JP2003077120A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度記録において、バック層の磁性層表面
への写りを抑制し、微粒子の磁性体を用いても信号欠陥
・変調ノイズを低減し同時に良好な走行安定性を得るこ
と。 【解決手段】支持体上に一次粒子体積が１０００〜１０
０００ｎｍ³の強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を有
し、磁性層と反対側の面に非磁性粉末と結合剤とを含む
バック層を設けた磁気記録媒体において、原子間力顕微
鏡で測定したバック面に存在する高さ１００〜２００ｎ
ｍの突起の数ＰＮ（１００〜２００ｎｍ）が５０〜３０
００個／１００μｍ角であり、前記突起の数ＰＮ（１０
０〜２００ｎｍ）の突起存在比率が１００μｍ角当りの
全突起の数ＰＮ（全）に対して２〜６０％であり、かつ
高さ２００ｎｍ以上の突起の数ＰＮ（２００ｎｍ以上）
が１０個／１００μｍ角以下であることを特徴とする磁
気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】高密度記録用磁気記録媒体に
関する。特に微粒子の六方晶フェライト磁性体を用いた
媒体において、走行安定性と高Ｓ／Ｎを同時に満たす磁
気記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気テープの分野において、近年ミニコ
ンピューター、パーソナルコンピューター、ワークステ
ーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴っ
て、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録す
るための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）の
研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テー
プの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、
小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求さ
れる。従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性酸化
鉄、ＣｒＯ₂、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉
末を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設したもの
が広く用いられる。この中でも微粒子の強磁性合金粉末
や六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れて
いることが知られているが、従来、フレキシブルメディ
アを使用したシステムで主流として使われてきたインダ
クティブヘッドを用いた場合は、これらの強磁性粉末は
飽和磁化が小さく、充分な出力が得られなかった。しか
しながら、上記の様なフレキシブルメディアを用いたリ
ムーバブル記録においても、ハードディスクで使われて
いる磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）が用いられ始めて
いる。ＭＲヘッドは高感度なので前記微粒子合金粉末や
六方晶フェライト微粉末を用いても充分な再生出力が得
られ、これら微粒子粉末の特徴である低ノイズ化によっ
て高いＣ／Ｎ比が得られることが知られている。例え
ば、特開平１０−３０２２４３号公報には、バリウムフ
ェライト（ＢａＦｅ）微粉末を用いてＭＲヘッドで再生
した例が開示されている。ＭＲヘッドを用いて高密度記
録する場合、分解能を改善するために、前記微粒子強磁
性粉末を使用すること、磁性層表面を平滑にすること、
磁性層を薄くすることが提案されてきた。一方平滑な磁
性層を有する磁気記録媒体の走行性を改善するために、
突起を設けたバック層を用いることが知られている。し
かしながらバック層に突起を設けたことで、前記バック
層と磁性面が重なりあうと、突起が磁性面に食い込み磁
性面に陥没が生じる。このいわゆる写りにより出力の低
下を引き起こす。線記録密度が高くかつ狭トラック化が
進むと単なる出力の低下だけではなく、信号の欠落につ
ながる。写りを防止する手段として、特開平１０−６４
０４１では高さ１００ｎｍ以上の突起密度を規定し、磁
性層に剛性の高いウレタンを用い、８ｍｍビデオにおい
てバック写りの影響が低減されることが開示されてい
る。しかしながら、さらに高密度な記録においてはバッ
ク層の突起分布をさらに厳しくコントロールする必要が
あることが判った。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明は高密度記録に
おいて、バック層の磁性層表面への写りを抑制し、微粒
子の磁性体を用いても信号欠陥・変調ノイズを低減し同
時に良好な走行安定性を得ることを目的とする。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に一
次粒子体積が１０００〜１００００ｎｍ³の強磁性粉末
と結合剤を含む磁性層を有し、磁性層と反対側の面に非
磁性粉末と結合剤とを含むバック層を設けた磁気記録媒
体において、原子間力顕微鏡で測定したバック面に存在
する高さ１００〜２００ｎｍの突起の数ＰＮ（１００〜
２００ｎｍ）が５０〜３０００個／１００μｍ角であ
り、前記突起の数ＰＮ（１００〜２００ｎｍ）の突起存
在比率が１００μｍ角当りの全突起の数ＰＮ（全）に対
して２〜６０％であり、かつ高さ２００ｎｍ以上の突起
の数ＰＮ（２００ｎｍ以上）が１０個／１００μｍ角以
下であることを特徴とする磁気記録媒体である。本発明
の好ましい態様は、以下の通りである。 （１）前記強磁性粉末は平均板径１０〜５０ｎｍの六方
晶系フェライト粉末であり、磁性層の厚みＤｍａｇが
０．０３〜０．２５μｍである上記磁気記録媒体。 （２）前記強磁性粉末は平均長軸長３０ｎｍ〜７５ｎｍ
の強磁性合金粉末であり、磁性層の厚みＤｍａｇが０．
０３〜０．２５μｍである上記磁気記録媒体。 （３）前記バック層は平均粒子径３０ｎｍ以下の導電性
カーボンブラックと、平均粒子径Ｌが３０ｎｍより大き
く、粒子径の標準偏差σとＬの関係及び、該バック層の
厚みＤｂａｃｋとＬの関係が以下を満たす非磁性粉末を
含む上記磁気記録媒体。 σ／Ｌ≦０．３ ０．２５≦Ｌ／Ｄｂａｃｋ≦１ （４）面記録密度０．５Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ²以上の記
録密度で使用する上記磁気記録媒体。 【０００５】 【発明の実施の形態】以下、本発明を構成要素毎に説明
する。 ［バック層］本発明はバック面、即ち、バック層表面に
存在させる突起分布を特定したものである。本発明では
高さ１００〜２００ｎｍの突起の数ＰＮ（１００〜２０
０ｎｍ）を５０〜３０００個／１００μｍ角、好ましく
は８０〜１８００個／１００μｍ角に制御する。また、
本発明は突起の数ＰＮ（１００〜２００ｎｍ）の突起存
在比率が１００μｍ角当りの全突起の数ＰＮ（全）に対
して２〜６０％、好ましくは３〜４５％となるように制
御する。更に、本発明は高さ２００ｎｍ以上の突起の数
ＰＮ（２００ｎｍ以上）が１０個／１００μｍ角以下、
好ましく８個／１００μｍ角以下となるように制御す
る。本発明において、バック面に存在する突起の高さと
は、原子間力顕微鏡にて求められる中心面（平面と粗さ
曲面で囲まれた体積が平面に対し上下で等しくかつ最小
になる平面）を基準面とした高さと定義する。従って、
突起の数ＰＮ（１００〜２００ｎｍ）とは、この基準面
以上の高さが１００〜２００ｎｍである突起の１００μ
ｍ角当りの総数で突起密度を示す。同様に全突起の数Ｐ
Ｎ（全）とは、この基準面以上の高さを有する突起の１
００μｍ角当りの総数で突起密度を示す。また、突起の
数ＰＮ（２００ｎｍ以上）とは、この基準面以上の高さ
が２００ｎｍ以上である突起の１００μｍ角当りの総数
で突起密度を示す。また、１００μｍ角とは、１００μ
ｍ四方（１００００μｍ²）の領域を意味する。 【０００６】本発明は上記のようなバック面の突起分布
としたことにより、バック層の突起の高さが極力均一で
適度な存在密度となり、個々の突起の圧力を分散させて
磁性層への食込みを抑制することで、磁性層の陥没が少
なくなり、微粒子の強磁性粉末を磁性層中に均一に分布
させることができる。この効果は磁性層が０．０３〜
０．２５μｍと薄くなるほど顕著になる。なぜならば磁
性層が０．３μｍ以下になるとバック層の突起が磁性層
を貫通し、磁性層が欠落するからである。また強磁性粉
末の一次粒子体積が１０００〜１００００ｎｍ³と小さ
くなると粒子の境界が増えて塗膜のひび割れがおきやす
くなるので、前記バック面の突起による磁性層の陥没が
顕著になるので、磁性粒子が小さいほど本発明の効果が
顕著となる。ここで、一次粒子体積とは凝集のない独立
した１個の一次粒子の平均体積を言う。 【０００７】本発明におけるバック面の突起分布を制御
する手段としては、特に制限されるものではないが、好
ましくは、バック層に添加される粉体の種類、サイズ、
量を選定することが挙げられる。例えば、平均粒子径が
３０ｎｍ以下の導電性カーボンブラック（以下、微粒子
導電性カーボンブラックともいう）と平均粒子径Ｌが３
０ｎｍより大きい非磁性粉末をバック層に添加すること
が挙げられる。この非磁性粉末は自体の粒子径の標準偏
差σと平均粒子径Ｌの関係及び、バック層の厚みＤｂａ
ｃｋとＬの関係が、σ／Ｌ≦０．３及び０．２５≦Ｌ／
Ｄｂａｃｋ≦１、更にはσ／Ｌ≦０．２５及び０．３５
≦Ｌ／Ｄｂａｃｋ≦０．８５を満たすことが好ましく、
前記の突起分布を達成しやすい。微粒子導電性カーボン
ブラックは導電性を向上させ、帯電による走行障害を防
止するだけでなく、突起を形成させる粗大な非磁性粉末
のクッション剤となり磁性面への食込みを低減させるこ
とができる。またこのような粗大粒子は極力粒度分布の
揃ったもの用いることで、突起高さを均一化することが
できる。 【０００８】非磁性粉末としては、アルミナ、シリカ、
酸化クロム、α−酸化鉄等の金属酸化物、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム等の塩類、メラミン、ベンゾグアナミ
ン等の樹脂粒子、カーボンブラック粒子を用いることが
できる。非磁性粉末の添加量は、バック層の厚み、粉体
サイズにより最適化するが、微粒子導電性カーボンブラ
ック１００質量部に対しておよそ２〜２０質量部であ
る。バック層は通常０．２〜１μｍに設定する。 【０００９】微粒子導電性カーボンブラックの具体的な
商品としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡ
ＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ
（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ
８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴ
ＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎ
ｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥ
Ｘ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０
（１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。 【００１０】バック層にモース硬度が５〜９の硬質無機
粉末を添加することで強度を上げることも可能である。
この場合も前記非磁性粉末のサイズに従うものを用いる
ことが好ましい。 【００１１】［磁性層］本発明の磁気記録媒体は、支持
体上に直接磁性層を設けても、非磁性下層を介して磁性
層を設けてもよい。ＭＲヘッドで用いる場合は磁性層を
薄くするので、非磁性下層を用いた重層構成が好まし
い。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏ
ｅ）以上であることが必要であり、１５９ｋＡ／ｍ（２
０００Ｏｅ）〜４００ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）で有る
ことが好ましい。さらに、磁性層の磁化分布に於いて、
８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以下の印可磁場によって
磁化反転する成分が最大１％未満、好ましくは０．７％
以下、さらに０．５％以下に規定されることがさらに好
ましい。磁性層厚みは０．０３〜０．２５μｍ、好まし
くは０．０３〜０．２μｍさらに好ましくは０．０５〜
０．２μｍである。０．０３μｍより薄いと、再生出力
が不足し、０．３μｍより厚いと分解能が低下する。磁
性層の面内方法に測定した角形比ＳＱは０．６〜０．９
５、好ましくは０．６５〜０．８５である。 【００１２】［強磁性粉末］本発明の磁性層に使用する
強磁性粉末は、特に制限はないがＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ等の
Ｆｅを主体とした針状強磁性合金粉末もしくは六方晶系
フェライト粉末が好ましい。六方晶系フェライト粉末に
はバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛
フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置
換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバ
リウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピ
ネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェ
ライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプラン
バイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェ
ライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓ
ｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、
Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎ
ｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚ
ｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ
−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用するこ
とができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有
するものもある。 【００１３】粉体サイズは強磁性合金粉末、六方晶系フ
ェライト粉末ともに一次粒子体積が１０００ｎｍ³〜１
００００ｎｍ³、好ましくは１５００〜８５００ｎｍ³、
さらに好ましくは１５００〜６５００ｎｍ³である。針
状強磁性合金粉末の場合、平均長軸長が３０〜７５ｎｍ
が好ましく、３５〜７０ｎｍが更に好ましい。結晶子サ
イズは５〜１５ｎｍ、好ましくは８〜１３ｎｍである。
六方晶系フェライト粉末の場合、平均板径で好ましくは
１０〜５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜４０ｎｍであ
り、特に好ましくは１５〜３５ｎｍである。特にトラッ
ク密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイ
ズにする必要があり、平均板径は３５ｎｍ以下が好まし
いが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化
が望めない。５０ｎｍを越えるとノイズが高く、本発明
の高密度磁気記録には向かない。平均板状比（板径／板
厚の算術平均）は１〜１５が望ましい。好ましくは１〜
７である。平均板状比が小さいと磁性層中の充填性は高
くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。１５よ
り大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きく
なる。この粉体サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積
（Ｓ_BET）は１０〜１００ｍ²／ｇを示す。比表面積は概
ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板
径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。分布は正規分
布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する
標準偏差σで表す変動係数は、σ／平均サイズ＝０．１
〜２．０である。粉体サイズ分布をシャープにするには
粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成し
た粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たと
えば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も
知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、
４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い
方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制
限される。本発明では磁性体のＨｃは１１９ｋＡ／ｍ〜
３９７ｋＡ／ｍ程度であるが、好ましくは１５９〜３２
０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを
越える場合は、１７５ｋＡ／ｍ以上にすることが好まし
い。Ｈｃは粉体サイズ、含有元素の種類と量、元素の置
換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。 【００１４】飽和磁化σｓは強磁性合金粉末の場合９０
〜１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ、六方晶系フェライト粉末の場
合４０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇである。σｓは微粒子にな
るほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネト
プランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合す
ること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られ
ている。またＷ型六方晶系フェライト粉末を用いること
も可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を
分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われ
ている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用さ
れる。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物
または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタ
ンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して
０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重要であ
る。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値
があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程
度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響す
る。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０
１〜２．０％が選ばれる。六方晶系フェライト粉末の製
法としては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属
酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフ
ェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して
非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕し
てバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、
バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和
し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した
後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を
得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩溶液を
アルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１０
０℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉
体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。 【００１５】［非磁性層］次に支持体と磁性層の間に下
層である非磁性層を設ける時の下層に関する詳細な内容
について説明する。本発明の下層は実質的に非磁性であ
ればその構成は制限されるべきものではないが、通常、
少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、
無機粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが
挙げられる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉
末であるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉
末も使用され得るものである。該非磁性粉末としては、
例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒
化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択
することができる。無機化合物としては例えばα化率９
０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリ
ブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ま
しいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこ
と等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリ
ウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄
である。これら非磁性粉末の粉体サイズは０．００５〜
２μｍが好ましいが、必要に応じて粉体サイズの異なる
非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒
径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。
とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粉体サイズは０．０
１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金
属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が
好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．
３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好まし
い。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は
０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に
好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末の
ｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特
に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜７０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは
０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレー
ト）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０
〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好まし
くは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状
のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のも
のが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着
量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍ
ｏｌ／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²であ
る。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの
非磁性粉末の表面には表面処理を施すことによりＡｌ ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ
₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃を存在させることが好ましい。特
に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、
ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用しても
良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じ
て共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ
ナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、
またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処
理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質
で密である方が一般には好ましい。 【００１６】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙
げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα
−酸化鉄である。 【００１７】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００１８】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブ
ラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カー
ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０
％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発
明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては
キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１
３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、
ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５
０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃
３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８
５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃
４０１０、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥ
ＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、
５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、
１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社
製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボン
ブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフ
ト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化した
ものを使用してもかまわない。また、カーボンブラック
を塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもか
まわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末
に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の
４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カ
ーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参
考にすることができる。 【００１９】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。 【００２０】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］本発明に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，００
０〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１０
０，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。 【００２１】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。 【００２２】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。 【００２３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。 【００２４】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０質
量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用い
られる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量
％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、
ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを
組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の
脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタン
のみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用す
ることも可能である。本発明において、ポリウレタンを
用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ま
しくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００
％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４９
〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²
（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。 【００２５】本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成
され得る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビ
ニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、
あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂
の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特
性などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることは
もちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであ
り、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例え
ば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷
を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有
効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするた
めには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせ
ることができる。 【００２６】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。 【００２７】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２
５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐ
Ｈは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。本発明に用いられる
カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社
製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１
０００、９００、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃
５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４
０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェン
ブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使
用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用
してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで
使用することができる。カーボンブラックを使用する場
合は磁性体に対する量の０．１〜３０％でもちいること
が好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上
層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変
え、粉体サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば
「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）
を参考にすることができる。 【００２８】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粉体サイズは
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、
比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のい
ずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性
が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、
ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、
レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰ
Ｓ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村
工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロ
メックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ
１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウ
ルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられ
る。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加するこ
ともできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御
したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができ
る。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、
量はむろん最適値に設定すべきものである。 【００２９】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。 【００３０】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレ
ート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。 【００３１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２
５％の範囲で選択される。 【００３２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。 【００３３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍ
である。コンピューターテープの支持体は、３．０〜
６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好
ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが
使用される。磁性層の厚みは０．０３μｍ〜０．２μ
ｍ、好ましくは０．０５〜０．１５μｍである。０．０
３μｍより薄いと再生出力が低すぎ、０．２μｍより厚
いとオ−バ−ライト特性、分解能の劣化をもたらす。 【００３４】支持体と非磁性層または磁性層の間に密着
性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下塗層
厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜
０．５μｍである。 【００３５】本発明になる媒体の下層である非磁性層の
厚みは０．２μｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．
３μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μ
ｍ以上２．５μｍ以下である。なお、本発明媒体の下層
は実質的に非磁性層であればその効果を発揮するもので
あり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の磁
性体を含んでも、本発明の効果を示すものであり、本発
明と実質的に同一の構成と見なすことができることは言
うまでもない。実質的に非磁性とは下層の残留磁束密度
が０．０１Ｔ以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１
００Ｏｅ以下）であることを示し、好ましくは残留磁束
密度と抗磁力をもたないことを示す。 【００３６】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で
可撓性のものが好ましい。本発明に用いられる可撓性支
持体としてはポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネート、ポ
リアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリ
アミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフォン、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィ
ルムが使用できる。ポリエチレンナフタレ−ト、ポリア
ミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また
必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため
特開平３−２２４１２７に示されるような積層タイプの
支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあら
かじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理、などをおこなっても良い。また本発明
の支持体としてアルミまたはガラス基板を適用すること
も可能である。 【００３７】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した
中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は８．０ｎｍ以下、好まし
くは４．０ｎｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下
のものを使用することが好ましい。支持体は単に中心面
平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の
粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は
必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量
により自由にコントロ−ルされるものである。これらの
フィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの
酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があ
げられる。支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十
点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＲｐ
は０．５μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以
下、中心面面積率Ｓｒは１０％以上、９０％以下、平均
波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所
望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の
表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールでき
るものであり、０．０１μｍから１μｍの大きさのもの
各々を０．１ｍｍ²あたり０個から２０００個の範囲で
コントロ−ルすることができる。本発明に用いられる支
持体のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（４
９〜４９０ＭＰａ）である。また、支持体の１００℃３
０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好まし
くは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²（≒４９〜９８０Ｍ
Ｐａ）、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒
０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数
は１０^-4〜１０^-8／℃であり、好ましくは１０^-5〜１０
^-6／℃である。湿度膨張係数は１０^-4／ＲＨ％以下であ
り、好ましくは１０^-5／ＲＨ％以下である。これらの熱
特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に
対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。 【００３８】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
磁性体、非磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、
分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入して
もよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知
の製造技術を一部の工程として用いることができる。混
練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、
エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用するこ
とが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁
性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合
剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００部に対
し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混
練処理の詳細については特開平１−１０６３３８、特開
平１−７９２７４に記載されている。また、磁性層液お
よび非磁性層液を分散させるにはガラスビーズを用るこ
とができるが、高比重の分散メディアであるジルコニア
ビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適であ
る。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用
いられる。分散機は公知のものを使用することができ
る。 【００３９】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。 【００４０】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜
１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好まし
い、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なう
こともできる。 【００４１】上記塗布、乾燥後、通常、磁気記録媒体に
カレンダー処理を施す。カレンダー処理ロ−ルとしてエ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等
の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで
処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同
志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは
５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線
圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）
以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ
／ｍ）以上である。 【００４２】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属微粉末を用いた場合
０．２〜０．５Ｔ、六方晶系フェライト粉末をもちいた
場合は０．１〜０．３Ｔである。抗磁力ＨｃおよびＨｒ
は１５００〜５０００Ｏｅ（１２０〜４００ｋＡ／ｍ）
であるが、好ましくは１７００〜３０００Ｏｅ（１３６
〜２４０ｋＡ／ｍ）である。抗磁力の分布は狭い方が好
ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下が好まし
い。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好ましく
は０．８以上である。 【００４３】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％
の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表
面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜１０¹²オ−ム／
ｓｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好まし
い。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好
ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（０．９８〜１
９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ
／ｍｍ²（９８〜６８６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性
率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ²（０．９８〜１４．７ＧＰａ）、残留のびは好まし
くは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱
収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５
％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性
層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性
測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下
が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好
ましい。損失弾性率は１×１０⁹〜８×１０¹⁰μＮ／ｃ
ｍ²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以
下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着
故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体
の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好まし
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
る。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディス
ク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこ
とが多い。 【００４４】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＣ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８
ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁
性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗
さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μ
ｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面
積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５
μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突
起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩
擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体の
フィラ−による表面性のコントロ−ルや前述したように
磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロ−
ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができ
る。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。 【００４５】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。本明細書において、六方晶系フェライト粉末やカ
ーボンブラックのように種々の粉体のサイズ（以下、
「粉体サイズ」と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡
写真及び画像解析装置より求められる。高分解能透過型
電子顕微鏡写真の粉体の輪郭を画像解析装置でなぞり、
粉体のサイズを求めることができる。即ち、粉体サイズ
は、粉体の形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さ
が底面の最大長径より大きい）等の場合は、粉体を構成
する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が
板状乃至柱状（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の
最大長径より小さい）場合は、その板面乃至底面の最大
長径、即ち板径で表され、粉体の形状が球形、多面体
状、不特定形等であって、かつ形状から粉体を構成する
長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。 【００４６】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約５００個の一次粒子につ
いて上記の如く測定を実施して求めたものである。一次
粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。また、該粉
体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長さ
（長軸に直行する軸で最大のもの）、即ち短軸長を測定
し、各粉体の（長軸長／短軸長）の値の算術平均を指
す。ここで、短軸長とは、上記粉体サイズの定義での
場合は、粉体を構成する短軸の長さを、同じくの場合
は、厚さ乃至高さを各々指し、の場合は、長軸と短軸
の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１と
みなす。そして、粉体の形状が特定の場合、例えば、上
記粉体サイズの定義の場合は、平均粉体サイズを平均
長軸長と言い、同定義の場合は平均粉体サイズを平均
板径と言い、（板径／厚さ乃至高さ）の算術平均を平均
板状比という。同定義の場合は平均粉体サイズを平均
粒子径という。 【００４７】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは「質量部」のことである。 実施例１ ＜塗料の作成＞ 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 平均板径３０ｎｍ、平均板厚１０ｎｍ、平均粒子体積５８００ｎｍ³ 平均板径１０ｎｍ以下の粒子存在比率６％ Ｈｃ：１８３ｋＡ／ｍ、σｓ：５０Ａ・ｍ²／ｋｇ Ｓ_BET：６５ｍ²／ｇ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ５部 平均粒子径：０．２μｍ カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：０．０７５μｍ 比表面積：３５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：８１ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．７ 揮発分：１．０％ ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 ＜非磁性塗料＞ 非磁性粉末 針状ヘマタイト ８０部 平均長軸長：０．１５μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ ｐＨ：８．５、表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃ カ−ボンブラック 平均粒子径：２０ｎｍ ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００４８】 ＜バック層塗料＞ カーボンブラック １００部 平均粒子径：１８ｎｍ、Ｓ_BET：４５０ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：２５０ｍｌ／１００ｇ 非磁性粉末 ａ）メラミン樹脂粒子 ３部 平均粒子径Ｌ：２００ｎｍ 標準偏差σ：４０ｎｍ、σ／Ｌ＝０．２ ポリウレタン樹脂 ３０部 ニッポランＮ−２３０１ ｂ）αアルミナ（平均粒子径：０．２μｍ） １部 標準偏差σ：５０ｎｍ、σ／Ｌ＝０．２５ メチルエチルケトン ４００部 酢酸ブチル ３００部 トルエン ３００部 【００４９】上記の磁性層、非磁性層用塗料について、
各成分をニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて
４時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−
トを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性層の塗布液に
は３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０
部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィルターを用い
て濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液
をそれぞれ調製した。バック層塗布液は上記の組成物を
３本ロールミルで混練したのち、サンドミルを用いて分
散させ、得られた分散液にポリイソシアネート２０部と
メチルエチルケトン１０００部を加えて１μｍの平均孔
径を有するフィルターを用い濾過し得た。得られた非磁
性層塗布液を、乾燥後の下層の厚さが１．７μｍになる
ようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１
μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均表面粗
さが２ｎｍのアラミド支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力を
持つコバルト磁石と０．６Ｔの磁力を持つソレノイドに
より配向させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成され
る７段のカレンダ−で温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍ
ｉｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック
層を塗布した。８ｍｍの幅にスリットし、スリット品の
送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソ
リブレ−ドが磁性面に押し当たるように取り付け、テ−
プクリ−ニング装置で磁性層の表面のクリ−ニングを行
い、コンピューターテープ試料を得た。 【００５０】実施例２〜５、比較例１〜３ 表１に記載の変更要素、即ち磁性体、バック層塗布液の
カーボンブラック及び非磁性粉末ａ）を同表に記載のよ
うに変更した以外は、実施例１と同様にしてテープ試料
を得た。尚、磁性体の種類の記載で針状メタルとは、針
状強磁性合金粉末を意味し、実施例４、実施例５、比較
例１及び比較例３は、全てＦｅ−Ｃｏ合金でかつＨｃが
２３００Ｏｅ（１８４ｋＡ／ｍ）であり、σｓは実施例
４が１３５Ａ・ｍ²／ｋｇ、実施例５が１２５Ａ・ｍ²／
ｋｇ、比較例１が１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ、比較例３が１
４０Ａ・ｍ²／ｋｇである。 【００５１】コンピューターテープの各々の性能を下記
の測定法により評価した。 測定法 （１）バック面突起 原子間力顕微鏡を用いて前記方法により測定した。 （２）ＣＮ比：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．１５
μｍ、トラック幅１８μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘ
ッド（シールド型：シールド間ｇａｐ０．２μｍ、トラ
ック幅４μｍ）をドラムテスターに取り付けて測定し
た。ヘッド−メディア相対速度１０ｍ／ｍｉｎで記録波
長０．２μｍ（５０ＭＨｚ）の単周波信号を記録、再生
信号をシバソク製スペクトラムアナライザーにて周波数
分析し前記単周波信号の出力電圧と、１ＭＨｚ離れたノ
イズ電圧の比をＣ／Ｎとした。再生時にはＭＲヘッド
に、再生出力が最大になる様に、バイアス電流を印可し
た。 （３）磁性粒子の粉体サイズ 透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて５０万倍で粒子の写真
を撮影し、画像解析装置で約５００個の粒子のサイズ分
布を計測した。 （４）磁性層厚み 媒体の切片を作成し、ＴＥＭにて磁性層の平均厚みを測
定した。 （５）バック層摩擦係数 ＳＵＳ４２０Ｊ、直径４ｍｍのポールに９０度ラップさ
せ、荷重２０ｇ（Ｔ１）、引っ張り速度１３ｍｍ／ｓｅ
ｃで走行させるのに必要な張力（Ｔ２）を２３℃５０％
の環境で測定し、測定値をもとに次の計算式により摩擦
係数μ値を求めた。 μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ２／Ｔ１） 【００５２】 【表１】 【００５３】上表より、バック面突起分布が本発明の範
囲である実施例はＣ／Ｎが高くかつバック面摩擦係数が
低く、両者の性能が満足されているが、そのバック面突
起分布の何れかの突起密度が本発明から外れているもの
は両者を満足しないことが分る。即ち比較例１及び２は
ＰＮ（２００ｎｍ以上）が多過ぎるためにＣ／Ｎが低
く、比較例３はＰＮ（１００〜２００ｎｍ）が小さ過ぎ
るために摩擦係数が高く、Ｃ／Ｎも実施例に比べて劣
る。 【００５４】 【発明の効果】上記実施例に示す様に、本発明は六方晶
系フェライト粉末の平均板径並びにＳＵＳ及びＰＯＭに
対する摩擦係数を特定したことによりＣ／Ｎ及び耐久性
に優れるによる磁気記録媒体を提供することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】支持体上に一次粒子体積が１０００〜１０
   ０００ｎｍ³の強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を有
   し、磁性層と反対側の面に非磁性粉末と結合剤とを含む
   バック層を設けた磁気記録媒体において、原子間力顕微
   鏡で測定したバック面に存在する高さ１００〜２００ｎ
   ｍの突起の数ＰＮ（１００〜２００ｎｍ）が５０〜３０
   ００個／１００μｍ角であり、前記突起の数ＰＮ（１０
   ０〜２００ｎｍ）の突起存在比率が１００μｍ角当りの
   全突起の数ＰＮ（全）に対して２〜６０％であり、かつ
   高さ２００ｎｍ以上の突起の数ＰＮ（２００ｎｍ以上）
   が１０個／１００μｍ角以下であることを特徴とする磁
   気記録媒体。