JP2003155574A - Plated product and method of producing the same - Google Patents
Plated product and method of producing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基材層の表面に、
少なくとも金属めっき層を備えためっき製品及びその製
造方法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a surface of a base material layer,
The present invention relates to a plated product having at least a metal plating layer and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種のめっき製品としては、基
材層、アンダーコート層、銀めっき層及びトップコート
層を備えたものが知られている。前記アンダーコート層
は、例えば、アルコキシチタニウムエステル並びにエポ
キシ基を有するシランカップリング剤及びエポキシ樹脂
のうちの少なくとも一方を含有する塗料からなるアンダ
ーコート剤を乾燥させることにより形成されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of plated product, one having a base material layer, an undercoat layer, a silver plating layer and a topcoat layer is known. The undercoat layer is formed, for example, by drying an undercoat agent made of a coating material containing at least one of an alkoxy titanium ester, a silane coupling agent having an epoxy group, and an epoxy resin.
【0003】この積層品を製造する際には、例えば、以
下のような方法を用いることが考えられる。その方法と
は、まず基材層の表面に、前記アンダーコート剤を塗布
し、乾燥させて、アンダーコート層を形成する。そし
て、そのアンダーコート層の表面に、銀鏡反応により銀
を析出させるため、塩化スズ[II](SnCl2)水溶
液を接触させ、スズ[II]を触媒として担持する。その
後、前記アンダーコート層の表面に銀を含有する水溶液
を塗布し、銀鏡反応により銀を析出させ、銀めっき層を
形成する。そして、洗浄を繰り返し、乾燥させた後、前
記銀めっき層の表面に、トップコート層を形成する。When manufacturing this laminated product, for example, the following method may be used. With this method, first, the undercoat agent is applied to the surface of the base material layer and dried to form an undercoat layer. Then, in order to deposit silver by a silver mirror reaction on the surface of the undercoat layer, a tin chloride [II] (SnCl 2 ) aqueous solution is brought into contact therewith, and tin [II] is supported as a catalyst. Then, an aqueous solution containing silver is applied to the surface of the undercoat layer, and silver is deposited by a silver mirror reaction to form a silver plating layer. Then, after repeatedly washing and drying, a top coat layer is formed on the surface of the silver plating layer.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記従来の
銀めっき層を備える積層品では、銀鏡反応の触媒となる
Sn2+が不安定であり、前処理薬液中の溶存酸素または
空気中から吸収される酸素により、容易にSn4+に酸化
されてしまう。このSn4+は、銀鏡反応の触媒とはなり
得ず、前記のようなSn2+の酸化が進行していけば、当
然のことながらSn2+の濃度が低下し、前記前処理薬液
の触媒活性は低下していくことになる。また、銀鏡反応
において、Ag+の還元の触媒となったスズ[II]は、
触媒残渣として銀めっき層とアンダーコート層との間に
残存することになる。この触媒残渣に由来するスズ
[0]は、水が外部からめっき製品に侵入すると、いわ
ゆる電池腐食を引き起こし、銀を酸化してイオン化させ
水に可溶化させてしまうことがある。これにより、銀め
っき層の変色や、銀めっき層とアンダーコート層との間
の剥離が生じ、積層品の劣化の一因となっていた。However, in the above-mentioned laminated product having the silver plating layer, Sn 2+ which is a catalyst for the silver mirror reaction is unstable and is absorbed from the dissolved oxygen in the pretreatment chemical liquid or the air. Oxygen is easily oxidized into Sn 4+ . This Sn 4+ cannot serve as a catalyst for the silver mirror reaction, and if the oxidation of Sn 2+ proceeds as described above, the concentration of Sn 2+ naturally decreases, and The catalytic activity will decrease. In addition, in the silver mirror reaction, tin [II], which serves as a catalyst for Ag + reduction, is
It remains as a catalyst residue between the silver plating layer and the undercoat layer. When water enters the plated product from the outside, tin [0] derived from the catalyst residue may cause so-called battery corrosion, and may oxidize silver and ionize it to solubilize it in water. This causes discoloration of the silver plating layer and peeling between the silver plating layer and the undercoat layer, which is one of the causes of deterioration of the laminated product.
【0005】また、触媒残渣に由来するスズ[IV]は、
積層品において、SnOCl2の形で存在することがあ
る。このSnOCl2は、外部からの水の侵入によっ
て、O2 -、Cl-を放出し、銀めっき層の腐食をさらに
進行させるおそれがある。Further, tin [IV] derived from the catalyst residue is
It may be present in the form of SnOCl 2 in the laminate. This SnOCl 2 may release O 2 − and Cl − due to the invasion of water from the outside, and further promote the corrosion of the silver plating layer.
【0006】このような問題に対して、前記従来構成で
は、銀鏡反応後に残存するスズ化合物を、水洗を繰り返
して表面上に付着したものを除去しているにすぎず、反
応後の洗浄にも限界がある。このため、積層品中にスズ
化合物が想定範囲を超えて残存する可能性があり、前記
銀めっき層の酸化が依然として問題となっていた。In order to solve such a problem, in the above-mentioned conventional structure, the tin compound remaining after the silver mirror reaction is merely washed with water repeatedly to remove the one adhering to the surface, and also for the washing after the reaction. There is a limit. Therefore, the tin compound may remain in the laminate beyond the expected range, and the oxidation of the silver plating layer remains a problem.
【0007】この発明は、上記のような従来技術に存在
する問題点に着目してなされたものである。その目的と
するところは、金属めっき層の腐食に起因する変色や剥
離を好適に抑制可能なめっき製品及びその製造方法を提
供することにある。The present invention has been made by paying attention to the problems existing in the prior art as described above. It is an object of the present invention to provide a plated product capable of suitably suppressing discoloration and peeling due to corrosion of a metal plating layer, and a manufacturing method thereof.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本願請求項1に記載の発明は、基材層の表面に、少
なくとも金属めっき層を備えるめっき製品において、前
記基材層上または、前記金属めっき層と前記基材層との
間に介在される下部層上に担持され、前記金属めっき層
を構成する金属との標準電極電位の差が絶対値で0.6
5eV未満の物質を触媒として、前記金属めっき層を形
成したことを要旨とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 1 of the present invention is a plated product having at least a metal plating layer on the surface of a base material layer. The difference in standard electrode potential between the metal that is carried on the lower layer interposed between the metal plating layer and the base layer and that constitutes the metal plating layer is 0.6 in absolute value.
The gist is that the metal plating layer is formed using a substance of less than 5 eV as a catalyst.
【0009】ここで、めっき製品においては、金属めっ
き層を構成する金属と、それと異なるイオン化可能な物
質(主に、金属めっき層の形成の際に用いられ、同層に
残留している触媒残渣及びその転化物等)とが共存する
と、両者の間で電子の授受が行われ、前記金属めっき層
を構成する金属が酸化されるといった電池腐食が発生す
ることがある。この腐食は、金属めっき層を構成する金
属と、前記イオン化可能な物質との標準電極電位の差が
大きいほど生じ易い。Here, in a plated product, a metal constituting the metal plating layer and an ionizable substance different from the metal (mainly used in forming the metal plating layer, catalyst residue remaining in the same layer) And its conversion product, etc.), electrons may be exchanged between the two, resulting in battery corrosion such as oxidation of the metal forming the metal plating layer. This corrosion is more likely to occur as the difference in standard electrode potential between the metal forming the metal plating layer and the ionizable substance increases.
【0010】これに対して、本願請求項1に記載の発明
では、金属めっき層を構成する金属との標準電極電位の
差が絶対値で0.65eV未満である物質を触媒として
用い、金属めっき層を下部層の表面に形成することとし
ている。このため、金属めっき層を構成する金属と触媒
残渣との間での電子の授受が行われにくくなり、金属め
っき層を構成する金属の腐食が抑制される。この結果、
金属めっき層を構成する金属の腐食に起因する金属めっ
き層の変色や剥離を好適に抑制することが可能となる。On the other hand, in the invention according to claim 1 of the present application, a substance whose difference in standard electrode potential from the metal forming the metal plating layer is less than 0.65 eV in absolute value is used as a catalyst, and metal plating is performed. The layer is to be formed on the surface of the lower layer. Therefore, it becomes difficult for electrons to be transferred between the metal forming the metal plating layer and the catalyst residue, and corrosion of the metal forming the metal plating layer is suppressed. As a result,
It is possible to suitably suppress discoloration or peeling of the metal plating layer due to corrosion of the metal forming the metal plating layer.
【0011】また、本願請求項2に記載の発明は、前記
請求項1に記載の発明において、前記金属めっき層に積
層されて同金属めっき層を保護する上部層を備えること
を要旨とするものである。Further, the invention according to claim 2 of the present application is, in the invention according to claim 1, characterized in that an upper layer which is laminated on the metal plating layer to protect the metal plating layer is provided. Is.
【0012】この本願請求項2に記載の発明では、前記
請求項1に記載の発明の作用に加えて、めっき製品にお
ける下部層と金属めっき層との間に水分が侵入しにくく
なる。これにより、金属めっき層を構成する金属と触媒
残渣との間での電子の授受が行われにくくなり、金属め
っき層を構成する金属の腐食が抑制される。このため、
金属めっき層の耐食性が向上される。According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the invention, moisture is less likely to enter between the lower layer and the metal plating layer of the plated product. This makes it difficult for electrons to be exchanged between the metal constituting the metal plating layer and the catalyst residue, and corrosion of the metal constituting the metal plating layer is suppressed. For this reason,
The corrosion resistance of the metal plating layer is improved.
【0013】また、本願請求項3に記載の発明は、前記
請求項1または請求項2に記載の発明において、前記金
属めっき層を構成する金属が銀であることを要旨とする
ものである。The invention according to claim 3 of the present application is, in the invention according to claim 1 or claim 2, characterized in that the metal forming the metal plating layer is silver.
【0014】この本願請求項3に記載の発明では、前記
請求項1または請求項2に記載の発明の作用に加えて、
銀めっき層の長期に亘る高い輝度の保持が可能になる。
また、本願請求項4に記載の発明は、基材層の表面に、
少なくとも金属めっき層を備えるめっき製品の製造方法
において、前記金属めっき層の形成に際して、金属めっ
き層を構成する金属との標準電極電位の差が絶対値で
0.65eV未満の物質を触媒として、前記金属めっき
層が積層される下部層の表面に担持する触媒担持工程
と、前記触媒が担持された下部層上に前記金属めっき層
を形成するめっき層形成工程とを有することを要旨とす
るものである。According to the invention of claim 3 of the present application, in addition to the function of the invention of claim 1 or 2,
It is possible to maintain high brightness of the silver plating layer for a long period of time.
Further, the invention described in claim 4 of the present application, on the surface of the substrate layer,
In the method for producing a plated product including at least a metal plating layer, in forming the metal plating layer, a substance having a difference in standard electrode potential between the metal forming the metal plating layer and an absolute value of less than 0.65 eV is used as a catalyst. A gist is that it has a catalyst supporting step of supporting on the surface of a lower layer on which a metal plating layer is laminated, and a plating layer forming step of forming the metal plating layer on the lower layer supporting the catalyst. is there.
【0015】この本願請求項4に記載の発明では、前記
請求項1に記載の発明とほぼ同等の作用が発揮される。
また、本願請求項5に記載の発明は、前記請求項4に記
載の発明において、前記触媒担持工程に先立って、前記
触媒を前記下部層の表面に担持させるための助触媒を、
前記下部層の表面に担持する助触媒担持工程を有するこ
とを要旨とするものである。In the invention described in claim 4 of the present application, an action substantially equivalent to that of the invention described in claim 1 is exhibited.
In the invention according to claim 5 of the present application, in the invention according to claim 4, prior to the catalyst supporting step, a promoter for supporting the catalyst on the surface of the lower layer,
The gist of the present invention is to have a step of supporting a promoter on the surface of the lower layer.
【0016】この本願請求項5に記載の発明では、前記
請求項4に記載の発明の作用に加えて、金属めっき層を
構成する金属と近い標準電極電位を有するものの、下部
層に対して直接担持することの難しい触媒を、下部層に
予め担持された助触媒と置換することで担持することが
可能となる。このため、腐食が生じにくい金属めっき層
を容易に形成することが可能となる。According to the fifth aspect of the present invention, in addition to the effect of the fourth aspect of the invention, in addition to having a standard electrode potential close to that of the metal forming the metal plating layer, it directly affects the lower layer. It becomes possible to support a catalyst that is difficult to support by substituting the co-catalyst previously supported in the lower layer. Therefore, it becomes possible to easily form a metal plating layer that is less likely to cause corrosion.
【0017】また、本願請求項6に記載の発明は、前記
請求項4または請求項5に記載の発明において、前記金
属めっき層を構成する金属が銀であることを要旨とする
ものである。The invention according to claim 6 of the present application is, in the invention according to claim 4 or 5, characterized in that the metal forming the metal plating layer is silver.
【0018】この本願請求項6に記載の発明では、前記
請求項3に記載の発明とほぼ同等の作用が発揮される。
また、本願請求項7に記載の発明は、前記請求項6に記
載の発明において、前記触媒は、前記銀との標準電極電
位の差が絶対値で0.2eV以下であることを要旨とす
るものである。According to the invention of claim 6 of the present application, an action substantially equivalent to that of the invention of claim 3 is exhibited.
Further, the invention according to claim 7 of the present application is, in the invention according to claim 6, characterized in that the difference in standard electrode potential between the catalyst and the silver is 0.2 eV or less in absolute value. It is a thing.
【0019】この本願請求項7に記載の発明では、前記
請求項6に記載の発明の作用に加えて、銀めっき層を構
成する銀との標準電極電位の差が小さく、銀の腐食を好
適に抑制することが可能となる。なお、このように、銀
めっき層を構成する銀との標準電極電位の差が絶対値で
0.2eV以下の触媒としては、例えば、パラジウム
[II]、鉄[III] 、ロジウム[III] 、テルル[V
I]、ヨウ素[0]、レニウム[VI]、オスミウム[I
V]、白金[II]、水銀[II]が挙げられる。In the invention according to claim 7 of the present application, in addition to the function of the invention according to claim 6, the difference in the standard electrode potential from the silver constituting the silver plating layer is small, and silver corrosion is suitable. Can be suppressed. In addition, as described above, examples of the catalyst having a standard electrode potential difference of 0.2 eV or less in absolute value from silver constituting the silver plating layer include palladium [II], iron [III], rhodium [III], Tellurium [V
I], iodine [0], rhenium [VI], osmium [I
V], platinum [II], and mercury [II].
【0020】また、本願請求項8に記載の発明は、基材
層の表面に、少なくとも金属めっき層を備えるめっき製
品の製造方法において、前記金属めっき層を形成するめ
っき層形成工程と、前記金属めっき層が積層される下部
層の表面に、触媒としてスズ[II]を担持する触媒担持
工程とを有し、同触媒担持工程では、前記スズ[II]
が、全スズの95%以上を占める前処理薬液を用いるこ
とを要旨とするものである。The invention according to claim 8 of the present application is a method for producing a plated product having at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, wherein a plating layer forming step of forming the metal plating layer and the metal There is a catalyst supporting step of supporting tin [II] as a catalyst on the surface of the lower layer on which the plating layer is laminated. In the catalyst supporting step, the tin [II] is used.
However, the gist is to use a pretreatment liquid that accounts for 95% or more of all tin.
【0021】この本願請求項8に記載の発明では、前処
理薬液は、その液中におけるスズ[II]の濃度が高いた
め、下部層の表面上に担持される触媒(スズ[II])の
量が多くなり、金属めっき層を構成する金属を効率よく
析出させることが可能となる。また、下部層の表面に対
する金属めっき層の析出のばらつきが抑制され、めっき
製品の品質を高く維持することが可能となる。In the invention according to claim 8 of the present application, since the pretreatment chemical liquid has a high tin [II] concentration in the liquid, the catalyst (tin [II]) supported on the surface of the lower layer is Since the amount is large, the metal forming the metal plating layer can be efficiently deposited. In addition, variations in the deposition of the metal plating layer on the surface of the lower layer are suppressed, and the quality of the plated product can be maintained high.
【0022】さらに、前処理薬液は、酸素や塩素等の金
属めっき層を構成する金属の腐食を促進させる物質と高
い親和性を有するとともに前処理薬液中のスズのうち実
際に触媒として作用しないスズ[IV]が少ない状態で金
属めっき層の形成に用いられる。このため、めっき製品
の金属めっき層と下部層との間に残存するスズ[IV]の
量が低減され、金属めっき層の変色や剥離を好適に抑制
することが可能となる。Further, the pretreatment chemical has a high affinity with substances such as oxygen and chlorine that promote the corrosion of the metal forming the metal plating layer, and among the tin in the pretreatment chemical, tin that does not actually act as a catalyst. It is used for forming a metal plating layer with a small amount of [IV]. Therefore, the amount of tin [IV] remaining between the metal plating layer and the lower layer of the plated product is reduced, and it is possible to suitably suppress discoloration or peeling of the metal plating layer.
【0023】また、本願請求項9に記載の発明は、基材
層の表面に、少なくとも金属めっき層を備えるめっき製
品の製造方法において、前記金属めっき層を形成するめ
っき層形成工程と、前記金属めっき層が積層される下部
層の表面に触媒を担持する触媒担持工程とを有し、同触
媒担持工程では、前記めっき層形成工程で実際に触媒と
して作用する状態の有効成分の酸化を抑制するための酸
化抑制処理が施された前処理薬液を用いることを要旨と
するものである。Further, in the invention according to claim 9 of the present application, in a method for producing a plated product having at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, a plating layer forming step of forming the metal plating layer, and the metal And a catalyst supporting step of supporting a catalyst on the surface of the lower layer on which the plating layer is laminated. In the catalyst supporting step, the oxidation of the active ingredient that actually acts as a catalyst in the plating layer forming step is suppressed. The purpose of the present invention is to use a pretreatment chemical solution that has been subjected to an oxidation suppression treatment.
【0024】この本願請求項9に記載の発明では、酸化
抑制処理を施すことによって、前処理薬液中の有効成分
の酸化が抑制される。このため、金属めっき層の形成に
際して、有効成分をより多く含有する前処理薬液を用い
ることができる。また、前処理薬液を、有効成分の濃度
低下を好適に抑制しつつ、比較的長期間に亘って安定に
保管することが可能になるうえ、その管理も容易とな
る。In the invention according to claim 9 of the present application, the oxidation of the active ingredient in the pretreatment chemical liquid is suppressed by performing the oxidation suppression treatment. Therefore, in forming the metal plating layer, it is possible to use a pretreatment chemical liquid containing a larger amount of active ingredient. Further, the pretreatment chemical liquid can be stably stored for a relatively long period of time while suitably suppressing the concentration decrease of the active ingredient, and its management becomes easy.
【0025】また、触媒担持工程において、酸化抑制処
理の施された前処理薬液を使用することで、より多くの
有効成分を、下部層の表面上に容易に担持させることが
可能となる。この結果、下部層の表面上に金属めっき層
を効率よく析出させることが可能となる。また、下部層
の表面に対する金属めっき層の析出のばらつきが抑制さ
れ、めっき製品の品質を高く維持することが可能とな
る。Further, in the catalyst supporting step, by using the pretreatment chemical solution subjected to the oxidation suppressing treatment, it becomes possible to easily support a larger amount of the active ingredient on the surface of the lower layer. As a result, it becomes possible to efficiently deposit the metal plating layer on the surface of the lower layer. In addition, variations in the deposition of the metal plating layer on the surface of the lower layer are suppressed, and the quality of the plated product can be maintained high.
【0026】さらに、前処理薬液は、その液中の触媒成
分のうち実際に触媒として作用しない非有効成分が少な
い状態で金属めっき層の形成に用いられるため、めっき
製品の金属めっき層と下部層との間に残存する非有効成
分の量が低減される。特に、その非有効成分が、酸素や
塩素等の金属めっき層を構成する金属の腐食を促進させ
る物質と高い親和性を有するような場合には、金属めっ
き層の変色や剥離を、一層好適に抑制することが可能と
なる。Further, since the pretreatment chemical liquid is used for forming the metal plating layer in a state in which the amount of inactive components which do not actually act as a catalyst among the catalyst components in the liquid is small, the metal plating layer and the lower layer of the plated product are The amount of inactive ingredients remaining between and is reduced. In particular, when the inactive component has a high affinity with a substance that promotes corrosion of the metal forming the metal plating layer such as oxygen or chlorine, discoloration or peeling of the metal plating layer is more preferably performed. It becomes possible to suppress.
【0027】また、本願請求項10に記載の発明は、前
記請求項9に記載の発明において、前記酸化抑制処理
は、前記前処理薬液に対して、前記有効成分の酸化を抑
制するための酸化抑制成分を添加する処理を含むことを
要旨とするものである。The invention according to claim 10 is the invention according to claim 9, wherein the oxidation suppressing treatment is an oxidation for suppressing the oxidation of the active ingredient with respect to the pretreatment liquid chemical. The gist of the invention is to include the treatment of adding the suppressing component.
【0028】この本願請求項10に記載の発明では、前
記請求項9に記載の発明の作用に加えて、酸化抑制成分
を前処理薬液に配合して調製することで、特別な処理装
置を用いたり、手間のかかる処理作業を行ったりするこ
となく、前処理薬液中の有効成分の酸化を抑制すること
が可能となる。このため、安定した前処理薬液を容易に
得ることが可能となる。According to the invention of claim 10 of the present application, in addition to the function of the invention of claim 9, a pretreatment chemical liquid is mixed with an oxidation-inhibiting component to prepare a special treatment device. Or, it becomes possible to suppress the oxidation of the active ingredient in the pretreatment chemical liquid without performing a troublesome treatment work. Therefore, it becomes possible to easily obtain a stable pretreatment liquid.
【0029】また、本願請求項11に記載の発明は、前
記請求項10に記載の発明において、前記酸化抑制成分
が、多価アルコールであることを要旨とするものであ
る。この本願請求項11に記載の発明では、前記請求項
10に記載の発明の作用に加えて、多価アルコールを酸
化抑制成分として用いることにより、金属めっき層を構
成する金属の腐食を好適に抑制することが可能となる。The invention according to claim 11 of the present application is, in the invention according to claim 10, characterized in that the oxidation inhibiting component is a polyhydric alcohol. In the invention according to claim 11 of the present application, in addition to the effect of the invention according to claim 10, by using a polyhydric alcohol as an oxidation inhibiting component, corrosion of the metal forming the metal plating layer is suitably suppressed. It becomes possible to do.
【0030】また、本願請求項12に記載の発明は、請
求項9〜請求項11のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記酸化抑制処理は、前記前処理薬液を、溶存
酸素の脱気された媒体中に溶質または分散体を配合して
調製することを含むことを要旨とするものである。The invention according to claim 12 of the present application is the invention according to any one of claims 9 to 11, wherein the oxidation suppressing treatment is performed by removing the dissolved oxygen from the pretreatment chemical solution. The gist of the present invention is to include the preparation by mixing a solute or a dispersion in a vaporized medium.
【0031】また、本願請求項13に記載の発明は、前
記請求項9〜請求項12のうちいずれか一項に記載の発
明において、前記酸化抑制処理は、前記前処理薬液中の
溶存酸素を脱気する脱気処理を含むことを要旨とするも
のである。The invention according to claim 13 is the invention according to any one of claims 9 to 12, wherein the oxidation suppression treatment is performed on the dissolved oxygen in the pretreatment chemical liquid. The gist is to include degassing treatment for degassing.
【0032】また、本願請求項14に記載の発明は、前
記請求項9〜請求項13のうちいずれか一項に記載の発
明において、前記酸化抑制処理は、前記前処理薬液を、
同前処理薬液の配置される環境と、その環境と区画され
た外部の環境との間の酸素の流通が遮断された状態で保
持することを含むことを要旨とするものである。The invention according to claim 14 of the present application is the invention according to any one of claims 9 to 13, wherein the oxidation suppressing treatment is carried out by using the pretreatment chemical solution.
The gist of the present invention is to include maintaining the environment in which the pretreatment chemical solution is placed and the flow of oxygen between the environment and the partitioned external environment in a blocked state.
【0033】これら本願請求項12〜請求項14に記載
の発明では、前記請求項9〜請求項11のうちいずれか
一項に記載の発明の作用に加えて、前処理薬液中の実際
に触媒として作用する有効成分が、その液中の溶存酸素
や、外部環境から供給される酸素によって酸化されるこ
とが抑制される。このため、有効成分の濃度低下が抑制
され、金属めっき層の形成時に、金属めっき層を効率よ
く形成することができる。また、めっき製品中に取り込
まれる酸素の量が低減され、形成された金属めっき層を
構成する金属の腐食を抑制することができる。また、前
処理薬液を、予め脱気したり、密閉容器内に収容した状
態で保管したりすれば、有効成分の濃度低下を好適に抑
制しつつ、より長期間に亘って安定に保管することがで
き、その管理もさらに容易となる。In the inventions according to claims 12 to 14 of the present application, in addition to the action of the invention according to any one of claims 9 to 11, the catalyst in the pretreatment chemical solution is actually used. Oxidation of the active ingredient that acts as the oxygen by dissolved oxygen in the liquid or oxygen supplied from the external environment is suppressed. For this reason, a decrease in the concentration of the active ingredient is suppressed, and the metal plating layer can be efficiently formed when the metal plating layer is formed. In addition, the amount of oxygen taken into the plated product is reduced, and corrosion of the metal forming the formed metal plating layer can be suppressed. Further, if the pretreatment liquid is degassed in advance or stored in a closed container, it can be stored stably for a longer period of time while appropriately suppressing the concentration decrease of the active ingredient. And its management becomes easier.
【0034】また、本願請求項15に記載の発明は、前
記請求項4〜請求項7のうちのいずれか一項に記載のめ
っき製品の製造方法と、前記請求項9〜請求項14のう
ちいずれか一項に記載のめっき製品の製造方法とを用い
て前記めっき層を形成することを要旨とするものであ
る。The invention according to claim 15 of the present application is the method for producing a plated product according to any one of claims 4 to 7, and the method according to claim 9 to 14. The gist is to form the plating layer by using the method for producing a plated product according to any one of the items.
【0035】また、本願請求項16に記載の発明は、前
記請求項8に記載のめっき製品の製造方法と、前記請求
項9〜請求項14のうちいずれか一項に記載のめっき製
品の製造方法とを用いて前記めっき層を形成することを
要旨とするものである。The invention according to claim 16 of the present application is a method for manufacturing a plated product according to claim 8 and a method for manufacturing a plated product according to any one of claims 9 to 14. And a method for forming the plating layer.
【0036】これら本願請求項15または請求項16に
記載の発明では、金属めっき層を構成する金属の腐食を
さらに一層好適に抑制することが可能となる。このた
め、過酷な環境下で使用されるめっき製品への適用が可
能となる。In the invention according to claim 15 or claim 16 of the present application, the corrosion of the metal forming the metal plating layer can be suppressed more preferably. Therefore, it can be applied to plated products used in harsh environments.
【0037】[0037]
【発明の実施の形態】以下、この発明を具体化した実施
形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1に示すよう
に、めっき製品11には、合成樹脂製の基材層12の表
面(意匠面)上に、下部層としてのベースコート層13
(BC層)、金属めっき層としての銀めっき層14及び
上部層としてのトップコート層15(TC層)が形成さ
れている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the plated product 11 includes a base coat layer 13 as a lower layer on the surface (design surface) of a base layer 12 made of synthetic resin.
A (BC layer), a silver plating layer 14 as a metal plating layer, and a top coat layer 15 (TC layer) as an upper layer are formed.
【0038】基材層12は、例えばABS(アクリロニ
トリル・ブタジエン・スチレン共重合体)、PC(ポリ
カーボネート)/ABSアロイ、PP(ポリプロピレ
ン)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)又はオレフ
ィン系熱可塑性エラストマー(TPO)等の熱可塑性エ
ラストマー(TPE)等により構成され、例えば公知の
射出成形法により成形される。The base material layer 12 is made of, for example, ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer), PC (polycarbonate) / ABS alloy, PP (polypropylene), PMMA (polymethylmethacrylate) or olefinic thermoplastic elastomer (TPO). ) Or the like thermoplastic elastomer (TPE) or the like, and is molded, for example, by a known injection molding method.
【0039】ベースコート層13は、基材層12の表面
にベースコート剤を塗布又は浸漬させた後に乾燥させる
ことによって積層形成される。前記ベースコート剤とし
ては、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹
脂等が挙げられ、塗布が容易であることから2液硬化型
ポリウレタン樹脂が好適に使用される。The base coat layer 13 is laminated and formed by applying or dipping a base coat agent on the surface of the base material layer 12 and then drying. Examples of the base coat agent include polyester resin, alkyd resin, acrylic resin, and the like, and two-component curing type polyurethane resin is preferably used because it is easy to apply.
【0040】銀めっき層14は、銀鏡反応を利用した化
学めっき法(無電解めっき法)を用いてベースコート層
13の表面に積層形成されている。詳しくは、アンモニ
ア性硝酸銀([Ag(NH3)2]+OH-)溶液(トレン
ス試薬)と還元剤溶液とをベースコート層13の表面上
で混合されるように塗布して酸化還元反応を引き起こ
し、金属めっき層を構成する金属としての銀(Ag)を
析出させる。前記還元剤溶液としては、グリオキサール
等のアルデヒド基を有する有機化合物(R―CHO)、
亜硫酸ナトリウム又はチオ硫酸ナトリウム等の水溶液が
好適に使用される。The silver plating layer 14 is laminated on the surface of the base coat layer 13 by a chemical plating method (electroless plating method) utilizing a silver mirror reaction. Specifically, an ammoniacal silver nitrate ([Ag (NH 3 ) 2 ] + OH − ) solution (Tollens reagent) and a reducing agent solution are applied so as to be mixed on the surface of the base coat layer 13 to cause an oxidation-reduction reaction. , Silver (Ag) as a metal forming the metal plating layer is deposited. As the reducing agent solution, an organic compound (R—CHO) having an aldehyde group such as glyoxal,
An aqueous solution such as sodium sulfite or sodium thiosulfate is preferably used.
【0041】トップコート層15は、銀めっき層14を
保護すべく、同銀めっき層14の表面にトップコート剤
を塗布又は浸漬させた後に乾燥させることによって積層
形成される。前記トップコート剤としては、ポリエステ
ル樹脂やアクリル樹脂等が挙げられ、塗布が容易である
ことから2液硬化型ポリウレタン樹脂又はアクリル変性
シリコーン樹脂が好適に使用される。The top coat layer 15 is formed by laminating a top coat agent on the surface of the silver plating layer 14 in order to protect the silver plating layer 14 or by immersing the top coating agent in the surface and then drying. Examples of the top coat agent include polyester resins and acrylic resins, and a two-component curing type polyurethane resin or an acrylic modified silicone resin is preferably used because it is easy to apply.
【0042】次に、このめっき製品11の製造方法につ
いて以下に記載する。図3に示すように、上記めっき製
品11を製造する際には、まず、ステップS20におい
て基材層12を所定形状に射出成形した後、S30のベ
ースコート塗装工程(BC塗装工程)を行う。Next, a method for manufacturing the plated product 11 will be described below. As shown in FIG. 3, when manufacturing the plated product 11, first, in step S20, the base material layer 12 is injection-molded into a predetermined shape, and then the base coat coating step (BC coating step) of S30 is performed.
【0043】このS30のベースコート塗装工程は、成
形後の基材層12の表面に、ベースコート剤からなるベ
ースコート層13を形成させる工程である。このベース
コート塗装工程では、まず、S31の前処理工程におい
て、イソプロパノール等の洗浄剤を用いて前記成形後の
基材層12の表面(意匠面)を充分に洗浄する。続い
て、S32のベース塗装工程において、前記洗浄後の基
材層12の意匠面上にベースコート剤を均一に被覆させ
る。このS32におけるベースコート剤の被覆方法とし
ては、塗布又は浸漬のいずれの方法を用いてもよいが、
被覆が容易であることからスプレー塗布するのが好まし
い。このベースコート剤としては、例えば、藤倉化成株
式会社製の「EB2854A―5」または大橋化学工業
株式会社製の「771」またはオリジン電気株式会社製
の「E―1」が好適に使用される。The base coat coating step of S30 is a step of forming the base coat layer 13 made of a base coat agent on the surface of the base material layer 12 after molding. In this base coat coating step, first, in the pretreatment step of S31, the surface (design surface) of the base material layer 12 after the molding is thoroughly washed with a cleaning agent such as isopropanol. Subsequently, in the base coating step of S32, the base coat agent is uniformly coated on the design surface of the base material layer 12 after the cleaning. As a method of coating the base coat agent in S32, either coating or dipping may be used.
Spray coating is preferable because of easy coating. As this base coat agent, for example, "EB2854A-5" manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., "771" manufactured by Ohashi Chemical Co., Ltd. or "E-1" manufactured by Origin Electric Co., Ltd. is preferably used.
【0044】続いて、S33の乾燥工程において、前記
基材層12の意匠面上に被覆されたベースコート剤を乾
燥させる。ここで、ベースコート剤として、前記「EB
2854A―5」または「E―1」を用いた場合にはお
よそ80℃の温度で60分間程度乾燥させる。または、
ベースコート剤として、前記「771」を用いた場合に
はおよそ80℃の温度で30分間程度乾燥させる。こう
して、S33の乾燥工程を行った後、次のS40のめっ
き塗装工程の処理を行う。Then, in the drying step of S33, the base coating agent coated on the design surface of the base material layer 12 is dried. Here, the above-mentioned "EB
When "2854A-5" or "E-1" is used, it is dried at a temperature of about 80 ° C for about 60 minutes. Or
When “771” is used as the base coat agent, it is dried at a temperature of about 80 ° C. for about 30 minutes. In this way, after performing the drying step of S33, the process of the plating coating step of the next S40 is performed.
【0045】このS40のめっき塗装工程は、ベースコ
ート層13上に銀めっき層14を形成させる工程であ
る。このめっき塗装工程では、まず、S41の銀鏡前処
理工程において、乾燥後のベースコート層13の表面
に、触媒を含有する前処理薬液を塗布又は浸漬させ、そ
の触媒をベースコート層13の表面に担持させる。な
お、この触媒は、前記ベースコート層13の表面への銀
めっき層14の銀の初期核形成を促し、銀を析出させ易
くするためのものである。続いて、S42の水洗工程に
おいて、イオン交換水または蒸留水(好ましくは導電率
が3μS/m3以下)を用いてベースコート層13の表
面を水洗し、ベースコート層13の表面に担持されなか
った過剰の前処理薬液を取り除く。The plating coating step of S40 is a step of forming the silver plating layer 14 on the base coat layer 13. In this plating coating step, first, in the silver mirror pretreatment step of S41, a pretreatment chemical liquid containing a catalyst is applied or dipped on the surface of the dried base coat layer 13, and the catalyst is supported on the surface of the base coat layer 13. . This catalyst is for promoting the initial nucleation of silver of the silver plating layer 14 on the surface of the base coat layer 13 and facilitating the precipitation of silver. Then, in the water washing step of S42, the surface of the base coat layer 13 is washed with ion-exchanged water or distilled water (preferably having a conductivity of 3 μS / m 3 or less) to remove excess excess that was not supported on the surface of the base coat layer 13. Remove the pretreatment chemical solution.
【0046】ここで、前記触媒としてスズ(Sn)を、
また、前処理薬液として塩化スズ[II](SnCl2)
溶液を用いる場合、その溶液中では、スズは、スズ[I
I]として存在し、そのスズ[II]が前記触媒として作
用する。ただし、このスズ[II]は不安定であり、塩化
スズ[II]溶液中の溶存酸素や空気中の酸素等により、
容易にスズ[IV]に酸化されてしまう。Here, tin (Sn) is used as the catalyst,
In addition, tin chloride [II] (SnCl 2 ) as a pretreatment chemical
If a solution is used, in the solution tin is tin [I
I] and its tin [II] acts as the catalyst. However, this tin [II] is unstable, and due to dissolved oxygen in the tin chloride [II] solution, oxygen in the air, etc.,
It is easily oxidized to tin [IV].
【0047】ところで、このスズ[IV]は、スズ[II]
に比べて、イオン化可能な物質、特に、銀めっき層14
の腐食を促進する酸素や塩素等との親和性が高い。この
ため、このスズ[IV]や酸素、塩素等がベースコート層
13と銀めっき層14との間に共存すると、両者の間で
電子の授受が行われ、銀めっき層14の銀が酸化させて
外部からめっき製品に侵入した水に可溶化され易くす
る。このような電池腐食は、銀めっき層14の変色や、
ベースコート層13と銀めっき層14との間の剥離が生
じ、めっき製品11の劣化の一因となる。また、スズ
は、銀めっき層14を構成する銀との標準電極電位の差
が大きい(スズ[IV]では、前記差が絶対値で0.65
eV)。この標準電極電位の差が大きいことも前記電池
腐食を生じさせ易くしている一因となっている。By the way, this tin [IV] is tin [II]
In comparison with, the ionizable substance, especially the silver plating layer 14
Has a high affinity with oxygen, chlorine, etc., which promotes corrosion. Therefore, when tin [IV], oxygen, chlorine, etc. coexist between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14, electrons are exchanged between the two, and silver in the silver plating layer 14 is oxidized. It facilitates solubilization in water that has entered the plated product from the outside. Such battery corrosion causes discoloration of the silver plating layer 14,
Peeling between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14 occurs, which causes deterioration of the plated product 11. Further, tin has a large difference in standard electrode potential from silver constituting the silver plating layer 14 (in the case of tin [IV], the difference is 0.65 in absolute value).
eV). The large difference between the standard electrode potentials also contributes to the tendency to cause the battery corrosion.
【0048】また、スズ[IV]は、ベースコート層13
と銀めっき層14との間において、SnOCl2の形で
存在することがある。このSnOCl2は、前記電池腐
食の進行に伴って、O2-、Cl-を放出し、これらによ
り、銀めっき層14の腐食がさらに進行されるおそれが
ある。Tin [IV] is used as the base coat layer 13
Between the silver plating layer 14 and the silver plating layer 14 may exist in the form of SnOCl 2 . This SnOCl 2 releases O 2− and Cl − along with the progress of the battery corrosion, which may further promote the corrosion of the silver plating layer 14.
【0049】さらに、スズ[IV]は、銀鏡反応の際の触
媒とはなり得ず、塩化スズ[II]溶液においてスズ[I
I]の酸化が進行すると、当然にスズ[II]の濃度が低
下して溶液の触媒活性は低下していく。そして、スズ
[II]の濃度が低下した状態の溶液をS41の銀鏡前処
理工程で用いると、ベースコート層13の表面に担持さ
れるスズ[II]の割合は減少し、逆にスズ[IV]の割合
が増加する。このため、次工程であるS43のめっき層
形成工程において、銀めっき層14の形成が、ベースコ
ート層13の表面に担持されたスズ[IV]により部分的
に阻害されるとともに、銀めっき層14の形成にばらつ
きが生じるようにもなる。Further, tin [IV] cannot serve as a catalyst in the silver mirror reaction, and tin [I] in a tin chloride [II] solution cannot be used as a catalyst.
As the oxidation of [I] proceeds, the concentration of tin [II] naturally decreases and the catalytic activity of the solution also decreases. When the solution in which the concentration of tin [II] is reduced is used in the silver mirror pretreatment step of S41, the proportion of tin [II] supported on the surface of the base coat layer 13 is decreased, and conversely tin [IV] is decreased. Will increase in proportion. Therefore, in the plating layer forming step of S43 which is the next step, the formation of the silver plating layer 14 is partially hindered by the tin [IV] carried on the surface of the base coat layer 13, and the silver plating layer 14 is formed. It also causes variations in the formation.
【0050】なお、S42の水洗工程において、ベース
コート層13の表面上のスズ[IV]は、そのほとんどが
除去される。しかしながら、めっき製品の内部に存在す
るスズ[IV]の洗浄による除去は、ほとんど困難である
ため、スズ[IV]がベースコート層13と銀めっき層1
4との間に想定範囲を超えて残存する可能性がある。In the washing step of S42, most of the tin [IV] on the surface of the base coat layer 13 is removed. However, since it is almost difficult to remove tin [IV] existing inside the plated product by washing, tin [IV] is removed from the base coat layer 13 and the silver plating layer 1.
There is a possibility that it will remain beyond the expected range between 4 and.
【0051】そこで、本実施形態では、スズ[IV]が多
量にベースコート層13の表面に担持されたり、ベース
コート層13と銀めっき層14との間で残存したりする
ことを抑制すべく、S41の銀鏡前処理工程において、
以下の2つの方法のうちの一方を用いる。Therefore, in the present embodiment, in order to prevent a large amount of tin [IV] from being carried on the surface of the base coat layer 13 or remaining between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14, S41 In the silver mirror pretreatment process of
One of the following two methods is used.
【0052】まず、1つ目の方法は、S41の銀鏡前処
理工程において、触媒担持工程に先立ち、助触媒をベー
スコート層13の表面に担持する助触媒担持工程を行う
方法である。以下、この1つ目の方法について説明す
る。First, the first method is a method of carrying out the co-catalyst carrying step of carrying the co-catalyst on the surface of the base coat layer 13 prior to the catalyst carrying step in the silver mirror pretreatment step of S41. The first method will be described below.
【0053】図2に示すように、S41の銀鏡前処理工
程では、まず、S60の助触媒担持工程において、S3
0にて乾燥されたベースコート層13の表面に、助触媒
を含有する第1前処理薬液を塗布又は浸漬させ、その助
触媒をベースコート層13の表面に担持させる。As shown in FIG. 2, in the silver mirror pretreatment step of S41, first, in the promoter supporting step of S60, S3
The first pretreatment chemical containing a cocatalyst is applied or dipped on the surface of the base coat layer 13 dried at 0, and the cocatalyst is supported on the surface of the base coat layer 13.
【0054】このS60の助触媒担持工程では、第1前
処理薬液として、例えば塩化スズ[II]溶液を使用す
る。この塩化スズ[II]溶液には、溶質としての塩化ス
ズ[II]と、塩酸とが配合されている。塩酸は、例えば
1molの塩化スズ[II]に対して、1〜2molの割
合で配合されている。そして、これら塩化スズ[II]と
塩酸とが所望の濃度となるように、媒体としての純水に
よって第1前処理薬液が調製される。純水は、好ましく
は3μS/m3以下、より好ましくは0.5μS/m3以
下、さらに好ましくは0.05μS/m3以下の導電率
を有するものが使用される。そして、この塩化スズ[I
I]溶液中に存在するスズ[II]が、銀めっき層14の
形成に際して実際に助触媒として作用する有効成分とな
る。なお、第1前処理薬液としては、上記のような成分
を含有する塩化スズ[II]溶液には限定されず、例え
ば、株式会社 金属加工技術研究所製の「K」を使用し
てもよい。In the co-catalyst loading step of S60, a tin chloride [II] solution, for example, is used as the first pretreatment chemical solution. This tin chloride [II] solution contains tin chloride [II] as a solute and hydrochloric acid. Hydrochloric acid is blended at a ratio of 1 to 2 mol with respect to 1 mol of tin chloride [II], for example. Then, the first pretreatment chemical liquid is prepared with pure water as a medium so that the tin chloride [II] and hydrochloric acid have desired concentrations. Pure water having a conductivity of preferably 3 μS / m 3 or less, more preferably 0.5 μS / m 3 or less, still more preferably 0.05 μS / m 3 or less is used. And this tin chloride [I
The tin [II] present in the solution I] becomes an active ingredient that actually acts as a promoter when the silver plating layer 14 is formed. The first pretreatment chemical is not limited to the tin chloride [II] solution containing the above components, and for example, “K” manufactured by Metal Processing Technology Laboratory Co., Ltd. may be used. .
【0055】上記第1前処理薬液を用いて助触媒担持工
程が行われた後は、次のS61の水洗工程において、イ
オン交換水又は蒸留水(好ましくは導電率が3μS/m
3以下)を用いてベースコート層13の表面を水洗し、
その表面上に残留する過剰の助触媒を取り除く。After the co-catalyst loading step is performed using the first pretreatment chemical solution, ion-exchanged water or distilled water (preferably having a conductivity of 3 μS / m) is added in the washing step of S61.
3 or less) to wash the surface of the base coat layer 13 with water,
Remove excess cocatalyst remaining on the surface.
【0056】次に、S62の触媒担持工程において、助
触媒が担持されたベースコート層13の表面に、触媒を
含有する第2前処理薬液を塗布又は浸漬させ、その触媒
をベースコート層13の表面に担持させる。同触媒は、
S60の助触媒担持工程でベースコート層13の表面に
担持された助触媒と置換することにより、ベースコート
層13の表面に担持される。本実施形態では、この触媒
として、銀めっき層14を構成する銀との標準電極電位
の差が絶対値で0.65eV未満のものが用いられる。
なお、触媒としては、銀めっき層14を構成する銀との
標準電極電位の差が小さいほど良く、その差が絶対値
で、好ましくは0.2eV以下、より好ましくは0.1
eV以下のものがよい。Next, in the catalyst supporting step of S62, the second pretreatment chemical liquid containing the catalyst is applied or dipped on the surface of the base coat layer 13 on which the co-catalyst is supported, and the catalyst is applied to the surface of the base coat layer 13. Carry it. The catalyst is
By substituting the co-catalyst carried on the surface of the base coat layer 13 in the co-catalyst carrying step of S60, it is carried on the surface of the base coat layer 13. In this embodiment, as the catalyst, a catalyst having a difference in standard electrode potential with respect to silver constituting the silver plating layer 14 of less than 0.65 eV in absolute value is used.
As the catalyst, the smaller the difference in standard electrode potential from the silver constituting the silver plating layer 14, the better, and the difference is an absolute value, preferably 0.2 eV or less, more preferably 0.1 eV or less.
It is preferably eV or less.
【0057】このS62の触媒担持工程では、第2前処
理薬液として、例えば塩化パラジウム溶液を使用する。
この塩化パラジウム溶液には、溶質としての塩化パラジ
ウム(PdCl2)と、塩酸とが配合されている。塩酸
は、例えば1molの塩化パラジウムに対して、1〜2
molの割合で配合されている。そして、これら塩化パ
ラジウムと塩酸とが所望の濃度となるように媒体として
の純水によって第2前処理薬液が調製される。純水は、
好ましくは3μS/m3以下、より好ましくは0.5μ
S/m3以下、さらに好ましくは0.05μS/m3以下
の導電率を有するものが使用される。そして、この塩化
パラジウム溶液中に存在するパラジウム[II]が、銀め
っき層14の形成に際して実際に触媒として作用する有
効成分となる。なお、このパラジウム[II]は、その標
準電極電位の値が約+0.99eVであり、銀の標準電
極電位との差は、絶対値で約0.19eVである。In the catalyst loading step of S62, for example, a palladium chloride solution is used as the second pretreatment chemical solution.
The palladium chloride solution contains palladium chloride (PdCl 2 ) as a solute and hydrochloric acid. Hydrochloric acid is, for example, 1 to 2 with respect to 1 mol of palladium chloride.
It is blended at a ratio of mol. Then, the second pretreatment chemical liquid is prepared with pure water as a medium so that these palladium chloride and hydrochloric acid have desired concentrations. Pure water is
Preferably 3 μS / m 3 or less, more preferably 0.5 μ
Those having a conductivity of S / m 3 or less, more preferably 0.05 μS / m 3 or less are used. Then, palladium [II] present in this palladium chloride solution becomes an active ingredient that actually acts as a catalyst when the silver plating layer 14 is formed. The palladium [II] has a standard electrode potential value of about +0.99 eV, and the difference from the standard electrode potential of silver is about 0.19 eV in absolute value.
【0058】なお、第2前処理薬液としては、上記のよ
うな成分を含有する塩化パラジウム溶液には限定され
ず、例えば、奥野製薬工業株式会社製の「アクチベータ
ー」を使用してもよい。The second pretreatment chemical liquid is not limited to the palladium chloride solution containing the above components, and for example, "Activator" manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd. may be used.
【0059】次に、2つ目の方法について説明する。こ
の方法では、前処理薬液として、前記第1前処理薬液と
ほぼ同成分の塩化スズ[II]溶液を使用し、その前処理
薬液を塗布又は浸漬させることで、触媒としてのスズ
[II]をベースコート層13の表面上に担持させる。こ
の2つ目の方法が用いられる場合には、前記S33の乾
燥工程後、S62の触媒担持工程が行われ、前記S60
の助触媒担持工程とS61の水洗工程とが省略される。Next, the second method will be described. In this method, a tin chloride [II] solution having almost the same composition as the first pretreatment chemical is used as the pretreatment chemical, and tin [II] as a catalyst is applied by applying or dipping the pretreatment chemical. It is supported on the surface of the base coat layer 13. When the second method is used, the catalyst loading step of S62 is performed after the drying step of S33, and the step of S60 is performed.
The co-catalyst loading step and the water washing step of S61 are omitted.
【0060】ただし、このS62の触媒担持工程で使用
される前処理薬液は、その薬液中におけるスズ[II]が
全スズの95%以上を占めた状態で使用される。なお、
この前処理薬液は、スズ[II]が全スズの97%以上を
占めた状態で使用されることが好ましく、99%以上を
占めた状態で使用されることがより好ましい。However, the pretreatment chemical solution used in the catalyst supporting step of S62 is used in a state where tin [II] in the chemical solution occupies 95% or more of the total tin. In addition,
The pretreatment chemical solution is preferably used in a state where tin [II] accounts for 97% or more of the total tin, and more preferably 99% or more.
【0061】ここで、スズ[II]が全スズの95%未満
となった状態の前処理薬液を用いると、銀めっき層14
の形成時に実際に触媒として作用しない非有効成分(ス
ズ[IV])のベースコート層13と銀めっき層14との
間における残留量が多くなる。このため、製造されため
っき製品11において、その銀めっき層14を構成する
銀が腐食され易くなり、同銀めっき層14の変色や剥離
が生じ易くなる。また、銀めっき層14の形成が、ベー
スコート層13の表面に担持されたスズ[IV]により部
分的に阻害され、銀めっき層14の形成にばらつきが生
じるようにもなる。Here, when the pretreatment chemical liquid in which tin [II] is less than 95% of all tin is used, the silver plating layer 14
The amount of the non-effective component (tin [IV]) that does not actually act as a catalyst during the formation of a large amount remains between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14. Therefore, in the manufactured plated product 11, silver constituting the silver plating layer 14 is easily corroded, and the silver plating layer 14 is easily discolored or peeled off. Further, the formation of the silver plating layer 14 is partially hindered by the tin [IV] carried on the surface of the base coat layer 13, so that the formation of the silver plating layer 14 becomes uneven.
【0062】なお、前処理薬液としては、上記のような
成分を含有する塩化スズ[II]溶液には限定されず、例
えば、株式会社 金属加工技術研究所製の「K」を使用
してもよい。ただし、前記「K」を使用する場合には、
その溶液中のスズ[II]が全スズの95%以上を占めた
状態のものが使用される。The pretreatment chemical is not limited to the tin chloride [II] solution containing the above components, and for example, "K" manufactured by Metalworking Research Laboratory Co., Ltd. may be used. Good. However, when using the above "K",
The solution in which tin [II] accounts for 95% or more of the total tin is used.
【0063】また、S62の触媒担持工程で使用される
前処理薬液は、スズ[II]の酸化を抑制するための酸化
抑制処理が施されている。この酸化抑制処理には、例え
ば以下のような処理が含まれている。Further, the pretreatment chemical solution used in the catalyst supporting step of S62 is subjected to an oxidation suppressing treatment for suppressing the oxidation of tin [II]. The oxidation suppressing process includes the following processes, for example.
【0064】まず、酸化抑制処理の1つとして、塩化ス
ズ[II]溶液に対して、スズ[II]の酸化を抑制するた
めの酸化抑制成分としての例えばグリセリン、ブドウ糖
等の多価アルコールを添加する処理が含まれている。こ
の多価アルコールは、少なくとも溶液中の塩酸と等mo
l量含有される。First, as one of the oxidation suppressing treatments, a polyhydric alcohol such as glycerin or glucose as an oxidation suppressing component for suppressing the oxidation of tin [II] is added to a tin chloride [II] solution. It includes processing to do. This polyhydric alcohol is at least equivalent to hydrochloric acid in solution.
1 amount is contained.
【0065】また、酸化抑制処理の1つとして、前処理
薬液を、溶存酸素の脱気された純水に対して塩化スズ
[II]、塩酸、酸化抑制成分を配合し、調製することが
含まれている。ここで、前処理薬液を調製する場合に
は、脱気処理によって、溶存酸素量が1.0mg/l以
下、好ましくは0.5mg/l以下、より好ましくは
0.2mg/l以下の範囲内となった純水を使用するこ
とが望ましい。Further, as one of the oxidation suppressing treatments, a pretreatment chemical liquid is prepared by mixing tin chloride [II], hydrochloric acid, and an oxidation suppressing component with pure water deaerated of dissolved oxygen. Has been. Here, in the case of preparing the pretreatment liquid, the amount of dissolved oxygen is 1.0 mg / l or less, preferably 0.5 mg / l or less, more preferably 0.2 mg / l or less by degassing treatment. It is desirable to use the purified water.
【0066】また、酸化抑制処理の1つとして、前処理
薬液を所定の組成に調製した後、その前処理薬液中の溶
存酸素を脱気する脱気処理が含まれている。ここで、こ
の脱気処理により、前処理薬液中の溶存酸素量を1.0
mg/l以下、好ましくは0.5mg/l以下、より好
ましくは0.2mg/l以下の範囲内とすることが望ま
しい。Further, as one of the oxidation suppressing treatments, there is included a degassing treatment for preparing the predetermined composition of the pretreatment liquid and then degassing the dissolved oxygen in the pretreatment liquid. Here, the amount of dissolved oxygen in the pretreatment chemical solution was 1.0 by this degassing treatment.
It is desirable to set the concentration within the range of mg / l or less, preferably 0.5 mg / l or less, and more preferably 0.2 mg / l or less.
【0067】さらに、酸化抑制処理の1つとして、前処
理薬液を、その薬液の配置される環境と、その環境と区
画された外部の環境との間の酸素の流通が遮断された状
態で保持することが含まれている。なお、このような状
態で保持するために、例えば、前処理薬液を密閉容器内
で保管する構成や、S62の触媒担持工程を、酸素を含
有しない雰囲気下、例えば窒素パージした雰囲気下で行
う構成等を採用することができる。Further, as one of the oxidation suppressing treatments, the pretreatment chemical liquid is held in a state in which the flow of oxygen between the environment in which the chemical liquid is placed and the external environment partitioned by the chemical liquid is blocked. Is included. In order to maintain such a state, for example, a configuration in which the pretreatment chemical solution is stored in a closed container, or a step in which the catalyst supporting step of S62 is performed in an oxygen-free atmosphere, for example, in a nitrogen-purged atmosphere Etc. can be adopted.
【0068】なお、前記酸化抑制処理では、前述した処
理及びそれら以外の処理のうちの任意の1つまたは複数
の処理を行うこととしてもよい。しかしながら、製造す
るめっき製品11が過酷な環境下で使用される、例えば
自動車の外装部品等である場合には、複数の酸化抑制処
理を行った前処理薬液を使用することが望ましい。In the oxidation suppressing process, any one or more of the above-mentioned processes and other processes may be performed. However, when the plated product 11 to be manufactured is used in a harsh environment, such as an automobile exterior part, it is desirable to use a pretreatment chemical liquid that has been subjected to a plurality of oxidation suppression treatments.
【0069】これらのような方法でS41の銀鏡前処理
工程が行われた後は、図2及び図3に示すように、S4
2の水洗工程において、イオン交換水又は蒸留水(好ま
しくは導電率が3μS/m3以下)を用いてベースコー
ト層13の表面を水洗する。そして、ベースコート層1
3の表面に担持されなかった過剰の触媒等を取り除く。
このS42の水洗工程が行われた後には、次のS43に
て、銀鏡反応を用いて銀めっき層14を形成するめっき
層形成工程が行われる。After the silver mirror pretreatment step of S41 is performed by such a method, as shown in FIGS. 2 and 3, S4 is performed.
In the step 2 of washing with water, the surface of the base coat layer 13 is washed with ion-exchanged water or distilled water (preferably having a conductivity of 3 μS / m 3 or less). And the base coat layer 1
Excess catalyst not supported on the surface of 3 is removed.
After the water washing step of S42 is performed, a plating layer forming step of forming the silver plating layer 14 by using a silver mirror reaction is performed in the next S43.
【0070】このS43のめっき層形成工程は、前記触
媒が担持されたベースコート層13の表面に、アンモニ
ア性硝酸銀溶液と還元剤溶液とを同時に塗布することに
より、ベースコート層13上で両溶液を反応させて銀を
析出させる。そして、その析出された銀が、ベースコー
ト層13の表面に担持されているパラジウム[II]また
はスズ[II]を中心にベースコート層13の表面に析出
されて積層し、銀めっき層14が形成される。このめっ
き層形成工程では、例えば、株式会社 金属加工技術研
究所製の「LA」及び「LB]が好適に使用される。な
お、このめっき層形成工程においても、双頭スプレーガ
ン又は同芯スプレーガンを利用して、前記アンモニア性
硝酸銀溶液と還元剤溶液とを塗布すると便利である。In the plating layer forming step of S43, both solutions are reacted on the base coat layer 13 by simultaneously applying the ammoniacal silver nitrate solution and the reducing agent solution onto the surface of the base coat layer 13 carrying the catalyst. To deposit silver. Then, the deposited silver is deposited and laminated on the surface of the base coat layer 13 centering around palladium [II] or tin [II] carried on the surface of the base coat layer 13 to form a silver plating layer 14. It In this plating layer forming step, for example, “LA” and “LB” manufactured by Metal Processing Technology Laboratory Co., Ltd. are preferably used, and in this plating layer forming step also, a double-headed spray gun or a concentric spray gun. It is convenient to apply the ammoniacal silver nitrate solution and the reducing agent solution by utilizing.
【0071】続いて、図3に示すように、S44の水洗
工程において、イオン交換水又は蒸留水を用いて銀めっ
き層14の表面を水洗し、その銀めっき層14の表面上
に残留する銀鏡反応後の溶液等を取り除いた後、S45
の銀鏡後処理工程を行う。Subsequently, as shown in FIG. 3, in the water washing step of S44, the surface of the silver plating layer 14 is washed with ion-exchanged water or distilled water, and the silver mirror remaining on the surface of the silver plating layer 14 is washed. After removing the solution after the reaction, S45
The post-processing step of silver mirror is performed.
【0072】このS45の銀鏡後処理工程は、前記S4
4の水洗工程で除去されなかった銀めっき層14の表面
上の不純物を取り除くための処理である。この銀鏡後処
理工程では、例えば、前記不純物を分解除去する不純物
分解除去工程、前記不純物を吸着除去する不純物吸着除
去工程、又は銀めっき層14の表面に酸化防止皮膜を形
成する酸化防止皮膜形成工程が行われる。なお、不純物
分解除去工程を行った後に酸化防止皮膜形成工程を行っ
たり、不純物吸着除去工程を行った後に酸化防止皮膜形
成工程を行ったりしてもよい。This silver mirror post-processing step of S45 is the same as the above S4.
This is a process for removing impurities on the surface of the silver plating layer 14 which were not removed in the water washing step of No. 4. In this silver mirror post-treatment step, for example, an impurity decomposition and removal step of decomposing and removing the impurities, an impurity adsorption and removal step of adsorbing and removing the impurities, or an antioxidant film forming step of forming an antioxidant film on the surface of the silver plating layer 14. Is done. In addition, you may perform an antioxidant film formation process after performing an impurity decomposition removal process, and may perform an antioxidant film formation process after performing an impurity adsorption removal process.
【0073】不純物分解除去工程は、薄い濃度の酸を銀
めっき層14の表面に塗布又は浸漬させ、銀めっき層1
4表面の不純物を分解除去する処理である。前記酸とし
ては、酢酸、希硫酸、希塩酸、ギ酸、クロム酸等が使用
可能であるが、不純物の分解除去効果が高いうえ銀めっ
き層14の鏡面に与える負の影響が極めて少ないことか
ら、酢酸又は希硫酸が好適に使用される。In the step of decomposing and removing impurities, an acid having a low concentration is applied or dipped on the surface of the silver plating layer 14 to remove the silver plating layer 1.
4 This is a treatment for decomposing and removing impurities on the surface. As the acid, acetic acid, dilute sulfuric acid, dilute hydrochloric acid, formic acid, chromic acid or the like can be used, but since acetic acid has a high effect of decomposing and removing impurities and has a very small negative influence on the mirror surface of the silver plating layer 14, acetic acid is used. Alternatively, dilute sulfuric acid is preferably used.
【0074】不純物吸着除去工程は、銀めっき層14の
表面にタンパク質分散液を塗布又は浸漬させ、銀めっき
層14表面の不純物をタンパク質に吸着させて除去する
処理である。前記タンパク質分散液としては、牛乳等の
各種哺乳動物の乳又は粉ミルクが使用可能であるが、水
若しくは低濃度のアルコール水溶液を溶媒とするカゼイ
ンの分散液が好適に使用される。The impurity adsorption / removal step is a treatment for applying or immersing the protein dispersion liquid on the surface of the silver plating layer 14 so that the impurities on the surface of the silver plating layer 14 are adsorbed to the protein to be removed. As the protein dispersion liquid, milk of various mammals such as milk or milk powder can be used, but a dispersion liquid of casein using water or a low concentration alcohol aqueous solution as a solvent is preferably used.
【0075】酸化防止皮膜形成工程は、銀めっき層14
の表面に金属表面処理剤を塗布又は浸漬させ、銀めっき
層14の表面に薄い酸化防止皮膜を形成させる処理であ
る。金属表面処理剤としては、銀に限らず種々の金属表
面又はめっき表面を処理する公知の金属表面処理剤が使
用可能である。これら金属表面処理剤を銀めっき層14
に接触させることによって、その表面に高い撥水性を有
する酸化皮膜が形成される。この金属表面処理剤として
は、例えば、奥野製薬工業株式会社製の「トップリン
ス」が好適に使用される。金属表面処理剤として「トッ
プリンス」を使用する場合には、1〜50重量%の範囲
内の水溶液を用いるのが好ましい。In the anti-oxidation film forming step, the silver plating layer 14 is used.
Is a treatment of applying or dipping a metal surface treatment agent on the surface of the above to form a thin antioxidant film on the surface of the silver plating layer 14. The metal surface treatment agent is not limited to silver, and known metal surface treatment agents for treating various metal surfaces or plated surfaces can be used. These metal surface treatment agents are applied to the silver plating layer 14
By contacting with, an oxide film having high water repellency is formed on the surface. As this metal surface treatment agent, for example, "Top rinse" manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd. is preferably used. When "top rinse" is used as the metal surface treatment agent, it is preferable to use an aqueous solution in the range of 1 to 50% by weight.
【0076】次に、S46の水洗工程において、銀めっ
き層14の表面をイオン交換水又は蒸留水を用いて水洗
した後、S47の水切りブロー工程において、銀めっき
層14の表面に付着している水滴をエアブローにて吹き
飛ばす。続いて、S48の乾燥工程において、およそ5
0℃の温度で15分間程度乾燥させた後、S50のトッ
プコート塗装工程(TC塗装工程)を行う。Next, in the water washing step of S46, the surface of the silver plating layer 14 is washed with ion-exchanged water or distilled water, and then adhered to the surface of the silver plating layer 14 in the draining and blowing step of S47. Blow off water droplets with an air blow. Then, in the drying step of S48, about 5
After drying at a temperature of 0 ° C. for about 15 minutes, the S50 top coat coating step (TC coating step) is performed.
【0077】このS50のトップコート塗装工程は、銀
めっき層14の表面にトップコート剤からなるトップコ
ート層15を形成させる工程である。このトップコート
塗装工程では、まず、S51のトップ塗装工程におい
て、トップコート剤を銀めっき層14の表面に均一に塗
布する。このトップコート剤としては、例えば、藤倉化
成株式会社製の「PTC―02」または大橋化学工業株
式会社製の「T―7」またはオリジン電気株式会社製の
「オリジツーク#100」が好適に使用される。The topcoat coating step of S50 is a step of forming the topcoat layer 15 made of a topcoat agent on the surface of the silver plating layer 14. In the top coating step, first, the top coating agent is uniformly applied to the surface of the silver plating layer 14 in the top coating step of S51. As this top coat agent, for example, "PTC-02" manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., "T-7" manufactured by Ohashi Chemical Industry Co., Ltd., or "Origiji Zug # 100" manufactured by Origin Electric Co., Ltd. is preferably used. It
【0078】続いて、S52の乾燥工程において、前記
銀めっき層14上に塗布されたトップコート剤を乾燥さ
せ、トップコート層15を形成させる。ここで、トップ
コート剤として、前記「PTC―02」を用いた場合に
はおよそ70℃の温度で70分間程度乾燥させる。また
は、トップコート剤として、前記「T―7」または「オ
リジツーク#100」を用いた場合にはおよそ80℃の
温度で30分間程度乾燥させる。Then, in the drying step of S52, the top coat agent applied on the silver plating layer 14 is dried to form the top coat layer 15. Here, when the above-mentioned “PTC-02” is used as the top coat agent, it is dried at a temperature of about 70 ° C. for about 70 minutes. Alternatively, when the above-mentioned "T-7" or "Origi-Tug # 100" is used as the top coat agent, it is dried at a temperature of about 80 ° C. for about 30 minutes.
【0079】前述の構成を有するめっき製品11は、例
えば、メータークラスター、センタークラスター、レジ
スター、センターコンソール、エンブレム等の自動車の
内装部品、ホイールキャップ、バンパーモール、ホイル
ガーニッシュ、グリルラジエータ、バックパネル、エン
ブレム等の自動車の外装部品に好適に適用することがで
きる。さらには、エアコンハウジング、携帯電話、ノー
トパソコン等の自動車部品以外の用途に用いられる各種
めっき製品も好適に適用することができる。The plated product 11 having the above-mentioned structure is, for example, an automobile interior part such as a meter cluster, a center cluster, a register, a center console, an emblem, a wheel cap, a bumper molding, a wheel garnish, a grill radiator, a back panel, an emblem. It can be suitably applied to automobile exterior parts such as. Furthermore, various plated products used for applications other than automobile parts such as air conditioner housings, mobile phones, and notebook computers can also be suitably applied.
【0080】上記実施形態によって発揮される効果につ
いて、以下に記載する。
(1)この実施形態では、S41の銀鏡前処理工程で用
いられる方法の1つとして、銀めっき層14を構成する
銀との標準電極電位の差が絶対値で0.2eV未満であ
るパラジウム[II]を触媒として用いて、銀めっき層1
4をベースコート層13の表面に形成することとした。
このため、銀めっき層14を構成する銀と触媒残渣及び
その転化物等との間での電子の授受が行われにくくな
り、銀めっき層14の銀の腐食が抑制される。この結
果、銀めっき層14の銀の腐食に起因する銀めっき層1
4の変色や剥離を好適に抑制することができる。The effects exhibited by the above embodiment will be described below. (1) In this embodiment, as one of the methods used in the silver mirror pretreatment step of S41, the difference between the standard electrode potential of silver constituting the silver plating layer 14 and the standard electrode potential is less than 0.2 eV in absolute value. II] as a catalyst, and silver plating layer 1
4 was formed on the surface of the base coat layer 13.
For this reason, it becomes difficult for electrons to be transferred between the silver constituting the silver plating layer 14 and the catalyst residue, its conversion product, and the like, and silver corrosion of the silver plating layer 14 is suppressed. As a result, the silver plating layer 1 caused by the corrosion of the silver of the silver plating layer 14
Discoloration and peeling of No. 4 can be suitably suppressed.
【0081】(2)この実施形態では、銀めっき層14
には、同層14を保護するトップコート層15が積層さ
れる。これにより、めっき製品11におけるベースコー
ト層13と銀めっき層14との間に水分が侵入しにくく
なる。このため、銀めっき層14の銀と前記触媒残渣等
との間での電子の授受が行われにくくなり、銀めっき層
14の銀の腐食が抑制されて、銀めっき層14の耐食性
を向上することができる。(2) In this embodiment, the silver plating layer 14
A top coat layer 15 that protects the same layer 14 is laminated on. This makes it difficult for moisture to enter between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14 in the plated product 11. For this reason, it becomes difficult for electrons to be transferred between the silver of the silver plating layer 14 and the catalyst residue and the like, the corrosion of silver of the silver plating layer 14 is suppressed, and the corrosion resistance of the silver plating layer 14 is improved. be able to.
【0082】(3)この実施形態では、めっき製品11
に、銀めっき層14が形成される。そして、前記
(1)、(2)のように銀の腐食が好適に抑制される構
成となっているため、銀めっき層14を、長期に亘って
高輝度で保持することができる。(3) In this embodiment, the plated product 11
Then, the silver plating layer 14 is formed. Since the corrosion of silver is preferably suppressed as in the above (1) and (2), the silver plating layer 14 can be retained at high brightness for a long period of time.
【0083】(4)この実施形態では、S62の触媒担
持工程において、パラジウム[II]を触媒として使用す
る場合、ベースコート層13の表面に、助触媒担持工程
にて助触媒のスズ[II]を一旦担持した後、触媒担持工
程にて触媒のパラジウム[II]が担持される。これによ
り、銀めっき層14の銀の標準電極電位の値と近い標準
電極電位を有するものの、ベースコート層13に対して
直接担持することの難しいパラジウム[II]を、スズ
[II]と置換することでベースコート層13の表面に担
持することができる。このため、腐食が生じにくい銀め
っき層14を容易に形成することができる。(4) In this embodiment, when palladium [II] is used as a catalyst in the catalyst supporting step of S62, tin [II] which is a promoter is attached to the surface of the base coat layer 13 in the promoter supporting step. After carrying once, the catalyst palladium [II] is carried in the catalyst carrying step. As a result, it is possible to replace tin [II] with palladium [II], which has a standard electrode potential close to the standard electrode potential of silver of the silver plating layer 14, but which is difficult to support directly on the base coat layer 13. Can be supported on the surface of the base coat layer 13. Therefore, it is possible to easily form the silver plating layer 14 in which corrosion is unlikely to occur.
【0084】(5)この実施形態では、S62の触媒担
持工程において、スズ[II]を触媒として使用する場
合、前処理薬液は、スズ[II]が全スズの95%以上を
占めた状態で使用される。これにより、前処理薬液中に
おけるスズ[II]の濃度が高く、ベースコート層13の
表面上に担持される触媒量が多くなり、銀めっき層14
の銀を効率よく析出させることができる。また、ベース
コート層13の表面に対する銀の析出のばらつきを抑制
することができ、めっき製品11の品質を高く維持する
ことができる。(5) In this embodiment, when tin [II] is used as a catalyst in the catalyst supporting step of S62, the pretreatment chemical liquid is such that tin [II] accounts for 95% or more of all tin. used. As a result, the concentration of tin [II] in the pretreatment liquid is high, the amount of catalyst supported on the surface of the base coat layer 13 increases, and the silver plating layer 14
The silver can be efficiently deposited. Further, it is possible to suppress variations in the deposition of silver on the surface of the base coat layer 13, and it is possible to maintain high quality of the plated product 11.
【0085】さらに、前処理薬液は、その薬液中のスズ
のうち実際に触媒として作用しない非有効成分(スズ
[IV])が少ない状態で用いられる。このため、めっき
製品11のベースコート層13と銀めっき層14との間
に残存する非有効成分の量が低減され、銀めっき層14
の変色や剥離を特に好適に抑制することができる。Further, the pretreatment chemical liquid is used in a state in which a small amount of inactive components (tin [IV]) which do not actually act as a catalyst among tin in the chemical liquid is small. Therefore, the amount of inactive components remaining between the base coat layer 13 and the silver plating layer 14 of the plated product 11 is reduced, and the silver plating layer 14 is reduced.
It is possible to particularly suitably suppress the discoloration and peeling.
【0086】(6)この実施形態では、S62の触媒担
持工程において、スズ[II]を触媒として使用する場
合、酸化抑制処理の1つの処理として、前処理薬液に
は、多価アルコールからなる酸化抑制成分が含有され
る。このため、前処理薬液中におけるスズ[II]の酸化
が抑制され、銀めっき層14の形成時、スズ[II]をよ
り多く含有する前処理薬液を用いることができる。ま
た、前処理薬液を、スズ[II]の濃度低下を好適に抑制
しつつ、比較的長期間に亘って安定に保管することがで
きるうえ、その管理も容易となる。また、酸化抑制成分
を前処理薬液に配合して調製することで、特別な処理装
置を用いたり、手間のかかる処理作業を行ったりするこ
となく、前処理薬液中のスズ[II]の酸化を抑制するこ
とができる。このため、前処理薬液を容易に安定な状態
で保つことができる。(6) In this embodiment, when tin [II] is used as a catalyst in the catalyst supporting step of S62, one treatment of the oxidation suppressing treatment is that the pretreatment chemical liquid contains an oxidation product of polyhydric alcohol. Inhibitory components are included. Therefore, the oxidation of tin [II] in the pretreatment liquid is suppressed, and a pretreatment liquid containing a larger amount of tin [II] can be used when the silver plating layer 14 is formed. Further, the pretreatment chemical liquid can be stably stored for a comparatively long period of time while appropriately suppressing the decrease in the concentration of tin [II], and the management thereof becomes easy. In addition, by mixing the oxidation-preventing component with the pretreatment chemical to prepare it, oxidation of tin [II] in the pretreatment chemical can be performed without using a special treatment device or performing a troublesome treatment work. Can be suppressed. Therefore, the pretreatment chemical can be easily kept in a stable state.
【0087】(7)この実施形態では、S62の触媒担
持工程において、スズ[II]を触媒として使用する場
合、酸化抑制処理の1つの処理として、前処理薬液を、
溶存酸素の脱気された純水に対して塩化スズ[II]、塩
酸、酸化抑制成分を配合し、調製することが含まれる。
また、酸化抑制処理の1つとして、前処理薬液中の溶存
酸素を脱気する脱気処理が含まれる。また、酸化抑制処
理の1つとして、前処理薬液を、その薬液の配置される
環境と、その環境と区画された外部の環境との間の酸素
の流通が遮断された状態で保持することが含まれる。こ
れにより、前処理薬液中のスズ[II]が、その薬液中の
溶存酸素や、外部環境からの酸素によって酸化されるこ
とが抑制される。このため、スズ[II]の濃度低下が抑
制され、銀めっき層14の形成時に、同銀めっき層14
を効率よく形成することができる。また、めっき製品1
1中に取り込まれる酸素の量が低減され、形成された銀
めっき層14の銀の腐食を抑制することができる。ま
た、前処理薬液を、スズ[II]の濃度低下を好適に抑制
しつつ、より長期間に亘って安定に保管することがで
き、その管理もさらに容易となる。(7) In this embodiment, when tin [II] is used as a catalyst in the catalyst supporting step of S62, the pretreatment chemical solution is used as one of the oxidation suppressing treatments.
This includes mixing and preparing tin chloride [II], hydrochloric acid, and an oxidation-suppressing component with respect to pure water degassed of dissolved oxygen.
Further, as one of the oxidation suppressing treatments, a degassing treatment for degassing dissolved oxygen in the pretreatment chemical liquid is included. Further, as one of the oxidation suppressing treatments, it is possible to maintain the pretreatment chemical liquid in a state in which the flow of oxygen between the environment in which the chemical liquid is arranged and the external environment partitioned from the environment is blocked. included. This suppresses the oxidation of tin [II] in the pretreatment chemical liquid by dissolved oxygen in the chemical liquid or oxygen from the external environment. For this reason, the decrease in the tin [II] concentration is suppressed, and when the silver plating layer 14 is formed,
Can be formed efficiently. Also, plated product 1
The amount of oxygen taken in 1 is reduced, and silver corrosion of the formed silver plating layer 14 can be suppressed. Further, the pretreatment chemical liquid can be stably stored for a longer period of time while appropriately suppressing the decrease in the concentration of tin [II], and the management thereof is further facilitated.
【0088】(8)この実施形態では、S62の触媒担
持工程において、スズ[II]を触媒として使用する場
合、スズ[II]が全スズの95%以上を占めるととも
に、酸化抑制処理が施された前処理薬液を使用すること
としている。このため、銀めっき層14の銀の腐食をさ
らに一層好適に抑制することができ、上述した製造方法
を、過酷な環境下で使用されるめっき製品の製造方法に
適用することができる。(8) In this embodiment, when tin [II] is used as a catalyst in the catalyst supporting step of S62, tin [II] occupies 95% or more of the total tin and is subjected to an oxidation suppressing treatment. Pretreatment chemicals will be used. Therefore, silver corrosion of the silver plating layer 14 can be suppressed even more suitably, and the above-described manufacturing method can be applied to a manufacturing method of a plated product used in a harsh environment.
【0089】(9)この実施形態では、銀めっき層14
は、銀鏡反応を利用した化学めっき法を用いて形成され
る。このため、非常に簡便な方法で銀めっき層14を析
出させることができる。また、銀めっき層14の析出の
際の作業を極めて迅速かつ容易に行うことができ、製造
コストの低減に役立つ。(9) In this embodiment, the silver plating layer 14
Is formed using a chemical plating method utilizing a silver mirror reaction. Therefore, the silver plating layer 14 can be deposited by a very simple method. In addition, the work for depositing the silver plating layer 14 can be performed extremely quickly and easily, which helps reduce the manufacturing cost.
【0090】(10)この実施形態では、基材層12は
合成樹脂により形成される。このため、めっき製品11
の軽量化を図ることができるとともに、製品形状の自由
度を高めることができる。(10) In this embodiment, the base material layer 12 is made of synthetic resin. Therefore, plated product 11
The weight can be reduced, and the degree of freedom in the product shape can be increased.
【0091】[0091]
【実施例】以下、前記実施形態を具体化した実施例及び
比較例について説明する。
(実施例1)ABSにより四角板状に形成された基材層
12を射出成形した後(S20)、その基材層12の表
面(意匠面)にイソプロパノールをスプレー洗浄してS
31の前処理工程を行った。続いて、ベースコート剤
(大橋化学工業社製の「771」)を基材層12の表面
にスプレー塗布してS32のベース塗装工程を行った。
その後、80℃の乾燥炉内で30分間の乾燥工程(S3
3)を行うことによって、基材層12の表面に約20μ
mの均一な厚さのベースコート層13を形成した。EXAMPLES Examples and comparative examples embodying the above embodiment will be described below. (Example 1) After the base material layer 12 formed in a square plate shape by ABS is injection-molded (S20), isopropanol is spray-washed on the surface (designed surface) of the base material layer 12 to perform S cleaning.
31 pretreatment steps were performed. Subsequently, a base coating agent (“771” manufactured by Ohashi Chemical Industry Co., Ltd.) was spray-coated on the surface of the base material layer 12 to perform a base coating step of S32.
After that, a drying process (S3
By performing 3), the surface of the base material layer 12 will have a thickness of about 20 μm.
A base coat layer 13 having a uniform thickness of m was formed.
【0092】次に、ベースコート層13の表面に、第1
前処理薬液(塩化スズ[II]溶液)をスプレー塗布して
S60の助触媒担持工程を行った後、導電率が3μS/
m3以下のイオン交換水にてベースコート層13の表面
をスプレー洗浄し、S61の水洗工程を行った。前記S
60の助触媒担持工程では、導電率が0.05μS/m
3の純水に対して0.092mol/lの塩化スズ[I
I]と0.110mol/lの塩酸とが含有され、調製
後72時間を経過した塩化スズ[II]溶液を使用した。Next, on the surface of the base coat layer 13, the first
After the pretreatment chemical solution (tin chloride [II] solution) is spray-coated and the co-catalyst loading step of S60 is performed, the conductivity is 3 μS /
The surface of the base coat layer 13 was spray-washed with m 3 or less of ion-exchanged water, and the water washing step of S61 was performed. The S
In the co-catalyst loading step of 60, the conductivity is 0.05 μS / m
Tin chloride 0.092 mol / l for three pure water [I
I] and 0.110 mol / l hydrochloric acid were contained, and a tin chloride [II] solution 72 hours after the preparation was used.
【0093】次に、スズ[II]が担持されたベースコー
ト層13の表面に、第2前処理薬液(塩化パラジウム溶
液)をスプレー塗布してS62の触媒担持工程を行った
後、導電率が3μS/m3以下のイオン交換水にてベー
スコート層13の表面をスプレー洗浄し、S42の水洗
工程を行った。前記S62の触媒担持工程では、導電率
が0.05μS/m3の純水に対して、0.092mo
l/lの塩化パラジウムと0.110mol/lの塩酸
とを含有する塩化パラジウム溶液を使用した。Next, after spraying a second pretreatment chemical solution (palladium chloride solution) on the surface of the base coat layer 13 supporting tin [II] and performing the catalyst supporting step of S62, the conductivity is 3 μS. The surface of the base coat layer 13 was spray-washed with ion-exchanged water of not more than / m 3 and the water washing step of S42 was performed. In the catalyst supporting step of S62, the conductivity is 0.092 mo with respect to pure water having a conductivity of 0.05 μS / m 3.
A palladium chloride solution containing 1 / l palladium chloride and 0.110 mol / l hydrochloric acid was used.
【0094】続いて、トレンス試薬とグリオキサールと
を双頭スプレーガンを用いてベースコート層13の表面
に同時にスプレー塗布してS43のめっき層形成工程を
行うことによって、ベースコート層13の表面に約0.
1μmの均一な厚さの銀めっき層14を形成した。その
後、イオン交換水にて銀めっき層14の表面をスプレー
洗浄し、S44の水洗工程を行った。Subsequently, the Tollens's reagent and glyoxal are simultaneously spray-coated on the surface of the base coat layer 13 using a double-headed spray gun, and the plating layer forming step of S43 is performed, whereby the surface of the base coat layer 13 is reduced to about 0.
The silver plating layer 14 having a uniform thickness of 1 μm was formed. Then, the surface of the silver plating layer 14 was spray-washed with ion-exchanged water, and the water washing step of S44 was performed.
【0095】次に、銀めっき層14の表面に、金属表面
処理剤(奥野製薬工業社製の「トップリンス」の10重
量%水溶液)をスプレー塗布してS45の銀鏡後処理工
程を行った後、イオン交換水にて銀めっき層14の表面
をスプレー洗浄してS46の水洗工程を行った。続い
て、銀めっき層14の表面に圧縮空気を吹き付けてS4
7の水切りブロー工程を行った後、50℃の乾燥炉内で
15分間の乾燥工程(S48)を行った。Then, a metal surface treatment agent (10% by weight aqueous solution of "top rinse" manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) is spray-coated on the surface of the silver plating layer 14 and the silver mirror post-treatment step of S45 is performed. The surface of the silver plating layer 14 was spray-washed with ion-exchanged water, and the water washing step of S46 was performed. Subsequently, the surface of the silver plating layer 14 is blown with compressed air to obtain S4.
After performing the draining blow process of No. 7, the drying process (S48) for 15 minutes was performed in a 50 degreeC drying furnace.
【0096】最後に、銀めっき層14の表面に、トップ
コート剤(藤倉化成社製の「PTC−02」)をスプレ
ー塗布してS51のトップ塗装工程を行った後、70℃
の乾燥炉内で70分間の乾燥工程(S52)を行うこと
によって、銀めっき層14の表面に約20μmの均一な
厚さのトップコート層15を形成した。得られためっき
製品11は、基材層12の表面にベースコート層13、
銀めっき層14及びトップコート層15が形成されてい
る。Finally, a top coating agent ("PTC-02" manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is spray-coated on the surface of the silver plating layer 14 to carry out the top coating step of S51, and then at 70 ° C.
By performing the drying step (S52) in the drying furnace for 70 minutes, the top coat layer 15 having a uniform thickness of about 20 μm was formed on the surface of the silver plating layer 14. The obtained plated product 11 has a base coat layer 13 on the surface of the base material layer 12,
A silver plating layer 14 and a top coat layer 15 are formed.
【0097】(比較例1)S60の助触媒担持工程とS
61の水洗工程とを省略するとともに、S62の触媒担
持工程において、第1前処理薬液と同成分の塩化スズ
[II]溶液をベースコート層13の表面にスプレー塗布
した以外は、前記実施例1と同様の工程を行った。すな
わち、塩化スズ[II]溶液中のスズ[II]を、銀めっき
層14を形成する際に実際に触媒として作用する状態の
有効成分としてベースコート層13の表面に担持し、S
43のめっき層形成工程を行った。得られためっき製品
は、基材層12の表面にベースコート層13、銀めっき
層14及びトップコート層15が形成されている。な
お、この比較例1のめっき製品を2つ用意し、一方を比
較例3のめっき製品とした。(Comparative Example 1) S60 co-catalyst loading step and S60
61, except that the water washing step of 61 is omitted, and tin chloride [II] solution having the same components as the first pretreatment chemical solution is spray-coated on the surface of the base coat layer 13 in the catalyst supporting step of S62. Similar steps were performed. That is, tin [II] in a tin chloride [II] solution is supported on the surface of the base coat layer 13 as an active ingredient in a state of actually acting as a catalyst when the silver plating layer 14 is formed.
The plating layer forming step of No. 43 was performed. In the obtained plated product, the base coat layer 13, the silver plating layer 14 and the top coat layer 15 are formed on the surface of the base material layer 12. Two plated products of Comparative Example 1 were prepared, and one of them was used as a plated product of Comparative Example 3.
【0098】(実施例2)S60の助触媒担持工程とS
61の水洗工程とを省略するとともに、S62の触媒担
持工程において、塩化スズ[II]溶液を前処理薬液とし
てベースコート層13の表面にスプレー塗布した。この
S62の触媒担持工程では、溶液中のめっき層形成工程
で実際に触媒として作用する状態の有効成分(スズ[I
I])が、全触媒成分(スズ)の99%を占めた状態の
塩化スズ[II]溶液を使用した。また、上記以外の製造
工程は、前記実施例1と同様である。得られためっき製
品は、基材層12の表面にベースコート層13、銀めっ
き層14及びトップコート層15が形成されている。(Example 2) S60 co-catalyst loading step and S60
The water washing step of 61 was omitted, and in the catalyst supporting step of S62, a tin chloride [II] solution was spray-coated on the surface of the base coat layer 13 as a pretreatment chemical. In the catalyst supporting step of S62, the active ingredient (tin [I
I]) was used as a tin chloride [II] solution in which 99% of all catalyst components (tin) were occupied. The manufacturing process other than the above is the same as that of the first embodiment. In the obtained plated product, the base coat layer 13, the silver plating layer 14 and the top coat layer 15 are formed on the surface of the base material layer 12.
【0099】(比較例2)S62の触媒担持工程におい
て、塩化スズ[II]溶液を前処理薬液としてベースコー
ト層13の表面にスプレー塗布した。このS62の触媒
担持工程では、溶液中のめっき層形成工程で実際に触媒
として作用する状態の有効成分(スズ[II])が、全触
媒成分(スズ)の88%を占めた状態の塩化スズ[II]
溶液を使用した。また、上記以外の製造工程は、前記実
施例2と同様である。得られためっき製品は、基材層1
2の表面にベースコート層13、銀めっき層14及びト
ップコート層15が形成されている。(Comparative Example 2) In the catalyst supporting step of S62, a tin chloride [II] solution was spray-coated on the surface of the base coat layer 13 as a pretreatment chemical. In this catalyst loading step of S62, tin chloride in a state where the active ingredient (tin [II]) actually acting as a catalyst in the plating layer forming step in the solution occupies 88% of all the catalyst ingredients (tin) [II]
The solution was used. The manufacturing process other than the above is the same as that of the second embodiment. The obtained plated product has a base layer 1
A base coat layer 13, a silver plating layer 14, and a top coat layer 15 are formed on the surface of No. 2.
【0100】(実施例3)S60の助触媒担持工程とS
61の水洗工程とを省略するとともに、S62の触媒担
持工程において、塩化スズ[II]溶液を前処理薬液とし
てベースコート層13の表面にスプレー塗布した。この
触媒担持工程では、前記実施例1に記載の成分に加え
て、酸化抑制成分である0.110mol/lのブドウ
糖を含有し、調製後72時間を経過した塩化スズ[II]
溶液を使用した。また、上記以外の製造工程は、前記実
施例1と同様である。得られためっき製品は、基材層1
2の表面にベースコート層13、銀めっき層14及びト
ップコート層15が形成されている。(Example 3) S60 co-catalyst loading step and S60
The water washing step of 61 was omitted, and in the catalyst supporting step of S62, a tin chloride [II] solution was spray-coated on the surface of the base coat layer 13 as a pretreatment chemical. In this catalyst loading step, in addition to the components described in Example 1, 0.110 mol / l of glucose, which is an oxidation inhibiting component, was added, and tin chloride [II] 72 hours after the preparation was passed.
The solution was used. The manufacturing process other than the above is the same as that of the first embodiment. The obtained plated product has a base layer 1
A base coat layer 13, a silver plating layer 14, and a top coat layer 15 are formed on the surface of No. 2.
【0101】<耐食性加速試験>実施例1〜3のめっき
製品11及び比較例1〜3のめっき製品について、塩水
噴霧による耐食性加速試験を行った。すなわち、各めっ
き製品が静置された試験装置内に、5重量%の塩化ナト
リウムが添加され、pH6.5〜7.2に調整された水
溶液を、35℃に保った状態で240時間噴霧する。そ
の後、各めっき製品を試験装置から取り出し、それらめ
っき製品を流水にて洗浄する。こうして塩水噴霧が行わ
れためっき製品に対して、その外観を腐食の進行状況の
尺度として鏡面の変色及び白濁状況に注目して目視にて
判定した。<Corrosion Resistance Accelerated Test> The plated products 11 of Examples 1 to 3 and the plated products of Comparative Examples 1 to 3 were subjected to an accelerated corrosion resistance test by salt spray. That is, 5 wt% sodium chloride was added to the test apparatus in which each plated product was left stationary, and an aqueous solution adjusted to pH 6.5 to 7.2 was sprayed for 240 hours while being kept at 35 ° C. . After that, each plated product is taken out of the test apparatus and washed with running water. The appearance of the plated product thus sprayed with salt water was visually determined by noting the discoloration and white turbidity of the mirror surface as a measure of the progress of corrosion.
【0102】また、上記塩水噴霧後のめっき製品に対し
て、針またはカッターナイフなどで銀めっき層14を貫
通する碁盤目を切り、セロファンテープを用いて銀めっ
き層14の付着性を評価するテーピング試験(JIS G02
02)を行い、銀めっき層14の剥離の状況を目視にて判
定した。また、上記塩水噴霧後のめっき製品に対して、
前記碁盤目を切らずに、セロファンテープを用いて銀め
っき層14の付着性を評価するテーピング試験(ドライ
テーピング)を行い、銀めっき層14の剥離の状況を目
視にて判定した。なお、この耐食性加速試験を、実施例
1及び比較例1についてはS52の乾燥工程後、3日を
経過しためっき製品に、また、実施例2,3及び比較例
2,3についてはS52の乾燥工程後、10日を経過し
ためっき製品に対して行った。図4に、その評価結果を
示す。Further, with respect to the plated product after the salt spray, the cross-cutting that penetrates the silver plating layer 14 is cut with a needle or a cutter knife, and taping for evaluating the adhesiveness of the silver plating layer 14 using cellophane tape. Test (JIS G02
02) was performed and the state of peeling of the silver plating layer 14 was visually determined. Also, for the plated product after the salt spray,
A taping test (dry taping) for evaluating the adhesion of the silver plating layer 14 was performed using a cellophane tape without cutting the cross-cut, and the state of peeling of the silver plating layer 14 was visually determined. The accelerated corrosion resistance test was performed on the plated products after 3 days from the drying step of S52 for Example 1 and Comparative Example 1 and the drying of S52 for Examples 2 and 3 and Comparative Examples 2 and 3. The process was performed on the plated product 10 days after the process. FIG. 4 shows the evaluation result.
【0103】まず、実施例1と比較例1とから、銀めっ
き層14の銀と触媒との標準電極電位の差による耐食性
の影響を検討する。図4に示すように、前記標準電極電
位の差が絶対値で0.19eVである実施例1では、外
観及び銀めっき層14付着性の全評価項目において良好
な結果が得られている。これに対して、前記標準電極電
位の差が絶対値で0.65eVである比較例1では、外
観の評価項目において良好な結果が得られているもの
の、付着性の評価項目においては良い結果が得られてい
ない。なお、比較例1では、銀めっき層14の変色及び
光沢低下が、耐食性加速試験後、時間の経過とともに徐
々に認められるようになってくることが確認されてい
る。これに対して実施例1では、銀めっき層14の経時
的な変色や光沢低下は殆ど認められなかった。First, from Example 1 and Comparative Example 1, the influence of the corrosion resistance due to the difference in the standard electrode potential between the silver of the silver plating layer 14 and the catalyst will be examined. As shown in FIG. 4, in Example 1 in which the difference between the standard electrode potentials is 0.19 eV in absolute value, good results were obtained in all evaluation items of the appearance and the adhesion of the silver plating layer 14. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the difference between the standard electrode potentials is 0.65 eV in absolute value, although good results were obtained in the evaluation items of appearance, good results were obtained in the evaluation items of adhesiveness. Not obtained. In Comparative Example 1, it has been confirmed that the discoloration and the decrease in gloss of the silver plating layer 14 are gradually recognized with the passage of time after the corrosion resistance accelerated test. On the other hand, in Example 1, almost no discoloration or decrease in gloss of the silver plating layer 14 with time was observed.
【0104】次に、実施例2と比較例2とから、塩化ス
ズ[II]溶液中の全触媒成分に対する実際に触媒として
作用する有効成分の割合による耐食性の影響を検討す
る。図4に示すように、銀めっき層14の形成に際し
て、前記有効成分が全触媒成分の99%を占めた状態の
塩化スズ[II]溶液を使用した実施例2では、外観及び
付着性の全評価項目において良好な結果が得られてい
る。これに対して、前記有効成分が全触媒成分の88%
を占めた状態の塩化スズ[II]溶液を使用した比較例2
では、外観の評価項目において良好な結果が得られてい
るものの、付着性の評価項目においては良い結果が得ら
れていない。なお、比較例2では、銀めっき層の変色及
び光沢低下が、耐食性加速試験後、時間の経過とともに
徐々に認められるようになってくることが確認されてい
る。これに対して実施例2では、銀めっき層14の経時
的な変色や光沢低下は殆ど認められなかった。Next, from Example 2 and Comparative Example 2, the influence of the corrosion resistance by the ratio of the effective component which actually acts as a catalyst to all the catalyst components in the tin chloride [II] solution will be examined. As shown in FIG. 4, when the silver plating layer 14 was formed, in Example 2 in which the tin chloride [II] solution was used in which the active ingredient accounted for 99% of all the catalyst components, the appearance and adhesion were Good results have been obtained in the evaluation items. On the other hand, the active ingredient is 88% of the total catalyst component.
Comparative Example 2 Using a Tin [II] Chloride Solution Occupying
On the other hand, although good results were obtained in the evaluation items of appearance, good results were not obtained in the evaluation items of adhesiveness. In Comparative Example 2, it has been confirmed that the discoloration and the decrease in gloss of the silver plating layer are gradually recognized with the passage of time after the corrosion resistance accelerated test. On the other hand, in Example 2, almost no discoloration or decrease in gloss of the silver plating layer 14 with time was observed.
【0105】次に、実施例3と比較例3とから、前処理
薬液中の酸化抑制成分の有無による耐食性の影響を検討
する。図4に示すように、銀めっき層14の形成に際し
て、前記酸化抑制成分が含有された前処理薬液を使用し
た実施例3では、外観及び付着性の全評価項目において
良好な結果が得られている。これに対して、銀めっき層
14の形成に際して、前記酸化抑制成分が含有されてい
ない前処理薬液を使用した比較例3では、外観の評価項
目において良好な結果が得られているものの、付着性の
評価項目においては良い結果が得られていない。なお、
比較例3では、銀めっき層の変色及び光沢低下が、耐食
性加速試験後、時間の経過とともに徐々に認められるよ
うになってくることが確認されている。これに対して実
施例3では、銀めっき層14の経時的な変色や光沢低下
は殆ど認められなかった。Next, from Example 3 and Comparative Example 3, the influence of the corrosion resistance depending on the presence or absence of the oxidation inhibiting component in the pretreatment chemical liquid will be examined. As shown in FIG. 4, in the case of forming the silver plating layer 14, in Example 3 in which the pretreatment liquid containing the above-mentioned oxidation inhibiting component was used, good results were obtained in all the evaluation items of appearance and adhesiveness. There is. On the other hand, in Comparative Example 3 in which the pretreatment chemical liquid containing no oxidation inhibiting component was used in forming the silver plating layer 14, good results were obtained in the evaluation items of the appearance, but the adhesiveness was poor. Good results have not been obtained for the evaluation items. In addition,
In Comparative Example 3, it has been confirmed that the discoloration and the decrease in gloss of the silver plating layer are gradually recognized with the lapse of time after the corrosion resistance accelerated test. On the other hand, in Example 3, almost no discoloration or deterioration in gloss of the silver plating layer 14 was observed.
【0106】(変形例)なお、本実施形態は、次のよう
に変形して具体化することも可能である。
・前記実施形態において、ゴム、ガラス、陶磁器等を含
む各種のセラミックス、木材、紙等からなる各種の形状
のめっき製品であって、その表面に直接又は間接的にベ
ースコート層13を形成させることが可能な材料を用い
て基材層12を構成してもよい。また、上記実施形態に
列記された以外の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂により
基材層12を構成してもよい。(Modification) The present embodiment can be modified and embodied as follows. -In the above-mentioned embodiment, various shapes of plated products made of various ceramics including rubber, glass, ceramics, wood, paper, etc., and the base coat layer 13 can be directly or indirectly formed on the surface thereof. The base material layer 12 may be made of a possible material. Further, the base material layer 12 may be made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin other than those listed in the above embodiment.
【0107】・また、前記実施形態において、トップコ
ート層15に替えて、例えば、銀めっき層14上に貼
着、圧着、接着、粘着等されるフィルムを用いる構成で
あってもよい。なお、この場合には、S50のトップコ
ート塗装工程の替わりに、前記フィルムを銀めっき層1
4上に設ける工程が行われる。In the above embodiment, the top coat layer 15 may be replaced with a film which is attached, pressure-bonded, adhered or adhered on the silver plating layer 14, for example. In this case, the film is replaced with the silver plating layer 1 instead of the top coat coating step of S50.
4 is provided.
【0108】・また、前記実施形態において、S40の
めっき塗装工程後、直ちにS50のトップコート塗装工
程を行うことには限定されない。例えば、S40のめっ
き塗装工程後、銀めっき層14上に、その表面から接離
可能な仮の保護層を設けておき、必要に応じて、その仮
の保護層を廃棄して、その後にS50のトップコート塗
装工程等を行うようにしてもよい。In the above embodiment, the top coat coating step of S50 is not limited to be performed immediately after the plating coating step of S40. For example, after the plating coating step of S40, a temporary protective layer that can be contacted and separated from the surface is provided on the silver plating layer 14, the temporary protective layer is discarded as necessary, and then S50 is performed. You may make it perform the top coat painting process of.
【0109】・また、前記実施形態において、めっき製
品11は、ベースコート層13及びトップコート層15
の少なくとも一方が省略された構成であってもよい。な
お、ベースコート層13が省略される場合には、S30
のベースコート塗装工程は省略され、銀めっき層14
は、S40のめっき塗装工程により基材層12の表面上
に直接形成される。In the above embodiment, the plated product 11 has a base coat layer 13 and a top coat layer 15
Alternatively, at least one of them may be omitted. If the base coat layer 13 is omitted, S30
The base coat painting step of the silver plating layer 14 is omitted.
Is directly formed on the surface of the base material layer 12 by the plating coating step of S40.
【0110】・また、前記実施形態において、めっき製
品11の金属めっき層は、銀以外の金属からなる構成で
あってもよい。本発明は、金属めっき層の形成に際し
て、その金属めっき層を基材層の表面に形成するために
触媒が用いられるものであれば、同様に適用することが
できる。In the above embodiment, the metal plating layer of the plated product 11 may be made of a metal other than silver. The present invention can be similarly applied as long as a catalyst is used for forming the metal plating layer on the surface of the base material layer when forming the metal plating layer.
【0111】・また、前記実施形態において、銀めっき
層14は、スプレーガンを用いる方法に限らず、例えば
電気めっき法や浸漬めっき法等により形成してもよい。
本発明は、金属めっき層の形成に際して、その金属めっ
き層を基材層の表面に形成するための触媒が用いられる
ものであれば、同様に適用することができる。In the above embodiment, the silver plating layer 14 is not limited to the method using a spray gun, but may be formed by, for example, an electroplating method or an immersion plating method.
The present invention can be similarly applied as long as a catalyst for forming the metal plating layer on the surface of the base material layer is used in forming the metal plating layer.
【0112】・また、前記実施形態において、S60の
助触媒担持工程で、下部層(ベースコート層13もしく
は基材層12)の表面に担持する助触媒は、スズ[II]
には限定されない。同助触媒としては、S60の助触媒
担持工程で下部層の表面に担持され、且つ、S62の触
媒担持工程で触媒成分と置換可能なものであれば、その
成分は任意である。In the above embodiment, the co-catalyst supported on the surface of the lower layer (base coat layer 13 or base material layer 12) in the co-catalyst supporting step of S60 is tin [II].
It is not limited to As the co-catalyst, any component can be used as long as it can be supported on the surface of the lower layer in the co-catalyst supporting step of S60 and can be replaced with the catalyst component in the catalyst supporting step of S62.
【0113】・また、前記実施形態において、S43の
めっき層形成工程で実際に触媒として作用する状態の触
媒成分を、下部層(ベースコート層13もしくは基材層
12)に対して直接担持することが可能な場合には、S
60の助触媒担持工程及びS61の水洗工程を省略して
もよい。In the above-described embodiment, the catalyst component that actually acts as a catalyst in the plating layer forming step of S43 may be directly supported on the lower layer (base coat layer 13 or base material layer 12). S if possible
The co-catalyst loading step of 60 and the water washing step of S61 may be omitted.
【0114】・また、前記実施形態において、銀めっき
層14の形成に際に用いられる触媒は、スズ[II]また
はパラジウム[II]を含むものには限定されない。同触
媒として、スズ[II]またはパラジウム[II]以外に、
例えば、バナジウム[IV]、クロム[VI]、鉄[II
I]、 銅[II]、ヒ素[III] 、モリブデン[VII] 、
ルテニウム[II]、ルテニウム[III] 、ロジウム[II
I] 、アンチモン[III]、テルル[IV]、テルル[V
I]、ヨウ素[0]、レニウム[III] 、レニウム[I
V]、レニウム[VI]、レニウム[VII] 、オスミウム
[IV]、イリジウム[III] 、白金[II]、水銀[I
I]、タリウム[III] 、ビスマス[III] 等のいずれ
かを含むものであってもよい。これらの有効成分も、銀
めっき層14の銀との標準電極電位の差が、絶対値で
0.65eV未満であるため、銀めっき層14の銀の腐
食に起因する銀めっき層14の変色や剥離を好適に抑制
することができる。In the above embodiment, the catalyst used for forming the silver plating layer 14 is not limited to the one containing tin [II] or palladium [II]. As the catalyst, in addition to tin [II] or palladium [II],
For example, vanadium [IV], chromium [VI], iron [II
I], copper [II], arsenic [III], molybdenum [VII],
Ruthenium [II], Ruthenium [III], Rhodium [II
I], antimony [III], tellurium [IV], tellurium [V
I], iodine [0], rhenium [III], rhenium [I
V], rhenium [VI], rhenium [VII], osmium [IV], iridium [III], platinum [II], mercury [I
It may contain any one of I], thallium [III], bismuth [III] and the like. These active ingredients also have a difference in the standard electrode potential with respect to silver of the silver plating layer 14 of less than 0.65 eV in absolute value, so that the silver plating layer 14 is discolored due to corrosion of silver of the silver plating layer 14 or Peeling can be suppressed appropriately.
【0115】特に、これら列記した触媒のうち、鉄[II
I] 、ロジウム[III] 、テルル[VI]、ヨウ素
[0]、レニウム[VI]、オスミウム[IV]、白金[I
I]、水銀[II]は、銀めっき層14の銀との標準電極
電位の差が、絶対値で0.2eV以下である。このた
め、これらを触媒として用いれば、銀の腐食を特に好適
に抑制することができる。Among these listed catalysts, iron [II
I], rhodium [III], tellurium [VI], iodine [0], rhenium [VI], osmium [IV], platinum [I
I] and mercury [II] have a difference in standard electrode potential from silver of the silver plating layer 14 of 0.2 eV or less in absolute value. Therefore, if these are used as a catalyst, the corrosion of silver can be suppressed particularly preferably.
【0116】・また、前記実施形態において、S62の
触媒担持工程にて、第2前処理薬液としてパラジウム
[II]とは異なる触媒を含有する溶液を使用する場合に
は、その第2前処理薬液に、銀めっき層14の形成の際
に実際に触媒として作用する状態の有効成分の酸化を抑
制するための酸化抑制処理を施すこととしてもよい。な
お、酸化抑制処理として、例えば、前述のような第2前
処理薬液に対する酸化抑制成分の添加や脱気処理等を行
うことが可能である。In the above embodiment, when a solution containing a catalyst different from palladium [II] is used as the second pretreatment chemical liquid in the catalyst supporting step of S62, the second pretreatment chemical liquid is used. In addition, when the silver plating layer 14 is formed, an oxidation suppression treatment for suppressing the oxidation of the active ingredient that actually acts as a catalyst may be performed. Note that, as the oxidation suppressing treatment, for example, the addition of the oxidation suppressing component to the second pretreatment chemical liquid or the degassing treatment as described above can be performed.
【0117】また、酸化抑制処理として、前述した処理
のうちの任意の1つまたは複数の処理を行うこととして
もよい。このようにした場合には、銀めっき層14の銀
の腐食をさらに一層好適に抑制することができ、上述し
た製造方法を、過酷な環境下で使用されるめっき製品の
製造方法に適用することができる。As the oxidation suppressing process, any one or a plurality of the processes described above may be performed. In this case, silver corrosion of the silver plating layer 14 can be suppressed even more suitably, and the above-described manufacturing method should be applied to a manufacturing method of a plated product used in a harsh environment. You can
【0118】・また、前記実施形態において、S60の
助触媒担持工程でスズ[II]を助触媒として使用する場
合に、その助触媒担持工程で用いられる第1前処理薬液
は、必ずしも酸化抑制処理が施されている必要はない。
ただし、この場合にも、例えば、調製後、あまり時間が
経過していない状態の第1前処理薬液を用いる等して、
スズ[II]が全スズの95%以上を占めた状態の第1前
処理薬液を使用することが望ましい。In the above embodiment, when tin [II] is used as a co-catalyst in the co-catalyst supporting step of S60, the first pretreatment chemical liquid used in the co-catalyst supporting step is not necessarily the oxidation suppressing treatment. Need not have been applied.
However, even in this case, for example, by using the first pretreatment chemical liquid in a state where not much time has passed after the preparation,
It is desirable to use the first pretreatment liquid in a state where tin [II] accounts for 95% or more of all tin.
【0119】・また、前記実施形態において、酸化抑制
成分として前処理薬液に含有される多価アルコールは、
ブドウ糖やグリセリンには限定されない。同多価アルコ
ールとして、ブドウ糖やグリセリン以外に、例えば、
1,3―プロパンジオール、1,2―プロパンジオー
ル、エチレングリコール、エリトリトール、D―エリト
ルロース、D―エリトロース、D―トレオース、D―ア
ラビノース、β―D―アラビノース、β―L―アラビノ
ース、D―キシルロース、L―キシルロース、D―キシ
ロース、α―D―キシロース、2―デオキシ―D―リボ
ース、2―デオキシ―β―D―リボース、D―リキソー
ス、α―D―リキソース、α―L―リキソース、D―リ
ブロース、D―リボース、D―アラビロール、リビトー
ル、D―アルトロース、β―D―アルトロース、D―ア
ロース、β―D―アロース、D―イドース、D―ガラク
トース、α―D―ガラクトース、β―D―ガラクトー
ス、α―L―ガラクトース、D―キノボース、α―D―
キノボース、D―グルコース、α―D―グルコース、β
―D―グルコース、α―シクロデキストリン、β―シク
ロデキストリン等を用いてもよい。Further, in the above-mentioned embodiment, the polyhydric alcohol contained in the pretreatment chemical liquid as the oxidation inhibiting component is
It is not limited to glucose or glycerin. As the polyhydric alcohol, in addition to glucose and glycerin, for example,
1,3-propanediol, 1,2-propanediol, ethylene glycol, erythritol, D-erythrulose, D-erythrose, D-threose, D-arabinose, β-D-arabinose, β-L-arabinose, D-xylulose , L-xylulose, D-xylose, α-D-xylose, 2-deoxy-D-ribose, 2-deoxy-β-D-ribose, D-lyxose, α-D-lyxose, α-L-lyxose, D -Ribulose, D-ribose, D-arabilol, ribitol, D-altrose, β-D-altrose, D-allose, β-D-allose, D-idose, D-galactose, α-D-galactose, β-D-galactose, α-L-galactose, D-quinovose, α-D-
Quinobose, D-glucose, α-D-glucose, β
-D-glucose, α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and the like may be used.
【0120】その他、前記実施形態、並びに変形例の記
載から把握できる技術的思想について、それらの効果と
ともに以下に記載する。
(イ)前記金属めっき層は、銀鏡反応を利用した化学め
っき法を用いて形成された銀めっき層であることを特徴
とする請求項4〜請求項16のうちいずれか一項に記載
のめっき製品の製造方法。In addition, the technical ideas that can be understood from the description of the embodiment and the modified examples will be described below together with their effects. (A) The metal plating layer is a silver plating layer formed by a chemical plating method utilizing a silver mirror reaction, and the plating according to any one of claims 4 to 16. Product manufacturing method.
【0121】従って、この(イ)に記載の発明によれ
ば、請求項4〜請求項16のうちいずれか一項に記載の
発明の効果に加えて、非常に簡便な方法で銀めっき層を
析出させることが可能となる。また、銀めっき層の析出
の際の作業を極めて迅速かつ容易に行うことが可能とな
り、製造コストの低減に役立つ。Therefore, according to the invention described in (a), in addition to the effect of the invention described in any one of claims 4 to 16, the silver plating layer is formed by a very simple method. It becomes possible to deposit. Further, the work for depositing the silver plating layer can be performed extremely quickly and easily, which is useful for reducing the manufacturing cost.
【0122】(ロ)前記基材層を合成樹脂により構成し
たことを特徴とする請求項4〜請求項16のうちいずれ
か一項に記載のめっき製品の製造方法。従って、この
(ロ)に記載の発明によれば、請求項4〜請求項16の
うちいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、めっき
製品の軽量化を図ることができるとともに、めっき製品
の形状の自由度を高めることができる。(B) The method for producing a plated product according to any one of claims 4 to 16, wherein the base material layer is made of a synthetic resin. Therefore, according to the invention described in (B), in addition to the effect of the invention described in any one of claims 4 to 16, the weight of the plated product can be reduced and the plating can be achieved. The degree of freedom in the shape of the product can be increased.
【0123】[0123]
【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項1、請
求項2、請求項4または請求項11に記載の発明によれ
ば、金属めっき層を構成する金属の腐食に起因する金属
めっき層の変色や剥離を好適に抑制することができる。As described above in detail, according to the invention of claim 1, claim 2, claim 4 or claim 11 of the present invention, metal plating caused by corrosion of the metal forming the metal plating layer Discoloration and peeling of the layer can be suitably suppressed.
【0124】また、本願請求項3または請求項6に記載
の発明によれば、前記請求項1または請求項2に記載の
発明の効果に加えて、銀めっき層を、長期に亘って高輝
度に保持することができる。Further, according to the invention of claim 3 or 6, in addition to the effect of the invention of claim 1 or 2, the silver plating layer is provided with high brightness over a long period of time. Can be held at.
【0125】また、本願請求項5に記載の発明によれ
ば、前記請求項4に記載の発明の効果に加えて、腐食が
生じにくい金属めっき層を容易に形成することができ
る。また、本願請求項7に記載の発明によれば、前記請
求項6に記載の発明の効果に加えて、銀の腐食を好適に
抑制することができる。According to the invention of claim 5 of the present application, in addition to the effect of the invention of claim 4, it is possible to easily form a metal plating layer which is unlikely to cause corrosion. Further, according to the invention of claim 7 of the present application, in addition to the effect of the invention of claim 6, corrosion of silver can be suitably suppressed.
【0126】また、本願請求項8に記載の発明によれ
ば、金属めっき層を構成する金属を効率よく析出させる
ことができる。また、めっき製品の品質を高く維持する
ことができる。また、金属めっき層の変色や剥離を好適
に抑制することができる。Further, according to the invention described in claim 8, the metal constituting the metal plating layer can be efficiently deposited. In addition, the quality of the plated product can be maintained high. Moreover, discoloration and peeling of the metal plating layer can be suitably suppressed.
【0127】また、本願請求項9に記載の発明によれ
ば、金属めっき層の形成に際して、有効成分をより多く
含有する前処理薬液を用いることができる。また、前処
理薬液を、有効成分の濃度低下を好適に抑制しつつ、比
較的長期間に亘って安定に保管することができるうえ、
その管理も容易となる。また、触媒担持工程において、
酸化抑制処理の施された前処理薬液を使用することで、
金属めっき層を構成する金属を効率よく析出させること
ができる。また、めっき製品の品質を高く維持すること
ができる。また、非有効成分が、酸素や塩素等の金属め
っき層を構成する金属の腐食を促進させる物質と高い親
和性を有するような場合には、金属めっき層の変色や剥
離を、特に好適に抑制することができる。According to the ninth aspect of the present invention, a pretreatment chemical liquid containing a larger amount of active ingredient can be used when forming the metal plating layer. In addition, the pretreatment chemical liquid can be stably stored for a relatively long period of time while suitably suppressing the concentration decrease of the active ingredient.
The management becomes easy. Also, in the catalyst supporting step,
By using a pretreatment chemical that has been subjected to oxidation suppression treatment,
The metal forming the metal plating layer can be efficiently deposited. In addition, the quality of the plated product can be maintained high. Further, when the non-active ingredient has a high affinity with a substance that promotes corrosion of the metal forming the metal plating layer, such as oxygen or chlorine, the discoloration or peeling of the metal plating layer is particularly preferably suppressed. can do.
【0128】また、本願請求項10に記載の発明によれ
ば、前記請求項9に記載の発明の効果に加えて、前処理
薬液を容易に安定した状態に保持することができる。ま
た、本願請求項12〜請求項14のうちいずれか一項に
記載の発明によれば、前記請求項9〜請求項11のうち
いずれか一項に記載の発明の効果に加えて、有効成分の
濃度低下を好適に抑制しつつ、より長期間に亘って安定
に保管することができ、その管理もさらに容易となる。According to the invention of claim 10 of the present application, in addition to the effect of the invention of claim 9, the pretreatment chemical can be easily maintained in a stable state. Further, according to the invention of any one of claims 12 to 14 of the present application, in addition to the effects of the invention of any one of claims 9 to 11, an active ingredient It is possible to store it stably for a longer period of time while suitably suppressing the decrease in the concentration thereof, and the management thereof is further facilitated.
【0129】また、本願請求項15または請求項16に
記載の発明によれば、金属めっき層を構成する金属の腐
食をさらに一層好適に抑制することができる。また、過
酷な環境下で使用されるめっき製品への適用が可能とな
る。According to the fifteenth or sixteenth aspect of the present invention, the corrosion of the metal forming the metal plating layer can be suppressed even more suitably. Further, it can be applied to plated products used in harsh environments.
【図1】実施形態のめっき製品の一部を模式的に示す断
面図。FIG. 1 is a sectional view schematically showing a part of a plated product of an embodiment.
【図2】実施形態のめっき製品の製造方法の流れを示す
図。FIG. 2 is a diagram showing a flow of a method for manufacturing a plated product according to the embodiment.
【図3】実施形態のめっき製品の製造方法の流れを示す
図。FIG. 3 is a diagram showing a flow of a method for manufacturing a plated product according to the embodiment.
【図4】めっき製品の耐食性に関する評価結果を示す
図。FIG. 4 is a diagram showing an evaluation result regarding corrosion resistance of a plated product.
11…めっき製品、12…基材層、13…下部層として
のベースコート層、14…金属めっき層としての銀めっ
き層、15…上部層としてのトップコート層。11 ... Plated product, 12 ... Base material layer, 13 ... Base coat layer as lower layer, 14 ... Silver plating layer as metal plating layer, 15 ... Top coat layer as upper layer.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 度会 弘志 愛知県西春日井郡春日町大字落合字長畑1 番地 豊田合成 株式会社内 (72)発明者 荻巣 康彦 愛知県西春日井郡春日町大字落合字長畑1 番地 豊田合成 株式会社内 Fターム(参考) 4K022 AA13 AA16 AA23 BA01 BA09 BA18 BA28 CA05 CA14 CA17 CA18 CA21 CA22 DA01 DB01 DB08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor degree meeting Hiroshi Aichi Prefecture Kasuga-cho, Nishikasugai-gun Ochiai character Nagahata 1 Address: Toyoda Gosei Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhiko Ogisu Aichi Prefecture Kasuga-cho, Nishikasugai-gun Ochiai character Nagahata 1 Address: Toyoda Gosei Co., Ltd. F-term (reference) 4K022 AA13 AA16 AA23 BA01 BA09 BA18 BA28 CA05 CA14 CA17 CA18 CA21 CA22 DA01 DB01 DB08
Claims (16)
を備えるめっき製品において、 前記基材層上または、前記金属めっき層と前記基材層と
の間に介在される下部層上に担持され、前記金属めっき
層を構成する金属との標準電極電位の差が絶対値で0.
65eV未満の物質を触媒として、前記金属めっき層を
形成したことを特徴とするめっき製品。1. A plated product having at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, which is carried on the base material layer or on a lower layer interposed between the metal plating layer and the base material layer. The difference between the standard electrode potential of the metal forming the metal plating layer and the standard electrode potential is 0.
A plated product, wherein the metal plating layer is formed using a substance of less than 65 eV as a catalyst.
き層を保護する上部層を備えることを特徴とする請求項
1に記載のめっき製品。2. The plated product according to claim 1, further comprising an upper layer laminated on the metal plating layer to protect the metal plating layer.
ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のめ
っき製品。3. The plated product according to claim 1, wherein the metal forming the metal plating layer is silver.
を備えるめっき製品の製造方法において、 前記金属めっき層の形成に際して、金属めっき層を構成
する金属との標準電極電位の差が絶対値で0.65eV
未満の物質を触媒として、前記金属めっき層が積層され
る下部層の表面に担持する触媒担持工程と、前記触媒が
担持された下部層上に前記金属めっき層を形成するめっ
き層形成工程とを有することを特徴とするめっき製品の
製造方法。4. A method for producing a plated product comprising at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, wherein in forming the metal plating layer, the difference in standard electrode potential between the metal forming the metal plating layer and the absolute value is an absolute value. 0.65 eV
Using a substance of less than a catalyst as a catalyst, a catalyst supporting step of supporting the surface of a lower layer on which the metal plating layer is laminated, and a plating layer forming step of forming the metal plating layer on the lower layer on which the catalyst is supported. A method for producing a plated product, which comprises:
前記下部層の表面に担持させるための助触媒を、前記下
部層の表面に担持する助触媒担持工程を有することを特
徴とする請求項4に記載のめっき製品の製造方法。5. A co-catalyst carrying step of carrying, on the surface of the lower layer, a co-catalyst for carrying the catalyst on the surface of the lower layer, prior to the catalyst carrying step. Item 4. A method for producing a plated product according to Item 4.
ることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のめ
っき製品の製造方法。6. The method for producing a plated product according to claim 4, wherein the metal forming the metal plating layer is silver.
が絶対値で0.2eV以下であることを特徴とする請求
項6に記載のめっき製品の製造方法。7. The method for producing a plated product according to claim 6, wherein the catalyst has a difference in standard electrode potential from the silver of 0.2 eV or less in absolute value.
を備えるめっき製品の製造方法において、 前記金属めっき層を形成するめっき層形成工程と、前記
金属めっき層が積層される下部層の表面に、触媒として
スズ[II]を担持する触媒担持工程とを有し、同触媒担
持工程では、前記スズ[II]が、全スズの95%以上を
占める前処理薬液を用いることを特徴とするめっき製品
の製造方法。8. A method of manufacturing a plated product, which comprises at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, comprising: a plating layer forming step of forming the metal plating layer; and a surface of a lower layer on which the metal plating layer is laminated. And a catalyst supporting step of supporting tin [II] as a catalyst, wherein the catalyst supporting step uses a pretreatment chemical solution in which the tin [II] accounts for 95% or more of all tin. Manufacturing method of plated products.
を備えるめっき製品の製造方法において、 前記金属めっき層を形成するめっき層形成工程と、前記
金属めっき層が積層される下部層の表面に触媒を担持す
る触媒担持工程とを有し、同触媒担持工程では、前記め
っき層形成工程で実際に触媒として作用する状態の有効
成分の酸化を抑制するための酸化抑制処理が施された前
処理薬液を用いることを特徴とするめっき製品の製造方
法。9. A method for producing a plated product, which comprises at least a metal plating layer on the surface of a base material layer, comprising: a plating layer forming step of forming the metal plating layer; and a surface of a lower layer on which the metal plating layer is laminated. And a catalyst supporting step of supporting a catalyst, wherein the catalyst supporting step is performed before the oxidation suppressing treatment for suppressing the oxidation of the active ingredient in a state of actually acting as a catalyst in the plating layer forming step. A method for producing a plated product, which comprises using a treatment chemical.
対して、前記有効成分の酸化を抑制するための酸化抑制
成分を添加する処理を含むことを特徴とする請求項9に
記載のめっき製品の製造方法。10. The plating according to claim 9, wherein the oxidation suppressing treatment includes a treatment of adding an oxidation suppressing component for suppressing the oxidation of the effective component to the pretreatment chemical liquid. Product manufacturing method.
あることを特徴とする請求項10に記載のめっき製品の
製造方法。11. The method for producing a plated product according to claim 10, wherein the oxidation inhibiting component is a polyhydric alcohol.
を、溶存酸素の脱気された媒体中に溶質または分散体を
配合して調製することを含むことを特徴とする請求項9
〜請求項11のうちいずれか一項に記載のめっき製品の
製造方法。12. The oxidation inhibiting treatment includes preparing the pretreatment chemical liquid by blending a solute or a dispersion in a medium in which dissolved oxygen is degassed.
~ The method for manufacturing a plated product according to claim 11.
の溶存酸素を脱気する脱気処理を含むことを特徴とする
請求項9〜請求項12のうちいずれか一項に記載のめっ
き製品の製造方法。13. The plating according to claim 9, wherein the oxidation suppressing treatment includes a degassing treatment for degassing dissolved oxygen in the pretreatment chemical liquid. Product manufacturing method.
前処理薬液の配置される環境と、その環境と区画された
外部の環境との間の酸素の流通が遮断された状態で保持
することを含むことを特徴とする請求項9〜請求項13
のうちいずれか一項に記載のめっき製品の製造方法。14. The oxidation inhibiting treatment holds the pretreatment chemical liquid in a state in which the flow of oxygen between the environment in which the pretreatment chemical liquid is placed and the external environment partitioned from the environment is blocked. 14. The method according to claim 9, further comprising:
The method for producing a plated product according to any one of the above.
か一項に記載のめっき製品の製造方法と、前記請求項9
〜請求項14のうちいずれか一項に記載のめっき製品の
製造方法とを用いて前記めっき層を形成することを特徴
とするめっき製品の製造方法。15. The method for manufacturing a plated product according to claim 4, and the method according to claim 9.
A method for manufacturing a plated product, comprising: forming the plating layer using the method for manufacturing a plated product according to claim 14.
方法と、前記請求項9〜請求項14のうちいずれか一項
に記載のめっき製品の製造方法とを用いて前記めっき層
を形成することを特徴とするめっき製品の製造方法。16. The plating layer is formed using the method for producing a plated product according to claim 8 and the method for producing a plated product according to any one of claims 9 to 14. A method for producing a plated product, comprising:
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005206905A (en) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Ebara Corp | Substrate treatment method and device, and treatment liquid |
JP2007191731A (en) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Alps Electric Co Ltd | Plated wiring board and electroless plating method |
WO2010023895A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 昭和電工株式会社 | Sensitizing solution for electroless plating and electroless plating method |
JP2013168679A (en) * | 2013-05-27 | 2013-08-29 | Ebara Corp | Conductive material structure formation method |
JP6343787B1 (en) * | 2017-06-01 | 2018-06-20 | 石原ケミカル株式会社 | Copper colloid catalyst solution for electroless copper plating and electroless copper plating method |
-
2001
- 2001-11-16 JP JP2001351515A patent/JP2003155574A/en not_active Withdrawn
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005206905A (en) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Ebara Corp | Substrate treatment method and device, and treatment liquid |
JP2007191731A (en) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Alps Electric Co Ltd | Plated wiring board and electroless plating method |
WO2010023895A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 昭和電工株式会社 | Sensitizing solution for electroless plating and electroless plating method |
JP2010053435A (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Showa Denko Kk | Sensitizing solution for electroless plating, and electroless plating method |
JP2013168679A (en) * | 2013-05-27 | 2013-08-29 | Ebara Corp | Conductive material structure formation method |
JP6343787B1 (en) * | 2017-06-01 | 2018-06-20 | 石原ケミカル株式会社 | Copper colloid catalyst solution for electroless copper plating and electroless copper plating method |
WO2018221227A1 (en) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 石原ケミカル株式会社 | Copper colloidal catalyst liquid for electroless copper plating, electroless copper plating method, and production method for copper-plated substrate |
JP2018204064A (en) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 石原ケミカル株式会社 | Copper colloidal catalyst solution for electroless copper plating and electroless copper plating method |
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