JP2003167329A - 平版印刷版の作製方法 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 平版印刷版を印刷機の版胴に固定して被印刷
物への印刷を行った後、版胴に固定した状態で、アルミ
ニウム板支持体表面の画像を除去して再生した支持体表
面に再度、画像を現出させて平版印刷版を作製するにお
いて、支持体表面からの画像の除去が容易であり、且
つ、再生した感光層の現像性にも優れ、結果として、安
定した画像の形成を行うことができると共に、耐刷性に
も優れた平版印刷版の作製方法を提供する。 【構成】 平均粗さRa が0.3〜1.0の表面を有す
るアルミニウム板支持体の該表面にアルカリ可溶性樹脂
を含有する感光性組成物よりなる感光性層が形成された
感光性平版印刷版の該感光性層をレーザー光源により走
査露光しアルカリ現像処理して画像を現出させた平版印
刷版を、印刷機の版胴に固定して被印刷物への印刷を行
った後、版胴に固定した状態で、アルミニウム板支持体
表面の画像を除去して再生した支持体表面に、再度、前
記の感光性層を形成し、該感光性層をレーザー光源によ
り走査露光しアルカリ現像処理して画像を現出させる平
版印刷版の作製方法。
物への印刷を行った後、版胴に固定した状態で、アルミ
ニウム板支持体表面の画像を除去して再生した支持体表
面に再度、画像を現出させて平版印刷版を作製するにお
いて、支持体表面からの画像の除去が容易であり、且
つ、再生した感光層の現像性にも優れ、結果として、安
定した画像の形成を行うことができると共に、耐刷性に
も優れた平版印刷版の作製方法を提供する。 【構成】 平均粗さRa が0.3〜1.0の表面を有す
るアルミニウム板支持体の該表面にアルカリ可溶性樹脂
を含有する感光性組成物よりなる感光性層が形成された
感光性平版印刷版の該感光性層をレーザー光源により走
査露光しアルカリ現像処理して画像を現出させた平版印
刷版を、印刷機の版胴に固定して被印刷物への印刷を行
った後、版胴に固定した状態で、アルミニウム板支持体
表面の画像を除去して再生した支持体表面に、再度、前
記の感光性層を形成し、該感光性層をレーザー光源によ
り走査露光しアルカリ現像処理して画像を現出させる平
版印刷版の作製方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、再生アルミニウム
板支持体を用いて平版印刷版を作製する方法に関し、更
に詳しくは、印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態で
被印刷物への印刷を行った後の平版印刷版を、版胴に固
定した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去
してアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウ
ム板支持体表面に再度、画像を現出させる平版印刷版の
作製方法に関する。
板支持体を用いて平版印刷版を作製する方法に関し、更
に詳しくは、印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態で
被印刷物への印刷を行った後の平版印刷版を、版胴に固
定した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去
してアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウ
ム板支持体表面に再度、画像を現出させる平版印刷版の
作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、アルミニウム板を支持体とし
てその表面に感光性層を形成し、その感光性層を露光し
現像処理することにより画像を現出させた平版印刷版に
おけるアルミニウム板支持体を、その表面の画像を除去
して再利用する技術は知られており、古くは、その画像
の除去に特定組成の酸を用いる方法(例えば、特開昭5
0−124706号、特開昭52−41002号等各公
報参照。)が知られ、一方、最近では、印刷機の版胴に
平版印刷版を固定した状態で、画像の除去及び平版印刷
版の再生を行う方法(例えば、特開平8−52949
号、特開平9−99535号等各公報参照。)が提案さ
れるに到っている。
てその表面に感光性層を形成し、その感光性層を露光し
現像処理することにより画像を現出させた平版印刷版に
おけるアルミニウム板支持体を、その表面の画像を除去
して再利用する技術は知られており、古くは、その画像
の除去に特定組成の酸を用いる方法(例えば、特開昭5
0−124706号、特開昭52−41002号等各公
報参照。)が知られ、一方、最近では、印刷機の版胴に
平版印刷版を固定した状態で、画像の除去及び平版印刷
版の再生を行う方法(例えば、特開平8−52949
号、特開平9−99535号等各公報参照。)が提案さ
れるに到っている。
【0003】一方、近年、コンピュータ画像処理技術の
進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィル
ムへの出力を行わずに、レーザー光により直接画像を形
成するCTP(Computer to Plate)
システムが注目されており、特に、高出力の半導体レー
ザーやYAGレーザー、或いは低出力の青紫外半導体レ
ーザー等を用いるCTPシステムは、製版工程の短縮
化、作業時の環境光、及び製版コスト等の面から、その
実用化が急速に進みつつある。
進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィル
ムへの出力を行わずに、レーザー光により直接画像を形
成するCTP(Computer to Plate)
システムが注目されており、特に、高出力の半導体レー
ザーやYAGレーザー、或いは低出力の青紫外半導体レ
ーザー等を用いるCTPシステムは、製版工程の短縮
化、作業時の環境光、及び製版コスト等の面から、その
実用化が急速に進みつつある。
【0004】これに伴い、CTPシステム用の平版印刷
版として、近年、波長350〜420nmの青紫外レー
ザー光、或いは更に600〜1,300nmの近赤外レ
ーザー光に対する感光性組成物の研究も活発化し、例え
ば、ポジ型感光性組成物として、従来のポジ型感光性組
成物が、典型的にはo−キノンジアジド化合物の光分解
という化学的変化により露光部の現像液に対する溶解性
を増大させることによってポジ画像を形成していたのに
対して、赤外吸収色素等の赤外光を吸収して熱に変換す
る物質とフェノール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とを主
な感光性成分とし、近赤外レーザー光の露光で発生する
熱による樹脂の構造転移等の物理的変化により露光部の
現像液に対する溶解性を増大させる感光性組成物が、
又、ネガ型感光性組成物として、青紫外レーザー光或い
は近赤外レーザー光に感応する各種の光重合性の感光性
組成物が、提案されている。
版として、近年、波長350〜420nmの青紫外レー
ザー光、或いは更に600〜1,300nmの近赤外レ
ーザー光に対する感光性組成物の研究も活発化し、例え
ば、ポジ型感光性組成物として、従来のポジ型感光性組
成物が、典型的にはo−キノンジアジド化合物の光分解
という化学的変化により露光部の現像液に対する溶解性
を増大させることによってポジ画像を形成していたのに
対して、赤外吸収色素等の赤外光を吸収して熱に変換す
る物質とフェノール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とを主
な感光性成分とし、近赤外レーザー光の露光で発生する
熱による樹脂の構造転移等の物理的変化により露光部の
現像液に対する溶解性を増大させる感光性組成物が、
又、ネガ型感光性組成物として、青紫外レーザー光或い
は近赤外レーザー光に感応する各種の光重合性の感光性
組成物が、提案されている。
【0005】しかしながら、これらの従来技術による感
光性組成物からなる層を支持体表面に形成した平版印刷
版は、印刷機の版胴に固定した状態で、画像の除去及び
平版印刷版の再生を行うにおいて、支持体表面からの画
像の除去が十分には行い難いとか、或いは再生した感光
層の現像性が劣る等の点から、結果として、再度の画像
の形成が必ずしも安定して行えるものではなく、又、耐
刷性にも劣る等の問題を内在するものであった。
光性組成物からなる層を支持体表面に形成した平版印刷
版は、印刷機の版胴に固定した状態で、画像の除去及び
平版印刷版の再生を行うにおいて、支持体表面からの画
像の除去が十分には行い難いとか、或いは再生した感光
層の現像性が劣る等の点から、結果として、再度の画像
の形成が必ずしも安定して行えるものではなく、又、耐
刷性にも劣る等の問題を内在するものであった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
技術に鑑みてなされたもので、従って、本発明は、平版
印刷版を印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態で印刷
インキにより被印刷物への印刷を行った後、版胴に固定
した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去し
てアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウム
板支持体表面に再度、画像を現出させて平版印刷版を作
製するにおいて、支持体表面からの画像の除去が容易で
あり、且つ、再生した感光層の現像性にも優れ、結果と
して、安定した画像の形成を行うことができると共に、
耐刷性にも優れた平版印刷版を作製することができる平
版印刷版の作製方法を提供することを目的とする。
技術に鑑みてなされたもので、従って、本発明は、平版
印刷版を印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態で印刷
インキにより被印刷物への印刷を行った後、版胴に固定
した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去し
てアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウム
板支持体表面に再度、画像を現出させて平版印刷版を作
製するにおいて、支持体表面からの画像の除去が容易で
あり、且つ、再生した感光層の現像性にも優れ、結果と
して、安定した画像の形成を行うことができると共に、
耐刷性にも優れた平版印刷版を作製することができる平
版印刷版の作製方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、用いるアルミニウム板
支持体表面の粗さを適度の範囲とすることにより前記目
的を達成できることを見い出し本発明を完成したもの
で、即ち、本発明は、平均粗さRa が0.3〜1.0の
表面を有するアルミニウム板支持体の該表面にアルカリ
可溶性樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層が
形成された感光性平版印刷版の該感光性層をレーザー光
源により走査露光しアルカリ現像液により現像処理して
画像を現出させた平版印刷版を、印刷機の版胴に着脱自
在に固定した状態で印刷インキにより被印刷物への印刷
を行った後、版胴に固定した状態で、アルミニウム板支
持体表面の画像を除去してアルミニウム板支持体を再生
し、該再生アルミニウム板支持体表面に、再度、アルカ
リ可溶性樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層
を形成し、該感光性層をレーザー光源により走査露光し
アルカリ現像液により現像処理して画像を現出させる平
版印刷版の作製方法、を要旨とする。
を解決すべく鋭意検討した結果、用いるアルミニウム板
支持体表面の粗さを適度の範囲とすることにより前記目
的を達成できることを見い出し本発明を完成したもの
で、即ち、本発明は、平均粗さRa が0.3〜1.0の
表面を有するアルミニウム板支持体の該表面にアルカリ
可溶性樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層が
形成された感光性平版印刷版の該感光性層をレーザー光
源により走査露光しアルカリ現像液により現像処理して
画像を現出させた平版印刷版を、印刷機の版胴に着脱自
在に固定した状態で印刷インキにより被印刷物への印刷
を行った後、版胴に固定した状態で、アルミニウム板支
持体表面の画像を除去してアルミニウム板支持体を再生
し、該再生アルミニウム板支持体表面に、再度、アルカ
リ可溶性樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層
を形成し、該感光性層をレーザー光源により走査露光し
アルカリ現像液により現像処理して画像を現出させる平
版印刷版の作製方法、を要旨とする。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の平版印刷版の作製方法に
おける支持体のアルミニウム板としては、アルミニウ
ム、又は、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等とのアルミニウム
合金からなり、その厚さが、通常0.01〜10mm程
度、好ましくは0.05〜1mm程度で、通常、脱脂処
理、粗面化処理(砂目立て処理)、デスマット処理、陽
極酸化処理、封孔処理、下引き処理等が施されたものが
用いられる。
おける支持体のアルミニウム板としては、アルミニウ
ム、又は、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等とのアルミニウム
合金からなり、その厚さが、通常0.01〜10mm程
度、好ましくは0.05〜1mm程度で、通常、脱脂処
理、粗面化処理(砂目立て処理)、デスマット処理、陽
極酸化処理、封孔処理、下引き処理等が施されたものが
用いられる。
【0009】その脱脂処理は、溶剤を用いて拭き取り、
浸漬、又は蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用いて
浸漬、又は噴霧した後、酸水溶液で中和する方法、界面
活性剤を用いて浸漬、又は噴霧する方法等の常法に従っ
てなされる。
浸漬、又は蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用いて
浸漬、又は噴霧した後、酸水溶液で中和する方法、界面
活性剤を用いて浸漬、又は噴霧する方法等の常法に従っ
てなされる。
【0010】又、粗面化処理(砂目立て処理)は、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング
研磨法、バフ研磨法等の機械的処理方法、或いは、電解
エッチング法、化学エッチング法等の常法によりなさ
れ、中で、塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により
電解を行う電解エッチング方が好ましく、その際、酸濃
度0.5〜5重量%、印加電圧1〜50V、電流密度1
0〜200A/dm2 として、温度10〜50℃で処理
するのが好ましい。そして、本発明においては、この粗
面化処理後の表面の、JIS B0601に規定される
平均粗さRaが、0.3〜1.0μmであることを必須
とし、0.4〜0.8μmであるのが好ましい。平均粗
さRaが前記範囲未満及び超過のいずれの場合共、平版
印刷版として、印刷機の版胴に固定した状態で、画像の
除去及び平版印刷版の再生を行うにおいて、支持体表面
からの画像の除去が不十分となるとか、再生した感光層
の現像性が劣る等の点から、結果として、再度の画像の
形成が安定して行え難くなり、又、耐刷性にも劣る等の
問題を生じることとなる。
ル研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング
研磨法、バフ研磨法等の機械的処理方法、或いは、電解
エッチング法、化学エッチング法等の常法によりなさ
れ、中で、塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により
電解を行う電解エッチング方が好ましく、その際、酸濃
度0.5〜5重量%、印加電圧1〜50V、電流密度1
0〜200A/dm2 として、温度10〜50℃で処理
するのが好ましい。そして、本発明においては、この粗
面化処理後の表面の、JIS B0601に規定される
平均粗さRaが、0.3〜1.0μmであることを必須
とし、0.4〜0.8μmであるのが好ましい。平均粗
さRaが前記範囲未満及び超過のいずれの場合共、平版
印刷版として、印刷機の版胴に固定した状態で、画像の
除去及び平版印刷版の再生を行うにおいて、支持体表面
からの画像の除去が不十分となるとか、再生した感光層
の現像性が劣る等の点から、結果として、再度の画像の
形成が安定して行え難くなり、又、耐刷性にも劣る等の
問題を生じることとなる。
【0011】又、デスマット処理は、必要に応じて、硫
酸、硝酸、塩酸、弗酸、燐酸、クロム酸等の酸、又は、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウ
ム、アルミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を用い
て浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってなされる。
酸、硝酸、塩酸、弗酸、燐酸、クロム酸等の酸、又は、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、燐酸カリウ
ム、アルミン酸ナトリウム等のアルカリの水溶液を用い
て浸漬、又は噴霧する等の常法に従ってなされる。
【0012】又、陽極酸化処理は、硫酸、修酸、燐酸、
クロム酸、マロン酸等の水溶液を電解液とし、アルミニ
ウム板を陽極として電解を行う常法によりなされ、中
で、硫酸又は/及び燐酸の水溶液を電解液とする方法が
好ましく、その際、酸濃度10〜50重量%、印加電圧
1〜150V、電流密度1〜60A/dm2 として、温
度5〜50℃、電解時間5〜60秒で処理するのが好ま
しい。この陽極酸化処理により、形成される酸化皮膜量
は、通常1〜100mg/dm2 、好ましくは10〜5
0mg/dm2 とされる。
クロム酸、マロン酸等の水溶液を電解液とし、アルミニ
ウム板を陽極として電解を行う常法によりなされ、中
で、硫酸又は/及び燐酸の水溶液を電解液とする方法が
好ましく、その際、酸濃度10〜50重量%、印加電圧
1〜150V、電流密度1〜60A/dm2 として、温
度5〜50℃、電解時間5〜60秒で処理するのが好ま
しい。この陽極酸化処理により、形成される酸化皮膜量
は、通常1〜100mg/dm2 、好ましくは10〜5
0mg/dm2 とされる。
【0013】又、封孔処理は、必要に応じて、沸騰水、
水蒸気、珪酸ナトリウム水溶液、重クロム酸塩水溶液等
を用いて浸漬、又は噴霧する等の常法に従って、又、下
引き処理は、必要に応じて、カチオン性4級アンモニウ
ム塩基を有する樹脂、ポリビニルホスホン酸、澱粉、セ
ルロース等の水溶性高分子、ジルコン酸塩、チタン酸塩
等の金属塩の水溶液等を用いて浸漬、又は噴霧する等の
常法に従って、それぞれなされる。
水蒸気、珪酸ナトリウム水溶液、重クロム酸塩水溶液等
を用いて浸漬、又は噴霧する等の常法に従って、又、下
引き処理は、必要に応じて、カチオン性4級アンモニウ
ム塩基を有する樹脂、ポリビニルホスホン酸、澱粉、セ
ルロース等の水溶性高分子、ジルコン酸塩、チタン酸塩
等の金属塩の水溶液等を用いて浸漬、又は噴霧する等の
常法に従って、それぞれなされる。
【0014】本発明において、前記アルミニウム板支持
体表面に形成された感光性層は、ポジ型感光性組成物、
ネガ型感光性組成物のいずれからなるものであってもよ
いが、いずれの組成物であっても、アルカリ現像性等の
面から、アルカリ可溶性樹脂を含有することを必須とす
る。
体表面に形成された感光性層は、ポジ型感光性組成物、
ネガ型感光性組成物のいずれからなるものであってもよ
いが、いずれの組成物であっても、アルカリ現像性等の
面から、アルカリ可溶性樹脂を含有することを必須とす
る。
【0015】ここで、アルカリ可溶性樹脂としては、フ
ェノール性水酸基含有フェノール樹脂、カルボキシル基
含有ビニル系樹脂、及びエポキシアクリレート系樹脂等
が好適なものとして挙げられる。
ェノール性水酸基含有フェノール樹脂、カルボキシル基
含有ビニル系樹脂、及びエポキシアクリレート系樹脂等
が好適なものとして挙げられる。
【0016】そのフェノール性水酸基含有フェノール樹
脂としては、具体的には、例えば、フェノール、o−ク
レゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−
キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェ
ノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノー
ル、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、t−
ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール、
4,4’−ビフェニルジオール、ビスフェノール−A、
ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピ
ロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、フロロ
グルシノール等のフェノール類の少なくとも1種を、酸
触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、パラアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアル
デヒド類、又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン類、の少なくとも1種と
重縮合させたノボラック樹脂、前記ノボラック樹脂の重
縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外
は同様にして重縮合させたレゾール樹脂、及び、例え
ば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェ
ニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレン
等のヒドロキシスチレン類の単独又は2種以上を、ラジ
カル重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合
させたポリビニルフェノール樹脂等が挙げられ、これら
は、重量平均分子量が1,500〜50,000である
のが好ましい。
脂としては、具体的には、例えば、フェノール、o−ク
レゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−
キシレノール、3,5−キシレノール、o−エチルフェ
ノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノー
ル、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、t−
ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール、
4,4’−ビフェニルジオール、ビスフェノール−A、
ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピ
ロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、フロロ
グルシノール等のフェノール類の少なくとも1種を、酸
触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、パラアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアル
デヒド類、又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン類、の少なくとも1種と
重縮合させたノボラック樹脂、前記ノボラック樹脂の重
縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外
は同様にして重縮合させたレゾール樹脂、及び、例え
ば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェ
ニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレン
等のヒドロキシスチレン類の単独又は2種以上を、ラジ
カル重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合
させたポリビニルフェノール樹脂等が挙げられ、これら
は、重量平均分子量が1,500〜50,000である
のが好ましい。
【0017】又、そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂
としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸
〔尚、ここで、「(メタ)アクリル」とは、アクリル又
は/及びメタクリルを意味するものとし、以降も同様と
する。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、
無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和
カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロ
キシスチレン、メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)ア
クリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル
(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)ア
クリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロ
ール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メ
タ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物
との共重合体等が挙げられ、これらカルボキシル基含有
ビニル系樹脂は、酸価が30〜250KOH・mg/
g、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜
300,000であるのがそれぞれ好ましい。
としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸
〔尚、ここで、「(メタ)アクリル」とは、アクリル又
は/及びメタクリルを意味するものとし、以降も同様と
する。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、
無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和
カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロ
キシスチレン、メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)ア
クリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル
(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)ア
クリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロ
ール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メ
タ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物
との共重合体等が挙げられ、これらカルボキシル基含有
ビニル系樹脂は、酸価が30〜250KOH・mg/
g、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜
300,000であるのがそれぞれ好ましい。
【0018】更に、そのカルボキシル基含有ビニル系樹
脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが
好適であり、具体的には、例えば、カルボキシル基含有
重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メ
タ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アク
リレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソク
ロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン
酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノ
アルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアル
キルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有
不飽和化合物、又は、3,4−エポキシシクロヘキシル
メチル(メタ)アクリレート、2,3−エポキシシクロ
ペンチルメチル(メタ)アクリレート、7,8−エポキ
シ〔トリシクロ[5.2.1.0]デシ−2−イル〕オ
キシメチル(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシ基
含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有す
るカルボキシル基の5〜90モル%、好ましくは30〜
70モル%程度を反応させて得られた反応生成物、及
び、アリル(メタ)アクリレート、3−アリルオキシ−
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シンナ
ミル(メタ)アクリレート、クロトニル(メタ)アクリ
レート、メタリル(メタ)アクリレート、N,N−ジア
リル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を
有する化合物、又は、ビニル(メタ)アクリレート、1
−クロロビニル(メタ)アクリレート、2−フェニルビ
ニル(メタ)アクリレート、1−プロペニル(メタ)ア
クリレート、ビニルクロトネート、ビニル(メタ)アク
リルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物と、
(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不
飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する
化合物の全体に占める割合を10〜90モル%、好まし
くは30〜80モル%程度となるように共重合させて得
られた反応生成物等が挙げられる。
脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが
好適であり、具体的には、例えば、カルボキシル基含有
重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メ
タ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アク
リレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソク
ロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン
酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノ
アルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアル
キルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有
不飽和化合物、又は、3,4−エポキシシクロヘキシル
メチル(メタ)アクリレート、2,3−エポキシシクロ
ペンチルメチル(メタ)アクリレート、7,8−エポキ
シ〔トリシクロ[5.2.1.0]デシ−2−イル〕オ
キシメチル(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシ基
含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有す
るカルボキシル基の5〜90モル%、好ましくは30〜
70モル%程度を反応させて得られた反応生成物、及
び、アリル(メタ)アクリレート、3−アリルオキシ−
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シンナ
ミル(メタ)アクリレート、クロトニル(メタ)アクリ
レート、メタリル(メタ)アクリレート、N,N−ジア
リル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を
有する化合物、又は、ビニル(メタ)アクリレート、1
−クロロビニル(メタ)アクリレート、2−フェニルビ
ニル(メタ)アクリレート、1−プロペニル(メタ)ア
クリレート、ビニルクロトネート、ビニル(メタ)アク
リルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物と、
(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不
飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する
化合物の全体に占める割合を10〜90モル%、好まし
くは30〜80モル%程度となるように共重合させて得
られた反応生成物等が挙げられる。
【0019】又、そのエポキシアクリレート系樹脂とし
ては、エポキシ樹脂を(メタ)アクリル酸及び酸無水物
で変性させたものであり、具体的には、例えば、ビスフ
ェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールSエポキシ樹
脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノ
ボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂
等のエポキシ樹脂のエポキシ基に、(メタ)アクリル酸
を付加させた後、無水琥珀酸、無水マレイン酸、無水イ
タコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテト
ラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物で変性させたも
のが挙げられ、これらエポキシアクリレート系樹脂は、
酸価が20〜150KOH・mg/g、ポリスチレン換
算の重量平均分子量が1,000〜20,000である
のがそれぞれ好ましい。
ては、エポキシ樹脂を(メタ)アクリル酸及び酸無水物
で変性させたものであり、具体的には、例えば、ビスフ
ェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールSエポキシ樹
脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノ
ボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂
等のエポキシ樹脂のエポキシ基に、(メタ)アクリル酸
を付加させた後、無水琥珀酸、無水マレイン酸、無水イ
タコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテト
ラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物で変性させたも
のが挙げられ、これらエポキシアクリレート系樹脂は、
酸価が20〜150KOH・mg/g、ポリスチレン換
算の重量平均分子量が1,000〜20,000である
のがそれぞれ好ましい。
【0020】本発明における感光性組成物の中で、ポジ
型感光性組成物としては、下記の(P−1)成分、及び
(P−2)成分を含有する組成物が好ましい。 (P−1)アルカリ可溶性樹脂 (P−2)画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質
型感光性組成物としては、下記の(P−1)成分、及び
(P−2)成分を含有する組成物が好ましい。 (P−1)アルカリ可溶性樹脂 (P−2)画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質
【0021】ここで、前記ポジ型感光性組成物を構成す
る(P−1)成分のアルカリ可溶性樹脂としては、前述
したアルカリ可溶性樹脂の中で、フェノール性水酸基含
有フェノール樹脂が好ましく、就中、ノボラック樹脂が
好ましい。
る(P−1)成分のアルカリ可溶性樹脂としては、前述
したアルカリ可溶性樹脂の中で、フェノール性水酸基含
有フェノール樹脂が好ましく、就中、ノボラック樹脂が
好ましい。
【0022】又、前記ポジ型感光性組成物を構成する
(P−2)成分の光熱変換物質としては、画像露光光源
の光を吸収して熱に変換し得る化合物であれば特に限定
されないが、波長600〜1,300nmの近赤外領域
に吸収極大を有する有機又は無機の染顔料、有機色素、
金属、金属酸化物、金属炭化物、金属硼化物等が挙げら
れる中で、光吸収色素が特に有効である。
(P−2)成分の光熱変換物質としては、画像露光光源
の光を吸収して熱に変換し得る化合物であれば特に限定
されないが、波長600〜1,300nmの近赤外領域
に吸収極大を有する有機又は無機の染顔料、有機色素、
金属、金属酸化物、金属炭化物、金属硼化物等が挙げら
れる中で、光吸収色素が特に有効である。
【0023】これらの光吸収色素としては、窒素原子、
酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリメチン(−
CH=)n 鎖で結合された構造のものであり、代表的に
は、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介
して複素環が結合された構造の所謂、広義のシアニン系
色素、具体的には、例えば、キノリン系(所謂、狭義の
シアニン系)、インドール系(所謂、インドシアニン
系)、ベンゾチアゾール系(所謂、チオシアニン系)、
ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、
クロコニウム系、アズレニウム系等、及び、ポリメチン
鎖を介して非環式複素原子が結合された構造の所謂、ポ
リメチン系色素等が挙げられ、中で、キノリン系、イン
ドール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チオピ
リリウム系等のシアニン系色素、又はポリメチン系色素
が好ましい。又、その他の光吸収色素として、ジイミニ
ウム系色素、フタロシアニン系色素等が挙げられる。
酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリメチン(−
CH=)n 鎖で結合された構造のものであり、代表的に
は、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介
して複素環が結合された構造の所謂、広義のシアニン系
色素、具体的には、例えば、キノリン系(所謂、狭義の
シアニン系)、インドール系(所謂、インドシアニン
系)、ベンゾチアゾール系(所謂、チオシアニン系)、
ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、
クロコニウム系、アズレニウム系等、及び、ポリメチン
鎖を介して非環式複素原子が結合された構造の所謂、ポ
リメチン系色素等が挙げられ、中で、キノリン系、イン
ドール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チオピ
リリウム系等のシアニン系色素、又はポリメチン系色素
が好ましい。又、その他の光吸収色素として、ジイミニ
ウム系色素、フタロシアニン系色素等が挙げられる。
【0024】本発明においては、前記シアニン系色素の
中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式(I
a) 、(Ib)、又は(Ic)で表されるものが好ましい。
中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式(I
a) 、(Ib)、又は(Ic)で表されるものが好ましい。
【0025】
【化2】
【0026】〔式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中、R1 及びR
2 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を示し、L1 は置換基を有していて
もよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチ
ン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメ
チン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素数5〜7
のシクロアルケン環を形成していてもよく、キノリン環
は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する2つ
の置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成してい
てもよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
2 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を示し、L1 は置換基を有していて
もよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチ
ン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメ
チン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素数5〜7
のシクロアルケン環を形成していてもよく、キノリン環
は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する2つ
の置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成してい
てもよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
【0027】ここで、式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中のR1
及びR2 がアルキル基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜10、アルケニル基、アルキニル基
であるときの炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜1
0であり、フェニル基も含めたそれらの置換基として
は、炭素数が通常1〜15、好ましくは1〜10のアル
コキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル
基等が挙げられ、L1 における置換基としては、同上炭
素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙
げられ、キノリン環における置換基としては、同上炭素
数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ
基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
及びR2 がアルキル基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜10、アルケニル基、アルキニル基
であるときの炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜1
0であり、フェニル基も含めたそれらの置換基として
は、炭素数が通常1〜15、好ましくは1〜10のアル
コキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル
基等が挙げられ、L1 における置換基としては、同上炭
素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙
げられ、キノリン環における置換基としては、同上炭素
数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ
基、又はハロゲン原子等が挙げられる。
【0028】又、インドール系、及びベンゾチアゾール
系色素としては、特に、下記一般式(II)で表されるもの
が好ましい。
系色素としては、特に、下記一般式(II)で表されるもの
が好ましい。
【0029】
【化3】
【0030】〔式(II)中、Y1 及びY2 は各々独立し
て、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、R3 及
びR4 は各々独立して、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換
基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、L2 は置換基を有して
いてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカ
メチン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデ
カメチン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素数5
〜7のシクロアルケン環を形成していてもよく、縮合ベ
ンゼン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接
する2つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形
成していてもよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
て、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、R3 及
びR4 は各々独立して、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換
基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、L2 は置換基を有して
いてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカ
メチン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデ
カメチン基上の2つの置換基が互いに連結して炭素数5
〜7のシクロアルケン環を形成していてもよく、縮合ベ
ンゼン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接
する2つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形
成していてもよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
【0031】ここで、式(II)中のR3 及びR4 がアルキ
ル基であるときの炭素数は通常1〜15、好ましくは1
〜10、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素
数は通常2〜15、好ましくは2〜10であり、フェニ
ル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常1
〜15、好ましくは1〜10のアルコキシ基、フェノキ
シ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、L
2 における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、
アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮合ベンゼ
ン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲ
ン原子等が挙げられる。
ル基であるときの炭素数は通常1〜15、好ましくは1
〜10、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素
数は通常2〜15、好ましくは2〜10であり、フェニ
ル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常1
〜15、好ましくは1〜10のアルコキシ基、フェノキ
シ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、L
2 における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、
アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮合ベンゼ
ン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲ
ン原子等が挙げられる。
【0032】又、ピリリウム系、及びチオピリリウム系
色素としては、特に、下記一般式(IIIa)、(IIIb)、又は
(IIIc)で表されるものが好ましい。
色素としては、特に、下記一般式(IIIa)、(IIIb)、又は
(IIIc)で表されるものが好ましい。
【0033】
【化4】
【0034】〔式(IIIa)、(IIIb)、及び(IIIc)中、Z1
及びZ2 は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示
し、R5 、R6 、R7 、及びR8 は各々独立して、水素
原子又はアルキル基、又は、R5 とR7 、及びR6 とR
8 が互いに連結して炭素数5又は6のシクロアルケン環
を形成していてもよく、L3 は置換基を有していてもよ
いモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該
トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の2つの置換基が
互いに連結して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成
していてもよく、ピリリウム環及びチアピリリウム環は
置換基を有していてもよく、その場合、隣接する2つの
置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していて
もよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
及びZ2 は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示
し、R5 、R6 、R7 、及びR8 は各々独立して、水素
原子又はアルキル基、又は、R5 とR7 、及びR6 とR
8 が互いに連結して炭素数5又は6のシクロアルケン環
を形成していてもよく、L3 は置換基を有していてもよ
いモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該
トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の2つの置換基が
互いに連結して炭素数5〜7のシクロアルケン環を形成
していてもよく、ピリリウム環及びチアピリリウム環は
置換基を有していてもよく、その場合、隣接する2つの
置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していて
もよい。Xa - は対アニオンを示す。〕
【0035】ここで、式(IIIa)、(IIIb)、及び(IIIc)中
のR5 、R6 、R7 、及びR8 がアルキル基であるとき
の炭素数は通常1〜15、好ましくは1〜10であり、
L3における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ピリリ
ウム環及びチアピリリウム環における置換基としては、
フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられ
る。
のR5 、R6 、R7 、及びR8 がアルキル基であるとき
の炭素数は通常1〜15、好ましくは1〜10であり、
L3における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ピリリ
ウム環及びチアピリリウム環における置換基としては、
フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられ
る。
【0036】又、ポリメチン系色素としては、特に、下
記一般式(IV)で表されるものが好ましい。
記一般式(IV)で表されるものが好ましい。
【0037】
【化5】
【0038】〔式(IV)中、R9 、R10、R11、及びR12
は各々独立して、アルキル基を示し、R13及びR14は各
々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、フ
リル基、又はチエニル基を示し、L4 は置換基を有して
いてもよいモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を
示し、該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の2つの
置換基が互いに連結して炭素数5〜7のシクロアルケン
環を形成していてもよく、キノン環及びベンゼン環は置
換基を有していてもよい。Xa - は対アニオンを示
す。〕
は各々独立して、アルキル基を示し、R13及びR14は各
々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、フ
リル基、又はチエニル基を示し、L4 は置換基を有して
いてもよいモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を
示し、該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の2つの
置換基が互いに連結して炭素数5〜7のシクロアルケン
環を形成していてもよく、キノン環及びベンゼン環は置
換基を有していてもよい。Xa - は対アニオンを示
す。〕
【0039】ここで、式(IV)中のR9 、R10、R11、及
びR12のアルキル基の炭素数は通常1〜15、好ましく
は1〜10、R13及びR14がアリール基であるときの炭
素数は通常6〜20、好ましくは6〜15であり、R13
及びR14として具体的には、フェニル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、2−フリル基、3−フリル基、2
−チエニル基、3−チエニル基等が挙げられ、それらの
置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数
のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、
又はハロゲン原子等が挙げられ、L4 における置換基と
しては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロ
ゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素
数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙
げられる。
びR12のアルキル基の炭素数は通常1〜15、好ましく
は1〜10、R13及びR14がアリール基であるときの炭
素数は通常6〜20、好ましくは6〜15であり、R13
及びR14として具体的には、フェニル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、2−フリル基、3−フリル基、2
−チエニル基、3−チエニル基等が挙げられ、それらの
置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数
のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、
又はハロゲン原子等が挙げられ、L4 における置換基と
しては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロ
ゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素
数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙
げられる。
【0040】更に、ジイミニウム系色素としては、特
に、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格を少なくとも
1個有する下記一般式(Va)、又は(Vb)で表されるものが
好ましい。
に、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格を少なくとも
1個有する下記一般式(Va)、又は(Vb)で表されるものが
好ましい。
【0041】
【化6】
【0042】〔式(Va)、及び(Vb)中、R15、R16、
R17、及びR18は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアルコ
キシ基を示し、R19、及びR20は各々独立して、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニ
ル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基
を有していてもよいアシルオキシ基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、ベンゼン環及びイミノ
キノン環は置換基を有していてもよい。Xa - は対アニ
オンを示す。尚、式(Vb)中の電子結合(点線)は他の電
子結合との共鳴状態を示す。〕
R17、及びR18は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアルコ
キシ基を示し、R19、及びR20は各々独立して、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニ
ル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基
を有していてもよいアシルオキシ基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、ベンゼン環及びイミノ
キノン環は置換基を有していてもよい。Xa - は対アニ
オンを示す。尚、式(Vb)中の電子結合(点線)は他の電
子結合との共鳴状態を示す。〕
【0043】ここで、式(Va)、及び(Vb)中のR15、
R16、R17、R18、R19、及びR20がアルキル基、アル
コキシ基であるときの炭素数は通常1〜15、好ましく
は1〜10、アルケニル基、アルキニル基であるときの
炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜10であり、そ
れらにおける置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、カルボキシ基、アシル
オキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又
はハロゲン原子等が挙げられ、ベンゼン環及びイミノキ
ノン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、アシル基、ニトロ基、
又はハロゲン原子等が挙げられる。
R16、R17、R18、R19、及びR20がアルキル基、アル
コキシ基であるときの炭素数は通常1〜15、好ましく
は1〜10、アルケニル基、アルキニル基であるときの
炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜10であり、そ
れらにおける置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、カルボキシ基、アシル
オキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又
はハロゲン原子等が挙げられ、ベンゼン環及びイミノキ
ノン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、アシル基、ニトロ基、
又はハロゲン原子等が挙げられる。
【0044】これらのジイミニウム系色素の中では、前
記一般式(Va)、及び(Vb)中のR15、R16、R17、及びR
18がアルキル基で、R19、及びR20もアルキル基である
か、R19、及びR20がジアルキルアミノ基を置換基とし
て有するフェニル基であるものが、特に好ましい。
記一般式(Va)、及び(Vb)中のR15、R16、R17、及びR
18がアルキル基で、R19、及びR20もアルキル基である
か、R19、及びR20がジアルキルアミノ基を置換基とし
て有するフェニル基であるものが、特に好ましい。
【0045】尚、前記一般式(Ia 〜c)、(II)、(IIIa 〜
c)、(IV)、及び(Va 〜b)における対アニオンXa - とし
ては、例えば、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、P
F6 -、SbF6 - 、AsF6 - 、及び、BF4 - 、B
Cl4 - 等の無機硼酸等の無機酸アニオン、並びに、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、酢酸、及び、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオ
ロフェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェ
ニル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼酸
等の有機酸アニオンを挙げることができる。
c)、(IV)、及び(Va 〜b)における対アニオンXa - とし
ては、例えば、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、P
F6 -、SbF6 - 、AsF6 - 、及び、BF4 - 、B
Cl4 - 等の無機硼酸等の無機酸アニオン、並びに、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、酢酸、及び、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオ
ロフェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェ
ニル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼酸
等の有機酸アニオンを挙げることができる。
【0046】又、前記一般式(Ia 〜c)、(II)、(IIIa 〜
c)、及び(IV)においては、L1 、L 2 、L3 、及びL4
のポリメチン鎖上に、下記一般式(VI)で表されるバルビ
ツル酸アニオン基又はチオバルビツル酸アニオン基を置
換基として有することにより、又は、L1 、L2 、
L3 、及びL4 のポリメチン鎖中に、下記一般式(VII)
で表されるスクエア酸アニオン基又はチオスクエア酸ア
ニオン基、或いは、下記一般式(VIII)で表されるクロコ
ン酸アニオン基又はチオクロコン酸アニオン基を形成す
ることにより、分子内塩を形成していてもよい。
c)、及び(IV)においては、L1 、L 2 、L3 、及びL4
のポリメチン鎖上に、下記一般式(VI)で表されるバルビ
ツル酸アニオン基又はチオバルビツル酸アニオン基を置
換基として有することにより、又は、L1 、L2 、
L3 、及びL4 のポリメチン鎖中に、下記一般式(VII)
で表されるスクエア酸アニオン基又はチオスクエア酸ア
ニオン基、或いは、下記一般式(VIII)で表されるクロコ
ン酸アニオン基又はチオクロコン酸アニオン基を形成す
ることにより、分子内塩を形成していてもよい。
【0047】
【化7】
【0048】〔式(VI)、(VII) 、及び(VIII)中、Z3 、
Z4 、Z5 、Z6 、Z7 、及びZ8は各々独立して、酸
素原子又は硫黄原子を示し、R35及びR36は各々独立し
て、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルコキシ基、又は置換基を有していても
よいフェニル基を示す。〕
Z4 、Z5 、Z6 、Z7 、及びZ8は各々独立して、酸
素原子又は硫黄原子を示し、R35及びR36は各々独立し
て、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルコキシ基、又は置換基を有していても
よいフェニル基を示す。〕
【0049】ここで、式(VI)中のR35及びR36がアルキ
ル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜5、アルケニル基であるときの炭素
数は通常2〜15、好ましくは2〜5であるが、アルキ
ル基であるのが好ましく、そのアルキル基として具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基
等が挙げられる。
ル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜5、アルケニル基であるときの炭素
数は通常2〜15、好ましくは2〜5であるが、アルキ
ル基であるのが好ましく、そのアルキル基として具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基
等が挙げられる。
【0050】又、フタロシアニン系色素は、アザポリメ
チン鎖を介して複素環が結合された構造を基本構造とす
るものであり、そのフタロシアニン系色素としては、下
記一般式(IX)で表されるものが好ましい。
チン鎖を介して複素環が結合された構造を基本構造とす
るものであり、そのフタロシアニン系色素としては、下
記一般式(IX)で表されるものが好ましい。
【0051】
【化8】
【0052】〔式(IX)中、R21、及びR22は各々独立し
て、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ
基、チオアリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ハロゲン原子、又は水素原子を示し、M
は、Zn、Cu、Ni、SnCl2 、AlCl、又は水
素原子を示し、又、ベンゼン環における隣接する2つの
置換基が互いに連結して縮合環を形成していてもよ
い。〕
て、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ
基、チオアリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ハロゲン原子、又は水素原子を示し、M
は、Zn、Cu、Ni、SnCl2 、AlCl、又は水
素原子を示し、又、ベンゼン環における隣接する2つの
置換基が互いに連結して縮合環を形成していてもよ
い。〕
【0053】ここで、式(IX)中のR21、及びR22がアル
コキシ基、チオアルコキシ基、又はアルキルアミノ基で
あるときの炭素数は通常1〜10、好ましくは1〜4で
あり、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、又は
アリールアミノ基としては、フェノキシ基、チオフェノ
キシ基、又はフェニルアミノ基等が挙げられ、又、Mと
しては、Zn、又はSnCl2 であるのが好ましい。
コキシ基、チオアルコキシ基、又はアルキルアミノ基で
あるときの炭素数は通常1〜10、好ましくは1〜4で
あり、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、又は
アリールアミノ基としては、フェノキシ基、チオフェノ
キシ基、又はフェニルアミノ基等が挙げられ、又、Mと
しては、Zn、又はSnCl2 であるのが好ましい。
【0054】以上の前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノ
リン系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベ
ンゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピ
リリウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、
前記一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、前記一般
式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素、及び前記一
般式(IX)で表されるフタロシアニン系色素の中で、本発
明においては、前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノリン
系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベンゾ
チアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピリリ
ウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前記
一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、又は前記一般
式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素が好ましく、
前記一般式(II)で表されるインドール系又はベンゾチア
ゾール系のシアニン色素が特に好ましい。
リン系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベ
ンゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピ
リリウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、
前記一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、前記一般
式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素、及び前記一
般式(IX)で表されるフタロシアニン系色素の中で、本発
明においては、前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノリン
系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベンゾ
チアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピリリ
ウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前記
一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、又は前記一般
式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素が好ましく、
前記一般式(II)で表されるインドール系又はベンゾチア
ゾール系のシアニン色素が特に好ましい。
【0055】尚、前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノリ
ン系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベン
ゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピリ
リウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前
記一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、及び前記一
般式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素の各具体例
を以下に示す。
ン系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベン
ゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピリ
リウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、前
記一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、及び前記一
般式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素の各具体例
を以下に示す。
【0056】
【化9】
【0057】
【化10】
【0058】
【化11】
【0059】
【化12】
【0060】
【化13】
【0061】
【化14】
【0062】
【化15】
【0063】
【化16】
【0064】
【化17】
【0065】
【化18】
【0066】
【化19】
【0067】
【化20】
【0068】本発明において、前記ポジ型感光性組成物
における前記(P−1)成分のアルカリ可溶性樹脂の含
有割合は、50〜99重量%であるのが好ましく、60
〜98重量%であるのが更に好ましく、70〜97重量
%であるのが特に好ましい。又、前記(P−2)成分の
光熱変換物質の含有割合は、0.5〜30重量%である
のが好ましく、1〜20重量%であるのが更に好まし
く、2〜10重量%であるのが特に好ましい。
における前記(P−1)成分のアルカリ可溶性樹脂の含
有割合は、50〜99重量%であるのが好ましく、60
〜98重量%であるのが更に好ましく、70〜97重量
%であるのが特に好ましい。又、前記(P−2)成分の
光熱変換物質の含有割合は、0.5〜30重量%である
のが好ましく、1〜20重量%であるのが更に好まし
く、2〜10重量%であるのが特に好ましい。
【0069】又、前記ポジ型感光性組成物には、露光部
と非露光部のアルカリ現像液に対する溶解性の差を増大
させる目的で、赤外領域の光で分解されない溶解抑止剤
(P−3)成分が含有されていてもよく、その溶解抑止
剤としては、例えば、特開平10−268512号及び
特開平11−288089号各公報に詳細に記載されて
いるスルホン酸エステル類、燐酸エステル類、芳香族カ
ルボン酸エステル類、芳香族ジスルホン類、カルボン酸
無水物類、芳香族ケトン類、芳香族アルデヒド類、芳香
族アミン類、芳香族エーテル類、トリアリールメタン骨
格を有する化合物類等、特開平11−190903号公
報に詳細に記載されている、ラクトン骨格、N,N−ジ
アリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有
する酸発色性色素類、特開平11−143076号公報
に詳細に記載されている、ラクトン骨格、チオラクトン
骨格、スルホラクトン骨格を有する塩基発色性色素類等
を挙げることができる。
と非露光部のアルカリ現像液に対する溶解性の差を増大
させる目的で、赤外領域の光で分解されない溶解抑止剤
(P−3)成分が含有されていてもよく、その溶解抑止
剤としては、例えば、特開平10−268512号及び
特開平11−288089号各公報に詳細に記載されて
いるスルホン酸エステル類、燐酸エステル類、芳香族カ
ルボン酸エステル類、芳香族ジスルホン類、カルボン酸
無水物類、芳香族ケトン類、芳香族アルデヒド類、芳香
族アミン類、芳香族エーテル類、トリアリールメタン骨
格を有する化合物類等、特開平11−190903号公
報に詳細に記載されている、ラクトン骨格、N,N−ジ
アリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有
する酸発色性色素類、特開平11−143076号公報
に詳細に記載されている、ラクトン骨格、チオラクトン
骨格、スルホラクトン骨格を有する塩基発色性色素類等
を挙げることができる。
【0070】更に、溶解抑止剤として、例えば、ポリエ
チレングリコール類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー類、ポリエチレン
グリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリ
エチレングリコールアルキルフェニルエーテル類、ポリ
エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレング
リコールアルキルアミン類、ポリエチレングリコールア
ルキルアミノエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ソルビタン脂
肪酸エステル及びそのポリエチレンオキサイド付加物
類、ソルビット脂肪酸エステル及びそのポリエチレンオ
キサイド付加物類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル
及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル類等のノニオン性界面活性剤が挙げ
られる。
チレングリコール類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー類、ポリエチレン
グリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリ
エチレングリコールアルキルフェニルエーテル類、ポリ
エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレング
リコールアルキルアミン類、ポリエチレングリコールア
ルキルアミノエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ソルビタン脂
肪酸エステル及びそのポリエチレンオキサイド付加物
類、ソルビット脂肪酸エステル及びそのポリエチレンオ
キサイド付加物類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル
及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル類等のノニオン性界面活性剤が挙げ
られる。
【0071】本発明において、前記ポジ型感光性組成物
における前記(P−3)成分の溶解抑止剤の含有割合
は、50重量%以下であるのが好ましく、0.01〜3
0重量%であるのが更に好ましく、0.1〜20重量%
であるのが特に好ましい。
における前記(P−3)成分の溶解抑止剤の含有割合
は、50重量%以下であるのが好ましく、0.01〜3
0重量%であるのが更に好ましく、0.1〜20重量%
であるのが特に好ましい。
【0072】又、前記ポジ型感光性組成物には、アンダ
ー現像性の付与等の現像性の改良を目的として、好まし
くはpKaが2以上の有機酸又はその有機酸の無水物
(P−4)成分が含有されていてもよく、その有機酸又
はその無水物としては、例えば、特開昭60−8894
2号、特開昭63−276048号、特開平2−967
54号各公報等に記載されたものが用いられ、具体的に
は、グリセリン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン
酸、プロピルマロン酸、コハク酸、リンゴ酸、メソ酒石
酸、グルタル酸、β−メチルグルタル酸、β,β−ジメ
チルグルタル酸、β−エチルグルタル酸、β,β−ジエ
チルグルタル酸、β−プロピルグルタル酸、β,β−メ
チルプロピルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、セ
バシン酸等の脂肪族飽和カルボン酸、マレイン酸、フマ
ル酸、グルタコン酸等の脂肪族不飽和カルボン酸、1,
1−シクロブタンジカルボン酸、1,3−シクロブタン
ジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン酸、
1,2−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4
−シクロヘキサンジカルボン酸等の炭素環式飽和カルボ
ン酸、1,2−シクロヘキセンジカルボン酸、2,3−
ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジメチル安息香酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、3,5−ジメトキシ安息
香酸、p−トルイル酸、2−ヒドロキシ−p−トルイル
酸、2−ヒドロキシ−m−トルイル酸、2−ヒドロキシ
−o−トルイル酸、マンデル酸、没食子酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸等の炭素環式不飽和カルボ
ン酸、及び、メルドラム酸、アスコルビン酸、無水コハ
ク酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、シクロヘキセ
ンジカルボン酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無
水物、無水フタル酸等の無水物が挙げられる。
ー現像性の付与等の現像性の改良を目的として、好まし
くはpKaが2以上の有機酸又はその有機酸の無水物
(P−4)成分が含有されていてもよく、その有機酸又
はその無水物としては、例えば、特開昭60−8894
2号、特開昭63−276048号、特開平2−967
54号各公報等に記載されたものが用いられ、具体的に
は、グリセリン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン
酸、プロピルマロン酸、コハク酸、リンゴ酸、メソ酒石
酸、グルタル酸、β−メチルグルタル酸、β,β−ジメ
チルグルタル酸、β−エチルグルタル酸、β,β−ジエ
チルグルタル酸、β−プロピルグルタル酸、β,β−メ
チルプロピルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、セ
バシン酸等の脂肪族飽和カルボン酸、マレイン酸、フマ
ル酸、グルタコン酸等の脂肪族不飽和カルボン酸、1,
1−シクロブタンジカルボン酸、1,3−シクロブタン
ジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン酸、
1,2−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4
−シクロヘキサンジカルボン酸等の炭素環式飽和カルボ
ン酸、1,2−シクロヘキセンジカルボン酸、2,3−
ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジメチル安息香酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、3,5−ジメトキシ安息
香酸、p−トルイル酸、2−ヒドロキシ−p−トルイル
酸、2−ヒドロキシ−m−トルイル酸、2−ヒドロキシ
−o−トルイル酸、マンデル酸、没食子酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸等の炭素環式不飽和カルボ
ン酸、及び、メルドラム酸、アスコルビン酸、無水コハ
ク酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、シクロヘキセ
ンジカルボン酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無
水物、無水フタル酸等の無水物が挙げられる。
【0073】本発明において、前記ポジ型感光性組成物
における前記(P−4)成分の有機酸又はその無水物の
含有割合は、30重量%以下であるのが好ましく、20
重量%以下であるのが更に好ましく、10重量%以下で
あるのが特に好ましい。
における前記(P−4)成分の有機酸又はその無水物の
含有割合は、30重量%以下であるのが好ましく、20
重量%以下であるのが更に好ましく、10重量%以下で
あるのが特に好ましい。
【0074】又、前記ポジ型感光性組成物には、例え
ば、ビクトリアピュアブルー(42595)、クリスタ
ルバイオレット(42555)、クリスタルバイオレッ
トラクトン、オーラミンO(41000)、カチロンブ
リリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6
GCP(45160)、ローダミンB(45170)、
サフラニンOK70:100(50240)、エリオグ
ラウシンX(42080)、ファーストブラックHB
(26150)、No.120/リオノールイエロー
(21090)、リオノールイエローGRO(2109
0)、シムラーファーストイエロー8GF(2110
5)、ベンジジンイエロー4T−564D(2109
5)、シムラーファーストレッド4015(1235
5)、リオノールレッドB4401(15850)、フ
ァーストゲンブルーTGR−L(74160)、リオノ
ールブルーSM(26150)等の顔料又は染料等の着
色剤(P−5)成分が含有されていてもよい。尚、ここ
で、前記の括弧内の数字はカラーインデックス(C.
I.)を意味する。
ば、ビクトリアピュアブルー(42595)、クリスタ
ルバイオレット(42555)、クリスタルバイオレッ
トラクトン、オーラミンO(41000)、カチロンブ
リリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6
GCP(45160)、ローダミンB(45170)、
サフラニンOK70:100(50240)、エリオグ
ラウシンX(42080)、ファーストブラックHB
(26150)、No.120/リオノールイエロー
(21090)、リオノールイエローGRO(2109
0)、シムラーファーストイエロー8GF(2110
5)、ベンジジンイエロー4T−564D(2109
5)、シムラーファーストレッド4015(1235
5)、リオノールレッドB4401(15850)、フ
ァーストゲンブルーTGR−L(74160)、リオノ
ールブルーSM(26150)等の顔料又は染料等の着
色剤(P−5)成分が含有されていてもよい。尚、ここ
で、前記の括弧内の数字はカラーインデックス(C.
I.)を意味する。
【0075】本発明において、前記ポジ型感光性組成物
における前記(P−5)成分の着色剤の含有割合は、5
0重量%以下であるのが好ましく、0.5〜30重量%
であるのが更に好ましく、2〜20重量%であるのが特
に好ましい。
における前記(P−5)成分の着色剤の含有割合は、5
0重量%以下であるのが好ましく、0.5〜30重量%
であるのが更に好ましく、2〜20重量%であるのが特
に好ましい。
【0076】又、前記ポジ型感光性組成物には、アルカ
リ可溶性樹脂が前記フェノール性水酸基含有フェノール
樹脂であるとき、露光及び現像後の後加熱により該樹脂
を架橋させてポジ画像に耐薬品性、耐刷性等を付与する
ことを目的として、そのフェノール樹脂を架橋させる作
用を有する架橋剤(P−6)成分が含有されていてもよ
く、その架橋剤としては、代表的には、官能基としてメ
チロール基、それをアルコール縮合変性したアルコキシ
メチル基、その他、アセトキシメチル基等を少なくとも
2個有するアミノ化合物が挙げられ、具体的には、メラ
ミン誘導体、例えば、メトキシメチル化メラミン〔三井
サイテック社製、サイメル300シリーズ(1)等〕、
ベンゾグアナミン誘導体〔メチル/エチル混合アルコキ
シ化ベンゾグアナミン樹脂(三井サイテック社製、サイ
メル1100シリーズ(2)等)〕、グリコールウリル
誘導体〔テトラメチロールグリコールウリル樹脂(三井
サイテック社製、サイメル1100シリーズ(3)
等)〕や、尿素樹脂誘導体、レゾール樹脂等が挙げられ
る。
リ可溶性樹脂が前記フェノール性水酸基含有フェノール
樹脂であるとき、露光及び現像後の後加熱により該樹脂
を架橋させてポジ画像に耐薬品性、耐刷性等を付与する
ことを目的として、そのフェノール樹脂を架橋させる作
用を有する架橋剤(P−6)成分が含有されていてもよ
く、その架橋剤としては、代表的には、官能基としてメ
チロール基、それをアルコール縮合変性したアルコキシ
メチル基、その他、アセトキシメチル基等を少なくとも
2個有するアミノ化合物が挙げられ、具体的には、メラ
ミン誘導体、例えば、メトキシメチル化メラミン〔三井
サイテック社製、サイメル300シリーズ(1)等〕、
ベンゾグアナミン誘導体〔メチル/エチル混合アルコキ
シ化ベンゾグアナミン樹脂(三井サイテック社製、サイ
メル1100シリーズ(2)等)〕、グリコールウリル
誘導体〔テトラメチロールグリコールウリル樹脂(三井
サイテック社製、サイメル1100シリーズ(3)
等)〕や、尿素樹脂誘導体、レゾール樹脂等が挙げられ
る。
【0077】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記(P−6)成分の架橋剤の含有割合は、20重
量%以下であるのが好ましく、10重量%以下であるの
が更に好ましく、5重量%以下であるのが特に好まし
い。
ける前記(P−6)成分の架橋剤の含有割合は、20重
量%以下であるのが好ましく、10重量%以下であるの
が更に好ましく、5重量%以下であるのが特に好まし
い。
【0078】又、前記ポジ型感光性組成物には、感度の
向上や現像性の改良等を目的として、ノニオン性、アニ
オン性、或いは両性等の界面活性剤(P−7)成分が含
有されていてもよく、更に、例えば、塗布性改良剤、密
着性改良剤、感度改良剤、感脂化剤、現像性改良剤等の
感光性組成物に通常用いられる各種の添加剤が更に20
重量%以下、好ましくは10重量%以下の範囲で含有さ
れていてもよい。
向上や現像性の改良等を目的として、ノニオン性、アニ
オン性、或いは両性等の界面活性剤(P−7)成分が含
有されていてもよく、更に、例えば、塗布性改良剤、密
着性改良剤、感度改良剤、感脂化剤、現像性改良剤等の
感光性組成物に通常用いられる各種の添加剤が更に20
重量%以下、好ましくは10重量%以下の範囲で含有さ
れていてもよい。
【0079】又、本発明における感光性組成物の中で、
ネガ型感光性組成物としては、下記の(N−1)成分、
(N−2)成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分
を含有する光重合性の組成物が好ましい。 (N−1)アルカリ可溶性樹脂 (N−2)エチレン性不飽和化合物 (N−3)増感剤 (N−4)光重合開始剤
ネガ型感光性組成物としては、下記の(N−1)成分、
(N−2)成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分
を含有する光重合性の組成物が好ましい。 (N−1)アルカリ可溶性樹脂 (N−2)エチレン性不飽和化合物 (N−3)増感剤 (N−4)光重合開始剤
【0080】本発明において、前記ネガ型感光性組成物
を構成する(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂として
は、前述したアルカリ可溶性樹脂の中で、カルボキシル
基含有ビニル系樹脂が好ましく、就中、側鎖にエチレン
性不飽和結合を有するものが好ましい。
を構成する(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂として
は、前述したアルカリ可溶性樹脂の中で、カルボキシル
基含有ビニル系樹脂が好ましく、就中、側鎖にエチレン
性不飽和結合を有するものが好ましい。
【0081】本発明において、前記ネガ型感光性組成物
を構成する(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物
は、組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する
(N−4)成分の光重合開始剤を含む光重合開始系の作
用により付加重合し、場合により架橋、硬化するような
ラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少な
くとも1個有する化合物である。
を構成する(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物
は、組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する
(N−4)成分の光重合開始剤を含む光重合開始系の作
用により付加重合し、場合により架橋、硬化するような
ラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少な
くとも1個有する化合物である。
【0082】ここで、エチレン性不飽和化合物として
は、エチレン性不飽和結合を分子内に1個有する化合
物、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シト
ラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエス
テル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルア
ミド、スチレン等、であってもよいが、重合性、架橋
性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の
差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を
分子内に2個以上有する化合物であるのが好ましく、
又、その不飽和結合が(メタ)アクリロイルオキシ基に
由来するアクリレート化合物が特に好ましい。
は、エチレン性不飽和結合を分子内に1個有する化合
物、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シト
ラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエス
テル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルア
ミド、スチレン等、であってもよいが、重合性、架橋
性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の
差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を
分子内に2個以上有する化合物であるのが好ましく、
又、その不飽和結合が(メタ)アクリロイルオキシ基に
由来するアクリレート化合物が特に好ましい。
【0083】エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上
有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸
とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、(メタ)アク
リロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ(メ
タ)アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物と
のウレタン(メタ)アクリレート類、及び、(メタ)ア
クリル酸又はヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物と
ポリエポキシ化合物とのエポキシ(メタ)アクリレート
類等が挙げられる。
有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸
とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、(メタ)アク
リロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ(メ
タ)アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物と
のウレタン(メタ)アクリレート類、及び、(メタ)ア
クリル酸又はヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物と
ポリエポキシ化合物とのエポキシ(メタ)アクリレート
類等が挙げられる。
【0084】そのエステル類としては、具体的には、例
えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ノナメチレングリコー
ル、トリメチロールエタン、テトラメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、及
びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキ
サイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体
的には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ノナメチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタント
リ(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ(メタ)アクリレート、グリセロール
ジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)ア
クリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加ト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペン
タ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)
アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロト
ネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等
が挙げられる。
えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ノナメチレングリコー
ル、トリメチロールエタン、テトラメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、及
びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキ
サイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体
的には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ノナメチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタント
リ(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ(メタ)アクリレート、グリセロール
ジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)ア
クリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加ト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペン
タ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)
アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロト
ネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等
が挙げられる。
【0085】更に、そのエステル類として、前記の如き
不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロ
ガロール、ビスフェノールF、ビスフェノールA等の芳
香族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例
えば、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、レゾルシ
ンジ(メタ)アクリレート、ピロガロールトリ(メタ)
アクリレート等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の
複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的に
は、例えば、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレートのジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アク
リレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と
ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例え
ば、(メタ)アクリル酸とフタル酸とエチレングリコー
ルとの縮合物、(メタ)アクリル酸とマレイン酸とジエ
チレングリコールとの縮合物、(メタ)アクリル酸とテ
レフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、(メ
タ)アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセ
リンとの縮合物等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロ
ガロール、ビスフェノールF、ビスフェノールA等の芳
香族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例
えば、ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、レゾルシ
ンジ(メタ)アクリレート、ピロガロールトリ(メタ)
アクリレート等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の
複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的に
は、例えば、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレートのジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アク
リレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と
ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例え
ば、(メタ)アクリル酸とフタル酸とエチレングリコー
ルとの縮合物、(メタ)アクリル酸とマレイン酸とジエ
チレングリコールとの縮合物、(メタ)アクリル酸とテ
レフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、(メ
タ)アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセ
リンとの縮合物等が挙げられる。
【0086】又、その(メタ)アクリロイルオキシ基含
有ホスフェート類としては、具体的には、例えば、(メ
タ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス
〔(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、
(メタ)アクリロイルオキシエチレングリコールホスフ
ェート等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いられ
ても混合物として用いられてもよい。
有ホスフェート類としては、具体的には、例えば、(メ
タ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス
〔(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、
(メタ)アクリロイルオキシエチレングリコールホスフ
ェート等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いられ
ても混合物として用いられてもよい。
【0087】又、そのウレタン(メタ)アクリレート類
としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、テトラメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ
(メタ)アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネー
ト、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイマ
ー酸ジイソシアネート、1,6,11−ウンデカトリイ
ソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシ
アネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネ
ートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサ
ンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロ
ヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネー
ト、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポ
リイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリス
(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシア
ネートフェニル)チオホスフェート等の芳香族ポリイソ
シアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシ
アネート、等のポリイソシアネート化合物との反応物等
が挙げられる。
としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、テトラメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ
(メタ)アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネー
ト、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイマ
ー酸ジイソシアネート、1,6,11−ウンデカトリイ
ソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシ
アネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネ
ートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサ
ンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロ
ヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネー
ト、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポ
リイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリス
(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシア
ネートフェニル)チオホスフェート等の芳香族ポリイソ
シアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシ
アネート、等のポリイソシアネート化合物との反応物等
が挙げられる。
【0088】又、そのエポキシ(メタ)アクリレート類
としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、
又は前記の如きヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物
と、(ポリ)エチレングリコールポリグリシジルエーテ
ル、(ポリ)プロピレングリコールポリグリシジルエー
テル、(ポリ)テトラメチレングリコールポリグリシジ
ルエーテル、(ポリ)ペンタメチレングリコールポリグ
リシジルエーテル、(ポリ)ネオペンチルグリコールポ
リグリシジルエーテル、(ポリ)ヘキサメチレングリコ
ールポリグリシジルエーテル、(ポリ)トリメチロール
プロパンポリグリシジルエーテル、(ポリ)グリセロー
ルポリグリシジルエーテル、(ポリ)ソルビトールポリ
グリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フ
ェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェ
ノールノボラックポリエポキシ化合物、(o−,m−,
p−)クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビス
フェノールAポリエポキシ化合物、ビスフェノールFポ
リエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソル
ビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシ
アヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合
物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられ
る。
としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、
又は前記の如きヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物
と、(ポリ)エチレングリコールポリグリシジルエーテ
ル、(ポリ)プロピレングリコールポリグリシジルエー
テル、(ポリ)テトラメチレングリコールポリグリシジ
ルエーテル、(ポリ)ペンタメチレングリコールポリグ
リシジルエーテル、(ポリ)ネオペンチルグリコールポ
リグリシジルエーテル、(ポリ)ヘキサメチレングリコ
ールポリグリシジルエーテル、(ポリ)トリメチロール
プロパンポリグリシジルエーテル、(ポリ)グリセロー
ルポリグリシジルエーテル、(ポリ)ソルビトールポリ
グリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フ
ェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェ
ノールノボラックポリエポキシ化合物、(o−,m−,
p−)クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビス
フェノールAポリエポキシ化合物、ビスフェノールFポ
リエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソル
ビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシ
アヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合
物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられ
る。
【0089】又、その他のエチレン性不飽和化合物とし
て、前記以外に、例えば、エチレンビス(メタ)アクリ
ルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、フタル酸ジア
リル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビ
ニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性
不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても2種以上
が併用されてもよい。
て、前記以外に、例えば、エチレンビス(メタ)アクリ
ルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、フタル酸ジア
リル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビ
ニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性
不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても2種以上
が併用されてもよい。
【0090】以上の(N−2)成分のエチレン性不飽和
化合物として、本発明においては、エステル(メタ)ア
クリレート類、(メタ)アクリロイルオキシ基含有ホス
フェート類、又はウレタン(メタ)アクリレート類が好
ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基含有ホスフェー
ト類、又はウレタン(メタ)アクリレート類が特に好ま
しい。
化合物として、本発明においては、エステル(メタ)ア
クリレート類、(メタ)アクリロイルオキシ基含有ホス
フェート類、又はウレタン(メタ)アクリレート類が好
ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基含有ホスフェー
ト類、又はウレタン(メタ)アクリレート類が特に好ま
しい。
【0091】又、前記ネガ型感光性組成物を構成する
(N−3)成分の増感剤は、350〜1,300nmの
波長域、特に波長350〜420nmの青紫外領域、及
び、波長600〜1,300nmの近赤外領域の光を効
率よく吸収すると共に、その光励起エネルギーを後述す
る(N−4)成分の光重合開始剤に伝え、該光重合開始
剤を分解し、(N−2)成分の前記エチレン性不飽和化
合物の重合を誘起する活性ラジカルを発生させる増感機
能を有する光吸収色素が好ましい。
(N−3)成分の増感剤は、350〜1,300nmの
波長域、特に波長350〜420nmの青紫外領域、及
び、波長600〜1,300nmの近赤外領域の光を効
率よく吸収すると共に、その光励起エネルギーを後述す
る(N−4)成分の光重合開始剤に伝え、該光重合開始
剤を分解し、(N−2)成分の前記エチレン性不飽和化
合物の重合を誘起する活性ラジカルを発生させる増感機
能を有する光吸収色素が好ましい。
【0092】その光吸収色素の中で、波長600〜1,
300nmの近赤外領域の光吸収色素としては、前記ポ
ジ型感光性組成物を構成する(P−2)成分の光熱変換
物質において挙げたと同様の光吸収色素が挙げられ、そ
れらの中で、本発明においては、前記一般式(Ia 〜c)で
表されるキノリン系、前記一般式(II)で表されるインド
ール系又はベンゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)
で表されるピリリウム系又はチオピリリウム系等のシア
ニン系色素、前記一般式(IV)で表されるポリメチン系色
素、又は前記一般式(IX)表されるフタロシアニン系色素
が好ましく、前記一般式(II)で表されるインドール系又
はベンゾチアゾール系のシアニン色素が特に好ましい。
300nmの近赤外領域の光吸収色素としては、前記ポ
ジ型感光性組成物を構成する(P−2)成分の光熱変換
物質において挙げたと同様の光吸収色素が挙げられ、そ
れらの中で、本発明においては、前記一般式(Ia 〜c)で
表されるキノリン系、前記一般式(II)で表されるインド
ール系又はベンゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)
で表されるピリリウム系又はチオピリリウム系等のシア
ニン系色素、前記一般式(IV)で表されるポリメチン系色
素、又は前記一般式(IX)表されるフタロシアニン系色素
が好ましく、前記一般式(II)で表されるインドール系又
はベンゾチアゾール系のシアニン色素が特に好ましい。
【0093】又、波長350〜420nmの青紫外領域
の光吸収色素としては、ジアルキルアミノベンゼン系化
合物が好ましく、その中でも、ジアルキルアミノベンゾ
フェノン系化合物、及び、ベンゼン環上のアミノ基に対
してp−位の炭素原子に複素環基を置換基として有する
ジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。
の光吸収色素としては、ジアルキルアミノベンゼン系化
合物が好ましく、その中でも、ジアルキルアミノベンゾ
フェノン系化合物、及び、ベンゼン環上のアミノ基に対
してp−位の炭素原子に複素環基を置換基として有する
ジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。
【0094】そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化
合物としては、下記一般式(Xa)で表されるものが好まし
い。
合物としては、下記一般式(Xa)で表されるものが好まし
い。
【0095】
【化21】
【0096】〔式(IXa) 中、R23、R24、R25、及びR
26は各々独立して、アルキル基を示し、R27、R28、R
29、及びR30は各々独立して、アルキル基、又は水素原
子を示し、R23とR24、R25とR26、R23とR27、R24
とR28、R25とR29、及びR 26とR30とは各々独立し
て、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
26は各々独立して、アルキル基を示し、R27、R28、R
29、及びR30は各々独立して、アルキル基、又は水素原
子を示し、R23とR24、R25とR26、R23とR27、R24
とR28、R25とR29、及びR 26とR30とは各々独立し
て、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
【0097】ここで、式(Xa)中のR23、R24、R25、及
びR26のアルキル基の炭素数、並びに、R27、R28、R
29、及びR30がアルキル基であるときの炭素数は1〜6
であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場
合、5又は6員環であるのが好ましく、6員環が特に好
ましい。
びR26のアルキル基の炭素数、並びに、R27、R28、R
29、及びR30がアルキル基であるときの炭素数は1〜6
であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場
合、5又は6員環であるのが好ましく、6員環が特に好
ましい。
【0098】前記一般式(Xa)で表される化合物の具体例
としては、例えば、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)
ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
としては、例えば、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)
ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
【0099】
【化22】
【0100】又、ベンゼン環上のアミノ基に対してp−
位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキ
ルアミノベンゼン系化合物における複素環基としては、
窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む5又は6員環
のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する5員環が特
に好ましく、そのジアルキルアミノベンゼン系化合物と
しては下記一般式(Xb)で表されるものが特に好ましい。
位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキ
ルアミノベンゼン系化合物における複素環基としては、
窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む5又は6員環
のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する5員環が特
に好ましく、そのジアルキルアミノベンゼン系化合物と
しては下記一般式(Xb)で表されるものが特に好ましい。
【0101】
【化23】
【0102】〔式(Xb)中、R31及びR32は各々独立し
て、アルキル基を示し、R33及びR34は各々独立して、
アルキル基、又は水素原子を示し、R31とR32、R31と
R33、及びR32とR34とは各々独立して、含窒素複素環
を形成していてもよい。Y3 は、酸素原子、硫黄原子、
ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示し、該Y3 を含む複素環に縮合するベンゼン環は
置換基を有していてもよい。〕
て、アルキル基を示し、R33及びR34は各々独立して、
アルキル基、又は水素原子を示し、R31とR32、R31と
R33、及びR32とR34とは各々独立して、含窒素複素環
を形成していてもよい。Y3 は、酸素原子、硫黄原子、
ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示し、該Y3 を含む複素環に縮合するベンゼン環は
置換基を有していてもよい。〕
【0103】ここで、式(Xb)中のR31及びR32のアルキ
ル基の炭素数、並びに、R33及びR 34がアルキル基であ
るときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒
素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ま
しく、6員環が特に好ましい。又、Yがジアルキルメチ
レン基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6である
のが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル
基の炭素数は1〜6であるのが好ましい。
ル基の炭素数、並びに、R33及びR 34がアルキル基であ
るときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒
素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ま
しく、6員環が特に好ましい。又、Yがジアルキルメチ
レン基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6である
のが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル
基の炭素数は1〜6であるのが好ましい。
【0104】前記一般式(Xb)で表される化合物の具体例
としては、例えば、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジエチルアミノフ
ェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミ
ノフェニル)ベンゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾール、2
−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ〔6,7〕ベ
ンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジメチル
アミノフェニル)−3,3−ジメチル−3H−インドー
ル、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−3,3−ジ
メチル−3H−インドール、及び、下記構造の化合物が
挙げられる。
としては、例えば、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジエチルアミノフ
ェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミ
ノフェニル)ベンゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾール、2
−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ〔6,7〕ベ
ンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジメチル
アミノフェニル)−3,3−ジメチル−3H−インドー
ル、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−3,3−ジ
メチル−3H−インドール、及び、下記構造の化合物が
挙げられる。
【0105】
【化24】
【0106】又、前記一般式(Xb)で表される化合物以外
の、ベンゼン環上のアミノ基に対してp−位の炭素原子
に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベン
ゼン系化合物としては、例えば、2−(p−ジメチルア
ミノフェニル)ピリジン、2−(p−ジエチルアミノフ
ェニル)ピリジン、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)キノリン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)キ
ノリン、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ピリミジ
ン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ピリミジン、
2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−1,3,4−チアジアゾール等が
挙げられる。
の、ベンゼン環上のアミノ基に対してp−位の炭素原子
に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベン
ゼン系化合物としては、例えば、2−(p−ジメチルア
ミノフェニル)ピリジン、2−(p−ジエチルアミノフ
ェニル)ピリジン、2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)キノリン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)キ
ノリン、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ピリミジ
ン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ピリミジン、
2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−1,3,4−チアジアゾール等が
挙げられる。
【0107】更に、増感剤としては、例えば、米国特許
第3479185号明細書に開示されるロイコクリスタ
ルバイオレットやロイコマラカイトグリーン等のトリフ
ェニルメタン系ロイコ色素類、エリスロシンやエオシン
Y等の光還元性染料類、米国特許第3549367号、
同第3652275号各明細書に開示されるミヒラーズ
ケトンやアミノスチリルケトン等のアミノフェニルケト
ン類、米国特許第3844790号明細書に開示される
β−ジケトン類、米国特許第4162162号明細書に
開示されるインダノン類、特開平6−301208号、
特開平8−129258号、特開平8−129259
号、特開平8−146605号、特開平8−21160
5号各公報に開示されるクマリン系色素類、特開昭52
−112681号公報に開示されるケトクマリン系色素
類、特開昭59−56403号公報に開示されるアミノ
スチレン誘導体類やアミノフェニルブタジエン誘導体
類、米国特許第4594310号明細書に開示されるア
ミノフェニル複素環類、米国特許第4966830号明
細書に開示されるジュロリジン複素環類、特開平5−2
41338号、特開平7−5685号、特開平10−1
44242号各公報に開示されるピロメテン系色素類等
の化合物が挙げられる。
第3479185号明細書に開示されるロイコクリスタ
ルバイオレットやロイコマラカイトグリーン等のトリフ
ェニルメタン系ロイコ色素類、エリスロシンやエオシン
Y等の光還元性染料類、米国特許第3549367号、
同第3652275号各明細書に開示されるミヒラーズ
ケトンやアミノスチリルケトン等のアミノフェニルケト
ン類、米国特許第3844790号明細書に開示される
β−ジケトン類、米国特許第4162162号明細書に
開示されるインダノン類、特開平6−301208号、
特開平8−129258号、特開平8−129259
号、特開平8−146605号、特開平8−21160
5号各公報に開示されるクマリン系色素類、特開昭52
−112681号公報に開示されるケトクマリン系色素
類、特開昭59−56403号公報に開示されるアミノ
スチレン誘導体類やアミノフェニルブタジエン誘導体
類、米国特許第4594310号明細書に開示されるア
ミノフェニル複素環類、米国特許第4966830号明
細書に開示されるジュロリジン複素環類、特開平5−2
41338号、特開平7−5685号、特開平10−1
44242号各公報に開示されるピロメテン系色素類等
の化合物が挙げられる。
【0108】又、前記ネガ型感光性組成物を構成する
(N−4)成分の光重合開始剤は、組成物が(N−3)
成分の前記増感剤等との共存下で光照射されたときに、
活性ラジカルを発生するラジカル発生剤であって、代表
的には、ハロメチル化s−トリアジン誘導体類、ハロメ
チル化1,3,4−オキサジアゾール誘導体類、ヘキサ
アリールビイミダゾール誘導体類、チタノセン誘導体
類、有機硼素酸塩類、ジアリールヨードニウム塩類、カ
ルボニル化合物類、及び有機過酸化物類等が挙げられ、
本発明においては、ハロメチル化s−トリアジン誘導体
類、ヘキサアリールビイミダゾール誘導体類、又は有機
硼素酸塩類が好ましい。
(N−4)成分の光重合開始剤は、組成物が(N−3)
成分の前記増感剤等との共存下で光照射されたときに、
活性ラジカルを発生するラジカル発生剤であって、代表
的には、ハロメチル化s−トリアジン誘導体類、ハロメ
チル化1,3,4−オキサジアゾール誘導体類、ヘキサ
アリールビイミダゾール誘導体類、チタノセン誘導体
類、有機硼素酸塩類、ジアリールヨードニウム塩類、カ
ルボニル化合物類、及び有機過酸化物類等が挙げられ、
本発明においては、ハロメチル化s−トリアジン誘導体
類、ヘキサアリールビイミダゾール誘導体類、又は有機
硼素酸塩類が好ましい。
【0109】ここで、そのハロメチル化s−トリアジン
誘導体類としては、少なくとも1つのモノ、ジ、又はト
リハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合した
誘導体が好ましく、ビス(トリハロメチル)−s−トリ
アジンが特に好ましく、具体的には、例えば、2−メチ
ル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロ
エチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−
クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニ
ル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオ
キシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(p−エトキシナフチル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(p−エトキシカルボニルナフチル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニ
ルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス
(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ
−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン
等が挙げられ、中で、2−メチル−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,
4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が好ま
しい。
誘導体類としては、少なくとも1つのモノ、ジ、又はト
リハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合した
誘導体が好ましく、ビス(トリハロメチル)−s−トリ
アジンが特に好ましく、具体的には、例えば、2−メチ
ル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロ
エチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−
クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニ
ル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオ
キシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(p−エトキシナフチル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(p−エトキシカルボニルナフチル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニ
ルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス
(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ
−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン
等が挙げられ、中で、2−メチル−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,
4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が好ま
しい。
【0110】又、そのハロメチル化1,3,4−オキサ
ジアゾール誘導体類としては、具体的には、例えば、2
−(p−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−メトキシス
チリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサ
ジアゾール、2−(o−ベンゾフリル)−5−トリクロ
ロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−〔β−
(o−ベンゾフリル)ビニル〕−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。
ジアゾール誘導体類としては、具体的には、例えば、2
−(p−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−メトキシス
チリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサ
ジアゾール、2−(o−ベンゾフリル)−5−トリクロ
ロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−〔β−
(o−ベンゾフリル)ビニル〕−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。
【0111】又、そのヘキサアリールビイミダゾール誘
導体類としては、具体的には、例えば、2,2’−ビス
(o−メトキシフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(p−メト
キシフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−フルオロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラ(p−メチルフェニル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(p−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(m,m−ジメトキシフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−エトキシカ
ルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
(p−クロロ−p−メトキシフェニル)ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(p−クロロフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−フルオロフ
ェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジ
ブロモフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(o−クロロ−p−メト
キシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−
クロロナフチル)ビイミダゾール等が挙げられ、中で、
ヘキサフェニルビイミダゾール誘導体が好ましく、その
イミダゾール環上の2,2’−位に結合したベンゼン環
のo−位がハロゲン原子で置換されたものが好ましく、
そのイミダゾール環上の4,4’,5,5’−位のベン
ゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシ
カルボニル基で置換されたものが特に好ましい。
導体類としては、具体的には、例えば、2,2’−ビス
(o−メトキシフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(p−メト
キシフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−フルオロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラ(p−メチルフェニル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(p−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(m,m−ジメトキシフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−エトキシカ
ルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
(p−クロロ−p−メトキシフェニル)ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラ(p−クロロフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−フルオロフ
ェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジ
ブロモフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラ(p−ヨードフェニル)ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(o−クロロ−p−メト
キシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−
クロロナフチル)ビイミダゾール等が挙げられ、中で、
ヘキサフェニルビイミダゾール誘導体が好ましく、その
イミダゾール環上の2,2’−位に結合したベンゼン環
のo−位がハロゲン原子で置換されたものが好ましく、
そのイミダゾール環上の4,4’,5,5’−位のベン
ゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシ
カルボニル基で置換されたものが特に好ましい。
【0112】又、そのチタノセン誘導体類としては、具
体的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
フェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
(2,4−ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニル)、
ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,4,6−
トリフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタ
ニウムビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニ
ル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)、ジ(メチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,4−ジ
フルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニル)、
ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス
(2,4,6−トリフルオロフェニル)、ジ(メチルシ
クロペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,5,6
−テトラフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムビス〔2,6−ジフルオロ−3−(1−ピロリル)
フェニル〕等が挙げら、中で、ジシクロペンタジエニル
構造とビフェニル構造を有する誘導体類が好ましく、ビ
フェニル環のo−位がハロゲン原子で置換されたものが
特に好ましい。
体的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウム
ジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
フェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
(2,4−ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニル)、
ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,4,6−
トリフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタ
ニウムビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニ
ル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)、ジ(メチ
ルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,4−ジ
フルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタジエニ
ル)チタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニル)、
ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス
(2,4,6−トリフルオロフェニル)、ジ(メチルシ
クロペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,5,6
−テトラフルオロフェニル)、ジ(メチルシクロペンタ
ジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムビス〔2,6−ジフルオロ−3−(1−ピロリル)
フェニル〕等が挙げら、中で、ジシクロペンタジエニル
構造とビフェニル構造を有する誘導体類が好ましく、ビ
フェニル環のo−位がハロゲン原子で置換されたものが
特に好ましい。
【0113】又、その有機硼素酸塩類としては、特に、
下記一般式(XI)で表されるものが好ましい。
下記一般式(XI)で表されるものが好ましい。
【0114】
【化25】
【0115】〔式(XI)中、R37、R38、R39、及びR40
は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、置換基を有していても
よいアリール基、又は複素環基を示し、これらは互いに
連結して環状構造を形成していてもよく、これらのうち
少なくとも一つは置換基を有していてもよいアルキル基
である。Xb + は対カチオンである。〕
は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、置換基を有していても
よいアリール基、又は複素環基を示し、これらは互いに
連結して環状構造を形成していてもよく、これらのうち
少なくとも一つは置換基を有していてもよいアルキル基
である。Xb + は対カチオンである。〕
【0116】ここで、式(XI)中のR37、R38、R39、及
びR40がアルキル基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜5、アルケニル基、アルキニル基で
あるときの炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜5、
アリール基であるときの炭素数は通常6〜20、好まし
くは6〜15、複素環基であるときの炭素数は通常4〜
20、好ましくは4〜15であり、それらにおける置換
基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、トリフルオロメチル基、トリメチルシリル基等が挙
げられる。
びR40がアルキル基であるときの炭素数は通常1〜1
5、好ましくは1〜5、アルケニル基、アルキニル基で
あるときの炭素数は通常2〜15、好ましくは2〜5、
アリール基であるときの炭素数は通常6〜20、好まし
くは6〜15、複素環基であるときの炭素数は通常4〜
20、好ましくは4〜15であり、それらにおける置換
基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、トリフルオロメチル基、トリメチルシリル基等が挙
げられる。
【0117】これらの式(XI)で表される有機硼素酸塩の
有機硼素アニオンとしては、具体的には、例えば、n−
ブチル−メチル−ジフェニル硼素アニオン、n−ブチル
−トリフェニル硼素アニオン、n−ブチル−トリス
(2,4,6−トリメチルフェニル)硼素アニオン、n
−ブチル−トリス(p−メトキシフェニル)硼素アニオ
ン、n−ブチル−トリス(p−フルオロフェニル)硼素
アニオン、n−ブチル−トリス(m−フルオロフェニ
ル)硼素アニオン、n−ブチル−トリス(3−フルオロ
−4−メチルフェニル)硼素アニオン、n−ブチル−ト
リス(2,6−ジフルオロフェニル)硼素アニオン、n
−ブチル−トリス(2,4,6−トリフルオロフェニ
ル)硼素アニオン、n−ブチル−トリス(2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニル)硼素アニオン、n−
ブチル−トリス(p−クロロフェニル)硼素アニオン、
n−ブチル−トリス(トリフルオロメチル)硼素アニオ
ン、n−ブチル−トリス(2,6−ジフルオロ−3−ピ
ロリルフェニル)−硼素アニオン等が挙げられる。
有機硼素アニオンとしては、具体的には、例えば、n−
ブチル−メチル−ジフェニル硼素アニオン、n−ブチル
−トリフェニル硼素アニオン、n−ブチル−トリス
(2,4,6−トリメチルフェニル)硼素アニオン、n
−ブチル−トリス(p−メトキシフェニル)硼素アニオ
ン、n−ブチル−トリス(p−フルオロフェニル)硼素
アニオン、n−ブチル−トリス(m−フルオロフェニ
ル)硼素アニオン、n−ブチル−トリス(3−フルオロ
−4−メチルフェニル)硼素アニオン、n−ブチル−ト
リス(2,6−ジフルオロフェニル)硼素アニオン、n
−ブチル−トリス(2,4,6−トリフルオロフェニ
ル)硼素アニオン、n−ブチル−トリス(2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニル)硼素アニオン、n−
ブチル−トリス(p−クロロフェニル)硼素アニオン、
n−ブチル−トリス(トリフルオロメチル)硼素アニオ
ン、n−ブチル−トリス(2,6−ジフルオロ−3−ピ
ロリルフェニル)−硼素アニオン等が挙げられる。
【0118】又、対カチオンXb + としては、例えば、
アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホ
ニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウム
カチオン等のオニウム化合物、及び、ピリリウムカチオ
ン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチオン等
を挙げることができるが、テトラアルキルアンモニウム
等の有機アンモニウムカチオンが好ましい。又、本発明
において、(N−4)成分の光重合開始剤としての有機
硼素酸塩類を感光性組成物中に存在させる方法として、
前記有機硼素酸塩類の有機硼素アニオンと適宜選択した
対カチオンとの塩を配合する通常の方法の他、前記有機
硼素酸塩類の有機硼素アニオンと(N−3)成分の前記
増感剤の色素カチオンとで形成された塩を配合する方法
も採ることができる。
アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホ
ニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウム
カチオン等のオニウム化合物、及び、ピリリウムカチオ
ン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチオン等
を挙げることができるが、テトラアルキルアンモニウム
等の有機アンモニウムカチオンが好ましい。又、本発明
において、(N−4)成分の光重合開始剤としての有機
硼素酸塩類を感光性組成物中に存在させる方法として、
前記有機硼素酸塩類の有機硼素アニオンと適宜選択した
対カチオンとの塩を配合する通常の方法の他、前記有機
硼素酸塩類の有機硼素アニオンと(N−3)成分の前記
増感剤の色素カチオンとで形成された塩を配合する方法
も採ることができる。
【0119】本発明において、前記ネガ型感光性組成物
における前記(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂、前
記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、前記(N
−3)成分の増感剤、及び前記(N−4)成分の光重合
開始剤の各含有割合は、(N−2)成分のエチレン性不
飽和化合物100重量部に対して、(N−1)成分のア
ルカリ可溶性樹脂は、10〜400重量部であるのが好
ましく、20〜200重量部であるのが更に好ましい。
又、(N−3)成分の増感剤は、0.01〜20重量部
であるのが好ましく、0.05〜10重量部であるのが
更に好ましい。又、(N−4)成分の光重合開始剤は、
0.1〜80重量部であるのが好ましく、0.5〜60
重量部であるのが更に好ましい。
における前記(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂、前
記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、前記(N
−3)成分の増感剤、及び前記(N−4)成分の光重合
開始剤の各含有割合は、(N−2)成分のエチレン性不
飽和化合物100重量部に対して、(N−1)成分のア
ルカリ可溶性樹脂は、10〜400重量部であるのが好
ましく、20〜200重量部であるのが更に好ましい。
又、(N−3)成分の増感剤は、0.01〜20重量部
であるのが好ましく、0.05〜10重量部であるのが
更に好ましい。又、(N−4)成分の光重合開始剤は、
0.1〜80重量部であるのが好ましく、0.5〜60
重量部であるのが更に好ましい。
【0120】又、前記ネガ型感光性組成物には、光重合
開始能力の向上を目的として、水素供与性化合物(N−
5)成分が含有されていてもよく、その水素供与性化合
物としては、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
トベンゾオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4−
トリアゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリ
ン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリコールジ
チオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチ
オプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチ
オプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、ヘキ
サンジチオール、トリメチロールプロパントリスチオグ
リコネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロ
ピオネート等の多官能チオール化合物類、N,N−ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、N−フェニルグリシ
ン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上
のエステル等の誘導体、フェニルアラニン、又はそのア
ンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエステル等の
誘導体等の芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類
等が挙げられる。中で、本発明においては、メルカプト
基含有化合物類、及び、N−フェニルグリシン、又はそ
のアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエステル
等の誘導体が好ましい。
開始能力の向上を目的として、水素供与性化合物(N−
5)成分が含有されていてもよく、その水素供与性化合
物としては、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
トベンゾオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4−
トリアゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリ
ン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリコールジ
チオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチ
オプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチ
オプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、ヘキ
サンジチオール、トリメチロールプロパントリスチオグ
リコネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロ
ピオネート等の多官能チオール化合物類、N,N−ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、N−フェニルグリシ
ン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上
のエステル等の誘導体、フェニルアラニン、又はそのア
ンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエステル等の
誘導体等の芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類
等が挙げられる。中で、本発明においては、メルカプト
基含有化合物類、及び、N−フェニルグリシン、又はそ
のアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエステル
等の誘導体が好ましい。
【0121】本発明において、前記ネガ型感光性組成物
における前記(N−5)成分の水素供与性化合物の含有
割合は、前記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物
100重量部に対して、0.1〜50重量部であるのが
好ましく、0.5〜30重量部であるのが更に好まし
い。
における前記(N−5)成分の水素供与性化合物の含有
割合は、前記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物
100重量部に対して、0.1〜50重量部であるのが
好ましく、0.5〜30重量部であるのが更に好まし
い。
【0122】又、前記ネガ型感光性組成物には、感光性
組成物に保存安定性を付与することを目的として、アミ
ン化合物(N−6)成分が含有されていてもよく、その
アミン化合物としては、脂肪族、脂環式、又は芳香族ア
ミンのいずれでもよく、又、モノアミンに限定されず、
ジアミン、トリアミン等のポリアミンであってもよく、
又、第1アミン、第2アミン、第3アミンのいずれであ
ってもよいが、pKbが7以下であるものが好ましい。
組成物に保存安定性を付与することを目的として、アミ
ン化合物(N−6)成分が含有されていてもよく、その
アミン化合物としては、脂肪族、脂環式、又は芳香族ア
ミンのいずれでもよく、又、モノアミンに限定されず、
ジアミン、トリアミン等のポリアミンであってもよく、
又、第1アミン、第2アミン、第3アミンのいずれであ
ってもよいが、pKbが7以下であるものが好ましい。
【0123】そのアミン化合物としては、具体的には、
例えば、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルア
ミン、アミルアミン、ジアミルアミン、トリアミルアミ
ン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシル
アミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルア
ミン、トリエタノールアミン、ベンジルアミン、ジベン
ジルアミン、トリベンジルアミン等の、水酸基又はフェ
ニル基で置換されていてもよい脂肪族アミンが挙げられ
る。中で、本発明においては、トリベンジルアミンが好
ましい。
例えば、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルア
ミン、アミルアミン、ジアミルアミン、トリアミルアミ
ン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシル
アミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルア
ミン、トリエタノールアミン、ベンジルアミン、ジベン
ジルアミン、トリベンジルアミン等の、水酸基又はフェ
ニル基で置換されていてもよい脂肪族アミンが挙げられ
る。中で、本発明においては、トリベンジルアミンが好
ましい。
【0124】本発明において、前記ネガ型感光性組成物
における前記(N−6)成分のアミン化合物の含有割合
は、前記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物10
0重量部に対して、0.1〜20重量部であるのが好ま
しく、0.5〜10重量部であるのが更に好ましい。
における前記(N−6)成分のアミン化合物の含有割合
は、前記(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物10
0重量部に対して、0.1〜20重量部であるのが好ま
しく、0.5〜10重量部であるのが更に好ましい。
【0125】又、前記ネガ型感光性組成物には、更に、
各種添加剤、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等
の熱重合防止剤が、前記(N−2)成分のエチレン性不
飽和化合物100重量部に対して2重量部以下、有機又
は無機の染顔料からなる着色剤が同じく20重量部以
下、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ト
リクレジルホスフェート等の可塑剤が同じく40重量部
以下、三級アミンやチオール等の感度特性改善剤、フッ
素系等の界面活性剤等の塗布性改良剤や現像促進剤が同
じく10重量部以下、色素前駆体が同じく30重量部以
下、の割合で含有されていてもよい。
各種添加剤、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等
の熱重合防止剤が、前記(N−2)成分のエチレン性不
飽和化合物100重量部に対して2重量部以下、有機又
は無機の染顔料からなる着色剤が同じく20重量部以
下、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ト
リクレジルホスフェート等の可塑剤が同じく40重量部
以下、三級アミンやチオール等の感度特性改善剤、フッ
素系等の界面活性剤等の塗布性改良剤や現像促進剤が同
じく10重量部以下、色素前駆体が同じく30重量部以
下、の割合で含有されていてもよい。
【0126】又、本発明の青紫色レーザー感光性レジス
ト材層を有する画像形成材における感光性レジスト材層
の組成として、ポジ型としては、下記の(P−1)、及
び(P−2)成分を含有する感光性組成物からなるのが
好ましい。 (P−1)酸分解性基含有重合体 (P−2)光酸発生剤
ト材層を有する画像形成材における感光性レジスト材層
の組成として、ポジ型としては、下記の(P−1)、及
び(P−2)成分を含有する感光性組成物からなるのが
好ましい。 (P−1)酸分解性基含有重合体 (P−2)光酸発生剤
【0127】本発明におけるポジ型感光性組成物を構成
する(P−1)成分の酸分解性基含有重合体は、感光性
組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する(P
−2)成分の光酸発生剤が生成する酸によって分解し、
重合体自体にアルカリ可溶性を付与するような酸分解性
基を含有する重合体であれば、特に限定されるものでは
ない。
する(P−1)成分の酸分解性基含有重合体は、感光性
組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する(P
−2)成分の光酸発生剤が生成する酸によって分解し、
重合体自体にアルカリ可溶性を付与するような酸分解性
基を含有する重合体であれば、特に限定されるものでは
ない。
【0128】その酸分解性基としては、具体的には、例
えば、メトキシ基、エトキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基等の炭素数1〜15のアルコキシ基、メト
キシメトキシ基、ジメトキシメトキシ基、エトキシメト
キシ基、1−メトキシエトキシ基、1−エトキシエトキ
シ基、1−プロポキシエトキシ基、1−t−ブトキシエ
トキシ基、1−シクロヘキシルオキシエトキシ基、1−
エトキシプロポキシ基等の炭素数2〜15のアルコキシ
アルコキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ
基、i−プロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシ
カルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基
等の2〜15のアルコキシカルボニルオキシ基、エトキ
シカルボニルオキシメトキシ基、n−プロポキシカルボ
ニルオキシメトキシ基、i−プロポキシカルボニルオキ
シメトキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシメトキシ
基、t−ブトキシカルボニルオキシメトキシ基等の炭素
数2〜15のアルコキシカルボニルオキシアルコキシ基
等、少なくとも末端にアルコキシ基を有する基が挙げら
れる。中でも、少くとも末端にアルコキシ基を有する基
が好ましい。
えば、メトキシ基、エトキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基等の炭素数1〜15のアルコキシ基、メト
キシメトキシ基、ジメトキシメトキシ基、エトキシメト
キシ基、1−メトキシエトキシ基、1−エトキシエトキ
シ基、1−プロポキシエトキシ基、1−t−ブトキシエ
トキシ基、1−シクロヘキシルオキシエトキシ基、1−
エトキシプロポキシ基等の炭素数2〜15のアルコキシ
アルコキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ
基、i−プロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシ
カルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基
等の2〜15のアルコキシカルボニルオキシ基、エトキ
シカルボニルオキシメトキシ基、n−プロポキシカルボ
ニルオキシメトキシ基、i−プロポキシカルボニルオキ
シメトキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシメトキシ
基、t−ブトキシカルボニルオキシメトキシ基等の炭素
数2〜15のアルコキシカルボニルオキシアルコキシ基
等、少なくとも末端にアルコキシ基を有する基が挙げら
れる。中でも、少くとも末端にアルコキシ基を有する基
が好ましい。
【0129】尚、前記酸分解性基を含有する重合体とし
ては、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂等のフェ
ノール樹脂、及びポリビニルフェノール樹脂等のフェノ
ール性水酸基含有樹脂のフェノール性水酸基の少なくと
も一部をエーテル化或いはエステル化して前記酸分解性
基を導入した樹脂が好ましいものとして挙げられる。中
で、本発明においては、ポリビニルフェノール樹脂又は
ノボラック樹脂に前記酸分解性基を導入した樹脂が更に
好ましく、ポリビニルフェノール樹脂に前記酸分解性基
を導入した樹脂が特に好ましい。
ては、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂等のフェ
ノール樹脂、及びポリビニルフェノール樹脂等のフェノ
ール性水酸基含有樹脂のフェノール性水酸基の少なくと
も一部をエーテル化或いはエステル化して前記酸分解性
基を導入した樹脂が好ましいものとして挙げられる。中
で、本発明においては、ポリビニルフェノール樹脂又は
ノボラック樹脂に前記酸分解性基を導入した樹脂が更に
好ましく、ポリビニルフェノール樹脂に前記酸分解性基
を導入した樹脂が特に好ましい。
【0130】ここで、ノボラック樹脂は、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、
o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エ
チルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェ
ノール、t−ブチルフェノール、1−ナフトール、2−
ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイド
ロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオ
ール、フロログルシノール、4,4’−ビフェニルジオ
ール、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロ
パン等のフェノール類の少なくとも1種を、酸触媒下、
例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等の
アルデヒド類(尚、ホルムアルデヒドに代えてパラホル
ムアルデヒドを、アセトアルデヒドに代えてパラアルデ
ヒドを、用いてもよい。)、又は、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、の
少なくとも1種と重縮合させた樹脂であり、又、レゾー
ル樹脂は、ノボラック樹脂の重縮合における酸触媒に代
えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮合させ
た樹脂である。これらのノボラック樹脂及びレゾール樹
脂は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定に
よるポリスチレン換算の重量平均分子量が、1,000
〜15,000のものが好ましく、1,500〜10,
000のものが特に好ましい。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、
o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エ
チルフェノール、プロピルフェノール、n−ブチルフェ
ノール、t−ブチルフェノール、1−ナフトール、2−
ナフトール、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイド
ロキノン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオ
ール、フロログルシノール、4,4’−ビフェニルジオ
ール、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)プロ
パン等のフェノール類の少なくとも1種を、酸触媒下、
例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピ
オンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等の
アルデヒド類(尚、ホルムアルデヒドに代えてパラホル
ムアルデヒドを、アセトアルデヒドに代えてパラアルデ
ヒドを、用いてもよい。)、又は、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、の
少なくとも1種と重縮合させた樹脂であり、又、レゾー
ル樹脂は、ノボラック樹脂の重縮合における酸触媒に代
えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮合させ
た樹脂である。これらのノボラック樹脂及びレゾール樹
脂は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定に
よるポリスチレン換算の重量平均分子量が、1,000
〜15,000のものが好ましく、1,500〜10,
000のものが特に好ましい。
【0131】又、ポリビニルフェノール樹脂は、例え
ば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェ
ニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレン
等のヒドロキシスチレン類(尚、これらは、ベンゼン環
に塩素、臭素、沃素、弗素等のハロゲン原子、或いは炭
素数1〜4のアルキル基を置換基として有していてもよ
い。)の単独又は2種以上を、ラジカル重合開始剤又は
カチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂である。
これらのポリビニルフェノール樹脂は、ポリスチレン換
算の重量平均分子量が、1,000〜100,000の
ものが好ましく、1,500〜50,000のものが特
に好ましい。
ば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェ
ニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレン
等のヒドロキシスチレン類(尚、これらは、ベンゼン環
に塩素、臭素、沃素、弗素等のハロゲン原子、或いは炭
素数1〜4のアルキル基を置換基として有していてもよ
い。)の単独又は2種以上を、ラジカル重合開始剤又は
カチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂である。
これらのポリビニルフェノール樹脂は、ポリスチレン換
算の重量平均分子量が、1,000〜100,000の
ものが好ましく、1,500〜50,000のものが特
に好ましい。
【0132】又、前記酸分解性基を含有する重合体とし
て、例えば、カルボキシル基含有ビニル系樹脂のカルボ
キシル基の少なくとも一部をエステル化して前記酸分解
性基を導入した樹脂を好ましいものとして挙げることが
できる。そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂として
は、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、
シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−
メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル(メタ)
アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アク
リレート、ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリシジル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリ
ン、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミ
ド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−
ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビ
ニル化合物との共重合体等が挙げられ、これらのカルボ
キシル基含有ビニル系樹脂は、ポリスチレン換算の重量
平均分子量が1,000〜300,000であるのが好
ましい。また、バイオレットレーザー用のポジ型感光性
組成物中には、o−キノンジアジド系化合物を含有する
のが好ましい。
て、例えば、カルボキシル基含有ビニル系樹脂のカルボ
キシル基の少なくとも一部をエステル化して前記酸分解
性基を導入した樹脂を好ましいものとして挙げることが
できる。そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂として
は、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、
シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−
メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル(メタ)
アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アク
リレート、ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリシジル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリ
ン、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミ
ド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−
ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビ
ニル化合物との共重合体等が挙げられ、これらのカルボ
キシル基含有ビニル系樹脂は、ポリスチレン換算の重量
平均分子量が1,000〜300,000であるのが好
ましい。また、バイオレットレーザー用のポジ型感光性
組成物中には、o−キノンジアジド系化合物を含有する
のが好ましい。
【0133】又、本発明におけるポジ型感光性組成物を
構成する(P−2)成分の光酸発生剤は、感光性組成物
が活性光線の照射を受けたときに、酸を生成する化合物
であって、例えば、ハロゲン置換アルカン、ハロメチル
化s−トリアジン誘導体等のハロゲン含有化合物類、オ
ニウム塩類、及びスルホン化合物類等が好ましいものと
して挙げられ、中で、本発明においては、ハロメチル化
s−トリアジン誘導体が特に好ましい。
構成する(P−2)成分の光酸発生剤は、感光性組成物
が活性光線の照射を受けたときに、酸を生成する化合物
であって、例えば、ハロゲン置換アルカン、ハロメチル
化s−トリアジン誘導体等のハロゲン含有化合物類、オ
ニウム塩類、及びスルホン化合物類等が好ましいものと
して挙げられ、中で、本発明においては、ハロメチル化
s−トリアジン誘導体が特に好ましい。
【0134】ここで、そのハロゲン含有化合物類の中で
ハロゲン置換アルカンとしては、具体的には、例えば、
ジクロロメタン、トリクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、1,2−ジブロモエタン等が挙げられる。
ハロゲン置換アルカンとしては、具体的には、例えば、
ジクロロメタン、トリクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、1,2−ジブロモエタン等が挙げられる。
【0135】又、そのハロゲン含有化合物類の中でハロ
メチル化s−トリアジン誘導体としては、具体的には、
例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s
−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)
−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−n−プロ
ピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フ
ェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4
−エポキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジ
エニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−メトキシナフチル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−エトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(p−エトキシカルボ
ニルナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリ
アジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s
−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモ
メチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビ
ス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げら
れ、中で、ビス(トリハロメチル)−s−トリアジンが
好ましく、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブ
タジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチリル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p
−i−プロピルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン等が特に好ましい。
メチル化s−トリアジン誘導体としては、具体的には、
例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s
−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)
−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−n−プロ
ピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フ
ェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4
−エポキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジ
エニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(p−メトキシナフチル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−エトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−(p−エトキシカルボ
ニルナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリ
アジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s
−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモ
メチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビ
ス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げら
れ、中で、ビス(トリハロメチル)−s−トリアジンが
好ましく、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブ
タジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチリル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p
−i−プロピルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン等が特に好ましい。
【0136】又、そのオニウム塩類としては、テトラメ
チルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウ
ムブロマイド等のアンモニウム塩、ジフェニルヨードニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム
p−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカ
ンファースルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウム
ヘキサフルオロアルセネート、ジシクロヘキシルヨード
ニウムテトラフルオロボレート、ジシクロヘキシルヨー
ドニウムp−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシル
ヨードニウムカンファースルホネート等のヨードニウム
塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネー
ト、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネー
ト、トリシクロヘキシルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリシクロヘキシルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、トリシクロヘキシルスルホニウムp−
トルエンスルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウ
ムカンファースルホネート等のスルホニウム塩等が挙げ
られる。
チルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウ
ムブロマイド等のアンモニウム塩、ジフェニルヨードニ
ウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム
p−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカ
ンファースルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウム
ヘキサフルオロアルセネート、ジシクロヘキシルヨード
ニウムテトラフルオロボレート、ジシクロヘキシルヨー
ドニウムp−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシル
ヨードニウムカンファースルホネート等のヨードニウム
塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネー
ト、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネー
ト、トリシクロヘキシルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリシクロヘキシルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、トリシクロヘキシルスルホニウムp−
トルエンスルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウ
ムカンファースルホネート等のスルホニウム塩等が挙げ
られる。
【0137】又、スルホン化合物類としては、具体的に
は、例えば、ビス(フェニルスルホニル)メタン、ビス
(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)メタン、ビス
(p−メトキシフェニルスルホニル)メタン、ビス(α
−ナフチルスルホニル)メタン、ビス(β−ナフチルス
ルホニル)メタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)
メタン、ビス(t−ブチルスルホニル)メタン、フェニ
ルスルホニル(シクロヘキシルスルホニル)メタン等の
ビス(スルホニル)メタン化合物、フェニルカルボニル
(フェニルスルホニル)メタン、ナフチルカルボニル
(フェニルスルホニル)メタン、フェニルカルボニル
(ナフチルスルホニル)メタン、シクロヘキシルカルボ
ニル(フェニルスルホニル)メタン、t−ブチルカルボ
ニル(フェニルスルホニル)メタン、フェニルカルボニ
ル(シクロヘキシルスルホニル)メタン、フェニルカル
ボニル(t−ブチルカルボニル)メタン等のカルボニル
(スルホニル)メタン化合物、ビス(フェニルスルホニ
ル)ジアゾメタン、ビス(p−ヒドロキシフェニルスル
ホニル)ジアゾメタン、ビス(p−メトキシフェニルス
ルホニル)ジアゾメタン、ビス(α−ナフチルスルホニ
ル)ジアゾメタン、ビス(β−ナフチルスルホニル)ジ
アゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾ
メタン、ビス(t−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、
フェニルスルホニル(シクロヘキシルスルホニル)ジア
ゾメタン、ビス(スルホニル)ジアゾメタン化合物、フ
ェニルカルボニル(フェニルスルホニル)ジアゾメタ
ン、ナフチルカルボニル(フェニルスルホニル)ジアゾ
メタン、フェニルカルボニル(ナフチルスルホニル)ジ
アゾメタン、シクロヘキシルカルボニル(フェニルスル
ホニル)ジアゾメタン、t−ブチルカルボニル(フェニ
ルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルカルボニル(シ
クロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルカル
ボニル(t−ブチルカルボニル)ジアゾメタン等のカル
ボニル(スルホニル)ジアゾメタン化合物等が挙げられ
る。
は、例えば、ビス(フェニルスルホニル)メタン、ビス
(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)メタン、ビス
(p−メトキシフェニルスルホニル)メタン、ビス(α
−ナフチルスルホニル)メタン、ビス(β−ナフチルス
ルホニル)メタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)
メタン、ビス(t−ブチルスルホニル)メタン、フェニ
ルスルホニル(シクロヘキシルスルホニル)メタン等の
ビス(スルホニル)メタン化合物、フェニルカルボニル
(フェニルスルホニル)メタン、ナフチルカルボニル
(フェニルスルホニル)メタン、フェニルカルボニル
(ナフチルスルホニル)メタン、シクロヘキシルカルボ
ニル(フェニルスルホニル)メタン、t−ブチルカルボ
ニル(フェニルスルホニル)メタン、フェニルカルボニ
ル(シクロヘキシルスルホニル)メタン、フェニルカル
ボニル(t−ブチルカルボニル)メタン等のカルボニル
(スルホニル)メタン化合物、ビス(フェニルスルホニ
ル)ジアゾメタン、ビス(p−ヒドロキシフェニルスル
ホニル)ジアゾメタン、ビス(p−メトキシフェニルス
ルホニル)ジアゾメタン、ビス(α−ナフチルスルホニ
ル)ジアゾメタン、ビス(β−ナフチルスルホニル)ジ
アゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾ
メタン、ビス(t−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、
フェニルスルホニル(シクロヘキシルスルホニル)ジア
ゾメタン、ビス(スルホニル)ジアゾメタン化合物、フ
ェニルカルボニル(フェニルスルホニル)ジアゾメタ
ン、ナフチルカルボニル(フェニルスルホニル)ジアゾ
メタン、フェニルカルボニル(ナフチルスルホニル)ジ
アゾメタン、シクロヘキシルカルボニル(フェニルスル
ホニル)ジアゾメタン、t−ブチルカルボニル(フェニ
ルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルカルボニル(シ
クロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルカル
ボニル(t−ブチルカルボニル)ジアゾメタン等のカル
ボニル(スルホニル)ジアゾメタン化合物等が挙げられ
る。
【0138】本発明において、前記ポジ型感光性組成物
における前記(P−1)成分の酸分解性基含有重合体、
及び前記(P−2)成分の光酸発生剤の各含有割合は、
(P−1)成分の酸分解性基含有重合体100重量部に
対して、(P−2)成分の光酸発生剤は、1〜50重量
部であるのが好ましく、5〜30重量部であるのが更に
好ましい。
における前記(P−1)成分の酸分解性基含有重合体、
及び前記(P−2)成分の光酸発生剤の各含有割合は、
(P−1)成分の酸分解性基含有重合体100重量部に
対して、(P−2)成分の光酸発生剤は、1〜50重量
部であるのが好ましく、5〜30重量部であるのが更に
好ましい。
【0139】又、前記ポジ型感光性組成物は、感光性レ
ジスト剤層としての感度等の向上を目的として、増感剤
(P−3)成分を含有していてもよく、その増感剤とし
ては、前記ネガ型感光性組成物の(N−2)成分の増感
剤として挙げたと同様の光吸収色素を挙げることがで
き、その含有割合は、前記(P−1)成分の酸分解性基
含有重合体100重量部に対して、1〜30重量部であ
るのが好ましく、5〜20重量部であるのが更に好まし
い。
ジスト剤層としての感度等の向上を目的として、増感剤
(P−3)成分を含有していてもよく、その増感剤とし
ては、前記ネガ型感光性組成物の(N−2)成分の増感
剤として挙げたと同様の光吸収色素を挙げることがで
き、その含有割合は、前記(P−1)成分の酸分解性基
含有重合体100重量部に対して、1〜30重量部であ
るのが好ましく、5〜20重量部であるのが更に好まし
い。
【0140】又、前記ポジ型感光性組成物は、基板上へ
の感光性レジスト材層形成時の塗布性、及び感光性レジ
スト材層の現像性等の向上を目的として、ノニオン性、
アニオン性、カチオン性、両性、及び弗素系等の界面活
性剤(P−4)成分を含有していてもよく、その界面活
性剤としては、前記ネガ型感光性組成物の(N−7)成
分の界面活性剤として挙げたと同様のものを挙げること
ができ、その含有割合は、前記(P−1)成分の酸分解
性基含有重合体100重量部に対して、0.1〜10重
量部であるのが好ましく、1〜5重量部であるのが更に
好ましい。
の感光性レジスト材層形成時の塗布性、及び感光性レジ
スト材層の現像性等の向上を目的として、ノニオン性、
アニオン性、カチオン性、両性、及び弗素系等の界面活
性剤(P−4)成分を含有していてもよく、その界面活
性剤としては、前記ネガ型感光性組成物の(N−7)成
分の界面活性剤として挙げたと同様のものを挙げること
ができ、その含有割合は、前記(P−1)成分の酸分解
性基含有重合体100重量部に対して、0.1〜10重
量部であるのが好ましく、1〜5重量部であるのが更に
好ましい。
【0141】又、本発明における前記ポジ型感光性組成
物は、更に、各種添加剤、例えば、有機又は無機の染顔
料からなる着色剤、塗布性改良剤、密着性改良剤、感度
改良剤、感脂化剤等を、前記(P−1)成分の酸分解性
基含有重合体100重量部に対して10重量部以下の範
囲で含有していてもよい。
物は、更に、各種添加剤、例えば、有機又は無機の染顔
料からなる着色剤、塗布性改良剤、密着性改良剤、感度
改良剤、感脂化剤等を、前記(P−1)成分の酸分解性
基含有重合体100重量部に対して10重量部以下の範
囲で含有していてもよい。
【0142】本発明において、前記感光性組成物は、通
常、前記各成分を適当な溶剤に溶解させた溶液或いは分
散させた分散液として、前記アルミニウム支持体表面に
塗布した後、加熱、乾燥させることにより、アルミニウ
ム支持体表面に前記感光性組成物からなる感光性層が形
成された感光性平版印刷版とされる。
常、前記各成分を適当な溶剤に溶解させた溶液或いは分
散させた分散液として、前記アルミニウム支持体表面に
塗布した後、加熱、乾燥させることにより、アルミニウ
ム支持体表面に前記感光性組成物からなる感光性層が形
成された感光性平版印刷版とされる。
【0143】その溶剤としては、使用成分に対して十分
な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特
に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプ
ロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、
酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピル
ビン酸エチル、エチル−2−ヒドロキシブチレート、エ
チルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、3−
メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ヘプ
タノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フル
フリルアルコール等のアルコール系溶剤、シクロヘキサ
ノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶剤、更に
はこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられ
る。溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、
通常、重量比で1〜20倍程度の範囲である。
な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特
に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプ
ロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、
酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピル
ビン酸エチル、エチル−2−ヒドロキシブチレート、エ
チルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、3−
メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ヘプ
タノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フル
フリルアルコール等のアルコール系溶剤、シクロヘキサ
ノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶剤、更に
はこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられ
る。溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、
通常、重量比で1〜20倍程度の範囲である。
【0144】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、通常、0.3〜7μ
m、好ましくは0.5〜5μm、特に好ましくは1〜3
μmの範囲である。尚、その際の乾燥温度としては、例
えば、60〜170℃程度、好ましくは70〜150℃
程度、乾燥時間としては、例えば、5秒〜10分間程
度、好ましくは10秒〜5分間程度が採られる。ここ
で、感光層の乾燥方法としては、光強度密度100W/
cm2以下、好ましくは50W/cm2以下、更に好まし
くは10W/cm2以下の近赤外光(700〜1300
nm)を0.1秒以上照射して乾燥する方法を用いるの
が感光層のみを均一に乾燥できるという点で好ましい。
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚として、通常、0.3〜7μ
m、好ましくは0.5〜5μm、特に好ましくは1〜3
μmの範囲である。尚、その際の乾燥温度としては、例
えば、60〜170℃程度、好ましくは70〜150℃
程度、乾燥時間としては、例えば、5秒〜10分間程
度、好ましくは10秒〜5分間程度が採られる。ここ
で、感光層の乾燥方法としては、光強度密度100W/
cm2以下、好ましくは50W/cm2以下、更に好まし
くは10W/cm2以下の近赤外光(700〜1300
nm)を0.1秒以上照射して乾燥する方法を用いるの
が感光層のみを均一に乾燥できるという点で好ましい。
【0145】尚、本発明において、ネガ型感光性平版印
刷版においては、前述の如くして前記アルミニウム板支
持体表面に形成された前記感光性組成物の感光性層上
に、光重合性の組成物の酸素による重合禁止作用を防止
するための酸素遮断層が形成されていてもよい。
刷版においては、前述の如くして前記アルミニウム板支
持体表面に形成された前記感光性組成物の感光性層上
に、光重合性の組成物の酸素による重合禁止作用を防止
するための酸素遮断層が形成されていてもよい。
【0146】その酸素遮断層を構成するものとしては、
水、又は、水と、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソノニルアルコール等のアルコールやテトラヒド
ロフラン等の水混和性有機溶剤との混合溶剤に可溶の水
溶性高分子であって、具体的には、例えば、ポリビニル
アルコール、及びその部分アセタール化物、4級アンモ
ニウム塩等によるそのカチオン変性物、スルホン酸ナト
リウム等によるそのアニオン変性物等の誘導体、ポリピ
ニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げ
られる。
水、又は、水と、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソノニルアルコール等のアルコールやテトラヒド
ロフラン等の水混和性有機溶剤との混合溶剤に可溶の水
溶性高分子であって、具体的には、例えば、ポリビニル
アルコール、及びその部分アセタール化物、4級アンモ
ニウム塩等によるそのカチオン変性物、スルホン酸ナト
リウム等によるそのアニオン変性物等の誘導体、ポリピ
ニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げ
られる。
【0147】それらの中で、酸素遮断性等の面からポリ
ビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、又、その
鹸化度が、70モル%以上、更には80モル%以上で、
その重量平均分子量が、0.2〜50万、更には0.4
〜10万であるものが好ましい。
ビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、又、その
鹸化度が、70モル%以上、更には80モル%以上で、
その重量平均分子量が、0.2〜50万、更には0.4
〜10万であるものが好ましい。
【0148】又、その酸素遮断層としては、ポリビニル
アルコール及びその誘導体の含有割合が30重量%以上
であるのが好ましく、40〜100重量%であるのが更
に好ましい。又、感光性層との密着性等の面から、ポリ
ビニルピロリドンやビニルピロリドン−酢酸ビニル共重
合体等のビニルピロリドン系重合体、アクリル系重合体
エマルジョン、ジイソシアネート化合物、p−トルエン
スルホン酸、ヒドロキシ酢酸等を含有するのが好まし
く、それらの中でビニルピロリドン系重合体が好まし
く、本発明における酸素遮断層としては、ビニルピロリ
ドン系重合体の含有割合が0.1〜70重量%であるの
が好ましく、5〜60重量%であるのが更に好ましい。
アルコール及びその誘導体の含有割合が30重量%以上
であるのが好ましく、40〜100重量%であるのが更
に好ましい。又、感光性層との密着性等の面から、ポリ
ビニルピロリドンやビニルピロリドン−酢酸ビニル共重
合体等のビニルピロリドン系重合体、アクリル系重合体
エマルジョン、ジイソシアネート化合物、p−トルエン
スルホン酸、ヒドロキシ酢酸等を含有するのが好まし
く、それらの中でビニルピロリドン系重合体が好まし
く、本発明における酸素遮断層としては、ビニルピロリ
ドン系重合体の含有割合が0.1〜70重量%であるの
が好ましく、5〜60重量%であるのが更に好ましい。
【0149】更に又、酸素遮断層としては、保存性付与
等の面から、琥珀酸等の有機酸やエチレンジアミンテト
ラ酢酸等の有機酸塩等を含有するのが好ましく、又、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のノニオ
ン性、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアニ
オン性、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド等
のカチオン性等の界面活性剤、消泡剤、色素、可塑剤、
pH調整剤等を含有していてもよく、それらの合計含有
割合は、10重量%以下であるのが好ましく、5重量%
以下であるのが更に好ましい。
等の面から、琥珀酸等の有機酸やエチレンジアミンテト
ラ酢酸等の有機酸塩等を含有するのが好ましく、又、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のノニオ
ン性、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアニ
オン性、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド等
のカチオン性等の界面活性剤、消泡剤、色素、可塑剤、
pH調整剤等を含有していてもよく、それらの合計含有
割合は、10重量%以下であるのが好ましく、5重量%
以下であるのが更に好ましい。
【0150】前記酸素遮断層は、水又は水と水混和性有
機溶剤との混合溶剤の溶液として、前述の感光性層と同
様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥膜厚
として、1〜10g/m2 の範囲とするのが好ましく、
1.5〜7g/m2 の範囲とするのが更に好ましい。
機溶剤との混合溶剤の溶液として、前述の感光性層と同
様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥膜厚
として、1〜10g/m2 の範囲とするのが好ましく、
1.5〜7g/m2 の範囲とするのが更に好ましい。
【0151】そして、前記感光性組成物からなる感光性
層を支持体表面に有する前記感光性平版印刷版の該感光
性層を、レーザー光源により走査露光した後、アルカリ
現像液で現像処理することにより画像を現出させた平版
印刷版とされる。
層を支持体表面に有する前記感光性平版印刷版の該感光
性層を、レーザー光源により走査露光した後、アルカリ
現像液で現像処理することにより画像を現出させた平版
印刷版とされる。
【0152】ここで、レーザー露光光源としては、例え
ば、HeNeレーザー、アルゴンイオンレーザー、YA
Gレーザー、HeCdレーザー、半導体レーザー、ルビ
ーレーザー等が挙げられるが、特に、波長域400〜4
20nmの青紫外領域のレーザー光を発生する光源、又
は、波長域600〜1,300nmの近赤外領域のレー
ザー光を発生する光源が好ましく、特に限定されるもの
ではないが、具体的には、前者波長域においては410
nmを発振する窒化インジウムガリウム半導体レーザ
ー、後者波長域においては830nmを発振する半導体
レーザー、1064nmを発振するYAGレーザー等が
挙げられる。
ば、HeNeレーザー、アルゴンイオンレーザー、YA
Gレーザー、HeCdレーザー、半導体レーザー、ルビ
ーレーザー等が挙げられるが、特に、波長域400〜4
20nmの青紫外領域のレーザー光を発生する光源、又
は、波長域600〜1,300nmの近赤外領域のレー
ザー光を発生する光源が好ましく、特に限定されるもの
ではないが、具体的には、前者波長域においては410
nmを発振する窒化インジウムガリウム半導体レーザ
ー、後者波長域においては830nmを発振する半導体
レーザー、1064nmを発振するYAGレーザー等が
挙げられる。
【0153】又、その走査露光方法も、特に限定される
ものではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラ
ム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げら
れ、レーザーの出力光強度を、前者波長域においては通
常1〜100mW、好ましくは3〜70mW、後者波長
域においては通常0.1〜100W、好ましくは0.5
〜70Wとし、ビームスポット径を、前者波長域及び後
者波長域共、通常2〜30μm、好ましくは4〜20μ
mとし、走査速度を、前者波長域においては通常50〜
500m/秒、好ましくは100〜400m/秒、後者
波長域においては通常0.1〜500m/秒、好ましく
は0.3〜400m/秒として、感光性層上でのレーザ
ー露光量が、前者波長域においては通常1〜100μJ
/cm2 以下、好ましくは5〜50μJ/cm2 以下と
なるように、後者波長域においては通常1〜200mJ
/cm2 以下、好ましくは5〜150mJ/cm2 以下
となるようにして走査露光する。
ものではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラ
ム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げら
れ、レーザーの出力光強度を、前者波長域においては通
常1〜100mW、好ましくは3〜70mW、後者波長
域においては通常0.1〜100W、好ましくは0.5
〜70Wとし、ビームスポット径を、前者波長域及び後
者波長域共、通常2〜30μm、好ましくは4〜20μ
mとし、走査速度を、前者波長域においては通常50〜
500m/秒、好ましくは100〜400m/秒、後者
波長域においては通常0.1〜500m/秒、好ましく
は0.3〜400m/秒として、感光性層上でのレーザ
ー露光量が、前者波長域においては通常1〜100μJ
/cm2 以下、好ましくは5〜50μJ/cm2 以下と
なるように、後者波長域においては通常1〜200mJ
/cm2 以下、好ましくは5〜150mJ/cm2 以下
となるようにして走査露光する。
【0154】本発明において青紫色レーザー用の感光性
層を有する平版印刷版は、支持体上に青紫色レーザー用
感光性層を有するものであって、その感光性層が390
〜430nmの波長域に分光感度の極大ピークを有する
ことを必須とし、400〜420nmの波長域に分光感
度の極大ピークを有するのが好ましい。分光感度の極大
ピークを前記範囲未満の波長域に有する場合には、感光
性層として波長390〜430nmのレーザー光に対す
る感度が劣る傾向があり、一方、前記範囲超過の波長域
に有する場合には、黄色灯下でのセーフライト性が劣る
傾向がある。
層を有する平版印刷版は、支持体上に青紫色レーザー用
感光性層を有するものであって、その感光性層が390
〜430nmの波長域に分光感度の極大ピークを有する
ことを必須とし、400〜420nmの波長域に分光感
度の極大ピークを有するのが好ましい。分光感度の極大
ピークを前記範囲未満の波長域に有する場合には、感光
性層として波長390〜430nmのレーザー光に対す
る感度が劣る傾向があり、一方、前記範囲超過の波長域
に有する場合には、黄色灯下でのセーフライト性が劣る
傾向がある。
【0155】尚、本発明において、分光感度の極大ピー
クとは、例えば、「フォトポリマー・テクノロジー」
(山岡亜夫著、昭和63年日刊工業新聞社発行、第26
2頁)等に詳述されているように、基板表面に感光性層
を形成した感光性画像形成材試料を、分光感度測定装置
を用い、キセノンランプ又はタングステンランプ等の光
源から分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、
縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して
照射して露光した後、現像処理することにより、各露光
波長の感度に応じた画像が得られ、その画像高さから画
像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦
軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることによ
り得られる分光感度曲線における極大ピークを指す。
クとは、例えば、「フォトポリマー・テクノロジー」
(山岡亜夫著、昭和63年日刊工業新聞社発行、第26
2頁)等に詳述されているように、基板表面に感光性層
を形成した感光性画像形成材試料を、分光感度測定装置
を用い、キセノンランプ又はタングステンランプ等の光
源から分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、
縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して
照射して露光した後、現像処理することにより、各露光
波長の感度に応じた画像が得られ、その画像高さから画
像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦
軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることによ
り得られる分光感度曲線における極大ピークを指す。
【0156】又、本発明の青紫色レーザー用感光性層を
有する平版印刷版における感光性層は、その感光性層の
上に保護層を有する場合、波長410nmにおける画像
形成可能な最小露光量〔S410 〕が200μJ/cm2
以下であることが必須であり、100μJ/cm2 以下
であるのが好ましく、50μJ/cm2 以下であるのが
更に好ましい。この最小露光量〔S410 〕が前記範囲超
過では、レーザー光源の露光強度にもよるが、露光時間
が長くなって実用性が低下する傾向にある。
有する平版印刷版における感光性層は、その感光性層の
上に保護層を有する場合、波長410nmにおける画像
形成可能な最小露光量〔S410 〕が200μJ/cm2
以下であることが必須であり、100μJ/cm2 以下
であるのが好ましく、50μJ/cm2 以下であるのが
更に好ましい。この最小露光量〔S410 〕が前記範囲超
過では、レーザー光源の露光強度にもよるが、露光時間
が長くなって実用性が低下する傾向にある。
【0157】又、本発明の青紫色レーザー用感光性層を
有する平版印刷版における感光性層は、その感光性層の
上に保護層を有さない場合、波長410nmにおける画
像形成可能な最小露光量〔S410 〕が10,000μJ
/cm2 以下であることが必須であり、5,000μJ
/cm2 以下であるのが好ましく、2,000μJ/c
m2 以下であるのが更に好ましい。この最小露光量〔S
410 〕が前記範囲超過では、レーザー光源の露光強度に
もよるが、露光時間が長くなって実用性が低下する傾向
にある。
有する平版印刷版における感光性層は、その感光性層の
上に保護層を有さない場合、波長410nmにおける画
像形成可能な最小露光量〔S410 〕が10,000μJ
/cm2 以下であることが必須であり、5,000μJ
/cm2 以下であるのが好ましく、2,000μJ/c
m2 以下であるのが更に好ましい。この最小露光量〔S
410 〕が前記範囲超過では、レーザー光源の露光強度に
もよるが、露光時間が長くなって実用性が低下する傾向
にある。
【0158】尚、この最小露光量〔S410 〕の好ましい
下限は小さい程好ましいが、感光性レジスト材層の上に
保護層を有する場合であっても有さない場合であって
も、通常1μJ/cm2 以上であり、実用的には2.5
μJ/cm2 以上であるのがよい。
下限は小さい程好ましいが、感光性レジスト材層の上に
保護層を有する場合であっても有さない場合であって
も、通常1μJ/cm2 以上であり、実用的には2.5
μJ/cm2 以上であるのがよい。
【0159】又、前記レーザー走査露光後の現像処理
は、アルカリ現像液を用いてなされ、そのアルカリ現像
液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、
珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナ
トリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウ
ム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム
等の無機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、モノブチルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノール
アミン等の有機アミン化合物の0.1〜5重量%程度の
水溶液からなる現像液が用いられる。また、この他に
も、シリコーン類を現像液中に含有させることも効果的
である。シリコーン類としてはシロキサン結合を骨格と
し、具体的には、例えば、ジメチルポリシロキサン又は
そのメチル基の一部が水素又はフェニル基で置換された
主鎖を持つシリコーン油、シリコーン樹脂の中で、溶液
型、エマルジョン型、及びコンパウンド型として用いら
れているシリコーン油が好ましく、中でも、消泡剤とし
て用いられるものが好ましく、更に、ジメチルポリシロ
キサンとポリアルキレンオキシドとの共重合体の様な自
己乳化型の親水性基を有するものが特に好ましい。
は、アルカリ現像液を用いてなされ、そのアルカリ現像
液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、
珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナ
トリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウ
ム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム
等の無機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、モノブチルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノール
アミン等の有機アミン化合物の0.1〜5重量%程度の
水溶液からなる現像液が用いられる。また、この他に
も、シリコーン類を現像液中に含有させることも効果的
である。シリコーン類としてはシロキサン結合を骨格と
し、具体的には、例えば、ジメチルポリシロキサン又は
そのメチル基の一部が水素又はフェニル基で置換された
主鎖を持つシリコーン油、シリコーン樹脂の中で、溶液
型、エマルジョン型、及びコンパウンド型として用いら
れているシリコーン油が好ましく、中でも、消泡剤とし
て用いられるものが好ましく、更に、ジメチルポリシロ
キサンとポリアルキレンオキシドとの共重合体の様な自
己乳化型の親水性基を有するものが特に好ましい。
【0160】中で、特にポジ型平版印刷版におけるアル
カリ現像液としては、無機アルカリ塩である珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属の珪酸塩が好まし
く、そのアルカリ金属の珪酸塩が、二酸化珪素としての
含有量で0.1〜5重量%であり、且つ、アルカリ金属
のモル濃度(〔M〕)に対する二酸化珪素のモル濃度
(〔SiO2 〕)の比(〔SiO2 〕/〔M〕)で0.
1〜1.5であるのが好ましく、二酸化珪素としての含
有量で0.2〜3重量%であり、且つ、アルカリ金属の
モル濃度に対する二酸化珪素のモル濃度の比で0.2〜
1.0であるのが特に好ましい。
カリ現像液としては、無機アルカリ塩である珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属の珪酸塩が好まし
く、そのアルカリ金属の珪酸塩が、二酸化珪素としての
含有量で0.1〜5重量%であり、且つ、アルカリ金属
のモル濃度(〔M〕)に対する二酸化珪素のモル濃度
(〔SiO2 〕)の比(〔SiO2 〕/〔M〕)で0.
1〜1.5であるのが好ましく、二酸化珪素としての含
有量で0.2〜3重量%であり、且つ、アルカリ金属の
モル濃度に対する二酸化珪素のモル濃度の比で0.2〜
1.0であるのが特に好ましい。
【0161】又、前記アルカリ現像液には、現像条件の
幅を安定して広げ得る等の点から、ノニオン性、アニオ
ン性、カチオン性、或いは両性の界面活性剤を含有させ
るのが好ましい。
幅を安定して広げ得る等の点から、ノニオン性、アニオ
ン性、カチオン性、或いは両性の界面活性剤を含有させ
るのが好ましい。
【0162】ここで、そのノニオン性界面活性剤として
は、具体的には、例えば、セタノール、ステアリルアル
コール、ベヘニルアルコール、エチレングリコール、グ
リセリン等のアルコール類、ポリエチレングリコール、
ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールブロ
ックコポリマー等のポリエチレングリコール類、ポリエ
チレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールオレ
イルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテ
ル等のポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポ
リエチレングリコールポリプロピレングリコールセチル
エーテル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリ
コールデシルテトラデシルエーテル等のポリエチレング
リコールポリプロピレングリコールアルキルエーテル
類、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテ
ル、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル等
のポリエチレングリコールアルキルフェニルエーテル
類、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリ
ン酸エチレングリコール、ステアリン酸ジエチレングリ
コール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノ
ラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸
ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレン
グリコール等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、モノミリスチン酸グリセリル、モノステアリン酸グ
リセリル、モノイソステアリン酸グリセリル、ジステア
リン酸グリセリル、モノオレイン酸グリセリル、ジオレ
イン酸グリセリル等のグリセリン脂肪酸エステル類、及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセリ
ン脂肪酸エステル類、モノステアリン酸ペンタエリスリ
ット、トリステアリン酸ペンタエリスリット、モノオレ
イン酸ペンタエリスリット、トリオレイン酸ペンタエリ
スリット等のペンタエリスリット脂肪酸エステル類、及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノパルミチ
ン酸ソルビタン、モノステアリン酸ソルビタン、トリス
テアリン酸ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン、ト
リオレイン酸ソルビタン等のソルビタン脂肪酸エステル
類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノラ
ウリン酸ソルビット、テトラステアリン酸ソルビット、
ヘキサステアリン酸ソルビット、テトラオレイン酸ソル
ビット等のソルビット脂肪酸エステル類、及びそのポリ
エチレンオキサイド付加物類、ポリエチレングリコール
アルキルアミン類、ポリエチレングリコールアルキルア
ミノエーテル類、ヒマシ油のポリエチレンオキサイド付
加物類、ラノリンのポリエチレンオキサイド付加物類等
を挙げることができる。中で、アルコール類、ポリエチ
レングリコールポリプロピレングリコールアルキルエー
テル類、ポリエチレングリコールアルキルフェニルエー
テル類が好ましい。
は、具体的には、例えば、セタノール、ステアリルアル
コール、ベヘニルアルコール、エチレングリコール、グ
リセリン等のアルコール類、ポリエチレングリコール、
ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールブロ
ックコポリマー等のポリエチレングリコール類、ポリエ
チレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールオレ
イルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテ
ル等のポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポ
リエチレングリコールポリプロピレングリコールセチル
エーテル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリ
コールデシルテトラデシルエーテル等のポリエチレング
リコールポリプロピレングリコールアルキルエーテル
類、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテ
ル、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル等
のポリエチレングリコールアルキルフェニルエーテル
類、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリ
ン酸エチレングリコール、ステアリン酸ジエチレングリ
コール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノ
ラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸
ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレン
グリコール等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、モノミリスチン酸グリセリル、モノステアリン酸グ
リセリル、モノイソステアリン酸グリセリル、ジステア
リン酸グリセリル、モノオレイン酸グリセリル、ジオレ
イン酸グリセリル等のグリセリン脂肪酸エステル類、及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセリ
ン脂肪酸エステル類、モノステアリン酸ペンタエリスリ
ット、トリステアリン酸ペンタエリスリット、モノオレ
イン酸ペンタエリスリット、トリオレイン酸ペンタエリ
スリット等のペンタエリスリット脂肪酸エステル類、及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノパルミチ
ン酸ソルビタン、モノステアリン酸ソルビタン、トリス
テアリン酸ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン、ト
リオレイン酸ソルビタン等のソルビタン脂肪酸エステル
類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、モノラ
ウリン酸ソルビット、テトラステアリン酸ソルビット、
ヘキサステアリン酸ソルビット、テトラオレイン酸ソル
ビット等のソルビット脂肪酸エステル類、及びそのポリ
エチレンオキサイド付加物類、ポリエチレングリコール
アルキルアミン類、ポリエチレングリコールアルキルア
ミノエーテル類、ヒマシ油のポリエチレンオキサイド付
加物類、ラノリンのポリエチレンオキサイド付加物類等
を挙げることができる。中で、アルコール類、ポリエチ
レングリコールポリプロピレングリコールアルキルエー
テル類、ポリエチレングリコールアルキルフェニルエー
テル類が好ましい。
【0163】又、そのアニオン性界面活性剤としては、
具体的には、例えば、ラウリン酸ナトリウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸
塩類、ラウリルスルホン酸ナトリウム等のアルキルスル
ホン酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、イソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン
酸ナトリウム等のアルキルジフェニルエーテルジスルホ
ン酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホ
ン酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリ
ル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル塩類、オク
チルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアル
コール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫
酸エステルアンモニウム等の高級アルコール硫酸エステ
ル塩類、アセチルアルコール硫酸エステルナトリウム等
の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等
のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩
類、ラウリル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウ
ム等のアルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル燐酸ナトリウム、ポリオキシエチレン
ステアリルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエチ
レンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、スルホコハ
ク酸類、不飽和脂肪酸硫酸化油類、タウリン塩類、ヒマ
シ油硫酸エステル塩類等を挙げることができる。中で、
アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレン
スルホン酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類が好まし
い。
具体的には、例えば、ラウリン酸ナトリウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸
塩類、ラウリルスルホン酸ナトリウム等のアルキルスル
ホン酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、イソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン
酸ナトリウム等のアルキルジフェニルエーテルジスルホ
ン酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホ
ン酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリ
ル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル塩類、オク
チルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアル
コール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫
酸エステルアンモニウム等の高級アルコール硫酸エステ
ル塩類、アセチルアルコール硫酸エステルナトリウム等
の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等
のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩
類、ラウリル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウ
ム等のアルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル燐酸ナトリウム、ポリオキシエチレン
ステアリルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエチ
レンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、スルホコハ
ク酸類、不飽和脂肪酸硫酸化油類、タウリン塩類、ヒマ
シ油硫酸エステル塩類等を挙げることができる。中で、
アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレン
スルホン酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類が好まし
い。
【0164】又、そのカチオン性界面活性剤としては、
具体的には、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベ
ヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライド、ラノリン誘導第4
級アンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩類、2−オ
クタデシル−ヒドロキシエチル−2−イミダゾリン等の
イミダゾリン誘導体類、N,N−ジエチル−ステアロア
ミド−メチルアミン塩酸塩、ポリオキシエチレンステア
リルアミン等のアミン塩類等を挙げることができる。中
で、第4級アンモニウム塩類が好ましい。
具体的には、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベ
ヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライド、ラノリン誘導第4
級アンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩類、2−オ
クタデシル−ヒドロキシエチル−2−イミダゾリン等の
イミダゾリン誘導体類、N,N−ジエチル−ステアロア
ミド−メチルアミン塩酸塩、ポリオキシエチレンステア
リルアミン等のアミン塩類等を挙げることができる。中
で、第4級アンモニウム塩類が好ましい。
【0165】又、その両性界面活性剤としては、具体的
には、例えば、N−ラウリル−N,N−ジメチル−N−
カルボキシメチルアンモニウム、N−ステアリル−N,
N−ジメチル−N−カルボキシメチルアンモニウム、N
−ラウリル−N,N−ジヒドロキシエチル−N−カルボ
キシメチルアンモニウム、N−ラウリル−N,N,N−
トリス(カルボキシメチル)アンモニウム等のベタイン
型化合物類、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N
−ヒドロキシエチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム
塩類、イミダゾリン−N−ナトリウムエチルスルホネー
ト、イミダゾリン−N−ナトリウムエチルスルフェート
等のイミダゾリン類、アミノカルボン酸類、アミノ硫酸
エステル類等を挙げることができる。中で、ベタイン型
化合物類が好ましい。また、下記式(XII)で表わされ
る燐酸エステルタイプの界面活性剤も好ましく使用でき
る。
には、例えば、N−ラウリル−N,N−ジメチル−N−
カルボキシメチルアンモニウム、N−ステアリル−N,
N−ジメチル−N−カルボキシメチルアンモニウム、N
−ラウリル−N,N−ジヒドロキシエチル−N−カルボ
キシメチルアンモニウム、N−ラウリル−N,N,N−
トリス(カルボキシメチル)アンモニウム等のベタイン
型化合物類、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N
−ヒドロキシエチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム
塩類、イミダゾリン−N−ナトリウムエチルスルホネー
ト、イミダゾリン−N−ナトリウムエチルスルフェート
等のイミダゾリン類、アミノカルボン酸類、アミノ硫酸
エステル類等を挙げることができる。中で、ベタイン型
化合物類が好ましい。また、下記式(XII)で表わされ
る燐酸エステルタイプの界面活性剤も好ましく使用でき
る。
【0166】
【化26】
【0167】[式(XII)中、R21は、置換基を有して
いてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよい
アリール基を示し、Mは水素原子、又はアルカリ金属原
子を示し、エチレンオキサイド鎖は置換基を有していて
もよく、nは0〜30の整数、mは1、2、又は3であ
る。]
いてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよい
アリール基を示し、Mは水素原子、又はアルカリ金属原
子を示し、エチレンオキサイド鎖は置換基を有していて
もよく、nは0〜30の整数、mは1、2、又は3であ
る。]
【0168】ここで、R21がアルキル基であるときの炭
素数は6〜30であるのが好ましく、それらのアルキル
基としては、例えば、オクチル基、デシル基、ラウリル
基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリ
ル基等が挙げられ、又は、アリール基であるときの炭素
数は6〜15であるのが好ましく、それらのアリール基
としては、例えばフェニル基等が挙げられ、それらのア
ルキル基、アリール基、及びエチレンオキサイド鎖にお
ける置換基としては、炭素数1〜10のアルキル基等が
挙げられる。又、Mのアルカリ金属原子としては、例え
ば、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
素数は6〜30であるのが好ましく、それらのアルキル
基としては、例えば、オクチル基、デシル基、ラウリル
基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリ
ル基等が挙げられ、又は、アリール基であるときの炭素
数は6〜15であるのが好ましく、それらのアリール基
としては、例えばフェニル基等が挙げられ、それらのア
ルキル基、アリール基、及びエチレンオキサイド鎖にお
ける置換基としては、炭素数1〜10のアルキル基等が
挙げられる。又、Mのアルカリ金属原子としては、例え
ば、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
【0169】中でも、本発明においては、R21がアルキ
ル基、又はアルキル基で置換されていてもよいアリール
基、Mがナトリウム原子、又はカリウム原子で、nが5
〜15、mが1又は2又は3のポリオキシエチレンアル
キルエーテル燐酸塩が特に好ましい。尚、前記一般式で
表されるアルキル燐酸エステル又はその金属塩、及び、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル又は
その金属塩は、通常、mが1のモノエステル、2のジエ
ステル、3のトリエステルの混合物等のアニオン性界面
活性剤として市販されている。
ル基、又はアルキル基で置換されていてもよいアリール
基、Mがナトリウム原子、又はカリウム原子で、nが5
〜15、mが1又は2又は3のポリオキシエチレンアル
キルエーテル燐酸塩が特に好ましい。尚、前記一般式で
表されるアルキル燐酸エステル又はその金属塩、及び、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル又は
その金属塩は、通常、mが1のモノエステル、2のジエ
ステル、3のトリエステルの混合物等のアニオン性界面
活性剤として市販されている。
【0170】尚、これらの燐酸エステル化合物は、現像
液への溶解性の面から水溶性であるのが好ましく、例え
ば、25℃の水に1重量%以上溶解するのが好ましい。
又、HLBが8以上であるのが好ましい。本発明での現
像性組成物は、水溶性リン酸エステル化合物のうち少な
くとも1種を含有することが必須であり、これらの成分
の添加により、画像部と非画像部とのコントラストに優
れ、画像部ヤラレもなく、フリンジ汚れのない良好な画
像特性が得られるものである。
液への溶解性の面から水溶性であるのが好ましく、例え
ば、25℃の水に1重量%以上溶解するのが好ましい。
又、HLBが8以上であるのが好ましい。本発明での現
像性組成物は、水溶性リン酸エステル化合物のうち少な
くとも1種を含有することが必須であり、これらの成分
の添加により、画像部と非画像部とのコントラストに優
れ、画像部ヤラレもなく、フリンジ汚れのない良好な画
像特性が得られるものである。
【0171】以上の界面活性剤の中で、ノニオン性界面
活性剤、アニオン性界面活性剤、又は両性界面活性剤が
好ましく、特に両性界面活性剤、就中、ベタイン型化合
物類が好ましい。尚、前記界面活性剤は、アルカリ現像
液中に、好ましくは0.0001〜20重量%、更に好
ましくは0.0005〜10重量%、特に好ましくは
0.001〜5重量%の濃度で含有させる。
活性剤、アニオン性界面活性剤、又は両性界面活性剤が
好ましく、特に両性界面活性剤、就中、ベタイン型化合
物類が好ましい。尚、前記界面活性剤は、アルカリ現像
液中に、好ましくは0.0001〜20重量%、更に好
ましくは0.0005〜10重量%、特に好ましくは
0.001〜5重量%の濃度で含有させる。
【0172】又、前記アルカリ現像液には、必要に応じ
て、更に、多価アルコール、芳香族アルコール、脂環式
アルコール等の水溶性有機溶剤、ポリ燐酸塩、アミノポ
リカルボン酸塩、有機スルホン酸塩等の硬水軟化剤、フ
ェノール性化合物、アミン化合物、亜硫酸塩、亜燐酸
塩、チオ燐酸塩等の還元剤、有機ホスホン酸、ホスホノ
アルカントリカルボン酸、それらの塩等のキレート剤、
アルカリ可溶性メルカプト化合物又はチオエーテル化合
物、無機酸、有機酸、それらの塩等のpH調整剤、有機
シラン化合物等の消泡剤等の添加剤を含有させることが
できる。尚、これらの添加剤は、アルカリ現像液中に、
好ましくは0.001〜5重量%、特に好ましくは0.
005〜3重量%の濃度で含有させる。又、アルカリ現
像液のpHは、10以上とするのが好ましい。
て、更に、多価アルコール、芳香族アルコール、脂環式
アルコール等の水溶性有機溶剤、ポリ燐酸塩、アミノポ
リカルボン酸塩、有機スルホン酸塩等の硬水軟化剤、フ
ェノール性化合物、アミン化合物、亜硫酸塩、亜燐酸
塩、チオ燐酸塩等の還元剤、有機ホスホン酸、ホスホノ
アルカントリカルボン酸、それらの塩等のキレート剤、
アルカリ可溶性メルカプト化合物又はチオエーテル化合
物、無機酸、有機酸、それらの塩等のpH調整剤、有機
シラン化合物等の消泡剤等の添加剤を含有させることが
できる。尚、これらの添加剤は、アルカリ現像液中に、
好ましくは0.001〜5重量%、特に好ましくは0.
005〜3重量%の濃度で含有させる。又、アルカリ現
像液のpHは、10以上とするのが好ましい。
【0173】尚、現像は、通常、前記現像液に感光性平
版印刷版を浸漬するか、感光性平版印刷版に前記現像液
をスプレーする等の公知の現像法により、通常、好まし
くは10〜50℃程度、更に好ましくは15〜45℃程
度の温度で、5秒〜10分程度の時間でなされる。その
際、酸素遮断層は、予め水等で除去しておいてもよい
し、現像時に除去することとしてもよい。
版印刷版を浸漬するか、感光性平版印刷版に前記現像液
をスプレーする等の公知の現像法により、通常、好まし
くは10〜50℃程度、更に好ましくは15〜45℃程
度の温度で、5秒〜10分程度の時間でなされる。その
際、酸素遮断層は、予め水等で除去しておいてもよい
し、現像時に除去することとしてもよい。
【0174】又、現像方法としては、例えば、特開平1
1−10827号公報等に記載されるように、前述のア
ルカリ現像液、又は、それに添加される前述の界面活性
剤或いは水溶性有機溶剤等、若しくはそれらの溶液等、
を浸透剤として露光後の感光層に浸透させ、必要に応じ
て物理的刺激を加えることにより、非画像部を膨潤、溶
解させ、支持体表面から除去して現像する、所謂浸透現
像法、又は、特開平10−333321号公報等に記載
されるように、感光性平版印刷版を印刷機の版胴に装着
し、感光層上に印刷インキを供給し、インキの粘着力を
利用してブランケット胴に該インキを非画像部と共に転
写させることにより、非画像部を支持体表面から剥離さ
せ現像する、所謂印刷現像法、等を採ることもできる。
1−10827号公報等に記載されるように、前述のア
ルカリ現像液、又は、それに添加される前述の界面活性
剤或いは水溶性有機溶剤等、若しくはそれらの溶液等、
を浸透剤として露光後の感光層に浸透させ、必要に応じ
て物理的刺激を加えることにより、非画像部を膨潤、溶
解させ、支持体表面から除去して現像する、所謂浸透現
像法、又は、特開平10−333321号公報等に記載
されるように、感光性平版印刷版を印刷機の版胴に装着
し、感光層上に印刷インキを供給し、インキの粘着力を
利用してブランケット胴に該インキを非画像部と共に転
写させることにより、非画像部を支持体表面から剥離さ
せ現像する、所謂印刷現像法、等を採ることもできる。
【0175】本発明の平版印刷版の作製方法において、
前述の如くして作製される平版印刷版は、通常、平板状
で作製されるが、後述すると同様の方法で、支持体を印
刷機の版胴に固定した円筒状で作製されたものであって
もよい。本発明においては、そのようにして作製された
平版印刷版を、印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態
で印刷インキにより被印刷物への印刷を行った後、版胴
に固定した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を
除去してアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミ
ニウム板支持体表面に、再度、感光性組成物よりなる感
光性層を形成し、該感光性層をレーザー光源により走査
露光し現像処理することにより画像を現出させる。
前述の如くして作製される平版印刷版は、通常、平板状
で作製されるが、後述すると同様の方法で、支持体を印
刷機の版胴に固定した円筒状で作製されたものであって
もよい。本発明においては、そのようにして作製された
平版印刷版を、印刷機の版胴に着脱自在に固定した状態
で印刷インキにより被印刷物への印刷を行った後、版胴
に固定した状態で、アルミニウム板支持体表面の画像を
除去してアルミニウム板支持体を再生し、該再生アルミ
ニウム板支持体表面に、再度、感光性組成物よりなる感
光性層を形成し、該感光性層をレーザー光源により走査
露光し現像処理することにより画像を現出させる。
【0176】本発明の平版印刷版の作製方法を、以下に
図面に基づいて具体的に説明する。図1は、本発明の平
版印刷版の作製方法を説明するための一実施例を示す平
版印刷機の模式図であり、図1において、1は回動可能
に枠体(図示せず。以下も同様。)に支持された版胴、
2は回動可能、且つ版胴1に対して接離可能に枠体に支
持されたブランケット胴、3は回動可能、且つブランケ
ット胴2に対して接離可能に枠体に支持された圧胴、4
は版胴1に対して接離可能に枠体に支持された湿し水供
給機構、5は版胴1に対して接離可能に枠体に支持され
た印刷インキ供給機構、6は版胴1に対して接離可能に
枠体に支持された画像除去機構、7は版胴1に対して接
離可能に枠体に支持された感光性組成物塗布液塗布機
構、8は版胴1に対して離間させて枠体に支持された露
光機構、9は版胴1に対して接離可能に枠体に支持され
た現像処理機構、10はアルミニウム板支持体10a表
面の画像10b面を外側として版胴1の外周面に着脱自
在な固定手段10cにより固定された平版印刷版であ
る。
図面に基づいて具体的に説明する。図1は、本発明の平
版印刷版の作製方法を説明するための一実施例を示す平
版印刷機の模式図であり、図1において、1は回動可能
に枠体(図示せず。以下も同様。)に支持された版胴、
2は回動可能、且つ版胴1に対して接離可能に枠体に支
持されたブランケット胴、3は回動可能、且つブランケ
ット胴2に対して接離可能に枠体に支持された圧胴、4
は版胴1に対して接離可能に枠体に支持された湿し水供
給機構、5は版胴1に対して接離可能に枠体に支持され
た印刷インキ供給機構、6は版胴1に対して接離可能に
枠体に支持された画像除去機構、7は版胴1に対して接
離可能に枠体に支持された感光性組成物塗布液塗布機
構、8は版胴1に対して離間させて枠体に支持された露
光機構、9は版胴1に対して接離可能に枠体に支持され
た現像処理機構、10はアルミニウム板支持体10a表
面の画像10b面を外側として版胴1の外周面に着脱自
在な固定手段10cにより固定された平版印刷版であ
る。
【0177】尚、ここで、版胴1に対するブランケット
胴2の接離、及びブランケット胴3に対する圧胴3の接
離は、ブランケット胴2及び圧胴3の支持に偏芯ブッシ
ュを用いる等の適宜の手段により、又、版胴1に対する
湿し水供給機構4及び印刷インキ供給機構5の接離は、
版胴1にカムを設けると共に、湿し水供給機構4及び印
刷インキ供給機構5の各ローラにリンクを設ける等の適
宜の手段により、又、画像除去機構6、感光性組成物塗
布液塗布機構7、及び現像処理機構9は、それぞれ架台
に搭載され、版胴1に対するそれぞれの接離は、各架台
をラックピニオン構造等により昇降可能とする等の適宜
の手段により、それぞれなされ、又、平版印刷版10の
版胴1への固定手段10cとしては、例えば、版胴1の
外周面にそれを横断する係止溝を設け、その係止溝に平
版印刷版10の両端部を係止する等の手段が用いられ
る。
胴2の接離、及びブランケット胴3に対する圧胴3の接
離は、ブランケット胴2及び圧胴3の支持に偏芯ブッシ
ュを用いる等の適宜の手段により、又、版胴1に対する
湿し水供給機構4及び印刷インキ供給機構5の接離は、
版胴1にカムを設けると共に、湿し水供給機構4及び印
刷インキ供給機構5の各ローラにリンクを設ける等の適
宜の手段により、又、画像除去機構6、感光性組成物塗
布液塗布機構7、及び現像処理機構9は、それぞれ架台
に搭載され、版胴1に対するそれぞれの接離は、各架台
をラックピニオン構造等により昇降可能とする等の適宜
の手段により、それぞれなされ、又、平版印刷版10の
版胴1への固定手段10cとしては、例えば、版胴1の
外周面にそれを横断する係止溝を設け、その係止溝に平
版印刷版10の両端部を係止する等の手段が用いられ
る。
【0178】そして、画像除去機構6、感光性組成物塗
布液塗布機構7、及び現像処理機構9を版胴1から離間
させた状態で、湿し水供給機構4と印刷インキ供給機構
5とを版胴1に当接させ、版胴1の外周面に固定された
平版印刷版10の版面に、湿し水供給機構4より湿し水
を供給し、更に、印刷インキ供給機構5より印刷インキ
を供給しつつ、ブランケット胴2を版胴1に、圧胴3を
ブランケット胴2に当接させ、各胴1、2、3を回転さ
せた状態のブランケット胴2と圧胴3間に被印刷物供給
機構(図示せず。)から供給された被印刷物に通常の手
段により印刷を行う。
布液塗布機構7、及び現像処理機構9を版胴1から離間
させた状態で、湿し水供給機構4と印刷インキ供給機構
5とを版胴1に当接させ、版胴1の外周面に固定された
平版印刷版10の版面に、湿し水供給機構4より湿し水
を供給し、更に、印刷インキ供給機構5より印刷インキ
を供給しつつ、ブランケット胴2を版胴1に、圧胴3を
ブランケット胴2に当接させ、各胴1、2、3を回転さ
せた状態のブランケット胴2と圧胴3間に被印刷物供給
機構(図示せず。)から供給された被印刷物に通常の手
段により印刷を行う。
【0179】所定の印刷を終了した後、湿し水供給機構
4と印刷インキ供給機構5とを版胴1から離間させ、更
に、版胴1とブランケット胴2と圧胴3の各胴1、2、
3間を離間させた後、平版印刷版10を版胴1に固定し
た状態で、画像除去機構6を版胴1に当接させ、版胴1
を回転させつつ、アルミニウム板支持体10a表面の画
像10bを除去してアルミニウム板支持体10aを再生
する。
4と印刷インキ供給機構5とを版胴1から離間させ、更
に、版胴1とブランケット胴2と圧胴3の各胴1、2、
3間を離間させた後、平版印刷版10を版胴1に固定し
た状態で、画像除去機構6を版胴1に当接させ、版胴1
を回転させつつ、アルミニウム板支持体10a表面の画
像10bを除去してアルミニウム板支持体10aを再生
する。
【0180】ここで、画像除去機構6としては、画像除
去液供給手段と、必要に応じて設けられる摩擦手段とか
らなり、その画像除去液としては、例えば、前述の感光
性層の形成における感光性組成物塗布液において挙げた
と同様の塗布用溶剤、界面活性剤、或いは、灯油やベン
ジルアルコール等のプレートクリーナー液、或いは、弗
酸、塩酸、燐酸、硫酸等の含有溶液等が挙げられ、これ
らの画像除去液をローラ等の適宜の手段で平版印刷版1
0版面に塗布して画像10bを溶解させ、必要に応じて
スポンジ等の摩擦手段を用いて擦る等により、アルミニ
ウム板支持体10a表面の画像10bを除去してアルミ
ニウム板支持体10aを再生する。尚、その際、水洗浄
機構及び乾燥機構(いずれも図示せず。)により、アル
ミニウム板支持体10a表面を水洗浄し乾燥させるのが
好ましい。
去液供給手段と、必要に応じて設けられる摩擦手段とか
らなり、その画像除去液としては、例えば、前述の感光
性層の形成における感光性組成物塗布液において挙げた
と同様の塗布用溶剤、界面活性剤、或いは、灯油やベン
ジルアルコール等のプレートクリーナー液、或いは、弗
酸、塩酸、燐酸、硫酸等の含有溶液等が挙げられ、これ
らの画像除去液をローラ等の適宜の手段で平版印刷版1
0版面に塗布して画像10bを溶解させ、必要に応じて
スポンジ等の摩擦手段を用いて擦る等により、アルミニ
ウム板支持体10a表面の画像10bを除去してアルミ
ニウム板支持体10aを再生する。尚、その際、水洗浄
機構及び乾燥機構(いずれも図示せず。)により、アル
ミニウム板支持体10a表面を水洗浄し乾燥させるのが
好ましい。
【0181】次いで、画像除去機構6を版胴1から離間
させると共に、感光性組成物塗布液塗布機構7を版胴1
に当接させ、版胴1を回転させつつ、前記再生アルミニ
ウム板支持体10a表面に感光性組成物塗布液を塗布
し、乾燥機構(図示せず。)で加熱、乾燥させることに
より、再度、感光性組成物よりなる感光性層を形成す
る。
させると共に、感光性組成物塗布液塗布機構7を版胴1
に当接させ、版胴1を回転させつつ、前記再生アルミニ
ウム板支持体10a表面に感光性組成物塗布液を塗布
し、乾燥機構(図示せず。)で加熱、乾燥させることに
より、再度、感光性組成物よりなる感光性層を形成す
る。
【0182】本発明において、その感光性組成物の中
で、ポジ型感光性組成物としては、下記の(P−1)成
分、及び(P−2)成分を含有する組成物であるのが好
ましい。 (P−1)アルカリ可溶性樹脂 (P−2)画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質
で、ポジ型感光性組成物としては、下記の(P−1)成
分、及び(P−2)成分を含有する組成物であるのが好
ましい。 (P−1)アルカリ可溶性樹脂 (P−2)画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質
【0183】ここで、(P−1)成分のアルカリ可溶性
樹脂、及び(P−2)成分の光熱変換物質としては、前
述の感光性層の形成において好ましいとして挙げた前記
ポジ型感光性組成物のアルカリ可溶性樹脂(P−1)成
分、及び光熱変換物質(P−2)成分として挙げたと同
様のものが用いられ、又、ここでのポジ型感光性組成物
における(P−1)成分及び(P−2)成分以外の各成
分としても、前述と同様の溶解抑止剤(P−3)成分、
有機酸又はその無水物(P−4)成分、着色剤(P−
5)成分、架橋剤(P−6)成分、界面活性剤(P−
7)成分、その他の各成分が用いられる。又、そのポジ
型感光性組成物よりなる感光層の形成方法、条件として
も、前述と同様の方法、条件と同様であるが、塗布方法
としてはロール塗布法が好ましい。
樹脂、及び(P−2)成分の光熱変換物質としては、前
述の感光性層の形成において好ましいとして挙げた前記
ポジ型感光性組成物のアルカリ可溶性樹脂(P−1)成
分、及び光熱変換物質(P−2)成分として挙げたと同
様のものが用いられ、又、ここでのポジ型感光性組成物
における(P−1)成分及び(P−2)成分以外の各成
分としても、前述と同様の溶解抑止剤(P−3)成分、
有機酸又はその無水物(P−4)成分、着色剤(P−
5)成分、架橋剤(P−6)成分、界面活性剤(P−
7)成分、その他の各成分が用いられる。又、そのポジ
型感光性組成物よりなる感光層の形成方法、条件として
も、前述と同様の方法、条件と同様であるが、塗布方法
としてはロール塗布法が好ましい。
【0184】又、その感光性組成物の中で、ネガ型感光
性組成物としては、下記の(N−1)成分、(N−2)
成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分を含有する
光重合性の組成物であるのが好ましい。 (N−1)アルカリ可溶性樹脂 (N−2)エチレン性不飽和化合物 (N−3)増感剤 (N−4)光重合開始剤
性組成物としては、下記の(N−1)成分、(N−2)
成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分を含有する
光重合性の組成物であるのが好ましい。 (N−1)アルカリ可溶性樹脂 (N−2)エチレン性不飽和化合物 (N−3)増感剤 (N−4)光重合開始剤
【0185】ここで、(N−1)成分のアルカリ可溶性
樹脂、(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、(N
−3)成分の増感剤、及び(N−4)成分の光重合開始
剤としては、前述の感光性層の形成において好ましいと
して挙げた前記ネガ型感光性組成物のアルカリ可溶性樹
脂(N−1)成分、エチレン性不飽和化合物(N−2)
成分、増感剤(N−3)成分、及び光重合開始剤(N−
4)成分として挙げたと同様のものが用いられ、又、こ
こでのネガ型感光性組成物における(N−1)成分、
(N−2)成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分
以外の各成分としても、前述と同様の水素供与性化合物
(N−5)成分、アミン化合物(N−6)成分、その他
の各成分が用いられる。又、そのネガ型感光性組成物よ
りなる感光層の形成方法、条件としても、前述と同様の
方法、条件と同様であるが、塗布方法としてはロール塗
布法が好ましい。
樹脂、(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、(N
−3)成分の増感剤、及び(N−4)成分の光重合開始
剤としては、前述の感光性層の形成において好ましいと
して挙げた前記ネガ型感光性組成物のアルカリ可溶性樹
脂(N−1)成分、エチレン性不飽和化合物(N−2)
成分、増感剤(N−3)成分、及び光重合開始剤(N−
4)成分として挙げたと同様のものが用いられ、又、こ
こでのネガ型感光性組成物における(N−1)成分、
(N−2)成分、(N−3)成分、及び(N−4)成分
以外の各成分としても、前述と同様の水素供与性化合物
(N−5)成分、アミン化合物(N−6)成分、その他
の各成分が用いられる。又、そのネガ型感光性組成物よ
りなる感光層の形成方法、条件としても、前述と同様の
方法、条件と同様であるが、塗布方法としてはロール塗
布法が好ましい。
【0186】次いで、感光性組成物塗布液塗布機構7を
版胴1から離間させ、版胴1を回転させつつ、露光機構
9により、形成された感光性層をレーザー光源により走
査露光する。そのレーザー露光方法、条件としても、前
述の方法、条件と同様である。
版胴1から離間させ、版胴1を回転させつつ、露光機構
9により、形成された感光性層をレーザー光源により走
査露光する。そのレーザー露光方法、条件としても、前
述の方法、条件と同様である。
【0187】次いで、現像処理機構9を版胴1に当接さ
せ、版胴1を回転させつつ、露光後の感光層を現像処理
することにより、再生アルミニウム板支持体10a表面
に画像10bを現出させ平版印刷版10を作製する。そ
の現像処理方法、条件としても、前述の方法、条件と同
様であるが、現像液の感光層面への供給手段としては、
ロール或いはスプレーによるのが好ましい。又、ここで
は、前述したと同様の、アルカリ現像液、又は、それに
添加される界面活性剤或いは水溶性有機溶剤等、若しく
はそれらの溶液等、を浸透剤として露光後の感光層に浸
透させ、必要に応じて物理的刺激を加えることにより、
非画像部を膨潤、溶解させ、支持体表面から除去して現
像する方法が好ましい。
せ、版胴1を回転させつつ、露光後の感光層を現像処理
することにより、再生アルミニウム板支持体10a表面
に画像10bを現出させ平版印刷版10を作製する。そ
の現像処理方法、条件としても、前述の方法、条件と同
様であるが、現像液の感光層面への供給手段としては、
ロール或いはスプレーによるのが好ましい。又、ここで
は、前述したと同様の、アルカリ現像液、又は、それに
添加される界面活性剤或いは水溶性有機溶剤等、若しく
はそれらの溶液等、を浸透剤として露光後の感光層に浸
透させ、必要に応じて物理的刺激を加えることにより、
非画像部を膨潤、溶解させ、支持体表面から除去して現
像する方法が好ましい。
【0188】本発明の平版印刷版の作製方法としては、
以上説明した方法により、平版印刷版により被印刷物へ
の印刷を行った後、該平版印刷版を版胴に固定した状態
で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去してアルミ
ニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウム板支持体
表面に、再度、感光性組成物よりなる感光性層を形成
し、該感光性層をレーザー光源により走査露光し現像処
理することにより画像を現出させる操作を、繰り返して
行うものであってもよいことは勿論である。
以上説明した方法により、平版印刷版により被印刷物へ
の印刷を行った後、該平版印刷版を版胴に固定した状態
で、アルミニウム板支持体表面の画像を除去してアルミ
ニウム板支持体を再生し、該再生アルミニウム板支持体
表面に、再度、感光性組成物よりなる感光性層を形成
し、該感光性層をレーザー光源により走査露光し現像処
理することにより画像を現出させる操作を、繰り返して
行うものであってもよいことは勿論である。
【0189】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【0190】実施例1(サーマルレーザー用ポジ型印刷
版) アルミニウム板(厚さ0.24mm)を、5重量%の水
酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行
った後、0.5モル/リットルの濃度の塩酸水溶液中
で、温度25℃、電流密度60A/dm2 、処理時間3
0秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで5重
量%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデ
スマット処理を施した後、20重量%硫酸溶液中で、温
度20℃、電流密度3A/dm2 、処理時間1分の条件
で陽極酸化処理を行った。更に、80℃の熱水で20秒
間熱水封孔処理を行い、平版印刷版支持体用のアルミニ
ウム板を作製した。表面粗度計(小坂研究所社製、「S
E−3DH」)によるこの板の平均粗さRaの値は0.
60μmであった。
版) アルミニウム板(厚さ0.24mm)を、5重量%の水
酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行
った後、0.5モル/リットルの濃度の塩酸水溶液中
で、温度25℃、電流密度60A/dm2 、処理時間3
0秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで5重
量%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデ
スマット処理を施した後、20重量%硫酸溶液中で、温
度20℃、電流密度3A/dm2 、処理時間1分の条件
で陽極酸化処理を行った。更に、80℃の熱水で20秒
間熱水封孔処理を行い、平版印刷版支持体用のアルミニ
ウム板を作製した。表面粗度計(小坂研究所社製、「S
E−3DH」)によるこの板の平均粗さRaの値は0.
60μmであった。
【0191】得られたアルミニウム板支持体を平版印刷
機(三菱重工業社製「平版印刷機ダイヤF−2」)の版
胴に着脱自在に固定した後、その表面に、(P−1)成
分のアルカリ可溶性樹脂として、フェノール:m−クレ
ゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で50:3
0:20の混合フェノール類とホルムアルデヒドとの重
縮合体からなるノボラック樹脂(MW 9,400)10
0重量、(P−2)成分の光熱変換物質として、前記具
体例(II-9) で示したインドール系色素3重量部、及び
(P−5)成分の着色剤として、クリスタルバイオレッ
トラクトン3重量部を、メチルセロソルブ1000重量
部に室温で攪拌して調液した塗布液をワイヤーバーによ
り塗布し、100℃で2分間乾燥させることにより、乾
燥膜厚2.4μmの感光性層を有するポジ型感光性平版
印刷版を作製した。
機(三菱重工業社製「平版印刷機ダイヤF−2」)の版
胴に着脱自在に固定した後、その表面に、(P−1)成
分のアルカリ可溶性樹脂として、フェノール:m−クレ
ゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で50:3
0:20の混合フェノール類とホルムアルデヒドとの重
縮合体からなるノボラック樹脂(MW 9,400)10
0重量、(P−2)成分の光熱変換物質として、前記具
体例(II-9) で示したインドール系色素3重量部、及び
(P−5)成分の着色剤として、クリスタルバイオレッ
トラクトン3重量部を、メチルセロソルブ1000重量
部に室温で攪拌して調液した塗布液をワイヤーバーによ
り塗布し、100℃で2分間乾燥させることにより、乾
燥膜厚2.4μmの感光性層を有するポジ型感光性平版
印刷版を作製した。
【0192】得られたポジ型感光性平版印刷版につき、
波長830nmの半導体レーザーを光源とする露光装置
(アプライドテクノ社製、最高出力30mW)を用いて
各種の露光エネルギーで20μm径に集光したビームス
ポットにより細線画像を走査露光し、次いで、以下に示
すアルカリ現像液(7)に28℃で30秒間浸漬した後、
水洗することにより、細線画像を再現させたポジ型平版
印刷版を作製した。その際、細線画像が再現する最小露
光エネルギーから求めた感度は150mJ/cm2 であ
った。
波長830nmの半導体レーザーを光源とする露光装置
(アプライドテクノ社製、最高出力30mW)を用いて
各種の露光エネルギーで20μm径に集光したビームス
ポットにより細線画像を走査露光し、次いで、以下に示
すアルカリ現像液(7)に28℃で30秒間浸漬した後、
水洗することにより、細線画像を再現させたポジ型平版
印刷版を作製した。その際、細線画像が再現する最小露
光エネルギーから求めた感度は150mJ/cm2 であ
った。
【0193】得られたポジ型平版印刷版の版面上に、湿
し水供給機構より湿し水(日研化学社製「アストロN
o.1 マークII」)を供給し、印刷インキ供給機構
より印刷インキ(東洋インキ社製「ハイエコーマゼン
タ」)を供給して、10,000枚の印刷を行った。
し水供給機構より湿し水(日研化学社製「アストロN
o.1 マークII」)を供給し、印刷インキ供給機構
より印刷インキ(東洋インキ社製「ハイエコーマゼン
タ」)を供給して、10,000枚の印刷を行った。
【0194】印刷終了後、平版印刷版を版胴に固定した
状態で、版面上の印刷インキを洗浄、除去した後、版面
上に、付設した画像除去機構のローラにより画像除去剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを塗布
してポジ画像を溶解させ、ガーゼで拭き取って除去し、
水洗することにより、アルミニウム板支持体を再生させ
た後、該再生アルミニウム板支持体表面に、再度、付設
した感光性組成物塗布液塗布機構のローラにより前記と
同様のポジ型感光性組成物塗布液を塗布し、加熱、乾燥
させて感光性層を形成することによりポジ型感光性平版
印刷版を作製し、引き続いて、付設した露光機構を用い
て該感光性層にレーザー光源により前記と異なる細線画
像を走査露光し、付設した現像処理機構のローラより該
感光層上に以下に示すアルカリ現像液(1)〜(8)、(10)、
(11)をそれぞれ供給して現像処理することによりポジ画
像を現出させてポジ型平版印刷版を作製した。
状態で、版面上の印刷インキを洗浄、除去した後、版面
上に、付設した画像除去機構のローラにより画像除去剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを塗布
してポジ画像を溶解させ、ガーゼで拭き取って除去し、
水洗することにより、アルミニウム板支持体を再生させ
た後、該再生アルミニウム板支持体表面に、再度、付設
した感光性組成物塗布液塗布機構のローラにより前記と
同様のポジ型感光性組成物塗布液を塗布し、加熱、乾燥
させて感光性層を形成することによりポジ型感光性平版
印刷版を作製し、引き続いて、付設した露光機構を用い
て該感光性層にレーザー光源により前記と異なる細線画
像を走査露光し、付設した現像処理機構のローラより該
感光層上に以下に示すアルカリ現像液(1)〜(8)、(10)、
(11)をそれぞれ供給して現像処理することによりポジ画
像を現出させてポジ型平版印刷版を作製した。
【0195】次いで、得られた各ポジ型平版印刷版を用
いて、前記と同様にして印刷を行い、その際、1,00
0枚目の印刷物について、非画像部におけるインキの付
着を目視観察したところ、アルカリ現像液(1)〜(7)、(1
0)、(11)を用いた平版印刷版においてはインキの付着は
全く認められなかったが、アルカリ現像液(8)を用いた
平版印刷版においては、前回の感光層の細線画像の残像
によるインキの付着が非画像部に僅かながら認められ
た。
いて、前記と同様にして印刷を行い、その際、1,00
0枚目の印刷物について、非画像部におけるインキの付
着を目視観察したところ、アルカリ現像液(1)〜(7)、(1
0)、(11)を用いた平版印刷版においてはインキの付着は
全く認められなかったが、アルカリ現像液(8)を用いた
平版印刷版においては、前回の感光層の細線画像の残像
によるインキの付着が非画像部に僅かながら認められ
た。
【0196】引き続いて、アルカリ現像液(1)〜(7)を用
いた各平版印刷版の再生を、細線画像を1回毎に異なら
しめると共に、1回毎の印刷枚数を1,000枚に減ら
して8回実施したところ、アルカリ現像液(1)及び(2)を
用いた平版印刷版においては8回目の再生においても非
画像部におけるインキの付着は全く認められなかった
が、アルカリ現像液(3)〜(7)を用いた平版印刷版におい
ては、8回目の再生において非画像部にインキの付着が
僅かながら発生した。
いた各平版印刷版の再生を、細線画像を1回毎に異なら
しめると共に、1回毎の印刷枚数を1,000枚に減ら
して8回実施したところ、アルカリ現像液(1)及び(2)を
用いた平版印刷版においては8回目の再生においても非
画像部におけるインキの付着は全く認められなかった
が、アルカリ現像液(3)〜(7)を用いた平版印刷版におい
ては、8回目の再生において非画像部にインキの付着が
僅かながら発生した。
【0197】尚、以上において用いたアルカリ現像液
(1)〜(8)、(10)、(11)を以下に示す。いずれの現像液も
pHは11以上である。 (1)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1、以
下同じ。)1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量
%、ベタイン型両性界面活性剤(花王社製、「アンヒト
ール24B」)0.01重量%を含有する水溶液。
(〔SiO2 〕/〔M〕=0.37) (2)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ベタイン型両性界面活性剤(花王社製、
「アンヒトール86B」)0.01重量%を含有する水
溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.37) (3)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ポリオキシアルキレン型ノニオン性界面
活性剤(花王社製、「エマルゲンA−60」)0.01
重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (4)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ポリオキシアルキレン型ノニオン性界面
活性剤(花王社製、「エマルゲンPP−150」)0.
01重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕
=0.37) (5)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、スルホン酸ナトリウム型アニオン性界面
活性剤(花王社製、「ペレックスNBL」)0.01重
量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.
37) (6)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、スルホン酸ナトリウム型アニオン性界面
活性剤(花王社製、「ペレックスSS−H」)0.01
重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (7)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、第4級アンモニウム塩型カチオン性界面
活性剤(花王社製、「コータミン24P」)0.01重
量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.
37) (8)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/
〔M〕=0.37) (9)水酸化ナトリウム1.0重量%を含有する水溶液。
(〔SiO2 〕/〔M〕=0) (10)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1)
1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量%、下記の
リン酸エステルタイプ界面活性剤(DLP10)0.0
1重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (11)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1)
1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量%、カチオ
ン性界面活性剤トリメチルラウリルアンモニウムクロラ
イド0.01重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕
/〔M〕=0.37)
(1)〜(8)、(10)、(11)を以下に示す。いずれの現像液も
pHは11以上である。 (1)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1、以
下同じ。)1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量
%、ベタイン型両性界面活性剤(花王社製、「アンヒト
ール24B」)0.01重量%を含有する水溶液。
(〔SiO2 〕/〔M〕=0.37) (2)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ベタイン型両性界面活性剤(花王社製、
「アンヒトール86B」)0.01重量%を含有する水
溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.37) (3)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ポリオキシアルキレン型ノニオン性界面
活性剤(花王社製、「エマルゲンA−60」)0.01
重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (4)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、ポリオキシアルキレン型ノニオン性界面
活性剤(花王社製、「エマルゲンPP−150」)0.
01重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕
=0.37) (5)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、スルホン酸ナトリウム型アニオン性界面
活性剤(花王社製、「ペレックスNBL」)0.01重
量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.
37) (6)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、スルホン酸ナトリウム型アニオン性界面
活性剤(花王社製、「ペレックスSS−H」)0.01
重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (7)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%、第4級アンモニウム塩型カチオン性界面
活性剤(花王社製、「コータミン24P」)0.01重
量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=0.
37) (8)珪酸ナトリウム1.0重量%、水酸化ナトリウム
1.0重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/
〔M〕=0.37) (9)水酸化ナトリウム1.0重量%を含有する水溶液。
(〔SiO2 〕/〔M〕=0) (10)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1)
1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量%、下記の
リン酸エステルタイプ界面活性剤(DLP10)0.0
1重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕/〔M〕=
0.37) (11)珪酸ナトリウム(SiO2 /Na2 O=3/1)
1.0重量%、水酸化ナトリウム1.0重量%、カチオ
ン性界面活性剤トリメチルラウリルアンモニウムクロラ
イド0.01重量%を含有する水溶液。(〔SiO2 〕
/〔M〕=0.37)
【0198】実施例2(サーマルレーザー用ネガ型印刷
版) 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板支持体を
同様の平版印刷機の版胴に着脱自在に固定した後、その
表面に、以下の(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂、
(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、(N−3)
成分の増感剤、及び(N−4)成分の光重合開始剤、及
びその他成分をシクロヘキサノン1090重量部に室温
で攪拌して調液した塗布液を、ワイヤーバーにより乾燥
膜厚が2g/m2 となるように塗布し、乾燥して光重合
性の感光性組成物からなる感光性層を形成し、更にその
上に、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの
混合水溶液(ポリビニルアルコール:ポリビニルピロリ
ドン=95重量%:5重量%)をワイヤーバーにより乾
燥膜厚が3g/m2 となるように塗布し、乾燥して酸素
遮断層を形成することにより、ネガ型感光性平版印刷版
を作製した。
版) 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板支持体を
同様の平版印刷機の版胴に着脱自在に固定した後、その
表面に、以下の(N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂、
(N−2)成分のエチレン性不飽和化合物、(N−3)
成分の増感剤、及び(N−4)成分の光重合開始剤、及
びその他成分をシクロヘキサノン1090重量部に室温
で攪拌して調液した塗布液を、ワイヤーバーにより乾燥
膜厚が2g/m2 となるように塗布し、乾燥して光重合
性の感光性組成物からなる感光性層を形成し、更にその
上に、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの
混合水溶液(ポリビニルアルコール:ポリビニルピロリ
ドン=95重量%:5重量%)をワイヤーバーにより乾
燥膜厚が3g/m2 となるように塗布し、乾燥して酸素
遮断層を形成することにより、ネガ型感光性平版印刷版
を作製した。
【0199】(N−1)アルカリ可溶性樹脂
メチルメタクリレート(80モル%)/メタクリル酸
(20モル%)共重合体に、3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチルアクリレートを反応させて得られた反応生
成物(メタクリル酸成分のカルボキシル基の60モル%
が反応、酸価60、重量平均分子量7.5万);45重
量部 (N−2)エチレン性不飽和化合物 下記の化合物(1);25重量部 下記の化合物(2);5重量部 下記の化合物(3);25重量部 (N−3)増感剤 下記の化合物(4);2重量部
(20モル%)共重合体に、3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチルアクリレートを反応させて得られた反応生
成物(メタクリル酸成分のカルボキシル基の60モル%
が反応、酸価60、重量平均分子量7.5万);45重
量部 (N−2)エチレン性不飽和化合物 下記の化合物(1);25重量部 下記の化合物(2);5重量部 下記の化合物(3);25重量部 (N−3)増感剤 下記の化合物(4);2重量部
【0200】+
【化27】
【0201】(N−4)光重合開始剤
2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン(C−1);5重量部 その他成分 顔料(エチルバイオレット);5重量部
ロロメチル)−s−トリアジン(C−1);5重量部 その他成分 顔料(エチルバイオレット);5重量部
【0202】得られたネガ型感光性平版印刷版につき、
実施例1におけると同様にして各種の露光エネルギーで
細線画像を走査露光し、次いで、炭酸ナトリウム0.8
重量%及びアニオン性界面活性剤(花王社製「ペレック
スNBL」)3重量%の水溶液からなる現像液に25℃
で30秒間浸漬した後、水洗することにより、細線画像
を再現させたネガ型平版印刷版を作製した。その際、細
線画像が再現する最小露光エネルギーから求めた感度は
100mJ/cm2 であった。
実施例1におけると同様にして各種の露光エネルギーで
細線画像を走査露光し、次いで、炭酸ナトリウム0.8
重量%及びアニオン性界面活性剤(花王社製「ペレック
スNBL」)3重量%の水溶液からなる現像液に25℃
で30秒間浸漬した後、水洗することにより、細線画像
を再現させたネガ型平版印刷版を作製した。その際、細
線画像が再現する最小露光エネルギーから求めた感度は
100mJ/cm2 であった。
【0203】次いで、実施例1におけると同様にして1
0,000枚の印刷を行い、印刷終了後、平版印刷版を
版胴に固定した状態で、版面上の印刷インキを洗浄、除
去した後、版面上に、付設した画像除去機構のローラに
より画像除去剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルを塗布し、画像表面をブラシで擦った後、ガー
ゼで拭き取って画像を除去し、水洗することにより、ア
ルミニウム板支持体を再生させた後、該再生アルミニウ
ム板支持体表面に、再度、付設した感光性組成物塗布液
塗布機構のローラにより前記と同様の光重合性の感光性
組成物塗布液を塗布し、加熱、乾燥させて感光性層を形
成することによりネガ型感光性平版印刷版を作製し、引
き続いて、付設した露光機構を用いて該感光性層をレー
ザー光源により前記と異なる細線画像を走査露光し、付
設した現像処理機構のローラより該感光層上に前記と同
様のアルカリ現像液を供給して現像処理することにより
ネガ画像を現出させてネガ型平版印刷版を作製した。
0,000枚の印刷を行い、印刷終了後、平版印刷版を
版胴に固定した状態で、版面上の印刷インキを洗浄、除
去した後、版面上に、付設した画像除去機構のローラに
より画像除去剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルを塗布し、画像表面をブラシで擦った後、ガー
ゼで拭き取って画像を除去し、水洗することにより、ア
ルミニウム板支持体を再生させた後、該再生アルミニウ
ム板支持体表面に、再度、付設した感光性組成物塗布液
塗布機構のローラにより前記と同様の光重合性の感光性
組成物塗布液を塗布し、加熱、乾燥させて感光性層を形
成することによりネガ型感光性平版印刷版を作製し、引
き続いて、付設した露光機構を用いて該感光性層をレー
ザー光源により前記と異なる細線画像を走査露光し、付
設した現像処理機構のローラより該感光層上に前記と同
様のアルカリ現像液を供給して現像処理することにより
ネガ画像を現出させてネガ型平版印刷版を作製した。
【0204】次いで、得られたネガ型平版印刷版を用い
て、前記と同様にして10,000枚の印刷を行い、非
画像部における前回の感光層の細線画像の残像によるイ
ンキの付着を目視観察したところ、インキの付着は全く
認められなかった。
て、前記と同様にして10,000枚の印刷を行い、非
画像部における前回の感光層の細線画像の残像によるイ
ンキの付着を目視観察したところ、インキの付着は全く
認められなかった。
【0205】実施例3
実施例1において、塗布後の乾燥加熱処理として、直径
25cmの回転ドラム上に固定したアルミニウム板支持
体表面に感光性版材を塗布した後、回転ドラムを周速毎
分2mで回転し、オリエンタルモーター社製送風機「M
F930.BC」を用い、回転するアルミニウム支持体
上に、支持体から25cm離間させた位置より25℃の
空気を5分間送風した。続いて、送風を停止後、版胴の
表面から3cm離間した位置に光加熱式乾燥機構とし2
本のハロゲンランプ(出力1000W、発光効率85
%、発光光ピーク1200nm、照射面積250mm×
60mmのウシオ電機社ハロゲンランプ、約5.6W/
cm2を配置し、アルミニウム板支持体表面の感光性版
材を2分間加熱乾燥した。ハロゲンランプの配置は、そ
の長方形照射面の長軸(250mm)が版胴の軸と平行
で且つ短軸(60mm)が版胴の円周方向となる様な配
置とした。これ以外は実施例1と同様に印刷版を作製し
た。得られた各ポジ型平版印刷版に、富士写真フィルム
工業社製現像インキ「PI−2」を用いてインキ盛処理
を行ない非画像部におけるインキの付着を目視観察した
ところ、アルカリ現像液(1)〜(8)、(10)、(11)を用いた
平版印刷版においてはインキの付着は全く認められなか
ったが、アルカリ現像液(9)を用いた平版印刷版におい
ては、前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付
着が非画像部に認められた。
25cmの回転ドラム上に固定したアルミニウム板支持
体表面に感光性版材を塗布した後、回転ドラムを周速毎
分2mで回転し、オリエンタルモーター社製送風機「M
F930.BC」を用い、回転するアルミニウム支持体
上に、支持体から25cm離間させた位置より25℃の
空気を5分間送風した。続いて、送風を停止後、版胴の
表面から3cm離間した位置に光加熱式乾燥機構とし2
本のハロゲンランプ(出力1000W、発光効率85
%、発光光ピーク1200nm、照射面積250mm×
60mmのウシオ電機社ハロゲンランプ、約5.6W/
cm2を配置し、アルミニウム板支持体表面の感光性版
材を2分間加熱乾燥した。ハロゲンランプの配置は、そ
の長方形照射面の長軸(250mm)が版胴の軸と平行
で且つ短軸(60mm)が版胴の円周方向となる様な配
置とした。これ以外は実施例1と同様に印刷版を作製し
た。得られた各ポジ型平版印刷版に、富士写真フィルム
工業社製現像インキ「PI−2」を用いてインキ盛処理
を行ない非画像部におけるインキの付着を目視観察した
ところ、アルカリ現像液(1)〜(8)、(10)、(11)を用いた
平版印刷版においてはインキの付着は全く認められなか
ったが、アルカリ現像液(9)を用いた平版印刷版におい
ては、前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付
着が非画像部に認められた。
【0206】実施例4(バイオレットレーザー用ネガ型
印刷版:一層) 実施例1と同様の支持体上に、下記の(N−1)アルカ
リ可溶性樹脂、(N−2)成分のエチレン性不飽和化合
物、(N−3)成分の増感剤、(N−4)成分の光重合
開始剤、(N−5)成分の水素供与性化合物、(N−
6)成分のアミン化合物、(N−7)成分の界面活性
剤、及びその他成分を、メチルエチルケトン740重量
部とメチルセロソルプ400重量部との混合溶剤に加え
て、室温で撹拌して調液した塗布液を、バーコーターを
用いて乾燥膜厚が6g/m2となるように塗布し、80
℃で2分間乾燥させて、感光性平版印刷版を作成した。
印刷版:一層) 実施例1と同様の支持体上に、下記の(N−1)アルカ
リ可溶性樹脂、(N−2)成分のエチレン性不飽和化合
物、(N−3)成分の増感剤、(N−4)成分の光重合
開始剤、(N−5)成分の水素供与性化合物、(N−
6)成分のアミン化合物、(N−7)成分の界面活性
剤、及びその他成分を、メチルエチルケトン740重量
部とメチルセロソルプ400重量部との混合溶剤に加え
て、室温で撹拌して調液した塗布液を、バーコーターを
用いて乾燥膜厚が6g/m2となるように塗布し、80
℃で2分間乾燥させて、感光性平版印刷版を作成した。
【0207】<(N−1)アルカリ可溶性樹脂>
(N−1a)スチレン(55モル%)/α−メチルスチ
レン(15モル%)/アクリル酸(30モル%)共重合
体に3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレー
トを反応させて得られた反応生成物(アクリル酸成分の
50モル%が反応);45重量部
レン(15モル%)/アクリル酸(30モル%)共重合
体に3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレー
トを反応させて得られた反応生成物(アクリル酸成分の
50モル%が反応);45重量部
【0208】<(N−2)エチレン性不飽和化合物>
(N−2a)下記の化合物;10重量部
(N−2b)下記の化合物;5重量部
(N−2c)下記の化合物;8重量部
(N−2d)ジベタエリスリトールヘキサアクリレー
ト;22重量部
ト;22重量部
【0209】
【化28】
【0210】<(N−3)増感剤>
(N−3a)4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン;2重量部 <(N−4)光重合開始剤> (N−4a)2,2−ビス(O−クロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール;
25重量部 <(N−5)水素供与性化合物> (N−5a)2−メルカプトベンゾチアゾール;5重量
部 (N−5b)N−フェニルグリシンベンジルエステル;
10重量部 <(N−6)アミン化合物> (N−6a)トリベンジルアミン;10重量部 <(N−7)界面活性剤> (N−7a)ノニオン性界面活性剤(花王社製「エマル
ゲン104P」);2重量部 (N−7b)弗素系界面活性剤(旭硝子社製「S−38
1」);0.3重量部<その他> ビクトリアピュアーブルー(BOH)(可視画剤);
0.2重量部
フェノン;2重量部 <(N−4)光重合開始剤> (N−4a)2,2−ビス(O−クロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール;
25重量部 <(N−5)水素供与性化合物> (N−5a)2−メルカプトベンゾチアゾール;5重量
部 (N−5b)N−フェニルグリシンベンジルエステル;
10重量部 <(N−6)アミン化合物> (N−6a)トリベンジルアミン;10重量部 <(N−7)界面活性剤> (N−7a)ノニオン性界面活性剤(花王社製「エマル
ゲン104P」);2重量部 (N−7b)弗素系界面活性剤(旭硝子社製「S−38
1」);0.3重量部<その他> ビクトリアピュアーブルー(BOH)(可視画剤);
0.2重量部
【0211】波長410nmを発振する青無紫色レーザ
ー露光機(Escher−Grad社製「Cobalt
8」)を用いて、版面上出力0.5mW、レーザービー
ムスポット径12μm、走査密度5080dpi、走査
速度167皿/秒にて、走査露光を20回繰り返して行
った(このときの版面の露光エネルギーは合計800μ
J/cm2であった。)後、現像液(1)の15倍希釈液を
用い、24℃で100秒間浸漬した後、スポンジで5回
換って現像処理を行った。その結果、各表面に高品質の
レジスト画像が形成された平版印刷版が得られた。以下
は、実施例1と同様に印刷および、感光層の剥離を行な
い、支持体を再生した後、該支持体上に感光性層を塗布
乾燥しネガ感光性平版印刷版を作成し、ついでレーザー
露光と現像処理を施し画像形成させた印刷版を作成させ
た。得られたネガ型平版印刷版を用いて、実施例1と同
様にして10,000枚の印刷を行い、非画像部におけ
る前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付着を
目視観察したところ、インキの付着は全く認められなか
った。
ー露光機(Escher−Grad社製「Cobalt
8」)を用いて、版面上出力0.5mW、レーザービー
ムスポット径12μm、走査密度5080dpi、走査
速度167皿/秒にて、走査露光を20回繰り返して行
った(このときの版面の露光エネルギーは合計800μ
J/cm2であった。)後、現像液(1)の15倍希釈液を
用い、24℃で100秒間浸漬した後、スポンジで5回
換って現像処理を行った。その結果、各表面に高品質の
レジスト画像が形成された平版印刷版が得られた。以下
は、実施例1と同様に印刷および、感光層の剥離を行な
い、支持体を再生した後、該支持体上に感光性層を塗布
乾燥しネガ感光性平版印刷版を作成し、ついでレーザー
露光と現像処理を施し画像形成させた印刷版を作成させ
た。得られたネガ型平版印刷版を用いて、実施例1と同
様にして10,000枚の印刷を行い、非画像部におけ
る前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付着を
目視観察したところ、インキの付着は全く認められなか
った。
【0212】実施例5(バイオレットレーザー用ポジ型
印刷版) 実施例1と同類の支持体上に、下記の(P−1)成分の
酸分解性基含有重合体、(P−2)成分の光酸発生剤、
及びその他成分を、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート640重量部とメチルセロソブ240
重量部との混合溶剤に加えて、室温で撹拌して調液した
塗布液を、バーコーターを用いて乾燥膜厚が3g/m2
となるように塗布し、90℃で2分間乾燥させて、感光
性レジスト材層を形成することにより、ポジ感光性平版
印刷版を製造した。
印刷版) 実施例1と同類の支持体上に、下記の(P−1)成分の
酸分解性基含有重合体、(P−2)成分の光酸発生剤、
及びその他成分を、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート640重量部とメチルセロソブ240
重量部との混合溶剤に加えて、室温で撹拌して調液した
塗布液を、バーコーターを用いて乾燥膜厚が3g/m2
となるように塗布し、90℃で2分間乾燥させて、感光
性レジスト材層を形成することにより、ポジ感光性平版
印刷版を製造した。
【0213】<(P−1)酸分解性基含有重合体>
(P−1a)p−ヒドロキシスチレン単独重合体のヒド
ロキシ基の約45モル%をエーテル化して、酸分解性基
としての1−エトキシエトキシ基を導入した酸分解性基
含有重合体;100重量部 <(P−2)光酸発生剤> (P−2a)2−(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチ
リル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン;20重量部 <その他> 銅フタロシアニン顔料(可視画剤);4重量部
ロキシ基の約45モル%をエーテル化して、酸分解性基
としての1−エトキシエトキシ基を導入した酸分解性基
含有重合体;100重量部 <(P−2)光酸発生剤> (P−2a)2−(p−メトキシ−m−ヒドロキシスチ
リル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン;20重量部 <その他> 銅フタロシアニン顔料(可視画剤);4重量部
【0214】得られたポジ感光性平版を、走査露光を4
0回繰り返して行った(このときの版面の露光エネルギ
ーは合計1,600μJ/cm2であったり)こと、露
光後、90℃で2分間の後加熱処理を施したこと、及
び、現像液(1)を用い、且つ、30℃で120秒の現像
処理を行なった以外は、実施例4と同様にしてレーザー
走査露光し、現像処理し、次いで得られたネガ感光性平
版印刷版の印刷、印刷版の再生、画像成形性を行なっ
た。得られたネガ型平版印刷版を用いて、実施例1と同
様にして10,000枚の印刷を行い、非画像部におけ
る前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付着を
目視観察したところ、インキの付着は全く認められなか
った。
0回繰り返して行った(このときの版面の露光エネルギ
ーは合計1,600μJ/cm2であったり)こと、露
光後、90℃で2分間の後加熱処理を施したこと、及
び、現像液(1)を用い、且つ、30℃で120秒の現像
処理を行なった以外は、実施例4と同様にしてレーザー
走査露光し、現像処理し、次いで得られたネガ感光性平
版印刷版の印刷、印刷版の再生、画像成形性を行なっ
た。得られたネガ型平版印刷版を用いて、実施例1と同
様にして10,000枚の印刷を行い、非画像部におけ
る前回の感光層の細線画像の残像によるインキの付着を
目視観察したところ、インキの付着は全く認められなか
った。
【0215】実施例6(バイオレッドレーザー用ネガ型
印刷版) 実施例4において現像液中に日本ユニカー社製エマルジ
ョン「SAG−30」(エマルジョンタイプのシリコー
ン化合物)を100ppm添加する以外他は、同様に再
生印刷版による印刷評価を行なった所、インキの付着は
まったく認められなかった。また、大幅に現像時の泡の
発生が抑制された。
印刷版) 実施例4において現像液中に日本ユニカー社製エマルジ
ョン「SAG−30」(エマルジョンタイプのシリコー
ン化合物)を100ppm添加する以外他は、同様に再
生印刷版による印刷評価を行なった所、インキの付着は
まったく認められなかった。また、大幅に現像時の泡の
発生が抑制された。
【0216】実施例7(バイオレットレーザー用ポジ型
印刷版:キノンジアジド使用例) 実施例5において、感光性組成液を下記のものにし、感
光性層膜厚を1μm(1g/cm2)に変更し、走査露
光を200回繰り返した以外は、同様にして再生印刷版
評価を行なった。結果は、インキの付着はまったく認め
られなかった。
印刷版:キノンジアジド使用例) 実施例5において、感光性組成液を下記のものにし、感
光性層膜厚を1μm(1g/cm2)に変更し、走査露
光を200回繰り返した以外は、同様にして再生印刷版
評価を行なった。結果は、インキの付着はまったく認め
られなかった。
【0217】[感光性層塗布液組成]ノボラック樹脂
〔フェノール/m−タレノール/p−タレノールの混合
フェノール(モル比10/54/36)とホルムアルデ
ヒドとの重縮合体、重量平均分子量4000〕6.70
g、o−ナフトキノンシアジド−5−スルホニルクロリ
ドとピロガロール・アセトン樹脂(重量平均分子量30
00)とのエステル化反応生成物(反応率30%)0.
5g、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−
メトキシスチリル)−s−トリアジン0.15g、ビク
トリアピュアブルーBOH<保土ヶ谷化学社製>0.0
8g、ポリエチレングリコール定2000(三洋化成社
製)0.20g、CIs−1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸0.20g、及び界面活性剤S−381(旭硝
子社製)0.02gとを、メチルセロソルブ100ml
に溶解した溶液。
〔フェノール/m−タレノール/p−タレノールの混合
フェノール(モル比10/54/36)とホルムアルデ
ヒドとの重縮合体、重量平均分子量4000〕6.70
g、o−ナフトキノンシアジド−5−スルホニルクロリ
ドとピロガロール・アセトン樹脂(重量平均分子量30
00)とのエステル化反応生成物(反応率30%)0.
5g、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−
メトキシスチリル)−s−トリアジン0.15g、ビク
トリアピュアブルーBOH<保土ヶ谷化学社製>0.0
8g、ポリエチレングリコール定2000(三洋化成社
製)0.20g、CIs−1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸0.20g、及び界面活性剤S−381(旭硝
子社製)0.02gとを、メチルセロソルブ100ml
に溶解した溶液。
【0218】比較例1
実施例1におけるアルミニウム板支持体作製時に電解エ
ッチング処理及びデスマット処理を行わなかった外は、
実施例1と同様にして平版印刷版支持体用のアルミニウ
ム板を作製した。表面粗度計によるこの板の平均粗さR
aの値は0.20μmであった。得られたアルミニウム
板支持体を用いた外は、実施例2と同様にして、ネガ型
感光性平版印刷版、次いでネガ型平版印刷版を作製し、
10,000枚の印刷を行った後、アルミニウム板支持
体を再生し、再度、ネガ画像を現出させたネガ型平版印
刷版を作製した。この平版印刷版を用いて10,000
枚の印刷を行った後、印刷物を目視観察したところ、画
像部に、平版印刷版の画像部の剥離による部分的な欠損
が認められた。
ッチング処理及びデスマット処理を行わなかった外は、
実施例1と同様にして平版印刷版支持体用のアルミニウ
ム板を作製した。表面粗度計によるこの板の平均粗さR
aの値は0.20μmであった。得られたアルミニウム
板支持体を用いた外は、実施例2と同様にして、ネガ型
感光性平版印刷版、次いでネガ型平版印刷版を作製し、
10,000枚の印刷を行った後、アルミニウム板支持
体を再生し、再度、ネガ画像を現出させたネガ型平版印
刷版を作製した。この平版印刷版を用いて10,000
枚の印刷を行った後、印刷物を目視観察したところ、画
像部に、平版印刷版の画像部の剥離による部分的な欠損
が認められた。
【0219】
【発明の効果】本発明によれば、平版印刷版を印刷機の
版胴に着脱自在に固定した状態で印刷インキにより被印
刷物への印刷を行った後、版胴に固定した状態で、アル
ミニウム板支持体表面の画像を除去してアルミニウム板
支持体を再生し、該再生アルミニウム板支持体表面に再
度、画像を現出させて平版印刷版を作製するにおいて、
支持体表面からの画像の除去が容易であり、且つ、再生
した感光層の現像性にも優れ、結果として、安定した画
像の形成を行うことができると共に、耐刷性にも優れた
平版印刷版の作製方法を提供することができる。
版胴に着脱自在に固定した状態で印刷インキにより被印
刷物への印刷を行った後、版胴に固定した状態で、アル
ミニウム板支持体表面の画像を除去してアルミニウム板
支持体を再生し、該再生アルミニウム板支持体表面に再
度、画像を現出させて平版印刷版を作製するにおいて、
支持体表面からの画像の除去が容易であり、且つ、再生
した感光層の現像性にも優れ、結果として、安定した画
像の形成を行うことができると共に、耐刷性にも優れた
平版印刷版の作製方法を提供することができる。
【図1】 本発明の平版印刷版の作製方法を説明するた
めの一実施例を示す平版印刷機の模式図である。
めの一実施例を示す平版印刷機の模式図である。
1;版胴
2;ブランケット胴
3;圧胴
4;湿し水供給機構
5;印刷インキ供給機構
6;画像除去機構
7;感光性組成物塗布液塗布機構
8;露光機構
9;現像処理機構
10;平版印刷版
10a;アルミニウム板支持体
10b;画像
10c;固定手段
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 瑞穂 右二
神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地
三菱化学株式会社内
Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03
BC32 BC42 BC51 BE00 BG00
CA03 CA27 CA28 CA39 CA41
CA50 CB10 CB14 CB29 CB43
CB45 CC20 DA18 DA20 FA10
FA17 FA48
2H096 AA07 AA08 BA05 BA11 BA20
EA03 EA04 GA08 GA09 GA10
GA11 GA13 JA04 LA02
Claims (14)
- 【請求項1】 平均粗さRa が0.3〜1.0の表面を
有するアルミニウム板支持体の該表面にアルカリ可溶性
樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層が形成さ
れた感光性平版印刷版の該感光性層をレーザー光源によ
り走査露光しアルカリ現像液により現像処理して画像を
現出させた平版印刷版を、印刷機の版胴に着脱自在に固
定した状態で印刷インキにより被印刷物への印刷を行っ
た後、版胴に固定した状態で、アルミニウム板支持体表
面の画像を除去してアルミニウム板支持体を再生し、該
再生アルミニウム板支持体表面に、再度、アルカリ可溶
性樹脂を含有する感光性組成物よりなる感光性層を形成
し、該感光性層をレーザー光源により走査露光しアルカ
リ現像液により現像処理して画像を現出させることを特
徴とする平版印刷版の作製方法。 - 【請求項2】 アルカリ現像液が界面活性剤、珪酸塩及
びシリコーン類化合物から選ばれる少くとも1種を含有
する請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項3】 アルカリ現像液が界面活性剤を含有し、
その界面活性剤が両性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤または、下記一般式(XII)で表される燐酸エステルタ
イプ界面活性剤である請求項1又は2に記載の平版印刷
版の作製方法。 【化1】 [式(XII)中、R21は、置換基を有していてもよいア
ルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を
示し、Mは水素原子、又はアルカリ金属原子を示し、エ
チレンオキサイド鎖は置換基を有していてもよく、nは
0〜30の整数、mは1、2、又は3である。] - 【請求項4】 アルカリ現像液がpH10以上である請
求項1乃至3のいずれかに記載の平版印刷版の作製方
法。 - 【請求項5】 平版印刷版におけるアルミニウム板支持
体表面の画像の除去を、平版印刷版の版面に画像除去液
を供給して画像を溶解させることにより行う請求項1乃
至4のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項6】 少なくとも再生アルミニウム板支持体表
面に形成した感光性層の走査露光後の現像処理を、露光
後の感光層面にアルカリ現像液を供給して感光層に浸透
させることにより行う請求項1乃至5のいずれかに記載
の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項7】 感光性組成物が、下記の(P−1)成
分、及び(P−2)成分を含有するポジ型感光性組成物
である請求項1乃至6のいずれかに記載の平版印刷版の
作製方法。 (P−1)アルカリ可溶性樹脂 (P−2)画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質 - 【請求項8】 (P−1)成分のアルカリ可溶性樹脂
が、フェノール性水酸基含有フェノール樹脂である請求
項7に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項9】 (P−2)成分の光熱変換物質が、60
0〜1,300nmの波長域に吸収極大を有する光吸収
色素であり、且つ、レーザー光源が、600〜1,30
0nmの波長域の光を発生するものである請求項7又は
8に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項10】 感光性組成物が、下記の(N−1)成
分、(N−2)成分、(N−3)成分、及び(N−4)
成分を含有する光重合性のネガ型感光性組成物である請
求項1乃至6のいずれかに記載の平版印刷版の作製方
法。 (N−1)アルカリ可溶性樹脂 (N−2)エチレン性不飽和化合物 (N−3)増感剤 (N−4)光重合開始剤 - 【請求項11】 (N−1)成分のアルカリ可溶性樹脂
が、カルボキシル基含有ビニル系樹脂である請求項10
に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項12】 (N−3)成分の増感剤が、350〜
1,300nmの波長域に吸収極大を有する光吸収色素
であり、且つ、レーザー光源が350〜1,300nm
の波長域の光を発生するものである請求項10又は11
に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項13】 感光性組成物が、下記の(P−1)、
及び(P−2)成分を含有するポジ型感光性組成物であ
る請求項1乃至6のいずれかに記載の平版印刷版の作製
方法。 - 【請求項14】 感光性組成物が青紫色レーザー感光性
であり、且つ、レーザー光源が390〜430nmの波
長領域の光を発生するものである請求項13に記載の平
版印刷版の作製方法。
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---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2002
- 2002-06-14 JP JP2002173892A patent/JP2003167329A/ja active Pending
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