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JP2003137870A - 3,5−ジオキソ−6−ヘプテン酸誘導体類の製造方法及びその中間体 - Google Patents

3,5−ジオキソ−6−ヘプテン酸誘導体類の製造方法及びその中間体

Info

Publication number
JP2003137870A
JP2003137870A JP2001331480A JP2001331480A JP2003137870A JP 2003137870 A JP2003137870 A JP 2003137870A JP 2001331480 A JP2001331480 A JP 2001331480A JP 2001331480 A JP2001331480 A JP 2001331480A JP 2003137870 A JP2003137870 A JP 2003137870A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
reaction
formula
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001331480A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuuki Takuma
勇樹 詫摩
Manabu Katsurada
学 桂田
Akiyoshi Hosokawa
明美 細川
Yoichi Matsumoto
陽一 松本
Yuuzou Kasuga
優三 春日
Naoyuki Watanabe
尚之 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Nissan Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2001331480A priority Critical patent/JP2003137870A/ja
Priority to AU2002228413A priority patent/AU2002228413B8/en
Priority to PCT/JP2002/000835 priority patent/WO2002063028A1/ja
Priority to TW091101786A priority patent/TWI322829B/zh
Priority to KR1020037010128A priority patent/KR100883874B1/ko
Priority to CNB028078527A priority patent/CN1329520C/zh
Priority to EP02710461A priority patent/EP1365029A4/en
Priority to CA2437312A priority patent/CA2437312C/en
Publication of JP2003137870A publication Critical patent/JP2003137870A/ja
Priority to US10/629,865 priority patent/US6965031B2/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】(3R,5S)−(E)−7−[2−シクロプ
ロピル−4−(4−フルオロフェニル)−キノリン−3
−イル]−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エン酸エ
ステル類の合成のための原料である3,5−ジオキソ6
−ヘプテン酸エステル類の工業的に有効な製造方法を提
供する。 【解決手段】2−シクロプロピル−4−(4−フルオロ
フェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドと3,5−
ジオキソヘキサン酸エステル類とを縮合反応させること
よりなる(6E)−7−[2−シクロプロピル−4−
(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イル]−3,
5−ジオキソヘプテン酸エステル類の製造方法、該製造
方法において、縮合反応の中間体として7位に更に水酸
基、ハロゲン原子等の置換基を有する7−[2−シクロ
プロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3
−イル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エステル類を経
由することよりなる製造方法、並びに新規中間体化合
物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、(3R,5S)−
(E)−7−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオ
ロフェニル)−キノリン−3−イル]−3,5−ジヒド
ロキシヘプト−6−エン酸エステル類の合成に必要な、
前記一般式(C)で表されるβ−ジケトカルボン酸エステ
ル誘導体の新しい製造方法に関するものである。一般式
(C)で表される化合物から誘導される、(3R,5S)
−(E)−7−[2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)−キノリン−3−イル]−3,5−ジヒ
ドロキシヘプト−6−エン酸は、特開平1−27986
6号公報に記載されているのように、3−ヒドロキシ−
3−メチルグルタリル−CoA還元酵素を阻害し、血中
コレステロール低下剤として有用である。
【0002】
【従来の技術】(3R,5S)−(E)−7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−キノリ
ン−3−イル]−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エ
ン酸を工業的に製造する方法としては、エナールとケト
エステルとを縮合反応させて得られるβ−ヒドロキシケ
トエステルのカルボニル基を還元する(特開平1−27
9866号公報及びJournal of Chroma
tography A,832(1999)p55-6
5)方法が知られている。しかしながら、これらの方法
では、反応生成物が光学異性体混合物になるため、最終
工程において、クロマトグラフィーなどにより所望の光
学活性体化合物のみに分離・精製する必要がある。最終
工程での異性体分離はロスも多く工業的には安価な効率
的製法とは言えない。一方、一般式(C)で表されるβ
−ジケトカルボン酸エステルを立体選択的に還元すれば
異性体の量が少なく望ましいが、このジケトカルボン酸
エステルについては、特開平6−329679号におい
ては原料として使用されているだけで具体的製造法につ
いては記載されていない。
【0003】
【本発明が解決しようとする課題】従って、上記有用な
原料である一般式(C)で表される化合物であるβ−ジ
ケトカルボン酸エステル類を効率よく製造する方法の出
現が望まれていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、式(A)で表され
る化合物と一般式(B)で表される化合物とを縮合反応
させることにより、一般式(C)で表される化合物を製
造することができること及び上記縮合反応の製造中間体
である一般式(D)で表される化合物の脱水反応等によ
っても、簡便で、効率的に一般式(C)で表される化合
物に導けることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち本発明の要旨は、下記式(A)
【化8】 で表される2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフ
ェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドと下記一般式
(B)
【化9】 (式中、R1は、水素原子、アルキル基、アラルキル基
またはアリール基を示す。)で表される化合物とを縮合
反応させることを特徴とする下記一般式(C)
【化10】 (式中、R1は、前述と同義である。)で表される化合
物またはその塩の製造方法に存する。
【0006】本発明の他の要旨は、下記一般式(D)
【化11】 (式中、R1は、前述と同義である。R2は、水酸基、ハ
ロゲン原子、シリルオキシ基、スルホニルオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキ
ルチオカルボニルオキシ基、アルコキシチオカルボニル
オキシ基、またはアルキルチオチオカルボニルオキシ基
を示す。)で表される化合物またはその塩からR2を脱
離反応させることを特徴とする前記一般式(C)で表さ
れる化合物またはその塩を製造する方法に存する。本発
明の更なる要旨は、新規化合物である、前記一般式
(D)で表される化合物に存する。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の前記一般式(C)で表される化合物また
はその塩の製造方法は、式(A)で表される2−シクロ
プロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3
−カルボアルデヒド[以下、化合物(A)と称する]と
一般式(B)で表される化合物[以下、化合物(B)と
称する]とを縮合反応させるものである。前記一般式
(B)において、置換基R1は水素原子;メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等の直鎖、
分岐又は環状のアルキル基;ベンジル基、フェネチル基
等のアラルキル基;または、フェニル基、メシチル基、
ナフチル基等のアリール基を示し、これらのうち好まし
くは炭素数が1から4までのアルキル基又はフェニル基
であり、特に好ましくはメチル基又はエチル基である。
【0008】化合物(A)と化合物(B)との縮合反応
は、いわゆるアルドール反応と言われているものと同様
の操作で行うことができ、通常、窒素ガスまたは不活性
ガス雰囲気下で、化合物(B)を含む溶液中に塩基を加
えた後に、この溶液中に化合物(A)を含む溶液を滴下
して行う方法が好ましく行われる。上記縮合反応で使用
される塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、水素化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水素化物;n−ブチルリチウム、ターシャリー
ブチルリチウム等のアルキルリチウム試薬;t−ブチル
マグネシウムクロリド等のグリニヤール試薬;ナトリウ
ムエトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;NaN
2等が挙げられ、このほか、酸化マグネシウム等のア
ルカリ土類金属の酸化物などの固体塩基も挙げられる。
このうち好ましくはアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の水素化物、NaNH2であり、さらに好ましくは、ア
ルカリ金属水素化物であり、特に好ましくは水素化ナト
リウムである。
【0009】塩基の使用量としては、通常、化合物
(B)に対して1.5当量以上、好ましくは2当量以上
用いられるが、あまり過剰に用いると副反応がおこり収
率が低下することもあるので通常、10当量以下の範囲
で用いられる。このうち好ましい範囲としては2〜3当
量、特に好ましくは2〜2.7当量である。
【0010】反応は、通常、溶媒を用いて行われ、溶媒
としては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭
化水素系溶媒;メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;塩
化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;N,N-ジメチ
ルホルムアミドなどの非プロトン性溶媒が使用でき、こ
れらのうち、好ましい溶媒は20℃における誘電率が
2.5以上であり、更に好ましくは5以上である。上記
好ましい溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジ
メチルイミダゾリジノンが挙げられ、特に好ましくはテ
トラヒドロフランである。溶媒の使用量は、通常、反応
基質に対して0.5倍容量〜100倍容量程度用いら
れ、このうち、工業的な観点から20倍容量以下で行う
のが好ましい。
【0011】反応操作としては、塩基と化合物(B)を
混合した後、化合物(A)を添加してもよいし、塩基と
化合物(B)を混合したものを化合物(A)中に添加し
てもよいし、塩基中に化合物(A)と(B)を混合した
ものを添加してもよいし、化合物(A)と(B)を混合
したものに塩基を添加することも可能である。いずれの
操作でも反応は進行するが、好ましくは塩基と化合物
(B)を混合した後、これに化合物(A)を添加する方
法である。反応は、−50℃〜100℃、好ましくは−
20℃〜40℃の温度で、通常、30分以上、好ましく
は1時間以上反応させ、必要に応じて昇温してもよい。
反応終了後、反応系に水、酢酸、塩化アンモニウム等を
加えて反応を停止した後、水洗、分液抽出等の通常の単
離・精製操作により、化合物(C)を得ることができ
る。
【0012】本発明の化合物(C)の酸付加塩は、上記
反応の停止後、水洗し、分液抽出した有機相を必要に応
じて濃縮及び/又は冷却したものに酸を加えて攪拌する
ことで得ることができる。上記酸としては、塩酸、硫酸
等の無機酸;p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸が挙げられ、このうち
好ましくは、塩酸又は有機酸であり、特に好ましくは、
塩酸である。反応操作としては、通常、化合物(C)の
溶液に化合物(C)に対して等モル量前後の量の酸を酢
酸エチル等の溶媒で希釈したものを滴下しながら加える
方法が好ましい。滴下温度としては、化合物(C)の酸
付加塩の溶媒に対する溶解度にも依存するが、通常60
℃以下で行われ、滴下後に必要に応じて冷却や濃縮を行
う等、通常の晶析操作に準じて、化合物(C)の酸付加
塩を単離することができる。尚、一般式(C)において
1が水素原子の場合には、上記酸の代わりに、アンモ
ニアやアミン類を用いることで、アンモニウム塩やアミ
ン付加塩として得ることもできる。
【0013】本発明の製造方法では、上記化合物(A)
と化合物(B)との縮合反応において、使用する塩基及
び溶媒を選択することにより、下記一般式(D)
【化12】 (式中、R1は、前述と同義である。R2は、水酸基、ハ
ロゲン原子、シリルオキシ基、スルホニルオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキ
ルチオカルボニルオキシ基、アルコキシチオカルボニル
オキシ基、またはアルキルチオチオカルボニルオキシ基
を示す。)で表される化合物[以下、化合物(D)と称
する]またはその塩を経由させてから、化合物(C)を
製造することもできる。
【0014】上記化合物(D)の置換基R1は前述のも
のと同様であり、R2は、水酸基;塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子;トリメチルシリルオキシ基、ターシ
ャリーブチルジメチルシリルオキシ基などのシリルオキ
シ基;メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホ
ニルオキシ基などのスルホニルオキシ基;アセトキシ
基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基;メトキ
シカルボニルオキシ基、ビニルオキシカルボニルオキシ
基等のアルコキシカルボニルオキシ基;メチルチオカル
ボニルオキシ基などのアルキルチオカルボニルオキシ
基;メトキシチオカルボニルオキシ基などのアルコキシ
チオカルボニルオキシ基;または、メチルチオチオカル
ボニルオキシ基などのアルキルチオチオカルボニルオキ
シ基を示し、このうち好ましくは水酸基、スルホニルオ
キシ基またはアシルオキシ基であり、さらに好ましく
は、アシルオキシ基であり、特に好ましくはアセトキシ
基である。上記化合物(D)として好ましい置換基の組
み合わせとしては、上記置換基の説明で挙げられている
好ましいR1及びR2を組み合わせたものが挙げられる。
【0015】上記化合物(D)のうち、置換基R2が水
酸基の化合物である下記一般式(E)
【化13】 (式中、R1は前記と同義である。)で表される化合物
[以下、化合物(E)と称する]は、化合物(A)と化
合物(B)の縮合反応において使用する塩基として、好
ましくはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物
とアルキルリチウム試薬の併用、あるいはジイゾプロピ
ルアミノマグネシウムブロミドを、特に好ましくはNa
Hとn−BuLiとの組み合わせで用いることにより得
ることができる。
【0016】塩基として、アルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水素化物とアルキルリチウム試薬を併用する場
合には、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物
の使用量は、化合物(A)に対して等モル量前後、アル
キルリチウムの使用量は、化合物(A)に対して、1.
5〜2.5当量前後用いられる。溶媒としては、前述の
縮合反応の説明で挙げたのと同様のものを用いることが
でき、好ましくは、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルイミダ
ゾリジノン又はジクロロメタンが挙げられる。また、反
応操作についても、前述の縮合反応の説明で記載したの
と同様に行うことができる。
【0017】尚、上記化合物(E)は、ケト−エノール
の互変異性があり、反応系内等の溶媒中では、下記の両
方の化合物の形で存在するが、平衡の関係上、時間が経
過するとエノール体のものが主として存在する。
【化14】
【0018】こうして得られる化合物(E)の脱水反応
により化合物(C)またはその塩を直接得ることもでき
るが、上記化合物(E)の水酸基を脱離基となりうる別
の官能基に変換した下記一般式(F)
【化15】 (式中、Xは、ハロゲン原子、シリルオキシ基、スルホ
ニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、アルキルチオカルボニルオキシ基、アルコキ
シチオカルボニルオキシ基、またはアルキルチオチオカ
ルボニルオキシ基を示す。)で表される化合物[以下、
化合物(F)と称する]を経由させて化合物(C)を得
ることもできる。その際、上記化合物(F)は単離して
も良いが、単離することなく連続して反応を行うことも
できる。尚、上記化合物(E)及び(F)は、有機酸を
用い、前述の方法と同様にして、酸付加塩として単離し
ても良い。
【0019】化合物(E)から脱水反応にて化合物
(C)を直接得る場合は、酸存在下、脱水反応を行う。
使用する酸としては、p−トルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、塩酸、酢
酸、ホウ酸等のブレンステッド酸、塩化(II)銅、塩化
(I)銅、ヨウ化銅、塩化ビスマス、銅トリフラート、ス
カンジウムトリフラート等のルイス酸、シリカゲル、ゼ
オライト等の固体酸があげられる。酸の使用量は、化合
物(E)に対して0.01倍モル当量以上、好ましくは
0.05倍モル当量乃至100モル当量使用する。
【0020】本脱水反応においては、さらに脱水剤を共
存させてもよいが、本脱水反応では3位のカルボニル基
との分子内閉環反応が副反応として起こるため、その副
生成物を開環させるためには系内にある程度水分が必要
である。従って、脱水剤はある程度反応が進行した後に
加えるのが好ましい。使用する脱水剤としては、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド(DCC)、無水酢酸、硫酸
マグネシウム、シリカゲル、モレキュラーシーブス等の
脱水反応に通常用いられる脱水剤が挙げられ、好ましく
は無水酢酸、モレキュラーシーブスが挙げられる。ま
た、本反応では反応で生成した水を常圧または減圧条件
にて留去して反応を行ってもよく、さらに脱水剤と組み
合わせて行っても良い。
【0021】反応溶媒は、トルエン、ベンゼン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒;ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ヘプタン等の鎖状又は環状の脂肪族炭化水素系溶
媒;メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;
塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸等のプ
ロトン性極性溶媒が使用でき、好ましくはテトラヒドロ
フラン、トルエン、ベンゼン又は塩化メチレンであり、
特に好ましくはテトラヒドロフラン又はトルエンであ
る。なお、上記のように副反応である分子内閉環反応の
問題があるので含水溶媒を使用しても差し支えない。溶
媒の使用量は、通常、反応基質に対して0.5倍容量〜
100倍容量程度用いられ、このうち、工業的な観点か
ら20倍容量以下で行うのが好ましい。
【0022】脱水反応は、通常、化合物(E)を上記溶
媒に溶解させ、反応温度−20〜180℃、好ましく
は、副反応物の生成量を抑える目的から0〜120℃で
行う事が出来る。また、通常の共沸脱水の操作を併用し
て行うことができ、好ましくは、転化率が一定になった
ところで水を添加して再び共沸脱水操作を行う。反応終
了後は、前述と同様の分液抽出等の単離・精製操作等に
より、化合物(C)またはその塩として得ることができ
る。
【0023】化合物(E)の水酸基を脱離基となりうる
別の官能基Xに変換した後に、官能基Xの脱離を行ない
化合物(C)を得る場合、官能基Xへの置換反応は、官
能基Xの種類にあわせて、通常用いられている導入方法
により、置換することができる。例えば、具体的には、
塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子の場合は、臭化リ
ン、塩化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化剤
を、シリルオキシ基の場合は、対応する塩化シリルを、
メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオ
キシ基等のスルホニルオキシ基の場合は、対応するスル
ホニルクロリドまたは無水スルホン酸を、それぞれ塩基
の存在下で作用させる方法が挙げられる。アセトキシ
基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基の場合は
対応する酸クロリド、酸無水物またはビニルエステル
を、必要に応じて酸または塩基存在下、で作用させる方
法が挙げられる。また、アルコキシカルボニルオキシ
基、アルキルチオカルボニルオキシ基、アルコキシチオ
カルボニルオキシ基およびアルキルチオチオカルボニル
オキシ基の場合は、対応する塩化物を、必要に応じて塩
基存在下で作用させる方法が挙げられる。
【0024】こうして得られる化合物(F)の官能基X
の脱離反応は、塩基存在下または加熱条件下、あるいは
これらを組み合わせた条件下で行う。使われる塩基とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物;炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩又は重炭酸
塩;水素化ナトリウム等アルカリ金属水素化物などの無
機塩基、または、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、t−ブトキシカリウム等の金属アルコラー
ト;トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]−5−ノネン等のアミン類;ピリジン、
ピコリン、ルチジン、N,N−ジメチルアミノピリジン
等のピリジン類などの有機塩基が挙げられ、好ましく
は、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属アルコラー
ト、3級アミン類またはピリジン類であり、特に好まし
くは炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、トリ
エチルアミン、ピリジンまたはN,N−ジメチルアミノ
ピリジンである。
【0025】脱離反応は、通常、室温以上の反応温度で
行われ、50〜180℃で行うのが好ましく、特に好ま
しくは80〜120℃である。化合物(E)から化合物
(F)を経由させて化合物(C)を得る場合の反応形式
としては、上述の官能基Xへの置換反応の反応液に、必
要に応じて塩基を共存させ、そのまま加熱することで、
置換反応と脱離反応をワンポットで行うことができるた
め、工業的には好ましい。本脱離反応で得られる生成物
である化合物(C)及びその塩は、上記反応終了後、水
洗、分液抽出等、上述したのと同様の通常の単離・精製
操作により得ることが出来る。
【0026】本発明において、上記縮合反応により得ら
れる化合物(D)は新規化合物であり、上述した(3
R,5S)−(E)−7−[2−シクロプロピル−4−
(4−フルオロフェニル)−キノリン−3−イル]−
3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エン酸エステル類の
合成原料として有用な化合物である。更に、本発明の製
造方法で得られた化合物(C)またはその塩は、該化合
物中のカルボニル基に対し、微生物やキラルなホウ素系
還元剤等を用いた公知の立体選択的還元反応によるカル
ボニル基の還元を行い、必要に応じてアルカリ存在下の
条件で脱エステル化反応を行うことで対応するジヒドロ
キシカルボン酸類とすることが出来る。この様にして得
られたジヒドロキシカルボン酸を水酸化ナトリウムや塩
化カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属及び
/又はそれらの塩類などで処理することにより、(3
R,5S)−(E)−7−[2−シクロプロピル−4−
(4−フルオロフェニル)−キノリン−3−イル]−
3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エン酸の塩を製造す
ることができる。この化合物は前記の如く血中コレステ
ロール低下剤として有用な化合物である。
【0027】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に説明する
が、本発明はその要旨を超えない限りこれら実施例に限
定されるものではない。 (実施例1)
【化16】
【0028】油状、60%水素化ナトリウム2.40
g、テトラヒドロフラン200mlの混合溶液中に、内
温を2℃以下に保ちながら3,5−ジオキソヘキサン酸
エチルエステル10.3g、テトラヒドロフラン40m
lの混合液を20分間で滴下した。−10℃にて50分
間反応させた後、内温を−20〜−15℃に保ちながら
n−ブチルリチウム1.6M ヘキサン溶液75mlを
40分間で滴下し、内温2℃以下で40分間反応させ
た。これに内温を−15℃以下に保ちながら、2−シク
ロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−
3−カルボアルデヒド11.7gとテトラヒドロフラン
80mlの混合液を40分間で滴下し、10℃以下で1
時間反応させた。内温を5℃以下に保ちながら、反応系
に酢酸14.4ml、トルエン40mlを加えた後、水
100ml、飽和食塩水100mlにて順次洗浄した。
溶媒を留去した後、得られた残査にヘキサン100m
l、酢酸エチル5mlを加えて結晶化し、これを濾取、
乾燥し、7−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオ
ロフェニル)キノリン−3−イル]−7−ヒドロキシ−
3,5−ジオキソヘプタン酸エチルエステル16.6g
(収率89%)を得た。該化合物のNMRは以下の通り
である。1 H−NMR(CDCl3):1.11 (2H, m), 1.13 (1H,
m), 1.27 (3H, t, J=10), 1.76 (1H, m), 2.40 (1H,
m), 2.48 (2H, ABq, J=66,14), 2.69 (2H, ABq, J=52,1
6), 2.78 (1H, m), 3.30 (1H, m), 4.18 (2H, m), 5.25
(1H, d, J=3), 5.58(1H, dd, J=12,4), 7.16 - 7.26 (5
H, m), 7.33 (1H, dd, J=7,7), 7,61 (1H,dd, J=7,7),
7.93 (1H, d, J=7)
【0029】(実施例2)
【化17】
【0030】実施例1で得た、7−[2−シクロプロピ
ル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イ
ル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプタン酸エ
チルエステル20.0gをトルエン120mlに溶解
し、シリカゲル10g、無水硫酸マグネシウム8gを加
え、95℃にて16時間反応させた。反応系のシリカゲ
ルおよび無機塩を除去した後、溶媒を留去し、得られた
残査をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、(6E)−7−
[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)
キノリン−3−イル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エ
チルエステルを8.4g(収率44%)を得た。該化合
物のNMRは以下の通りである。1 H−NMR(CDCl3):1.09 (2H, m), 1.28 (3H,
t, J=7), 1.40 (2H, m),2.38 (1H, m), 3.40 (2H, s),
4.20 (2H, q, J=7), 5.51 (1H, s), 6.02 (1H,d, J=1
6), 7.16 - 7.26 (4H, m), 7.30 - 7.40 (2H, m), 7.70
(1H, d, J=16),7.63 (1H, m), 7.97 (1H, m)
【0031】(実施例3)実施例1で得た7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−イル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプ
タン酸エチルエステル5.0g、トルエン10ml、無
水p-トルエンスルホン酸0.37gの混合液を110℃
にて3時間反応させた。反応系を重曹水にて洗浄した
後、得られる有機層を濃縮し、得られた残査をカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=
2:1)にて精製し、(6E)−7−[2−シクロプロ
ピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イ
ル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エチルエステル3.
0g(収率63%)を得た。
【0032】(実施例4)実施例1で得た7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−イル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプ
タン酸エチルエステル0.50g、トルエン20ml、
無水p-トルエンスルホン酸0.037gの混合液を減圧
条件下、内温105℃にて、反応で生成する水をトルエ
ンとの共沸により留去しながら1時間反応させた。常圧
に戻した後、反応系に水0.097gを加えて90℃に
て10分間反応させた後、再び減圧条件下、内温105
℃にて、水を留去しながら1時間反応させた。反応系を
高速液体クロマトグラフィーにて分析し(6E)−7−
[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)
キノリン−3−イル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エ
チルエステル0.37g(収率78%)相当が生成して
いることを確認した。
【0033】(実施例5)実施例1で得た7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−イル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプ
タン酸エチルエステル0.2g、酢酸ビニル2mlの混
合液に硫酸0.01gを加え、加熱還流にて5時間反応
させた。反応系を酢酸エチルで希釈した後、重曹水で水
洗し、得られる有機層を濃縮し、得られた残査をカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル
=2:1)にて精製し、(6E)−7−[2−シクロプ
ロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−
イル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エチルエステル
0.14g(収率73%)を得た。
【0034】(実施例6)実施例1で得た7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−イル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプ
タン酸エチルエステル2.0g、酢酸10ml、無水酢
酸0.66g、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン
0.01gの混合液を90℃にて4時間反応させた。反
応系を酢酸エチルで希釈し、水、重曹水にて洗浄した
後、得られる有機層を濃縮し、得られた残査をヘキサン
にて結晶化し、(6E)−7−[2−シクロプロピル−
4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イル]−
3,5−ジオキソヘプテン酸エチルエステル1.55g
(収率80%)を得た。
【0035】(実施例7)実施例1で得た7−[2−シ
クロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン
−3−イル]−7−ヒドロキシ−3,5−ジオキソヘプ
タン酸エチルエステル0.250gを、4モル/L塩酸
/酢酸エチル溶液5mlに溶解し、20℃にて12時間
攪拌を続行した。反応系を高速液体クロマトグラフィー
で分析し、(6E)−7−[2−シクロプロピル−4−
(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イル]−3,
5−ジオキソヘプテン酸エチルエステル0.198g
(収率82%)相当が生成している事を確認した。
【0036】(実施例8)油状、60%水素化ナトリウ
ム1.37g、テトラヒドロフラン10mlの混合溶液
中に、内温を20℃に保ちながら3,5−ジオキソヘキ
サン酸エチルエステル2.36g、テトラヒドロフラン
10mlの混合液を5分間かけて滴下した。その温度で
1時間攪拌の後、2−シクロプロピル−4−(4−フル
オロフェニル)キノリン−3−カルボアルデヒド2.0
1gとテトラヒドロフラン20mlの混合液を20分間
かけて滴下した。4時間攪拌の後、酢酸3.09gと水
20mlの中に反応液を添加して反応を停止した。酢酸
エチル40mlで抽出し、有機相を飽和食塩水20ml
にて洗浄し、無水硫酸ナトリウム2gで乾燥した。得ら
れた有機相を分析すると、目的物である(6E)−7−
[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)
キノリン−3−イル]−3,5−ジオキソヘプテン酸エ
チルエステル2.52g(収率82%)が得られた。溶
媒を留去した後、得られた残査に室温にて4モル/L塩
酸・酢酸エチル溶液1.7mlを添加した。結晶が生成
した後、温度を5℃まで冷却して、これを濾取、乾燥
し、(6E)−7−[2−シクロプロピル−4−(4−
フルオロフェニル)キノリン−3−イル]−3,5−ジ
オキソヘプテン酸エチルエステルの塩酸塩2.49g
(収率75%)が得られた。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、血中コレステロール低
下剤として有用な(3R,5S)−(E)−7−[2−
シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)−キノ
リン−3−イル]−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−
エン酸エステル類の合成のための原料である3,5−ジ
オキソ−6−ヘプテン酸エステル類を工業的に容易に製
造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桂田 学 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 (72)発明者 細川 明美 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 (72)発明者 松本 陽一 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 (72)発明者 春日 優三 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 (72)発明者 渡辺 尚之 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 Fターム(参考) 4C031 BA07

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式(A) 【化1】 で表される2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフ
    ェニル)キノリン−3−カルボアルデヒドと下記一般式
    (B) 【化2】 (式中、R1は、水素原子、アルキル基、アラルキル基
    またはアリール基を示す。)で表される化合物とを縮合
    反応させることを特徴とする下記一般式(C) 【化3】 (式中、R1は、前述と同義である。)で表される化合
    物またはその塩の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記式(A)で表される化合物及び一般
    式(B)で表される化合物との縮合反応により一般式
    (C)で表される化合物またはその塩を製造するに当た
    り、製造中間体として下記一般式(D) 【化4】 (式中、R1は、前述と同義であり、R2は、水酸基、ハ
    ロゲン原子、シリルオキシ基、スルホニルオキシ基、ア
    シルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アルキ
    ルチオカルボニルオキシ基、アルコキシチオカルボニル
    オキシ基、またはアルキルチオチオカルボニルオキシ基
    を示す。)で表される化合物またはその塩を経由するこ
    とを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 下記一般式(D) 【化5】 (式中、R1及びR2は、前述と同義である。)で表され
    る化合物またはその塩からR2を脱離反応させることを
    特徴とする下記一般式(C) 【化6】 (式中、R1は、前述と同義である。)で表される化合
    物またはその塩の製造方法。
  4. 【請求項4】 下記一般式(D) 【化7】 (式中、R1及びR2は、前述と同義である。)で表され
    る化合物。
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PCT/JP2002/000835 WO2002063028A1 (fr) 2001-02-02 2002-02-01 Procede de production d'esters d'acide (3r,5s)-(e)-7-[2-cyclopropyl-4-(4-fluorophenyl)-quinolin-3-yl]-3,5-dihydroxyhept-6-enique
TW091101786A TWI322829B (ja) 2001-02-02 2002-02-01
KR1020037010128A KR100883874B1 (ko) 2001-02-02 2002-02-01 (3r,5s)-(e)-7-[2-시클로프로필-4-(4-플루오로페닐)-퀴노린-3-일]-3,5-디하이드록시헵트-6-엔산 에스테르류의 제조방법
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