JP2002363158A - （メタ）アクリル化合物の製造方法及び（メタ）アクリル化合物 - Google Patents
（メタ）アクリル化合物の製造方法及び（メタ）アクリル化合物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性、耐溶剤性、耐候性に優れた塗料、繊
維用サイズ剤、湿潤紙力向上剤等の有用な原料となる
（メタ）アクリル化合物を工業的に有利に合成する方法
の提供。 【解決手段】 ４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル等の(メタ)アクリル
酸アルキルスルホン酸エステルと、５，５−ジメチルヒ
ダントイン、スクシンイミド等の複素環化合物を反応さ
せることにより目的とする６−Ｎ（５，５’−ジメチル
ヒダントイン）−ヘキシルアクリレート、２−Ｎ―(ス
クシンイミドイル)−エチルメタクリレート等の（メ
タ）アクリル化合物を製造する。
維用サイズ剤、湿潤紙力向上剤等の有用な原料となる
（メタ）アクリル化合物を工業的に有利に合成する方法
の提供。 【解決手段】 ４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル等の(メタ)アクリル
酸アルキルスルホン酸エステルと、５，５−ジメチルヒ
ダントイン、スクシンイミド等の複素環化合物を反応さ
せることにより目的とする６−Ｎ（５，５’−ジメチル
ヒダントイン）−ヘキシルアクリレート、２−Ｎ―(ス
クシンイミドイル)−エチルメタクリレート等の（メ
タ）アクリル化合物を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は下記一般式（１）
【化４】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｗは直鎖また
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換してもよい直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で
表される（メタ）アクリル化合物の製造法および（メ
タ）アクリル化合物に関する。本発明の方法によって製
造される前記式（１）で示される（メタ）アクリル化合
物はそれ自体で重合させるかまたは各種のオレフィン性
二重結合を有する化合物と共重合させることによって耐
熱性、耐溶剤性、耐候性に優れた塗料、繊維用サイズ
剤、湿潤紙力向上剤等に有用な素材を提供することが出
来る。
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換してもよい直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で
表される（メタ）アクリル化合物の製造法および（メ
タ）アクリル化合物に関する。本発明の方法によって製
造される前記式（１）で示される（メタ）アクリル化合
物はそれ自体で重合させるかまたは各種のオレフィン性
二重結合を有する化合物と共重合させることによって耐
熱性、耐溶剤性、耐候性に優れた塗料、繊維用サイズ
剤、湿潤紙力向上剤等に有用な素材を提供することが出
来る。
【０００２】
【従来の技術】複素環を（メタ）アクリル化合物に導入
する方法として、(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリ
ル酸ハライドを水酸基またはアミノ基を有する複素環で
エステル化またはアミド化し、複素環含有（メタ）アク
リル化合物にする方法が既に知られている。例えば、Ｕ
ＳＰ２８７１２２３では、２−ヒドロキシエチルオキサ
ゾリドンとメタクリル酸クロライド、メタクリル酸との
反応によりオキサゾリジノイルエチルメタクリレートを
合成する方法が報告されている。また、ＵＳＰ２７２７
０１６では、２−アミノエチルエチレンウレアとメタク
リル酸クロライドとの反応によりイミダゾリジノイルメ
タクリルアミドを合成する方法が報告されている。ま
た、特開平２−１０２２７５号では２−ヒドロキシエチ
ルコハク酸イミドとメタクリル酸との反応によりコハク
酸イミドイルエチルメタクリレートを合成する方法が報
告されている。
する方法として、(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリ
ル酸ハライドを水酸基またはアミノ基を有する複素環で
エステル化またはアミド化し、複素環含有（メタ）アク
リル化合物にする方法が既に知られている。例えば、Ｕ
ＳＰ２８７１２２３では、２−ヒドロキシエチルオキサ
ゾリドンとメタクリル酸クロライド、メタクリル酸との
反応によりオキサゾリジノイルエチルメタクリレートを
合成する方法が報告されている。また、ＵＳＰ２７２７
０１６では、２−アミノエチルエチレンウレアとメタク
リル酸クロライドとの反応によりイミダゾリジノイルメ
タクリルアミドを合成する方法が報告されている。ま
た、特開平２−１０２２７５号では２−ヒドロキシエチ
ルコハク酸イミドとメタクリル酸との反応によりコハク
酸イミドイルエチルメタクリレートを合成する方法が報
告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法ではそれぞれ対応する水酸基あるいはアミノ基を
有する複素環化合物を用いねばならない。従って、それ
らの複素環化合物が入手または合成できない場合、（メ
タ）アクリル化合物を合成することは出来なかった。特
開昭５０−１０００６１号では、複素環化合物とモノエ
ポキサイドから誘導される下記式（４）で表されるモノ
オキシ化合物と（メタ）アクリル酸を反応させて下記式
（５）で表される（メタ）アクリル化合物を製造するこ
とが報告されている。しかしながらこのモノエポキサイ
ドはガス状で取り扱いが難しく、また危険物のため安全
上問題がある。
の方法ではそれぞれ対応する水酸基あるいはアミノ基を
有する複素環化合物を用いねばならない。従って、それ
らの複素環化合物が入手または合成できない場合、（メ
タ）アクリル化合物を合成することは出来なかった。特
開昭５０−１０００６１号では、複素環化合物とモノエ
ポキサイドから誘導される下記式（４）で表されるモノ
オキシ化合物と（メタ）アクリル酸を反応させて下記式
（５）で表される（メタ）アクリル化合物を製造するこ
とが報告されている。しかしながらこのモノエポキサイ
ドはガス状で取り扱いが難しく、また危険物のため安全
上問題がある。
【化５】
【０００４】また、前記式（１）においてＲ１が水素原
子またはメチル基、Ｗが炭素数５〜２０の直鎖状のアル
キレン基、ＸがＣＲ２Ｒ３、ＹがＮＲ４であり、Ｒ2、
Ｒ3がそれぞれ炭素数１〜３の直鎖状アルキル基、Ｒ4が
水素である（メタ）アクリル化合物は、対応するアルコ
ールの入手が難しいため、従来の方法では合成すること
が出来なかった。
子またはメチル基、Ｗが炭素数５〜２０の直鎖状のアル
キレン基、ＸがＣＲ２Ｒ３、ＹがＮＲ４であり、Ｒ2、
Ｒ3がそれぞれ炭素数１〜３の直鎖状アルキル基、Ｒ4が
水素である（メタ）アクリル化合物は、対応するアルコ
ールの入手が難しいため、従来の方法では合成すること
が出来なかった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、下記式（２）で表さ
れる(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステルと下
記式（３）で表される複素環化合物を反応させること
で、下記式（１）で表される（メタ）アクリル化合物が
得られることを見出し、本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、下記式（２）で表さ
れる(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステルと下
記式（３）で表される複素環化合物を反応させること
で、下記式（１）で表される（メタ）アクリル化合物が
得られることを見出し、本発明を完成した。
【化６】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｗは直鎖また
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換してもよい直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。Ｒ5
は直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基また
は芳香環を示す。）
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換してもよい直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。Ｒ5
は直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基また
は芳香環を示す。）
【０００６】すなわち、本発明は「下記式（１）
【化７】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｗは直鎖また
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換しても良い直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で
表される（メタ）アクリル化合物の製造法において、下
記式（２）
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換しても良い直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で
表される（メタ）アクリル化合物の製造法において、下
記式（２）
【化８】 （式中、Ｒ１、Ｗは式（１）と同じ意味を示し、Ｒ5は
直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基または
芳香環を示す。）で表される(メタ)アクリル酸アルキル
スルホン酸エステルと下記式（３）
直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基または
芳香環を示す。）で表される(メタ)アクリル酸アルキル
スルホン酸エステルと下記式（３）
【化９】 （式中、Ｘ、Ｙは式（１）と同じ意味を示す。）」を要
旨とする。本発明の製造法において、Ｗは反応性が良好
な点から炭素数１〜１０の直鎖または分岐状のアルキレ
ン基が好ましい。また、Ｘは原料を容易に入手できる点
からＣＲ２Ｒ３である事が好ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は
それぞれ水素原子またはメチル基である事が原料を容易
に入手できる点から好ましい。また原料スルホン酸も容
易に入手出来る事からＲ5はメチル基またはｐ−トリル
基である事が好ましい。
旨とする。本発明の製造法において、Ｗは反応性が良好
な点から炭素数１〜１０の直鎖または分岐状のアルキレ
ン基が好ましい。また、Ｘは原料を容易に入手できる点
からＣＲ２Ｒ３である事が好ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は
それぞれ水素原子またはメチル基である事が原料を容易
に入手できる点から好ましい。また原料スルホン酸も容
易に入手出来る事からＲ5はメチル基またはｐ−トリル
基である事が好ましい。
【０００７】また、本発明は「前記式（１）において、
Ｒ１が水素原子またはメチル基、Ｗが炭素数５〜２０の
直鎖または分岐状のアルキレン基、ＸがＣＲ２Ｒ３、Ｙ
がＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3がそれぞれ炭素数１〜３の直
鎖状アルキル基、Ｒ4が水素である（メタ）アクリル化
合物。」を要旨とする。
Ｒ１が水素原子またはメチル基、Ｗが炭素数５〜２０の
直鎖または分岐状のアルキレン基、ＸがＣＲ２Ｒ３、Ｙ
がＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3がそれぞれ炭素数１〜３の直
鎖状アルキル基、Ｒ4が水素である（メタ）アクリル化
合物。」を要旨とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。
る。
【０００９】本発明の方法は通常以下のようにして実施
される。反応器に原料の複素環化合物および必要により
溶媒、塩基、重合禁止剤を所定量仕込み、次いで所定温
度まで昇温して(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エ
ステルを添加する。原料、溶媒、塩基などは必要によ
り、それぞれ別々に、連続的にあるいは間欠的に分割し
て仕込むことも出来る。本発明の方法は回分式または連
続式のどちらの操作で行っても良いが、連続操作にする
ことにより工業的にはさらに有利となる。
される。反応器に原料の複素環化合物および必要により
溶媒、塩基、重合禁止剤を所定量仕込み、次いで所定温
度まで昇温して(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エ
ステルを添加する。原料、溶媒、塩基などは必要によ
り、それぞれ別々に、連続的にあるいは間欠的に分割し
て仕込むことも出来る。本発明の方法は回分式または連
続式のどちらの操作で行っても良いが、連続操作にする
ことにより工業的にはさらに有利となる。
【００１０】反応終了後、常圧あるいは減圧蒸留により
溶媒を回収する。次いでエステル系溶媒またはエーテル
系溶媒に溶解し、飽和食塩水などで洗浄し水溶性の不純
物を除き、再び有機溶媒を留去することにより（メタ）
アクリル化合物が得られる。
溶媒を回収する。次いでエステル系溶媒またはエーテル
系溶媒に溶解し、飽和食塩水などで洗浄し水溶性の不純
物を除き、再び有機溶媒を留去することにより（メタ）
アクリル化合物が得られる。
【００１１】本発明の出発原料である(メタ)アクリル酸
アルキルスルホン酸エステルは、例えば、下記のよう
に、塩基の存在下、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートのような末端ヒドロキシ基を有する（メタ）アク
リル酸エステルとｐ−トルエンスルホン酸クロリドまた
はメタンスルホン酸クロリドなどのようなスルホン酸ハ
ライドとを反応させる公知の方法により製造することが
出来る。
アルキルスルホン酸エステルは、例えば、下記のよう
に、塩基の存在下、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートのような末端ヒドロキシ基を有する（メタ）アク
リル酸エステルとｐ−トルエンスルホン酸クロリドまた
はメタンスルホン酸クロリドなどのようなスルホン酸ハ
ライドとを反応させる公知の方法により製造することが
出来る。
【化１０】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｗは直鎖また
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基、ＺはＣｌ、
Ｂｒ、Ｉを示し、Ｒ5は直鎖または分岐状の炭素数１〜
２０のアルキル基または芳香環を示す。）
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基、ＺはＣｌ、
Ｂｒ、Ｉを示し、Ｒ5は直鎖または分岐状の炭素数１〜
２０のアルキル基または芳香環を示す。）
【００１２】このようにして製造される(メタ)アクリル
酸アルキルスルホン酸エステルを無溶媒または溶媒中、
無触媒または塩基の存在下、前記式（３）で表される複
素環化合物と反応させ、前記式（１）で表される（メ
タ）アクリル化合物を製造することが出来る。
酸アルキルスルホン酸エステルを無溶媒または溶媒中、
無触媒または塩基の存在下、前記式（３）で表される複
素環化合物と反応させ、前記式（１）で表される（メ
タ）アクリル化合物を製造することが出来る。
【００１３】本発明の方法により製造される前記式
（１）で表される（メタ）アクリル化合物の具体例とし
ては２−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)
イル）−エチルアクリレート、２−（３’−(５’、
５’−ジメチルヒダントイン)イル）−エチルメタクリ
レート、３−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダント
イン)イル）−プロピルアクリレート、３−（３’−
(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−プロピル
メタクリレート、４−（３’−(５’、５’−ジメチル
ヒダントイン)イル）−ブチルアクリレート、４−
（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−
ブチルメタクリレート、6−（３’−(５’、５’−ジメ
チルヒダントイン)イル）−ヘキシルアクリレート、6−
（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−
ヘキシルメタクリレート、８−（３’−(５’、５’−
ジメチルヒダントイン)イル）−オクチルアクリレー
ト、８−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)
イル）−オクチルメタクリレート、１０−（３’−
(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−デシルア
クリレート、１０−（３’−(５’、５’−ジメチルヒ
ダントイン)イル）−デシルメタクリレート、２−（Ｎ
−スクシンイミドイル）−エチルアクリレート、２−
（Ｎ−スクシンイミドイル）−エチルメタクリレート、
３−（（Ｎ−スクシンイミドイル）−プロピルアクリレ
ート、３−（Ｎ−スクシンイミドイル）−プロピルメタ
クリレート、４−（Ｎ−スクシンイミドイル）−ブチル
アクリレート、４−（Ｎ−スクシンイミドイル）−ブチ
ルメタクリレート、6−（Ｎ−スクシンイミドイル）−
ヘキシルアクリレート、6−（Ｎ−スクシンイミドイ
ル）−ヘキシルメタクリレート、８−（Ｎ−スクシンイ
ミドイル）−オクチルアクリレート、８−（Ｎ−スクシ
ンイミドイル）−オクチルメタクリレート、１０−
（（Ｎ−スクシンイミドイル）−デシルアクリレート、
１０−（Ｎ−スクシンイミドイル）−デシルメタクリレ
ートなどが挙げられるが、本発明はこれらの化合物に限
定されるものではない。
（１）で表される（メタ）アクリル化合物の具体例とし
ては２−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)
イル）−エチルアクリレート、２−（３’−(５’、
５’−ジメチルヒダントイン)イル）−エチルメタクリ
レート、３−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダント
イン)イル）−プロピルアクリレート、３−（３’−
(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−プロピル
メタクリレート、４−（３’−(５’、５’−ジメチル
ヒダントイン)イル）−ブチルアクリレート、４−
（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−
ブチルメタクリレート、6−（３’−(５’、５’−ジメ
チルヒダントイン)イル）−ヘキシルアクリレート、6−
（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−
ヘキシルメタクリレート、８−（３’−(５’、５’−
ジメチルヒダントイン)イル）−オクチルアクリレー
ト、８−（３’−(５’、５’−ジメチルヒダントイン)
イル）−オクチルメタクリレート、１０−（３’−
(５’、５’−ジメチルヒダントイン)イル）−デシルア
クリレート、１０−（３’−(５’、５’−ジメチルヒ
ダントイン)イル）−デシルメタクリレート、２−（Ｎ
−スクシンイミドイル）−エチルアクリレート、２−
（Ｎ−スクシンイミドイル）−エチルメタクリレート、
３−（（Ｎ−スクシンイミドイル）−プロピルアクリレ
ート、３−（Ｎ−スクシンイミドイル）−プロピルメタ
クリレート、４−（Ｎ−スクシンイミドイル）−ブチル
アクリレート、４−（Ｎ−スクシンイミドイル）−ブチ
ルメタクリレート、6−（Ｎ−スクシンイミドイル）−
ヘキシルアクリレート、6−（Ｎ−スクシンイミドイ
ル）−ヘキシルメタクリレート、８−（Ｎ−スクシンイ
ミドイル）−オクチルアクリレート、８−（Ｎ−スクシ
ンイミドイル）−オクチルメタクリレート、１０−
（（Ｎ−スクシンイミドイル）−デシルアクリレート、
１０−（Ｎ−スクシンイミドイル）−デシルメタクリレ
ートなどが挙げられるが、本発明はこれらの化合物に限
定されるものではない。
【００１４】前記式（２）で表される(メタ)アクリル酸
アルキルスルホン酸エステル化合物および前記式（３）
で表される複素環化合物の仕込みモル比は特に制限され
ず広い範囲で反応できるが、例えば複素環化合物を(メ
タ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステル化合物に対
して０．５倍モル以上、好ましくは０．８倍モル以上、
特に好ましくは１倍モル以上の範囲で使用される。また
上限としては２０倍モル以下、好ましくは１０倍モル以
下、特に好ましくは５倍モル以下の量が好ましい。少な
すぎると未反応(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エ
ステル化合物が残るため、また多すぎると未反応複素環
化合物が残るため、どちらの場合も反応液から未反応原
料の分離に手間がかかるため好ましくない。
アルキルスルホン酸エステル化合物および前記式（３）
で表される複素環化合物の仕込みモル比は特に制限され
ず広い範囲で反応できるが、例えば複素環化合物を(メ
タ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステル化合物に対
して０．５倍モル以上、好ましくは０．８倍モル以上、
特に好ましくは１倍モル以上の範囲で使用される。また
上限としては２０倍モル以下、好ましくは１０倍モル以
下、特に好ましくは５倍モル以下の量が好ましい。少な
すぎると未反応(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エ
ステル化合物が残るため、また多すぎると未反応複素環
化合物が残るため、どちらの場合も反応液から未反応原
料の分離に手間がかかるため好ましくない。
【００１５】本発明の方法においては反応を妨害しない
種々の溶媒を使用可能であるが、ホルムアミド、Ｎ−メ
チルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリ
ドンおよびアセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒を
用いることが好ましく、特にジメチルホルムアミドが好
ましい。
種々の溶媒を使用可能であるが、ホルムアミド、Ｎ−メ
チルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリ
ドンおよびアセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒を
用いることが好ましく、特にジメチルホルムアミドが好
ましい。
【００１６】本発明の方法は無触媒で行うことができる
が、適当な塩基の存在下で行うことも出来る。塩基とし
ては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムのようなアルカリ金属水酸化、水酸化カルシウムのよ
うなアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドの
ような金属アルコキシドを挙げることが出来るが、特に
炭酸カリウムが好ましい。これらの塩基の使用量は特に
制限されないが、通常、(メタ)アクリル酸アルキルスル
ホン酸エステルに対して０．５倍モル以上、特に１倍モ
ル量以上が好ましい。また上限としては２０倍モル量以
下、特に５倍モル以下の量が好ましい。少なすぎる場合
は長い反応時間がかかり、多すぎる場合は未反応塩基を
反応液から分離するのに手間がかかる。
が、適当な塩基の存在下で行うことも出来る。塩基とし
ては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムのようなアルカリ金属水酸化、水酸化カルシウムのよ
うなアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドの
ような金属アルコキシドを挙げることが出来るが、特に
炭酸カリウムが好ましい。これらの塩基の使用量は特に
制限されないが、通常、(メタ)アクリル酸アルキルスル
ホン酸エステルに対して０．５倍モル以上、特に１倍モ
ル量以上が好ましい。また上限としては２０倍モル量以
下、特に５倍モル以下の量が好ましい。少なすぎる場合
は長い反応時間がかかり、多すぎる場合は未反応塩基を
反応液から分離するのに手間がかかる。
【００１７】本発明の方法における反応温度は２０℃以
上の温度で行う事ができるが、特に７０℃以上が好まし
い。また上限としては１８０℃以下の温度で行なうこと
が出来るが、特に９０℃以下が好ましい。これより低い
場合は長い反応時間がかかり、多すぎる場合は重合など
の副反応が起こりやすい。
上の温度で行う事ができるが、特に７０℃以上が好まし
い。また上限としては１８０℃以下の温度で行なうこと
が出来るが、特に９０℃以下が好ましい。これより低い
場合は長い反応時間がかかり、多すぎる場合は重合など
の副反応が起こりやすい。
【００１８】本発明の方法における原料の一つである
(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステルは重合性
化合物であるため、重合禁止剤を存在させることが好ま
しい。重合禁止剤としては、通常のラジカル重合の防止
に効果を示すものなら何でも用いることが出来るが、例
えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのキノン類、フェノチアジンなどのアミン類、
ターシャリーブチルカテコール、２，６−ジターシャリ
ーブチルパラクレゾール、２，４，６−トリターシャリ
ーブチルクレゾールなどのフェノール類、テトラメチル
ピペリジン−１−オキシルなどのＮ−オキシル類等が挙
げられるがなかでもＮ−オキシル類が好ましい。
(メタ)アクリル酸アルキルスルホン酸エステルは重合性
化合物であるため、重合禁止剤を存在させることが好ま
しい。重合禁止剤としては、通常のラジカル重合の防止
に効果を示すものなら何でも用いることが出来るが、例
えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのキノン類、フェノチアジンなどのアミン類、
ターシャリーブチルカテコール、２，６−ジターシャリ
ーブチルパラクレゾール、２，４，６−トリターシャリ
ーブチルクレゾールなどのフェノール類、テトラメチル
ピペリジン−１−オキシルなどのＮ−オキシル類等が挙
げられるがなかでもＮ−オキシル類が好ましい。
【００１９】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
説明するが本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００２０】実施例１ ２−（３’−（５’５’−ジメチルヒダントイン）イ
ル）−エチルメタクリレートの合成 四つ口フラスコに５，５−ジメチルヒダントイン６１．
４ｇ（０．４８ｍｏｌ）、炭酸カリウム７３．４ｇ
（０．５３ｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル８２ｍｇ
（０．４８ｍｍｏｌモル）およびジメチルホルムアミド
１０００ｇ入れた後、８０℃に昇温した。これに２−メ
タンスルホニルエチルメタクリレート１００ｇ（０．４
８モル）を３０分かけて滴下した。８０℃で５時間攪拌
した後、反応溶液をろ過し、ろ液に空気を吹き込みなが
ら減圧留去した。これに酢酸エチル５００ｇを加え飽和
食塩水２００ｇで２回洗浄後、有機相を空気を吹き込み
ながら減圧留去し、白色固体を得た。これをメチル‐ｔ
−ブチルエーテルから再結晶し、目的化合物の白色固体
７３．１ｇを得た。（単離収率６３．４％） 分析値 ・融点 68℃〜71℃ ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.23ppm (singlet 6H) (CH3)2 ジメチルヒダント
インのH δ1.82ppm (singlet 3H) CH3 メタクリロイル基
のH δ3.6ppm (triplet 2H) N−CH2− δ4.2ppm (triplet 2H) O−CH2− δ5.64〜5.96ppm (2H) ＝CH2 δ8.28ppm (singlet 1H) NH ・赤外線吸収スペクトル（KBr disk） 3297cm-1 （ν N−H） 1774cm-1 （ν C＝O エステル） 1717cm-1 （ν C＝O アミド）
ル）−エチルメタクリレートの合成 四つ口フラスコに５，５−ジメチルヒダントイン６１．
４ｇ（０．４８ｍｏｌ）、炭酸カリウム７３．４ｇ
（０．５３ｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル８２ｍｇ
（０．４８ｍｍｏｌモル）およびジメチルホルムアミド
１０００ｇ入れた後、８０℃に昇温した。これに２−メ
タンスルホニルエチルメタクリレート１００ｇ（０．４
８モル）を３０分かけて滴下した。８０℃で５時間攪拌
した後、反応溶液をろ過し、ろ液に空気を吹き込みなが
ら減圧留去した。これに酢酸エチル５００ｇを加え飽和
食塩水２００ｇで２回洗浄後、有機相を空気を吹き込み
ながら減圧留去し、白色固体を得た。これをメチル‐ｔ
−ブチルエーテルから再結晶し、目的化合物の白色固体
７３．１ｇを得た。（単離収率６３．４％） 分析値 ・融点 68℃〜71℃ ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.23ppm (singlet 6H) (CH3)2 ジメチルヒダント
インのH δ1.82ppm (singlet 3H) CH3 メタクリロイル基
のH δ3.6ppm (triplet 2H) N−CH2− δ4.2ppm (triplet 2H) O−CH2− δ5.64〜5.96ppm (2H) ＝CH2 δ8.28ppm (singlet 1H) NH ・赤外線吸収スペクトル（KBr disk） 3297cm-1 （ν N−H） 1774cm-1 （ν C＝O エステル） 1717cm-1 （ν C＝O アミド）
【００２１】実施例２ ２−Ｎ―(スクシンイミドイル)−エチルメタクリレート
の合成 四つ口フラスコにスクシンイミド６１．４ｇ（０．７２
ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１０ｇ（０．８０ｍｏｌ）、
４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン−Ｎ−オキシル１２３ｍｇ（０．７２ｍｍｏｌ）お
よびジメチルホルムアミド１５００ｇ入れた後、８０℃
に昇温した。これに２−メタンスルホニルエチルメタク
リレート１５０ｇ（０．７２ｍｏｌ）を３０分かけて滴
下した。８０℃で５時間攪拌した後、反応溶液をろ過し
た。ろ液を減圧蒸留し、目的化合物の透明液体８９．３
ｇを得た（単離収率５８．７％）。 分析値 ・沸点 141℃〜147℃（0.4 Torr） ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.82ppm (singlet 3H) CH3 メタクリロイル基
のH δ2.62ppm (singlet 4H) (CH2)2 スクシンイミドの
H δ3.65ppm (triplet 2H) N−CH2− δ4.17ppm (triplet 2H) O−CH2− δ5.64〜5.97ppm (2H) ＝CH2 ・赤外線吸収スペクトル 1705cm-1 （ν C＝O エステル＋アミド）
の合成 四つ口フラスコにスクシンイミド６１．４ｇ（０．７２
ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１０ｇ（０．８０ｍｏｌ）、
４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン−Ｎ−オキシル１２３ｍｇ（０．７２ｍｍｏｌ）お
よびジメチルホルムアミド１５００ｇ入れた後、８０℃
に昇温した。これに２−メタンスルホニルエチルメタク
リレート１５０ｇ（０．７２ｍｏｌ）を３０分かけて滴
下した。８０℃で５時間攪拌した後、反応溶液をろ過し
た。ろ液を減圧蒸留し、目的化合物の透明液体８９．３
ｇを得た（単離収率５８．７％）。 分析値 ・沸点 141℃〜147℃（0.4 Torr） ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.82ppm (singlet 3H) CH3 メタクリロイル基
のH δ2.62ppm (singlet 4H) (CH2)2 スクシンイミドの
H δ3.65ppm (triplet 2H) N−CH2− δ4.17ppm (triplet 2H) O−CH2− δ5.64〜5.97ppm (2H) ＝CH2 ・赤外線吸収スペクトル 1705cm-1 （ν C＝O エステル＋アミド）
【００２２】実施例３ ６−Ｎ（５，５’−ジメチルヒダントイン）−ヘキシル
アクリレートの合成 四つ口フラスコに５，５−ジメチルヒダントイン２０．
５ｇ（０．１６ｍｏｌ）、炭酸カリウム２６．７ｇ
（０．１９ｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル２８ｍｇ
（０．１６ｍｍｏｌモル）およびジメチルホルムアミド
５００ｇを入れた後、８０℃に昇温した。これに６−メ
タンスルホニルヘキシルメタクリレート４０ｇ（０．１
６モル）を３０分かけて滴下した。８０℃で５時間攪拌
した後、反応溶液をろ過し、ろ液に空気を吹き込みなが
ら減圧留去した。これに酢酸エチル４００ｇを加え飽和
食塩水２００ｇで４回洗浄後、有機相に空気を吹き込み
ながら減圧留去し、目的化合物の透明液体２５．８ｇを
得た（単離収率５７．２％）。 分析値 元素分析（％） 測定値：Ｃ、５９．６８；Ｈ、７．８２；Ｎ、９．８９ 計算値：Ｃ、５９．５６；Ｈ、７．８５；Ｎ、９．９２ ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.25〜1.58ppm (14H) (CH2)4 + (CH3)2 δ3.31ppm (triplet 2H) N−CH2 δ4.06ppm (triplet 2H) O−CH2- δ5.89〜6.33ppm (3H) CH2=CH− δ8.19ppm (singlet 1H) ＝CH2 ・赤外線吸収スペクトル 3231cm-1 （ν N−H） 1773cm-1 （ν C＝O エステル） 1709cm-1 （ν C＝O アミド）
アクリレートの合成 四つ口フラスコに５，５−ジメチルヒダントイン２０．
５ｇ（０．１６ｍｏｌ）、炭酸カリウム２６．７ｇ
（０．１９ｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル２８ｍｇ
（０．１６ｍｍｏｌモル）およびジメチルホルムアミド
５００ｇを入れた後、８０℃に昇温した。これに６−メ
タンスルホニルヘキシルメタクリレート４０ｇ（０．１
６モル）を３０分かけて滴下した。８０℃で５時間攪拌
した後、反応溶液をろ過し、ろ液に空気を吹き込みなが
ら減圧留去した。これに酢酸エチル４００ｇを加え飽和
食塩水２００ｇで４回洗浄後、有機相に空気を吹き込み
ながら減圧留去し、目的化合物の透明液体２５．８ｇを
得た（単離収率５７．２％）。 分析値 元素分析（％） 測定値：Ｃ、５９．６８；Ｈ、７．８２；Ｎ、９．８９ 計算値：Ｃ、５９．５６；Ｈ、７．８５；Ｎ、９．９２ ・１Ｈ−ＮＭＲスペクトル δ1.25〜1.58ppm (14H) (CH2)4 + (CH3)2 δ3.31ppm (triplet 2H) N−CH2 δ4.06ppm (triplet 2H) O−CH2- δ5.89〜6.33ppm (3H) CH2=CH− δ8.19ppm (singlet 1H) ＝CH2 ・赤外線吸収スペクトル 3231cm-1 （ν N−H） 1773cm-1 （ν C＝O エステル） 1709cm-1 （ν C＝O アミド）
【００２３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、入手が容易な複
素環化合物および（メタ）アクリル化合物を用いて高収
率で複素環含有（メタ）アクリル化合物を製造すること
が出来る。また、本発明により製造される（メタ）アク
リル化合物は、塗料、歯科材料などの素材として好適に
使用することが出来る。
素環化合物および（メタ）アクリル化合物を用いて高収
率で複素環含有（メタ）アクリル化合物を製造すること
が出来る。また、本発明により製造される（メタ）アク
リル化合物は、塗料、歯科材料などの素材として好適に
使用することが出来る。
Claims (8)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基、Ｗは直鎖また
は分岐状の炭素数１〜２０のアルキレン基。ＸおよびＹ
は各々独立してＣＲ２Ｒ３、ＮＲ４であり、Ｒ2、Ｒ3、
Ｒ4は同一または異なり水酸基が置換しても良い直鎖ま
たは分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で
表される（メタ）アクリル化合物の製造法において、下
記式（２） 【化２】 （式中、Ｒ１、Ｗは式（１）と同じ意味を示し、Ｒ5は
直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基または
芳香環を示す。）で表される(メタ)アクリル酸アルキル
スルホン酸エステルと下記式（３） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｙは式（１）と同じ意味を示す。）で表さ
れる複素環化合物を反応させることを特徴とする（メ
タ）アクリル化合物の製造法。 - 【請求項２】 Ｗが炭素数１〜１０の直鎖または分岐状
のアルキレン基である請求項１記載の（メタ）アクリル
化合物の製造法。 - 【請求項３】 ＸがＣＲ２Ｒ３（Ｒ2、Ｒ3は同一または
異なり水酸基が置換しても良い直鎖または分岐状の炭素
数１〜２０のアルキル基を示す。）である請求項１また
は２記載の（メタ）アクリル化合物の製造法。 - 【請求項４】 Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4がそれぞれ水素原子また
はメチル基である請求項１乃至３いずれか一項記載の
（メタ）アクリル化合物の製造法。 - 【請求項５】 Ｒ5がメチル基またはｐ−トリル基であ
る請求項１乃至４いずれか一項記載の（メタ）アクリル
化合物の製造法。 - 【請求項６】 反応溶媒としてジメチルホルムアミドを
用いる請求項１乃至５いずれか一項記載の（メタ）アク
リル化合物の製造法。 - 【請求項７】 塩基の存在下に(メタ)アクリル酸アルキ
ルスルホン酸エステルと複素環化合物を反応させる請求
項１乃至６いずれか一項記載の（メタ）アクリル化合物
の製造法。 - 【請求項８】 請求項１の式（１）において、Ｒ１が水
素原子またはメチル基、Ｗが炭素数５〜２０の直鎖また
は分岐状のアルキレン基、ＸがＣＲ２Ｒ３、ＹがＮＲ４
であり、Ｒ2、Ｒ3がそれぞれ炭素数１〜３の直鎖状アル
キル基、Ｒ4が水素である（メタ）アクリル化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166252A JP2002363158A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | （メタ）アクリル化合物の製造方法及び（メタ）アクリル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166252A JP2002363158A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | （メタ）アクリル化合物の製造方法及び（メタ）アクリル化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002363158A true JP2002363158A (ja) | 2002-12-18 |
Family
ID=19008812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001166252A Pending JP2002363158A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | （メタ）アクリル化合物の製造方法及び（メタ）アクリル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002363158A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9547240B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-01-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, photoresist composition, and method for producing photoresist pattern |
| US9726974B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-08-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, photoresist composition, and method for producing photoresist pattern |
-
2001
- 2001-06-01 JP JP2001166252A patent/JP2002363158A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9547240B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-01-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, photoresist composition, and method for producing photoresist pattern |
| US9726974B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-08-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, photoresist composition, and method for producing photoresist pattern |
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