JP2003160638A - 感放射線性樹脂組成物、それから形成された垂直配向型液晶表示素子の突起、およびそれを具備する液晶表示素子 - Google Patents
感放射線性樹脂組成物、それから形成された垂直配向型液晶表示素子の突起、およびそれを具備する液晶表示素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 垂直配向型液晶表示素子の突起を
形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成
物、およびそれから形成された突起、それを具備する液
晶表示素子を提供すること。 【解決手段】 組成物は、（ａ）アルカリ可溶性
樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および
（ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上有する化合物等の
特定の化合物を含有することを特徴とする。突起は上記
組成物から形成される。液晶表示素子は、上記突起を具
備する。
形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成
物、およびそれから形成された突起、それを具備する液
晶表示素子を提供すること。 【解決手段】 組成物は、（ａ）アルカリ可溶性
樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および
（ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上有する化合物等の
特定の化合物を含有することを特徴とする。突起は上記
組成物から形成される。液晶表示素子は、上記突起を具
備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、垂直型液晶表示素
子の突起を形成するために好適な感放射線性樹脂組成
物、それから形成された垂直型液晶表示素子の突起、な
らびにそれを具備する液晶表示素子に関する。
子の突起を形成するために好適な感放射線性樹脂組成
物、それから形成された垂直型液晶表示素子の突起、な
らびにそれを具備する液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示パネルはフラットパネルディス
プレーの中で今日最も広く使用されているが、特に、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスター）方式の液晶表示パネル（Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤ）が、パソコン、ワープロ等のＯＡ機器
や、液晶テレビ等の普及に伴って、表示品質に対する要
求性能がますます厳しくなっている。ＴＦＴ−ＬＣＤの
中で現在最も利用されている方式はＴＮ（Twisted Nema
tic)型ＬＣＤであり、この方式は、２枚の透明な電極の
外側に配向方向が９０度異なる偏光膜をそれぞれ配置
し、２枚の透明な電極の内側に配向膜を配置するととも
に、両配向膜間にネマチック型液晶を配置して、液晶の
配向方向が一方の電極側から他方の電極側にかけて９０
度捩じれるようにしたものである。この状態で無偏光の
光が入射すると、一方の偏光板を透過した直線偏光が液
晶中を偏光方向がずれながら透過するため他方の偏光板
を透過できて、明状態となる。次に、両電極に電圧を印
加して液晶分子を直立させると、液晶に達した直線偏光
がそのまま透過するため他方の偏光板を透過できず、暗
状態となる。その後、再び電圧を印加しない状態にする
と、明状態に戻ることになる。このようなＴＮ型ＬＣＤ
は、近年における技術改良により、正面でのコントラス
トや色再現性などはＣＲＴと同等あるいはそれ以上とな
っている。しかしながら、ＴＮ型ＬＣＤには視野角が狭
いという大きな問題がある。
プレーの中で今日最も広く使用されているが、特に、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスター）方式の液晶表示パネル（Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤ）が、パソコン、ワープロ等のＯＡ機器
や、液晶テレビ等の普及に伴って、表示品質に対する要
求性能がますます厳しくなっている。ＴＦＴ−ＬＣＤの
中で現在最も利用されている方式はＴＮ（Twisted Nema
tic)型ＬＣＤであり、この方式は、２枚の透明な電極の
外側に配向方向が９０度異なる偏光膜をそれぞれ配置
し、２枚の透明な電極の内側に配向膜を配置するととも
に、両配向膜間にネマチック型液晶を配置して、液晶の
配向方向が一方の電極側から他方の電極側にかけて９０
度捩じれるようにしたものである。この状態で無偏光の
光が入射すると、一方の偏光板を透過した直線偏光が液
晶中を偏光方向がずれながら透過するため他方の偏光板
を透過できて、明状態となる。次に、両電極に電圧を印
加して液晶分子を直立させると、液晶に達した直線偏光
がそのまま透過するため他方の偏光板を透過できず、暗
状態となる。その後、再び電圧を印加しない状態にする
と、明状態に戻ることになる。このようなＴＮ型ＬＣＤ
は、近年における技術改良により、正面でのコントラス
トや色再現性などはＣＲＴと同等あるいはそれ以上とな
っている。しかしながら、ＴＮ型ＬＣＤには視野角が狭
いという大きな問題がある。
【０００３】このような問題を解決するものとして、Ｓ
ＴＮ（Super Twisted Nematic)型ＬＣＤやＭＶＡ（Mult
i-domain Vertically Aligned)型ＬＣＤ（垂直配向型液
晶表示パネル）が開発されている。これらのうちＳＴＮ
型ＬＣＤは、ＴＮ型ＬＣＤのネマチック型液晶中に光活
性物質であるカイラル剤をブレンドして、液晶分子の配
向軸が２枚の電極間で１８０度以上捩じれるようにした
ものである。またＭＶＡ型ＬＣＤは、「液晶」Vol.3,N
o.2,117(1999)および特開平１１−２５８６０５号公報
に記載されているように、負の誘電率異方性を有するネ
ガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わせて、ＴＮ型Ｌ
ＣＤの旋光モードではなく複屈折モードを利用したもの
であり、電圧を印加していない状態でも、配向膜に近い
位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直に維持されるた
め、コントラスト、視野角などに優れ、また液晶を配向
させるためのラビング処理を行なわなくてもよいなど製
造工程の面でも優れている。ＭＶＡ型ＬＣＤにおいて
は、１つの画素領域で液晶が複数の配向方向をとりうる
ようにするために、ドメイン規制手段として、表示側の
電極を１つの画素領域内にスリットを有するものとする
とともに、光の入射側の電極上の同一画素領域内に、電
極のスリットと位置をずらして、斜面を有する突起（例
えば、三角錐状、半凸レンズ形状等）を形成している。
ＴＮ（Super Twisted Nematic)型ＬＣＤやＭＶＡ（Mult
i-domain Vertically Aligned)型ＬＣＤ（垂直配向型液
晶表示パネル）が開発されている。これらのうちＳＴＮ
型ＬＣＤは、ＴＮ型ＬＣＤのネマチック型液晶中に光活
性物質であるカイラル剤をブレンドして、液晶分子の配
向軸が２枚の電極間で１８０度以上捩じれるようにした
ものである。またＭＶＡ型ＬＣＤは、「液晶」Vol.3,N
o.2,117(1999)および特開平１１−２５８６０５号公報
に記載されているように、負の誘電率異方性を有するネ
ガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わせて、ＴＮ型Ｌ
ＣＤの旋光モードではなく複屈折モードを利用したもの
であり、電圧を印加していない状態でも、配向膜に近い
位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直に維持されるた
め、コントラスト、視野角などに優れ、また液晶を配向
させるためのラビング処理を行なわなくてもよいなど製
造工程の面でも優れている。ＭＶＡ型ＬＣＤにおいて
は、１つの画素領域で液晶が複数の配向方向をとりうる
ようにするために、ドメイン規制手段として、表示側の
電極を１つの画素領域内にスリットを有するものとする
とともに、光の入射側の電極上の同一画素領域内に、電
極のスリットと位置をずらして、斜面を有する突起（例
えば、三角錐状、半凸レンズ形状等）を形成している。
【０００４】このような突起は、微細加工が可能で、形
状の制御が容易であるといった利点を持つ、フォトリソ
グラフィーにより形成することが便宜であると考えられ
る。突起材は、その断面形状が適当であることに加え、
後の配向膜形成工程で使用される溶剤に対する耐性、配
向膜材料に対する濡れ性、配向膜形成工程で加えられる
熱に対する耐性、およびラビング工程に耐えうる密着性
や強度（ラビング耐性）等の諸性能が要求される。しか
しながら、これらの要求を満足する感放射線性組成物は
未だ知られておらず、突起を形成するために好適に用い
られる感放射線性組成物の提供が強く求められている。
状の制御が容易であるといった利点を持つ、フォトリソ
グラフィーにより形成することが便宜であると考えられ
る。突起材は、その断面形状が適当であることに加え、
後の配向膜形成工程で使用される溶剤に対する耐性、配
向膜材料に対する濡れ性、配向膜形成工程で加えられる
熱に対する耐性、およびラビング工程に耐えうる密着性
や強度（ラビング耐性）等の諸性能が要求される。しか
しながら、これらの要求を満足する感放射線性組成物は
未だ知られておらず、突起を形成するために好適に用い
られる感放射線性組成物の提供が強く求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の事情
に鑑みなされたもので、その目的は、垂直配向型液晶表
示素子の突起を形成するために好適に用いられる感放射
線性樹脂組成物、およびそれから形成された突起、それ
を具備する液晶表示素子を提供することにある。
に鑑みなされたもので、その目的は、垂直配向型液晶表
示素子の突起を形成するために好適に用いられる感放射
線性樹脂組成物、およびそれから形成された突起、それ
を具備する液晶表示素子を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題は第一に、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２
−キノンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を分
子内に２個以上有する化合物を含有することを特徴とす
る、垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感
放射線性樹脂組成物によって達成される。
題は第一に、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２
−キノンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を分
子内に２個以上有する化合物を含有することを特徴とす
る、垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感
放射線性樹脂組成物によって達成される。
【０００７】また、上記課題は第二に、（ａ）アルカリ
可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、お
よび（ｄ）下記一般式（１）
可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、お
よび（ｄ）下記一般式（１）
【０００８】
【化５】
【０００９】（式中、Ｒ1〜Ｒ6は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物を含有することを特徴とす
る、垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感
放射線性樹脂組成物によって達成される。
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物を含有することを特徴とす
る、垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感
放射線性樹脂組成物によって達成される。
【００１０】上記課題は第三に、上記組成物から形成さ
れた突起によって達成される。上記課題は第四に、上記
突起を具備する液晶表示素子により達成される。以下、
本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳細に
述べる。
れた突起によって達成される。上記課題は第四に、上記
突起を具備する液晶表示素子により達成される。以下、
本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳細に
述べる。
【００１１】（ａ）アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いられる（ａ）アルカリ可溶性樹脂として
は、アルカリ性水溶液に可溶である限りとくに制限され
るものではないが、フェノール性水酸基またはカルボキ
シル基を含有することによってアルカリ可溶性が付与さ
れた樹脂が好適に使用できる。このようなアルカリ可溶
性樹脂としては、例えばフェノール性水酸基またはカル
ボキシル基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合
体、該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジカ
ル重合性モノマーとの共重合体、およびノボラック樹脂
等を挙げることができる。これらはそれぞれ単独で使用
することができ、また、２種類以上を混合して使用する
こともできる。
は、アルカリ性水溶液に可溶である限りとくに制限され
るものではないが、フェノール性水酸基またはカルボキ
シル基を含有することによってアルカリ可溶性が付与さ
れた樹脂が好適に使用できる。このようなアルカリ可溶
性樹脂としては、例えばフェノール性水酸基またはカル
ボキシル基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合
体、該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジカ
ル重合性モノマーとの共重合体、およびノボラック樹脂
等を挙げることができる。これらはそれぞれ単独で使用
することができ、また、２種類以上を混合して使用する
こともできる。
【００１２】フェノール性水酸基またはカルボキシル基
含有のラジカル重合性モノマーとしては、例えばｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレンまたはこれらのアルキル、アルコキシ
ル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミ
ド、エステルもしくはカルボキシルで置換された置換
体；ビニルヒドロキノン、５−ビニルピロガロール、６
−ビニルピロガロール、１−ビニルフロログリシノール
の如きポリヒドロキシビニルフェノール類；ｏ−ビニル
安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸ま
たはこれらのアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、アミドもしくはエステルで置換された置換
体；メタクリル酸、アクリル酸もしくはこれらのα−位
がハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロもし
くはシアノで置換されたα−位置換体；マレイン酸、無
水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸、１,４−シクロヘキセン
ジカルボン酸の如き不飽和ジカルボン酸またはこれらの
一方のカルボキシル基がメチル、エチル、プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブ
チル、フェニル、ｏ−トルイル、ｍ−トルイルもしくは
ｐ−トルイルエステル基となったハーフエステルまたは
一方のカルボキシル基がアミド基となったハーフアミド
を挙げることができる。
含有のラジカル重合性モノマーとしては、例えばｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレンまたはこれらのアルキル、アルコキシ
ル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミ
ド、エステルもしくはカルボキシルで置換された置換
体；ビニルヒドロキノン、５−ビニルピロガロール、６
−ビニルピロガロール、１−ビニルフロログリシノール
の如きポリヒドロキシビニルフェノール類；ｏ−ビニル
安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸ま
たはこれらのアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、アミドもしくはエステルで置換された置換
体；メタクリル酸、アクリル酸もしくはこれらのα−位
がハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロもし
くはシアノで置換されたα−位置換体；マレイン酸、無
水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸、１,４−シクロヘキセン
ジカルボン酸の如き不飽和ジカルボン酸またはこれらの
一方のカルボキシル基がメチル、エチル、プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブ
チル、フェニル、ｏ−トルイル、ｍ−トルイルもしくは
ｐ−トルイルエステル基となったハーフエステルまたは
一方のカルボキシル基がアミド基となったハーフアミド
を挙げることができる。
【００１３】これらのフェノール性水酸基またはカルボ
キシル基含有のラジカル重合性モノマーのうち、好まし
く使用されるものとして、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ
−ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸を挙げることが
できる。これらは１種または２種以上を併用することが
できる。
キシル基含有のラジカル重合性モノマーのうち、好まし
く使用されるものとして、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ
−ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸を挙げることが
できる。これらは１種または２種以上を併用することが
できる。
【００１４】また、その他のラジカル重合性モノマーと
しては、例えばスチレン、またはスチレンのα−アルキ
ル、ｏ−アルキル、ｍ−アルキル、ｐ−アルキル、アル
コキシル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、
アミドもしくはエステルで置換された置換体；ブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレンの如きオレフィン類；メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒ−ブ
チル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル
ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレー
ト、アリル（メタ）アクリレート、プロパギル（メタ）
アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチ
ル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アク
リレート、アントラキノニル（メタ）アクリレート、ピ
ペロニル（メタ）アクリレート、サリチル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベン
ジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリ
レート、クレシル（メタ）アクリレート、グリシジル
（メタ）アクリレート、１,１,１−トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、パーフルオロエチル（メタ）ア
クリレート、パーフルオロ−ｎ−プロピル（メタ）アク
リレート、パーフルオロ−ｉ−プロピル（メタ）アクリ
レート、トリフェニルメチル（メタ）アクリレート、ト
リシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イル（メタ）
アクリレート（当該技術分野で慣用的に「ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート」といわれている）、クミ
ル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミ
ノ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、フリル
（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレー
トの如き（メタ）アクリル酸エステル；
しては、例えばスチレン、またはスチレンのα−アルキ
ル、ｏ−アルキル、ｍ−アルキル、ｐ−アルキル、アル
コキシル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、
アミドもしくはエステルで置換された置換体；ブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレンの如きオレフィン類；メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒ−ブ
チル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル
ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレー
ト、アリル（メタ）アクリレート、プロパギル（メタ）
アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチ
ル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アク
リレート、アントラキノニル（メタ）アクリレート、ピ
ペロニル（メタ）アクリレート、サリチル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベン
ジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリ
レート、クレシル（メタ）アクリレート、グリシジル
（メタ）アクリレート、１,１,１−トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、パーフルオロエチル（メタ）ア
クリレート、パーフルオロ−ｎ−プロピル（メタ）アク
リレート、パーフルオロ−ｉ−プロピル（メタ）アクリ
レート、トリフェニルメチル（メタ）アクリレート、ト
リシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イル（メタ）
アクリレート（当該技術分野で慣用的に「ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート」といわれている）、クミ
ル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミ
ノ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、フリル
（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレー
トの如き（メタ）アクリル酸エステル；
【００１５】（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）ア
クリル酸アミド、または（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジエチルア
ミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸アントラニルアミド、（メタ）アク
リロニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、Ｎ−フェニルマレ
イミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、
Ｎ−メタクリロイルフタルイミド、Ｎ−アクリロイルフ
タルイミド等を用いることができる。
クリル酸アミド、または（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジエチルア
ミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸アントラニルアミド、（メタ）アク
リロニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、Ｎ−フェニルマレ
イミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、
Ｎ−メタクリロイルフタルイミド、Ｎ−アクリロイルフ
タルイミド等を用いることができる。
【００１６】これらのうち、好ましいその他のラジカル
重合性モノマーとして、スチレン、ブタジエン、フェニ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、トリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イル
（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらは
１種または２種以上を併用することができる。
重合性モノマーとして、スチレン、ブタジエン、フェニ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、トリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イル
（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらは
１種または２種以上を併用することができる。
【００１７】これらのその他のラジカル重合性モノマー
の共重合割合は、アルカリ可溶性を付与せしめる基の種
類によって異なる。水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーがフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーである場合、その他のラジカル重合性モノマーの共
重合割合は、フェノール性水酸基を有するラジカル重合
性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとの合計
量に対して、好ましくは３０重量％以下、より好ましく
は５〜２０重量％である。また、カルボキシル基を有す
るラジカル重合性モノマーである場合、その他のラジカ
ル重合性モノマーの共重合割合は、カルボキシル基を有
するラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性
モノマーとの合計量に対して、好ましくは０〜９０重量
％、より好ましくは１０〜８０重量％である。これらそ
の他のラジカル重合性モノマーの共重合割合が水酸基ま
たはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーに
対して前述した割合を越えるとアルカリ現像性が不十分
となる場合がある。
の共重合割合は、アルカリ可溶性を付与せしめる基の種
類によって異なる。水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーがフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーである場合、その他のラジカル重合性モノマーの共
重合割合は、フェノール性水酸基を有するラジカル重合
性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとの合計
量に対して、好ましくは３０重量％以下、より好ましく
は５〜２０重量％である。また、カルボキシル基を有す
るラジカル重合性モノマーである場合、その他のラジカ
ル重合性モノマーの共重合割合は、カルボキシル基を有
するラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性
モノマーとの合計量に対して、好ましくは０〜９０重量
％、より好ましくは１０〜８０重量％である。これらそ
の他のラジカル重合性モノマーの共重合割合が水酸基ま
たはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーに
対して前述した割合を越えるとアルカリ現像性が不十分
となる場合がある。
【００１８】以上のようなアルカリ可溶性樹脂のうち、
特に好ましく使用されるものとして、ポリｐ−ヒドロキ
シスチレン、メチルｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒド
ロキシスチレン共重合体、スチレン／ｐ−ヒドロキシス
チレン共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタクリル
酸グリシジル共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタ
クリル酸グリシジル／トリシクロ［５.２.１.０2,6］デ
カン−８−イルメタクリレート共重合体、スチレン／メ
タクリル酸／メタクリル酸グリシジル／シクロヘキシル
マレイミド共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタク
リル酸グリシジル／シクロヘキシルマレイミド／ｐ−ビ
ニルベンジルグリシジルエーテル共重合体、スチレン／
メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ
［５.２.１.０2,6］デカン−８−イルメタアクリレート
／１，３−ブタジエン共重合体、スチレン／メタクリル
酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５.２.１.
０2,6］デカン−８−イルメタアクリレート／シクロヘ
キシルマレイミド／１，３−ブタジエン共重合体等を挙
げることができる。
特に好ましく使用されるものとして、ポリｐ−ヒドロキ
シスチレン、メチルｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒド
ロキシスチレン共重合体、スチレン／ｐ−ヒドロキシス
チレン共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタクリル
酸グリシジル共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタ
クリル酸グリシジル／トリシクロ［５.２.１.０2,6］デ
カン−８−イルメタクリレート共重合体、スチレン／メ
タクリル酸／メタクリル酸グリシジル／シクロヘキシル
マレイミド共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタク
リル酸グリシジル／シクロヘキシルマレイミド／ｐ−ビ
ニルベンジルグリシジルエーテル共重合体、スチレン／
メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ
［５.２.１.０2,6］デカン−８−イルメタアクリレート
／１，３−ブタジエン共重合体、スチレン／メタクリル
酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５.２.１.
０2,6］デカン−８−イルメタアクリレート／シクロヘ
キシルマレイミド／１，３−ブタジエン共重合体等を挙
げることができる。
【００１９】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の合成に用いら
れる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ジ
アセトンアルコールなどのアルコール類；テトラヒドロ
フラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエー
テル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメ
チルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエ
チルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロピルエーテルアセテートプロピレングリコールブチ
ルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアル
キルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブ
チルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；
れる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ジ
アセトンアルコールなどのアルコール類；テトラヒドロ
フラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエー
テル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメ
チルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエ
チルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロピルエーテルアセテートプロピレングリコールブチ
ルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアル
キルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブ
チルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；
【００２０】トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒド
ロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；
および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３
−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブ
トキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２
−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−
エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン
酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブト
キシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸
ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシ
プロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキ
シプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸
ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル
類が挙げられる。これらの溶媒の使用量は、反応原料１
００重量部当たり、好ましくは２０〜１,０００重量部
である。
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒド
ロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；
および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３
−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブ
トキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２
−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−
エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン
酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブト
キシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸
ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシ
プロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキ
シプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸
ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロ
ピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル
類が挙げられる。これらの溶媒の使用量は、反応原料１
００重量部当たり、好ましくは２０〜１,０００重量部
である。
【００２１】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の製造に用いら
れる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤
として知られているものが使用でき、例えば２,２’−
アゾビスイソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−
（２,４−ジメチルバレロニトリル）、２,２’−アゾビ
ス−（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリ
ル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウ
ロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレー
ト、１,１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロ
ヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素が挙げ
られる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場
合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型
開始剤としてもよい。
れる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤
として知られているものが使用でき、例えば２,２’−
アゾビスイソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−
（２,４−ジメチルバレロニトリル）、２,２’−アゾビ
ス−（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリ
ル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウ
ロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレー
ト、１,１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロ
ヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素が挙げ
られる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場
合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型
開始剤としてもよい。
【００２２】本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂の別の合成法としては、前述のフェノール性水酸基
またはカルボキシル基含有ラジカル重合性モノマーの、
フェノール性水酸基またはカルボキシル基をアルキル
基、アセチル基、フェナシル基等の保護基で保護したモ
ノマーに相当するモノマーの単独重合体または該相当す
るモノマーとその他のモノマーとの共重合体を得た後、
加水分解等の反応で脱保護することによりアルカリ可溶
性を付与する方法によっても合成できる。
樹脂の別の合成法としては、前述のフェノール性水酸基
またはカルボキシル基含有ラジカル重合性モノマーの、
フェノール性水酸基またはカルボキシル基をアルキル
基、アセチル基、フェナシル基等の保護基で保護したモ
ノマーに相当するモノマーの単独重合体または該相当す
るモノマーとその他のモノマーとの共重合体を得た後、
加水分解等の反応で脱保護することによりアルカリ可溶
性を付与する方法によっても合成できる。
【００２３】このような方法で合成されるアルカリ可溶
性樹脂のうち、特に好ましく使用されるものとして、ポ
リ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ｏ−メチル−ｐ−ヒド
ロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、ス
チレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体等を挙げるこ
とができる。本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂としてのフェノール性水酸基もしくはカルボキシル
基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合体または
該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジカル重
合性モノマーとの共重合体は、水素添加等の処理により
透明性や軟化点が修正されたものを使用してもよい。
性樹脂のうち、特に好ましく使用されるものとして、ポ
リ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ｏ−メチル−ｐ−ヒド
ロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、ス
チレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体等を挙げるこ
とができる。本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂としてのフェノール性水酸基もしくはカルボキシル
基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合体または
該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジカル重
合性モノマーとの共重合体は、水素添加等の処理により
透明性や軟化点が修正されたものを使用してもよい。
【００２４】本発明において使用されるフェノール性水
酸基もしくはカルボキシル基を有するラジカル重合性モ
ノマーの単独重合体または該ラジカル重合性モノマーと
それ以外の他のラジカル重合性モノマーとの共重合体の
ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
うことがある。）は、好ましくは２,０００〜１００,０
００、より好ましくは３,０００〜５０,０００、特に好
ましくは５,０００〜３０,０００である。この範囲でパ
ターン形状、解像度、現像性および耐熱性と、現像性お
よび感度のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物を与
えることができる。
酸基もしくはカルボキシル基を有するラジカル重合性モ
ノマーの単独重合体または該ラジカル重合性モノマーと
それ以外の他のラジカル重合性モノマーとの共重合体の
ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
うことがある。）は、好ましくは２,０００〜１００,０
００、より好ましくは３,０００〜５０,０００、特に好
ましくは５,０００〜３０,０００である。この範囲でパ
ターン形状、解像度、現像性および耐熱性と、現像性お
よび感度のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物を与
えることができる。
【００２５】これらアルカリ可溶性樹脂の市販品として
は、マルカリンカーＭ、同ＰＨＭ−Ｃ（以上、丸善石油
化学（株）製）、ＶＰ−１５０００（日本曹達（株）
製）等のヒドロキシスチレン（共）重合体またはその部
分水素添加物等を挙げることができる。
は、マルカリンカーＭ、同ＰＨＭ−Ｃ（以上、丸善石油
化学（株）製）、ＶＰ−１５０００（日本曹達（株）
製）等のヒドロキシスチレン（共）重合体またはその部
分水素添加物等を挙げることができる。
【００２６】上記ノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類とを酸触媒存在下で重縮合して得られる。こ
の際使用されるフェノール類としては、例えば、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ
−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチ
ルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２,３−キシレ
ノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、
３,４−キシレノール、３,５−キシレノール、２,３,５
−トリメチルフェノール、３,４,５−トリメチルフェノ
ール、ｐ−フェニルフェノール、ヒドロキノン、カテコ
ール、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、ピ
ロガロール、α−ナフトール、β−ナフトール、ビスフ
ェノールＡ、ジヒドロキシ安息香酸エステル、没食子酸
エステル、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフェノー
ル、ｐ−ニトロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ
−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール等を挙げる
ことができる。これらの化合物のうちｏ−クレゾール、
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２,３−キシレノー
ル、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、２,
３,５−トリメチルフェノール、レゾルシノール、２−
メチルレゾルシノール等が好ましい。これらのフェノー
ル類は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用するこ
とができる。
ルデヒド類とを酸触媒存在下で重縮合して得られる。こ
の際使用されるフェノール類としては、例えば、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ
−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチ
ルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２,３−キシレ
ノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、
３,４−キシレノール、３,５−キシレノール、２,３,５
−トリメチルフェノール、３,４,５−トリメチルフェノ
ール、ｐ−フェニルフェノール、ヒドロキノン、カテコ
ール、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、ピ
ロガロール、α−ナフトール、β−ナフトール、ビスフ
ェノールＡ、ジヒドロキシ安息香酸エステル、没食子酸
エステル、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフェノー
ル、ｐ−ニトロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ
−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール等を挙げる
ことができる。これらの化合物のうちｏ−クレゾール、
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２,３−キシレノー
ル、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、２,
３,５−トリメチルフェノール、レゾルシノール、２−
メチルレゾルシノール等が好ましい。これらのフェノー
ル類は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用するこ
とができる。
【００２７】また、上記フェノール類と重縮合するアル
デヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、フェニルアルデヒド、α−フ
ェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアル
デヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズア
ルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニトロベ
ンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−ニ
トロベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、
ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデ
ヒド、ｏ−エチルベンズアルデヒド、ｍ−エチルベンズ
アルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブ
チルアルデヒド、フルフラール、１−ナフトアルデヒ
ド、２−ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフ
トアルデヒド等を挙げることができる。また、反応中に
アルデヒドを生成する化合物として、トリオキサン等も
前記アルデヒド類と同様に使用できる。これらのうち、
特にホルムアルデヒドを好適に用いることができる。こ
れらのアルデヒド類およびアルデヒドを生成する化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することが
できる。アルデヒド類はフェノール類に対して、通常、
０.７〜３モル、好ましくは０.７〜２モルの割合で使用
される。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢
酸、シュウ酸等を使用することができる。その使用量
は、フェノール類１モル当たり１×１０-4〜５×１０-1
モルが好ましい。
デヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、フェニルアルデヒド、α−フ
ェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアル
デヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズア
ルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニトロベ
ンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−ニ
トロベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、
ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデ
ヒド、ｏ−エチルベンズアルデヒド、ｍ−エチルベンズ
アルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブ
チルアルデヒド、フルフラール、１−ナフトアルデヒ
ド、２−ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフ
トアルデヒド等を挙げることができる。また、反応中に
アルデヒドを生成する化合物として、トリオキサン等も
前記アルデヒド類と同様に使用できる。これらのうち、
特にホルムアルデヒドを好適に用いることができる。こ
れらのアルデヒド類およびアルデヒドを生成する化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することが
できる。アルデヒド類はフェノール類に対して、通常、
０.７〜３モル、好ましくは０.７〜２モルの割合で使用
される。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢
酸、シュウ酸等を使用することができる。その使用量
は、フェノール類１モル当たり１×１０-4〜５×１０-1
モルが好ましい。
【００２８】重縮合の反応には、通常、反応媒質として
水が用いられるが、重縮合の反応において使用するフェ
ノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期
から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性有
機溶媒を使用することもできる。この際使用される溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール
等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の環状エーテル類を挙げることができる。これらの反応
媒質の使用量は、反応原料１００重量部当たり、２０〜
４００重量部が好ましい。重縮合の反応温度は、反応原
料の反応性に応じて適宜調節することができるが、通
常、１０〜２００℃である。重縮合の反応終了後、系内
に存在する未反応原料、酸触媒および反応媒質を除去す
るため、一般的には温度を１３０〜２３０℃に上昇さ
せ、減圧下に揮発分を留去してノボラック樹脂を回収す
ることができる。
水が用いられるが、重縮合の反応において使用するフェ
ノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期
から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性有
機溶媒を使用することもできる。この際使用される溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール
等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の環状エーテル類を挙げることができる。これらの反応
媒質の使用量は、反応原料１００重量部当たり、２０〜
４００重量部が好ましい。重縮合の反応温度は、反応原
料の反応性に応じて適宜調節することができるが、通
常、１０〜２００℃である。重縮合の反応終了後、系内
に存在する未反応原料、酸触媒および反応媒質を除去す
るため、一般的には温度を１３０〜２３０℃に上昇さ
せ、減圧下に揮発分を留去してノボラック樹脂を回収す
ることができる。
【００２９】このようなノボラック樹脂のうち、特に好
ましく使用されるものとして、ｍ−クレゾール／ホルム
アルデヒド重縮合体、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール
／ホルムアルデヒド重縮合体、ｍ−クレゾール／２，３
−キシレノール／ホルムアルデヒド重縮合体、ｍ−クレ
ゾール／２，４−キシレノール／ホルムアルデヒド重縮
合体、ｍ−クレゾール／２，５−キシレノール／ホルム
アルデヒド重縮合体等を挙げることができる。
ましく使用されるものとして、ｍ−クレゾール／ホルム
アルデヒド重縮合体、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール
／ホルムアルデヒド重縮合体、ｍ−クレゾール／２，３
−キシレノール／ホルムアルデヒド重縮合体、ｍ−クレ
ゾール／２，４−キシレノール／ホルムアルデヒド重縮
合体、ｍ−クレゾール／２，５−キシレノール／ホルム
アルデヒド重縮合体等を挙げることができる。
【００３０】また、ノボラック樹脂のポリスチレン換算
重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好まし
くは、２,０００〜２０,０００の範囲であり、３,００
０〜１５,０００の範囲であることがより好ましい。こ
の範囲の分子量範囲にあるノボラック樹脂を使用するこ
とにより、得られる組成物は、塗布性と、現像性および
感度のバランスに優れるものとなる。
重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好まし
くは、２,０００〜２０,０００の範囲であり、３,００
０〜１５,０００の範囲であることがより好ましい。こ
の範囲の分子量範囲にあるノボラック樹脂を使用するこ
とにより、得られる組成物は、塗布性と、現像性および
感度のバランスに優れるものとなる。
【００３１】（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物
本発明で用いられる（ｂ）１,２−キノンジアジド化合
物としては、放射線の照射によりカルボン酸を生成する
機能を有する１,２−キノンジアジド化合物が好まし
く、このようなものとして、１,２−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、１,２−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、１,２−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミド等を挙げることができる。これらの具体例
としては、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−
１,２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２,４,６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,４,
６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のトリヒドロ
キシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステル類；
物としては、放射線の照射によりカルボン酸を生成する
機能を有する１,２−キノンジアジド化合物が好まし
く、このようなものとして、１,２−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、１,２−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、１,２−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミド等を挙げることができる。これらの具体例
としては、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−
１,２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２,４,６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,４,
６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のトリヒドロ
キシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステル類；
【００３２】２,２’,４,４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２,２’,４,４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド
−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、２,３,４,２’−テトラ
ヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,
４,２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェ
ノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸
エステル、２,３,４,４’−テトラヒドロキシ−３’−
メトキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラ
ヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のテ
トラヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステル；２,３,４,２’,６’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,２’,
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のペンタ
ヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル；
ゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２,２’,４,４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド
−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、２,３,４,２’−テトラ
ヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,
４,２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェ
ノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸
エステル、２,３,４,４’−テトラヒドロキシ−３’−
メトキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラ
ヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のテ
トラヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステル；２,３,４,２’,６’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,２’,
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のペンタ
ヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル；
【００３３】２,４,６,３’,４’,５’−ヘキサヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル、２,４,６,３’,４’,５’−
ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル、３,４,５,３’,
４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,
４,５,３’,４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１,２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル、２,４,６,３’,４’,５’−
ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル、３,４,５,３’,
４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,
４,５,３’,４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１,２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
【００３４】ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メ
タン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−トリ
ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−ト
リヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２−ビス（２,
３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,２
−ビス（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン
−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、４,４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニ
ル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
２−ヒドロキシフェニルメタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、３,３,３’,３’
−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,６,
７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,３,３’,
３’−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,
６,７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−
トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−
１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロ
キシフラバン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アル
カンの１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルが挙げられる。
タン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−トリ
ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−ト
リヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２−ビス（２,
３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,２
−ビス（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン
−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、４,４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニ
ル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
２−ヒドロキシフェニルメタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、３,３,３’,３’
−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,６,
７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,３,３’,
３’−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,
６,７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−
トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−
１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロ
キシフラバン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アル
カンの１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルが挙げられる。
【００３５】これらの化合物のほかに、Ｊ. Ｋｏｓａ
ｒ 著“Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔｅ
ｍｓ”３３９〜３５２（１９６５）、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌ
ｅｙ＆ Ｓｏｎｓ 社（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）やＷ. Ｓ.
Ｄｅ Ｆｏｒｅｓ 著“Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ”５
０（１９７５） ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ, Ｉｎｃ.
（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）に記載されている１,２−キノン
ジアジド化合物を用いることができる。
ｒ 著“Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔｅ
ｍｓ”３３９〜３５２（１９６５）、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌ
ｅｙ＆ Ｓｏｎｓ 社（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）やＷ. Ｓ.
Ｄｅ Ｆｏｒｅｓ 著“Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ”５
０（１９７５） ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ, Ｉｎｃ.
（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）に記載されている１,２−キノン
ジアジド化合物を用いることができる。
【００３６】これらの１,２−キノンジアジド化合物の
うち、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２− ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、４,４’−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニ
ル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’
−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−トリメチル
−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１,２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
１,１,１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−
１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステ
ルが、特にアルカリ可溶性樹脂の溶解禁止効果の観点か
ら本発明において好適に用いられる。これらの１,２−
キノンジアジド化合物は単独でまたは２種以上を混合し
て用いることができる。
うち、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２− ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、４,４’−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニ
ル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’
−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−トリメチル
−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１,２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
１,１,１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−
１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステ
ルが、特にアルカリ可溶性樹脂の溶解禁止効果の観点か
ら本発明において好適に用いられる。これらの１,２−
キノンジアジド化合物は単独でまたは２種以上を混合し
て用いることができる。
【００３７】１,２−キノンジアジド化合物の添加量は
（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ま
しくは５〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量
部である。この添加量が５重量部未満のときは、１,２
−キノンジアジド化合物が放射線を吸収して生成するカ
ルボン酸量が少なく、パターンニングが困難となり易
い。一方、５０重量部を越える場合は、短時間の放射線
照射では添加した１,２−キノンジアジド化合物のすべ
てを分解することができ難く、アルカリ性水溶液からな
る現像液による現像が困難となる場合がある。 （ｂ）１,２−キノンジアジド化合物は、その一部また
は全量を上記（ａ）アルカリ可溶性樹脂と反応させて縮
合体を形成した形態で用いてもよい。また本発明の組成
物においては、主として感度を向上させる目的で１,２
−キノンジアジド化合物に対する増感剤を配合すること
ができる。増感剤としては、例えば２Ｈ−ピリド−
（３,２−ｂ）−１,４−オキサジン−３（４Ｈ）−オン
類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１,４）−ベン
ゾチアジン類、ウラゾ−ル類、ヒダントイン類、バルビ
ツ−ル酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾ−ル類、アロキサン類、マレイミド類等が挙げ
られる。これらの増感剤の配合量は、１,２−キノンジ
アジド化合物１００重量部に対して、好ましくは１００
重量部以下、より好ましくは４〜６０重量部である。
（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ま
しくは５〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量
部である。この添加量が５重量部未満のときは、１,２
−キノンジアジド化合物が放射線を吸収して生成するカ
ルボン酸量が少なく、パターンニングが困難となり易
い。一方、５０重量部を越える場合は、短時間の放射線
照射では添加した１,２−キノンジアジド化合物のすべ
てを分解することができ難く、アルカリ性水溶液からな
る現像液による現像が困難となる場合がある。 （ｂ）１,２−キノンジアジド化合物は、その一部また
は全量を上記（ａ）アルカリ可溶性樹脂と反応させて縮
合体を形成した形態で用いてもよい。また本発明の組成
物においては、主として感度を向上させる目的で１,２
−キノンジアジド化合物に対する増感剤を配合すること
ができる。増感剤としては、例えば２Ｈ−ピリド−
（３,２−ｂ）−１,４−オキサジン−３（４Ｈ）−オン
類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１,４）−ベン
ゾチアジン類、ウラゾ−ル類、ヒダントイン類、バルビ
ツ−ル酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾ−ル類、アロキサン類、マレイミド類等が挙げ
られる。これらの増感剤の配合量は、１,２−キノンジ
アジド化合物１００重量部に対して、好ましくは１００
重量部以下、より好ましくは４〜６０重量部である。
【００３８】（ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物 本発明で使用できるエポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物としては、例えばビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、環式脂肪族ポリグリシジルエーテル類、脂
肪族ポリグリシジルエーテル類、ならびにビスフェノー
ルＡおよびビスフェノールＦのグリシジルエーテルの如
き化合物を挙げることができる。これらのうち、ビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジル
エーテル類が現像性および得られる突起の断面形状コン
トロールの観点から好適に用いられる。
する化合物 本発明で使用できるエポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物としては、例えばビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、環式脂肪族ポリグリシジルエーテル類、脂
肪族ポリグリシジルエーテル類、ならびにビスフェノー
ルＡおよびビスフェノールＦのグリシジルエーテルの如
き化合物を挙げることができる。これらのうち、ビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジル
エーテル類が現像性および得られる突起の断面形状コン
トロールの観点から好適に用いられる。
【００３９】このようなエポキシ基を分子内に２個以上
含有する化合物の市販品としては、ビスフェノールＡ型
エポキシ樹脂としてエピコート１００１、１００２、１
００３、１００４、１００７、１００９、１０１０、８
２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等；ビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂としてエピコート８０７（油
化シェルエポキシ（株）製）等；フェノールノボラック
型エポキシ樹脂としてエピコート１５２、１５４（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、
２０２（日本化薬（株）製）等；クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂としてＥＯＣＮ−１０２、１０３Ｓ、１
０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化
薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエ
ポキシ（株）製）等；環式脂肪族エポキシ樹脂としてＣ
Ｙ−１７５、１７７、１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩ
ＧＹ Ａ.Ｇ.製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２
２１、４２０６（以上、Ｕ.Ｃ.Ｃ.社製）、ショーダイ
ン５０９（昭和電工（株）製）、アルダライトＣＹ−１
８２、１９２、１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ.Ｇ.製）、エピクロン２００、４００（以上、大日本
インキ（株）製）、エピコート８７１、８７２（以上、
油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、５６
６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；脂
肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００Ｍ
Ｆ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油
脂（株）製）等を挙げることができる。
含有する化合物の市販品としては、ビスフェノールＡ型
エポキシ樹脂としてエピコート１００１、１００２、１
００３、１００４、１００７、１００９、１０１０、８
２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等；ビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂としてエピコート８０７（油
化シェルエポキシ（株）製）等；フェノールノボラック
型エポキシ樹脂としてエピコート１５２、１５４（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、
２０２（日本化薬（株）製）等；クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂としてＥＯＣＮ−１０２、１０３Ｓ、１
０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化
薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエ
ポキシ（株）製）等；環式脂肪族エポキシ樹脂としてＣ
Ｙ−１７５、１７７、１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩ
ＧＹ Ａ.Ｇ.製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２
２１、４２０６（以上、Ｕ.Ｃ.Ｃ.社製）、ショーダイ
ン５０９（昭和電工（株）製）、アルダライトＣＹ−１
８２、１９２、１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ.Ｇ.製）、エピクロン２００、４００（以上、大日本
インキ（株）製）、エピコート８７１、８７２（以上、
油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、５６
６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；脂
肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００Ｍ
Ｆ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油
脂（株）製）等を挙げることができる。
【００４０】これらエポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物の添加量は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１０
０重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好
ましくは５〜３０重量部である。エポキシ基を分子内に
２個以上含有する化合物をこのような範囲で含有する組
成物から形成された突起は、耐熱性や耐ラビング性に優
れるものとなる。ここで、エポキシ基を分子内に２個以
上含有する化合物の添加量が１重量部より少ないと、
（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物に放射線を照射す
ることによって生成したカルボン酸との反応が充分に進
行し難く、そのような組成物から形成された突起は、耐
熱性、耐溶剤性に劣るものとなる場合がある。また５０
重量部を越えると形成される突起材の軟化点が低下し、
突起形成工程における加熱処理中に形状が保持でき難い
という問題が起こる場合がある。なお、前述の（ａ）ア
ルカリ可溶性樹脂において、共重合モノマーとしてエポ
キシ基含有不飽和モノマーを使用した場合は、「エポキ
シ基を分子内に２個以上含有する化合物」といいうる
が、アルカリ可溶性を有する点で（ｃ）成分とは異な
る。
する化合物の添加量は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１０
０重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好
ましくは５〜３０重量部である。エポキシ基を分子内に
２個以上含有する化合物をこのような範囲で含有する組
成物から形成された突起は、耐熱性や耐ラビング性に優
れるものとなる。ここで、エポキシ基を分子内に２個以
上含有する化合物の添加量が１重量部より少ないと、
（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物に放射線を照射す
ることによって生成したカルボン酸との反応が充分に進
行し難く、そのような組成物から形成された突起は、耐
熱性、耐溶剤性に劣るものとなる場合がある。また５０
重量部を越えると形成される突起材の軟化点が低下し、
突起形成工程における加熱処理中に形状が保持でき難い
という問題が起こる場合がある。なお、前述の（ａ）ア
ルカリ可溶性樹脂において、共重合モノマーとしてエポ
キシ基含有不飽和モノマーを使用した場合は、「エポキ
シ基を分子内に２個以上含有する化合物」といいうる
が、アルカリ可溶性を有する点で（ｃ）成分とは異な
る。
【００４１】（ｄ）成分
本発明で用いられる（ｄ）成分は、下記一般式（１）
【００４２】
【化６】
【００４３】（式中、Ｒ1〜Ｒ6は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物である。このような化合物と
しては、例えばヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチ
ロールメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのア
ルキル化体等を挙げることができる。このような化合物
の市販品としては、例えば、サイメル３００、３０１、
３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２
６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、
１１５８（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカ
ラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、
−４０、−３１、−４５、ニカラックＭｓ−１１、−０
０１、ニカラックＭｗ−３０、−２２（以上、三和ケミ
カル社製）などを好ましく使用することができる。
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物である。このような化合物と
しては、例えばヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチ
ロールメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのア
ルキル化体等を挙げることができる。このような化合物
の市販品としては、例えば、サイメル３００、３０１、
３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２
６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、
１１５８（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカ
ラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、
−４０、−３１、−４５、ニカラックＭｓ−１１、−０
０１、ニカラックＭｗ−３０、−２２（以上、三和ケミ
カル社製）などを好ましく使用することができる。
【００４４】本発明で用いられる（ｄ）成分の添加量
は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは５〜４０重
量部である。この範囲の添加量において、良好な形状の
粗面を形成でき、アルカリに対する適当な溶解性を示す
組成物が得られることとなる。
は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは５〜４０重
量部である。この範囲の添加量において、良好な形状の
粗面を形成でき、アルカリに対する適当な溶解性を示す
組成物が得られることとなる。
【００４５】（ｅ）成分
本発明で用いられる（ｅ）成分は、下記一般式（２）
【００４６】
【化７】
【００４７】（式中、Ｘはハロゲンを表わし、ＡはＣＸ
3または下記一般式
3または下記一般式
【００４８】
【化８】
【００４９】で表わされる基を示し、そしてＢ、Ｄおよ
びＥは、それぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基またはチオアルキル
基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基またはチオアリ
ール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１
〜１０のアルキル基のついた二級アミノ基、カルボキシ
ル基、水酸基、炭素数１〜１０のケトアルキル基または
ケトアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニ
ル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そして
ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる化合物であ
る。
びＥは、それぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基またはチオアルキル
基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基またはチオアリ
ール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１
〜１０のアルキル基のついた二級アミノ基、カルボキシ
ル基、水酸基、炭素数１〜１０のケトアルキル基または
ケトアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニ
ル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そして
ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる化合物であ
る。
【００５０】このような化合物としては、例えば２,４,
６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−
クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メチルチオフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
トキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（２−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−
β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３,
４,５−トリメトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β
−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（２−メチルチオ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン
等が挙げられる。
６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−
クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メチルチオフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
トキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（２−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−
β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３,
４,５−トリメトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β
−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（２−メチルチオ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン
等が挙げられる。
【００５１】これらのうち、２−（３−クロロフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンが好ましく使用
できる。
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンが好ましく使用
できる。
【００５２】（ｅ）成分の添加量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、耐熱性、耐溶剤性とに優れた突起を得る
ことができる。
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、耐熱性、耐溶剤性とに優れた突起を得る
ことができる。
【００５３】（ｆ）成分
本発明で用いられる（ｆ）成分は、下記一般式（３）
【００５４】
【化９】
【００５５】（式中、Ａの定義は上記式（２）に同じで
あり、Ｚは硫黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ
4、ＰＦ6、ＳｂＦ6、ＡｓＦ6、ｐ-トルエンスルホナー
ト、トリフルオロメタンスルホナートまたはトリフルオ
ロアセテートを示し、そしてｎは２または３を示す。）
で表わされる化合物である。
あり、Ｚは硫黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ
4、ＰＦ6、ＳｂＦ6、ＡｓＦ6、ｐ-トルエンスルホナー
ト、トリフルオロメタンスルホナートまたはトリフルオ
ロアセテートを示し、そしてｎは２または３を示す。）
で表わされる化合物である。
【００５６】このような化合物としては、例えば、ジフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニ
ルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニ
ルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニ
ウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウム−ｐ− トルエンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラ
フルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ビス
（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフ
ルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等のジア
リールヨードニウム塩；
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニ
ルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニ
ルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニ
ウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウム−ｐ− トルエンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラ
フルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ビス
（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフ
ルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等のジア
リールヨードニウム塩；
【００５７】トリフェニルスルホニウムテトラフルオロ
ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロ
メタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−ト
ルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニル
スルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフ
ェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネ
ート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフル
オロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニ
ルトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナー
ト等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。
ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロ
メタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−ト
ルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニル
スルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフ
ェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネ
ート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフル
オロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニ
ルトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナー
ト等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。
【００５８】これらの化合物のうち、ジフェニルヨード
ニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェ
ニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウム
トリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルト
リフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェ
ニルジフェニルトリフルオロアセテート等が好適に用い
られる。
ニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェ
ニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウム
トリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルト
リフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェ
ニルジフェニルトリフルオロアセテート等が好適に用い
られる。
【００５９】（ｆ）成分の添加量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、耐熱性、耐溶剤性とに優れた突起を得る
ことができる。
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、耐熱性、耐溶剤性とに優れた突起を得る
ことができる。
【００６０】本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を
形成するための感放射線性樹脂組成物は、下記するいず
れかの組合せに係る各成分を必須成分として含有するも
のである。 （１）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および （ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上有する化合物。 （２）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物。 （３）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、 （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物、および （ｅ）上記一般式（２）で表わされる化合物。 （４）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、 （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物、および （ｆ）上記一般式（３）で表わされる化合物。
形成するための感放射線性樹脂組成物は、下記するいず
れかの組合せに係る各成分を必須成分として含有するも
のである。 （１）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および （ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上有する化合物。 （２）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物。 （３）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、 （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物、および （ｅ）上記一般式（２）で表わされる化合物。 （４）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、 （ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、 （ｄ）上記一般式（１）で表わされる化合物、および （ｆ）上記一般式（３）で表わされる化合物。
【００６１】その他の添加剤
本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するため
の感放射線性樹脂組成物は、上記の組合せに係る各成分
を必須成分として含有するのみで十分な性能を発揮する
ことができるが、必要に応じてその他の添加剤を含有し
ても良い。このような添加剤としては、例えば、増感
剤、界面活性剤、接着助剤、保存安定剤、および消泡剤
等が挙げられる。
の感放射線性樹脂組成物は、上記の組合せに係る各成分
を必須成分として含有するのみで十分な性能を発揮する
ことができるが、必要に応じてその他の添加剤を含有し
ても良い。このような添加剤としては、例えば、増感
剤、界面活性剤、接着助剤、保存安定剤、および消泡剤
等が挙げられる。
【００６２】増感剤
組成物が前記（ｅ）成分、または前記（ｆ）成分を含有
するものであるとき、適宜増感剤を併用することができ
る。このような増感剤としては、例えばフラボン類、ジ
ベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カ
ルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルフィ
リン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセ
ン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、３−位お
よび／または７−位に置換基を有するクマリン類等を挙
げることができる。増感剤の使用割合は、（Ａ）成分１
００重量部に対して、３０重量部以下、好ましくは０.
１〜２０重量部以下である。
するものであるとき、適宜増感剤を併用することができ
る。このような増感剤としては、例えばフラボン類、ジ
ベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カ
ルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルフィ
リン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセ
ン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、３−位お
よび／または７−位に置換基を有するクマリン類等を挙
げることができる。増感剤の使用割合は、（Ａ）成分１
００重量部に対して、３０重量部以下、好ましくは０.
１〜２０重量部以下である。
【００６３】界面活性剤
本発明の組成物には、塗布性、例えばストリエーション
や乾燥塗膜形成後の放射線照射部の現像性を改良するた
めに界面活性剤を配合することもできる。界面活性剤と
しては例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエ
チレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジ
ステアレート等の、ポリエチレングリコールジアルキル
エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップＥＦ
３０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、メガ
ファックＦ１７１、１７２、１７３（大日本インキ
（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリ
ーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロ
ンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０
４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等の弗素系界面
活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越
化学工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸
系（共）重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化
学（株）製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の配
合量は、組成物の固形分あたり、通常０．５重量部以
下、好ましくは０．２重量部以下である。
や乾燥塗膜形成後の放射線照射部の現像性を改良するた
めに界面活性剤を配合することもできる。界面活性剤と
しては例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエ
チレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジ
ステアレート等の、ポリエチレングリコールジアルキル
エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップＥＦ
３０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、メガ
ファックＦ１７１、１７２、１７３（大日本インキ
（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリ
ーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロ
ンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０
４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等の弗素系界面
活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越
化学工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸
系（共）重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化
学（株）製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の配
合量は、組成物の固形分あたり、通常０．５重量部以
下、好ましくは０．２重量部以下である。
【００６４】突起を形成するための感放射線性樹脂組成
物の調製 本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するため
の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶剤に溶
解され、溶液状態で使用される。この際に用いられる溶
剤としては、組成物の各成分を溶解し、各成分と反応せ
ず、適当な蒸気圧を有するものが好ましく使用できる。
このような溶剤としては、例えば、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエ
ーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート
等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メ
チルイソブチルケトン等のケトン類、２−ヒドロキシプ
ロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エト
キシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプ
ロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレ
ート、酢酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオ
ン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メ
トキシプロピオン酸ブチル等のエステル類を用いること
ができる。これらの溶剤は、単独でまたは混合して用い
ることができる。
物の調製 本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するため
の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶剤に溶
解され、溶液状態で使用される。この際に用いられる溶
剤としては、組成物の各成分を溶解し、各成分と反応せ
ず、適当な蒸気圧を有するものが好ましく使用できる。
このような溶剤としては、例えば、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレング
リコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエ
ーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート
等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メ
チルイソブチルケトン等のケトン類、２−ヒドロキシプ
ロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エト
キシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプ
ロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレ
ート、酢酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオ
ン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メ
トキシプロピオン酸ブチル等のエステル類を用いること
ができる。これらの溶剤は、単独でまたは混合して用い
ることができる。
【００６５】さらに必要に応じて、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセ
トニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル
酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアル
コール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエ
チル、マレイン酸ジエチル、γ− ブチロラクトン、炭
酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセ
テート、カルビトールアセテート等の高沸点溶剤を添加
することもできる。
テル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセ
トニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル
酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアル
コール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエ
チル、マレイン酸ジエチル、γ− ブチロラクトン、炭
酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセ
テート、カルビトールアセテート等の高沸点溶剤を添加
することもできる。
【００６６】本発明の光拡散反射膜形成用組成物は、上
記のような溶剤を用いて、組成物の各成分を、固形分濃
度が例えば２０〜４０ｗｔ％となるように溶剤に溶解さ
せて調製することができる。必要に応じて、孔径 ０.２
μｍ程度のフィルターで濾過した後に用いても良い。
記のような溶剤を用いて、組成物の各成分を、固形分濃
度が例えば２０〜４０ｗｔ％となるように溶剤に溶解さ
せて調製することができる。必要に応じて、孔径 ０.２
μｍ程度のフィルターで濾過した後に用いても良い。
【００６７】突起の形成
次に、本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成す
るための感放射線性樹脂組成物を用いて本発明の垂直配
向型液晶表示素子の突起を形成する方法について述べ
る。本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成する
ための感放射線性樹脂組成物は、下地基板表面に塗布
し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗膜
とすることができる。ここで基板としては、例えばガラ
ス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用できる。塗布
方法として、例えばスプレー法、ロールコート法、回転
塗布法などの各種の方法を採用することができる。ま
た、プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合など
によっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間
程度の条件が最適である。次にプレベークされた塗膜に
所定パターンマスクを介して紫外線などの放射線を照射
し、さらに現像液により現像し、不要な部分を除去して
所定パターンを形成する。現像方法は液盛り法、ディッ
ピング法、シャワー法などのいずれでも良く、現像時間
は通常３０〜１８０秒間である。
るための感放射線性樹脂組成物を用いて本発明の垂直配
向型液晶表示素子の突起を形成する方法について述べ
る。本発明の垂直配向型液晶表示素子の突起を形成する
ための感放射線性樹脂組成物は、下地基板表面に塗布
し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗膜
とすることができる。ここで基板としては、例えばガラ
ス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用できる。塗布
方法として、例えばスプレー法、ロールコート法、回転
塗布法などの各種の方法を採用することができる。ま
た、プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合など
によっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間
程度の条件が最適である。次にプレベークされた塗膜に
所定パターンマスクを介して紫外線などの放射線を照射
し、さらに現像液により現像し、不要な部分を除去して
所定パターンを形成する。現像方法は液盛り法、ディッ
ピング法、シャワー法などのいずれでも良く、現像時間
は通常３０〜１８０秒間である。
【００６８】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの
環状３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キ
ノリンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用するこ
とができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活
性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用するこ
ともできる。
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの
環状３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キ
ノリンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用するこ
とができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活
性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用するこ
ともできる。
【００６９】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。形成され
たパターンに紫外線などの放射線を照射し、その後この
パターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置
により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより、垂
直配向型液晶表示素子の突起を得ることができる。
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。形成され
たパターンに紫外線などの放射線を照射し、その後この
パターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置
により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより、垂
直配向型液晶表示素子の突起を得ることができる。
【００７０】液晶表示素子
本発明の液晶表示素子は、上記のようにして形成された
突起を具備するＭＶＡ型液晶表示素子である。
突起を具備するＭＶＡ型液晶表示素子である。
【００７１】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるもので
はない。なお、以下において、「％」は「重量％」を意
味する。
るが、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるもので
はない。なお、以下において、「％」は「重量％」を意
味する。
【００７２】合成例１（樹脂ａ−１の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ
−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびア
ゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入
れ、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５０ｍ
ｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得
られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水
溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応
を行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート５００ｍｌを加えた後、脱イオン水１
０００ｍｌで３回洗浄した。その後、有機層を減圧にて
脱溶し、真空乾燥してＭｗ２４，０００のアルカリ可溶
性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）を得た。このアルカ
リ可溶性樹脂を、樹脂ａ−１とする。
−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびア
ゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入
れ、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５０ｍ
ｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得
られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水
溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応
を行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート５００ｍｌを加えた後、脱イオン水１
０００ｍｌで３回洗浄した。その後、有機層を減圧にて
脱溶し、真空乾燥してＭｗ２４，０００のアルカリ可溶
性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）を得た。このアルカ
リ可溶性樹脂を、樹脂ａ−１とする。
【００７３】合成例２（樹脂ａ−２の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、メ
タクレゾール５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾール
３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド
水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、
シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチ
ルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを
油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間
重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温
し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇ
まで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂を室温
まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成
分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の
１.３倍量のメタノールと、０.９倍量の水を加えて、攪
拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃
縮し、乾燥して、Ｍｗ８，０００のアルカリ可溶性樹脂
（ノボラック樹脂）を得た。このアルカリ可溶性樹脂
を、樹脂ａ−２とする。
タクレゾール５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾール
３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド
水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、
シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチ
ルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを
油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間
重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温
し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇ
まで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂を室温
まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成
分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の
１.３倍量のメタノールと、０.９倍量の水を加えて、攪
拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃
縮し、乾燥して、Ｍｗ８，０００のアルカリ可溶性樹脂
（ノボラック樹脂）を得た。このアルカリ可溶性樹脂
を、樹脂ａ−２とする。
【００７４】合成例３（樹脂ａ−３の合成）
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−ア
ゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８重量部お
よびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１０重量部、メタ
クリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量
部、トリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イルメ
タクリレート１５部およびシクロヘキシルマレイミド１
０重量部を仕込み窒素置換した後さらに１,３−ブタジ
エン５重量部を仕込みゆるやかに撹拌を始めた。溶液の
温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重
合体ａ−３を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶
液の固形分濃度は３１．０％重量であり、共重合体ａ−
３のＭｗは８，２００であった。
ゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８重量部お
よびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１０重量部、メタ
クリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量
部、トリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−８−イルメ
タクリレート１５部およびシクロヘキシルマレイミド１
０重量部を仕込み窒素置換した後さらに１,３−ブタジ
エン５重量部を仕込みゆるやかに撹拌を始めた。溶液の
温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重
合体ａ−３を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶
液の固形分濃度は３１．０％重量であり、共重合体ａ−
３のＭｗは８，２００であった。
【００７５】実施例１
（ａ）成分として樹脂ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０．０重量部、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート８２８を２０．
０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２（大
日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全体の
固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロピオ
ン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０．２μｍのメ
ンブランフィルターで濾過し、本発明の組成物溶液を調
製した。
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０．０重量部、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート８２８を２０．
０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２（大
日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全体の
固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロピオ
ン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０．２μｍのメ
ンブランフィルターで濾過し、本発明の組成物溶液を調
製した。
【００７６】（Ｉ）突起の形成
ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液を
塗布した後、９０℃で３分間ホットプレート上でプレベ
ークして膜厚１．０μmの塗膜を形成した。上記で得ら
れた塗膜に５μm幅の残しパターンのマスクを介して、
３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を
５秒間照射した。次いでテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド２．３８重量％水溶液で２５℃、３０秒間現像
した後、純水で１分間リンスした。さらに、３６５ｎｍ
での強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を３０秒間照
射した後、オーブン中、２２０℃で６０分間加熱し突起
を形成した。
塗布した後、９０℃で３分間ホットプレート上でプレベ
ークして膜厚１．０μmの塗膜を形成した。上記で得ら
れた塗膜に５μm幅の残しパターンのマスクを介して、
３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を
５秒間照射した。次いでテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド２．３８重量％水溶液で２５℃、３０秒間現像
した後、純水で１分間リンスした。さらに、３６５ｎｍ
での強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を３０秒間照
射した後、オーブン中、２２０℃で６０分間加熱し突起
を形成した。
【００７７】（II）解像度の評価
上記（Ｉ）で得られたパターンにおいて残しパターンが
解像できている場合を良好、解像できていない時を不良
とした。結果を表１に示す。
解像できている場合を良好、解像できていない時を不良
とした。結果を表１に示す。
【００７８】（III）突起断面形状の評価
パターンの断面形状を走査型電子顕微鏡にて観察した結
果、図１に示したＡ〜Ｃのどの形状に当たるかを図１に
示した。Ａに示した如く、底面が平面の半凸レンズ状に
パターンが形成された場合にパターン形状は良好、Ｂあ
るいはＣのようにパターンエッジが垂直、あるいは順テ
ーパー状に形成された場合には、パターン形状は不良と
いえる。
果、図１に示したＡ〜Ｃのどの形状に当たるかを図１に
示した。Ａに示した如く、底面が平面の半凸レンズ状に
パターンが形成された場合にパターン形状は良好、Ｂあ
るいはＣのようにパターンエッジが垂直、あるいは順テ
ーパー状に形成された場合には、パターン形状は不良と
いえる。
【００７９】（IV）耐熱性の評価
上記（Ｉ）で形成したパターンをオーブン中、２５０℃
で３０分加熱した。このときの膜厚の変化率を表１に示
した。この値の絶対値が加熱前後で５％以内のときに、
耐熱性良好といえる。
で３０分加熱した。このときの膜厚の変化率を表１に示
した。この値の絶対値が加熱前後で５％以内のときに、
耐熱性良好といえる。
【００８０】（Ｖ）耐溶剤性の評価
上記（Ｉ）で形成したパターンを７０℃に温度制御され
たジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、浸
漬による膜厚変化を測定した。結果を表１に示す。この
値の絶対値が５％未満の場合、耐溶剤性は良好といえ
る。
たジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、浸
漬による膜厚変化を測定した。結果を表１に示す。この
値の絶対値が５％未満の場合、耐溶剤性は良好といえ
る。
【００８１】（VI）配向膜塗布性の評価
上記(Ｉ)で得られた基板に、液晶配向剤としてＡＬ３０
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布した。ＭＶＡ突起上の配向剤のハ
ジキの有無を光学顕微鏡で観察した。結果を表１に示
す。ハジキが無い場合、配向膜塗布性は良好である。
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布した。ＭＶＡ突起上の配向剤のハ
ジキの有無を光学顕微鏡で観察した。結果を表１に示
す。ハジキが無い場合、配向膜塗布性は良好である。
【００８２】（VII）ラビング耐性の評価
上記(Ｉ)で得られた基板に、液晶配向剤としてＡＬ３０
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布し、１８０℃で1時間乾燥し、乾
燥膜厚０.０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜に、ナ
イロン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシ
ーンにより、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの
移動速度１ｃｍ/秒でラビング処理を行った。結果を表
１に示す。ＭＶＡ突起およびスペーサーパターンの削れ
や剥がれが無い場合、ラビング耐性は良好である。 実施例２ （ａ）成分として樹脂ａ−２ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分として
として三井サイアナミッド（株）製サイメル３００を２
０.０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２
（大日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全
体の固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロ
ピオン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０.２μｍ
のメンブランフィルターで濾過し、本発明の組成物溶液
を調製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示
した。 実施例３ （ａ）成分として樹脂ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として４，４´−［１−［４−［１−［４−ヒドロキ
シフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデ
ン］ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）との縮合
物（４，４´−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］
ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分と
してとして三井サイアナミッド（株）製サイメル３００
を２０.０重量部、（ｅ）成分として２−（４−メトキ
シ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンを０．２部、界面活性剤としてメ
ガファックＦ１７２（大日本インキ（株）製）を０．０
１重量部混合し、全体の固形分濃度が２５％になるよう
に３−メトキシプロピオン酸メチルで希釈・溶解させた
後、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで濾過し、
本発明の組成物溶液を調製し、実施例１と同様に評価し
た。結果を表１に示した。
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布し、１８０℃で1時間乾燥し、乾
燥膜厚０.０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜に、ナ
イロン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシ
ーンにより、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの
移動速度１ｃｍ/秒でラビング処理を行った。結果を表
１に示す。ＭＶＡ突起およびスペーサーパターンの削れ
や剥がれが無い場合、ラビング耐性は良好である。 実施例２ （ａ）成分として樹脂ａ−２ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分として
として三井サイアナミッド（株）製サイメル３００を２
０.０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２
（大日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全
体の固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロ
ピオン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０.２μｍ
のメンブランフィルターで濾過し、本発明の組成物溶液
を調製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示
した。 実施例３ （ａ）成分として樹脂ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として４，４´−［１−［４−［１−［４−ヒドロキ
シフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデ
ン］ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）との縮合
物（４，４´−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］
ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分と
してとして三井サイアナミッド（株）製サイメル３００
を２０.０重量部、（ｅ）成分として２−（４−メトキ
シ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンを０．２部、界面活性剤としてメ
ガファックＦ１７２（大日本インキ（株）製）を０．０
１重量部混合し、全体の固形分濃度が２５％になるよう
に３−メトキシプロピオン酸メチルで希釈・溶解させた
後、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで濾過し、
本発明の組成物溶液を調製し、実施例１と同様に評価し
た。結果を表１に示した。
【００８３】実施例４
実施例１において（ａ）成分として樹脂ａ−１ １００
重量部にかえて樹脂ａ−３を含む溶液の、樹脂ａ−３
１００重量部に相当する量を使用し、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート１５２を使用し
た他は実施例１と同様に組成物溶液を調製し評価した。
結果を表１に示した。
重量部にかえて樹脂ａ−３を含む溶液の、樹脂ａ−３
１００重量部に相当する量を使用し、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート１５２を使用し
た他は実施例１と同様に組成物溶液を調製し評価した。
結果を表１に示した。
【００８４】実施例５
実施例３において（ａ）成分として樹脂ａ−１にかえて
樹脂ａ−２を使用し、（ｂ）成分として４，４´−［１
−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチ
ルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１
モル）と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸クロリド（２モル）との縮合物（４，４´−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル）
にかえて１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を使用した他は実施例３と同様に組成
物溶液を調製し評価した。結果を表１に示した。
樹脂ａ−２を使用し、（ｂ）成分として４，４´−［１
−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチ
ルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１
モル）と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸クロリド（２モル）との縮合物（４，４´−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル）
にかえて１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を使用した他は実施例３と同様に組成
物溶液を調製し評価した。結果を表１に示した。
【００８５】実施例６
（ａ）成分として樹脂ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分として
三井サイアナミッド（株）製サイメル３００を２０.０
重量部、（ｆ）成分としてトリフェニルスルホニウムト
リフルオロメタンスルホナートを１．０重量部、さら
に、増感剤として９−ヒドロキシメチルアントラセンを
０．５重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２
（大日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全
体の固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロ
ピオン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０.２μｍ
のメンブランフィルターで濾過し、組成物溶液を調製し
た。実施例１と同様に評価した。結果を表１に示した。
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｄ）成分として
三井サイアナミッド（株）製サイメル３００を２０.０
重量部、（ｆ）成分としてトリフェニルスルホニウムト
リフルオロメタンスルホナートを１．０重量部、さら
に、増感剤として９−ヒドロキシメチルアントラセンを
０．５重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２
（大日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合し、全
体の固形分濃度が２５％になるように３−メトキシプロ
ピオン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０.２μｍ
のメンブランフィルターで濾過し、組成物溶液を調製し
た。実施例１と同様に評価した。結果を表１に示した。
【００８６】実施例７
実施例１において、（ｂ）成分として１,１,３−トリス
（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−
フェニルプロパン（１モル）と１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸クロリド（１.９モル）との縮
合物（１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル）を４
５．０重量部を使用した他は、実施例１と同様に組成物
溶液を調製し評価した。結果を表１に示した。
（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−
フェニルプロパン（１モル）と１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸クロリド（１.９モル）との縮
合物（１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル）を４
５．０重量部を使用した他は、実施例１と同様に組成物
溶液を調製し評価した。結果を表１に示した。
【００８７】実施例８
実施例１において、（ｃ）成分として油化シェルエポキ
シ（株）製エピコート８２８を２．０重量部を使用した
他は実施例１と同様に組成物溶液を調製し評価した。結
果を表１に示した。
シ（株）製エピコート８２８を２．０重量部を使用した
他は実施例１と同様に組成物溶液を調製し評価した。結
果を表１に示した。
【００８８】実施例９
実施例１において、界面活性剤としてのメガファックＦ
１７２（大日本インキ（株）製）を加えない以外は実施
例１と同様に組成物溶液を調製し、評価した。結果を表
１に示した。
１７２（大日本インキ（株）製）を加えない以外は実施
例１と同様に組成物溶液を調製し、評価した。結果を表
１に示した。
【００８９】
【表１】
【００９０】
【発明の効果】本発明により、垂直配向型液晶表示素子
の突起を形成するために好適に用いられる感放射線性樹
脂組成物、およびそれから形成された突起、それらを具
備する液晶表示素子が提供される。本発明で得られる突
起は、溶剤に対する耐性、配向膜材料に対する濡れ性、
配向膜形成工程で加えられる熱に対する耐性、およびラ
ビング工程に耐えうる密着性や強度（ラビング耐性）等
の諸性能に優れる。
の突起を形成するために好適に用いられる感放射線性樹
脂組成物、およびそれから形成された突起、それらを具
備する液晶表示素子が提供される。本発明で得られる突
起は、溶剤に対する耐性、配向膜材料に対する濡れ性、
配向膜形成工程で加えられる熱に対する耐性、およびラ
ビング工程に耐えうる密着性や強度（ラビング耐性）等
の諸性能に優れる。
【００９１】
【図１】突起の断面形状を示す模式図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０３Ｆ 7/032 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/032 ５０１
Ｆターム(参考） 2H025 AA03 AA06 AA10 AB14 AB20
AC01 AD01 BD23 BE01 CA14
CA48 CC04 CC17
2H090 HB07Y HC13 MA01 MA07
MB13
4J036 AD08 AF06 AF07 AJ05 AJ08
DA09 DC34 DC45 FB02 FB03
FB04 HA02 HA03 JA09
Claims (7)
- 【請求項１】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
２−キノンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を
分子内に２個以上有する化合物を含有することを特徴と
する、垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための
感放射線性樹脂組成物。 - 【請求項２】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
２−キノンジアジド化合物、および（ｄ）下記一般式
（１） 【化１】 （式中、Ｒ1〜Ｒ6は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示し、Ｒは水素原
子または炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表わさ
れる化合物を含有することを特徴とする、垂直配向型液
晶表示素子の突起を形成するための感放射線性樹脂組成
物。 - 【請求項３】 さらに、（ｅ）下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｘはハロゲンを表わし、ＡはＣＸ3または下記
一般式 【化３】 で表わされる基を示し、そしてＢ、ＤおよびＥは、それ
ぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基またはチオアルキル基、炭素数６〜
１２のアリールオキシ基またはチオアリール基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１０のアルキ
ル基のついた二級アミノ基、カルボキシル基、水酸基、
炭素数１〜１０のケトアルキル基またはケトアリール
基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基またはア
ルキルカルボニルオキシ基を示し、そしてｍは１〜５の
整数を示す。）で表わされる化合物を含有することを特
徴とする、請求項２に記載の感放射線性樹脂組成物。 - 【請求項４】 さらに、（ｆ）下記一般式（３） 【化４】 （式中、Ａの定義は上記式（２）に同じであり、Ｚは硫
黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ4、ＰＦ6、Ｓ
ｂＦ6、ＡｓＦ6、ｐ-トルエンスルホナート、トリフル
オロメタンスルホナートまたはトリフルオロアセテート
を示し、そしてｎは２または３を示す。）で表わされる
化合物を含有することを特徴とする、請求項２に記載の
感放射線性樹脂組成物。 - 【請求項５】 さらに界面活性剤を含有する、請求項１
〜４のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項に記載の感
放射線性樹脂組成物から形成された垂直配向型液晶表示
素子の突起。 - 【請求項７】 請求項６に記載の突起を具備する液晶表
示素子。
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