JP2003157592A - Optical recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents
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Landscapes
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関
し、特に、薄い光透過層を有する光記録媒体に関する。
また、本発明は、光記録媒体の製造方法に関し、特に、
光透過層の薄い光記録媒体の製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium having a thin light transmitting layer.
The present invention also relates to a method for manufacturing an optical recording medium, and in particular,
The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium having a thin light transmitting layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、デジタルデータを記録するた
めの記録媒体として、CDやDVDに代表される光記録
媒体が多く利用されている。このような光記録媒体から
のデータの読み出しにおいては、いわゆる誤り訂正処理
が行われ、これによって読み出されたデータに誤りが含
まれている場合には、これが訂正されて正しいデータに
復元される。誤り訂正処理によって訂正可能な誤りのレ
ベルはそのアルゴリズムによって異なるが、これを超え
るレベルの誤りが含まれている場合には、もはや誤りの
訂正は不可能であり、隣接する前後のデータを用いた補
償データの生成が行われる。2. Description of the Related Art Conventionally, optical recording media represented by CD and DVD have been widely used as recording media for recording digital data. In reading data from such an optical recording medium, so-called error correction processing is performed, and if the read data contains an error, this is corrected and restored to correct data. . The level of error that can be corrected by the error correction process differs depending on the algorithm, but if the level of error exceeds this level, the error cannot be corrected anymore, and the data before and after the adjacent data is used. Compensation data is generated.
【0003】このようなデータの誤りを生じさせる主要
な原因の一つとして、光記録媒体内の光透過層に含まれ
る欠陥の存在が挙げられる。光透過層に含まれる欠陥と
しては、異物の混入や気泡の発生等があり、一般に、欠
陥のサイズが大きいほどデータに生じる誤りのレベルが
高くなる。このため、光記録媒体の製造に際しては、誤
り訂正処理によっても訂正が不可能な高レベルの誤りを
生じさせないよう、光透過層に含まれる欠陥に対しては
所定の許容サイズ(臨界値)が定められ、これを超える
サイズの欠陥が光透過層に含まれている場合には、その
光記録媒体は不良品として取り扱われる。One of the main causes of such data error is the presence of defects contained in the light transmitting layer in the optical recording medium. Defects contained in the light transmitting layer include the inclusion of foreign matter and the generation of bubbles. Generally, the larger the size of the defect, the higher the level of error that occurs in the data. Therefore, when manufacturing an optical recording medium, a predetermined allowable size (critical value) is set for defects contained in the light transmitting layer so that a high level error that cannot be corrected even by an error correction process does not occur. If the light transmitting layer contains a defect having a size larger than this, the optical recording medium is treated as a defective product.
【0004】一般に、誤り訂正処理においては、光透過
層に含まれる欠陥の最大サイズが所定値を超えると、誤
り訂正ができなくなる可能性が急速に高まる。このた
め、従来より、光記録媒体の製造に際しては、光透過層
に含まれる欠陥の臨界値はかかる所定値に合わせて設定
され、臨界値を超えるサイズの欠陥が光透過層に含まれ
ている場合には、その光記録媒体を不良品として取り扱
うのが通常であった。Generally, in the error correction process, if the maximum size of the defect contained in the light transmitting layer exceeds a predetermined value, the possibility that the error cannot be corrected rapidly increases. Therefore, conventionally, in the manufacture of an optical recording medium, the critical value of the defect contained in the light transmitting layer is set according to such a predetermined value, and the defect having a size exceeding the critical value is contained in the light transmitting layer. In such cases, it was usual to handle the optical recording medium as a defective product.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、より
大容量のデジタルデータを記録すべく、光記録媒体の光
透過層を薄膜化するとともに、データの読み出しに用い
られるレーザ光を収束するための対物レンズと光記録媒
体の表面との距離(ワーキング・ディスタンス)を非常
に狭く設定する技術が注目されている。このように光透
過層を薄膜化するとともにワーキング・ディスタンスを
狭く設定すれば、レーザ光の有効スポットを従来に比べ
て極めて小さく絞ることができるため、より高密度記録
を行うことが可能となる。By the way, in recent years, in order to record a large amount of digital data, the light transmitting layer of an optical recording medium is made thin and a laser beam used for reading data is converged. A technique for setting a very small distance (working distance) between the objective lens and the surface of the optical recording medium has attracted attention. If the light transmission layer is thinned and the working distance is set narrow as described above, the effective spot of the laser beam can be narrowed down to an extremely small value as compared with the conventional case, so that higher density recording can be performed.
【0006】しかしながら、光透過層が薄膜化された結
果、その膜厚が誤り訂正処理によって訂正ができない可
能性が高まる欠陥のサイズに近いか、あるいはこれより
も薄くなると、光透過層に含まれる欠陥の臨界値を、誤
り訂正処理によって訂正ができない可能性が高まる欠陥
のサイズと同じサイズに設定した場合、欠陥が表面から
大きく突き出しているような光記録媒体であっても、良
品として取り扱われてしまう可能性がある。上述の通
り、この種の光記録媒体に対するデータの読み出しにお
いてはワーキング・ディスタンスが非常に狭く設定され
ることから、表面から欠陥が大きく突き出しているよう
な光記録媒体を良品として取り扱うと、突出した欠陥が
対物レンズやこれを支持する支持体に接触するおそれが
生じてしまう。However, as a result of the thinning of the light transmitting layer, when the film thickness is close to or smaller than the size of the defect which is more likely to be uncorrectable by the error correction process, the light transmitting layer is included in the light transmitting layer. If the critical value of the defect is set to the same size as the size of the defect that is more likely to be uncorrectable by the error correction process, then even if the optical recording medium has a large protrusion from the surface, it is treated as a good product. There is a possibility that As described above, since the working distance is set to be extremely narrow when reading data from this type of optical recording medium, when an optical recording medium having a large defect protruding from the surface is treated as a good product, it is projected. Defects may come into contact with the objective lens or the support that supports it.
【0007】したがって、本発明の目的は、光透過層の
表面から突出している欠陥が低減された光記録媒体を提
供することである。Therefore, an object of the present invention is to provide an optical recording medium in which the defects protruding from the surface of the light transmitting layer are reduced.
【0008】また、本発明の他の目的は、薄い光透過層
を有する改良された光記録媒体を提供することである。Yet another object of the present invention is to provide an improved optical recording medium having a thin light transmitting layer.
【0009】また、本発明のさらに他の目的は、光透過
層の表面から欠陥が大きく突き出している光記録媒体を
効果的に排除することができる光記録媒体の製造方法を
提供することである。Still another object of the present invention is to provide an optical recording medium manufacturing method capable of effectively eliminating an optical recording medium having a large number of defects protruding from the surface of the light transmitting layer. .
【0010】また、本発明のさらに他の目的は、光透過
層の薄い光記録媒体の改良された製造方法を提供するこ
とである。Yet another object of the present invention is to provide an improved method of manufacturing an optical recording medium having a thin light transmitting layer.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
少なくとも光透過層及び記録層を備え、前記光透過層を
介して前記記録層にレーザ光を照射することによってデ
ータの再生及び/又は記録が行われる光記録媒体の製造
方法において、前記光透過層に付着あるいは前記光透過
層から突出した突出欠陥を検出する突出欠陥検査工程を
少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法
によって達成される。The object of the present invention is to:
A method of manufacturing an optical recording medium, comprising at least a light transmitting layer and a recording layer, wherein data is reproduced and / or recorded by irradiating the recording layer with a laser beam through the light transmitting layer. It is achieved by a method for manufacturing an optical recording medium, which comprises at least a protruding defect inspection step of detecting a protruding defect adhered to or protruding from the light transmitting layer.
【0012】本発明によれば、光透過層の表面から欠陥
が大きく突き出している光記録媒体を効果的に排除する
ことができるので、かかる欠陥が対物レンズやこれを支
持する支持体に接触するおそれの高い光記録媒体を排除
することが可能となる。このため、特に、ワーキング・
ディスタンスを狭く設定してデータの記録/再生を行う
光記録媒体の製造に好適となる。According to the present invention, it is possible to effectively eliminate an optical recording medium having a large number of defects protruding from the surface of the light transmitting layer, so that the defects come into contact with the objective lens and the support that supports it. It is possible to eliminate an optical recording medium that has a high risk. For this reason, especially
It is suitable for manufacturing an optical recording medium for recording / reproducing data with a small distance set.
【0013】本発明の好ましい実施態様においては、前
記光透過層の膜厚が50〜150μmである。In a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
【0014】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記突出欠陥検査工程においては、突出欠陥の高さ
の臨界値が約1μm〜約120μmの範囲内において選
択される。In a further preferred aspect of the present invention, in the projecting defect inspection step, the critical value of the projecting defect height is selected within the range of about 1 μm to about 120 μm.
【0015】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記高さの臨界値が約2μm〜約100μmの範囲
内において選択される。In a further preferred aspect of the present invention, the critical value for the height is selected in the range of about 2 μm to about 100 μm.
【0016】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記高さの臨界値が約5μm〜約50μmの範囲内
において選択される。[0016] In a further preferred aspect of the present invention, the critical value of the height is selected within the range of about 5 µm to about 50 µm.
【0017】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記光透過層に含まれる内部欠陥を検出する内部欠
陥検査工程をさらに含み、前記内部欠陥検査工程におい
ては、前記内部欠陥の第1の方向における臨界値と前記
第1の方向とは異なる第2の方向における臨界値とが異
なる値に設定されている。In a further preferred aspect of the present invention, the method further includes an internal defect inspection step of detecting an internal defect included in the light transmitting layer, wherein the internal defect inspection step is performed in the first direction of the internal defect. The critical value and the critical value in the second direction different from the first direction are set to different values.
【0018】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、内部欠陥サイズの臨界値を2方向からそれぞれ別個
に規定していることから、これら臨界値を適切に設定す
ることにより、歩留まりを大幅に低下させることなく、
不良ディスクを効果的に排除することが可能となる。According to a further preferred embodiment of the present invention, since the critical values of the internal defect size are defined separately from the two directions, the yield can be significantly reduced by setting these critical values appropriately. Without letting
It becomes possible to effectively eliminate defective disks.
【0019】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第1の方向が前記レーザ光の光軸に対して実質
的に垂直な方向であり、前記第2の方向が前記レーザ光
の光軸に対して実質的に水平な方向である。In a further preferred aspect of the present invention, the first direction is a direction substantially perpendicular to the optical axis of the laser light, and the second direction is the optical axis of the laser light. In contrast, it is a substantially horizontal direction.
【0020】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第1の方向における臨界値が、前記第2の方向
における臨界値よりも大きい。In a further preferred aspect of the present invention, the critical value in the first direction is larger than the critical value in the second direction.
【0021】本発明の前記目的はまた、少なくとも光透
過層及び記録層を備え、前記光透過層を介して前記記録
層にレーザ光を照射することによってデータの再生及び
/又は記録が行われる光記録媒体であって、前記光透過
層に付着あるいは前記光透過層から突出した突出欠陥の
うち前記光透過層の表面からの高さが最大である最大突
出欠陥の高さが、約1μm〜約120μmであることを
特徴とする光記録媒体によって達成される。The above-mentioned object of the present invention is also provided with at least a light transmitting layer and a recording layer, and light for reproducing and / or recording data by irradiating the recording layer with a laser beam through the light transmitting layer. In the recording medium, the height of the largest protruding defect having the maximum height from the surface of the light transmitting layer among the protruding defects attached to the light transmitting layer or protruding from the light transmitting layer has a height of about 1 μm to about. It is achieved by an optical recording medium characterized by having a thickness of 120 μm.
【0022】本発明によれば、突出欠陥の高さが抑制さ
れているので、データの記録/再生時において、かかる
欠陥が対物レンズやこれを支持する支持体に接触する可
能性が大幅に低減する。このため、特に、ワーキング・
ディスタンスを狭く設定してデータの記録/再生を行う
光記録媒体に好適となる。According to the present invention, since the height of the protruding defect is suppressed, the possibility of such defect contacting the objective lens and the support that supports it during data recording / reproduction is greatly reduced. To do. For this reason, especially
It is suitable for an optical recording medium for recording / reproducing data with a small distance set.
【0023】本発明の好ましい実施態様においては、前
記最大突出欠陥の高さが約2μm〜約100μmであ
る。In a preferred embodiment of the present invention, the maximum protruding defect has a height of about 2 μm to about 100 μm.
【0024】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記最大突出欠陥の高さが約5μm〜約50μmで
ある。In a further preferred aspect of the present invention, the height of the maximum protruding defect is about 5 μm to about 50 μm.
【0025】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記光透過層に含まれる内部欠陥のうち第1の方向
における長さが最大である第1の最大内部欠陥の当該方
向における長さよりも、前記光透過層に含まれる内部欠
陥のうち第2の方向における長さが最大である第2の最
大内部欠陥の当該方向における長さの方が短い。In a further preferred aspect of the present invention, the internal defect contained in the light-transmitting layer has a maximum length in the first direction, which is greater than a length of the first maximum internal defect in the direction. Among the internal defects included in the light transmitting layer, the length of the second maximum internal defect having the maximum length in the second direction is shorter than that of the second maximum internal defect.
【0026】本発明のさらに好ましい実施態様によれ
ば、第1の最大内部欠陥の第1の方向における長さより
も、第2の最大内部欠陥の第2の方向における長さの方
が短いことから、製造時において歩留まりを大幅に低下
させることがない。According to a further preferred embodiment of the present invention, the length of the second largest internal defect in the second direction is shorter than the length of the first largest internal defect in the first direction. In addition, the yield is not significantly reduced during manufacturing.
【0027】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第1の方向が前記レーザ光の光軸に対して実質
的に垂直な方向であり、前記第2の方向が前記レーザ光
の光軸に対して実質的に水平な方向である。In a further preferred aspect of the present invention, the first direction is substantially perpendicular to the optical axis of the laser light, and the second direction is the optical axis of the laser light. In contrast, it is a substantially horizontal direction.
【0028】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記光透過層の膜厚が50〜150μmである。In a further preferred aspect of the present invention, the thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
【0029】本発明の前記目的はまた、少なくとも光透
過層及び記録層を備え、前記光透過層を介して前記記録
層にレーザ光を照射することによってデータの再生及び
/又は記録が行われる光記録媒体の製造方法において、
前記光透過層に付着あるいは前記光透過層から突出した
突出欠陥を検出する突出欠陥検査工程を少なくとも含
み、前記検査工程においては、前記突出欠陥の突出部の
第1の方向における臨界値と前記第1の方向とは異なる
第2の方向における臨界値とが異なる値に設定されてい
ることを特徴とする光記録媒体の製造方法によって達成
される。The above object of the present invention is also a light which comprises at least a light transmitting layer and a recording layer, and by which the recording layer is irradiated with a laser beam through the light transmitting layer to reproduce and / or record data. In the method of manufacturing the recording medium,
At least a protruding defect inspection step of detecting a protruding defect attached to the light transmitting layer or protruding from the light transmitting layer is included. This is achieved by a method for manufacturing an optical recording medium, characterized in that the critical value in the second direction different from the one direction is set to a different value.
【0030】本発明によれば、対物レンズやこれを支持
する支持体に突出欠陥が接触(クラッシュ)する可能性
の高い不良ディスクを効果的に排除することができると
ともに、歩留まりを大幅に低下させることなく、誤り訂
正処理による訂正が不可能なレベルの誤りを生じさせ得
る突出欠陥を有する不良ディスクを効果的に排除するこ
とができる。According to the present invention, it is possible to effectively eliminate a defective disk that is highly likely to have a protruding defect in contact (crash) with the objective lens or a support body that supports the objective lens, and significantly reduce the yield. It is possible to effectively eliminate a defective disk having a protruding defect that may cause an error of a level that cannot be corrected by the error correction process.
【0031】本発明の好ましい実施態様においては、前
記光透過層の膜厚が50〜150μmである。In a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
【0032】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第1の方向が前記レーザ光の光軸に対して実質
的に垂直な方向であり、前記第2の方向が前記レーザ光
の光軸に対して実質的に水平な方向である。In a further preferred aspect of the present invention, the first direction is a direction substantially perpendicular to the optical axis of the laser light, and the second direction is an optical axis of the laser light. In contrast, it is a substantially horizontal direction.
【0033】本発明のさらに好ましい実施態様において
は、前記第1の方向における臨界値が、前記第2の方向
における臨界値よりも大きい。In a further preferred aspect of the present invention, the critical value in the first direction is larger than the critical value in the second direction.
【0034】[0034]
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Referring to the accompanying drawings,
A preferred embodiment of the present invention will be described in detail.
【0035】本発明の好ましい実施態様にかかる光記録
媒体の製造方法は、大きく分けて、成膜工程と検査工程
からなる。成膜工程は、光記録媒体を構成する複数の層
を形成するための工程であり、検査工程は、成膜工程に
よって作製された光記録媒体の欠陥を検査する工程であ
る。以下、これら各工程について説明する。A method of manufacturing an optical recording medium according to a preferred embodiment of the present invention roughly includes a film forming step and an inspection step. The film forming step is a step for forming a plurality of layers forming the optical recording medium, and the inspection step is a step for inspecting the optical recording medium produced by the film forming step for defects. Hereinafter, each of these steps will be described.
【0036】図1は、成膜工程を概略的に示すフローチ
ャートである。FIG. 1 is a flow chart schematically showing the film forming process.
【0037】図1に示されるように、成膜工程において
は、まず一方の面にグルーブが設けられ、その中心部に
センターホール4が設けられた基板1が作製される(ス
テップS1)。ここで、基板1は、グルーブに対応する
凹凸を備えるスタンパが配置された金型を用い、かかる
金型に溶融材料を射出することによって作製することが
できる。また、基板1の材質としては、特に限定されな
いが、ポリカーボネートを用いることが好ましい。ここ
で、基板1の厚みは、特に限定されないが、本実施態様
においては約1.1mmに設定される。As shown in FIG. 1, in the film forming process, first, a substrate 1 having a groove on one surface and a center hole 4 in the center thereof is manufactured (step S1). Here, the substrate 1 can be manufactured by using a die in which a stamper having irregularities corresponding to the grooves is arranged and injecting a molten material into the die. The material of the substrate 1 is not particularly limited, but polycarbonate is preferably used. Here, the thickness of the substrate 1 is not particularly limited, but is set to about 1.1 mm in this embodiment.
【0038】次に、かかる基板1の表面のうち、グルー
ブが設けられている面に記録層2を形成する(ステップ
S2)。記録層2の形成には、スパッタリング法を用い
ることが好ましい。また、記録層2の構成としては、特
に限定されないが、少なくとも相変化膜を含む多層構成
であることが好ましい。この場合、相変化膜に対する保
護膜として、誘電体膜を含むことがさらに好ましい。但
し、記録層2が相変化膜を含むことは必須でなく、公知
である種々の記録可能な層を用いて構成してもよく、ま
た、あらかじめ情報が記録された再生専用の記録層であ
っても構わない。ここで、記録層2の厚みは、特に限定
されないが、本実施態様においては約40nmに設定さ
れる。Next, the recording layer 2 is formed on the surface of the substrate 1 on which the groove is provided (step S2). It is preferable to use a sputtering method for forming the recording layer 2. The structure of the recording layer 2 is not particularly limited, but preferably has a multilayer structure including at least a phase change film. In this case, it is more preferable to include a dielectric film as a protective film for the phase change film. However, it is not essential for the recording layer 2 to include a phase change film, and various known recordable layers may be used, and it is a read-only recording layer in which information is recorded in advance. It doesn't matter. Here, the thickness of the recording layer 2 is not particularly limited, but is set to about 40 nm in the present embodiment.
【0039】次に、記録層2上に光透過層3を形成する
(ステップS3)。特に限定されないが、光透過層3の
材質としては、紫外線硬化型樹脂を用いることが好まし
く、その形成にはスピンコート法を用いることが好まし
い。また、光透過層3としては、単層構造であってもよ
く、最外層にハードコート膜を備える多層構造であって
もよい。ここで、光透過層3の厚みは、特に限定されな
いが、本実施態様においては50〜150μm、好まし
くは約100μmに設定される。Next, the light transmission layer 3 is formed on the recording layer 2 (step S3). Although not particularly limited, it is preferable to use an ultraviolet curable resin as the material of the light transmitting layer 3, and it is preferable to use a spin coating method for forming the same. The light transmitting layer 3 may have a single-layer structure or a multi-layer structure having a hard coat film as the outermost layer. Here, the thickness of the light transmitting layer 3 is not particularly limited, but in the present embodiment, it is set to 50 to 150 μm, preferably about 100 μm.
【0040】図2は、上述した成膜工程によって作製さ
れた光記録媒体の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing the structure of the optical recording medium manufactured by the above-mentioned film forming process.
【0041】図2に示されるように、上述した成膜工程
によって作製された光記録媒体は、光透過層3が形成さ
れている面側から記録層2に対してレーザ光を実質的に
垂直に照射することによってデータの再生及び/又は記
録を行うことができる。特に限定されるものではない
が、かかる光記録媒体に対するデータの再生及び/又は
記録に用いるレーザ光としては、例えば、約405nm
の波長を持つレーザ光を用いることができる。As shown in FIG. 2, in the optical recording medium manufactured by the above-mentioned film forming process, laser light is substantially perpendicular to the recording layer 2 from the surface side on which the light transmitting layer 3 is formed. Data can be reproduced and / or recorded by irradiating the. Although not particularly limited, the laser beam used for reproducing and / or recording data on such an optical recording medium is, for example, about 405 nm.
It is possible to use laser light having a wavelength of.
【0042】このような構成を有する光記録媒体は、レ
ーザ光を収束するための対物レンズのNA(開口数)を
例えば0.8以上と大きくし、記録層2に照射されるレ
ーザ光の有効スポットを極めて小さく絞ることにより高
密度記録を行うため、光透過層3の膜厚が上述のとおり
非常に薄く(約100μm)設定されており、さらには
光記録媒体の表面との距離(ワーキング・ディスタン
ス)を非常に狭く、例えば、約130μm程度に設定す
る必要がある。In the optical recording medium having such a structure, the NA (numerical aperture) of the objective lens for converging the laser light is increased to, for example, 0.8 or more, and the effective laser light applied to the recording layer 2 is obtained. Since high density recording is performed by narrowing the spot to an extremely small size, the film thickness of the light transmitting layer 3 is set to be extremely thin (about 100 μm) as described above, and further, the distance from the surface of the optical recording medium (working It is necessary to set the distance) to a very small value, for example, about 130 μm.
【0043】次に、検査工程について説明する。Next, the inspection process will be described.
【0044】図3は、検査工程を概略的に示すフローチ
ャートである。FIG. 3 is a flow chart schematically showing the inspection process.
【0045】図3に示されるように、検査工程において
は、まず光透過層3から突出している欠陥(突出欠陥)
であって、突出部の高さが第1の臨界値を超えている欠
陥が存在するか否かが検査される(ステップS4)。こ
こで欠陥とは、光透過層3に混入した異物や、光透過層
3の内部で発生乃至は封入された気泡等、光透過層3内
におけるレーザ光の直進を妨げるすべての要素を指す。
かかる検査の結果、第1の臨界値を超える突出欠陥が存
在すると判断された場合には、当該光記録媒体は不良品
として取り扱われる(ステップS5)。尚、特に限定さ
れるものではないが、ステップS4における突出欠陥の
検査は、表面形状測定顕微鏡を用いて行うことができ
る。As shown in FIG. 3, in the inspection process, first, a defect (protrusion defect) protruding from the light transmitting layer 3 is detected.
Then, it is inspected whether or not there is a defect in which the height of the protruding portion exceeds the first critical value (step S4). Here, the defects refer to all the elements that impede the straight traveling of the laser light in the light transmitting layer 3, such as foreign substances mixed in the light transmitting layer 3 and bubbles generated or sealed inside the light transmitting layer 3.
As a result of the inspection, when it is determined that the protruding defect exceeding the first critical value exists, the optical recording medium is treated as a defective product (step S5). Although not particularly limited, the inspection of the protruding defect in step S4 can be performed using a surface shape measuring microscope.
【0046】第1の臨界値としては、ワーキング・ディ
スタンスが約130μmであることを考慮すれば、約1
μm〜約120μmの範囲内において選択することが好
ましい。第1の臨界値を1μm未満に設定すると、実際
にはデータの再生及び/又は記録に影響を与えないレベ
ルの突出欠陥の存在によって光記録媒体が不良品として
取り扱われることから歩留まりを過度に悪化させるおそ
れがあり、第1の臨界値を120μmを超える値に設定
すると、実使用時におけるワーキング・ディスタンスの
変動により、対物レンズやこれを支持する支持体に突出
欠陥が接触(クラッシュ)する可能性の高い光記録媒体
が、良品として取り扱われるおそれがある。また、第1
の臨界値としては、約2μm〜約100μmの範囲内に
おいて選択することがさらに好ましい。第1の臨界値を
かかる範囲内において選択すれば、クラッシュの発生を
より効果的に防止しつつ、歩留まりをより向上させるこ
とができる。さらに、第1の臨界値としては、約5μm
〜約50μmの範囲内において選択することが特に好ま
しい。第1の臨界値をかかる範囲内において選択すれ
ば、クラッシュの発生をよりいっそう効果的に防止しつ
つ、歩留まりをよりいっそう向上させることができる。Considering that the working distance is about 130 μm, the first critical value is about 1
It is preferable to select in the range of μm to about 120 μm. When the first critical value is set to less than 1 μm, the optical recording medium is treated as a defective product due to the presence of protruding defects at a level that does not actually affect the reproduction and / or recording of data. If the first critical value is set to a value exceeding 120 μm, the projection defect may come into contact (crash) with the objective lens or the support that supports it due to fluctuations in the working distance during actual use. A high-quality optical recording medium may be handled as a good product. Also, the first
It is more preferable to select the critical value of within the range of about 2 μm to about 100 μm. If the first critical value is selected within this range, the yield can be further improved while preventing the occurrence of crashes more effectively. Furthermore, the first critical value is about 5 μm.
It is particularly preferable to select in the range of about 50 μm. If the first critical value is selected within this range, the yield can be further improved while preventing the occurrence of crashes more effectively.
【0047】図4(a)〜図4(d)は、それぞれ突出
欠陥11〜14を有する光記録媒体の略断面図である。FIGS. 4A to 4D are schematic cross-sectional views of optical recording media having protruding defects 11 to 14, respectively.
【0048】図4(a)に示される突出欠陥11は、そ
の一部が光透過層3に埋没しており、残りの部分が光記
録媒体の表面から突出している。しかしながら、図4
(a)に示された突出欠陥11は、その高さが第1の臨
界値以下であることから、ステップS4において、当該
光記録媒体を不良品であると判断する根拠とはならな
い。A part of the protruding defect 11 shown in FIG. 4A is buried in the light transmitting layer 3, and the remaining part protrudes from the surface of the optical recording medium. However, FIG.
Since the height of the protruding defect 11 shown in (a) is less than or equal to the first critical value, it does not serve as the basis for determining that the optical recording medium is defective in step S4.
【0049】また、図4(b)に示される突出欠陥12
も、その一部が光透過層3に埋没しており、残りの部分
が光記録媒体の表面から突出しているが、かかる突出欠
陥12は、その高さが第1の臨界値を超えていることか
ら、当該光記録媒体は、ステップS4において不良品で
あると判断される。Further, the protruding defect 12 shown in FIG.
However, a part thereof is buried in the light transmitting layer 3 and the remaining part is projected from the surface of the optical recording medium. However, the height of the protruding defect 12 exceeds the first critical value. Therefore, the optical recording medium is determined to be defective in step S4.
【0050】一方、図4(c)に示される突出欠陥13
は、光透過層3に埋没しておらず、光透過層3の表面に
付着した状態で存在している。しかしながら、図4
(c)に示された突出欠陥13は、その高さが第1の臨
界値以下であることから、ステップS4において、当該
光記録媒体を不良品であると判断する根拠とはならな
い。On the other hand, the protruding defect 13 shown in FIG.
Are not buried in the light transmitting layer 3 and exist in a state of being attached to the surface of the light transmitting layer 3. However, FIG.
Since the height of the protruding defect 13 shown in (c) is less than or equal to the first critical value, it does not serve as a basis for determining that the optical recording medium is defective in step S4.
【0051】また、図4(d)に示される突出欠陥14
も、光透過層3に埋没しておらず、光透過層3の表面に
付着した状態で存在しているが、かかる突出欠陥14
は、その高さが第1の臨界値を超えていることから、当
該光記録媒体は、ステップS4において不良品であると
判断される。Further, the protruding defect 14 shown in FIG.
Is not buried in the light transmitting layer 3 and is present in a state of being attached to the surface of the light transmitting layer 3.
Since its height exceeds the first critical value, the optical recording medium is determined to be defective in step S4.
【0052】ステップS4において、第1の臨界値を超
える突出欠陥が存在しないと判断された場合には、次
に、一部または全部が光透過層3に埋没している欠陥
(内部欠陥)であって、第2の臨界値及び第3の臨界値
の少なくとも一方を超える内部欠陥が存在するか否かが
検査される(ステップS6)。かかる検査の結果、第2
及び第3の臨界値の少なくとも一方を超える内部欠陥が
存在すると判断された場合には、当該光記録媒体は不良
品として取り扱われ(ステップS5)、第2及び第3の
臨界値の少なくとも一方を超える内部欠陥が存在しない
と判断された場合には、当該光記録媒体は本検査工程に
おける良品として取り扱われる(ステップS7)。尚、
特に限定されるものではないが、ステップS6における
内部欠陥の検査は、光透過層3に対して斜め方向から検
査用レーザ光を照射し、その反射光の光量を測定するこ
とによって行うことができる。If it is determined in step S4 that there are no protruding defects exceeding the first critical value, then some or all of the defects (internal defects) buried in the light transmitting layer 3 are detected. Then, it is inspected whether or not there is an internal defect exceeding at least one of the second critical value and the third critical value (step S6). As a result of such inspection, the second
If it is determined that there is an internal defect exceeding at least one of the third and the third critical values, the optical recording medium is treated as a defective product (step S5), and at least one of the second and the third critical values is treated. If it is determined that there are no more internal defects than the above, the optical recording medium is treated as a non-defective product in this inspection process (step S7). still,
Although not particularly limited, the inspection of the internal defect in step S6 can be performed by irradiating the light transmitting layer 3 with a laser beam for inspection from an oblique direction and measuring the amount of the reflected light. .
【0053】ここで、第2の臨界値とは、内部欠陥の長
さの臨界値であって、レーザ光の光軸に対して垂直方向
(光記録媒体の表面に対して水平方向)における長さの
臨界値である。一方、第3の臨界値とは、同じく内部欠
陥の長さの臨界値であって、レーザ光の光軸に対して水
平方向(光記録媒体の表面に対して垂直方向)における
長さの臨界値である。このように、本実施態様において
は、内部欠陥サイズの臨界値を2方向からそれぞれ別個
に規定している。Here, the second critical value is the critical value of the length of the internal defect, and the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light (horizontal direction to the surface of the optical recording medium). Is the critical value of On the other hand, the third critical value is also the critical value of the length of the internal defect, and is the critical value of the length in the horizontal direction (the direction perpendicular to the surface of the optical recording medium) with respect to the optical axis of the laser light. It is a value. As described above, in this embodiment, the critical value of the internal defect size is defined separately from the two directions.
【0054】ここで、第2及び第3の臨界値としては、
誤り訂正処理による訂正ができなくなる可能性が高まる
欠陥のサイズを考慮して設定することが好ましい。具体
的には、一般的な誤り訂正処理を用いた場合、訂正がで
きなくなる可能性が高まる欠陥のサイズは、約200μ
m程度である。しかしながら、本実施態様においては、
検査対象となる光記録媒体の光透過層3が薄いため(約
100μm)、レーザ光の光軸に対して水平方向(光記
録媒体の表面に対して垂直方向)の長さが長い内部欠陥
を有する光記録媒体の多くはステップS4において排除
される。したがって、本実施態様においては、第2の臨
界値として訂正ができなくなる可能性が高まる欠陥のサ
イズよりも大きく設定することが可能である。Here, as the second and third critical values,
It is preferable to set in consideration of the size of a defect that increases the possibility that correction cannot be performed by the error correction process. Specifically, when a general error correction process is used, the size of a defect that increases the possibility of being unable to correct is about 200 μm.
It is about m. However, in this embodiment,
Since the light transmission layer 3 of the optical recording medium to be inspected is thin (about 100 μm), internal defects having a long length in the horizontal direction (vertical direction to the surface of the optical recording medium) with respect to the optical axis of the laser beam are generated. Most of the optical recording media that it has are eliminated in step S4. Therefore, in the present embodiment, it is possible to set the second critical value larger than the size of the defect that increases the possibility of being uncorrectable.
【0055】具体的には、第2の臨界値としては、約3
0μm〜約500μmの範囲内において選択することが
好ましい。第2の臨界値を30μm未満に設定すると、
実際にはデータの再生及び/又は記録に影響を与えない
レベルの内部欠陥の存在によって光記録媒体が不良品と
して取り扱われることから歩留まりを過度に悪化させる
おそれがあり、第2の臨界値を500μmを超える値に
設定すると、誤り訂正処理による訂正ができないレベル
の欠陥を含む光記録媒体が良品として取り扱われるおそ
れがある。また、第2の臨界値としては、約40μm〜
約300μmの範囲内において選択することがさらに好
ましい。第2の臨界値をかかる範囲内において選択すれ
ば、訂正不能な誤りの発生をより効果的に防止しつつ、
歩留まりをより向上させることができる。さらに、第2
の臨界値としては、約50μm〜約200μmの範囲内
において選択することが特に好ましい。第2の臨界値を
かかる範囲内において選択すれば、訂正不能な誤りの発
生をよりいっそう効果的に防止しつつ、歩留まりをより
いっそう向上させることができる。Specifically, the second critical value is about 3
It is preferable to select within the range of 0 μm to about 500 μm. If the second critical value is set to less than 30 μm,
In reality, since the optical recording medium is treated as a defective product due to the presence of internal defects having a level that does not affect the reproduction and / or recording of data, the yield may be excessively deteriorated, and the second critical value may be 500 μm. If the value is set to be larger than, there is a possibility that an optical recording medium having a defect of a level that cannot be corrected by the error correction process is treated as a good product. The second critical value is about 40 μm
More preferably, it is selected within the range of about 300 μm. If the second critical value is selected within this range, the occurrence of uncorrectable errors can be prevented more effectively,
The yield can be further improved. Furthermore, the second
It is particularly preferable to select the critical value of in the range of about 50 μm to about 200 μm. If the second critical value is selected within such a range, the yield can be further improved while preventing the occurrence of uncorrectable errors more effectively.
【0056】尚、第2の臨界値としては、誤り訂正処理
による訂正ができなくなる可能性が高まる欠陥のサイズ
と実質的に一致させることが最も好ましく、本実施態様
においては、約200μmに設定することが最も好まし
い。It is most preferable that the second critical value is substantially the same as the size of the defect, which increases the possibility that the correction cannot be performed by the error correction process. In the present embodiment, it is set to about 200 μm. Is most preferred.
【0057】一方、第3の臨界値としては、約10μm
〜約220μmの範囲内において第2の臨界値よりも小
さい値を選択することが好ましい。第3の臨界値を10
μm未満に設定すると、歩留まりを過度に悪化させるお
それがあり、第3の臨界値を220μmを超える値に設
定すると、誤り訂正処理による訂正ができないレベルの
欠陥を含む光記録媒体が良品として取り扱われるおそれ
がある。また、第3の臨界値としては、約30μm〜約
200μmの範囲内において第2の臨界値よりも小さい
値を選択することがさらに好ましい。第3の臨界値をか
かる範囲内において選択すれば、訂正不能な誤りの発生
をより効果的に防止しつつ、歩留まりをより向上させる
ことができる。さらに、第3の臨界値としては、約50
μm〜約100μmの範囲内において第2の臨界値より
も小さい値を選択することが特に好ましい。第3の臨界
値をかかる範囲内において選択すれば、訂正不能な誤り
の発生をよりいっそう効果的に防止しつつ、歩留まりを
よりいっそう向上させることができる。On the other hand, the third critical value is about 10 μm.
It is preferred to choose a value less than the second critical value within the range of about 220 μm. The third critical value is 10
If it is set to less than μm, the yield may be deteriorated excessively, and if the third critical value is set to a value exceeding 220 μm, an optical recording medium containing a defect of a level that cannot be corrected by the error correction process is treated as a good product. There is a risk. Further, as the third critical value, it is more preferable to select a value smaller than the second critical value within the range of about 30 μm to about 200 μm. If the third critical value is selected within this range, the yield can be further improved while more effectively preventing the occurrence of uncorrectable errors. Furthermore, as the third critical value, about 50
It is particularly preferred to choose a value smaller than the second critical value in the range from μm to about 100 μm. If the third critical value is selected within this range, the yield can be further improved while preventing the occurrence of uncorrectable errors more effectively.
【0058】尚、第3の臨界値としては、光透過層3の
膜厚と実質的に一致させることが最も好ましく、本実施
態様においては、約100μmに設定することが最も好
ましい。また、歩留まりを考慮すれば、第3の臨界値と
しては光透過層3の膜厚よりも大きく設定しても構わな
い。It is most preferable that the third critical value is substantially the same as the film thickness of the light transmitting layer 3, and in the present embodiment, it is most preferably set to about 100 μm. Further, considering the yield, the third critical value may be set larger than the film thickness of the light transmission layer 3.
【0059】図5(a)は、内部欠陥21を有する光記
録媒体の略平面図であり、図5(b)はその略断面図で
ある。FIG. 5A is a schematic plan view of the optical recording medium having the internal defect 21, and FIG. 5B is a schematic sectional view thereof.
【0060】図5(a)及び(b)に示される内部欠陥
21は、レーザ光の光軸に対して垂直方向における長さ
の最大値が第2の臨界値を超えているとともに、レーザ
光の光軸に対して水平方向における長さの最大値が第3
の臨界値を超えている。したがって、このような内部欠
陥21を有する光記録媒体は、ステップS6において不
良品であると判断される。In the internal defect 21 shown in FIGS. 5A and 5B, the maximum value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light exceeds the second critical value, and The maximum length in the horizontal direction with respect to the optical axis of
Exceeds the critical value of. Therefore, the optical recording medium having such an internal defect 21 is determined to be a defective product in step S6.
【0061】図6(a)は、内部欠陥22を有する光記
録媒体の略平面図であり、図6(b)はその略断面図で
ある。FIG. 6A is a schematic plan view of the optical recording medium having the internal defect 22, and FIG. 6B is a schematic sectional view thereof.
【0062】図6(a)及び(b)に示される内部欠陥
22は、レーザ光の光軸に対して垂直方向における長さ
の最大値が第2の臨界値を超えているが、レーザ光の光
軸に対して水平方向における長さの最大値が第3の臨界
値を超えていない。このような内部欠陥22を有する光
記録媒体も、ステップS6において不良品であると判断
される。In the internal defect 22 shown in FIGS. 6A and 6B, the maximum value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light exceeds the second critical value. The maximum value of the length in the horizontal direction with respect to the optical axis of does not exceed the third critical value. The optical recording medium having such an internal defect 22 is also determined to be a defective product in step S6.
【0063】図7(a)は、内部欠陥23を有する光記
録媒体の略平面図であり、図7(b)はその略断面図で
ある。FIG. 7A is a schematic plan view of an optical recording medium having internal defects 23, and FIG. 7B is a schematic sectional view thereof.
【0064】図7(a)及び(b)に示される内部欠陥
23は、レーザ光の光軸に対して垂直方向における長さ
の最大値が第2の臨界値を超えていないが、レーザ光の
光軸に対して水平方向における長さの最大値が第3の臨
界値を超えている。このような内部欠陥23を有する光
記録媒体も、ステップS6において不良品であると判断
される。In the internal defect 23 shown in FIGS. 7A and 7B, the maximum value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light does not exceed the second critical value. The maximum value of the length in the horizontal direction with respect to the optical axis of is above the third critical value. The optical recording medium having such an internal defect 23 is also determined to be a defective product in step S6.
【0065】図8(a)は、内部欠陥24を有する光記
録媒体の略平面図であり、図8(b)はその略断面図で
ある。FIG. 8A is a schematic plan view of an optical recording medium having internal defects 24, and FIG. 8B is a schematic sectional view thereof.
【0066】図8(a)及び(b)に示される内部欠陥
24は、レーザ光の光軸に対して垂直方向における長さ
の最大値が第2の臨界値を超えておらず、且つ、レーザ
光の光軸に対して水平方向における長さの最大値が第3
の臨界値を超えていない。このような内部欠陥24は、
ステップS6において、当該光記録媒体を不良品である
と判断する根拠とはならない。In the internal defect 24 shown in FIGS. 8A and 8B, the maximum value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light does not exceed the second critical value, and The maximum length in the horizontal direction with respect to the optical axis of the laser light is the third
The critical value of is not exceeded. Such an internal defect 24 is
In step S6, it is not the basis for determining that the optical recording medium is defective.
【0067】このように、ステップS6においては、内
部欠陥サイズの臨界値を2方向からそれぞれ別個に規定
し、レーザ光の光軸に対して垂直方向における長さの臨
界値(第2の臨界値)をレーザ光の光軸に対して水平方
向における長さの臨界値(第23臨界値)よりも長く設
定している。このため、歩留まりを大幅に低下させるこ
となく、不良ディスクの排除を効果的に行うことができ
る。As described above, in step S6, the critical value of the internal defect size is defined separately from the two directions, and the critical value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light (second critical value) is determined. ) Is set to be longer than the critical value (23rd critical value) of the length in the horizontal direction with respect to the optical axis of the laser light. Therefore, defective disks can be effectively eliminated without significantly reducing the yield.
【0068】以上説明したように、本実施態様によれ
ば、検査工程において、突出部の高さが第1の臨界値を
超えている突出欠陥が存在するか否かが検査されること
から(ステップS4)、対物レンズやこれを支持する支
持体に突出欠陥が接触(クラッシュ)する可能性の高い
不良ディスクを効果的に排除することができる。As described above, according to this embodiment, in the inspection step, it is inspected whether or not there is a protruding defect in which the height of the protruding portion exceeds the first critical value. In step S4), it is possible to effectively eliminate a defective disk having a high possibility that a protruding defect will come into contact (crash) with the objective lens or a support body supporting the objective lens.
【0069】また、本実施態様においては、内部欠陥の
検査(ステップS6)において、互いに異なる値を持つ
第2及び第3の臨界値を用いた判定を行っていることか
ら、歩留まりを大幅に低下させることなく、誤り訂正処
理による訂正が不可能なレベルの誤りを生じさせ得る内
部欠陥を有する不良ディスクを効果的に排除することが
できる。Further, in the present embodiment, in the inspection of the internal defect (step S6), the judgment is performed by using the second and third critical values having different values, so that the yield is remarkably reduced. Without doing so, it is possible to effectively eliminate a defective disk having an internal defect that may cause an error of a level that cannot be corrected by the error correction process.
【0070】次に、好ましい他の検査工程について説明
する。Next, another preferable inspection process will be described.
【0071】図9は、好ましい他の検査工程を概略的に
示すフローチャートであり、図3を用いて説明した検査
工程に代えて若しくはこれに加えて行われる。FIG. 9 is a flowchart schematically showing another preferable inspection process, which is performed instead of or in addition to the inspection process described with reference to FIG.
【0072】図9に示されるように、かかる検査工程に
おいては、まず光透過層3から少なくとも一部が突出し
ている突出欠陥であって、第4の臨界値及び第5の臨界
値の少なくとも一方を超える突出欠陥が存在するか否か
が検査される(ステップS8)。かかる検査の結果、第
4及び第5の臨界値の少なくとも一方を超える内部欠陥
が存在すると判断された場合には、当該光記録媒体は不
良品として取り扱われ(ステップS5)、第4及び第5
の臨界値の少なくとも一方を超える内部欠陥が存在しな
いと判断された場合には、当該光記録媒体は本検査工程
における良品として取り扱われる(ステップS7)。
尚、特に限定されるものではないが、ステップS8にお
ける突出欠陥の検査は、表面形状測定顕微鏡を用いて行
うことができる。As shown in FIG. 9, in this inspection step, first, at least one of the fourth critical value and the fifth critical value is a protruding defect in which at least a part of the light transmitting layer 3 protrudes. It is inspected whether or not there are protruding defects exceeding the number (step S8). As a result of the inspection, when it is determined that the internal defect exceeding at least one of the fourth and fifth critical values exists, the optical recording medium is treated as a defective product (step S5), and the fourth and fifth.
If it is determined that there is no internal defect exceeding at least one of the critical values of, the optical recording medium is treated as a non-defective product in this inspection process (step S7).
Although not particularly limited, the inspection of the protruding defect in step S8 can be performed using a surface shape measuring microscope.
【0073】ここで、第4の臨界値とは、突出欠陥の突
出部の高さの臨界値である。一方、第5の臨界値とは、
同じく突出欠陥の突出部の長さの臨界値であって、レー
ザ光の光軸に対して垂直方向(光記録媒体の表面に対し
て水平方向)における長さの臨界値である。このよう
に、本検査工程においては、突出部のサイズの臨界値を
2方向からそれぞれ別個に規定している。Here, the fourth critical value is the critical value of the height of the protruding portion of the protruding defect. On the other hand, the fifth critical value is
Similarly, it is a critical value of the length of the protruding portion of the protruding defect, and is a critical value of the length in the direction perpendicular to the optical axis of the laser light (horizontal direction to the surface of the optical recording medium). As described above, in this inspection process, the critical value of the size of the protruding portion is defined separately from the two directions.
【0074】ここで、第4の臨界値としては、上述した
第1の臨界値と同様、約1μm〜約120μmの範囲内
において選択することが好ましく、約2μm〜約100
μmの範囲内において選択することがさらに好ましく、
約5μm〜約50μmの範囲内において選択することが
特に好ましい。また、第5の臨界値としては、上述した
第2の臨界値と同様、約30μm〜約500μmの範囲
内において選択することが好ましく、約40μm〜約3
00μmの範囲内において選択することがさらに好まし
く、約50μm〜約200μmの範囲内において選択す
ることが特に好ましい。Here, the fourth critical value is preferably selected within the range of about 1 μm to about 120 μm, like the above-mentioned first critical value, and about 2 μm to about 100 μm.
More preferably, it is selected within the range of μm,
It is particularly preferable to select within the range of about 5 μm to about 50 μm. The fifth critical value is preferably selected within the range of about 30 μm to about 500 μm, like the second critical value described above, and is about 40 μm to about 3 μm.
It is more preferable to select in the range of 00 μm, and it is particularly preferable to select in the range of about 50 μm to about 200 μm.
【0075】このように、本検査工程においては、突出
部のサイズの臨界値を2方向からそれぞれ別個に規定し
ていることから(ステップS8)、対物レンズやこれを
支持する支持体に突出欠陥が接触(クラッシュ)する可
能性の高い不良ディスクを効果的に排除することができ
るとともに、歩留まりを大幅に低下させることなく、誤
り訂正処理による訂正が不可能なレベルの誤りを生じさ
せ得る突出欠陥を有する不良ディスクを効果的に排除す
ることができる。As described above, in this inspection process, since the critical value of the size of the protruding portion is defined separately from the two directions (step S8), the protruding defect on the objective lens or the supporting body for supporting the same is obtained. It is possible to effectively eliminate defective disks that are likely to come into contact (crash) with each other, and to produce a protruding defect that can cause an error that cannot be corrected by error correction processing without significantly lowering the yield. It is possible to effectively eliminate the defective disk having
【0076】本発明は、以上の実施態様に限定されるこ
となく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種
々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含
されるものであることはいうまでもない。The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. It goes without saying that it is a thing.
【0077】例えば、上記実施態様では、第1の臨界値
として選択すべき値の好ましい範囲を特定したが、かか
る値は、ワーキング・ディスタンスに基づいて特定した
ものであって、本発明がこれに限定されるものではな
い。したがって、ワーキング・ディスタンスが上記実施
態様とは異なる場合には、これに応じて適切な第1の臨
界値を選択すればよい。For example, in the above-mentioned embodiment, the preferable range of the value to be selected as the first critical value is specified, but such a value is specified based on the working distance, and the present invention is based on this. It is not limited. Therefore, when the working distance is different from that of the above-mentioned embodiment, the appropriate first critical value may be selected accordingly.
【0078】また、上記実施態様では、第2及び第3の
臨界値として選択すべき値の好ましい範囲を特定した
が、かかる値は、誤り訂正処理による訂正が不可能なレ
ベルの誤りを生じさせ得る内部欠陥のサイズに基づいて
特定したものであって、本発明がこれに限定されるもの
ではない。したがって、誤り訂正処理による訂正が不可
能なレベルの誤りを生じさせ得る内部欠陥のサイズが上
記実施態様とは異なる場合には、これに応じて適切な第
2及び第3の臨界値を選択すればよい。In the above embodiment, the preferable range of the values to be selected as the second and third critical values is specified. However, such a value causes an error of a level that cannot be corrected by the error correction processing. It is specified based on the size of the obtained internal defect, and the present invention is not limited to this. Therefore, if the size of the internal defect that may cause an error that cannot be corrected by the error correction process is different from that in the above embodiment, appropriate second and third critical values may be selected accordingly. Good.
【0079】さらに、上記実施態様における成膜工程に
おいては、基板1上に記録層2及び光透過層3をこの順
に形成しているが、これとは逆に、光透過層3上に記録
層2及び基板1をこの順に形成しても構わない。Further, in the film forming step in the above embodiment, the recording layer 2 and the light transmitting layer 3 are formed on the substrate 1 in this order. On the contrary, the recording layer is formed on the light transmitting layer 3. 2 and the substrate 1 may be formed in this order.
【0080】また、上記実施態様における検査工程にお
いては、突出欠陥の検査(ステップS4)が終了した後
に内部欠陥の検査(ステップS6)を行っているが、そ
の順序を逆にしても構わない。In the inspection process of the above embodiment, the inspection of the internal defects (step S6) is performed after the inspection of the protruding defects (step S4) is completed, but the order may be reversed.
【0081】[0081]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光透過層の表面からの突出量が大きい突出欠陥を有する
不良ディスクを効果的に排除することが可能となる。こ
こで、光透過層の表面からの突出は、記録/再生時にワ
ーキング・ディスタンスが狭く設定される光記録媒体に
おいて特に問題となることから、本発明は、光透過層の
薄い光記録媒体及びその製造方法に対して特に好適であ
る。As described above, according to the present invention,
It is possible to effectively eliminate a defective disk having a protrusion defect in which the protrusion amount from the surface of the light transmission layer is large. Here, since the protrusion from the surface of the light transmitting layer becomes a problem particularly in the optical recording medium in which the working distance is set narrow at the time of recording / reproducing, the present invention provides an optical recording medium having a thin light transmitting layer and the same. It is particularly suitable for manufacturing methods.
【図1】成膜工程を概略的に示すフローチャートであ
る。FIG. 1 is a flowchart schematically showing a film forming process.
【図2】成膜工程によって作製された光記録媒体の構造
を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a structure of an optical recording medium manufactured by a film forming process.
【図3】検査工程を概略的に示すフローチャートであ
る。FIG. 3 is a flowchart schematically showing an inspection process.
【図4】(a)〜(d)は、それぞれ突出欠陥11〜1
4を有する光記録媒体の略断面図である。4A to 4D are protrusion defects 11 to 1 respectively.
4 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium having No. 4.
【図5】(a)は、内部欠陥21を有する光記録媒体の
略平面図であり、(b)はその略断面図である。5A is a schematic plan view of an optical recording medium having an internal defect 21, and FIG. 5B is a schematic sectional view thereof.
【図6】(a)は、内部欠陥22を有する光記録媒体の
略平面図であり、(b)はその略断面図である。6A is a schematic plan view of an optical recording medium having an internal defect 22, and FIG. 6B is a schematic sectional view thereof.
【図7】(a)は、内部欠陥23を有する光記録媒体の
略平面図であり、(b)はその略断面図である。7A is a schematic plan view of an optical recording medium having an internal defect 23, and FIG. 7B is a schematic sectional view thereof.
【図8】(a)は、内部欠陥24を有する光記録媒体の
略平面図であり、(b)はその略断面図である。8A is a schematic plan view of an optical recording medium having an internal defect 24, and FIG. 8B is a schematic sectional view thereof.
【図9】好ましい他の検査工程を概略的に示すフローチ
ャートである。FIG. 9 is a flowchart schematically showing another preferable inspection process.
1 基板 2 記録層 3 光透過層 4 センターホール 11〜14 突出欠陥 21〜24 内部欠陥 1 substrate 2 recording layers 3 Light transmission layer 4 center hall 11-14 Projection defect 21-24 Internal defect
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G051 AA71 AB01 AB02 BA10 CA02 CA11 CB01 DA13 EA14 EB01 EB02 5D029 LB05 LB07 5D090 AA01 CC18 DD03 KK09 5D121 AA04 HH01 HH04 HH14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 2G051 AA71 AB01 AB02 BA10 CA02 CA11 CB01 DA13 EA14 EB01 EB02 5D029 LB05 LB07 5D090 AA01 CC18 DD03 KK09 5D121 AA04 HH01 HH04 HH14
Claims (11)
前記光透過層を介して前記記録層にレーザ光を照射する
ことによってデータの再生及び/又は記録が行われる光
記録媒体の製造方法において、前記光透過層に付着ある
いは前記光透過層から突出した突出欠陥を検出する突出
欠陥検査工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録
媒体の製造方法。1. A light-transmissive layer and a recording layer are provided at least,
In a method of manufacturing an optical recording medium in which data is reproduced and / or recorded by irradiating the recording layer with a laser beam through the light transmitting layer, the method adheres to the light transmitting layer or protrudes from the light transmitting layer. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising at least a protrusion defect inspection step of detecting a protrusion defect.
であることを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体の
製造方法。2. The thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein
欠陥の高さの臨界値が約1μm〜約120μmの範囲内
において選択されることを特徴とする請求項1または2
に記載の光記録媒体の製造方法。3. The projection defect inspection step, wherein the critical value of the height of the projection defects is selected within the range of about 1 μm to about 120 μm.
A method for manufacturing the optical recording medium according to.
μmの範囲内において選択されることを特徴とする請求
項3に記載の光記録媒体の製造方法。4. The critical value of the height is about 2 μm to about 100.
The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 3, wherein the optical recording medium is selected within a range of μm.
mの範囲内において選択されることを特徴とする請求項
4に記載の光記録媒体の製造方法。5. The height critical value is about 5 μm to about 50 μm.
The method for producing an optical recording medium according to claim 4, wherein the optical recording medium is selected within the range of m.
前記光透過層を介して前記記録層にレーザ光を照射する
ことによってデータの再生及び/又は記録が行われる光
記録媒体であって、前記光透過層に付着あるいは前記光
透過層から突出した突出欠陥のうち前記光透過層の表面
からの高さが最大である最大突出欠陥の高さが、約1μ
m〜約120μmであることを特徴とする光記録媒体。6. A light-transmitting layer and a recording layer are provided,
An optical recording medium for reproducing and / or recording data by irradiating the recording layer with a laser beam through the light transmitting layer, the protrusion being attached to the light transmitting layer or protruding from the light transmitting layer. Among the defects, the height of the maximum protruding defect having the maximum height from the surface of the light transmission layer is about 1 μm.
An optical recording medium characterized by having a thickness of m to about 120 μm.
であることを特徴とする請求項6に記載の光記録媒体。7. The film thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
7. The optical recording medium according to claim 6, wherein
前記光透過層を介して前記記録層にレーザ光を照射する
ことによってデータの再生及び/又は記録が行われる光
記録媒体の製造方法において、前記光透過層に付着ある
いは前記光透過層から突出した突出欠陥を検出する突出
欠陥検査工程を少なくとも含み、前記検査工程において
は、前記突出欠陥の突出部の第1の方向における臨界値
と前記第1の方向とは異なる第2の方向における臨界値
とが異なる値に設定されていることを特徴とする光記録
媒体の製造方法。8. At least a light transmitting layer and a recording layer are provided,
In a method of manufacturing an optical recording medium in which data is reproduced and / or recorded by irradiating the recording layer with a laser beam through the light transmitting layer, the method adheres to the light transmitting layer or protrudes from the light transmitting layer. At least a protrusion defect inspection step of detecting a protrusion defect is included, and in the inspection step, a threshold value in a first direction of a protrusion of the protrusion defect and a threshold value in a second direction different from the first direction. Are set to different values.
であることを特徴とする請求項8に記載の光記録媒体の
製造方法。9. The thickness of the light transmitting layer is 50 to 150 μm.
9. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 8, wherein
に対して実質的に垂直な方向であり、前記第2の方向が
前記レーザ光の光軸に対して実質的に水平な方向である
ことを特徴とする請求項8または9に記載の光記録媒体
の製造方法。10. The direction in which the first direction is substantially perpendicular to the optical axis of the laser light and the second direction is substantially horizontal in the optical axis of the laser light. 10. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 8, wherein:
記第2の方向における臨界値よりも大きいことを特徴と
する請求項10に記載の光記録媒体の製造方法。11. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 10, wherein the critical value in the first direction is larger than the critical value in the second direction.
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