JP2003105561A - 装飾部材 - Google Patents
装飾部材Info
- Publication number
- JP2003105561A JP2003105561A JP2001296285A JP2001296285A JP2003105561A JP 2003105561 A JP2003105561 A JP 2003105561A JP 2001296285 A JP2001296285 A JP 2001296285A JP 2001296285 A JP2001296285 A JP 2001296285A JP 2003105561 A JP2003105561 A JP 2003105561A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- layer
- gold
- decorative member
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 90
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 70
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 23
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 claims 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 abstract description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- -1 titanium oxide compound Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
- C23C28/3455—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Adornments (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材まで溶解してしまうことがない装飾部材
を提供すること。 【解決手段】 基材１にチタンを用い、チタン層２、金
もしくは金合金層３、および、有色チタン化合物層４を
形成する。洗浄した基材をイオンプレーティング処理装
置内に取り付け、チャンバ内を真空排気する。アルゴン
ガスをチャンバ内に導入し、電子ビームによりチタンを
融解・気化させる。気化したチタンが基材１上に堆積
し、０．３〜０．５μｍのチタン層２を形成する。金を
タングステンボートによる抵抗加熱および電子ビームに
より融解・気化させ、気化した金をチタン層２に堆積さ
せることにより０．１〜０．２μｍの金層３を形成す
る。チャンバ内へのアルゴンガスの導入を停止し、これ
に代わって、チャンバ内に酸素ガスを導入する。電子ビ
ームによりチタンを融解・気化させ、ＡＲＥ法により酸
化チタンを生成し、０．３〜０．５μｍの酸化チタンか
らなる有色チタン化合物層４を形成する。
を提供すること。 【解決手段】 基材１にチタンを用い、チタン層２、金
もしくは金合金層３、および、有色チタン化合物層４を
形成する。洗浄した基材をイオンプレーティング処理装
置内に取り付け、チャンバ内を真空排気する。アルゴン
ガスをチャンバ内に導入し、電子ビームによりチタンを
融解・気化させる。気化したチタンが基材１上に堆積
し、０．３〜０．５μｍのチタン層２を形成する。金を
タングステンボートによる抵抗加熱および電子ビームに
より融解・気化させ、気化した金をチタン層２に堆積さ
せることにより０．１〜０．２μｍの金層３を形成す
る。チャンバ内へのアルゴンガスの導入を停止し、これ
に代わって、チャンバ内に酸素ガスを導入する。電子ビ
ームによりチタンを融解・気化させ、ＡＲＥ法により酸
化チタンを生成し、０．３〜０．５μｍの酸化チタンか
らなる有色チタン化合物層４を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、装飾部材に関す
る。さらに詳しくは、時計ケース、バンド、指輪、ネッ
クレス、眼鏡、ブレスレット、ドアノブ、取手、筆記用
具等の最外層に有色被膜を有する装飾品に関する。
る。さらに詳しくは、時計ケース、バンド、指輪、ネッ
クレス、眼鏡、ブレスレット、ドアノブ、取手、筆記用
具等の最外層に有色被膜を有する装飾品に関する。
【０００２】
【従来の技術】時計、宝飾品等に用いられる装飾部材
は、金属からなる基材の表面に金（Ａｕ）合金をはじめ
とする金属層や、チタン（Ｔｉ）化合物をはじめとする
有色化合物層等の修飾層を形成して美麗な外観とするこ
とが広く行われている。
は、金属からなる基材の表面に金（Ａｕ）合金をはじめ
とする金属層や、チタン（Ｔｉ）化合物をはじめとする
有色化合物層等の修飾層を形成して美麗な外観とするこ
とが広く行われている。
【０００３】従来、このような装飾部材にあって、基材
上に部分選択的に前記修飾層を形成する際には、基材の
全面に修飾層を形成し、マスキング材によりパターンニ
ングした後、修飾層を剥離液により溶解除去するといっ
た工程により製造されている。ここで、剥離液として、
基材とは反応せず、修飾層のみを溶解する溶液系が選択
されている。
上に部分選択的に前記修飾層を形成する際には、基材の
全面に修飾層を形成し、マスキング材によりパターンニ
ングした後、修飾層を剥離液により溶解除去するといっ
た工程により製造されている。ここで、剥離液として、
基材とは反応せず、修飾層のみを溶解する溶液系が選択
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、基材としてチ
タン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金を用い、修飾
層として酸化チタン（ＴｉＯｘ）系化合物を用いる場合
には、剥離剤としてフッ化物系溶液を用いるために、修
飾層のみならず、基材まで溶解してしまい外面にくもり
や肌荒れが生じていた。
タン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金を用い、修飾
層として酸化チタン（ＴｉＯｘ）系化合物を用いる場合
には、剥離剤としてフッ化物系溶液を用いるために、修
飾層のみならず、基材まで溶解してしまい外面にくもり
や肌荒れが生じていた。
【０００５】このため、後加工として再研摩が必要にな
りコストが高くなったり、基材の形状によっては再研磨
がきわめて困難になり、製品化できない場合もあった。
りコストが高くなったり、基材の形状によっては再研磨
がきわめて困難になり、製品化できない場合もあった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る装飾部材
は、チタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金からな
る基材上に、チタン（Ｔｉ）層を有し、金（Ａｕ）もし
くは金（Ａｕ）合金層と有色チタン化合物層をこの順に
部分選択的に備えてなることを特徴とする。
は、チタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金からな
る基材上に、チタン（Ｔｉ）層を有し、金（Ａｕ）もし
くは金（Ａｕ）合金層と有色チタン化合物層をこの順に
部分選択的に備えてなることを特徴とする。
【０００７】また、本発明に係る装飾部材は、前記有色
チタン化合物層が、０．１μｍないし３．０μｍの厚さ
であることを特徴とする。
チタン化合物層が、０．１μｍないし３．０μｍの厚さ
であることを特徴とする。
【０００８】また、本発明に係る装飾部材は、前記有色
チタン化合物層が、チタンと酸素の化合物（ＴｉＯｘ、
０．５≦ｘ≦２）、チタン、酸素及び炭素の化合物（Ｔ
ｉＯｘＣｙ、０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｙ≦０．
５）、チタン、酸素及び窒素の化合物（ＴｉＯｘＮｚ、
０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｚ≦０．５）、チタン、酸
素、炭素及び窒素の化合物（ＴｉＯｘＣｙＮｚ、０．５
≦ｘ≦２、０．０５≦ｙ≦０．５、０．０５≦ｚ≦０．
５）から選択される少なくとも１種の化合物、及び、不
可避成分からなることを特徴とする。
チタン化合物層が、チタンと酸素の化合物（ＴｉＯｘ、
０．５≦ｘ≦２）、チタン、酸素及び炭素の化合物（Ｔ
ｉＯｘＣｙ、０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｙ≦０．
５）、チタン、酸素及び窒素の化合物（ＴｉＯｘＮｚ、
０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｚ≦０．５）、チタン、酸
素、炭素及び窒素の化合物（ＴｉＯｘＣｙＮｚ、０．５
≦ｘ≦２、０．０５≦ｙ≦０．５、０．０５≦ｚ≦０．
５）から選択される少なくとも１種の化合物、及び、不
可避成分からなることを特徴とする。
【０００９】また、本発明に係る装飾部材は、前記金
（Ａｕ）もしくは前記金（Ａｕ）合金層が、０．０５μ
ｍないし０．５μｍの厚さであることを特徴とする。
（Ａｕ）もしくは前記金（Ａｕ）合金層が、０．０５μ
ｍないし０．５μｍの厚さであることを特徴とする。
【００１０】また、本発明に係る装飾部材は、前記金
（Ａｕ）合金層が、金（Ａｕ）と、銀（Ａｇ）、アルミ
ニウム（Ａｌ)、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔ
ｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、インジウム（Ｉｎ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群から選ばれる
少なくとも1種の元素からなり、かつ、金（Ａｕ）を７
５ｗｔ％ないし９９．５ｗｔ％の割合で含有する合金か
らなることを特徴とする。
（Ａｕ）合金層が、金（Ａｕ）と、銀（Ａｇ）、アルミ
ニウム（Ａｌ)、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔ
ｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、インジウム（Ｉｎ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群から選ばれる
少なくとも1種の元素からなり、かつ、金（Ａｕ）を７
５ｗｔ％ないし９９．５ｗｔ％の割合で含有する合金か
らなることを特徴とする。
【００１１】また、本発明に係る装飾部材は、前記チタ
ン（Ｔｉ）層が０．１ないし１．０μｍの厚さであるこ
とを特徴とする。
ン（Ｔｉ）層が０．１ないし１．０μｍの厚さであるこ
とを特徴とする。
【００１２】そして、本発明に係る装飾部材は、前記有
色チタン化合物層が傾斜組成を有してなることを特徴と
する。
色チタン化合物層が傾斜組成を有してなることを特徴と
する。
【００１３】
【実施の態様】（実施例１）以下、本発明の実施の形態
を、図面を参照しつつ具体的に説明する。
を、図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００１４】図１は、本発明の装飾部材の一の実施の形
態を模式的に示す断面図である。１はチタン（Ｔｉ）も
しくはチタン（Ｔｉ）合金からなる基材、２はチタン
（Ｔｉ）層、３は金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金
層、４は有色チタン化合物層である。
態を模式的に示す断面図である。１はチタン（Ｔｉ）も
しくはチタン（Ｔｉ）合金からなる基材、２はチタン
（Ｔｉ）層、３は金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金
層、４は有色チタン化合物層である。
【００１５】基材１としてＪＩＳ２種のチタン（Ｔｉ）
を用いた。チタン（Ｔｉ）層２、金（Ａｕ）もしくは金
（Ａｕ）合金層３、および、有色チタン化合物層４を形
成する手順を以下に述べる。但し、ここに示す処理条件
は装置依存性があり、装置により異なるものである。ま
ず、洗浄した基材をイオンプレーティング処理装置内に
取り付け、チャンバ内を１×１０-4Ｔｏｒｒまで真空排
気した。引き続き、チャンバ内にアルゴンガスを４３０
ｃｃｍ導入し、基材に４５０Ｖのバイアス電圧を印加す
ることによりＤＣボンバードを５分間行った。この後、
再び１×１０-4Ｔｏｒｒまで真空排気した。ついで、ア
ルゴン（Ａｒ）ガス（Ａｒ）をチャンバ内に導入するこ
とによりチャンバ内を２×１０-4Ｔｏｒｒに保ち、電子
ビームによりチタン（Ｔｉ）を融解・気化させた。気化
したチタン（Ｔｉ）が基材１上に堆積し、０．３〜０．
５μｍのチタン（Ｔｉ）層２が形成された。続いて、金
（Ａｕ）をタングステンボートによる抵抗加熱および電
子ビームにより融解・気化させ、気化した金（Ａｕ）を
チタン（Ｔｉ）層２に堆積させることにより０．１〜
０．２μｍの金（Ａｕ）層３を形成した。引き続き、チ
ャンバ内へのアルゴン（Ａｒ）ガスの導入を停止し、こ
れに代わって、チャンバ内に酸素（Ｏ）ガスを導入し
た。８×１０-4Ｔｏｒｒの圧力下で、電子ビームにより
チタン（Ｔｉ）を融解・気化させ、ＡＲＥ法により酸化
チタンを生成し、０．３〜０．５μｍの酸化チタン（Ｔ
ｉＯｘ）からなる有色チタン化合物層４を形成した。
を用いた。チタン（Ｔｉ）層２、金（Ａｕ）もしくは金
（Ａｕ）合金層３、および、有色チタン化合物層４を形
成する手順を以下に述べる。但し、ここに示す処理条件
は装置依存性があり、装置により異なるものである。ま
ず、洗浄した基材をイオンプレーティング処理装置内に
取り付け、チャンバ内を１×１０-4Ｔｏｒｒまで真空排
気した。引き続き、チャンバ内にアルゴンガスを４３０
ｃｃｍ導入し、基材に４５０Ｖのバイアス電圧を印加す
ることによりＤＣボンバードを５分間行った。この後、
再び１×１０-4Ｔｏｒｒまで真空排気した。ついで、ア
ルゴン（Ａｒ）ガス（Ａｒ）をチャンバ内に導入するこ
とによりチャンバ内を２×１０-4Ｔｏｒｒに保ち、電子
ビームによりチタン（Ｔｉ）を融解・気化させた。気化
したチタン（Ｔｉ）が基材１上に堆積し、０．３〜０．
５μｍのチタン（Ｔｉ）層２が形成された。続いて、金
（Ａｕ）をタングステンボートによる抵抗加熱および電
子ビームにより融解・気化させ、気化した金（Ａｕ）を
チタン（Ｔｉ）層２に堆積させることにより０．１〜
０．２μｍの金（Ａｕ）層３を形成した。引き続き、チ
ャンバ内へのアルゴン（Ａｒ）ガスの導入を停止し、こ
れに代わって、チャンバ内に酸素（Ｏ）ガスを導入し
た。８×１０-4Ｔｏｒｒの圧力下で、電子ビームにより
チタン（Ｔｉ）を融解・気化させ、ＡＲＥ法により酸化
チタンを生成し、０．３〜０．５μｍの酸化チタン（Ｔ
ｉＯｘ）からなる有色チタン化合物層４を形成した。
【００１６】こうして得られた装飾部材の表面に部分的
にレジスト層を形成し、次いで、フッ酸と硝酸の混酸中
に装飾部材を浸漬してレジスト層形成範囲外の有色チタ
ン化合物層４を溶解した。引き続き、シアン系の金剥離
液に装飾部材を浸漬してレジスト層形成範囲外の金（Ａ
ｕ）層３を溶解した。この後、有機系のレジスト剥離液
で、レジスト層を除去し、チタン（Ｔｉ）層２に、金
（Ａｕ）層３と有色チタン化合物層４が部分的に形成さ
れている装飾部材を製造した。
にレジスト層を形成し、次いで、フッ酸と硝酸の混酸中
に装飾部材を浸漬してレジスト層形成範囲外の有色チタ
ン化合物層４を溶解した。引き続き、シアン系の金剥離
液に装飾部材を浸漬してレジスト層形成範囲外の金（Ａ
ｕ）層３を溶解した。この後、有機系のレジスト剥離液
で、レジスト層を除去し、チタン（Ｔｉ）層２に、金
（Ａｕ）層３と有色チタン化合物層４が部分的に形成さ
れている装飾部材を製造した。
【００１７】本発明により得られた皮膜の密着性試験を
実施した。１８０°の折曲げ試験、クロスカット試験、
２００℃に加熱した装飾部材を水中に投入することで急
冷する熱衝撃試験において皮膜の剥離等の密着不良の発
生はみられなかった。これは、実用上十分な密着性であ
る。
実施した。１８０°の折曲げ試験、クロスカット試験、
２００℃に加熱した装飾部材を水中に投入することで急
冷する熱衝撃試験において皮膜の剥離等の密着不良の発
生はみられなかった。これは、実用上十分な密着性であ
る。
【００１８】本実施例では、基材１としてＪＩＳ２種の
チタン（Ｔｉ）を用いたが、チタン（Ｔｉ）−鉄（Ｆ
ｅ）合金、チタン（Ｔｉ）−アルミ（Ａｌ）−バナジウ
ム（Ｖ）合金を用いても可能である。また、実施例で
は、金（Ａｕ）層として純金（Ａｕ）を用いたが、金
（Ａｕ）と、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ)、銅
（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム
（Ｐｄ）、インジウム（Ｉｎ）、白金（Ｐｔ）及びロジ
ウム（Ｒｈ）からなる群から選ばれる少なくとも1種の
元素からなる金（Ａｕ）合金を用いることもできる。さ
らに、皮膜の形成方法として、実施例ではイオンプレー
ティング法を用いたが、スパッタリング法、マルチアー
ク法などのＰＶＤ法やＣＶＤ法を用いることが可能であ
る。
チタン（Ｔｉ）を用いたが、チタン（Ｔｉ）−鉄（Ｆ
ｅ）合金、チタン（Ｔｉ）−アルミ（Ａｌ）−バナジウ
ム（Ｖ）合金を用いても可能である。また、実施例で
は、金（Ａｕ）層として純金（Ａｕ）を用いたが、金
（Ａｕ）と、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ)、銅
（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム
（Ｐｄ）、インジウム（Ｉｎ）、白金（Ｐｔ）及びロジ
ウム（Ｒｈ）からなる群から選ばれる少なくとも1種の
元素からなる金（Ａｕ）合金を用いることもできる。さ
らに、皮膜の形成方法として、実施例ではイオンプレー
ティング法を用いたが、スパッタリング法、マルチアー
ク法などのＰＶＤ法やＣＶＤ法を用いることが可能であ
る。
【００１９】（実施例２）実施例１と同様に、チタン
（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金からなる基材１上
にチタン（Ｔｉ）層２、金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）
合金層３を形成した後に、電子ビームによりチタン（Ｔ
ｉ）を融解・気化させ、アルゴン（Ａｒ）ガスの導入量
を徐々に減少させると同時に、酸素（Ｏ）ガス、炭素
（Ｃ）ガス、窒素（Ｎ）ガスを徐々に導入した。最終的
な各々のガスの流量は酸素（Ｏ）ガスを２２０ＣＣＭ、
炭素（Ｃ）ガスを５ＣＣＭ、窒素（Ｎ）ガスを２５ＣＣ
Ｍとし、アルゴン（Ａｒ）ガスの流量を調整することに
より、チャンバ内を８×１０-4Ｔｏｒｒに保った。この
後、実施例１と同様の工程により、チタン（Ｔｉ）層２
に、金（Ａｕ）層３と有色チタン化合物層４が部分的に
形成されている装飾部材を製造した。
（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金からなる基材１上
にチタン（Ｔｉ）層２、金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）
合金層３を形成した後に、電子ビームによりチタン（Ｔ
ｉ）を融解・気化させ、アルゴン（Ａｒ）ガスの導入量
を徐々に減少させると同時に、酸素（Ｏ）ガス、炭素
（Ｃ）ガス、窒素（Ｎ）ガスを徐々に導入した。最終的
な各々のガスの流量は酸素（Ｏ）ガスを２２０ＣＣＭ、
炭素（Ｃ）ガスを５ＣＣＭ、窒素（Ｎ）ガスを２５ＣＣ
Ｍとし、アルゴン（Ａｒ）ガスの流量を調整することに
より、チャンバ内を８×１０-4Ｔｏｒｒに保った。この
後、実施例１と同様の工程により、チタン（Ｔｉ）層２
に、金（Ａｕ）層３と有色チタン化合物層４が部分的に
形成されている装飾部材を製造した。
【００２０】本実施例により得られた皮膜の密着性試験
を実施した。１８０°の折曲げ試験、クロスカット試
験、２００℃に加熱した装飾部材を水中に投入すること
で急冷する熱衝撃試験において皮膜の剥離等の密着不良
の発生はみられなかった。これは、実用上十分な密着性
である。
を実施した。１８０°の折曲げ試験、クロスカット試
験、２００℃に加熱した装飾部材を水中に投入すること
で急冷する熱衝撃試験において皮膜の剥離等の密着不良
の発生はみられなかった。これは、実用上十分な密着性
である。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
基材としてチタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金
を用い、修飾層として酸化チタン系化合物を部分選択的
に形成した場合でも、剥離液によるくもり等を生じるこ
とがなく、美麗な外観を有し、しかもこれらの特性を低
コストで達成できる時計、宝飾品等の表面の装飾用とし
て好適な装飾部材を提供することができる。
基材としてチタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金
を用い、修飾層として酸化チタン系化合物を部分選択的
に形成した場合でも、剥離液によるくもり等を生じるこ
とがなく、美麗な外観を有し、しかもこれらの特性を低
コストで達成できる時計、宝飾品等の表面の装飾用とし
て好適な装飾部材を提供することができる。
【図１】本発明の装飾部材の一の実施の形態を模式的に
示す断面図である。
示す断面図である。
１：チタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）合金からな
る基材 ２：チタン（Ｔｉ）層 ３：金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金層 ４：有色チタン化合物層
る基材 ２：チタン（Ｔｉ）層 ３：金（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金層 ４：有色チタン化合物層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０４Ｂ 37/22 Ｇ０４Ｂ 37/22 Ｎ
Ｆターム(参考） 3B114 AA02 AA04 AA06 BB09 JA07
JA09 JB05
4K029 AA02 BA05 BA17 BA22 BA41
BA48 BB02 BC07 BD06 EA01
4K044 AA06 AB06 BA02 BA08 BA12
BA18 BB04 BB10 BB16 BC09
CA13
Claims (7)
- 【請求項１】 チタン（Ｔｉ）もしくはチタン（Ｔｉ）
合金からなる基材上に、チタン（Ｔｉ）層を有し、金
（Ａｕ）もしくは金（Ａｕ）合金層と有色チタン化合物
層をこの順に部分選択的に備えてなることを特徴とする
装飾部材。 - 【請求項２】 前記有色チタン化合物層が、０．１μｍ
ないし３．０μｍの厚さである請求項１に記載の装飾部
材。 - 【請求項３】 前記有色チタン化合物層が、チタンと酸
素の化合物（ＴｉＯｘ、０．５≦ｘ≦２）、チタン、酸
素及び炭素の化合物（ＴｉＯｘＣｙ、０．５≦ｘ≦２、
０．０５≦ｙ≦０．５）、チタン、酸素及び窒素の化合
物（ＴｉＯｘＮｚ、０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｚ≦
０．５）、チタン、酸素、炭素及び窒素の化合物（Ｔｉ
ＯｘＣｙＮｚ、０．５≦ｘ≦２、０．０５≦ｙ≦０．
５、０．０５≦ｚ≦０．５）から選択される少なくとも
１種の化合物、及び、不可避成分からなる請求項１また
は２に記載の装飾部材。 - 【請求項４】 前記金（Ａｕ）もしくは前記金（Ａｕ）
合金層が、０．０５μｍないし０．５μｍの厚さである
請求項１乃至３のいずれかに記載の装飾部材。 - 【請求項５】 前記金（Ａｕ）合金層が、金（Ａｕ）
と、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ)、銅（Ｃｕ）、
鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、イ
ンジウム（Ｉｎ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）
からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素からな
り、かつ、金（Ａｕ）を７５ｗｔ％ないし９９．５ｗｔ
％の割合で含有する合金からなる請求項１乃至４のいず
れかに記載の装飾部材。 - 【請求項６】 前記チタン（Ｔｉ）層が０．１ないし
１．０μｍの厚さである請求項１乃至５のいずれかに記
載の装飾部材。 - 【請求項７】 前記有色チタン化合物層が傾斜組成を有
してなる請求項１乃至６のいずれかに記載の装飾部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001296285A JP4909477B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 装飾部材及び装飾部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001296285A JP4909477B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 装飾部材及び装飾部材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003105561A true JP2003105561A (ja) | 2003-04-09 |
| JP4909477B2 JP4909477B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=19117559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001296285A Expired - Lifetime JP4909477B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | 装飾部材及び装飾部材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4909477B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007182630A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-07-19 | Meian Kokusai Gigyo Kofun Yugenkoshi | 非金属材に多彩な金属光沢を与える方法及び多彩な金属光沢を有する非金属材 |
| JP2013019038A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 装飾用金属材料 |
| RU2567428C1 (ru) * | 2014-05-19 | 2015-11-10 | Общество с ограниченной ответственностью "ИННОВАТЕХПРОМ" ООО "ИННОВАТЕХПРОМ" | Защитно-декоративное покрытие изделия и способ его получения (варианты) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60138066A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-22 | Casio Comput Co Ltd | 時計用外装部品の表面処理方法 |
| JPS6213566A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-22 | Citizen Watch Co Ltd | 装身具の表面処理方法 |
| JPH02217460A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-08-30 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品の製造方法 |
| JPH07157869A (ja) * | 1993-12-08 | 1995-06-20 | Aomori Pref Gov | イオンプレーティング法による窒化チタン膜の被覆方法 |
| JPH083732A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-09 | Seiko Instr Inc | 金色装飾品の製造方法 |
-
2001
- 2001-09-27 JP JP2001296285A patent/JP4909477B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60138066A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-22 | Casio Comput Co Ltd | 時計用外装部品の表面処理方法 |
| JPS6213566A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-22 | Citizen Watch Co Ltd | 装身具の表面処理方法 |
| JPH02217460A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-08-30 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品の製造方法 |
| JPH07157869A (ja) * | 1993-12-08 | 1995-06-20 | Aomori Pref Gov | イオンプレーティング法による窒化チタン膜の被覆方法 |
| JPH083732A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-09 | Seiko Instr Inc | 金色装飾品の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007182630A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-07-19 | Meian Kokusai Gigyo Kofun Yugenkoshi | 非金属材に多彩な金属光沢を与える方法及び多彩な金属光沢を有する非金属材 |
| JP2013019038A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 装飾用金属材料 |
| RU2567428C1 (ru) * | 2014-05-19 | 2015-11-10 | Общество с ограниченной ответственностью "ИННОВАТЕХПРОМ" ООО "ИННОВАТЕХПРОМ" | Защитно-декоративное покрытие изделия и способ его получения (варианты) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4909477B2 (ja) | 2012-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20100110841A1 (en) | Process for manufacturing a ceramic element for a watch case and element obtained by this process | |
| US6299987B1 (en) | Golden decorative part | |
| JP2003105561A (ja) | 装飾部材 | |
| JPH09165670A (ja) | 透明保護膜を形成した構造体、およびその製造方法 | |
| KR940003691B1 (ko) | 장신구 | |
| JPS59190340A (ja) | 気相メツキ用金合金 | |
| JPH0813133A (ja) | 銀色外装部品 | |
| JP3601784B2 (ja) | 表面処理方法および装飾品 | |
| JPH0639684B2 (ja) | 金属表面加工方法 | |
| JPH05156425A (ja) | 装飾部材およびその製造方法 | |
| JP2985088B2 (ja) | 時計用外装部品の製造方法 | |
| JPH01244707A (ja) | 人工ダイヤモンドコートの金および金合金製装飾品 | |
| JP3179648B2 (ja) | 金色装飾部品およびその製造方法 | |
| JPS637365A (ja) | 装飾用外装部品及びその製造方法 | |
| JPH05212563A (ja) | 装飾部材の製造方法 | |
| JP3244952B2 (ja) | 金色装飾品 | |
| JPH05311394A (ja) | 装飾部材及びその製造方法 | |
| JPH0730676Y2 (ja) | 金色外装部品 | |
| JP3263019B2 (ja) | 装飾部材の製造方法 | |
| JPH06272019A (ja) | 白色めっき装身具 | |
| JPS61127858A (ja) | 金色外装部品 | |
| JPS61163263A (ja) | 金色外装部品 | |
| JP2001061521A (ja) | 金色装飾部品およびその製造方法 | |
| JPH0428855A (ja) | 金色装飾品およびその製造方法 | |
| JPS61133374A (ja) | 金色外装部品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040303 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080516 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091113 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110414 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110419 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110614 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120116 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4909477 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |