JP2002336343A - Plasma catalytic reactor and air purification device - Google Patents
Plasma catalytic reactor and air purification deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低温プラズマとマンガン系触媒を組み合わせ
たプラズマ触媒反応器(20)におけるプラズマの活性を高
め、被処理流体の化学反応を十分に促進して処理性能を
高める。
【解決手段】 被処理流体の流通空間で、コロナ放電、
沿面放電、無声放電、または部分放電により低温プラズ
マを発生させ、この低温プラズマとマンガン系触媒とを
組み合わせて被処理流体を処理する。
PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance plasma activity in a plasma catalytic reactor (20) combining low-temperature plasma and a manganese-based catalyst, to sufficiently promote a chemical reaction of a fluid to be treated, and to enhance treatment performance. SOLUTION: Corona discharge,
Low-temperature plasma is generated by creeping discharge, silent discharge, or partial discharge, and the fluid to be treated is processed by combining the low-temperature plasma with a manganese-based catalyst.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、放電により生成さ
れる低温プラズマと触媒とを組み合わせて被処理流体の
化学反応を促進するプラズマ触媒反応器及び空気浄化装
置に関し、特に、マンガン系触媒を用いたプラズマ触媒
反応器等に係るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma catalyst reactor and an air purification device for promoting a chemical reaction of a fluid to be treated by combining a low-temperature plasma generated by electric discharge with a catalyst, and more particularly to a manganese catalyst. Pertaining to a plasma catalyst reactor or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、低温プラズマと触媒とを組み
合わせて被処理流体を処理するプラズマ触媒反応器が提
案されている。このプラズマ触媒反応器は、例えば、被
処理流体(被処理空気や被処理ガス)中の臭気物質や有
害物質を分解して無臭化ないし無害化するために、空気
浄化装置(脱臭機や空気清浄機)を始め、空気調和装
置、生ゴミ処理装置、排ガス処理装置などに応用するこ
とができるものである。2. Description of the Related Art Conventionally, a plasma catalytic reactor for treating a fluid to be treated by combining a low-temperature plasma and a catalyst has been proposed. This plasma catalytic reactor is, for example, an air purifier (a deodorizer or an air purifier) in order to decompose and deodorize odorous substances and harmful substances in a fluid to be treated (air to be treated and gas to be treated). ), Air conditioners, garbage treatment equipment, exhaust gas treatment equipment, etc.
【0003】例えば、特開平6−262032号公報に
は、プラズマ触媒反応器として、グロー放電により低温
プラズマを生成するとともに、この低温プラズマとマン
ガン系触媒とを組み合わせて排気ガスを浄化するガス浄
化装置が開示されている。このガス浄化装置は、放電に
よって生成される低温プラズマ中の反応性の高い物質
(例えば、電子、イオン、オゾン、ラジカルなどの活性
種)を触媒の存在下で有害物質や臭気物質と反応させる
ことによって、これらの物質を分解除去するものであ
る。[0003] For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-262032 discloses a gas purifying apparatus which generates low-temperature plasma by glow discharge and purifies exhaust gas by combining the low-temperature plasma with a manganese catalyst as a plasma catalytic reactor. Is disclosed. This gas purifier reacts highly reactive substances (eg, active species such as electrons, ions, ozone, and radicals) in low-temperature plasma generated by discharge with harmful substances and odorous substances in the presence of a catalyst. By these, these substances are decomposed and removed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、グロー放電で
生成される低温プラズマは、活性化力が小さいため、触
媒の存在下での化学反応を十分に促進することができ
ず、このプラズマをマンガン系触媒と組み合わせても、
プラズマ触媒反応器として被処理流体を処理するのに十
分な性能を得ることは困難であった。However, the low-temperature plasma generated by the glow discharge has a small activating power and cannot sufficiently promote a chemical reaction in the presence of a catalyst. Even when combined with a system catalyst,
It has been difficult to obtain sufficient performance for treating a fluid to be treated as a plasma catalytic reactor.
【0005】本発明は、このような問題点に鑑みて創案
されたものであり、その目的とするところは、低温プラ
ズマとマンガン系触媒とを組み合わせたプラズマ触媒反
応器におけるプラズマの活性化力を高め、被処理流体の
化学反応をより強く促進して処理性能を高めることであ
る。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce the plasma activating power in a plasma catalytic reactor combining low-temperature plasma and a manganese-based catalyst. To enhance the processing performance by promoting the chemical reaction of the fluid to be treated more strongly.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、マンガン系触
媒を用いたプラズマ触媒反応器(20)において、放電方式
を活性化力の高い方式に特定したものである。According to the present invention, in a plasma catalytic reactor (20) using a manganese-based catalyst, a discharge method is specified as a method having a high activating power.
【0007】具体的に、本発明が講じた第1の解決手段
は、被処理流体の流通空間で放電により低温プラズマを
発生させる放電手段(21,22) と、該放電手段(21,22) に
おける放電場(D) 中または放電場(D) の下流側に配置さ
れた触媒手段(23)とを備え、該触媒手段(23)がマンガン
系触媒を含むプラズマ触媒反応器(20)を前提としてい
る。そして、このプラズマ触媒反応器(20)は、放電手段
(21,22) が、コロナ放電、沿面放電、無声放電、または
部分放電により、低温プラズマを発生させるように構成
されていることを特徴としている。これらの放電を起こ
すための電源には、放電方式に応じて、直流、交流、パ
ルスなどの各種の高圧電源を用いることができる。More specifically, a first solution taken by the present invention is a discharge means (21, 22) for generating a low-temperature plasma by discharge in a flow space of a fluid to be treated, and the discharge means (21, 22). Catalyst means (23) arranged in the discharge field (D) or downstream of the discharge field (D), wherein the catalyst means (23) is a plasma catalyst reactor (20) containing a manganese-based catalyst. And And this plasma catalytic reactor (20)
(21, 22) is characterized in that low-temperature plasma is generated by corona discharge, creeping discharge, silent discharge, or partial discharge. Various high-voltage power supplies such as direct current, alternating current, and pulse can be used as a power supply for causing these discharges according to a discharge method.
【0008】この第1の解決手段に係るプラズマ触媒反
応器(20)では、放電手段(21,22) の放電場(D) におい
て、コロナ放電、沿面放電、無声放電、または部分放電
により、低温プラズマが発生する。そして、これらの放
電によって生成される反応性の高い物質(例えば、電
子、イオン、オゾン、ラジカルなどの活性種)が触媒の
存在下でさらに励起されて有害物質や臭気物質などと反
応し、被処理流体中の有害物質等が分解除去される。[0008] In the plasma catalytic reactor (20) according to the first solution, in the discharge field (D) of the discharge means (21, 22), low temperature is generated by corona discharge, creeping discharge, silent discharge or partial discharge. Plasma is generated. Then, highly reactive substances (eg, active species such as electrons, ions, ozone, and radicals) generated by these discharges are further excited in the presence of a catalyst to react with harmful substances and odorous substances, thereby causing damage. Harmful substances and the like in the processing fluid are decomposed and removed.
【0009】また、本発明が講じた第2の解決手段は、
上記第1の解決手段に係るプラズマ触媒反応器(20)にお
いて、触媒手段(23)に含まれるマンガン系触媒(Mnま
たはMn酸化物(MnO2 やMn2O3など))が、触媒
成分中10〜60質量%含有されていることを特徴と
し、本発明が講じた第3の解決手段は、上記第2の解決
手段に係るプラズマ触媒反応器(20)において、触媒手段
(23)に含まれるマンガン系触媒が、触媒成分中30〜4
0質量%含有されていることを特徴としている。[0009] The second solution taken by the present invention is:
In the plasma catalytic reactor (20) according to the first solution, the manganese-based catalyst (Mn or Mn oxide (MnO 2 , Mn 2 O 3, etc.)) contained in the catalyst means (23) is contained in the catalyst component. According to a third aspect of the present invention, there is provided a plasma catalytic reactor (20) according to the second aspect, wherein:
The manganese-based catalyst contained in (23) is 30 to 4
It is characterized by containing 0% by mass.
【0010】上記第2,第3の解決手段においては、M
n、MnO2 、またはMn2O3などのマンガン系触媒の
含有量を特定しているため、プラズマ触媒反応器(20)の
処理性能が最適化される。逆に言うと、触媒成分中のM
n、MnO2 、またはMn2O3などの含有量が少なすぎ
ると有害物質などの分解能力が不十分となり、含有量が
多すぎると触媒の比表面積が逆に小さくなって性能が低
下するのに対し、最適な性能が得られる。In the above second and third solving means, M
Since the content of the manganese-based catalyst such as n, MnO 2 , or Mn 2 O 3 is specified, the processing performance of the plasma catalytic reactor (20) is optimized. Conversely, M in the catalyst component
If the content of n, MnO 2 , or Mn 2 O 3 is too small, the ability to decompose harmful substances will be insufficient, and if the content is too large, the specific surface area of the catalyst will be small and the performance will deteriorate. , The optimum performance is obtained.
【0011】また、本発明が講じた第4の解決手段は、
上記第1,第2または第3の解決手段に係るプラズマ触
媒反応器(20)において、放電手段(21,22) の放電場(D)
中または放電場(D) の下流側に、被処理流体に含有され
る被処理成分を吸着する吸着手段(23)が触媒手段(23)と
ともに配置されていることを特徴としている。[0011] A fourth solution taken by the present invention is:
In the plasma catalytic reactor (20) according to the first, second or third solving means, the discharge field (D) of the discharging means (21, 22)
An adsorption means (23) for adsorbing the component to be treated contained in the fluid to be treated is arranged together with the catalyst means (23) in the middle or downstream of the discharge field (D).
【0012】この第4の解決手段においては、被処理流
体の含有する被処理成分が吸着手段(23)に吸着されるた
め、低温プラズマに含まれる活性種が触媒に接触してさ
らに励起されると、これら活性種は、被処理流体に含ま
れて浮遊している成分とともに、吸着手段(23)に吸着さ
れている成分にも作用して、これらの成分を分解除去す
る。In the fourth solution, the component to be treated contained in the fluid to be treated is adsorbed by the adsorption means (23), so that the active species contained in the low-temperature plasma comes into contact with the catalyst and is further excited. Then, these active species act on the components adsorbed by the adsorbing means (23) together with the components contained and suspended in the fluid to be treated, and decompose and remove these components.
【0013】また、本発明が講じた第5の解決手段は、
上記第1,第2,第3または第4の解決手段に係るプラ
ズマ触媒反応器(20)を用いた空気浄化装置に関するもの
である。この空気浄化装置(1) は、該プラズマ触媒反応
器(20)が内部に収納されるケーシング(10)を備え、この
ケーシング(10)内に被処理空気を導入して放電手段(21,
22) の放電場(D) 及び触媒手段(23)を通過させることに
より、該被処理空気中の臭気成分または有害成分を処理
するように構成されていることを特徴としている。Further, a fifth solution taken by the present invention is:
The present invention relates to an air purification device using the plasma catalytic reactor (20) according to the first, second, third or fourth solution. This air purification device (1) includes a casing (10) in which the plasma catalytic reactor (20) is housed, and introduces air to be treated into the casing (10) to discharge means (21,
The odor component or the harmful component in the air to be treated is treated by passing through the discharge field (D) of 22) and the catalyst means (23).
【0014】この第5の解決手段では、被処理空気中の
臭気成分または有害成分を低温プラズマと触媒手段(23)
により酸化分解などの処理をすることにより、被処理空
気が浄化される。In the fifth solution, the odor component or the harmful component in the air to be treated is reduced by the low-temperature plasma and the catalyst means (23).
Thus, the air to be treated is purified by performing a treatment such as oxidative decomposition.
【0015】[0015]
【発明の効果】上記第1の解決手段によれば、グロー放
電に比べて活性化能力の高いコロナ放電、沿面放電、無
声放電、または部分放電を用いて低温プラズマを発生さ
せ、この低温プラズマとマンガン系触媒を組み合わせる
ようにしているので、触媒の存在下での化学反応を促進
する活性種をグロー放電と比べてさらに励起することで
活性を大幅に高めることができる。したがって、プラズ
マ触媒反応器(20)の能力を高めることができる。According to the first solution, a low-temperature plasma is generated by using corona discharge, creeping discharge, silent discharge, or partial discharge having a higher activation ability than glow discharge. Since a manganese-based catalyst is used in combination, the activity can be significantly increased by further exciting active species that promote a chemical reaction in the presence of the catalyst as compared with glow discharge. Therefore, the capacity of the plasma catalytic reactor (20) can be increased.
【0016】また、上記第2,第3の解決手段によれ
ば、Mn、MnO2 、またはMn2O3などの含有量を最
適範囲に特定しているため、プラズマ触媒反応器(20)の
処理性能をより高めることができる。According to the second and third means, since the content of Mn, MnO 2 , Mn 2 O 3 and the like is specified in the optimum range, the content of the plasma catalytic reactor (20) is reduced. Processing performance can be further improved.
【0017】また、上記第4の解決手段によれば、被処
理流体の含有する被処理成分を吸着する吸着手段(23)を
触媒手段(23)とともに放電場(D) 中または放電場(D) の
下流側に配置して、被処理流体の被処理成分を吸着手段
(23)で吸着するとともに触媒の存在下で反応させるよう
にしているので、低温プラズマの活性種がこれらの成分
に確実に作用して、これら成分を分解処理する。したが
って、処理性能をより高めることができる。また、間欠
的な放電など放電時間を短くしても処理性能が低下しな
いようにすることもできるので、省エネ性を高めること
も可能である。According to the fourth solution, the adsorbing means (23) for adsorbing the component to be treated contained in the fluid to be treated is combined with the catalyst means (23) in the discharge field (D) or in the discharge field (D). ) And adsorbs the component to be treated of the fluid to be treated.
Since the reaction is carried out in the presence of the catalyst while being adsorbed in (23), the active species of the low-temperature plasma surely acts on these components and decomposes these components. Therefore, processing performance can be further improved. Further, even if the discharge time is shortened, such as intermittent discharge, the processing performance can be prevented from lowering, so that it is possible to improve energy saving.
【0018】また、上記第5の解決手段によれば、グロ
ー放電に比べて活性化能力の高いコロナ放電、沿面放
電、無声放電、または部分放電を用いて発生させた低温
プラズマとマンガン系触媒を含む触媒手段(23)とを併用
して、有害物質や臭気物質を含む被処理空気を処理する
ようにしているので、空気浄化装置(1) の処理能力を高
めることができる。According to the fifth solution, the low-temperature plasma generated by using corona discharge, creeping discharge, silent discharge, or partial discharge, which has higher activation ability than glow discharge, and a manganese-based catalyst are used. Since the air to be treated containing harmful substances and odorous substances is treated in combination with the catalyst means (23), the treatment capacity of the air purification device (1) can be increased.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態1】以下、本発明の実施形態を図面
に基づいて詳細に説明する。Embodiment 1 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0020】この実施形態は、被処理空気中の臭気成分
または有害成分を酸化分解などにより処理して空気を浄
化する空気浄化装置(1) に関するものであり、図1はこ
の空気浄化装置(1) の概略構成を示している。また、図
2は空気浄化装置(1) の構造を模式的に示す断面図、図
3は放電方式を表す模式図である。This embodiment relates to an air purification device (1) for purifying air by treating odorous or harmful components in the air to be treated by oxidative decomposition or the like. FIG. 1 shows this air purification device (1). ) Is shown. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the air purification device (1), and FIG. 3 is a schematic view showing a discharge method.
【0021】図示するように、この空気浄化装置(1) は
ケーシング(10)内に各機能部品が収納された構成であ
り、機能部品として、集塵フィルタ(11)と遠心ファン(1
2)とプラズマ触媒反応器(20)とがケーシング(10)内に収
納されている。なお、図1に符号(13)で示しているの
は、放電により発生するオゾンを分解するためのオゾン
分解触媒である。As shown in the figure, the air purifying apparatus (1) has a configuration in which various functional parts are housed in a casing (10). As the functional parts, a dust collecting filter (11) and a centrifugal fan (1) are provided.
2) and the plasma catalytic reactor (20) are housed in a casing (10). In FIG. 1, reference numeral (13) denotes an ozone decomposition catalyst for decomposing ozone generated by electric discharge.
【0022】ケーシング(10)の一つの側面(図の右側の
側面)には、ケーシング(10)内に空気を吸い込むための
空気吸込口(15)が形成され、上面には浄化空気を吹き出
すための空気吹出口(16)が形成されている。空気吸込口
(15)には吸込グリル(15a) が設けられ、空気吹出口(16)
には吹出グリル(16a) が設けられている。また、空気吸
込口(15)には、吸込グリル(15a) の内側に上記集塵フィ
ルタ(11)を配置して、吸込空気中に含まれる塵埃を捕集
するようにしている。An air inlet (15) for sucking air into the casing (10) is formed on one side face (right side face in the figure) of the casing (10), and a purified air is blown on the upper face. Air outlet (16) is formed. Air inlet
(15) is provided with a suction grill (15a) and an air outlet (16)
Is provided with an outlet grill (16a). The dust suction filter (11) is arranged in the air suction port (15) inside the suction grille (15a) so as to collect dust contained in the suction air.
【0023】空気吹出口(16)は、ケーシング(10)の上面
において、空気吸込口(15)とは反対側の縁部(図1の左
側の縁部)に形成されている。そして、この空気吹出口
(16)に対応して、上記遠心ファン(12)がケーシング(10)
内に設けられている。この遠心ファン(12)には、ファン
用電源(12a) が接続されている。以上の構成において、
ケーシング(10)の内部は、空気吸込口(15)と空気吹出口
(16)の間が被処理空気の流通空間となっている。そし
て、遠心ファン(12)を起動すると、被処理空気が空気吸
込口(15)の吸込グリル(15a) 及び集塵フィルタ(11)を通
してケーシング(10)内に吸い込まれ、下記に詳述する反
応器(20)での処理後に空気吹出口(16)の吹出グリル(16
a) からケーシング(10)の外に吹き出される。The air outlet (16) is formed on the upper surface of the casing (10) at the edge opposite to the air inlet (15) (the left edge in FIG. 1). And this air outlet
Corresponding to (16), the centrifugal fan (12) is
Is provided within. The centrifugal fan (12) is connected to a fan power supply (12a). In the above configuration,
The inside of the casing (10) has an air inlet (15) and an air outlet
The space between (16) is the circulation space of the air to be treated. Then, when the centrifugal fan (12) is started, the air to be treated is sucked into the casing (10) through the suction grill (15a) of the air suction port (15) and the dust filter (11), and the reaction described in detail below is performed. After processing in the vessel (20), the outlet grill (16) of the air outlet (16)
a) is blown out of the casing (10).
【0024】上記プラズマ触媒反応器(20)は、低温プラ
ズマを発生させるための放電手段としての放電電極(21)
及び対向電極(22)と、これらの電極(21,22) の間で対向
電極(22)に近接して配置された処理部材(23)とを備えて
いる。つまり、処理部材(23)は放電場(D) 中に配置され
ている。この処理部材(23)は、詳細は図示していないが
空気の流れ方向に沿って貫通する多数の小孔を有するハ
ニカム形状の基材(23a) から構成されている。処理部材
(23)は、その表面に少なくともマンガン系触媒を担持し
ており、被処理空気を処理する際の化学反応を促進する
触媒構造体(触媒手段)を構成している。この触媒構造
体(23)は、触媒成分中、マンガン系触媒であるMn、M
nO2 、またはMn2O3などを30〜40質量%含有し
ている。この含有量は好適な範囲を特定したものである
が、触媒構造体(23)は、触媒成分中、Mn、MnO2 、
またはMn2O3などを10〜60質量%含有するもので
あればよい。The plasma catalytic reactor (20) includes a discharge electrode (21) as discharge means for generating low-temperature plasma.
And a counter member (22), and a processing member (23) disposed between the electrodes (21, 22) and close to the counter electrode (22). That is, the processing member (23) is disposed in the discharge field (D). Although not shown in detail, the processing member (23) is formed of a honeycomb-shaped substrate (23a) having a number of small holes penetrating in the direction of air flow. Processing material
(23) constitutes a catalyst structure (catalyst means) which carries at least a manganese-based catalyst on its surface and promotes a chemical reaction when treating the air to be treated. The catalyst structure (23) contains manganese-based catalysts Mn, M
nO 2 or have the like Mn 2 O 3 containing 30 to 40 wt%. Although this content specifies a suitable range, the catalyst structure (23) contains Mn, MnO 2 ,
Alternatively, any material containing Mn 2 O 3 or the like in an amount of 10 to 60% by mass may be used.
【0025】また、上記処理部材(23)は、基材(23a) の
表面に、触媒とともに吸着剤も担持している。吸着剤
は、被処理空気中に含まれる臭気物質や有害物質などの
被処理成分を吸着するものであり、例えば活性炭やゼオ
ライトなどが用いられる。したがって、この構成におい
て、処理部材(23)は触媒構造体であるとともに吸着構造
体(吸着手段)でもある。The processing member (23) also carries an adsorbent together with a catalyst on the surface of the substrate (23a). The adsorbent adsorbs components to be treated such as odorous substances and harmful substances contained in the air to be treated, and for example, activated carbon or zeolite is used. Therefore, in this configuration, the processing member (23) is not only a catalyst structure but also an adsorption structure (adsorption means).
【0026】上記放電電極(21)と対向電極(22)には、そ
れぞれ板状の電極板が用いられており、その面直角方向
に空気が通過するように多数の開口が設けられている。
例えば、各電極(21,22) には、メッシュ材や、パンチン
グメタルなどを用いることができる。また、放電電極(2
1)や対向電極(22)には、図示していないが、相対する電
極(22,21) 側の面に微小な突起を形成しておくことが好
ましく、そうすることにより放電を安定して起こすこと
ができる。A plate-like electrode plate is used for each of the discharge electrode (21) and the counter electrode (22), and a large number of openings are provided so that air passes in a direction perpendicular to the plane.
For example, a mesh material, a punching metal, or the like can be used for each of the electrodes (21, 22). In addition, discharge electrodes (2
Although not shown in 1) and the counter electrode (22), it is preferable to form minute projections on the surface on the side of the opposing electrode (22, 21), thereby stably discharging. Can wake up.
【0027】また、両電極(21,22) には直流、交流、パ
ルスやそれらを組み合わせた高圧電源(24)が接続されて
おり、放電電極(21)と対向電極(22)の間でコロナ放電が
生じるようにしている。このコロナ放電により、放電場
(D) には低温プラズマが発生する。低温プラズマには、
活性種として、高速電子、イオン、オゾン、ヒドロキシ
ラジカルなどのラジカルや、その他励起分子(励起酸素
分子、励起窒素分子、励起水分子など)が含まれる。A high-voltage power supply (24), which is a combination of direct current, alternating current, and pulse, is connected to both electrodes (21, 22), and a corona is provided between the discharge electrode (21) and the counter electrode (22). Discharge is caused to occur. This corona discharge causes the discharge field
In (D), low-temperature plasma is generated. For low-temperature plasma,
The active species include radicals such as fast electrons, ions, ozone, and hydroxyl radicals, and other excited molecules (excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, excited water molecules, and the like).
【0028】なお、パルス高電圧電源を用いると、より
高エネルギーで放電が生じるようにすることができるた
め、その放電場(D) に生成される低温プラズマの活性を
より高めることができる。そして、これら活性種が触媒
の存在下で被処理空気の有害成分などと反応し、これら
の成分を分解するので、より高い処理性能を得ることが
できる。When a pulsed high-voltage power supply is used, discharge can be generated with higher energy, so that the activity of low-temperature plasma generated in the discharge field (D) can be further increased. Then, since these active species react with harmful components of the air to be treated in the presence of the catalyst and decompose these components, higher treatment performance can be obtained.
【0029】−運転動作− 次に、この空気浄化装置(1) の運転動作について説明す
る。-Operation- Next, the operation of the air purification device (1) will be described.
【0030】この空気浄化装置(1) の運転を開始し、遠
心ファン(12)が起動すると、まず、空気吸込口(15)から
被処理空気が吸い込まれて、この空気に含まれる塵埃が
集塵フィルタ(11)によって捕集される。装置(1) の運転
時は、プラズマ触媒反応器(20)の放電電極(21)と対向電
極(22)の間でコロナ放電が生じており、集塵フィルタ(1
1)で塵埃が除去された空気は、両電極(21,22) の間の放
電場(D) を通過する。上記被処理空気は、コロナ放電の
作用によりプラズマ化し、低温プラズマとなる。そし
て、この放電によって生成される各種の活性種は、処理
部材(23)の触媒と接触することによりさらに高度に励起
されて活性が高められ、有害物質や臭気物質と効率よく
反応して、これらの物質を分解除去する。When the operation of the air purification device (1) is started and the centrifugal fan (12) is started, first, air to be processed is sucked from the air suction port (15), and dust contained in the air is collected. The dust is collected by the dust filter (11). During operation of the device (1), corona discharge occurs between the discharge electrode (21) and the counter electrode (22) of the plasma catalytic reactor (20), and the dust collection filter (1) is operated.
The air from which dust has been removed in 1) passes through the discharge field (D) between the electrodes (21, 22). The air to be treated is turned into plasma by the action of corona discharge, and becomes low-temperature plasma. The various active species generated by this discharge are further highly excited by contacting the catalyst of the processing member (23) to increase the activity, and efficiently react with harmful substances and odorous substances. Decompose and remove the substance.
【0031】また、処理部材(23)には吸着剤も含まれて
いるため、被処理空気中の有害物質や臭気物質が吸着剤
に吸着され、低温プラズマの活性種がこれらの成分に確
実に作用して、分解処理を促進する。つまり、触媒と吸
着剤とを一つの処理部材(23)に含ませるようにしたこと
によって、より安定した処理が行われる。Since the treatment member (23) also contains an adsorbent, harmful substances and odorous substances in the air to be treated are adsorbed by the adsorbent, and the active species of the low-temperature plasma are surely absorbed by these components. Acts to accelerate the decomposition process. In other words, by including the catalyst and the adsorbent in one processing member (23), more stable processing is performed.
【0032】−実施形態1の効果− 本実施形態1によれば、グロー放電に比べてより活性の
高い活性種が得られるコロナ放電を用いて低温プラズマ
を発生させるようにして、この低温プラズマとマンガン
系触媒を組み合わせるようにしており、さらに吸着剤も
利用しているので、被処理空気を処理する際の化学反応
を大幅に促進することができる。したがって、プラズマ
触媒反応器(20)の処理能力を高めることができるため、
空気浄化装置としての能力も高めることができる。According to the first embodiment, the low-temperature plasma is generated by using corona discharge, which provides an active species having higher activity than the glow discharge. Since a manganese-based catalyst is used in combination with an adsorbent, the chemical reaction in treating the air to be treated can be greatly promoted. Therefore, since the processing capacity of the plasma catalytic reactor (20) can be increased,
The capacity as an air purification device can also be increased.
【0033】また、図4には本反応器(20)によるトルエ
ン分解効率を縦軸に、MnO2 の含有率を横軸にとった
グラフを示しているが、このグラフから明らかなよう
に、MnO2 を10〜60質量%含有する触媒であれば
比較的高い分解効率を得ることができ、特にMnO2 を
30〜40質量%含有する触媒であれば、極めて高い分
解効率を得ることができる。FIG. 4 is a graph in which the efficiency of decomposition of toluene by the present reactor (20) is plotted on the ordinate and the content of MnO 2 is plotted on the abscissa. the MnO 2 can be obtained relatively high decomposition efficiency as long as the catalyst containing 10 to 60 wt%, especially if a catalyst containing MnO 2 30 to 40 wt%, it is possible to obtain a very high decomposition efficiency .
【0034】[0034]
【発明の実施の形態2】本発明の実施形態2は、プラズ
マ触媒反応器(20)において、沿面放電により低温プラズ
マを発生させるようにしたものである。つまり、上記実
施形態1においては、図3に示すように電極(21,22) 間
でコロナ放電を起こすようにしているのに対して、この
実施形態2では、放電手段としての電極(21,22) の構成
が実施形態1と異なる。この実施形態2では、図5に基
づいて、放電手段(21,22) の構成についてのみ説明す
る。[Embodiment 2] In Embodiment 2 of the present invention, low-temperature plasma is generated by creeping discharge in a plasma catalytic reactor (20). That is, in the first embodiment, corona discharge is caused between the electrodes (21, 22) as shown in FIG. 3, whereas in the second embodiment, the electrodes (21, 22) is different from the first embodiment. In the second embodiment, only the configuration of the discharging means (21, 22) will be described with reference to FIG.
【0035】この実施形態2では、セラミックなどの誘
電体基板(25a) からなる電極板(25)が用いられている。
この電極板(25)には、上記誘電体基板(25a) の内部と表
面とに、放電電極(21)及び対向電極(22)が設けられてい
る。そして、図示しない電源から両電極(21,22) 間に高
周波交流電圧(または高周波パルス電圧)を印加するこ
とで沿面放電を発生させ、被処理空気をプラズマ化する
ようにしている。In the second embodiment, an electrode plate (25) made of a dielectric substrate (25a) such as a ceramic is used.
The electrode plate (25) is provided with a discharge electrode (21) and a counter electrode (22) inside and on the surface of the dielectric substrate (25a). Then, a high-frequency AC voltage (or a high-frequency pulse voltage) is applied between the two electrodes (21, 22) from a power supply (not shown) to generate a creeping discharge and convert the air to be processed into plasma.
【0036】この場合、電極板(25)の周囲全面が放電場
(D) となり、この放電場(D) で活性種を含む低温プラズ
マが生成される。そして、この電極板(25)の下流側に上
記各実施形態で説明したマンガン系触媒を含む触媒構造
体(23)が配置されており、プラズマに含まれる活性種が
触媒構造体(23)へ供給されるようにしている。In this case, the entire surface around the electrode plate (25)
(D), and low-temperature plasma containing active species is generated in the discharge field (D). Then, a catalyst structure (23) containing the manganese-based catalyst described in each of the above embodiments is arranged downstream of the electrode plate (25), and active species contained in the plasma are transferred to the catalyst structure (23). They are being supplied.
【0037】この実施形態3においては、グロー放電に
比べてより活性の高い活性種が得られる沿面放電を用い
て低温プラズマを発生させるようにして、この低温プラ
ズマとマンガン系触媒を組み合わせるようにしているの
で、被処理空気を処理する際の化学反応を大幅に促進す
ることができる。したがって、プラズマ触媒反応器(20)
の処理能力を高めることができるため、空気浄化装置
(1) としての能力も大幅に高めることができる。In the third embodiment, a low-temperature plasma is generated by using a creeping discharge capable of obtaining active species more active than the glow discharge, and the low-temperature plasma is combined with a manganese-based catalyst. Therefore, the chemical reaction in treating the air to be treated can be greatly promoted. Therefore, the plasma catalytic reactor (20)
Air purification equipment
The ability as (1) can be greatly increased.
【0038】[0038]
【発明の実施の形態3】本発明の実施形態3は、プラズ
マ触媒反応器(20)において、放電方式として無声放電を
採用したものである。この実施形態3では、図6に基づ
いて放電手段(21,22)の構成のみを説明する。Embodiment 3 Embodiment 3 of the present invention employs silent discharge as a discharge method in a plasma catalytic reactor (20). In the third embodiment, only the configuration of the discharging means (21, 22) will be described with reference to FIG.
【0039】このプラズマ触媒反応器(20)では、放電電
極(21)と対向電極(22)は、それぞれ板状電極により構成
されている。放電電極(21)と対向電極(22)にはそれぞれ
絶縁板(26)が積層され、両電極(21,22) は、絶縁板(26,
26) を内側にして対向配置されている。そして、両電極
(21,22) には、高周波交流電圧(または高周波パルス電
圧)を印加する高圧電源(図示せず)が接続されてい
る。In the plasma catalytic reactor (20), the discharge electrode (21) and the counter electrode (22) are each constituted by a plate-like electrode. An insulating plate (26) is laminated on each of the discharge electrode (21) and the counter electrode (22), and both electrodes (21, 22) are
26) They are arranged facing each other with the inside. And both electrodes
A high-voltage power supply (not shown) for applying a high-frequency AC voltage (or a high-frequency pulse voltage) is connected to (21, 22).
【0040】また、放電電極(21)と対向電極(22)は、そ
の間を被処理流体が流れるように被処理流体の流れ方向
とほぼ平行に配置されている。そして、放電電極(21)と
対向電極(22)の間に形成される放電場(D) の下流側に、
上記各実施形態で説明したマンガン系触媒を含む触媒構
造体(23)が配置されている。The discharge electrode (21) and the counter electrode (22) are arranged substantially parallel to the flow direction of the fluid to be processed so that the fluid to be processed flows between them. And, on the downstream side of the discharge field (D) formed between the discharge electrode (21) and the counter electrode (22),
The catalyst structure (23) including the manganese-based catalyst described in each of the above embodiments is arranged.
【0041】この構成においては、両電極(21,22) 間に
高周波交流電圧または高周波パルス電圧を印加すると、
絶縁板(26)を介して無声放電の放電場(D) が形成され
る。そして、この無声放電により様々な活性種を含む低
温プラズマが生成され、活性種が触媒構造体(23)へ流れ
て行く。したがって、活性種がマンガン系触媒に接触し
てさらに励起され、活性が高められて被処理空気の有害
成分などと反応し、これら成分を分解する。In this configuration, when a high-frequency AC voltage or a high-frequency pulse voltage is applied between both electrodes (21, 22),
A discharge field (D) of silent discharge is formed via the insulating plate (26). Then, low-temperature plasma containing various active species is generated by the silent discharge, and the active species flows to the catalyst structure (23). Therefore, the active species is further excited by contacting the manganese-based catalyst, the activity is enhanced, and reacts with harmful components of the air to be treated, and decomposes these components.
【0042】この実施形態3においては、グロー放電に
比べてより活性の高い活性種が得られる無声放電を用い
て低温プラズマを発生させるようにして、この低温プラ
ズマとマンガン系触媒を組み合わせるようにしているの
で、被処理空気を処理する際の化学反応を大幅に促進す
ることができる。したがって、プラズマ触媒反応器(20)
の処理能力を高めることができるため、空気浄化装置
(1) としての能力も大幅に高めることができる。In the third embodiment, a low-temperature plasma is generated by using a silent discharge in which an active species having a higher activity than that of a glow discharge is obtained, and the low-temperature plasma is combined with a manganese-based catalyst. Therefore, the chemical reaction in treating the air to be treated can be greatly promoted. Therefore, the plasma catalytic reactor (20)
Air purification equipment
The ability as (1) can be greatly increased.
【0043】[0043]
【発明の実施の形態4】本発明の実施形態4は、プラズ
マ触媒反応器(20)において、放電方式として部分放電を
採用したものである。この実施形態4では、図7に基づ
いて放電手段(21,22) の構成のみを説明する。Embodiment 4 Embodiment 4 of the present invention employs a partial discharge as a discharge method in a plasma catalytic reactor (20). In the fourth embodiment, only the structure of the discharging means (21, 22) will be described with reference to FIG.
【0044】このプラズマ触媒反応器(20)では、放電電
極(21)は線状電極により構成され、対向電極(22)は放電
電極(21)を中心として配置された円筒状電極により構成
されている。両電極(21,22) には、高周波交流電圧(ま
たは高周波パルス電圧)を印加する高圧電源(図示せ
ず)が接続されている。この構成では、円筒状の対向電
極(22)の内部に放電場(D) が形成される。なお、放電電
極(21)には、図の線状電極よりも太い円筒状(または棒
状)の電極を用いてもよい。In this plasma catalytic reactor (20), the discharge electrode (21) is constituted by a linear electrode, and the counter electrode (22) is constituted by a cylindrical electrode arranged around the discharge electrode (21). I have. A high-voltage power supply (not shown) for applying a high-frequency AC voltage (or a high-frequency pulse voltage) is connected to both electrodes (21, 22). In this configuration, a discharge field (D) is formed inside the cylindrical counter electrode (22). Note that a cylindrical (or rod-shaped) electrode thicker than the linear electrode shown in the figure may be used as the discharge electrode (21).
【0045】上記対向電極(22)の内部には、マンガン系
触媒を含む触媒粒子(23)が充填されている。つまり、触
媒粒子(23)は放電場(D) の中に配置されており、プラズ
マ触媒反応器(20)は、いわゆるパックドベッド反応器の
形態をとっている。触媒粒子(23)は、チタン酸バリウム
等の強誘電体粒子の表面に、触媒を担持したものであ
る。この触媒としては、上記各実施形態と同様、触媒成
分中、Mn、MnO2 、またはMn2O3等のマンガン系
触媒を10〜60質量%含有するもの、好ましくはM
n、MnO2 、またはMn2O3等のマンガン系触媒を3
0〜40質量%含有するものが用いられている。The inside of the counter electrode (22) is filled with catalyst particles (23) containing a manganese-based catalyst. That is, the catalyst particles (23) are arranged in the discharge field (D), and the plasma catalyst reactor (20) takes the form of a so-called packed bed reactor. The catalyst particles (23) are obtained by supporting a catalyst on the surface of ferroelectric particles such as barium titanate. This catalyst contains 10 to 60% by mass of a manganese-based catalyst such as Mn, MnO 2 , or Mn 2 O 3 , preferably M, as in the above embodiments.
n, MnO 2, or a manganese-based catalysts such as Mn 2 O 3 3
Those containing 0 to 40% by mass are used.
【0046】この構成において、両電極(21,22) 間に高
周波交流電圧または高周波パルス電圧を印加すると、強
誘電体の触媒粒子(23)を介して放電電極(21)から対向電
極(22)に向かって部分放電が生じ、その放電場(D) には
様々な活性種を含む低温プラズマが生成される。生成さ
れた活性種は、触媒粒子(23)のマンガン系触媒に接触し
てさらに励起され、より活性が高められた状態となる。
そして、この活性種が被処理空気の有害成分などと反応
し、これら成分を分解する。In this configuration, when a high-frequency AC voltage or a high-frequency pulse voltage is applied between the two electrodes (21, 22), the discharge electrode (21) moves from the counter electrode (22) through the ferroelectric catalyst particles (23). A partial discharge is generated toward the, and a low-temperature plasma containing various active species is generated in the discharge field (D). The generated active species comes into contact with the manganese-based catalyst of the catalyst particles (23), and is further excited, so that the activity becomes higher.
Then, the active species react with harmful components of the air to be treated and decompose these components.
【0047】この実施形態4においては、グロー放電に
比べてより活性の高い活性種が得られる部分放電を用い
て低温プラズマを発生させるようにして、この低温プラ
ズマとマンガン系触媒を組み合わせるようにしているの
で、被処理空気を処理する際の化学反応を大幅に促進す
ることができる。したがって、プラズマ触媒反応器(20)
の処理能力を高めることができるため、空気浄化装置
(1) としての能力も大幅に高めることができる。In the fourth embodiment, a low-temperature plasma is generated by using a partial discharge that provides an active species that is more active than the glow discharge, and the low-temperature plasma is combined with a manganese-based catalyst. Therefore, the chemical reaction in treating the air to be treated can be greatly promoted. Therefore, the plasma catalytic reactor (20)
Air purification equipment
The ability as (1) can be greatly increased.
【0048】[0048]
【発明のその他の実施の形態】本発明は、上記実施形態
について、以下のような構成としてもよい。Other Embodiments of the Invention The present invention may be configured as follows with respect to the above embodiment.
【0049】例えば、上記実施形態1では、触媒構造体
(23)を、放電電極(21)と対向電極(22)の間に形成される
放電場(D) 中で対向電極(22)の近傍に配置しているが、
触媒構造体(23)は、図8に示すように放電場(D) の下流
側に配置してもよい。また、触媒構造体(23)は、対向電
極(22)から若干離れた配置にしてもよく、その位置がプ
ラズマの作用する範囲であれば該触媒構造体(23)による
効果を得ることはできる。For example, in the first embodiment, the catalyst structure
(23) is arranged near the counter electrode (22) in the discharge field (D) formed between the discharge electrode (21) and the counter electrode (22),
The catalyst structure (23) may be arranged downstream of the discharge field (D) as shown in FIG. Further, the catalyst structure (23) may be disposed slightly away from the counter electrode (22), and the effect of the catalyst structure (23) can be obtained as long as the position is within a range where the plasma acts. .
【0050】また、図7の部分放電方式において、筒状
の対向電極(22)の中に触媒粒子を充填する代わりに、図
9に示すように該対向電極(22)内に円筒状のハニカム触
媒構造体(23)を装着してもよい。この場合、図7の例に
比べて通風抵抗が小さくなり、処理ガス量を増やすこと
ができる。この場合も、放電電極(21)には円柱状の電極
や棒状の電極を用いてもよい。In the partial discharge method shown in FIG. 7, instead of filling the cylindrical counter electrode (22) with catalyst particles, a cylindrical honeycomb is formed in the counter electrode (22) as shown in FIG. A catalyst structure (23) may be mounted. In this case, the ventilation resistance is smaller than in the example of FIG. 7, and the processing gas amount can be increased. Also in this case, a cylindrical electrode or a rod-shaped electrode may be used as the discharge electrode (21).
【0051】また、図10に示すように、線状や円柱状
などの放電電極(21)を中心として、触媒粒子またはハニ
カム触媒構造体(23)、円筒状ガラス管(27)、及び筒状電
極(対向電極)(22)を、内側から順に重ねるように配置
してもよい。この場合、触媒構造体(23)の基材には強誘
電体が用いられる。このように構成すると、放電電極(2
1)から放出された電子がハニカム触媒構造体(23)を介し
て径方向外側へ移動してガラス管(27)の内面に電荷が溜
まると、該電荷が電位差を小さくする作用をするので、
スパークに至らずに安定した放電を発生させることがで
きる。As shown in FIG. 10, catalyst particles or a honeycomb catalyst structure (23), a cylindrical glass tube (27), and a cylindrical The electrodes (counter electrodes) (22) may be arranged so as to be sequentially stacked from the inside. In this case, a ferroelectric is used as the base material of the catalyst structure (23). With this configuration, the discharge electrodes (2
When the electrons emitted from 1) move radially outward through the honeycomb catalyst structure (23) and accumulate charges on the inner surface of the glass tube (27), the charges act to reduce the potential difference.
A stable discharge can be generated without sparking.
【0052】そして、これらの図9及び図10の場合
も、上記と同様のマンガン系触媒を使用することによ
り、低温プラズマに含まれる活性種を有効に利用して被
処理流体の化学反応を促進することができるので、処理
性能を高めることが可能となる。9 and 10, the use of the same manganese-based catalyst as described above effectively utilizes the active species contained in the low-temperature plasma to promote the chemical reaction of the fluid to be treated. Therefore, the processing performance can be improved.
【0053】なお、図9,図10の例では、パルス電源
を用いてもよいし、交流電源を用いてもよい。In the examples shown in FIGS. 9 and 10, a pulse power supply or an AC power supply may be used.
【0054】一方、上記実施形態では、処理部材(23)が
触媒手段と吸着手段の両方の機能を有するものとして構
成しているが、触媒構造体と吸着構造体とは放電場(D)
中またはその下流側に別々に配置してもよい。On the other hand, in the above-described embodiment, the processing member (23) is configured to have both functions of the catalyst means and the adsorption means, but the catalyst structure and the adsorption structure are formed by the discharge field (D).
It may be placed separately inside or downstream of it.
【0055】また、上記各実施形態では、プラズマ触媒
反応器(20)を空気浄化装置(1) に適用した例について説
明したが、このプラズマ触媒反応器(20)は、空気調和装
置や生ゴミ処理機など、被処理流体を処理する他の装置
にも適用することが可能である。Further, in each of the above embodiments, an example in which the plasma catalytic reactor (20) is applied to the air purification device (1) has been described. The present invention can also be applied to other apparatuses that process the fluid to be processed, such as a processing machine.
【図1】本発明の実施形態1に係るプラズマ触媒反応器
を備えた空気浄化装置の構造図である。FIG. 1 is a structural diagram of an air purification device provided with a plasma catalytic reactor according to Embodiment 1 of the present invention.
【図2】図1の空気浄化装置の構成を模式的に示す図で
ある。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of the air purification device of FIG.
【図3】図1のプラズマ触媒反応器の放電方式を示す模
式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a discharge method of the plasma catalytic reactor of FIG.
【図4】マンガン系触媒のトルエン分解効率を示すグラ
フである。FIG. 4 is a graph showing the toluene decomposition efficiency of a manganese-based catalyst.
【図5】実施形態2に係るプラズマ触媒反応器の放電方
式を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a discharge method of a plasma catalytic reactor according to Embodiment 2.
【図6】実施形態3に係るプラズマ触媒反応器の放電方
式を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing a discharge method of a plasma catalytic reactor according to Embodiment 3.
【図7】実施形態4に係るプラズマ触媒反応器の放電方
式を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a discharge method of a plasma catalytic reactor according to Embodiment 4.
【図8】実施形態1の変形例を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a modification of the first embodiment.
【図9】図6の第1の変形例を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a first modification of FIG. 6;
【図10】図6の第2の変形例を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing a second modification of FIG.
(1) 空気浄化装置 (10) ケーシング (11) 集塵フィルタ (12) 遠心ファン (15) 空気吸込口(ガス導入口) (16) 空気吹出口(ガス排出口) (20) プラズマ触媒反応器 (21) 放電電極(放電手段) (22) 対向電極(放電手段) (23) 処理部材(触媒手段、吸着手段) (24) 高圧電源 (1) Air purification device (10) Casing (11) Dust collection filter (12) Centrifugal fan (15) Air inlet (gas inlet) (16) Air outlet (gas outlet) (20) Plasma catalytic reactor (21) Discharge electrode (discharge means) (22) Counter electrode (discharge means) (23) Processing member (catalyst means, adsorption means) (24) High voltage power supply
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 19/08 B01J 19/24 A 19/24 H05H 1/48 H05H 1/48 B01D 53/36 H (72)発明者 茂木 完治 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 Fターム(参考) 4C080 AA05 AA09 BB02 CC01 HH05 JJ03 KK08 LL10 MM04 MM05 QQ11 4D048 AA22 AB01 BA28X BA41X BB02 CD05 EA03 EA04 4G075 AA03 AA37 BA05 BA06 BD14 CA15 CA47 CA54 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B01J 19/08 B01J 19/24 A 19/24 H05H 1/48 H05H 1/48 B01D 53/36 H (72 Inventor Kanji Mogi 1304 Kanaokacho, Sakai City, Osaka Prefecture Daikin Industries, Ltd.Sakai Seisakusho Kanaoka Plant F-term (reference) 4C080 AA05 AA09 BB02 CC01 HH05 JJ03 KK08 LL10 MM04 MM05 QQ11 4D048 AA22 AB01 BA28X BA41X BB02 A0304 AA37 BA05 BA06 BD14 CA15 CA47 CA54
Claims (5)
プラズマを発生させる放電手段(21,22) と、該放電手段
(21,22) における放電場(D) 中または放電場(D) の下流
側に配置された触媒手段(23)とを備え、該触媒手段(23)
がマンガン系触媒を含むプラズマ触媒反応器であって、 放電手段(21,22) が、コロナ放電、沿面放電、無声放
電、または部分放電により、低温プラズマを発生させる
ように構成されていることを特徴とするプラズマ触媒反
応器。A discharge means for generating low-temperature plasma by discharge in a flow space of a fluid to be treated;
Catalyst means (23) disposed in the discharge field (D) or downstream of the discharge field (D) in (21, 22).
Is a plasma catalytic reactor containing a manganese-based catalyst, and the discharging means (21, 22) is configured to generate low-temperature plasma by corona discharge, surface discharge, silent discharge, or partial discharge. Characteristic plasma catalytic reactor.
が、触媒成分中10〜60質量%含有されていることを
特徴とする請求項1記載のプラズマ触媒反応器。2. The plasma catalytic reactor according to claim 1, wherein the manganese-based catalyst contained in the catalyst means (23) is contained in an amount of 10 to 60% by mass in the catalyst component.
が、触媒成分中30〜40質量%含有されていることを
特徴とする請求項2記載のプラズマ触媒反応器。3. The plasma catalytic reactor according to claim 2, wherein the manganese-based catalyst contained in the catalyst means (23) is contained in an amount of 30 to 40% by mass in the catalyst component.
放電場(D) の下流側には、被処理流体に含有される被処
理成分を吸着する吸着手段(23)が触媒手段(23)とともに
配置されていることを特徴とする請求項1,2または3
記載のプラズマ触媒反応器。4. An adsorbing means (23) for adsorbing a component to be treated contained in a fluid to be treated is disposed in the discharge field (D) of the discharge means (21, 22) or downstream of the discharge field (D). 4. The arrangement according to claim 1, wherein said catalyst is arranged together with said catalyst means.
A plasma catalytic reactor as described.
マ触媒反応器(20)と、 該プラズマ触媒反応器(20)が内部に収納されるケーシン
グ(10)とを備え、 上記ケーシング(10)内に被処理空気を導入して放電手段
(21,22) の放電場(D)及び触媒手段(23)を通過させるこ
とにより、該被処理空気中の臭気成分または有害成分を
処理するように構成されていることを特徴とする空気浄
化装置。5. The plasma catalyst reactor according to claim 1, 2, 3, or 4, and a casing (10) in which the plasma catalyst reactor (20) is housed. 10) Introduce air to be treated into and discharge means
(21, 22) through the discharge field (D) and the catalyst means (23) to treat odorous or harmful components in the air to be treated. apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001150602A JP2002336343A (en) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | Plasma catalytic reactor and air purification device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002336343A true JP2002336343A (en) | 2002-11-26 |
Family
ID=18995589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001150602A Pending JP2002336343A (en) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | Plasma catalytic reactor and air purification device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002336343A (en) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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