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JP2003122306A - Active matrix type display device and active matrix type organic electroluminescence display device - Google Patents

Active matrix type display device and active matrix type organic electroluminescence display device

Info

Publication number
JP2003122306A
JP2003122306A JP2001312322A JP2001312322A JP2003122306A JP 2003122306 A JP2003122306 A JP 2003122306A JP 2001312322 A JP2001312322 A JP 2001312322A JP 2001312322 A JP2001312322 A JP 2001312322A JP 2003122306 A JP2003122306 A JP 2003122306A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixels
pixel
display device
pixel circuit
active matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001312322A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Yumoto
昭 湯本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001312322A priority Critical patent/JP2003122306A/en
Publication of JP2003122306A publication Critical patent/JP2003122306A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Control Of El Displays (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 TFTの特性ばらつきの補償機能を有する画
素回路の場合には、電圧書き込み型の基本的な画素回路
に比べて素子数が多くなる。 【解決手段】 アクティブマトリクス型有機EL表示装
置において、2個のTFT21,23および1個のキャ
パシタ22からなり、輝度情報に応じた電流を有機EL
素子に流す画素回路を、上下に隣り合う2画素の有機E
L素子11A,11Bに対して共通に設け、有機EL素
子11A,11Bを選択用TFT15A,15Bで適宜
選択することによって当該画素回路を上下に隣り合う2
画素間で時分割的に共用するようにし、1画素当たりの
画素回路の素子数を削減する。
(57) [Problem] To provide a pixel circuit having a function of compensating variation in characteristics of a TFT, the number of elements is larger than that of a basic pixel circuit of a voltage writing type. SOLUTION: In the active matrix type organic EL display device, the organic EL display device includes two TFTs 21 and 23 and one capacitor 22, and supplies a current corresponding to luminance information to the organic EL device.
The pixel circuit that flows through the element is composed of two pixels vertically adjacent to each other.
The pixel circuits are provided in common to the L elements 11A and 11B, and the organic EL elements 11A and 11B are appropriately selected by the selection TFTs 15A and 15B so that the pixel circuits are vertically adjacent to each other.
The pixels are shared in a time-sharing manner, and the number of elements of the pixel circuit per pixel is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各画素毎に能動素
子を有して当該能動素子によって画素単位で表示制御が
行われるアクティブマトリクス型表示装置に関し、特
に、流れる電流によって輝度が変化する電気光学素子を
画素の表示素子として用いるアクティブマトリクス型表
示装置および電気光学素子として有機材料のエレクトロ
ルミネッセンス(以下、有機EL(electroluminescence)
と記す)素子を用いるアクティブマトリクス型有機EL
表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type display device in which an active element is provided for each pixel and display control is performed on a pixel-by-pixel basis by the active element. An active matrix type display device using an optical element as a pixel display element and electroluminescence of an organic material as an electro-optical element (hereinafter, referred to as organic EL (electroluminescence)
Note) Active matrix type organic EL using elements
Regarding display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】表示装置、例えば画素の表示素子として
液晶セルを用いた液晶表示装置などにおいては、多数の
画素をマトリクス状に配列し、表示すべき画像情報に応
じて画素毎に光強度を制御することによって画像の表示
駆動が行われるようになっている。この表示駆動は、画
素の表示素子として有機EL素子を用いた有機EL表示
装置などでも同様である。
2. Description of the Related Art In a display device, for example, a liquid crystal display device using a liquid crystal cell as a display element of a pixel, a large number of pixels are arranged in a matrix and the light intensity of each pixel is changed according to the image information to be displayed. Image display drive is performed by controlling. This display drive is also the same in an organic EL display device using an organic EL element as a display element of a pixel.

【0003】ただし、有機EL表示装置の場合には、画
素の表示素子として発光素子を用いる、いわゆる自発光
型の表示装置であるため、液晶表示装置に比べて画像の
視認性が高い、バックライトが不要、応答速度が速い等
の利点を有する。また、各発光素子の輝度はそれに流れ
る電流値によって制御される、即ち有機EL素子が電流
制御型であるという点で、液晶セルが電圧制御型である
液晶表示装置などとは大きく異なる。
However, in the case of an organic EL display device, since it is a so-called self-luminous display device that uses a light emitting element as a display element of a pixel, the backlight has a higher image visibility than a liquid crystal display device. Is unnecessary and has a fast response speed. Further, the brightness of each light emitting element is controlled by the value of the current flowing therein, that is, the organic EL element is a current control type, which is a great difference from a liquid crystal display device in which a liquid crystal cell is a voltage control type.

【0004】有機EL表示装置においては、液晶表示装
置と同様、その駆動方式として、単純(パッシブ)マト
リクス方式とアクティブマトリクス方式とを採ることが
できる。ただし、前者は構造が単純であるものの、大型
かつ高精細のディスプレイの実現が難しいなどの問題が
ある。このため、近年、画素内部の発光素子に流れる電
流を、同様に画素内部に設けた能動素子(一般には、薄
膜トランジスタ(ThinFilm Transistor;TFT)によっ
て制御する、アクティブマトリクス方式の開発が盛んに
行われている。
As with the liquid crystal display device, the organic EL display device can employ a simple (passive) matrix system and an active matrix system as its driving system. However, although the former has a simple structure, it has a problem that it is difficult to realize a large-sized and high-definition display. For this reason, in recent years, active matrix methods have been actively developed in which the current flowing through the light emitting element inside the pixel is controlled by an active element (generally, a thin film transistor (TFT)) similarly provided inside the pixel. There is.

【0005】図8に、アクティブマトリクス型有機EL
表示装置における電圧書き込み型の画素回路(単位画素
の回路)の回路例を示す(より詳細には、米国特許第
5,684,365号公報、特開平8−234683号
公報を参照)。
FIG. 8 shows an active matrix organic EL.
A circuit example of a voltage writing type pixel circuit (unit pixel circuit) in a display device is shown (for more details, see US Pat. No. 5,684,365 and JP-A-8-234683).

【0006】この回路例に係る画素回路は、図8から明
らかなように、カソード(陰極)が接地された有機EL
素子101と、有機EL素子101のアノード(陽極)
にドレインが接続され、正電源Vccにソースが接続さ
れたTFT102と、TFT102のゲートと正電源V
ccとの間に接続されたキャパシタ103と、TFT1
02のゲートにドレインが、データ線105にソースが
それぞれ接続されたTFT104とを有し、TFT10
4のゲートに走査線106を通して走査パルスが与えら
れる構成となっている。
As is apparent from FIG. 8, the pixel circuit according to this circuit example is an organic EL device having a cathode (cathode) grounded.
Element 101 and anode of organic EL element 101
The drain of which is connected to the positive power supply Vcc, and the source of which is connected to the positive power supply Vcc;
cc and the capacitor 103 connected between cc and
And a TFT 104 having a drain connected to the gate of 02 and a source connected to the data line 105.
A scanning pulse is applied to the gate of No. 4 through the scanning line 106.

【0007】ここで、有機EL素子は多くの場合整流性
があるため、OLED(Organic Light Emitting Diode)
と呼ばれることがある。したがって、図8およびその他
の図では、有機EL素子としてダイオードの記号を用い
て示している。ただし、以下の説明において、有機EL
素子には必ずしも整流性を要求するものではない。
Here, since the organic EL element has a rectifying property in many cases, an OLED (Organic Light Emitting Diode) is used.
Sometimes called. Therefore, in FIG. 8 and other drawings, the symbol of the diode is used as the organic EL element. However, in the following description, organic EL
The element does not necessarily require rectification.

【0008】上記構成の画素回路の動作は次の通りであ
る。先ず、走査線106の電位を選択状態(ここでは、
高レベル)とし、データ線105に書き込み電位Vwを
印加すると、TFT104が導通してキャパシタ103
が充電または放電され、TFTl02のゲート電位は書
き込み電位Vwとなる。次に、走査線106の電位を非
選択状態(ここでは、低レベル)とすると、走査線10
6とTFTl02とは電気的に切り離されるが、TFT
l02のゲート電位はキャパシタ103によって安定に
保持される。
The operation of the pixel circuit having the above configuration is as follows. First, the potential of the scanning line 106 is in a selected state (here,
When the write potential Vw is applied to the data line 105, the TFT 104 becomes conductive and the capacitor 103
Are charged or discharged, and the gate potential of the TFT 102 becomes the write potential Vw. Next, when the potential of the scanning line 106 is set to a non-selected state (here, low level), the scanning line 10
6 and the TFT 102 are electrically separated, but the TFT
The gate potential of 102 is stably held by the capacitor 103.

【0009】そして、TFTl02および有機EL素子
101に流れる電流は、TFTl02のゲート・ソース
間電圧Vgsに応じた値となり、有機EL素子101は
その電流値に応じた輝度で発光し続ける。ここで、走査
線106を選択してデータ線105に与えられた輝度情
報を画素内部に伝える動作を、以下、「書き込み」と呼
ぶこととする。上述のように、図8に示す画素回路で
は、一度電位Vwの書き込みを行えば、次に書き込みが
行われるまでの間、有機EL素子101は一定の輝度で
発光を継続する。
The current flowing through the TFT 102 and the organic EL element 101 has a value according to the gate-source voltage Vgs of the TFT 102, and the organic EL element 101 continues to emit light with a brightness according to the current value. Here, the operation of selecting the scanning line 106 and transmitting the brightness information given to the data line 105 to the inside of the pixel will be hereinafter referred to as “writing”. As described above, in the pixel circuit shown in FIG. 8, once the potential Vw is written, the organic EL element 101 continues to emit light at a constant brightness until the next writing.

【0010】このような画素回路(以下、単に画素と記
す場合もある)111を図9に示すようにマトリクス状
に多数並べ、走査線112−1〜112nを走査線駆動
回路113によって順次選択しながら、電圧駆動型のデ
ータ線駆動回路114からデータ線115−1〜115
−mを通して書き込みを繰り返すことにより、アクティ
ブマトリクス型表示装置(有機EL表示装置)を構成す
ることができる。ここでは、n行×m列の画素配列を示
している。この場合、当然のことながら、走査線がn
本、データ線がm本となる。
A large number of such pixel circuits (hereinafter sometimes simply referred to as pixels) 111 are arranged in a matrix as shown in FIG. 9, and the scanning lines 112-1 to 112n are sequentially selected by the scanning line driving circuit 113. However, from the voltage driving type data line driving circuit 114 to the data lines 115-1 to 115
By repeating writing through -m, an active matrix type display device (organic EL display device) can be constructed. Here, a pixel array of n rows × m columns is shown. In this case, the scan line is, of course, n
There are m and data lines.

【0011】単純マトリクス型表示装置では、各発光素
子は、選択された瞬間にのみ発光するのに対し、アクテ
ィブマトリクス型表示装置では、書き込み終了後も発光
素子が発光を継続する。このため、アクティブマトリク
ス型表示装置は、単純マトリクス型表示装置に比べて発
光素子のピーク輝度、ピーク電流を下げられるなどの点
で、とりわけ大型・高精細のディスプレイでは有利とな
る。
In the simple matrix type display device, each light emitting element emits light only at the selected moment, whereas in the active matrix type display device, the light emitting element continues to emit light even after writing is completed. Therefore, the active matrix type display device is particularly advantageous for a large-sized and high-definition display in that the peak luminance and the peak current of the light emitting element can be reduced as compared with the simple matrix type display device.

【0012】ところで、アクティブマトリクス型有機E
L表示装置においては、能動素子として一般に、ガラス
基板上に形成された絶縁ゲート型薄膜電界効果トランジ
スタ(TFT)が利用される。ところが、このTFTの
形成に使用されるアモルファスシリコン(非晶質シリコ
ン)やポリシリコン(多結晶シリコン)は、単結晶シリ
コンに比べて結晶性が悪く、導電機構の制御性が悪いた
めに、形成されたTFTは特性のばらつきが大きいこと
が良く知られている。
By the way, active matrix type organic E
In the L display device, an insulated gate thin film field effect transistor (TFT) formed on a glass substrate is generally used as an active element. However, amorphous silicon (amorphous silicon) and polysilicon (polycrystalline silicon) used for forming the TFT have poor crystallinity as compared with single crystal silicon and poor controllability of the conduction mechanism. It is well known that the formed TFT has a large variation in characteristics.

【0013】特に、比較的大型のガラス基板上にポリシ
リコンTFTを形成する場合には、ガラス基板の熱変形
等の問題を避けるため、通常、アモルファスシリコン膜
の形成後、レーザアニール法によって結晶化が行われ
る。しかしながら、大きなガラス基板に均一にレーザエ
ネルギーを照射することは難しく、ポリシリコンの結晶
化の状態が基板内の場所によってばらつきを生ずること
が避けられない。この結果、同一基板上に形成したTF
Tでも、その閾値電圧Vthが画素によって数百mV、
場合によっては1V以上ばらつくこともまれではない。
In particular, when a polysilicon TFT is formed on a relatively large glass substrate, in order to avoid problems such as thermal deformation of the glass substrate, usually, after the amorphous silicon film is formed, it is crystallized by a laser annealing method. Is done. However, it is difficult to uniformly irradiate a large glass substrate with laser energy, and it is unavoidable that the crystallization state of polysilicon varies depending on the location in the substrate. As a result, the TF formed on the same substrate
Even in T, the threshold voltage Vth is several hundred mV depending on the pixel,
In some cases, it is not uncommon to have variations of 1 V or more.

【0014】この場合、例えば異なる画素に対して同じ
電位Vwを書き込んでも、画素によってTFTの閾値電
圧Vthがばらつくことになる。これにより、有機EL
素子に流れる電流Idsは画素毎に大きくばらついて全
く所望の値からはずれる結果となり、ディスプレイとし
て高い画質を期待することはできない。このことは、閾
値電圧Vthだけでなく、キャリアの移動度μなどのば
らつきについても同様に言える。
In this case, for example, even if the same potential Vw is written in different pixels, the threshold voltage Vth of the TFT varies depending on the pixel. This allows organic EL
The current Ids flowing through the element greatly varies from pixel to pixel, resulting in a deviation from a desired value, and high image quality cannot be expected for a display. This applies not only to the threshold voltage Vth but also to variations in carrier mobility μ and the like.

【0015】かかる問題を改善するために、従来、以下
に説明する2つの画素回路が提案されている。その一つ
の従来例(以下、従来例1と称す)に係る画素回路の回
路例を図10に示す。
In order to improve such a problem, conventionally, the following two pixel circuits have been proposed. FIG. 10 shows a circuit example of a pixel circuit according to one conventional example (hereinafter referred to as conventional example 1).

【0016】この従来例1に係る画素回路は、図10か
ら明らかなように、カソードが接地された有機EL素子
121と、有機EL素子121のアノードにドレインが
接続されたTFT122と、TFT122のソースにド
レインが接続され、正電源Vccにソースが接続された
TFT123と、TFT123のゲートとドレインとの
間に接続されたTFT124と、TFT123のゲート
に一端が接続されたキャパシタ125と、キャパシタ1
25の他端と正電源Vccとの間に接続されたキャパシ
タ126と、キャパシタ125の他端にドレインが、デ
ータ線128にソースがそれぞれ接続されたTFT12
7とを有し、TFT127のゲートに走査線129を通
して走査パルスが、TFT122のゲートに駆動線13
0を通して駆動パルスが、TFT124のゲートにリセ
ット線131を通してリセットパルスが与えられる構成
となっている。
As is apparent from FIG. 10, the pixel circuit according to the conventional example 1 has an organic EL element 121 whose cathode is grounded, a TFT 122 whose drain is connected to the anode of the organic EL element 121, and a source of the TFT 122. A drain connected to the positive power source Vcc and a source connected to the TFT 123; a TFT 124 connected between the gate and the drain of the TFT 123; a capacitor 125 having one end connected to the gate of the TFT 123;
25, a capacitor 126 connected between the other end of the capacitor 25 and the positive power source Vcc, and a TFT 12 having a drain connected to the other end of the capacitor 125 and a source connected to the data line 128.
7 and a scanning pulse is applied to the gate of the TFT 127 through the scanning line 129,
The drive pulse is applied through 0, and the reset pulse is applied to the gate of the TFT 124 through the reset line 131.

【0017】続いて、上記構成の従来例1に係る画素回
路の回路動作について、図11のタイミングチャートを
用いて説明する。
Next, the circuit operation of the pixel circuit according to the conventional example 1 having the above structure will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0018】先ず、データの書き込みに先立って走査線
129およびリセット線131を選択状態(共に高レベ
ル)とし、スイッチ用TFT124によって駆動用TF
T123のゲート・ドレイン間を短絡する。次に、駆動
線130を非選択状態(高レベル)とすると、駆動用T
FT123と有機EL素子121との間に介在するスイ
ッチ用TFT122がオフ状態となる。これにより、駆
動用TFT123のドレイン電位が上昇する。
First, prior to the writing of data, the scanning line 129 and the reset line 131 are brought into a selected state (both at a high level), and the switching TFT 124 drives the TF.
The gate and drain of T123 are short-circuited. Next, when the drive line 130 is set to the non-selected state (high level), the drive T
The switching TFT 122 interposed between the FT 123 and the organic EL element 121 is turned off. As a result, the drain potential of the driving TFT 123 rises.

【0019】一方、スイッチ用TFT124がオン状態
にあり、駆動用TFT123のゲート・ドレイン間が電
気的に短絡されているためにそのゲート電位も上昇し、
これがVcc−|Vtp|となった時点で安定状態とな
る(これを以後リセット状態と呼ぶことがある)。ここ
で、|Vtp|は駆動用TFT123の閾値電圧の絶対
値である。リセット動作が完了したら、リセット線13
1を非選択状態(低レベル)とし、データ線128に輝
度情報に応じた電圧を印加する。
On the other hand, since the switching TFT 124 is in the ON state and the gate and drain of the driving TFT 123 are electrically short-circuited, the gate potential also rises,
When this becomes Vcc- | Vtp |, the stable state is reached (this may be hereinafter referred to as the reset state). Here, | Vtp | is the absolute value of the threshold voltage of the driving TFT 123. When the reset operation is completed, the reset line 13
1 is set to the non-selected state (low level), and the voltage according to the luminance information is applied to the data line 128.

【0020】データ線128の電位は、図11に示すよ
うに、リセット動作中は一定の基準電位とされており、
リセット動作後に電圧ΔVだけ低下する。その状態で走
査線129を非選択状態とすることで、当該画素への書
き込み動作が完了する。データ線128と駆動用トラン
ジスタ123のゲートとはキャパシタ125によって容
量結合されているため、データ線128の電位は駆動用
TFT123のゲートに直接伝わることなく、概ねデー
タ線128の電位変化分ΔVが伝達される。その後、駆
動線130を選択状態(低レベル)とすると、書き込ま
れたデータに応じた電流がスイッチ用TFT122を通
して有機EL素子121に流れる。これにより、有機E
L素子121は、書き込まれたデータに応じた輝度で発
光する。
The potential of the data line 128 is set to a constant reference potential during the reset operation, as shown in FIG.
After the reset operation, the voltage decreases by ΔV. In that state, the scan line 129 is brought into a non-selected state, whereby the writing operation to the pixel is completed. Since the data line 128 and the gate of the driving transistor 123 are capacitively coupled by the capacitor 125, the potential of the data line 128 is not directly transmitted to the gate of the driving TFT 123, but the potential change ΔV of the data line 128 is transmitted. To be done. After that, when the drive line 130 is brought into a selected state (low level), a current according to the written data flows through the switching TFT 122 to the organic EL element 121. This allows organic E
The L element 121 emits light with a brightness according to the written data.

【0021】ところで、駆動用TFT123が飽和領域
で動作すると仮定すれば、駆動用TFT123に流れる
電流Idsは、良く知られたMOSトランジスタの式に
よって(1)式のように表される。 Ids=μCox・W/L/2(Vcc−Vg−|Vtp|)2 ……(1) ここで、μはキャリアの移動度、Coxは単位面積当た
りのゲート容量、Wはチャネル幅、Lはチャネル長であ
る。
By the way, assuming that the driving TFT 123 operates in the saturation region, the current Ids flowing through the driving TFT 123 is expressed by the well-known MOS transistor equation as shown in equation (1). Ids = μCox · W / L / 2 (Vcc−Vg− | Vtp |) 2 (1) where μ is carrier mobility, Cox is gate capacitance per unit area, W is channel width, and L is L. The channel length.

【0022】ゲート電位Vgは、前述したリセット動作
によって、データ書き込みの直前にはVcc−|Vtp
|となっているが、書き込み終了直後には Vg=Vcc−|Vtp|−ΔV ……(2) となる。これを(1)式に代入すれば、 Ids=μCox・W/L/2・ΔV2 ……(3) が得られる。(3)式はVtpを含まないことから、駆
動用TFT123を流れる電流Idsは、閾値電圧Vt
pのばらつきに影響されないことがわかる。
The gate potential Vg is Vcc- | Vtp immediately before data writing due to the reset operation described above.
However, immediately after the end of writing, Vg = Vcc− | Vtp | −ΔV (2) By substituting this into the equation (1), Ids = μCoxW / L / 2ΔV 2 (3) is obtained. Since the equation (3) does not include Vtp, the current Ids flowing through the driving TFT 123 is equal to the threshold voltage Vt.
It can be seen that it is not affected by the variation of p.

【0023】他の従来例(以下、従来例2と称す)に係
る画素回路として、図12に示す電流書き込み型の画素
回路が本願発明者によって提案されている(その詳細に
ついては、国際公開番号WO01−06484公報参
照)。
As a pixel circuit according to another conventional example (hereinafter referred to as conventional example 2), a current writing type pixel circuit shown in FIG. 12 has been proposed by the inventor of the present application (for details, see International Publication No. See WO 01-06484).

【0024】この従来例2に係る画素回路は、図12か
ら明らかなように、カソードが接地された有機EL素子
141と、有機EL素子141のアノードにドレインが
接続され、正電源Vccにソースが接続されたTFT1
42と、このTFT142のゲートとグランドとの間に
接続されたキャパシタ143と、TFT142のゲート
にドレインが接続されたTFT144と、TFT144
のソースがゲートおよびドレインが接続され、正電源V
ccにソースが接続されたTFT145と、TFT14
5のゲート・ドレインとデータ線147との間に接続さ
れたTFT146とを有し、TFT144,146の各
ゲートに走査線148を通して走査パルスが与えられる
構成となっている。
In the pixel circuit according to the second conventional example, as is apparent from FIG. 12, an organic EL element 141 whose cathode is grounded, a drain is connected to the anode of the organic EL element 141, and a source is connected to the positive power source Vcc. TFT1 connected
42, a capacitor 143 connected between the gate of the TFT 142 and the ground, a TFT 144 having a drain connected to the gate of the TFT 142, and a TFT 144.
Of the positive power supply V
TFT 145 whose source is connected to cc and TFT14
5 has a TFT 146 connected between the gate / drain and the data line 147, and a scanning pulse is applied to each gate of the TFTs 144 and 146 through the scanning line 148.

【0025】この従来例2に係る画素回路は、図8およ
び図10の各画素回路では輝度データが電圧の形で与え
られるのに対して、輝度データが電流の形で与えられる
ことが大きな特徴である。その動作は次の通りである。
The pixel circuit according to the second conventional example is characterized in that the luminance data is given in the form of voltage in the pixel circuits of FIGS. 8 and 10, whereas the luminance data is given in the form of current. Is. The operation is as follows.

【0026】先ず、輝度データの書き込み時には、走査
線148を選択状態(高レベル)にし、データ線147
に輝度データに応じた書き込み電流Iwを流す。この書
き込み電流Iwは、TFT146を通してTFT145
に流れる。このとき、TFT144がオン状態にあるこ
とから、TFT142とTFT145とはカレントミラ
ー回路を形成する。ここで、両トランジスタ142,1
45は小さな画素内部に近接して配置されるためほぼ同
一の特性を有している。
First, when writing the brightness data, the scanning line 148 is set to the selected state (high level), and the data line 147 is selected.
A write current Iw corresponding to the brightness data is passed through. This write current Iw passes through the TFT 146 and the TFT 145.
Flow to. At this time, since the TFT 144 is in the ON state, the TFT 142 and the TFT 145 form a current mirror circuit. Here, both transistors 142, 1
Since 45 is arranged close to the inside of a small pixel, it has almost the same characteristics.

【0027】その結果、TFT142には、書き込み電
流Iwに比例した駆動電流Idが流れる。駆動電流Id
と書き込み電流Iwとの比は、TFT142とTFT1
45とのチャネル幅/チャネル長の比を適宜設定するこ
とによって自由に選ぶことができ、TFT142,14
5の閾値電圧やキャリアの移動度の値そのものには影響
されないので、全画面(全画素領域)に亘って閾値電圧
やキャリアの移動度のばらつきによらず、所望の輝度で
各画素の有機EL素子141を発光させることが可能で
ある。
As a result, a driving current Id proportional to the write current Iw flows through the TFT 142. Drive current Id
The ratio between the write current Iw and the write current Iw
It can be freely selected by appropriately setting the ratio of the channel width / channel length with respect to 45.
Since it is not affected by the threshold voltage of 5 and the carrier mobility value itself, the organic EL of each pixel can have a desired brightness regardless of variations in the threshold voltage and carrier mobility over the entire screen (all pixel regions). The element 141 can emit light.

【0028】[0028]

【発明が解決しようとする課題】上述したことから明ら
かなように、TFTの特性ばらつきの補償機能を有する
画素回路、即ち図10に示す従来例1に係る画素回路あ
るいは図12に示す従来例2に係る画素回路では、TF
Tの閾値電圧やキャリアの移動度のばらつきによらず、
所望の輝度で各画素の発光素子を発光させることができ
るという大きな特長を持つのであるが、その反面、図8
に示す電圧書き込み型の基本的な画素回路に比べて素子
数が増加するという欠点がある。
As is apparent from the above description, the pixel circuit having the compensation function for the characteristic variation of the TFT, that is, the pixel circuit according to the conventional example 1 shown in FIG. 10 or the conventional example 2 shown in FIG. In the pixel circuit according to
Regardless of variations in threshold voltage of T and carrier mobility,
It has a great feature that the light emitting element of each pixel can emit light with desired brightness.
There is a drawback in that the number of elements increases as compared with the basic voltage writing type pixel circuit shown in FIG.

【0029】すなわち、図8に示す画素回路の場合には
トランジスタ2個で構成されるのに対し、図10および
図12に示す各画素回路の場合にはトランジスタが4個
必要であり、図10の画素回路ではさらにキャパシタの
数も1個多くなる。TFTの特性ばらつきによる画質劣
化の対策としては、図10や図12に示す画素回路以外
にも種々の回路的工夫がなされた画素回路が提案されて
いるが、いずれも素子数の増加は免れない。このよう
に、1画素当たりの画素回路の素子数が多いと、製造歩
留まりの低下を招き易く、さらには画素面積を縮小し難
いことから、画素ピッチを大きくとらざるを得なく、高
解像度化の妨げとなる。
That is, the pixel circuit shown in FIG. 8 is composed of two transistors, whereas each pixel circuit shown in FIGS. 10 and 12 requires four transistors. In this pixel circuit, the number of capacitors is increased by one. As a measure against the image quality deterioration due to the characteristic variation of the TFT, there are proposed pixel circuits which are variously devised in addition to the pixel circuits shown in FIG. 10 and FIG. 12, but in any case, the increase in the number of elements cannot be avoided. . As described above, when the number of elements of the pixel circuit per pixel is large, the manufacturing yield is liable to be lowered, and further, it is difficult to reduce the pixel area. Therefore, it is unavoidable to increase the pixel pitch and increase the resolution. It becomes an obstacle.

【0030】本発明は、上記課題に鑑みて為されたもの
であり、その目的とするところは、1画素当たりの画素
回路の素子数を削減することにより、製造歩留まりの向
上、さらには画素面積の縮小化、それに伴う高解像度化
を可能としたアクティブマトリクス型表示装置およびア
クティブマトリクス型有機EL表示装置を提供すること
にある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to improve the manufacturing yield and further reduce the pixel area by reducing the number of elements of the pixel circuit per pixel. It is an object of the present invention to provide an active matrix type display device and an active matrix type organic EL display device which are capable of downsizing and higher resolution.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】本発明によるアクティブ
マトリクス型表示装置は、流れる電流によって輝度が変
化する電気光学素子を有する画素がマトリクス状に配置
されてなり、複数の画素に対して共通に設けられ、デー
タ線を通して与えられる輝度情報に応じた電流を複数の
画素の各電気光学素子に流す画素回路と、複数の画素の
中から画素回路の駆動対象となる画素の電気光学素子を
選択する選択手段とを備えた構成となっている。また、
この表示装置は、電気光学素子として有機EL素子を用
いるアクティブマトリクス型有機EL表示装置に適用さ
れる。
In an active matrix type display device according to the present invention, pixels having electro-optical elements whose brightness is changed by a flowing current are arranged in a matrix and are provided commonly to a plurality of pixels. A pixel circuit which supplies a current corresponding to the brightness information given through the data line to each electro-optical element of the plurality of pixels, and a selection for selecting the electro-optical element of the pixel to be driven by the pixel circuit from the plurality of pixels And means. Also,
This display device is applied to an active matrix type organic EL display device using an organic EL element as an electro-optical element.

【0032】上記構成のアクティブマトリクス型表示装
置またはアクティブマトリクス型有機EL表示装置にお
いて、画素回路は複数の画素に対して共用され、複数の
画素の中から選択手段によって駆動回路の駆動対象とし
て時分割的に選択された画素の電気光学素子または有機
EL素子に対して、データ線を通して与えられる輝度情
報に応じた電流を流す。ここで、画素回路を複数の画素
間で共用することで、1画素当たりの画素回路の素子数
を削減できる。
In the active matrix type display device or the active matrix type organic EL display device having the above structure, the pixel circuit is shared by a plurality of pixels, and the driving circuit is time-divided by the selecting means from among the plurality of pixels. A current according to the brightness information given through the data line is passed through the electro-optical element or the organic EL element of the pixel that is selectively selected. Here, by sharing the pixel circuit among a plurality of pixels, the number of elements of the pixel circuit per pixel can be reduced.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0034】[第1実施形態]図1は、本発明の第1実
施形態に係るアクティブマトリクス型表示装置の構成を
示すブロック図である。図1において、画素毎に設けら
れる発光素子として、流れる電流によって輝度が変化す
る電気光学素子、例えば有機EL素子11(11A,1
1B)が用いられており、この有機EL素子11が画素
単位でマトリクス状(行列状)に配置されている。ここ
では、2n行×m列の画素配列を例に採って示してい
る。
[First Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an active matrix display device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, as a light emitting element provided for each pixel, an electro-optical element whose brightness changes according to a flowing current, for example, an organic EL element 11 (11A, 1
1B) is used, and the organic EL elements 11 are arranged in a matrix in a pixel unit. Here, a pixel array of 2n rows × m columns is shown as an example.

【0035】この画素配列において、複数の画素、例え
ば上下に隣り合う2画素の各有機EL素子11A,11
Bに対して、輝度情報に応じた電流を流す画素回路12
が共通に設けられている。すなわち、1つの画素回路1
2を、上下に隣り合う2画素分の有機EL素子11A,
11Bの駆動に共用する構成となっている。したがっ
て、2n行×m列の画素配列に対して、画素回路12を
行単位で選択するn本の走査線13−1〜13−nと、
各画素回路12に輝度データを供給するm本のデータ線
14−1〜14−mがマトリクス状に配線されている。
In this pixel arrangement, a plurality of pixels, for example, organic EL elements 11A, 11 of two vertically adjacent pixels are used.
Pixel circuit 12 that allows a current corresponding to the brightness information to flow to B
Are provided in common. That is, one pixel circuit 1
2 is an organic EL element 11A for two pixels vertically adjacent to each other,
It is configured to be commonly used for driving 11B. Therefore, for the pixel array of 2n rows × m columns, n scanning lines 13-1 to 13-n for selecting the pixel circuit 12 in row units,
M data lines 14-1 to 14-m for supplying luminance data to each pixel circuit 12 are arranged in a matrix.

【0036】また、画素の各々には、上下に隣り合う2
画素分の有機EL素子11A,11Bを駆動選択するた
めの一対の選択スイッチ15A,15Bが2行単位で設
けられている。これに伴い、これら選択スイッチ15
A,15Bを行単位で順に時分割的に駆動して、駆動対
象の有機EL素子11A/11Bを選択する2系統の選
択線16A−1〜16A−n,16B−1〜16B−n
が2行単位で配線されている。
In addition, each pixel has two vertically adjacent pixels.
A pair of selection switches 15A and 15B for driving and selecting the organic EL elements 11A and 11B for pixels are provided in units of two rows. Accordingly, these selection switches 15
Two lines of selection lines 16A-1 to 16A-n and 16B-1 to 16B-n for sequentially driving A and 15B row by row in a time division manner to select the organic EL element 11A / 11B to be driven.
Are wired in units of two rows.

【0037】有機EL素子11が行列状に配置されてな
る画素部に対して、例えば、図の左側にはn本の走査線
13−1〜13−nを選択駆動する走査線駆動回路17
が、図の右側には2系統の選択線16A−1〜16A−
n,16B−1〜16B−nを選択駆動する選択線駆動
回路18が、図の下側にはm本のデータ線14−1〜1
4−mに対して輝度データを供給するデータ線駆動回路
19がそれぞれ配置されている。
For the pixel portion in which the organic EL elements 11 are arranged in a matrix, for example, on the left side of the drawing, a scanning line driving circuit 17 for selectively driving n scanning lines 13-1 to 13-n.
However, on the right side of the figure, there are two selection lines 16A-1 to 16A-
A select line drive circuit 18 for selectively driving n, 16B-1 to 16B-n has m data lines 14-1 to 14-1 on the lower side of the drawing.
Data line drive circuits 19 for supplying luminance data to 4-m are arranged respectively.

【0038】走査線駆動回路17は例えばn段の転送段
のシフトレジスタからなり、各転送段の出力端に走査線
13−1〜13−nの各一端が接続されている。選択線
駆動回路18は例えば2n段の転送段のシフトレジスタ
からなり、各転送段の出力端の前半部分に選択線16A
−1〜16A−nの各一端が、後半部分に選択線16B
−1〜16B−nの各一端がそれぞれ接続されている。
すなわち、選択線駆動回路18による駆動により、先
ず、奇数行の選択線16A−1〜16A−nが順に選択
され、次いで偶数行の選択線16B−1〜16B−nが
順に選択されるようになっている。
The scanning line driving circuit 17 is composed of, for example, a shift register of n transfer stages, and one end of each of the scanning lines 13-1 to 13-n is connected to the output end of each transfer stage. The select line drive circuit 18 is composed of, for example, a shift register of 2n transfer stages, and the select line 16A is provided at the first half of the output end of each transfer stage.
One end of each of -1 to 16A-n has a selection line 16B in the latter half.
One end of each of -1 to 16B-n is connected.
That is, the selection line drive circuit 18 drives the selection lines 16A-1 to 16A-n in the odd-numbered rows in order, and then the selection lines 16B-1 to 16B-n in the even-numbered rows in order. Has become.

【0039】(第1回路例)次に、画素回路12の具体
的な回路構成について説明する。図2は、画素回路12
の第1回路例を示す回路図であり、図中、図1と同等部
分には同一符号を付して示している。また、図2では、
上下に隣り合う2画素分の回路構成を示している。
(First Circuit Example) Next, a specific circuit configuration of the pixel circuit 12 will be described. FIG. 2 shows the pixel circuit 12
2 is a circuit diagram showing a first circuit example of FIG. 1, in which the same parts as in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In addition, in FIG.
A circuit configuration for two pixels vertically adjacent to each other is shown.

【0040】図2において、上下に隣り合う2画素分の
有機EL素子11A,11Bは、各カソードが第1の電
源、例えばグランドに接続(接地)されている。有機E
L素子11A,11Bの各アノードには、選択スイッチ
15A,15Bの各一端、例えばPchのTFT15
A,15Bの各ドレインが接続されている。これらTF
T15A,15Bは、各ソースがノードNに共通に接続
され、各ゲートが選択線16A(16A−1〜16A−
n),16B(16B−1〜16B−n)にそれぞれ接
続されている。
In FIG. 2, the cathodes of the organic EL elements 11A and 11B for two pixels vertically adjacent to each other are connected (grounded) to the first power source, for example, the ground. Organic E
Each of the anodes of the L elements 11A and 11B has one end of each of the selection switches 15A and 15B, for example, a Pch TFT 15
The drains of A and 15B are connected. These TF
In T15A and 15B, each source is commonly connected to the node N, and each gate has a selection line 16A (16A-1 to 16A-).
n) and 16B (16B-1 to 16B-n), respectively.

【0041】ノードNには、例えばPchのTFT21
のドレインが接続されている。TFT21のソースは、
第2の電源、例えば正電源Vccに接続されている。T
FT21のゲートには、キャパシタ22の一端が接続さ
れ、その他端は正電源Vccに接続されている。TFT
21のゲートにはさらに、例えばNchのTFT23の
ドレインが接続されている。TFT23は、ソースがデ
ータ線14(14−1〜14−m)に接続され、ゲート
が走査線13(13−1〜13−n)に接続されてい
る。
The node N has, for example, a Pch TFT 21.
The drain of is connected. The source of the TFT 21 is
It is connected to a second power supply, for example, a positive power supply Vcc. T
One end of the capacitor 22 is connected to the gate of the FT 21, and the other end is connected to the positive power supply Vcc. TFT
The gate of 21 is further connected to the drain of, for example, an Nch TFT 23. The TFT 23 has a source connected to the data lines 14 (14-1 to 14-m) and a gate connected to the scanning lines 13 (13-1 to 13-n).

【0042】次に、上記構成の第1実施形態に係るアク
ティブマトリクス型表示装置、即ちアクティブマトリク
ス型有機EL表示装置における具体的な動作について、
図3のタイミングチャートを用いて説明する。
Next, the specific operation of the active matrix type display device according to the first embodiment having the above-mentioned structure, that is, the active matrix type organic EL display device, will be described.
This will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0043】先ず、フレームの最初に、走査線駆動回路
17による駆動により、先頭の走査線である走査線13
−1を選択状態(高レベル)にし、1行目の各画素回路
12のTFT23をオン状態とする。これにより、デー
タ線14−1〜14−mを通して与えられる輝度データ
が、TFT23を介してキャパシタ22に書き込まれ
る。このとき、選択線駆動回路18の駆動により、選択
線16A−1が選択状態(低レベル)にあり、選択線1
6B−1が非選択状態(高レベル)にあるので、TFT
15Aがオン状態、TFT15Bがオフ状態となる。
First, at the beginning of a frame, the scanning line driving circuit 17 drives the scanning line 13 which is the first scanning line.
-1 is selected (high level), and the TFT 23 of each pixel circuit 12 in the first row is turned on. Thereby, the brightness data given through the data lines 14-1 to 14-m is written in the capacitor 22 via the TFT 23. At this time, the selection line drive circuit 18 drives the selection line 16A-1 to be in the selected state (low level).
Since 6B-1 is in the non-selected state (high level),
15A is turned on and TFT 15B is turned off.

【0044】この状態において、TFT21は、キャパ
シタ22に書き込まれた輝度データに応じた電流を、オ
ン状態にあるTFT15Aを通して有機EL素子11A
に流す。その結果、1行目の有機EL素子11Aが発光
状態となり、流れる電流に応じた輝度で発光する。一
方、TFT15Bがオフ状態にあるため、2行目の有機
EL素子11Bには電流が流れず、当該有機EL素子1
1Bは消灯状態となる。
In this state, the TFT 21 supplies the organic EL element 11A with a current corresponding to the brightness data written in the capacitor 22 through the TFT 15A in the ON state.
Shed on. As a result, the organic EL element 11A in the first row is in a light emitting state and emits light with a brightness according to the flowing current. On the other hand, since the TFT 15B is in the off state, no current flows in the organic EL element 11B in the second row,
1B is turned off.

【0045】次に、走査線駆動回路17による駆動によ
り、走査線13−2を選択する。この走査線13−2の
選択時にも、走査線13−1の選択時と同様の画素回路
12の回路動作により、3行目の有機EL素子11Aが
発光状態となり、4行目の有機EL素子11Bが消灯状
態となる。以降、同様にして、走査線13−3,…,1
3−nを選択しながら輝度データの書き込み動作を行う
ことにより、画面の奇数行の有機EL素子11Aが発光
する。
Next, the scanning line driving circuit 17 drives the scanning line 13-2. Even when the scanning line 13-2 is selected, the organic EL element 11A in the third row is in a light emitting state by the same circuit operation of the pixel circuit 12 as in the selection of the scanning line 13-1. 11B is turned off. Thereafter, similarly, the scanning lines 13-3, ..., 1
By performing the writing operation of the brightness data while selecting 3-n, the organic EL elements 11A in the odd rows of the screen emit light.

【0046】しかる後、走査線駆動回路17による駆動
により、再び走査線13−1を選択し、1行目の各画素
回路12のTFT23を介してキャパシタ22に輝度デ
ータを書き込む。このとき、選択線駆動回路18の駆動
により、選択線16A−1が非選択状態にあり、選択線
16B−1が選択状態にあるため、TFT15Aがオン
状態、TFT15Bがオフ状態となる。これにより、キ
ャパシタ22に書き込まれた輝度データに応じた電流
が、TFT21およびTFT15Bを通して有機EL素
子11Bに流れる。
Thereafter, the scanning line driving circuit 17 drives the scanning line 13-1 again, and the brightness data is written in the capacitor 22 via the TFT 23 of each pixel circuit 12 in the first row. At this time, the selection line drive circuit 18 drives the selection line 16A-1 to be in the non-selection state and the selection line 16B-1 to be in the selection state, so that the TFT 15A is turned on and the TFT 15B is turned off. As a result, a current according to the brightness data written in the capacitor 22 flows to the organic EL element 11B through the TFT 21 and the TFT 15B.

【0047】その結果、2行目の有機EL素子11Bが
発光状態となり、流れる電流に応じた輝度で発光する。
一方、TFT15Aがオフ状態にあるため、1行目の有
機EL素子11Aには電流が流れず、当該有機EL素子
11Aは消灯状態となる。以降、同様にして、走査線1
3−2,…,13−nを選択しながら輝度データの書き
込み動作を行うことにより、画面の偶数行の有機EL素
子11Bが発光し、1フレーム分の輝度データの書き込
みが完了する。
As a result, the organic EL element 11B in the second row is in a light emitting state and emits light with a brightness according to the flowing current.
On the other hand, since the TFT 15A is in the off state, no current flows in the organic EL element 11A in the first row, and the organic EL element 11A is turned off. Thereafter, in the same manner, the scan line 1
By performing the write operation of the brightness data while selecting 3-2, ..., 13-n, the organic EL elements 11B in the even rows of the screen emit light, and the write of the brightness data for one frame is completed.

【0048】上述したように、輝度情報に応じた電流を
有機EL素子11A,11Bに流す画素回路12とし
て、2個のTFT21,23および1個のキャパシタ2
2からなる画素回路を用い、この画素回路12を例えば
上下に隣り合う2画素間で共用するようにしたことによ
り、選択用のトランジスタ(TFT15A,15B)が
追加されるものの、4個のTFT15A,15B,2
1,23および1個のキャパシタ22で2画素分の画素
回路を構成できる。
As described above, the two TFTs 21 and 23 and the one capacitor 2 are provided as the pixel circuit 12 that causes the current corresponding to the luminance information to flow through the organic EL elements 11A and 11B.
By using a pixel circuit composed of two pixels and sharing the pixel circuit 12 between two vertically adjacent pixels, for example, although transistors for selection (TFTs 15A and 15B) are added, four TFTs 15A, 15B, 2
A pixel circuit for two pixels can be configured with 1, 23 and one capacitor 22.

【0049】すなわち、当該画素回路12を各画素毎に
配した場合には、2画素分で4個のTFTおよび2個の
キャパシタが必要となるのに比べて、大きな面積を占有
しがちなキャパシタを1個削減できる。したがって、そ
の分だけ製造歩留まりを向上できる。また、キャパシタ
を1個削減できる分だけ画素面積を縮小できるため、画
素ピッチを狭くすることが可能となり、ディスプレイの
高解像度化、高精細化が図れる。
That is, when the pixel circuit 12 is arranged for each pixel, a capacitor which tends to occupy a large area compared to the case where two TFTs require four TFTs and two capacitors. Can be reduced by one. Therefore, the manufacturing yield can be improved accordingly. Moreover, since the pixel area can be reduced by the amount of one capacitor that can be reduced, the pixel pitch can be narrowed and the display can have high resolution and high definition.

【0050】とりわけ、奇数行の画素全体への輝度デー
タの書き込みと、偶数行の画素全体への輝度データの書
き込みとを交互に行う駆動方式を採っているため、画像
信号がインターレース(飛び越し)走査方式に対応した
ものである場合には、この画像信号をそのまま用いて表
示駆動を行うことが可能であるとともに、なんら表示品
位の低下を来すことがなく、インターレース走査対応の
画像信号の表示に特に有用なものとなる。
In particular, since the driving method is adopted in which the writing of the luminance data to all the pixels in the odd-numbered rows and the writing of the luminance data to the whole pixels in the even-numbered rows are adopted alternately, the image signal is interlaced (interlaced) scanning. If it is compatible with the system, it is possible to drive the display by using this image signal as it is, and to display an image signal compatible with interlaced scanning without causing any deterioration in display quality. It will be especially useful.

【0051】一方、画像信号がプログレッシブ(順次)
走査方式に対応したものである場合は、外部に画像メモ
リを用意しておき、1フレームの前半において例えば偶
数行の輝度データを画像メモリに一時的に格納する一
方、奇数行の輝度データを先に書き込み、後半に偶数行
の輝度データを画像メモリから読み出して書き込むとい
う駆動方法を採るようにすれば良い。
On the other hand, the image signal is progressive (sequential)
If it corresponds to the scanning method, an image memory is prepared externally and, for example, in the first half of one frame, luminance data of even rows is temporarily stored in the image memory, while luminance data of odd rows is stored first. It is sufficient to adopt a driving method in which the brightness data of even rows is read from the image memory and written in the latter half.

【0052】あるいは、フレーム周波数が標準的な60
Hz程度の値であれば、あるフレームでは偶数行のみ、
次のフレームでは奇数行のみというように交互に書き込
みを行えばフリッカーを生ずることがないので、実用的
な画質を得つつ駆動周波数を半減することができる。こ
の場合、動画の解像度は低下するが、静止画については
2n行×m列分の解像度を持った画像を得ることができ
る。
Alternatively, the frame frequency is standard 60
If the value is about Hz, only even rows in a certain frame,
In the next frame, flicker does not occur if writing is performed alternately, such as in odd rows only, so that the driving frequency can be halved while obtaining a practical image quality. In this case, although the resolution of the moving image is lowered, it is possible to obtain an image having a resolution of 2n rows × m columns for a still image.

【0053】[第1実施形態の変形例]図4は、本発明
の第1実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス型
表示装置の構成を示すブロック図であり、図中、図1と
同等部分には同一符号を付して示している。
[Modification of First Embodiment] FIG. 4 is a block diagram showing the structure of an active matrix display device according to a modification of the first embodiment of the present invention. Are denoted by the same reference numerals.

【0054】第1実施形態に係るアクティブマトリクス
型表示装置では、2系統(A,B)の有機EL素子11
A,11Bを行毎に交互に配置した画素配列を採ってい
るのに対して、本変形例に係るアクティブマトリクス型
表示装置では、2系統の有機EL素子11A,11Bに
ついて、行毎および列毎に交互に配置したいわゆる市松
模様の画素配列を採っている点で相違しており、それ以
外の基本的な構成については同じである。市松模様の画
素配列を実現するために、2系統の選択線16A(16
A−1〜16A−n),16B(16B−1〜16B−
n)が各行において例えば1画素毎にクロスする配線構
造が採られている。
In the active matrix type display device according to the first embodiment, two lines (A, B) of organic EL elements 11 are used.
In contrast to the pixel array in which A and 11B are alternately arranged in each row, in the active matrix display device according to this modification, the organic EL elements 11A and 11B of two systems are arranged in each row and each column. They are different in that they adopt a so-called checkered pattern pixel array arranged alternately with each other, and other than that, the basic configuration is the same. In order to realize a checkered pixel arrangement, two selection lines 16A (16
A-1 to 16A-n), 16B (16B-1 to 16B-
For example, a wiring structure in which n) crosses each row in each row is adopted.

【0055】これにより、第1のデータ線(奇数列のデ
ータ線14−1,14−3,……,14−m−1)上の
画素において、奇数行の画素全体への輝度データの書き
込みと、偶数行の画素全体への輝度データの書き込みと
が交互に行われる一方、第1のデータ線上の奇数行の画
素に輝度データの書き込みが行われる間、これに隣接す
る第2のデータ線(奇数列のデータ線14−2,14−
4,……,14−m)上の偶数行の画素に対して輝度デ
ータの書き込みが行われ、第1のデータ線上の偶数行の
画素に輝度情報の書き込みが行われる間、第2のデータ
線上の奇数行の画素に対して輝度データの書き込みが行
われる。
As a result, in the pixels on the first data line (the data lines 14-1, 14-3, ..., 14-m-1 in the odd-numbered columns), the luminance data is written in all the pixels in the odd-numbered rows. And the writing of the luminance data to all the pixels of the even-numbered rows are alternately performed, while the writing of the luminance data to the pixels of the odd-numbered rows on the first data line is performed, the second data line adjacent thereto (Data lines 14-2, 14- of odd columns
4, ..., 14-m), the luminance data is written to the pixels in the even rows on the first data line, while the luminance data is written to the pixels in the even rows on the first data line. Luminance data is written to pixels in odd-numbered rows on the line.

【0056】その結果、選択線駆動回路18から1番目
の選択パルスが出力されると、1行目における1列目、
3列目、……、m−1列目の有機EL素子11Aと、2
行目における2列目、4列目、……、m列目の有機EL
素子11Aとが発光し、次いで選択線駆動回路18から
2番目の選択パルスが出力されると、2行目における1
列目、3列目、……、m−1列目の有機EL素子11B
と、1行目における2列目、4列目、……、m列目の有
機EL素子11Bとが発光し、……という具合に、垂直
走査に同期して走査線上の左右に隣接する2画素のうち
の一方が発光するように駆動が行われる。
As a result, when the first selection pulse is output from the selection line drive circuit 18, the first column in the first row,
The third row, ..., The organic EL element 11A in the (m-1) th row and 2
2nd, 4th, ..., m-th row organic EL in the row
When the elements 11A and 11A emit light and then the second selection pulse is output from the selection line drive circuit 18, 1 in the second row is output.
The third, third, ..., m-1th row organic EL elements 11B
, And the organic EL elements 11B in the second, fourth, ..., M columns in the first row emit light, and so on. The driving is performed so that one of the pixels emits light.

【0057】第1実施形態に係るアクティブマトリクス
型表示装置では、先ず全画面の奇数行の画素全体への書
き込みを行い、その後偶数行の画素全体への書き込みを
行うインターレース走査方式であり、先述したように、
フレーム周波数が60Hz程度であればフリッカーが生
じない。しかしながら、60Hzのフレーム周波数で全
画素をプログレッシブ走査する場合に比べると、視覚的
に走査線が目立ち易いという欠点がある。これは、画素
が走査線単位で点灯(発光)および消灯を繰り返してい
ることに起因するものである。
The active matrix type display device according to the first embodiment is an interlaced scanning method in which writing is first performed in all pixels in odd-numbered rows of the entire screen and then writing is performed in all pixels in even-numbered rows. like,
If the frame frequency is about 60 Hz, flicker does not occur. However, compared to the case where all pixels are progressively scanned at a frame frequency of 60 Hz, there is a drawback that the scanning lines are visually conspicuous. This is because the pixel is repeatedly turned on (emitted) and turned off for each scanning line.

【0058】これに対して、本変形例に係るアクティブ
マトリクス型表示装置では、垂直走査に同期して走査線
上の左右に隣接する2画素のうちの一方が発光するよう
に駆動を行うようにしているため、視覚的に走査線が目
立ちにくくなる。なお、図4では簡単のため、単色の表
示装置を模しているが、カラー表示装置の場合には、各
色毎に図4の構成を採るようにすれば良い。
On the other hand, in the active matrix type display device according to the present modification, the driving is performed so that one of the two pixels adjacent to each other on the left and right on the scanning line emits light in synchronization with the vertical scanning. As a result, the scanning lines are less visible. Note that a single-color display device is modeled for simplicity in FIG. 4, but in the case of a color display device, the configuration of FIG. 4 may be adopted for each color.

【0059】なお、上記実施形態およびその変形例で
は、1つの画素回路12を上下に隣り合う2画素間で共
用するとしたが、これに限られるものではなく、3画素
以上の画素間で共用するように拡張することも可能なこ
とは明らかである。ただし、多くの画素で1つの画素回
路12を共用するようにした場合は、一つ一つの有機E
L素子の発光時間が短くなるので、同じ時間平均輝度を
するためには、有機EL素子のピーク輝度を高くする必
要がある。
In the above-described embodiment and its modification, one pixel circuit 12 is shared by two vertically adjacent pixels, but the invention is not limited to this and it is shared by three or more pixels. Obviously, it can be extended as follows. However, if one pixel circuit 12 is shared by many pixels, each organic E
Since the light emitting time of the L element becomes short, it is necessary to increase the peak luminance of the organic EL element in order to obtain the same time average luminance.

【0060】また、上記実施形態およびその変形例で
は、画素の表示素子として、有機EL素子を用いたアク
ティブマトリクス型有機EL表示装置に適用した場合を
例に採って説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、流れる電流によって輝度が変化する電気光学
素子を表示素子として用いたアクティブマトリクス型表
示装置全般に適用し得るものである。
Further, in the above-mentioned embodiment and its modification, the case where the present invention is applied to the active matrix type organic EL display device using the organic EL element as the display element of the pixel has been described, but the present invention is not limited to this. However, the present invention is not limited to the above, and can be applied to all active matrix type display devices using an electro-optical element whose luminance changes according to a flowing current as a display element.

【0061】(第2回路例)図5は、画素回路12の第
2回路例を示す回路図であり、図中、図2と同等部分に
は同一符号を付して示している。また、図5でも、上下
に隣り合う2画素分の回路構成を示している。
(Second Circuit Example) FIG. 5 is a circuit diagram showing a second circuit example of the pixel circuit 12. In the figure, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals. In addition, FIG. 5 also shows a circuit configuration for two vertically adjacent pixels.

【0062】図5において、上下に隣り合う2画素分の
有機EL素子11A,11Bは、各カソードが接地され
ている。有機EL素子11A,11Bの各アノードに
は、選択スイッチ15A,15Bの各一端、例えばPc
hのTFT15A,15Bの各ドレインが接続されてい
る。これらTFT15A,15Bは、各ソースがノード
Nに共通に接続され、各ゲートが選択線16A(16A
−1〜16A−n),16B(16B−1〜16B−
n)にそれぞれ接続されている。
In FIG. 5, the cathodes of the organic EL elements 11A and 11B for two pixels vertically adjacent to each other are grounded. Each of the anodes of the organic EL elements 11A and 11B has one end of each of the selection switches 15A and 15B, for example, Pc.
The drains of the TFTs 15A and 15B of h are connected. These TFTs 15A and 15B have their sources commonly connected to the node N and their gates connected to the select line 16A (16A).
-1 to 16A-n), 16B (16B-1 to 16B-)
n), respectively.

【0063】ノードNには、例えばPchのTFT31
のドレインが接続されている。TFT31のソースは正
電源Vccに接続されている。TFT31のゲートとド
レインとの間には、例えばNchのTFT32が接続さ
れている。TFT32のゲートは、リセット線36に接
続されている。TFT31のゲートには、キャパシタ3
3の一端が接続されている。キャパシタ33の他端と正
電源Vccとの間にはキャパシタ34が接続されてい
る。キャパシタ33の他端にはさらに、例えばNchの
TFT35のドレインが接続されている。TFT35
は、ソースがデータ線14(14−1〜14−m)に接
続され、ゲートが走査線13(13−1〜13−n)に
接続されている。
At the node N, for example, a Pch TFT 31 is used.
The drain of is connected. The source of the TFT 31 is connected to the positive power source Vcc. An Nch TFT 32, for example, is connected between the gate and drain of the TFT 31. The gate of the TFT 32 is connected to the reset line 36. The gate of the TFT 31 has a capacitor 3
One end of 3 is connected. A capacitor 34 is connected between the other end of the capacitor 33 and the positive power supply Vcc. The drain of the Nch TFT 35, for example, is further connected to the other end of the capacitor 33. TFT35
Has a source connected to the data lines 14 (14-1 to 14-m) and a gate connected to the scanning lines 13 (13-1 to 13-n).

【0064】上記構成の第2回路例に係る画素回路は、
その基本的な機能については、従来例1として挙げた図
10の画素回路と同様であるが、本例では、例えば上下
に隣り合う2画素間で共用化されている点が特徴となっ
ている。すなわち、第2回路例に係る画素回路を、第1
回路例に係る画素回路と同様に、図1あるいは図4に示
す如くマトリクス状に配置すれば、アクティブマトリク
ス型有機EL表示装置を構成することができる。なお、
リセット線36については、走査線13や選択線16
A,16Bと同様に、2行毎に1本ずつ配線されること
になる。
The pixel circuit according to the second circuit example having the above configuration is
The basic function thereof is the same as that of the pixel circuit of FIG. 10 given as the conventional example 1, but the feature of the present example is that it is shared by, for example, two vertically adjacent pixels. . That is, the pixel circuit according to the second circuit example is
Similar to the pixel circuit according to the circuit example, an active matrix type organic EL display device can be configured by arranging them in a matrix as shown in FIG. 1 or 4. In addition,
Regarding the reset line 36, the scanning line 13 and the selection line 16
Similar to A and 16B, one wire is arranged every two rows.

【0065】ここで、その具体的な動作について、図6
のタイミングチャートを用いて説明する。
Here, the specific operation will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to the timing chart of.

【0066】先ず、選択線16Aを非選択状態(高レベ
ル)、選択線16Bを選択状態(低レベル)とした状態
において、走査線13およびリセット線36を選択状態
(共に高レベル)とし、スイッチ用TFT32によって
駆動用TFT31のゲート・ドレイン間を短絡する。次
いて、選択線16Bを非選択状態(高レベル)とする
と、TFT15Bがオフ状態となることにより、図10
の画素回路の場合と同様にリセット動作が行われる。リ
セット動作が完了したら、リセット線36を非選択状態
(低レベル)に戻す。
First, with the selection line 16A in the non-selected state (high level) and the selection line 16B in the selected state (low level), the scanning line 13 and the reset line 36 are set in the selected state (both high level), and the switch is turned on. The driving TFT 31 short-circuits the gate and drain of the driving TFT 31. Next, when the selection line 16B is set to the non-selection state (high level), the TFT 15B is turned off.
The reset operation is performed similarly to the case of the pixel circuit of. When the reset operation is completed, the reset line 36 is returned to the non-selected state (low level).

【0067】続いて、データ線14にΔVoddの電位
変化を与え、しかる後走査線13を非選択状態(低レベ
ル)とすることで、TFT35を通してのキャパシタ3
4への輝度データの書き込みが完了する。そして、選択
線16Aを選択状態(低レベル)とすれば、TFT15
Aがオン状態となる。このとき、選択線16Bは非選択
状態のままであり、TFT15Bはオフ状態にある。
Subsequently, a potential change of ΔVodd is applied to the data line 14, and then the scanning line 13 is brought into a non-selected state (low level), so that the capacitor 3 passing through the TFT 35.
The writing of the brightness data to 4 is completed. Then, if the selection line 16A is set to the selected state (low level), the TFT 15
A is turned on. At this time, the selection line 16B remains in the non-selected state, and the TFT 15B is in the off state.

【0068】この状態において、TFT31は、キャパ
シタ34に書き込まれた輝度データに応じた電流を、オ
ン状態にあるTFT15Aを通して有機EL素子11A
に流す。その結果、有機EL素子11Aが発光状態とな
り、流れる電流に応じた輝度で発光する。一方、TFT
15Bがオフ状態にあるため、有機EL素子11Bには
電流が流れず、当該有機EL素子11Bは消灯状態とな
る。
In this state, the TFT 31 supplies the organic EL element 11A with a current corresponding to the brightness data written in the capacitor 34 through the TFT 15A in the ON state.
Shed on. As a result, the organic EL element 11A enters a light emitting state, and emits light with a brightness corresponding to the flowing current. On the other hand, TFT
Since 15B is in the off state, no current flows in the organic EL element 11B, and the organic EL element 11B is turned off.

【0069】その後、走査線13(13−1〜13−
n)を順次選択しながら輝度データの画素への書き込み
動作を行うことにより、画面の奇数行の有機EL素子1
1Aが発光する。奇数行について輝度データの書き込み
動作が終了したら、再び最初の走査線から偶数行につい
て輝度データの書き込み動作を行うようにすることで、
画面の偶数行の有機EL素子11Bが発光し、1フレー
ム分の輝度データの書き込みが完了する。
After that, the scanning line 13 (13-1 to 13-
n) are sequentially selected and the writing operation of the luminance data to the pixels is performed, whereby the organic EL elements 1 in the odd rows of the screen are
1A emits light. When the writing operation of the luminance data for the odd rows is completed, the writing operation of the luminance data is performed for the even rows from the first scanning line again,
The organic EL elements 11B in the even rows of the screen emit light, and the writing of the luminance data for one frame is completed.

【0070】上述したように、第2回路例に係る画素回
路を例えば上下に隣り合う2画素間で共用化することに
より、5個のTFT15A,15B,31,32,35
および2個のキャパシタ33,34で2画素分の画素回
路を構成できる。すなわち、図10の画素回路を各画素
毎に配した場合は、2画素分で8個のTFTおよび4個
のキャパシタが必要となるのに対して、トランジスタ3
個とキャパシタ2個を削減できる。したがって、その分
だけ製造歩留まりを向上できる。また、信号線について
も2本削減でき、しかも大きな面積を占有しがちなキャ
パシタを2個削減できる分だけ画素面積を大幅に縮小で
きるため、画素ピッチをさらに狭くすることが可能とな
り、ディスプレイのさらなる高解像度化、高精細化が図
れる。
As described above, the pixel circuit according to the second circuit example is shared by, for example, two vertically adjacent pixels, so that five TFTs 15A, 15B, 31, 32, 35 are formed.
Also, a pixel circuit for two pixels can be configured with the two capacitors 33 and 34. That is, when the pixel circuit of FIG. 10 is arranged for each pixel, eight TFTs and four capacitors are required for two pixels, whereas the transistor 3 is used.
The number of capacitors and two capacitors can be reduced. Therefore, the manufacturing yield can be improved accordingly. In addition, the number of signal lines can be reduced by two, and the pixel area can be significantly reduced by the reduction of two capacitors that tend to occupy a large area. Therefore, it is possible to further reduce the pixel pitch and further increase the display. Higher resolution and higher definition can be achieved.

【0071】(第3回路例)図7は、画素回路12の第
3回路例を示す回路図であり、図中、図2と同等部分に
は同一符号を付して示している。また、図7でも、上下
に隣り合う2画素分の回路構成を示している。
(Third Circuit Example) FIG. 7 is a circuit diagram showing a third circuit example of the pixel circuit 12. In the figure, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals. In addition, FIG. 7 also shows a circuit configuration for two vertically adjacent pixels.

【0072】図7において、上下に隣り合う2画素分の
有機EL素子11A,11Bは、各カソードが接地され
ている。有機EL素子11A,11Bの各アノードに
は、選択スイッチ15A,15Bの各一端、例えばPc
hのTFT15A,15Bの各ドレインが接続されてい
る。これらTFT15A,15Bは、各ソースがノード
Nに共通に接続され、各ゲートが選択線16A(16A
−1〜16A−n),16B(16B−1〜16B−
n)にそれぞれ接続されている。
In FIG. 7, the cathodes of the organic EL elements 11A and 11B for two pixels vertically adjacent to each other are grounded. Each of the anodes of the organic EL elements 11A and 11B has one end of each of the selection switches 15A and 15B, for example, Pc.
The drains of the TFTs 15A and 15B of h are connected. These TFTs 15A and 15B have their sources commonly connected to the node N and their gates connected to the select line 16A (16A).
-1 to 16A-n), 16B (16B-1 to 16B-)
n), respectively.

【0073】ノードNには、例えばPchのTFT41
のドレインが接続されている。TFT41のソースは正
電源Vccに接続されている。TFT31のゲートと正
電源42との間にはキャパシタ42が接続されている。
TFT41のゲートにはさらに、例えばNchのTFT
43のドレインが接続されている。TFT43のゲート
は、走査線13に接続されている。TFT43のソース
には、例えばPchのTFT44のゲートおよびドレイ
ンが共通に接続されている。TFT44のソースは正電
源Vccに接続されている。TFT44のゲート・ドレ
インとデータ線14との間にはTFT45が接続されて
いる。TFT45のゲートは走査線13に接続されてい
る。
At the node N, for example, a Pch TFT 41 is used.
The drain of is connected. The source of the TFT 41 is connected to the positive power source Vcc. A capacitor 42 is connected between the gate of the TFT 31 and the positive power supply 42.
The gate of the TFT 41 is further provided with, for example, an Nch TFT.
The drain of 43 is connected. The gate of the TFT 43 is connected to the scanning line 13. For example, the gate and drain of the Pch TFT 44 are commonly connected to the source of the TFT 43. The source of the TFT 44 is connected to the positive power source Vcc. A TFT 45 is connected between the gate / drain of the TFT 44 and the data line 14. The gate of the TFT 45 is connected to the scanning line 13.

【0074】上記構成の第3回路例に係る画素回路は、
その基本的な機能については、従来例2として挙げた図
12の画素回路と同様であるが、本例では、例えば上下
に隣り合う2画素間で共用化されている点が特徴となっ
ている。すなわち、第3回路例に係る画素回路を、第
1,第2回路例に係る画素回路と同様に、図1あるいは
図4に示す如くマトリクス状に配置すれば、アクティブ
マトリクス型有機EL表示装置を構成することができ
る。
The pixel circuit according to the third circuit example having the above configuration is
The basic function thereof is the same as that of the pixel circuit of FIG. 12 given as the second conventional example, but the present example is characterized in that, for example, it is shared by two vertically adjacent pixels. . That is, if the pixel circuits according to the third circuit example are arranged in a matrix as shown in FIG. 1 or FIG. 4 like the pixel circuits according to the first and second circuit examples, an active matrix organic EL display device is obtained. Can be configured.

【0075】このように、第3回路例に係る画素回路を
例えば上下に隣り合う2画素間で共用化することによ
り、6個のTFT15A,15B,41,42,44,
45および1個のキャパシタ42で2画素分の画素回路
を構成できる。すなわち、図12の画素回路を各画素毎
に配した場合は、2画素分で8個のTFTおよび1個の
キャパシタが必要となるのに対して、トランジスタ2個
とキャパシタ1個を削減できる。したがって、その分だ
け製造歩留まりを向上できる。また、大きな面積を占有
しがちなキャパシタを1個削減できる分だけ画素面積を
縮小できるため、画素ピッチを狭くすることが可能とな
り、ディスプレイの高解像度化、高精細化が図れる。
As described above, by sharing the pixel circuit according to the third circuit example between two vertically adjacent pixels, six TFTs 15A, 15B, 41, 42, 44,
A pixel circuit for two pixels can be configured with 45 and one capacitor 42. That is, when the pixel circuit of FIG. 12 is arranged for each pixel, eight TFTs and one capacitor are required for two pixels, whereas two transistors and one capacitor can be reduced. Therefore, the manufacturing yield can be improved accordingly. Further, since the pixel area can be reduced by the amount of one capacitor that tends to occupy a large area, the pixel pitch can be narrowed, and high resolution and high definition of the display can be achieved.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
画素回路を複数の画素間で時分割的に共用することによ
り、1画素当たりの画素回路の素子数を削減できる。特
に、TFTの特性ばらつきの補償機能を有するために、
複雑な回路構成の画素回路を使用するような場合には、
当該画素回路を複数の画素間で共用することにより、1
画素当たりのトランジスタ数やキャパシタ数を効果的に
削減することが可能であるため、製造歩留まりを向上さ
せることが可能であるとともに、高精細のディスプレイ
の実現が容易になる。
As described above, according to the present invention,
By sharing the pixel circuit among a plurality of pixels in a time division manner, the number of elements of the pixel circuit per pixel can be reduced. In particular, in order to have a compensation function for TFT characteristic variations,
When using a pixel circuit with a complicated circuit configuration,
By sharing the pixel circuit among a plurality of pixels, 1
Since it is possible to effectively reduce the number of transistors and capacitors per pixel, it is possible to improve the manufacturing yield and facilitate realization of a high-definition display.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るアクティブマトリ
クス型表示装置の構成例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of an active matrix type display device according to a first embodiment of the invention.

【図2】画素回路の第1回路例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a first circuit example of a pixel circuit.

【図3】第1回路例に係る画素回路の回路動作のタイミ
ングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart of the circuit operation of the pixel circuit according to the first circuit example.

【図4】第1実施形態の変形例に係るアクティブマトリ
クス型表示装置の構成例を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration example of an active matrix type display device according to a modification of the first embodiment.

【図5】画素回路の第2回路例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a second circuit example of a pixel circuit.

【図6】第2回路例に係る画素回路の回路動作のタイミ
ングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart of the circuit operation of the pixel circuit according to the second circuit example.

【図7】画素回路の第3回路例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a third circuit example of the pixel circuit.

【図8】電圧書き込み型の基本的な画素回路の回路構成
を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a basic voltage writing type pixel circuit.

【図9】アクティブマトリクス型表示装置の構成例を示
すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram illustrating a configuration example of an active matrix display device.

【図10】従来例1に係る画素回路を示す回路図であ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a pixel circuit according to Conventional Example 1.

【図11】従来例1に係る画素回路の回路動作のタイミ
ングチャートである。
FIG. 11 is a timing chart of the circuit operation of the pixel circuit according to Conventional Example 1.

【図12】従来例2に係る画素回路を示す回路図であ
る。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a pixel circuit according to Conventional Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11A,11B…有機EL素子、12…画素回路、1
3,13−1〜13−n…走査線、14,14−1〜1
4−m…データ線、15A,15B…選択スイッチ、1
6A,16A−1〜16A−n,16B,16B−1〜
16B−n…選択線、17…走査線駆動回路、18…選
択線駆動回路、19…データ線駆動回路
11A, 11B ... Organic EL element, 12 ... Pixel circuit, 1
3, 13-1 to 13-n ... Scan line, 14, 14-1 to 1
4-m ... Data line, 15A, 15B ... Selection switch, 1
6A, 16A-1 to 16A-n, 16B, 16B-1 to
16B-n ... Select line, 17 ... Scan line drive circuit, 18 ... Select line drive circuit, 19 ... Data line drive circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 624 G09G 3/20 624B 641 641D H05B 33/14 H05B 33/14 A Fターム(参考) 3K007 AB02 AB06 AB17 AB18 BA06 BB07 DB03 EB00 GA04 5C080 AA06 BB05 DD05 DD22 DD27 EE28 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 5C094 AA05 AA07 AA15 AA43 AA44 AA45 AA51 AA55 BA03 BA27 CA19 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 FB01 FB20 GA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/20 624 G09G 3/20 624B 641 641D H05B 33/14 H05B 33/14 A F term (reference) 3K007 AB02 AB06 AB17 AB18 BA06 BB07 DB03 EB00 GA04 5C080 AA06 BB05 DD05 DD22 DD27 EE28 FF11 JJ02 JJ03 JJ04 5C094 AA05 AA07 AA15 AA43 AA44 AA45 AA51 AA55 BA03 BA27 CA19 DA09 DA13 DB01 DB01 FB20 GA04 GA04

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 流れる電流によって輝度が変化する電気
光学素子を有する画素がマトリクス状に配置されてなる
アクティブマトリクス型表示装置であって、 複数の画素に対して共通に設けられ、データ線を通して
与えられる輝度情報に応じた電流を前記複数の画素の各
電気光学素子に流す画素回路と、 前記複数の画素の中から前記画素回路の駆動対象となる
画素の電気光学素子を選択する選択手段とを備えたこと
を特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
1. An active matrix display device in which pixels having electro-optical elements whose brightness is changed by a flowing current are arranged in a matrix, which is provided commonly to a plurality of pixels and is provided through a data line. A pixel circuit that causes a current corresponding to the luminance information to flow in each electro-optical element of the plurality of pixels; and a selection unit that selects an electro-optical element of a pixel to be driven by the pixel circuit from the plurality of pixels. An active matrix type display device characterized by being provided.
【請求項2】 前記画素回路は、隣り合う2行の各画素
に対して共通に設けられ、奇数行の画素全体への輝度情
報の書き込みと、偶数行の画素全体への輝度情報の書き
込みとを交互に行うことを特徴とする請求項1記載のア
クティブマトリクス型表示装置。
2. The pixel circuit is commonly provided for pixels in two adjacent rows, and writes brightness information to all pixels in odd rows and writes brightness information to all pixels in even rows. 2. The active matrix type display device according to claim 1, wherein the steps are alternately performed.
【請求項3】 前記画素回路は、隣り合う2行の各画素
に対して共通に設けられ、第1のデータ線上の画素にお
いて、奇数行の画素全体への輝度情報の書き込みと、偶
数行の画素全体への輝度情報の書き込みとを交互に行う
一方、前記第1のデータ線上の奇数行の画素に輝度情報
の書き込みが行われる間、これに隣接する第2のデータ
線上の偶数行の画素に対して輝度情報の書き込みを行
い、前記第1のデータ線上の偶数行の画素に輝度情報の
書き込みが行われる間、前記第2のデータ線上の奇数行
の画素に対して輝度情報の書き込みを行うことを特徴と
する請求項1記載のアクティブマトリクス型表示装置。
3. The pixel circuit is provided in common for each pixel in two adjacent rows, and in the pixels on the first data line, writing of luminance information to all pixels in odd rows and writing in even rows. While writing the luminance information to all the pixels alternately, while writing the luminance information to the pixels in the odd rows on the first data line, the pixels in the even rows on the second data line adjacent thereto Luminance information is written to the pixels of even rows on the first data line, while the luminance information is written to pixels of odd rows on the second data line. The active matrix display device according to claim 1, which is performed.
【請求項4】 第1,第2の電極およびこれら電極間に
発光層を含む有機層を有する有機エレクトロルミネッセ
ンス素子を表示素子として有する画素がマトリクス状に
配置されてなるアクティブマトリクス型有機エレクトロ
ルミネッセンス表示装置であって、 複数の画素に対して共通に設けられ、データ線を通して
与えられる輝度情報に応じた電流を前記複数の画素の各
有機エレクトロルミネッセンス素子に流す画素回路と、 前記複数の画素の中から前記画素回路の駆動対象となる
画素の有機エレクトロルミネッセンス素子を選択する選
択手段とを備えたことを特徴とするアクティブマトリク
ス型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
4. An active matrix type organic electroluminescence display in which pixels having organic electroluminescence elements having first and second electrodes and an organic layer including a light emitting layer between these electrodes as display elements are arranged in a matrix. A pixel circuit provided in common to a plurality of pixels, wherein a current corresponding to luminance information given through a data line is passed through each organic electroluminescence element of the plurality of pixels; To a selection means for selecting an organic electroluminescence element of a pixel which is a driving target of the pixel circuit, from the active matrix type organic electroluminescence display device.
【請求項5】 前記画素回路は、隣り合う2行の各画素
に対して共通に設けられ、奇数行の画素全体への輝度情
報の書き込みと、偶数行の画素全体への輝度情報の書き
込みとを交互に行うことを特徴とする請求項4記載のア
クティブマトリクス型有機エレクトロルミネッセンス表
示装置。
5. The pixel circuit is commonly provided for each pixel in two adjacent rows, and writes the brightness information to all the pixels in the odd rows and writes the brightness information to all the pixels in the even rows. 5. The active matrix type organic electroluminescence display device according to claim 4, wherein the steps are alternately performed.
【請求項6】 前記画素回路は、隣り合う2行の各画素
に対して共通に設けられ、第1のデータ線上の画素にお
いて、奇数行の画素全体への輝度情報の書き込みと、偶
数行の画素全体への輝度情報の書き込みとを交互に行う
一方、前記第1のデータ線上の奇数行の画素に輝度情報
の書き込みが行われる間、これに隣接する第2のデータ
線上の偶数行の画素に対して輝度情報の書き込みを行
い、前記第1のデータ線上の偶数行の画素に輝度情報の
書き込みが行われる間、前記第2のデータ線上の奇数行
の画素に対して輝度情報の書き込みを行うことを特徴と
する請求項4記載のアクティブマトリクス型有機エレク
トロルミネッセンス表示装置。
6. The pixel circuit is commonly provided for pixels in two adjacent rows, and in the pixels on the first data line, writing of luminance information to all the pixels in odd rows and writing in the even rows. While writing the luminance information to all the pixels alternately, while writing the luminance information to the pixels in the odd rows on the first data line, the pixels in the even rows on the second data line adjacent thereto Luminance information is written to the pixels of even rows on the first data line, while the luminance information is written to pixels of odd rows on the second data line. The active matrix organic electroluminescence display device according to claim 4, which is performed.
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