせることにより行われる。
板１４とがギャップｄを隔てて対向して配されるととも
に、転写基板１２の内側に位置して有機発光層４ａが形
成された面と反対側の面から転写基板１２を加熱するヒ
ータ２７と、基板１４に対する転写基板１２の位置合わ
せを行うアライメント機構２８とが配設されている。ヒ
ータ２７は、転写基板１２を加熱できるものであれば良
く、例えば赤外線ランプヒータ等を使用する。アライメ
ント機構２８は、ヒータ２７を挟むようにして配設され
た一対のガイドロール１８ｃ、１８ｄの幅方向の位置及
び角度を調整することによって基板１４に対する転写基
板１２の位置合わせを行う。アライメント機構２８にお
けるガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置及び角度の調整
は、転写部２３よりも上流側に配設され転写基板１２側
の状態を認識する第１の画像認識カメラ２９と、同様に
転写部２３よりも上流側に配設され基板１４側の状態を
認識する第２の画像認識カメラ３０とによって、実際に
転写基板１２に形成された有機発光層４ａのパターン及
び基板１４に形成された薄膜パターン、又は転写基板１
２及び基板１４に設けられたアライメントマークを認識
し、これらの位置を合わせることにより行われる。
【００２８】転写部２３においては、転写基板１２がヒ
ータ２７上を通過する際、転写基板１２上の有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発し、蒸発した有
機ＥＬ材料がギャップｄを挟んで対向して位置する基板
１２上、具体的には基板１２に予め形成されている薄膜
パターン上に付着することで所定パターンの有機発光層
４ａが転写される。
ータ２７上を通過する際、転写基板１２上の有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発し、蒸発した有
機ＥＬ材料がギャップｄを挟んで対向して位置する基板
１２上、具体的には基板１２に予め形成されている薄膜
パターン上に付着することで所定パターンの有機発光層
４ａが転写される。
【００２９】転写部２３においては、有機発光層４ａを
上述したように転写する際、転写基板１２及び基板１４
を一旦停止させる。発光層形成装置１０は、ガイドロー
ル１８ａを図２中矢印Ｂ１方向に、ガイドロール１８ｂ
を同図中矢印Ｂ２方向に移動するように、制御機構、例
えばアキュムレータによって転写基板１２の走行経路を
変更し、調整することで、転写時に生じる転写部２３と
その他の部分とにおける転写基板１２の走行速度の差を
吸収する。
上述したように転写する際、転写基板１２及び基板１４
を一旦停止させる。発光層形成装置１０は、ガイドロー
ル１８ａを図２中矢印Ｂ１方向に、ガイドロール１８ｂ
を同図中矢印Ｂ２方向に移動するように、制御機構、例
えばアキュムレータによって転写基板１２の走行経路を
変更し、調整することで、転写時に生じる転写部２３と
その他の部分とにおける転写基板１２の走行速度の差を
吸収する。
【００３０】なお、上述した転写部２３においては、転
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置１０はこのような構成に限定される
ものではない。発光層形成装置１０は、この他に、例え
ば転写部２３でレーザ等によって転写基板１２を加熱す
るようなものであってもよい。
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置１０はこのような構成に限定される
ものではない。発光層形成装置１０は、この他に、例え
ば転写部２３でレーザ等によって転写基板１２を加熱す
るようなものであってもよい。
【００３１】発光層形成装置１０においては、上述した
ように転写基板１２を環状にして繰り返し利用する構成
としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得るよう
に転写部２３からパターニング部２２への経路上に転写
基板クリーニングユニット３１が設けられている。転写
基板クリーンユニット３１は、転写後も転写基板１２に
残留した有機ＥＬ材料が、例えば赤外線ランプヒータに
より加熱されて、除去される。
ように転写基板１２を環状にして繰り返し利用する構成
としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得るよう
に転写部２３からパターニング部２２への経路上に転写
基板クリーニングユニット３１が設けられている。転写
基板クリーンユニット３１は、転写後も転写基板１２に
残留した有機ＥＬ材料が、例えば赤外線ランプヒータに
より加熱されて、除去される。
【００３２】上述した発光層形成装置１０においては、
転写基板１２として環状にされたものを用いたが本発明
はこのような構成に限定されるものではない。発光層形
成装置１０は、図３に示すように、長尺な帯状の転写基
板１２を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２を
巻出し部４１から繰り出し、パターニング部２２及び転
写部２３を経た転写基板１２を巻取り部４２にて再度ロ
ール状に巻き取るような構造としてもよい。発光層形成
装置１０をこのような構造とする場合には、転写後の転
写基板１２のクリーニングを行うクリーニングユニット
は設けなくともよい。
転写基板１２として環状にされたものを用いたが本発明
はこのような構成に限定されるものではない。発光層形
成装置１０は、図３に示すように、長尺な帯状の転写基
板１２を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２を
巻出し部４１から繰り出し、パターニング部２２及び転
写部２３を経た転写基板１２を巻取り部４２にて再度ロ
ール状に巻き取るような構造としてもよい。発光層形成
装置１０をこのような構造とする場合には、転写後の転
写基板１２のクリーニングを行うクリーニングユニット
は設けなくともよい。
【００３３】また、発光層形成装置１０においては、図
４に示すように、長尺な帯状のシャドウマスク１３を使
用し、ロール状に巻回されたシャドウマスク１３を巻出
し部５１から繰り出し、パターニング部２２を経たシャ
ドウマスク１３を巻取り部５２にて再度ロール状に巻き
取るような構造としてもよい。発光層形成装置１０をこ
のような構造とする場合には、蒸着後のシャドウマスク
１３のクリーニングを行うクリーニングユニットは設け
なくともよい。
４に示すように、長尺な帯状のシャドウマスク１３を使
用し、ロール状に巻回されたシャドウマスク１３を巻出
し部５１から繰り出し、パターニング部２２を経たシャ
ドウマスク１３を巻取り部５２にて再度ロール状に巻き
取るような構造としてもよい。発光層形成装置１０をこ
のような構造とする場合には、蒸着後のシャドウマスク
１３のクリーニングを行うクリーニングユニットは設け
なくともよい。
【００３４】上述した発光層形成装置１０を用いて基板
１４上に有機ＥＬ層４を構成する有機発光層４ａを形成
する方法について以下に説明する。なお、以下に説明す
る有機発光層４ａを形成するための各工程は、Ｒ、Ｇ、
Ｂの各色の発光層についてそれぞれ行われる。また、基
板１４には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電
極層３の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形
成されている。
１４上に有機ＥＬ層４を構成する有機発光層４ａを形成
する方法について以下に説明する。なお、以下に説明す
る有機発光層４ａを形成するための各工程は、Ｒ、Ｇ、
Ｂの各色の発光層についてそれぞれ行われる。また、基
板１４には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電
極層３の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形
成されている。
【００３５】発光層形成装置１０においては、パターニ
ング工程、アライメント工程及び転写工程を経て基板１
４上に所定パターンの有機発光層４ａが形成される。
ング工程、アライメント工程及び転写工程を経て基板１
４上に所定パターンの有機発光層４ａが形成される。
【００３６】まず、発光層形成装置１０においては、転
写基板１２上に有機発光層４ａのパターンを形成するパ
ターニング工程が行われる。パターニング工程では、ス
リットが形成されたシャドウマスク１３を用いて、蒸発
源２５から蒸発した有機ＥＬ材料を転写基板１２に蒸着
させることにより、転写基板１２上に多数条の有機発光
層４ａのパターンが形成される。ここで、蒸発源２５か
ら蒸発する有機ＥＬ材料としては、上述した種々の材料
を用いることができる。パターニング工程においては、
同期して走行する転写基板１２とシャドウマスク１３と
を走行させたまま転写基板１２上に所定パターンの有機
発光層４ａが連続的に形成される。有機発光層４ａが形
成された転写基板１２は、転写部２３に供給される。
写基板１２上に有機発光層４ａのパターンを形成するパ
ターニング工程が行われる。パターニング工程では、ス
リットが形成されたシャドウマスク１３を用いて、蒸発
源２５から蒸発した有機ＥＬ材料を転写基板１２に蒸着
させることにより、転写基板１２上に多数条の有機発光
層４ａのパターンが形成される。ここで、蒸発源２５か
ら蒸発する有機ＥＬ材料としては、上述した種々の材料
を用いることができる。パターニング工程においては、
同期して走行する転写基板１２とシャドウマスク１３と
を走行させたまま転写基板１２上に所定パターンの有機
発光層４ａが連続的に形成される。有機発光層４ａが形
成された転写基板１２は、転写部２３に供給される。
【００３７】次に、発光層形成装置１０においては、上
述したパターニング工程において転写基板１２上に形成
された有機発光層４ａのパターンと、予め基板１４に形
成された薄膜パターンとの位置合わせを行うアライメン
ト工程が行われる。アライメント工程においては、走行
する転写基板１２の有機発光層４ａのパターンを第１の
画像認識カメラ２９にて認識するとともに、同じく走行
する基板１４に形成された正孔注入層のパターンを第２
の画像認識カメラ３０にて認識し、これらパターンの位
置を比較して両者のずれの有無を確認する。なお、この
アライメント工程においては、第１の画像認識カメラ２
９及び第２の画像認識カメラ３０は、転写基板１２に形
成された有機発光層４ａのパターン及び基板１４に形成
された薄膜パターンそのものを認識しているが、転写基
板１２及び基板１４に予めアライメントマークが形成さ
れている場合には、このアライメントマークを認識する
ようにしてもよい。
述したパターニング工程において転写基板１２上に形成
された有機発光層４ａのパターンと、予め基板１４に形
成された薄膜パターンとの位置合わせを行うアライメン
ト工程が行われる。アライメント工程においては、走行
する転写基板１２の有機発光層４ａのパターンを第１の
画像認識カメラ２９にて認識するとともに、同じく走行
する基板１４に形成された正孔注入層のパターンを第２
の画像認識カメラ３０にて認識し、これらパターンの位
置を比較して両者のずれの有無を確認する。なお、この
アライメント工程においては、第１の画像認識カメラ２
９及び第２の画像認識カメラ３０は、転写基板１２に形
成された有機発光層４ａのパターン及び基板１４に形成
された薄膜パターンそのものを認識しているが、転写基
板１２及び基板１４に予めアライメントマークが形成さ
れている場合には、このアライメントマークを認識する
ようにしてもよい。
【００３８】アライメント工程では、認識された転写基
板１２のパターンと基板１４のパターンとに位置ずれが
生じていた場合には、発光層形成装置１０のアライメン
ト機構２８又は駆動モータ１５によって、基板１４のパ
ターンに合わせて転写基板１２のパターンの位置を修正
する。具体的には、転写基板１２の走行方向（図５中矢
印Ａ方向）のずれに対しては、駆動モータ１５の速度を
調節して転写基板１２の走行方向の位置ずれを修正す
る。また、転写基板１２の幅方向のずれに対しては、ア
ライメント機構２８によってガイドロール１８ｃ、１８
ｄの位置を図５中矢印Ｅ方向に動かし、角度ずれに対し
ては、アライメント機構２８によってガイドロール１８
ｃ、１８ｄの角度を同図中矢印Ｆ方向に動かして転写基
板１２の位置ずれを修正する。このアライメント工程に
おける動作、具体的には駆動モータ１５の速度調節やア
ライメント機構２８によるガイドロール１８ｃ、１８ｄ
の位置調整は、転写基板１２及び基板１４が走行した状
態のまま、転写基板１２及び基板１４にそれぞれ形成さ
れたパターンの切れ目が転写部２３に差しかかった時に
行われる。また、上述したアライメント工程における動
作によって転写基板１２と基板１４との走行速度に差が
生じる場合があるが、このような走行速度の差を吸収す
るために、アキュムレータ等の制御機構で制御されるガ
イドロール１８ａを図１中矢印Ｂ１方向へ、ガイドロー
ル１８ｂを同図中矢印Ｂ２方向へそれぞれ移動させ、転
写基板１２の走行経路を調整している。
板１２のパターンと基板１４のパターンとに位置ずれが
生じていた場合には、発光層形成装置１０のアライメン
ト機構２８又は駆動モータ１５によって、基板１４のパ
ターンに合わせて転写基板１２のパターンの位置を修正
する。具体的には、転写基板１２の走行方向（図５中矢
印Ａ方向）のずれに対しては、駆動モータ１５の速度を
調節して転写基板１２の走行方向の位置ずれを修正す
る。また、転写基板１２の幅方向のずれに対しては、ア
ライメント機構２８によってガイドロール１８ｃ、１８
ｄの位置を図５中矢印Ｅ方向に動かし、角度ずれに対し
ては、アライメント機構２８によってガイドロール１８
ｃ、１８ｄの角度を同図中矢印Ｆ方向に動かして転写基
板１２の位置ずれを修正する。このアライメント工程に
おける動作、具体的には駆動モータ１５の速度調節やア
ライメント機構２８によるガイドロール１８ｃ、１８ｄ
の位置調整は、転写基板１２及び基板１４が走行した状
態のまま、転写基板１２及び基板１４にそれぞれ形成さ
れたパターンの切れ目が転写部２３に差しかかった時に
行われる。また、上述したアライメント工程における動
作によって転写基板１２と基板１４との走行速度に差が
生じる場合があるが、このような走行速度の差を吸収す
るために、アキュムレータ等の制御機構で制御されるガ
イドロール１８ａを図１中矢印Ｂ１方向へ、ガイドロー
ル１８ｂを同図中矢印Ｂ２方向へそれぞれ移動させ、転
写基板１２の走行経路を調整している。
【００３９】そして、発光層形成装置１０では、上述し
たアライメント工程を経た転写基板１２及び基板１４が
転写部２３に供給され、転写工程が行われる。転写工程
では、転写基板１２が転写部２３を通過する際に、ヒー
タ２７の加熱、例えば転写基板１２の温度が約１２０℃
となるような条件で転写基板１２が加熱される。加熱さ
れた転写基板１２からは、有機発光層４ａが再度蒸発し
て有機ＥＬ材料がギャップｄ、例えば５０μｍの間隔を
隔てて配された基板１４に付着することにより、有機発
光層４ａが転写される。転写工程においては、ヒータ２
７の出力が有機ＥＬ材料の蒸発温度及び転写基板１２、
基板１４の走行速度等に応じて適正に制御される。
たアライメント工程を経た転写基板１２及び基板１４が
転写部２３に供給され、転写工程が行われる。転写工程
では、転写基板１２が転写部２３を通過する際に、ヒー
タ２７の加熱、例えば転写基板１２の温度が約１２０℃
となるような条件で転写基板１２が加熱される。加熱さ
れた転写基板１２からは、有機発光層４ａが再度蒸発し
て有機ＥＬ材料がギャップｄ、例えば５０μｍの間隔を
隔てて配された基板１４に付着することにより、有機発
光層４ａが転写される。転写工程においては、ヒータ２
７の出力が有機ＥＬ材料の蒸発温度及び転写基板１２、
基板１４の走行速度等に応じて適正に制御される。
【００４０】上述した転写工程においては、有機発光層
４ａを転写する際、転写基板１２及び基板１４を一旦停
止させるが、このときに転写部２３とその他の部分にお
ける転写基板１２の走行速度の差が生じる。このような
走行速度の差を吸収するためには、アキュムレータ等の
制御機構で制御されるガイドロール１８ａを図１中矢印
Ｂ１方向へ、ガイドロール１８ｂを同図中矢印Ｂ２方向
へそれぞれ移動させ、転写基板１２の走行経路を調整し
ている。
４ａを転写する際、転写基板１２及び基板１４を一旦停
止させるが、このときに転写部２３とその他の部分にお
ける転写基板１２の走行速度の差が生じる。このような
走行速度の差を吸収するためには、アキュムレータ等の
制御機構で制御されるガイドロール１８ａを図１中矢印
Ｂ１方向へ、ガイドロール１８ｂを同図中矢印Ｂ２方向
へそれぞれ移動させ、転写基板１２の走行経路を調整し
ている。
【００４１】なお、発光層形成装置１０においては、上
述した転写工程後に転写基板１２が転写基板クリーニン
グユニット３１へと走行し、転写基板クリーニングユニ
ット３１において転写基板１２に残留した有機ＥＬ材料
が除去されて、繰り返し再利用される。
述した転写工程後に転写基板１２が転写基板クリーニン
グユニット３１へと走行し、転写基板クリーニングユニ
ット３１において転写基板１２に残留した有機ＥＬ材料
が除去されて、繰り返し再利用される。
【００４２】上述した各工程を経て基板１４上にＲ、
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される。
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される。
【００４３】発光層形成装置１０を使用して有機発光層
４ａを形成する際には、上述したように転写工程実施時
に転写基板１２及び基板１４を一旦停止させて転写処理
を行っているが、本発明はこれに限らず転写基板１２及
び基板１４を常に一定速度で走行させながら転写処理を
行うものであってもよい。このような場合、パターニン
グ工程時の蒸着速度と、転写工程時の転写速度との間に
速度差が生じることがあるが、これらに速度差が生じた
場合には、上述した制御機構の制御によってその位置が
移動するガイドロール１８ａ、１８ｂを適宜移動させる
ことで速度差を吸収する。
４ａを形成する際には、上述したように転写工程実施時
に転写基板１２及び基板１４を一旦停止させて転写処理
を行っているが、本発明はこれに限らず転写基板１２及
び基板１４を常に一定速度で走行させながら転写処理を
行うものであってもよい。このような場合、パターニン
グ工程時の蒸着速度と、転写工程時の転写速度との間に
速度差が生じることがあるが、これらに速度差が生じた
場合には、上述した制御機構の制御によってその位置が
移動するガイドロール１８ａ、１８ｂを適宜移動させる
ことで速度差を吸収する。
【００４４】次に、本発明を適用した有機ＥＬ素子の製
造装置について、他の実施の形態に係る発光層形成装置
６０の構造を説明する。なお、発光層形成装置６０にお
いては、上述した発光層形成装置１０と同様の構成を有
する部分については同一符号を付し、詳しい説明は省略
する。
造装置について、他の実施の形態に係る発光層形成装置
６０の構造を説明する。なお、発光層形成装置６０にお
いては、上述した発光層形成装置１０と同様の構成を有
する部分については同一符号を付し、詳しい説明は省略
する。
【００４５】発光層形成装置６０は、図６に示すよう
に、真空チャンバ１１内で複数のロール材を用いて転写
基板１２、シャドウマスク１３及び基板１４をそれぞれ
所定の方向に走行させている。
に、真空チャンバ１１内で複数のロール材を用いて転写
基板１２、シャドウマスク１３及び基板１４をそれぞれ
所定の方向に走行させている。
【００４６】転写基板１２は、環状とされ、内側に配設
された複数のガイドロール１８及び外側に配設されたエ
ッジサポートロール１９によって支持されかつ走行方向
がガイドされるとともに、後述するように自ら回転する
後述するクーリングキャン２４によって図６中Ｇ矢印方
向に走行するよう駆動されている。
された複数のガイドロール１８及び外側に配設されたエ
ッジサポートロール１９によって支持されかつ走行方向
がガイドされるとともに、後述するように自ら回転する
後述するクーリングキャン２４によって図６中Ｇ矢印方
向に走行するよう駆動されている。
【００４７】シャドウマスク１３は、転写基板１２と同
様に環状とされ、転写基板１２よりも外側に、この転写
基板１２を囲うようにして配設される。シャドウマスク
１３には、図７に示すように、複数条のスリット６１
と、後述する基板１４に対するシャドウマスク１３の位
置決めの基準となるアライメントマーク６２が形成され
ている。
様に環状とされ、転写基板１２よりも外側に、この転写
基板１２を囲うようにして配設される。シャドウマスク
１３には、図７に示すように、複数条のスリット６１
と、後述する基板１４に対するシャドウマスク１３の位
置決めの基準となるアライメントマーク６２が形成され
ている。
【００４８】シャドウマスク１３は、複数のガイドロー
ル２０によって支持されかつ走行方向がガイドされてい
るとともに、いずれかのガイドロール２０とシャドウマ
スク１３を挟んで対向して配設される駆動ロール１６に
よって、転写基板１２と同方向（図６中矢印Ｈ方向）に
走行するよう駆動されている。シャドウマスク１３を駆
動する駆動ロール１６には、駆動モータ１５が接続され
ている。
ル２０によって支持されかつ走行方向がガイドされてい
るとともに、いずれかのガイドロール２０とシャドウマ
スク１３を挟んで対向して配設される駆動ロール１６に
よって、転写基板１２と同方向（図６中矢印Ｈ方向）に
走行するよう駆動されている。シャドウマスク１３を駆
動する駆動ロール１６には、駆動モータ１５が接続され
ている。
【００４９】なお、これら転写基板１２とシャドウマス
ク１３とには、図示は省略するがそれらの走行経路にそ
れぞれ適正な張力を与えるための張力制御機構が設けら
れている。
ク１３とには、図示は省略するがそれらの走行経路にそ
れぞれ適正な張力を与えるための張力制御機構が設けら
れている。
【００５０】基板１４は、透明基板２の原反となる帯状
の素材であり、図６中矢印Ｉ方向に走行するよう駆動さ
れている。基板１４は、図示を省略する巻出しロールか
ら繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られるロー
ルツーロール方式で走行している。なお、基板１４に
は、その一方面上に所定の薄膜パターン、具体的には透
明電極層３と、この透明電極層３の上に正孔注入層のパ
ターンが形成されている。
の素材であり、図６中矢印Ｉ方向に走行するよう駆動さ
れている。基板１４は、図示を省略する巻出しロールか
ら繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られるロー
ルツーロール方式で走行している。なお、基板１４に
は、その一方面上に所定の薄膜パターン、具体的には透
明電極層３と、この透明電極層３の上に正孔注入層のパ
ターンが形成されている。
【００５１】上述したように転写基板１２、シャドウマ
スク１３及び基板１４がそれぞれ所定方向に走行するよ
う駆動されている発光層形成装置６０は、転写基板１２
の一方面の全域にわたって有機ＥＬ材料からなる有機発
光層４ａを蒸着する蒸着部６３と、転写基板１２から基
板１４上に所定パターンの有機発光層４ａを転写する転
写部６４とを真空チャンバ１１内に有している。
スク１３及び基板１４がそれぞれ所定方向に走行するよ
う駆動されている発光層形成装置６０は、転写基板１２
の一方面の全域にわたって有機ＥＬ材料からなる有機発
光層４ａを蒸着する蒸着部６３と、転写基板１２から基
板１４上に所定パターンの有機発光層４ａを転写する転
写部６４とを真空チャンバ１１内に有している。
【００５２】蒸着部６３には、クーリングキャン２４
と、蒸発源２５とが配設されている。クーリングキャン
２４は、環状の転写基板１２の内側に、その外周面の一
部に転写基板１２が密着するように配設される。クーリ
ングキャン２４は、図示を省略する駆動源によって同図
中矢印方Ｊ向に回転駆動され、同時に外周面に沿って密
着している転写基板１２を同方向に走行するよう駆動し
ている。
と、蒸発源２５とが配設されている。クーリングキャン
２４は、環状の転写基板１２の内側に、その外周面の一
部に転写基板１２が密着するように配設される。クーリ
ングキャン２４は、図示を省略する駆動源によって同図
中矢印方Ｊ向に回転駆動され、同時に外周面に沿って密
着している転写基板１２を同方向に走行するよう駆動し
ている。
【００５３】蒸着部６３では、蒸発源２５から蒸発した
有機ＥＬ材料が、転写基板１２の一方面、具体的にはク
ーリングキャン２４と密着している面と反対側の面の全
域にわたって蒸着され、有機発光層４ａが形成される。
蒸着部６３における有機ＥＬ材料の蒸着は、転写基板１
２が走行した状態で連続的に行われる。
有機ＥＬ材料が、転写基板１２の一方面、具体的にはク
ーリングキャン２４と密着している面と反対側の面の全
域にわたって蒸着され、有機発光層４ａが形成される。
蒸着部６３における有機ＥＬ材料の蒸着は、転写基板１
２が走行した状態で連続的に行われる。
【００５４】転写部６４においては、転写基板１２と基
板１４とがシャドウマスク１３を挟んでギャップｄを隔
てて対向しており、ヒータ２７と、基板１４に対するシ
ャドウマスク１３の位置合わせを行うアライメント機構
２８とが配設されている。
板１４とがシャドウマスク１３を挟んでギャップｄを隔
てて対向しており、ヒータ２７と、基板１４に対するシ
ャドウマスク１３の位置合わせを行うアライメント機構
２８とが配設されている。
【００５５】転写基板１２と基板１４とのギャップｄ
は、具体的には図８に示すように、シャドウマスク１３
と基板１４とのギャップｄ１、転写基板１２とシャドウ
マスク１３とのギャップｄ２とに分けられる。ギャップ
ｄ１は、０．０１ｍｍ以上、１ｍｍ以下程度の間隔とさ
れ、ギャップｄ２は、数ｍｍ以下程度の間隔とされる。
このギャップｄ２は、０ｍｍ、シャドウマスク１３と基
板１４とを密着させた状態としてもよい。
は、具体的には図８に示すように、シャドウマスク１３
と基板１４とのギャップｄ１、転写基板１２とシャドウ
マスク１３とのギャップｄ２とに分けられる。ギャップ
ｄ１は、０．０１ｍｍ以上、１ｍｍ以下程度の間隔とさ
れ、ギャップｄ２は、数ｍｍ以下程度の間隔とされる。
このギャップｄ２は、０ｍｍ、シャドウマスク１３と基
板１４とを密着させた状態としてもよい。
【００５６】ヒータ２７は、転写基板１２を加熱できる
ものであれば良く、例えば赤外線ランプヒータ等を使用
する。アライメント機構２８は、ヒータ２７を挟むよう
にして配設された一対のガイドロール２０ａ、２０ｂの
幅方向の位置及び角度を調整することによって基板１４
に対するシャドウマスク１３の位置合わせを行う。アラ
イメント機構２８におけるガイドロール２０ａ、２０ｂ
の位置及び角度の調整は、転写部６４よりも上流側に配
設されシャドウマスク１３側の状態を認識する第１の画
像認識カメラ２９と、同様に転写部６４よりも上流側に
配設され基板１４側の状態を認識する第２の画像認識カ
メラ３０とによって、シャドウマスク１３に形成された
スリットと予め基板１４に形成された薄膜パターンと
を、又はシャドウマスク１３及び基板１４にそれぞれ設
けられたアライメントマーク同士を認識して行われる。
ものであれば良く、例えば赤外線ランプヒータ等を使用
する。アライメント機構２８は、ヒータ２７を挟むよう
にして配設された一対のガイドロール２０ａ、２０ｂの
幅方向の位置及び角度を調整することによって基板１４
に対するシャドウマスク１３の位置合わせを行う。アラ
イメント機構２８におけるガイドロール２０ａ、２０ｂ
の位置及び角度の調整は、転写部６４よりも上流側に配
設されシャドウマスク１３側の状態を認識する第１の画
像認識カメラ２９と、同様に転写部６４よりも上流側に
配設され基板１４側の状態を認識する第２の画像認識カ
メラ３０とによって、シャドウマスク１３に形成された
スリットと予め基板１４に形成された薄膜パターンと
を、又はシャドウマスク１３及び基板１４にそれぞれ設
けられたアライメントマーク同士を認識して行われる。
【００５７】転写部６４では、転写基板１２がヒータ２
７上を通過する際に、一方面上に形成された有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発する。そして、
転写部６４においては、この蒸発した有機ＥＬ材料が基
板１４との間に配設されたシャドウマスク１３を用いた
転写によって、基板１２上に予め形成された薄膜パター
ン上に付着して、所定パターンの有機発光層４ａが形成
される。この転写部６４における転写処理は、転写基板
１２、シャドウマスク１３及び基板１４を同じ速度で走
行させたままで行われる。
７上を通過する際に、一方面上に形成された有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発する。そして、
転写部６４においては、この蒸発した有機ＥＬ材料が基
板１４との間に配設されたシャドウマスク１３を用いた
転写によって、基板１２上に予め形成された薄膜パター
ン上に付着して、所定パターンの有機発光層４ａが形成
される。この転写部６４における転写処理は、転写基板
１２、シャドウマスク１３及び基板１４を同じ速度で走
行させたままで行われる。
【００５８】なお、上述した転写部６４においては、転
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置６０はこのような構成に限定される
ものではない。発光層形成装置６０は、この他に、例え
ば転写部６４でレーザ等によって転写基板１２を加熱す
るようなものであってもよい。
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置６０はこのような構成に限定される
ものではない。発光層形成装置６０は、この他に、例え
ば転写部６４でレーザ等によって転写基板１２を加熱す
るようなものであってもよい。
【００５９】発光層形成装置６０においては、上述した
ように転写基板１２及びシャドウマスク１３を環状にし
て繰り返し利用する構成としたが、このような繰り返し
の利用にも耐え得るように、転写基板１２については転
写部６４から蒸着部６３への経路上に転写基板クリーニ
ングユニット３１が、シャドウマスク１３については転
写部６４での転写後、再度の転写へとガイドされる経路
上にマスククリーニングユニット２６が設けられてい
る。
ように転写基板１２及びシャドウマスク１３を環状にし
て繰り返し利用する構成としたが、このような繰り返し
の利用にも耐え得るように、転写基板１２については転
写部６４から蒸着部６３への経路上に転写基板クリーニ
ングユニット３１が、シャドウマスク１３については転
写部６４での転写後、再度の転写へとガイドされる経路
上にマスククリーニングユニット２６が設けられてい
る。
【００６０】なお、上述した発光層形成装置６０におい
ては、シャドウマスク１３として環状にされたものを用
いたが本発明はこのような構成に限定されるものではな
い。発光層形成装置５０は、図９に示すように、長尺な
帯状のシャドウマスク１３を使用し、ロール状に巻回さ
れたシャドウマスク１３を巻出し部５１から繰り出し、
蒸着部６３及び転写部６４を経たシャドウマスク１３を
巻取り部５２にて再度ロール状に巻き取るような構造と
してもよい。発光層形成装置６０をこのような構造とす
る場合には、転写後のシャドウマスク１３のクリーニン
グを行うクリーニングユニットは設けなくともよい。
ては、シャドウマスク１３として環状にされたものを用
いたが本発明はこのような構成に限定されるものではな
い。発光層形成装置５０は、図９に示すように、長尺な
帯状のシャドウマスク１３を使用し、ロール状に巻回さ
れたシャドウマスク１３を巻出し部５１から繰り出し、
蒸着部６３及び転写部６４を経たシャドウマスク１３を
巻取り部５２にて再度ロール状に巻き取るような構造と
してもよい。発光層形成装置６０をこのような構造とす
る場合には、転写後のシャドウマスク１３のクリーニン
グを行うクリーニングユニットは設けなくともよい。
【００６１】また、発光層形成装置６０においては、図
１０に示すように、転写基板１２についても長尺な帯状
の部材を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２を
巻出し部４１から繰り出し、転写部６４を経た転写基板
１２を巻取り部４２にて再度ロール状に巻き取るような
構造としてもよい。発光層形成装置６０をこのような構
造とする場合には、転写後の転写基板１２のクリーニン
グを行うクリーニングユニットは設けなくともよい。
１０に示すように、転写基板１２についても長尺な帯状
の部材を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２を
巻出し部４１から繰り出し、転写部６４を経た転写基板
１２を巻取り部４２にて再度ロール状に巻き取るような
構造としてもよい。発光層形成装置６０をこのような構
造とする場合には、転写後の転写基板１２のクリーニン
グを行うクリーニングユニットは設けなくともよい。
【００６２】さらに、発光層形成装置６０においては、
蒸着部６３での有機発光層４ａの蒸着速度と、転写部６
４での有機発光層４ａの転写速度との間に速度差が生じ
ることがあるが、これらに速度差が生じた場合には、図
１１に示すように、ガイドロール１８ａ、１８ｂをアキ
ュムレータ等の制御機構の制御によって移動することが
できる構造とし、これらガイドロール１８ａ、１８ｂを
適宜移動させ、転写基板１２の走行経路を調整すること
で速度差を吸収するようにしてもよい。
蒸着部６３での有機発光層４ａの蒸着速度と、転写部６
４での有機発光層４ａの転写速度との間に速度差が生じ
ることがあるが、これらに速度差が生じた場合には、図
１１に示すように、ガイドロール１８ａ、１８ｂをアキ
ュムレータ等の制御機構の制御によって移動することが
できる構造とし、これらガイドロール１８ａ、１８ｂを
適宜移動させ、転写基板１２の走行経路を調整すること
で速度差を吸収するようにしてもよい。
【００６３】上述した構成を有する発光層形成装置６０
は、転写部６４における転写処理が３６０°いずれの方
向でも良好に行うことができる。このため、発光層形成
装置６０は、装置構成の自由度が増し、装置自体のコス
トダウンを図ることができる。
は、転写部６４における転写処理が３６０°いずれの方
向でも良好に行うことができる。このため、発光層形成
装置６０は、装置構成の自由度が増し、装置自体のコス
トダウンを図ることができる。
【００６４】上述した構成を有する発光層形成装置６０
を用いて基板１４上に有機発光層４ａを形成する方法に
ついて以下に説明する。なお、以下に説明する有機発光
層４ａを形成するための各工程は、上述した発光層形成
装置１０を用いた場合と同様にＲ、Ｇ、Ｂの各色の発光
層についてそれぞれ行われるものであり、また基板１４
には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電極層３
の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形成され
ている。
を用いて基板１４上に有機発光層４ａを形成する方法に
ついて以下に説明する。なお、以下に説明する有機発光
層４ａを形成するための各工程は、上述した発光層形成
装置１０を用いた場合と同様にＲ、Ｇ、Ｂの各色の発光
層についてそれぞれ行われるものであり、また基板１４
には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電極層３
の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形成され
ている。
【００６５】発光層形成装置６０においては、蒸着工程
及びアライメント工程が行われ、これら両工程の後に転
写工程が行われて基板１４上に所定パターンの有機発光
層４ａが形成される。
及びアライメント工程が行われ、これら両工程の後に転
写工程が行われて基板１４上に所定パターンの有機発光
層４ａが形成される。
【００６６】まず、発光層形成装置６０においては、転
写基板１２の一方面の全域にわたって有機発光層４ａを
蒸着させる蒸着工程が行われる。この蒸着工程において
は、転写基板１２を走行させつつ、連続的に転写基板１
２上に有機発光層４ａが蒸着される。有機発光層４ａが
形成された転写基板１２は、転写部６４へと供給され
る。
写基板１２の一方面の全域にわたって有機発光層４ａを
蒸着させる蒸着工程が行われる。この蒸着工程において
は、転写基板１２を走行させつつ、連続的に転写基板１
２上に有機発光層４ａが蒸着される。有機発光層４ａが
形成された転写基板１２は、転写部６４へと供給され
る。
【００６７】また、発光層形成装置６０においては、シ
ャドウマスク１３に形成されたスリット６１の開口パタ
ーンと、予め基板１４に形成された薄膜パターンとの位
置合わせを行うアライメント工程が行われる。まず、ア
ライメント工程においては、走行するシャドウマスク１
３のアライメントマーク６２を第１の画像認識カメラ２
９にて認識するとともに、同じく走行する基板１４のア
ライメントマーク（図示せず）を第２の画像認識カメラ
３０にて認識し、これらの位置を比較して両者のずれの
有無が確認される。なお、このアライメント工程におけ
る位置ずれの確認は、上述したアライメントマーク同士
ではなく、シャドウマスク１３のスリット６１と基板１
４に形成された有機発光層４ａのパターンとを認識し
て、これらを比較して行うようにしてもよい。
ャドウマスク１３に形成されたスリット６１の開口パタ
ーンと、予め基板１４に形成された薄膜パターンとの位
置合わせを行うアライメント工程が行われる。まず、ア
ライメント工程においては、走行するシャドウマスク１
３のアライメントマーク６２を第１の画像認識カメラ２
９にて認識するとともに、同じく走行する基板１４のア
ライメントマーク（図示せず）を第２の画像認識カメラ
３０にて認識し、これらの位置を比較して両者のずれの
有無が確認される。なお、このアライメント工程におけ
る位置ずれの確認は、上述したアライメントマーク同士
ではなく、シャドウマスク１３のスリット６１と基板１
４に形成された有機発光層４ａのパターンとを認識し
て、これらを比較して行うようにしてもよい。
【００６８】アライメント工程では、シャドウマスク１
３と基板１４との間に位置ずれが生じていた場合には、
アライメント機構２８又は駆動モータ１５によって基板
１４に合わせてシャドウマスク１３の位置を修正する。
具体的には、シャドウマスク１３の走行方向（図７中矢
印Ｈ方向）のずれに対しては、駆動モータ１５の速度を
調節してシャドウマスク１３の走行方向の位置ずれを修
正する。また、シャドウマスク１３の幅方向のずれに対
しては、アライメント機構２８によってガイドロール２
０ａ、２０ｂの位置を図７中矢印Ｋ方向に動かし、角度
ずれに対しては、アライメント機構２８によってガイド
ロール２０ａ、２０ｂの角度を同図中矢印Ｌ方向に動か
してシャドウマスク１３の位置ずれを修正する。
３と基板１４との間に位置ずれが生じていた場合には、
アライメント機構２８又は駆動モータ１５によって基板
１４に合わせてシャドウマスク１３の位置を修正する。
具体的には、シャドウマスク１３の走行方向（図７中矢
印Ｈ方向）のずれに対しては、駆動モータ１５の速度を
調節してシャドウマスク１３の走行方向の位置ずれを修
正する。また、シャドウマスク１３の幅方向のずれに対
しては、アライメント機構２８によってガイドロール２
０ａ、２０ｂの位置を図７中矢印Ｋ方向に動かし、角度
ずれに対しては、アライメント機構２８によってガイド
ロール２０ａ、２０ｂの角度を同図中矢印Ｌ方向に動か
してシャドウマスク１３の位置ずれを修正する。
【００６９】上述したアライメント工程における動作、
具体的には駆動モータ１５の速度調節やアライメント機
構２８によるガイドロール２０ａ、２０ｂの位置調整
は、シャドウマスク１３及び基板１４を走行させた状態
のまま、シャドウマスク１３のスリット６１のパターン
及び基板１４に形成された正孔注入層のパターンの切れ
目が転写部６４に差しかかった時に行われる。また、ア
ライメント工程における動作によって、シャドウマスク
１３と基板１４との間に速度差が生じた場合には、図示
を省略する制御機構、例えばアキュムレータによってシ
ャドウマスク１３を支持するガイドロール２０のいずれ
かを移動させ、シャドウマスク１３の走行経路を調整す
ることで上述したようなシャドウマスク１３と基板１４
との速度差を吸収する。
具体的には駆動モータ１５の速度調節やアライメント機
構２８によるガイドロール２０ａ、２０ｂの位置調整
は、シャドウマスク１３及び基板１４を走行させた状態
のまま、シャドウマスク１３のスリット６１のパターン
及び基板１４に形成された正孔注入層のパターンの切れ
目が転写部６４に差しかかった時に行われる。また、ア
ライメント工程における動作によって、シャドウマスク
１３と基板１４との間に速度差が生じた場合には、図示
を省略する制御機構、例えばアキュムレータによってシ
ャドウマスク１３を支持するガイドロール２０のいずれ
かを移動させ、シャドウマスク１３の走行経路を調整す
ることで上述したようなシャドウマスク１３と基板１４
との速度差を吸収する。
【００７０】上述したアライメント工程にて位置合わせ
が行われたシャドウマスク１３と基板１４とは、転写部
６４において両者の間にギャップｄ１が保たれるように
転写部６４へと供給される。
が行われたシャドウマスク１３と基板１４とは、転写部
６４において両者の間にギャップｄ１が保たれるように
転写部６４へと供給される。
【００７１】そして、発光層形成装置６０では、有機発
光層４ａが形成された転写基板１２から基板１４へ所定
パターンの有機発光層４ａの転写を行う転写工程が行わ
れる。転写工程では、転写部６４においてシャドウマス
ク１３と基板１４、及びシャドウマスク１３との間にギ
ャップｄ２が保たれるように供給される転写基板１２が
同じ速度で走行し、これらを走行させたままで転写基板
１２から基板１４への有機発光層４ａの転写が行われ
る。転写工程は、転写基板１２が転写部６４を通過する
際に、ヒータ２７によって、例えば転写基板１２の温度
が約１２０℃乃至１５０℃となるような条件で転写基板
１２が加熱される。加熱された転写基板１２からは、有
機発光層４ａが再度蒸発して有機ＥＬ材料となり、この
有機ＥＬ材料が転写基板１２からギャップｄ、例えば５
０μｍ乃至５００μｍの間隔を隔てて配された基板１２
にシャドウマスク１３のスリット６１を介して付着する
ことにより、所定パターン、具体的には基板１４に形成
されている薄膜パターン上に有機発光層４ａが転写され
る。転写工程においては、ヒータ２７の出力が有機ＥＬ
材料の蒸発温度及び転写基板１２、基板１４の走行速度
等に応じて適正に制御される。
光層４ａが形成された転写基板１２から基板１４へ所定
パターンの有機発光層４ａの転写を行う転写工程が行わ
れる。転写工程では、転写部６４においてシャドウマス
ク１３と基板１４、及びシャドウマスク１３との間にギ
ャップｄ２が保たれるように供給される転写基板１２が
同じ速度で走行し、これらを走行させたままで転写基板
１２から基板１４への有機発光層４ａの転写が行われ
る。転写工程は、転写基板１２が転写部６４を通過する
際に、ヒータ２７によって、例えば転写基板１２の温度
が約１２０℃乃至１５０℃となるような条件で転写基板
１２が加熱される。加熱された転写基板１２からは、有
機発光層４ａが再度蒸発して有機ＥＬ材料となり、この
有機ＥＬ材料が転写基板１２からギャップｄ、例えば５
０μｍ乃至５００μｍの間隔を隔てて配された基板１２
にシャドウマスク１３のスリット６１を介して付着する
ことにより、所定パターン、具体的には基板１４に形成
されている薄膜パターン上に有機発光層４ａが転写され
る。転写工程においては、ヒータ２７の出力が有機ＥＬ
材料の蒸発温度及び転写基板１２、基板１４の走行速度
等に応じて適正に制御される。
【００７２】上述した各工程を経て基板１４上にＲ、
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される点は上
述した発光層形成装置１０による場合と同様である。
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される点は上
述した発光層形成装置１０による場合と同様である。
【００７３】次に、さらに他の実施の形態に係る発光層
形成装置７０の構造を説明する。なお、発光層形成装置
７０においては、上述した発光層形成装置１０と同様の
構成を有する部分については同一符号を付し、詳しい説
明は省略する。
形成装置７０の構造を説明する。なお、発光層形成装置
７０においては、上述した発光層形成装置１０と同様の
構成を有する部分については同一符号を付し、詳しい説
明は省略する。
【００７４】発光層形成装置７０は、図１２に示すよう
に、真空チャンバ１１内で複数のロール材を用いて転写
基板１２及び基板１４をそれぞれ所定の方向に走行させ
ている。
に、真空チャンバ１１内で複数のロール材を用いて転写
基板１２及び基板１４をそれぞれ所定の方向に走行させ
ている。
【００７５】転写基板１２は、環状とされるとともに、
その内側及び外側を複数のロール材により支持され、同
図中矢印Ｍ方向に走行するように駆動されている。具体
的には、転写基板１２は、その内側に配されかつ駆動モ
ータ１５により回転駆動される少なくとも1つの駆動ロ
ール１６と、この駆動ロール１６に対して転写基板１２
を挟んで対向して配されるニップロール１７とによって
駆動されるとともに、内側に配された複数のガイドロー
ル１８及び外側に配されたエッジサポートロール１９に
よって支持されかつ走行方向がガイドされている。この
転写基板１２には、図示は省略するが、その走行経路に
適正な張力を与えるための張力制御機構が設けられてい
る。
その内側及び外側を複数のロール材により支持され、同
図中矢印Ｍ方向に走行するように駆動されている。具体
的には、転写基板１２は、その内側に配されかつ駆動モ
ータ１５により回転駆動される少なくとも1つの駆動ロ
ール１６と、この駆動ロール１６に対して転写基板１２
を挟んで対向して配されるニップロール１７とによって
駆動されるとともに、内側に配された複数のガイドロー
ル１８及び外側に配されたエッジサポートロール１９に
よって支持されかつ走行方向がガイドされている。この
転写基板１２には、図示は省略するが、その走行経路に
適正な張力を与えるための張力制御機構が設けられてい
る。
【００７６】転写基板１２は、図１３に示すように、そ
の一方面、具体的にはエッジサポートロール１９によっ
て支持される外側の面が、複数の突起部７１が形成され
た凹凸面とされている。突起部７１は、該突起部７１間
の凹部７２のパターンと、基板１４上に転写する有機発
光層４ａのパターンとが適合するように形成されてい
る。突起部７１は、転写基板１２に比して熱伝導性の低
い材料、例えばセラミック等によって形成されている。
の一方面、具体的にはエッジサポートロール１９によっ
て支持される外側の面が、複数の突起部７１が形成され
た凹凸面とされている。突起部７１は、該突起部７１間
の凹部７２のパターンと、基板１４上に転写する有機発
光層４ａのパターンとが適合するように形成されてい
る。突起部７１は、転写基板１２に比して熱伝導性の低
い材料、例えばセラミック等によって形成されている。
【００７７】この転写基板１２の凹凸面は、以下のよう
にして得られる。まず、図１４（ａ）に示すように、転
写基板１２上に感光樹脂８１を塗布し、同図（ｂ）に示
すように、形成する凹部のパターンに合わせたフォトマ
スク８２を感光樹脂８１の上に設置して水銀ランプ等で
露光する。そして、同図（ｃ）に示すように、現像液に
て現像し、洗浄することで露光された部分のみに感光樹
脂８１を残留させ、同図（ｄ）に示すように、セラミッ
ク８３をスパッタ法等により感光樹脂８１及びこの感光
樹脂８１の間に露出している転写基板１２上に付着させ
る。その後、レジスト除去剤を用いて感光樹脂８１を除
去し、同図（ｅ）に示すように、複数の突起部７１が転
写基板１２上に形成され、突起部７１と突起部７１間の
凹部７２からなる凹凸面とされる。
にして得られる。まず、図１４（ａ）に示すように、転
写基板１２上に感光樹脂８１を塗布し、同図（ｂ）に示
すように、形成する凹部のパターンに合わせたフォトマ
スク８２を感光樹脂８１の上に設置して水銀ランプ等で
露光する。そして、同図（ｃ）に示すように、現像液に
て現像し、洗浄することで露光された部分のみに感光樹
脂８１を残留させ、同図（ｄ）に示すように、セラミッ
ク８３をスパッタ法等により感光樹脂８１及びこの感光
樹脂８１の間に露出している転写基板１２上に付着させ
る。その後、レジスト除去剤を用いて感光樹脂８１を除
去し、同図（ｅ）に示すように、複数の突起部７１が転
写基板１２上に形成され、突起部７１と突起部７１間の
凹部７２からなる凹凸面とされる。
【００７８】基板１４は、透明基板２の原反となる帯状
の素材であり、図１２中矢印Ｎ方向に走行するよう駆動
されている。基板１４は、図示を省略する巻出しロール
から繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られてい
る。なお、基板１４には、その一方面上に所定の薄膜パ
ターン、具体的には透明電極層３と、この透明電極層３
の上に正孔注入層のパターンが形成されている。
の素材であり、図１２中矢印Ｎ方向に走行するよう駆動
されている。基板１４は、図示を省略する巻出しロール
から繰り出され、ガイドロール２１に支持されるととも
に、走行方向をガイドされ、有機発光層４ａが転写され
た後に図示を省略する巻取りロールに巻き取られてい
る。なお、基板１４には、その一方面上に所定の薄膜パ
ターン、具体的には透明電極層３と、この透明電極層３
の上に正孔注入層のパターンが形成されている。
【００７９】上述したように転写基板１２と基板１４と
がそれぞれ所定方向に走行するよう駆動されている発光
層形成装置７０は、有機発光層４ａを転写基板１２上に
蒸着する蒸着部７３と、転写基板１２から基板１４に所
定のパターンの有機発光層４ａを転写する転写部７４と
を真空チャンバ１１内に有している。
がそれぞれ所定方向に走行するよう駆動されている発光
層形成装置７０は、有機発光層４ａを転写基板１２上に
蒸着する蒸着部７３と、転写基板１２から基板１４に所
定のパターンの有機発光層４ａを転写する転写部７４と
を真空チャンバ１１内に有している。
【００８０】蒸着部７３には、クーリングキャン２４
と、蒸発源２５とが配設されている。クーリングキャン
２４は、環状の転写基板１２の内側に配設され、その外
周面の一部に転写基板１２が密着している。クーリング
キャン２４は、図示を省略する駆動源によって、外周面
に沿って密着する転写基板１２の走行と同期するように
回転駆動される。
と、蒸発源２５とが配設されている。クーリングキャン
２４は、環状の転写基板１２の内側に配設され、その外
周面の一部に転写基板１２が密着している。クーリング
キャン２４は、図示を省略する駆動源によって、外周面
に沿って密着する転写基板１２の走行と同期するように
回転駆動される。
【００８１】蒸着部７３では、蒸発源２５から蒸発した
有機ＥＬ材料が転写基板１２の一方面、具体的には突起
部７１が形成された面に蒸着する。発光層形成装置７０
においては、有機ＥＬ材料が蒸着する転写基板１２の一
方面が上述したように凹凸面とされているため、図１５
に示すように、突起部７１の端面７１ａと、凹部７２の
底面を構成する転写基板１２とに分かれて有機発光層４
ａが形成される。
有機ＥＬ材料が転写基板１２の一方面、具体的には突起
部７１が形成された面に蒸着する。発光層形成装置７０
においては、有機ＥＬ材料が蒸着する転写基板１２の一
方面が上述したように凹凸面とされているため、図１５
に示すように、突起部７１の端面７１ａと、凹部７２の
底面を構成する転写基板１２とに分かれて有機発光層４
ａが形成される。
【００８２】転写部７４においては、転写基板１２と基
板１４とがギャップｄを隔てて対向しており、ヒータ２
７と、基板１４に対する転写基板１２の位置合わせを行
うアライメント機構２８とが配設されている。ヒータ２
７は、転写基板１２を加熱できるものであれば良く、例
えば赤外線ランプヒータ等を使用する。アライメント機
構２８は、ヒータ２７を挟むようにして配設された一対
のガイドロール１８ｃ、１８ｄの幅方向の位置及び角度
を調整することによって基板１４に対する転写基板１２
の位置合わせを行う。アライメント機構２８におけるガ
イドロール１８ｃ、１８ｄの位置及び角度の調整は、転
写部７４よりも上流側に配設され転写基板１２側の状態
を認識する第１の画像認識カメラ２９と、同様に転写部
７４よりも上流側に配設され基板１４側の状態を認識す
る第２の画像認識カメラ３０とによって、実際に転写基
板１２に形成された凹凸面のパターン及び基板１４に形
成された薄膜パターン、又は転写基板１２及び基板１４
に設けられたアライメントマークを認識し、これらの位
置を合わせることにより行われる。
板１４とがギャップｄを隔てて対向しており、ヒータ２
７と、基板１４に対する転写基板１２の位置合わせを行
うアライメント機構２８とが配設されている。ヒータ２
７は、転写基板１２を加熱できるものであれば良く、例
えば赤外線ランプヒータ等を使用する。アライメント機
構２８は、ヒータ２７を挟むようにして配設された一対
のガイドロール１８ｃ、１８ｄの幅方向の位置及び角度
を調整することによって基板１４に対する転写基板１２
の位置合わせを行う。アライメント機構２８におけるガ
イドロール１８ｃ、１８ｄの位置及び角度の調整は、転
写部７４よりも上流側に配設され転写基板１２側の状態
を認識する第１の画像認識カメラ２９と、同様に転写部
７４よりも上流側に配設され基板１４側の状態を認識す
る第２の画像認識カメラ３０とによって、実際に転写基
板１２に形成された凹凸面のパターン及び基板１４に形
成された薄膜パターン、又は転写基板１２及び基板１４
に設けられたアライメントマークを認識し、これらの位
置を合わせることにより行われる。
【００８３】また、上述したアライメント機構２８にお
ける位置合わせ動作により、転写基板１２と基板１４と
の間に速度差が生じた場合には、ガイドロール１８ａ、
１８ｂを制御機構、例えばアキュムレータによって移動
させ、転写基板１２の走行経路を変更して調整すること
で、転写基板１２と基板１４との間の走行速度の差を吸
収する。
ける位置合わせ動作により、転写基板１２と基板１４と
の間に速度差が生じた場合には、ガイドロール１８ａ、
１８ｂを制御機構、例えばアキュムレータによって移動
させ、転写基板１２の走行経路を変更して調整すること
で、転写基板１２と基板１４との間の走行速度の差を吸
収する。
【００８４】転写部７４においては、転写基板１２がヒ
ータ２７上を通過する際、転写基板１２上の有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発し、蒸発した有
機ＥＬ材料がギャップｄを挟んで対向して位置する基板
１２上、具体的には基板１２に予め形成されている薄膜
パターン上に付着することで所定パターンの有機発光層
４ａが転写される。このとき、発光層形成装置７０にお
いては、凹部７２に形成された有機発光層４ａを蒸発さ
せかつ転写基板１２に比して熱伝導性の低い突起部７１
の端面７１ａに形成された有機発光層４ａを蒸発させな
い温度条件でヒータ２７による加熱が行われる。転写部
７４では、上述した有機発光層４ａの転写処理が、転写
基板１２及び基板１２を同じ速度で走行させながら行わ
れる。
ータ２７上を通過する際、転写基板１２上の有機発光層
４ａがヒータ２７の過熱により再度蒸発し、蒸発した有
機ＥＬ材料がギャップｄを挟んで対向して位置する基板
１２上、具体的には基板１２に予め形成されている薄膜
パターン上に付着することで所定パターンの有機発光層
４ａが転写される。このとき、発光層形成装置７０にお
いては、凹部７２に形成された有機発光層４ａを蒸発さ
せかつ転写基板１２に比して熱伝導性の低い突起部７１
の端面７１ａに形成された有機発光層４ａを蒸発させな
い温度条件でヒータ２７による加熱が行われる。転写部
７４では、上述した有機発光層４ａの転写処理が、転写
基板１２及び基板１２を同じ速度で走行させながら行わ
れる。
【００８５】なお、上述した転写部７４においては、転
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置はこのような構成に限定されるもの
ではない。発光層形成装置７０は、この他に、例えば転
写部７４でレーザ等によって転写基板１２を加熱するよ
うなものであってもよい。
写基板１２を加熱する手段としてヒータ２７を用いた
が、発光層形成装置はこのような構成に限定されるもの
ではない。発光層形成装置７０は、この他に、例えば転
写部７４でレーザ等によって転写基板１２を加熱するよ
うなものであってもよい。
【００８６】発光層形成装置７０においては、上述した
蒸着部７３での有機発光層４ａの蒸着速度と、転写部７
４での有機発光層４ａの転写速度との間に速度差が生じ
ることがある。このような速度差が生じた場合には、転
写基板１２を支持するガイドロール１８ａ、１８ｂをア
キュムレータ等の制御機構の制御によって移動すること
ができる構造とし、これらガイドロール１８ａ、１８ｂ
を適宜移動させて転写基板１２の走行経路を調整し、蒸
着速度と転写速度の速度差を吸収している。
蒸着部７３での有機発光層４ａの蒸着速度と、転写部７
４での有機発光層４ａの転写速度との間に速度差が生じ
ることがある。このような速度差が生じた場合には、転
写基板１２を支持するガイドロール１８ａ、１８ｂをア
キュムレータ等の制御機構の制御によって移動すること
ができる構造とし、これらガイドロール１８ａ、１８ｂ
を適宜移動させて転写基板１２の走行経路を調整し、蒸
着速度と転写速度の速度差を吸収している。
【００８７】発光層形成装置７０においては、上述した
ように転写基板１２を環状にして繰り返し利用する構成
としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得るよう
に転写部７４からパターニング部２２への経路上に転写
基板クリーニングユニット３１が設けられている。この
転写基板クリーニングユニット３１は、例えば外周面に
粘着性を有するローラ部材が配設され、このローラ部材
を転写基板１２の突起部７１上で転がし、端面７１ａに
残留した有機発光層４ａを除去する。また、転写基板ク
リーニングユニット３１は、上述したローラ部材により
有機発光層４ａを除去するのではなく、ヒータによる加
熱で有機発光層４ａを除去するものであってもよい。ヒ
ータによる加熱で有機発光層４ａを除去する場合、突起
部７１が転写基板１２よりも熱伝導性の低い材料で形成
されているため、凹凸面の反対側から加熱を行うとき
は、上述した転写部７４のヒータ２７による加熱の際の
温度条件に比してさらに高温で、若しくは長時間加熱す
ることを要し、凹凸面側から加熱するときは、突起部７
１の熱伝導性にかかわらず容易に有機発光層４ａとなっ
た有機ＥＬ材料の蒸発温度にまで加熱することができる
ため、上述したように高温若しくは長時間の加熱をする
必要はない。
ように転写基板１２を環状にして繰り返し利用する構成
としたが、このような繰り返しの利用にも耐え得るよう
に転写部７４からパターニング部２２への経路上に転写
基板クリーニングユニット３１が設けられている。この
転写基板クリーニングユニット３１は、例えば外周面に
粘着性を有するローラ部材が配設され、このローラ部材
を転写基板１２の突起部７１上で転がし、端面７１ａに
残留した有機発光層４ａを除去する。また、転写基板ク
リーニングユニット３１は、上述したローラ部材により
有機発光層４ａを除去するのではなく、ヒータによる加
熱で有機発光層４ａを除去するものであってもよい。ヒ
ータによる加熱で有機発光層４ａを除去する場合、突起
部７１が転写基板１２よりも熱伝導性の低い材料で形成
されているため、凹凸面の反対側から加熱を行うとき
は、上述した転写部７４のヒータ２７による加熱の際の
温度条件に比してさらに高温で、若しくは長時間加熱す
ることを要し、凹凸面側から加熱するときは、突起部７
１の熱伝導性にかかわらず容易に有機発光層４ａとなっ
た有機ＥＬ材料の蒸発温度にまで加熱することができる
ため、上述したように高温若しくは長時間の加熱をする
必要はない。
【００８８】また、発光層形成装置７０は、図１６に示
すように、転写部７４よりも上流側にリムーバ７５を設
けて、転写基板１２が転写部７４に供給される前段階で
不要な突起部７１上の有機発光層４ａを除去するような
構成としてもよい。リムーバ７５は、一方面が粘着面と
された帯状部材７５ａをニップロール７５ｂによって転
写基板１２の凹凸面に押し付け、図１７に示すように、
帯状部材７５ａが接する突起部７１の端面７１ａ上に形
成された有機発光層４ａを粘着面に張り付かせて除去す
るものである。リムーバ７５は、帯状部材７５ａの粘着
面が突起部７１の端面７１ａ上のみに当接するため、転
写部７４における転写処理に必要な凹部７２に形成され
た有機発光層４ａは除去されない。
すように、転写部７４よりも上流側にリムーバ７５を設
けて、転写基板１２が転写部７４に供給される前段階で
不要な突起部７１上の有機発光層４ａを除去するような
構成としてもよい。リムーバ７５は、一方面が粘着面と
された帯状部材７５ａをニップロール７５ｂによって転
写基板１２の凹凸面に押し付け、図１７に示すように、
帯状部材７５ａが接する突起部７１の端面７１ａ上に形
成された有機発光層４ａを粘着面に張り付かせて除去す
るものである。リムーバ７５は、帯状部材７５ａの粘着
面が突起部７１の端面７１ａ上のみに当接するため、転
写部７４における転写処理に必要な凹部７２に形成され
た有機発光層４ａは除去されない。
【００８９】発光層形成装置７０は、上述したようなリ
ムーバ７５が配設された場合、転写処理前に端面７１ａ
に形成された不要な有機発光層４ａが除去されるので、
突起部７１を転写基板１２に比して熱伝導性の低い材料
で形成しなくともよく、転写基板１２の一方面にエッチ
ング等の方法で凹凸面を形成してもよい。
ムーバ７５が配設された場合、転写処理前に端面７１ａ
に形成された不要な有機発光層４ａが除去されるので、
突起部７１を転写基板１２に比して熱伝導性の低い材料
で形成しなくともよく、転写基板１２の一方面にエッチ
ング等の方法で凹凸面を形成してもよい。
【００９０】上述した発光層形成装置７０においては、
転写基板１２として環状にされたものを用いたが本発明
はこのような構成に限定されるものではない。発光層形
成装置７０は、図１８に示すように、長尺な帯状の転写
基板１２を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２
を巻出し部４１から繰り出し、転写部７４における転写
処理後に転写基板１２を巻取り部４２にて再度ロール状
に巻き取るような構造としてもよい。発光層形成装置７
０をこのような構造とする場合には、転写後の転写基板
１２のクリーニングを行うクリーニングユニットは設け
なくともよい。
転写基板１２として環状にされたものを用いたが本発明
はこのような構成に限定されるものではない。発光層形
成装置７０は、図１８に示すように、長尺な帯状の転写
基板１２を使用し、ロール状に巻回された転写基板１２
を巻出し部４１から繰り出し、転写部７４における転写
処理後に転写基板１２を巻取り部４２にて再度ロール状
に巻き取るような構造としてもよい。発光層形成装置７
０をこのような構造とする場合には、転写後の転写基板
１２のクリーニングを行うクリーニングユニットは設け
なくともよい。
【００９１】上述した構成を有する発光層形成装置７０
は、上述したようにシャドウマスクを用いずに基板１４
に対して転写基板１２から所定パターンの有機発光層４
ａの転写を行うため、装置自体の構成を簡素化できると
ともに、有機ＥＬ素子１の製造コストを削減できる。
は、上述したようにシャドウマスクを用いずに基板１４
に対して転写基板１２から所定パターンの有機発光層４
ａの転写を行うため、装置自体の構成を簡素化できると
ともに、有機ＥＬ素子１の製造コストを削減できる。
【００９２】上述した構成を有する発光層形成装置７０
を用いて基板１４上に有機発光層４ａを形成する方法に
ついて以下に説明する。なお、以下に説明する有機発光
層４ａを形成するための各工程は、上述した発光層形成
装置１０を用いた場合と同様にＲ、Ｇ、Ｂの各色の発光
層についてそれぞれ行われるものであり、また基板１４
には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電極層３
の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形成され
ている。
を用いて基板１４上に有機発光層４ａを形成する方法に
ついて以下に説明する。なお、以下に説明する有機発光
層４ａを形成するための各工程は、上述した発光層形成
装置１０を用いた場合と同様にＲ、Ｇ、Ｂの各色の発光
層についてそれぞれ行われるものであり、また基板１４
には、予め前工程で透明電極層３と、この透明電極層３
の上に形成される正孔注入層の薄膜パターンが形成され
ている。
【００９３】発光層形成装置７０においては、蒸着工
程、アライメント工程及び転写工程を経て基板１４上に
所定パターンの有機発光層４ａが形成される。
程、アライメント工程及び転写工程を経て基板１４上に
所定パターンの有機発光層４ａが形成される。
【００９４】まず、発光層形成装置７０においては、転
写基板１２の一方面の全面に有機発光層４ａを蒸着させ
る蒸着工程が行われる。この蒸着工程においては、転写
基板１２を走行させつつ、連続的に転写基板１２上に有
機発光層４ａを蒸着する。蒸着工程では、転写基板１２
の一方面が上述したように突起部７１を有する凹凸面と
されていることから、突起部７１の端面７１ａ上と、凹
部７２の底面を構成する転写基板１２上とに分かれて有
機発光層４ａが形成される。有機発光層４ａが形成され
た転写基板１２は、転写部７５へと供給される。
写基板１２の一方面の全面に有機発光層４ａを蒸着させ
る蒸着工程が行われる。この蒸着工程においては、転写
基板１２を走行させつつ、連続的に転写基板１２上に有
機発光層４ａを蒸着する。蒸着工程では、転写基板１２
の一方面が上述したように突起部７１を有する凹凸面と
されていることから、突起部７１の端面７１ａ上と、凹
部７２の底面を構成する転写基板１２上とに分かれて有
機発光層４ａが形成される。有機発光層４ａが形成され
た転写基板１２は、転写部７５へと供給される。
【００９５】なお、発光層形成装置７０にリムーバ７５
を配設した場合、上述した蒸着工程後に突起部７１の端
面７１ａ上に形成された有機発光層４ａの除去が行われ
る。このリムーバによる有機発光層４ａの除去は、図１
６及び図１７に示すように、巻出し部７５ｃから繰り出
された帯状部材７５ａがニップロール７５ｂによって転
写基板１２の凹凸面に押し付けられ、帯状部材７５ａが
接する突起部７１の端面７１ａ上に形成された有機発光
層４ａを粘着面に張り付かせることによって行われる。
有機発光層４ａが張り付いた帯状部材７５ａは、その後
巻取り部７５ｄにて巻き取られる。
を配設した場合、上述した蒸着工程後に突起部７１の端
面７１ａ上に形成された有機発光層４ａの除去が行われ
る。このリムーバによる有機発光層４ａの除去は、図１
６及び図１７に示すように、巻出し部７５ｃから繰り出
された帯状部材７５ａがニップロール７５ｂによって転
写基板１２の凹凸面に押し付けられ、帯状部材７５ａが
接する突起部７１の端面７１ａ上に形成された有機発光
層４ａを粘着面に張り付かせることによって行われる。
有機発光層４ａが張り付いた帯状部材７５ａは、その後
巻取り部７５ｄにて巻き取られる。
【００９６】次に、転写基板１２に形成された凹凸面の
パターンと、予め基板１４に形成された薄膜パターンと
の位置合わせを行うアライメント工程が行われる。ま
ず、アライメント工程においては、走行する転写基板１
２の凹凸面のパターンを第１の画像認識カメラ２９にて
認識するとともに、同じく走行する基板１４の薄膜パタ
ーンを第２の画像認識カメラ３０にて認識し、これらの
位置を比較して両者のずれの有無が確認される。なお、
上述したアライメント工程では、転写基板１２の凹部７
２のパターンが基板１４に形成された薄膜パターンに一
致しているか否かを確認する。また、このアライメント
工程における位置ずれの確認は、上述したパターン同士
の比較ではなく、転写基板１２と基板１４とに予め形成
したアライメントマークを認識して、これらを比較して
行うようにしてもよい。
パターンと、予め基板１４に形成された薄膜パターンと
の位置合わせを行うアライメント工程が行われる。ま
ず、アライメント工程においては、走行する転写基板１
２の凹凸面のパターンを第１の画像認識カメラ２９にて
認識するとともに、同じく走行する基板１４の薄膜パタ
ーンを第２の画像認識カメラ３０にて認識し、これらの
位置を比較して両者のずれの有無が確認される。なお、
上述したアライメント工程では、転写基板１２の凹部７
２のパターンが基板１４に形成された薄膜パターンに一
致しているか否かを確認する。また、このアライメント
工程における位置ずれの確認は、上述したパターン同士
の比較ではなく、転写基板１２と基板１４とに予め形成
したアライメントマークを認識して、これらを比較して
行うようにしてもよい。
【００９７】アライメント工程では、転写基板１２と基
板１４との間に位置ずれが生じていた場合には、アライ
メント機構２８又は駆動モータ１５によって基板１４に
合わせて転写基板１２の位置を修正する。具体的には、
転写基板１２の走行方向（図１９中矢印Ｍ方向）のずれ
に対しては、駆動モータ１５の速度を調節して転写基板
１２の走行方向の位置ずれを修正する。また、転写基板
１２の幅方向のずれに対しては、アライメント機構２８
によってガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置を図１９中
矢印Ｏ方向に動かし、角度ずれに対しては、アライメン
ト機構２８によってガイドロール１８ｃ、１８ｄの角度
を同図中矢印Ｐ方向に動かして転写基板１２の位置ずれ
を修正する。
板１４との間に位置ずれが生じていた場合には、アライ
メント機構２８又は駆動モータ１５によって基板１４に
合わせて転写基板１２の位置を修正する。具体的には、
転写基板１２の走行方向（図１９中矢印Ｍ方向）のずれ
に対しては、駆動モータ１５の速度を調節して転写基板
１２の走行方向の位置ずれを修正する。また、転写基板
１２の幅方向のずれに対しては、アライメント機構２８
によってガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置を図１９中
矢印Ｏ方向に動かし、角度ずれに対しては、アライメン
ト機構２８によってガイドロール１８ｃ、１８ｄの角度
を同図中矢印Ｐ方向に動かして転写基板１２の位置ずれ
を修正する。
【００９８】上述したアライメント工程における動作、
具体的には駆動モータ１５の速度調節やアライメント機
構２８によるガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置調整
は、転写基板１２及び基板１４を走行させた状態のま
ま、転写基板１２の凹凸面のパターン及び基板１４に形
成された薄膜パターンの切れ目が転写部７４に差しかか
った時に行われる。
具体的には駆動モータ１５の速度調節やアライメント機
構２８によるガイドロール１８ｃ、１８ｄの位置調整
は、転写基板１２及び基板１４を走行させた状態のま
ま、転写基板１２の凹凸面のパターン及び基板１４に形
成された薄膜パターンの切れ目が転写部７４に差しかか
った時に行われる。
【００９９】上述したアライメント工程にて位置合わせ
が行われた転写基板１２と基板１４とは、転写部７４に
おいて両者の間にギャップｄが保たれるように転写部７
４へと供給される。
が行われた転写基板１２と基板１４とは、転写部７４に
おいて両者の間にギャップｄが保たれるように転写部７
４へと供給される。
【０１００】そして、有機発光層４ａが形成された転写
基板１２から基板１４へ所定パターンの有機発光層４ａ
の転写を行う転写工程が行われる。転写工程では、転写
基板１２が転写部６４を通過する際に、ヒータ２７によ
って転写基板１２が加熱される。
基板１２から基板１４へ所定パターンの有機発光層４ａ
の転写を行う転写工程が行われる。転写工程では、転写
基板１２が転写部６４を通過する際に、ヒータ２７によ
って転写基板１２が加熱される。
【０１０１】このとき、ヒータ２７による転写基板１２
の加熱は、転写基板１２上に形成された有機発光層４ａ
のみが蒸発し、突起部７１の有機発光層４ａは蒸発しな
いような温度条件で行われる。加熱された転写基板１２
からは、凹部７２の有機発光層４ａが再度蒸発して、こ
の蒸発した有機ＥＬ材料が付着することにより、所定パ
ターン、具体的には基板１２に形成されている薄膜パタ
ーン上に有機発光層４ａが転写される。この転写工程に
おいては、上述したような転写処理が転写基板１２及び
基板１４が同じ速度で走行させながら行われる。また、
転写工程においては、ヒータ２７の出力が有機ＥＬ材料
の蒸発温度及び転写基板１２、基板１４の走行速度等に
応じて適正に制御される。
の加熱は、転写基板１２上に形成された有機発光層４ａ
のみが蒸発し、突起部７１の有機発光層４ａは蒸発しな
いような温度条件で行われる。加熱された転写基板１２
からは、凹部７２の有機発光層４ａが再度蒸発して、こ
の蒸発した有機ＥＬ材料が付着することにより、所定パ
ターン、具体的には基板１２に形成されている薄膜パタ
ーン上に有機発光層４ａが転写される。この転写工程に
おいては、上述したような転写処理が転写基板１２及び
基板１４が同じ速度で走行させながら行われる。また、
転写工程においては、ヒータ２７の出力が有機ＥＬ材料
の蒸発温度及び転写基板１２、基板１４の走行速度等に
応じて適正に制御される。
【０１０２】上述した各工程を経て基板１４上にＲ、
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される点は上
述した発光層形成装置１０による場合と同様である。
Ｇ、Ｂの各色についての有機発光層４ａが形成された後
に、電子輸送層、カソード電極層５、ガスバリア層６が
それぞれ形成され、有機ＥＬ素子1が製造される点は上
述した発光層形成装置１０による場合と同様である。
【０１０３】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明に係
る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製
造方法は、フレキシブルな基板材料に対し、走行させた
ままで連続的に有機発光層のパターンを形成することが
できる。このため、本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造装置及び製造方法によれば、ロール
ツーロール方式での有機発光層の形成が可能となり、有
機エレクトロルミネッセンス素子の生産性が向上すると
ともに、低コストでの製造を実現することができる。
る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製
造方法は、フレキシブルな基板材料に対し、走行させた
ままで連続的に有機発光層のパターンを形成することが
できる。このため、本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造装置及び製造方法によれば、ロール
ツーロール方式での有機発光層の形成が可能となり、有
機エレクトロルミネッセンス素子の生産性が向上すると
ともに、低コストでの製造を実現することができる。
【図１】一般的な有機ＥＬ素子の構造を示す縦断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明を適用した発光層形成装置の概略構成を
示す図である。
示す図である。
【図３】シャドウマスクをロールツーロール方式とした
同発光層形成装置の構成を説明するための図である。
同発光層形成装置の構成を説明するための図である。
【図４】転写基板をロールツーロール方式とした同発光
層形成装置の構成を説明するための図である。
層形成装置の構成を説明するための図である。
【図５】転写基板の要部平面図であり、同発光層形成装
置を使用したアライメント工程におけるガイドロールの
動きを説明するための図である。
置を使用したアライメント工程におけるガイドロールの
動きを説明するための図である。
【図６】本発明を適用した他の発光層形成装置の概略構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図７】シャドウマスクの要部平面図であり、同発光層
形成装置を使用したアライメント工程におけるガイドロ
ールの動きを説明するための図である。
形成装置を使用したアライメント工程におけるガイドロ
ールの動きを説明するための図である。
【図８】同発光層形成装置の転写部の拡大図である。
【図９】シャドウマスクを同発光層形成装置の構成を説
明するための図である。
明するための図である。
【図１０】転写基板及びシャドウマスクをロールツーロ
ール方式とした同発光層形成装置の構成を説明するため
の図である。
ール方式とした同発光層形成装置の構成を説明するため
の図である。
【図１１】転写基板の走行経路上に制御機構を設けた同
発光層形成装置の構成を説明するための図である。
発光層形成装置の構成を説明するための図である。
【図１２】本発明を適用したさらに他の発光層形成装置
の概略構成を示す図である。
の概略構成を示す図である。
【図１３】転写基板の側面図である。
【図１４】転写基板上に突起部を形成する工程を説明す
るための図である。
るための図である。
【図１５】有機発光層が形成された転写基板の側面図で
ある。
ある。
【図１６】リムーバを備えた同発光層形成装置の他の構
成を説明するための図である。
成を説明するための図である。
【図１７】転写基板とリムーバとの動作を説明するため
の図である。
の図である。
【図１８】転写基板をロールツーロール方式とした同発
光層形成装置の構成を説明するための図である。
光層形成装置の構成を説明するための図である。
【図１９】転写基板の要部平面図であり、同発光層形成
装置を使用したアライメント工程におけるガイドロール
の動きを説明するための図である。
装置を使用したアライメント工程におけるガイドロール
の動きを説明するための図である。
１ 有機ＥＬ素子，１０ 発光層形成装置，１１ 真空
チャンバ，１２ 転写基板，１３ シャドウマスク，１
４ 基板，２２ パターニング部，２３ 転写部，２７
ヒータ，２８ アライメント機構
チャンバ，１２ 転写基板，１３ シャドウマスク，１
４ 基板，２２ パターニング部，２３ 転写部，２７
ヒータ，２８ アライメント機構
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 武笠 智治
東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ
ー株式会社内
Ｆターム(参考） 3K007 AB18 BA06 CA06 CB01 DB03
FA01
Claims (62)
- 【請求項１】 走行する素子作製基板上に有機発光層を
形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置
において、 走行する帯状の転写基板上に、該転写基板と一部が密着
しかつ同期して走行する帯状のシャドウマスクを用いて
上記有機発光層のパターンを形成するパターニング部
と、 上記転写基板を上記有機発光層のパターンが形成された
面と反対側の面から加熱して、上記素子作製基板上に上
記有機発光層のパターンを転写する転写部とを有するこ
とを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造装置。 - 【請求項２】 上記転写部は、上記素子作製基板に対し
て上記転写基板の位置を合わせるアライメント機構を有
することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項３】 上記転写部には、加熱用のヒータが配設
されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項４】 上記転写部は、対向する上記素子作製基
板と上記転写基板とが所定の間隔を隔てて配されること
を特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造装置。 - 【請求項５】 上記転写基板は、環状とされた状態で走
行していることを特徴とする請求項１に記載の有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項６】 上記転写基板は、ロール状に巻回された
状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において再
度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項１に
記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項７】 上記転写基板の走行経路を調整する制御
機構が配設されることを特徴とする請求項１に記載の有
機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項８】 上記転写基板の走行経路には、上記転写
部を通過し、再度上記パターニング部に達するまでの間
に上記転写基板に残留する上記有機発光層を除去するク
リーニング機構が設けられることを特徴とする請求項５
に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。 - 【請求項９】 上記シャドウマスクは、環状とされた状
態で走行していることを特徴とする請求項１に記載の有
機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項１０】 上記シャドウマスクは、ロール状に巻
回された状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部に
おいて再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請
求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造装置。 - 【請求項１１】 上記シャドウマスクの走行経路には、
上記パターニング部を通過した上記シャドウマスクに付
着した上記有機発光層を除去するクリーニング機構が設
けられることを特徴とする請求項１に記載の有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項１２】 走行する素子作製基板上に有機発光層
を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法において、 走行する帯状の転写基板に該転写基板と同期して走行す
る帯状のシャドウマスクを密着させ、上記転写基板上に
上記有機発光層のパターンを形成するパターニング工程
と、 上記転写基板を上記有機発光層のパターンが形成された
面と反対側の面から加熱して、上記素子作製基板上に上
記有機発光層のパターンを転写する転写工程とを有する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造方法。 - 【請求項１３】 上記パターニング工程と上記転写工程
との間には、上記素子作製基板に対して上記転写基板の
位置を合わせるアライメント工程が行われることを特徴
とする請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法。 - 【請求項１４】 上記転写工程においては、ヒータを用
いて上記転写基板を加熱することを特徴とする請求項１
２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。 - 【請求項１５】 上記転写工程においては、上記素子作
製基板と上記転写基板とを所定の間隔を隔てて走行させ
ることを特徴とする請求項１２に記載の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項１６】 上記転写基板は、環状とされた状態で
走行していることを特徴とする請求項１２に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項１７】 上記転写基板は、ロール状に巻回され
た状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において
再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項１
２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。 - 【請求項１８】 上記転写工程においては、上記転写基
板の走行経路が制御機構により調整されることを特徴と
する請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。 - 【請求項１９】 上記転写基板は、上記転写工程後に上
記転写基板の走行経路上に配設されたクリーニング機構
によって残留した上記有機発光層が除去されることを特
徴とする請求項１６に記載の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法。 - 【請求項２０】 上記シャドウマスクは、環状とされた
状態で走行していることを特徴とする請求項１２に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項２１】 上記シャドウマスクは、ロール状に巻
回された状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部に
おいて再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請
求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造方法。 - 【請求項２２】 上記シャドウマスクは、上記パターニ
ング工程後に上記シャドウマスクの走行経路上に配設さ
れたクリーニング機構によって付着した上記有機発光層
が除去されることを特徴とする請求項１２に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項２３】 走行する素子作製基板上に有機発光層
を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置において、 走行する帯状の転写基板の片面の全域にわたって有機発
光層を蒸着させる蒸着部と、 上記転写基板を上記有機発光層が形成された面と反対側
の面から加熱し、上記素子作成基板と同期して走行する
帯状のシャドウマスクを用いて上記素子作製基板上に所
定パターンの上記有機発光層を転写する転写部とを有す
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子
の製造装置。 - 【請求項２４】 上記転写部は、上記素子作製基板に対
して上記シャドウマスクの位置を合わせるアライメント
機構を有することを特徴とする請求項２３に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項２５】 上記転写部には、加熱用のヒータが配
設されることを特徴とする請求項２３に記載の有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項２６】 上記転写部は、対向する上記素子作製
基板と上記転写基板とが上記シャドウマスクを挟んで所
定の間隔を隔てて配されることを特徴とする請求項２３
に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。 - 【請求項２７】 上記転写基板は、環状とされた状態で
走行していることを特徴とする請求項２３に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項２８】 上記転写基板は、ロール状に巻回され
た状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において
再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項２
３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。 - 【請求項２９】 上記転写基板の走行経路を調整する制
御機構が配設されることを特徴とする請求項２３に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項３０】 上記転写基板の走行経路には、上記転
写部を通過し、再度上記蒸着部に達するまでの間に上記
転写基板に残留した上記有機発光層を除去するクリーニ
ング機構が設けられることを特徴とする請求項２７に記
載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項３１】 上記シャドウマスクは、環状とされた
状態で走行していることを特徴とする請求項２３に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項３２】 上記シャドウマスクは、ロール状に巻
回された状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部に
おいて再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請
求項２３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造装置。 - 【請求項３３】 上記シャドウマスクの走行経路を調整
する制御機構が配設されることを特徴とする請求項２３
に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。 - 【請求項３４】 上記シャドウマスクの走行経路には、
上記転写部を通過した上記シャドウマスクに付着した上
記有機発光層を除去するクリーニング機構が設けられる
ことを特徴とする請求項３１に記載の有機エレクトロル
ミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項３５】 走行する素子作製基板上に有機発光層
を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法において、 走行する帯状の転写基板の片面の全域にわたって有機発
光層を蒸着させる蒸着工程と、 上記転写基板を上記有機発光層が形成された面と反対側
の面から加熱して、上記素子作成基板と同期して走行す
る帯状のシャドウマスクを用いて上記素子作製基板上に
所定パターンの上記有機発光層を転写する転写工程とを
有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。 - 【請求項３６】 上記転写工程の前工程として、上記素
子作製基板に対して上記シャドウマスクの位置を合わせ
るアライメント工程が行われることを特徴とする請求項
３５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造
方法。 - 【請求項３７】 上記転写工程においては、ヒータを用
いて上記転写基板を加熱することを特徴とする請求項３
５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。 - 【請求項３８】 上記転写工程においては、上記素子作
製基板と上記転写基板とを、上記シャドウマスクを挟ん
で所定の間隔を隔てて走行させることを特徴とする請求
項３５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法。 - 【請求項３９】 上記転写基板は、環状とされた状態で
走行していることを特徴とする請求項３５に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項４０】 上記転写基板は、ロール状に巻回され
た状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において
再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項３
５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。 - 【請求項４１】 上記転写工程においては、上記転写基
板の走行経路が制御機構により調整されることを特徴と
する請求項３５に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。 - 【請求項４２】 上記転写基板は、上記転写工程後に上
記転写基板の走行経路上に配設されたクリーニング機構
によって残留した上記有機発光層が除去されることを特
徴とする請求項３９に記載の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法。 - 【請求項４３】 上記シャドウマスクは、環状とされた
状態で走行していることを特徴とする請求項３５に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項４４】 上記シャドウマスクは、ロール状に巻
回された状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部に
おいて再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請
求項３５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造方法。 - 【請求項４５】 上記転写工程においては、上記シャド
ウマスクの走行経路が制御機構により調整されることを
特徴とする請求項３５に記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法。 - 【請求項４６】 上記シャドウマスクは、上記転写工程
後に上記シャドウマスクの走行経路上に配設されたクリ
ーニング機構によって付着した上記有機発光層が除去さ
れることを特徴とする請求項４３に記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項４７】 走行する素子作製基板上に有機発光層
を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置において、 走行しかつ片面が所定のパターンで凹部と凸部とが繰り
返し形成された凹凸面とされる帯状の転写基板に対し、
上記凹凸面側に上記有機発光層を蒸着する蒸着部と、 上記転写基板を上記凹凸面と反対側の面から加熱して、
上記凹部に形成された上記有機発光層を上記素子作製基
板上に所定のパターンで転写する転写部とを有すること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造
装置。 - 【請求項４８】 上記転写基板は、上記凸部が上記転写
基板に比して熱伝導性の低い別部材を用いて形成されて
いることを特徴とする請求項４７に記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項４９】 上記転写基板は、上記凸部に形成され
た上記有機発光層が上記転写部の上流側で粘着性部材に
よって除去されることを特徴とする請求項４８に記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項５０】 上記転写基板は、上記凸部が上記転写
基板と同一部材を用いて形成され、上記凸部に形成され
た上記有機発光層が上記転写部の上流側で粘着性部材に
よって除去されることを特徴とする請求項４７に記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項５１】 上記転写基板は、環状とされた状態で
走行していることを特徴とする請求項４７に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項５２】 上記転写基板は、ロール状に巻回され
た状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において
再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項４
７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。 - 【請求項５３】 上記転写基板の走行経路を調整する制
御機構が配設されることを特徴とする請求項４７に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 【請求項５４】 上記転写基板の走行経路には、上記転
写部を通過した上記転写基板に残留した上記有機発光層
を除去するクリーニング機構が設けられることを特徴と
する請求項５１に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造装置。 - 【請求項５５】 走行する素子作製基板上に有機発光層
を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法において、 走行しかつ片面が所定のパターンで凹部と凸部とが繰り
返し形成された凹凸面とされる帯状の転写基板に対し、
上記凹凸面側に上記有機発光層を蒸着する蒸着工程と、 上記転写基板を上記凹凸面と反対側の面から加熱して、
上記凹部に形成された上記有機発光層を上記素子作製基
板上に所定のパターンで転写する転写工程とを有するこ
とを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法。 - 【請求項５６】 上記転写基板は、上記凸部が上記転写
基板に比して熱伝導性の低い別部材を用いて形成されて
いることを特徴とする請求項５５に記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項５７】 上記転写基板は、上記凸部に形成され
た上記有機発光層が上記転写工程前に粘着性部材によっ
て除去されることを特徴とする請求項５６に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項５８】 上記転写基板は、上記凸部が上記転写
基板と同一部材を用いて形成され、上記凸部に形成され
た上記有機発光層が上記転写工程前に粘着性部材によっ
て除去されていることを特徴とする請求項５５に記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項５９】 上記転写基板は、環状とされた状態で
走行していることを特徴とする請求項５５に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 【請求項６０】 上記転写基板は、ロール状に巻回され
た状態から巻出し部より繰り出され、巻取り部において
再度ロール状に巻き取られることを特徴とする請求項５
５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。 - 【請求項６１】 上記転写工程においては、上記転写基
板の走行経路が制御機構により調整されることを特徴と
する請求項５５に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子の製造方法。 - 【請求項６２】 上記転写基板は、上記転写工程後に上
記転写基板の走行経路上に配設されたクリーニング機構
によって残留した上記有機発光層が除去されることを特
徴とする請求項５９に記載の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法。
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