JP2003132311A - Production method for ic card and ic card - Google Patents
Production method for ic card and ic cardInfo
- Publication number
- JP2003132311A JP2003132311A JP2001324339A JP2001324339A JP2003132311A JP 2003132311 A JP2003132311 A JP 2003132311A JP 2001324339 A JP2001324339 A JP 2001324339A JP 2001324339 A JP2001324339 A JP 2001324339A JP 2003132311 A JP2003132311 A JP 2003132311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- card
- layer
- resin
- sheet material
- chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 258
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 129
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 claims abstract description 34
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 59
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 55
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 54
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 33
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 138
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 126
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 126
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 description 52
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 49
- 230000008859 change Effects 0.000 description 44
- -1 for example Substances 0.000 description 39
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 37
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 27
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 23
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 19
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 19
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 14
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 13
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 13
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 13
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 13
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 12
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 9
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 7
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 7
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 6
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 4
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 229920005996 polystyrene-poly(ethylene-butylene)-polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 4
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CGPRUXZTHGTMKW-UHFFFAOYSA-N ethene;ethyl prop-2-enoate Chemical class C=C.CCOC(=O)C=C CGPRUXZTHGTMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002742 polystyrene-block-poly(ethylene/propylene) -block-polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004839 Moisture curing adhesive Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=C.OC(=O)C=C QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011086 glassine Substances 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 2
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M potassium;disodium;dinitrate;nitrite Chemical compound [Na+].[Na+].[K+].[O-]N=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical class CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 3,5-dihydroxy-N-[(E)-(4-hydroxy-3-nitrophenyl)methylideneamino]benzamide Chemical compound C1=CC(=C(C=C1/C=N/NC(=O)C2=CC(=CC(=C2)O)O)[N+](=O)[O-])O MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 0.000 description 1
- CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butan-1-ol Chemical compound OCCCCOCC1CO1 CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWECIALIVCBERQ-UHFFFAOYSA-N C#C.CCOC(=O)C=C Chemical compound C#C.CCOC(=O)C=C GWECIALIVCBERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004380 Cholic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 101000999373 Homo sapiens Interferon-related developmental regulator 2 Proteins 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- 102100036480 Interferon-related developmental regulator 2 Human genes 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- MJNIWUJSIGSWKK-UHFFFAOYSA-N Riboflavine 2',3',4',5'-tetrabutanoate Chemical compound CCCC(=O)OCC(OC(=O)CCC)C(OC(=O)CCC)C(OC(=O)CCC)CN1C2=CC(C)=C(C)C=C2N=C2C1=NC(=O)NC2=O MJNIWUJSIGSWKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LFSBSHDDAGNCTM-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Co+2] LFSBSHDDAGNCTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N ethene;styrene Chemical group C=C.C=CC1=CC=CC=C1 BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- BQZUWRFWNUWCTC-UHFFFAOYSA-M fluoroantimony Chemical compound [Sb]F BQZUWRFWNUWCTC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- FUPZEKMVZVPYLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;prop-2-enylbenzene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CCC1=CC=CC=C1 FUPZEKMVZVPYLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920006346 thermoplastic polyester elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 1
- 230000035897 transcription Effects 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ICチップ及び
アンテナ体を有するICモジュールを内蔵した、自動車
免許証等の免許証類、身分証明書、パスポート、外国人
登録証、図書館利用カード、キャッシュカード、クレジ
ットカード、従業者証、社員証、会員証、医療カード及
び学生証等のICカードの作成方法及びICカードに関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a license such as a driver's license, an identification card, a passport, an alien registration card, a library card, a cash card, which incorporates an IC module having an IC chip and an antenna body. , An IC card such as a credit card, an employee ID, an employee ID, a membership ID, a medical card and a student ID, and an IC card.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、身分証明書カードや、キャッ
シュカード、クレジットカードなどのIDカードには、
磁気記録方式によりデータを記録する磁気カードが広く
利用される場合が多い。磁気カードはデータの書き換え
が比較的容易にできるため、データの改ざん防止が十分
でないこと、媒体が磁気のため外的な影響を受けやす
く、データの保護が十分でないこと、更には、記録でき
る容量が少ないなどの問題点がある。2. Description of the Related Art Conventionally, ID cards such as ID cards, cash cards, and credit cards are
A magnetic card that records data by a magnetic recording method is often widely used. Since data can be rewritten relatively easily with a magnetic card, it is not possible to prevent tampering with the data, the medium is magnetic and is easily affected by external influences, and the data is not sufficiently protected. There are problems such as few.
【0003】そこで、近年、ICチップを内蔵したIC
カードが普及し始めている。ICカードは、表面に設け
られた電気接点や、カード内部のループアンテナを介し
て外部の機器とデータの読み書きをするようになされ
る。ICカードは磁気カードに比べて記憶容量が大き
く、セキュリティ性も大きく向上している。Therefore, in recent years, ICs with built-in IC chips
Cards are becoming popular. The IC card is configured to read / write data from / to an external device via an electric contact provided on the surface or a loop antenna inside the card. The IC card has a larger storage capacity than the magnetic card, and the security is greatly improved.
【0004】特に、ICチップと外部との情報のやりと
りをするためのアンテナ体をカード内部に内蔵し、カー
ド外部に電気接点を一切持たない非接触式のICカード
は、電気接点をカード表面に有する接触式ICカードに
比べてセキュリティ性に優れることから、データの機密
性と偽変造防止性を高く要求する用途に使用されつつあ
る。Particularly, in a non-contact type IC card in which an antenna body for exchanging information between the IC chip and the outside is built in the card, and no electric contact is provided outside the card, the electric contact is provided on the card surface. Since it is superior in security to the contact type IC card that it has, it is being used for applications that require high confidentiality of data and prevention of forgery / alteration.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】このようなICカード
として、例えば表面シート材と裏面シート材とが接着剤
を介して貼り合わされ、その接着剤層中にICチップ及
びアンテナ体を有するICモジュールを封入するものが
ある。この接着剤としては反応型ホットメルト接着剤が
使用される。反応型ホットメルト接着剤は常温で固形を
有している。この接着剤は加熱により溶融させてから接
着加工され、その後、湿気を吸収して接着剤自身が硬化
する性質を有している。その特徴として、通常のホット
メルト接着剤と比較して接着可能時間が長く、かつ接着
加工後に軟化温度が高くなるため耐久性に富み、低温で
の接着加工に適していることが挙げられる。As such an IC card, for example, an IC module in which a top sheet material and a back sheet material are bonded together with an adhesive and an IC chip and an antenna body are provided in the adhesive layer There is something to enclose. A reactive hot melt adhesive is used as this adhesive. The reactive hot melt adhesive is solid at room temperature. This adhesive has a property of being melted by heating and then being subjected to an adhesion process, and thereafter absorbing moisture to cure the adhesive itself. Its characteristics are that it has a longer bondable time than a normal hot melt adhesive and has a high softening temperature after the bonding process, so that it has excellent durability and is suitable for bonding at low temperatures.
【0006】すなわち、通常のホットメルト接着剤で
は、接着加工温度がその接着剤の軟化温度と同じである
ため耐熱性は接着加工温度以上にはならない。そのため
高耐熱性を要求する場合には、高い接着加工温度が必要
になる。例えば、100℃以上の温度で接着加工する場
合に、カード基板がそりやすい、ラミネートロールで搬
送される際にカードの表面に凹凸が発生しやすいなどの
問題点があった。That is, in a normal hot melt adhesive, the heat resistance does not exceed the adhesive processing temperature because the adhesive processing temperature is the same as the softening temperature of the adhesive. Therefore, when high heat resistance is required, a high bonding processing temperature is required. For example, when the bonding process is performed at a temperature of 100 ° C. or higher, there are problems that the card substrate is easily warped, and irregularities are easily generated on the surface of the card when being conveyed by a laminating roll.
【0007】さらにICチップが入った状態でラミネー
トされてカード化されるため、ICチップ周辺が盛り上
がり空隙ができやすくなり、その近傍での強度が著しく
低下したり、カード表面の印字性が著しく低下するなど
重大な問題が発生し、解決が強く求められていた。Further, since the IC chip is laminated into a card to form a card, the periphery of the IC chip is liable to form a void, the strength in the vicinity thereof is remarkably lowered, and the printability on the card surface is remarkably lowered. There was a serious problem such as a problem, and there was a strong demand for a solution.
【0008】この発明は、かかる実情に鑑みてなされた
もので、平面性、表面強度、ICチップ周辺部強度、印
字性を向上することが可能なICカードの作成方法及び
ICカードを提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an IC card manufacturing method and an IC card capable of improving flatness, surface strength, strength around an IC chip, and printability. It is an object.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決し、かつ
目的を達成するために、この発明は、以下のように構成
した。In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, the present invention has the following constitution.
【0010】請求項1に記載の発明は、『第1のシート
材と第2のシート材との間に介在されるホットメルト接
着剤層内にICモジュールを封入するICカードの作成
方法において、前記第1のシート材と第2のシート材を
ホットメルト接着剤で貼り合わせ後に、前記第1のシー
ト材と第2のシート材の表面温度を1秒間あたり10℃
以上100℃以下で急冷させることを特徴とするICカ
ードの作成方法。』である。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an IC card in which an IC module is enclosed in a hot melt adhesive layer interposed between a first sheet material and a second sheet material, After bonding the first sheet material and the second sheet material with a hot melt adhesive, the surface temperature of the first sheet material and the second sheet material is 10 ° C. per second.
A method of making an IC card, which comprises rapidly cooling at 100 ° C. or lower. ].
【0011】この請求項1に記載の発明によれば、最も
平面性が良い状態で冷却することで、表面強度が向上
し、かつ平面性が向上する。According to the first aspect of the invention, the surface strength is improved and the flatness is improved by cooling in the state of the best flatness.
【0012】請求項2に記載の発明は、『前記急冷させ
てカード作成後のホットメルト接着剤の伸度2%弾性率
が20kg/mm2以上80kg/mm2以下であること
を特徴とする請求項1に記載のICカードの作成方
法。』である。The invention according to claim 2 is characterized in that "the hot melt adhesive having the elongation of 2% and the elastic modulus after the card is rapidly cooled to prepare a card is 20 kg / mm 2 or more and 80 kg / mm 2 or less. The method for producing an IC card according to claim 1. ].
【0013】この請求項2に記載の発明によれば、急冷
させてカード作成後のホットメルト接着剤の伸度2%弾
性率の規定により、表面強度が向上し、かつ平面性が向
上する。According to the second aspect of the present invention, the surface strength is improved and the flatness is improved by the regulation of the elongation 2% elastic modulus of the hot melt adhesive after the card is made by quenching.
【0014】請求項3に記載の発明は、『前記ホットメ
ルト接着剤層の130℃における粘度が2000mPs
以上40000mPs以下であることを特徴とする請求
項1または請求項2に記載のICカードの作成方法。』
である。The invention according to claim 3 is that "the viscosity of the hot melt adhesive layer at 130 ° C. is 2000 mPs.
The method for producing an IC card according to claim 1 or 2, characterized in that it is not less than 40,000 mPs. ]
Is.
【0015】この請求項3に記載の発明によれば、ホッ
トメルト接着剤層の130℃における粘度を規定するこ
とで、表面強度が向上し、かつ平面性が向上する。According to the third aspect of the present invention, the viscosity of the hot melt adhesive layer at 130 ° C. is defined, whereby the surface strength and the flatness are improved.
【0016】請求項4に記載の発明は、『前記ホットメ
ルト接着剤が反応型であることを特徴とする請求項1乃
至請求項3のいずれか1項に記載のICカードの作成方
法。』である。According to a fourth aspect of the invention, there is provided a method for producing an IC card according to any one of the first to third aspects, wherein the hot melt adhesive is a reactive type. ].
【0017】この請求項4に記載の発明によれば、ホッ
トメルト接着剤が反応型であり、表面強度が向上し、か
つ平面性が向上する。According to the fourth aspect of the invention, the hot melt adhesive is a reactive type, the surface strength is improved, and the flatness is improved.
【0018】請求項5に記載の発明は、『一枚または長
尺のロール状の第1のシート材と第2のシート材から複
数のICカードを作成するICカードの作成方法におい
て、95℃以上150℃以下の温度下で塗工または貼り
合わせる加熱工程と、塗工または貼り合わせ後、第1の
シート材と第2のシート材の表面温度を1秒間あたり1
0℃以上100℃以下で急冷する冷却工程と、塗工また
は貼り合わせ後、0℃以上30℃以下の温度で貼り合わ
せる貼り合わせ工程とを有することを特徴するICカー
ドの作成方法。』である。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for producing an IC card in which a plurality of IC cards are produced from one or a long roll-shaped first sheet material and a second sheet material. A heating step of coating or pasting at a temperature of 150 ° C. or lower and a surface temperature of the first sheet material and the second sheet material after coating or pasting are 1 per second.
A method for producing an IC card, comprising: a cooling step of quenching at 0 ° C. or more and 100 ° C. or less; and a laminating step of laminating at a temperature of 0 ° C. or more and 30 ° C. or less after coating or laminating. ].
【0019】この請求項5に記載の発明によれば、加熱
工程と、冷却工程と、貼り合わせ工程とを有すること
で、最も平面性が良い状態で冷却することで、表面強度
が向上し、かつ平面性が向上する。According to the invention described in claim 5, since it has a heating step, a cooling step, and a bonding step, the surface strength is improved by cooling in the state of the best flatness, And the flatness is improved.
【0020】請求項6に記載の発明は、『前記請求項1
乃至請求項5のいずれかで作成されたICカードであ
り、0.8mmφサファイア針での引っ掻き強度が15
0g以上である受像層を有することを特徴するICカー
ド。』である。The invention according to claim 6 provides the "claim 1
The IC card produced according to any one of claims 5 to 6, which has a scratch strength of 15 with a 0.8 mmφ sapphire needle.
An IC card having an image receiving layer of 0 g or more. ].
【0021】この請求項6に記載の発明によれば、IC
カードは0.8mmφサファイア針での引っ掻き強度が
150g以上である受像層を有することで、表面強度が
向上する。According to the invention of claim 6, the IC
The card has an image receiving layer having a scratch strength of not less than 150 g with a 0.8 mmφ sapphire needle, whereby the surface strength is improved.
【0022】請求項7に記載の発明は、『対向する2つ
の基板間の所定の位置にICチップ、アンテナ体を有す
るICモジュールを含む電子部品が載置され、接着剤が
充填されてなるICカードにおいて、前記ICチップの
上部または周辺部にシランカップリング剤を設けたこと
を特徴とするICカード。』である。According to a seventh aspect of the invention, "an IC in which an electronic component including an IC module having an IC chip and an antenna body is placed at a predetermined position between two opposing substrates and is filled with an adhesive agent An IC card, characterized in that a silane coupling agent is provided on the upper portion or the peripheral portion of the IC chip. ].
【0023】この請求項7に記載の発明によれば、IC
チップの上部または周辺部にシランカップリング剤を設
けることで、ICチップを補強することができる。According to the invention of claim 7, the IC
The IC chip can be reinforced by providing a silane coupling agent on the upper part or the peripheral part of the chip.
【0024】請求項8に記載の発明は、『前記シランカ
ップリング剤が部分加水分解された重合体であることを
特徴とする請求項7に記載のICカード。』である。The invention according to claim 8 is the IC card according to claim 7, wherein the silane coupling agent is a partially hydrolyzed polymer. ].
【0025】この請求項8に記載の発明によれば、シラ
ンカップリング剤が部分加水分解された重合体であるこ
とで、ICチップを補強することができる。According to the eighth aspect of the invention, the IC chip can be reinforced by using the partially hydrolyzed polymer as the silane coupling agent.
【0026】請求項9に記載の発明は、『前記ICチッ
プに隣接して金属補強板を有することを特徴とする請求
項7に記載のICカード。』である。According to a ninth aspect of the invention, the IC card according to the seventh aspect is characterized in that "a metal reinforcing plate is provided adjacent to the IC chip. ].
【0027】この請求項9に記載の発明によれば、IC
チップに隣接して金属補強板を有することで、ICチッ
プを補強することができる。According to the invention of claim 9, the IC
The IC chip can be reinforced by having the metal reinforcing plate adjacent to the chip.
【0028】請求項10に記載の発明は、『前記金属補
強板がヤング率100GPa以上の素材を一種含むこと
を特徴とする請求項9に記載のICカード。』である。According to a tenth aspect of the present invention, the IC card according to the ninth aspect is characterized in that the metal reinforcing plate contains a material having a Young's modulus of 100 GPa or more. ].
【0029】この請求項10に記載の発明によれば、金
属補強板がヤング率100GPa以上の素材を一種含む
ことで、ICチップを補強することができる。According to the tenth aspect of the present invention, the IC chip can be reinforced by the metal reinforcing plate containing a material having a Young's modulus of 100 GPa or more.
【0030】請求項11に記載の発明は、『前記ICカ
ードのチップ周辺部の平面凹凸性が±10μm以内であ
ることを特徴とする請求項7乃至請求項10のいずれか
1項に記載のICカード。』である。An eleventh aspect of the present invention is that "the planar irregularity of the peripheral portion of the chip of the IC card is within ± 10 μm. IC card. ].
【0031】この請求項11に記載の発明によれば、I
Cカードのチップ周辺部の平面凹凸性が±10μm以内
であり、チップ周辺部の平滑性が向上する。According to the invention of claim 11, I
The planar irregularity of the chip peripheral portion of the C card is within ± 10 μm, and the smoothness of the chip peripheral portion is improved.
【0032】請求項12に記載の発明は、『個人情報と
して顔画像、住所、名前、生年月日等の個人情報が記載
してあることを特徴とする請求項6乃至請求項11のい
ずれか1項に記載のICカード。』である。The invention according to claim 12 is characterized in that "personal information such as face image, address, name, date of birth, etc. is described as personal information. The IC card according to item 1. ].
【0033】この請求項12に記載の発明によれば、個
人情報が記載され、自動車免許証等の免許証類、身分証
明書、パスポート、外国人登録証、図書館利用カード、
キャッシュカード、クレジットカード、従業者証、社員
証、会員証、医療カード及び学生証等に用いられる。According to the invention of claim 12, personal information is described, and licenses such as automobile license, identification card, passport, alien registration card, library card,
Used for cash cards, credit cards, employee ID, employee ID, membership ID, medical card, student ID, etc.
【0034】請求項13に記載の発明は、『前記ICチ
ップが前記顔画像の部分と重なる位置に存在しないこと
を特徴とする請求項12に記載のICカード。』であ
る。According to a thirteenth aspect of the present invention, the IC card according to the twelfth aspect is characterized in that "the IC chip is not present at a position overlapping the face image portion. ].
【0035】この請求項13に記載の発明によれば、I
Cチップが顔画像の部分と重なる位置に存在しないこと
で、顔画像の損傷を防止することができる。According to the invention of claim 13, I
Since the C chip does not exist at the position overlapping the face image portion, the face image can be prevented from being damaged.
【0036】請求項14に記載の発明は、『前記ICカ
ードがカード外部に電気接点を持たない非接触式である
ことを特徴とする請求項6乃至請求項13のいずれか1
項に記載のICカード。』である。According to a fourteenth aspect of the present invention, "the IC card is of a non-contact type having no electrical contact outside the card, and any one of the sixth to thirteenth aspects is provided.
The IC card described in the item. ].
【0037】この請求項14に記載の発明によれば、I
Cカードがカード外部に電気接点を持たない非接触式で
あり、セキュリティ性に優れ、データの機密性と偽変造
防止性を高く要求する用途に使用することができる。According to the invention of claim 14, I
The C card is a non-contact type that does not have an electrical contact outside the card, is excellent in security, and can be used in applications requiring high data confidentiality and anti-counterfeiting property.
【0038】[0038]
【発明の実施の形態】以下、この発明のICカードの作
成方法及びICカードの実施の形態を図面に基づいて説
明するが、この発明は、この実施の形態に限定されな
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of an IC card producing method and an IC card of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to this embodiment.
【0039】図1はICカード作成装置を示す図、図2
はICカードの構成を示す図、図3はICカードの平面
図である。FIG. 1 is a diagram showing an IC card producing apparatus, FIG.
Is a diagram showing a configuration of an IC card, and FIG. 3 is a plan view of the IC card.
【0040】この実施の形態のICカード作成装置は、
第1のシート材供給部A、第2のシート材供給部B、接
着剤塗布部C1、接着剤塗布部C2、インレット供給部
D、加熱部E、冷却部F、貼り合わせ部G及び打ち抜き
部Hを有し、第1のシート材1と第2のシート材2から
複数のICカードを作成する。The IC card creating apparatus of this embodiment is
First sheet material supply section A, second sheet material supply section B, adhesive application section C1, adhesive application section C2, inlet supply section D, heating section E, cooling section F, bonding section G and punching section A plurality of IC cards having H are prepared from the first sheet material 1 and the second sheet material 2.
【0041】第1のシート材供給部Aから長尺のロール
状の第1のシート材1が供給され、第2のシート材供給
部Bから長尺のロール状の第2のシート材2が供給され
るが、第1のシート材1及び第2のシート材2は長尺の
ロール状に限定されず、一枚の枚葉シートでもよい。接
着剤塗布部C1では、第1のシート材1に接着剤が塗布
され、この接着剤としてホットメルト接着剤4が用いら
れる。また、接着剤塗布部C2では、第2のシート材2
に接着剤が塗布され、この接着剤としてホットメルト接
着剤4が用いられる。A long roll-shaped first sheet material 1 is supplied from the first sheet material supply section A, and a long roll-shaped second sheet material 2 is supplied from the second sheet material supply section B. Although supplied, the first sheet material 1 and the second sheet material 2 are not limited to a long roll shape, and may be a single sheet. In the adhesive application section C1, an adhesive is applied to the first sheet material 1, and the hot melt adhesive 4 is used as this adhesive. In the adhesive application section C2, the second sheet material 2
An adhesive is applied to the hot melt adhesive 4, and the hot melt adhesive 4 is used as the adhesive.
【0042】インレット供給部Dでは、ICチップ3
a、アンテナ体3bを有するICモジュールを含む電子
部品3のインレットが第2のシート材2に載置される。In the inlet supply section D, the IC chip 3
a, the inlet of the electronic component 3 including the IC module having the antenna body 3b is placed on the second sheet material 2.
【0043】加熱工程Eは、ラミネートロール200、
ヒータ201を有し、第1のシート材1と第2のシート
材2とを電子部品3を介在させて95℃以上150℃以
下の温度下で塗工または貼り合わせる。In the heating step E, the laminating roll 200,
The heater 201 is provided, and the first sheet material 1 and the second sheet material 2 are coated or bonded together at a temperature of 95 ° C. or higher and 150 ° C. or lower with the electronic component 3 interposed.
【0044】冷却部Fは、塗工または貼り合わせ後、第
1のシート材1と第2のシート材2の表面温度を1秒間
あたり10℃以上100℃以下で急冷する。After the coating or bonding, the cooling unit F quenches the surface temperature of the first sheet material 1 and the second sheet material 2 at 10 ° C. or more and 100 ° C. or less per second.
【0045】貼り合わせ部Gは、塗工または貼り合わせ
後、0℃以上30℃以下の温度で貼り合わせる貼り合わ
せる。In the bonding section G, after coating or bonding, bonding is performed at a temperature of 0 ° C. or higher and 30 ° C. or lower.
【0046】打ち抜き部Hでは、カッターで所定形状の
ICカードに打ち抜き、図2に示す構成のICカードを
作成する。At the punching portion H, an IC card having a predetermined shape is punched with a cutter to produce an IC card having the structure shown in FIG.
【0047】このように、加熱工程と冷却工程とを有
し、第1のシート材1と第2のシート材2を、95℃以
上150℃以下の温度下で塗工または貼り合わせ後に、
第1のシート材1と第2のシート材2の表面温度を1秒
間あたり10℃以上100℃以下で急冷させ、最も平面
性が良い状態で冷却することで、表面強度が向上し、か
つ平面性が向上する。また、ICチップ3aの上部また
は周辺部にシランカップリング剤を設けることで、IC
チップ3aを補強することができる。このシランカップ
リング剤が部分加水分解された重合体であることで、I
Cチップ3aを補強することができる。As described above, the first sheet material 1 and the second sheet material 2 have the heating step and the cooling step, and after coating or bonding the first sheet material 1 and the second sheet material 2 at a temperature of 95 ° C. or higher and 150 ° C. or lower,
By rapidly cooling the surface temperature of the first sheet material 1 and the second sheet material 2 at 10 ° C. or more and 100 ° C. or less per second, and cooling in the state of the best flatness, the surface strength is improved and a flat surface is obtained. The property is improved. Further, by providing a silane coupling agent on the upper portion or the peripheral portion of the IC chip 3a, the IC
The tip 3a can be reinforced. Since the silane coupling agent is a partially hydrolyzed polymer, I
The C chip 3a can be reinforced.
【0048】また、ICチップ3aに隣接して金属補強
板5を有し、この金属補強板5によりICチップ3aを
補強することができる。金属補強板5がヤング率100
GPa以上の素材を一種含むことで、ICチップ3aを
補強することができる。Further, a metal reinforcing plate 5 is provided adjacent to the IC chip 3a, and the metal reinforcing plate 5 can reinforce the IC chip 3a. The metal reinforcing plate 5 has a Young's modulus of 100
The IC chip 3a can be reinforced by including a material of GPa or higher.
【0049】図2に示すように、ICカードの表面は、
チップ周辺部の平面凹凸性が±10μm以内であり、チ
ップ周辺部の平滑性が向上する。As shown in FIG. 2, the surface of the IC card is
The planar irregularity of the peripheral portion of the chip is within ± 10 μm, and the smoothness of the peripheral portion of the chip is improved.
【0050】このICカードは、図3に示すように、個
人情報として顔画像7、住所、名前、生年月日11等の
個人情報が記載してあり、自動車免許証等の免許証類、
身分証明書、パスポート、外国人登録証、図書館利用カ
ード、キャッシュカード、クレジットカード、従業者
証、社員証、会員証、医療カード及び学生証等に用いら
れる。ICチップ3aが顔画像8の部分と重なる位置に
存在しないことで、顔画像の損傷を防止することができ
る。As shown in FIG. 3, this IC card has personal information such as face image 7, address, name, date of birth 11, etc. as personal information, and licenses such as automobile licenses,
It is used for identification, passport, alien registration card, library card, cash card, credit card, employee card, employee card, membership card, medical card and student card. Since the IC chip 3a does not exist at the position overlapping the portion of the face image 8, the face image can be prevented from being damaged.
【0051】このICカードはカード外部に電気接点を
持たない非接触式であり、セキュリティ性に優れ、デー
タの機密性と偽変造防止性を高く要求する用途に使用す
ることができる。This IC card is a non-contact type that has no electrical contact outside the card, has excellent security, and can be used in applications requiring high data confidentiality and forgery / alteration protection.
【0052】[接着剤]この発明の接着剤は、「JIS
K 7127」或いは、「ASTM D638」の規
定に準じて測定した硬化後の、伸度2%における引張弾
性率が、20kg/mm2以上80kg/mm2であるこ
とが好ましい。硬化後の引張弾性率が、80kg/mm
2よりも大きい場合や20kg/mm2よりも小さい場合
にはカードの弾性が大きすぎたり小さすぎたりして印字
ヘッドのカードとの密着性が低下するため印字性が劣化
する。好ましくは20kg/mm2以上50kg/mm2
以下である。[Adhesive] The adhesive of the present invention is based on "JIS
It is preferable that the tensile elastic modulus at an elongation of 2% after curing, measured according to the regulations of “K 7127” or “ASTM D638”, is 20 kg / mm 2 or more and 80 kg / mm 2 . Tensile modulus after curing is 80kg / mm
If 2 smaller than large or when 20 kg / mm 2 than the printing properties since the adhesion to the card elasticity of or to the print head too large or too small card is lowered to deteriorate. Preferably 20 kg / mm 2 or more and 50 kg / mm 2
It is the following.
【0053】また、130℃における粘度が2000m
Psよりも小さい場合はカードを貼りあわせる際に気泡
が多く発生し、平面凹凸性が悪化し、40000mPs
よりも大きい場合では接着剤の塗布性が劣化するため、
平面凹凸性が悪化する。硬化後のカード表面強度が低下
するといった問題や、バリやヒゲといった問題が発生す
るため、好ましくは5000mPs以上30000mP
s以下であり、より好ましくは10000mPs以上2
2000mPs以下である。The viscosity at 130 ° C. is 2000 m
If it is smaller than Ps, many bubbles will be generated when the cards are stuck together, and the flatness of the flat surface will be deteriorated.
If it is larger than this, the coating property of the adhesive will deteriorate,
Planar unevenness deteriorates. Since problems such as deterioration of the card surface strength after curing and problems such as burrs and beards occur, it is preferably 5000 mPs or more and 30,000 mPs.
s or less, more preferably 10,000 mPs or more and 2
It is 2000 mPs or less.
【0054】[急冷プレス]シート材をホットメルト接
着剤で貼合後には、シート材の表面温度を1秒間あたり
10℃以上100℃以下で急冷することが好ましい。ホ
ットメルト接着剤を用いてラミネートされた後に、1秒
間あたり10℃以上の急冷を行わないと余熱によってシ
ートが硬化されないため、ラミネートされた直後は平滑
であるが、その後のプレス部や搬送部でゆがみを与えら
れながら搬送されて凹凸性が著しく劣化する。また、1
秒間あたり100℃より速い速度で急冷すると、温度ム
ラが生じて内部にひずみを生じ、曲げ適性が劣化する。[Quenching Press] After the sheet materials are pasted with a hot melt adhesive, it is preferable to rapidly cool the surface temperature of the sheet materials at 10 ° C. or more and 100 ° C. or less per second. After laminating with a hot-melt adhesive, the sheet will not be cured by residual heat unless it is rapidly cooled at 10 ° C or more per second, so it is smooth immediately after laminating, but it is smooth in the pressing section and conveying section after that. It is conveyed while being distorted, and the unevenness is significantly deteriorated. Also, 1
If the material is rapidly cooled at a rate higher than 100 ° C. per second, temperature unevenness occurs, internal strain occurs, and bendability deteriorates.
【0055】[シランカップリング剤]この発明の高屈
折率層に使用される活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシドとしては、炭素原子数1〜10のも
のがよいが、好ましくは炭素原子数1〜4である。また
金属アルコキシドの加水分解物はアルコキシド基が加水
分解を受けて−金属原子−酸素原子−金属原子−のよう
に反応し、架橋構造を作り、硬化した層を形成する。[Silane Coupling Agent] The metal alkoxide having no active energy ray-reactive group used in the high refractive index layer of the present invention has preferably 1 to 10 carbon atoms, but preferably carbon atoms. The numbers are 1 to 4. The hydrolyzate of the metal alkoxide undergoes hydrolysis of the alkoxide group and reacts like -metal atom-oxygen atom-metal atom- to form a crosslinked structure and form a cured layer.
【0056】この発明に使用される金属アルコキシドの
例として、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)
4、Si(O−i−C3H7)4、Si(O−t−C4
H9)が挙げられる。Examples of the metal alkoxide used in the present invention include Si (OCH3) 4 and Si (OC2H5).
4, Si (Oi-C3H7) 4, Si (Ot-C4)
H9).
【0057】これらを単独でまたは2種以上組み合わせ
て用いることができる。中でも、Si(OCH3)4、
Si(OC2H5)4、Si(O−i−C3H7)4を
あらかじめ重合体として合成したものを用いると、加水
分解後に乾燥する際に収縮度が小さくなり亀裂の発生を
防止する上で特に好ましい。These may be used alone or in combination of two or more. Among them, Si (OCH3) 4,
It is particularly preferable to use those obtained by synthesizing Si (OC2H5) 4 and Si (O-i-C3H7) 4 as a polymer in advance, since the degree of shrinkage becomes small when dried after hydrolysis and the occurrence of cracks is prevented.
【0058】また、この発明の高屈折率層においては、
上記金属アルコキシドを加水分解(部分または完全加水
分解)させたものを使用してもよく、酸性触媒または塩
基性触媒の存在下に例えば上記の金属アルコキシドを有
機溶媒中で加水分解することによって得られる。この酸
性触媒としては、例えば硝酸、塩酸等の鉱酸やシュウ
酸、酢酸等の有機酸がよく、また塩基性触媒としては、
例えばアンモニア等が挙げられる。In the high refractive index layer of the present invention,
A hydrolyzed (partially or completely hydrolyzed) form of the above metal alkoxide may be used, and is obtained, for example, by hydrolyzing the above metal alkoxide in an organic solvent in the presence of an acidic catalyst or a basic catalyst. . As the acidic catalyst, for example, mineral acids such as nitric acid and hydrochloric acid, and organic acids such as oxalic acid and acetic acid are preferable, and as the basic catalyst,
For example, ammonia and the like can be mentioned.
【0059】この発明に使用される上記金属アルコキシ
ド化合物を含む層は、金属アルコキシド自身が自己縮合
して架橋し網状結合するものである。その反応を促進す
るために触媒や硬化剤を使用することができ、それらに
は、金属キレート化合物、有機カルボン酸塩等の有機金
属化合物や、アミノ基を有する有機ケイ素化合物、光酸
発生剤等がある。The layer containing the metal alkoxide compound used in the present invention is a layer in which the metal alkoxide itself self-condenses and crosslinks to form a network bond. A catalyst or a curing agent can be used to accelerate the reaction, and these include a metal chelate compound, an organometallic compound such as an organic carboxylate, an organosilicon compound having an amino group, a photoacid generator, and the like. There is.
【0060】[金属補強板]この発明に用いられる金属
補強板としては、強度を有するものであれば特に限定は
しないが、ステンレスのように強度があり比較的計量な
ものが好ましい。この金属補強板はヤング率100GP
a以上の素材を少なくとも一つ以上含むほうが耐久性上
好ましい。金属補強板の厚さはICチップを保護するの
に充分な厚さがあれば良いが、チップ上部に設置した時
にカードの平面凹凸をなくし印字性を向上させるために
は薄いほうが好ましい。[Metal Reinforcement Plate] The metal reinforcement plate used in the present invention is not particularly limited as long as it has strength, but it is preferable to use a metal reinforcement plate such as stainless steel which has strength and is relatively weighed. This metal reinforcing plate has a Young's modulus of 100 GP
From the viewpoint of durability, it is preferable to include at least one or more materials a or more. The thickness of the metal reinforcing plate may be sufficient to protect the IC chip, but it is preferably thin in order to improve the printability by eliminating the planar unevenness of the card when it is installed on the upper part of the chip.
【0061】金属補強板の位置はICチップ上方と限定
されることはなく、ICチップを覆う形状や周囲をめぐ
らす構造であってもよい。The position of the metal reinforcing plate is not limited to the position above the IC chip, and may be a shape covering the IC chip or a structure in which the periphery is swirled.
【0062】[接着剤の種類]これら接着剤の種類とし
ては、特に限定はしないが、ホットメルト接着剤、熱可
塑性樹脂等を用いることが好ましい。例えば、ホットメ
ルト接着剤は、一般に使用されているものを用いること
ができる。ホットメルト接着剤の主成分としては、例え
ばエチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)系、ポリエ
ステル系、ポリアミド系、熱可塑性エラストマー系、ポ
リオレフィン系などが挙げられる。反応型ホットメルト
接着剤として湿気硬化型の材料で特開2000−036
026、特開2000−219855、特開平2000
−211278、特開平2000−219855で開示
されている。光硬化型接着剤として特開平10−316
959号、特開平11−5964号等が開示されてい
る。[Type of Adhesive] The type of these adhesives is not particularly limited, but it is preferable to use a hot melt adhesive, a thermoplastic resin or the like. For example, as the hot melt adhesive, a commonly used adhesive can be used. Examples of the main component of the hot melt adhesive include ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA) type, polyester type, polyamide type, thermoplastic elastomer type, polyolefin type and the like. A moisture curable material as a reactive hot melt adhesive is disclosed in JP-A-2000-036.
026, JP 2000-219855, JP 2000
-212118, and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-219855. JP-A-10-316 as a photocurable adhesive
No. 959 and JP-A No. 11-5964 are disclosed.
【0063】この発明の特性を有していれば、これら接
着剤のいずれも使用してもよく、この発明には制限はな
い材料を用いることが好ましい。Any of these adhesives may be used as long as they have the characteristics of the present invention, and it is preferable to use a material for which the present invention is not limited.
【0064】また、これら接着剤に添加剤を混合するこ
とで、この発明の特性を有する接着剤を作成してもよ
く、添加剤は、特に限定はしないが、例えば有機、無機
顔料や樹脂材料としてフェノール樹脂、キシレン樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリカーボ
ネート等があげられる。Further, an adhesive having the characteristics of the present invention may be prepared by mixing an additive with these adhesives. The additive is not particularly limited, and examples thereof include organic and inorganic pigments and resin materials. As phenol resin, xylene resin,
Examples thereof include epoxy resin, melamine resin, urea resin, polycarbonate and the like.
【0065】また、この発明の接着部材の硬化後とは、
温度25℃、湿度50%RHの条件化で7日以上放置し
たもの、或いはこれら接着剤が硬化に必要となる条件で
硬化したものであれば特に限定はしない。After the adhesive member of the present invention is cured,
There is no particular limitation as long as it is left for 7 days or more under conditions of temperature of 25 ° C. and humidity of 50% RH, or if it is cured under the conditions required for curing these adhesives.
【0066】[ICカード基材用のシート材]第1のシ
ート材と第2のシート材のシート部材としては例えば、
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共
重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、
ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ
化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等
のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン
6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/
酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、
エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアル
コール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロー
ス、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリ
ル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル
酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹
脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリイミド等の合成樹脂シート、または上質紙、薄
葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或
いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。本発明の支
持体の厚みは30〜300μm望ましくは50〜200
μmである。30μm以下であると第1のシート材と第
2のシート材の貼り合わせ時に熱収縮等を起こし問題で
ある。[Sheet Material for IC Card Base Material] The sheet material for the first sheet material and the second sheet material is, for example,
Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene terephthalate / isophthalate copolymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene,
Polyethylene fluoride such as polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, ethylene-4 fluoroethylene copolymer, polyamide such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride /
Vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer,
Ethylene / vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinylon and other vinyl polymers, cellulose triacetate, cellophane and other cellulosic resins, methyl polymethacrylate, ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate. , Etc., acrylic resin, polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyimide, etc., synthetic resin sheet, high-quality paper, thin paper, glassine paper, sulfuric acid paper, etc., single layer of metal foil, etc. The body. The thickness of the support of the present invention is 30 to 300 μm, preferably 50 to 200.
μm. If the thickness is 30 μm or less, heat shrinkage or the like occurs when the first sheet material and the second sheet material are attached, which is a problem.
【0067】この発明においては、湿気硬化型ホットメ
ルト接着剤を用いる場合はシート材の湿気透過率が10
(g・25μ/m2、24hr)以上が好ましい。第1
のシート材と第2のシート材の両方の面側から、接着剤
層に効率良く水分が供給され、接着剤の硬化を早くする
ことができ、生産性が向上する。またカード全面の硬化
率が同じになり均一な硬度のカードを作製することがで
きる。この発明においては白色の顔料を混入させた、或
いは気泡をハニカム構造に折り込んだ、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)やポリプロピレン(P
P)等が好ましく、例えば射出成形用に結晶化がコント
ロールされているイーストマンケミカル社のPET−G
(R)が、受像シートが融着し易い点からも好適であ
る。湿気透過率は、10(g・25μ/m2、24h
r)以上である。ここでいう湿気透過率は、JIS K
7128−Z0208防湿包装材料の透湿度試験方法で
測定したものであり、条件は40℃、90%RHであ
る。In the present invention, when the moisture-curable hot melt adhesive is used, the moisture permeability of the sheet material is 10%.
(G · 25 μ / m 2 , 24 hr) or more is preferable. First
Water is efficiently supplied to the adhesive layer from both surface sides of the sheet material and the second sheet material, the curing of the adhesive can be accelerated, and the productivity is improved. Further, the curing rate of the entire surface of the card becomes the same, and a card having a uniform hardness can be manufactured. In the present invention, for example, polyethylene terephthalate (PET) or polypropylene (P
P) and the like are preferable, for example, PET-G manufactured by Eastman Chemical Co. whose crystallization is controlled for injection molding.
(R) is also preferable because the image receiving sheet is easily fused. Moisture permeability is 10 (g ・ 25μ / m 2 , 24h
r) or more. Moisture permeability here is JIS K
7128-Z0208 It is measured by the moisture permeability test method of the moisture-proof packaging material, and the conditions are 40 ° C. and 90% RH.
【0068】第2のシート材は場合により、当該カード
利用者の顔画像を形成するため受像層、クッション層を
設けてもよい。個人認証カード基体表面には画像要素が
設けられ、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フ
ォーマット印刷から選ばれる少なくとも一つが設けられ
たものであってもよく、また全く印刷部分のないホワイ
トカードであってもよい。In some cases, the second sheet material may be provided with an image receiving layer and a cushion layer for forming a face image of the card user. An image element may be provided on the surface of the personal identification card substrate, and at least one selected from an authentication identification image such as a face image, an attribute information image, and format printing may be provided. It may be a card.
【0069】受像層用としては公知の樹脂を用いること
ができ、例えばポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他の
モノマー(例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビ
ニル等)との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、
ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系
樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、三酢
酸セルロース、ポリスチレン、スチレンと他のモノマー
(例えばアクリル酸エステル、アクリロニトリル、塩化
エチレン等)との共重合体、ビニルトルエンアクリレー
ト樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクト
ン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変
性物などを挙げることができるが、好ましいのは、ポリ
塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマーとの共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンと他のモノマー
との共重合体、エポキシ樹脂である。Known resins can be used for the image-receiving layer. Examples thereof include polyvinyl chloride resin, copolymer resins of vinyl chloride and other monomers (eg, isobutyl ether, vinyl propionate, etc.), polyester resins, poly (Meth) acrylic acid ester, polyvinylpyrrolidone,
Polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol, polycarbonate, cellulose triacetate, polystyrene, copolymers of styrene and other monomers (eg acrylic ester, acrylonitrile, ethylene chloride, etc.), vinyltoluene acrylate resin, polyurethane Examples thereof include resins, polyamide resins, urea resins, epoxy resins, phenoxy resins, polycaprolactone resins, polyacrylonitrile resins, and modified products thereof. Among them, polyvinyl chloride resins, vinyl chloride and other monomers are preferable. Copolymer with, polyester resin, polyvinyl acetal resin,
Polyvinyl butyral resins, copolymers of styrene and other monomers, and epoxy resins.
【0070】この発明のクッション層を形成する材料と
しては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプ
レン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン
−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−
水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリ
ブタジエンの様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが
適する。Polyolefin is preferable as a material for forming the cushion layer of the present invention. For example, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer,
Ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-
Those having flexibility and low thermal conductivity such as hydrogenated isoprene-styrene block copolymer and polybutadiene are suitable.
【0071】この発明でいうクッション層とは、ICと
画像を受容する受像層の間に位置し、ICモジュール等
の電子部品による凹凸影響を緩和する役割を果たす軟質
の樹脂層を意味する。The cushion layer as referred to in the present invention means a soft resin layer which is located between the IC and the image receiving layer for receiving an image and plays a role of alleviating the effect of unevenness due to electronic parts such as an IC module.
【0072】樹脂層は、前記基体と実質的に同質の別支
持体の片面もしくは両面上に塗設あるいは貼合されて、
形成される事が特に好ましい。The resin layer is coated or laminated on one surface or both surfaces of another support having substantially the same quality as the above-mentioned substrate,
It is particularly preferable that it is formed.
【0073】ICカードの裏面シートとなる第1のシー
ト材にはペンで書ける筆記層、クッション層等を設けて
もよく特に制限はない。The first sheet material, which is the back sheet of the IC card, may be provided with a writing layer, a cushion layer, etc., which can be written with a pen, and there is no particular limitation.
【0074】筆記性層は、例えば炭酸カルシウム、タル
ク、ケイソウ土、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機微
細粉末を熱可塑性樹脂(ポリエチレン等のポリオレフィ
ン類や、各種共重合体等)のフィルムに含有せしめて形
成する。For the writable layer, a fine inorganic powder such as calcium carbonate, talc, diatomaceous earth, titanium oxide, barium sulfate is contained in a film of thermoplastic resin (polyolefin such as polyethylene, various copolymers, etc.). To form.
【0075】[電子部品]電子部品とは、情報記録部材
のことを示し具体的には当該電子カードの利用者の情報
を電気的に記憶するICチップ及び該ICチップに接続
されたコイル状のアンテナ体である。ICチップはメモ
リのみやそれに加えてマイクロコンピューターなどであ
る。場合により電子部品にコンデンサーを含んでもよ
い。この発明はこれに限定はされず情報記録部材に必要
な電子部品であれば特に限定はない。[Electronic Component] The electronic component means an information recording member, and specifically, an IC chip for electrically storing the information of the user of the electronic card, and a coil shape connected to the IC chip. It is an antenna body. The IC chip is a memory only or a microcomputer in addition to the memory. In some cases, the electronic component may include a capacitor. The present invention is not limited to this and is not particularly limited as long as it is an electronic component necessary for the information recording member.
【0076】ICモジュールはアンテナコイルを有する
ものであるが、アンテナパターンを有する場合、導電性
ペースト印刷加工、或いは銅箔エッチング加工、巻線溶
着加工等のいずれかの方法を用いてもよい。プリント基
板としては、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用
いられ、更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有
利である。ICチップとアンテナパターンとの接合は銀
ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電性接
着剤(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東芝ケ
ミカルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィルム
(日立化成工業製アニソルム等)を用いる方法、或いは
半田接合を行う方法が知られているがいずれの方法を用
いてもよい。Although the IC module has an antenna coil, when it has an antenna pattern, any method such as a conductive paste printing process, a copper foil etching process, or a winding welding process may be used. As the printed circuit board, a thermoplastic film such as polyester is used, and when heat resistance is required, polyimide is advantageous. The IC chip and the antenna pattern are joined by a conductive adhesive such as silver paste, copper paste, carbon paste (EN-4000 series of Hitachi Chemical Co., Ltd., XAP series of Toshiba Chemical Co., Ltd.) or anisotropic conductive film (Hitachi Chemical Co., Ltd.). A method of using an industrial anisorum) or a method of performing solder bonding is known, but any method may be used.
【0077】予めICチップを含む部品を所定の位置に
載置してから樹脂を充填するために、樹脂の流動による
剪断力で接合部が外れたり、樹脂の流動や冷却に起因し
て表面の平滑性を損なったりと安定性に欠けることを解
消するため、予め基板シートに樹脂層を形成しておいて
該樹脂層内に部品を封入するために該電子部品を多孔質
の樹脂フィルム、多孔質の発泡性樹脂フィルム、可撓性
の樹脂シート、多孔性の樹脂シート又は不織布シート状
にし使用されることが好ましい。例えば特願平11−1
05476号等の記載されている方法等を用いることが
できる。Since the component including the IC chip is placed at a predetermined position in advance and then the resin is filled, the joint portion is detached by the shearing force due to the flow of the resin, or the surface of the surface is broken due to the flow or cooling of the resin. In order to prevent loss of smoothness and lack of stability, a resin layer is formed on the substrate sheet in advance and the electronic component is sealed with a porous resin film or a porous resin film in order to encapsulate the component in the resin layer. It is preferable to use in the form of a high quality foamable resin film, a flexible resin sheet, a porous resin sheet or a non-woven fabric sheet. For example, Japanese Patent Application No. 11-1
The methods described in No. 05476 and the like can be used.
【0078】また、ICチップは点圧強度が弱いために
ICチップ近傍に補強板を有することも好ましい。Since the IC chip has a weak point pressure strength, it is also preferable to have a reinforcing plate in the vicinity of the IC chip.
【0079】電子部品の全厚さは10〜300μmが好
ましく、より好ましくは30〜300μm、更に好まし
くは30〜250μmが好ましい。The total thickness of the electronic component is preferably 10 to 300 μm, more preferably 30 to 300 μm, further preferably 30 to 250 μm.
【0080】[第1のシート材と、第2のシート材との
間に電子部品とを備える方法]この発明の第1のシート
材と第2のシート材との間に所定の電子部品とを備える
ために製造方式としては、熱貼合法、接着剤貼合法及び
射出成形法が知られているが、いずれの方法で張り合わ
せてもよい。また、第1のシート材と第2のシート材は
貼り合わせる前後いずれかにフォーマット印刷または、
情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印
刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印
刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方
式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成すること
ができる。[Method of Providing Electronic Component Between First Sheet Material and Second Sheet Material] A predetermined electronic component is provided between the first sheet material and the second sheet material of the present invention. In order to provide the above, as a manufacturing method, a heat bonding method, an adhesive bonding method and an injection molding method are known, but they may be bonded by any method. In addition, the first sheet material and the second sheet material are printed by format either before or after the bonding, or
Information may be recorded, and may be formed by any method such as offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, ink jet method, sublimation transfer method, electrophotographic method, heat melting method and the like. it can.
【0081】この発明のIC搭載カード基材の製造方法
は、特開2000−036026、特開2000−21
9855、特開平2000−211278、特開平20
00−219855、特開平10−316959号、特
開平11−5964号等のように貼り合わせ、塗設方法
が開示されている。いずれの張り合わせ方式、塗設方式
方法等をも用いることができ、この発明には特に制限は
ない。A method of manufacturing an IC mounted card base material according to the present invention is described in JP-A 2000-036026 and 2000-21.
9855, JP 2000-212178 A, JP 20
No. 00-219855, JP-A-10-316959, JP-A-11-5964, and the like, there are disclosed methods of laminating and coating. Any laminating method, coating method or the like can be used, and the present invention is not particularly limited.
【0082】また、この発明の請求項3乃至請求項5記
載のように、特定の位置に接着剤を配置させる方法とし
ては、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などにより、
所定位置に接着剤を塗布することにより製造することが
できる。また、ホットメルト接着剤を使用する場合に
は、ハンドガンタイプのホットメルトアプリケーターに
より、ノズルから接着剤をビード状に塗布することでそ
れぞれの配置へ塗布することも可能である。Further, as described in claims 3 to 5 of the present invention, as a method of disposing the adhesive at a specific position, a screen printing method, a gravure printing method, or the like is used.
It can be manufactured by applying an adhesive at a predetermined position. When a hot-melt adhesive is used, it is also possible to apply the adhesive in a bead shape from a nozzle with a hand gun type hot-melt applicator to apply the adhesive to each arrangement.
【0083】或いは、フィルム状に加工された該接着剤
を、所定の配置に設置するべく断裁し、それぞれの配置
へ設置した後に、加熱、加圧処理を施して貼り合わせる
こともできる。Alternatively, the adhesive processed into a film shape may be cut so as to be placed in a predetermined arrangement, and after being placed in each arrangement, heat and pressure treatment may be applied to bond them.
【0084】貼り合わせ時には、基材の表面平滑性、第
1のシート材と第2のシート材との間に所定の電子部品
の密着性をあげるために加熱及び加圧を行うことが好ま
しく、上下プレス方式、ラミネート方式等で製造するこ
とが好ましい、更にはIC部品の割れを考慮して、線接
触に近く、僅かなズレでも無理な曲げ力が加わるローラ
を避けて平面プレス型とするのが好ましい。加熱は、1
0〜180℃が好ましく、より好ましくは30〜150
℃である。加圧は、1.0〜300kgf/cm2が好
ましく、より好ましくは1.0〜200kgf/cm2
である。これより圧が高いとICチップが破損する。加
熱及び加圧時間は好ましくは、0.001〜90sec
より好ましくは0.001〜60secである。これよ
り時間が長いと製造効率が低下する。At the time of bonding, it is preferable to perform heating and pressurization in order to improve the surface smoothness of the base material and the adhesiveness of a predetermined electronic component between the first sheet material and the second sheet material, It is preferable to manufacture by a vertical pressing method, a laminating method, etc. Further, in consideration of cracking of IC parts, a flat pressing type is used to avoid a roller which is close to line contact and to which an excessive bending force is applied even with a slight deviation. Is preferred. Heating 1
0-180 degreeC is preferable, More preferably, it is 30-150.
℃. The applied pressure is preferably 1.0 to 300 kgf / cm 2 , and more preferably 1.0 to 200 kgf / cm 2.
Is. If the pressure is higher than this, the IC chip will be damaged. Heating and pressurizing time is preferably 0.001 to 90 sec
More preferably, it is 0.001 to 60 sec. If the time is longer than this, the manufacturing efficiency is reduced.
【0085】また、湿気硬化型接着剤のように水分等の
影響により反応速度が低下するものは、即ち接着力、カ
ード耐久性を劣化させるので貼り合わせる際に真空下若
しくは窒素下で貼り合わせることがより効果的である。
その貼り合わせまたは塗設工程において、所定の加圧加
温条件の下で基板用の部材、電子部品保持体及び表面用
の部材とが貼り合わされるので、電子部品保持体自身を
接着剤にして基板用の部材と、その電子部品保持体と、
表面用の基板とを再現性良く貼り合わせることができ
る。For a moisture-curing adhesive whose reaction rate is lowered due to the influence of moisture or the like, that is, the adhesive strength and the durability of the card are deteriorated. Therefore, the adhesive should be attached under vacuum or under nitrogen. Is more effective.
In the bonding or coating process, the substrate member, the electronic component holder and the surface member are bonded together under a predetermined pressure and heating condition, so that the electronic component holder itself is used as an adhesive. A member for a substrate, and an electronic component holder for the same,
The substrate for the surface can be attached with good reproducibility.
【0086】前記第1のシート材と第2のシート材が接
着剤を介して貼り合わされ、その接着剤層中にICチッ
プ及びアンテナを有するICモジュールを有するICカ
ード用のシートは、所定の条件下で保管された後に、I
Cカード用のシートを打ち抜き金型に供給し、前記打ち
抜き金型によって、ICカード用のシートからICカー
ドを打ち抜くことによって、ICカードは製造される。A sheet for an IC card having an IC module having an IC chip and an antenna in the adhesive layer, in which the first sheet material and the second sheet material are bonded together with an adhesive agent, has a predetermined condition. After being stored under
An IC card is manufactured by supplying a C card sheet to a punching die and punching the IC card from the IC card sheet with the punching die.
【0087】この場合、打ち抜き加工の前に、認証識別
画像や書誌事項を記録してもよい。In this case, the authentication identification image and the bibliographic items may be recorded before the punching process.
【0088】[光硬化型樹脂層]光硬化型樹脂層は、付
加重合性又は開環重合性を有する素材からなるものであ
り、付加重合成化合物とは、ラジカル重合性化合物、例
えば特開平7−159983号、特公平7−31399
号、特願平7−231444号等の各号公報及び特願平
7−231444号明細書に記載されている光重合成
(熱重合性も含む)組成物を用いた光硬化型材料であっ
てもよい。付加重合成化合物とは、カチオン重合系の光
硬化型材料が知られており、最近では可視光以上の長波
長域に増感された光カチオン重合系の光硬化材料も例え
ば、特開平6−43633号公報等に公開されている。
ハイブリッド型重合系の光硬化材料としては特開平4−
181944号等で組成物が開示されている。具体的に
は、上記カチオン系開始剤、カチオン重合性化合物、ラ
ジカル系開始剤、ラジカル重合性化合物のいずれかを含
む光硬化層であり、本発明の目的においてはいずれの光
硬化層を用いても構わない。[Photocurable Resin Layer] The photocurable resin layer is made of a material having an addition-polymerizable or ring-opening-polymerizable property, and the addition-polymerization compound is a radical-polymerizable compound, for example, Japanese Patent Laid-Open No. H7-18753. -159983, Japanese Patent Publication No. 7-31399
A photo-curable material using a photo-polymerization (including heat-polymerizable) composition described in Japanese Patent Application No. 7-231444, etc. and Japanese Patent Application No. 7-231444. May be. As the addition polysynthetic compound, a cationic polymerization type photocurable material is known, and recently, a cationic photopolymerization type photocurable material sensitized to a long wavelength region longer than visible light is also disclosed in, for example, JP-A-6- It is disclosed in Japanese Patent Publication No. 43633.
As a hybrid polymerization type photocurable material, there is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 181944 discloses the composition. Specifically, it is a photo-curable layer containing any of the above-mentioned cationic initiator, cationically polymerizable compound, radical-based initiator and radical-polymerizable compound, and any photo-curable layer is used for the purpose of the present invention. I don't mind.
【0089】[熱硬化型樹脂層]この発明において、熱
硬化性樹脂組成物としては、例えばエポキシ系、ポリエ
ステル系、アクリル系等の樹脂に硬化剤や硬化触媒、流
展剤、その他添加剤等を配合してもよい。[Thermosetting Resin Layer] In the present invention, the thermosetting resin composition is, for example, an epoxy-based, polyester-based, acrylic-based resin, a curing agent, a curing catalyst, a leveling agent, or other additives. You may mix | blend.
【0090】ポリエステル樹脂の組成としては、ジカル
ボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸を主体とし、ジオール成分としてエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオ
ールを主体とするものがよく、これらにアジピン酸やア
ゼライン酸等の脂肪族ジカルボン酸、トリメリット酸や
ピロメリット酸等の三価以上のカルボン酸、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
ト−ル等の三価以上のアルコール等を少量含んでいるも
のは溶融流動性、架橋反応性が向上するのでより好まし
い。As the composition of the polyester resin, a composition mainly containing an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or isophthalic acid as a dicarboxylic acid component and an aliphatic diol such as ethylene glycol or neopentyl glycol as a diol component is preferable. , Aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and azelaic acid, trivalent or higher carboxylic acids such as trimellitic acid and pyromellitic acid, and trivalent or higher valency such as trimethylolethane, trimethylolpropane and pentaerythritol. Those containing a small amount of alcohol and the like are more preferable because the melt fluidity and the crosslinking reactivity are improved.
【0091】また、ポリエステル樹脂の平均重合度は5
〜50の範囲のものが好ましい。これより低いものはフ
ィルムにしたとき十分な強度が得られず、これより高い
ものは粉砕が困難になる。次に硬化剤としては、ポリエ
ステルの末端基が−OH型のものはイソシアナート化合
物やメラミン樹脂、例えばε−カプロラクタムブロック
イソシアナートやメチル化メラミン等がある。末端基が
−COOH型のものはエポキシ樹脂やトリグリシジルイ
ソシアヌレート等がある。
「熱または光硬化型樹脂層作成方法」熱または光硬化型
樹脂層を画像記録体上に作成する場合、塗布方式で作成
するか若しくは転写箔で形成することが好ましい。The average degree of polymerization of the polyester resin is 5
Those in the range of -50 are preferred. If it is lower than this, sufficient strength cannot be obtained when it is made into a film, and if it is higher than this, crushing becomes difficult. Next, as the curing agent, when the terminal group of polyester is -OH type, there are an isocyanate compound and a melamine resin, for example, ε-caprolactam block isocyanate and methylated melamine. Examples of the -COOH type terminal group include epoxy resin and triglycidyl isocyanurate. [Method for Producing Heat or Photocurable Resin Layer] When the heat or photocurable resin layer is produced on the image recording body, it is preferable to produce it by a coating method or transfer foil.
【0092】画像記録体上に保護する方法として塗布を
選択する場合、従来公知の方法、例えば回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、フェルト塗布、エアーナ
イフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレイ塗布、静電エ
アースプレイ塗布、ロール塗布ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば固形分として0.05〜50.0g
/m2の塗布量が好ましい。なお、塗布量が少なくなる
につれて見掛けの感度が大になるが画像形成層の皮膜特
性、耐薬品性は低下する。When coating is selected as a method of protecting the image recording material, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, felt coating, air knife coating, spray coating, air spray coating, electrostatic coating are used. Methods such as air spray coating, roll coating blade coating and curtain coating are used. At this time, the coating amount varies depending on the application, but is, for example, 0.05 to 50.0 g as solid content.
A coating amount of / m 2 is preferred. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics and chemical resistance of the image forming layer decrease.
【0093】塗布後硬化させる方法として活性な電磁波
を発生させるものは全て用いることができる。例えば、
レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュラン
プ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライ
ドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等
をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、
ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラ
ンプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げら
れ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類
により、露光距離、時間、強度を調整することにより適
時選択して用いることができる。
「活性硬化線」レーザーを光源として用いる場合には、
露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像
度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアル
ゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザ
ー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能
である。As a method for curing after coating, any method for generating active electromagnetic waves can be used. For example,
Examples thereof include lasers, light emitting diodes, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, mercury lamps and electrodeless light sources. Preferably a xenon lamp,
Examples of the light source include a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, and a mercury lamp.Energy to be added at this time is appropriately selected by adjusting the exposure distance, time, and intensity depending on the type of the polymerization initiator. Can be used. When using an "active curing line" laser as the light source,
It is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As a laser light source, any of an argon laser, a He-Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser and the like can be preferably used.
【0094】また、活性光線を用い光硬化を行う場合、
減圧下、窒素気流中で光硬化を安定化する手段等を用い
てもかまわない。
「熱処理」熱エネルギーを加えることもでき、手段とし
ては、オーブン、ヒ−トロ−ル、ホットスタンプ、サー
マルヘッド、レーザー光、赤外線フラッシュ、熱ペンな
どを適時選択して用いることができる。When photocuring is performed using actinic rays,
A means for stabilizing photocuring in a nitrogen stream under reduced pressure may be used. "Heat treatment" Heat energy can also be applied, and as a means, an oven, a heater, a hot stamp, a thermal head, a laser beam, an infrared flash, a hot pen, etc. can be selected and used at appropriate times.
【0095】この発明の熱または光硬化型樹脂層からな
る保護は、耐熱性の支持体、例えばポリエチレンテレフ
タレート樹脂フィルム上に塗工によって形成された透明
保護層リボンもしくは透明保護箔をあらかじめ用意して
おき、これを、例えば、サーマルヘッドや熱転写ロール
を用いて、熱転写することによって形成することができ
る。
[転写箔を用いてのICカードの作成方法]以下、この
発明の転写箔及びICカード作成方法の実施の形態を図
面に基づいて説明するが、この発明はこの実施の形態の
説明及び図面に限定されるものではない。まず、第1の
実施の形態を図4及び図5に示し、図4はICカード作
成装置の概略構成図、図5はICカードの層構成を示す
図である。For protection of the heat- or photo-curable resin layer of the present invention, a transparent protective layer ribbon or transparent protective foil formed by coating on a heat-resistant support such as a polyethylene terephthalate resin film is prepared in advance. Alternatively, it can be formed by thermal transfer using, for example, a thermal head or a thermal transfer roll. [Method of Making IC Card Using Transfer Foil] Hereinafter, an embodiment of the transfer foil and the method of making an IC card according to the present invention will be described with reference to the drawings. It is not limited. First, a first embodiment is shown in FIGS. 4 and 5, FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an IC card producing apparatus, and FIG. 5 is a diagram showing a layer configuration of an IC card.
【0096】この実施の形態のICカード作成装置に
は、上方位置にカード基材供給部10及び情報記録部2
0が配置され、下方位置に、保護付与部及び又は光学変
化素子付与部40、活性光線硬化層付与部及び/又は活
性光線照射部90が配置され、ICカードとしてカード
を作成するが、シートも作成することもできる。In the IC card producing apparatus of this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 2 are provided at the upper position.
0 is disposed, and the protection imparting portion and / or the optical change element imparting portion 40, the actinic ray curing layer imparting portion and / or the actinic ray irradiating portion 90 are disposed in the lower position to prepare a card as an IC card, but a sheet is also It can also be created.
【0097】カード基材供給部10には、カード使用者
の個人情報を書き込むために予め枚葉状にカットされた
複数枚のカード基材50が、顔写真を記録する面を上に
向けてストックされている。この例では、カード基材5
0が支持体51と受像層52からなり、このカード基材
50は1枚づつカード基材供給部10から所定のタイミ
ングで自動供給される。In the card base material supply unit 10, a plurality of card base materials 50 preliminarily cut into a sheet shape for writing the personal information of the card user are stocked with the face for recording a face up. Has been done. In this example, the card substrate 5
0 is composed of a support 51 and an image receiving layer 52, and the card bases 50 are automatically supplied one by one from the card base supply unit 10 at a predetermined timing.
【0098】情報記録部20には、イエローリボンカセ
ット21、マゼンタリボンカセット22、シアンリボン
カセット23、ブラックリボンカセット24が配置さ
れ、それぞれに対応して記録ヘッド25〜28が配置さ
れている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリ
ボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材50
が移動されている間に、その受像層52の所定領域にカ
ード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域53が記
録される。また、文字リボンカセット31及び記録ヘッ
ド32が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる
熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報5
4が記録され、画像記録層が形成される。In the information recording section 20, a yellow ribbon cassette 21, a magenta ribbon cassette 22, a cyan ribbon cassette 23, and a black ribbon cassette 24 are arranged, and recording heads 25 to 28 are arranged corresponding to them. The card substrate 50 is formed by thermal transfer using a thermal transfer sheet such as a yellow ribbon, a magenta ribbon, and a cyan ribbon.
While the image is being moved, an image area 53 having a gradation such as a facial photograph of the card user is recorded in a predetermined area of the image receiving layer 52. Further, the character ribbon cassette 31 and the recording head 32 are arranged, and the thermal identification by the thermal transfer sheet such as the character ribbon, the authentication identification information 5 such as the name and the card issuing date.
4 is recorded and an image recording layer is formed.
【0099】保護付与部及び/又は光学変化素子付与部
40では、転写箔カセット41が配置され、この転写箔
カセット41に対応して熱転写ヘッド42が配置されて
いる。透明保護転写箔64及び/又は光学変化素子転写
箔43を熱転写して、透明保護転写層640及び/又は
光学変化素子転写層430が設けられる。A transfer foil cassette 41 is disposed in the protection imparting section and / or the optical change element imparting section 40, and a thermal transfer head 42 is disposed corresponding to the transfer foil cassette 41. The transparent protective transfer foil 64 and / or the optically variable element transfer foil 43 is thermally transferred to provide the transparent protective transfer layer 640 and / or the optically variable element transfer layer 430.
【0100】その後活性光線硬化層付与部及び/又は活
性光線照射部90により活性光線硬化液が塗布され、活
性光線により露光が行なわれ、図5の構成のICカード
の層構成が得られ、透明保護転写層640及び/又は光
学変化素子転写層430上に活性光線硬化層650が設
けられる。After that, the actinic ray curable liquid is applied by the actinic ray curable layer applying section and / or the actinic ray irradiating section 90 and exposed by the actinic ray to obtain the layer constitution of the IC card having the constitution shown in FIG. An actinic ray curing layer 650 is provided on the protective transfer layer 640 and / or the optical change element transfer layer 430.
【0101】次に、第2の実施の形態を図6及び図7に
示し、図6はICカード作成装置の概略構成図、図7は
ICカードの層構成を示す図である。Next, a second embodiment is shown in FIGS. 6 and 7, FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an IC card producing apparatus, and FIG. 7 is a diagram showing a layer configuration of an IC card.
【0102】この実施の形態のICカード作成装置1で
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、情報記録部20の次に樹脂付与部60が
配置されている。In the IC card producing apparatus 1 of this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 20 are similarly configured, but the resin applying section 60 is arranged next to the information recording section 20. .
【0103】樹脂付与部60には、転写箔カセット61
が配置され、この転写箔カセット61に対応して熱転写
ヘッド62が配置位置されている。転写箔カセット61
に硬化型転写箔66がセットされ、この硬化型転写箔6
6を転写し硬化型保護層含有転写層660が設けられ
る。The resin applying section 60 includes a transfer foil cassette 61.
Is arranged, and the thermal transfer head 62 is arranged corresponding to the transfer foil cassette 61. Transfer foil cassette 61
The curable transfer foil 66 is set in the
6 is transferred to provide a curable protective layer-containing transfer layer 660.
【0104】次に、第3の実施の形態を図8及び図9に
示し、図8はICカード作成装置の概略構成図、図9は
ICカードの層構成を示す図である。Next, a third embodiment is shown in FIGS. 8 and 9, FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an IC card producing apparatus, and FIG. 9 is a diagram showing a layer configuration of an IC card.
【0105】この実施の形態のICカード作成装置1で
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、情報記録部20の次に保護付与部及び又
は光学変化素子付与部40、樹脂付与部60が配置され
る。In the IC card producing apparatus 1 of this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 20 are configured in the same manner, but next to the information recording section 20, a protection imparting section and / or an optical change element imparting section The part 40 and the resin applying part 60 are arranged.
【0106】保護付与部及び又は光学変化素子付与部4
0では、透明保護転写層640及び/又は光学変化素子
転写層430が設けられる。樹脂付与部60では、受像
層52上に透明保護転写層640及び/又は光学変化素
子転写層430で形成されたICカード上に硬化型転写
箔66を熱転写し硬化型保護層含有転写層660が設け
られる。Protection imparting portion and / or optical change element imparting portion 4
At 0, the transparent protective transfer layer 640 and / or the optically variable element transfer layer 430 are provided. In the resin applying section 60, the curable transfer foil 66 is thermally transferred onto the IC card formed of the transparent protective transfer layer 640 and / or the optically variable element transfer layer 430 on the image receiving layer 52 to form the curable protective layer-containing transfer layer 660. It is provided.
【0107】次に、第4の実施の形態を図10及び図1
1に示し、図10はICカード作成装置の概略構成図、
図11はICカードの層構成を示す図である。Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIGS.
1 and FIG. 10 is a schematic configuration diagram of the IC card creation device,
FIG. 11 is a diagram showing the layer structure of the IC card.
【0108】この実施の形態のICカード作成装置1
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、透明保護層及び/又は光学変化素子転写
層付与部/又は樹脂層付与部70が配置され、この後更
に透明保護層及び/又は光学変化素子転写層付与部/又
は樹脂層付与部70が配置されている。IC card making apparatus 1 of this embodiment
The card base material supply unit 10 and the information recording unit 20 have the same structure, but a transparent protective layer and / or an optical change element transfer layer applying unit / or a resin layer applying unit 70 are arranged, and then a transparent protective layer is added. The layer and / or the optical change element transfer layer applying portion / or the resin layer applying portion 70 is arranged.
【0109】透明保護層及び/又は光学変化素子転写層
付与部/又は樹脂層付与部70では、転写箔カセット7
1が配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転
写ヘッド72が配置されている。光学変化素子転写箔4
3及び/又は透明保護転写箔64、硬化型転写箔66を
転写し、光学変化素子転写層430及び/透明保護転写
層640、硬化型保護層含有転写層660が設けられ
る。In the transparent protective layer and / or the optical change element transfer layer applying section / or the resin layer applying section 70, the transfer foil cassette 7 is used.
1 is arranged, and a thermal transfer head 72 is arranged corresponding to the transfer foil cassette 71. Optical change element transfer foil 4
3 and / or the transparent protective transfer foil 64 and the curable transfer foil 66 are transferred, and the optically variable element transfer layer 430 and / or the transparent protective transfer layer 640 and the curable protective layer-containing transfer layer 660 are provided.
【0110】次に第5の実施形態を図12及び図13に
示し、図12はICカード作成装置の概略図、図13は
ICカードの層構成を示す図である。Next, a fifth embodiment is shown in FIGS. 12 and 13, FIG. 12 is a schematic view of an IC card producing apparatus, and FIG. 13 is a view showing a layer structure of the IC card.
【0111】この実施形態のICカード作成装置1はカ
ード基材供給部10及び情報記録部20は同様に構成さ
れるが、透明保護層及び/又は光学変化素子転写付与部
/又は樹脂層付与部70が配置される。In the IC card producing apparatus 1 of this embodiment, the card base material supply section 10 and the information recording section 20 are configured in the same manner, but the transparent protective layer and / or the optical change element transfer applying section / or the resin layer applying section 70 is arranged.
【0112】透明保護層及び/又は光学変化素子転写付
与部/又は樹脂層付与部70には、転写カセット71が
配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転写ヘ
ッド72が配置されている。硬化型樹脂層含有光学変化
素子転写箔44を転写し、硬化型樹脂層含有光学変化素
子転写層440が設けられる。A transfer cassette 71 is disposed in the transparent protective layer and / or the optical change element transfer imparting portion / or resin layer imparting portion 70, and a thermal transfer head 72 is disposed corresponding to the transfer foil cassette 71. The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is transferred to provide the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440.
【0113】この発明では、透明保護転写箔とは、画像
を保護する透明保護箔であり、透明保護層とは、画像を
保護する透明保護層である。また樹脂層とは、この発明
にあたる破断伸度、摩擦係数を規定した樹脂を有する層
である。また活性硬化線樹脂層とは、樹脂層の種類の一
部であり、この発明では好ましい実施形態であるが、製
造上樹脂層に限定される場合がある。また硬化型保護層
含有光学変化素子層とは、硬化層と光学変化素子層が一
体になっている層のことを表す。また保護性付与転写箔
とは、樹脂層(好ましくは活性光線硬化性樹脂)を少な
くとも一層含む転写箔のことを表す。In the present invention, the transparent protective transfer foil is a transparent protective foil that protects an image, and the transparent protective layer is a transparent protective layer that protects an image. Further, the resin layer is a layer having a resin which defines the elongation at break and the coefficient of friction according to the present invention. The active cured resin layer is a part of the type of the resin layer, which is a preferred embodiment in the present invention, but may be limited to the resin layer in manufacturing. The curable protective layer-containing optical change element layer refers to a layer in which the cured layer and the optical change element layer are integrated. The protective property imparting transfer foil means a transfer foil including at least one resin layer (preferably actinic ray curable resin).
【0114】次に、透明保護転写箔64の実施の形態を
図14に示す。図14(a)の透明保護転写箔64は透
明保護転写層640と支持体64bから構成され、透明
保護転写層640は離型層64a1、透明保護層64a
2、接着層64a3から構成され、透明保護層64a2
の両側に離型層64a1、接着層64a3が設けられ、
離型層64a1が支持体64bに接着されている。図1
4(b)の透明保護転写箔64は図14(a)の転写箔
と同様に構成されるが、透明保護層64a2と接着層6
4a3との間に中間層64a4が設けられている。図1
4(c)の透明保護転写箔64は図14(b)の転写箔
と同様に構成されるが、透明保護層64a2を2層設け
ている。図14(d)の透明保護転写箔64は図14
(b)の転写箔と同様に構成されるが、透明保護層64
a2と中間層64a4との間にバリヤー層64a5が設
けられている。Next, an embodiment of the transparent protective transfer foil 64 is shown in FIG. The transparent protective transfer foil 64 of FIG. 14A is composed of a transparent protective transfer layer 640 and a support 64b, and the transparent protective transfer layer 640 includes a release layer 64a1 and a transparent protective layer 64a.
2. Adhesive layer 64a3, transparent protective layer 64a2
Release layers 64a1 and adhesive layers 64a3 are provided on both sides of
The release layer 64a1 is adhered to the support 64b. Figure 1
The transparent protective transfer foil 64 of 4 (b) has the same structure as the transfer foil of FIG. 14 (a), except that the transparent protective layer 64a2 and the adhesive layer 6 are
The intermediate layer 64a4 is provided between the intermediate layer 64a4 and 4a3. Figure 1
The transparent protective transfer foil 64 of 4 (c) has the same structure as the transfer foil of FIG. 14 (b), but two transparent protective layers 64a2 are provided. The transparent protective transfer foil 64 of FIG.
Same structure as the transfer foil of (b), but with transparent protective layer 64
A barrier layer 64a5 is provided between a2 and the intermediate layer 64a4.
【0115】これらの透明保護転写箔64は、透明保護
転写層640が支持体43bから剥離して転写される。The transparent protective transfer foil 64 is transferred by peeling the transparent protective transfer layer 640 from the support 43b.
【0116】光学変化素子転写箔43の実施の形態を図
15に示す。図15(a)の光学変化素子転写箔43は
光学変化素子転写層430と支持体43bから構成さ
れ、光学変化素子転写層430は離型層43a1、光学
変化素子層43a2、接着層43a3から構成され、光
学変化素子層43a2の両側に離型層43a1、接着層
43a3が設けられ、離型層43a1が支持体43bに
接着されている。図15(b)の光学変化素子転写箔4
3は図15(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着
層43a3と光学変化素子層43a2との間に中間層4
3a4が設けられている。図15(c)の光学変化素子
転写箔43は図15(b)の転写箔と同様に構成される
が、光学変化素子層43a2と中間層43a4との間に
バリヤー層43a5が設けられている。図15(d)の
転写箔は図15(c)の転写箔と同様に構成されるが、
離型層43a1と光学変化素子層43a2との間に透明
保護層43a6が設けられている。An embodiment of the optical variable element transfer foil 43 is shown in FIG. The optical change element transfer foil 43 of FIG. 15A is composed of an optical change element transfer layer 430 and a support 43b, and the optical change element transfer layer 430 is composed of a release layer 43a1, an optical change element layer 43a2, and an adhesive layer 43a3. The release layer 43a1 and the adhesive layer 43a3 are provided on both sides of the optical change element layer 43a2, and the release layer 43a1 is adhered to the support 43b. Optically variable element transfer foil 4 of FIG.
3 has the same structure as that of the transfer foil of FIG. 15A, except that the intermediate layer 4 is provided between the adhesive layer 43a3 and the optical change element layer 43a2.
3a4 is provided. The optical variable element transfer foil 43 of FIG. 15C is configured similarly to the transfer foil of FIG. 15B, but a barrier layer 43a5 is provided between the optical variable element layer 43a2 and the intermediate layer 43a4. . The transfer foil of FIG. 15 (d) has the same structure as the transfer foil of FIG. 15 (c),
A transparent protective layer 43a6 is provided between the release layer 43a1 and the optical change element layer 43a2.
【0117】これらの光学変化素子転写箔43は、光学
変化素子転写層430が支持体43bから剥離して転写
される。The optical change element transfer foil 43 is transferred by separating the optical change element transfer layer 430 from the support 43b.
【0118】次に、硬化型転写箔66の実施の形態を図
16に示す。図16(a)の硬化型転写箔66は硬化型
保護層含有転写層660と支持体66bから構成され、
硬化型保護層含有転写層660は離型層66a1、硬化
層66a2、中間層66a4、接着層66a3から構成
され、硬化層66a2の両側に離型層66a1と中間層
66a4が設けられ、離型層66a1が支持体66bに
接着されている。図16(b)の硬化型転写箔66は図
16(a)の転写箔と同様に構成されるが、硬化層66
a2を2層設けている。図16(c)の硬化型転写箔6
6は図16(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着
層66a3と中間層63a4との間にバリヤー層66a
5が設けられている。Next, an embodiment of the curable transfer foil 66 is shown in FIG. The curable transfer foil 66 of FIG. 16A is composed of a curable protective layer-containing transfer layer 660 and a support 66b,
The curable protective layer-containing transfer layer 660 includes a release layer 66a1, a cured layer 66a2, an intermediate layer 66a4, and an adhesive layer 66a3. The release layer 66a1 and the intermediate layer 66a4 are provided on both sides of the cured layer 66a2. 66a1 is adhered to the support 66b. The curable transfer foil 66 of FIG. 16B has the same configuration as the transfer foil of FIG.
Two layers of a2 are provided. The curable transfer foil 6 of FIG. 16 (c)
6 has the same structure as the transfer foil of FIG. 16 (a), but has a barrier layer 66a between the adhesive layer 66a3 and the intermediate layer 63a4.
5 are provided.
【0119】これらの硬化型転写箔66は、硬化型保護
層含有転写層660が支持体43bから剥離して転写さ
れる。The curable transfer foil 66 is transferred by separating the curable protective layer-containing transfer layer 660 from the support 43b.
【0120】次に、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写
箔44の実施の形態を図17に示す。図17(a)の硬
化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は硬化型樹脂層
含有光学変化素子転写層440と支持体44bから構成
され、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層440は離
型層44a1、硬化層44a9、光学変化素子層44a
2、中間層44a4、バリヤー層44a5、接着層44
a3から構成され、離型層44a1が支持体44bに接
着されている。図17(b)の硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44は図17(a)の転写箔と同様に構成
されるが、中間層44a4がない構成であり、また図1
7(c)の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は
図17(a)の転写箔と同様に構成されるが、バリヤー
層44a5がない構成である。Next, an embodiment of the curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is shown in FIG. The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of FIG. 17A is composed of a curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 and a support 44b, and the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 is separated. Mold layer 44a1, cured layer 44a9, optical change element layer 44a
2, intermediate layer 44a4, barrier layer 44a5, adhesive layer 44
The release layer 44a1 is made of a3 and is adhered to the support 44b. The curable resin layer-containing optically variable element transfer foil 44 of FIG. 17 (b) has the same structure as the transfer foil of FIG. 17 (a), but does not have the intermediate layer 44a4.
The curable resin layer-containing optically variable element transfer foil 44 of 7 (c) has the same structure as the transfer foil of FIG. 17 (a), but does not have the barrier layer 44a5.
【0121】これらの硬化型樹脂層含有光学変化素子転
写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層44
0が支持体44bから剥離して転写される。The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is used as the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 44.
0 is separated from the support 44b and transferred.
【0122】この実施の形態の硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転
写層440が支持体44bから剥離して転写され、硬化
型樹脂層含有光学変化素子転写層440が、少なくと
も、離型層、硬化層、光学変化素子層、中間層、接着層
を有する構成であり、表面保護性、表面摩耗耐久性に優
れている。In the curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of this embodiment, the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 is peeled from the support 44b and transferred, and the curable resin layer-containing optical change film is transferred. The element transfer layer 440 has at least a release layer, a cured layer, an optical change element layer, an intermediate layer, and an adhesive layer, and is excellent in surface protection and surface abrasion resistance.
【0123】また、少なくとも、光学変化素子層よりI
Cカード表面側に位置する透明保護層が、紫外線硬化層
または電子線硬化層であることが表面保護性、表面摩耗
耐久性に優れ好ましい。Further, at least from the optical change element layer, I
It is preferable that the transparent protective layer located on the surface side of the C card is an ultraviolet curable layer or an electron beam curable layer because of excellent surface protection and surface abrasion resistance.
【0124】また、光学変化素子層が、凹凸像を有する
ハードコート層、蒸着層であることが、より偽変造防止
の硬化があり好ましい。Further, it is preferable that the optical change element layer is a hard coat layer or a vapor deposition layer having an uneven image because curing for preventing forgery / alteration is more facilitated.
【0125】また、少なくとも1つの透明保護層が、カ
ード全面に熱転写されていることが表面保護性、表面摩
耗耐久性に優れ好ましい。Further, it is preferable that at least one transparent protective layer is thermally transferred onto the entire surface of the card because of excellent surface protection and surface abrasion resistance.
【0126】さらに、透明保護転写箔または光学変化素
子転写箔のいずれかの層に、帯電防止剤が含有されてい
ることが好ましく、ゴミが付着しないカード、あるいは
シートを作成できる。Furthermore, it is preferable that an antistatic agent is contained in either layer of the transparent protective transfer foil or the optically variable element transfer foil, so that a card or sheet on which dust does not adhere can be prepared.
【0127】また、先に転写された転写表面が、後から
転写される転写箔の易接着加工されていることが、接着
性がよく好ましい。Further, it is preferable that the transfer surface which has been transferred first is subjected to the easy adhesion processing of the transfer foil which is transferred later, because the adhesion is good.
【0128】この発明の転写箔においては、帯電防止
層、離型層、透明保護層、光学変化素子層、バリヤ層、
中間層、接着層に少なくとも一層が設けられることが好
ましい。転写箔の帯電防止層は、帯電防止性に優れたア
ニオン性高分子物質及び/又は導電性粒子を含有する。In the transfer foil of the present invention, an antistatic layer, a release layer, a transparent protective layer, an optical change element layer, a barrier layer,
At least one layer is preferably provided in the intermediate layer and the adhesive layer. The antistatic layer of the transfer foil contains an anionic polymer substance having excellent antistatic properties and / or conductive particles.
【0129】[転写箔材料の詳細な説明]この発明転写
箔は、離型層、透明樹脂層を有する支持体からなること
が好ましく、より好ましくは離型層、透明樹脂層、中間
層、バリヤー層、プライマー層、接着層の少なくとも1
つから成る層で構成されていることが好ましい。本発明
の場合、ICチップにより偽変造等の防止が行えるが、
目的で目視判別のために光学変化素子層を設けることも
可能である。
<転写箔用支持体>支持体としては例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等の
ポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレ
ン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフ
ッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等の
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/
ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビ
ニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファ
ン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、
ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等
の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、
硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上
の積層体が挙げられる。本発明の支持体の厚みは10〜
200μm望ましくは15〜80μmである。10μm
以下であると支持体が転写時に破壊してしまい問題であ
る。本発明の特定離型層においては、ポリエチレンテレ
フタレートが好ましい。[Detailed Description of Transfer Foil Material] The transfer foil of the present invention preferably comprises a support having a release layer and a transparent resin layer, more preferably a release layer, a transparent resin layer, an intermediate layer and a barrier. At least one of a layer, a primer layer, and an adhesive layer
It is preferably composed of two layers. In the case of the present invention, the IC chip can prevent forgery and the like,
It is also possible to provide an optical change element layer for the purpose of visual discrimination. <Transfer foil support> Examples of the support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene terephthalate / isophthalate copolymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, polyvinyl fluoride and polyvinyl fluoride. Poly (vinyl fluoride), poly (tetrafluoroethylene), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer, etc., polyfluorinated ethylene resin, polyamide such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer , Ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene /
Vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer such as vinylon, cellulose triacetate, cellulosic resin such as cellophane, methyl polymethacrylate,
Acrylic resins such as ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate, etc., polystyrene, polycarbonate, polyarylate, synthetic resin sheets such as polyimide, or fine paper, thin paper, glassine paper,
Examples include paper such as sulfuric acid paper and the like, single-layered bodies such as metal foils, and laminated bodies of two or more layers thereof. The thickness of the support of the present invention is 10 to 10.
200 μm It is preferably 15 to 80 μm. 10 μm
If it is below, the support will be broken at the time of transfer, which is a problem. In the specific release layer of the present invention, polyethylene terephthalate is preferred.
【0130】この発明の支持体は必要に応じて凹凸を有
することができる。凹凸作成手段としては、マット剤練
り込み、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マット
コーティング、もしくはケミカルエッチング等が挙げら
れる。マットコーティングの場合有機物及び無機物のい
ずれでもよい。The support of the present invention may have irregularities if necessary. Examples of means for forming irregularities include kneading with a matting agent, sandblasting, hairline processing, matte coating, or chemical etching. In the case of matte coating, either an organic substance or an inorganic substance may be used.
【0131】例えば、無機物としては、スイス特許第3
30,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,29
6,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,17
3,181号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミウ
ム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いることが
できる。有機物としては、米国特許第2,322,03
7号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号
や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘導
体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルアル
コール、スイス特許第330,158号等に記載のポリ
スチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第3,
079,257号等に記載のポリアクリロニトリル、米
国特許第3,022,169号等に記載されたポリカー
ボネートの様な有機マット剤を用いることができる。マ
ット剤の付着方法は、予め塗布液中に分散させて塗布す
る方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が
終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよ
い。又複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の
方法を併用してもよい。本発明で凹凸加工する場合、転
写面、背面のいずれか片面以上に施すことが可能であ
る。
<転写箔離型層>剥離層としては、高ガラス転移温度を
有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボリ
ビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリコ
ンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニル
ピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Si変性
ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒドロ
キシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワック
ス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワックス、
エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポリジ
メチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステル変
性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン変性
シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変性シ
リコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性
シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、等が
挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素化オ
レフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙げら
れる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイミン
オクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げられ
る。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散するな
どして用いることができる。For example, as the inorganic substance, Swiss Patent No. 3 can be used.
Silica described in 30,158, etc., French Patent No. 1,29
Glass powder described in US Pat. No. 6,995, British Patent No. 1,17
Alkaline earth metals described in No. 3,181 or carbonates such as cadmium and zinc can be used as a matting agent. Organic substances include US Pat. No. 2,322,03
No. 7, etc., starch derivatives, such as Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,198, polyvinyl alcohols described in Japanese Patent Publication No. 44-3643, Swiss Patent No. 330,158. Or polymethacrylate described in U.S. Pat.
Organic matting agents such as polyacrylonitrile described in US Pat. No. 079,257 and polycarbonate described in US Pat. No. 3,022,169 can be used. The method for applying the matting agent may be a method in which the matting agent is dispersed in the coating solution in advance and then applied, or a method in which the matting agent is sprayed after the application of the coating solution and before the completion of drying. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used together. In the case of the uneven processing according to the present invention, it is possible to apply it to one or more of the transfer surface and the back surface. <Transfer foil release layer> As the release layer, a resin such as an acrylic resin having a high glass transition temperature, a polyvinyl acetal resin, a poly (vinyl butyral) resin, waxes, silicone oils, a fluorine compound, a polyvinylpyrrolidone resin having water solubility , Polyvinyl alcohol resin, Si modified polyvinyl alcohol, methyl cellulose resin, hydroxy cellulose resin, silicone resin, paraffin wax, acrylic modified silicone, polyethylene wax,
Resins such as ethylene vinyl acetate can be mentioned. In addition, polydimethylsiloxane and its modified products such as polyester modified silicone, acrylic modified silicone, urethane modified silicone, alkyd modified silicone, amino modified silicone, epoxy modified silicone, polyether modified silicone, etc. Oils and resins, or cured products thereof. Examples of other fluorine-based compounds include fluorinated olefins and perfluorophosphate ester-based compounds. Preferred olefin compounds include dispersions of polyethylene, polypropylene, etc., long-chain alkyl compounds such as polyethyleneimine octadecyl, etc. Of these release agents, those having poor solubility can be used by dispersing them.
【0132】転写箔を2枚転写する場合は熱可塑性エラ
ストマーを添加してもよい。熱可塑性エラストマーは具
体的にスチレン系(スチレン・ブロック・コポリマー
(SBC))、オレフィン系(TP)、ウレタン系(T
PU)、ポリエステル系(TPEE)、ポリアミド系
(TPAE)、1,2−ポリブタジエン系、塩ビ系(T
PVC)、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエ
チレン、シリコーン系等が挙げられ具体的には1996
年度版「12996の化学商品」(化学工業日報社)等
に記載されている。When two transfer foils are transferred, a thermoplastic elastomer may be added. Specific examples of thermoplastic elastomers include styrene type (styrene block copolymer (SBC)), olefin type (TP), urethane type (T
PU), polyester type (TPEE), polyamide type (TPAE), 1,2-polybutadiene type, vinyl chloride type (T
PVC), fluorine-based, ionomer resin, chlorinated polyethylene, silicone-based, and the like. Specifically, 1996
It is described in "12996 Chemical Products" (Chemical Industry Daily), etc., for the fiscal year.
【0133】この発明で好適に用いられる、ポリスチレ
ンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる引っ張
り伸びが100%以上熱可塑性エラストマーとは、スチ
レンおよび炭素数10以下の直鎖または分岐の飽和アル
キルのブロックからなる熱可塑性樹脂(以下熱可塑性樹
脂S1ともいう)を言う。特に、ポリスチレン相とポリ
オレフィンを水素添加した相をもつブロックポリマーで
あるスチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)、スチ
レン−イソプレン−スチレン(SIS)、スチレン−エ
チレン/ブチレン−スチレン(SEBS)、スチレン−
エチレン/プロピレン−スチレン(SEPS)、スチレ
ン−エチレン/プロピレン(SEP)のブロックポリマ
ー等があげられる。The thermoplastic elastomer having a tensile elongation of 100% or more, which is preferably used in the present invention and is composed of a block polymer of polystyrene and a polyolefin, is a thermoplastic elastomer composed of a block of styrene and a linear or branched saturated alkyl group having 10 or less carbon atoms. It refers to a plastic resin (hereinafter also referred to as a thermoplastic resin S1). In particular, styrene-butadiene-styrene (SBS), styrene-isoprene-styrene (SIS), styrene-ethylene / butylene-styrene (SEBS), styrene- which are block polymers having a polystyrene phase and a hydrogenated phase of polyolefin.
Examples thereof include ethylene / propylene-styrene (SEPS) and styrene-ethylene / propylene (SEP) block polymers.
【0134】また、必要に応じて、本発明の離型層と樹
脂層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を用
いてもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド
樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリ
アミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。If desired, a thermosetting resin layer may be used between the release layer of the present invention and the resin layer or the actinic ray curable layer. Specifically, polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, xylene resin, guanamine resin,
Examples thereof include diallyl phthalate resin, phenol resin, polyimide resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyamide resin and urethane resin.
【0135】転写箔の透明樹脂層は、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレ
ン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アク
リル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可
塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合
体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新
・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987
年)や「10188の化学商品」657〜767頁(化
学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分
子重合体を併用してもよい。The transparent resin layer of the transfer foil is made of polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, styrene, paramethylstyrene, vinyl monomer such as methacrylic acid ester, acrylic acid ester and the like. Any other high-molecular polymer such as cellulose-based, thermoplastic polyester, and natural resin may be used in combination. Also, in addition, Kiyoshi Akamatsu supervised, "Practical technology of new photosensitive resin", (CMC, 1987)
Year) or “10188 chemical products” pp. 657-767 (Kagaku Kogyo Nippo Co., Ltd., 1988).
【0136】この発明においては、ICカード上に保護
をする目的で光又は/熱硬化性層を転写箔で設けること
が好ましい。光又は/熱硬化性層とは前記記載の組成物
からなる材料であれば特に制限はない。透明樹脂層の厚
みは0.3〜50μmが好ましく、より好ましくは0.
3〜30μm、特に好ましくは0.3〜20μmであ
る。In the present invention, it is preferable to provide a photo or thermosetting layer with a transfer foil for the purpose of protecting the IC card. The light or / thermosetting layer is not particularly limited as long as it is a material composed of the composition described above. The thickness of the transparent resin layer is preferably 0.3 to 50 μm, more preferably 0.
It is 3 to 30 μm, particularly preferably 0.3 to 20 μm.
【0137】転写箔の中間層としては、中間層1層以上
の層から構成されることが好ましく場合によりプライマ
ー層、バリヤ層として介在させ層間の接着性をさらに向
上させてもよい。The intermediate layer of the transfer foil is preferably composed of one or more intermediate layers. In some cases, a primer layer or a barrier layer may be interposed to further improve the adhesion between the layers.
【0138】例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系
樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、
ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹
脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポ
キシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、
ポリアクリロニトリル樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹
脂、およびそれらの変性物などを用いることができる。For example, vinyl chloride resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl acetal resin,
Polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol,
Polycarbonate, cellulose resin, styrene resin, urethane resin, amide resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin,
Polyacrylonitrile resin, SEBS resin, SEPS resin, and modified products thereof can be used.
【0139】上述した樹脂の中でも、この発明の目的に
好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ス
チレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタ
ンアクリレート樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹脂であ
る。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできる
し、二種以上を組み合わせて用いることもできる。Among the above-mentioned resins, vinyl chloride resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, styrene resin, epoxy resin, urethane resin, urethane acrylate resin are preferable for the purpose of the present invention. , SEBS resin, and SEPS resin. These resins may be used alone or in combination of two or more.
【0140】具体的な化合物としては、ポリスチレンと
ポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹
脂、ポリビニルブチラール等が好ましい。この発明の中
間層において、重合度が1000以上のポリビニルブチ
ラール樹脂としては積水化学工業(株)製のエスレック
BH−3、BX−1、BX−2、BX−5、BX−5
5、BH−S、電気化学工業(株)製のデンカブチラー
ル#4000−2、#5000−A、#6000−EP
等が市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化
樹脂としては熱硬化前の重合度に限定はなく低重合度の
樹脂でもよく、熱硬化にはイソシアネート硬化剤やエポ
キシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は50〜
90℃で1〜24時間が好ましい。中間層の厚みは0.
1〜1.0μmが好ましい。As a concrete compound, a thermoplastic resin composed of a block polymer of polystyrene and polyolefin, polyvinyl butyral and the like are preferable. In the intermediate layer of the present invention, as a polyvinyl butyral resin having a degree of polymerization of 1000 or more, SLECH BH-3, BX-1, BX-2, BX-5, BX-5 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.
5, BH-S, Denka Butyral # 4000-2, # 5000-A, # 6000-EP manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.
Etc. are commercially available. The thermosetting resin of polybutyral of the intermediate layer is not limited to the degree of polymerization before thermosetting and may be a resin having a low degree of polymerization, and an isocyanate curing agent or an epoxy curing agent can be used for thermosetting, and the thermosetting conditions Is 50 ~
90 ° C. for 1 to 24 hours is preferable. The thickness of the intermediate layer is 0.
1 to 1.0 μm is preferable.
【0141】転写箔の接着層としては、熱貼着性樹脂と
してエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレー
ト樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、
ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹
脂、粘着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、
テルペン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられ、それら
の共重合体や混合物でもよい。As the adhesive layer of the transfer foil, ethylene vinyl acetate resin, ethyne ethyl acrylate resin, ethylene acrylic acid resin, ionomer resin as a heat-adhesive resin,
Polybutadiene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, olefin resin, urethane resin, tackifier (eg phenol resin, rosin resin,
Terpene resin, petroleum resin, etc., and copolymers or mixtures thereof may be used.
【0142】具体的には、ウレタン変性エチレンエチル
アクリレート共重合体としては東邦化学工業(株)製の
ハイテックS−6254、S−6254B、S−312
9等が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体とし
ては日本純薬(株)製のジュリマーAT−210、AT
−510、AT−613、互応化学工業(株)製のプラ
スサイズL−201、SR−102、SR−103、J
−4等が市販されている。ウレタン変性エチレンエチル
アクリレート共重合体とポリアクリル酸エステル共重合
体の重量比は9:1から2:8が好ましく、接着層の厚
みは0.1〜1.0μmが好ましい。Specifically, as the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer, Hitech S-6254, S-6254B, S-312 manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.
9 and the like are commercially available, and as the polyacrylic acid ester copolymer, Jurimer AT-210 and AT manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd.
-510, AT-613, plus size L-201, SR-102, SR-103, J manufactured by Mutsoh Chemical Co., Ltd.
-4 and the like are commercially available. The weight ratio of the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer and the polyacrylic acid ester copolymer is preferably 9: 1 to 2: 8, and the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 1.0 μm.
【0143】場合により偽変造防止の目的で光学変化素
子層転写層設けることが可能である。光学変化素子(O
ptical Variable Device:OV
D)とは、1)キネグラムのような回析格子の2次元の
CG画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨
張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、
2)Pixelgramのような画像がポジとネガに変
化する特徴があるようなもの、3)OSD(Optic
al Security Device)のような色が
金色から緑色に変化するもの、4)LEAD(Long
LastingEconomical Antico
py Device)のような像画が変化して見えるも
の、5)ストライブ型OVD、6)金属箔等を表し、日
本印刷学会誌(1998年)第35巻第6号P482〜
P496記載にあるような用紙の素材、特殊な印刷技
法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。こ
の発明においては、ホログラムがとくに好ましい。In some cases, an optical change element layer transfer layer may be provided for the purpose of preventing forgery / alteration. Optical change element (O
optical Variable Device: OV
D) is 1) a two-dimensional CG image of a diffraction grating such as a kinegram, which is characterized in that the image of a line image structure freely moves and changes such as movement, rotation, expansion, and reduction.
2) Something like Pixelgram, which has the feature that the image changes to positive and negative, 3) OSD (Optic)
A color that changes from gold to green, such as al Security Device, 4) LEAD (Long)
Lasting Economical Antico
py Device), in which the image image appears to change, 5) a stripe type OVD, 6) a metal foil, etc., Journal of the Printing Society of Japan (1998), Vol. 35, No. 6, P482-
The security may be maintained by using a paper material, a special printing technique, a special ink, etc. as described in P496. Holograms are particularly preferred in this invention.
【0144】この発明で用いるホログラムは、レリーフ
ホログラム、フレネルホログラム、フラウンホーファー
ホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメ
ージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマ
ンホログラム、レインボーホログラム等の白色再生ホロ
グラム、カラーホログラム、コンピュータホログラム、
ホログラムディスプレイ、マルチフレックスホログラ
ム、ホログラムフレックステレオグラム、ホログラフィ
ック回折格子等任意に採用できる。The hologram used in the present invention is a relief hologram, Fresnel hologram, Fraunhofer hologram, lensless Fourier transform hologram, laser reproduction hologram such as image hologram, white reproduction hologram such as Lippmann hologram, rainbow hologram, color hologram, computer hologram. ,
A hologram display, a multi-flex hologram, a hologram flex stereogram, a holographic diffraction grating, etc. can be arbitrarily adopted.
【0145】光学変化素子層は、例えばホログラムシー
トを受像層上に接着することによって形成することがで
きる。ホログラムシートとしては、レリーフ型ホログラ
ムシートを使用することができる。レリーフ型ホログラ
ムシートは、支持体フィルム上にホログラム形成層とホ
ログラム効果層とをこの順に積層してなる。具体的に言
うと、ホログラムシートは、例えばポリエチレンテフタ
レートフィルム等の支持体フィルムの表面に、常温で固
体であり、しかも熱形成性を有する樹脂層、例えば常温
で固体の熱可塑成性の電子線硬化性樹脂層(ホログラム
形成層)を形成し、この面にホログラムの干渉模様が凹
凸状に形成されているホログラム原版を加圧圧縮させ
て、凹凸形状を樹脂表面に転写し、硬化し、さらに凹凸
形状の表面に十分な透明性とある角度での大きな反射性
を兼ね備え、かつホログラム形成層と屈折率が異なる材
料(例えばTiO2、SiO2、ZnSの蒸着膜)から
なる薄膜のホログラム効果層を形成することによって得
ることができる。昼光、照明光等の白色光で像が再生さ
れるホログラムは、通常の状態でもホログラム像が観察
されるので、装飾性にも優れている。一方、レーザー光
によって像が再生されるタイプのものは、改ざんの発見
性に優れている。The optically variable element layer can be formed, for example, by adhering a hologram sheet on the image receiving layer. A relief type hologram sheet can be used as the hologram sheet. The relief type hologram sheet is formed by laminating a hologram forming layer and a hologram effect layer in this order on a support film. Specifically, a hologram sheet is a resin layer that is solid at room temperature and has thermoformability on the surface of a support film such as a polyethylene terephthalate film, for example, a thermoplastic electron that is solid at room temperature. A line-curable resin layer (hologram forming layer) is formed, and a hologram master plate on which a hologram interference pattern is formed in a concavo-convex shape is pressed and compressed, and the concavo-convex shape is transferred to a resin surface and cured, Furthermore, a thin film hologram effect layer made of a material (for example, a vapor-deposited film of TiO2, SiO2, ZnS) that has sufficient transparency and a large reflectivity at a certain angle on the uneven surface and has a refractive index different from that of the hologram forming layer is formed. It can be obtained by forming. A hologram whose image is reproduced by white light such as daylight or illumination light is also excellent in decorativeness because the hologram image can be observed even in a normal state. On the other hand, the type in which an image is reproduced by laser light is excellent in tampering detectability.
【0146】また、この発明では、ビーズ保有層を設け
ることができ、この発明にかかるビーズを有するビーズ
保有層は、人射光の一部に位相差を付与して再合成し、
特定波長領域の光成分を干渉により強調し入射光とは異
なる色調の着色光を入射光進入方向へ帰還させ、反射基
板と、基板上に整列配置された透明なビーズとを有す
る。ビーズを有するビーズ保有層は、反射基板上に樹脂
層を設け、更にその表層側にガラス等よりなるビーズ径
が10〜60μm、好ましくは15〜40μmのビーズ
を多数整列配置して構成され、ビーズの光屈折率は1.
6〜2.1が好ましく、1.7〜2.0が更に好まし
い。外方より入射した入射光は、ビーズ内に進行し、少
なくともその一部は透明なビーズより樹脂層を介して反
射基板に反射され、再度ビーズに帰還し、外方へ進行す
る。ビーズの外方へ突出している面は球面であるので、
人射角の多少の変動があっても同様な作用を生じ、入射
方向へ反射光を帰還させることができる。Further, according to the present invention, a bead-holding layer can be provided, and the bead-holding layer having the beads according to the present invention is given a phase difference to a part of human incident light and re-synthesized.
It has a reflective substrate and transparent beads arranged on the substrate to enhance light components in a specific wavelength region by interference and to return colored light having a color tone different from that of the incident light in the incident light entering direction. The bead-holding layer having beads is formed by disposing a resin layer on a reflective substrate, and further arranging a large number of beads having a bead diameter of 10 to 60 μm, preferably 15 to 40 μm, which are made of glass or the like, on the surface side thereof. The optical refractive index of is 1.
6-2.1 are preferable and 1.7-2.0 are more preferable. The incident light entering from the outside travels into the beads, at least a part of which is reflected from the transparent beads through the resin layer to the reflective substrate, returns to the beads again, and travels to the outside. Since the surface of the beads protruding outward is a spherical surface,
Even if there is a slight change in the angle of incidence of the person, the same effect is produced, and the reflected light can be returned in the incident direction.
【0147】次に、この発明では、反射性層を設けるこ
とができ、この発明の反射性層は、反射性層としては、
少なくとも金属薄膜、金属酸化物薄膜、光干渉性物質及
び光回折層から選ばれる。反射性層は干渉性物質、金属
酸化物、雲母等干渉色を発現できる粉末を含有する塗料
を任意の紋様に印刷することで設けることが好ましい。Next, in the present invention, a reflective layer can be provided, and the reflective layer of the present invention can be used as the reflective layer.
It is selected from at least a metal thin film, a metal oxide thin film, a light interference material and a light diffraction layer. The reflective layer is preferably provided by printing a paint containing a powder capable of expressing an interference color such as an interfering substance, a metal oxide, or mica in an arbitrary pattern.
【0148】金属酸化物としては二酸化チタン、酸化
鉄、低次酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸
化アルミニウム、酸化コバルト、酸化ニッケル、チタン
酸コバルトなど、及びLi2CoTi3O8あるいはK
NiTiOxなどの複合酸化物、あるいはこれらの金属
酸化物の混合物などが挙げられるが、干渉色を発現でき
る金属酸化物であれば、特にこれらに限定されるもので
はない。干渉物質層としては、金属膜の表面を酸化する
ことによって得られる干渉色を持った金属膜を用いるこ
とができる。これらの金属膜は、金属アルミニウム、金
属チタン、ステンレス膜などを陽極酸化する方法や、干
渉色を発現できる金属酸化物をゾルーゲル法によって調
製し、これをコートする方法あるいは干渉色を発現でき
る金属のアルコキシドを金属膜に塗布してこれを加熱分
解する方法、及びCVDやPVDのような蒸着操作法な
どが拳げられる。
「ICカード上への転写箔付与方法」転写箔の被転写材
への転写は通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホッ
トスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える手手
段を用い転写を行う。Examples of metal oxides include titanium dioxide, iron oxide, low-order titanium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, cobalt oxide, nickel oxide, cobalt titanate, and Li2CoTi3O8 or K.
Examples thereof include composite oxides such as NiTiOx, and mixtures of these metal oxides, but the metal oxides are not particularly limited as long as they are metal oxides capable of exhibiting an interference color. As the interference material layer, a metal film having an interference color obtained by oxidizing the surface of the metal film can be used. These metal films include a method of anodizing metal aluminum, metal titanium, a stainless steel film, etc., or a method of preparing a metal oxide capable of expressing an interference color by a sol-gel method and coating it or a metal capable of expressing an interference color. A method of applying an alkoxide to a metal film and thermally decomposing it, a vapor deposition operation method such as CVD or PVD, and the like can be used. [Method of applying transfer foil on IC card] Transfer of the transfer foil to the material to be transferred is usually performed by using a hand means such as a thermal head, a heat roller, or a hot stamping machine that can apply pressure while heating.
【0149】実施例
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、この
発明の態様はこれに限定されない。尚、以下において
「部」は「重量部」を示す。
(接着剤の作成)
接着剤1
・Henkel社製Macroplast
QR3460(湿気硬化型接着剤) 80部
・多孔質高シリカアルミノシリケート
(AMT−SILICA#200B;水澤化学工業製) 表1に示す量
前記成分を温度150℃にて60分間、ホモジナイザー
にて攪拌し、接着剤1を作成した。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. In the following, "part" means "part by weight". (Preparation of Adhesive) Adhesive 1-Henkel's Macroplast QR3460 (moisture-curing adhesive) 80 parts-Porous high silica aluminosilicate (AMT-SILICA # 200B; manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) Was stirred at a temperature of 150 ° C. for 60 minutes with a homogenizer to prepare an adhesive 1.
【0150】
接着剤2
・積水化学工業製 エスダイン9631W 95部
・多孔質高シリカアルミノシリケート
(AMT−SILICA#200B;水澤化学工業製) 表に示す量
前記成分を温度150℃にて60分間、ホモジナイザー
にて攪拌し、接着剤2を作成した。Adhesive 2 • Sekisui Chemical Co., Ltd. Esdyne 9631W 95 parts • Porous high silica aluminosilicate (AMT-SILICA # 200B; Mizusawa Chemical Co., Ltd.) The amounts shown in the table The above components at a temperature of 150 ° C. for 60 minutes, a homogenizer And stirred to prepare adhesive 2.
【0151】
接着剤3
・日立化成ポリマー製 ハイボン4810 95部
・多孔質高シリカアルミノシリケート
(AMT−SILICA#200B;水澤化学工業製) 表に示す量
前記成分を温度150℃にて60分間、ホモジナイザー
にて攪拌し、接着剤3を作成した。
(接着剤物性測定)
[引張弾性率、引張破断点伸度の測定]接着剤1〜2
を、ホットプレス装置を使用し、該接着剤と厚さ300
μmのスペーサーを50μm厚みの離型PETフィルム
の間に挟み、100℃の条件でかつ、5kg/cm2の
条件で3分間プレスした後、温度25℃湿度50%RH
の条件で7日間放置し、前記、離型PETフィルムを取
り除き、厚さ300μmの硬化後の接着剤を得た。Adhesive 3 • Hitachi Chemical Polymer Hibon 4810 95 parts • Porous high silica aluminosilicate (AMT-SILICA # 200B; manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) The amounts shown in the table The above components at a temperature of 150 ° C. for 60 minutes, a homogenizer Then, the adhesive 3 was prepared by stirring. (Measurement of Physical Properties of Adhesive) [Measurement of Tensile Elastic Modulus and Elongation at Tensile Break Point] Adhesives 1-2
Using a hot press machine, the adhesive and thickness 300
A spacer with a thickness of 50 μm is sandwiched between release PET films with a thickness of 50 μm and pressed under conditions of 100 ° C. and 5 kg / cm 2 for 3 minutes, and then the temperature is 25 ° C. and the humidity is 50% RH.
The mold release PET film was removed by leaving it for 7 days under the conditions described above to obtain a cured adhesive having a thickness of 300 μm.
【0152】このようにして得られた、接着剤シートを
株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−
100を用いASTM D638に準じて、引張弾性率
を測定した。測定した結果を表1に示す。
(ICカードの作成)図18はICカード、個人認証カ
ードの積層構成例を示す図である。The adhesive sheet thus obtained was used as an oriental tensilon universal testing machine RTA-
Tensile elastic modulus was measured using 100 according to ASTM D638. The measured results are shown in Table 1. (Creation of IC Card) FIG. 18 is a diagram showing an example of a laminated structure of an IC card and an individual authentication card.
【0153】実施例のICカード、個人認証カード10
0は、裏面シート(第1のシート材)101、表面シー
ト(第2のシート材)102の間に、接着シート10
3,104、ICチップ105aとアンテナ体105b
からなる電子部品105を介在して貼り合わせて構成さ
れる。表面シート(第2のシート材)102には、顔画
像106、住所、名前、生年月日107等の個人情報が
記載してある。IC card and personal authentication card 10 of the embodiment
0 indicates that the adhesive sheet 10 is provided between the back sheet (first sheet material) 101 and the top sheet (second sheet material) 102.
3, 104, IC chip 105a and antenna body 105b
The electronic component 105 made of is interposed and bonded. On the topsheet (second sheet material) 102, personal information such as a face image 106, an address, a name, a date of birth 107, etc. is described.
【0154】支持体1
表面シート及び裏面シートとしてJIS K7128−
Z0208による湿気透過率が22(g・25μ/
m2、24hr)である厚さ100μm、75μmの白
色ポリエステルシートを使用した。Support 1 As a top sheet and a back sheet, JIS K7128-
Moisture permeability by Z0208 is 22 (g ・ 25μ /
A white polyester sheet having a thickness of 100 μm and a thickness of 75 μm, which is m 2 , 24 hr) was used.
【0155】支持体2
表面シート及び裏面シートとしてJIS K7128−
Z0208による湿気透過率が5(g・25μ/m2、
24hr)である厚さ100μm、75μmの白色塩ビ
シートを使用した。
(表面シートの作成)前記支持体表シート100μmに
コロナ放電処理した面に下記組成の第1受像層形成用塗
工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層形成用塗
工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが0.2
μm、2.5μm、0.5μmになる様に積層すること
により受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 9部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第3受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷)樹脂凸版印刷法により、ロゴとO
Pニスを順次印刷した。
(裏面シートの作成)
(筆記層の作成)前記支持体裏シート75μmにコロナ
放電処理した面に王子油化(株)製:ユポDFG−65
シートを貼合し下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第
2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこ
の順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが5μm、15μ
m、0.2μmになる様に積層することにより筆記層を
形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
得られた筆記層の中心線平均粗さは1.34μmであっ
た。
(ICカード用のシートの作成)図19はICカード作
成装置の実施の一例を示す図である。Support 2 As a top sheet and a back sheet, JIS K7128-
Moisture permeability by Z0208 is 5 (g ・ 25μ / m 2 ,
A white PVC sheet having a thickness of 100 μm and a thickness of 75 μm, which is 24 hr), was used. (Preparation of surface sheet) On the surface of the support surface sheet having a thickness of 100 μm, a surface having been subjected to corona discharge treatment, a coating solution for forming a first image receiving layer, a coating solution for forming a second image receiving layer and a coating for forming a third image receiving layer having the following composition The liquids are applied and dried in this order so that each thickness is 0.2.
An image receiving layer was formed by laminating the layers so as to have a thickness of 2.5 μm, 2.5 μm, and 0.5 μm. <Coating liquid for forming first image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 9 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec BL-1] Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 6 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] Metal ion-containing compound (compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts < Third image-receiving layer forming coating liquid> Polyethylene wax 2 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000] Urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer 8 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254] Methylcellulose [ Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15] 0.1 part water 90 parts (format printing) By fat-relief printing method, logo and O
P varnish was printed sequentially. (Preparation of Back Sheet) (Preparation of Writing Layer) 75 μm of the back sheet of the support was corona-discharge-treated on the surface thereof and manufactured by Oji Yuka Co., Ltd .: YUPO DFG-65
The sheets are stuck together, and a first writing layer forming coating liquid, a second writing layer forming coating liquid and a third writing layer forming coating liquid having the following compositions are applied and dried in this order to have a thickness of 5 μm. , 15μ
A writing layer was formed by laminating so as to have a thickness of 0.2 μm. <Coating liquid for forming the first writing layer> Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Japan Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] Carbon black Trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo] Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer> Polyester resin 4 parts [Toyobo Co., Ltd .: Vylonal MD1200] Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara] Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Third writing layer forming coating liquid> Polyamide resin [Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55] 5 parts Methanol 95 parts Obtained writing layer The center line average roughness was 1.34 μm. (Creation of IC Card Sheet) FIG. 19 is a diagram showing an example of implementation of an IC card creation apparatus.
【0156】ICカード作成装置には、第1のシート材
301を送り出す送出軸310が設けられ、この送出軸
310から送り出される第1のシート材301はガイド
ローラ311、駆動ローラ312に掛け渡されて供給さ
れる。送出軸310とガイドローラ311間には、アプ
リケーターコーター313が配置されている。アプリケ
ーターコーター313は接着剤層302aを所定の厚さ
でシートに塗工する。The IC card producing apparatus is provided with a delivery shaft 310 for delivering the first sheet material 301, and the first sheet material 301 delivered from the delivery shaft 310 is stretched over the guide roller 311 and the drive roller 312. Supplied. An applicator coater 313 is arranged between the delivery shaft 310 and the guide roller 311. The applicator coater 313 coats the adhesive layer 302a on the sheet with a predetermined thickness.
【0157】また、ICカードの製造装置には、第2の
シート材304を送り出す送出軸314が設けられ、こ
の送出軸314から送り出される第2のシート材304
はガイドローラ315、駆動ローラ316に掛け渡され
て供給される。送出軸314とガイドローラ315間に
は、アプリケーターコーター317が配置されている。
アプリケーターコーター317は接着剤層302bを所
定の厚さでシートに塗工する。Further, the IC card manufacturing apparatus is provided with a delivery shaft 314 for delivering the second sheet material 304, and the second sheet material 304 delivered from the delivery shaft 314.
Is supplied by being stretched over the guide roller 315 and the drive roller 316. An applicator coater 317 is arranged between the delivery shaft 314 and the guide roller 315.
The applicator coater 317 applies the adhesive layer 302b to the sheet with a predetermined thickness.
【0158】接着剤が塗工された第1のシート材301
と、第2のシート材304とは離間して対向する状態か
ら接触して搬送路318に沿って搬送される。第1のシ
ート材301と、第2のシート材304の離間して対向
する位置には、ICモジュール303が挿入される。Adhesive-coated first sheet material 301
Then, the second sheet material 304 is conveyed along the conveyance path 318 while being in contact with the second sheet material 304 in a state of being separated from and facing the second sheet material 304. An IC module 303 is inserted at a position where the first sheet material 301 and the second sheet material 304 are opposed to each other with a space therebetween.
【0159】ICモジュール303は単体あるいはシー
トやロール状で複数で供給される。ICカードの製造装
置の搬送路318中には、第1のシート材301と、第
2のシート材304の搬送方向に沿って、急冷ラミネー
ト部319、切断部320が配置される。また、急冷ラ
ミネート部319の前には保護フィルム供給部を設けて
も良く、搬送路318の上下に対向して配置されるのが
好ましい。急冷ラミネート部319は、搬送路318の
上下に対向して配置される平型の冷却ラミネート上型3
21と冷却ラミネート下型322とからなる。冷却ラミ
ネート上型321と下型322は互いに接離する方向に
移動可能に設けられている。冷却ラミネート部319を
経た後は切断部にてシート材から所定の大きさにカット
する。The IC modules 303 are supplied as a single unit or as a plurality of sheets or rolls. A quenching laminating section 319 and a cutting section 320 are arranged in the conveyance path 318 of the IC card manufacturing apparatus along the conveyance direction of the first sheet material 301 and the second sheet material 304. In addition, a protective film supply unit may be provided in front of the quenching laminating unit 319, and it is preferable that the protective film supply unit is disposed so as to face the conveyance path 318 so as to face each other. The quenching laminating section 319 is a flat type cooling laminating upper die 3 which is arranged above and below the conveyance path 318 so as to face each other.
21 and a cooling laminate lower mold 322. The cooling laminate upper die 321 and the lower die 322 are provided so as to be movable in directions in which they come in contact with and separate from each other. After passing through the cooling laminating section 319, the sheet material is cut into a predetermined size at the cutting section.
【0160】なお、ICモジュールのICチップ上もし
くは周囲には補強板を設けることができ、また強度を上
げるためにチップ上からシランカップリング剤を添加す
ることができる。添加方法はスポイトのような装置で液
滴を垂らす方法や、ディップコーティング、スピンコー
ティングなど一般的なコーティング方法を用いることが
できる。
(ICカード用シート1の作成)図19のICカード作
成装置を使用し、第1のシート材及び第2のシート材と
して裏面シート及び表面シートを使用した。A reinforcing plate can be provided on or around the IC chip of the IC module, and a silane coupling agent can be added from above the chip to increase the strength. As the addition method, a method of dropping a liquid droplet with an apparatus such as a dropper, or a general coating method such as dip coating or spin coating can be used. (Production of IC Card Sheet 1) The IC card production apparatus of FIG. 19 was used, and the back sheet and the front sheet were used as the first sheet material and the second sheet material.
【0161】それぞれのシートに接着剤1をTダイを使
用して厚みが280μmになるように塗工し、該接着剤
付き上下シートの間にICモジュールを入れ、表に示す
条件で急冷ラミネートして作製した。Adhesive 1 was applied to each sheet using a T-die to a thickness of 280 μm, an IC module was placed between the upper and lower adhesive-attached sheets, and rapidly laminated under the conditions shown in the table. It was made.
【0162】ここで用いたICモジュールのICチップ
の一部にはチップに隣接する部分に補強板を接着した。
補強板の種類を図20乃至図25に示す。図20は方形
の補強板がICチップの上側に設けられ、図21は方形
の補強板の開口部にICチップを嵌め込み、図22は方
形の補強板の凹部にICチップを嵌め込み、図23は楕
円の補強板がICチップの上側に設けられ、図24は十
字形の補強板がICチップの上側に設けられ、図25は
断面波形の補強板がICチップの上側に設けられてい
る。A reinforcing plate was attached to a part of the IC chip of the IC module used here in a portion adjacent to the chip.
The types of reinforcing plate are shown in FIGS. 20 shows a rectangular reinforcing plate provided on the upper side of the IC chip, FIG. 21 shows that the IC chip is fitted into the opening of the rectangular reinforcing plate, FIG. 22 shows that the IC chip is fitted into the recess of the rectangular reinforcing plate, and FIG. An elliptical reinforcing plate is provided above the IC chip, a cross-shaped reinforcing plate is provided above the IC chip in FIG. 24, and a corrugated reinforcing plate is provided above the IC chip in FIG.
【0163】この補強板はステンレスで作製されたもの
であり、そのヤング率は120GPaであった。The reinforcing plate was made of stainless steel and had a Young's modulus of 120 GPa.
【0164】また、一部のICモジュールにはシランカ
ップリング剤を市販のスポイトを用いて3ml滴下し
た。補強板とシランカップリング剤と併用する場合に
は、補強板と逆の面から滴下した。Further, 3 ml of the silane coupling agent was dropped on some of the IC modules by using a commercially available dropper. When the reinforcing plate and the silane coupling agent were used together, the solution was dropped from the side opposite to the reinforcing plate.
【0165】このように作成されたICカード用シート
の厚みは760μmであった。作製後は25℃、50%
RHの環境化で7日間保存した。
(個人認証用カードへの個人情報記載方法及び表面保護
方法)前記打ち抜き加工を施したICカードに下記によ
り顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けた個人認
証カードの作成を行った。
(昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工
液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形
成用塗工液を各々の厚みが1μmになる様に設け、イエ
ロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得た。
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料(化合物Y−1) 3部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料(化合物M−1) 2部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料(化合物C−1) 1.5部
シアン染料(化合物C−2) 1.5部
ポリビニルアセタール 5.6部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
(溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが
2μmになる様に塗布乾燥してインクシートを得た。
〈インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス 1部
エチレン酢酸ビニル共重合体 1部
〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕
カーボンブラック 3部
フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部
メチルエチルケトン 90部
(顔画像の形成)受像層と昇華型感熱転写記録用のイン
クシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサ
ーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、パルス
幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/mmの
条件で加熱することにより画像に階調性のある人物画像
を受像層に形成した。この画像においては上記色素と受
像層のニッケルが錯体を形成している。
(文字情報の形成)OPニス部と溶融型感熱転写記録用
のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側
からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、パ
ルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件
で加熱することにより文字情報をOPニス上に形成し
た。(表面保護方法)
[個人認証用カード表面保護剤添加樹脂合成例1]
活性光線硬化層使用樹脂1
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル
73部、スチレン15部、メタアクリル酸12部とエタ
ノール500部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間
反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライ
ド3部、グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3
時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダ
ー1を得た。
[表面保護層形成方法1]
(透明樹脂転写箔1の作成)ダイアホイルヘキスト
(株)製ポリエチレンテレフタレート(S−25)の片
面に下記処方をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥
して、透明樹脂転写箔1を作成した。
(剥離層) 膜厚 0.5μm
アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、ダイアナールBR−87) 5部
(樹脂層) 膜厚 0.5μm
アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、ダイアナールBR−87) 5部
ポリビニルアセトアセタール(SP値:9.4)
(積水化学(株)、KS−1) 5部
メチルエチルケトン 40部
トルエン 50部
(中間層) 膜厚2μm
スチレン系樹脂(クラレ(株)、セプトン2006) 5部
ポリビニルブチラール樹脂(積水化学(株)、BL−S) 5部
トルエン 90部
(接着層) 膜厚2μm
スチレン系樹脂(旭化成(株)、タフテックM−1953) 6部
脂環族飽和炭化水素樹脂(荒川化学(株)、アルコンP100) 3.5部
炭酸カルシウム(奥多摩工業(株)、タマパールTP−123) 0.5部
トルエン 90部
上記の組成の剥離層、中間層、接着層で構成される透明
樹脂転写箔1を作成した。The thickness of the IC card sheet thus prepared was 760 μm. 25 ° C, 50% after fabrication
It was stored for 7 days under the environment of RH. (Method of Writing Personal Information on Personal Authentication Card and Surface Protecting Method) A personal authentication card having a face image, attribute information, and format printing was prepared on the punched IC card as follows. (Preparation of sublimation-type thermal transfer recording ink sheet) A 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet having a back surface processed to prevent fusion is coated with a yellow ink layer-forming coating solution, a magenta ink layer-forming coating solution, and cyan. The ink layer forming coating liquid was provided so that each thickness was 1 μm, and three color ink sheets of yellow, magenta and cyan were obtained. <Coating liquid for forming yellow ink layer> Yellow dye (Compound Y-1) 3 parts Polyvinyl acetal 5.5 parts [Denka Butyral KY-24] manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polymethyl methacrylate modified polystyrene 1 part [ Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200] 0.5 parts urethane modified silicone oil [Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105] methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Coating for forming magenta ink layer Working solution> Magenta dye (Compound M-1) 2 parts Polyvinyl acetal 5.5 parts [Denka Butyral KY-24] manufactured by Denki Butyral Co., Ltd. Polymethylmethacrylate modified polystyrene 2 parts [Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.] Made by: Rededa GP-200] 0.5 parts of urethane modified silicone oil [Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. Made: Dialomer SP-2105] Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Cyan ink layer forming coating liquid> Cyan dye (compound C-1) 1.5 parts Cyan dye (compound C-2) 1.5 parts Polyvinyl acetal 5 6 parts [Denka Butyral KY-24 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.] Polymethylmethacrylate modified polystyrene 1 part [Reeda GP-200 manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.] 0.5 parts urethane modified silicone oil [ Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105] Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts (preparation of ink sheet for melt-type thermal transfer recording) A polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 6 μm and processed to prevent fusion on the back surface has the following composition. The ink layer-forming coating solution is applied to a thickness of 2 μm and dried to dry the ink. It was obtained. <Ink layer forming coating liquid> Carnauba wax 1 part Ethylene vinyl acetate copolymer 1 part [Mitsui DuPont Chemical Co., Ltd .: EV40Y] Carbon black 3 parts Phenolic resin [Arakawa Chemical Industries Co., Ltd .: Tamanor 521] 5 parts 90 parts of methyl ethyl ketone (formation of face image) The image receiving layer and the ink side of a sublimation type thermal transfer recording ink sheet are superposed on each other and output from the ink sheet side using a thermal head 0.23 W / dot, pulse width 0.3 to 4 By heating under a condition of a dot density of 16 dots / mm for 0.5 msec, a human image having gradation is formed on the image receiving layer. In this image, the dye and nickel in the image receiving layer form a complex. (Formation of character information) The OP varnish portion and the ink side of the ink sheet for melt-type thermal transfer recording are superposed and output from the ink sheet side using a thermal head 0.5 W / dot, pulse width 1.0 msec, dot density Character information was formed on the OP varnish by heating under the condition of 16 dots / mm. (Surface protection method) [Synthesis example 1 of resin for addition of surface protection agent for personal authentication card] Resin 1 using actinic ray curable layer 73 parts of methyl methacrylate, 15 parts of styrene, 12 parts of methacrylic acid were placed in a three-necked flask under a nitrogen stream. Then, 500 parts of ethanol and 3 parts of α, α′-azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was reacted in a nitrogen stream at 80 ° C. in an oil bath for 6 hours. Then, add 3 parts of triethylammonium chloride and 1.0 part of glycidyl methacrylate and add 3 parts.
The reaction was allowed to proceed for a time to obtain a synthetic binder 1 of the intended acrylic copolymer. [Method 1 for forming surface protective layer] (Preparation of transparent resin transfer foil 1) The following formulation was applied by wire bar coating to one side of polyethylene terephthalate (S-25) manufactured by DIAFOIL Hoechst Co., Ltd. and dried to obtain a transparent resin. Transfer foil 1 was created. (Peeling layer) Film thickness 0.5 μm Acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., DIANAR BR-87) 5 parts (resin layer) Film thickness 0.5 μm Acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., DIANAR BR- 87) 5 parts Polyvinyl acetoacetal (SP value: 9.4) (Sekisui Chemical Co., Ltd., KS-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 40 parts Toluene 50 parts (intermediate layer) Film thickness 2 μm Styrenic resin (Kuraray Co., Ltd.) Septon 2006) 5 parts Polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd., BL-S) 5 parts Toluene 90 parts (adhesive layer) Film thickness 2 μm Styrene resin (Asahi Kasei Corp., Tuftec M-1953) 6 parts Alicyclic Saturated hydrocarbon resin (Arakawa Chemical Co., Ltd., Alcon P100) 3.5 parts Calcium carbonate (Okutama Industry Co., Ltd., Tamapearl TP-123) 0.5 part Toluene 90 parts A transparent resin transfer foil 1 composed of a release layer, an intermediate layer and an adhesive layer having the above composition was prepared.
【0166】次いで、ICカード作成装置を使用して、
顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けたカード
に、透明樹脂転写箔1を用いて表面温度200℃に加熱
した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用い
て圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写
をおこなった。前記転写箔1が転写されたカードに前記
紫外線硬化樹脂含有塗布液を20g/m2の塗布量にな
るように特定の地模様を持つグラビアロールコーターに
より塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含有塗
布液1を硬化させて紫外線硬化保護層を形成し、保護層
を有する個人認証カードを作成した。Then, using the IC card making apparatus,
A card provided with a face image, attribute information and format printing was heated to a surface temperature of 200 ° C. using the transparent resin transfer foil 1, and a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85 was used and pressure was 150 kg / cm 2 to 1.2. Transfer was performed by applying heat for 2 seconds. The card on which the transfer foil 1 was transferred was coated with the coating liquid containing the ultraviolet curable resin by a gravure roll coater having a specific background pattern so that the coating amount was 20 g / m 2 , and the ultraviolet curable was performed under the following curing conditions. The resin-containing coating liquid 1 was cured to form an ultraviolet curing protective layer, and a personal identification card having the protective layer was prepared.
【0167】
硬化条件
光照射源 60w/cm2の高圧水銀ランプ
照射距離 10cm
照射モード 3cm/秒で光走査
評価方法
[紫外線硬化樹脂含有塗布液1]
ビス(3,4−エポキシー6−メチルシクロヘキシルメチル)アジパート
70部
ビスフェノールAグリシジルエーテル 10部
1,4−ブタンジオールグリシジルエーテル 13部
トリアリールスルホニウムフルオロアンチモン 7部
[表面保護層形成方法2]
(活性光線硬化型転写箔1の作成)0.1μmのフッ素
樹脂層の離型層を設けた厚み25μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムー2の離型層上に下記組成物を積
層し活性光線硬化型転写箔1の作成を行った。
(活性光線硬化性化合物)
新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製
EA−1020=35/11.75部
反応開始剤
イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部
添加剤不飽和基含有樹脂 48部
その他の添加剤
大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部
〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕
3.5部
タフテックスM−1913(旭化成) 5部
硬化剤
ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部
メチルエチルケトン 90部
塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。
〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部
ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕
2部
水 45部
エタノール
さらに画像、文字が記録された前記受像体上に前記構成
からなる活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度20
0℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートロー
ラーを用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱を
かけて転写をおこなった。前記転写は、表3に記載のI
Cカード作成装置を使用して行った。
◎カードの評価
<偽変造防止用カードスクラッチ強度(耐摩耗性)の評
価方法>耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用
い、0.1mmφのサファイア針で200g、250g
と荷重を変化させて、作成されたカード(文字、画像形
成前)の表面を摺動させた。その時のカード表面の傷が
付き始めた部分を測定し、何gで傷が付くか測定を行っ
た。結果は表1に示す。
<表面粗さの測定>作成されたカード(文字、画像形成
前)の表面粗さを表面粗さ計(RST/PLUS WY
CO社製)によって測定した。±5μm以内が実用可能
なレベルである。
<曲げ適性の評価>このように最後まで作成された個人
認証カードを、図26に示すように、カードの長辺方
向:たわみ35mm、カードの短辺方向:たわみ15m
mとなるように、125回毎に長辺方向、短辺方向を周
期30/minの条件で合計1000回のテストを行っ
た。その後市販のリーダーライターでIC機能を確認
し、3段階で評価を行った。得られた結果を表1に示
す。Curing conditions Light irradiation source 60 w / cm 2 high-pressure mercury lamp irradiation distance 10 cm Irradiation mode 3 cm / sec Optical scanning evaluation method [UV-curable resin-containing coating liquid 1] Bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) ) Adipate 70 parts Bisphenol A glycidyl ether 10 parts 1,4-Butanediol glycidyl ether 13 parts Triarylsulfonium fluoroantimony 7 parts [Surface protection layer forming method 2] (Preparation of actinic radiation curable transfer foil 1) 0.1 μm An actinic ray curable transfer foil 1 was prepared by laminating the following composition on the release layer of a polyethylene terephthalate film 2 having a thickness of 25 μm provided with a release layer of a fluororesin layer. (Actinic ray curable compound) Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35 / 11.75 parts Reaction initiator Irgacure 184 Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. 5 parts Additive unsaturated group-containing resin 48 Parts Other additives Dainippon Ink Surfactant F-179 0.25 parts <Intermediate layer forming coating liquid> Film thickness 1.0 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 3.5 Part Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Nippon Polyurethane] 1.5 parts Methyl ethyl ketone 90 parts Curing of the curing agent after coating was carried out at 50 ° C. for 24 hours. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol Further, using the actinic radiation curable transfer foil 1 having the above-mentioned structure on the image receptor on which images and characters are recorded, a surface temperature of 20.
Transfer was performed by applying heat at a pressure of 150 kg / cm 2 for 1.2 seconds using a heat roller heated to 0 ° C. and having a rubber hardness of 85 and a diameter of 5 cm. The transcription is shown in Table 1
This was done using a C card making device. ◎ Evaluation of card <Evaluation method of card scratch strength (wear resistance) for preventing forgery / alteration> Using a wear resistance tester (HEIDON-18), 200 g, 250 g with 0.1 mmφ sapphire needle
And the load was changed to slide the surface of the created card (text, before image formation). The scratched portion of the surface of the card at that time was measured, and the weight of the scratched portion was measured. The results are shown in Table 1. <Measurement of surface roughness> The surface roughness of the created card (text, before image formation) is measured by a surface roughness meter (RST / PLUS WY
(Manufactured by CO). A practical level is within ± 5 μm. <Evaluation of bending suitability> As shown in FIG. 26, the personal authentication card thus manufactured to the end has a long side direction of the card of 35 mm and a short side direction of the card of 35 mm.
In order to obtain m, the test was conducted 1000 times in total in the long-side direction and the short-side direction at a cycle of 30 / min every 125 times. After that, the IC function was confirmed with a commercially available reader / writer, and the evaluation was performed in three stages. The results obtained are shown in Table 1.
【0168】○:変形がなく、IC機能も問題ない。A: No deformation and no problem with IC function.
【0169】△:変形はないが、IC機能が失われてい
る。Δ: There is no deformation, but the IC function is lost.
【0170】×:折れ曲がってしまい、IC機能が失わ
れている。
<画像印字性>顔画像および文字情報を形成した後の形
成性を5段階で評価した。得られた結果を表1に示す。X: The IC function is lost due to bending. <Image printability> The formability after forming the face image and the character information was evaluated on a five-point scale. The results obtained are shown in Table 1.
【0171】1 チップ周辺部に文字や画像のカスレが
全くなくきれいである。1 The peripheral portion of the chip is clean without any blurring of characters or images.
【0172】2 チップ周辺部に文字や画像のカスレは
ないが、凹凸により文字や画像がやや見にくい。2 Although there is no blurring of characters or images in the peripheral portion of the chip, the characters or images are slightly difficult to see due to the unevenness.
【0173】3 チップ周辺部に文字や画像のカスレが
見られる。[0173] A blur of characters and images can be seen around the chip.
【0174】4 チップ周辺部で文字や画像が全く形成
されていない部分が一部ある。[0174] 4 There is a portion of the peripheral portion of the chip where characters and images are not formed at all.
【0175】5チップ周辺部だけでなく文字や画像が全
く形成されていない部分が多数ある。There are many portions where characters and images are not formed at all in addition to the peripheral portion of the five chips.
【0176】1と2が実用可のレベルである。1 and 2 are practically acceptable levels.
【0177】[0177]
【表1】 [Table 1]
【0178】[0178]
【発明の効果】前記したように、請求項1に記載の発明
では、最も平面性が良い状態で冷却することで、表面強
度が向上し、かつ平面性が向上する。As described above, in the invention described in claim 1, the surface strength is improved and the flatness is improved by cooling in the state of the best flatness.
【0179】請求項2に記載の発明では、急冷させてカ
ード作成後のホットメルト接着剤の伸度2%弾性率の規
定により、表面強度が向上し、かつ平面性が向上する。According to the second aspect of the invention, the surface strength is improved and the flatness is improved due to the regulation of the elongation 2% elastic modulus of the hot-melt adhesive after the card is made by rapid cooling.
【0180】請求項3に記載の発明では、ホットメルト
接着剤層の130℃における粘度を規定することで、表
面強度が向上し、かつ平面性が向上する。According to the third aspect of the invention, the surface strength and the flatness are improved by defining the viscosity of the hot melt adhesive layer at 130 ° C.
【0181】請求項4に記載の発明では、ホットメルト
接着剤が反応型であり、表面強度が向上し、かつ平面性
が向上する。In the invention described in claim 4, the hot melt adhesive is a reactive type, the surface strength is improved, and the flatness is improved.
【0182】請求項5に記載の発明では、加熱工程と、
冷却工程と、貼り合わせ工程とを有することで、最も平
面性が良い状態で冷却することで、表面強度が向上し、
かつ平面性が向上する。In the invention described in claim 5, a heating step,
By having a cooling step and a bonding step, the surface strength is improved by cooling in the state of the best flatness,
And the flatness is improved.
【0183】請求項6に記載の発明では、ICカードは
0.8mmφサファイア針での引っ掻き強度が150g
以上である受像層を有することで、表面強度が向上す
る。According to the invention of claim 6, the IC card has a scratch strength of 150 g with a 0.8 mmφ sapphire needle.
The surface strength is improved by having the image receiving layer as described above.
【0184】請求項7に記載の発明では、ICチップの
上部または周辺部にシランカップリング剤を設けること
で、ICチップを補強することができる。According to the seventh aspect of the invention, the IC chip can be reinforced by providing the silane coupling agent on the upper portion or the peripheral portion of the IC chip.
【0185】請求項8に記載の発明では、シランカップ
リング剤が部分加水分解された重合体であることで、I
Cチップを補強することができる。In the invention described in claim 8, since the silane coupling agent is a partially hydrolyzed polymer, I
The C-tip can be reinforced.
【0186】請求項9に記載の発明では、ICチップに
隣接して金属補強板を有することで、ICチップを補強
することができる。According to the ninth aspect of the invention, the IC chip can be reinforced by having the metal reinforcing plate adjacent to the IC chip.
【0187】請求項10に記載の発明では、金属補強板
がヤング率100GPa以上の素材を一種含むことで、
ICチップを補強することができる。[0187] In the invention of claim 10, the metal reinforcing plate contains a material having a Young's modulus of 100 GPa or more,
The IC chip can be reinforced.
【0188】請求項11に記載の発明では、ICカード
のチップ周辺部の平面凹凸性が±10μm以内であり、
チップ周辺部の平滑性が向上する。According to the eleventh aspect of the invention, the planar irregularity of the chip peripheral portion of the IC card is within ± 10 μm,
The smoothness around the chip is improved.
【0189】請求項12に記載の発明では、個人情報が
記載され、自動車免許証等の免許証類、身分証明書、パ
スポート、外国人登録証、図書館利用カード、キャッシ
ュカード、クレジットカード、従業者証、社員証、会員
証、医療カード及び学生証等に用いられる。In the invention described in claim 12, personal information is described, licenses such as automobile license, identification card, passport, alien registration card, library card, cash card, credit card, employee It is used for ID cards, employee ID cards, membership cards, medical cards and student ID cards.
【0190】請求項13に記載の発明では、ICチップ
が顔画像の部分と重なる位置に存在しないことで、顔画
像の記録性が向上する。According to the thirteenth aspect of the present invention, the IC chip is not present at a position overlapping the face image portion, so that the face image recording property is improved.
【0191】請求項14に記載の発明では、ICカード
がカード外部に電気接点を持たない非接触式であり、セ
キュリティ性に優れ、データの機密性と偽変造防止性を
高く要求する用途に使用することができる。According to the fourteenth aspect of the present invention, the IC card is a non-contact type that has no electrical contact outside the card, is excellent in security, and is used for applications requiring high data confidentiality and forgery / alteration protection. can do.
【図1】ICカード作成装置を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an IC card creation device.
【図2】ICカードの構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an IC card.
【図3】ICカードの平面図である。FIG. 3 is a plan view of an IC card.
【図4】ICカード作成装置の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an IC card creation device.
【図5】ICカードの層構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a layer structure of an IC card.
【図6】ICカード作成装置の概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an IC card creation device.
【図7】ICカードの層構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a layer structure of an IC card.
【図8】ICカード作成装置の概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an IC card creation device.
【図9】ICカードの層構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a layer structure of an IC card.
【図10】ICカード作成装置の概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram of an IC card creation device.
【図11】ICカードの層構成を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a layer structure of an IC card.
【図12】ICカード作成装置の概略構成図である。FIG. 12 is a schematic configuration diagram of an IC card creation device.
【図13】ICカードの層構成を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a layer structure of an IC card.
【図14】透明保護転写箔の実施の形態を示す図であ
る。FIG. 14 is a diagram showing an embodiment of a transparent protective transfer foil.
【図15】光学変化素子転写箔の実施の形態を示す図で
ある。FIG. 15 is a diagram showing an embodiment of an optical variable element transfer foil.
【図16】硬化型転写箔の実施の形態を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing an embodiment of a curable transfer foil.
【図17】硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔の実施
の形態を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing an embodiment of a curable resin layer-containing optical change element transfer foil.
【図18】ICカード、個人認証カードの積層構成例を
示す図である。FIG. 18 is a diagram showing an example of a laminated structure of an IC card and an individual authentication card.
【図19】ICカード作成装置の実施の一例を示す図で
ある。FIG. 19 is a diagram showing an example of implementation of an IC card creation device.
【図20】補強板の構成を示す図である。FIG. 20 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図21】補強板の構成を示す図である。FIG. 21 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図22】補強板の構成を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図23】補強板の構成を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図24】補強板の構成を示す図である。FIG. 24 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図25】補強板の構成を示す図である。FIG. 25 is a diagram showing a configuration of a reinforcing plate.
【図26】ICカードの曲げ適性の評価を説明する図で
ある。FIG. 26 is a diagram illustrating evaluation of bending suitability of an IC card.
A 第1のシート材供給部 B 第2のシート材供給部 C 接着剤塗布部 D インレット供給部 E 加熱部 F 冷却部 G 貼り合わせ部 H 打ち抜き部 1 第1のシート材 2 第2のシート材 3 電子部品 4 ホットメルト接着剤 A First sheet material supply unit B Second sheet material supply unit C adhesive coating section D inlet supply section E heating unit F cooling unit G pasting part H punched part 1st sheet material 2 Second sheet material 3 electronic components 4 Hot melt adhesive
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 秀樹 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 石井 信行 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 服部 良司 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 2C005 MA11 MA12 MA14 MB01 MB08 MB10 NA08 NB01 PA03 PA04 PA19 PA21 PA23 RA03 RA09 RA10 5B035 AA07 AA08 BA05 BB09 CA02 CA03 CA23 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Hideki Takahashi Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo In the company (72) Inventor Nobuyuki Ishii Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo In the company (72) Inventor Ryoji Hattori Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo In the company F-term (reference) 2C005 MA11 MA12 MA14 MB01 MB08 MB10 NA08 NB01 PA03 PA04 PA19 PA21 PA23 RA03 RA09 RA10 5B035 AA07 AA08 BA05 BB09 CA02 CA03 CA23
Claims (14)
介在されるホットメルト接着剤層内にICモジュールを
封入するICカードの作成方法において、前記第1のシ
ート材と第2のシート材をホットメルト接着剤で貼り合
わせ後に、前記第1のシート材と第2のシート材の表面
温度を1秒間あたり10℃以上100℃以下で急冷させ
ることを特徴とするICカードの作成方法。1. A method for producing an IC card in which an IC module is encapsulated in a hot melt adhesive layer interposed between a first sheet material and a second sheet material, wherein After the second sheet material is pasted with a hot melt adhesive, the surface temperature of the first sheet material and the second sheet material is rapidly cooled at 10 ° C. or more and 100 ° C. or less per second. How to make.
ト接着剤の伸度2%弾性率が20kg/mm2以上80
kg/mm2以下であることを特徴とする請求項1に記
載のICカードの作成方法。2. The hot melt adhesive after the card is rapidly cooled to prepare a card having an elongation of 2% and an elastic modulus of 20 kg / mm 2 or more 80.
The method for producing an IC card according to claim 1, wherein the IC card has a weight of not more than kg / mm 2 .
ける粘度が2000mPs以上40000mPs以下で
あることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
ICカードの作成方法。3. The method for producing an IC card according to claim 1, wherein the viscosity of the hot melt adhesive layer at 130 ° C. is 2000 mPs or more and 40000 mPs or less.
とを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に
記載のICカードの作成方法。4. The method for producing an IC card according to claim 1, wherein the hot melt adhesive is a reactive type.
材と第2のシート材から複数のICカードを作成するI
Cカードの作成方法において、 95℃以上150℃以下の温度下で塗工または貼り合わ
せる加熱工程と、 塗工または貼り合わせ後、第1のシート材と第2のシー
ト材の表面温度を1秒間あたり10℃以上100℃以下
で急冷する冷却工程と、 塗工または貼り合わせ後、0℃以上30℃以下の温度で
貼り合わせる貼り合わせ工程とを有することを特徴する
ICカードの作成方法。5. A plurality of IC cards are prepared from one or a long roll-shaped first sheet material and second sheet material.
In the method of making a C card, a heating step of coating or pasting at a temperature of 95 ° C. to 150 ° C. and a surface temperature of the first sheet material and the second sheet material for 1 second after coating or pasting A method for producing an IC card, comprising a cooling step of rapidly cooling at 10 ° C. or more and 100 ° C. or less, and a bonding step of bonding at a temperature of 0 ° C. or more and 30 ° C. or less after coating or bonding.
成されたICカードであり、0.8mmφサファイア針
での引っ掻き強度が150g以上である受像層を有する
ことを特徴するICカード。6. The IC card according to any one of claims 1 to 5, wherein the IC card has an image receiving layer having a scratch strength of 150 g or more with a 0.8 mmφ sapphire needle.
チップ、アンテナ体を有するICモジュールを含む電子
部品が載置され、接着剤が充填されてなるICカードに
おいて、 前記ICチップの上部または周辺部にシランカップリン
グ剤を設けたことを特徴とするICカード。7. An IC is provided at a predetermined position between two opposing substrates.
An IC card in which an electronic component including an IC module having a chip and an antenna body is placed and filled with an adhesive, wherein a silane coupling agent is provided on an upper portion or a peripheral portion of the IC chip. card.
された重合体であることを特徴とする請求項7に記載の
ICカード。8. The IC card according to claim 7, wherein the silane coupling agent is a partially hydrolyzed polymer.
することを特徴とする請求項7に記載のICカード。9. The IC card according to claim 7, further comprising a metal reinforcing plate adjacent to the IC chip.
以上の素材を一種含むことを特徴とする請求項9に記載
のICカード。10. The metal reinforcing plate has a Young's modulus of 100 GPa.
The IC card according to claim 9, comprising one of the above materials.
凸性が±10μm以内であることを特徴とする請求項7
乃至請求項10のいずれか1項に記載のICカード。11. The planar irregularity of the peripheral portion of the chip of the IC card is within ± 10 μm.
The IC card according to claim 10.
年月日等の個人情報が記載してあることを特徴とする請
求項6乃至請求項11のいずれか1項に記載のICカー
ド。12. The IC card according to claim 6, wherein personal information such as a face image, an address, a name, a date of birth is recorded as the personal information.
なる位置に存在しないことを特徴とする請求項12に記
載のICカード。13. The IC card according to claim 12, wherein the IC chip is not present at a position overlapping with the face image portion.
を持たない非接触式であることを特徴とする請求項6乃
至請求項13のいずれか1項に記載のICカード。14. The IC card according to claim 6, wherein the IC card is a non-contact type that has no electrical contact outside the card.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001324339A JP2003132311A (en) | 2001-10-23 | 2001-10-23 | Production method for ic card and ic card |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001324339A JP2003132311A (en) | 2001-10-23 | 2001-10-23 | Production method for ic card and ic card |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003132311A true JP2003132311A (en) | 2003-05-09 |
Family
ID=19141076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001324339A Pending JP2003132311A (en) | 2001-10-23 | 2001-10-23 | Production method for ic card and ic card |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003132311A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005004045A1 (en) * | 2003-07-07 | 2005-01-13 | Konica Minolta Photo Imaging, Inc. | Ic card and ic card manufacturing method |
JP2007048168A (en) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Maxell Seiki Kk | IC chip reinforcing plate and paper |
JP2010513999A (en) * | 2006-12-15 | 2010-04-30 | ブンデスドゥルッケライ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Personal information record and its manufacturing method |
CN110163327A (en) * | 2013-03-15 | 2019-08-23 | X卡控股有限公司 | The method and result product for carrying the sandwich layer of card for making information |
JP2019175195A (en) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | ニッタ株式会社 | IC tag |
CN114347639A (en) * | 2021-12-31 | 2022-04-15 | 宜宾轩驰智能科技有限公司 | Curved glass screen printing method |
-
2001
- 2001-10-23 JP JP2001324339A patent/JP2003132311A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005004045A1 (en) * | 2003-07-07 | 2005-01-13 | Konica Minolta Photo Imaging, Inc. | Ic card and ic card manufacturing method |
JP2007048168A (en) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Maxell Seiki Kk | IC chip reinforcing plate and paper |
JP2010513999A (en) * | 2006-12-15 | 2010-04-30 | ブンデスドゥルッケライ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Personal information record and its manufacturing method |
CN110163327A (en) * | 2013-03-15 | 2019-08-23 | X卡控股有限公司 | The method and result product for carrying the sandwich layer of card for making information |
JP2019175195A (en) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | ニッタ株式会社 | IC tag |
JP7223506B2 (en) | 2018-03-28 | 2023-02-16 | ニッタ株式会社 | IC tag |
CN114347639A (en) * | 2021-12-31 | 2022-04-15 | 宜宾轩驰智能科技有限公司 | Curved glass screen printing method |
CN114347639B (en) * | 2021-12-31 | 2023-09-19 | 宜宾轩驰智能科技有限公司 | Curved glass printing method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI239483B (en) | IC card | |
US7021550B2 (en) | Preparing method of IC card and IC card | |
JP2003108958A (en) | Ic card and manufacturing method thereof | |
JP2002222403A (en) | Ic-mounted card base material, ic-mounted individual identifying card and its manufacturing method | |
JP2003317065A (en) | Method for forming ic card and the ic card | |
JP2007226736A (en) | Ic card and ic card manufacturing method | |
JP2003132311A (en) | Production method for ic card and ic card | |
JP4216484B2 (en) | IC card, personal authentication card and manufacturing method thereof | |
JPH0740690A (en) | Id card and its preparation | |
JP2003108959A (en) | Ic card base material, ic card base material manufacturing method, and ic card | |
JP2002175510A (en) | Personal identification card, image recording body, and method for manufacturing image recording body | |
JP4371397B2 (en) | Image recording medium for preventing forgery / alteration, card for preventing forgery / alteration, and method for manufacturing card for forgery / alteration | |
JP2001138674A (en) | Transfer foil, image recording body, transfer foil manufacturing method and method for making image recording body | |
JP2003058847A (en) | Base material of ic card, image recording body, ic card, and method for manufacturing ic card | |
JP2003162697A (en) | Ic card and creation method thereof | |
JP4066639B2 (en) | Image recording body, card for preventing forgery and alteration, method for manufacturing image recording body, method for manufacturing card for preventing forgery and alteration | |
JP2003256794A (en) | Method of manufacturing ic card, and ic card | |
JP2005313502A (en) | Ic card and its forming method | |
JP2003099751A (en) | Image recording body for prevention of falsification and alteration, ic card for prevention of falsification and alteration, and method of manufacturing card for prevention of falsification and alteration | |
JP2007066048A (en) | Ic card | |
WO2004096898A1 (en) | Transfer foil supporting body, transfer foil, and id card manufacturing method | |
JP4368069B2 (en) | Image recording medium, personal authentication card, and personal authentication card manufacturing method | |
JP2008158621A (en) | Ic card with ed display function, and its manufacturing method | |
JP2004122513A (en) | Identification card for certification, transfer foil for protecting writing layer and method for manufacturing identification card | |
JP2002029154A (en) | Transfer foil, method for making image recording body, method for making transfer foil, and individual certification card |