JP2003118253A - Lithographic printing original plate - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 109
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 71
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 71
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 22
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 17
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 10
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 45
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 25
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 8
- 150000002738 metalloids Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 19
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 114
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 16
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 13
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 11
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 11
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 11
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 9
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 8
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 8
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 7
- CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 2-methyldecane Chemical compound CCCCCCCCC(C)C CNPVJWYWYZMPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 6
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 6
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 5
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 5
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 4
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 4
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 4
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 4
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 4
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 4
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 4
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 4
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 3
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000012241 calcium silicate Nutrition 0.000 description 3
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 3
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 3
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 2
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical class ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920001340 Microbial cellulose Polymers 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- AOADSHDCARXSGL-ZMIIQOOPSA-M alkali blue 4B Chemical compound CC1=CC(/C(\C(C=C2)=CC=C2NC2=CC=CC=C2S([O-])(=O)=O)=C(\C=C2)/C=C/C\2=N\C2=CC=CC=C2)=CC=C1N.[Na+] AOADSHDCARXSGL-ZMIIQOOPSA-M 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000014380 magnesium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000000394 phosphonato group Chemical group [O-]P([O-])(*)=O 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical group O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;diborate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BVNZLSHMOBSFKP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxysilane Chemical compound CC(C)(C)O[SiH3] BVNZLSHMOBSFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 1-acetyl-5-bromo-2h-indol-3-one Chemical compound BrC1=CC=C2N(C(=O)C)CC(=O)C2=C1 KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- JRGQKLFZSNYTDX-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOCC1CO1 JRGQKLFZSNYTDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKQXZSHRPUFBSW-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl]propan-1-amine Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCCN XKQXZSHRPUFBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WALYBSCHCQWCPC-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C WALYBSCHCQWCPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropan-1-amine Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCN OXKAXHPVFLEQHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJUFQURUUZMUOG-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropane-1-thiol Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCS CJUFQURUUZMUOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C(C)=C CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000896 Ethulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001859 Ethyl hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002907 Guar gum Polymers 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 101000718497 Homo sapiens Protein AF-10 Proteins 0.000 description 1
- 101000607626 Homo sapiens Ubiquilin-1 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000161 Locust bean gum Polymers 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003298 Nucrel® Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100026286 Protein AF-10 Human genes 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000004298 Tamarindus indica Nutrition 0.000 description 1
- 240000004584 Tamarindus indica Species 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001615 Tragacanth Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100039934 Ubiquilin-1 Human genes 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 241000736772 Uria Species 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanedioic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005035 acylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005600 alkyl phosphonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005332 alkyl sulfoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- JRBRVDCKNXZZGH-UHFFFAOYSA-N alumane;copper Chemical compound [AlH3].[Cu] JRBRVDCKNXZZGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005142 aryl oxy sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000305 astragalus gummifer gum Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-carbamoylpyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound NC(=O)C1CCCN1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWMGVIKSCFGFDR-UHFFFAOYSA-N benzyl(dibromo)silane Chemical compound Br[SiH](Br)CC1=CC=CC=C1 UWMGVIKSCFGFDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000001465 calcium Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003090 carboxymethyl hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 1
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 1
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LILGYOCNANBWTO-UHFFFAOYSA-N decyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C LILGYOCNANBWTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGUMJWWZSTXCAM-UHFFFAOYSA-N decyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C AGUMJWWZSTXCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N dibromo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Br)Br LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N dibromo(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethylbenzene Chemical compound O=C=NC(N=C=O)C1=CC=CC=C1 JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)C=C BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019326 ethyl hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVQNVYMTWXEMSF-UHFFFAOYSA-N ethyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](CC)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C ZVQNVYMTWXEMSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 235000010417 guar gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000665 guar gum Substances 0.000 description 1
- 229960002154 guar gum Drugs 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTKSEHTOJHGOV-UHFFFAOYSA-N hexyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C DPTKSEHTOJHGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECCXOBPOBIUMS-UHFFFAOYSA-N hexyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C QECCXOBPOBIUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N hydroxymethylethylene Natural products OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010979 hydroxypropyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001866 hydroxypropyl methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N hydroxypropyl methyl cellulose Chemical compound OC1C(O)C(OC)OC(CO)C1OC1C(O)C(O)C(OC2C(C(O)C(OC3C(C(O)C(O)C(CO)O3)O)C(CO)O2)O)C(CO)O1 UFVKGYZPFZQRLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910021432 inorganic complex Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010420 locust bean gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000711 locust bean gum Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHQDZKRRVNGIQL-UHFFFAOYSA-N methyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C AHQDZKRRVNGIQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 229920001206 natural gum Polymers 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical group 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHVVJLCVJNNCDK-UHFFFAOYSA-N octadecyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C IHVVJLCVJNNCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000013808 oxidized starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000001254 oxidized starch Substances 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 229960000292 pectin Drugs 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- VPLNCHFJAOKWBT-UHFFFAOYSA-N phenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C1=CC=CC=C1 VPLNCHFJAOKWBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920005792 styrene-acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- PCADGSDEFOMDNL-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCC(F)(F)F PCADGSDEFOMDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQVCTPXBBSKLFS-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C MQVCTPXBBSKLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLZOPJVPCGTFGS-UHFFFAOYSA-N tribromo(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Br)(Br)Br MLZOPJVPCGTFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYZDWEPTQWHDLZ-UHFFFAOYSA-N tribromo(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Br)(Br)Br LYZDWEPTQWHDLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C=C BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(Br)Br KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRUFDMFAHKOFOT-UHFFFAOYSA-N tribromo(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Br)(Br)Br VRUFDMFAHKOFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N tribromo(methyl)silane Chemical compound C[Si](Br)(Br)Br KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCEOWKUMFSNHFM-UHFFFAOYSA-N tribromo(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Br)(Br)Br RCEOWKUMFSNHFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N tribromo(phenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRKNKVDHIEKHS-UHFFFAOYSA-N tribromo(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Br)(Br)Br RWRKNKVDHIEKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUSDGIZCXCUHAI-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)CCCOCC1CO1 WUSDGIZCXCUHAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXKYGZRLZACSIK-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C RXKYGZRLZACSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGOOITCIBGXHJO-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-phenylsilane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 KGOOITCIBGXHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPPYBTFPZSGK-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C DIZPPYBTFPZSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 description 1
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷用原版に
関し、更に詳しくは、地汚れのない鮮明な画像の印刷物
を多数枚印刷可能とする平版印刷版を与える平版印刷用
原版、特に直描型平版印刷用原版に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly, to a lithographic printing plate precursor capable of printing a large number of printed matters with clear images free of background stain, particularly direct drawing. The present invention relates to an original plate for planographic printing.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在、軽印刷分野を中心にして使用され
ている平版印刷用原版には、(1)耐水性支持体上に、
親水性の画像受理層を設けた原版、(2)耐水性支持体
上に、酸化亜鉛を含む画像受理層(親油性)を設けた原
版に直描製版した後、非画像部を、不感脂化処理液で不
感脂化処理して印刷版とするもの、(3)耐水性支持体
上に、光導電性酸化亜鉛を含む光導電層を設けた電子写
真感材を原版とし、画像形成後に非画像部を、不感脂化
処理液により不感脂化処理して印刷版とするもの、
(4)耐水性支持体上に、ハロゲン化銀乳剤層を設けた
銀塩写真型の原版等が挙げられる。2. Description of the Related Art At present, lithographic printing plates used mainly in the field of light printing include (1) a water-resistant support,
(2) An original plate provided with a hydrophilic image-receiving layer, (2) Direct drawing on an original plate provided with an image-receiving layer (lipophilic) containing zinc oxide on a water-resistant support, and then the non-image area is desensitized A printing plate that is desensitized with a chemical treatment liquid, (3) An electrophotographic light-sensitive material having a photoconductive layer containing photoconductive zinc oxide on a water-resistant support is used as an original plate, and after image formation A non-image area is desensitized with a desensitizing solution to form a printing plate,
(4) A silver salt photographic type original plate in which a silver halide emulsion layer is provided on a water-resistant support is exemplified.
【0003】最近の事務機器の発達とOA化の発展に伴
い、印刷分野において、上記(1)の平版印刷用原版に
電子写真式プリンター、感熱転写プリンター、インクジ
ェットプリンター等の種々の方法で製版(即ち画像形
成)を行い、印刷版とするための特定の処理をすること
なく直接に印刷版を作成するオフセット平版印刷方式が
望まれている。With the recent development of office equipment and the development of office automation, in the printing field, the lithographic printing plate precursor described in (1) above is subjected to plate making by various methods such as an electrophotographic printer, a thermal transfer printer, and an inkjet printer. That is, there is a demand for an offset lithographic printing method in which an image is formed) and a printing plate is directly produced without performing a specific process for forming a printing plate.
【0004】従来の平版印刷用原版は、紙等の支持体の
両面に裏面層及び中間層を介して画像受理層となる表面
層が設けられている。裏面層または中間層はPVAや澱
粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エマルジョン等の水分散
性樹脂と顔料で構成されている。画像受理層は通常、無
機顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で構成される。In the conventional lithographic printing plate precursor, a surface layer serving as an image receiving layer is provided on both sides of a support such as paper via a back layer and an intermediate layer. The back surface layer or the intermediate layer is composed of a water-soluble resin such as PVA and starch, a water-dispersible resin such as a synthetic resin emulsion, and a pigment. The image receiving layer is usually composed of an inorganic pigment, a water-soluble resin and a waterproofing agent.
【0005】無機顔料としては、カオリン、クレー、タ
ルク、炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜
鉛、硫酸バリウム、アルミナなどが挙げられる。水溶性
樹脂としては、ポリビニルアルコール(PVA)、カル
ボキシPVAのような変性PVA、澱粉及びその誘導
体、カルボキシメチルセルローズ、ヒドロキシエチルセ
ルロースのようなセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチ
ン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共
重合体、スチレン−マレイン酸共重合合体等の水溶性樹
脂が挙げられている。Examples of the inorganic pigment include kaolin, clay, talc, calcium carbonate, silica, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate and alumina. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy PVA, starch and its derivatives, carboxymethyl cellulose, cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer. Water-soluble resins such as polymers and styrene-maleic acid copolymers are mentioned.
【0006】また、耐水化剤としてはグリオキザール、
メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド
樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロール化ポ
リアミド樹脂のような変性ポリアミド樹脂、ポリアミド
・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポリアミド
エピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリイミド樹
脂等が挙げられている。その他、さらに、塩化アンモニ
ウム、シランカップリング剤の架橋触媒等が併用できる
ことも知られている。[0006] Further, glyoxal is used as a water resistance agent,
Examples thereof include aminoplast initial condensates such as melamine formaldehyde resins and urea formaldehyde resins, modified polyamide resins such as methylolated polyamide resins, polyamide / polyamine / epichlorohydrin adducts, polyamide epichlorohydrin resins, and modified polyamide polyimide resins. In addition, it is also known that ammonium chloride, a crosslinking catalyst for a silane coupling agent, and the like can be used in combination.
【0007】更に、平版印刷用原版の画像受理層に用い
る結着剤として、分解によりカルボキシル基、ヒドロキ
シル基、チオール基、アミノ基、スルホ基又はホスホノ
基を生成する官能基を有すると共に、熱/光で硬化する
官能基を含有し予め架橋されている樹脂を用いる(特開
平1−226394号、同1−269593号、同1−
288488号各公報)、上記官能基含有樹脂と熱/光
硬化性樹脂を併用する(特開平1−266546号、同
1−275191号、同1−309068号各公報)、
上記官能基含有樹脂と架橋剤を併用する(特開平1−2
67093号、同1−271292号、同1−3090
67号各公報)ことにより、非画像部の親水性向上、画
像受理層の膜強度の向上、更に耐刷性の改良が検討され
ている。Further, as a binder used in the image receiving layer of the lithographic printing plate precursor, it has a functional group capable of generating a carboxyl group, a hydroxyl group, a thiol group, an amino group, a sulfo group or a phosphono group upon decomposition, and has a heat / heat content. Pre-crosslinked resins containing a functional group that is cured by light are used (JP-A-1-226394, 1-269593, 1-
No. 288488), a combination of the above-mentioned functional group-containing resin and a heat / photocurable resin (JP-A-1-266546, 1-275191, 1-309068),
The functional group-containing resin and a crosslinking agent are used in combination (JP-A 1-2).
No. 67093, No. 1-271292, No. 1-3090.
No. 67), the improvement of the hydrophilicity of the non-image area, the improvement of the film strength of the image receiving layer, and the improvement of the printing durability have been investigated.
【0008】また画像受理層中に、無機顔料及び結着剤
とともに、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基のよ
うな親水性基を含有した1μm以下の微小粒径の樹脂粒
子を含有させる(特開平4−201387号、同4−2
23196号各公報)あるいは、分解により上記の様な
親水性基を生成する官能基を含有する微小径樹脂粒子を
含有させる(特開平4−319491号、同4−353
495号、同5−119545号、同5−58071
号、同5−69684号各公報)ことにより非画像部の
親水性を向上させる事が検討されている。Further, in the image receiving layer, resin particles having a fine particle diameter of 1 μm or less containing a hydrophilic group such as a carboxyl group, a sulfo group and a phosphono group are contained together with an inorganic pigment and a binder (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10 (1999) -58242). 4-201387, 4-2
No. 23196), or fine resin particles containing a functional group that produces a hydrophilic group as described above by decomposition (Japanese Patent Laid-Open Nos. 4-319491 and 4-353).
No. 495, No. 5-119545, No. 5-58071
JP-A-5-69684) to improve the hydrophilicity of the non-image area.
【0009】しかしながら、この様にして得られた従来
の印刷版は、印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添
加量を多くしたり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を
増大させると、耐刷性は向上するが親水性が低下して印
刷汚れが発生し、他方親水性を良くすると耐水性が劣化
し耐刷性が低下するという問題があった。However, in the conventional printing plate thus obtained, the hydrophobicity is increased by increasing the addition amount of the waterproofing agent or using the hydrophobic resin in order to improve the printing durability. However, there is a problem that the printing durability is improved, but the hydrophilicity is reduced to cause printing stains. On the other hand, when the hydrophilicity is improved, the water resistance is deteriorated and the printing durability is deteriorated.
【0010】特に30℃以上の高温での使用環境下で
は、オフセット印刷に使用する浸し水に表面層が溶解
し、耐刷性の低下及び印刷汚れの発生など欠点があっ
た。更に、直描型平版印刷用原版の場合、油性インキ等
を画像部として画像受理層に描画するものであり、印刷
用原版の受理層と油性インキの接着性が良くなければ、
たとえ非画像部の親水性が充分で上記の如き印刷汚れが
発生しなくても、印刷時に画像部の油性インキが欠落し
てしまい、結果として耐刷性が低下してしまうという問
題も未だ充分に解決される所まで至っていない。In particular, under a use environment at a high temperature of 30 ° C. or higher, the surface layer is dissolved in the immersion water used for offset printing, and there are drawbacks such as deterioration of printing durability and occurrence of printing stains. Furthermore, in the case of a direct-drawing type lithographic printing plate precursor, an oil-based ink or the like is drawn as an image portion on the image receiving layer, and if the adhesion between the receiving layer of the printing plate and the oil-based ink is not good,
Even if the non-image area has sufficient hydrophilicity and the above-mentioned printing stains do not occur, the oil-based ink in the image area is lost during printing, resulting in a decrease in printing durability. It has not reached the point where it is resolved to.
【0011】他方、画像受理層として酸化チタンとポリ
ビニルアルコールそして加水分解したテトラメトキシシ
ラン又はテトラエトキシシランを含有する親水層から成
る版(特開平3−42679号、同10−268583
号等)が知られている。しかしながら、実際に製版して
印刷版として印刷してみると、画像の耐刷性が不充分で
あった。On the other hand, a plate comprising a hydrophilic layer containing titanium oxide, polyvinyl alcohol and hydrolyzed tetramethoxysilane or tetraethoxysilane as an image receiving layer (JP-A-3-42679, 10-268583).
No.) are known. However, when the plate was actually made and printed as a printing plate, the printing durability of the image was insufficient.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来か
ら画像受理層の親水性を上げるためには画像受理層中の
保水量を高めれば良いことが分かっているが、従来の画
像受理層では保水量を高めようとすると、膜の膨潤性が
大きくなり膜の構造が弱くなり膜強度が低下したり、あ
るいは支持体と画像受理層との密着性が悪くなってしま
うという問題があった。As described above, in order to increase the hydrophilicity of the image receiving layer, it has been known that it is necessary to increase the water retention amount in the image receiving layer. However, if an attempt is made to increase the water retention amount, there is a problem that the swelling property of the film becomes large, the structure of the film becomes weak and the film strength decreases, or the adhesion between the support and the image receiving layer deteriorates. .
【0013】本発明は以上の様な従来の平版印刷用原版
の有する問題点を改良するものである。従って、本発明
の目的は、オフセット印刷版として全面一様な地汚れは
もちろん点状の地汚れも発生させない優れた平版印刷用
原版を提供することである。本発明の他の目的は、地汚
れがなく、画像の欠落・歪み等のない鮮明な画像の印刷
物を多数枚印刷可能とする印刷版を与える平版印刷用原
版を提供することである。The present invention improves the above-mentioned problems of the conventional lithographic printing plate precursor. Therefore, an object of the present invention is to provide an excellent lithographic printing plate precursor that does not cause spot stains as well as uniform stain stains on the entire surface as an offset printing plate. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that provides a printing plate that is capable of printing a large number of clear image-printed materials that are free from scumming and have no image defects or distortions.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記の目的は、以下の構
成により達成される。
(1)耐水性支持体上に画像受理層を有する平版印刷用
原版において、該画像受理層が、針状フィラー粒子、並
びに、金属原子及び/又は半金属原子が酸素原子を介し
て繋がった結合を含有する樹脂と下記一般式(I)で示
される高分子化合物との複合体を含んでなる結着樹脂を
含有することを特徴とする平版印刷用原版。The above object can be achieved by the following constitutions. (1) In a lithographic printing plate precursor having an image-receiving layer on a water-resistant support, the image-receiving layer has needle-like filler particles, and a bond in which a metal atom and / or a semimetal atom is connected via an oxygen atom. A lithographic printing plate precursor comprising a binder resin comprising a complex of a resin containing the above and a polymer compound represented by the following general formula (I).
【0015】[0015]
【化2】 [Chemical 2]
【0016】〔式(I)中、R1、R2、R3およびR4は
それぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基
を表し、mは0、1又は2を表し、nは1〜8の整数を
表す。Lは単結合又は有機連結基を表し、Yは−NHC
OR5、−CONH2、−CON(R5)2、−COR5、
−OH、−CO2M又は−SO3Mを表し、ここで、R5
は炭素数1〜8のアルキル基を表し、Mは水素原子、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属又はオニウムを表す。〕[In the formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, m represents 0, 1 or 2; n represents an integer of 1 to 8. L represents a single bond or an organic linking group, and Y is -NHC.
OR 5, -CONH 2, -CON ( R 5) 2, -COR 5,
Represents —OH, —CO 2 M or —SO 3 M, where R 5
Represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal or onium. ]
【0017】(2)針状フィラー粒子が平均直径3μm
以下、平均長さ100μm以下であることを特徴とする
上記(1)に記載の平版印刷用原版。(2) The acicular filler particles have an average diameter of 3 μm.
Hereinafter, the lithographic printing plate precursor as described in (1) above, which has an average length of 100 μm or less.
【0018】(3)針状フィラー粒子が画像受理層中の
全フィラー量に対して25質量%以上含有することを特
徴とする上記(1)又は(2)に記載の平版印刷用原
版。(3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the acicular filler particles are contained in an amount of 25% by mass or more based on the total amount of filler in the image receiving layer.
【0019】(4)画像受理層中の結着樹脂と全フィラ
ーの混合比が、結着樹脂/全フィラー=80/20〜5
/95(質量比)であることを特徴とする上記(1)〜
(3)のいずれかに記載の平版印刷用原版。(4) The mixing ratio of the binder resin and the total filler in the image receiving layer is as follows: binder resin / total filler = 80/20 to 5
/ 95 (mass ratio), wherein (1) to
The lithographic printing plate precursor as described in any of (3).
【0020】(5)金属原子及び/又は半金属原子が酸
素原子を介して繋がった結合を含有する樹脂が、下記一
般式(II)で示される少なくとも1種の化合物の加水分
解共縮合により得られるポリマーであることを特徴とす
る上記(1)〜(4)のいずれかに記載の平版印刷用原
版。(5) A resin containing a bond in which a metal atom and / or a semimetal atom are connected via an oxygen atom is obtained by hydrolysis co-condensation of at least one compound represented by the following general formula (II). The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above, which is a polymer to be obtained.
【0021】 一般式(II) (R10)xM10(G)z-x General formula (II) (R 10 ) x M 10 (G) zx
【0022】〔一般式(II)中、R10は水素原子、炭化
水素基またはヘテロ環基を表し、Gは反応性基を表し、
M10は3〜6価の金属又は半金属を表し、zはM10の価
数を表し、xは0、1、2、3または4を表す。但し、
z−xは2以上である。〕[In the general formula (II), R 10 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group, G represents a reactive group,
M 10 represents a metal or metalloid having a valence of 3 to 6, z represents the valence of M 10 , and x represents 0, 1, 2, 3 or 4. However,
z−x is 2 or more. ]
【0023】本発明においては、結着樹脂として、金属
原子及び/又は半金属原子(以下、金属及び/又は半金
属を「(半)金属」と称することもある)が酸素原子を
介して繋がった結合を含有する樹脂と上記一般式(I)
で示される高分子化合物との複合体(以下、この複合体
を「有機無機複合体」又は単に「複合体」と称する)を
用いることを大きな特徴とし、これにより、耐刷性を下
げることなく、画像受理層の保水性を格段に高めること
ができる。In the present invention, as the binder resin, metal atoms and / or metalloid atoms (hereinafter, the metal and / or metalloid may be referred to as “(semi) metal”) are linked via oxygen atoms. And a resin containing the above general formula (I)
The major feature is the use of a complex with a polymer compound represented by (hereinafter, this complex is referred to as an "organic-inorganic complex" or simply "composite"), whereby the printing durability is not deteriorated. The water retention property of the image receiving layer can be remarkably enhanced.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳細に説
明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.
【0025】先ず、本発明の画像受理層に供される針状
フィラー粒子について説明する。本発明の針状フィラー
は、針状であれば無機粒子でも有機粒子でもよく、特に
限定されない。無機針状フィラーとしては、金属、酸化
物、複合酸化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸
塩、リン酸塩、窒化物、炭化物、硫化物及びこれらの少
なくとも2種以上の複合化物等が挙げられ、具体的に
は、シリカ、硝子、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、
酸化ジルコン、酸化錫、チタン酸カリウム、硼酸アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、硼酸マグネシウム、水酸化
アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、塩基性硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、ケイ
酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウ
ム、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ、炭化珪素、炭
化チタン、炭化亜鉛及びこれらの少なくとも2種以上の
複合化物等が挙げられる。好ましくは、シリカ、硝子、
酸化チタン、アルミナ、導電性酸化チタン(酸化錫ドー
プ)、チタン酸カリウム、硼酸アルミニウム、酸化マグ
ネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸
カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、
硫酸カルシウム等が挙げられる。First, the needle-like filler particles used in the image receiving layer of the present invention will be described. The needle-shaped filler of the present invention may be inorganic particles or organic particles as long as they are needle-shaped, and are not particularly limited. Examples of the inorganic needle-shaped filler include metals, oxides, complex oxides, hydroxides, carbonates, sulfates, silicates, phosphates, nitrides, carbides, sulfides, and composites of at least two of these. And the like, specifically, silica, glass, titanium oxide, zinc oxide, alumina,
Zirconium oxide, tin oxide, potassium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, magnesium borate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, basic magnesium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium sulfate, magnesium sulfate, silicic acid Examples thereof include calcium, magnesium silicate, calcium phosphate, silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride, silicon carbide, titanium carbide, zinc carbide, and composites of at least two or more of these. Preferably, silica, glass,
Titanium oxide, alumina, conductive titanium oxide (tin oxide doped), potassium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium phosphate,
Examples thereof include calcium sulfate.
【0026】有機針状フィラーとしては、炭素化合物、
高分子ウィスカー、セルロース類及びこれらの少なくと
も1種以上と無機化合物との複合物が挙げられ、具体的
には、グラファイト、カーボンナノチューブ、ポリオキ
シメチレンウィスカー、芳香族ポリエステルウィスカ
ー、アラミドウィスカー、酢酸セルロース、エチルセル
ロース、微生物セルロース等が挙げられる。好ましく
は、グラファイト、ポリ(p−オキシベンゾイル)ウィ
スカー、ポリ(2−オキシ−6−ナフトイル)ウィスカ
ー、微生物セルロース等が挙げられる。As the organic needle-like filler, a carbon compound,
Polymer whiskers, celluloses and composites of at least one or more of these with an inorganic compound, and specifically, graphite, carbon nanotubes, polyoxymethylene whiskers, aromatic polyester whiskers, aramid whiskers, cellulose acetate, Examples thereof include ethyl cellulose and microbial cellulose. Preferred are graphite, poly (p-oxybenzoyl) whiskers, poly (2-oxy-6-naphthoyl) whiskers, microbial cellulose and the like.
【0027】針状フィラーの大きさは、平均直径が3μ
m以下、平均長さ100μm以下であることが好まし
く、より好ましくは、平均直径が0.01〜3μm、平
均長さ1〜100μm、更に好ましくは、平均直径が
0.02μm、平均長さ1〜50μmである。また、針
状フィラーのアスペクト比(平均長さ/平均直径)は5
〜10,000程度が適当であり、好ましくは10〜
5,000程度、より好ましくは20〜2,500程度
である。これらの範囲内とすることにより、上記本発明
の効果が有効に発現される。The needle-shaped filler has an average diameter of 3 μm.
m or less, the average length is preferably 100 μm or less, more preferably, the average diameter is 0.01 to 3 μm, the average length is 1 to 100 μm, and further preferably, the average diameter is 0.02 μm, the average length 1 to It is 50 μm. Further, the aspect ratio (average length / average diameter) of the needle-like filler is 5
Approximately 10,000 is suitable, and preferably 10
It is about 5,000, more preferably about 20 to 2,500. When the content is within these ranges, the effects of the present invention described above are effectively exhibited.
【0028】本発明においては、画像受理層において用
いるフィラーの全てが針状フィラーである必要はなく、
針状フィラーの量は画像受理層中の全フィラー量の25
質量%以上であることが好ましく、より好ましくは全フ
ィラー量の50質量%以上、更に好ましくは75質量%
以上である。In the present invention, it is not necessary that all the fillers used in the image receiving layer are needle-shaped fillers.
The amount of needle-like filler is 25% of the total amount of filler in the image receiving layer.
It is preferably at least mass%, more preferably at least 50 mass% of the total amount of filler, and even more preferably 75 mass%.
That is all.
【0029】上記針状フィラー以外に併用することがで
きるフィラーは、無機フィラー、有機フィラー、無機−
有機複合フィラー等のいずれでもよく、またこれらの内
の2種以上を混合して用いてもよい。好ましくは無機物
を含有するフィラーであることが好ましい。Fillers that can be used in combination with the above-mentioned needle-like fillers include inorganic fillers, organic fillers, and inorganic fillers.
Any of organic composite fillers may be used, and two or more of them may be mixed and used. A filler containing an inorganic material is preferable.
【0030】無機フィラーとして金属、酸化物、複合酸
化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、リン酸
塩、窒化物、炭化物硫化物及びこれらの少なくとも2種
以上の複合化物等が挙げられ、具体的には、硝子、酸化
チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ジルコン、酸化錫、
チタン酸カリウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、硼酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化カルシウム、塩基性硫酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグ
ネシウム、リン酸カルシウム、窒化珪素、窒化チタン、
窒化アルミ、炭化珪素、炭化チタン、硫化亜鉛及びこれ
らの少なくとも2種以上の複合化物等が挙げられる。好
ましくは、硝子、酸化チタン、アルミナ、導電性酸化チ
タン(酸化錫ドープ)、チタン酸カリウム、硼酸アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグ
ネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リ
ン酸カルシウム、硫酸カルシウム等が挙げられる。As inorganic fillers, metals, oxides, composite oxides, hydroxides, carbonates, sulfates, silicates, phosphates, nitrides, carbide sulfides, and composites of at least two or more of these. Specifically, glass, titanium oxide, zinc oxide, alumina, zirconium oxide, tin oxide,
Potassium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, magnesium borate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, basic magnesium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium sulfate, magnesium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, Calcium phosphate, silicon nitride, titanium nitride,
Examples thereof include aluminum nitride, silicon carbide, titanium carbide, zinc sulfide, and a compound of at least two of these. Preferably, glass, titanium oxide, alumina, conductive titanium oxide (tin oxide doped), potassium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, calcium sulfate, etc. Can be mentioned.
【0031】有機フィラーとしては、例えば合成樹脂粒
子、天然高分子粒子等が挙げられ、好ましくはアクリル
樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンオ
キサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリエチレンイ
ミン、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリウレア、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリイミド、カルボキシメチル
セルロールス、ゼラチン、デンプン、キチン、キトサン
等であり、より好ましくはアクリル樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等の樹脂粒子が挙げ
られる。Examples of the organic filler include synthetic resin particles and natural polymer particles, preferably acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyethyleneimine, polystyrene, polyurethane, polyurea, polyester, polyamide, Polyimide, carboxymethylcellulose, gelatin, starch, chitin, chitosan and the like, more preferably resin particles of acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene and the like.
【0032】無機−有機複合フィラーとしては、例え
ば、上記有機フィラーと無機フィラーの複合化物が挙げ
られ、無機フィラーとしては、金属粉体、酸化物、窒化
物、硫化物、炭化物及びこれらの複合化物等が挙げら
れ、好ましくは酸化物及び硫化物等であり、より好まし
くはガラス、SiO2、TiO2、ZnO、Fe2O3、ZrO2、SnO2、Zn
S、CuS等の粒子が挙げられる。Examples of the inorganic-organic composite filler include composites of the above organic fillers and inorganic fillers, and examples of the inorganic fillers include metal powders, oxides, nitrides, sulfides, carbides and composites thereof. And the like, preferably oxides and sulfides, and more preferably glass, SiO 2 , TiO 2 , ZnO, Fe 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , Zn.
Particles of S, CuS, etc. may be mentioned.
【0033】上記針状フィラーと併用できるフィラーの
大きさとしては、平均粒子径が0.01〜50μmであ
ることが好ましく、より好ましくは、平均粒子径が0.
03〜20μm、更に好ましくは、平均粒子径が0.0
5〜10μmである。これらの範囲内とすることによ
り、上記本発明の効果が有効に発現される。The size of the filler that can be used in combination with the needle-like filler is preferably 0.01 to 50 μm in average particle diameter, and more preferably an average particle diameter of 0.
03 to 20 μm, more preferably an average particle size of 0.0
It is 5 to 10 μm. When the content is within these ranges, the effects of the present invention described above are effectively exhibited.
【0034】複合体(結着樹脂)と全フィラー成分の混
合比(質量比)は、結着樹脂/全フィラーが好ましくは
80/20〜5/95、より好ましくは70/30〜5
/95、更に好ましくは60/40〜5/95である。The mixing ratio (mass ratio) of the composite (binder resin) and all the filler components is preferably 80/20 to 5/95, more preferably 70/30 to 5 binder resin / all fillers.
/ 95, and more preferably 60/40 to 5/95.
【0035】次に、本発明の画像受理層に供される結着
樹脂について説明する。本発明の結着樹脂は、金属原子
及び/又は半金属原子が酸素原子を介して繋がった結合
を含有する樹脂(以下、「(半)金属含有樹脂」と称す
ることもある)と上記一般式(I)で示される高分子化
合物との複合体を含有することから成る樹脂であること
を特徴とする。Next, the binder resin used in the image receiving layer of the present invention will be described. The binder resin of the present invention includes a resin containing a bond in which a metal atom and / or a semimetal atom are connected via an oxygen atom (hereinafter, also referred to as “(semi) metal-containing resin”) and the above general formula. It is a resin comprising a complex with a polymer compound represented by (I).
【0036】上記一般式(I)で示される高分子化合物
は、上記(半)金属含有樹脂と少なくとも水素結合及び
/又は化学結合を形成し得る基を含有し、複合体を形成
する。ここでいう化学結合とは、アルコキシシリル部の
脱水縮合により、シリカゾルゲル部との反応により形成
される化学結合を表す。The polymer compound represented by the general formula (I) contains a group capable of forming at least a hydrogen bond and / or a chemical bond with the (semi) metal-containing resin to form a complex. The chemical bond here means a chemical bond formed by a reaction with a silica sol-gel part by dehydration condensation of an alkoxysilyl part.
【0037】また、「(半)金属含有樹脂と高分子化合
物との複合体」とは、ゾル状物質及びゲル状物質を含む
意味に用いる。(半)金属含有樹脂は「酸素原子−金属
原子又は半金属原子−酸素原子」から成る結合を主とし
て含有するポリマーを示す。ここで、(半)金属含有樹
脂は、金属原子及び半金属原子の両方を含有していても
よい。好ましくは、半金属原子のみを含有する樹脂、半
金属原子と金属原子とを含有する樹脂である。The term "composite of (semi) metal-containing resin and polymer compound" is used to mean a sol-like substance and a gel-like substance. The (semi) metal-containing resin refers to a polymer mainly containing a bond composed of "oxygen atom-metal atom or semimetal atom-oxygen atom". Here, the (semi) metal-containing resin may contain both a metal atom and a semimetal atom. Preferred are resins containing only semi-metal atoms and resins containing semi-metal atoms and metal atoms.
【0038】(半)金属含有樹脂は、下記一般式(II)
で示される化合物の加水分解共縮合によって得られるポ
リマーであることが好ましい。
一般式(II) (R10)xM10(G)z-x
〔一般式(II)中、R10は水素原子、炭化水素基または
ヘテロ環基を表し、Gは反応性基を表し、M10は3〜6
価の金属又は半金属を表し、zはM10の価数を表し、x
は0、1、2、3、または4を表す。但し、z−xは2
以上である。〕The (semi) metal-containing resin has the following general formula (II)
It is preferably a polymer obtained by hydrolysis-cocondensation of a compound represented by General formula (II) (R 10 ) x M 10 (G) zx [In the general formula (II), R 10 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group, G represents a reactive group, and M 10 Is 3-6
Represents a valent metal or metalloid, z represents the valence of M 10 , and x
Represents 0, 1, 2, 3, or 4. However, z−x is 2
That is all. ]
【0039】ここで、加水分解共縮合とは、反応性基が
酸性ないし塩基性条件下で加水分解、縮合を繰り返し、
重合していく反応である。上記化合物は、単独あるいは
2種以上を組み合わせて(半)金属含有樹脂の製造に用
いられる。The term "hydrolysis cocondensation" as used herein means that hydrolysis and condensation are repeated under conditions where the reactive group is acidic or basic.
It is a polymerization reaction. The above compounds are used singly or in combination of two or more kinds to produce a (semi) metal-containing resin.
【0040】一般式(II)で示される(半)金属化合物
について詳しく説明する。一般式(II)中のR10は、好
ましくは、炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状も
しくは分岐状のアルキル基{例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシ
ル基等;これらの基に置換され得る基としては、ハロゲ
ン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原子)、ヒドロキ
シ基、チオール基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ
基、エポキシ基、−OR′基(R′は、炭素数1〜12
の炭化水素基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、
デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、
オクテニル基、2−ヒドロキシエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−シアノエチル基、N,N−ジメチルアミ
ノエチル基、2−ブロモエチル基、2−(2−メトキシ
エチル)オキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチ
ル基、3−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示
す)、−OCOR101基、−COOR101基、−COR
101基、−N(R102)(R102)(R101は、前記R′と
同一の内容を表し、R102は、水素原子又は前記R101と
同一の内容を表し、各々同じでも異なってもよい)、−
NHCONHR101基、−NHCOOR101基、−Si
(R101)3基、−CONHR102基、−NHCOR101基
等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基中に複数
置換されてもよい)}、The (semi) metal compound represented by the general formula (II) will be described in detail. R 10 in the general formula (II) is preferably an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl Group, hexyl group,
Heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and the like; groups that can be substituted with these groups include halogen atoms (chlorine atom, fluorine atom, bromine atom), hydroxy group, thiol group, carboxy group, sulfo group. Group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' represents 1 to 12 carbon atoms
A hydrocarbon group of, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group,
Decyl group, propenyl group, butenyl group, hexenyl group,
Octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 2-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group. Group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.), -OCOR 101 group, -COOR 101 group, -COR
101 group, —N (R 102 ) (R 102 ) (R 101 represents the same content as R ′, R 102 represents a hydrogen atom or the same content as R 101, and each is the same or different. Good),-
NHCONHR 101 group, -NHCOOR 101 group, -Si
(R 101 ) 3 group, —CONHR 102 group, —NHCOR 101 group and the like. Multiple of these substituents may be substituted in the alkyl group)},
【0041】炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状
又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基
に置換される基としては、前記アルキル基に置換される
基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてい
てもよい)、炭素数7〜14の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基等;これらの基に置換される基としては、前記アル
キル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、
又複数置換されてもよい)、炭素数5〜10の置換され
てもよい脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロ
ペンチルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等、
これらの基に置換される基としては、前記アルキル基の
置換基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換され
てもよい)、炭素数6〜12の置換されてもよいアリー
ル基(例えばフェニル基、ナフチル基で、置換基として
は前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが
挙げられ、また複数置換されてもよい)、An optionally substituted linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc. Examples of the group substituted with these groups include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group, and a plurality of them may be substituted), or a group having 7 to 14 carbon atoms may be substituted. Good aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.); the group substituted by these groups is the same as the group substituted by the alkyl group. The contents of
A plurality of them may be substituted), and an alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbonyl group, adamantyl group) etc,
Examples of the group substituted with these groups include those having the same contents as the above-mentioned substituents of the alkyl group, and a plurality of them may be substituted), and an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms ( For example, a phenyl group and a naphthyl group, examples of the substituent include those having the same content as the group substituted by the alkyl group, and a plurality of them may be substituted),
【0042】又は、窒素原子、酸素原子及びイオウ原子
から選ばれる少なくとも1種の原子を含有する縮環して
もよいヘテロ環基(例えばヘテロ環としては、ピラン
環、フラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール
環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペ
リジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾ
オキサゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等
で、置換基を含有してもよい。置換基としては、前記ア
ルキル基中の置換基と同一の内容のものが挙げられ、又
複数置換されてもよい)を表す。Alternatively, a heterocyclic group which may be condensed with at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom (for example, as a hetero ring, a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, morpholine A ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring and the like, which may have a substituent, may be contained. The same contents as the substituents in the alkyl group are mentioned, and a plurality of them may be substituted).
【0043】反応性基Gは、好ましくは、ヒドロキシ
基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子又
はヨウ素原子を表す)、−OR11基、−OCOR12基、
−CH(COR13)(COR14)基、−CH(COR13)
(COOR14)基又は−N(R15)(R16)基を表す。The reactive group G is preferably a hydroxy group, a halogen atom (representing a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), a -OR 11 group, a -OCOR 12 group,
-CH (COR 13) (COR 14 ) group, -CH (COR 13)
It represents a (COOR 14 ) group or a —N (R 15 ) (R 16 ) group.
【0044】−OR11基において、R11は炭素数1〜1
0の置換されてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プ
ロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル
基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル
基、2−(メトキシエチルオキシ)エチル基、2−
(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メトキシプ
ロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオキシプロ
ピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル基、シク
ロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシ
ル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネ
チル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブ
ロモベンジル基等が挙げられる)を表す。In the --OR 11 group, R 11 has 1 to 1 carbon atoms.
0 optionally substituted aliphatic group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group, heptenyl group) Group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (methoxyethyloxy) ethyl group, 2-
(N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxypropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group , Benzyl group, phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methylbenzyl group, bromobenzyl group and the like).
【0045】−OCOR12基において、R12は、R11と
同様の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されてもよい
芳香族基(芳香族基としては、前記R10中のアリール基
で例示したと同様のものが挙げられる)を表す。−CH
(COR13)(COR14)基及び−CH(COR13)(CO
OR14)基において、R13は炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)又はアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、
キシリル基等)を表し、R14は炭素数1〜6のアルキル
基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等)、炭素数7〜12のア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェ
ニルプロピル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル
基、カルボキシベンジル基、クロロベンジル基等)又は
アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル
基、カルボキシフェニル基、ジエトキシフェニル基等)
を表す。また、−N(R15)(R16)基において、R15及
びR16は、互いに同じでも異なってもよく、各々、好ま
しくは水素原子又は炭素数1〜10の置換されてもよい
脂肪族基(例えば、前記の−OR11基のR11と同様の内
容のものが挙げられる)を表す。より好ましくは、R15
とR16の炭素数の総和が12ケ以内である。In the —OCOR 12 group, R 12 is an aliphatic group similar to R 11 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the aryl group in R 10). The same as those exemplified above can be mentioned). -CH
(COR 13 ) (COR 14 ) group and -CH (COR 13 ) (CO
In the OR 14 ) group, R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) or aryl group (eg, phenyl group, tolyl group,
Represents a xylyl group), R 14 represents an alkyl group (e.g. having 1 to 6 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc.), an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms ( For example, benzyl group, phenethyl group, phenylpropyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, carboxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc. or aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, methoxyphenyl group) , Chlorophenyl group, carboxyphenyl group, diethoxyphenyl group, etc.)
Represents In the —N (R 15 ) (R 16 ) group, R 15 and R 16 may be the same or different from each other, and preferably each is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. A group (for example, those having the same contents as R 11 of the aforementioned —OR 11 group can be mentioned). More preferably R 15
And the total number of carbon atoms of R 16 is 12 or less.
【0046】(半)金属M10は、好ましくは、遷移金
属、希土類金属、周期表III〜V族の金属が挙げられ
る。より好ましくはAl、Si、Sn、Ge、Ti、Z
r等が挙げられ、更に好ましくはAl、Si、Sn、T
i、Zr等が挙げられる。特にSiが好ましい。The (semi) metal M 10 is preferably a transition metal, a rare earth metal or a metal of Group III to V of the periodic table. More preferably Al, Si, Sn, Ge, Ti, Z
r, etc., and more preferably Al, Si, Sn, T
i, Zr and the like. Si is particularly preferable.
【0047】一般式(II)で示される(半)金属化合物
の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに
限定されるものではない。Specific examples of the (semi) metal compound represented by the general formula (II) include the following, but the invention is not limited thereto.
【0048】メチルトリクロルシラン、メチルトリブロ
ムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチル
トリt−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エ
チルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシ
ラン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルト
リクロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−
プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキ
シシラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n
−プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリ
クロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘ
キシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシ
シラン、n−へキシルトリイソプロポキシシラン、n−
ヘキシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロ
ルシラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルト
リメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n
−デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt
−ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラ
ン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデ
シルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキ
シシラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラ
ン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、フェニ
ルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリ
t−ブトキシシラン、Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltrit-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-
Propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n
-Propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-
Hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n
-Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t
-Butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltrit-butoxysilane, phenyltrichloro Silane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane,
【0049】テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジ
メトキシジエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、
ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロルシラ
ン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルメチル
ジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキ
シシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒド
ロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキシ
ヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニル
トリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシ
ラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフ
ルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピ
ルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエト
キシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane,
Dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, triethoxyhydrosilane , Tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit-butoxysilane, Trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane , Trifluoropropyl triethoxysilane, trifluoropropyl triisopropoxysilane, trifluoropropyl tri t- butoxysilane,
【0050】γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリt−ブトキシンラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラ
ン、Γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane ,
γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-
Mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxinlan, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- ( 3,4
-Epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane,
【0051】Ti(OR17)4(ここでR17はアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等)を表す)、TiC
l4、Zn(OR17)2、Zn(CH3COCHCOCH3)
2、Sn(OR17)4、Sn(CH3COCHCOC
H3)4、Sn(OCOR17)4、SnCl4、Zr(O
R17)4、Zr(CH3COCHCOCH3)4、Al(OR
17)3。Ti (OR 17 ) 4 (wherein R 17 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.)), TiC
l 4 , Zn (OR 17 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ).
2 , Sn (OR 17 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOC
H 3) 4, Sn (OCOR 17) 4, SnCl 4, Zr (O
R 17) 4, Zr (CH 3 COCHCOCH 3) 4, Al (OR
17 ) 3 .
【0052】次に、本発明において、上記(半)金属含
有樹脂と複合体を形成する高分子化合物について説明す
る。本発明の一般式(I)で示される高分子化合物は、
末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマーで
あり、以下、適宜「特定親水性ポリマー」と称する。Next, in the present invention, the polymer compound forming a complex with the (semi) metal-containing resin will be described. The polymer compound represented by the general formula (I) of the present invention is
It is a hydrophilic polymer having a silane coupling group at the terminal, and is hereinafter appropriately referred to as "specific hydrophilic polymer".
【0053】上記一般式(I)において、R1、R2、R
3およびR4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数8以
下の炭化水素基を表す。炭化水素基としては、アルキル
基、アリール基などが挙げられ、中でも、炭素数8以下
の、直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好ましい。具体
的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イ
ソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチ
ル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブ
チル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−
メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。
R1、R2、R3およびR4は、効果及び入手容易性の観点
から、好ましくはそれぞれ水素原子、メチル基又はエチ
ル基である。In the above general formula (I), R 1 , R 2 , R
3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group, and among them, a linear, branched or cyclic alkyl group having 8 or less carbon atoms is preferable. Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-
Examples thereof include a methylhexyl group and a cyclopentyl group.
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of effect and availability.
【0054】これらの炭化水素基は更に置換基を有して
いてもよい。アルキル基が置換基を有するとき、置換ア
ルキル基は置換基とアルキレン基との結合により構成さ
れ、ここで、置換基としては、水素を除く一価の非金属
原子団が用いらる。好ましい例としては、ハロゲン原子
(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ν−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−ア
ルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−
アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド
基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−
アルキルウレイド基、These hydrocarbon groups may further have a substituent. When the alkyl group has a substituent, the substituted alkyl group is composed of a bond between the substituent and an alkylene group, and as the substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples are halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-
Diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, Ν-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyl Oxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group,
Acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-
Aryl ureido group, N ', N'-diaryl ureido group, N'-alkyl-N'-aryl ureido group, N-
Alkylureido group,
【0055】N−アリールウレイド基、N′−アルキル
−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリ
ールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキ
ルウレイト基、N′,N′−ジアルキル−N−アリール
ウレイド基、N′−アリール−Ν−アルキルウレイド
基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,
N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,
N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−ア
ルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、
N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイ
ド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカル
ボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカル
ボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボ
ニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボ
ニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル
基、N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureate group, N', N ′ -Dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-α-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′,
N'-diaryl-N-alkylureido group, N ',
N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group,
N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group,
【0056】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイ
ル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリー
ルカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−
SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と
称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナ
モイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N
−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールス
ルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルフ
ァモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N
−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスル
ファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモ
イル基ホスフォノ基(−PO3H2)及びその共役塩基基
(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォ
ノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォ
ノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホス
フォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モ
ノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))
及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と
称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(ar
yl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォ
ナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO3H2)
及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称
す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(a
lkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−O
PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオ
キシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノ
アルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alky
l))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナ
トオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基
(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以
後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、モルホル
ノ基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基等が挙げられる。Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-aryl Rucarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-
SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N
-Arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N
- arylsulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group) , dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl))
And a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as an alkylphosphonate group), a monoarylphosphono group (—PO 3 H (ar
yl)) and a conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphonophenyl group), phosphonooxy group (-OPO 3 H 2)
And its conjugate base group (hereinafter referred to as a phosphonatoxy group), a dialkylphosphonooxy group (-OPO 3 (a
lkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (-O
PO 3 (aryl) 2), alkylaryl phosphonooxy group (-OPO (alkyl) (aryl) ), monoalkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alky
l)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group ), A morpholino group, a cyano group, a nitro group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group and the like.
【0057】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル2基、キシリル基、メシチル基、クメニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメ
チルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェ
ニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メ
チルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチル
アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチ
ルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル
基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカ
ルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げるこ
とができる。また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル
基、2−クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキ
ニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、
1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げ
られる。アシル基(K1CO−)におけるK1としては、
水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げる
ことができる。Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-mentioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl 2 group, xylyl group and mesityl group. Group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group,
Acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonyl group Examples thereof include a phenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group and phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group and the like, and examples of alkynyl group include ethynyl group, 1- A propynyl group,
Examples thereof include 1-butynyl group and trimethylsilylethynyl group. The K 1 in the acyl group (K 1 CO-),
Examples thereof include hydrogen, and the above-mentioned alkyl group and aryl group.
【0058】これら置換基のうち、より好ましいものと
してはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、
アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキ
ルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイ
ルオキシ基、N−アリールカバモイルオキシ基、アシル
アミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−
ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スル
ホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキル
スルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N
−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォ
ナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォ
ノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナ
ト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナ
ト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、ア
リール基、アルケニル基が挙げられる。Of these substituents, more preferred are halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I),
Alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcapamoyloxy group, acylamino group, formyl group, Acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-
Dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonato group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-aryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N
-Arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonato group, monoarylphosphono group, arylphosphonato group, phosphonooxy group, Examples thereof include a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.
【0059】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上
の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素原子数3から12まての分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を
組み合わせる事により得られる置換アルキル基の、好ま
しい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
と、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニ
ルカルバモイルオキシエチルル基、アセチルアミノエチ
ル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オ
キシエチル基、2−オキシプロピル基、カルボキシプロ
ピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカ
ルボニルブチル基、On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include those obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms to form a divalent organic residue. Examples thereof include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkylene groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent and the alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethoxyethyl group, and allyl. Oxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl and tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N- Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxyethyl group, 2-oxypropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxy group Carbonyl butyl group,
【0060】クロロフェノキシカルボニルメチル基、カ
ルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル
基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−
(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチ
ル−N−(スルホフェニル)カルアバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォ
ノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノへキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニ
ルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2
−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−
ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。Chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N-
(Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbavamoylmethyl group,
Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N
-Dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonathexyl group, diethylphosphonobutyl group, Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methyl group Benzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2
-Methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-
Examples include butynyl group and 3-butynyl group.
【0061】Lは単結合又は有機連結基を表す。ここ
で、Lが有機連結基を表す場合、Lは非金属原子からな
る多価の連結基を示し、具体的には、1個から60個ま
での炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個か
ら50個までの酸素原子、1個から100個までの水素
原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ
ものである。より具体的な連結基としては下記の構造単
位またはこれらが組合わされて構成されるものを挙げる
ことができる。L represents a single bond or an organic linking group. Here, when L represents an organic linking group, L represents a polyvalent linking group consisting of a non-metal atom, and specifically, 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogens. It is composed of atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. Examples of more specific linking groups include the following structural units or those formed by combining these.
【0062】[0062]
【化3】 [Chemical 3]
【0063】また、Yは−NHCOR5、−CONH2、
−CON(R5)2、−COR5、−OH、−CO2M又は
−SO3Mを表し、ここで、R5は、炭素数1〜8の、直
鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。また、−CON
(R5)2のように複数のR 5を有する場合、R5は同一で
も異なっていてもよく、更にR5同士が結合して環を形
成していてもよく、また、形成された環は酸素原子、硫
黄原子、窒素原子などのヘテロ原子を含むヘテロ環であ
ってもよい。R5はさらに置換基を有していてもよく、
ここで導入可能な置換基としては、前記R1、R2、R3
およびR4がアルキル基の場合に導入可能な置換基とし
て挙げたものを同様に挙げることができる。Y is --NHCORFive, -CONH2,
-CON (RFive)2, -CORFive, -OH, -CO2M or
-SO3Represents M, where RFiveIs a straight chain of 1 to 8 carbon atoms
Represents a chain, branched or cyclic alkyl group. Also, -CON
(RFive)2Multiple R like FiveR hasFiveAre the same
May be different, and RFiveJoin together to form a ring
The ring formed may be an oxygen atom or a sulfur atom.
A heterocycle containing heteroatoms such as yellow and nitrogen.
You may. RFiveMay further have a substituent,
Examples of the substituent that can be introduced here include R described above.1, R2, R3
And RFourIs a substituent that can be introduced when is an alkyl group
The same can be said for those mentioned above.
【0064】R5としては、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、
シクロペンチル基等が好適に挙げられる。Specific examples of R 5 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t- Butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group,
A cyclopentyl group and the like are preferred.
【0065】また、Mとしては、水素原子;リチウム、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;カルシウム、
バリウム等のアルカリ土類金属、又は、アンモニウム、
ヨードニウム、スルホニウムなどのオニウムが挙げられ
る。Yとしては、具体的には、−NHCOCH3、−C
ONH2、−COOH、−SO3 -NMe4 +、モルホリノ
基等が好ましい。As M, a hydrogen atom; lithium,
Alkali metals such as sodium and potassium; calcium,
Alkaline earth metal such as barium, or ammonium,
Examples of the onium include iodonium and sulfonium. The Y, specifically, -NHCOCH 3, -C
ONH 2, -COOH, -SO 3 - NMe 4 +, a morpholino group, etc. are preferable.
【0066】一般式(I)で表される高分子化合物の分
子量は、重量平均分子量(Mw)で、好ましくは200
〜100000、より好ましくは300〜50000、
さらに好ましくは500〜20000である。The molecular weight of the polymer compound represented by the general formula (I) is a weight average molecular weight (Mw), preferably 200.
˜100,000, more preferably 300 to 50,000,
More preferably, it is 500 to 20,000.
【0067】本発明に好適に用い得る特定親水性ポリマ
ーの具体例(例示化合物I−1〜例示化合物I−12)
を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。Specific examples of the specific hydrophilic polymer that can be preferably used in the present invention (Exemplified compound I-1 to Exemplified compound I-12)
However, the present invention is not limited to these.
【0068】[0068]
【化4】 [Chemical 4]
【0069】本発明に係る特定親水性ポリマーは、下記
一般式(i)で表されるラジカル重合可能なモノマー
と、下記一般式(ii)で表されるラジカル重合において
連鎖移動能を有するシランカップリング剤を用いてラジ
カル重合することにより合成することができる。シラン
カップリング剤(ii)が連鎖移動能を有するため、ラジ
カル重合においてポリマー主鎖末端にシランカップリン
グ基が導入されたポリマーを合成することができる。The specific hydrophilic polymer according to the present invention comprises a radically polymerizable monomer represented by the following general formula (i) and a silane cup having a chain transfer ability in the radical polymerization represented by the following general formula (ii). It can be synthesized by radical polymerization using a ring agent. Since the silane coupling agent (ii) has chain transfer ability, it is possible to synthesize a polymer in which a silane coupling group is introduced at the terminal of the polymer main chain in radical polymerization.
【0070】[0070]
【化5】 [Chemical 5]
【0071】上記式(i)及び(ii)において、R1〜
R4、L、Y、n及びmは、上記式(I)と同義であ
る。また、これらの化合物は、市販されおり、また容易
に合成することもできる。In the above formulas (i) and (ii), R 1 to
R 4 , L, Y, n and m have the same meaning as in the above formula (I). In addition, these compounds are commercially available and can be easily synthesized.
【0072】一般式(I)で表される親水性ポリマーを
合成するためのラジカル重合法としては、従来公知の方
法の何れをも使用することができる。具体的には、一般
的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3、高
分子の合成と反応1(高分子学会編、共立出版)、新実
験化学講座19、高分子化学(I)(日本化学会編、丸
善)、物質工学講座、高分子合成化学(東京電気大学出
版局)等に記載されており、これらを適用することがで
きる。As the radical polymerization method for synthesizing the hydrophilic polymer represented by the general formula (I), any conventionally known method can be used. Specifically, general radical polymerization methods include, for example, New Polymer Experiments 3, Polymer Synthesis and Reactions 1 (edited by The Polymer Society of Japan, Kyoritsu Shuppan), New Experimental Chemistry Course 19, Polymer Chemistry (I). (Edited by The Chemical Society of Japan, Maruzen), Material Engineering Course, Synthetic Polymer Chemistry (Tokyo Denki University Press), etc., and these can be applied.
【0073】本発明の高分子化合物(I)は、複合体に
おいて単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用い
てもよい。更に、上記少なくとも1種の高分子化合物
(I)と共に、他の高分子化合物を併用しても良い。他
の高分子化合物を併用する場合には、他の高分子化合物
は上記高分子化合物(I)を越えない量であれば特に問
題なく併用することができ、好ましくは全高分子化合物
量の50質量%以下、より好ましくは25質量%以下で
ある。The polymer compound (I) of the present invention may be used alone in the composite, or may be used in combination of two or more kinds. Further, other polymer compounds may be used in combination with the above-mentioned at least one polymer compound (I). When the other polymer compound is used in combination, the other polymer compound can be used in combination without any problem as long as it does not exceed the above-mentioned polymer compound (I), preferably 50 mass% of the total polymer compound amount. % Or less, more preferably 25% by mass or less.
【0074】併用してもよい高分子化合物としては、天
然水溶性高分子、半合成水溶性高分子、合成高分子のい
ずれでもよく、具体的には小竹無二雄監修「大有機化学
19、天然高分子化合物I」朝倉書店刊(1960
年)、経営開発センター出版部編「水溶性高分子・水分
散型樹脂総合技術資料集」経営開発センター出版部刊
(1981年)、長友新治「新・水溶性ポリマーの応用
と市場」(株)シーエムシー刊(1988年)、「機能
性セルロースの開発」(株)シーエムシー刊(1985
年)等に記載のものが挙げられる。The polymer compound that may be used in combination may be a natural water-soluble polymer, a semi-synthetic water-soluble polymer, or a synthetic polymer. Natural polymer compound I ”published by Asakura Shoten (1960
, "Development of Water-Soluble Polymers and Water-Dispersible Resins" edited by the Management Development Center, published by Management Development Center (1981), Shinji Nagatomo, "Applications and Markets of New Water-soluble Polymers" (shares) ) CMC published (1988), "Development of functional cellulose" published by CMC (1985)
Year)) and so on.
【0075】例えば、天然及び半合成の高分子として
は、セルロース、セルロース誘導体(セルロースエステ
ル類;硝酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、コハク酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸コハク酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、酢酸フタル酸セルロース等、セルロースエーテ
ル類;メチルセルロース、エチルセルロース、シアノエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロース、カルボキシメチルヒドロキシ
エチルセルロース等)、デンプン、デンプン誘導体(酸
化デンプン、エステル化デンプン類;硝酸、硫酸、リン
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸等のエステル
化体、エーテル化デンプン類;メチル化、エチル化、シ
アノエチル化、ヒドロキシアルキル化、カルボキシメチ
ル化等の誘導体)、アルギン酸、ペクチン、カラギーナ
ン、タマリンドガム、天然ガム類(アラビアガム、グア
ーガム、ローカストビーンガム、トラカガントガム、キ
サンタンガム等)、プルラン、デキストラン、カゼイ
ン、ゼラチン、キチン、キトサン等が挙げられる。Examples of natural and semi-synthetic polymers include cellulose, cellulose derivatives (cellulose esters; cellulose nitrate, cellulose sulfate, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose succinate, cellulose butyrate, cellulose acetate succinate, acetic acid). Cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate, etc., cellulose ethers; methyl cellulose, ethyl cellulose, cyanoethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, carboxymethyl hydroxyethyl cellulose, etc.), starch, starch derivative ( Oxidized starch, esterified starches; nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, propion , Esterified products of butyric acid, succinic acid, etc., etherified starches; methylated, ethylated, cyanoethylated, hydroxyalkylated, carboxymethylated, etc.), alginic acid, pectin, carrageenan, tamarind gum, natural gums ( Gum arabic, guar gum, locust bean gum, tragacanth gum, xanthan gum, etc.), pullulan, dextran, casein, gelatin, chitin, chitosan and the like.
【0076】合成高分子としては、例えばポリビニルア
ルコール、ポリアルキレングリコール(ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、(エチレングリ
コール/プロピレングリコール)共重合体等)、アリル
アルコール共重合体、水酸基を少なくとも1種含有のア
クリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルの重合
体もしくは共重合体(エステル置換基として、例えば2
−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
2,3−ジヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシ−2
−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピル基、3−ヒド
ロキシ−2,2−ジ(ヒドロキシメチル)プロピル基、
ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等)、
水酸基を少なくとも1種含有するアクリルアミド又はメ
タクリルアミドのN−置換体の重合体もしくは共重合体
(N−置換基として、例えば、モノメチロール基、2−
ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、1,
1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル基、2,3,4,
5,6−ペンタヒドロキシペンチル基、等)等が挙げら
れる。但し、合成高分子としては、繰り返し単位の側鎖
置換基中に少なくとも1個の水酸基を含有するものであ
れば、特に限定されるものではない。Examples of the synthetic polymer include polyvinyl alcohol, polyalkylene glycol (polyethylene glycol, polypropylene glycol, (ethylene glycol / propylene glycol) copolymer, etc.), allyl alcohol copolymer, and acryl containing at least one hydroxyl group. Polymer or copolymer of acid ester or methacrylic acid ester (for example, as an ester substituent, 2
-Hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group,
2,3-dihydroxypropyl group, 3-hydroxy-2
-Hydroxymethyl-2-methylpropyl group, 3-hydroxy-2,2-di (hydroxymethyl) propyl group,
Polyoxyethylene group, polyoxypropylene group, etc.),
Polymer or copolymer of N-substituted acrylamide or methacrylamide containing at least one hydroxyl group (as the N-substituent, for example, monomethylol group, 2-
Hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 1,
1-bis (hydroxymethyl) ethyl group, 2,3,4
5,6-pentahydroxypentyl group, etc.) and the like. However, the synthetic polymer is not particularly limited as long as it has at least one hydroxyl group in the side chain substituent of the repeating unit.
【0077】これらの他の高分子化合物は単独で用いて
もよいし、2種以上を併用してもよい。高分子化合物の
質量平均分子量は、好ましくは103〜106、より好ま
しくは5×103〜4×105である。These other polymer compounds may be used alone or in combination of two or more kinds. The mass average molecular weight of the polymer compound is preferably 10 3 to 10 6 , and more preferably 5 × 10 3 to 4 × 10 5 .
【0078】(半)金属含有樹脂と高分子化合物(一般
式(I)の高分子化合物および併用してもよい他の高分
子化合物を含む。以下、同様)との複合体において、
(半)金属含有樹脂と高分子化合物の割合は広い範囲で
選択できるが、好ましくは(半)金属含有樹脂/高分子
化合物の質量比で10/90〜90/10、より好まし
くは20/80〜80/20である。この範囲におい
て、画像受理層の膜の強度、印刷時の湿し水に対する耐
水性が良好となる。In a composite of a (semi) metal-containing resin and a polymer compound (including the polymer compound of the general formula (I) and other polymer compounds which may be used in combination, the same applies hereinafter),
The ratio of the (semi) metal-containing resin and the polymer compound can be selected in a wide range, but the (semi) metal-containing resin / polymer compound mass ratio is preferably 10/90 to 90/10, more preferably 20/80. ~ 80/20. Within this range, the strength of the image-receiving layer film and the water resistance to dampening water during printing will be good.
【0079】本発明の複合体を含む結着樹脂は、前記
(半)金属化合物の加水分解共縮合により生成した
(半)金属含有樹脂のヒドロキシル基と、高分子化合物
中の前記特定の結合基とが水素結合作用等により均一な
有機、無機ハイブリッドを形成し、相分離することなく
ミクロ的に均質となる。(半)金属含有樹脂に炭化水素
基が存在する場合にはその炭化水素基に起因して、高分
子化合物との親和性がさらに向上するものと推定され
る。また、本発明の複合体は成膜性に優れている。The binder resin containing the complex of the present invention comprises a hydroxyl group of a (semi) metal-containing resin produced by hydrolysis and co-condensation of the (semi) metal compound and the specific bonding group in the polymer compound. And form a uniform organic-inorganic hybrid due to hydrogen bonding, etc., and become microscopically homogeneous without phase separation. When a hydrocarbon group is present in the (semi) metal-containing resin, it is presumed that the affinity with the polymer compound is further improved due to the hydrocarbon group. Further, the composite of the present invention is excellent in film forming property.
【0080】本発明の複合体は、前記(半)金属化合物
を加水分解共縮合し、高分子化合物と混合することによ
り製造するか、または高分子化合物の存在下、前記
(半)金属化合物を加水分解共縮合することにより製造
される。The composite of the present invention is produced by hydrolyzing and co-condensing the (semi) metal compound and mixing it with the polymer compound, or in the presence of the polymer compound, the (semi) metal compound It is produced by hydrolysis and cocondensation.
【0081】好ましくは、高分子化合物の存在下、前記
(半)金属化合物をゾル−ゲル法により加水分解共縮合
することにより本発明の有機無機複合体を得ることがで
きる。生成した有機無機複合体において、高分子化合物
は、(半)金属化合物の加水分解共縮合により生成した
ゲルのマトリックス(すなわち無機(半)金属酸化物の
三次元微細ネットワーク構造体)中に均一に分散してい
る。Preferably, the organic-inorganic composite of the present invention can be obtained by hydrolyzing and cocondensing the (semi) metal compound by a sol-gel method in the presence of a polymer compound. In the formed organic-inorganic composite, the polymer compound is uniformly distributed in the gel matrix (that is, the three-dimensional fine network structure of the inorganic (semi) metal oxide) formed by the hydrolytic cocondensation of the (semi) metal compound. It is dispersed.
【0082】上記好ましい方法としてのゾル−ゲル法
は、従来公知のゾル−ゲル法を用いて行なうことができ
る。具体的には、「ゾル−ゲル法による薄膜コーティン
グ技術」(株)技術情報協会(刊)(1995年)、作
花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社
(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法によ
る機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(19
92年)等の成書に詳細に記載の方法に従って実施でき
る。The sol-gel method as the above-mentioned preferable method can be carried out by using a conventionally known sol-gel method. Specifically, "Sol-gel method for thin film coating" (Technical Information Association) (published) (1995), Sakubana Seo "Sol-gel method science" (agne Jofusha Co., Ltd.) ) (1988), Shira Hirashima "Technology for functional thin film formation by latest sol-gel method", Comprehensive Technology Center (published) (19)
1992).
【0083】画像受理層用の塗布液は、水系溶媒が好ま
しく、更には塗液調整時の沈殿抑制による均一液化のた
めに水溶性溶媒を併用する。水溶性溶媒としては、アル
コール類(メタノール、エタノール、プロピルアルコー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
ジメチルエーテル、テトラヒドロピラン、等)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン
等)、エステル類(酢酸メチル、エチレングリコールモ
ノアセテート等)、アミド類(ホルムアミド、N−メチ
ルホルムアミド、ピロリドン、N−メチルピロリドン
等)等が挙げられ、1種あるいは2種以上を併用しても
よい。The coating liquid for the image receiving layer is preferably an aqueous solvent, and further a water-soluble solvent is used together for the purpose of uniform liquefaction by suppressing precipitation during preparation of the coating liquid. As the water-soluble solvent, alcohols (methanol, ethanol, propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc.), ethers (tetrahydrofuran , Ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, tetrahydropyran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, etc.), esters (methyl acetate, ethylene glycol monoacetate, etc.), amides (formamide, N-methylformamide, pyrrolidone) , N-methylpyrrolidone, etc.) and the like, and one kind or a combination of two or more kinds. It may be.
【0084】更に、上記一般式(II)で示される(半)
金属化合物の加水分解及び共縮合反応を促進するため
に、酸性触媒又は塩基性触媒を併用することが好まし
い。Further, it is represented by the above general formula (II) (half)
In order to accelerate the hydrolysis and co-condensation reaction of the metal compound, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst together.
【0085】触媒は、酸または塩基性化合物をそのまま
か、あるいは水またはアルコールなどの溶媒に溶解させ
た状態のもの(以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒と
いう)を用いる。そのときの濃度については特に限定し
ないが、濃度が濃い場合は加水分解及び重縮合速度が速
くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩基性触媒を用い
ると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、
塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃度換算)以下が
望ましい。As the catalyst, an acid or basic compound as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but if the concentration is high, the hydrolysis and polycondensation rates tend to be high. However, if a basic catalyst with a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution,
The concentration of the basic catalyst is preferably 1N (converted to a concentration in an aqueous solution) or less.
【0086】酸性触媒または塩基性触媒の種類は特に限
定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場合
には、焼結後に触媒結晶粒中にほとんど残留しないよう
な元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性触
媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、
亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸
や酢酸などのカルボン酸、構造式RCOOHのRを他元
素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベン
ゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒とし
ては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルア
ミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。The type of acidic catalyst or basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element that hardly remains in the catalyst crystal grains after sintering is used. Good. Specifically, as the acidic catalyst, hydrogen halide such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid,
Sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids obtained by substituting R of structural formula RCOOH with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, etc. Examples of the basic catalyst include ammoniacal bases such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline.
【0087】その他、画像受理層には、膜強度をより向
上させるために架橋剤を添加してもよい。架橋剤として
は、通常架橋剤として用いられる化合物を挙げることが
できる。具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハ
ンドブック」大成社刊(1981年)、高分子学会編
「高分子データハンドブック、基礎編」培風館(198
6年)等に記載されている化合物を用いることができ
る。In addition, a crosslinking agent may be added to the image receiving layer in order to further improve the film strength. Examples of the cross-linking agent include compounds usually used as cross-linking agents. Specifically, Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, "Handbook for Crosslinking Agents," published by Taiseisha (1981), "Polymer Data Handbook, Basic Edition," edited by the Society of Polymer Science, Baifukan (198)
6 years) and the like can be used.
【0088】例えば、塩化アンモニウム、金属イオン、
有機過酸化物、ポリイソシアナート系化合物(例えばト
ルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシ
アナート、トリフェニルメタントリイソシアナート、ポ
リメチレンフェニルイソシアナート、ヘキサメチレンジ
イソシアナート、イソホロンジイソシアナート、高分子
ポリイソシアナート等)、ポリオール系化合物(例え
ば、1,4−ブタンジオール、ポリオキシプロピレング
リコール、ポリオキシエチレングリコール、1,1,1
−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン系化合物
(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプロピル
化エチレンジアミン、フェニレンジアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、変性脂肪
族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含有化合物及びエ
ポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭
晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」
日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物
類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一郎、松永英夫編著
「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)クリレー
ト系化合物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編
「オリゴマー」講談杜(1976年刊)、大森英三「機
能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)
等に記載された化合物類)が挙げられる。For example, ammonium chloride, metal ions,
Organic peroxides, polyisocyanate compounds (for example, toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene phenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, high molecular polyisocyanate Nato, etc.), polyol compound (for example, 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene glycol, 1,1,1
-Trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds and epoxies Resin (for example, "New Epoxy Resin" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokoido (1985), "Epoxy Resin" edited by Kuniyuki Hashimoto)
Compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc.), melamine resin (for example, compounds described in "Uria Melamine Resin" edited by Ichiro Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shimbun (1969)) , Poly (meth) acrylate compounds (for example, Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura, "Oligomer" Kodanmori (Published in 1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Techno System (1985)
And the like).
【0089】本発明の画像受理層は、画像受理層塗布液
を耐水性支持体上に、従来公知の塗布方法のいずれかを
用いて塗布、乾燥することにより成膜される。The image-receiving layer of the present invention is formed by coating the image-receiving layer coating solution on a water-resistant support by any of the conventionally known coating methods and drying.
【0090】形成される画像受理層の膜厚は0.2〜1
0μmが好ましく、より好ましくは0.5〜8μmであ
る。この範囲で均一な厚みの膜が作成され、且つ膜の強
度が充分となる。The thickness of the image receiving layer formed is 0.2 to 1
0 μm is preferable, and 0.5 to 8 μm is more preferable. Within this range, a film having a uniform thickness is formed, and the film has sufficient strength.
【0091】本発明の画像受理層はその表面の平滑性が
ベック平滑度で30(秒/10ml)以上が好ましい。ここ
でベック平滑度は、ベック平滑度試験機により測定する
ことができ、高度に平滑に仕上げられた中央に穴のある
円形のガラス板上に、試験片を一定圧力(1kg/cm2)で
押しつけ、減圧下で一定量(10ml)の空気が、ガラス面
と試験片との間を通過するのに要する時間を測定するも
のである。The image receiving layer of the present invention preferably has a surface smoothness of 30 (sec / 10 ml) or more in terms of Bekk smoothness. Here, Beck's smoothness can be measured by a Beck's smoothness tester, and a test piece is placed on a highly smooth finished circular glass plate with a hole in the center at a constant pressure (1 kg / cm 2 ). It measures the time required for a certain amount (10 ml) of air to pass between the glass surface and the test piece under pressure reduction under reduced pressure.
【0092】製版(画像形成)を電子写真式プリンター
で行う場合、用いるトナーが乾式トナーと液体トナーで
好ましい範囲は以下のようになる。乾式トナーを用いる
電子写真式プリンターでは、本発明の原版の画像受理層
表面のベック平滑度は、30〜200(秒/10ml)が好
ましく、より好ましくは50〜150(秒/10ml)であ
る。この範囲において、トナー画像を原版に転写し定着
するプロセスにおいて、飛散トナーの非画像部への付着
(即ち、地汚れ)が防止され、また画像部のトナー密着
が均一且つ充分になされ、細線・細文字の再現性やべタ
画像部の均一性が良好となる。他方、液体トナーを用い
る電子写真式プリンターでは、画像受理層表面のベック
平滑度は30(秒/10ml)以上で、高い程よく、150
〜3000(秒/10ml)、より好ましくは200〜25
00(秒/10ml)である。When plate making (image formation) is performed by an electrophotographic printer, the preferred range of the toner to be used is dry toner and liquid toner as follows. In an electrophotographic printer using a dry toner, the Bekk smoothness of the image receiving layer surface of the original plate of the present invention is preferably 30 to 200 (sec / 10 ml), more preferably 50 to 150 (sec / 10 ml). Within this range, in the process of transferring and fixing the toner image to the original plate, scattering toner is prevented from adhering to the non-image area (that is, scumming), and the toner adhesion in the image area is made uniform and sufficient. Good reproducibility of fine characters and uniformity of solid image area. On the other hand, in an electrophotographic printer using a liquid toner, the Bekk smoothness of the image receiving layer surface is 30 (sec / 10 ml) or more, and the higher the better, the better.
~ 3000 (sec / 10 ml), more preferably 200-25
It is 00 (second / 10 ml).
【0093】また、インクジェット式プリンター、感熱
転写型プリンターでは、上記液体トナー利用の電子写真
式プリンターの場合と同様の範囲が好ましい。この範囲
において、細線・細文字、網画像等の高精細なトナー画
像部が忠実に画像受理層上に転写・形成され且つ画像受
理層表面とトナー画像部の密着も充分になされ、画像部
強度が保持できる。In the case of an ink jet type printer or a thermal transfer type printer, the same range as in the case of the electrophotographic printer using the liquid toner is preferable. In this range, high-definition toner image areas such as fine lines / fine characters and halftone images are faithfully transferred / formed on the image receiving layer, and the surface of the image receiving layer and the toner image area are sufficiently adhered to each other, resulting in strong image area. Can be held.
【0094】更に好ましくは、本発明の画像受理層表面
の形状を凹凸の形成が高く且つ間隔が密な状態とする。
具体的には、ISO−468で定義される表面中心平均
粗さSRaが1.3〜3.5μmの範囲で且つ表面粗さ
の密度を表示する平均波長Sλaが50μm以下の範囲
であることが好ましい。より好ましくは、SRaが1.
35〜2.5μm、Sλaが45μm以下の範囲であ
る。この事により、電子写真製版後の非画像部への飛散
トナーの付着及び付着トナーの定着時の太りが抑制され
るものと推定される。More preferably, the shape of the surface of the image receiving layer of the present invention is such that irregularities are highly formed and the intervals are close.
Specifically, the surface center average roughness SRa defined by ISO-468 is in the range of 1.3 to 3.5 μm, and the average wavelength Sλa indicating the density of the surface roughness is in the range of 50 μm or less. preferable. More preferably, SRa is 1.
The range is 35 to 2.5 μm and Sλa is 45 μm or less. It is presumed that this suppresses the adhesion of the scattered toner to the non-image area after electrophotographic plate making and the thickening of the adhered toner during fixing.
【0095】次に、本発明に供せられる耐水性支持体に
ついて説明する。耐水性支持体としては、アルミニウム
板、亜鉛板、銅−アルミニウム板、銅−ステンレス板、
クロム−銅板等のバイメタル板、クロム−銅−アルミニ
ウム板、クロム−鉛−鉄板、クロム−銅−ステンレス板
等のトライメタル板で、その厚さが0.1〜3mm、特に
0.1〜1mmのものが挙げられる。また、厚みが80μ
m〜200μmの耐水性処理を施した紙、プラスチック
フィルムあるいは金属箔をラミネートした紙またはプラ
スチックフィルム等が挙げられる。Next, the water-resistant support used in the present invention will be described. As the water resistant support, an aluminum plate, a zinc plate, a copper-aluminum plate, a copper-stainless plate,
Trimetal plates such as bimetal plates such as chrome-copper plates, chrome-copper-aluminum plates, chrome-lead-iron plates, chrome-copper-stainless plates, etc., with a thickness of 0.1-3 mm, especially 0.1-1 mm The following are listed. Also, the thickness is 80μ
Examples of the paper include water-resistant paper having a thickness of m to 200 μm, a plastic film, or a paper or plastic film laminated with a metal foil.
【0096】本発明に供せられる支持体は高平滑な表面
を有することが好ましい。即ち、画像受理層に隣接する
側の表面の平滑性が、ベック平滑度で300(秒/10m
l)以上、より好ましくは900〜3000(秒/10m
l)に調製されていることが好ましく、より好ましくは
1000〜3000(秒/10ml)であることが好まし
い。The support used in the present invention preferably has a highly smooth surface. That is, the surface smoothness adjacent to the image receiving layer has a Beck's smoothness of 300 (sec / 10 m).
l) or more, more preferably 900 to 3000 (sec / 10 m)
It is preferably adjusted to 1), more preferably 1000 to 3000 (sec / 10 ml).
【0097】支持体の画像受理層に隣接する側の表面の
平滑性をベック平滑度で300(秒/10ml)以上に規制
することによって、画像再現性及び耐刷性をさらに向上
させることができる。このような向上効果は、画像受理
層表面の平滑性が同じであっても得られるものであり、
支持体表面の平滑性が増すことで画像部と画像受理層と
の密着性が向上したためと考えられる。Image reproducibility and printing durability can be further improved by regulating the smoothness of the surface of the support on the side adjacent to the image receiving layer to be Beck smoothness of 300 (sec / 10 ml) or more. . Such an improving effect can be obtained even if the smoothness of the image receiving layer surface is the same,
It is considered that the increased smoothness of the surface of the support improved the adhesion between the image area and the image receiving layer.
【0098】このように規制された耐水性支持体の高平
滑な表面とは、画像受理層が直接塗布される面のことを
いい、例えば、支持体上に後述する導電層、アンダー
層、オーバーコート層を設ける場合には、その導電層、
アンダー層、オーバーコート層の表面のことをいう。こ
れにより支持体の表面の凹凸の影響を受けることなく上
記のように表面状態が調整された画像受理層が充分に保
持され、より一層の画質向上が可能となる。The highly smooth surface of the water-resistant support regulated in this way refers to the surface on which the image-receiving layer is directly applied. For example, a conductive layer, an under layer, an over layer, which will be described later, are formed on the support. When a coat layer is provided, its conductive layer,
It means the surface of the under layer and the overcoat layer. As a result, the image receiving layer whose surface state has been adjusted as described above is sufficiently retained without being affected by the irregularities on the surface of the support, and the image quality can be further improved.
【0099】上記平滑度の範囲に設定する方法として
は、種々従来公知の方法を用いることができる。具体的
には、基体表面を樹脂により、溶融接着する方法、高平
滑の熱ローラーによるカレンダー強化法等の方法によ
り、支持体の表面のベック平滑度を調整する方法等を挙
げることができる。As a method of setting the smoothness range, various conventionally known methods can be used. Specifically, a method of melting and adhering the surface of the substrate with a resin, a method of adjusting the Bekk smoothness of the surface of the support by a method such as a calender strengthening method using a highly smooth heat roller, and the like can be mentioned.
【0100】本発明の直描型平版印刷用原版は耐水性支
持体上に設けられた画像受理層に、電子写真記録方式で
トナー画像を形成する、あるいは静電界を利用して油性
インクを吐出する静電吐出型インクジェット法で画像を
形成するために用いられる平版印刷用原版としても好ま
しく用いることができ、画像形成により得られた平版印
刷版は、鮮明な画像を多数枚印刷することが可能であ
る。The direct drawing type lithographic printing plate precursor of the present invention forms a toner image by an electrophotographic recording method on an image receiving layer provided on a water resistant support, or discharges an oil-based ink by utilizing an electrostatic field. It can also be preferably used as a lithographic printing plate precursor used for forming an image by the electrostatic discharge type inkjet method, and the lithographic printing plate obtained by image formation can print a large number of clear images. Is.
【0101】電子写真記録方式による画像形成は、通
常、電子写真プロセスで、被転写材上へのトナー画像の
転写は、静電転写により行なわれている。印刷用原版と
しての耐水性支持体は導電性であることが好ましく、特
にその体積固有抵抗値が104〜1013Ω・cmが好まし
く、より好ましくは107〜1012Ω・cmである。これ
により転写画像の滲み・歪みや非画像部へのトナー付着
汚れ等が実用上問題のない程度に抑制され、良好な画像
が得られる。The image formation by the electrophotographic recording method is usually an electrophotographic process, and the transfer of the toner image onto the transfer material is performed by electrostatic transfer. The water-resistant support as the printing plate precursor is preferably electrically conductive, and particularly has a volume specific resistance value of 10 4 to 10 13 Ω · cm, and more preferably 10 7 to 10 12 Ω · cm. As a result, bleeding / distortion of the transferred image, toner adhesion stains on the non-image area, and the like are suppressed to a level where there is no practical problem, and a good image is obtained.
【0102】また、静電吐出型インクジェット記録方式
による画像形成でも、上記耐水性支持体は、導電性を有
するものであることが好ましく、少なくともその画像受
理層の直下の部分が1010Ω・cm以下の固有電気抵抗値
を有するものであることが好ましく、耐水性支持体全体
が1010Ω・cm以下であることがより好ましい。上記の
固有電気抵抗値は、さら好ましくは、108Ω・cm以下
であり、その値は、限りなく零であってもよい。導電性
が上記の範囲内において、帯電したインク滴が画像受理
層上に付着した際に該インク滴の電荷が速やかに接地面
を通して消失するために、乱れを生じない鮮明な画像が
形成される。Also in the image formation by the electrostatic discharge type ink jet recording system, it is preferable that the water resistant support has conductivity, and at least the portion immediately below the image receiving layer is 10 10 Ω · cm. It preferably has the following specific electric resistance value, and more preferably 10 10 Ω · cm or less for the entire water resistant support. The above-mentioned specific electric resistance value is more preferably 10 8 Ω · cm or less, and the value may be infinitely zero. When the conductivity is within the above range, when the charged ink droplets adhere to the image receiving layer, the charge of the ink droplets quickly disappears through the ground plane, so that a clear image without disturbance is formed. .
【0103】なお、固有電気抵抗値(体積固有電気抵抗
値または比電気抵抗値とも呼ばれる)の測定はJIS
K−6911に基づきガード電極を設けた3端子法で行
った。The specific electric resistance value (also called the volume specific electric resistance value or the specific electric resistance value) is measured by JIS.
It was carried out by a three-terminal method in which a guard electrode was provided according to K-6911.
【0104】支持体の画像受理層の直下の部分に上記の
ような導電性を持たせるには、紙、フィルム等の基体上
に、カーボンブラック等の導電性フィラーと結着剤から
なる層を塗布したり、金属箔を貼り付けたり、金属を蒸
着したりする方法が挙げられる。In order to give the above-mentioned conductivity to the portion of the support directly below the image-receiving layer, a layer comprising a conductive filler such as carbon black and a binder is provided on a substrate such as paper or film. Examples of the method include coating, attaching a metal foil, and depositing a metal.
【0105】一方、支持体全体が導電性を有するものと
しては、例えば塩化ナトリウムなどを含浸させた導電性
紙、カーボンブラック等の導電性フィラーを混入させた
プラスチックフィルム、アルミニウムなどの金属板等が
挙げられる。On the other hand, examples of the conductive material having the entire support include conductive paper impregnated with sodium chloride, a plastic film mixed with a conductive filler such as carbon black, and a metal plate such as aluminum. Can be mentioned.
【0106】例えば基体に塩化ナトリウムなどを含浸さ
せた導電性原紙を用い、その両面に耐水性を有する導電
性層を設けることにより得られる。基体として用いられ
る原紙としては、例えば木材パルプ紙、合成パルプ紙、
木材パルプ紙と合成パルプ紙の混抄紙をそのまま用いる
ことができる。また、原紙の厚さとしては80μm〜2
00μmが好ましい。For example, it can be obtained by using a conductive base paper in which a substrate is impregnated with sodium chloride or the like and providing a conductive layer having water resistance on both surfaces thereof. Examples of the base paper used as the substrate include wood pulp paper, synthetic pulp paper,
A mixed paper of wood pulp paper and synthetic pulp paper can be used as it is. The thickness of the base paper is 80 μm to 2
00 μm is preferable.
【0107】導電性層の形成は、導電性フィラーと結着
剤を含む層を上記導電性紙の両面に塗布することにより
達成される。塗布される導電性層の厚さは、5μm〜2
0μmが好ましい。The conductive layer is formed by applying a layer containing a conductive filler and a binder to both sides of the conductive paper. The thickness of the conductive layer applied is 5 μm to 2 μm.
0 μm is preferable.
【0108】導電性フィラーとしては、粒子状のカーボ
ンブラック、グラファイト、例えば銀、銅、ニッケル、
真鍮、アルミニウム、鋼、ステンレスなどの金属粉、酸
化スズ粉末、フレーク状のアルミニウムまたはニッケ
ル、繊維状の炭素などが挙げられる。As the conductive filler, particulate carbon black, graphite such as silver, copper, nickel,
Metal powders such as brass, aluminum, steel and stainless steel, tin oxide powders, flaky aluminum or nickel, fibrous carbon and the like can be mentioned.
【0109】結着剤として使用される樹脂としては、各
種の樹脂が適宜選択して用いられる。具体的には、疎水
性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル系
樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、
スチレン−アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニ
リデン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂等が挙げられ、親水性
樹脂としては例えばポリビニルアルコール系樹脂、セル
ロール系誘導体、でんぷんおよびその誘導体、ポリアク
リルアミド系樹脂、スチレン無水マレイン酸系共重合体
等が挙げられる。As the resin used as the binder, various resins are appropriately selected and used. Specifically, as the hydrophobic resin, for example, acrylic resin, vinyl chloride resin, styrene resin, styrene-butadiene resin,
Examples of the hydrophilic resin include styrene-acrylic resin, urethane resin, vinylidene chloride resin, vinyl acetate resin, and the like. Examples of the hydrophilic resin include polyvinyl alcohol resin, cellulose derivative, starch and its derivative, polyacrylamide resin, and styrene. Examples thereof include maleic anhydride-based copolymers.
【0110】導電性層を形成する他の方法として、導電
性の薄膜をラミネートすることがあげられる。導電性薄
膜としては、例えば金属箔、導電性プラスチックフィル
ムなどを用いることができる。さらに具体的には、金属
箔ラミネート材としてアルミ箔、導電性プラスチックフ
ィルムのラミネート材としては、カーボンブラックを混
入したポリエチレン樹脂などがあげられる。アルミ箔と
しては、硬質および軟質のどちらでも良く、厚みは5μ
m〜20μmが好ましい。Another method for forming a conductive layer is to laminate a conductive thin film. As the conductive thin film, for example, a metal foil, a conductive plastic film or the like can be used. More specifically, examples of the metal foil laminate include aluminum foil, and examples of the laminate of the conductive plastic film include polyethylene resin mixed with carbon black. The aluminum foil may be either hard or soft, and the thickness is 5μ.
m to 20 μm is preferable.
【0111】カーボンブラックを混入したポリエチレン
樹脂のラミネートには押し出しラミネート法が好まし
い。押し出しラミネート法とは、ポリエチレンを熱溶融
し、これをフィルムにしてから直ちに原紙に圧着後、冷
却してラミネートする方法であり、種々の装置が知られ
ている。ラミネート層の厚みは、10μm〜30μmが
好ましい。支持体全体が導電性を有するものとして、基
体として導電性を有するプラスチックフィルムや金属板
を用いる場合は、耐水性が満たされていればそのままで
使用できる。The extrusion laminating method is preferable for laminating polyethylene resin mixed with carbon black. The extrusion laminating method is a method in which polyethylene is heat-melted to form a film, which is immediately pressed onto a base paper and then cooled and laminated, and various apparatuses are known. The thickness of the laminate layer is preferably 10 μm to 30 μm. When a plastic film or a metal plate having conductivity is used as the substrate, assuming that the entire support has conductivity, it can be used as it is if the water resistance is satisfied.
【0112】導電性を有するプラスチックフィルムとし
ては、例えば炭素繊維やカーボンブラック等の導電性フ
ィラーを混入させたポリプロピレン、ポリエステルフィ
ルムなどが、また金属板としては、アルミニウムなどが
使用できる。基体の厚みは80μm〜200μmが好ま
しい。80μm未満では印刷版としての強度が不足し、
200μmを超えると描画装置内での搬送性などのハン
ドリング性が低下する。As the plastic film having conductivity, for example, polypropylene or polyester film mixed with conductive filler such as carbon fiber or carbon black can be used, and as the metal plate, aluminum or the like can be used. The thickness of the substrate is preferably 80 μm to 200 μm. If it is less than 80 μm, the strength of the printing plate is insufficient,
When it exceeds 200 μm, the handling property such as the transportability in the drawing device is deteriorated.
【0113】次に、導電性を有する層を設ける構成につ
いて説明する。耐水性基体として、厚みが80μm〜2
00μmの耐水性処理を施した紙、プラスチックフィル
ムあるいは金属箔をラミネートした紙またはプラスチッ
クフィルム等を用いることができる。基体上に導電性層
を形成する方法としては、上記の支持体全体が導電性を
有する場合で述べた方法が使用できる。すなわち基体の
一つの面に導電性フィラーと結着剤を含む層を厚さ5μ
m〜20μmで塗布する。あるいは金属箔、または導電
性を有するプラスチックフィルムをラミネートすること
により得られる。上記以外の方法としては、例えばプラ
スチックフィルムにアルミ、スズ、パラジウム、金など
の金属蒸着膜を設けても良い。Next, the structure in which the conductive layer is provided will be described. As a water resistant substrate, the thickness is 80 μm to 2
Paper having a water resistance of 00 μm, a plastic film, a paper laminated with a metal foil, a plastic film, or the like can be used. As the method for forming the conductive layer on the substrate, the method described in the case where the whole support has conductivity can be used. That is, a layer containing a conductive filler and a binder is formed on one surface of the substrate to a thickness of 5 μm.
Apply from m to 20 μm. Alternatively, it can be obtained by laminating a metal foil or a plastic film having conductivity. As a method other than the above, for example, a metal vapor deposition film of aluminum, tin, palladium, gold or the like may be provided on a plastic film.
【0114】以上のようにして導電性を有する耐水性支
持体を得ることができる。As described above, a water resistant support having conductivity can be obtained.
【0115】また、本発明では上記のように画像受理層
とは反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコ
ート層(裏面層)を設けることができるが、バックコー
ト層は、その平滑度が150〜700(秒/10ml)の範
囲であることが好ましい。これにより、印刷版をオフセ
ット印刷機に給版する場合に、ズレやスベリを生じるこ
となく印刷版が正確に印刷機にセットされる。In the present invention, as described above, a back coat layer (back surface layer) can be provided on the surface of the support opposite to the image receiving layer for the purpose of preventing curling. However, the back coat layer has a smoothness. It is preferably in the range of 150 to 700 (sec / 10 ml). As a result, when the printing plate is supplied to the offset printing machine, the printing plate is accurately set in the printing machine without causing misalignment or slippage.
【0116】アンダー層またはバックコート層を設けた
耐水性支持体の膜厚としては、90〜130μmの範
囲、好ましくは100〜120μmの範囲である。The film thickness of the water resistant support provided with the under layer or the back coat layer is in the range of 90 to 130 μm, preferably 100 to 120 μm.
【0117】本発明の平版印刷用原版は、好ましくは直
描型平版印刷用原版として用いることができ、感熱転写
記録方式、電子写真記録方式又はインクジェット記録方
式等で画像を形成することにより製版を行うことができ
る。The lithographic printing original plate of the present invention can be preferably used as a direct drawing type lithographic printing original plate, and a plate is prepared by forming an image by a thermal transfer recording system, an electrophotographic recording system or an inkjet recording system. It can be carried out.
【0118】電子写真記録方法としては、従来公知の記
録方式のいずれをも用いることができる。例えば電子写
真学会編「電子写真技術の基礎と応用」(株)コロナ社
刊(1988年)、江田研一、電子写真学会誌27,1
13(1988)、川本晃生、同33,149(199
4)、川本晃生、同32,196(1993)等に記載
の方法あるいは市販のPPC複写機等が挙げられる。As the electrophotographic recording method, any conventionally known recording method can be used. For example, "Basics and Applications of Electrophotographic Technology" edited by The Electrophotographic Society of Japan, published by Corona Co., Ltd. (1988), Kenichi Eda, The Electrophotographic Society of Japan 27 , 1
13 (1988), Akio Kawamoto, 33 , 149 (199).
4), Akio Kawamoto, 32 , 196 (1993), etc., or a commercially available PPC copying machine.
【0119】デジタル情報に基づいて露光するレーザー
光によるスキャニング露光方式及び液体現像剤を用いる
現像方式の組合せが、高精細な画像を形成できることか
ら有効なプロセスである。その一例を以下に示す。The combination of the scanning exposure method using laser light which is exposed on the basis of digital information and the developing method using a liquid developer is an effective process because a high-definition image can be formed. An example is shown below.
【0120】まず、感光材料をフラットベット上にレジ
スターピン方式による位置決めを行った後背面よりエア
ーサクションにより吸引して固定する。次いで、例えば
上記「電子写真技術の基礎と応用」212頁以降に記載
の帯電デバイスにより感光材料を帯電する。コロトロン
又はスコトロン方式が一般的である。この時感光材料の
帯電電位検出手段からの情報に基づき、常に所定の範囲
の表面電位となるようフィードバックをかけ、帯電条件
をコントロールすることも好ましい。その後例えば同じ
く上記引用資料の254頁以降に記載の方式を用いてレ
ーザー光源による走査露光を行う。First, the photosensitive material is positioned on the flat bed by the register pin method, and then suctioned and fixed from the back surface by air suction. Next, for example, the photosensitive material is charged by the charging device described in "Basics and Applications of Electrophotographic Technology", page 212 et seq. The corotron or scotron system is common. At this time, it is also preferable to control the charging condition by giving feedback so that the surface potential is always within a predetermined range based on the information from the charging potential detection means of the photosensitive material. Then, for example, scanning exposure with a laser light source is performed using the method described on page 254 and the like of the above cited material.
【0121】次いで液体現像剤を用いてトナー画像の形
成を行う。フラットベット上で帯電、露光した感光材料
は、そこからはずして同上引用資料の275頁以降に示
された湿式現像法を用いることができる。この時の露光
モードは、トナー画像現像モードに対応して行われ、例
えば反転現像の場合はネガ画像、即ち画像部にレーザー
光を照射し、感光材料を帯電した時の電荷極性と同じ電
荷極性を持つトナーを用い、現像バイアス電圧を印加し
て露光部にトナーが電着するようにする。原理の詳細は
同上引用資料の157頁以降に説明がある。Next, a toner image is formed using the liquid developer. The light-sensitive material charged and exposed on a flat bed can be removed from it, and the wet development method shown on page 275 and after of the above-mentioned reference can be used. The exposure mode at this time corresponds to the toner image development mode. For example, in the case of reversal development, a negative image, that is, an image portion is irradiated with laser light to charge the photosensitive material with the same charge polarity. The toner having the toner is used and a developing bias voltage is applied so that the toner is electrodeposited on the exposed portion. The details of the principle are described on page 157 and after of the above cited material.
【0122】現像後に余剰の現像液を除くために、同資
料283頁に示されるようなゴムローラ、ギャップロー
ラ、リバースローラ等のスクイーズ、コロナスクイー
ズ、エアスクイーズ等のスクイーズを行う。スクイーズ
前に現像剤の担体液体のみでリンスをすることも好まし
い。After the development, in order to remove the excess developer, squeeze such as rubber roller, gap roller, reverse roller, etc., corona squeeze, air squeeze, etc. as shown on page 283 of the same document are performed. It is also preferable to rinse only with the carrier liquid of the developer before squeezing.
【0123】次に感光体上に上記の様にして形成された
トナー画像を被転写材である平版印刷用原版上に転写・
定着する、または中間転写体を経由して平版印刷用原版
上に転写・定着することができる。Then, the toner image formed as described above on the photoconductor is transferred onto a lithographic printing plate precursor that is a transfer target material.
It can be fixed or can be transferred and fixed onto a lithographic printing plate precursor via an intermediate transfer member.
【0124】インクジェット記録方法としては、従来公
知の記録方式のいずれでもよいが、インク画像の乾燥・
定着性、インクのつまり難さ等から油性インクが好まし
く且画像滲みを生じ難い静電吐出型インクジェット方式
が好ましい。ホットメルトインクを用いたソリッドジェ
ット方式も好ましく用いられる。The ink jet recording method may be any of the conventionally known recording methods.
An oil-based ink is preferred because of its fixability, difficulty in clogging of ink, and the like, and an electrostatic discharge type inkjet method is preferred because it does not easily cause image bleeding. A solid jet method using hot melt ink is also preferably used.
【0125】静電力を用いるオンディマンド型のインク
ジェット方式として一之瀬進、大庭有二、電子通信学会
論文誌Vol.J66-C(No.1),p47(1983)、大野忠義、水口
衛、画像電子学会誌vol.10,(No.3),p157(1981)等に記載
の静電加速型インクジェットあるいはスリットジェット
と呼ばれる方式が知られており、具体的態様が、例えば
特開昭56−170号、同56−4467号、同57−
151374号等に開示されている。On-demand ink jet system using electrostatic force Susumu Ichinose, Yuji Ohba, IEICE Transactions Vol.J66-C (No.1), p47 (1983), Tadayoshi Ohno, Mamoru Mizuguchi, IEICE A method called an electrostatic acceleration type ink jet or a slit jet described in magazines vol.10, (No.3), p157 (1981) and the like is known, and a specific embodiment thereof is, for example, JP-A-56-170, No. 56-4467, No. 57-
No. 151374 and the like.
【0126】これは、インクタンクからスリット状のイ
ンク保持部内面に多数の電極を配置してなるスリット状
インク室にインクを供給すると共に、これらの電極に選
択的に高電圧を印加することにより、スリットと近接対
向する記録紙に電極近傍のインクを噴出させて記録する
ものである。This is because ink is supplied from the ink tank to the slit-shaped ink chamber in which a large number of electrodes are arranged on the inner surface of the slit-shaped ink holding portion, and a high voltage is selectively applied to these electrodes. The ink near the electrodes is ejected onto the recording paper that is in close proximity to the slit for recording.
【0127】また、スリット状の記録ヘッドを用いない
他の方式として、特開昭61−211048号公報に
は、複数の微小孔を有するフィルム状インク支持体の穴
にインクを充填し、多針電極により選択的に電圧を印加
して孔内のインクを記録紙に移動させる手段が開示され
ている。また、ソリッドジェット方式としては、SolidI
nkjet Platemaker SJ02A(日立工機(株)製)、MP−
1200Pro(Dynic(株)製)等の市販されたプリント
システムが挙げられる。As another method which does not use a slit-shaped recording head, JP-A-61-211048 discloses that a hole is formed in a film-shaped ink support having a plurality of fine holes, and ink is filled in to form a multi-needle. A means for selectively applying a voltage by electrodes to move the ink in the holes to the recording paper is disclosed. In addition, as a solid jet method, SolidI
nkjet Platemaker SJ02A (manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd.), MP-
Commercially available print systems such as 1200 Pro (manufactured by Dynic Co., Ltd.) can be mentioned.
【0128】インクジェット記録方法を用いた製版方法
を図を用いてより具体的に説明する。図1に示す装置系
は油性インクを使用するインクジェット記録装置1を有
するものである。The plate making method using the ink jet recording method will be described more specifically with reference to the drawings. The apparatus system shown in FIG. 1 has an inkjet recording apparatus 1 that uses oil-based ink.
【0129】図1のように、まず、マスター(平版印刷
用原版)2に形成すべき画像(図形や文章)のパターン
情報を、コンピュータ3のような情報供給源から、バス
4のような伝達手段を通し、油性インクを使用するイン
クジェット記録装置1に供給する。記録装置1のインク
ジェット記録用ヘッド10は、その内部に油性インクを
貯え、記録装置1内にマスター2が通過すると、前記情
報に従い、インクの微小な液滴をマスター2に吹き付け
る。これにより、マスター2に前記パターンでインクが
付着する。こうしてマスター2に画像を形成し、製版マ
スター(製版印刷用原版)を得る。As shown in FIG. 1, first, pattern information of an image (graphic or text) to be formed on the master (lithographic printing original plate) 2 is transmitted from an information supply source such as the computer 3 via the bus 4. Then, the ink is supplied to the inkjet recording apparatus 1 using the oil-based ink. The ink jet recording head 10 of the recording apparatus 1 stores oil-based ink therein, and when the master 2 passes through the recording apparatus 1, minute droplets of ink are sprayed onto the master 2 according to the above information. As a result, the ink adheres to the master 2 in the above pattern. In this way, an image is formed on the master 2 to obtain a plate-making master (plate-making printing original plate).
【0130】図1の装置系に用いられるインクジェット
記録装置の例を図2および図3に示す。図2および図3
では図1と共通する部材は共通の符号を用いて示してい
る。図2はこのようなインクジェット記録装置の要部を
示す概略構成図であり、図3はヘッドの部分断面図であ
る。An example of an ink jet recording apparatus used in the apparatus system of FIG. 1 is shown in FIGS. 2 and 3. 2 and 3
In FIG. 1, members common to those in FIG. 1 are designated by common reference numerals. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a main part of such an ink jet recording apparatus, and FIG. 3 is a partial sectional view of a head.
【0131】インクジェット記録装置に備えられている
ヘッド10は、図3に示されるように、上部ユニット1
01と下部ユニット102とで挟まれたスリットを有
し、その先端は吐出スリット10aとなっており、スリ
ット内には吐出電極10bが配置され、スリット内には
油性インク11が満たされた状態になっている。The head 10 provided in the ink jet recording apparatus is, as shown in FIG.
01 and the lower unit 102 have a slit sandwiched between them, the tip of which is an ejection slit 10a, the ejection electrode 10b is disposed in the slit, and the oil ink 11 is filled in the slit. Has become.
【0132】ヘッド10では、画像のパターン情報のデ
ジタル信号に従って、吐出電極10bに電圧が印加され
る。図2に示されるように、吐出電極10bに対向する
形で対向電極10cが設置されており、対向電極10c
上にはマスター2が設けられている。電圧の印加によ
り、吐出電極10bと、対向電極10cとの間には回路
が形成され、ヘッド10の吐出スリット10aから油性
インク11が吐出され対向電極10c上に設けられたマ
スター2上に画像が形成される。In the head 10, a voltage is applied to the ejection electrode 10b according to the digital signal of the image pattern information. As shown in FIG. 2, the counter electrode 10c is installed so as to face the ejection electrode 10b.
The master 2 is provided above. By applying a voltage, a circuit is formed between the ejection electrode 10b and the counter electrode 10c, the oil-based ink 11 is ejected from the ejection slit 10a of the head 10, and an image is formed on the master 2 provided on the counter electrode 10c. It is formed.
【0133】吐出電極10bの幅は、高画質の画像形成
を行うためにその先端はできるだけ狭いことが好まし
い。例えば油性インクを図3のヘッド10に満たし、先
端が20μm 幅の吐出電極10bを用い、吐出電極10
bと対向電極10cの間隔を1.5mmとして、この電極
間に3kVの電圧を0.1ミリ秒印加することで40μ
m のドットの印字をマスター2上に形成することができ
る。The width of the discharge electrode 10b is preferably as narrow as possible in order to form a high quality image. For example, the head 10 of FIG. 3 is filled with oil-based ink, and the tip of the ejection electrode 10b having a width of 20 μm is used.
The distance between b and the counter electrode 10c is set to 1.5 mm, and a voltage of 3 kV is applied for 0.1 msec between the electrodes to obtain 40 μm.
Printing of m dots can be formed on the master 2.
【0134】以上のようにして、平版印刷用原版上に、
油性インクを使用したインクジェット方式で画像形成し
て製版マスターが得られる。As described above, on the lithographic printing plate precursor,
An image is formed by an inkjet method using an oil-based ink to obtain a plate making master.
【0135】[0135]
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定される
ものではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0136】実施例1
<平版印刷用原版の作成>下記の組成物1を、ガラスビ
ーズと共にペイントシェーカー(東洋精機(株))にて
室温で10分間分散した後、更に、組成物2を33g添
加し、ペイントシェーカー(東洋精機(株))にて室温
で1分間分散した後、ガラスビーズを濾別して、分散物
を得た。Example 1 <Preparation of lithographic printing plate precursor> The following composition 1 was dispersed with glass beads in a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) at room temperature for 10 minutes, and 33 g of composition 2 was further added. After adding and dispersing with a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) for 1 minute at room temperature, glass beads were filtered out to obtain a dispersion.
【0137】 (組成物1) ・針状フィラー;導電性酸化チタンFT2000(石原産業(株)製、平均直径0.1 μm、平均長さ2μm) 31g ・親水性ポリマー(例示化合物I−1)の5wt%水溶液 70g ・コロイダルシリカ20%水溶液;スノーテックスC(日産化学工業(株)) 60g[0137] (Composition 1) ・ Needle-like filler; conductive titanium oxide FT2000 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., average diameter 0.1) μm, average length 2 μm) 31g 70 g of 5 wt% aqueous solution of hydrophilic polymer (Exemplary Compound I-1) ・ 20% colloidal silica aqueous solution; Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd.) 60 g
【0138】 (組成物2) ・テトラエトキシシラン 92g ・エタノール 163g ・水 163g ・硝酸 0.1g[0138] (Composition 2) ・ Tetraethoxysilane 92g ・ Ethanol 163g ・ Water 163g ・ Nitric acid 0.1g
【0139】軽印刷用電子写真式平版印刷原版として用
いられているELP−1X型マスター(富士写真フイル
ム(株)製)の支持体(アンダー側のベック平滑度:1
000(sec/10cc))に、上記画像受理層組成物をワ
イヤーバーを用いて、乾燥後の塗布量が5g/m2にな
るように塗布し、オーブンで100℃、10分間乾燥し
た。Support for ELP-1X type master (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) used as an electrophotographic lithographic printing original plate for light printing (Beck smoothness on the under side: 1
000 (sec / 10 cc)), the above image-receiving layer composition was applied using a wire bar so that the applied amount after drying was 5 g / m 2 , and dried in an oven at 100 ° C. for 10 minutes.
【0140】平版印刷用原版をベック平滑度試験機(熊
谷理工(株)製)を用い、空気容量10ccの条件にてそ
の平滑度を測定したところ、205(sec/10cc)であ
った。また、平版印刷用原版の表面に、蒸留水2μlを
乗せ、30秒後の表面接触角(度)を表面接触角計(商
品名CA−D、協和界面科学(株)製)を用いて測定し
たところ、5度以下であった。The lithographic printing plate precursor was measured for its smoothness using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under an air volume of 10 cc. The result was 205 (sec / 10 cc). Further, 2 μl of distilled water was placed on the surface of the lithographic printing plate precursor, and the surface contact angle (degree) after 30 seconds was measured using a surface contact angle meter (trade name CA-D, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). It was 5 degrees or less.
【0141】上記の平版印刷用原版を、「AM−Straig
ht Imaging System」として市販されている、乾式トナ
ーを用いたレーザープリンターAMSIS・1200−
J Plate Setter(商品名)を通して製版した。得られ
た製版物の複写画像について20倍のルーペを用いて目
視評価した所、製版画質は良好であつた。即ち、レーザ
ープリンターからの乾式トナー転写により得られた本発
明の製版物は、細線、細文字の欠落がなく、ベタ部も均
一で、トナー転写のムラは全く認められず、旦つ非画像
部もトナー飛散による地カブリも微かで実用上問題のな
い良好なものであった。The lithographic printing plate precursor described above was converted into "AM-Straig
"HT Imaging System" commercially available laser printer using dry toner AMSIS 1200-
The plate was made through J Plate Setter (trade name). When the copied image of the obtained plate-making product was visually evaluated using a 20-fold loupe, the plate-making image quality was good. That is, the plate-making product of the present invention obtained by dry-type toner transfer from a laser printer has no thin lines or fine characters, the solid part is uniform, and no unevenness in toner transfer is observed at all. Also, the background fog caused by the toner scattering was slight and it was a good one with no practical problems.
【0142】次に上記平版印刷用原版を、上記と同一の
操作で製版した後、全自動印刷機AM−2850(商品
名、エーエム社(株)製)を用いて、湿し水として、P
S版用処理剤EU−3(富士写真フイルム(株)製)を
蒸留水で50倍に希釈した溶液を、湿し水受皿部に入
れ、オフセット印刷用ワニス入り紅インキを用いて印刷
を行なつた。印刷10枚目の印刷物の印刷画像(地カブ
リ、画像部のベタ均一性)を20倍のルーペを用いて目
視評価した所、極めて良好なものであった。Next, after making the above lithographic printing plate precursor by the same operation as described above, a fully automatic printing machine AM-2850 (trade name, manufactured by AM Co.) was used to prepare P
A solution prepared by diluting the S plate processing agent EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with distilled water 50 times is put in a dampening water tray part, and printing is performed using a red ink containing a varnish for offset printing. Natsuta. The printed image (ground fog, solid uniformity in the image area) of the 10th printed matter was visually evaluated using a 20-fold magnifying glass, and it was extremely good.
【0143】更に、細線、細文字の欠落及びベタ部のム
ラのない画像を有し、非画像部のインキ汚れも実用上問
題のない良好な印刷物が10000枚以上得られた。本
発明の原版は良好な印刷物を多数枚得ることができる。Further, 10,000 or more good printed matters were obtained which had an image without fine lines, loss of fine characters, and unevenness in the solid portion, and practically no problem with ink stains in the non-image portion. The original plate of the present invention can produce a large number of good printed matter.
【0144】比較例1
実施例1において、本発明の親水性ポリマー(例示化合
物I−1)に変えて、PVA217(クラレ(株)製)
を用い平版印刷用原版を作成した。得られた原版の表面
のベック平滑度は160度(sec/10cc)、水との接触
角は5度以下であった。また、この原版を、実施例1と
同様にして製版し、印刷を行なったところ、製版した版
の画質は、実施例1とほぼ同等で非画像部での飛散トナ
ーも少なく画像も良好であったが、印刷物は刷り出しで
非画像部の汚れが発生した。Comparative Example 1 PVA217 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was used instead of the hydrophilic polymer (Exemplary Compound I-1) of the present invention in Example 1.
Was used to prepare a lithographic printing plate precursor. The surface of the obtained original plate had a Bekk smoothness of 160 degrees (sec / 10 cc) and a contact angle with water of 5 degrees or less. Further, when this original plate was made and printed in the same manner as in Example 1, the image quality of the plate made was almost the same as in Example 1 and the amount of toner scattered in the non-image area was small and the image was good. However, the printed matter had stains on the non-image area when printed.
【0145】実施例2
<平版印刷用原版の作成>下記の組成物3を、ガラスビ
ーズと共にペイントシェーカー(東洋精機(株))にて
室温で10分間分散した後、更に、組成物4を33g添
加し、ペイントシェーカー(東洋精機(株))にて室温
で1分間分散した後、ガラスビーズを濾別して、分散物
を得た。Example 2 <Preparation of lithographic printing plate precursor> The following composition 3 was dispersed with glass beads in a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) at room temperature for 10 minutes, and 33 g of composition 4 was further added. After adding and dispersing with a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) for 1 minute at room temperature, glass beads were filtered out to obtain a dispersion.
【0146】 (組成物3) ・針状フィラー;チタン酸カリウムウィスカーティスモN(大塚化学(株)製、 平均直径0.4μm、平均長さ15μm) 20g ・ルチル型酸化チタン(和光純薬(株)製、平均粒子径0.3μm) 11g ・親水性ポリマー(例示化合物I−5)の5wt%水溶液 70g ・コロイダルシリカ20%水溶液;スノーテックスC(日産化学工業(株)) 60g[0146] (Composition 3) ・ Needle-like filler; Potassium titanate Whisker Tismo N (Otsuka Chemical Co., Ltd., Average diameter 0.4μm, average length 15μm) 20g ・ Rutile type titanium oxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., average particle size 0.3 μm) 11 g 70 g of a 5 wt% aqueous solution of a hydrophilic polymer (Exemplary Compound I-5) ・ 20% colloidal silica aqueous solution; Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd.) 60 g
【0147】 (組成物4) ・テトラエトキシシラン 92g ・エタノール 163g ・水 163g ・硝酸 0.1g[0147] (Composition 4) ・ Tetraethoxysilane 92g ・ Ethanol 163g ・ Water 163g ・ Nitric acid 0.1g
【0148】軽印刷用電子写真式平版印刷原版として用
いられているELP−2X型マスター(富士写真フイル
ム(株)製)の支持体(アンダー片側のベック平滑度:
2000(sec/10cc)以上)を用い、この上に上記組
成物をワイヤーバーを用いて乾燥後の塗布量6g/m2
となる様に塗布し、指触乾燥した後、更に110℃、3
0分間加熱し平版印刷用原版を作成した。得られた原版
の表面のベック平滑度は1000(sec/10cc)、水と
の接触角は5度以下であった。Support of ELP-2X type master (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) used as an electrophotographic lithographic printing original plate for light printing (Beck smoothness on one side of under side:
2000 (sec / 10 cc or more), and the above composition is coated thereon with a wire bar to give a coating amount of 6 g / m 2
So that it is coated and dried by touch, then at 110 ℃, 3
A lithographic printing plate precursor was prepared by heating for 0 minutes. The Beck smoothness of the surface of the obtained original plate was 1000 (sec / 10 cc), and the contact angle with water was 5 degrees or less.
【0149】<電子写真感光体の作成>X型無金属フタ
ロシアニン(大日本インキ(株)製)2g、下記結着樹
脂(P−1)14.4g、下記結着樹脂(P−2)3.
6g、下記化合物(A)0.15g及びシクロヘキサノ
ン80gの混合物を、500mlのガラス容器にガラスビ
ーズと共に入れ、ペイントシェーカー(東洋精機製作所
製)で60分間分散した後、ガラスビーズを濾別して感
光層分散液とした。<Preparation of Electrophotographic Photoreceptor> 2 g of X-type metal-free phthalocyanine (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 14.4 g of the following binder resin (P-1), and the following binder resin (P-2) 3 .
A mixture of 6 g, 0.15 g of the following compound (A) and 80 g of cyclohexanone was put in a 500 ml glass container together with glass beads and dispersed with a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) for 60 minutes, and then the glass beads were separated by filtration to disperse the photosensitive layer. It was a liquid.
【0150】[0150]
【化6】 [Chemical 6]
【0151】次いでこの分散液を脱脂処理を施した0.
2mm厚のアルミニウム板の上にワイヤーバーで塗布し、
指触乾燥した後、110℃の循環式オーブンで20秒間
加熱した。得られた感光層の膜厚は8μmであった。Next, this dispersion was degreased to a density of 0.
Apply on a 2mm thick aluminum plate with a wire bar,
After being dried by touch, it was heated in a circulating oven at 110 ° C. for 20 seconds. The film thickness of the obtained photosensitive layer was 8 μm.
【0152】上記の様にして作成した電子写真感光体
を、暗所にて、コロナ帯電して表面電位を+450Vに
帯電したのち、あらかじめ原稿からカラースキャナーに
より読み取り、色分解し、システム特有の幾つかの色再
現に関わる補正を加えた後、デジタル画像データーとし
てシステム内のハードティスクに記憶させてあった情報
をもとに、露光装置として半導体レーザー描画装置を用
いて788mmの光で、ビームスポット径を15μmと
し、ピッチ10μm及びスキャン速度300cm/秒のス
ピードで露光した(即ち、2500dpi)。この時の
感光体上の露光量が25erg/cm2になるように露光し
た。The electrophotographic photosensitive member prepared as described above was corona-charged in the dark to have a surface potential of +450 V, which was then read from a document by a color scanner in advance and color-separated. After making corrections related to color reproduction, using a semiconductor laser drawing device as an exposure device, a beam of 788 mm was obtained based on the information stored in the hard disk in the system as digital image data. Exposure was performed with a spot diameter of 15 μm and a pitch of 10 μm and a scan speed of 300 cm / sec (that is, 2500 dpi). Exposure was performed so that the exposure amount on the photoconductor at this time was 25 erg / cm 2 .
【0153】続いて下記内容の液体現像剤を用いて現像
し、ついでアイソパーG単独浴中でリンスをして非画像
部の汚れを除いてから、感光体表面温度が50℃となる
温風でアイソパーGの残量が10mg/トナー1gとなる
ように乾燥した。更に続けて、この感光体にコロナ帯電
器で−6KVのプリチャージをかけ、この感光体の画像
面を前記の平版印刷用原版と重ね、電子写真感光体側か
らマイナスのコロナ放電をかけ転写した。Subsequently, development was carried out using a liquid developer having the following contents, followed by rinsing in a bath of Isopar G alone to remove stains on the non-image area, and then with warm air at a surface temperature of the photoconductor of 50 ° C. It was dried so that the remaining amount of Isopar G was 10 mg / g of toner. Subsequently, this photoreceptor was precharged with a corona charger at -6 KV, the image surface of this photoreceptor was superposed on the above-mentioned lithographic printing plate precursor, and negative corona discharge was applied from the electrophotographic photoreceptor side to transfer.
【0154】<液体現像剤>ニーダーに下記の組成の成
分を混合し95℃で2時間混練し、混合物を得た。この
混合物をニーダー内で冷却した後、同じニーダー内で粉
砕した。この粉砕物1質量部とアイソパーH4質量部を
ペイントシェーカーで6時間分散し分散物を得た。この
分散物をトナー固形分が1リットル当たり1gとなる
様、アイソパーGで希釈し、同時にマイナス荷電性を付
与する荷電調節剤として塩基性バリウムペトローネを1
リットル当たり0.1g含む様にして液体現像剤を作製
した。<Liquid Developer> The components having the following composition were mixed in a kneader and kneaded at 95 ° C. for 2 hours to obtain a mixture. The mixture was cooled in a kneader and then ground in the same kneader. 1 part by mass of this pulverized product and 4 parts by mass of Isopar H were dispersed for 6 hours with a paint shaker to obtain a dispersion. This dispersion is diluted with Isopar G so that the solid content of the toner is 1 g per liter, and at the same time 1 barium petrone is used as a charge control agent that imparts negative chargeability.
A liquid developer was prepared so as to contain 0.1 g per liter.
【0155】 (混練用組成) エチレン・メタクリル酸共重合体 4質量郡 (三井デュポン社製、ニュクレルN−699) カーボンブラック#30(三菱化成(株)製) 1質量部 アイソパーL(エクソン社製) 15質量部[0155] (Composition for kneading) Ethylene / methacrylic acid copolymer 4 mass group (Nucrel N-699 manufactured by Mitsui DuPont) Carbon black # 30 (manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 1 part by mass Isopar L (manufactured by Exxon) 15 parts by mass
【0156】画像形成された平版印刷用原版を温度10
0℃、30秒間加熱しトナー画像部を完全定着した。得
られた製版物の描画画像を光学顕微鏡により、200倍
の倍率で観察して評価した。細線・細文字等の滲みや欠
落のない鮮明な画像であった。The lithographic printing plate precursor on which the image was formed was heated at a temperature of 10
The toner image area was completely fixed by heating at 0 ° C. for 30 seconds. The drawn image of the obtained plate-making product was observed and evaluated with an optical microscope at a magnification of 200 times. It was a clear image with no blurring or loss of fine lines or characters.
【0157】次に、上記の様にして作成した印刷版を、
印刷機として、オリバー94型((株)桜井製作所製)
を用い、湿し水として、SLM−OD(三菱製紙(株)
製)を蒸留水で100倍に希釈した溶液を、湿し水受皿
部に入れ、オフセット印刷用ワニス入り紅インキを用い
て印刷を行なった。印刷10枚目の印刷物の印刷画像を
20倍のルーぺを用い目視評価した所、非画像部の印刷
インク付着による地汚れは見られず、又ベタ画像部の均
一性は良好であった。更に200倍の光学顕微鏡観察で
も、細線・細文字の細り・欠落等は認められず良好な画
質であった。これと同等の印刷画質の印刷物が1000
0枚以上得られた。Next, the printing plate prepared as described above is
As a printing machine, Oliver 94 type (made by Sakurai Manufacturing Co., Ltd.)
SLM-OD (Mitsubishi Paper Mills, Ltd.)
Solution) was diluted 100 times with distilled water, placed in a dampening water pan, and printing was performed using a red ink containing a varnish for offset printing. When the printed image of the 10th printed matter was visually evaluated using a magnifying glass of 20 times, no background stain was observed due to the adhesion of printing ink to the non-image area, and the uniformity of the solid image area was good. Further, even when observed with an optical microscope at a magnification of 200 times, fine lines, thinning of fine characters, missing, etc. were not recognized, and the image quality was good. 1000 prints with print quality equivalent to this
0 or more sheets were obtained.
【0158】実施例3
<耐水性支持体の作成>基体として秤量100g/m2の上
質紙を用い、基体の一方の面に下記組成のバック層用塗
料をワイヤーバーを用いて塗布して、乾燥塗布量12g/
m2のバック層を設けた後、バック層の平滑度が100
(sec/10ml)程度になるようにカレンダー処理を行っ
た。Example 3 <Preparation of Water-Resistant Support> A high-quality paper weighing 100 g / m 2 was used as a substrate, and a back layer coating composition having the following composition was applied to one surface of the substrate using a wire bar. Dry coating amount 12g /
After providing the back layer of m 2, the back layer has a smoothness of 100.
The calendar process was performed so that it was about (sec / 10 ml).
【0159】 (バックコート層用塗料) ・カオリン(50%水分散液) 200部 ・ポリビニルアルコール水溶液(10%) 60部 ・SBRラテックス(固形分50%、Tg:0℃) 100部 ・メラミン樹脂(固形分80%、スミレッツレジンSR−613) 5部[0159] (Paint for back coat layer) ・ Kaolin (50% aqueous dispersion) 200 parts ・ Polyvinyl alcohol aqueous solution (10%) 60 parts ・ SBR latex (solid content 50%, Tg: 0 ° C.) 100 parts ・ Melamine resin (solid content 80%, Sumirez resin SR-613) 5 parts
【0160】次いで、基体の他方の面に下記組成のアン
ダー層用塗料をワイヤーバーを用いて塗布して、乾燥塗
布量10g/m2のアンダー層を設けた後、アンダー層の平
滑度が1500(sec/10ml)程度になるようにカレン
ダー処理を行った。Next, an under layer coating composition having the following composition was applied to the other surface of the substrate using a wire bar to form an under layer having a dry coating amount of 10 g / m 2 , and then the under layer had a smoothness of 1500. The calendar process was performed so that it was about (sec / 10 ml).
【0161】 (アンダー層用塗料) ・カーボンブラック(30%水分散液) 5.4部 ・クレー(50%水分散液) 54.6部 ・SBRラテックス(固形分50%、Tg:25℃) 36部 ・メラミン樹脂(固形分80%、スミレッツレジンSR−613) 4部[0161] (Paint for under layer) ・ Carbon black (30% aqueous dispersion) 5.4 parts ・ Clay (50% aqueous dispersion) 54.6 parts ・ SBR latex (solid content 50%, Tg: 25 ° C.) 36 parts ・ Melamine resin (solid content 80%, Sumirez resin SR-613) 4 parts
【0162】上記の各成分を混合し、全体の固形分が2
5%となるように水を加えてアンダー層用塗料とした。The above components were mixed to give a total solid content of 2
Water was added so as to be 5% to obtain an under layer coating material.
【0163】得られたアンダー層の固有電気抵抗値は、
次の様にして測定した。アンダー層用塗料を、充分に脱
脂洗浄したステンレス板上に塗布し、乾燥塗布量10g/
m2の塗膜とした。得られたサンプルについて、その固有
電気抵抗値をJIS K−6911に基づきガード電極
を設けた3端子法で測定し、4×109Ω・cmという値
を得た。The specific electric resistance value of the obtained under layer is
It measured as follows. The under layer coating is applied to a stainless steel plate that has been thoroughly degreased and washed, and the dry coating amount is 10 g /
The coating film was m 2 . The specific electrical resistance of the obtained sample was measured by the three-terminal method with a guard electrode according to JIS K-6911 to obtain a value of 4 × 10 9 Ω · cm.
【0164】下記の組成物5を、ガラスビーズと共にペ
イントシェーカー(東洋精機(株))にて室温で10分
間分散した後、更に、組成物6を33g添加し、ペイン
トシェーカー(東洋精機(株))にて室温で1分間分散
した後、ガラスビーズを濾別して、分散物を得た。The following composition 5 was dispersed together with glass beads in a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) at room temperature for 10 minutes, and then 33 g of composition 6 was added, and a paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.) was added. )) At room temperature for 1 minute, and then the glass beads were filtered to obtain a dispersion.
【0165】 (組成物5) ・針状フィラー;ホウ酸アルミニウムウィスカーアルボレックスY(四国化成( 株)製、平均直径0.1μm、平均長さ20μm) 31g ・親水性ポリマー(例示化合物I−12)の5wt%水溶液 70g ・コロイダルシリカ20%水溶液;スノーテックスC(日産化学工業(株)) 60g[0165] (Composition 5) ・ Needle-shaped filler; Aluminum borate whiskers Arbolex Y (Shikoku Kasei ( Co., Ltd., average diameter 0.1 μm, average length 20 μm) 31 g 70 g of a 5 wt% aqueous solution of a hydrophilic polymer (Exemplary Compound I-12) ・ 20% colloidal silica aqueous solution; Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd.) 60 g
【0166】 (組成物6) ・テトラメトキシシラン 92g ・エタノール 163g ・水 163g ・硝酸 0.1g[0166] (Composition 6) ・ Tetramethoxysilane 92g ・ Ethanol 163g ・ Water 163g ・ Nitric acid 0.1g
【0167】上記の耐水性支持体上に、この分散物をワ
イヤーバーを用いて乾燥後の塗布量が6g/m2となる様に
塗布しオーブンで100℃、20分乾燥した後、平版印
刷用原版を作成した。This dispersion was coated on the above water-resistant support with a wire bar so that the coating amount after drying was 6 g / m 2 , dried in an oven at 100 ° C. for 20 minutes, and then subjected to lithographic printing. The original version was created.
【0168】<油性インク(IK−1)の作成>
(樹脂粒子の製造)ポリ(ドデシルメタクリレート)1
4g、酢酸ビニル100g、オクタデシルメタクリレー
ト4.0gおよびアイソパーHを286gの混合溶液
を、窒素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。重
合開始剤として2,2′−アゾビス(イソバレロニトリ
ル)(略称A.I.V.N.)を1.5g加え、4時間
反応した。更に、2,2′−アゾビス(イソブチロニト
リル)(略称A.I.B.N.)を0.8gを加えた
後、温度80℃に加温して2時間反応し、続けてA.
I.B.N.を0.6g加えて2時間反応した。その
後、温度を100℃に上げそのまま1時間攪拌し未反応
のモノマーを留去した。冷却後200メッシュのナイロ
ン布を通して得られた白色分散物は重合率93%で平均
粒径0.35μmのラテックスであった。粒径はCAP
A−500(堀場製作所(株)製)で測定した。<Preparation of Oil Ink (IK-1)> (Production of Resin Particles) Poly (dodecyl methacrylate) 1
A mixed solution of 4 g, 100 g of vinyl acetate, 4.0 g of octadecyl methacrylate and 286 g of Isopar H was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. As a polymerization initiator, 1.5 g of 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (abbreviation AIVN) was added and reacted for 4 hours. Furthermore, 0.8 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (abbreviation AIBN) was added, and then the mixture was heated to a temperature of 80 ° C. and reacted for 2 hours, and then A .
I. B. N. 0.6 g was added and reacted for 2 hours. Then, the temperature was raised to 100 ° C. and the mixture was stirred as it was for 1 hour to distill off unreacted monomers. After cooling, the white dispersion obtained through a 200-mesh nylon cloth was a latex having a polymerization rate of 93% and an average particle size of 0.35 μm. Particle size is CAP
It was measured with A-500 (manufactured by Horiba, Ltd.).
【0169】(インクの作成)ドデシルメタクリレート
/アクリル酸共重合体(共重合比:98/2質量比)1
0g、アルカリブルー10gおよびシェルゾール71、
30gをガラスビーズとともにペイントシェーカー(東
洋精機(株)製)に入れ、4時間分散し、アルカリブル
ーの微小な青色分散物を得た。上記の樹脂粒子50g
(固形分量として)、上記の青色分散物5g(固形分
量)および、ナフテン酸ジルコニウム0.06gをアイ
ソパーGの1リットルに希釈することにより青色油性イ
ンク(IK−1)を作成した。(Preparation of ink) Dodecyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization ratio: 98/2 mass ratio) 1
0 g, 10 g of alkali blue and Shersol 71,
30 g together with glass beads was placed in a paint shaker (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) and dispersed for 4 hours to obtain a fine blue dispersion of alkali blue. 50 g of the above resin particles
A blue oil-based ink (IK-1) was prepared by diluting 5 g (solid content) of the above-mentioned blue dispersion and 0.06 g of zirconium naphthenate into 1 liter of Isopar G (as solid content).
【0170】前記で得られた原版を用いて、パソコン出
力を描画できるグラフテック社製サーボ・プロターDA
8400を改造し、ペン・プロッター部に図2に示した
インク吐出ヘッドを装着し、1.5mmの間隔をおいた対
向電極上に設置された平版印刷用原版に上記油性インク
(IK−1)を用いて印字を行ない製版した。製版に際
しては、印刷用原版の画像受理層直下に設けられたアン
ダー層と対向電極を、銀ぺーストを用いて電気的に接続
した。Servo plotter DA manufactured by Graphtec Co., Ltd. capable of drawing a personal computer output using the original plate obtained above.
8400 is modified, the ink discharge head shown in FIG. 2 is attached to the pen plotter, and the above oil-based ink (IK-1) is applied to the lithographic printing plate precursor that is installed on the counter electrode with a gap of 1.5 mm. Was used to make a plate. At the time of plate making, the under layer provided directly below the image receiving layer of the printing original plate and the counter electrode were electrically connected using a silver paste.
【0171】製版された版を、版面温度が70℃となる
様に調整したリコーフュザー(リコー(株)製)で10
秒間加熱しインク画像を定着した。得られた製版物の画
像を光学顕微鏡により、200倍の倍率で観察して評価
した。細線・細文字等の滲みや欠落のない鮮明な画像で
あった。The plate-making plate was adjusted with a Ricoh Fuser (manufactured by Ricoh Co., Ltd.) to a plate surface temperature of 70 ° C.
The ink image was fixed by heating for 2 seconds. The image of the obtained plate-making product was observed and evaluated with an optical microscope at a magnification of 200 times. It was a clear image with no blurring or loss of fine lines or characters.
【0172】次に、上記の様にして作成した印刷版を、
印刷機として、オリバー94型((株)桜井製作所製)
を用い、湿し水として、EU−3(富士写真フイルム
(株)製)を蒸留水で100倍に希釈した溶液を、湿し
水受け皿部に入れ、オフセット印刷用ワニス入り紅イン
キを用いて印刷を行なった。印刷10枚目の印刷物の印
刷画像を20倍のルーぺを用いて目視評価した所、非画
像部の印刷インク付着による地汚れは見られず、又ベタ
画像部の均一性は良好であった。更に200倍の光学顕
微鏡観察でも、細線・細文字の細り・欠落等は認められ
ず、良好な画質であった。これと同等の印刷画質の印刷
物が10000枚以上得られた。Next, the printing plate prepared as described above is
As a printing machine, Oliver 94 type (made by Sakurai Manufacturing Co., Ltd.)
As a dampening water, a solution prepared by diluting EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 100 times with distilled water was placed in a dampening water saucer part, and a red ink containing a varnish for offset printing was used. Printing was done. When the printed image of the 10th printed sheet was visually evaluated using a magnifying glass of 20 times, no background stain was found due to the adhesion of the printing ink in the non-image area, and the uniformity of the solid image area was good. . Further, even when observed with an optical microscope at a magnification of 200 times, fine lines, thin characters, thinning, and the like were not observed, and the image quality was good. 10000 or more prints with print quality equivalent to this were obtained.
【0173】実施例4〜9
実施例3において、親水性ポリマー(例示化合物I−1
2)の代わりに、下記表1の化合物を用いたほかは、実
施例3と同様にして平版印刷用原版を作成した。Examples 4 to 9 In Example 3, the hydrophilic polymer (Exemplified Compound I-1
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 3 except that the compounds shown in Table 1 below were used instead of 2).
【0174】[0174]
【表1】 [Table 1]
【0175】得られた各原版の表面のベック平滑度は8
00〜1200(sec/10cc)の範囲内で、水との接触
角は5度以下であった。実施例3と同様にして製版して
印刷版とし、印刷を行なった所、得られた印刷物はいず
れも実施例3の印刷物と同様に、非画像部の汚れの無い
鮮明な画質のものであり、耐刷性も10000枚以上と
良好であった。The Beck smoothness of the surface of each obtained original plate is 8
Within the range of 00 to 1200 (sec / 10cc), the contact angle with water was 5 degrees or less. When a printing plate was prepared by making a plate in the same manner as in Example 3, and printing was performed, all of the obtained prints had clear image quality with no stains on the non-image areas, as with the prints of Example 3. The printing durability was as good as 10,000 sheets or more.
【0176】実施例10
実施例3で作成した平版印刷用原版を用い、「ソリッド
インクジェットプレートメーカー SJ120(日立工機
(株))」として市販されている、ソリッドインクを用
いたインクジェット製版機を用い製版した。Example 10 Using the lithographic printing plate precursor prepared in Example 3, an ink jet plate making machine using solid ink, which is commercially available as "SJ120 (Hitachi Koki Co., Ltd.)", is used. I made a plate.
【0177】得られた製版物の複写画像を20倍のルー
ペを用いて目視評価した所、製版画質は良好であった。
即ち、ソリッドインクジェット製版機から得られた本発
明の製版物は、細線、細文字の欠落がなく、ベタ部も均
一で、且つ非画像部も、インクの飛散による地カブリも
なく良好なものであった。When the copied image of the obtained plate-making product was visually evaluated using a 20-fold loupe, the plate-making image quality was good.
That is, the plate-making product of the present invention obtained from the solid inkjet plate-making machine is a fine line, there is no loss of fine characters, the solid part is uniform, and the non-image part is good without background fog due to ink scattering. there were.
【0178】次に平版印刷用原版を、上記と同一の操作
で製版した後、全自動印刷機AM−2850(エーエム
社(株)制)を用いて、湿し水として、PS版用処理剤E
U−3(富士写真フイルム(株)製)を蒸留水で50倍
に希釈した溶液を、湿し水受皿部に入れ、オフセット印
刷用ワニス入り紅インキを用いて印刷を行った。印刷1
0枚目の印刷物の印刷画像(地カブリ、画像部のベタ均
一性)を20倍のルーペを用いて目視評価した所、極め
て良好なものであった。更に、細線、細文字の欠落及び
ベタ部のムラのない画像を有し、非画像部のインキ汚れ
もない良好な印刷物が10000枚以上得られた。本発
明の原版は良好な印刷物を多数枚得ることができる。Next, after making the lithographic printing plate precursor by the same operation as described above, using a fully automatic printing machine AM-2850 (manufactured by AM Co.), as a fountain solution, a PS plate treating agent was prepared. E
A solution obtained by diluting U-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 50 times with distilled water was put in a dampening water tray part, and printing was performed using a red ink containing a varnish for offset printing. Print 1
When the printed image of the 0th printed matter (background fog, solid uniformity of image area) was visually evaluated using a 20 times magnifying glass, it was extremely good. Further, 10000 or more good printed matters were obtained which had an image without fine lines, missing fine characters and uneven solid areas, and had no ink stains on non-image areas. The original plate of the present invention can produce a large number of good printed matter.
【0179】[0179]
【発明の効果】本発明の平版印刷用原版を用いれば、全
面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れも発生させない
優れた画像を得ることができる。更に、画像の欠落・歪
み等のない鮮明な画像の印刷物を多数枚印刷することが
可能となる。By using the lithographic printing plate precursor of the present invention, it is possible to obtain an excellent image that does not cause spot stains as well as uniform stains on the entire surface. Furthermore, it is possible to print a large number of printed matter with clear images without image loss or distortion.
【図1】本発明の平版印刷用原版への画像形成に用いる
装置系の一例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an apparatus system used for forming an image on a lithographic printing plate precursor according to the invention.
【図2】本発明の平版印刷用原版への画像形成に用いる
インクジェット記録装置の要部を示す概略構成図であ
る。FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a main part of an inkjet recording apparatus used for forming an image on a lithographic printing plate precursor according to the invention.
【図3】本発明の平版印刷用原版への画像形成に用いる
インクジェット記録装置のヘッドの部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a head of an inkjet recording apparatus used for forming an image on a lithographic printing plate precursor according to the invention.
1 インクジェット記録装置 2 平版印刷用原版(マスター) 3 コンピューター 4 バス 10 ヘッド 10a 吐出スリット 10b 吐出電極 10c 対向電極 11 油性インク 101 上部ユニット 102 下部ユニット 1 Inkjet recording device 2 Master plate for lithographic printing 3 computer 4 bus 10 heads 10a discharge slit 10b Discharge electrode 10c counter electrode 11 oil-based ink 101 Upper unit 102 Lower unit
フロントページの続き Fターム(参考) 2H114 AA04 AA27 BA10 DA41 DA64 DA71 DA75 EA01 EA03 EA05 EA08 FA00 GA01 4J002 AB012 AB022 AB032 CB002 CF042 CF162 CP171 CQ031 DA026 DA036 DB016 DE076 DE086 DE096 DE106 DE136 DE146 DE186 DE236 DF016 DG046 DH046 DJ006 DJ016 DK006 DL006 FA072 FA076 FD012 FD016 GF00 4J031 AA15 AA17 AA19 AA22 AA26 AA59 AA60 AB01 AF10 AF28Continued front page F term (reference) 2H114 AA04 AA27 BA10 DA41 DA64 DA71 DA75 EA01 EA03 EA05 EA08 FA00 GA01 4J002 AB012 AB022 AB032 CB002 CF042 CF162 CP171 CQ031 DA026 DA036 DB016 DE076 DE086 DE096 DE106 DE136 DE146 DE186 DE236 DF016 DG046 DH046 DJ006 DJ016 DK006 DL006 FA072 FA076 FD012 FD016 GF00 4J031 AA15 AA17 AA19 AA22 AA26 AA59 AA60 AB01 AF10 AF28
Claims (5)
版印刷用原版において、該画像受理層が、針状フィラー
粒子、並びに、金属原子及び/又は半金属原子が酸素原
子を介して繋がった結合を含有する樹脂と下記一般式
(I)で示される高分子化合物との複合体を含んでなる
結着樹脂を含有することを特徴とする平版印刷用原版。 【化1】 〔式(I)中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立
に水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表し、mは
0、1又は2を表し、nは1〜8の整数を表す。Lは単
結合又は有機連結基を表し、Yは−NHCOR5、−C
ONH2、−CON(R5)2、−COR5、−OH、−C
O2M又は−SO3Mを表し、ここで、R5は炭素数1〜
8のアルキル基を表し、Mは水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属又はオニウムを表す。〕1. In a lithographic printing plate precursor having an image-receiving layer on a water-resistant support, the image-receiving layer has needle-like filler particles, and metal atoms and / or metalloid atoms are connected via oxygen atoms. A lithographic printing plate precursor comprising a binder resin comprising a complex of a resin containing a bond and a polymer compound represented by the following general formula (I). [Chemical 1] [In the formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, m represents 0, 1 or 2 and n is 1 ~ Represents an integer of 8. L represents a single bond or an organic linking group, Y represents —NHCOR 5 , —C
ONH 2, -CON (R 5) 2, -COR 5, -OH, -C
Represents O 2 M or —SO 3 M, wherein R 5 has 1 to 1 carbon atoms.
8 represents an alkyl group, M is a hydrogen atom, an alkali metal,
Represents an alkaline earth metal or onium. ]
下、平均長さ100μm以下であることを特徴とする請
求項1に記載の平版印刷用原版。2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the acicular filler particles have an average diameter of 3 μm or less and an average length of 100 μm or less.
ィラー量に対して25質量%以上含有することを特徴と
する請求項1又は2に記載の平版印刷用原版。3. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the acicular filler particles are contained in an amount of 25% by mass or more based on the total amount of the filler in the image receiving layer.
混合比が、結着樹脂/全フィラー=80/20〜5/9
5(質量比)であることを特徴とする請求項1〜3のい
ずれかに記載の平版印刷用原版。4. The mixing ratio of the binder resin and the total filler in the image receiving layer is such that the binder resin / the total filler = 80/20 to 5/9.
It is 5 (mass ratio), The lithographic printing plate precursor in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
子を介して繋がった結合を含有する樹脂が、下記一般式
(II)で示される少なくとも1種の化合物の加水分解共
縮合により得られるポリマーであることを特徴とする請
求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷用原版。 一般式(II) (R10)xM10(G)z-x 〔一般式(II)中、R10は水素原子、炭化水素基または
ヘテロ環基を表し、Gは反応性基を表し、M10は3〜6
価の金属又は半金属を表し、zはM10の価数を表し、x
は0、1、2、3または4を表す。但し、z−xは2以
上である。〕5. A resin containing a bond in which a metal atom and / or a semimetal atom are connected via an oxygen atom is obtained by hydrolysis co-condensation of at least one compound represented by the following general formula (II). A lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, which is a polymer. General formula (II) (R 10 ) x M 10 (G) zx [In the general formula (II), R 10 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group, G represents a reactive group, and M 10 Is 3-6
Represents a valent metal or metalloid, z represents the valence of M 10 , and x
Represents 0, 1, 2, 3 or 4. However, z−x is 2 or more. ]
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001317102A JP2003118253A (en) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | Lithographic printing original plate |
EP02023001A EP1302312B1 (en) | 2001-10-15 | 2002-10-15 | Lithographic printing plate precursor |
DE2002608288 DE60208288T2 (en) | 2001-10-15 | 2002-10-15 | Lithographic printing plate precursor |
US10/269,938 US6815075B2 (en) | 2001-10-15 | 2002-10-15 | Lithographic printing plate precursor |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP2003118253A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008505832A (en) * | 2004-07-06 | 2008-02-28 | ナノプロプリエタリー,インコーポレイテッド | Activation of carbon nanotubes for field emission applications |
-
2001
- 2001-10-15 JP JP2001317102A patent/JP2003118253A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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