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JP2002518287A - Critical doping in high-Tc superconductors to obtain maximum flux spinning and critical current - Google Patents

Critical doping in high-Tc superconductors to obtain maximum flux spinning and critical current

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JP2002518287A
JP2002518287A JP2000555283A JP2000555283A JP2002518287A JP 2002518287 A JP2002518287 A JP 2002518287A JP 2000555283 A JP2000555283 A JP 2000555283A JP 2000555283 A JP2000555283 A JP 2000555283A JP 2002518287 A JP2002518287 A JP 2002518287A
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JP
Japan
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htsc
composition
hole concentration
temperature
adjusting
Prior art date
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JP2000555283A
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Japanese (ja)
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Inventor
ジェフリー ルイス ターロン
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Callaghan Innovation Research Ltd
Original Assignee
Industrial Research Ltd
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Publication date
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Publication of JP2002518287A5 publication Critical patent/JP2002518287A5/ja
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/80Constructional details
    • H10N60/85Superconducting active materials
    • H10N60/855Ceramic superconductors
    • H10N60/857Ceramic superconductors comprising copper oxide

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁束のピン止め及び臨界電流密度を最大にする臨界的なドーピングを行って高いTcの超電導体を提供すること。 【解決手段】高温超電導性のキュプレート材料(HTSC)の臨界電流密度を最大化する方法であって、この方法は、ドーピング状態又はホール濃度を制御して、超電導転移温度(Jc)を最大化する材料のドーピング状態又はホール濃度を高くすること、及び性状状態の疑似ギャップを最小値まで減少させる値を採ることを含む。Jcはホール濃度がほぼ0.19で最大化する。HTSC化合物もクレームされている。 PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a superconductor having a high Tc by performing pinning of a magnetic flux and critical doping for maximizing a critical current density. A method for maximizing a critical current density of a high-temperature superconducting cuprate material (HTSC), wherein the method controls a doping state or a hole concentration to maximize a superconducting transition temperature (Jc). Increasing the doping state or hole concentration of the material to be formed and adopting a value that reduces the pseudo gap of the property state to a minimum value. Jc is maximized when the hole concentration is approximately 0.19. HTSC compounds have also been claimed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

本発明は、高温超伝導キュプレート(cuprate)材料(HTSC)の臨界電流密度を最大
にする、該キュプレート材料の製造方法を含み、該方法では、標準状態シュードギ
ャップ(pseudogap)が最小となる点近傍となるように、該材料のドーピング状態
またはホール濃度を調節する.
The present invention includes a method of manufacturing a high temperature superconducting cuprate material (HTSC) that maximizes the critical current density of the cuprate material, wherein the standard state pseudogap (pseudogap) is minimized. The doping state or hole concentration of the material is adjusted so as to be near the point.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

多くの高-Tc超伝導キュプレート(HTSC)が、液体窒素が沸騰する温度、即ち77K
を超える、超伝導転移温度Tcを持つことが知られている。それ故に、これらは発
電、分配(配電)、変換および制御から、高磁場マグネット、モーター、身体スキ
ャナー、テレコミュニケーションおよびエレクトロニクスに及ぶ、潜在的に多数
の用途を持つ。Tcの値は、例えばYBa2Cu3O7- δについては93K程度、例えばBi2Sr 2 CaCu2O8については95K、例えばBi2Sr2Ca2Cu3O10については109K、例えばTlBa2C
a2Cu3O10については120K、あるいはHgBa2Ca2Cu3O10については134K程度であり得
る。多くのこれら用途に対して、このようなTcの値単独では、77Kまたはそれ以上
の温度におけるこれらHTSCの有用性を保証しない。これら用途は、しばしばある
磁場の存在下で、大きな臨界電流密度Jcを必要とする。該HTSCの粒子が、結晶学
的に整列、あるいは組織化されていたとしても、また薄膜において一般的に達成さ
れるように、共に十分に焼結されて、該粒子間の弱い結合が排除されていたとし
ても、磁場の存在下での高い臨界電流は保証されない。該個々の粒子内に強力な
フラックススピンニング(flux pinning)が存在する場合にのみ、このような高い
電流が実現される。該フラックススピンニングのJcに対する寄与の簡単な尺度は
、凝縮エネルギーU0と、超伝導コヒーレンス長さξとの積、U0ξである。HTSC材
料の、磁場の存在下における高い臨界電流を維持する固有の能力の、もう一つの
尺度は、温度依存性不可逆場(irreversibility field)、H*(T)である。H*を超え
る磁場に対して、磁化は可逆的であり、従って散逸性であり、一方H*に満たない磁
場に対しては不可逆性、即ち実質的に非-散逸性である。与えられた温度に対し
て、H*が大きい場合、該温度における、磁場H<H*に対する該臨界電流密度は、高い
ものである可能性がある。該不可逆性磁場に関する多くのモデルは、H*∝λL -2
有し、ここでλLは、面内ロンドン侵入深さである。従って、λLを最小化(λL -2
最大に)した場合、H*を最大にすることができる。
 Many high-Tc superconducting cuprates (HTSC) are at the temperature at which liquid nitrogen boils,
It is known to have a superconducting transition temperature Tc of over. Therefore, these
From electricity, distribution (distribution), conversion and control to high-field magnets, motors,
Potentially large numbers, ranging from channel, telecommunications and electronics
With the use of. The value of Tc is, for example, YBaTwoCuThreeO7- δAbout 93K, such as BiTwoSr Two CaCuTwoO8About 95K, for example BiTwoSrTwoCaTwoCuThreeOTenAbout 109K, for example TlBaTwoC
aTwoCuThreeOTenAbout 120K or HgBaTwoCaTwoCuThreeOTenAbout 134K
You. For many of these applications, such a Tc value alone would be 77K or higher
The utility of these HTSCs at different temperatures is not guaranteed. These uses are often
It requires a large critical current density Jc in the presence of a magnetic field. The HTSC particles are crystallographically
Even when thinly aligned or organized, but also generally achieved in thin films
Sintered together so that the weak bonds between the particles were eliminated.
However, a high critical current in the presence of a magnetic field is not guaranteed. Strong within the individual particles
Only when flux pinning is present is this high
A current is realized. A simple measure of the contribution of the flux spinning to Jc is
, Condensation energy U0And the superconducting coherence length ξ, U0ξ. HTSC material
Of the inherent ability of the material to maintain a high critical current in the presence of a magnetic field
The measure is the temperature dependent irreversibility field, H * (T). Over H *
For a given magnetic field, the magnetization is reversible and therefore dissipative, while the magnetic field is less than H *.
It is irreversible, ie substantially non-dissipative, to the field. For a given temperature
Therefore, when H * is large, the critical current density for the magnetic field H <H * at the temperature is high.
Could be something. Many models for the irreversible magnetic field are H * ∝λL -2To
Where λLIs the in-plane London penetration depth. Therefore, λLIs minimized (λL -2To
H * can be maximized.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

HTSCは、その特性がドープした電子担体の濃度と共に変動するという、基本的
に重要な特徴をもつ。これら担体は、略してホールとも呼ばれる、電子ホールであ
る。このホールの濃度は、化学的置換により、あるいは酸素濃度を変更することに
より、変えることができる。一般的に、高原子価原子を低原子価原子で置換する
ことにより、あるいは該酸素濃度を高めることにより、このホールの濃度を増大
することができる。低原子価原子を高原子価原子で置換することにより、あるい
は酸素濃度を減じることによって、該ホール濃度pを下げることができる。かく
して、ドープされていない(アンドープの)絶縁体であるLa2CuO4では、該ホール
濃度は、該La3+を、Sr2+で置換することにより、ゼロから増大する。YBa2Cu3O7
では、該ホール濃度は、Ba2+をLa3+で置換することにより、あるいは式:YB2Cu3O 7- δ (ここで、δは0から1に高めることができる)におけるように、酸素含有率を
減じることによって、下げることができる。δ=1である場合、ドープされていない
絶縁体中のこの化合物は、La2CuO4と同様である。該ホール濃度を、該ドープされ
ていない絶縁状態から高めることにより、該HTSCは、結果的に低温において超伝
導性となる。この(低)閾値ホール濃度は、例えば約p=0.05である。
 HTSC has the fundamental property that its properties vary with the concentration of the doped electron carrier.
It has important features. These carriers are electron holes, also called holes for short.
You. The hole concentration is determined by chemical substitution or by changing the oxygen concentration.
More can be changed. In general, replace higher valence atoms with lower valence atoms
Or increase the oxygen concentration to increase the hole concentration
can do. By replacing low-valent atoms with higher-valent atoms,
Can reduce the hole concentration p by reducing the oxygen concentration. Scratch
The undoped (undoped) insulator LaTwoCuOFourThen, the hall
The concentration is La3+, Sr2+, The value increases from zero. YBaTwoCuThreeO7
Then, the hole concentration is Ba2+To La3+Or by replacing the formula: YBTwoCuThreeO 7- δ (Where δ can be increased from 0 to 1).
By reducing it, it can be lowered. Undoped if δ = 1
This compound in the insulator is LaTwoCuOFourIs the same as The hole concentration is
By increasing from an uninsulated state, the HTSC can consequently superconduct at low temperatures.
It becomes conductive. This (low) threshold hole concentration is, for example, about p = 0.05.

【0004】 このホール濃度が、極めて高く、上限閾値を越えて増大した場合には、該HTSC材料
は、最低温度においてさえ、非-超伝導性金属となる。この上限閾値は、約p=0.27
である。これら下限および上限閾値間で、Tcは該下限閾値におけるゼロから、約p=
0.16の最大まで滑らかに増大し、次いで該上限閾値におけるゼロまで滑らかに低
下する。ホール濃度に伴うこの変動におけるTcの最大値は、Tc,maxであり、かつ
これは、しばしば最適ドーピングと呼ばれるホール濃度にて起こる。ホール濃度
に伴うこのTcの変動は、Tc(p)=Tc,max[1-82.6 (p-0.162)]によって近似される、
ほぼ放物線状の変化を伴い、結果として上記のように、Tcはp≒0.16において最
大となる。最適ドーピングにおいて、該室温熱電能は、Q(290K)=+2μV/Kなる値を
とる(Tallon等,米国特許第5,619,141号、これを本発明の参考文献とする)。該ホ
ール濃度が最適ドーピング未満である場合、該HTSC材料はアンドープであると言
われ、また該ホール濃度が最適ドーピングよりも大きい場合、該材料はオーバード
ープであると言われる。従って、最適ドーピングは、他のドーピング状態に言及す
る際の、重要なドーピング状態であると考えられる。本発明以前において、HTSC
における超伝導性を最適化するための一般的な基準は、Tcを最大にすることであ
った。
If the hole concentration is very high and increases above the upper threshold, the HTSC material becomes a non-superconducting metal, even at the lowest temperatures. This upper threshold is about p = 0.27
It is. Between these lower and upper thresholds, Tc is from about zero at the lower threshold to about p =
Increases smoothly to a maximum of 0.16 and then smoothly decreases to zero at the upper threshold. The maximum value of Tc in this variation with hole concentration is Tc, max, and this occurs at a hole concentration often referred to as optimal doping. This variation of Tc with hole concentration is approximated by Tc (p) = Tc, max [1-82.6 (p-0.16 2 )],
With a substantially parabolic change, as described above, Tc is maximized at p ≒ 0.16. For optimal doping, the room temperature thermoelectric power has a value of Q (290K) = + 2 μV / K (Tallon et al., US Pat. No. 5,619,141, which is a reference of the present invention). If the hole concentration is less than optimal doping, the HTSC material is said to be undoped, and if the hole concentration is greater than optimal doping, the material is said to be overdoped. Thus, optimal doping is considered to be an important doping state when referring to other doping states. Prior to the present invention, HTSC
A general criterion for optimizing the superconductivity in was to maximize Tc.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

広義の一局面において、本発明は、高温超伝導キュプレート材料(HTSC)の臨界
電流密度(Jc)を最大にするための、該高温超伝導キュプレート材料の製造方法を
含み、この本発明の方法は、該材料のドーピング状態またはそのホール濃度を、最
大超伝導転移温度(Tc)を与える、該材料のドーピング状態またはそのホール濃度
よりも高くなるように制御して、該材料の臨界電流密度を高める工程を含む。 広義のもう一つの局面によれば、本発明は高温超伝導キュプレート材料(HTSC)
を含み、該HTSCは、最大超伝導転移温度(Tc)を得るための材料のドーピング状態
またはホール濃度よりも高く、かつ該材料に関する標準状態シュードギャップが
、最小値まで減少し、しかも該材料の臨界電流密度(Jc)を最大にする値近傍にあ
る、ドーピング状態またはホール濃度を持つことを特徴とする。
In one broad aspect, the invention includes a method of manufacturing a high-temperature superconducting cuprate material (HTSC) to maximize the critical current density (Jc) of the high-temperature superconducting cuprate material, The method comprises controlling the doping state of the material or its hole concentration to be higher than the doping state of the material or its hole concentration, which gives the maximum superconducting transition temperature (Tc), and the critical current density of the material. Including the step of increasing According to another aspect in a broad sense, the present invention relates to a high-temperature superconducting cuprate material (HTSC)
Wherein the HTSC is higher than the doping state or hole concentration of the material to obtain a maximum superconducting transition temperature (Tc), and the standard state pseudo gap for the material is reduced to a minimum value, and It has a doping state or a hole concentration near a value at which the critical current density (Jc) is maximized.

【0006】 驚いたことに、我々は、Tcを最大にするための該最適のドーピングが、フラック
ススピンニング、U0、λL -2または該臨界電流密度Jcを最大にするための最適ド
ーピングではないことを見出した。我々は、Jc、フラックススピンニング、U0
λL -2が、Tcを最大にするドーピング状態またはホール濃度よりも高いドーピン
グ状態またはホール濃度において、即ち標準状態シュードギャップ(pseudogap)
が最小に減少する点近傍、特に該ホール濃度が0.18≦p≦0.20となる点近傍、およ
び最も具体的にはp=0.19またはp=0.19±0.005近傍において、最大になることを見
出した。我々は、このことが、アンダードープ(underdoped)および僅かにオーバ
ードープの領域を横切る、相関状態の存在によるものと考える。該相関状態は、
準粒子励起スペクトル中の低-エネルギースペクトルの重みを減じる。このスペ
クトルの重みにおける減少が、上記のシュードギャップと呼ばれ、またしばしば誤
ってスピンギャップ(spin gap)と呼ばれる。このシュードギャップは、標準状態
エントロピーおよび妨害感受性(susceptibility)における減少として現れる。該
妨害感受性は、超伝導性を著しく抑制し、あらゆるその尺度はTc、凝縮エネルギ
ーおよび超流体密度を含む。該シュードギャップエネルギーEgは、ナイトシフト
(Knight shift)の標準状態温度依存性、Ks(T)を、式:Ks(T)=K0[1-tanh2(Eg/2kT
)+Kcに当てはめることにより、決定することができ、ここでKcは化学シフトである
。Egは、またエントロピーの標準状態温度依存性、S(T)を、式:S(T)/T= g0[ta
nh2(Eg/2kT)]に当てはめることにより決定できる。ここで、g0は定数である。
Surprisingly, we have found that the optimal doping to maximize Tc is the optimal doping to maximize flux spinning, U 0 , λ L -2 or the critical current density Jc. Not found. We use Jc, flux spinning, U 0 ,
λ L -2 is at a doping state or hole concentration higher than the doping state or hole concentration that maximizes Tc, i.e., the standard state pseudogap
Was found to be maximum near the point where decreases to a minimum, particularly near the point where the hole concentration is 0.18 ≦ p ≦ 0.20, and most specifically near p = 0.19 or p = 0.19 ± 0.005. We attribute this to the existence of a correlation state across the underdoped and slightly overdoped regions. The correlation state is
Reduce the weight of low-energy spectra in quasiparticle excitation spectra. This reduction in spectral weight is referred to as the pseudogap described above, and is often incorrectly referred to as the spin gap. This pseudogap manifests itself as a decrease in normal state entropy and susceptibility. The disturbance susceptibility significantly suppresses superconductivity, and all its measures include Tc, condensation energy and superfluid density. The pseudo gap energy Eg is the
The standard state temperature dependence of (Knight shift), Ks (T), is calculated by the formula: Ks (T) = K 0 [1-tanh 2 (Eg / 2kT
) + Kc, which can be determined where Kc is the chemical shift. Eg also describes the standard state temperature dependence of entropy, S (T), by the formula: S (T) / T = g 0 [ta
nh 2 (Eg / 2kT)]. Here, g 0 is a constant.

【0007】 典型的に、Egはホール濃度pの増大に伴って減少することがわかっている。Egを
決定するためのより洗練された手段が知られている(Tallon等, J. Phys. Chem.
Solids, 1998, 59:2145を参照のこと、これを本発明の参考文献とする)が、かく
して決定されたEgの値は、依然としてホール濃度の増加に伴って、ほぼ直線状に
減少する。また、より重要なことに、該Egの値は、p=0.19±0.005とほぼ同一の値
において、依然としてゼロまで減少する。
Typically, Eg has been found to decrease with increasing hole concentration p. More sophisticated means for determining Eg are known (Tallon et al., J. Phys. Chem.
Solids, 1998, 59: 2145, which is the reference of the present invention), but the value of Eg thus determined still decreases approximately linearly with increasing hole concentration. More importantly, the value of the Eg still decreases to zero at about the same value as p = 0.19 ± 0.005.

【0008】 この方法は、該HTSCをオーバードーピングして、特に該HTSCにおける個々の粒子
間の粒界領域をドープして、粒界を横切る臨界電流密度を最大にすることができ
る。このような粒界領域は、大部分の粒子内材料が最適にドープされた場合にお
いてさえまたはオーバードープされた場合においてさえ、アンダードープ状態と
なる傾向がある(Babcock等, Physica, 1994, C227:183を参照のこと)。該シュー
ドギャップは、しばしば該粒界領域中に局所的に存在し、効果的な超伝導オーダパ
ラメータ(order parameter)を局所的に減じ、かつ該粒子を弱く結合する。また
、不純物はこれら粒界に蓄積される傾向をもつ。HTSCは、d-ウエーブ(d-wave)オ
ーダパラメータを有し、これは不純物の存在に対して極めて敏感であり、Tcは、ド
ーピング状態に強く依存する速度:dTc/dyにて迅速に抑制される。該アンダード
ープ粒界領域Tcにおいて、該オーダパラメータおよび凝縮エネルギーは、該大部
分の粒子内物質におけるよりも、大きな不純物のばらつきのために、全てより一
層迅速に抑制される。アンダードープ粒界における不純物は、従って特に有害で
ある。かくして、該粒子内Jcは、高い可能性があるが、該粒子間Jcは、該粒界領
域の該アンダードープ状態のために、低くなる可能性がある。 本発明の方法は、塊状材料、ワイヤ、テープまたは他の導体エレメント、もし
くは厚膜または薄膜等としての、HTSCの製造において使用できる。
[0008] The method can overdope the HTSC, especially the grain boundary region between individual grains in the HTSC to maximize the critical current density across the grain boundary. Such grain boundary regions tend to be underdoped, even when most intragranular materials are optimally doped or overdoped (Babcock et al., Physica, 1994, C227: 183). The pseudo gap is often located locally in the grain boundary region, locally reducing the effective superconducting order parameter and weakly binding the particles. Further, impurities tend to be accumulated at these grain boundaries. HTSC has a d-wave order parameter, which is extremely sensitive to the presence of impurities, and Tc is rapidly suppressed at a rate highly dependent on the doping state: dTc / dy You. In the under-doped grain boundary region Tc, the order parameters and condensation energy are all suppressed more rapidly than in most of the intragranular materials due to large impurity variations. Impurities at the underdoped grain boundaries are therefore particularly harmful. Thus, the intragranular Jc may be high, but the intergranular Jc may be low due to the underdoped state of the grain boundary region. The method of the present invention can be used in the manufacture of HTSC, as a bulk material, wire, tape or other conductive element, or as a thick or thin film.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

本発明の方法において、該HTSCを製造するにあたり、該ドーピング状態または
ホール濃度を調節して、フラックススピンニングおよび臨界電流密度を最大にし
、臨界オーバードープホール濃度(ここでは、臨界ドーピング)またはその近傍
とし、該濃度において該標準状態シュードギャップは、最小化されもしくは消失
し、かつ結果としてその超伝導凝縮エネルギーは、急激に最大となり、かつロンド
ン侵入深さ、λLが急激に最小化される。この臨界ホール濃度は、熱電能、抵抗
率の温度依存性、あるフォノンモードの周波数のラマン測定を利用することによ
り、あるいは予め決められた酸素含有雰囲気内で、高温にて適当にアニーリング
することによって決定して、該臨界ドーピング状態を得ることができ、あるいは
比:Tc/Tc,maxから決定することができる。ここで、Tc,maxは、超伝導相曲線Tc(
p)において観測される、最大のTcであり、ほぼp=0.16において起こるものと予想
される。該HTSCのドーピング状態またはホール濃度は、カチオン置換により、ある
いは該材料の酸素含有率を、最大Tcを与える酸素含有率を超えて高めることによ
り、あるいはこれらの組み合わせにより調節することができる。
In the method of the present invention, in producing the HTSC, the doping state or the hole concentration is adjusted to maximize the flux spinning and the critical current density, and the critical over-doped hole concentration (here, critical doping) or its vicinity. At this concentration, the normal state pseudogap is minimized or vanished, and consequently its superconducting condensation energy sharply maximizes, and the London penetration depth, λ L, is sharply minimized. The critical hole concentration can be determined by thermoelectric power, temperature dependence of resistivity, Raman measurement of a certain phonon mode frequency, or by appropriately annealing at a high temperature in a predetermined oxygen-containing atmosphere. Once determined, the critical doping state can be obtained, or can be determined from the ratio: Tc / Tc, max. Here, Tc, max is the superconducting phase curve Tc (
This is the largest Tc observed in p) and is expected to occur at approximately p = 0.16. The doping state or hole concentration of the HTSC can be adjusted by cation substitution or by increasing the oxygen content of the material beyond the oxygen content that provides the maximum Tc, or by a combination thereof.

【0010】 臨界ドーピングを達成するためのカチオン置換は、オルタバレント (altervale
nt)置換、例えば123、247および124材料におけるR3+のCa2+、Li+、Na+またはK+
による置換、123、247および124材料におけるBa2+のLi+、Na+またはK+による置
換、Bi-2212、Tl-1212、Tl-2212およびHg-1212におけるCa2+のR3+による置換、B
i-2212およびBi-2223におけるBi3+のPb2+による置換、およびTl-1212およびTl-2
212におけるTl3+のPb4+による置換により行うことができる。例えば、化合物Tl0 .5 Pb0.5Sr2CaCu2O7は、固定された化学量論的な酸素含有率を有しており、従って
該酸素含有率を変更することにより、臨界ドーピングに調節することはできない
。調製の際に、この化合物は、Tc=79Kをもつようにオーバードープされ、予想され
るホール濃度はp=0.215であり、またCaサイトでの0.2-0.25Yによる置換またはSr
サイトでの0.2-0.25Laによる置換によって、該ドーピング状態は最適ドーピング
p=0.16まで減じることができ、ここでTcは105-107Kまで最大化される。本発明に
よれば、好ましくはこの化合物において0.12±0.04YでCaを置換し、あるいは0.12
±0.04LaでSrを置換して、臨界ドーピングを達成する。他の希土類元素を、この
並びに他のHTSC化合物において、同様な様式で利用することができる。但し、小
さな希土類元素は、好ましくはCaと置換すべきであり、また大きな希土類元素は、
好ましくはSrと置換すべきである。勿論、該SrおよびCaサイトにおける置換の組
み合わせを利用することも可能である。全く一般的に、任意のHTSC材料におけるL
i+置換は、該材料の該ホール濃度を高めるのに適している。
[0010] Cation substitution to achieve critical doping is based on altervale
nt) substitutions, e.g. Ca2 + , Li + , Na + or K + of R3 + in 123, 247 and 124 materials
, Replacement of Ba 2+ with Li + , Na + or K + in 123, 247 and 124 materials, replacement of Ca 2+ with R 3+ in Bi-2212, Tl-1212, Tl-2212 and Hg-1212 , B
Replacement of Bi 3+ with Pb 2+ in i-2212 and Bi-2223, and Tl-1212 and Tl-2
This can be done by replacing Tl 3+ at 212 with Pb 4+ . For example, the compound Tl 0 .5 Pb 0.5 Sr 2 CaCu 2 O 7 has a fixed stoichiometric oxygen content, therefore by changing the oxygen content is adjusted to a critical doping It is not possible. During preparation, this compound is overdoped with Tc = 79K, the expected hole concentration is p = 0.215, and the substitution at Ca sites by 0.2-0.25Y or Sr
With the substitution of 0.2-0.25La at the site, the doping state is optimized doping
It can be reduced to p = 0.16, where Tc is maximized to 105-107K. According to the invention, preferably the compound is substituted with 0.12 ± 0.04Y for Ca, or
Substitute Sr with ± 0.04La to achieve critical doping. Other rare earth elements can be utilized in this and other HTSC compounds in a similar manner. However, small rare earth elements should preferably be replaced with Ca, and large rare earth elements
Preferably it should be replaced with Sr. Of course, it is also possible to use a combination of substitution at the Sr and Ca sites. Quite generally, L in any HTSC material
The i + substitution is suitable for increasing the hole concentration of the material.

【0011】 臨界ドーピングを達成するための酸素化は、酸素含有雰囲気内での公知のアニ
ーリングにより、あるいは電気化学的手段を利用した滴定により達成できる。任
意のHTSCにおける臨界ドーピングに必要なこの酸素含有率を達成するためには、1
気圧を超える酸素圧の使用、または該HTSCを製造するのに従来使用された温度よ
りも低いアニーリング温度の利用を必要とする可能性がある。該HTSCの密度に依
存して、このようなアニーリングは、平衡化するのに多くの日数を要する可能性
があり、また酸素の取り込み速度が高い、より高い温度にてより高い酸素圧を使
用することが一層有利であり、あるいは注意深い置換と、このような完全な酸素
化を必要としない酸素化との組み合わせの利用が、より有利であり得る。カチオ
ンのオルタバレント置換は、酸素含有率を変更する傾向がある。従って、R3+のCa2 + による置換は、同一のアニーリング条件下で、未置換の該化合物に対してより大
きな酸素欠損(大きなδ)をもたらす。この大きな酸素欠損は、低温酸素アニーリ
ングにより排除できる。従って、YBa2Cu3O7- δの完全な酸素化は、酸素中で380℃
にてアニーリングすることにより達成でき、Y1-xCaxBa2Cu3O7- δ(例えば、x=0.2
)の完全な酸素化は、低温、例えば300-350℃を必要とする。このような低温は、よ
り長いアニーリング時間を要する。同様な考察は、R-247に対しても適用される
[0011] Oxygenation to achieve critical doping can be achieved by known annealing in an oxygen-containing atmosphere or by titration using electrochemical means. To achieve this oxygen content required for critical doping in any HTSC, 1
It may require the use of oxygen pressures above atmospheric pressure or the use of annealing temperatures lower than those conventionally used to produce the HTSC. Depending on the density of the HTSC, such annealing can take many days to equilibrate and use higher oxygen pressures at higher temperatures, where oxygen uptake rates are high It may be even more advantageous, or it may be more advantageous to use a combination of careful substitution and oxygenation that does not require such complete oxygenation. Alternative replacement of the cation tends to alter the oxygen content. Thus, substitution by Ca 2 + in the R 3+ is the same annealing conditions, resulting in a greater oxygen deficiency (large [delta]) relative to the compound unsubstituted. This large oxygen deficiency can be eliminated by low-temperature oxygen annealing. Therefore, complete oxygenation of YBa 2 Cu 3 O 7- δ is 380 ° C. in oxygen.
Can be achieved by annealing at Y 1-x Ca x Ba 2 Cu 3 O 7- δ (for example, x = 0.2
) Requires a low temperature, for example 300-350 ° C. Such low temperatures require longer annealing times. Similar considerations apply to R-247.

【0012】 このHTSC材料は、Bi-Sr-Ca-Cu-Oを主成分とする材料、例えば名目上の組成:Bi2 Sr2CaCu2O8+ δのBi-2212(ここで、0≦δ≦0.35)、あるいは名目上の組成:Bi2Sr 2 Ca2Cu3O10+ δのBi-2223(ここで、0≦δ≦0.35)であり得る(ここで、BiはPb、Hg
、Re、Os、Ru、Tl、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、CoまたはSmで部分的に置換
でき、あるいはSrはBaまたは大きなランタノイド希土類元素で部分的に置換でき
、またCaはYまたは例えばランタノイド希土類元素で部分的に置換でき、またこれ
ら化学式において、当分野では、このような酸化物材料では、化学量論量におけ
る僅かな変化は普通のことであると認識されている)。Bi-2212およびBi-2223に
おいて、Biは通常部分的にPbで置換されており、従ってBiはBi1-zPbzであり得る(
ここで、0≦z≦0.3である)。特に好ましい化合物は、Bi2+eSr2CaCu2O8+ δ、Bi2+x+ e Sr2-x-yCa1+yCu2O8+ δ、Bi2+eSr2Ca2Cu3O10+ δおよびBi2+x+eSr2-xCa2Cu3O10+
δ(ここで、0<(eおよびxおよび±y)≦0.4)およびBi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1Cu2O8+ δ
含む。Bi-2212およびBi-2223のドーピング状態は、例えばBi-2212におけるCaを
、あるいはBi-2212およびBi-2223のBiをRで置換(ここで、RはYまたは任意の他の
ランタノイド希土類元素である)することによる、あるいはδを変更することによ
る、カチオン置換(これはホール濃度pを高める)によって変えることができる。
The HTSC material is a material containing Bi-Sr-Ca-Cu-O as a main component, for example, a nominal composition: BiTwo SrTwoCaCuTwoO8+ δBi-2212 (where 0 ≦ δ ≦ 0.35) or nominal composition: BiTwoSr Two CaTwoCuThreeO10+ δBi-2223 (where 0 ≦ δ ≦ 0.35) (where Bi is Pb, Hg
, Re, Os, Ru, Tl, V, Cr, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, W, Co or Sm
Or Sr can be partially replaced by Ba or a large lanthanoid rare earth element
, Or Ca can be partially replaced by Y or, for example, a lanthanoid rare earth element,
In the chemical formula, it is known in the art that for such oxide materials, stoichiometric
Small changes are perceived to be normal). Bi-2212 and Bi-2223
Where Bi is usually partially substituted with Pb, so Bi is Bi1-zPbzCan be (
Here, 0 ≦ z ≦ 0.3). Particularly preferred compounds are Bi2 + eSrTwoCaCuTwoO8+ δ, Bi2 + x + e Sr2-xyCa1 + yCuTwoO8+ δ, Bi2 + eSrTwoCaTwoCuThreeO10+ δAnd Bi2 + x + eSr2-xCaTwoCuThreeO10+
δ(Where 0 <(e and x and ± y) ≦ 0.4) and Bi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1CuTwoO8+ δTo
Including. Bi-2212 and Bi-2223 doping state, for example, Ca in Bi-2212
Or the Bi of Bi-2212 and Bi-2223 is replaced with R (where R is Y or any other
Lanthanoid rare earth element) or by changing δ
Cation substitution, which increases the hole concentration p.

【0013】 Bi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1Cu2O8+ δに対しては、例えば酸素分圧0.1バール中で、約(570
±15) ℃にて、あるいは同一のδ値を与える、温度と酸素分圧の組み合わせにお
いて、該HTSCをアニーリングすることによりδを固定することができる。ほんの
僅かなδにおける変動性が、Bi-2223において可能であり、これはホール濃度をほ
んの僅かに変更する。Bi-2212は、p≒0.22または0.225まで完全に酸素化するこ
とにより実質的にオーバードープされ、一方Bi-2223はp≒0.17または多くても0.1
8までドープされるに過ぎない。別の方法として、Bi-2223材料は、Bi-2223内でBi
-2212が相互成長するように、調製できる。Bi-2223内でのBi-2212の相互成長は
、前者のドーピング状態を高める。このようなホール-ドーピング相互成長は、Ca
サイトにおいて極少量(<1%好ましくは<0.1%)のYまたはランタノイド希土類元素
で置換することにより導入できる。好ましい形態において、Bi1.8Pb0.3Sr1.9Ca2C
u3O10+ δには、Bi1.8Pb0.3Sr1.9CaCu2O8+ δの相互成長を組み込むことができ、Bi 1.75 Pb0.35Sr1.9Ca2Cu3O10+ δには、Bi1.75Pb0.35Sr1.9CaCu2O8+ δの相互成長を
組み込むことができ、Bi1.73Pb0.34Sr1.9Ca1.99Cu3.04O10+ δには、Bi1.73Pb0.34 Sr1.9CaCu2O8+ δの相互成長を組み込むことができ、Bi1.88Pb0.23Sr1.96Ca1.95Cu 2.98 O10+ δには、Bi1.88Pb0.23Sr1.96CaCu2O8+ δの相互成長を組み込むことがで
き、またBi1.84Pb0.28Sr1.93Ca1.98Cu2.96O10+ δには、Bi1.84Pb0.28Sr1.93CaCu2 O8+ δの相互成長を組み込むことができる。
[0013] Bi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1CuTwoO8+ δFor example, in an oxygen partial pressure of 0.1 bar, about (570
± 15) ° C or a combination of temperature and oxygen partial pressure giving the same δ value.
Then, δ can be fixed by annealing the HTSC. only
A slight variability in δ is possible with Bi-2223, which reduces the hole concentration by almost
Change slightly. Bi-2212 can be completely oxygenated up to p ≒ 0.22 or 0.225.
And Bi-2223 has p ≒ 0.17 or at most 0.1
It is only doped up to 8. Alternatively, the Bi-2223 material may contain Bi-2223 in Bi-2223.
-2212 can be prepared to grow together. The mutual growth of Bi-2212 in Bi-2223 is
Enhance the former doping state. Such hole-doping cross-growth is
Very little (<1%, preferably <0.1%) Y or lanthanoid rare earth element at the site
Can be introduced by substituting In a preferred form, Bi1.8Pb0.3Sr1.9CaTwoC
uThreeO10+ δThe Bi1.8Pb0.3Sr1.9CaCuTwoO8+ δCan incorporate the mutual growth of the Bi 1.75 Pb0.35Sr1.9CaTwoCuThreeO10+ δThe Bi1.75Pb0.35Sr1.9CaCuTwoO8+ δMutual growth
Can be incorporated, Bi1.73Pb0.34Sr1.9Ca1.99Cu3.04O10+ δThe Bi1.73Pb0.34 Sr1.9CaCuTwoO8+ δCan incorporate the mutual growth of the Bi1.88Pb0.23Sr1.96Ca1.95Cu 2.98 O10+ δThe Bi1.88Pb0.23Sr1.96CaCuTwoO8+ δCan incorporate the mutual growth of
Come again, Bi1.84Pb0.28Sr1.93Ca1.98Cu2.96O10+ δThe Bi1.84Pb0.28Sr1.93CaCuTwo O8+ δCan incorporate mutual growth.

【0014】 該HTSCは、R-Ba-Ca-CuOを主成分とするHTSC、例えば該材料R-123であり得、こ
れは名目上の組成:Rba2Cu3O7- δをもつものであり(ここで、RはYまたはランタ
ノイド希土類元素またはその組み合わせであり、かつ0≦δ≦0.5であり(また、R
は部分的にCaにより置換されていてもよく、またBaは部分的にSr、LaまたはNd等
により置換されていてもよく、更に当分野では、僅かな化学量論量における変動
は、このような酸化物材料においては一般的であるものと認識されている)。臨
界ドーピングは、好ましくは場合によりカチオン置換、例えばRの、Ca、Li、Na
またはKによる、あるいはBaのLi、NaまたはKによる置換と組み合わせた、δ≦0.
05までの酸素化によって達成される。臨界ドーピングは、R=Yについては点δ=0
に極めて近い点にまで達成され、また小さな希土類元素、例えばTlまたはLuについ
ては、ゼロに近いが>0のδまで達成される。好ましくは、Rが大きな希土類元素で
ある場合、少量のCaをRと置換して、臨界ドーピングを達成することができる。大
きな希土類元素に対しては、単にδをゼロ近傍に減じることによって、該臨界ド
ーピング状態を達成することはできない。
The HTSC may be an HTSC based on R-Ba-Ca-CuO, such as the material R-123, which has a nominal composition: Rba 2 Cu 3 O 7- δ. Yes (where R is Y or a lanthanoid rare earth element or a combination thereof, and 0 ≦ δ ≦ 0.5 (and R
May be partially substituted by Ca, Ba may be partially substituted by Sr, La or Nd, etc., and furthermore, in the art, slight variations in stoichiometric It is recognized as being common in various oxide materials). The critical doping is preferably optional cation substitution, e.g. of R, Ca, Li, Na
Or K, or in combination with replacement of Ba by Li, Na or K, δ ≦ 0.
Achieved by oxygenation up to 05. The critical doping is the point δ = 0 for R = Y
, And for small rare earth elements, such as Tl or Lu, close to zero but to δ of> 0. Preferably, when R is a large rare earth element, a small amount of Ca can be replaced with R to achieve critical doping. For large rare earth elements, the critical doping state cannot be achieved simply by reducing δ to near zero.

【0015】 これは、一部には幾分かのRがBaサイト上に残されているためであり、ここでRは
、大きな希土類元素であるが、このような置換を回避する適当な処理を利用した
としても、CuO連鎖からCuO2面への電荷移動は、臨界ドーピングを達成するには不
十分である。好ましい化合物は、R1-xCaxBa2Cu3O7- δ(ここで、0≦x≦0.35および
0≦δ≦0.5)およびR1-xLixBa2Cu3O7- δ(ここで、0≦x≦0.35および0≦δ≦0.5)
であり、またここでxとδとを一緒に調節して、上記のように、銅-酸素面が臨界
ドーピングされるようにする。好ましくは、臨界ドーピングに比例して、δはで
きる限り小さくする。このように、好ましい形態においては、xに値を、典型的に
はx≦0.1となるように選択して、臨界ドーピングを、δ≦0.10となるように達成
する。x≦0.05およびδ≦0.03であることが、より一層好ましい。
This is due in part to the fact that some R is left on the Ba site, where R is a large rare earth element, and appropriate treatment to avoid such substitutions. However, the charge transfer from the CuO chain to the CuO 2 plane is insufficient to achieve critical doping. Preferred compounds are R 1-x Ca x Ba 2 Cu 3 O 7- δ (where 0 ≦ x ≦ 0.35 and
0 ≦ δ ≦ 0.5) and R 1-x Li x Ba 2 Cu 3 O 7- δ (where 0 ≦ x ≦ 0.35 and 0 ≦ δ ≦ 0.5)
And where x and δ are adjusted together such that the copper-oxygen surface is critically doped as described above. Preferably, δ is made as small as possible in proportion to the critical doping. Thus, in a preferred form, a value for x is chosen, typically such that x ≦ 0.1, to achieve critical doping such that δ ≦ 0.10. It is even more preferred that x ≦ 0.05 and δ ≦ 0.03.

【0016】 HTSCは、R−247でもよく、これは、呼称組成として、R2-xCaxBa 4 Cu715- δ(但し、Rは、Y又はランタニド稀土類元素又はその組合せであ
り、0≦δ≦0.5(及びRは、部分的にCaによって置換されていてもよく、
Baは、例えば、部分的にSr、La又はNdによって置換されていてもよく、
更に、化学量論量における小さな変化は、このような酸素化物材料において共通
であることは認識される。)である。)を有する。臨界的なドーピングは、例え
ば、RをCa、Li、Na又はKで置換したり、BaをLi、Na又はKで置換
するカチオン置換と任意に組合せて、δ≦0.5まで酸素化することによって行
う。好ましい化合物は、R2-xCaxBa4Cu715- δ(0≦x≦0.35及び
0≦δ≦0.5)及びR2-xLixBa4Cu715- δ(0≦x≦0.35及び0
≦δ≦0.5)であり、但し、x及びδは、銅−酸素面が、上記のように臨界的
にドープされるように一緒に調整される。好ましくは、δは、臨界的なドーピン
グと、できるだけ対応するように小さい。従って、好ましい形態においては、x
の値は、この臨界的なドーピングがδ≦0.10で達成されるように、典型的に
は、x≦0.1に選択される。更に好ましいのは、x≦0.05でかつδ≦0.
03である。247は、等価の123材料に比べて、典型的には、ドープ量は少
ないので、xで示されるCa含量の大きさは、等価の123材料におけるよりも
大きいことが必要であろう。TlやLuのような小さい稀土類は、大きな稀土類
元素に対するよりも、高いCa含量を達成できるので、望ましい。
The HTSC may be R-247, which has a nominal composition of R2-xCaxBa Four Cu7O15- δ(Where R is Y or a lanthanide rare earth element or a combination thereof)
0 ≦ δ ≦ 0.5 (and R may be partially substituted by Ca;
Ba may be, for example, partially substituted by Sr, La or Nd;
Furthermore, small changes in stoichiometry are common in such oxygenate materials.
It is recognized that ). ). Critical doping, for example
For example, R may be replaced with Ca, Li, Na or K, or Ba may be replaced with Li, Na or K.
Oxygenation to δ ≤ 0.5, optionally in combination with
U. A preferred compound is R2-xCaxBaFourCu7O15- δ(0 ≦ x ≦ 0.35 and
0 ≦ δ ≦ 0.5) and R2-xLixBaFourCu7O15- δ(0 ≦ x ≦ 0.35 and 0
≦ δ ≦ 0.5), where x and δ are such that the copper-oxygen surface is critical as described above.
Together to be doped. Preferably, δ is the critical dopin
And as small as possible to correspond. Thus, in a preferred form, x
Is typically such that this critical doping is achieved with δ ≦ 0.10.
Is selected such that x ≦ 0.1. More preferably, x ≦ 0.05 and δ ≦ 0.
03. 247 typically has less doping compared to the equivalent 123 material.
The magnitude of the Ca content, indicated by x, is greater than in the equivalent 123 material.
It will need to be big. Small rare earths such as Tl and Lu are large rare earths
This is desirable because higher Ca contents can be achieved than for the elements.

【0017】 HTSCは、R−124でもよく、これは、呼称組成として、RBa2Cu48(但し、Rは、Y又はランタニド稀土類元素であり、0≦δ≦0.35(及
びRは、部分的にCaによって置換されていてもよく、Baは、例えば、部分的
にSr、La又はNdによって置換されていてもよく、更に、化学量論量におけ
る小さな変化は、このような酸素化物材料において共通であることは認識される
。)である。)を有する。臨界的なドーピングは、例えば、RをCa、Li、N
a又はKで置換したり、BaをLi、Na又はKで置換するカチオン置換によっ
て達成される。好ましい化合物は、R1-xCaxBa2Cu48及び及びR1-xLi x Ba2Cu48(0≦x≦0.35)である。124は、等価の247及び12
3材料に比べて、典型的には、ドープ量は更に少ないので、高いカチオン置換レ
ベルが、等価の247及び123材料におけるよりも必要である。TlやLuの
ような小さい稀土類は、必要な高いCa含量を達成できるので、望ましい。
The HTSC may be R-124, which has a nominal composition of RBaTwoCuFour O8(Where R is Y or a lanthanide rare earth element, and 0 ≦ δ ≦ 0.35 (and
And R may be partially substituted by Ca, Ba is, for example, partially
May be substituted by Sr, La or Nd, and furthermore, in stoichiometric amount
It is recognized that small changes are common in such oxygenate materials
. ). ). Critical doping is, for example, where R is Ca, Li, N
a or K, or cation substitution to replace Ba with Li, Na or K.
Achieved. A preferred compound is R1-xCaxBaTwoCuFourO8And and R1-xLi x BaTwoCuFourO8(0 ≦ x ≦ 0.35). 124 is the equivalent of 247 and 12
Typically, the doping amount is lower than that of the three materials, so that a high cation substitution level is obtained.
Bells are needed more than in equivalent 247 and 123 materials. Tl and Lu
Such small rare earths are desirable because they can achieve the required high Ca content.

【0018】 HTSCは、呼称組成として、TlSr2CuO5+ δであるTl1201、又
は呼称組成として、TlSr2CaCu27+ δであるTl−1212、又は呼称
組成として、TlSr2Ca2Cu38+ δであるTl−1223のような、Tl
−Sr−Ca−Cu−Oをベースとする材料であってもよい(そして、Tlは、
Pbによって部分的に置換されていてもよく、Srは、La又はBaによって部
分的に置換されていてもよく、Caは、例えば、Rによって部分的に置換されて
いてもよく、更に、これらの化学式において、化学量論量における小さな変化は
、このような酸素化物材料において共通であることは認識される。)。好ましい
化合物は、Tl0.5Pb0.5Sr2-wBawCaCu27、Tl0.5Pb0.5Sr2-x
LaxCaCu27、及びTl0.5Pb0.5Sr2Ca1-yyCu27(但し、0≦
(x及びw)≦2、0≦y≦1であり、Rは、Y又はランタニド稀土類元素のい
ずれかである)であり、更に一般的には、(Tl,Pb,Bi)1(Sr,Ba
,La)2(Ca,R)1Cu27及びTl0.5Pb0.5Sr2-xCaxCa2Cu3 9 及びTl0.5Pb0.5Sr2-w-xBawCaxCa2Cu39(0≦x、w≦1)、
又はより一般的には、(Tl,Pb,Bi)1(Sr,Ba,La)2Ca2Cu39(−0.3≦δ≦0.3)である。
HTSC has a nominal composition of TlSrTwoCuO5+ δTl1201, which is also
Is the nominal composition, TlSrTwoCaCuTwoO7+ δTl-1212 or designation
As a composition, TlSrTwoCaTwoCuThreeO8+ δTl, such as Tl-1223
-Sr-Ca-Cu-O based material (and Tl may be
Sr may be partly substituted by La or Ba.
Ca may be partially substituted, for example,
In addition, small changes in stoichiometry in these formulas may be
It will be appreciated that such oxygenate materials are common. ). preferable
The compound is Tl0.5Pb0.5Sr2-wBawCaCuTwoO7, Tl0.5Pb0.5Sr2-x
LaxCaCuTwoO7, And Tl0.5Pb0.5SrTwoCa1-yRyCuTwoO7(However, 0 ≦
(X and w) ≦ 2, 0 ≦ y ≦ 1, and R is Y or a lanthanide rare earth element
Or more generally, (Tl, Pb, Bi)1(Sr, Ba
, La)Two(Ca, R)1CuTwoO7And Tl0.5Pb0.5Sr2-xCaxCaTwoCuThreeO 9 And Tl0.5Pb0.5Sr2-wxBawCaxCaTwoCuThreeO9(0 ≦ x, w ≦ 1),
Or more generally (Tl, Pb, Bi)1(Sr, Ba, La)TwoCaTwoCuThree O9(−0.3 ≦ δ ≦ 0.3).

【0019】 HTSCはHgBa2CaCu2O6+ δと言われる組成物Hg-1212、または、HgBa2Ca2Cu3O8+ δ と言われる組成物Hg-1223のような水銀をベースとしたHTSCであってもよい(式
中、Hgは部分的にTl、Bi、PbまたはCdで置換されていてもよく、Baは部分的に、
例えばSrで置換されていてもよく、また、これらの化学式においては、このよう
な酸素化物において少々の化学量論変動が一般的であることは当技術分野におい
て認識されている。) 臨界調整されたドーピング状態は0.91Tc,max=Tc=0.96Tc,max、より好ましく
は、0.92Tc,max=Tc=0.95Tc,max、および、最も好ましくはTc=(0.93±0.005)
c,maxを満足する過剰ドーピングTcを有するHTSCによって定量的に規定するこ
とができる。 臨界調整されたドーピング状態は、μV/K単位で、-4<Q(TRT)<-1、より好まし
くは、-3<Q(TRT)<-2、(280K<TRT<300K)を満足する室温熱電力Q(TRT)の過剰ド
ーピングTcを有するHTSCによって定量的に規定することができる。
HTSC is based on mercury, such as composition Hg-1212, referred to as HgBa 2 CaCu 2 O 6+ δ , or composition Hg-1223, referred to as HgBa 2 Ca 2 Cu 3 O 8+ δ . HTSC, wherein Hg may be partially substituted with Tl, Bi, Pb or Cd, and Ba may be partially
It is recognized in the art that slight stoichiometric variations in such oxygenates are common in these formulas, for example, they may be substituted with Sr. ) Critical adjusted doped state 0.91T c, max = T c = 0.96T c, max, more preferably, 0.92T c, max = Tc = 0.95T c, max, and, = most preferably T c ( 0.93 ± 0.005)
It can be defined quantitatively by HTSC with an overdoping Tc that satisfies Tc , max . The critically adjusted doping state is in μV / K, -4 <Q (T RT ) <-1, more preferably -3 <Q (T RT ) <-2, (280K <T RT <300K) HTSC with an overdoping Tc of room temperature thermal power Q (T RT ) that satisfies

【0020】 臨界調整されたドーピング状態は、250Kから、Tcより20K未満大きな温度まで
、正常状態定容積比抵抗が一定に維持される過剰ドーピングTcを有するHTSCによ
って定量的に規定することができる。より好ましい態様では、正常状態定容積比
抵抗は、500Kから、Tcより20K未満大きな温度まで直線性が維持される。 臨界調整されたドーピング状態は、250Kから、20K未満Tcより大きな温度まで
、より好ましくは、500Kから、20K未満Tcより大きな温度まで温度が低下すると
きに、標準状態定容積比抵抗の温度微分係数が±5%以内で維持される過剰ドー
ピングTcを有するHTSCによって定量的に規定することができる。
[0020] Doping while being critical adjustment, from 250K, to 20K below large temperature than T c, be quantitatively defined by HTSC with excess doping T c which is the normal state constant volume resistivity is maintained constant it can. In a more preferred embodiment, the normal state constant volume resistivity maintains its linearity from 500K to a temperature less than 20K above Tc . The critically adjusted doping state is the temperature of the standard state constant volume resistivity when the temperature decreases from 250K to a temperature greater than Tc below 20K, more preferably from 500K to a temperature greater than Tc below 20K. it can be quantitatively defined by HTSC with excess doping T c that derivative is maintained within 5% ±.

【0021】 臨界調整されたドーピング状態は、臨界的に過剰ドープしたTcが生じるよう
に予め定めた酸素含有大気中でアニーリングすることによって規定してもよく、
このTcは熱電力または正常状態比抵抗が上記の好ましい範囲を有するTcまたは
、熱容量、NMR分光測光、磁化率あるいは他の手段による決定で厳密に0に抑え
られた疑似ギャップを有するTcである。例えば、Bi1.9Pb0.2Sr1.9CaCu2O8+ δ
、10%酸素と90%窒素ガスの混合物中(酸素分圧0.1bar)で570℃にてアニーリ
ングしてよく、Tc,max=90.5Kの系でTc=83.7Kの臨界過剰ドーピングが達成され
る。これによりTcの7.5%低下、ホール濃度p=0.19、熱容量による測定で最大エ
ネルギー密度1.76J/g.atが得られる。Y0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δは、酸素中で530℃
にてアニーリングしてよく、Tc,max=85.5K、Tc=79K、すなわち、Tcの7.5%低
下、推定ホール濃度p=0.19、熱容量による測定で最大エネルギー密度2.5J/g.at
が達成される。臨界ドーピングを達成する温度および酸素分圧の他の組合せ(例
えば、より高い温度および、その結果としてより高い酸素分圧)を使用すること
もできる。
The critically tuned doping state may be defined by annealing in a predetermined oxygen-containing atmosphere to produce a critically overdoped Tc;
The Tc is or T c thermal power or normal state resistivity has a preferred range of the heat capacity, NMR spectrophotometry, with T c with an emulated gap strictly suppressed to 0 as determined by the magnetic susceptibility or other means is there. For example, Bi 1.9 Pb 0.2 Sr 1.9 CaCu 2 O 8+ δ may be annealed at 570 ° C. in a mixture of 10% oxygen and 90% nitrogen gas (oxygen partial pressure 0.1 bar), T c, max = 90.5 A critical overdoping of T c = 83.7 K is achieved in the K system. As a result, a 7.5% reduction in Tc, a hole concentration p = 0.19, and a maximum energy density of 1.76 J / g.at can be obtained as measured by heat capacity. Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ is 530 ° C in oxygen
T c, max = 85.5K, T c = 79K, ie 7.5% decrease in Tc, estimated hole concentration p = 0.19, maximum energy density measured by heat capacity 2.5 J / g.at
Is achieved. Other combinations of temperature and oxygen partial pressure to achieve critical doping (eg, higher temperatures and consequently higher oxygen partial pressures) can also be used.

【0022】 任意のHTSCにおけるドーピング状態は、特定のフォノンモードの周波数の
ラマン測定により決定することができ、その望ましい周波数は、先に、ホール濃
度、熱電力、比抵抗、酸素アニーリング又はTc値の1つとの相関から確認され
たものである。そのようなモードの1つは、630cm-2lgモードである。 R−123において及び所望の程度の酸素化を達成する際、CuO2面への十
分な電荷移動を確実なものとするように鎖上における最小間隙で該鎖への酸素の
整列を達成することが必要である。T≧50℃で酸素の非整列が生じるので、鎖
上における酸素の整列を可能にし、従って、電荷移動及び最大ドーピングが完全
なものとなるように、アニーリング温度から室温への緩やかな冷却が、理想的に
は必要とされる。更に、そのような欠陥のない鎖は、更に、超流体密度へ貢献し
、従って、更に、Jcが上昇する。
The doping state in any HTSC can be determined by Raman measurements of the frequency of the particular phonon mode, the desired frequency being determined first by the hole concentration, thermal power, resistivity, oxygen annealing or T c value. Is confirmed from the correlation with one of the above. One such mode is 630 cm -2 A lg mode. Achieving alignment of oxygen to the chain with minimum gaps on the chain to ensure sufficient charge transfer to the CuO 2 plane at R-123 and when achieving the desired degree of oxygenation is necessary. The slow cooling from the annealing temperature to room temperature allows the oxygen to be aligned on the chain since the misalignment of oxygen occurs at T ≧ 50 ° C. so that the charge transfer and maximum doping are complete. Ideally needed. Furthermore, the chain without such defects, further contributing to the superfluid density, therefore, further J c is increased.

【0023】 結晶粒界における最適なドーピングを達成するために、バルク材料を過剰ドー
プし、HTSCにおける各結晶粒間の粒界領域をドープして、特にHTSCの粒
界領域における臨界電流密度を最大とすることができ、結晶粒内の臨界電流密度
の最大化をある程度犠牲にしても、結晶粒間の電流を最大とすることができる。
バルクとは対照的に、カチオン溶解性及び酸素活性は、粒界で異なるであろう。
例えば、Ca2+置換が、バルクに関する粒界において好ましい場合、粒界及びバ
ルクの両方を同時に臨界的にドープすることがある程度予測される。Ca2+置換
が、粒界に関するバルクにおいて好ましい場合、上述したような、歩み寄りが必
要とされ得る。粒界におけるサイト不整列性(site disorder)のために、酸素占
有に関するエネルギー壁は、バルクにおける程深くはないであろう。結果として
、バルクを酸素化するのに必要とされるより低温(及び/又は高酸素圧)が、粒
界を酸素化するのに必要とされ得る。100℃〜200℃の程度の低いアニーリ
ング温度が、粒界を適切に酸素化して、その中において臨界的ドーピングを達成
するのに必要とされ得る。そのような低温での酸素拡散は、バルク内において禁
止的に遅延するであろうが、粒界拡散速度は、その中における不整列性のために
かなり高まり、従って、粒界の臨界的酸素化を300℃以下又は300℃以下で
さえ完全に実施可能なものとするであろう。
In order to achieve optimal doping at the grain boundaries, the bulk material is overdoped and the grain boundaries between the grains in the HTSC are doped, maximizing the critical current density especially in the grain boundaries of the HTSC. Thus, the current between the crystal grains can be maximized even if the maximization of the critical current density in the crystal grains is sacrificed to some extent.
In contrast to bulk, cation solubility and oxygen activity will be different at grain boundaries.
For example, if Ca 2+ substitution is preferred at the grain boundaries for the bulk, it is somewhat anticipated that both grain boundaries and bulk will be simultaneously critically doped. If Ca 2+ substitution is preferred in the bulk with respect to grain boundaries, compromise may be required, as described above. Due to site disorder at the grain boundaries, the energy wall for oxygen occupancy will not be as deep as in the bulk. As a result, lower temperatures (and / or high oxygen pressures) required to oxygenate the bulk may be required to oxygenate grain boundaries. Annealing temperatures as low as 100 ° C. to 200 ° C. may be required to properly oxygenate grain boundaries to achieve critical doping therein. Oxygen diffusion at such low temperatures will be prohibitively delayed in the bulk, but the grain boundary diffusion rate will be significantly increased due to the misalignment therein, and thus the critical oxygenation of the grain boundaries Will be fully feasible below 300 ° C or even below 300 ° C.

【0024】 本発明の方法は、HTS材料を、パウダー−イン−チューブ加工として当該技
術分野において知られる技術により可撓性ワイヤ又はテープに成形する際に用い
ることができる。この技術は、特に、Bi−2212又はBi−2223材料の
場合に用いられる。これらの材料のパウダー又はこれらの材料の先駆物質は、銀
金属又は銀合金からなることが多い金属チューブにパックされ、その後、変形及
び加熱処理の工程により、該チューブを引き伸ばして、長いワイヤとし、その酸
素化物が反応して、十分にテクスチャーされた(highly textured)Bi−222
3、例えばHTSCコアが形成される。そのワイヤを一度又は複数回束ねて、マ
ルチフィラメントワイヤを形成することができる。金属合金先駆体を用いて、そ
のような長いワイヤを形成することができ、また、熱処理及び変形により、金属
合金を酸素化物に転換させ、かつ、反応させて、十分にテクスチャーされたBi
−2223、例えばHTSCコアを形成することができる。また、コーティング
又は金属加工等の他の技術を用いて、長いワイヤ又はテープを形成することがで
きる。その材料は、また、当該技術分野において公知であるようないずれかの方
法を用いて薄膜として、又はバルクメルト−加工シングル−ドメイン又は近隣−
シングル−ドメインモノリス体として形成することができる。
The method of the present invention can be used in forming HTS materials into flexible wires or tapes by techniques known in the art as powder-in-tube processing. This technique is used especially for Bi-2212 or Bi-2223 materials. Powders of these materials or precursors of these materials are packed into metal tubes, often made of silver metal or silver alloy, and then, by a process of deformation and heat treatment, stretch the tubes into long wires, The oxygenates react to give a highly textured Bi-222
3. For example, an HTSC core is formed. The wire can be bundled once or multiple times to form a multifilament wire. Metal alloy precursors can be used to form such long wires, and heat treatment and deformation convert and react the metal alloy to oxygenates to form a fully textured Bi.
-2223, for example, an HTSC core can be formed. Also, other techniques, such as coating or metalworking, can be used to form long wires or tapes. The material may also be formed as a thin film using any method as is known in the art, or bulk melt-processed single-domain or neighboring-
It can be formed as a single-domain monolith.

【0025】[0025]

【実施例】 以下の実施例により本発明を更に説明する。 実施例1 Y0.8Ca0.2Ba2Cu37- δのサンプルを、酸素の欠損δの関数として、熱
容量Cp及びNMR分光法を使用して研究した。このHTS材料は特に有用であ
る。なぜなら、δが1から0に変化するとき、そのドーピング状態が激しく過小
ドーピングされた状態から激しく過剰ドーピングされた状態へ変化するからであ
る。ホール濃度は、Q(290)とpとの間の熱電能の相関を使用して決定した
(Tallonら、米国特許第5,619,141号明細書)。この値は、Tcとpと
の間の放物線的相関であるTc(p)=Tc,max・[1−82.6(p−0.16
2]から決定した値及び原子座標の中性子回折の改良(refinement)に由来す
る結合価の和を使用したpの推定値から決定した値と十分に一致することが見い
だされた。Tc,maxは、Tc(p)のおおよその放物線状ホール濃度依存性(para
bolic hole concentration dependence)における最大値である。疑似ギャップ
(pseudogap)エネルギーEgは、エントロピーの温度依存性への適合により決定
し、その値は温度依存性89Y NMRナイトシフト(Knight shift)への適合に
より確認した。Tc及びEgの両方をpの関数として図1にプロットした。Eg
ドーピングの増加に伴い漸進的に低下し、p=約0.19、すなわち過剰ドーピ
ングサイド及びTcが最大化される最適濃度よりも高い約0.03ホール/銅に
おいて0になった。代替として、Tcが過剰ドーピングにおいてTc,maxより低い
7.4%に低下したとき、Egは0になった。凝縮エネルギーUoは、標準状態曲
線SNS(T)と超伝導曲線SSC(T)との間のエントロピーS(T)を、T=0
からT=Tcまでの間で積分することにより決定した。Uoは、Egが0に達する
p=0.19において非常にシャープに最大化することが見いだされた。生成物
oξabは極めてシャープなピークにはならず、図1にプロットしたデータは、
ややシャープなピークを通り、Eg→0になるときに再び最大化したことを示し
ている。結果として、磁束ピン留め(flux pinning)及び臨界電流はこの点でシ
ャープに最大化するだろう。最も注目に値する、最大Tcに対する最適ドーピン
グにおけるUoξab値は約39J.nm/モルであり、この値のほぼ2倍がEg
0の臨界ドーピングにおける値(76J.nm/モル)となる。Tcの小さい低
下(6K)に対するこのような大きな増加は全く予想外であり、今まで知られて
おらず、Tc値のわずかな低下を伴う臨界電流の最大化という重要な利益を提供
する。その他のHTSC材料について、Tc低下は比例的に同一であり、Bi−
2233について、過剰ドーピングサイドにおけるTc,maxの110Kから10
3又は102Kへの低下はTcの深刻な低下ではなく、液体窒素温度にまで冷却
したとき、磁束ピン留めの倍増を許容する。
The present invention is further described by the following examples. Example 1 A sample of Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ was studied using heat capacity C p and NMR spectroscopy as a function of oxygen deficiency δ. This HTS material is particularly useful. This is because when δ changes from 1 to 0, the doping state changes from a heavily underdoped state to a heavily overdoped state. Hole concentration was determined using the thermoelectric power correlation between Q (290) and p (Tallon et al., US Pat. No. 5,619,141). This value is the parabolic correlation between Tc and p, Tc (p) = Tc, max. [1-82.6 (p-0.16
2 ) and found to be in good agreement with the value determined from the estimate of p using the sum of the valencies from the neutron diffraction refinement in atomic coordinates. T c, max is approximately the parabolic hole concentration dependence of T c (p) (para
bolic hole concentration dependence). The pseudogap energy E g was determined by fitting the temperature dependence of entropy, and its value was confirmed by fitting to a temperature dependent 89 Y NMR Knight shift. Both T c and E g are plotted in FIG. 1 as a function of p. E g decreased progressively with increasing doping and became zero at p = 0.19, ie, about 0.03 holes / copper above the optimum concentration where the overdoped side and T c were maximized. . Alternatively, when the reduced T c is in excess doping T c, 7.4% lower than the max, E g became zero. The condensing energy U o is obtained by calculating the entropy S (T) between the standard state curve S NS (T) and the superconducting curve S SC (T) by T = 0.
From T to Tc . U o was found to maximize very sharply at p = 0.19 when E g reached 0. The product U o xi] ab does not become a very sharp peak, data plotted in Figure 1,
This indicates that the peak has been maximized again when E g → 0 after passing through a slightly sharp peak. As a result, flux pinning and critical current will sharply maximize at this point. Most attention deserves, U o ξ ab value at the optimum doping for the maximum T c is about 39J. nm / mol, and almost twice this value is E g
0 (76 J. nm / mol) in critical doping. Such a large increase for a small decrease in Tc (6K) is quite unexpected and is not known until now and offers the important benefit of maximizing the critical current with a slight decrease in the Tc value. . For the other HTSC materials, the Tc reduction was proportionally the same, with Bi-
For 2233, the T c, max on the overdoping side from 110K to 10
The drop to 3 or 102K is not a significant drop in Tc , but allows doubling of flux pinning when cooled to liquid nitrogen temperature.

【0026】 実施例2 異なるδを有する過剰ドーピングしたBi2Sr2CaCu28+ δ及び異なる
δを有する過小ドーピングしたBi2Sr2Ca0.70.3Cu28+ δのサンプル
を、Cu部位においてCoの範囲で置換した。Tcの不純物低下(impurity depr
ession)の速度dTc/dyから、Coのフラクション(fraction)yにより、
T=Tcにおけるγ=Cp/Tの値を決定するだろう。スケーリング関係(scalin
g relation)を使用して(Tallon, Phys. Rev. B-58, R5956 (1998))、Eg及び
oを決定するだろう。これらの値を図2において塗りつぶした記号でプロット
した。塗りつぶしていない三角は、NMR測定によるY0.8Ca0.2Ba2Cu3 7- δ について決定したEg値である。これらは2つの方法がEgについての比較可
能な結果を与えたことを示している。更に、Bi2Sr2CaCu28+ δについ
ては、Y0.8Ca0.2Ba2Cu37- δの場合のように、Uoは、Egが0になるや
や過剰ドーピングした領域において、予想外にシャープな最大値を通った。更に
、Uoは、最適ドーピングから臨界ドーピングまでの進行においてほぼ2倍にな
った。Bi−2212についてのデータは、直接の熱容量測定により確認された
。Egが0になる臨界ドーピングにおけるUo及びUoξの最大化は、La2-xSr x CuO4及びTl0.5Pb0.5Sr2Ca1-xxCu27において確認されたよう
に、HTSC材料の中では、普遍的な挙動であると考えている。したがって、こ
の挙動はタリウムを基本とするHTSC及び水銀を基本とするHTSCにも共通
であるとすることは妥当である。
Example 2 Overdoped Bi with Different δTwoSrTwoCaCuTwoO8+ δAnd different
Underdoped Bi with δTwoSrTwoCa0.7Y0.3CuTwoO8+ δSample
Was replaced at the Cu site in the range of Co. TcImpurity depr
ession) speed dTc/ Dy from the Co fraction y
T = Tc= C atpWill determine the value of / T. Scaling relation (scalin
g relation) using (Tallon, Phys. Rev. B-58, R5956 (1998)), Egas well as
UoWill decide. These values are plotted with solid symbols in FIG.
did. Unfilled triangles indicate Y by NMR measurement.0.8Ca0.2BaTwoCuThreeO 7- δ E decided ongValue. These are two methods EgComparable for
It shows that a good result was given. Furthermore, BiTwoSrTwoCaCuTwoO8+ δAbout
And Y0.8Ca0.2BaTwoCuThreeO7- δAs inoIs EgWhen it becomes 0
And in the over-doped region, unexpectedly passed a sharp maximum. Further
, UoIs almost doubled in the progression from optimal doping to critical doping.
Was. Data for Bi-2212 was confirmed by direct heat capacity measurements.
. EgAt critical doping whereoAnd UoThe maximization of ξ is La2-xSr x CuOFourAnd Tl0.5Pb0.5SrTwoCa1-xYxCuTwoO7As confirmed in
In addition, it is considered to be a universal behavior among HTSC materials. Therefore,
Behavior is common to thallium-based and mercury-based HTSCs
Is reasonable.

【0027】 実施例3 Y0.8Ca0.2Ba2Cu37- δのサンプルを、酸素の欠損δの関数として、ミ
ューオンスピン緩和を使用して研究した。T=0におけるミューオンスピン緩和
速度σ0は、λL -2に比例する。図3は、ホール濃度pの関数としてのλL -2のプ
ロットを示している。λL -2は、Egが0となる、pがほぼ0.19である臨界点
においてシャープな最大値を通過したことが観察された。λL -2は、不可逆領域
の規模の決定において鍵となるパラメーターである。結果として、pがほぼ0.
19である点における臨界ドーピングは、磁束ピン留めをシャープに最大化する
だけでなく、高い不可逆領域を生じるだろう。
Example 3 A sample of Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ was studied using muon spin relaxation as a function of oxygen deficiency δ. The muon spin relaxation rate σ 0 at T = 0 is proportional to λ L -2 . FIG. 3 shows a plot of λ L -2 as a function of hole concentration p. It was observed that λ L -2 passed through a sharp maximum at the critical point where E g was 0 and p was approximately 0.19. λ L -2 is a key parameter in determining the size of the irreversible region. As a result, p is approximately 0.
Critical doping at point 19 will not only sharply maximize flux pinning, but will also result in high irreversible regions.

【0028】 実施例4 Y0.8Ca0.2Ba2Cu37- δの7個のペレットを合成し、種々の温度及び酸
素分圧下で焼き戻しを行い、ついで平衡した酸素含量中において液体窒素中で急
冷した。このようにして酸素欠損δの値が異なる7個の試料、すなわち0.09
≦p≦0.23の範囲にある7個の異なるホール濃度を有する試料が得られた。
これらのペレットを、イソプロピルアルコールを潤滑剤として使用し、モーター
及び乳棒で1時間粉砕して、非常に微細な粉末とした。粉末をイソプロピルアル
コールに懸濁し、30分間放置し、残っている懸濁物を有する流体を捨て、蒸発
で乾燥した。このような方法で、大きな粒子は沈殿し、残った粒子の大きさは≦
5μmであった。これらの小さい粒子をエポキシと十分に混合した。次いで混合
物をゴムの鋳型に入れ、電磁場において、場に平行なc軸に沿って粒子を整列さ
せたが、その間にエポキシが硬化した。整列させるための場は約1テスラであっ
た。硬化後に整列したことをx−線回折で確認したが、それは整列場に垂直な面
における一次c軸反射を示した。7個の各整列した試料から小さい試料を切り出
し、振動試料磁力計(vibrating-sample magnetometer)を使用して磁場の強さ
及び温度の関数として、試料の磁化を測定した。図4はemuの単位でpの関数
として磁化をプロットしたものであり、0.2T、0.5T及び20Tで、20
K、40K及び60Kの温度で測定している。データから、p=0.19の臨界
ドーピング濃度において鋭い最大値を形成していることが分かる。pの関数とし
てのTcの放物線も参考としてプロットされており、高度に過剰ドープした状態
において鋭い最大値が生じていることを示している。この放物線は式Tc=Tc
,max[1−82.6(p−0.16)2」を使用して計算しており、この式
は多くのHTSキュプレート、たぶんすべてのHTSキュプレートのTc(p)
を記述している。ドーピングの臨界性は、このプロット、特に低温において極め
て明白である。各試料についてT=0.75Tcにおける非可逆性の線H*(T
)も測定され、それは図5にプロットされている。ここで、H*が鋭い最大値を
生じていることも分かるが、最大値は臨界ドーピングを超えて生じており、それ
はH*が生成物λab-2.λc-2によって支配されていることによるものであり
、ここでλab-2は面内の侵入深さを、λc-2はc軸の侵入深さである。λab -2 はU0に比例する超流体密度に比例し、従って臨界ドーピングにおいて鋭い最
大値を形成する。一方、λcはドーピングpに対して単調に減少するc軸比抵抗
ρcに比例する。従って、非可逆性領域における最大値は、まさに図5に示した
ように臨界ドーピングを超えて生じる。しかしながら、図5においてT=0.7
5Tcであるからこのデータは固定した温度に対するものではないことに留意す
べきである。固定した温度(及び固定した場)の条件に対して、臨界ドーピング
において臨界電流が最大化する。本実施例の試料において、すべての結晶粒が相
互に分離されていることにも留意すべきである。電流はすべて結晶粒内の電流で
あり、結晶粒境界電流を反映しない。
Example 4 Y0.8Ca0.2BaTwoCuThreeO7- δ7 pellets at different temperatures and acid
Tempering under elementary partial pressure and then abrupt in liquid nitrogen at equilibrium oxygen content
Cooled down. Thus, seven samples having different values of oxygen deficiency δ, that is, 0.09
Samples with seven different hole concentrations in the range ≦ p ≦ 0.23 were obtained.
These pellets are made using isopropyl alcohol as a lubricant and
And crushed with a pestle for 1 hour to obtain a very fine powder. Isopropyl powder
Suspend in coal, leave for 30 minutes, discard fluid with remaining suspension and evaporate
And dried. In this way, large particles settle and the size of the remaining particles is ≦
It was 5 μm. These small particles were thoroughly mixed with the epoxy. Then mixing
The object is placed in a rubber mold, and in an electromagnetic field, the particles are aligned along the c-axis parallel to the field.
The epoxy hardened during that time. The space for alignment is about 1 Tesla.
Was. Alignment after curing was confirmed by x-ray diffraction, which was in a plane perpendicular to the alignment field.
Showed the primary c-axis reflection at. Cut out a small sample from each of the seven aligned samples
And the strength of the magnetic field using a vibrating-sample magnetometer
And the magnetization of the sample as a function of temperature. Figure 4 shows the function of p in units of emu
The magnetization is plotted as 0.2T, 0.5T, and 20T.
It is measured at temperatures of K, 40K and 60K. From the data, the criticality of p = 0.19
It can be seen that a sharp maximum is formed in the doping concentration. as a function of p
The parabola of all Tc is also plotted for reference and is highly overdoped.
Indicates that a sharp maximum value occurs. This parabola has the formula Tc = Tc
, Max [1-82.6 (p−0.16)TwoIs calculated using this formula.
Is the Tc (p) of many HTS cuprates, probably all HTS cuprates
Is described. The criticality of doping is extremely high in this plot, especially at low temperatures.
And obvious. Irreversible line H at T = 0.75 Tc for each sample*(T
) Was also measured, which is plotted in FIG. Where H*Has a sharp maximum
It can be seen that the maximum occurred beyond the critical doping,
Is H*Is the product λab-2. λc-2Because they are controlled by
, Where λab-2Is the penetration depth in the plane, λc-2Is the c-axis penetration depth. λab -2 Is U0Is proportional to the superfluid density, which is proportional to
Form a high value. On the other hand, λc is a monotonically decreasing c-axis resistivity with respect to doping p.
It is proportional to ρc. Thus, the maximum in the irreversible region is exactly as shown in FIG.
Occurs beyond the critical doping. However, in FIG. 5, T = 0.7
Note that this data is not for a fixed temperature because it is 5Tc
Should. Critical doping for fixed temperature (and fixed field) conditions
At which the critical current is maximized. In the sample of this example, all the crystal grains
It should also be noted that they are separated from each other. All currents are currents in the grains
Yes, and does not reflect the grain boundary current.

【0029】 実施例5 実施例4の試料を走査電子顕微鏡で調べて粒子径の分散を測定した。次いで各
試料の全質量を、エポキシを熱分解してから測定した。次いで実施例4の磁化デ
ータを、周知のBeanの公式の方法を使用して臨界電流密度Jcに変換した。0.
2テスラの磁界をかけかつ温度10K及び20Kにおける、このようにして得ら
れたJcの値をホール濃度pの関数として図6にプロットしている。5テスラに
おける比可逆性温度Tirrも、転移温度Tcのp−依存性とともに本図面にプ
ロットしてある。Jc及びTirrの両者ともp=0.19の臨界ドーピングに
近接して最大化することが分かり、Tcが最大化するp=0.16の点を明らか
に超えている。
Example 5 The sample of Example 4 was examined with a scanning electron microscope to measure the dispersion of the particle size. The total mass of each sample was then measured after pyrolysis of the epoxy. The magnetization data of Example 4 was then converted to a critical current density Jc using the well-known Bean formula. 0.
The values of Jc thus obtained at a magnetic field of 2 Tesla and at temperatures of 10 K and 20 K are plotted in FIG. 6 as a function of the hole concentration p. The reversibility temperature Tirr at 5 Tesla is also plotted in this figure along with the p-dependence of the transition temperature Tc. It can be seen that both Jc and Tirr maximize near the critical doping of p = 0.19, clearly exceeding the point of p = 0.16 where Tc maximizes.

【0030】 実施例6: Tl0.5Pb0.5Sr2Ca1-xxCu27及びTl0.5Pb0.5Sr2-yLay
aCu27(ここで、x=0、0.05、0.1、0.2、0.3及び0.4で
あり、y=0、0.05、0.1、0.2、0.25、0.3及び0.4である
)のサンプルを、酸素中、1060℃において、Tl、Pb、Y、La及びCu
の酸素化物とCa及びSrの炭酸塩との化学量論混合物のペレットを固相反応さ
せることにより合成した。Tl23不存在下で前駆物質をまず反応させ、Tl2
3を添加して1060℃でさらに反応させた。反応させた物質を粉砕し、同じ
条件下で再焼結させた。Tl23の揮発性のため小過剰(5%)のTl23を使
用し、管の端を曲げることにより酸素下で金製の管中に密閉した。次いで、比抵
抗、交流磁化率(ac susceptibility)及び熱容量を測定することによりサンプ
ルを評価した。x又はy=0のとき、該物質が過剰ドープされx又はyを増加さ
せることによりホール濃度が減少する。Tc値は、置換Y又は希土類元素の量に
およそ放物線状に依存し、xが0.25のときに最大値Tc,max=107Kを形
成することが分かった。しかしながら、熱容量のジャンプは、x=0.15のと
きにシャープな最大値を形成した。これは、臨界ドープ点に相当する。超伝導転
移における熱容量のジャンプは、凝集エネルギー、そしてそれ故磁束のピン止め
に直接関連する。Tl0.5Pb0.5Sr2-yLayCaCu27についても同様の結
果が得られた。従って、これらの物質の臨界電流に関連する物性は、わずかに過
剰ドープした領域で、臨界ドーピングではあるがTcが最大値を形成する最適ド
ーピングではない点で最大まで増加することが分かった。
[0030] Example 6: Tl 0.5 Pb 0.5 Sr 2 Ca 1-x Y x Cu 2 O 7 and Tl 0.5 Pb 0.5 Sr 2-y La y C
aCu 2 O 7 (where x = 0, 0.05, 0.1, 0.2, 0.3 and 0.4, and y = 0, 0.05, 0.1, 0.2, 0.25, 0.3 and 0.4) in oxygen at 1060 ° C. with Tl, Pb, Y, La and Cu.
Was synthesized by a solid-phase reaction of pellets of a stoichiometric mixture of oxygenates of the above and carbonates of Ca and Sr. Tl 2 O 3 is first reacting the precursor in the absence, Tl 2
O 3 was added for further reaction at 1060 ° C. The reacted material was ground and re-sintered under the same conditions. Using the Tl 2 O Tl 2 O 3 for a volatile small excess (5%) of 3, and sealed during the gold tube under oxygen by bending the ends of the tube. The samples were then evaluated by measuring the specific resistance, ac susceptibility, and heat capacity. When x or y = 0, the material is overdoped and increasing x or y decreases the hole concentration. It has been found that the Tc value is approximately parabolic dependent on the amount of substituted Y or rare earth element, forming a maximum T c, max = 107 K when x is 0.25. However, the heat capacity jump formed a sharp maximum at x = 0.15. This corresponds to the critical doping point. The jump in heat capacity at the superconducting transition is directly related to the cohesive energy and hence the pinning of the magnetic flux. Tl 0.5 Pb 0.5 Sr 2-y La y CaCu 2 Similar results O 7 was obtained. Thus, it has been found that the critical current-related properties of these materials increase to a maximum in the slightly overdoped region, although at critical doping but not at the optimum doping where Tc forms a maximum.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 Y0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δについて、Tc、シュードギャップエネルギーEgおよび積
U0ξabのホール濃度依存性をプロットしたものであり、ここでξabは、該ab-面の
コヒーレンス長さである。
FIG. 1. Tc, pseudo gap energy Eg and product for Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ
Plots the hole concentration dependence of the U 0 xi] ab, where xi] ab is the coherence length of the ab- surface.

【図2】 Bi2Sr2CaCu2O8+ δに関する、Tc、EgおよびU0のホール濃度依存性をプロットし
たものである。
FIG. 2 is a plot of the hole concentration dependence of Tc, Eg, and U 0 with respect to Bi 2 Sr 2 CaCu 2 O 8+ δ .

【図3】 Y0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δに関する、λL -2のホール濃度依存性をプロットしたも
のである。
FIG. 3 is a plot of the hole concentration dependence of λ L -2 with respect to Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ .

【図4】 エポキシ中に配列されたYBa2Cu3O7- δ粒子の、磁化(臨界電流に比例する)のp-
依存性をプロットしたものである。図示したように、種々の磁場強度および温度
に対してデータを示す。この放物線は、pの関数としてプロットしたTcである。
Fig. 4 p- of magnetization (proportional to critical current) of YBa 2 Cu 3 O 7- δ particles arranged in epoxy
It is a plot of dependency. As shown, data is shown for various field strengths and temperatures. This parabola is Tc plotted as a function of p.

【図5】 エポキシ中に配列されたY0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δ粒子に関する、T=0.75Tcにおけ
る不可逆磁場のp-依存性をプロットしたものである。この放物線は、ホール濃度p
の関数としてプロットしたTcである。
FIG. 5 is a plot of the p-dependence of the irreversible magnetic field at T = 0.75 Tc for Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ particles arranged in epoxy. This parabola has a hole concentration p
Here is Tc plotted as a function of.

【図6】 10Kおよび20Kにおける0.2テスラ(Tesla)での、磁化-臨界電流密度のp-依存性
並びにエポキシ中に配列されたY0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δ粒子に関する、5テスラに
おける不可逆温度のp-依存性をプロットしたものである。この放物線は、ホール
濃度pの関数としてプロットしたTcである。
FIG. 6: p-dependence of magnetization-critical current density at 0.2 Tesla at 10K and 20K and 5 Tesla for Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ particles arranged in epoxy. 3 is a plot of the p-dependence of the irreversible temperature at. This parabola is Tc plotted as a function of hole concentration p.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,Z A,ZW──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE ), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR , BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS , JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW

Claims (72)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高温超伝導キュプレート材料(HTSC)の臨界電流密度(Jc)を最
大にするための、該高温超伝導キュプレート材料の製造方法であって、該材料のド
ーピング状態またはそのホール濃度を、最大超伝導転移温度(Tc)を与える、該材
料のドーピング状態またはそのホール濃度よりも高くなるように制御して、該材
料の臨界電流密度を高める工程を含む、上記高温超伝導キュプレート材料の製造
方法。
1. A method for manufacturing a high-temperature superconducting cuprate material (HTSC) for maximizing a critical current density (Jc) of the high-temperature superconducting cuprate material, the doping state of the material or its hole. Controlling the concentration to be greater than the doping state of the material or its hole concentration to provide a maximum superconducting transition temperature (Tc), thereby increasing the critical current density of the material. Production method of plate material.
【請求項2】 該ドーピング状態またはそのホール濃度を、標準状態シュー
ドギャップが最小値にまで減少する値近傍に存在するように制御する工程を含む
、請求項1記載の方法。
2. The method of claim 1 including controlling the doping state or its hole concentration such that the normal state pseudogap is near a value that decreases to a minimum value.
【請求項3】 該ホール濃度pを0.18≦p≦0.20の範囲内となるように調節す
る工程を含む、請求項1または2記載の方法。
3. The method according to claim 1, further comprising the step of adjusting the hole concentration p so as to fall within a range of 0.18 ≦ p ≦ 0.20.
【請求項4】 該ホール濃度pが約0.19となるように調節する工程を含む、請
求項3記載の方法。
4. The method according to claim 3, comprising adjusting the hole concentration p to be about 0.19.
【請求項5】 該ホール濃度pを、p=0.19±0.005に調節する工程を含む、請
求項3記載の方法。
5. The method of claim 3, comprising adjusting the hole concentration p to p = 0.19 ± 0.005.
【請求項6】 該HTSCに関するTcが、0.91Tc,max≦Tc≦0.96Tc,maxの範囲内
となるように、該ホール濃度を調節する工程を含み、ここでTc,maxはホール濃度
に応じて変動するTcの取る最大値である、請求項1〜5の何れか1項に記載の方法。
6. The method according to claim 1, further comprising the step of adjusting the hole concentration such that Tc relating to the HTSC is within a range of 0.91 Tc, max ≦ Tc ≦ 0.96 Tc, max, wherein Tc, max depends on the hole concentration. The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the value is a maximum value of Tc that varies.
【請求項7】 Tcが、0.92Tc,max≦Tc≦0.95Tc,maxの範囲内となるように、
該ホール濃度を調節する工程を含む、請求項6記載の方法。
7. Tc is set to fall within a range of 0.92Tc, max ≦ Tc ≦ 0.95Tc, max,
7. The method of claim 6, comprising adjusting the hole concentration.
【請求項8】 Tc=(0.93±0.005)Tc,maxとなるように、該ホール濃度を調節
する工程を含む、請求項6記載の方法。
8. The method according to claim 6, further comprising the step of adjusting the hole concentration such that Tc = (0.93 ± 0.005) Tc, max.
【請求項9】 該HTSCに関する室温熱電能Q(TRT)が、-4< Q(TRT)<-1なる範
囲内となるように、該ホール濃度pを調節する工程を含み、ここでQ(TRT)の単位は
μV/Kであり、また室温TRTは、280K<TRT<300Kの範囲内にある、請求項1〜8の何れ
か1項に記載の方法。
9. A method for controlling the hole concentration p such that the room temperature thermoelectric power Q (T RT ) of the HTSC is within a range of −4 <Q (T RT ) <− 1, The method according to any one of claims 1 to 8, wherein the unit of Q (T RT ) is μV / K, and the room temperature T RT is in the range of 280K <T RT <300K.
【請求項10】 該熱電能Q(TRT)が、-3< Q(TRT)<-2なる範囲内となるよう
に、該ホール濃度pを調節する工程を含む、請求項9記載の方法。
10. The method according to claim 9, further comprising a step of adjusting the hole concentration p such that the thermoelectric power Q (T RT ) is within a range of −3 <Q (T RT ) <− 2. Method.
【請求項11】 該HTSCの標準状態抵抗率の温度微分係数が、該温度を250K
から、Tcよりも20K未満大きな温度まで減じた場合に、±5%の範囲内で一定に維持
されるように、該ホール濃度を調節する工程を含む、上記請求項1〜10の何れか1
項に記載の方法。
11. The temperature derivative of the standard state resistivity of the HTSC is 250 K
The method according to any one of claims 1 to 10, further comprising the step of adjusting the hole concentration so that when the temperature is reduced to a temperature lower than Tc by less than 20K, the hole concentration is kept constant within a range of ± 5%.
The method described in the section.
【請求項12】 標準状態定体積抵抗率の温度微分係数が、該温度を500Kか
ら、Tcよりも20K未満大きな温度まで減じた場合に、±5%の範囲内で一定に維持さ
れるように、該ホール濃度を調節する工程を含む、上記請求項1〜11の何れか1項
に記載の方法。
12. The temperature differential coefficient of the standard state constant volume resistivity is kept constant within ± 5% when the temperature is reduced from 500 K to a temperature less than 20 K larger than Tc. The method according to any one of claims 1 to 11, further comprising adjusting the hole concentration.
【請求項13】 該HTSCにおける個々の粒子間の粒界領域をドープして、臨
界電流密度を最大にするように、オーバードーピングする工程を含む、請求項1〜
12の何れか1項に記載の方法。
13. The method of claim 1, further comprising the step of doping a grain boundary region between individual grains in the HTSC to overdope so as to maximize a critical current density.
13. The method according to any one of 12 above.
【請求項14】 該HTSCが、Bi-Sr-Ca-Cu-Oを主成分とするHTSCである、請
求項1〜13の何れか1項に記載の方法。
14. The method according to claim 1, wherein the HTSC is an HTSC containing Bi-Sr-Ca-Cu-O as a main component.
【請求項15】 Caを部分的にY、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、YbまたはLuもしくはその任意の組み合わせで、あるいはBiをPbで部分的に置
換することによって、該ホール濃度を調節する工程を含む、請求項14記載の方法
15. Ca is partially converted to Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, T
15. The method of claim 14, comprising adjusting the hole concentration by m, Yb or Lu or any combination thereof, or by partially replacing Bi with Pb.
【請求項16】 該HTSCの酸素含有率を調節することにより、該ホール濃度
を調節する工程を含む、請求項14または15記載の方法。
16. The method according to claim 14, comprising adjusting the hole concentration by adjusting the oxygen content of the HTSC.
【請求項17】 該HTSCが、組成(Bi1-zPbz)2+x+eSr2-x-yCa1+yCu2O8+ δ
示されるものであり、ここで0≦(eおよびxおよび±y)≦0.4、0≦z≦0.3および0≦
δ≦0.35である、請求項14記載の方法。
17. The HTSC is represented by the composition (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-xy Ca 1 + y Cu 2 O 8+ δ , where 0 ≦ (e And x and ± y) ≦ 0.4, 0 ≦ z ≦ 0.3 and 0 ≦
15. The method of claim 14, wherein δ ≤ 0.35.
【請求項18】 該HTSCが、組成Bi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1Cu2O8+ δで示されるも
のであり、かつ約0.1バールの酸素分圧中で、約(570±15)℃なる温度にて、あるい
は等価なδの値を与える温度および酸素圧または酸素分圧の組み合わせにて、該
HTSCをアニールすることによって、δを固定する工程を含む、請求項17記載の方
法。
18. The HTSC of the composition Bi 1.9 Pb 0.2 Sr 1.9 Ca 1 Cu 2 O 8+ δ and a temperature of about (570 ± 15) ° C. in an oxygen partial pressure of about 0.1 bar. At a temperature or a combination of temperature and oxygen pressure or oxygen partial pressure that gives an equivalent value of δ.
18. The method according to claim 17, comprising the step of fixing δ by annealing HTSC.
【請求項19】 該HTSCが、組成(Bi1-zPbz)2+x+eSr2-xCa2Cu3O10+ δで示さ
れるものであり、ここで0≦(eおよびx)≦0.4、0≦z≦0.3および0≦δ≦0.35であ
る、請求項14記載の方法。
19. The HTSC is represented by the composition (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-x Ca 2 Cu 3 O 10+ δ , where 0 ≦ (e and x 15. The method of claim 14, wherein :) ≤ 0.4, 0 ≤ z ≤ 0.3, and 0 ≤ δ ≤ 0.35.
【請求項20】 (Bi1-zPbz)2+x+eSr2-x-yCa1+yCu2O8+ δの相互成長部分を
組み込むための材料を調製する工程を含み、ここで0≦(eおよびx)≦0.4、0≦z≦0
.3および0≦δ≦0.35である、請求項19記載の方法。
20. A method for preparing a material for incorporating a co- growth portion of (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-xy Ca 1 + y Cu 2 O 8+ δ , wherein 0 ≦ (e and x) ≦ 0.4, 0 ≦ z ≦ 0
20. The method according to claim 19, wherein 0.3 and 0?? 0.35.
【請求項21】 該HTSC中のCaを部分的にRで置換することにより、該相互
成長を引き起こす工程を含み、RがY、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm
、YbまたはLuもしくはこれらの任意の組み合わせである、請求項20記載の方法。
21. The method according to claim 21, further comprising the step of causing the mutual growth by partially replacing Ca in the HTSC with R, wherein R is Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm
21. The method of claim 20, which is Yb, Lu, or any combination thereof.
【請求項22】 該HTSCがR-Ba-Cu-Oを主成分とするHTSCであり、ここでRは
Y、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLuもしくはこれらの任
意の組み合わせである、請求項1〜13項の何れか1項に記載の方法。
22. The HTSC is an HTSC containing R-Ba-Cu-O as a main component, wherein R is
14. The method according to any one of claims 1 to 13, wherein the method is Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb or Lu or any combination thereof.
【請求項23】 Rを、Ca、Li、Na、またはKもしくはその組み合わせで部分
的に置換し、あるいはBaをLi、Na、Kまたはその組み合わせで部分的に置換するこ
とによって、該ホール濃度を調節する工程を含む、請求項22記載の方法。
23. The hole concentration is reduced by partially substituting R for Ca, Li, Na or K or a combination thereof, or partially substituting Ba for Li, Na, K or a combination thereof. 23. The method of claim 22, comprising the step of adjusting.
【請求項24】 該HTSCの酸素含有率を調節することにより、該ホール濃度
を調節する工程を含む、請求項22または23記載の方法。
24. The method of claim 22 or 23, comprising adjusting the hole concentration by adjusting the oxygen content of the HTSC.
【請求項25】 該HTSCが、組成R1-xCaxBa2Cu3O7- δで示されるものであり
、ここで0≦x≦0.35および0≦δ≦0.5である、請求項22記載の方法。
25. The HTSC according to claim 22, wherein the HTSC is represented by the composition R 1-x Ca x Ba 2 Cu 3 O 7- δ , wherein 0 ≦ x ≦ 0.35 and 0 ≦ δ ≦ 0.5. The described method.
【請求項26】 該HTSCが、組成Y0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δで示されるものであ
り、かつ酸素中で、約(530±15)℃なる温度にて、あるいは等価なδの値を与える温
度および酸素圧または酸素分圧の組み合わせにて、該HTSCをアニールすることに
よって、δを固定する工程を含む、請求項23記載の方法。
26. The HTSC according to claim 1, wherein the HTSC has the composition Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ and is in oxygen at a temperature of about (530 ± 15) ° C. or equivalent δSC. 24. The method of claim 23, comprising the step of fixing δ by annealing the HTSC at a combination of temperature and oxygen pressure or oxygen partial pressure that gives a value of δ.
【請求項27】 該HTSCが、組成R1-xLixBa2Cu3O7- δで示されるものであり
、ここで0≦x≦0.35および0≦δ≦0.5である、請求項22記載の方法。
27. The HTSC is of the composition R 1-x Li x Ba 2 Cu 3 O 7- δ where 0 ≦ x ≦ 0.35 and 0 ≦ δ ≦ 0.5. The described method.
【請求項28】 該HTSCが、組成R2-xCaxBa4Cu7O15- δで示されるものであ
り、ここで0≦x≦0.35および0≦δ≦0.5である、請求項22記載の方法。
28. The HTSC is of the composition R 2-x Ca x Ba 4 Cu 7 O 15- δ , wherein 0 ≦ x ≦ 0.35 and 0 ≦ δ ≦ 0.5. The described method.
【請求項29】 該HTSCが、組成R1-xCaxBa2Cu4O8で示されるものであり、こ
こで0.10≦x≦0.35である、請求項22記載の方法。
29. The method of claim 22, wherein said HTSC is of the composition R 1-x Ca x Ba 2 Cu 4 O 8 , wherein 0.10 ≦ x ≦ 0.35.
【請求項30】 該HTSCが、Tl-Sr-Ca-CuOを主成分とするHTSCである、請求
項1〜13の何れか1項に記載の方法。
30. The method according to claim 1, wherein the HTSC is an HTSC containing Tl-Sr-Ca-CuO as a main component.
【請求項31】 CaまたはSrをY、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、YbまたはLuもしくはこれらの任意の組み合わせで、あるいはTlをPbで部分的
に置換することによって、該ホール濃度を調節する工程を含む、請求項30記載の
方法。
31. Ca or Sr is converted to Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, T
31. The method of claim 30, comprising adjusting the hole concentration by m, Yb or Lu or any combination thereof, or by partially replacing Tl with Pb.
【請求項32】 該HTSCの酸素含有率を調節することにより、該ホール濃度
を調節する工程を含む、請求項30または31記載の方法。
32. The method of claim 30 or 31, comprising adjusting the hole concentration by adjusting the oxygen content of the HTSC.
【請求項33】 該HTSCが、Hgを主成分とするHTSCである、請求項1〜13の
何れか1項に記載の方法。
33. The method according to claim 1, wherein the HTSC is an HTSC containing Hg as a main component.
【請求項34】 Ca、SrまたはBaを部分的にY、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、D
y、Ho、Er、Tm、YbまたはLuもしくはこれらの任意の組み合わせで置換し、ある
いはHgをPbで部分的に置換することによって、該ホール濃度を調節する工程を含
む、請求項33記載の方法。
34. Ca, Sr or Ba is partially converted to Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, D
The method of claim 33, comprising adjusting the hole concentration by substituting y, Ho, Er, Tm, Yb or Lu or any combination thereof, or partially substituting Hg with Pb. .
【請求項35】 該HTSCの酸素含有率を調節することにより、該ホール濃度
を調節する工程を含む、請求項32または33記載の方法。
35. The method of claim 32 or 33, comprising adjusting the hole concentration by adjusting the oxygen content of the HTSC.
【請求項36】 請求項1〜35の何れか1項に記載の方法により調製した、高
温超伝導キュプレート材料。
36. A high-temperature superconducting cuprate material prepared by the method according to any one of claims 1 to 35.
【請求項37】 最大超伝導転移温度(Tc)を得るための材料のドーピング状
態またはホール濃度よりも高く、かつ該材料に関する標準状態シュードギャップ
が、最小値まで減少し、しかも該材料の臨界電流密度(Jc)を最大にする値近傍に
ある、ドーピング状態またはホール濃度を持つことを特徴とする、高温超伝導キ
ュプレート材料(HTSC)。
37. The doping state or hole concentration of a material to obtain a maximum superconducting transition temperature (Tc), and the standard state pseudo gap for the material is reduced to a minimum value, and the critical current of the material is reduced. High temperature superconducting cuprate material (HTSC) characterized by having a doping state or hole concentration near the value that maximizes the density (Jc).
【請求項38】 該材料の該ホール濃度pが、0.18≦p≦0.20の範囲内にある
、請求項37記載のHTSC。
38. The HTSC of claim 37, wherein said hole concentration p of said material is in the range of 0.18 ≦ p ≦ 0.20.
【請求項39】 該ホール濃度pが、約0.19である、請求項38記載のHTSC。39. The HTSC of claim 38, wherein said hole concentration p is about 0.19. 【請求項40】 該ホール濃度pが、p=0.19±0.005である、請求項38記載のH
TSC。
40. The H according to claim 38, wherein the hole concentration p is p = 0.19 ± 0.005.
TSC.
【請求項41】 0.91Tc,max≦Tc≦0.96Tc,maxなる範囲内のTcを有し、ここ
でTc,maxはホール濃度に応じて変動するTcの取る最大値である、請求項37〜40の
何れか1項に記載のHTSC。
41. The method according to claim 37, wherein Tc has a value within a range of 0.91Tc, max ≦ Tc ≦ 0.96Tc, max, where Tc, max is a maximum value of Tc that varies according to the hole concentration. HTSC according to any one of 40.
【請求項42】 Tcが、0.92Tc,max≦Tc≦0.95Tc,maxなる範囲内にある、請
求項41記載のHTSC。
42. The HTSC according to claim 41, wherein Tc is within a range of 0.92Tc, max ≦ Tc ≦ 0.95Tc, max.
【請求項43】 Tc=(0.93±0.005)Tc,maxである、請求項41記載のHTSC。43. The HTSC of claim 41, wherein Tc = (0.93 ± 0.005) Tc, max. 【請求項44】 該HTSCに関する室温熱電能Q(TRT)が、-4< Q(TRT)<-1なる
範囲内にあり、ここでQ(TRT)の単位はμV/Kであり、また室温TRTは、280K<TRT<3
00Kの範囲内にある、請求項37〜43の何れか1項に記載のHTSC。
44. The room temperature thermoelectric power Q (T RT ) for the HTSC is in the range of −4 <Q (T RT ) <− 1, wherein the unit of Q (T RT ) is μV / K. , And room temperature T RT is 280K <T RT <3
The HTSC according to any one of claims 37 to 43, which is in the range of 00K.
【請求項45】 該HTSCに関する該熱電能Q(TRT)が、-3< Q(TRT)<-2なる範
囲内にある、請求項44記載のHTSC。
45. The HTSC of claim 44, wherein said thermoelectric power Q (T RT ) for said HTSC is in the range of −3 <Q (T RT ) <− 2.
【請求項46】 該HTSCの標準状態抵抗率の温度微分係数が、該温度を250K
から、Tcよりも20K未満大きな温度まで減じた場合に、±5%の範囲内で一定に維持
される、請求項37〜45の何れか1項に記載のHTSC。
46. The temperature derivative of the standard state resistivity of the HTSC is 250 K
46. The HTSC of any one of claims 37 to 45, wherein the HTSC is maintained constant within ± 5% when reduced to a temperature less than 20K above Tc.
【請求項47】 標準状態定体積抵抗率の温度微分係数が、該温度を500Kか
ら、Tcよりも20K未満大きな温度まで減じた場合に、±5%の範囲内で一定に維持さ
れる、請求項37〜45の何れか1項に記載のHTSC。
47. The temperature derivative of the standard state constant volume resistivity maintained constant within ± 5% when the temperature is reduced from 500K to a temperature less than 20K above Tc. HTSC according to any one of items 37 to 45.
【請求項48】 該HTSCにおける個々の粒子間の粒界領域における該材料の
該ドーピング状態またはホール濃度が、該材料の臨界電流密度を最大にするよう
な値近傍となるように、オーバードーピングされた、請求項37〜47の何れか1項に
記載のHTSC。
48. The overdoping such that the doping state or hole concentration of the material in the grain boundary region between individual particles in the HTSC is near a value that maximizes the critical current density of the material. The HTSC according to any one of claims 37 to 47.
【請求項49】 該HTSCが、Bi-Sr-Ca-Cu-Oを主成分とするHTSCである、請
求項37〜48の何れか1項に記載のHTSC。
49. The HTSC according to claim 37, wherein the HTSC is an HTSC containing Bi-Sr-Ca-Cu-O as a main component.
【請求項50】 該HTSCが、組成(Bi1-zPbz)2+x+eSr2-x-yCa1+yCu2O8+ δ
示されるものであり、ここで0≦(eおよびxおよび±y)≦0.4、0≦z≦0.3および0≦
δ≦0.35である、請求項49記載のHTSC。
50. The HTSC is represented by the composition (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-xy Ca 1 + y Cu 2 O 8+ δ , where 0 ≦ (e And x and ± y) ≦ 0.4, 0 ≦ z ≦ 0.3 and 0 ≦
50. The HTSC of claim 49, wherein δ ≤ 0.35.
【請求項51】 該HTSCが、組成Bi1.9Pb0.2Sr1.9Ca1Cu2O8+ δで示されるも
のである、請求項50記載のHTSC。
51. The HTSC according to claim 50, wherein the HTSC is represented by the composition Bi 1.9 Pb 0.2 Sr 1.9 Ca 1 Cu 2 O 8+ δ .
【請求項52】 該HTSCが、組成(Bi1-zPbz)2+x+eSr2-xCa2Cu3O10+ δで示さ
れるものであり、ここで0≦(eおよびx)≦0.4、0≦z≦0.3である、請求項49記載の
HTSC。
52.The HTSC is represented by the composition (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-x Ca 2 Cu 3 O 10+ δ , where 0 ≦ (e and x ) ≦ 0.4, 0 ≦ z ≦ 0.3, according to claim 49.
HTSC.
【請求項53】 (Bi1-zPbz)2+x+eSr2-x-yCa1+yCu2O8+ δの相互成長部分が
組み込まれ、ここで0≦(eおよびxおよび±y)≦0.4、0≦x≦0.3および0≦δ≦0.35
である、請求項52記載のHTSC。
53. A co- growth portion of (Bi 1-z Pb z ) 2 + x + e Sr 2-xy Ca 1 + y Cu 2 O 8+ δ is incorporated, where 0 ≦ (e and x and ± y) ≦ 0.4, 0 ≦ x ≦ 0.3 and 0 ≦ δ ≦ 0.35
53. The HTSC of claim 52, wherein
【請求項54】 組成Bi1.8Pb0.3Sr1.9Ca2Cu3O10+ δで示されるものであり
、かつ該相互成長部が、組成Bi1.8Pb0.3Sr1.9CaCu2O8+ δで示されるものである、
請求項53記載のHTSC。
54. A composition represented by a composition Bi 1.8 Pb 0.3 Sr 1.9 Ca 2 Cu 3 O 10+ δ , and the mutual growth portion is represented by a composition Bi 1.8 Pb 0.3 Sr 1.9 CaCu 2 O 8+ δ Is a thing,
54. The HTSC of claim 53.
【請求項55】 組成Bi1.75Pb0.35Sr1.9Ca2Cu3O10+ δで示されるものであ
り、かつ該相互成長部が、組成Bi1.75Pb0.35Sr1.9CaCu2O8+ δで示されるものであ
る、請求項53記載のHTSC。
55. A composition represented by a composition Bi 1.75 Pb 0.35 Sr 1.9 Ca 2 Cu 3 O 10+ δ , and the mutual growth portion is represented by a composition Bi 1.75 Pb 0.35 Sr 1.9 CaCu 2 O 8+ δ 54. The HTSC of claim 53, wherein
【請求項56】 組成Bi1.73Pb0.34Sr1.9Ca1.99Cu3.04O10+ δで示されるも
のであり、かつ該相互成長部が、組成Bi1.73Pb0.34Sr1.9CaCu2O8+ δで示されるも
のである、請求項53記載のHTSC。
56. A composition represented by a composition Bi 1.73 Pb 0.34 Sr 1.9 Ca 1.99 Cu 3.04 O 10+ δ , and the mutual growth portion is represented by a composition Bi 1.73 Pb 0.34 Sr 1.9 CaCu 2 O 8+ δ 54. The HTSC of claim 53, wherein
【請求項57】 組成Bi1.88Pb0.23Sr1.96Ca1.95Cu2.98O10+ δで示されるも
のであり、かつ該相互成長部が、組成Bi1.88Pb0.23Sr1.96CaCu2O8+ δで示される
ものである、請求項53記載のHTSC。
57. A composition represented by a composition Bi 1.88 Pb 0.23 Sr 1.96 Ca 1.95 Cu 2.98 O 10+ δ , and the mutual growth portion is represented by a composition Bi 1.88 Pb 0.23 Sr 1.96 CaCu 2 O 8+ δ 54. The HTSC of claim 53, wherein
【請求項58】 組成Bi1.84Pb0.28Sr1.93Ca1.98Cu2.96O10+ δで示されるも
のであり、かつ該相互成長部が、組成Bi1.84Pb0.28Sr1.93CaCu2O8+ δで示される
ものである、請求項53記載のHTSC。
58. A composition represented by a composition Bi 1.84 Pb 0.28 Sr 1.93 Ca 1.98 Cu 2.96 O 10+ δ , and the mutual growth portion is represented by a composition Bi 1.84 Pb 0.28 Sr 1.93 CaCu 2 O 8+ δ 54. The HTSC of claim 53, wherein
【請求項59】 該HTSCが、R-Ba-Cu-Oを主成分とするHTSCであり、ここでR
はY、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLuもしくはこれらの
任意の組み合わせである、請求項37〜48の何れか1項に記載のHTSC。
59. The HTSC is an HTSC containing R-Ba-Cu-O as a main component, wherein R
49. The HTSC according to any one of claims 37 to 48, wherein is HT, Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, or Lu or any combination thereof.
【請求項60】 組成R1-xCaxBa2Cu3O7- δで示されるものであり、ここで0≦
x≦0.35および0≦δ≦0.5である、請求項59記載のHTSC。
60. A composition represented by the composition R 1-x Ca x Ba 2 Cu 3 O 7- δ , wherein 0 ≦
60. The HTSC of claim 59, wherein x? 0.35 and 0??? 0.5.
【請求項61】 組成Y0.8Ca0.2Ba2Cu3O7- δで示されるものであり、ここで0
.16≦δ≦0.24である、請求項60記載のHTSC。
61. A composition represented by a composition Y 0.8 Ca 0.2 Ba 2 Cu 3 O 7- δ , wherein 0
61. The HTSC of claim 60, wherein .16 ≦ δ ≦ 0.24.
【請求項62】 δ=x±0.04である、請求項60記載のHTSC。62. The HTSC of claim 60, wherein δ = x ± 0.04. 【請求項63】 組成R1-xLixBa2Cu3O7- δで示されるものであり、ここで0≦
x≦0.3および0≦δ≦0.5である、請求項59記載のHTSC。
63. A composition represented by a composition R 1-x Li x Ba 2 Cu 3 O 7- δ , wherein 0 ≦
60. The HTSC of claim 59, wherein x? 0.3 and 0?? 0.5.
【請求項64】 δ=(x/2)±0.04である、請求項63記載のHTSC。64. The HTSC of claim 63, wherein δ = (x / 2) ± 0.04. 【請求項65】 組成R2-xCaxBa4Cu7O15- δで示されるものであり、ここで0
≦x≦0.35および0≦δ≦0.5である、請求項59記載のHTSC。
65. A composition represented by the composition R 2-x Ca x Ba 4 Cu 7 O 15- δ , wherein 0
60. The HTSC of claim 59, wherein? X? 0.35 and 0 ??? 0.5.
【請求項66】 組成R1-xCaxBa2Cu4O8で示されるものであり、ここで0.1≦x
≦0.35である、請求項59記載のHTSC。
66. A composition represented by the composition R 1-x Ca x Ba 2 Cu 4 O 8 , wherein 0.1 ≦ x
60. The HTSC of claim 59, wherein ≤ 0.35.
【請求項67】 該HTSCが、Tl-Sr-Ca-Cu-Oを主成分とする、請求項37〜48
の何れか1項に記載のHTSC。
67. The HTSC comprising Tl-Sr-Ca-Cu-O as a main component.
HTSC according to any one of the above.
【請求項68】 組成Tl0.5Pb0.5Sr2Ca1-xRxCu2O7で示され、かつ0.06≦x≦
0.18である、請求項67記載のHTSC。
68.A composition Tl 0.5 Pb 0.5 Sr 2 Ca 1-x R x Cu 2 O 7 and 0.06 ≦ x ≦
68. The HTSC of claim 67, wherein the HTSC is 0.18.
【請求項69】 x=0.12±0.04である、請求項68記載のHTSC。69. The HTSC of claim 68, wherein x = 0.12 ± 0.04. 【請求項70】 組成Tl0.5Pb0.5Sr2-xRxCaCu2O7で示され、ここでRはY、La
、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLuもしくはこれらの任意の組
み合わせであり、また0.06≦x≦0.18である、請求項67記載のHTSC。
70. A composition Tl 0.5 Pb 0.5 Sr 2-x R x CaCu 2 O 7 where R is Y, La
67. The HTSC of claim 67, wherein Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb or Lu or any combination thereof, and wherein 0.06 x 0.18.
【請求項71】 x=0.12±0.04である、請求項70記載のHTSC。71. The HTSC of claim 70, wherein x = 0.12 ± 0.04. 【請求項72】 請求項37〜71に記載の材料を含む、ワイヤ、テープ、薄膜
、被覆導体、塊状材料または任意の他の導電体。
72. A wire, tape, thin film, coated conductor, bulk material or any other conductor comprising the material of claims 37-71.
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