JP2003055364A - ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロペントフラノース誘導体に関する新規製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】水酸基の活性化やハロゲン原子の導入等を行う
ことなく、簡便に二重結合を形成し、また廃棄上問題の
ある反応試薬を回避する。 【解決手段】２−デオキシ−ペントフラノース類に２，
２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−イミダゾリジンも
しくは２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−３，
４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジンを反応させるこ
とにより、２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロペン
トフラノース類を得る。 【効果】本発明の方法は、水酸基の活性化やハロゲン原
子の導入等を行う必要がなく、一つの反応だけで二重結
合を導入することができる簡便な製造法である。また、
廃棄上問題となる遷移金属等を使用しないので、工業的
製法に適している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、２，３−ジデオキ
シ−２，３−デヒドロペントフラノース誘導体に関する
新規な製造法である。

【０００２】

【従来の技術】２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ
ペントフラノース誘導体は、抗ウイルス作用、抗癌作
用、抗ＨＩＶ作用等を有し、医薬品として重要であるこ
とが知られている。そのために、様々な製造法の検討が
なされている。代表的な製法を例示すると、（Ｉ）リボ
ヌクレオシドの２’，３’位をオルト蟻酸メチルと反応
させ、さらにアシル化、脱炭酸を行う方法（ＷＯ９２０
２５１６）、（ＩＩ）リボヌクレオシドの２’位にハロ
ゲンを導入した後に、亜鉛等の遷移金属で処理する方法
（ＷＯ９２０９５９９）、（ＩＩＩ）デオキシリボヌク
レオシドの３’位の水酸基に、メシル等の脱離基を付加
した後に、テトラブチルアンモニウム フルオリド（Ｔ
ＢＡＦ）を反応させる方法（Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．
Ｃｈｅｍ．１９９１，８９７、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．
１９８７，３０，１２７０）などがある。

【０００３】（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の共通点として、脱水
反応を行うために、水酸基の活性化やハロゲン原子の導
入等の反応を必要とすることが挙げられる。また、（Ｉ
Ｉ）の亜鉛等の遷移金属の使用は、廃棄上の問題を有し
ており、工業的製法として好ましいとはいえない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、水酸
基の活性化やハロゲン原子の導入等を行うことなく、簡
便に二重結合を形成し、また廃棄上問題のある反応試薬
を回避することである。

【０００５】

【課題を解決する手段】従来の問題点を克服すべく鋭意
検討を行った結果、２−デオキシ−ペントフラノース類
に２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−イミダゾリ
ジンもしくは２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジンを反応させ
ることにより、２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ
ペントフラノース類が得られる新規製造法を見出した。
こうした方法は、水酸基の活性化やハロゲン原子の導入
等を行う必要がなく、一つの反応だけで二重結合を導入
することができる簡便な製造法である。また、廃棄上問
題となる遷移金属等を使用しない。こうした方法は、工
業的製法に適している。

【０００６】すなわち、本発明は［１］一般式（１）
［化８］

【０００７】

【化８】

【０００８】(式中、Ｒ１は、アルコキシ基、アシルオ
キシ基、もしくは核酸塩基またはその誘導体を表し、Ｒ
２はヒドロキシ保護基を表す。)で示される２−デオキ
シ−エリトロ−ペントフラノシド類と、もしくは、一般
式（２）［化９］

【０００９】

【化９】

【００１０】(式中、Ｒ１とＲ２は、前記と同一。) で
示される２−デオキシ−トレオ−ペントフラノシド類の
いずれか一方あるいは混合物を出発原料として、 一般
式（３）［化１０］

【００１１】

【化１０】

【００１２】（式中、Ｒ３〜Ｒ６は、置換または無置換
の飽和または不飽和のアルキル基、置換または無置換の
アリール基またはアラルキル基を表し、同一でも異なっ
ていてもよい。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合し
て、窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む
環を構成してもよい。また、Ｒ３とＲ５が結合して、窒
素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構
成してもよい。）で示される化合物と反応し、一般式
（４）［化１１］

【００１３】

【化１１】

【００１４】(式中、Ｒ１とＲ２は、前記と同一。)で示
される２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロペントフ
ラノース誘導体を得る製造法であり、［２］ 一般式
（３）で示される化合物が、一般式（５）［化１２］

【００１５】

【化１２】

【００１６】（式中、ｎは２または３の整数、Ｒ７及び
Ｒ８は炭素数１〜６の置換または無置換の飽和または不
飽和の低級アルキル基であり、同一でも異なっていても
よい。）で示される化合物である[１]に記載の方法であ
り、［３］ 一般式（３）で示される化合物が、一般式
（６）［化１３］

【００１７】

【化１３】

【００１８】で示される化合物である[１]に記載の方法
であり、［４］ 一般式（３）で示される化合物が、一
般式（７）［化１４］

【００１９】

【化１４】

【００２０】で示される化合物である[１]に記載の方法
であり、［５］ フッ素原子を含む金属塩の存在下で反
応させる［１］〜［４］の何れか一項に記載の方法であ
り、［６］ フッ素原子を含む金属塩がフッ化カリウム
である［５］に記載の方法であり、［７］ 一般式
（１）中、Ｒ１が炭素数１〜４のアルコキシ基、もしく
は炭素数１〜４を含むアシルオキシ基である［１］〜
［６］の何れか一項に記載の方法である。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の出発原料は、 一般式
（１）［化１５］

【００２２】

【化１５】

【００２３】(式中、Ｒ１は、アルコキシ基、もしくは
アシルオキシ基、もしくはプリンまたはピリミジン塩基
を表し、Ｒ２はヒドロキシ保護基を表す。)で示される
２−デオキシ−エリトロ−ペントフラノース類と、もし
くは、一般式（２）［化１６］

【００２４】

【化１６】

【００２５】(式中、Ｒ１とＲ２は、前記と同一。) で
示される２−デオキシ−トレオ−ペントフラノース類を
使用することができる。こうした化合物は、Ｌｉｅｂｉ
ｇｓＡｎｎ． Ｃｈｅｍ．１９９０，５９９、Ｃｈｅ
ｍ．Ｐａｒｍ．Ｂｕｌｌ．１９６７，１５，８９４、Ｅ
Ｐ４５０５８５等に記載された方法で合成できる。

【００２６】アルコキシ基とは、炭素数１〜４が好まし
く、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基等が例示されるが、これらに限定
されるものではない。

【００２７】アシルオキシ基とは、炭素数１〜５を含む
ものが好ましく、アセトキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ペンタ
ノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、バレリルオキシ
基等が例示されるが、これらに限定されるものではな
い。

【００２８】核酸塩基またはその誘導体としては、天然
型や非天然型の種々のプリン塩基やピリミジン塩基が例
示される。

【００２９】プリン塩基とは、アデニン、グアニン、ヒ
ポキサンチン、キサンチン、２−クロロプリン、６−ク
ロロプリン、２，６−ジクロロプリン、２−アミノ-６
−クロロプリン、２，６−ジアミノプリン、６−メルカ
プトプリン、６−メチルチオプリン、２−アミノプリン
等やこれらに保護基を付したものが例示されるが、これ
らに限定されるものではない。

【００３０】ピリミジン塩基とは、ウラシル、シトシ
ン、チミン、５−フルオロウラシル、５−クロロウラシ
ル、５−ブロモウラシル、５−ヨードウラシル、５−エ
チルウラシル、５−トリフルオロメチルウラシル等やこ
れらに保護基を付したものが例示されるが、これらに限
定されるものではない。

【００３１】水酸基の保護基におけるヒドロキシ保護基
とは、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的方
法によって除去される保護基を指す。そのような基とし
ては、ホルミル基、アシル基、シリル基、アルキル基、
アラルキル基、カルボニル基、スルホニル基があり、中
でも好ましくは、ホルミル基、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、シリル基、アルコキシアルキル基、ハロゲン
化アルキル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、脂肪族スルホニル
基、芳香族スルホニル基が挙げられる。

【００３２】脂肪族アシル基としては、アルキルカルボ
ニル基またはハロゲン置換された低級アルキルカルボニ
ル基が挙げられる。

【００３３】上記のアルキルカルボニル基の具体例とし
て、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、ペンタノイル基、ピバロイル基、バレリル
基、イソバレリル基、オクタノイル基、ノニルカルボニ
ル基、デシルカルボニル基、３−メチルノニルカルボニ
ル基、８−メチルノニルカルボニル基、３−エチルオク
チルカルボニル基、３，７−ジメチルオクチルカルボニ
ル基、ウンデシルカルボニル基、ドデシルカルボニル
基、トリデシルカルボニル基、テトラデシルカルボニル
基、ペンタデシルカルボニル基、ヘキサデシルカルボニ
ル基、１−メチルペンタデシルカルボニル基、１４−メ
チルペンタデシルカルボニル基、１３，１３−ジメチル
テトラデシルカルボニル基、ヘプタデシルカルボニル
基、１５−メチルヘキサデシルカルボニル基、オクタデ
シルカルボニル基などを例示することができる。

【００３４】また、ハロゲン置換された低級アルキルカ
ルボニル基の具体例として、クロロアセチル基、ジクロ
ロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロア
セチル基などを例示することができる。

【００３５】芳香族アシル基としては、アリールカルボ
ニル基、また置換芳香族アシル基としてハロゲン置換さ
れたアリールカルボニル基、低級アルキル化アリールカ
ルボニル基、低級アルコキシアリールカルボニル基、ニ
トロ化アリールカルボニル基、低級アルコキシカルボニ
ル化アリールカルボニル基、アリール化アリールカルボ
ニル基を挙げることができる。

【００３６】上記のアリールカルボニル基の具体例とし
て、ベンゾイル基、α−ナフトイル基、β−ナフトイル
基などを例示することができる。

【００３７】また、ハロゲン置換されたアリールカルボ
ニル基の具体例として、２−フルオロベンゾイル基、３
−フルオロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、
２−クロロベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、４
−クロロベンゾイル基、２−ブロモベンゾイル基、３−
ブロモベンゾイル基、４−ブロモベンゾイル基、２，４
−ジクロロベンゾイル基、２，６−ジクロロベンゾイル
基、３，４−ジクロロベンゾイル基、３，５−ジクロロ
ベンゾイル基などを例示することができる。

【００３８】また、低級アルキル化アリールカルボニル
基の具体例として、２−トルオイル基、３−トルオイル
基、４−トルオイル基、２，４，６−トリメチルベンゾ
イル基などを例示することができる。

【００３９】さらに、低級アルコキシアリールカルボニ
ル基の具体例として、２−アニソイル基、３−アニソイ
ル基、４−アニソイル基などを例示することができる。

【００４０】ニトロ化アリールカルボニル基の具体例と
して、２−ニトロベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル
基、４−ニトロベンゾイル基、３，５−ジニトロベンゾ
イル基などを例示することができる。

【００４１】さらに、低級アルコキシカルボニル化アリ
ールカルボニル基の具体例として、２−（メトキシカル
ボニル）ベンゾイル基などを例示することができる。

【００４２】アリール化アリールカルボニル基の具体例
として、４−フェニルベンゾイル基などを例示すること
ができる。

【００４３】シリル基としては、低級アルキルシリル
基、アリール基で置換された低級アルキルシリル基を挙
げることができる。

【００４４】低級アルキルシリル基の具体例として、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピル
ジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基、メチルジイソプロピルシリル基、トリイソプロピル
シリル基を例示することができる。

【００４５】アリール基で置換された低級アルキルシリ
ル基の具体例として、ジフェニルメチルシリル基、ジフ
ェニルイソプロピルシリル基、フェニルジイソプロピル
シリル基などを例示することができる。

【００４６】アラルキル基としては、低級アルキル基で
置換されたアラルキル基、低級アルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ニトロ基で置換されたアラルキル基、
ハロゲン置換されたアラルキル基、シアノ基で置換され
たアラルキル基、無置換もしくは置換されたトリチル基
を挙げることができる。

【００４７】これらの具体的な基を例示すると、２−メ
チルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベ
ンジル基、２，４，６−トリメチルベンジル基、２−メ
トキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メト
キシベンジル基、２−ニトロベンジル基、３−ニトロベ
ンジル基、４−ニトロベンジル基、２−クロロベンジル
基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、２
−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−ブロ
モベンジル基、２−シアノベンジル基、３−シアノベン
ジル基、４−シアノベンジル基、トリチル基、４−メト
キシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基など
が挙げられる。

【００４８】アラルキルオキシカルボニル基としては、
低級アルキル基で置換されたアラルキルオキシカルボニ
ル基、低級アルコキシ基で置換されたアラルキルオキシ
カルボニル基、ニトロ基で置換されたアラルキルオキシ
カルボニル基、ハロゲン置換されたアラルキルオキシカ
ルボニル基、シアノ基で置換されたアラルキルオキシカ
ルボニル基を挙げることができる。

【００４９】これらの具体例として、２−メチルベンジ
ルオキシカルボニル基、３−メチルベンジルオキシカル
ボニル基、４−メチルベンジルオキシカルボニル基、
２，４，６−トリメチルベンジルオキシカルボニル基、
２−メトキシベンジルオキシカルボニル基、３−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジル
オキシカルボニル基、２−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基、３−ニトロベンジルオキシカルボニル基、４−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、２−クロロベンジ
ルオキシカルボニル基、３−クロロベンジルオキシカル
ボニル基、４−クロロベンジルオキシカルボニル基、２
−ブロモベンジルオキシカルボニル基、３−ブロモベン
ジルオキシカルボニル基、４−ブロモベンジルオキシカ
ルボニル基、２−シアノベンジルオキシカルボニル基、
３−シアノベンジルオキシカルボニル基、４−シアノベ
ンジルオキシカルボニル基などを挙げることができる。

【００５０】アルコキシカルボニル基としては、低級ア
ルコキシカルボニル基、ハロゲン置換されたアルコキシ
カルボニル化合物、アルキルシリル基で置換されたアル
コキシカルボニル基を挙げることができる。

【００５１】低級アルコキシカルボニル基の具体例とし
て、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ
−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル基などを例示することができる。

【００５２】ハロゲン置換されたアルコキシカルボニル
基の具体例として、２，２，２−トリクロロエトキシカ
ルボニル基を、低級アルキルシリル基で置換されたアル
コキシカルボニル基の具体例として、２−トリメチルシ
リルエトキシカルボニル基などを例示することができ
る。

【００５３】アルキル基としては、メトキシメチル基、
エトキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−メトキ
シエトキシメチル基のようなアルコキシアルキル基、
２，２，２−トリクロロエチル基のようなハロゲン化ア
ルキル基、ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナ
フチルメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメ
チル基のようなアリール基で置換された低級アルキル基
が挙げられる。

【００５４】脂肪族スルホニル基としては、低級アルキ
ルスルホニル基またはハロゲン置換された低級アルキル
スルホニル基が挙げられる。

【００５５】低級アルキルスルホニル基の具体例として
は、メタンスルホニル基を、ハロゲン置換された低級ア
ルキルスルホニル基については、トリフルオロメタンス
ルホニル基が挙げられる。

【００５６】芳香族スルホニル基としては、無置換もし
くは置換されたアリールスルホニル基を挙げることがで
きる。

【００５７】無置換のアリールスルホニル基として、ベ
ンゼンスルホニル基を、置換されたものとして、ｐ−ト
ルエンスルホニル基などを例示することができる。ま
た、Ｒ１のアノマーの立体は、αとβのいずれでも良く
制限はない。また、αとβのいずれか一方のみ、もしく
は混合物でもよく、その形態を問わない。また、二重結
合を導入するものとして、一般式（３）［化１７］

【００５８】

【化１７】

【００５９】（式中、Ｒ３〜Ｒ６は、置換または無置換
の飽和または不飽和のアルキル基、置換または無置換の
アリール基またはアラルキル基を表し、同一でも異なっ
ていてもよい。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合し
て、窒素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む
環を構成してもよい。また、Ｒ３とＲ５が結合して、窒
素原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構
成してもよい。）で表される化合物が使用される。

【００６０】上記において、置換または無置換の飽和ま
たは不飽和のアルキル基は、炭素数１〜６の低級アルキ
ル、アルケニル基が好ましく、直鎖状または分岐してよ
い。

【００６１】低級アルキルの具体例として、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、シクロプロパン基、シクロヘキシル基等や、
メトキシエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル
基、２−メトキシエチル基、２−メトキシエトキシメチ
ル基ヘテロ原子を含む低級アルキル等が挙げられる。不
飽和のアルキル基として、アリル基、ブテニル基等が例
示される。

【００６２】置換または無置換のアリール基またはアラ
ルキル基は、置換される場合、炭素数１〜３の低級アル
キル基、ハロゲン、ニトロ基、炭素数１〜３の低級アル
コキシ基、アリル基が挙げられる。

【００６３】アリール基の例として、フェニル基、２−
メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチル
フェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２−
メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メ
トキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロ
フェニル基、４−ニトロフェニル基、３−フルオロフェ
ニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル
基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２
−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロ
モフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，６−
ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、
３，５−ジクロロフェニル基等が例示される。

【００６４】ベンジルの例としては、２−メチルベンジ
ル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、
２，４，６−トリメチルベンジル基、２−メトキシベン
ジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、
４−ニトロベンジル基、２−クロロベンジル基、３−ク
ロロベンジル基、４−クロロベンジル基、２−ブロモベ
ンジル基、３−ブロモベンジル基、４−ブロモベンジル
基等が例示される。

【００６５】Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合して、窒素
原子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構成
する例として、ピロリジン環、ピペリジン環等が挙げら
れる。

【００６６】Ｒ３とＲ５が結合して、窒素原子、または
窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構成するものとし
て、イミダゾリジン環、３，４，５，６−テトラヒドロ
−ピリミジン環等が挙げられる。

【００６７】これらは特開２０００−３８３７０公報に
記載された方法で合成できる。一般式（３）の例とし
て、ビス−ジメチルアミノ−ジフルオロメタン、ビス−
ジエチルアミノ−ジフルオロメタン、ビス−ジプロピル
アミノ−ジフルオロメタン、ビス−ジイソプロピルアミ
ノ−ジフルオロメタン、ビス−ジアリルアミノ−ジフル
オロメタン、ビス−ブチルアミノ−ジフルオロメタン、
ビス−ヘキシルアミノ−ジフルオロメタン、ビス（１−
ピロリジル）−ジフルオロメタン、ビス（１−ピペリリ
ジル）−ジフルオロメタン、ビス（Ｎ−メチル−Ｎ−フ
ェニル）ジフルオロメタン、２，２−ジフルオロ−１，
３−ジメチル−イミダゾリジン、２，２−ジフルオロ−
１，３−ジエチル−イミダゾリジン、２，２−ジフルオ
ロ−１，３−ジプロピル−イミダゾリジン、２，２−ジ
フルオロ−１，３−ジイソプロピル−イミダゾリジン、
２，２−ジフルオロ−１，３−ジアリル−イミダゾリジ
ン、２，２−ジフルオロ−１，３−ジブチル−イミダゾ
リジン、２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−イミ
ダゾリジン−４，５−ジオン、２，２−ジフルオロ−
１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−ピ
リミジン、２，２−ジフルオロ−１，３−ジエチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン、２，２−
ジフルオロ−１，３−ジプロピル−３，４，５，６−テ
トラヒドロ−ピリミジン、２，２−ジフルオロ−１，３
−ジイソプロピル−３，４，５，６−テトラヒドロ−ピ
リミジン、２，２−ジフルオロ−１，３−ジアリル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン、２，２−
ジフルオロ−１，３−ジブチル−３，４，５，６−テト
ラヒドロ−ピリミジン、２，２−ジフルオロ−１，３−
ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジ
ン、２，２−ジフルオロ−１，３−ジブチル−３，４，
５，６−テトラヒドロ−ピリミジン等が挙げられる。好
ましくは、２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−イ
ミダゾリジンと２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル
−３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジンである
が、特に限定されることはない。

【００６８】また、使用量は１当量以上あれば、特に限
定されることはないが、経済的観点から、１〜３当量が
好ましい。

【００６９】反応溶媒は、非プロトン性溶媒であれば、
特に限定されることはない。また、無溶媒で行ってもよ
い。非プロトン性溶媒として、芳香族系溶媒、エーテル
系溶媒、エステル系溶媒、ハロゲン系脂肪族溶媒、ニト
リル系溶媒、ウレア系溶媒が挙げられる。

【００７０】芳香族系溶媒の具体例として、１，２，４
−トリクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロ
ベンゼン、アニソール、トルエン、ニトロベンゼン等が
挙げられる。

【００７１】エーテル系溶媒の具体例として、イソプロ
ピルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等が挙げられる。ハロゲン系脂肪族溶媒
の具体例として、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げ
られる。

【００７２】ニトリル系溶媒の具体例として、アセトニ
トリル等が挙げられる。ウレア系溶媒の具体例として、
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルプロピレンウレア等が挙げられる。

【００７３】反応温度に関しては、−２０℃以上溶媒の
沸点以下であり、好適には室温以上溶媒の沸点以下であ
る。

【００７４】反応の際、塩基を加えなくても反応は進行
するが、必要あれば、塩基を加えて生成するフッ化水素
を捕獲することができる。

【００７５】塩基の例として、トリエチルアミン、ピリ
ジン、Ｎ，Ｎ’ジメチルアニリン等の三級アミン等が挙
げられる。

【００７６】フッ素を含む金属塩を添加することによっ
て、反応収率を挙げることができる。フッ素を含む金属
塩の具体例として、フッ化カリウム、フッ化セシウム、
フッ化銀、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化
銅等が挙げられる。好適には、フッ化カリウム、フッ化
ナトリウムである。その使用量は限定されることはない
が、５０当量以下が好ましい。

【００７７】

【実施例】以下に実施例により、本発明を更に詳細に示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７８】出発原料となるメチル ２−デオキシ−５
−Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−β−Ｄ−トレオ−
ペントフラノシド(以下、（Ｉ）と称する)はＬｉｂｉｇ
ｓＡｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９９０，１１３７、メチル ２
−デオキシ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−α
−Ｄ−エリトロ−ペントフラノシド(以下、（ＩＩ）と
称する)と、メチル ２−デオキシ−５−Ｏ−（４−フ
ェニルベンゾイル）−β−Ｄ−エリトロ−ペントフラノ
シド(以下、（ＩＩＩ）と称する) はＬｉｂｉｇｓ Ａ
ｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９９０，５９９に記載の方法で合成
した。

【００７９】［実施例１］（Ｉ）を出発原料とした、メ
チル ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ−５−Ｏ
−（４−フェニルベンゾイル）−β−Ｄ−ペントフラノ
ースの合成［化１８］

【００８０】

【化１８】

【００８１】窒素気流下、（Ｉ）５００ｍｇにアセトニ
トリル５ｍｌを加えて、２，２−ジフルオロ−１，３−
ジメチル−イミダゾリジン（以下、ＤＦＩと称する）４
５６ｍｇを滴下し、８５℃で４時間反応した。その後、
氷冷して、メタノール１ｃｃを加えた。さらに、飽和炭
酸水素ナトリウムを加えて、クロロホルムで抽出した。
抽出した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥して、カラムク
ロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が白色固
体として３３３ｍｇ（収率 ７１％）で得られた。^１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）３．４３ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）、４．４０（１Ｈ，ｍ）、４．４８（１Ｈ，ｍ）、
５．０５（１Ｈ，ｍ）、５．７６（１Ｈ，ｄ＝１．２２
Ｈｚ）、５．９５（１Ｈ，ｍ）、６．２２（１Ｈ，
ｍ）、７．４１（１Ｈ，ｍ）、７．４７（２Ｈ，ｍ）、
７．６５（４Ｈ，ｍ）、８．１２（２Ｈ，ｍ）

【００８２】［実施例２］（ＩＩ）を出発原料とした、
メチル ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ−５−
Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−β−Ｄ−ペントフラ
ノースの合成［化１９］

【００８３】

【化１９】

【００８４】実施例１の（Ｉ）を（ＩＩ）にする以外
は、同様に行った。得られた表題の化合物は白色固体で
１８０ｍｇ（収率 ３８％）

【００８５】［実施例３］（ＩＩＩ）を出発原料とし
た、メチル ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ−
５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−α−Ｄ−ペント
フラノースの合成［化２０］

【００８６】

【化２０】

【００８７】窒素気流下、（ＩＩＩ）１．００ｇにアセ
トニトリル１０ｍｌを加えて、ＤＦＩ０．９１ｇを滴下
し、８５℃で１時間反応した。その後、氷冷して、メタ
ノール２ｃｃを加えた。さらに、飽和炭酸水素ナトリウ
ムを加えて、クロロホルムで抽出した。抽出した有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥して、カラムクロマトグラフィ
ーにて精製した。得られた表題の化合物は白色固体で５
５９ｍｇ（収率 ５９％）^１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）３．４３ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）、４．４５（２Ｈ，ｍ）、５．２５（１Ｈ，ｍ）、
５．８８（１Ｈ，ｍ）、５．９３（１Ｈ，ｍ）、６．２
３（１Ｈ、ｄｔ、Ｊ＝１．２２、６．１０Ｈｚ）、７．
４１（１Ｈ，ｍ）、７．４７（２Ｈ，ｍ）、７．６４
（４Ｈ，ｍ）、８．１０（２Ｈ，ｍ）

【００８８】［実施例４］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 実施例１のアセトニトリル溶媒を、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン溶媒にする以外は同様に反応を行
った。反応液をＨＰＬＣにて定量すると、表題の化合物
が７７％であった。

【００８９】［実施例５］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 実施例４に、ＤＦＩを滴下する前に、４７０μｌのトリ
エチルアミンを加える以外は同様に反応を行った。反応
液をＨＰＬＣにて定量すると、表題の化合物が７９％で
あった。

【００９０】［実施例６］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 実施例１のアセトニトリル溶媒を、トルエン溶媒にする
以外は同様に反応を行った。反応液をＨＰＬＣにて定量
すると、表題の化合物が６４％であった。

【００９１】［実施例７］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 実施例１のアセトニトリル溶媒をクロロホルム溶媒にし
て、反応を還流する以外は同様に反応を行った。反応液
をＨＰＬＣにて定量すると、表題の化合物が６３％であ
った。

【００９２】［実施例８］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 実施例１のアセトニトリル溶媒をテトラヒドロフラン溶
媒にして、反応を還流する以外は同様に反応を行った。
反応液をＨＰＬＣにて定量すると、表題の化合物が６９
％であった。

【００９３】［実施例９］ （Ｉ）を出発原料とした、メチル ２，３−ジデオキシ
−２，３−デヒドロ−５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイ
ル）−β−Ｄ−ペントフラノースの合成 窒素気流下、２，２−ジフルオロ−１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン０．３６ｇ
にクロロホルム３．４ｇを加え、これに（Ｉ）１４０ｍ
ｇを溶解したクロロホルム２．５ｍｌを滴下し、還流下
で４時間反応した。冷却後、反応液をＨＰＬＣにて定量
すると、表題の化合物が９８％であった。

【００９４】［実施例１０］ フッ化カリウム存在下において、（Ｉ）を出発原料とし
た、メチル ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ−
５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−β−Ｄ−ペント
フラノースの合成 窒素気流下、アセトニトリル３ｍｌに、ＤＦＩ０．２７
ｇとスプレードライのフッ化カリウム０．３ｇを加え
て、これに（Ｉ）０．１０１ｇをアセトニトリル３ｍｌ
に溶解した溶液を滴下し、８５℃で１時間反応した。冷
却した後に、反応マスのＨＰＬＣ分析を行なった結果、
表題の化合物が９８％の反応収率で生成していることを
確認した。

【００９５】［実施例１１］ フッ化カリウム存在下において、（Ｉ）を出発原料とし
た、メチル ２，３−ジデオキシ−２，３−デヒドロ−
５−Ｏ−（４−フェニルベンゾイル）−β−Ｄ−ペント
フラノースの合成 窒素気流下、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン３ｍ
ｌに、ＤＦＩ０．３９ｇとスプレードライのフッ化カリ
ウム０．３ｇを加えて、これに（Ｉ）０．１１４ｇを
１，３−ジメチル−イミダゾリジノン３ｍｌに溶解した
溶液を滴下し、８５℃で１時間反応した。冷却した後
に、反応マスのＨＰＬＣ分析を行なった結果、表題の化
合物が９８％の反応収率で生成していることを確認し
た。

【００９６】

【発明の効果】本発明は、簡便に二重結合を導入するこ
とができ、また廃棄上問題となる遷移金属等を使用しな
い新規製造法である。こうした製造法は、工業的製法に
適している。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）［化１］ 【化１】 (式中、Ｒ１は、アルコキシ基、アシルオキシ基、もし
   くは核酸塩基またはその誘導体を表し、Ｒ２はヒドロキ
   シ保護基を表す。)で示される２−デオキシ−エリトロ
   −ペントフラノシド類と、もしくは、一般式（２）［化
   ２］ 【化２】 (式中、Ｒ１とＲ２は、前記と同一。) で示される２−
   デオキシ−トレオ−ペントフラノシド類のいずれか一方
   あるいは混合物を出発原料として、 一般式（３）［化３］ 【化３】 （式中、Ｒ３〜Ｒ６は、置換または無置換の飽和または
   不飽和のアルキル基、置換または無置換のアリール基ま
   たはアラルキル基を表し、同一でも異なっていてもよ
   い。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合して、窒素原
   子、または窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構成し
   てもよい。また、Ｒ３とＲ５が結合して、窒素原子、ま
   たは窒素原子と他のヘテロ原子を含む環を構成してもよ
   い。）で示される化合物と反応し、一般式（４）［化
   ４］ 【化４】 (式中、Ｒ１とＲ２は、前記と同一。)で示される２，３
   −ジデオキシ−２，３−デヒドロペントフラノース誘導
   体を得る製造法。
2. 【請求項２】 一般式（３）で示される化合物が、一般
   式（５）［化５］ 【化５】 （式中、ｎは２または３の整数、Ｒ７及びＲ８は炭素数
   １〜６の置換または無置換の飽和または不飽和の低級ア
   ルキル基であり、同一でも異なっていてもよい。）で示
   される化合物である請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 一般式（３）で示される化合物が、一般
   式（６）［化６］ 【化６】 で示される化合物である請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 一般式（３）で示される化合物が、一般
   式（７）［化７］ 【化７】 で示される化合物である請求項１に記載の方法。
5. 【請求項５】 フッ素原子を含む金属塩の存在下で反応
   させる請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
6. 【請求項６】 フッ素原子を含む金属塩がフッ化カリウ
   ムである請求項５に記載の方法。
7. 【請求項７】 一般式（１）中、Ｒ１が炭素数１〜４の
   アルコキシ基、もしくは炭素数１〜４を含むアシルオキ
   シ基である請求項１〜６の何れか一項に記載の方法。