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JP2003136013A - Method for manufacturing film laminate, method for manufacturing electro-optical panel, method for manufacturing liquid crystal panel, and method for manufacturing electronic equipment - Google Patents

Method for manufacturing film laminate, method for manufacturing electro-optical panel, method for manufacturing liquid crystal panel, and method for manufacturing electronic equipment

Info

Publication number
JP2003136013A
JP2003136013A JP2001338035A JP2001338035A JP2003136013A JP 2003136013 A JP2003136013 A JP 2003136013A JP 2001338035 A JP2001338035 A JP 2001338035A JP 2001338035 A JP2001338035 A JP 2001338035A JP 2003136013 A JP2003136013 A JP 2003136013A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
manufacturing
substrate
film material
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001338035A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoki Kawase
智己 川瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001338035A priority Critical patent/JP2003136013A/en
Publication of JP2003136013A publication Critical patent/JP2003136013A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線照射のタイミングに工夫を加えること
により、基板、すなわち被塗布材に対する膜材料の濡れ
性を飛躍的に向上させる。 【解決手段】 基板の上にポリイミド等の膜を形成する
ための膜積層体の製造方法である。この方法は、基板に
膜材料を塗布する工程P1と、基板に紫外線を照射する
工程P2と、基板に塗布された膜材料を固形化する工程
P3とを有する。紫外線照射工程P2を、膜材料の基板
への塗布の開始から膜材料の固形化するまでの間に行う
ことにより、膜材料の濡れ性を最も効果的に発現させる
ことができる。
[PROBLEMS] To dramatically improve the wettability of a film material with respect to a substrate, that is, a material to be coated, by devising the timing of ultraviolet irradiation. A method of manufacturing a film stack for forming a film of polyimide or the like on a substrate is provided. This method includes a step P1 of applying a film material to a substrate, a step P2 of irradiating the substrate with ultraviolet rays, and a step P3 of solidifying the film material applied to the substrate. By performing the ultraviolet irradiation step P2 from the start of the application of the film material to the substrate until the film material is solidified, the wettability of the film material can be expressed most effectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板等といった被
塗装材の上に膜を形成して成る膜積層体の製造方法、そ
の膜積層体の製造方法を用いた電気光学パネルの製造方
法、その膜積層体の製造方法を用いた液晶パネルの製造
方法及びその電気光学パネルの製造方法を用いた電子機
器の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a film laminated body formed by forming a film on a material to be coated such as a substrate, a method for producing an electro-optical panel using the method for producing the film laminated body, The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal panel using the method for manufacturing the film laminate and a method for manufacturing electronic equipment using the method for manufacturing the electro-optical panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、携帯電話機、携帯情報端末機、ビ
デオカメラ等といった電子機器の表示部に液晶パネル、
EL(Electro Luminescence)パネル等といった電気光
学パネルが広く用いられている。ここで、液晶パネルに
おいては、一般に、電気光学物質としての液晶が基板上
に液晶層として形成されると共に、その液晶層の下にポ
リイミド系樹脂等によって配向膜が形成されたり、さら
にその下にはアクリル樹脂等によってオーバーコート配
向膜が形成されたりする。
2. Description of the Related Art At present, a liquid crystal panel is used in a display section of an electronic device such as a mobile phone, a personal digital assistant, and a video camera.
Electro-optical panels such as EL (Electro Luminescence) panels are widely used. Here, in a liquid crystal panel, in general, liquid crystal as an electro-optical material is formed as a liquid crystal layer on a substrate, and an alignment film is formed under the liquid crystal layer with a polyimide resin or the like, and further below it. The acrylic resin or the like may form an overcoat alignment film.

【0003】従来、基板表面の広い領域に膜を均一な厚
さで形成する方法として、フレキシブルな版を巻き付け
た版胴を用いて印刷、すなわち膜形成を行うフレキソ印
刷法が知られている。また、基板に塗布液を滴下すると
共にその基板を高速回転し、遠心力によって均一な塗膜
を形成するスピンコート法も知られている。
Conventionally, as a method for forming a film with a uniform thickness on a wide area of a substrate surface, there is known a flexographic printing method in which printing is performed by using a plate cylinder around which a flexible plate is wound, that is, a film is formed. Also known is a spin coating method in which a coating solution is dropped on a substrate and the substrate is rotated at a high speed to form a uniform coating film by centrifugal force.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
等によって形成された基板の表面に直接に膜を形成する
場合、膜の材料である酸化金属膜等といった無機材料
や、ポリイミド等といった有機材料は、基板に対する濡
れ性が低くて広がり難く、それ故、それらの膜材料を基
板の表面上の広い領域に均一な厚さで形成することが難
しいという問題があった。
However, when a film is formed directly on the surface of a substrate formed of glass or the like, an inorganic material such as a metal oxide film which is a material of the film or an organic material such as polyimide is There is a problem that the wettability to the substrate is low and it is difficult to spread, and therefore it is difficult to form those film materials in a wide area on the surface of the substrate with a uniform thickness.

【0005】本発明者は、上記の問題点を解消するため
に種々の実験を行い、基板に紫外線を照射することが膜
材料の基板に対する濡れ性を向上することに有効であ
り、特に、その紫外線の照射タイミングが濡れ性の向上
の程度に大きく影響することを知見した。
The present inventor has conducted various experiments in order to solve the above problems, and irradiating the substrate with ultraviolet rays is effective in improving the wettability of the film material with respect to the substrate. It was found that the irradiation timing of ultraviolet rays greatly affects the degree of improvement in wettability.

【0006】なお、紫外線照射を利用した膜の形成方法
として、特開平3−054818号公報によれば、フォ
トレジスト等といった膜の形成に先立って基板に紫外線
を照射する技術が開示されている。この技術によれば、
基板に対するレジストの密着性が高まり、そのため、レ
ジスト中に気泡が発生することを防止でき、それ故、レ
ジスト中に孔やピンホール等といったレジスト欠陥が発
生することを防止できるとされている。
As a film forming method utilizing ultraviolet irradiation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-054818 discloses a technique of irradiating a substrate with ultraviolet rays prior to forming a film such as a photoresist. According to this technology,
It is said that the adhesiveness of the resist to the substrate is enhanced, so that it is possible to prevent bubbles from being generated in the resist, and thus to prevent resist defects such as holes and pinholes from being generated in the resist.

【0007】しかしながらこの文献には、紫外線照射が
膜材料の濡れ性を向上させるとの直接的な記述はなく、
さらに、紫外線照射のタイミングと膜材料の濡れ性の変
化との関係についても触れられていない。本発明者の実
験によれば、上記文献に従って、基板に紫外線を照射し
た後に基板表面に膜を形成したところ、紫外線を照射し
ない場合に比べれば確かに膜材料の濡れ性を向上できる
ことが分かったが、その向上の程度は、実用上、満足に
足る程度のものではなかった。
However, there is no direct description in this document that UV irradiation improves the wettability of the film material,
Further, it does not mention the relationship between the timing of ultraviolet irradiation and the change in wettability of the film material. According to the experiments of the present inventor, it was found that, according to the above-mentioned literature, when the film was formed on the surface of the substrate after irradiating the substrate with ultraviolet rays, the wettability of the film material could be certainly improved compared to the case where the substrate was not irradiated with ultraviolet rays. However, the degree of improvement was not satisfactory in practical use.

【0008】本発明は、上記の知見に基づいて成された
ものであって、紫外線照射のタイミングに工夫を加える
ことにより、基板、すなわち被塗布材に対する膜材料の
濡れ性を飛躍的に向上させることを目的とする。
The present invention was made on the basis of the above findings, and the wettability of the film material with respect to the substrate, that is, the material to be coated is remarkably improved by devising the timing of ultraviolet irradiation. The purpose is to

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】(1)上記の目的を達成
するため、本発明に係る膜積層体の製造方法は、被塗布
材の上に膜を形成して成る膜積層体の製造方法におい
て、前記被塗布材に膜材料を塗布する工程と、前記被塗
布材に紫外線を照射する工程と、前記被塗布材に塗布さ
れた前記膜材料を固形化する工程とを有し、前記紫外線
照射工程は、前記膜材料の前記被塗布材への塗布の開始
から前記膜材料の固形化するまでの間に行われることを
特徴とする。
(1) In order to achieve the above object, a method for producing a film laminate according to the present invention is a method for producing a film laminate by forming a film on a material to be coated. In the step of applying a film material to the coating material, irradiating the coating material with ultraviolet light, and solidifying the coating material applied to the coating material, The irradiation step is performed during the period from the start of application of the film material to the coating target material to the solidification of the film material.

【0010】上記構成において、「被塗布材」として
は、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成され
た基板が考えられる。また、「膜」としては、例えば、
液晶パネル等で用いられるオーバーコート膜や配向膜
等、配線基板上に形成されるカバーレイ、視力矯正
用のメガネの表面に形成される保護用のオーバーコート
膜、自動車の窓ガラスの表面に形成されるコート層等
が考えられる。「膜材料を固形化する工程」としては、
例えば、乾燥、焼成等や、基板をホットプレートに載せ
て行う加熱処理等が考えられる。
In the above structure, the "material to be coated" may be, for example, a substrate made of glass, plastic, or the like. Further, as the “membrane”, for example,
Overlay film or alignment film used for liquid crystal panels, coverlay formed on wiring board, protective overcoat film formed on the surface of eyeglasses for vision correction, formed on the surface of automobile window glass A coat layer or the like to be used is conceivable. As the "step of solidifying the membrane material",
For example, drying, firing, or the like, heat treatment performed by placing the substrate on a hot plate, or the like can be considered.

【0011】上記構成の膜積層体の製造方法によれば、
被塗装材に紫外線を照射することにより、例えば、被塗
装材に付着している有機物を紫外線とオゾンにより揮発
性の物質に分解して除去することができる。これによ
り、膜材料の被塗装材に対する濡れ性が高くなり、膜材
料を基板の表面の広い領域に均一に延ばすことができ
る。なお、オゾンは特別に供給しなくてもよく、空気中
に存在する酸素によってもその代替は可能である。
According to the method for manufacturing a film laminate having the above structure,
By irradiating the material to be coated with ultraviolet rays, for example, organic substances adhering to the material to be coated can be decomposed and removed by ultraviolet rays and ozone into volatile substances. As a result, the wettability of the film material with respect to the material to be coated is increased, and the film material can be uniformly spread over a wide area of the surface of the substrate. It should be noted that ozone does not have to be specially supplied, and it can be replaced by oxygen existing in the air.

【0012】特に、本発明では、膜材料を塗布する前に
紫外線を照射するのではなく、膜材料の被塗布材への塗
布の開始から膜材料の固形化するまでの間に紫外線を照
射するようにしたので、紫外線とオゾンとによる洗浄効
果を最も効果的に享受した状態下で膜材料の塗布を行う
ことになり、それ故、膜材料の濡れ性を最も高めたとこ
ろで塗布を行うことができ、そのため、膜材料を基板の
表面の広い領域に極めて均一に延ばすことができる。
In particular, in the present invention, the ultraviolet rays are not irradiated before the coating of the film material, but the ultraviolet rays are irradiated between the start of the coating of the film material on the coated material and the solidification of the film material. Therefore, the coating of the film material is performed under the condition that the cleaning effect of the ultraviolet rays and ozone is most effectively received, and therefore, the coating can be performed at the highest wettability of the film material. Therefore, the film material can be spread very uniformly over a large area of the surface of the substrate.

【0013】(2)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記被塗布材はガラス又はプラスチック
によって形成された基板とすることができる。このよう
な基板を用いたときに本発明の製造方法を適用すれば、
膜材料の濡れ性を高める上で非常に効果的であると考え
られる。
(2) Next, in the method for producing a film laminate according to the present invention, the material to be coated may be a substrate formed of glass or plastic. When the manufacturing method of the present invention is applied when such a substrate is used,
It is considered to be very effective in improving the wettability of the film material.

【0014】(3)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記膜材料は流動性材料とすることがで
きる。本発明では、塗布によって膜材料を被塗布材へ供
給するので、粉状体や固体やガス等から成る材料より
は、流動性材料であることが望ましい。これにより、膜
材料の濡れ性を確実に高めることができる。
(3) Next, in the method for producing a film laminate according to the present invention, the film material can be a fluid material. In the present invention, since the film material is supplied to the material to be coated by coating, it is preferable that the material be a fluid material rather than a material made of powder, solid, gas or the like. Thereby, the wettability of the film material can be surely enhanced.

【0015】(4)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記膜材料は紫外線が照射されても固ま
らない材料であることが望ましい。このような材料とし
ては、紫外線を受けても全く固まらない材料はもとよ
り、紫外線によって固まる材料を一部に含んでいるが、
全体としては固まらないと考えられるような材料も含む
ものである。これにより、膜材料の濡れ性を確実に高め
ることができる。
(4) Next, in the method for producing a film laminate according to the present invention, it is desirable that the film material is a material that does not harden even when irradiated with ultraviolet rays. As such materials, not only materials that do not harden at all even when receiving ultraviolet rays, but also some materials that harden by ultraviolet rays,
It also includes materials that do not seem to solidify as a whole. Thereby, the wettability of the film material can be surely enhanced.

【0016】(5)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記膜材料の塗布工程では、前記膜材料
が前記被塗布材の上に複数のドットとして塗布されるこ
とが望ましい。こうすれば、膜材料が大きな固まりの状
態で被塗布材上に供給された場合に比べて、膜材料を広
い領域へ均一に延ばすことができる。
(5) Next, in the method for manufacturing a film laminate according to the present invention, it is preferable that the film material is applied as a plurality of dots on the material to be coated in the step of applying the film material. . In this case, the film material can be uniformly spread over a wide area, as compared with the case where the film material is supplied in a large lump state onto the material to be coated.

【0017】(6)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記膜材料の塗布工程では、前記膜材料
はインクジェット方式で前記被塗布材に塗布することが
できる。ここで、インクジェット方式というのは、イン
クとしての膜材料をインクジェットヘッドによって微小
な粒子の状態で吐出すると共にそのインクジェットヘッ
ドによって被塗布材を平面的に走査することにより、被
塗布材へ膜材料を供給する方式の塗布方法である。
(6) Next, in the method for producing a film laminate according to the present invention, in the step of applying the film material, the film material can be applied to the material to be coated by an inkjet method. Here, the inkjet method means that a film material as an ink is ejected in a state of fine particles by an inkjet head and a material to be coated is planarly scanned by the inkjet head to thereby form a film material on the material to be coated. This is a supply type coating method.

【0018】この方法を実現するための具体的な構造
は、現在、いくつか知られており、それら全ての方法を
本発明において採用できるが、例えば、電圧の印加によ
って撓み変形する圧電素子を用いてインク室の体積を変
化させることによってインクを吐出する構造等を採用で
きる。インクジェット方式を用いた本発明によれば、被
塗布材への膜材料の塗布の仕方を自由に決めることがで
きるので、紫外線を受けたときに濡れ性を高めることに
関して最良の塗布パターンを容易に実現できる。 (7)次に、本発明に係る膜積層体の製造方法におい
て、前記紫外線照射工程は、前記膜材料を固形化する工
程が行われている間に同時に行われることが望ましい。
本発明においては、紫外線の照射は膜材料の塗布の開始
から膜材料の固形化の終了までに行われれば良いのであ
るが、本発明者の実験によれば、紫外線の照射を膜材料
の固形化処理と同時に、例えば、焼成と同時、乾燥と同
時、あるいはホットプレートによって加熱している最中
に行ったときに、膜材料の濡れ性を最も高められること
が分かった。
Several concrete structures for implementing this method are known at present, and all of these methods can be adopted in the present invention. For example, a piezoelectric element which is flexibly deformed by applying a voltage is used. A structure or the like that ejects ink by changing the volume of the ink chamber can be adopted. According to the present invention using the ink jet method, it is possible to freely decide how to apply the film material to the material to be coated, and thus it is possible to easily find the best coating pattern for enhancing the wettability when receiving ultraviolet rays. realizable. (7) Next, in the method for producing a film laminate according to the present invention, it is desirable that the ultraviolet irradiation step be performed simultaneously while the step of solidifying the film material is performed.
In the present invention, it is sufficient that the irradiation of ultraviolet rays is performed from the start of coating of the film material to the end of solidification of the film material. It has been found that the wettability of the film material can be most enhanced at the same time as the chemical treatment, for example, at the same time as firing, at the same time as drying, or while being heated by a hot plate.

【0019】(8)次に、本発明に係る膜積層体の製造
方法において、前記紫外線照射工程では、前記被塗布材
に紫外線を12,000mJ/cmの照射量で照射す
ることができる。本発明者の実験によれば、この照射量
のときに膜材料の濡れ性を最も高められることが分かっ
た。なお、紫外線の波長は200〜350nmで紫外線
の照射時間は5〜15分であることが望ましい。
(8) Next, in the method for manufacturing a film laminate according to the present invention, in the ultraviolet irradiation step, the material to be coated can be irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 12,000 mJ / cm 2 . According to the experiments of the present inventor, it was found that the wettability of the film material can be most enhanced at this irradiation amount. It is desirable that the wavelength of the ultraviolet rays is 200 to 350 nm and the irradiation time of the ultraviolet rays is 5 to 15 minutes.

【0020】(9)次に、本発明に係る電気光学パネル
の製造方法は、電気光学物質を支持する基板にオーバー
コート膜を有する電気光学パネルの製造方法において、
前記基板上にオーバーコート膜材料を塗布する工程と、
前記基板上に紫外線を照射する工程と、前記基板に塗布
された前記オーバーコート膜材料を固形化する工程とを
有し、前記紫外線照射工程は、前記オーバーコート膜材
料の前記基板への塗布の開始から前記オーバーコート膜
材料の固形化するまでの間に行われることを特徴とす
る。
(9) Next, a method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention is a method of manufacturing an electro-optical panel having an overcoat film on a substrate supporting an electro-optical material,
Applying an overcoat film material on the substrate,
It has a step of irradiating the substrate with ultraviolet rays, and a step of solidifying the overcoat film material applied to the substrate, and the ultraviolet ray irradiation step is a step of applying the overcoat film material to the substrate. It is carried out from the start to the solidification of the overcoat film material.

【0021】上記構成の電気光学パネルの製造方法によ
れば、被塗装材に紫外線を照射することにより、例え
ば、被塗装材に付着している有機物を紫外線とオゾンに
より揮発性の物質に分解して除去することができる。こ
れにより、膜材料の被塗装材に対する濡れ性が高くな
り、膜材料を基板の表面の広い領域に均一に延ばすこと
ができる。なお、オゾンは特別に供給しなくてもよく、
空気中に存在する酸素でもその代替は可能である。
According to the method of manufacturing an electro-optical panel having the above structure, by irradiating the material to be coated with ultraviolet rays, for example, organic substances attached to the material to be coated are decomposed into volatile substances by ultraviolet rays and ozone. Can be removed. As a result, the wettability of the film material with respect to the material to be coated is increased, and the film material can be uniformly spread over a wide area of the surface of the substrate. It should be noted that ozone does not have to be specially supplied,
Oxygen present in the air can be substituted.

【0022】特に、本発明では、膜材料を塗布する前に
紫外線を照射するのではなく、膜材料の被塗布材への塗
布の開始から膜材料の固形化するまでの間に紫外線を照
射するようにしたので、紫外線とオゾンとによる洗浄効
果を最も効果的に享受した状態下で膜材料の塗布を行う
ことになり、それ故、膜材料の濡れ性を最も高めたとこ
ろで塗布を行うことができ、そのため、膜材料を基板の
表面の広い領域に極めて均一に延ばすことができる。
In particular, in the present invention, the ultraviolet rays are not irradiated before the coating of the film material, but the ultraviolet rays are irradiated during the period from the start of the coating of the film material to the coated material to the solidification of the film material. Therefore, the coating of the film material is performed under the condition that the cleaning effect of the ultraviolet rays and ozone is most effectively received, and therefore, the coating can be performed at the highest wettability of the film material. Therefore, the film material can be spread very uniformly over a large area of the surface of the substrate.

【0023】(10)次に、本発明に係る電気光学パネ
ルの製造方法において、前記電気光学パネルはオーバー
コート膜の下に撥インク層を有することができる。一般
に、撥インク層の上にオーバーコート膜を形成する場
合、オーバーコート膜の撥インク層に対する濡れ性は非
常に低い。しかしながら、このような場合に本発明を用
いればオーバーコート膜の濡れ性を高めることができ
る。
(10) Next, in the method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, the electro-optical panel can have an ink repellent layer under the overcoat film. Generally, when an overcoat film is formed on an ink repellent layer, the wettability of the overcoat film with respect to the ink repellent layer is very low. However, the wettability of the overcoat film can be improved by using the present invention in such a case.

【0024】(11)次に、本発明に係る電気光学パネ
ルの製造方法において、前記電気光学物質は液晶とする
ことができ、さらに、前記オーバーコート膜はカラーフ
ィルタが形成された前記基板上に形成することができ
る。この構成は、液晶パネルの製造方法に関するもので
ある。この場合のオーバーコート膜は、カラーフィルタ
が形成された基板の表面の平坦化や、カラーフィルタの
保護等の機能を奏する。 (12)次に、本発明に係る電気光学パネルの製造方法
において、前記オーバーコート膜は、以上に記載した構
成の膜積層体の製造方法であって、被塗布材を基板と
し、膜材料をオーバーコート膜材料とする膜積層体の製
造方法によって形成することができる。
(11) Next, in the method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, the electro-optical material may be liquid crystal, and the overcoat film is formed on the substrate on which a color filter is formed. Can be formed. This configuration relates to a method for manufacturing a liquid crystal panel. In this case, the overcoat film has functions such as flattening the surface of the substrate on which the color filter is formed and protecting the color filter. (12) Next, in the method for manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, the overcoat film is a method for manufacturing a film laminate having the above-described configuration, in which the material to be coated is a substrate and the film material is It can be formed by a method for producing a film laminate which is an overcoat film material.

【0025】(13)次に、本発明に係る液晶パネルの
製造方法は、液晶層を挟持する一対の基板の少なくとも
一方に配向膜を有する液晶パネルの製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方に配向膜材料を塗布す
る工程と、前記一方の基板に紫外線を照射する工程と、
前記一方の基板に塗布された前記配向膜材料を固形化す
る工程とを有し、前記紫外線照射工程は、前記配向膜材
料の前記一方の基板への塗布の開始から前記配向膜材料
の固形化するまでの間に行われることを特徴とする。
(13) Next, a method of manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal panel having an alignment film on at least one of a pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer.
A step of applying an alignment film material to at least one of the pair of substrates, and a step of irradiating the one substrate with ultraviolet rays,
Solidifying the alignment film material applied to the one substrate, the ultraviolet irradiation step, solidification of the alignment film material from the start of application of the alignment film material to the one substrate. It is characterized in that it is performed before.

【0026】上記構成の液晶パネルの製造方法によれ
ば、基板に紫外線を照射することにより、例えば、基板
に付着している有機物を紫外線とオゾンにより揮発性の
物質に分解して除去することができる。これにより、配
向膜材料の基板に対する濡れ性が高くなり、配向膜材料
を基板の表面の広い領域に均一に延ばすことができる。
なお、オゾンは特別に供給しなくてもよく、空気中に存
在する酸素でもその代替は可能である。
According to the method of manufacturing a liquid crystal panel having the above structure, by irradiating the substrate with ultraviolet rays, for example, organic substances adhering to the substrate can be decomposed and removed by the ultraviolet rays and ozone into volatile substances. it can. As a result, the wettability of the alignment film material with respect to the substrate is enhanced, and the alignment film material can be uniformly spread over a wide area on the surface of the substrate.
It should be noted that ozone does not have to be specially supplied, and oxygen existing in the air can be substituted.

【0027】特に、本発明では、配向膜材料を塗布する
前に紫外線を照射するのではなく、配向膜材料の基板へ
の塗布の開始から配向膜材料の固形化するまでの間に紫
外線を照射するようにしたので、紫外線とオゾンとによ
る洗浄効果を最も効果的に享受した状態下で配向膜材料
の塗布を行うことになり、それ故、配向膜材料の濡れ性
を最も高めたところで塗布を行うことができ、そのた
め、配向膜材料を基板の表面の広い領域に極めて均一に
延ばすことができる。
In particular, in the present invention, the ultraviolet ray is not irradiated before coating the alignment film material, but is irradiated with the ultraviolet ray from the start of the coating of the alignment film material on the substrate to the solidification of the alignment film material. Therefore, it is necessary to apply the alignment film material under the condition that the cleaning effect by ultraviolet rays and ozone is most effectively received, and therefore, the application is performed where the wettability of the alignment film material is maximized. It is possible to do so, so that the alignment film material can be spread very uniformly over a large area of the surface of the substrate.

【0028】(14)次に、本発明に係る液晶パネルの
製造方法において、前記配向膜は、以上に記載した構成
の膜積層体の製造方法であって、被塗布材を基板とし、
膜材料を配向膜材料とする膜積層体の製造方法によって
形成えうることができる。
(14) Next, in the method for producing a liquid crystal panel according to the present invention, the alignment film is a method for producing a film laminate having the above-mentioned structure, wherein the material to be coated is a substrate,
It can be formed by a method for producing a film laminate using the film material as an alignment film material.

【0029】(15)次に、本発明に係る電子機器の製
造方法は、電気光学パネルを備えた電子機器の製造方法
であって、前記電気光学パネルは、以上に記載した構成
の電気光学パネルの製造方法によって形成することがで
きる。ここで、電気光学パネルとしては、液晶パネル等
が考えられる。
(15) Next, a method for manufacturing an electronic device according to the present invention is a method for manufacturing an electronic device including an electro-optical panel, wherein the electro-optical panel has the above-described structure. It can be formed by the manufacturing method of. Here, a liquid crystal panel or the like can be considered as the electro-optical panel.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
に係る膜積層体の製造方法の一実施形態を示している。
この製造方法では、図4(a)及び図4(b)に示す膜
積層体1を製造するものとする。この膜積層体1は、例
えばガラスによって形成された被塗布材としての基板2
の表面に、例えばポリイミドによって厚さT=500Å
の膜3を形成することによって形成されている。膜3
は、基板2の上に直接に形成される場合もあるし、ある
いは、基板2の表面に膜3以外の適宜のパターンを形成
した後に形成される場合もある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (First Embodiment) FIG. 1 shows one embodiment of a method for producing a film laminate according to the present invention.
In this manufacturing method, the film laminate 1 shown in FIGS. 4A and 4B is manufactured. The film stack 1 includes a substrate 2 as a material to be coated, which is formed of glass, for example.
On the surface of, for example, polyimide, thickness T = 500Å
It is formed by forming the film 3 of. Membrane 3
May be formed directly on the substrate 2, or may be formed after forming an appropriate pattern other than the film 3 on the surface of the substrate 2.

【0031】なお、このような構成の膜積層体1は、種
々の産業分野において種々の機能を奏するために用いる
ことができる。例えば、液晶パネル等といった電気光学
パネルにおいては、ガラス等によって形成された基板上
にオーバーコート膜や配向膜等といった薄膜が形成され
るが、これらの薄膜を図4(a)及び(b)に示す膜3
によって構成できる。
The film laminate 1 having such a structure can be used to perform various functions in various industrial fields. For example, in an electro-optical panel such as a liquid crystal panel, thin films such as an overcoat film and an alignment film are formed on a substrate made of glass or the like. These thin films are shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). Membrane 3 shown
Can be configured by

【0032】図1において、本実施形態に係る膜積層体
の製造方法は、塗布工程P1、紫外線照射工程P2及び
固形化工程P3を順次に実行することによって行われ
る。塗布工程P1は、例えば図2に示すように、複数の
吐出ノズル4を備えたインクジェットヘッド6を用いて
行われる。
In FIG. 1, the method for manufacturing a film laminate according to this embodiment is performed by sequentially performing a coating process P1, an ultraviolet irradiation process P2, and a solidification process P3. The coating step P1 is performed using an inkjet head 6 having a plurality of ejection nozzles 4 as shown in FIG. 2, for example.

【0033】具体的には、インクジェットヘッド6を矢
印A方向へ主走査移動させると共に矢印B方向へ副走査
移動させることにより、インクジェットヘッド6によっ
て基板2の表面を走査しながら、各吐出ノズル4からイ
ンク、すなわち膜材料としてのポリイミドを所定のタイ
ミングで液滴として吐出することにより、基板2上に膜
材料Mを所定パターンに形成する。インクジェットヘッ
ド6の主走査方向Aの長さが長い場合には、インクジェ
ットヘッド6の主走査を省略することもできる。
Specifically, the ink jet head 6 is moved in the main scanning direction in the direction of arrow A and is moved in the sub scanning direction in the direction of arrow B so that the surface of the substrate 2 is scanned by the ink jet head 6 while the ink is ejected from each ejection nozzle 4. The film material M is formed in a predetermined pattern on the substrate 2 by ejecting ink, that is, polyimide as a film material as droplets at a predetermined timing. When the length of the inkjet head 6 in the main scanning direction A is long, the main scanning of the inkjet head 6 can be omitted.

【0034】所定パターンとして、本実施形態では、ド
ット径D=0.1〜0.5mmの複数のドットをピッチ
P=0.6〜1.2mm程度、厚さT=100〜400
nm程度でマトリクス状に配列するパターンを採用す
る。
As the predetermined pattern, in the present embodiment, a plurality of dots having a dot diameter D = 0.1 to 0.5 mm are provided with a pitch P = 0.6 to 1.2 mm and a thickness T = 100 to 400.
A pattern arranged in a matrix with a size of about nm is adopted.

【0035】インクジェットヘッド6は、膜材料を微小
径の液滴として吐出できる構造であれば、任意の構造に
よって構成できるが、例えば図5に示すように構成でき
る。図5において、インクジェットヘッド6は、例えば
ステンレスによって形成されたノズルプレート7と、そ
れに対向して配置された振動板8と、それらを互いに接
合する複数の仕切部材9とを有する。ノズルプレート7
と振動板8との間には、仕切部材9によって複数のイン
ク室11と液溜り12とが形成される。複数のインク室
11と液溜り12とは通路13を介して互いに連通して
いる。
The ink jet head 6 can have any structure as long as it can discharge the film material in the form of liquid droplets having a minute diameter. For example, the ink jet head 6 can be structured as shown in FIG. In FIG. 5, the inkjet head 6 has a nozzle plate 7 formed of, for example, stainless steel, a diaphragm 8 arranged to face the nozzle plate 7, and a plurality of partition members 9 that join them together. Nozzle plate 7
The partition member 9 forms a plurality of ink chambers 11 and a liquid pool 12 between the diaphragm 8 and the diaphragm 8. The plurality of ink chambers 11 and the liquid pool 12 communicate with each other via a passage 13.

【0036】振動板8の適所にはインク供給穴14が形
成され、このインク供給穴14にインク供給装置16が
接続される。このインク供給装置16は膜材料Mとして
のポリイミド溶液をインク供給穴14へ供給する。供給
された膜材料Mは液溜り12に充満し、さらに通路13
を通ってインク室11に充満する。
An ink supply hole 14 is formed at an appropriate position on the vibration plate 8, and an ink supply device 16 is connected to the ink supply hole 14. The ink supply device 16 supplies the polyimide solution as the film material M to the ink supply hole 14. The supplied membrane material M fills the liquid pool 12, and the passage 13
Through to fill the ink chamber 11.

【0037】ノズルプレート7には、インク室11から
膜材料Mを吐出するためのノズル4が設けられている。
また、振動板8のインク室11を形成する面の裏面に
は、該インク室11に対応させてインク加圧体17が取
り付けられている。このインク加圧体17は、図6に示
すように、圧電素子18と、これを挟持する一対の電極
19a及び19bを有する。
The nozzle plate 7 is provided with nozzles 4 for ejecting the film material M from the ink chamber 11.
An ink pressurizing member 17 is attached to the back surface of the vibrating plate 8 on which the ink chamber 11 is formed so as to correspond to the ink chamber 11. As shown in FIG. 6, the ink pressurizing body 17 has a piezoelectric element 18 and a pair of electrodes 19a and 19b sandwiching the piezoelectric element 18.

【0038】圧電素子18は、電極19a及び電極19
bへの通電によって矢印Cで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室11の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当する膜材料Mが液溜
り12から通路13を通ってインク室11へ流入する。
The piezoelectric element 18 includes an electrode 19a and an electrode 19
By energizing b, the ink is flexed and deformed so as to project to the outside as indicated by the arrow C, whereby the volume of the ink chamber 11 increases. Then, the film material M corresponding to the increased volume flows into the ink chamber 11 from the liquid pool 12 through the passage 13.

【0039】次に、圧電素子18への通電を解除する
と、該圧電素子18と振動板8は共に元の形状へ戻る。
これにより、インク室11も元の容積に戻るためインク
室11の内部にある膜材料Mの圧力が上昇し、ノズル4
から膜材料Mが液滴Qとなって吐出される。なお、ノズ
ル4の周辺部には、液滴Qの飛行曲がりやノズル4の穴
詰まり等を防止するために、例えば、Ni−テトラフル
オロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層21が設
けられる。
When the piezoelectric element 18 is de-energized, both the piezoelectric element 18 and the diaphragm 8 return to their original shape.
As a result, the ink chamber 11 also returns to its original volume, so that the pressure of the film material M inside the ink chamber 11 rises, and the nozzle 4
The film material M is discharged as droplets Q from. An ink repellent layer 21 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided in the peripheral portion of the nozzle 4 in order to prevent flight bending of the droplet Q and clogging of the nozzle 4.

【0040】図1の塗布工程P1が終了して、図2に示
すように基板2の表面に膜材料Mとしてのポリイミド溶
液がドットマトリクス状に形成されると、図1において
紫外線照射工程P2が行われる。具体的には、図3に示
すように、紫外線ランプ22から照射されている紫外線
Rの領域を通過するように基板2が矢印Dのように搬送
される。これにより、例えば照射量12,000mJ/
cmの紫外線が基板2に照射される。
When the coating step P1 of FIG. 1 is completed and the polyimide solution as the film material M is formed in a dot matrix form on the surface of the substrate 2 as shown in FIG. 2, the ultraviolet irradiation step P2 of FIG. Done. Specifically, as shown in FIG. 3, the substrate 2 is transported as indicated by an arrow D so as to pass through the region of the ultraviolet rays R emitted from the ultraviolet lamp 22. As a result, for example, the irradiation dose is 12,000 mJ /
The substrate 2 is irradiated with ultraviolet rays of cm 2 .

【0041】この紫外線の照射により、膜材料Mの基板
2に対する濡れ性が高められ、そのため、膜材料Mを基
板2の表面の広い領域に均一に延ばすことができる。こ
のように膜材料Mの濡れ性が高められるというのは、基
板2に付着している有機物が紫外線とオゾンにより揮発
性の物質に分解して除去されることが1つの理由である
と考えられる。なお、オゾンは特別に供給しなくてもよ
く、空気中に存在する酸素を用いてもよい。
By the irradiation of the ultraviolet rays, the wettability of the film material M with respect to the substrate 2 is enhanced, so that the film material M can be uniformly spread over a wide area of the surface of the substrate 2. It is considered that the reason why the wettability of the film material M is improved is that the organic substances attached to the substrate 2 are decomposed and removed by the ultraviolet rays and ozone into volatile substances. . Note that ozone does not have to be specially supplied, and oxygen existing in the air may be used.

【0042】本実施形態では、膜材料Mを塗布する前に
紫外線を照射するのではなく、図1の塗布工程P1の終
了後に紫外線を基板2へ照射するようにしたので、紫外
線とオゾンとによる洗浄効果を効果的に享受した状態下
で膜材料Mを膜状に延ばすことができ、それ故、膜材料
Mの濡れ性を最も高めたところで膜状の塗布を行うこと
ができ、そのため、膜材料Mを基板2の表面の広い領域
に極めて均一に延ばすことができる。
In this embodiment, the ultraviolet rays are not irradiated before the coating of the film material M, but the ultraviolet rays are irradiated onto the substrate 2 after the coating step P1 of FIG. 1 is completed. The film material M can be stretched into a film under the condition that the cleaning effect is effectively received, and therefore, the film-like coating can be performed where the wettability of the film material M is maximized, and thus the film can be applied. The material M can be spread very uniformly over a large area of the surface of the substrate 2.

【0043】以上のようにして紫外線照射工程P2を受
けることにより、ドットマトリクス状の膜材料Mを基板
2の表面の広い領域へ延ばした後、図1の固形化工程P
3において固形化処理を受ける。具体的には、例えば図
3(b)に示すように、流動化した膜材料Mを有する基
板2をホットプレート23によって加熱され、これによ
り、膜材料Mが固形化されて基板2の表面に固着され
る。以上により、図4(a)及び図4(b)に示すよう
な均一なポリイミドの薄膜3を有する膜積層体1が形成
される。
As described above, by receiving the ultraviolet ray irradiation step P2, the dot matrix film material M is spread over a wide area of the surface of the substrate 2, and then the solidification step P of FIG.
At 3, the solidification process is performed. Specifically, for example, as shown in FIG. 3B, the substrate 2 having the fluidized film material M is heated by the hot plate 23, so that the film material M is solidified and is transferred onto the surface of the substrate 2. It is fixed. As described above, the film laminated body 1 having the uniform polyimide thin film 3 as shown in FIGS. 4A and 4B is formed.

【0044】(変形例)上記実施形態では、図1の塗布
工程P1において、図2に示したように膜材料Mを基板
2上にドットマトリクス状に形成したが、本発明はその
ようなドットマトリクス状の塗布パターンを形成する場
合に限定されるものではなく、膜材料Mを大きな固まり
の状態で基板2上に1個又は数個塗布する場合も含まれ
る。
(Modification) In the above embodiment, the film material M is formed in a dot matrix on the substrate 2 as shown in FIG. 2 in the coating step P1 of FIG. 1, but the present invention is such a dot. The present invention is not limited to the case of forming a matrix-shaped coating pattern, but includes the case of coating one or several film materials M on the substrate 2 in a large lump state.

【0045】また、膜材料Mを塗布する方法は、圧電素
子を用いたインクジェットヘッド方式に限られず、他の
原理に基づくインクジェットヘッド方式を用いることが
できる。また、インクジェットヘッド方式以外の塗布方
法、例えば、比較的大きな液滴又は流体滴を形成するデ
ィスペンサを用いた塗布方法を採用できる。
The method of applying the film material M is not limited to the ink jet head method using the piezoelectric element, and an ink jet head method based on another principle can be used. Further, a coating method other than the inkjet head method, for example, a coating method using a dispenser that forms relatively large droplets or fluid droplets can be used.

【0046】(第2実施形態)図7は、本発明に係る膜
積層体の製造方法の他の実施形態を示している。ここに
示す製造方法が図1に示す製造方法と異なる点は、工程
P1において塗布工程と紫外線照射工程を同時に行い、
それらの工程の終了後に固形化工程P2を行うようにし
たことである。
(Second Embodiment) FIG. 7 shows another embodiment of the method for manufacturing a film laminate according to the present invention. The manufacturing method shown here is different from the manufacturing method shown in FIG. 1 in that in step P1, the coating step and the ultraviolet irradiation step are simultaneously performed.
The solidification step P2 is performed after the completion of those steps.

【0047】本実施形態では、工程P1において、図2
に示した塗布工程と図3に示した紫外線照射工程とが同
時に行われる。ここで同時にというのは、インクジェッ
トヘッド6による塗布が図2(a)の走査方向Bの第1
行目で開始された後、そのインクジェットヘッド6によ
って走査方向Bの最終行目の塗布が終了するまでの間
に、図3による紫外線照射工程が開始されることであ
る。
In this embodiment, in step P1, the process shown in FIG.
The coating process shown in FIG. 3 and the ultraviolet irradiation process shown in FIG. 3 are performed simultaneously. Simultaneously here means that the coating by the inkjet head 6 is the first in the scanning direction B in FIG.
This means that the ultraviolet irradiation step according to FIG. 3 is started by the inkjet head 6 until the application of the last row in the scanning direction B is completed after the start of the row.

【0048】紫外線照射を終了させるタイミングは、イ
ンクジェットヘッド6による副走査方向Bの最終行目の
塗布が終了した直後とすることもできるし、その最終行
目の塗布から適宜の時間経過後とすることもできる。
The ultraviolet irradiation may be ended immediately after the application of the last row in the sub-scanning direction B by the ink jet head 6 is completed, or after an appropriate time has elapsed from the application of the last row. You can also

【0049】(第3実施形態)図8は、本発明に係る膜
積層体の製造方法のさらに他の実施形態を示している。
ここに示す製造方法が図1に示す製造方法と異なる点
は、工程P1において図2に示すような塗布工程を行っ
て、それが終了した後に、図8の工程P2において、固
形化工程と紫外線照射工程とを同時に行うようにしたこ
とである。つまり、この実施形態では、図3(a)に示
すような紫外線の照射を図3(b)に示すように、基板
2をホットプレート23上に置いた状態で行うことがで
きる。
(Third Embodiment) FIG. 8 shows still another embodiment of the method for manufacturing a film laminate according to the present invention.
The manufacturing method shown here is different from the manufacturing method shown in FIG. 1 in that after the application step shown in FIG. 2 is performed in step P1 and the coating step is completed, in step P2 in FIG. That is, the irradiation step is performed at the same time. That is, in this embodiment, the irradiation of ultraviolet rays as shown in FIG. 3A can be performed with the substrate 2 placed on the hot plate 23 as shown in FIG. 3B.

【0050】なお、同時にというのは、図3(a)に示
す紫外線照射と図3(b)に示す加熱処理とが、開始か
ら終了まで全く同じタイミングで行われる場合はもとよ
り、どちらかが先に始まってどちらかが先に終了する場
合をも含むものである。本発明者の実験によれば、本実
施形態のように膜材料Mを固形化させながら同時に紫外
線照射を行ったときに、膜材料Mの濡れ性を非常に効果
的に高めることができることが分かった。
It is to be noted that the term "simultaneous" means not only when the ultraviolet irradiation shown in FIG. 3A and the heat treatment shown in FIG. 3B are performed at exactly the same timing from the start to the end, but whichever comes first. It also includes the case where one of the two starts and ends first. According to the experiments by the present inventor, it is found that the wettability of the film material M can be enhanced very effectively when the film material M is solidified and simultaneously irradiated with ultraviolet rays as in the present embodiment. It was

【0051】(第4実施形態)図9は、本発明に係る電
気光学パネルの製造方法の一実施形態であって、特に電
気光学パネルの一例である液晶パネルの製造方法の一実
施形態を示している。ここに示す液晶パネルの製造方法
は、例えば図10に示す液晶装置31を構成する液晶パ
ネル32を製造するための製造方法である。この液晶パ
ネル32は、単純マトリクス方式でCOG(Chip On Gl
ass)方式の液晶パネルである。
(Fourth Embodiment) FIG. 9 shows an embodiment of a method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, and in particular, an embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal panel which is an example of an electro-optical panel. ing. The liquid crystal panel manufacturing method shown here is a manufacturing method for manufacturing the liquid crystal panel 32 constituting the liquid crystal device 31 shown in FIG. 10, for example. This liquid crystal panel 32 is a COG (Chip On Gl
ass) type liquid crystal panel.

【0052】図9の製造方法を説明するのに先立って、
先ず、図10に示す液晶装置について説明する。図10
において、液晶装置31は、液晶層Lを有するパネル構
造体である液晶パネル32に駆動用IC33を実装し、
さらに液晶パネル32の観察側の反対側にバックライト
としての照明装置34を付設することによって形成され
る。照明装置34は、点状又は線状の光源36と、その
光源36からの光を受け取って液晶パネル32へ向けて
面状の光を出射する導光体37とを有する。
Prior to explaining the manufacturing method of FIG.
First, the liquid crystal device shown in FIG. 10 will be described. Figure 10
In the liquid crystal device 31, the driving IC 33 is mounted on the liquid crystal panel 32 which is a panel structure having the liquid crystal layer L,
Further, it is formed by additionally providing an illumination device 34 as a backlight on the opposite side of the liquid crystal panel 32 from the observation side. The illumination device 34 includes a point-shaped or linear light source 36, and a light guide 37 that receives light from the light source 36 and emits planar light toward the liquid crystal panel 32.

【0053】液晶パネル32は、第1基板38aと第2
基板38bとを矢印E方向から見て環状のシール材39
によって貼り合せ、第1基板38aと第2基板38bと
の間に形成される間隙、いわゆるセルギャップに液晶を
封入して液晶層Lを形成することによって形成されてい
る。
The liquid crystal panel 32 includes a first substrate 38a and a second substrate 38a.
An annular seal material 39 when viewed from the direction of arrow E with the substrate 38b
The liquid crystal layer L is formed by bonding the liquid crystal to each other and enclosing a liquid crystal in a so-called cell gap formed between the first substrate 38a and the second substrate 38b.

【0054】第1基板38aは、矢印E方向から見て方
形状の第1基材41aを有し、その第1基材41aの液
晶側表面(図10の下側表面)にはカラーフィルタ42
が形成され、その上にオーバーコート膜43が形成さ
れ、その上に複数の第1電極44aが形成され、その上
に配向膜46aが形成されている。配向膜46aには配
向処理としてのラビング処理が施される。また、第1基
材41aの観察側表面(図10の上側表面)には、偏光
板47aが例えば貼着によって装着されている。他方、
第2基板38bは、矢印E方向から見て第1基材41a
よりも小さい面積の方形状の第2基材41bを有し、そ
の第2基材41bの液晶側表面(図10の上側表面)に
は半透過反射膜48、及び複数の第2電極44bが形成
され、その上に配向膜46bが形成され、その配向膜4
6bに配向処理としてのラビング処理が施される。ま
た、第2基材41bの外側表面(図10の下側表面)に
は偏光板47bが、例えば貼着によって装着されてい
る。
The first substrate 38a has a rectangular first base material 41a when viewed from the direction of arrow E, and the color filter 42 is provided on the liquid crystal side surface of the first base material 41a (lower surface of FIG. 10).
Are formed, an overcoat film 43 is formed thereon, a plurality of first electrodes 44a are formed thereon, and an alignment film 46a is formed thereon. A rubbing process as an alignment process is performed on the alignment film 46a. A polarizing plate 47a is attached to the observation side surface (upper surface in FIG. 10) of the first base material 41a by, for example, sticking. On the other hand,
The second substrate 38b is the first base material 41a when viewed from the arrow E direction.
It has a rectangular second base material 41b having an area smaller than that of the second base material 41b, and a semi-transmissive reflective film 48 and a plurality of second electrodes 44b are formed on the liquid crystal side surface (upper surface in FIG. 10) of the second base material 41b. And the alignment film 46b is formed on the alignment film 46b.
A rubbing process as an alignment process is performed on 6b. A polarizing plate 47b is attached to the outer surface (lower surface of FIG. 10) of the second base material 41b by, for example, sticking.

【0055】半透過反射膜48は、それに到達した光の
一部を反射し、残りの一部を透過させる機能を有する反
射膜であり、この半透過反射膜48は、例えば、光を通
過させる開口を金属反射膜に部分的に設けたり、金属反
射膜の膜厚を薄くして光を部分的に透過できるようにす
ることによって形成できる。
The semi-transmissive reflective film 48 is a reflective film having a function of reflecting a part of the light reaching it and transmitting the remaining part of the light. The semi-transmissive reflective film 48 allows light to pass therethrough, for example. It can be formed by partially providing an opening in the metal reflection film or by reducing the film thickness of the metal reflection film so that light can be partially transmitted.

【0056】カラーフィルタ42は、ブラックマスクに
よって区画された画素相当部分にR(赤)、G(緑)、
B(青)の3色の色要素を矢印E方向から見て所定の配
列、例えばストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列
等に並べることによって形成されている。ブラックマス
クは、各色色要素の形成性を高めるためにその表面に撥
インク層が形成される場合がある。
The color filter 42 has R (red), G (green), and
It is formed by arranging three color elements of B (blue) in a predetermined array when viewed from the direction of arrow E, for example, a stripe array, a delta array, a mosaic array, or the like. An ink repellent layer may be formed on the surface of the black mask in order to enhance the formability of each color element.

【0057】また、複数の第1電極44aは、矢印E方
向から見て互いに平行に配列されて全体としてストライ
プ状に形成されている。また、複数の第2電極44b
は、第1電極44aに直交する方向へ延びるように矢印
E方向から見て互いに平行に配列されて全体としてスト
ライプ状に形成されている。第1電極44aと第2電極
44bとは複数の交差点を形成し、これらの交差点は矢
印E方向から見てドットマトリクス状に配列する。そし
て、これらの交差点の個々が画素を形成し、それらの画
素の集まりによって表示領域が構成される。
The plurality of first electrodes 44a are arranged in parallel with each other when viewed in the direction of arrow E, and are formed in stripes as a whole. In addition, the plurality of second electrodes 44b
Are arranged in parallel to each other as viewed in the direction of arrow E so as to extend in a direction orthogonal to the first electrode 44a, and are formed in a stripe shape as a whole. The first electrode 44a and the second electrode 44b form a plurality of intersections, and these intersections are arranged in a dot matrix when viewed from the arrow E direction. Then, each of these intersections forms a pixel, and a collection of these pixels constitutes a display area.

【0058】第1基板38aは第2基板38bの外側へ
張り出す部分49を有し、この張出し部49の表面に
は、紙面垂直方向に並べられた複数の外部接続端子51
及び同じく紙面垂直方向に並べられた複数の配線52が
形成されている。外部接続端子51は駆動用IC33と
外部回路(図示せず)との間の導通をとるための端子で
ある。また、複数の配線52の一部は第1電極44aに
直接につながり、残りの一部はシール材39の内部に混
入した導通材53によって対向側の第2電極44bに導
通している。これにより、一方の基板である第1基板3
8a上に実装した駆動用IC33によって他方の基板で
ある第2基板38bに形成した第2電極44bを駆動で
きるようにしている。
The first substrate 38a has a portion 49 projecting to the outside of the second substrate 38b, and the surface of the projecting portion 49 has a plurality of external connection terminals 51 arranged in the direction perpendicular to the paper surface.
Also, a plurality of wirings 52 arranged in a direction perpendicular to the plane of the drawing are formed. The external connection terminal 51 is a terminal for establishing electrical connection between the driving IC 33 and an external circuit (not shown). Further, a part of the plurality of wirings 52 is directly connected to the first electrode 44a, and the remaining part is electrically connected to the second electrode 44b on the opposite side by the conductive material 53 mixed in the sealing material 39. As a result, the first substrate 3 which is one of the substrates
The driving IC 33 mounted on 8a can drive the second electrode 44b formed on the second substrate 38b which is the other substrate.

【0059】駆動用IC33はその能動面に端子、すな
わちバンプ54を有する。この駆動用IC33はACF
(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)56
によって張出し部49の表面の所定位置に実装される。
ACF56は熱可塑性又は熱硬化性の樹脂57に導電粒
子58を混入させることによって形成され、駆動用IC
33のバンプ54と外部接続端子51、そして駆動用I
C33のバンプ54と配線52とのそれぞれの組み合わ
せが導電粒子58によって導電接続されている。
The driving IC 33 has terminals, that is, bumps 54, on its active surface. This drive IC 33 is an ACF
(Anisotropic Conductive Film) 56
Is mounted at a predetermined position on the surface of the overhang portion 49.
The ACF 56 is formed by mixing conductive particles 58 into a thermoplastic or thermosetting resin 57, and is used as a driving IC.
33 bumps 54, external connection terminals 51, and driving I
Each combination of the bump 54 of C33 and the wiring 52 is conductively connected by the conductive particles 58.

【0060】なお、第1基材41a及び第2基材41b
は、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成され
る。また、オーバーコート膜43は、例えば、アクリル
系樹脂によって形成され、カラーフィルタ42の平坦化
やカラーフィルタ42の保護を行う。第1電極44a、
第2電極44b、配線52及び外部接続端子51は、I
TOを材料としてフォトリソグラフィ法によって所定の
パターンに形成される。また、配向膜46a及び46b
は、例えばポリイミドによって形成される。
The first base material 41a and the second base material 41b.
Is formed of, for example, glass, plastic, or the like. The overcoat film 43 is formed of, for example, an acrylic resin, and flattens the color filter 42 and protects the color filter 42. The first electrode 44a,
The second electrode 44b, the wiring 52 and the external connection terminal 51 are I
It is formed into a predetermined pattern by photolithography using TO as a material. In addition, the alignment films 46a and 46b
Is formed of, for example, polyimide.

【0061】本実施形態に係る液晶装置31は以上のよ
うに構成されているので、この液晶装置31は反射型表
示及び透過型表示の2種類の表示形態を選択できる。太
陽光や室内光等といった外部光が十分な光量である場合
には、その外部光が第1基板38aを通して液晶パネル
32の内部へ取り込まれ、取り込まれた光は液晶層L及
び第2基板38bを通過して半透過反射膜48へ到達
し、その半透過反射膜48で反射して再び液晶層Lへ供
給される。
Since the liquid crystal device 31 according to the present embodiment is configured as described above, the liquid crystal device 31 can select two types of display forms, that is, a reflective display and a transmissive display. When the amount of external light such as sunlight or room light is sufficient, the external light is taken into the liquid crystal panel 32 through the first substrate 38a, and the taken-in light is the liquid crystal layer L and the second substrate 38b. To reach the semi-transmissive reflective film 48, is reflected by the semi-transmissive reflective film 48, and is supplied to the liquid crystal layer L again.

【0062】一方、太陽光等といった外部光が不十分な
場合には、照明装置34の光源36を点灯する。このと
き、光源36に発生した光は導光体37に受け取られ、
さらに導光体37の液晶パネル32に対向する面から面
状の光として出射する。この光は、半透過反射板48を
通過して、さらに、第2基板38bを通過して液晶層L
へ供給される。
On the other hand, when the external light such as sunlight is insufficient, the light source 36 of the illumination device 34 is turned on. At this time, the light generated by the light source 36 is received by the light guide 37,
Further, it is emitted as planar light from the surface of the light guide 37 facing the liquid crystal panel 32. This light passes through the semi-transmissive reflection plate 48, and further passes through the second substrate 38b to pass through the liquid crystal layer L.
Is supplied to.

【0063】以上のようにして液晶層Lへ光が供給され
たとき、第1電極44a及び第2電極44bの一方には
駆動用IC33によって走査信号又はデータ信号の一方
が供給され、さらに、第1電極44a及び第2電極44
bの他方には、駆動用IC33によって走査信号又はデ
ータ信号の他方が供給される。こうして、液晶層Lを構
成する液晶に印加される電圧を画素毎に制御することに
より、液晶層Lへ供給された上記の光を画素ごとに変調
し、この変調された光を偏光板47aによって選択的に
通過させることにより、第1基板38aの外側に文字、
数字、図形等といった像を表示する。
When light is supplied to the liquid crystal layer L as described above, one of the first electrode 44a and the second electrode 44b is supplied with either the scanning signal or the data signal by the driving IC 33, and further, One electrode 44a and second electrode 44
The other of b and the scanning signal or the data signal is supplied to the other of b by the driving IC 33. Thus, by controlling the voltage applied to the liquid crystal forming the liquid crystal layer L for each pixel, the above-mentioned light supplied to the liquid crystal layer L is modulated for each pixel, and the modulated light is polarized by the polarizing plate 47a. By selectively passing the letters, the characters are formed on the outside of the first substrate 38a,
Display images such as numbers and figures.

【0064】以上に説明した液晶パネル32及び液晶装
置31は、図9に示す工程を経て製造される。図9の工
程P1から工程P5に至る一連の工程が図10の第1基
板38aを形成する工程であり、図9の工程P11から
工程P14に至る一連の工程が図10の第2基板38b
を形成する工程である。なお、工程P1から工程P5の
第1基板形成工程及び工程P11から工程P14の第2
基板形成工程では、いずれも、図10に示す第1基板3
8a及び第2基板38bを1個ずつ形成するのではなく
て、それらの基板を1つの大面積の、いわゆる大判の基
材に複数個、同時に形成するものとする。
The liquid crystal panel 32 and the liquid crystal device 31 described above are manufactured through the steps shown in FIG. The series of steps from step P1 to step P5 in FIG. 9 is the step of forming the first substrate 38a in FIG. 10, and the series of steps from step P11 to step P14 in FIG. 9 is the second substrate 38b in FIG.
Is a step of forming. It should be noted that the first substrate forming process of steps P1 to P5 and the second substrate forming process of steps P11 to P14 are performed.
In the substrate forming process, the first substrate 3 shown in FIG.
It is assumed that the plurality of substrates 8a and the second substrate 38b are not simultaneously formed one by one, but a plurality of these substrates are simultaneously formed on one large-area, so-called large-sized substrate.

【0065】図9の工程P1において、大判の基材の表
面に液晶パネル32の第1基板38aの複数個分のカラ
ーフィルタ42を形成する。次に、工程P2において、
オーバーコート膜43を形成する。このオーバーコート
膜43の形成は、図1、図7又は図8に示した膜積層体
の製造方法を用いて行われる。これらの方法によれば、
オーバーコート膜43の基材に対する濡れ性を高めるこ
とができるので、均一な厚さのオーバーコート膜43を
確実に形成できる。カラーフィルタ42の各色要素の回
りに形成されるブラックマスクの表面に撥インク層が形
成される場合でも、図1、図7又は図8に示した膜積層
体の製造方法を用いれば、オーバーコート膜43の濡れ
性を高く維持することができる。
In step P1 of FIG. 9, color filters 42 for a plurality of first substrates 38a of the liquid crystal panel 32 are formed on the surface of a large-sized substrate. Next, in the process P2,
The overcoat film 43 is formed. The formation of the overcoat film 43 is performed using the method for manufacturing the film laminate shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. According to these methods,
Since the wettability of the overcoat film 43 with respect to the base material can be enhanced, the overcoat film 43 having a uniform thickness can be reliably formed. Even when the ink repellent layer is formed on the surface of the black mask formed around each color element of the color filter 42, the overcoat can be formed by using the method for manufacturing the film laminate shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. The wettability of the film 43 can be maintained high.

【0066】次に、図9の工程P3において、第1電極
44aをITOによって形成し、さらに、工程P4にお
いて、配向膜46aを形成する。この配向膜46aの形
成は、図1、図7又は図8に示した膜積層体の製造方法
を用いて行われる。これらの方法によれば、配向膜46
aの基材に対する濡れ性を高めることができるので、均
一な厚さの配向膜46aを確実に形成できる。
Next, in step P3 of FIG. 9, the first electrode 44a is formed of ITO, and in step P4, the alignment film 46a is formed. The formation of the alignment film 46a is performed using the method for manufacturing the film stack shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. According to these methods, the alignment film 46
Since the wettability of a with respect to the base material can be enhanced, the alignment film 46a having a uniform thickness can be reliably formed.

【0067】次に、工程P5において、液晶分子の配向
を決めるために配向膜46aにラビング処理を施す。こ
れにより、図10の第1基板38aの複数個分のパター
ンが形成された大判の第1基板が形成される。
Next, in step P5, the alignment film 46a is rubbed to determine the alignment of the liquid crystal molecules. As a result, a large-sized first substrate on which a plurality of patterns of the first substrate 38a of FIG. 10 are formed is formed.

【0068】一方、工程P11において、大判の基材の
表面に液晶パネル32の第2基板38bに、半透過反射
膜48を形成し、さらにその上に第2電極44bをIT
Oによって形成する。次に、工程P12において、配向
膜46bを形成する。この配向膜46bの形成は、図
1、図7又は図8に示した膜積層体の製造方法を用いて
行われる。これらの方法によれば、配向膜46bの基材
に対する濡れ性を高めることができるので、均一な厚さ
の配向膜46bを確実に形成できる。
On the other hand, in step P11, the semi-transmissive reflective film 48 is formed on the second substrate 38b of the liquid crystal panel 32 on the surface of the large-sized base material, and the second electrode 44b is further formed thereon by the IT.
Formed by O. Next, in Step P12, the alignment film 46b is formed. The formation of the alignment film 46b is performed using the method for manufacturing the film laminate shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. According to these methods, the wettability of the alignment film 46b with respect to the base material can be enhanced, so that the alignment film 46b having a uniform thickness can be reliably formed.

【0069】次に、工程P13において、液晶分子の配
向を決めるために配向膜46bにラビング処理を施す。
さらに、例えばエポキシ系樹脂によってシール材39を
例えばシール印刷によって形成する。これにより、図1
0の第2基板38bの複数個分のパターンが形成された
大判の第2基板が形成される。
Next, in step P13, the alignment film 46b is subjected to a rubbing treatment in order to determine the alignment of the liquid crystal molecules.
Further, the sealing material 39 is formed of, for example, an epoxy resin by, for example, seal printing. As a result,
A large-sized second substrate on which patterns corresponding to a plurality of zero second substrates 38b are formed is formed.

【0070】以上により、大判の第1基板及び大判の第
2基板が形成された後、工程P21において、それらの
大判の基板をシール材39を間に挟んで互いに貼り合わ
せて、大判のパネル構造体を形成し、さらに工程P22
において、第1回目の切断、すなわち1次ブレイクを行
う。この1次ブレイクにより、シール材の一部分に設け
た液晶注入用開口が外部に露出する状態の、複数の液晶
パネル部分が1列に並んだ状態の、いわゆる短冊状のパ
ネル構造体が形成される。
After the large-sized first substrate and the large-sized second substrate are formed as described above, in the process P21, these large-sized substrates are attached to each other with the sealing material 39 sandwiched therebetween to form a large-sized panel structure. Form body, and then process P22
In, the first cutting, that is, the primary break is performed. By this primary break, a so-called strip-shaped panel structure is formed in which a plurality of liquid crystal panel portions are arranged in a line in which a liquid crystal injection opening provided in a part of the sealing material is exposed to the outside. .

【0071】次に、工程P23において、短冊状のパネ
ル構造体の液晶注入用開口から各液晶パネル部分へ液晶
を注入し、その後、その開口を樹脂等によって封止し
て、各液晶パネル部分の内部に液晶を封入する。次に、
工程P24において、第2回目の切断、すなわち2次ブ
レイクを行うことにより、図10に示す個々の液晶パネ
ル32が切り出される。
Next, in step P23, liquid crystal is injected into each liquid crystal panel portion from the liquid crystal injection opening of the strip-shaped panel structure, and then the opening is sealed with resin or the like to remove each liquid crystal panel portion. Liquid crystal is enclosed inside. next,
In Step P24, the second liquid crystal panel 32 shown in FIG. 10 is cut out by performing the second cutting, that is, the secondary break.

【0072】その後、工程P25において液晶パネル3
2の洗浄を行って外部に付着した不要な液晶等を除去
し、次に、工程P26において、第1基材41aの外側
表面に偏光板47aを貼着し、さらに第2基板41bの
外側表面に偏光板47bを貼着する。
Thereafter, in step P25, the liquid crystal panel 3
The unnecessary liquid crystal and the like adhering to the outside is removed by washing No. 2, then in step P26, the polarizing plate 47a is attached to the outer surface of the first base material 41a, and the outer surface of the second substrate 41b is further attached. Then, the polarizing plate 47b is attached.

【0073】さらに、工程P27において、第1基板3
8aの張出し部49に駆動用IC33をACF56によ
って実装し、さらに、第2基板38bの外側に照明装置
34を付設し、これにより、図10の液晶装置31が完
成する。
Further, in the process P27, the first substrate 3
The driving IC 33 is mounted on the overhanging portion 49 of 8a by the ACF 56, and the illumination device 34 is attached to the outside of the second substrate 38b, whereby the liquid crystal device 31 of FIG. 10 is completed.

【0074】以上の液晶パネルの製造方法、すなわち電
気光学パネルの製造方法において、工程P2のオーバー
コート膜の形成工程、工程P4の配向膜の形成工程及び
P12の配向膜の形成工程の各工程は、図1、図7又は
図8に示した膜積層体の製造方法を用いて行うようにし
たので、オーバーコート膜や配向膜のための膜材料の濡
れ性を最も高めたところで塗布を行うことができ、その
ため、オーバーコート膜や配向膜を基板の表面の広い領
域に極めて均一に形成することができる。
In the above-described liquid crystal panel manufacturing method, that is, in the electro-optical panel manufacturing method, each step of the overcoat film forming step of step P2, the alignment film forming step of step P4, and the alignment film forming step of P12 is performed. Since the method for producing the film laminate shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. 8 is used, the application should be performed at the highest wettability of the film material for the overcoat film or alignment film. Therefore, the overcoat film and the alignment film can be formed extremely uniformly over a wide area of the surface of the substrate.

【0075】(第5実施形態)図11は、本発明に係る
電子機器の製造方法の一例である携帯電話機の製造方法
によって製造される携帯電話機を示している。ここに示
す携帯電話機90は、アンテナ91、スピーカ92、液
晶装置100、キースイッチ93、マイクロホン94等
といった各種構成要素を、筐体としての外装ケース96
に格納することによって構成される。また、外装ケース
96の内部には、上記の各構成要素の動作を制御するた
めの制御回路を搭載した制御回路基板97が設けられ
る。液晶装置100は、例えば図10に示した液晶装置
31によって構成される。
(Fifth Embodiment) FIG. 11 shows a mobile phone manufactured by a method of manufacturing a mobile phone which is an example of a method of manufacturing an electronic device according to the present invention. The mobile phone 90 shown here has an exterior case 96 as a housing, which includes various components such as an antenna 91, a speaker 92, a liquid crystal device 100, a key switch 93, and a microphone 94.
It is configured by storing in. Further, inside the outer case 96, a control circuit board 97 having a control circuit for controlling the operation of each of the above-described components is provided. The liquid crystal device 100 is composed of, for example, the liquid crystal device 31 shown in FIG.

【0076】この携帯電話機90では、キースイッチ9
3及びマイクロホン94を通して入力される信号や、ア
ンテナ91によって受信した受信データ等が制御回路基
板97上の制御回路へ入力される。そしてその制御回路
は、入力された各種データに基づいて液晶装置1の表示
面内に数字、文字、絵柄等の画像を表示し、さらにアン
テナ91を介して送信データを送信する。
In this mobile phone 90, the key switch 9
A signal input through the microphone 3 and the microphone 94, received data received by the antenna 91, and the like are input to the control circuit on the control circuit board 97. Then, the control circuit displays images such as numbers, characters, and patterns on the display surface of the liquid crystal device 1 based on various input data, and further transmits transmission data via the antenna 91.

【0077】ここに示した携帯電話機90は、液晶装置
100を図9に示した液晶パネルの製造方法を用いて製
造し、その液晶装置100を外装ケース96の内部に組
み込み、さらに、その液晶装置100に回路基板97を
ケーブルを介して電気的に接続することによって製造さ
れる。液晶装置100に関しては、その中に含まれるオ
ーバーコート膜、配向膜等といった膜が図1、図7及び
図8に示した膜積層体の製造方法を用いて形成されてお
り、従って、それらの膜は均一な厚さに形成されてい
る。このため、液晶装置100には安定して高品質な表
示が得られる。
In the mobile phone 90 shown here, the liquid crystal device 100 is manufactured by using the method for manufacturing a liquid crystal panel shown in FIG. 9, the liquid crystal device 100 is incorporated into an outer case 96, and the liquid crystal device is further manufactured. It is manufactured by electrically connecting the circuit board 97 to 100 via a cable. Regarding the liquid crystal device 100, films such as an overcoat film and an alignment film contained therein are formed by using the method for manufacturing the film laminate shown in FIGS. 1, 7 and 8, and accordingly, those films are not formed. The film is formed to have a uniform thickness. Therefore, the liquid crystal device 100 can stably display high quality images.

【0078】(第6実施形態)光学ガラスの表面には乱
反射を防止するために、屈折率が徐々に空気の屈折率に
近付くように小さくなる複数の層が積層されて、いわゆ
るアンチグレア層が形成されることがある。このような
アンチグレア層を構成する複数の屈折率層は、例えば図
1、図7又は図8に示した本発明に係る膜積層体の製造
方法を必要な屈折率層の数分だけ繰り返すことによって
形成することができる。
(Sixth Embodiment) In order to prevent diffused reflection on the surface of optical glass, a plurality of layers having a refractive index gradually decreasing to approach the refractive index of air are laminated to form a so-called anti-glare layer. It may be done. A plurality of refractive index layers constituting such an anti-glare layer can be obtained by repeating the method for manufacturing a film laminate according to the present invention shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG. 8 by the number of required refractive index layers. Can be formed.

【0079】(第7実施形態)一般に、電子産業の分野
では、配線パターンや回路を搭載する配線基板が広く用
いられている。この配線基板に関しては、はんだ付けを
する部分やコンタクト部分を除いて、その表面上を柔軟
な樹脂フィルムであるカバーレイによって絶縁被覆する
ことが要求される。そして、この場合、カバーレイは基
板上に均一な厚さに形成されることが要求されている。
このようなカバーレイは、例えば図1、図7又は図8に
示した本発明に係る膜積層体の製造方法を用いて形成す
ることができる。
(Seventh Embodiment) Generally, in the field of electronic industry, a wiring board on which a wiring pattern or a circuit is mounted is widely used. Regarding this wiring board, it is required to insulate the surface of the wiring board with a coverlay which is a flexible resin film except for the soldering portion and the contact portion. In this case, the coverlay is required to be formed on the substrate to have a uniform thickness.
Such a coverlay can be formed by using, for example, the method for manufacturing a film laminate according to the present invention shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG.

【0080】(第8実施形態)視力矯正等のために用い
られるメガネにおいては、主体となるガラスやプラスチ
ックの表面に保護用のオーバーコート膜を形成すること
が要求される。このオーバーコート膜は基板上に均一な
厚さに形成されることが要求されている。このようなオ
ーバーコート膜は、例えば図1、図7又は図8に示した
本発明に係る膜積層体の製造方法を用いて形成すること
ができる。
(Eighth Embodiment) In glasses used for vision correction or the like, it is required to form a protective overcoat film on the surface of glass or plastic as a main component. This overcoat film is required to be formed on the substrate to have a uniform thickness. Such an overcoat film can be formed by using, for example, the method for manufacturing a film laminate according to the present invention shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG.

【0081】(第9実施形態)自動車の窓ガラスの表面
には保護用のオーバーコート膜を形成することが要求さ
れる。このオーバーコート膜は基板上に均一な厚さに形
成されることが要求されている。このようなオーバーコ
ート膜は、例えば図1、図7又は図8に示した本発明に
係る膜積層体の製造方法を用いて形成することができ
る。
(Ninth Embodiment) It is required to form a protective overcoat film on the surface of an automobile window glass. This overcoat film is required to be formed on the substrate to have a uniform thickness. Such an overcoat film can be formed by using, for example, the method for manufacturing a film laminate according to the present invention shown in FIG. 1, FIG. 7 or FIG.

【0082】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described above with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications are possible within the scope of the invention described in the claims. Can be modified to

【0083】例えば、図2に示す実施形態ではインクジ
ェット方式を用いて膜材料の塗布を行ったが、インクジ
ェット方式に代えて、ディスペンサを用いた塗布方法を
用いて図2に示すようなドットマトリクスパターンを形
成することもできる。なお、ディスペンサを用いた塗布
方法とは、変形可能な容器の中に膜材料を入れ、その容
器を機械的又は物理的に変形させることにより、インク
ジェット方式の場合よりは体積の大きい液滴を被塗布材
上に供給する方法である。
For example, in the embodiment shown in FIG. 2, the film material is applied by using the ink jet method. However, instead of the ink jet method, a coating method using a dispenser is used and the dot matrix pattern as shown in FIG. Can also be formed. The application method using a dispenser is that a film material is put in a deformable container and the container is mechanically or physically deformed to cover a droplet having a larger volume than that of the inkjet method. This is a method of supplying it onto the coating material.

【0084】また、膜材料の被塗布材への塗布の形態
は、図2に示したようなドットマトリクス状の配列パタ
ーンに限られず、フレキソ印刷によって印刷された自然
な印刷状態であっても良い。
Further, the form of applying the film material to the coated material is not limited to the dot matrix array pattern as shown in FIG. 2, and may be a natural printing state printed by flexographic printing. .

【0085】図9に示した液晶装置の製造方法は単なる
一例であり、液晶装置を構成する光学要素が図10に示
し構成から変化する場合には、それに合せて図9に示す
工程も変化する。
The manufacturing method of the liquid crystal device shown in FIG. 9 is merely an example, and when the optical elements constituting the liquid crystal device are changed from the structure shown in FIG. 10, the steps shown in FIG. 9 are changed accordingly. .

【0086】また、図10では、スイッチング素子を用
いない構造の単純マトリクス方式の液晶パネルを電気光
学パネルの一実施形態として例示したが、これに代え
て、2端子型の能動素子であるTFD(Thin Film Diod
e)素子をスイッチング素子として用いるアクティブマト
リクス方式の液晶パネルや、3端子型の能動素子である
TFT(Thin Film Transistor)素子をスイッチング素
子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネル
等に対しても本発明を適用できる。
Further, in FIG. 10, a simple matrix type liquid crystal panel having a structure not using a switching element is illustrated as one embodiment of the electro-optical panel, but instead of this, a TFD (two-terminal type active element) is used. Thin Film Diod
e) The present invention is also applicable to an active matrix type liquid crystal panel using an element as a switching element, an active matrix type liquid crystal panel using a three-terminal active element TFT (Thin Film Transistor) element as a switching element, and the like. Applicable.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明によれば、基板等といった被塗装
材に紫外線を照射することにより、膜材料の被塗装材に
対する濡れ性を高めることができ、それ故、膜材料を基
板等の表面の広い領域に均一に延ばすことができる。特
に、本発明では、膜材料を塗布する前に紫外線を照射す
るのではなく、膜材料の被塗布材への塗布の開始から膜
材料の固形化するまでの間に紫外線を照射するようにし
たので、紫外線とオゾンとによる洗浄効果を最も効果的
に享受した状態下で膜材料の塗布を行うことができ、そ
れ故、膜材料の濡れ性を最も高めたところで塗布を行う
ことができ、そのため、膜材料を基板の表面の広い領域
に極めて均一に延ばすことができる。
According to the present invention, the wettability of the film material with respect to the material to be coated can be enhanced by irradiating the material to be coated such as the substrate with ultraviolet rays. Can be uniformly spread over a wide area. Particularly, in the present invention, instead of irradiating the ultraviolet ray before applying the film material, the ultraviolet ray is irradiated between the start of the application of the film material to the coating material and the solidification of the film material. Therefore, the coating of the film material can be performed under the condition that the cleaning effect by the ultraviolet rays and ozone is most effectively received, and therefore, the coating can be performed at the place where the wettability of the film material is most enhanced. The film material can be spread very uniformly over a large area on the surface of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る膜積層体の製造方法の一実施形態
を示す工程図である。
FIG. 1 is a process drawing showing an embodiment of a method for manufacturing a film laminate according to the present invention.

【図2】図1に示す製造方法の主要工程である塗布工程
を示す図であり、(b)は(a)のB−B線に従った断
面図である。
FIG. 2 is a diagram showing a coating step which is a main step of the manufacturing method shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a sectional view taken along the line BB of FIG.

【図3】図1に示す製造方法の主要工程を示す図であ
り、(a)は紫外線照射工程を示し、(b)は固形化工
程を示している。
3A and 3B are diagrams showing main steps of the manufacturing method shown in FIG. 1, in which FIG. 3A shows an ultraviolet irradiation step and FIG. 3B shows a solidification step.

【図4】図1に示す製造方法を用いて製造される膜積層
体の一例を示し、(a)はその平面図を示し、(b)は
(a)のB−B線に従った断面図を示している。
4A and 4B show an example of a film laminated body manufactured by using the manufacturing method shown in FIG. 1, FIG. 4A is a plan view thereof, and FIG. 4B is a cross section taken along line BB of FIG. 4A. The figure is shown.

【図5】図1の製造方法の塗布工程で用いるインクジェ
ットヘッドの一例を示す斜視図である。
5 is a perspective view showing an example of an inkjet head used in a coating step of the manufacturing method of FIG.

【図6】図5のVI−VI線に従ってインクジェットヘ
ッドの断面構造を示す図である。
6 is a diagram showing a cross-sectional structure of the inkjet head according to the line VI-VI of FIG.

【図7】本発明に係る膜積層体の製造方法の他の実施形
態を示す工程図である。
FIG. 7 is a process drawing showing another embodiment of the method for manufacturing a film laminate according to the present invention.

【図8】本発明に係る膜積層体の製造方法のさらに他の
実施形態を示す工程図である。
FIG. 8 is a process drawing showing still another embodiment of the method for manufacturing a film laminate according to the present invention.

【図9】本発明に係る液晶パネルの製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 9 is a process chart showing an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention.

【図10】図9の製造方法を用いて製造される液晶パネ
ルを含む液晶装置を示す断面図である。
10 is a cross-sectional view showing a liquid crystal device including a liquid crystal panel manufactured using the manufacturing method of FIG.

【図11】本発明に係る電子機器の製造方法によって製
造される電子機器の一例である携帯電話機を示す斜視図
である。
FIG. 11 is a perspective view showing a mobile phone which is an example of an electronic device manufactured by the method for manufacturing an electronic device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 膜積層体 2 基板(被塗布材) 3 膜 4 吐出ノズル 6 インクジェットヘッド 22 紫外線ランプ 23 ホットプレート 31 液晶装置 32 液晶パネル(電気光学パネル) 43 オーバーコート膜 46a,46b 配向膜 L 液晶層 M 膜材料 R 紫外線 1 membrane stack 2 Substrate (coated material) 3 membranes 4 discharge nozzles 6 inkjet head 22 UV lamp 23 hot plate 31 Liquid crystal device 32 Liquid crystal panel (electro-optical panel) 43 Overcoat film 46a, 46b Alignment film L liquid crystal layer M film material R UV

フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 HB08Y HC05 HC06 HC15 HC16 HD08 HD14 JA07 JB02 JB03 JC07 LA04 LA09 LA15 LA16 LA20 MB01 4D075 AC07 AE03 BB42Z BB94Z CA48 CB01 DA06 DB13 DB31 DC24 EA07 EA21 EA33 EA45 EB39 EB56 4F100 AG00A AK01A AK01B AT00A BA02 BA10A BA10B CC00B DC21B EH462 EJ082 EJ542 GB41 JL02 Continued front page    F-term (reference) 2H090 HB08Y HC05 HC06 HC15                       HC16 HD08 HD14 JA07 JB02                       JB03 JC07 LA04 LA09 LA15                       LA16 LA20 MB01                 4D075 AC07 AE03 BB42Z BB94Z                       CA48 CB01 DA06 DB13 DB31                       DC24 EA07 EA21 EA33 EA45                       EB39 EB56                 4F100 AG00A AK01A AK01B AT00A                       BA02 BA10A BA10B CC00B                       DC21B EH462 EJ082 EJ542                       GB41 JL02

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被塗布材の上に膜を形成して成る膜積層
体の製造方法において、 前記被塗布材に膜材料を塗布する工程と、 前記被塗布材に紫外線を照射する工程と、 前記被塗布材に塗布された前記膜材料を固形化する工程
とを有し、 前記紫外線照射工程は、前記膜材料の前記被塗布材への
塗布の開始から前記膜材料の固形化するまでの間に行わ
れることを特徴とする膜積層体の製造方法。
1. A method for manufacturing a film laminate, which comprises forming a film on a material to be coated, applying a film material to the material to be coated, and irradiating the material to be coated with ultraviolet rays. And a step of solidifying the film material applied to the coating material, the ultraviolet irradiation step, from the start of coating of the coating material of the film material to the solidification of the film material A method for producing a film laminate, which is carried out in between.
【請求項2】 請求項1において、前記被塗布材はガラ
ス又はプラスチックによって形成された基板であること
を特徴とする膜積層体の製造方法。
2. The method for manufacturing a film laminate according to claim 1, wherein the material to be coated is a substrate formed of glass or plastic.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記膜
材料は流動性材料であることを特徴とする膜積層体の製
造方法。
3. The method for manufacturing a film laminate according to claim 1, wherein the film material is a fluid material.
【請求項4】 請求項1から請求項3の少なくともいず
れか1つにおいて、前記膜材料は紫外線が照射されても
固まらない材料であることを特徴とする膜積層体の製造
方法。
4. The method for manufacturing a film laminate according to claim 1, wherein the film material is a material that does not harden even when irradiated with ultraviolet rays.
【請求項5】 請求項1から請求項4の少なくともいず
れか1つにおいて、前記膜材料の塗布工程では、前記膜
材料が前記被塗布材の上に複数のドットとして塗布され
ることを特徴とする膜積層体の製造方法。
5. The coating material coating method according to claim 1, wherein in the coating step of coating the film material, the film material is coated as a plurality of dots on the material to be coated. Method for producing a film laminate.
【請求項6】 請求項1から請求項5の少なくともいず
れか1つにおいて、前記膜材料の塗布工程では、前記膜
材料はインクジェット方式で前記被塗布材に塗布される
ことを特徴とする膜積層体の製造方法。
6. The film stack according to claim 1, wherein, in the step of applying the film material, the film material is applied to the material to be applied by an inkjet method. Body manufacturing method.
【請求項7】 請求項1から請求項6の少なくともいず
れか1つにおいて、前記紫外線照射工程は、前記膜材料
を固形化する工程が行われている間に同時に行われるこ
とを特徴とする膜積層体の製造方法。
7. The film according to claim 1, wherein the step of irradiating the ultraviolet rays is performed simultaneously while the step of solidifying the film material is performed. Method for manufacturing laminated body.
【請求項8】 請求項1から請求項7の少なくともいず
れか1つにおいて、前記紫外線照射工程では、前記被塗
布材に紫外線を500mJ/cm以上100,000
mJ/cm以下の照射量で照射することを特徴とする
膜積層体の製造方法。
8. At least one of claims 1 to 7, wherein in the step of irradiating ultraviolet rays, the material to be coated is exposed to ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 or more and 100,000 or more.
Irradiating with a dose of mJ / cm 2 or less, a method for producing a film laminate.
【請求項9】 電気光学物質を支持する基板にオーバー
コート膜を有する電気光学パネルの製造方法において、 前記基板上にオーバーコート膜材料を塗布する工程と、 前記基板上に紫外線を照射する工程と、 前記基板に塗布された前記オーバーコート膜材料を固形
化する工程とを有し、 前記紫外線照射工程は、前記オーバーコート膜材料の前
記基板への塗布の開始から前記オーバーコート膜材料の
固形化するまでの間に行われることを特徴とする電気光
学パネルの製造方法。
9. A method of manufacturing an electro-optical panel having an overcoat film on a substrate supporting an electro-optical material, the step of applying an overcoat film material on the substrate, and the step of irradiating the substrate with ultraviolet rays. Solidifying the overcoat film material applied to the substrate, wherein the ultraviolet irradiation step comprises solidifying the overcoat film material from the start of application of the overcoat film material to the substrate. A method for manufacturing an electro-optical panel, characterized in that the method is carried out before.
【請求項10】 請求項9において、前記電気光学パネ
ルはオーバーコート膜の下に撥インク層を有することを
特徴とする電気光学パネルの製造方法。
10. The method for manufacturing an electro-optical panel according to claim 9, wherein the electro-optical panel has an ink repellent layer under the overcoat film.
【請求項11】 請求項9又は請求項10において、前
記電気光学物質は液晶であり、さらに、前記オーバーコ
ート膜はカラーフィルタが形成された前記基板上に形成
されることを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
11. The electro-optical device according to claim 9 or 10, wherein the electro-optical material is liquid crystal, and the overcoat film is formed on the substrate having a color filter formed thereon. Panel manufacturing method.
【請求項12】 請求項9から請求項11の少なくとも
1つにおいて、前記オーバーコート膜は、請求項2から
請求項8に記載した膜積層体の製造方法であって、被塗
布材を基板とし、膜材料をオーバーコート膜材料とする
膜積層体の製造方法によって形成されることを特徴とす
る電気光学パネルの製造方法。
12. The method for manufacturing a film laminate according to claim 2, wherein the overcoat film is the method for manufacturing a film laminate according to any one of claims 9 to 11, wherein the material to be coated is a substrate. A method for manufacturing an electro-optical panel, which is formed by a method for manufacturing a film laminate using the film material as an overcoat film material.
【請求項13】 液晶層を挟持する一対の基板の少なく
とも一方に配向膜を有する液晶パネルの製造方法におい
て、 前記一対の基板の少なくとも一方に配向膜材料を塗布す
る工程と、 前記一方の基板に紫外線を照射する工程と、 前記一方の基板に塗布された前記配向膜材料を固形化す
る工程とを有し、 前記紫外線照射工程は、前記配向膜材料の前記一方の基
板への塗布の開始から前記配向膜材料の固形化するまで
の間に行われることを特徴とする液晶パネルの製造方
法。
13. A method of manufacturing a liquid crystal panel having an alignment film on at least one of a pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer, the method comprising: applying an alignment film material to at least one of the pair of substrates; Having a step of irradiating with ultraviolet light, and a step of solidifying the alignment film material applied to the one substrate, the ultraviolet irradiation step, from the start of the application of the alignment film material to the one substrate A method for manufacturing a liquid crystal panel, which is performed until the alignment film material is solidified.
【請求項14】 請求項13において、前記配向膜は、
請求項2から請求項8に記載した膜積層体の製造方法で
あって、被塗布材を基板とし、膜材料を配向膜材料とす
る膜積層体の製造方法によって形成されることを特徴と
する液晶パネルの製造方法。
14. The alignment film according to claim 13,
The method for producing a film laminate according to any one of claims 2 to 8, wherein the film is formed by the method for producing a film laminate using a substrate as a material to be coated and an alignment film material as a film material. Liquid crystal panel manufacturing method.
【請求項15】 電気光学パネルを備えた電子機器の製
造方法であって、前記電気光学パネルは請求項9から請
求項12に記載した構成の電気光学パネルの製造方法に
よって形成されることを特徴とする電子機器の製造方
法。
15. A method of manufacturing an electronic device including an electro-optical panel, wherein the electro-optical panel is formed by the method of manufacturing the electro-optical panel having the structure according to any one of claims 9 to 12. And a method of manufacturing an electronic device.
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