JP2003055661A - 重合性液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ネマチック相を示す温度範囲が広く、且つ２
５℃以下の温度域においてもネマチック相を示し、併用
する他の重合性を有する液晶性化合物との相溶性に優れ
た、重合性を有する液晶性化合物を含有する重合性液晶
組成物を提供する。 【解決手段】 ２以上の環構造を有する液晶性骨格と、
式 ［式中、Ｐ¹は重合性官能基、Ｓ¹はエチレン基又はプロ
ピレン基、Ｓ^２はエステル結合又はエーテル結合、ｍは
１又は２、Ｓ^３は−（ＣＨ₂）_V−、−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｏ
−Ｃ（＝Ｏ）−等（Ｖは１〜２０）で表わされる連結
鎖、Ａ¹及びＥ¹は炭化水素環又はヘテロ環を表わす。た
だし、Ｅ¹は、液晶性骨格に含まれる環である。Ｄ¹は、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_Ｗ−Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ₂）
_Ｗ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等（ｗは１〜１５）で表わされる
連結鎖を表わす。］で表わされる部分構造を有する化合
物を含有する重合性液晶組成物、及びこれを用いた光学
異方体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学フィルム、位
相差板、偏光板、偏光プリズム、各種光フィルター等の
光学異方体、光導波路、圧電素子、非線形光学素子、コ
レステリック液晶相等の選択反射を利用した液晶顔料、
液晶−樹脂複合ディスプレー、ホログラフィック液晶デ
ィスプレー、高分子安定化液晶（強誘電性液晶、反強誘
電性液晶）ディスプレー、光ファイバー等の被覆剤など
として有用な重合性を有する液晶性化合物を含有する重
合性液晶組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】重合性官能基を有する液晶性化合物（以
下、重合性液晶化合物という。）又はこのような化合物
を含有する重合性液晶組成物を、液晶状態で配向させた
後、その状態で紫外線等の活性エネルギー線を照射する
と、液晶分子の配向状態構造を固定化した高分子を作製
することができる。このようにして得られた高分子は、
屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率等の物理的
性質の異方性を有しているので、例えば、位相差板、偏
光板、偏光プリズム、導波路、圧電素子、非線形光学素
子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択
反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤として応
用可能である。

【０００３】このような用途に用いる重合性液晶組成物
として、特開平８−３１１１号公報には、１分子中に
（メタ）アクリル基を１個有する液晶性化合物を含有す
る重合性液晶組成物が開示されている。該公報に開示さ
れた重合性液晶組成物は、室温で液晶性を示すという特
徴を有するものの、単官能化合物であることから、重合
させた場合多官能化合物のように網状構造を形成するこ
とができず、得られる重合物の強度が劣る。また、単官
能化合物は、重合によって分子鎖が成長していくが、丁
度光散乱源となりやすい大きさで成長がとまってしまう
ことが多い。そのため、得られる重合物の機械的強度や
透明性が不十分であるという問題点があった。

【０００４】一方、特表平６−５０７９８７号公報（米
国特許第５８７１６６５号明細書）、特表平８−２７７
２４７号公報、特開平１０−３１０６１２号公報（欧州
特許公開第８６９１１２号公報）、特表平１０−５０９
７２６号公報、特表平１１−５１３３６０号公報（米国
特許第５８３３８８０号明細書）、ドイツ国公開特許第
４２２６９９４号公報、イギリス国公開特許第２３０６
４７０号公報及び国際特許出願公開第９８／２３５８０
号明細書などには、１分子中に（メタ）アクリル基の如
き重合性官能基を２個有する液晶性化合物及びそのよう
な化合物を含有する重合性液晶組成物が開示されてい
る。これらの公報に記載の化合物は、少なくとも一方の
重合性官能基がアルキレンオキシ基の如き連結鎖を介し
て連結鎖中の環Ａと結合し、この環Ａが、直接、あるい
は、エーテル結合、チオエーテル結合、アルキレン基、
オキシアルキレン基、アルキレンオキシ基、カルボニル
基、エステル結合、チオエステル結合、ビニル基、ビニ
ルカルボニルオキシ基、ビニルアルレン基、アルキレン
ビニル基、メチルイミノ基、アゾ基又はアミド基を介し
て、別のメソゲン中の環Ｅと結合した部分構造を有する
ものである。

【０００５】中でも、環に置換基を有しない化合物は、
ネマチック相を示す下限温度が１００度以上であるが、
環にフッ素原子、メチル基、メトキシ基、メチルカルボ
ニル基等の置換基を有する化合物の中には、ネマチック
相を示す温度の下限が、６０度前後のものが開示されて
いる。

【０００６】一般に、重合性液晶組成物は、液晶分子を
均一に配向させた後、液晶状態を保持したまま紫外線な
どのエネルギー線を照射することで光重合させ、均一な
配向状態を半永久的に固定する。そのためネマチック相
を示す下限温度が室温よりも高いと、液晶状態に保持し
たまま均一な配向を得るために加温する必要があり、こ
の加温が原因で、エネルギー線による光重合だけでな
く、意図しない熱重合も誘起されて、液晶分子の均一な
配向状態が失われ、所望する配向状態とは異なる不均一
な配向状態が固定化されてしまうという問題点がある。
そのためこれらの材料を用いて、熱重合を誘起しない温
度範囲であり、かつ、作業性に優れている室温〜４０度
の程度でネマチック相を示す重合性液晶組成物を調製す
るには、多くの種類の液晶化合物を併用しなければなら
ないという問題点があった。

【０００７】さらに、特開平９−４０５８５号公報（米
国特許第５８００７３３号明細書）及び特開平９−５２
８５７号公報（欧州特許第７５５９１５号公報）には、
２つの架橋性中間相（液晶相）形成性残基が６員環の
１，２−位に結合した構造を有する化合物が開示されて
いる。ここでは、ネマチック相は示さずにスメクチック
Ａ相のみを示す化合物が開示されているが、スメクチッ
クＡ相は、粘度が高く、配向性が悪いという問題点があ
る。さらにまた、「リキッドクリスタルズ」（第２４
巻、第３号、第３７５〜３７９頁、１９９８年）には、
目的化合物である分子の末端に２−（アルケニルオキシ
フェニルオキシ）−５−（ヒドロチオアルキレンオキシ
フェニルオキシ）トルエンを合成した際に生じる不純物
として、この化合物のヒドロチオ基と、４−ヒドロチオ
アルキレンオキシ安息香酸とが結合した構造を有する化
合物が記載されている。しかしながら、この文献には、
不純物として特定されたことが開示されているに過ぎ
ず、不純物として特定された化合物の重合性液晶組成物
への使用可能性については、全く論じられていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、ネマチック相を示す温度範囲が広く、且つ
２５度以下の温度域においてもネマチック相を示し、併
用する他の重合性を有する液晶性化合物との相溶性に優
れた、重合性を有する液晶性化合物を含有する重合性液
晶組成物を提供することにある。

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は上記課題
を解決するために、（Ａ） ２以上の環構造を有する液
晶性骨格と、一般式

【０００９】

【化５】 ［式中、Ｐ¹は、重合性官能基を表わす。Ｓ¹は、エチレ
ン基又はプロピレン基を表し、Ｓ^２はエステル結合又は
エーテル結合を表し、ｍは１又は２を表し、Ｓ^３は−
（ＣＨ₂）_V−、−（ＣＨ₂）_VＯ−、−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｏ
−Ｃ（＝Ｏ）−又は−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−
（Ｖは、１〜２０の整数を表わす。）で表わされる連結
鎖を表し、Ａ¹及びＥ¹は、おのおの独立的に、炭化水素
環又はヘテロ環を表わす。ただし、Ｅ¹は、液晶性骨格
に含まれる環である。Ｄ¹は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（Ｃ
Ｈ₂）_Ｗ−Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_Ｗ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｏ−（ＣＨ₂）_Ｗ−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（Ｃ
Ｈ₂）_Ｗ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ− （ｗは、１〜１５の整数
を表わす。）で表わされる連結鎖を表わす。］で表わさ
れる部分構造を有する化合物（ｃ１）を含有する重合性
液晶組成物を提供する。

【００１０】また、本発明は、上記（Ａ）に記載の重合
性液晶組成物の重合体から構成される光学異方体を提供
する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の重合性液晶組成物に使用
する化合物（ｃ１）は、具体的には、一般式（ｃ２）で
表わされる化合物であることが好ましい。

【００１２】

【化６】

【００１３】［式中、Ｐ²及びＰ³は、おのおの独立的
に、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリル
アミド基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、ビニ
ルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重
合性官能基を表わす。Ｓ^４及びＳ ^９は、おのおの独立的
にエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｓ^５及びＳ^８は
エステル結合又はエーテル結合を表し、ｍ及びｎは０〜
２の整数を表し、且つｍ＋ｎは１〜４の整数を表す。Ｓ
^６及びＳ^７は−（ＣＨ₂）_V−、−（ＣＨ₂）_VＯ−、−
（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−又は−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｃ
（＝Ｏ）−Ｏ−（Ｖは、１〜２０の整数を表わす。）で
表わされる連結鎖を表し、Ａ²、Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹
は、おのおの独立的に、

【００１４】

【化７】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）からなる群から
選ばれる環構造を表わす。Ｄ²及びＤ³は、おのおの独立
的に、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ
Ｈ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ、−
Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ− （ｍ
は、１〜１５の整数を表わす。）からなる群から選ばれ
る連結鎖を表わす。Ｙ¹及びＹ²は、おのおの独立的に、
単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−
、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ
−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）
₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、 −ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂
−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ
＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及び−ＯＣ
（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結基
を表わす。ｒは、０〜３の整数を表わし、ｑは０又は１
を表わす。］

【００１５】本発明の液晶性を有する重合性液晶組成物
に用いる化合物（ｃ１）及び一般式（ｃ２）で表わされ
る化合物において、重合性官能基は、ラジカル重合、カ
チオン重合、アニオン重合の如き重合反応可能なもので
あれば、特に制限はないが、紫外線、電子線、α線、β
線、ガンマ線のような電離放射線、マイクロ波、高周波
活性光線の如き活性エネルギー線の照射によって重合す
る官能基が特に好ましい。

【００１６】重合性官能基としては、例えば、（メタ）
アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビ
ニル基、エポキシ基、エチニル基、メルカプト基、ビニ
ルオキシ基、マレイミド基、ビニルケトン基などが挙げ
られるが、これらの中でも、（メタ）アクリロイルオキ
シ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基又はビニル
オキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、
ビニル基、エポキシ基、ビニルオキシ基が特に好まし
く、（メタ）アクリロイルオキシ基が更に好ましい。

【００１７】化合物（ｃ１）中のＳ^３、一般式（ｃ２）
で表わされる化合物中のＳ^６及びＳ ^７は、おのおの前述
に定義した連結鎖を表わすが、ｖは２〜１８の範囲のも
のが好ましく、４〜１０の範囲のものが特に好ましい。

【００１８】化合物（ｃ１）において、Ａ¹及びＥ¹は、
おのおの独立的に、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素
環の如き炭化水素環、又は、複素環の如きヘテロ環を表
わす。これらの環は、６員環あるいは、６員環同士の縮
合環であることが好ましい。また、環上の水素原子は、
フッ素原子、塩素原子の如きハロゲン原子、メチル基の
如き低級アルキル基、メトキシ基の如き低級アルコキシ
ル基などの置換基で置換されていてもよい。また、Ｅ1
は、液晶性骨格に含まれる環である。さらに、化合物
（ｃ１）における液晶性骨格は、炭化水素環及び／又は
ヘテロ環の如き環構造を２以上、好ましくは２〜６個有
するものである。そのような液晶性骨格としては、上記
一般式（ｃ２）における一般式 −Ｅ^２−(Ｙ^１−Ｆ^１)
_ｒ−Ｙ^２−Ｇ^１− で表わされる液晶性骨格が好まし
い。

【００１９】化合物（ｃ１）において、Ａ¹及びＥ¹は、
中でも、

【００２０】

【化８】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）からなる群から
選ばれる環構造であることが好ましい。

【００２１】また、化合物（ｃ１）中のＡ¹及びＥ¹や、
前述に定義した環構造を表す、一般式（ｃ２）で表わさ
れる化合物中のＡ²、Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹は、中で
も、

【００２２】

【化９】 であることが特に好ましい。

【００２３】化合物（ｃ１）中のＤ¹や、一般式（ｃ
２）で表わされる化合物中のＤ²及びＤ ³は、前述に定義
した連結鎖を表すが、中でも、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（Ｃ
Ｈ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
が特に好ましい。なお、ｍは２〜１２の範囲のものが好
ましく、４〜１０の範囲のものが特に好ましい。

【００２４】液晶性骨格の例である一般式 −Ｅ^２−
(Ｙ^１−Ｆ^１)_ｒ−Ｙ^２−Ｇ^１− で表わされる構造とし
ては、例えば、以下の式（a１）〜（a４４７）で表わさ
れるような構造を挙げることができる。

【００２５】

【化１０】

【００２６】

【化１１】

【００２７】

【化１２】

【００２８】

【化１３】

【００２９】

【化１４】

【００３０】

【化１５】

【００３１】

【化１６】

【００３２】

【化１７】

【００３３】

【化１８】

【００３４】

【化１９】

【００３５】

【化２０】

【００３６】

【化２１】

【００３７】

【化２２】

【００３８】

【化２３】

【００３９】

【化２４】

【００４０】

【化２５】

【００４１】

【化２６】

【００４２】

【化２７】

【００４３】

【化２８】

【００４４】

【化２９】

【００４５】

【化３０】

【００４６】

【化３１】

【００４７】

【化３２】

【００４８】

【化３３】

【００４９】

【化３４】

【００５０】

【化３５】

【００５１】

【化３６】

【００５２】

【化３７】

【００５３】

【化３８】

【００５４】

【化３９】

【００５５】

【化４０】

【００５６】

【化４１】

【００５７】

【化４２】

【００５８】（式（ａ１）〜（ａ４４７）中の芳香環、
脂環、複素環及び縮合環は、シアノ基、ハロゲン原子、
炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアル
カノイル基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で
置換されていても良い。）

【００５９】一般式（ｃ２）で表わされる化合物の中で
も、一般式（ｃ３）

【化４３】

【００６０】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、ｄは、２又は３の整数を表わし、ｆは、１〜２０
の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数を表わす。ま
た、それぞれの１，４−フェニレン基は、おのおの独立
的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のア
ルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群
から選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても良
い。）で表わされる重合性液晶化合物、一般式（ｃ４）

【００６１】

【化４４】

【００６２】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、ｄは、２又は３の整数を表わし、ｆは、１〜２０
の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数を表わす。ま
た、それぞれの１，４−フェニレン基は、おのおの独立
的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のア
ルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群
から選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても良
い。）で表わされる重合性液晶化合物、一般式（ｃ５）

【００６３】

【化４５】

【００６４】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、ｄは、２又は３の整数を表わし、ｆは、１〜２０
の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数を表わす。ま
た、それぞれの１，４−フェニレン基は、おのおの独立
的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のア
ルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群
から選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても良
い。）で表わされる重合性液晶化合物、一般式（ｃ６）

【００６５】

【化４６】

【００６６】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、ｄは、２又は３の整数を表わし、ｆは、１〜２０
の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数を表わす。ま
た、それぞれの１，４−フェニレン基は、おのおの独立
的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のア
ルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群
から選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても良
い。）で表わされる重合性液晶化合物が特に好ましい。

【００６７】本発明の化合物の好ましい例として、（メ
タ）アクリレート化合物を挙げてきたが、反応性基とし
てエポキシ基を有する化合物又はビニルオキシ基を有す
る化合物も好ましい。そのような化合物としては、例え
ば、以下の一般式（ｃ７）又は（ｃ８）で表わされる化
合物等を挙げることができる。

【００６８】

【化４７】

【００６９】（式中、ｄは、２又は３の整数を表わし、
ｆは、１〜２０の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数
を表わす。また、それぞれの１，４−フェニレン基は、
おのおの独立的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル
基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていても良い。）

【００７０】

【化４８】

【００７１】（式中、ｄは、２又は３の整数を表わし、
ｆは、１〜２０の整数を表わし、ｑは、１〜１５の整数
を表わす。また、それぞれの１，４−フェニレン基は、
おのおの独立的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル
基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていても良い。） 以上、本発明の化合物の好ましい例を挙げたが、一般式
（ｃ３）で表わされる化合物は、例えば、以下の方法に
より、合成することができる。

【００７２】

【化４９】

【００７３】（式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｑは、一般式（ｃ
３）の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣは、ジシ
クロヘキシルカルボジイミドを表わす。） 即ち、一般式（ｃ９）で表わされるアルコール誘導体
と、これに対し２当量の一般式（ｃ１０）で表わされる
カルボン酸誘導体をＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジ
イミド）等の縮合剤を用いることによりエステル化反応
させることにより、目的とする一般式（ｃ３）で表わさ
れる化合物を合成することができる。

【００７４】一般式（ｃ３）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（ｃ９）で表わされるアルコール誘導
体は、例えば、以下の方法により合成することができ
る。

【００７５】

【化５０】

【００７６】（式中、ｑは、上記一般式（ｃ３）と同じ
内容を表す。また、Ｐｈは、フェニル基を表す。）即
ち、式（ｃ９−１）で表わされる４−ブロモ−フェノー
ルの水酸基を、テトラピラニルエーテルを用いて保護し
て、式（ｃ９−２）で表わされる化合物を得た後、パラ
ジウム触媒の存在下に、２−メチル−３−ブチン−２−
オールと反応させ、式（ｃ９−３）で表わされる化合物
を得る。引き続き、ｔ−ブチルアルコール基を脱離させ
て、一般式（ｃ９−４）で表わされるアセチレン誘導体
を得る。一般式（ｃ９−４）で表わされるアセチレン誘
導体と４−ヨードフェノールとを、パラジウム触媒の存
在下に、カップリング反応させて、一般式（ｃ９−５）
で表わされる化合物を得る。一般式（ｃ９−５）で表わ
される化合物と一般式（ｃ９−６）で表わされる臭素を
有するアルコール誘導体とを反応させた後、酸触媒下、
脱保護させることにより、目的とする一般式（ｃ９）で
表わされるアルコール誘導体を得ることができる。

【００７７】一般式（ｃ３）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（ｃ１０）で表わされるカルボン酸誘
導体は、例えば、以下の方法により合成することができ
る。

【００７８】

【化５１】

【００７９】（式中、Ｘ、ｄ及びｑは、一般式（ｃ３）
と同じ内容を表わす。）即ち、式（ｃ１０−１）で表
わされる４−ヒドロキシ安息香酸と一般式（ｃ１０−
２）で表わされるブロム基を有するアルコール誘導体と
を反応させて、一般式（ｃ１０−３）で表わされる化合
物を得る。この化合物を酸触媒の存在下に、水を留去し
ながら一般式（ｃ１０−４）で表わされるカルボン酸誘
導体と反応させることにより、目的とする一般式（ｃ１
０）で表わされるカルボン酸誘導体を得ることができ
る。

【００８０】次に、一般式（ｃ４）及び一般式（ｃ５）
で表わされる化合物について説明する。一般式（ｃ４）
及び一般式（ｃ５）で表わされる化合物は、例えば、一
般式（ｃ１０）で表わされるカルボン酸誘導体と共に、
一般式（ｃ１１）で表わされるカルボン酸誘導体を用い
て、

【００８１】

【化５２】 上記の一般式（ｃ３）で表わされる化合物の合成方法と
同様にして合成することができる。一般式（ｃ４）及び
一般式（ｃ５）で表わされる化合物の合成原料となる一
般式（ｃ１１）で表わされるカルボン酸誘導体は、例え
ば、以下の方法により合成することができる。

【００８２】

【化５３】

【００８３】一般式（ｃ１０−３）で表わされるアルコ
ール誘導体の化合物を酸触媒の存在下に、水を留去しな
がら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、目的
とする一般式（ｃ１１）で表わされるカルボン酸誘導体
を得ることができる。

【００８４】次に、一般式（ｃ６）で表わされる化合物
について説明する。一般式（ｃ６）で表わされる化合物
は、例えば、以下の方法によって合成することができ
る。

【００８５】

【化５４】 （式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｑは、一般式（ｃ６）の場合と
同じ内容を表わす。また、ＤＣＣは、ジシクロヘキシル
カルボジイミドを表わす。）

【００８６】即ち、一般式（ｃ１２）で表わされるアル
コール誘導体と、これに対し２当量の一般式（ｃ１０）
で表わされるカルボン酸誘導体をＤＣＣ（ジシクロヘキ
シルカルボジイミド）等の縮合剤を用いることによりエ
ステル化反応させることにより、目的とする一般式（ｃ
６）で表わされる化合物を合成することができる。

【００８７】一般式（ｃ６）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（ｃ１２）で表わされるアルコール誘
導体は、例えば、以下の方法により合成することができ
る。

【００８８】

【化５５】

【００８９】（式中、ｑは、一般式（ｃ６）と同じ内容
を表す。また、ＤＭＦは、ジメチルホルムアミドを表
し、ＰＴＳはパラトルエンスルホン酸を表す。）即ち、
１、４−ジヒドロキノンとこれに対し２．０当量の４−
ヒドロキシ安息香酸をパラトルエンスルホン酸触媒下、
脱水エステル化反応させることにより化合物（ｃ１２−
１）を合成する。引き続き、一般式（ｃ１２−１）で表
わされるフェノール誘導体と、これに対し２．０当量の
一般式（ｃ９−６）で表わされるハロゲン誘導体を炭酸
カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、置換反応させること
により、目的とする一般式（ｃ１２）で表わされる化合
物を合成することができる。

【００９０】次に、一般式（ｃ７）で表わされるエポキ
シ化合物について説明する。一般式（ｃ７）で表わされ
る化合物は、例えば、以下の方法によって合成すること
ができる。

【００９１】

【化５６】

【００９２】（式中、ｄ、ｆ及びｑは、一般式（ｃ７）
の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＭＦは、ジメチル
ホルムアミドを表す。） 一般式（ｃ１４）で表わされるフェノール誘導体と、こ
れに対し３．０当量の一般式（ｃ１３）で表わされるハ
ロゲン誘導体を炭酸カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、
置換反応させることにより、目的とする一般式（ｃ７）
で表わされる化合物を合成することができる。

【００９３】次に、一般式（ｃ８）で表わされるビニル
エーテル化合物について説明する。一般式（ｃ８）で表
わされる化合物は、例えば、以下の方法によって合成す
ることができる。

【００９４】

【化５７】

【００９５】（式中、ｄ、ｆ及びｑは、一般式（ｃ８）
の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣは、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドを表わす。）即ち、一般式（ｃ
１２）で表わされるアルコール誘導体と、これに対し２
当量の一般式（ｃ１５）で表わされるカルボン酸誘導体
をＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合
剤を用いることによりエステル化反応させることによ
り、目的とする一般式（ｃ８）で表わされる化合物を合
成することができる。

【００９６】本発明で使用する重合性液晶化合物は、そ
れ自体で組成物を調製することができるが、公知の重合
性液晶化合物を混合して組成物とすることもできる。公
知の重合性液晶化合物としては、分子内に通常この技術
分野で液晶性環骨格と認められる骨格と重合性官能基を
同時に有する重合性の液晶化合物が挙げられる。当該液
晶性環骨格は、少なくとも２つ又は３つの６員環を有す
るものが特に好ましい。重合性官能基としては、アクリ
ロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ
基、ビニルオキシ基、シンナモイル基、ビニル基、エチ
ニル基、マレイミドなどを挙げることができる。

【００９７】一分子中に複数の重合性官能基を有する化
合物の場合には、重合性官能基の種類が異なっていても
よい。例えば、重合性官能基を２つ有する化合物の場
合、一方がメタクリロイル基、他方がビニルオキシ基で
あってもよい。

【００９８】本発明の重合性液晶組成物は、通常この技
術分野で液晶相と認識される相を示す組成物であればよ
い。そのような組成物の中でも、液晶相として、ネマチ
ック相、スメクチックＡ相、（キラル）スメクチックＣ
相、コレステリック相を発現するものが好ましい。それ
らの中でも、ネマチック相は良好な配向性を有するた
め、特に好ましい。また、（キラル）スメクチックＣ相
を示す場合には、該（キラル）スメクチックＣ相の温度
領域より高い温度領域でスメクチックＡ相を、該スメク
チックＡ相の温度領域より高い温度領域でネマチック相
を、それぞれ発現する液晶組成物は、良好な配向性を得
られる傾向にあるので好ましい。

【００９９】本発明の重合性液晶組成物に含有させるこ
とができる化合物としては、例えば、液晶性（メタ）ア
クリレート化合物としては、一般式（ｃ１６）

【０１００】

【化５８】

【０１０１】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｒ¹は、炭素原子数１〜１０のアルキル基を表わ
す。）で表わされる化合物や、一般式（ｃ１７）

【０１０２】

【化５９】

【０１０３】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｒ¹は、炭素原子数１〜１０のアルキル基を表わ
す。）で表わされる化合物が好ましい。これらの一般式
（ｃ１６）で表わされる化合物や一般式（ｃ１７）で表
わされる化合物は、単独で用いても良いし、組み合わせ
て用いても良い。組み合わせて用いる場合、一般式（ｃ
１６）と一般式（ｃ１７）で表わされる化合物の濃度を
等しくすることが好ましい。しかしながら、本発明の重
合性液晶組成物において使用することができる化合物
は、これらの化合物に限定されるものではない。

【０１０４】また、本発明の重合性液晶組成物には、一
般式（ｃ１６）及び一般式（ｃ１７）で表わされる（メ
タ）アクリレート化合物以外にも、他の単官能（メタ）
アクリレート化合物を含有させることもできる。一般式
（ｃ１６）及び（ｃ１７）で表わされる化合物、そして
他の単官能（メタ）アクリレート化合物の具体的なもの
として、式（ａ-1）〜式（ａ-25）で表わされる化合物
が挙げられる。なお、例示した式（ａ-1）〜式（ａ-2
5）で表わされる化合物の構造式の下に、相転移温度を
示した。（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘ
キサン環を表わす。また、数字は相転移温度を表わし、
Ｃは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、
Ｉは等方性液体相をそれぞれ表わす。）

【０１０５】

【化６０】

【０１０６】

【化６１】

【０１０７】

【化６２】

【０１０８】

【化６３】

【０１０９】また、本発明の重合性液晶組成物には、側
鎖に液晶性環骨格を有する（メタ）アクリレート化合物
を含有することもできる。また、本発明の重合性液晶組
成物には、重合性官能基を有していない液晶化合物を用
途に応じて添加することもできる。しかしながら、液晶
組成物を用いて作製する高分子の耐熱性を確保する観点
から、その添加量は８０重量％以下が好ましく、３０重
量％以下がさらに好ましく、１０重量％以下が特に好ま
しい。また、本発明の重合性液晶組成物には、重合性官
能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物
を添加することもできる。このような化合物としては、
通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高
分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特
に制限なく使用することができる。

【０１１０】本発明の重合性液晶組成物は、液晶相の温
度領域で活性エネルギー線を照射して、組成物中の重合
性化合物を重合させることを目的としている。従って、
活性エネルギー線照射工程における、望ましくない熱重
合の誘起を避け、均一性に優れた高分子を製造するため
に、本発明の重合性液晶組成物は、室温（典型的には２
５度）又は室温付近で液晶性を示すものが好ましい。例
えば、（キラル）スメクチックＣ相において、本発明の
重合性液晶組成物に活性エネルギー線を照射して、組成
物中の重合性化合物を重合させる場合、室温又は室温付
近で（キラル）スメクチックＣ相を発現するものが好ま
しい。

【０１１１】また、本発明の重合性液晶組成物には、液
晶骨格の螺旋構造を内部に有する高分子を得ることを目
的として、キラル（光学活性）化合物を添加することも
できる。そのような目的で使用するキラル化合物は、そ
れ自体が液晶性を示す必要は無く、また、重合性官能基
を有していても有していなくても良い。また、キラル化
合物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選
択することができる。

【０１１２】そのようなキラル化合物としては、例え
ば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン
酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラ
ル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイ
チ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ−15」、「Ｃ
−15」、メルク社（ドイツ国）製の「Ｓ−１０８２」、
チッソ社製の「ＣＭ−19」、「ＣＭ−20」、「ＣＭ」；
キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社
製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−21」、「Ｃ
Ｍ−22」、などを挙げることができる。

【０１１３】キラル化合物を添加する場合の好ましい添
加量は、液晶組成物の用途によるが、重合して得られる
重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で
除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量が
好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好まし
い。

【０１１４】更に本発明の重合性液晶組成物には、その
重合反応性を向上させることを目的として、熱重合開始
剤、光重合開始剤等の重合開始剤を添加することもでき
る。熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイ
ル、ビスアゾブチロニトリル等が挙げられる。また、光
重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル類、
ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケター
ル類等が挙げられる。熱重合開始剤あるいは光重合開始
剤を添加する場合の添加量は、液晶組成物に対して、１
０重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好まし
く、０．５〜１．５重量％の範囲が更に好ましい。

【０１１５】また、本発明の重合性液晶組成物には、そ
の保存安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加す
ることもできる。使用できる重合禁止剤としては、例え
ば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル
類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフ
ェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、
β−ナフトール類等が挙げられる。重合禁止剤を使用す
る場合の添加量は、液晶組成物に対して１重量％以下が
好ましく、０．５重量％以下が特に好ましい。

【０１１６】以上のように、本発明の重合性液晶組成物
には、一般式（ｃ１）あるいは一般式（ｃ２）で表わさ
れる重合性化合物以外に、重合性官能基を有する液晶化
合物、重合性官能基を有さない液晶化合物、液晶性を示
さない重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤を適宜組
み合わせて添加してもよいが、少なくとも得られる液晶
組成物の液晶性が失われないよう、各成分の添加量を調
整する必要がある。

【０１１７】また、本発明の重合性液晶組成物を偏光フ
ィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護
膜等の用途に利用する場合には、その目的に応じて、金
属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材
料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、
多糖、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン
交換樹脂、酸化チタンの如き金属酸化物、などを添加す
ることもできる。

【０１１８】本発明の重合性液晶組成物は、重合させて
重合体とすることによって、位相差板、偏光板、偏光プ
リズム、導波路、圧電素子、非線形光学素子、各種光フ
ィルター、コレステリック液晶相等の選択反射を利用し
た液晶顔料、液晶−樹脂複合ディスプレー、ホログラフ
ィック液晶ディスプレー、高分子安定化液晶（強誘電性
液晶、反強誘電性液晶）ディスプレー、光ファイバー等
の被覆剤などの各種の用途に応用することができる。中
でも、本発明の重合性液晶組成物を、配向させた状態に
おいて重合させた重合体は、物理的性質に異方性を有し
ており、有用である。このような重合体は、例えば、本
発明の重合性液晶組成物を、布等で表面をラビング処理
した基板、有機薄膜を形成した基板の表面を布等でラビ
ング処理した基板、あるいはＳｉＯ₂ を斜方蒸着した配
向膜を有する基板上に塗布するか、基板間に挟持させた
後、重合性化合物を重合させることによって製造するこ
とができる。

【０１１９】本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布
する方法としては、例えば、スピンコーティング、ダイ
コーティング、エクストルージョンコーティング、ロー
ルコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビア
コーティング、スプレーコーティング、ディッピング、
プリント法、などが挙げられる。また、コーティングの
際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加することもでき
る。そのような目的で使用することができる有機溶媒と
しては、例えば、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ト
ルエン、ヘキサン、メタノール、エタノール、ジメチル
ホルムアミド、塩化メチレン、イソプロパノール、アセ
トン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、セロソル
ブ類、などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で
用いることも、２種類以上を組み合わせて用いることも
でき、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮
し、適宜選択すれば良い。また、有機溶剤の添加量は、
コーティング材料の９０重量％以下が好ましい。９０重
量％以上になると、得られる膜厚が薄くなってしまう傾
向にあるので好ましくない。

【０１２０】添加した有機溶媒を揮発させる方法として
は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を使
用することができる。重合性液晶組成物の塗布性をさら
に向上させるために、基板上にポリイミド薄膜等の中間
層を設ける方法、あるいは重合性液晶組成物にレベリン
グ剤を添加する方法も有効である。特に、基板上にポリ
イミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶組成
物を重合させて得られる高分子と基板の密着性が良くな
い場合に、密着性を向上させる手段としても有効であ
る。

【０１２１】本発明の重合性液晶組成物を基板間に挟持
させる方法としては、毛細管現象を利用した注入法が挙
げられる。また、基板間に形成された空間を減圧し、そ
の後、重合性液晶組成物を注入する手段も有効である。

【０１２２】ラビング処理あるいはＳｉＯ₂ 斜方蒸着以
外の配向処理の方法としては、液晶材料の流動配向を利
用する方法、電場又は磁場の利用する方法が挙げられ
る。これらの配向手段は、単独で用いることも、２種類
以上の方法を組み合わせて用いることもできる。

【０１２３】さらに、ラビングに代わる配向処理方法と
して、光配向法を用いることもできる。この方法は、例
えば、ポリビニルシンナメート等の分子内に光二量化反
応する官能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基
を有する有機薄膜又はポリイミド等の有機薄膜に、偏光
した光、好ましくは偏光した紫外線を照射することによ
って、配向膜を形成するものである。この光配向法に光
マスクを適用することにより、配向のパターン化が容易
に達成できるので、高分子内部の分子配向も精密に制御
することができる。

【０１２４】基板の形状としては、平板の他、曲面を有
するものであってもよい。基板を構成する材料は、有機
材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の
材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロト
リフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、
トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエ
ーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、
例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

【０１２５】これらの基板を布等でラビングすることに
よって適当な配向性を得られない場合、公知の方法に従
ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の
有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングし
ても良い。また、通常のツイステッド・ネマチック（Ｔ
Ｎ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（Ｓ
ＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリ
イミド薄膜は、高分子内部の分子配向構造を更に精密に
制御することができることから、特に好ましい。また、
電場によって配向状態を制御する場合には、電極層を有
する基板を使用する。この場合、電極上に前述のポリイ
ミド薄膜等の有機薄膜を形成することが好ましい。

【０１２６】液晶組成物の配向状態としては、液晶の技
術分野で一般的に知られている種々の配向状態でよく、
例えば、ホモジニアス（水平）配向、傾いたホモジニア
ス配向、ホメオトロピック（垂直）配向、傾いたホメオ
トロピック配向、ハイブリッド配向、ツイステッドネマ
チック配向、スーパーツイステッドネマチック配向状態
を挙げることができる。また、これらの配向の組み合わ
せや、場所ごとに配向状態を変えてパターン化しても良
い。

【０１２７】傾いたホモジニアス配向及び傾いたホメオ
トロピック配向の場合、双方の場合とも基板面と液晶分
子長軸のなす角度が０度又は９０度以外になっている状
態を意味する。基板面と液晶分子長軸のなす角度は、得
られる重合体の用途・機能によって選択すれば良い。基
板面と液晶分子長軸のなす角度を１０〜８０度、さらに
好ましくは、２０〜７０度の範囲に設定した場合、得ら
れる重合体は、液晶ディスプレイの視野角を広く改善す
るための光学部材として使用することができる。

【０１２８】また、液晶組成物の配向状態をハイブリッ
ド配向にした場合も、得られる重合体は、液晶ディスプ
レイの視野角を広く改善するための光学部材として使用
可能である。また、基板面と液晶分子長軸のなす角度を
３０〜６０度、さらに好ましくは、４０〜５０度、特に
好ましくは４５度に設定した場合、得られる重合体に、
偏光分離能を効率良く付与することができる。このよう
な重合体は、偏光分離素子や光学的ローパスフィルター
として有用である。また、液晶組成物の配向状態をハイ
ブリッド配向にした場合も、得られる重合体は、偏光光
学素子や光学的ローパスフィルターとして有用である。

【０１２９】一方、ツイステッドネマチック配向、スー
パーツイステッドネマチック配向、コレステリック配向
に代表されるような螺旋構造を有する配向構造も有用で
ある。ねじり角度を６０〜２７０度に設定した場合、得
られる重合体は、液晶表示素子の光学補償用途に有用で
ある。また、螺旋ピッチを調節し、特定の波長領域を選
択的に反射するように設定した場合、得られる重合体
は、ノッチフィルターや反射型カラーフィルターとして
有用である。

【０１３０】また、選択的に反射する光の波長領域を赤
外線の領域に設定した場合、得られる重合体は、熱線カ
ットフィルターとして有用である。また、ホモジニアス
配向、ホメオトロピック配向状態にした場合、得られる
重合体は、プラスチックを延伸処理したものと比較し
て、屈折率の異方性が大きいため、同じ屈折率の異方性
を示すものを薄く設計できるという利点がある。また、
液晶セル内部に、光学補償板を作り込める可能性もあ
る。反射型液晶表示素子の光学補償に用いる場合、この
特性は重要であり、特に１／４波長板として極めて有用
である。

【０１３１】本発明の重合性液晶組成物を重合させる方
法としては、迅速に重合する点で、紫外線又は電子線等
の活性エネルギー線を照射することによって重合させる
方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用
いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合
性液晶組成物を２枚の基板間に挟持させた状態で重合さ
せる場合には、少なくとも照射面側の基板は、活性エネ
ルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければ
ならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分
のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変
化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させ
て、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるとい
う手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明
の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内
であることが好ましい。特に、光重合によって高分子を
製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を
避ける意味からも可能な限り、室温に近い温度、即ち、
典型的には２５度での温度で重合させることが好まし
い。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／cm²〜２
Ｗ／cm²の範囲が好ましい。強度が０．１ｍＷ／cm²未満
の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要にな
り、生産性が悪化する傾向にあり、２Ｗ／cm²を超える
強度では、重合性液晶組成物が劣化する傾向にあるので
好ましくない。

【０１３２】本発明の重合性液晶組成物に活性光線を照
射した後、得られた重合体の初期特性変化を軽減し、安
定的な特性発現を図ることを目的として、熱処理を施す
こともできる。熱処理の温度は、５０〜２５０度の範囲
で、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲が好ましい。
このような方法によって製造される本発明の重合性液晶
組成物からなる重合体は、基板から剥離して単体で用い
ることも、基板から剥離せずにそのまま用いることもで
きる。また、本発明の重合性液晶組成物からなる重合体
は、２つ以上を積層して用いることも、他の基板に貼り
合わせて用いることもできる。

【０１３３】

【実施例】以下、実施例を用いて、本発明を更に詳細に
説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。

【０１３４】＜合成例１＞〔液晶性アクリレート化合物
の合成〕 ４−ブロモ−２−フルオロフェノール４８．０ｇとジク
ロロメタン２５０ｍの溶液にピリジニウムパラトルエン
スルホン酸を６．３ｇ加えた後、氷浴下でジヒドロピラ
ン４２．０ｇとジクロロメタン７５ｍｌの溶液を滴下漏
斗から約１時間掛けて徐々に滴下した。滴下終了後に反
応温度を室温にして約４時間攪拌した。ガスクロマトグ
ラフィーによって反応が終了したことを確認した後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液２５０ｍｌで１回洗浄、飽
和食塩水２５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムより脱水した後、減圧下溶媒留去して式
（Ｓ１）

【０１３５】

【化６４】 で表わされる化合物６７．０ｇを得た。

【０１３６】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．５０〜２．０８（ｍ、６
Ｈ）、３．５６〜３．６３（ｍ、１Ｈ）、３．８４〜
３．９２（ｍ、１Ｈ）、５．３８〜５．４０（ｍ、１
Ｈ）、７．００〜７．３２（ｍ、３Ｈ）

【０１３７】上記の合成で得られた（Ｓ１）化合物３
４．４ｇ、トリメチルシリルアセチレン１４．７ｇ、ジ
メチルホルムイミド１２０ｍｌ及びトリエチルアミン４
５ｍｌの溶液にテトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム１．７３ｇ及びヨウ化銅０．５７ｇを加えて撹拌
しながら、８０度で８時間加熱した。薄層クロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：ジクロロメタン＝２：
１）によって反応が終了したことを確認した後、酢酸エ
チル３００ｍｌを用いて反応液を希釈した。飽和塩化ア
ンモニウム水溶液２００ｍｌで１回洗浄、飽和食塩水２
００ｍｌで２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムより脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：ジクロロメタン＝
２：１）より精製して式（Ｓ２）

【０１３８】

【化６５】 で表わされる化合物３２．８ｇを得た。

【０１３９】７５％テトラノルマルブチルアンモニウム
フロリド３４．５ｇとジクロロメタン６０ｍｌの溶液を
氷浴下で冷やした後、上記合成した式（Ｓ２）で表わさ
れる化合物３０．７ｇとジクロロメタン６０ｍｌの溶液
を滴下漏斗から約１時間掛けて徐々に滴下した。滴下終
了後に反応温度を室温にして約３時間攪拌した。薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒；トルエン）によって反応
が終了したことを確認した後、飽和食塩水１５０ｍｌで
２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水
した後、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロ
マトグラフィー（トルエン）より精製して、式（Ｓ３）

【０１４０】

【化６６】 で表わされる化合物２２．１ｇを得た。

【０１４１】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．５０〜２．０９（ｍ、６
Ｈ）、３．０１（ｓ、１Ｈ）、３．６０〜３．６５
（ｍ、１Ｈ）、３．８５〜３．９３（ｍ、１Ｈ）、５．
４６〜５．４８（ｍ、１Ｈ）、７．１０〜７．３５
（ｍ、３Ｈ）

【０１４２】上記の合成で得られた（Ｓ３）化合物２
２．５ｇ、４−ヨードフェノール２５．３ｇ、ジメチル
ホルムイミド１２０ｍｌ及びトリエチルアミン３５ｍｌ
の溶液にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
１．２５ｇ及びヨウ化銅０．４１ｇを加えて３０度で８
時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（トルエン：酢
酸エチル＝１０：１）によって反応が終了したことを確
認した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈
した。飽和塩化アンモニウム水溶液１５０ｍｌで１回洗
浄、飽和食塩水１５０ｍｌで２回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下溶媒留去した
後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
トルエン：酢酸エチル＝１０：１）より精製して式（Ｓ
４）

【０１４３】

【化６７】 で表わされる化合物２２．５ｇを得た。

【０１４４】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．６０〜２．０６（ｍ、６
Ｈ）、３．６２〜３．６６（ｍ、１Ｈ）、３．９０〜
３．９８（ｍ、１Ｈ）、５．１１（ｓ、１Ｈ）、５．４
７〜５．４９（ｍ、１Ｈ）、６．７０〜７．４１（ｍ、
７Ｈ）

【０１４５】上記の合成で得られた（Ｓ４）化合物１
４．４ｇ、６−ブロモヘキサノール１６．７ｇ及びジメ
チルホルムイミド１４０ｍｌの溶液に炭酸カリウム１
２．７ｇを加えて撹拌しながら、８５度で約４時間加熱
した。薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；トルエン：
酢酸エチル＝４：１）によって反応が終了したことを確
認した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈
した。飽和食塩水１００ｍｌで３回洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下溶媒留去した
後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（トルエン：
酢酸エチル＝４：１）によって分離した。減圧下溶媒留
去した後、再結晶（クロロホルム：ヘキサン＝１：３）
より精製して式（Ｓ５）

【０１４６】

【化６８】 で表わされる化合物１７．０ｇを得た。

【０１４７】白色結晶、融点：９６．５〜９７．０度¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；ケミカルシ
フト＝１．３２〜２．１２（ｍ、１４Ｈ）、３．６１〜
３．６９（ｍ、３Ｈ）、３．８８〜３．９９（ｍ、３
Ｈ）、５．４６〜５．４８（ｍ、１Ｈ）、６．８４〜
７．４５（ｍ、７Ｈ）

【０１４８】上記の合成で得られた（Ｓ５）化合物７．
６ｇ及びテトラヒドロフラン７０ｍｌの溶液に１０％塩
酸水溶液３５ｍｌを加えて撹拌しながら、室温で約４時
間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；
トルエン：酢酸エチル＝４：１）によって反応が終了し
たことを確認した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反
応液を希釈した。飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶
媒を留去した後、粗生成物を再結晶（クロロホルム）よ
り精製して式（Ｓ６）

【０１４９】

【化６９】 で表わされる化合物５．５ｇを得た。

【０１５０】白色結晶、融点：１２７．０〜１２８．０
度¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；ケミカルシ
フト＝１．４２〜１．８３（ｍ、８Ｈ）、３．００（ｂ
ｒ．ｓ、１Ｈ）３．５６（ｔ、２Ｈ）、４．０２（ｔ、
２Ｈ）、６．９２〜７．４５（ｍ、７Ｈ）

【０１５１】４−ヒドロキシ安息香酸１３８．１ｇ、６
−クロロ−１−ヘキサノール１３６．１ｇ、水酸化ナト
リウム８４．０ｇ、ヨウ化カリウム２５．０ｇ、エタノ
ール４４０ml及び水４４０mlから成る混合物を撹拌しな
がら、８０度で３２時間加熱した。得られた反応液を室
温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水１０００mlを加
え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。
この反応溶液に酢酸エチル１０００mlを加えて反応生成
物を抽出した。有機層を水洗した後、抽出溶媒を減圧留
去し、さらに風乾させて、式（Ｓ７）

【０１５２】

【化７０】 で表わされる化合物２２３．９ｇを得た。

【０１５３】式（Ｓ７）で表わされる化合物１１０．０
ｇ、アクリル酸１３３．１ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸
２７．０ｇ、ヒドロキノン６．０ｇ、トルエン４２０m
l、ｎ−ヘキサン１８０ml及びテトラヒドロフラン２６
０mlから成る混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留
去しながら６時間還流させた。反応液を室温まで冷却し
た後、反応液に飽和食塩水１０００ml及び酢酸エチル８
００mlを加えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗し
た後、有機溶媒を減圧留去して粗生成物２３１．４ｇ得
た。次に、この粗生成物を、ｎ−ヘキサン４００mlとト
ルエン１００mlの混合物から再結晶させる操作を２回行
なうことにより、式（Ｓ８）

【０１５４】

【化７１】 で表わされる化合物１１４．７ｇを得た。

【０１５５】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．４０〜１．８７（ｍ、８
Ｈ）、４．０３（ｔ、２Ｈ）、４．１６（ｔ、２Ｈ）、
５．８０（ｄ、１Ｈ）、６．１４（ｄ、１Ｈ）、６．４
４（ｄ、１Ｈ）、６．９３（ｄ、２Ｈ）、８．０７
（ｄ、２Ｈ）

【０１５６】式（Ｓ７）で表わされる化合物１１０．０
ｇ、アクリル酸ダイマー（Ｍ−５６００、東亜合成株式
会社製）２６６．２ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸２７．
０ｇ、ヒドロキノン６．０ｇ、トルエン９００mlから成
る混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら
８時間還流させた。反応液を室温まで冷却した後、反応
液に飽和食塩水１０００ml及び酢酸エチル８００mlを加
えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗した後、有機
溶媒を減圧留去して粗生成物２３１．４ｇ得た。次に、
この粗生成物を、ｎ−ヘキサン４００mlとトルエン４０
０mlの混合物から再結晶させる操作を２回行なうことに
より、式（Ｓ９）

【０１５７】

【化７２】 で表わされる化合物５０．４ｇを得た。

【０１５８】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．４０〜１．８７（ｍ、８
Ｈ）、２．７０（ｔ、２Ｈ）、４．０３（ｔ、２Ｈ）、
４．１６（ｔ、２Ｈ）、４．４２（ｔ、２Ｈ）、５．８
０（ｄ、１Ｈ）、６．１４（ｄ、１Ｈ）、６．４４
（ｄ、１Ｈ）、６．９３（ｄ、２Ｈ）、８．０７（ｄ、
２Ｈ）

【０１５９】上記の合成で得られた（Ｓ６）化合物１
６．４ｇ、（Ｓ７）化合物の４−（６−アクリロイルオ
キシヘキシルオキシ）安息香酸１５．３ｇ、（Ｓ８）化
合物１９．１ｇ及び塩化メチレン７００ｍｌの溶液に１
−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミド塩酸塩２０．１ｇ及び４−ジメチルアミニピリ
ジン１２．８ｇを加えて撹拌しながら、室温で約２日間
反応させた。薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；トル
エン：酢酸エチル＝１０：１）によって反応が終了した
ことを確認した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応
液を希釈した。飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶媒留
去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；トルエン：酢酸エチル＝１０：１）によって分離
して式（Ｓ１０）

【０１６０】

【化７３】

【０１６１】で表わされる２つ異性体の混合物としての
重合性液晶組成物１９．０ｇを得た。得られた２つの異
性体は分離困難のためにそれ以上の分離は行わなかっ
た。式（Ｓ１０）の重合性液晶組成物の昇温時における
相転移温度は、結晶相−ネマチック相が２度、ネマチッ
ク相−等方性液体相が５６度で、広い範囲でネマチック
相を示した。

【０１６２】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；ケミカルシフト＝１．４４〜１．８３（ｍ、２
４Ｈ）、２．７０（ｔ、２Ｈ）、３．９６〜４．３３
（ｍ、１２Ｈ）、４．４５（ｔ、２Ｈ）、５．８０
（ｍ、２Ｈ）、６．１３（ｍ、２Ｈ）、６．４３（ｍ、
２Ｈ）、６．８５〜７．４６（ｍ、１１Ｈ）、８．００
（ｄ、２Ｈ）、８．１４（ｄ、２Ｈ）

【０１６３】＜実施例１＞〔液晶組成物の調製（１）〕 式（ａ−１）

【０１６４】

【化７４】 で表わされる液晶性アクリレート化合物５０重量部及び
式（ａ−４）

【０１６５】

【化７５】

【０１６６】で表わされる液晶性アクリレート５０重量
部から成る組成物（Ａ）を調製した。組成物（Ａ）は、
室温（２５度）でネマチック液晶相を呈した。ネマチッ
ク相−等方性液体相転移温度は４６度であった。また、
５８９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６
６２で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１０、複屈折率
は０．１５２であった。

【０１６７】合成例１で得た式（Ｓ１０）で表わされる
液晶性アクリレート化合物１０重量部及び組成物（Ａ）
９０重量部から成る組成物（Ｂ）を調製した。組成物
（Ｂ）は、１３度からネマチック液晶相を呈した。ネマ
チック相−等方性液体相転移温度は５１度であった。

【０１６８】＜実施例２＞〔液晶組成物の調製（２）〕 実施例１で得た式（Ｓ１０）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物３０重量部及び組成物（Ａ）７０重量部か
ら成る組成物（Ｃ）を調製した。組成物（Ｃ）は、−３
８度からネマチック液晶相を呈した。ネマチック相−等
方性液体相転移温度は６０度であった。

【０１６９】＜実施例３＞〔液晶組成物の調製（３）〕 実施例１で得た式（Ｓ１０）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物５０重量部及び組成物（Ａ）５０重量部か
ら成る組成物（Ｄ）を調製した。組成物（Ｄ）は、−３
８度からネマチック液晶相を呈した。ネマチック相−等
方性液体相転移温度は５６度であった。 ＜実施例４＞〔液晶組成物の調製（４）〕 実施例１で得た式（Ｓ１０）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物７０重量部及び組成物（Ａ）３０重量部か
ら成る組成物（Ｅ）を調製した。組成物（Ｅ）は、２度
からネマチック液晶相を呈した。ネマチック相−等方性
液体相転移温度は６４度であった。以上の実施例２から
実施例５に示したように合成例１で得た式（Ｓ１０）で
表わされる重合性液晶化合物は７０重量部以上までに組
成物（Ａ）との良い相溶性を示した。また、それらの組
成物は−３８度から６０度までの広い範囲でネマチック
液晶相を呈し、優れた液晶性を示した。

【０１７０】＜実施例５＞〔光学異方体の作製（１）〕 実施例２で調製した組成物（Ｂ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｆ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｆ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５度）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｆ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。

【０１７１】＜実施例６＞〔光学異方体の作製（２）〕 実施例３で調製した組成物（Ｃ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｇ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｇ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５度）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｇ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。

【０１７２】＜実施例７＞〔光学異方体の作製（３）〕 実施例４で調製した組成物（Ｄ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｈ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｈ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５度）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｈ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。

【０１７３】＜実施例８＞〔光学異方体の作製（４）〕 実施例５で調製した組成物（Ｅ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｉ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｉ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５度）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｉ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。

【０１７４】＜実施例９＞実施例７で調製した組成物
（Ｇ）５０重量部及び酢酸エチル５０重量部からなる組
成物（Ｊ）を調製した。次に、５cm角のガラス基板の表
面にポリイミド配向剤「ＡＬ１０５１」（ＪＳＲ製）を
用いて、膜厚約１００ナノメートルのポリイミド薄膜を
形成し、さらにポリイミド薄膜表面をラビング処理し
た。ラビング処理した表面上に、組成物（Ｊ）を乾燥膜
厚１０ミクロンになるようにコーティングした。酢酸エ
チルが自然乾燥する間に、組成物は大きく流動せず、良
好な膜厚均一性を保った。酢酸エチルを自然乾燥させた
後、窒素気流下でＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用いて２ｍ
Ｗ／cm²の紫外線を５分間照射して、組成物を重合させ
た。得られた重合物は方向によって屈折率が異なってお
り、光学異方体として機能することを確認することがで
きた。膜厚ムラは少なかった。

【０１７５】＜比較例１＞実施例６において、組成物
（Ｇ）に代えて、実施例１で調製した組成物（Ａ）９９
重量部、光重合開始剤「イルガキュアー６５１」（チバ
ガイギー社製）１重量部からなる組成物（Ｋ）を用いた
以外は、実施例９と同様にして、コーティングしたとこ
ろ、自然乾燥中に組成物が流動しやすく、膜厚均一性が
損なわれた。酢酸エチルを自然乾燥させた後、窒素気流
下でＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用いて２ｍＷ／cm²の紫
外線を５分間照射して、組成物を重合させた。得られた
重合物は方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することを確認することができたが、膜厚
ムラも観察された。

【０１７６】実施例９と比較例１から、本発明の重合性
液晶組成物の粘度は、コーティングに適した粘度に調整
されていることがわかる。本発明で使用する一般式
（１）の化合物は、粘度の調整剤としても有用である。

【０１７７】

【発明の効果】本発明で使用する重合性液晶化合物は、
ネマチック相を示す温度範囲が広く、且つ２５度以下の
温度域においてもネマチック相を示し、また、他の液晶
化合物との相溶性にも優れている。また、当該化合物を
含有する本発明の重合性液晶組成物は、コーティングに
適した粘度に調整することができる。従って、本発明の
重合性液晶組成物は、例えば、位相差板、偏光板、偏光
プリズム等の光学異方体、光導波路、圧電素子、非線形
光学素子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等
の選択反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤へ
の応用に極めて有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 19/30 Ｃ０９Ｋ 19/30 19/32 19/32 19/34 19/34 19/38 19/38 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ ５０５ ５０５ Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA05 BA06 BA42 BC04 BC05 2H088 EA45 EA47 EA48 HA16 HA18 HA23 JA14 JA17 JA20 MA20 4H027 BA01 BA11 BD02 BD24 CB02 CH05 CM02 4J036 AC01 JA15 4J100 AE76P AL66P AL74P AM23P AM54P BA02P BA15P BB07P BC04P BC07P BC12P BC23P BC43P BC49P BC58P BC69P BC73P CA01 JA32

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２以上の環構造を有する液晶性骨格と、
   一般式 【化１】 ［式中、Ｐ¹は、重合性官能基を表わす。Ｓ¹は、エチレ
   ン基又はプロピレン基を表し、Ｓ^２はエステル結合又は
   エーテル結合を表し、ｍは１又は２を表し、Ｓ^３は−
   （ＣＨ₂）_V−、−（ＣＨ₂）_VＯ−、−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｏ
   −Ｃ（＝Ｏ）−又は−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−
   （Ｖは、１〜２０の整数を表わす。）で表わされる連結
   鎖を表し、Ａ¹及びＥ¹は、おのおの独立的に、炭化水素
   環又はヘテロ環を表わす。ただし、Ｅ¹は、液晶性骨格
   に含まれる環である。Ｄ¹は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（Ｃ
   Ｈ₂）_Ｗ−Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_Ｗ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、
   −Ｏ−（ＣＨ₂）_Ｗ−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（Ｃ
   Ｈ₂）_Ｗ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ− （ｗは、１〜１５の整数
   を表わす。）で表わされる連結鎖を表わす。］で表わさ
   れる部分構造を有する化合物（ｃ１）を含有することを
   特徴とする重合性液晶組成物。
2. 【請求項２】 化合物（ｃ１）が、一般式（ｃ２） 【化２】 ［式中、Ｐ²及びＰ³は、おのおの独立的に、（メタ）ア
   クリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニ
   ル基、エポキシ基、ビニルオキシ基及びマレイミド基か
   らなる群から選ばれる重合性官能基を表わす。Ｓ^４及び
   Ｓ^９は、おのおの独立的にエチレン基又はプロピレン基
   を表し、Ｓ^５及びＳ^８はエステル結合又はエーテル結合
   を表し、ｍ及びｎは０〜２の整数を表し、且つｍ＋ｎは
   １〜４の整数を表す。Ｓ^６及びＳ^７は−（ＣＨ₂）_V−、
   −（ＣＨ₂）_VＯ−、−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
   又は−（ＣＨ₂）_Ｖ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（Ｖは、１〜２
   ０の整数を表わす。）で表わされる連結鎖を表し、
   Ａ²、Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹は、おのおの独立的に、 【化３】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）からなる群から
   選ばれる環構造を表わす。Ｄ²及びＤ³は、おのおの独立
   的に、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ
   Ｈ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ、−
   Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ− （ｍ
   は、１〜１５の整数を表わす。）からなる群から選ばれ
   る連結鎖を表わす。Ｙ¹及びＹ²は、おのおの独立的に、
   単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−
   、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ
   −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）
   ₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、 −ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂
   −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ
   ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及び−ＯＣ
   （＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結基
   を表わす。ｒは、０〜３の整数を表わし、ｑは０又は１
   を表わす。］で表わされる化合物である請求項１記載の
   重合性液晶組成物。
3. 【請求項３】 一般式（ｃ２）で表わされる化合物が、
   Ａ²、Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹が 【化４】 であり、かつ、連結鎖Ｄ²及び連結鎖Ｄ³が、−Ｃ（＝
   Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−
   Ｃ（＝Ｏ）−（ｍは、１〜１５の整数を表わす。）であ
   る請求項２に記載の重合性液晶組成物。
4. 【請求項４】 一般式（ｃ２）で表わされる化合物が、
   連結鎖Ｓ^６及び連結鎖Ｓ^７が−（ＣＨ₂）_VＯ−（Ｖは、
   １〜２０の整数を表わす。）である請求項２に記載の重
   合性液晶組成物。
5. 【請求項５】 Ｐ²及びＰ³がともに（メタ）アクリロイ
   ルオキシ基である請求項２に記載の重合性液晶組成物。
6. 【請求項６】 請求項１に記載の重合性液晶組成物の重
   合体から構成される光学異方体。