JP2003142523A - Electronic component and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、例えばバンプ接
続方式および樹脂封止工法を用いる電子部品装置の改良
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of an electronic component device using, for example, a bump connection method and a resin sealing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】バンプ接続方式を用いる電子部品装置の
代表例として、弾性表面波フィルタ装置(surface acou
stic wave filter device;SAWフィルタとも称され
る)がある。弾性表面波フィルタ装置は、圧電性基板
(デバイスチップ)に櫛歯状電極を持った機能部分(イ
ンターデジタル変換器/IDT)を形成することで構成
されている。この弾性表面波フィルタ装置は、受動素子
であるため電源がなくても動作でき、また小型・軽量で
あることから、電子部品装置の高密度実装が求められる
携帯電話などでよく用いられている。2. Description of the Related Art As a typical example of an electronic component device using a bump connection method, a surface acoustic wave filter device (surface acoustic
stic wave filter device; also called SAW filter). The surface acoustic wave filter device is configured by forming a functional portion (interdigital converter / IDT) having comb-shaped electrodes on a piezoelectric substrate (device chip). Since this surface acoustic wave filter device is a passive element, it can operate without a power supply, and since it is small and lightweight, it is often used in mobile phones and the like that require high-density mounting of electronic component devices.
【0003】電子部品装置におけるデバイスチップとそ
の外囲器(パッケージ)との電気的・機械的な接続は、
金属バンプを用いたフリップチップボンディング工法に
より行われることが主流となりつつある。The electrical and mechanical connection between the device chip in the electronic component device and its envelope (package) is
It is becoming mainstream to be performed by a flip chip bonding method using metal bumps.
【0004】このようなフリップチップボンディング
(あるいはフェイスダウンボンディング)工法を利用し
た公知例として、例えば特開2001−94390号公
報に開示された「弾性表面波デバイスおよびその製法」
がある。As a known example using such a flip chip bonding (or face down bonding) method, for example, "Surface acoustic wave device and its manufacturing method" disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-94390.
There is.
【0005】フリップチップボンディング工法について
簡単に説明すると、図示はしないが、次のようになる。
すなわち、基本的には、デバイスチップ上に金属ワイヤ
等を利用して予めバンプを形成し、このバンプ付きデバ
イスチップを、フリップチップボンダを用いて、セラミ
ックス製等のパッケージの表面に形成された配線パター
ン上に搭載する。そして、加圧/加熱/超音波印加を同
時に行うことにより、バンプ金属と配線パターンとを接
合させる。この接合により、デバイスチップとパッケー
ジとの間の電気的・機械的な接続がなされる。その後、
金属やセラミックスで形成されたキャップによる封止が
行なわれて、最終的な電子部品装置が完成する。The flip chip bonding method will be briefly described below, though not shown.
That is, basically, a bump is previously formed on a device chip by using a metal wire or the like, and this bumped device chip is formed on a surface of a package made of ceramics or the like by using a flip chip bonder. Mount on the pattern. Then, the bump metal and the wiring pattern are joined by simultaneously performing pressurization / heating / application of ultrasonic waves. This joining provides electrical and mechanical connection between the device chip and the package. afterwards,
Sealing is performed with a cap made of metal or ceramics to complete the final electronic component device.
【0006】このような従来技術の電子部品装置では、
小型化・薄型化を進める上では外囲器(一般的にセラミ
ックス製のパッケージ/キャップ)を小型にする必要が
あるが、セラミックスの加工精度は非常に悪く、また材
料的にも硬くもろいことから小型化・薄型化に限界があ
った。また、電子部品装置の低コスト化のためには部品
コスト全体の大部分を占める外囲器のコストを下げる必
要があったが、このコスト低減の点でも限界があった。In such a conventional electronic component device,
In order to reduce the size and thickness, it is necessary to make the envelope (generally a ceramic package / cap) small, but the processing accuracy of ceramics is extremely poor, and the material is hard and brittle. There were limits to miniaturization and thinning. Further, in order to reduce the cost of the electronic component device, it is necessary to reduce the cost of the envelope, which occupies most of the total component cost, but there is a limit in reducing the cost.
【0007】そこで、最近では、封止用キャップを用い
ず、代わりに封止樹脂でデバイスチップとパッケージと
の間の封止・接着を行う方法が検討されてきている。こ
の方法では、キャップが不要となることにより、コスト
的にもサイズ的にも有利な方向で電子部品装置を構成す
ることができる。Therefore, recently, a method of sealing and adhering the device chip and the package with a sealing resin instead of using a sealing cap has been studied. In this method, the cap is not required, so that the electronic component device can be configured in a direction advantageous in terms of cost and size.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】例えば弾性表面波を利
用したSAWフィルタでは、デバイスチップ表面に形成
されて表面波が動作するように構成されたアクティブな
電極パターンは、中空部に保持される。このように中空
に保持された電極パターンに水分等の異物が付着する
と、電極が腐食してフィルタとして機能しなくなる恐れ
がある。そのため、SAWフィルタのように異物の付着
を嫌う機能部分を有する電子部品装置は、外部より水分
等の異物が侵入(または進入)することを防がねばなら
ない。このような異物の侵入/進入による不良を防止す
るために、封止が行われる。For example, in a SAW filter utilizing surface acoustic waves, the active electrode pattern formed on the surface of the device chip and configured to operate the surface waves is held in the hollow portion. If foreign matter such as water adheres to the electrode pattern held in the hollow space, the electrode may corrode and may not function as a filter. Therefore, an electronic component device having a functional portion such as a SAW filter that does not like foreign matter from adhering must prevent foreign matter such as moisture from entering (or entering) from the outside. In order to prevent such a defect due to invasion / invasion of foreign matter, sealing is performed.
【0009】すなわち、フリップチップボンディング工
法を用いてデバイスチップとパッケージを接続した構造
の電子部品装置においては、デバイスチップの機能部分
(SAWフィルタの電極パターン部分等)を外部(外
気)から守る必要があり、そのために封止が行われる。That is, in the electronic component device having a structure in which the device chip and the package are connected by using the flip chip bonding method, it is necessary to protect the functional part of the device chip (such as the electrode pattern part of the SAW filter) from the outside (outside air). Yes, and for that, sealing is performed.
【0010】上記封止に用いられる封止樹脂には、デバ
イスチップとパッケージとの間を気密に封止する特性
と、デバイスチップとパッケージとの間の隙間(SAW
フィルタでは電極パターンを含むが中空部)には殆ど進
入しない特性の、2つの特性を求められる。前者の気密
封止特性については、表面状態/粗さの異なるデバイス
チップとパッケージそれぞれに対し封止樹脂が完全に密
着する必要があるため、一般的に濡れ性がよい樹脂であ
る必要がある。これに対し、後者の非進入特性について
は、デバイスチップとパッケージとの間の隙間に封止樹
脂が入り込まないという要求上、逆に濡れ性が悪い必要
がある。The encapsulating resin used for the above encapsulation has a property of hermetically encapsulating the device chip and the package and a gap (SAW) between the device chip and the package.
The filter is required to have two characteristics, including the electrode pattern but hardly entering the hollow portion). Regarding the former hermetic sealing property, since the sealing resin needs to be completely adhered to the device chip and the package having different surface states / roughnesses, it is generally necessary that the resin has good wettability. On the other hand, with regard to the latter non-penetration characteristic, on the contrary, it is necessary that the wettability is poor because the sealing resin does not enter the gap between the device chip and the package.
【0011】上記のような相反する2つの特性を満たす
ため、一般的に、封止樹脂の粘度やチクソ性(thixotro
py)の制御・調整によって、適切な封止樹脂を得てい
る。しかし、樹脂特性は経時変化や温度変化によって変
動しやすく、樹脂の進入性はコントロール(あるいは管
理)が難しい。このため、樹脂特性にある程度ばらつき
が生じることは避け得なかった。In order to satisfy the two contradictory characteristics as described above, generally, the viscosity and thixotropy of the sealing resin (thixotro
Py) is controlled and adjusted to obtain an appropriate sealing resin. However, the resin characteristics easily change due to changes with time and temperature changes, and it is difficult to control (or manage) the resin invasion property. Therefore, it is unavoidable that the resin characteristics vary to some extent.
【0012】封止樹脂の特性にばらつきが生じると、パ
ッケージと樹脂とがきちんと接続できないために封止不
良が発生したり、封止樹脂の濡れ性が制御できずに電子
部品装置内部の電極パターン部まで封止樹脂が進入して
しまう進入不良が発生する。これらの不良を撲滅しない
限り、樹脂封止型電子部品装置を実用レベルで量産する
ことは困難である。When the characteristics of the sealing resin vary, the package and the resin cannot be properly connected to each other, resulting in a defective sealing, or the wettability of the sealing resin cannot be controlled, and the electrode pattern inside the electronic component device is not controlled. An entry failure occurs in which the sealing resin enters the part. Unless these defects are eliminated, it is difficult to mass-produce the resin-sealed electronic component device at a practical level.
【0013】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、その目的は、上記不良の発生を防止した電子部品装
置およびその製造方法を提供することである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an electronic component device and a method of manufacturing the same that prevent the occurrence of the above defects.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】この発明の実施の形態に
係る電子部品装置(100)では、所定の機能部分
(8)を有するデバイスチップ(1)と所定の材質(樹
脂またはセラミックス)からなる基板(3)との間に前
記機能部分(8)を含んだ所定の空間部(7)が形成さ
れるように、前記デバイスチップ(1)と前記基板
(3)とが導電性バンプ(2)を介して電気的かつ機械
的に接続される。そして、前記機能部分(8)が外部雰
囲気から遮蔽されるように、前記デバイスチップ(1)
および前記基板(3)の外周が、樹脂(5)により封止
される。このように構成された電子部品装置(100)
において、前記デバイスチップ(1)と前記基板(3)
との間であって、前記デバイスチップ(1)の機能部分
(8)が配置される場所の外側であり、かつ前記樹脂
(5)が配置される場所の内側に、前記樹脂(5)の進
入防止のための低融点金属からなるダム用部材(20)
が、(前記樹脂(5)による封止が行なわれる前に)設
けられる。An electronic component device (100) according to an embodiment of the present invention comprises a device chip (1) having a predetermined functional portion (8) and a predetermined material (resin or ceramics). The device chip (1) and the substrate (3) have conductive bumps (2) so that a predetermined space (7) including the functional portion (8) is formed between the device chip (1) and the substrate (3). ) Via electrical and mechanical connection. The device chip (1) is so arranged that the functional part (8) is shielded from the external atmosphere.
And the outer periphery of the substrate (3) is sealed with the resin (5). Electronic component device (100) configured in this manner
In, the device chip (1) and the substrate (3)
Of the resin (5) outside the place where the functional part (8) of the device chip (1) is arranged and inside the place where the resin (5) is arranged. Dam member made of low melting point metal for preventing entry (20)
(Before the sealing with the resin (5) is performed).
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の一実施の形態に係る電子部品装置およびその製造方法
を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An electronic component device and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0016】図1は、この発明の一実施の形態に係る電
子部品装置(樹脂封止される弾性表面波装置)100の
内部構造を説明する図である。図1の(a)はこの電子
部品装置の側断面を模式的に例示し、図1の(b)はこ
の電子部品装置を上から見た場合の構成を模式的に例示
している。FIG. 1 is a view for explaining the internal structure of an electronic component device (resin-sealed surface acoustic wave device) 100 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A schematically illustrates a side cross section of the electronic component device, and FIG. 1B schematically illustrates a configuration of the electronic component device when viewed from above.
【0017】樹脂またはセラミックスで構成された基板
(電子部品装置100のパッケージ)3上の所定位置に
は、配線パターン4が形成される。また、デバイスチッ
プ1上の所定位置には、所定の機能を持つ電極8が形成
される。弾性表面波フィルタ装置の場合でいえば、圧電
性基板1上に形成された櫛歯状の電極パターン(インタ
ーデジタル変換器IDT)が、所定の機能を持つ電極8
に対応する。電極8には引き出しパターンを介して複数
(図1(b)の例示では4つ)のパッドが接続されてい
る。これらのパッド(4つ)と、基板3上の配線パター
ン4の所定箇所(4箇所)とは、それぞれ、金あるい金
合金を用いた金属バンプ2(4つ)を介して、対向配置
される。A wiring pattern 4 is formed at a predetermined position on a substrate (package of the electronic component device 100) 3 made of resin or ceramics. Further, an electrode 8 having a predetermined function is formed at a predetermined position on the device chip 1. In the case of the surface acoustic wave filter device, the comb-teeth-shaped electrode pattern (interdigital converter IDT) formed on the piezoelectric substrate 1 has electrodes 8 having a predetermined function.
Corresponding to. A plurality of (four in the example of FIG. 1B) pads are connected to the electrode 8 via lead patterns. These pads (4) and the predetermined locations (4 locations) of the wiring pattern 4 on the substrate 3 are arranged to face each other via the metal bumps 2 (4) using gold or a gold alloy. It
【0018】この対向配置に先立って、金属バンプ2を
介して基板3に対向配置されたデバイスチップ1の外周
部分と基板3の表面との間に、図1(a)の隙間9が残
るように、かつ電極8直下の中空部7を内包するような
位置に、ダム20が設けられる。このダム20には、下
記のフリップチップボンディングあるいはフェイスダウ
ンボンディング工程において、溶融(液状化)あるいは
少なくとも塑性変形(柔軟化)して連続した構造体とな
れるような材料が用いられる。たとえば、融点が250
℃以下と低融点の錫系合金(錫−鉛系ハンダ、鉛レスハ
ンダ等)を、ダム20に利用することができる。具体的
には、錫が60%±10%程度のハンダ(共晶ハンダを
含む)をダム20に利用することができる(このような
ハンダでは、融点を180℃〜200℃またはそれ以下
に下げることができる)。Prior to this facing arrangement, a gap 9 shown in FIG. 1A is left between the outer peripheral portion of the device chip 1 facing the substrate 3 via the metal bump 2 and the surface of the substrate 3. In addition, the dam 20 is provided at a position that encloses the hollow portion 7 directly below the electrode 8. The dam 20 is made of a material that can be melted (liquefied) or at least plastically deformed (softened) to form a continuous structure in the flip chip bonding or face-down bonding process described below. For example, the melting point is 250
Tin-based alloys (tin-lead solder, lead-less solder, etc.) having a melting point of lower than or equal to 0 ° C. can be used for the dam 20. Specifically, solder having a tin content of about 60% ± 10% (including eutectic solder) can be used for the dam 20 (in such solder, the melting point is lowered to 180 ° C. to 200 ° C. or lower). be able to).
【0019】なお、フリップチップボンディング前のダ
ム20の材料(ハンダ等)は、基板3および/またはデ
バイスチップ1に取り付けられる。例えば基板3にダム
20の材料が取り付けられる場合、このダム材料は、デ
バイスチップ1側に触れていても触れていなくてもよ
い。The material (solder or the like) of the dam 20 before flip chip bonding is attached to the substrate 3 and / or the device chip 1. For example, when the material of the dam 20 is attached to the substrate 3, the dam material may or may not be in contact with the device chip 1 side.
【0020】上記の状態で、デバイスチップ1と基板3
との間の金属バンプ2は、加圧され加熱され超音波印加
されて部分的に溶融する(フリップチップボンディング
あるいはフェイスダウンボンディング)。このとき、ダ
ム材(ハンダ等)20も溶融(液状化)あるいは少なく
とも塑性変形(柔軟化)して、デバイスチップ1および
基板3の双方(または少なくともその一方)に密着した
連続体となる。この連続体は、冷却した後に、図1
(a)(b)に例示されるようなダム20となる。In the above state, the device chip 1 and the substrate 3
The metal bump 2 between and is partially melted by applying pressure, heating, and application of ultrasonic waves (flip chip bonding or face down bonding). At this time, the dam material (solder or the like) 20 is also melted (liquefied) or at least plastically deformed (softened) to become a continuous body in close contact with both the device chip 1 and the substrate 3 (or at least one of them). This continuum, after cooling,
The dam 20 is exemplified as shown in (a) and (b).
【0021】上記の加圧/加熱/超音波印加が終了する
と、金属バンプ2の融けた部分およびダム材20の融け
た(あるいは柔軟化した)部分は、冷えて固化する。こ
れにより、電極8に接続されたパッド(4つ)と、基板
3上の配線パターン4の所定箇所(4箇所)とが、それ
ぞれ、金属バンプ2(4つ)を介して、電気的かつ機械
的に接続される。この状態で、デバイスチップ1の表面
に形成された電極8と基板3の表面に形成された配線パ
ターン4との間には(ボンディングにより変形した)金
属バンプ2の配置/サイズに応じた広さ/高さの空間
(中空部7)が確保される。さらに、冷えて固化した前
記ダム材20は、電極8/中空部7とともに金属バンプ
2を包含しかつ金属バンプ2との間に隙間9ができるよ
うな位置に、ダム20を形成する。When the above-mentioned pressurization / heating / application of ultrasonic waves is completed, the melted portion of the metal bump 2 and the melted (or softened) portion of the dam member 20 are cooled and solidified. As a result, the pads (4) connected to the electrodes 8 and the predetermined locations (4 locations) of the wiring pattern 4 on the substrate 3 are electrically and mechanically connected via the metal bumps 2 (4). Connected. In this state, the space between the electrode 8 formed on the surface of the device chip 1 and the wiring pattern 4 formed on the surface of the substrate 3 has a size corresponding to the arrangement / size of the metal bump 2 (deformed by bonding). A space of height (hollow portion 7) is secured. Further, the dam material 20 which has been cooled and solidified forms the dam 20 at a position that includes the metal bump 2 together with the electrode 8 / hollow portion 7 and forms a gap 9 between the dam material 20 and the metal bump 2.
【0022】その後、金属バンプ2を介して基板3に対
向配置されたデバイスチップ1の外周部分と基板3の表
面との間(ダム20の外側)に、適度な粘性およびチク
ソ性を有する封止樹脂5が付けられる。このチクソ性を
有する封止樹脂5は、超音波印加により適度な「濡れ
性」を持つ流体に変化し、ダム20の外側、デバイスチ
ップ1および基板3に密着するようになる。その後に超
音波印加を終了すると、封止樹脂5は再び固化し、内部
の電極8を外部雰囲気(外気)から遮蔽するようにな
る。使用する封止樹脂5にとってどの程度の粘性および
チクソ性が適当であるかは、実際に製品を作る前の段階
で、何種類かのサンプルを試すことにより、決めること
ができる。なお、封止樹脂5による封止時に印加する超
音波出力、印加時間、印加方向等は、実際の製品に相当
するサンプルを用いて試行することで、決めることがで
きる。こうして、中空部7に保持されたデバイスチップ
1の電極8は、デバイスチップ1、基板3、ダム20、
および封止樹脂5のコンビネーションにより、気密化さ
れる。After that, between the outer peripheral part of the device chip 1 and the surface of the substrate 3 (outside the dam 20), which is arranged so as to face the substrate 3 with the metal bumps 2 in between, a seal having appropriate viscosity and thixotropy is formed. Resin 5 is applied. The sealing resin 5 having thixotropy changes into a fluid having appropriate "wettability" by application of ultrasonic waves, and comes into close contact with the outside of the dam 20, the device chip 1 and the substrate 3. After that, when the application of ultrasonic waves is finished, the sealing resin 5 is solidified again and the internal electrode 8 is shielded from the external atmosphere (outside air). To what degree the viscosity and thixotropy are suitable for the sealing resin 5 used can be determined by testing several kinds of samples before actually manufacturing the product. The ultrasonic wave output, the application time, the application direction, etc. applied at the time of sealing with the sealing resin 5 can be determined by trial using a sample corresponding to an actual product. In this way, the electrode 8 of the device chip 1 held in the hollow portion 7 includes the device chip 1, the substrate 3, the dam 20,
The combination of the sealing resin 5 and the sealing resin 5 makes it airtight.
【0023】上記の樹脂封止工程において、「濡れ性」
を持つ流体に変化した樹脂5は、ダム20によりブロッ
クされ、装置100の内部(電極8を含む中空部7側)
に進入できない。すなわち、ダム20を設けることによ
り、電子部品装置100内部の機能部分(電極8)まで
封止樹脂5が進入してしまう進入不良を防止することが
できる。"Wettability" in the above resin sealing step
The resin 5 that has changed to a fluid having a block is blocked by the dam 20 and is inside the device 100 (on the side of the hollow portion 7 including the electrode 8).
Can't enter. That is, by providing the dam 20, it is possible to prevent a defective entry of the sealing resin 5 into the functional portion (electrode 8) inside the electronic component device 100.
【0024】ダム20の材料としてのハンダを基板3
(および/またはデバイスチップ1)の所定箇所に取り
付ける方法としては、色々ある。具体的には、例えば基
板3の所定箇所に銅パターンを設けておき、その上にハ
ンダメッキをする方法がある(銅パターンは、最初に銅
箔を張り付け、パターンとして残す部分にマスクをかけ
て、エッチングにより不要な銅箔を除去することで得る
ことができる)。あるいは、基板3および/またはデバ
イスチップ1の所定箇所に微少なハンダ粒を含むハンダ
ペーストを塗布(または印刷)する方法もある。あるい
は、基板3および/またはデバイスチップ1の所定箇所
に所定サイズのハンダボールを点在配置する方法もあ
る。Solder as the material of the dam 20 is applied to the substrate 3
There are various methods for attaching (and / or device chip 1) to a predetermined position. Specifically, for example, there is a method in which a copper pattern is provided at a predetermined location on the substrate 3 and solder plating is performed on the copper pattern (a copper pattern is first attached to a copper foil, and a mask is applied to a portion to be left as a pattern). , Can be obtained by removing unnecessary copper foil by etching). Alternatively, there is also a method of applying (or printing) a solder paste containing minute solder particles to predetermined portions of the substrate 3 and / or the device chip 1. Alternatively, there is also a method in which solder balls having a predetermined size are scatteredly arranged at predetermined positions on the substrate 3 and / or the device chip 1.
【0025】なお、ダム20の材料がハンダのような導
電性金属である場合は、ダム用ハンダの配設位置は、少
なくとも信号系の配線パターン4および金属バンプ2の
位置を避ける(例えば、ダム20がアース系パターンま
たは電源系パターン以外のパターン4およびバンプ2に
接触しない)必要がある。When the material of the dam 20 is a conductive metal such as solder, the dam solder should be arranged at least at the positions of the signal wiring pattern 4 and the metal bumps 2 (for example, the dam). 20 does not contact the pattern 4 and the bump 2 other than the ground pattern or the power supply pattern).
【0026】しかし、ダム20として電気的絶縁体を利
用できるときは、上記のような「配線パターン4および
金属バンプ2の位置を避ける」配慮は、必ずしもしなく
てよい(ただし、いかなる状況下においても、ダム材の
一部が中空部7に進入して電極8に付着するようなこと
は、あってはならない)。すなわち、フリップチップボ
ンディング時(あるいはその後であって樹脂封止よりも
前の製造工程)において装置内部(電極8側)に進入せ
ず、かつ封止時に樹脂5が装置内部に進入することを確
実にブロックできる材料であれば、ハンダ等の導電性材
料に限らず、絶縁性材料でもダム20の材料として利用
できる。しかし、現時点では、実用性が高く確実にダム
20として利用できる材料として、錫系合金(ハンダ)
が推奨される。However, when an electrical insulator can be used as the dam 20, the above-mentioned consideration "to avoid the positions of the wiring pattern 4 and the metal bumps 2" is not always necessary (however, under any circumstances. However, a part of the dam material should not enter the hollow portion 7 and adhere to the electrode 8). That is, it is ensured that the resin 5 does not enter the inside of the device (the electrode 8 side) during the flip chip bonding (or the manufacturing process after that and before the resin sealing), and that the resin 5 enters the inside of the device during the sealing. As long as it is a material that can be blocked, not only a conductive material such as solder but also an insulating material can be used as the material of the dam 20. However, at the present time, tin-based alloy (solder) is a material that is highly practical and can be reliably used as the dam 20.
Is recommended.
【0027】ハンダ等の低融点金属をダム20に利用し
た場合、ダム材としてポリイミドやエポキシ等の液状樹
脂材料を利用した場合と比べて、以下のような有利な点
がある:(1)ダム材としてポリイミドやエポキシ等の
液状樹脂材料を用いる場合、ウェハ状態でフォトリソグ
ラフィー技術やスクリーン印刷技術によってダムのパタ
ーニングを行い、パターニングされた樹脂材料を熱また
は紫外線(UV)照射等で硬化させる。この場合、ダム
はその機能上デバイスチップとパッケージとの間の隙間
高とほぼ同じ高さを狙って形成する必要がある。しか
し、パッケージ側の平坦度ばらつき等に起因し、フリッ
プチップボンディング後のデバイスチップとパッケージ
の隙間高さ制御が困難であるため、例えばデバイスチッ
プ側に形成したダム材がパッケージに完全に接触しない
(ダムとパッケージとの間に隙間が生じる)ことが起こ
り得る。このことは、ダムが封止樹脂の進入を確実にブ
ロックできない恐れがあることを示している。ハンダ等
の低融点金属をダム20に利用した場合は、ダム材はフ
リップチップボンディング時の熱で液状化(あるいは柔
軟化)してデバイスチップおよびパッケージの双方に密
着できるので、このような恐れを払拭できる。The use of a low melting point metal such as solder for the dam 20 has the following advantages over the use of a liquid resin material such as polyimide or epoxy as the dam material: (1) dam When a liquid resin material such as polyimide or epoxy is used as the material, the dam is patterned in the wafer state by the photolithography technique or the screen printing technique, and the patterned resin material is cured by heat or ultraviolet (UV) irradiation. In this case, it is necessary to form the dam so that its height is approximately the same as the height of the gap between the device chip and the package. However, it is difficult to control the height of the gap between the device chip and the package after flip chip bonding due to variations in flatness on the package side. For example, the dam material formed on the device chip side does not completely contact the package ( A gap is created between the dam and the package). This indicates that the dam may not be able to reliably block the entry of the sealing resin. When a low melting point metal such as solder is used for the dam 20, the dam material can be liquefied (or softened) by the heat during flip chip bonding and adhere to both the device chip and the package. Can be wiped off.
【0028】(2)あるいは、硬化した樹脂がデバイス
チップとパッケージの隙間高さより高くなることも起こ
り得る。この場合、ダムは、それ自体が硬いため、「無
理矢理押し込められた厚すぎのスペーサ」のようになっ
てしまう(ダムが強引にパッケージに押し付けられ
る)。すると、フリップチップボンディング時におい
て、本来はバンプの変形・接続に寄与すべき加圧力や超
音波出力等のエネルギがダムでロスすることになり、適
正なバンプ接合が行えない恐れが生じる。ハンダ等の低
融点金属をダム20に利用した場合は、ダム材はフリッ
プチップボンディング時の熱でバンプ2の溶融よりも容
易に液状化(あるいは柔軟化)するので、このような恐
れを払拭できる。(2) Alternatively, the cured resin may become higher than the gap height between the device chip and the package. In this case, the dam itself is like a "spacer that is too thick forcibly pushed in" because it is hard (the dam is forcibly pressed against the package). Then, during flip chip bonding, energy such as pressing force and ultrasonic output that should originally contribute to the deformation and connection of the bumps is lost at the dam, so that proper bump bonding may not be performed. When a low melting point metal such as solder is used for the dam 20, the dam material is liquefied (or softened) more easily than the melting of the bumps 2 due to heat during flip chip bonding, so that such fear can be eliminated. .
【0029】なお、この実施の形態におけるダム20の
主な役目は、樹脂封止時に液状化して内部に進入してく
る樹脂5が電極8に付着しないようにすることである。
したがって、その役目が果たせる限りにおいて、ダム2
0とデバイスチップ1との間および/またはダム20と
基板3との間に僅かな隙間が生じることは、実用上の観
点からは許容できる。(電極8を外部雰囲気から遮蔽す
る気密化機能は、封止樹脂5が担っている。)図2は、
この発明の他の実施の形態に係る電子部品装置の内部構
造を説明する図である。図1の実施の形態と図2の実施
の形態との主な違いは、ダム20の配設位置の違いにあ
る。The main role of the dam 20 in this embodiment is to prevent the resin 5 liquefied during resin sealing and entering into the inside from adhering to the electrode 8.
Therefore, as long as its role can be fulfilled, dam 2
It is acceptable from a practical point of view that a slight gap is generated between 0 and the device chip 1 and / or between the dam 20 and the substrate 3. (The sealing resin 5 has an airtight function of shielding the electrode 8 from the external atmosphere.) FIG.
It is a figure explaining the internal structure of the electronic component apparatus which concerns on other embodiment of this invention. The main difference between the embodiment shown in FIG. 1 and the embodiment shown in FIG. 2 lies in the arrangement position of the dam 20.
【0030】すなわち、図2の実施の形態において、配
線パターン4が形成された基板(電子部品装置100の
パッケージ)3と、電極8が形成されたデバイスチップ
1とが、金属バンプ2を介して対向配置される。この対
向配置に先立って、デバイスチップ1上の電極8の周辺
部分と基板3の表面との間であって、電極8の周りの中
空部7を内包するような位置に、ハンダ等のダム20が
設けられる(ダム20は電極8には接触しないようにす
る)。その際、このハンダダム20が図1(b)に示す
電極8からの引き出し配線82をショートしてはいけな
いので、ダム20が引き出し配線82を避けるように、
逃げ部22が設けられる(引き出し配線82が絶縁コー
ト22でコーティングされているときは、逃げ部22を
特別に設けなくてもよい)。That is, in the embodiment of FIG. 2, the substrate (package of the electronic component device 100) 3 on which the wiring pattern 4 is formed and the device chip 1 on which the electrode 8 is formed are connected via the metal bumps 2. It is arranged to face each other. Prior to this facing arrangement, a dam 20 such as a solder is provided at a position between the peripheral portion of the electrode 8 on the device chip 1 and the surface of the substrate 3 so as to include the hollow portion 7 around the electrode 8. Are provided (the dam 20 should not contact the electrode 8). At this time, the solder dam 20 must not short-circuit the lead wiring 82 from the electrode 8 shown in FIG. 1B, so that the dam 20 avoids the lead wiring 82.
The escape portion 22 is provided (when the lead wiring 82 is coated with the insulating coat 22, the escape portion 22 does not have to be provided specially).
【0031】この構造では、樹脂5による封止時に、液
状化した樹脂5がダム20の外側の隙間9に進入する恐
れはあるが、進入した樹脂5はダム20にブロックされ
るので、電極8に進入樹脂が付着する恐れはない。In this structure, the liquefied resin 5 may enter the gap 9 outside the dam 20 when the resin 5 is sealed, but the entered resin 5 is blocked by the dam 20. There is no risk of ingress resin adhering to.
【0032】なお、この実施の形態においても、ダム2
0の主な役目は、樹脂封止時に液状化して内部に進入し
てくる樹脂5が電極8に付着しないようにすることであ
る。したがって、その役目が果たせる限りにおいて、ダ
ム20とデバイスチップ1との間および/またはダム2
0と基板3との間に僅かな隙間が生じることは許容でき
る。このことから、例えばダム20が基板3側に設けら
れる場合、図1(b)の引き出し配線82に向き合う部
分ではダム20の高さを低くして、ダム20の頭が引き
出し配線82に接触しないように構成してもよい。引き
出し配線82に向き合わない部分であっても、封止時の
樹脂進入が起きないことが(サンプル試験等により)確
かめられているなら、その部分でのダム20の頭がデバ
イスチップ1に触れないようになっていてもよい。Incidentally, also in this embodiment, the dam 2
The main role of 0 is to prevent the resin 5 liquefied during resin sealing and entering into the inside from adhering to the electrode 8. Therefore, as far as its role can be fulfilled, it is provided between the dam 20 and the device chip 1 and / or the dam 2
It is acceptable to have a slight gap between 0 and the substrate 3. From this, for example, when the dam 20 is provided on the substrate 3 side, the height of the dam 20 is lowered at the portion facing the lead wire 82 in FIG. 1B so that the head of the dam 20 does not contact the lead wire 82. It may be configured as follows. If it is confirmed (by a sample test or the like) that the resin does not enter at the time of encapsulation even in a portion that does not face the lead-out wiring 82, the head of the dam 20 in that portion does not touch the device chip 1. It may be like this.
【0033】図3は、この発明のさらに他の実施の形態
に係る電子部品装置の内部構造を説明する図である。図
3の実施の形態と図1または図2の実施の形態との主な
違いは、ダム20の配設位置の違いにある。FIG. 3 is a diagram for explaining the internal structure of an electronic component device according to still another embodiment of the present invention. The main difference between the embodiment shown in FIG. 3 and the embodiment shown in FIG. 1 or 2 lies in the arrangement position of the dam 20.
【0034】すなわち、図3の実施の形態においては、
図3(b)の垂直方向では図1の実施の形態と同様にダ
ム20が金属バンプ2の外側(封止樹脂5側)に配置さ
れ、図3(b)の水平方向では図2の実施の形態と同様
にダム20が金属バンプ2の内側(電極8側)に配置さ
れている(もちろんダム20は電極8には接触しないよ
うになっている)。このダム20が、封止時に液状化し
た樹脂5が電極8側に進入してくることをブロックす
る。That is, in the embodiment shown in FIG.
In the vertical direction of FIG. 3B, the dam 20 is arranged outside the metal bump 2 (on the side of the sealing resin 5) as in the embodiment of FIG. 1, and in the horizontal direction of FIG. The dam 20 is arranged inside the metal bump 2 (on the side of the electrode 8) similarly to the above embodiment (of course, the dam 20 does not contact the electrode 8). The dam 20 blocks the liquefied resin 5 from entering the electrode 8 side at the time of sealing.
【0035】図4は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、基板上のバンプ外側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例を説明する図
である。ここでは、基板3のうち、後に対向配置される
デバイスチップ1上の電極8およびバンプ2の位置を内
包するような所定の場所に、連続的にダム20用部材が
取り付けられている。このダム用部材は、銅箔を下地に
したハンダメッキ、微細ハンダ粒を含むハンダペースト
の塗布、微細ハンダ粒の吹き付け、微細ハンダ粒を含む
インキの印刷などの方法で、基板3の所定場所に取り付
けることができる。FIG. 4 is a diagram for explaining an example of attaching a dam member (solder or the like) to the outside of the bump on the substrate in the process of manufacturing the electronic component device according to the embodiment of the present invention. Here, the member for the dam 20 is continuously attached to a predetermined location on the substrate 3 that includes the positions of the electrodes 8 and the bumps 2 on the device chip 1 that are arranged to face each other later. This dam member is applied to a predetermined location on the substrate 3 by a method such as solder plating using a copper foil as a base, application of a solder paste containing fine solder particles, spraying of fine solder particles, and printing of ink containing fine solder particles. Can be installed.
【0036】図5は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、基板上のバンプ外側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例を説明する図
である。ここでは、基板3のうち、後に対向配置される
デバイスチップ1上の電極8およびバンプ2の位置を内
包するような所定の場所に、断続的にダム20用部材が
取り付けられている。このダム用部材は、微細ハンダ粒
を含むハンダペーストの断続的な塗布、ハンダボールの
断続的な配置(ハンダボールを点在させる)などの方法
で、基板3の所定場所に取り付けることができる。FIG. 5 is a diagram for explaining another example in which a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention. Here, the member for the dam 20 is intermittently attached to the substrate 3 at a predetermined position that includes the positions of the electrodes 8 and the bumps 2 on the device chip 1 that are arranged to face each other later. This dam member can be attached to a predetermined place on the substrate 3 by a method such as intermittent application of a solder paste containing fine solder particles and intermittent disposition of solder balls (where the solder balls are scattered).
【0037】図6は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、基板上のバンプ内側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例を説明する図
である。ダム用部材の取り付け方法は、図4の場合と同
様でよい。なお、対向配置されるデバイスチップ1上の
配線パターンと接触する可能性のあるダム用部材の一部
表面には、配線パターンが不用意にショートされるのを
防ぐために、絶縁コート22を設けておくことができ
る。FIG. 6 is a diagram for explaining an example of attaching a dam member (solder or the like) to the inside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention. The method of attaching the dam member may be the same as in the case of FIG. An insulating coat 22 is provided on a part of the surface of the dam member that may come into contact with the wiring pattern on the device chip 1 arranged to face it in order to prevent the wiring pattern from being inadvertently short-circuited. Can be set.
【0038】図7は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、基板上のバンプ内側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例を説明する図
である。ダム用部材の取り付け方法は、図5の場合と同
様でよい。なお、対向配置されるデバイスチップ1上の
配線パターンと接触する可能性のあるダム用部材の一部
には、配線パターンが不用意にショートされるのを防ぐ
ために、逃げ部22(ここにはハンダペースト等を付け
ない)を設けておくことができる。FIG. 7 is a diagram for explaining another example in which a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention. The method of attaching the dam member may be the same as in the case of FIG. In addition, in order to prevent the wiring pattern from being inadvertently short-circuited, a part of the dam member that may come into contact with the wiring pattern on the device chip 1 arranged to face is provided with an escape portion 22 (here (No solder paste or the like is attached) can be provided.
【0039】図8は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、デバイスチップ上のバン
プ外側にダム用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例を
説明する図である。ここでは、デバイスチップ1上の電
極8およびバンプ2の位置を内包するような所定の場所
に、連続的にダム20用部材が取り付けられている。こ
のダム用部材は、銅箔を下地にしたハンダメッキ、微細
ハンダ粒を含むハンダペーストの塗布、微細ハンダ粒の
吹き付け、微細ハンダ粒を含むインキの印刷などの方法
で、基板3の所定場所に取り付けることができる。FIG. 8 is a diagram for explaining an example of attaching a dam member (solder or the like) to the outside of the bump on the device chip in the process of manufacturing the electronic component device according to the embodiment of the present invention. Here, the member for the dam 20 is continuously attached to a predetermined place that includes the positions of the electrode 8 and the bump 2 on the device chip 1. This dam member is applied to a predetermined location on the substrate 3 by a method such as solder plating using a copper foil as a base, application of a solder paste containing fine solder particles, spraying of fine solder particles, and printing of ink containing fine solder particles. Can be installed.
【0040】図9は、この発明の実施の形態に係る電子
部品装置の製造過程において、デバイスチップ上のバン
プ外側にダム用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例を
説明する図である。ここでは、るデバイスチップ1上の
電極8およびバンプ2の位置を内包するような所定の場
所に、断続的にダム20用部材が取り付けられている。
このダム用部材は、微細ハンダ粒を含むハンダペースト
の断続的な塗布、ハンダボールの断続的な配置(ハンダ
ボールを点在させる)などの方法で、基板3の所定場所
に取り付けることができる。FIG. 9 is a view for explaining another example in which a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the device chip in the process of manufacturing the electronic component device according to the embodiment of the present invention. Here, the member for the dam 20 is intermittently attached to a predetermined place that includes the positions of the electrode 8 and the bump 2 on the device chip 1.
This dam member can be attached to a predetermined place on the substrate 3 by a method such as intermittent application of a solder paste containing fine solder particles and intermittent disposition of solder balls (where the solder balls are scattered).
【0041】図10は、この発明の実施の形態に係る電
子部品装置の製造過程において、デバイスチップ上のバ
ンプ内側にダム用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例
を説明する図である。ダム用部材の取り付け方法は、図
8の場合と同様でよい。なお、デバイスチップ1上の配
線パターンと接触する可能性のあるダム用部材の一部
は、配線パターンが不用意にショートされるのを防ぐた
めに、逃げ部22を設けておく。FIG. 10 is a diagram for explaining an example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the device chip in the process of manufacturing the electronic component device according to the embodiment of the present invention. The method for attaching the dam member may be the same as in the case of FIG. In addition, in order to prevent the wiring pattern from being inadvertently short-circuited, a part of the dam member that may come into contact with the wiring pattern on the device chip 1 is provided with an escape portion 22.
【0042】図11は、この発明の実施の形態に係る電
子部品装置の製造過程において、デバイスチップ上のバ
ンプ内側にダム用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例
を説明する図である。ダム用部材の取り付け方法は、図
9の場合と同様でよい。なお、デバイスチップ1上の配
線パターンと接触する可能性のあるダム用部材の一部
は、配線パターンが不用意にショートされるのを防ぐた
めに、逃げ部22(ここにはハンダペースト等を付けな
い)を設けておく。FIG. 11 is a view for explaining another example in which a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the device chip in the process of manufacturing the electronic component device according to the embodiment of the present invention. The method of attaching the dam member may be the same as in the case of FIG. In addition, in order to prevent the wiring pattern from being inadvertently short-circuited, a part of the dam member that may come into contact with the wiring pattern on the device chip 1 is provided with a relief portion 22 (a solder paste or the like is attached here). Not provided).
【0043】<実施の形態による効果1>図1または図
2の実施の形態において、ハンダ製ダム20には錫−鉛
系共晶ハンダを使用した。このハンダをクリーム状にし
たものをスキージ印刷してパターニングを行なった。ダ
ム20の高さは30μm、幅は120μmとした。フリッ
プチップボンディングは温度条件を200℃として、ハ
ンダが溶融状態になるようにして実装した。実装後の効
果は非常に明確であり、ハンダダム無しでは87%止ま
りであった封止歩留を100%にすることができた。ま
た、ダム20を設けたことによるバンプ2の接合不良の
発生も皆無であった。<Effect 1 of Embodiment> In the embodiment shown in FIG. 1 or 2, tin-lead eutectic solder is used for the solder dam 20. The soldered cream was squeegee printed for patterning. The height of the dam 20 was 30 μm and the width was 120 μm. The flip-chip bonding was carried out by setting the temperature condition to 200 ° C. so that the solder was in a molten state. The effect after mounting was very clear, and the sealing yield, which was 87% without solder dam, could be 100%. In addition, there was no occurrence of defective bonding of the bumps 2 due to the provision of the dam 20.
【0044】この発明を用いずに製造するとサイズが
2.5×2.0×1.0mm(=5mm3)であった電
子部品装置(弾性表面波フィルタ装置)100は、この
発明の実施の形態によれば、2.0×1.5×0.6m
m(=1.8mm3)まで小型/薄型化することができ
た。材料コストとしても約50%の削減を図ることがで
き、コスト面でも大きな効果を得ることができた。The electronic component device (surface acoustic wave filter device) 100, which has a size of 2.5 × 2.0 × 1.0 mm (= 5 mm 3 ) when manufactured without using the present invention, is the same as the embodiment of the present invention. According to the form, 2.0 x 1.5 x 0.6 m
It was possible to reduce the size and thickness to m (= 1.8 mm 3 ). The material cost can be reduced by about 50%, and a great effect can be obtained in terms of cost.
【0045】<実施の形態による効果2>この発明の実
施によれば、パッケージ3側に形成されたハンダ20層
はフリップチップボンディング時に溶融状態(または柔
軟化状態)となり、バンプ接合を阻害するスペーサには
ならなくなる。このため、パッケージ形状のバラツキ等
によりバンプ接合時の隙間高さがばらついてデバイスチ
ップ1とダム20が接触してもデバイスチップ1の形状
に合わせる形でハンダ20が変形する。これにより、ハ
ンダ20層は常に適切な形状(高さ)を保ち、完全にダ
ム20として機能することができる。<Effect 2 of Embodiment> According to the embodiment of the present invention, the solder 20 layer formed on the package 3 side is in a molten state (or a softened state) during flip chip bonding, and is a spacer that hinders bump bonding. It will not be. Therefore, even if the height of the gap at the time of bump bonding varies due to variations in the package shape and the device chip 1 and the dam 20 come into contact with each other, the solder 20 is deformed so as to match the shape of the device chip 1. Thereby, the solder 20 layer always maintains an appropriate shape (height), and can completely function as the dam 20.
【0046】以上のことから、封止樹脂5に関しては粘
度やチクソ性に関する要求を緩やかにすることが可能と
なり、濡れ性の良い樹脂5を使用しても装置内部の機能
部8への樹脂進入の恐れなく完全な中空封止構造を実現
することができる。このため、小型/薄型/安価でかつ
高い信頼性を有する電子部品装置を得ることができる。From the above, with respect to the sealing resin 5, it is possible to loosen the requirements regarding the viscosity and thixotropy, and even if the resin 5 having good wettability is used, the resin enters the functional portion 8 inside the apparatus. It is possible to realize a complete hollow sealing structure without any fear. Therefore, it is possible to obtain an electronic component device that is small / thin / cheap and has high reliability.
【0047】また、ハンダは、溶融時にパッケージ3側
に形成されたダム20の金属パターン上で表面張力によ
り球状化する特性があるため、ハンダ層の形成時に位置
ずれや厚みの局所的なバラツキがあっても、溶融にとも
ないセルフアライメントが行なわれる効果がある。Further, since the solder has a characteristic that it is spheroidized by the surface tension on the metal pattern of the dam 20 formed on the package 3 side at the time of melting, there is a positional deviation and a local variation in thickness when the solder layer is formed. Even if there is, there is an effect that self-alignment is performed with melting.
【0048】また、フリップチップボンディング時にハ
ンダ融点以上の加熱が加えることにより、ハンダ製のダ
ム20自体が溶融し、仮にダム20がデバイスチップ1
に接触しても、エネルギのロス無くバンプ接合をするこ
とができる。これによりバンプの変形量等に悪影響を与
えずに、封止樹脂の進入を防ぐダム20を形成すること
が可能となる。Further, by heating above the melting point of the solder during flip chip bonding, the dam 20 itself made of solder is melted, and the dam 20 is assumed to be the device chip 1.
Even if it contacts with, bump bonding can be performed without energy loss. This makes it possible to form the dam 20 that prevents the sealing resin from entering without adversely affecting the amount of deformation of the bumps.
【0049】なお、この発明は上記各実施の形態に限定
されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸
脱しない範囲で種々な変形・変更が可能である。また、
各実施の形態は可能な限り適宜組み合わせて実施されて
もよく、その場合組み合わせによる効果が得られる。The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes can be made at the stage of carrying out the invention without departing from the spirit of the invention. Also,
The respective embodiments may be combined as appropriate as much as possible, and in that case, the effect of the combination can be obtained.
【0050】例えば、図1〜図3の実施の形態では封止
樹脂5がデバイスチップ1の周囲だけに付けられている
が、封止処理時に樹脂5でデバイスチップ1の上面(お
よび/または基板3の下面)の全体を樹脂5で覆うよう
な実施の形態も可能である。For example, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the sealing resin 5 is attached only to the periphery of the device chip 1. However, the resin 5 is used to seal the upper surface (and / or substrate) of the device chip 1 during the sealing process. An embodiment in which the entire lower surface (3) is covered with the resin 5 is also possible.
【0051】また、図1の構造では、ダム20に封止樹
脂5の封止機能を兼用(または分担)させることができ
る。この場合は、封止樹脂5による封止処理が厳格に行
われなくても、装置内部の気密性を充分確保できる。Further, in the structure of FIG. 1, the dam 20 can be made to serve (or share) the sealing function of the sealing resin 5. In this case, even if the sealing process with the sealing resin 5 is not performed strictly, the airtightness inside the device can be sufficiently ensured.
【0052】また、ダム20の材料は、錫−鉛系ハンダ
゛のみならず、低融点(例えば250℃以下)で溶融ま
たは柔軟化する材料(主に金属材料)であればかまわな
い。Further, the material of the dam 20 is not limited to tin-lead solder, but may be a material (mainly a metal material) that melts or softens at a low melting point (for example, 250 ° C. or lower).
【0053】さらに、上記実施の形態には種々な段階の
発明が含まれており、この出願で開示される複数の構成
要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出
され得る。たとえば、実施の形態に示される全構成要件
から1または複数の構成要件が削除されても、この発明
の効果あるいはこの発明の実施に伴う効果のうち少なく
とも1つが得られるときは、この構成要件が削除された
構成が発明として抽出され得るものである。Furthermore, the embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in this application. For example, even if one or more constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiment, if at least one of the effect of the present invention or the effect of implementing the present invention is obtained, the constituent element is The deleted configuration can be extracted as an invention.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上述べたように、この発明の実施によ
れば、封止不良や封止樹脂の内部進入による不良の発生
を防止した電子部品装置およびその製造方法を提供でき
る。As described above, according to the present invention, it is possible to provide the electronic component device and the manufacturing method thereof, which prevent the occurrence of the defective sealing and the defectiveness due to the penetration of the sealing resin into the inside.
【図1】この発明の一実施の形態に係る電子部品装置の
内部構造を説明する図。FIG. 1 is a diagram illustrating an internal structure of an electronic component device according to an embodiment of the present invention.
【図2】この発明の他の実施の形態に係る電子部品装置
の内部構造を説明する図。FIG. 2 is a diagram illustrating an internal structure of an electronic component device according to another embodiment of the present invention.
【図3】この発明のさらに他の実施の形態に係る電子部
品装置の内部構造を説明する図。FIG. 3 is a diagram illustrating an internal structure of an electronic component device according to still another embodiment of the present invention.
【図4】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、基板上のバンプ外側にダム用部材(ハ
ンダ等)を付ける場合の一例を説明する図。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図5】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、基板上のバンプ外側にダム用部材(ハ
ンダ等)を付ける場合の他例を説明する図。FIG. 5 is a view for explaining another example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図6】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、基板上のバンプ内側にダム用部材(ハ
ンダ等)を付ける場合の一例を説明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図7】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、基板上のバンプ内側にダム用部材(ハ
ンダ等)を付ける場合の他例を説明する図。FIG. 7 is a diagram illustrating another example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the substrate in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図8】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、デバイスチップ上のバンプ外側にダム
用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例を説明する図。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the device chip in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図9】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の製
造過程において、デバイスチップ上のバンプ外側にダム
用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例を説明する図。FIG. 9 is a view for explaining another example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the outside of the bump on the device chip in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図10】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の
製造過程において、デバイスチップ上のバンプ内側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の一例を説明する
図。FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a case where a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the device chip in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
【図11】この発明の実施の形態に係る電子部品装置の
製造過程において、デバイスチップ上のバンプ内側にダ
ム用部材(ハンダ等)を付ける場合の他例を説明する
図。FIG. 11 is a view for explaining another example of the case where a dam member (solder or the like) is attached to the inside of the bump on the device chip in the manufacturing process of the electronic component device according to the embodiment of the present invention.
1…デバイスチップ;2…金属バンプ(導電性バン
プ);3…基板(パッケージ);4…配線パターン;5
…封止樹脂;7…中空部(空間部);8…電極パターン
(例えばインターデジタル変換器IDTの機能部分;櫛
歯状電極のパターンなど);9…隙間;20…ダム(例
えば錫60%±10%くらいのPb-Snハンダを用いたダ
ム);22…逃げ部(または絶縁コート);82…引き
出し配線;100…電子部品装置(弾性表面波フィルタ
装置など)。1 ... Device chip; 2 ... Metal bump (conductive bump); 3 ... Substrate (package); 4 ... Wiring pattern; 5
... Sealing resin; 7 ... Hollow part (space part); 8 ... Electrode pattern (for example, functional part of interdigital converter IDT; pattern of comb-shaped electrodes); 9 ... Gap; 20 ... Dam (for example, 60% tin) Dam using Pb-Sn solder of about ± 10%); 22 ... Escape part (or insulating coat); 82 ... Lead wiring; 100 ... Electronic component device (surface acoustic wave filter device, etc.).
Claims (5)
所定の材質からなる基板との間に前記機能部分を含んだ
所定の空間部が形成されるように、前記デバイスチップ
と前記基板とが導電性バンプを介して電気的かつ機械的
に接続され、かつ、保護材により前記デバイスチップの
機能部分が外部から保護されるように構成された電子部
品装置において、 前記デバイスチップと前記基板との間であって、前記デ
バイスチップの機能部分が配置される場所の外側であ
り、かつ前記保護材が配置される場所の内側に、前記保
護材の進入防止のための低融点金属からなるダムを設け
たことを特徴とする電子部品装置。1. The device chip and the substrate are electrically conductive so that a predetermined space including the functional portion is formed between a device chip having the predetermined functional portion and a substrate made of a predetermined material. In the electronic component device, which is electrically and mechanically connected via a conductive bump, and in which a functional portion of the device chip is protected from the outside by a protective material, the device chip is provided between the device chip and the substrate. A dam made of a low melting point metal is provided outside the place where the functional part of the device chip is arranged and inside the place where the protective material is arranged to prevent the protective material from entering. An electronic component device characterized by the above.
れる場所の外側に配置されるように構成したことを特徴
とする請求項1に記載の装置。2. The device of claim 1, wherein the dam is configured to be located outside of where the conductive bumps are located.
れる場所の内側に配置されるように構成したことを特徴
とする請求項1または請求項2に記載の装置。3. The apparatus according to claim 1, wherein the dam is configured to be arranged inside a place where the conductive bump is arranged.
とを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項
に記載の装置。4. The device according to claim 1, wherein the dam is made of solder.
所定の材質からなる基板との間に前記機能部分を含んだ
所定の空間部が形成されるように前記デバイスチップと
前記基板とを導電性バンプを介して電気的かつ機械的に
接続し、樹脂により前記機能部分が外部雰囲気から遮蔽
されるように前記デバイスチップおよび前記基板の外周
を封止するように構成された電子部品装置の製法におい
て、 前記デバイスチップと前記基板との間であって、前記デ
バイスチップの機能部分が配置される場所の外側であ
り、かつ前記樹脂が配置される場所の内側に、前記樹脂
の進入防止のための低融点金属からなるダム用部材を、
前記樹脂による封止工程の前に設けるように構成したこ
とを特徴とする電子部品装置の製造方法。5. The device chip and the substrate are electrically conductive so that a predetermined space including the functional portion is formed between a device chip having the predetermined functional portion and a substrate made of a predetermined material. In a method of manufacturing an electronic component device configured to electrically and mechanically connect via a bump, and to seal the outer periphery of the device chip and the substrate so that the functional portion is shielded from the external atmosphere by a resin. , Between the device chip and the substrate, outside the place where the functional portion of the device chip is arranged, and inside the place where the resin is arranged, for preventing the resin from entering. Dam member made of low melting point metal,
A method of manufacturing an electronic component device, characterized in that the electronic component device is provided before the resin sealing step.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001335838A JP2003142523A (en) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | Electronic component and method for manufacturing the same |
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