JP2002311231A - Color filter - Google Patents
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタに係
り、特に表示品質に優れたカラー液晶表示装置の製造が
可能なカラーフィルタに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter, and more particularly to a color filter capable of manufacturing a color liquid crystal display device having excellent display quality.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置(LCD)においては、近
年のカラー化の要請に対応するために、アクティブマト
リックス方式および単純マトリックス方式のいずれの方
式においてもカラーフィルタが用いられている。例え
ば、薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマ
トリックス方式の液晶ディスプレイでは、カラーフィル
タは赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の着色パタ
ーンを備え、R,G,Bのそれぞれの画素に対応する電
極をON、OFFさせることで液晶がシャッタとして作
動し、R,G,Bのそれぞれの画素を光が透過してカラ
ー表示が行われる。そして、色混合は2色以上の画素に
対応する液晶シャッタを開いて混色し別の色に見せる加
色混合の原理により網膜上で視覚的に行われる。2. Description of the Related Art In a liquid crystal display (LCD), a color filter is used in both an active matrix system and a simple matrix system in order to respond to recent demands for colorization. For example, in an active matrix type liquid crystal display using a thin film transistor (TFT), the color filter has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B). The liquid crystal operates as a shutter by turning ON / OFF the electrode corresponding to the pixel of the color, and light is transmitted through each of the R, G, and B pixels to perform color display. Color mixing is visually performed on the retina by the principle of additive color mixing in which liquid crystal shutters corresponding to pixels of two or more colors are opened to mix colors and make the colors look different.
【0003】従来のカラーフィルタは、染色基材を透明
基板上に塗布し、フォトマスクを介して露光・現像し形
成したパターンを染色して着色層とする染色法、透明基
板上に形成した感光性レジスト層内に予め着色顔料を分
散させておき、フォトマスクを介して露光・現像して着
色層とする顔料分散法、透明基板に印刷インキで各色の
着色層を印刷する印刷法、透明基板上に透明電極パター
ンを形成し、所定色の電極液中で透明電極パターンに通
電して電着する操作をR,G,Bの3回行って各色の着
色パターンを形成する電着法等により製造されている。A conventional color filter is formed by applying a dyeing base material on a transparent substrate, exposing and developing the same through a photomask, and dyeing the formed pattern to form a colored layer. A pigment dispersion method in which a coloring pigment is dispersed in a conductive resist layer in advance and exposed and developed through a photomask to form a coloring layer, a printing method in which a coloring layer of each color is printed on a transparent substrate with a printing ink, a transparent substrate A transparent electrode pattern is formed on the transparent electrode pattern in an electrode solution of a predetermined color, and the operation of electrodeposition is performed three times of R, G, and B to form a colored pattern of each color by an electrodeposition method or the like. Being manufactured.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
染色法、顔料分散法では、スピンコート等による透明基
板への塗布工程における材料ロスが避けられず、また、
各色の着色パターン形成ごとに現像工程と洗浄工程が必
要であり、材料使用効率の向上や工程の簡略化が困難で
製造コスト低減に支障を来していた。また、印刷法で
は、高精細なパターン形成が困難であり、電着法では形
成可能なパターン形状が限定されるという問題があっ
た。このような問題を解消するために、インクジェット
方式を用いたカラーフィルタの製造方法が開発されてい
るが、未だ不十分なものであった。本発明は、上記のよ
うな事情に鑑みてなされたものであり、高精細で白抜け
等の欠陥がなく、製造が簡便であるカラーフィルタを提
供することを目的とする。However, in the conventional dyeing method and the pigment dispersion method, a material loss in a coating process on a transparent substrate by spin coating or the like is unavoidable.
A developing step and a washing step are required for each colored pattern formation, and it is difficult to improve material use efficiency and simplify the steps, which hinders reduction in manufacturing cost. Further, in the printing method, it is difficult to form a high-definition pattern, and there is a problem that the pattern shape that can be formed in the electrodeposition method is limited. In order to solve such a problem, a method of manufacturing a color filter using an ink jet method has been developed, but it has been insufficient. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a color filter which has high definition, has no defects such as white spots, and is easy to manufacture.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のカラーフィルタは、透明基板と、該
透明基板上に所定のパターンで形成された複数色からな
る着色層と、各着色層の境界部に位置する遮光層とを有
し、前記着色層と前記遮光層の少なくとも1層が、濡れ
性変化成分層の特定の濡れ性部位を介して前記透明基板
上に形成されたものであり、前記濡れ性変化成分層は少
なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含有層であ
り、前記特定の濡れ性部位は高親水性部位であるような
構成とした。In order to achieve the above object, a color filter according to the present invention comprises a transparent substrate, a colored layer having a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the transparent substrate, and A light-shielding layer positioned at a boundary between the colored layers, wherein at least one of the colored layer and the light-shielding layer is formed on the transparent substrate via a specific wettability portion of the wettability changing component layer. The wettability changing component layer is a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site is a highly hydrophilic site.
【0006】また、本発明のカラーフィルタは、透明基
板と、該透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層と、
該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパタ
ーンで形成された複数色からなる着色層および各着色層
の境界部に位置する遮光層とを有し、前記濡れ性変化成
分層は少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含
有層であり、前記特定の濡れ性部位は高親水性部位であ
るような構成とした。Further, the color filter of the present invention comprises: a transparent substrate; a wettability changing component layer provided on the transparent substrate;
A colored layer having a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettability portion of the wettability changing component layer, and a light-shielding layer positioned at a boundary between the colored layers; Is a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site is configured to be a highly hydrophilic site.
【0007】また、本発明のカラーフィルタは、所定の
パターンで遮光層を備えた透明基板と、該遮光層を覆う
ように前記透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層
と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定の
パターンで形成された複数色からなる着色層とを備え、
各着色層の境界部に前記遮光層が位置し、前記濡れ性変
化成分層は少なくともバインダーと光触媒からなる光触
媒含有層であり、前記特定の濡れ性部位は高親水性部位
であるような構成とした。Further, the color filter of the present invention comprises a transparent substrate provided with a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer, With a colored layer of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the variable component layer,
The light-shielding layer is located at the boundary of each colored layer, the wettability changing component layer is a photocatalyst-containing layer composed of at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site is a highly hydrophilic site. did.
【0008】また、本発明のカラーフィルタは、所定の
パターンで遮光層を備えた透明基板と、該遮光層を覆う
ように前記透明基板上に、濡れ性変化成分層と該濡れ性
変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパターンで形
成された着色層との積層体を所望の色数分積層して備
え、各着色層の境界部に前記遮光層が位置し、前記濡れ
性変化成分層は少なくともバインダーと光触媒からなる
光触媒含有層であり、前記特定の濡れ性部位は高親水性
部位であるような構成とした。Further, the color filter of the present invention comprises a transparent substrate having a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer and the wettability changing component layer on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer. A laminate with a colored layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability portion is provided by laminating a desired number of colors, and the light-shielding layer is located at a boundary between the colored layers, and the wettability change is provided. The component layer was a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site was configured to be a highly hydrophilic site.
【0009】さらに、本発明のカラーフィルタは、透明
基板と、該透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層
と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定の
パターンで形成された遮光層と、該遮光層を覆うように
前記濡れ性変化成分層上に、濡れ性変化成分層と該濡れ
性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパターンで
形成された着色層との積層体を所望の色数分積層して備
え、各着色層の境界部に前記遮光層が位置し、前記濡れ
性変化成分層は少なくともバインダーと光触媒からなる
光触媒含有層であり、前記特定の濡れ性部位は高親水性
部位であるような構成とした。Further, the color filter of the present invention is formed by forming a transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, and a predetermined pattern on a specific wettability portion of the wettability changing component layer. Colored layer formed on the wettability changing component layer and a specific pattern on the specific wettability site of the wettability changing component layer so as to cover the light shielding layer. A laminate with a layer is provided by laminating a desired number of colors, the light-shielding layer is located at the boundary of each colored layer, the wettability changing component layer is a photocatalyst containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, The specific wettability site was configured to be a highly hydrophilic site.
【0010】また、本発明のカラーフィルタは、前記バ
インダーがオルガノポリシロキサンを含有するような構
成とした。また、本発明のカラーフィルタは、前記オル
ガノポリシロキサンがクロロまたはアルコキシシランを
含む組成物から得られるオルガノポリシロキサンである
ような構成、前記オルガノポリシロキサンが反応性シリ
コーンを含む組成物から得られるオルガノポリシロキサ
ンであるような構成とした。また、本発明のカラーフィ
ルタは、前記オルガノポリシロキサンがフルオロアルキ
ル基を含有するような構成とした。さらに、本発明のカ
ラーフィルタは、前記高親水性部位の水との接触角が1
0°以下であるような構成とした。Further, the color filter of the present invention is configured such that the binder contains an organopolysiloxane. Further, the color filter of the present invention may be configured such that the organopolysiloxane is an organopolysiloxane obtained from a composition containing chloro or alkoxysilane, and the organopolysiloxane is obtained from a composition containing a reactive silicone. The structure was such that it was polysiloxane. Further, the color filter of the present invention is configured such that the organopolysiloxane contains a fluoroalkyl group. Further, in the color filter of the present invention, the contact angle of the highly hydrophilic portion with water is 1%.
The configuration was such that it was 0 ° or less.
【0011】このような本発明では、特定の濡れ性部位
において、遮光層用塗料や着色層用塗料に対する濡れ性
が高く、遮光層用塗料や着色層用塗料は特定の濡れ性部
位のみに選択的に付着して、高い精度で遮光層や着色層
が形成され、光触媒含有層は、光照射部位の光触媒の作
用により臨界表面張力が高くなって高親水性となり、上
記の特定の濡れ性部位が形成される。According to the present invention, the specific wettability site has high wettability with respect to the light-shielding layer paint and the coloring layer paint, and the light-shielding layer paint and the color layer paint are selected only for the specific wettability site. The light-shielding layer and the colored layer are formed with high precision, and the photocatalyst-containing layer becomes highly hydrophilic due to the action of the photocatalyst at the light-irradiated portion, and becomes highly hydrophilic. Is formed.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて図面を参照して説明する。カラーフィルタ 図1は本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示す
概略縦断面図である。図1において、本発明のカラーフ
ィルタ1は、透明基板2、この透明基板2上に形成され
た濡れ性変化成分層としての光触媒含有層3、この光触
媒含有層3の特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形
成されたブラックマトリックス(遮光層)4と複数色か
らなる着色層5、これらのブラックマトリックス4およ
び着色層5を覆うように形成された保護層6を備えてい
る。このカラーフィルタ1では、ブラックマトリックス
4は着色層5の境界部に位置している。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Color Filter Figure 1 is a schematic longitudinal sectional view showing an example of an embodiment of a color filter of the present invention. In FIG. 1, a color filter 1 of the present invention includes a transparent substrate 2, a photocatalyst containing layer 3 as a wettability changing component layer formed on the transparent substrate 2, and a specific wettability portion (high A black matrix (light-shielding layer) 4 formed on the (hydrophilic portion) and a colored layer 5 having a plurality of colors, and a protective layer 6 formed so as to cover the black matrix 4 and the colored layer 5 are provided. In this color filter 1, the black matrix 4 is located at the boundary of the colored layer 5.
【0013】図2は本発明のカラーフィルタの実施形態
の他の例を示す概略縦断面図である。図2において、本
発明のカラーフィルタ11は、透明基板12、この透明
基板12上に形成されたブラックマトリックス(遮光
層)14、このブラックマトリックス14を覆うように
透明基板12上に形成された濡れ性変化成分層としての
光触媒含有層13、この光触媒含有層13の特定の濡れ
性部位(高親水性部位)上に形成された複数色からなる
着色層15、および、この着色層15を覆うように形成
された保護層16を備えている。そして、このカラーフ
ィルタ11では、ブラックマトリックス14は着色層1
5の境界部に位置している。FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. In FIG. 2, a color filter 11 of the present invention includes a transparent substrate 12, a black matrix (light shielding layer) 14 formed on the transparent substrate 12, and a wet matrix formed on the transparent substrate 12 so as to cover the black matrix 14. A photocatalyst containing layer 13 as a property changing component layer, a colored layer 15 of a plurality of colors formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst containing layer 13, and a layer covering the colored layer 15. Is provided. In the color filter 11, the black matrix 14 is
5 is located at the boundary.
【0014】また、図3は本発明のカラーフィルタの実
施形態の他の例を示す概略縦断面図である。図3におい
て、本発明のカラーフィルタ21は、透明基板22、こ
の透明基板22上に形成されたブラックマトリックス
(遮光層)24、このブラックマトリックス24を覆う
ように透明基板22上に順次形成された、第1の濡れ性
変化成分層としての光触媒含有層23aとこの光触媒含
有層23aの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形
成された赤色の着色層25Rからなる積層体、第2の濡
れ性変化成分層としての光触媒含有層23bとこの光触
媒含有層23bの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上
に形成された緑色の着色層25Gからなる積層体、第3
の濡れ性変化成分層としての光触媒含有層23cとこの
光触媒含有層23cの特定の濡れ性部位(高親水性部
位)上に形成された青色の着色層25Bからなる積層
体、および、着色層25を覆うように形成された保護層
26を備えている。このカラーフィルタ21では、ブラ
ックマトリックス24は着色層25の境界部に位置して
いる。FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. 3, a color filter 21 of the present invention is formed on a transparent substrate 22, a black matrix (light shielding layer) 24 formed on the transparent substrate 22, and sequentially on the transparent substrate 22 so as to cover the black matrix 24. A laminate comprising a photocatalyst containing layer 23a as a first wettability changing component layer and a red colored layer 25R formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst containing layer 23a; A laminate comprising a photocatalyst containing layer 23b as a wettability changing component layer and a green colored layer 25G formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst containing layer 23b;
A laminate comprising a photocatalyst-containing layer 23c as a wettability changing component layer and a blue colored layer 25B formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 23c; And a protective layer 26 formed so as to cover. In the color filter 21, the black matrix 24 is located at the boundary of the colored layer 25.
【0015】さらに、図4は本発明のカラーフィルタの
実施形態の他の例を示す概略縦断面図である。図4にお
いて、本発明のカラーフィルタ31は、透明基板32、
この透明基板32上に形成された第1の濡れ性変化成分
層としての光触媒含有層33a、この光触媒含有層33
aの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された
ブラックマトリックス(遮光層)34、ブラックマトリ
ックス34を覆うように第1の光触媒含有層33a上に
順次形成された、第2の濡れ性変化成分層としての光触
媒含有層33bとこの光触媒含有層33bの特定の濡れ
性部位(高親水性部位)上に形成された赤色の着色層3
5Rからなる積層体、第3の濡れ性変化成分層としての
光触媒含有層33cとこの光触媒含有層33cの特定の
濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された緑色の着色
層35Gからなる積層体、第4の濡れ性変化成分層とし
ての光触媒含有層33dとこの光触媒含有層33dの特
定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された青色の
着色層35Bからなる積層体、および、着色層35を覆
うように形成された保護層36を備えている。そして、
このカラーフィルタ31では、ブラックマトリックス3
4は着色層35の境界部に位置している。FIG. 4 is a schematic vertical sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. In FIG. 4, a color filter 31 of the present invention includes a transparent substrate 32,
A photocatalyst containing layer 33a as a first wettability changing component layer formed on the transparent substrate 32;
a, a black matrix (light-shielding layer) 34 formed on the specific wettability site (highly hydrophilic site), and a second matrix sequentially formed on the first photocatalyst containing layer 33 a so as to cover the black matrix 34. Photocatalyst containing layer 33b as a wettability changing component layer and red colored layer 3 formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of photocatalyst containing layer 33b
5R, a photocatalyst containing layer 33c as a third wettability changing component layer, and a green colored layer 35G formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst containing layer 33c. A laminate including a photocatalyst-containing layer 33d as a fourth wettability changing component layer and a blue colored layer 35B formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 33d; Further, a protective layer 36 formed so as to cover the coloring layer 35 is provided. And
In this color filter 31, the black matrix 3
4 is located at the boundary of the colored layer 35.
【0016】次に、上述の本発明のカラーフィルタの構
成を説明する。 (透明基板)上記のカラーフィルタ1,11,21,3
1を構成する透明基板2,12,22,32としては、
石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石
英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明
樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な
フレキシブル材を用いることができる。この中で特にコ
ーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材
であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に
優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アル
カリガラスであるため、アクティブマトリックス方式に
よるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに適してい
る。Next, the configuration of the above-described color filter of the present invention will be described. (Transparent substrate) The above color filters 1, 11, 21, 3
As the transparent substrates 2, 12, 22, 32 constituting 1
A transparent rigid material having no flexibility such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or a synthetic quartz plate, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used. . Of these, Corning 7059 glass is a material having a low coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the glass. It is suitable for a color filter for a color liquid crystal display device according to the method.
【0017】(濡れ性変化成分層)また、カラーフィル
タ1,11,21,31を構成する濡れ性変化成分層と
しての光触媒含有層3,13,23,33は、少なくと
もバインダーと光触媒からなり、光照射によって光触媒
の作用で臨界表面張力が高くなり高親水性となる層であ
る。本発明の特徴である光触媒含有層における下記のよ
うな酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、必ず
しも明確なものではないが、光の照射によって生成した
キャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸
素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の
化学構造に変化を及ぼすものと考えられる。(Wetability changing component layer) The photocatalyst containing layers 3, 13, 23, and 33 as the wettability changing component layers constituting the color filters 1, 11, 21, 31 are composed of at least a binder and a photocatalyst. This is a layer that becomes higher in hydrophilicity due to an increase in critical surface tension due to the action of a photocatalyst by light irradiation. The action mechanism of the photocatalyst represented by titanium oxide in the photocatalyst-containing layer, which is a feature of the present invention, is not necessarily clear, but the carrier generated by light irradiation is directly reacted with a nearby compound. Alternatively, it is considered that the reactive oxygen species generated in the presence of oxygen and water changes the chemical structure of the organic substance.
【0018】このような光触媒の作用を用いて、油性汚
れを光照射によって分解し親水化して水により洗浄可能
なものとしたり、ガラス等の表面に親水性膜を形成して
防曇性を付与したり、あるいは、タイル等の表面に光触
媒の含有層を形成して空気中の浮遊菌の数を減少させる
いわゆる抗菌タイル等が提案されている。本発明におい
て濡れ性変化成分層として光触媒含有層を用いた場合、
光触媒により、バインダーの一部である有機基や添加剤
の酸化、分解等の作用を用いて、光照射部の濡れ性を変
化させて高親水性とし、非光照射部との濡れ性に大きな
差を生じさせ、遮光層用塗料や着色層用塗料との受容性
および反撥性を高めることによってカラーフィルタを得
るものである。By using the action of the photocatalyst, oily dirt is decomposed by light irradiation and made hydrophilic so that it can be washed with water, or a hydrophilic film is formed on the surface of glass or the like to provide anti-fogging properties. So-called antibacterial tiles have been proposed that reduce the number of airborne bacteria in the air by forming a layer containing a photocatalyst on the surface of the tile or the like. When a photocatalyst containing layer is used as the wettability changing component layer in the present invention,
The photocatalyst changes the wettability of the light-irradiated part to make it highly hydrophilic by using the action of oxidation, decomposition, etc. of the organic groups and additives that are part of the binder, making it highly hydrophilic with the non-light-irradiated part. A color filter is obtained by making a difference and increasing the receptivity and repulsion of the light-shielding layer paint and the coloring layer paint.
【0019】ここで、高親水性とは、水との接触角が1
0°以下となることを意味し、本発明ではマイクロシリ
ンジから水滴を滴下して30秒後に接触角測定器(協和
界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定する。本発
明で使用する光触媒としては、光半導体として知られる
酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ
(SnO2)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、
酸化タングステン(WO3)、酸化ビスマス(Bi
2O3)、酸化鉄(Fe2O3)のような金属酸化物を挙げる
ことができ、特に酸化チタンは、バンドギャップエネル
ギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易で
あることから好適に使用される。Here, high hydrophilicity means that the contact angle with water is 1
It means that it is 0 ° or less, and in the present invention, a water drop is dropped from a microsyringe and measured 30 seconds later using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Examples of the photocatalyst used in the present invention include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), which are known as optical semiconductors.
Tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi
Metal oxides such as 2 O 3 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ) can be given. In particular, titanium oxide has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Therefore, it is preferably used.
【0020】酸化チタンとしては、アナターゼ型とルチ
ル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型
の酸化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励
起波長が380nm以下にあり、このようなアナターゼ
型酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナター
ゼ型チタニアゾル(石原産業(株)製STS−02(平
均粒径7nm)、石原産業(株)製ST−K01)、硝
酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学(株)
製TA−15(平均粒径12nm))等を挙げることが
できる。As titanium oxide, both anatase type and rutile type can be used, but anatase type titanium oxide is preferable. Anatase-type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less. Examples of such anatase-type titanium oxide include hydrolytic peptized anatase-type titania sol (STS-02 (average particle size: 7 nm) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), anatase-type titania sol of nitrate-peptizing type (Nissan Chemical Co., Ltd.)
TA-15 (average particle size: 12 nm)).
【0021】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径が50nm以下、
好ましくは20nm以下の光触媒を使用するのが好まし
い。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された光触
媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光触媒
含有層の表面粗さが10nmを超えると、光触媒含有層
の非光照射部の撥水性低下、光照射部の親水性発現が不
十分となり好ましくない。The smaller the particle size of the photocatalyst is, the more effective the photocatalytic reaction takes place.
Preferably, a photocatalyst of 20 nm or less is used. In addition, the smaller the particle size of the photocatalyst is, the smaller the surface roughness of the formed photocatalyst containing layer is. It is preferable that the surface roughness of the photocatalyst containing layer exceeds 10 nm. It is not preferable because the expression of the hydrophilic property in the light-irradiated portion is insufficient.
【0022】本発明において光触媒含有層に使用するバ
インダーは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水性や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。In the present invention, the binder used in the photocatalyst-containing layer preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) chloro or alkoxysilane by a sol-gel reaction or the like. And (2) organopolysiloxane obtained by crosslinking a reactive silicone excellent in water repellency and oil repellency, and the like.
【0023】上記の(1)の場合、一般式YnSiX4-n
(n=1〜3)で表される珪素化合物の1種または2種
以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が主体とな
る。上記一般式でYはアルキル基、フルオロアルキル
基、ビニル基、アミノ基、または、エポキシ基を挙げる
ことができ、Xはハロゲン、メトキシル基、エトキシル
基、または、アセチル基を挙げることができる。In the case of the above (1), the general formula Y n SiX 4-n
One or more hydrolytic condensates and co-hydrolytic condensates of the silicon compound represented by (n = 1 to 3) are mainly used. In the above general formula, Y can include an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, or an epoxy group, and X can include a halogen, a methoxyl group, an ethoxyl group, or an acetyl group.
【0024】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;および、それらの混合
物を使用することができる。Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltribromosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyl Tribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof, can be used.
【0025】また、バインダーとして、特にフルオロア
ルキル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いるこ
とができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシラン
の1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮
合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤
として知られたものを使用することができる。 CF3(CF2)3CH2CH2SiOCH3)3 CF3(CF2)5CH2CH2SiOCH3)3 CF3(CF2)7CH2CH2SiOCH3)3 CF3(CF2)9CH2CH2SiOCH3)3 (CF3)2CFCF2)4CH2CH2Si(OCH3)3 (CF3)2CFCF2)6CH2CH2Si(OCH3)3 (CF3)2CFCF2)8CH2CH2Si(OCH3)3 CF3(C6H4)C2H4Si(OCH3)3 CF3(CF2)3( C6H4)C2 H4 Si(OCH3)3 CF3(CF2)5( C6H4)C2 H4 Si(OCH3)3 CF3(CF2)7( C6H4)C2 H4 Si(OCH3)3 CF3(CF2)3CH2CH2SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)5CH2CH2SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)9CH2CH2SiCH3(OCH3)2 (CF3)2CF(CF2)4CH2CH2SiCH3(OC
H3)2 (CF3)2CF(CF2)6CH2CH2SiCH3(OC
H3)2 (CF3)2CF(CF2)8CH2CH2SiCH3(OC
H3)2 CF3(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)3(C6H4 )C2H4SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)5(C6H4 )C2H4SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)7(C6H4 )C2H4SiCH3(OCH3)2 CF3(CF2)3CH2CH2Si(OCH2CH3)3 CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH2CH3)3 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH2CH3)3 CF3(CF2)9CH2CH2Si(OCH2CH3)3 CF3(CF2)7SO2N(C2H5)C2H4CH2Si(OC
H3)3 As the binder, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be particularly preferably used. Specifically, one or more hydrocondensation products of the following fluoroalkylsilanes, co-hydrolysis Examples thereof include condensates, and those generally known as a fluorine-based silane coupling agent can be used. CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiOCH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiOCH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiOCH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiOCH 3 ) 3 (CF 3) 2 CFCF 2) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 (CF 3) 2 CFCF 2) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 (CF 3) 2 CFCF 2) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 5 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si ( OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 C 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 (CF 3) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3) 2 CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 ( CF 2) 5 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) ) 3 CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 CF 3 (CF 2 ) 7 SO 2 N (C 2 H 5 ) C 2 H 4 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3
【0026】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダーとして用いることによ
り、光触媒含有層の非光照射部の撥水性が大きく向上
し、ブラックマトリックス用塗料や着色層用塗料の付着
を妨げる機能を発現する。また、上記の(2)の反応性
シリコーンとしては、下記一般式1で表される骨格をも
つ化合物を挙げることができる。By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the water repellency of the non-light-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer is greatly improved, and the adhesion of the black matrix paint or the coloring layer paint is improved. Develop a function to prevent. Examples of the reactive silicone of the above (2) include compounds having a skeleton represented by the following general formula 1.
【0027】[0027]
【化1】 ただし、nは2以上の整数である。R1 ,R2 はそれぞ
れ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、ア
ルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基である。
モル比で全体の40%以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化フェニルである。また、R1 ,R2 がメチル基のも
のが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モ
ル比でメチル基が60%以上であることが好ましい。ま
た、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも1
個以上の水酸基等の反応性基を有する。また、上記のオ
ルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサ
ンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコン化
合物をバインダーに混合してもよい。Embedded image Here, n is an integer of 2 or more. R 1 and R 2 are each a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Less than 40% of the total is vinyl, phenyl and halogenated phenyl in a molar ratio. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferred since the surface energy is minimized, and it is preferred that the methyl groups be at least 60% in molar ratio. In addition, at least one chain end or side chain
It has at least two reactive groups such as hydroxyl groups. In addition, a stable organosilicon compound that does not undergo a cross-linking reaction, such as dimethylpolysiloxane, may be mixed with the binder together with the above-mentioned organopolysiloxane.
【0028】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダーの他に、界面活性剤を含有させること
ができる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIK
KOL BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化
水素系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭
硝子(株)製サーフロンS−141、145、大日本イ
ンキ化学工業(株)製メガファックF−141、14
4、ネオス(株)製フタージェント F−200、F2
51、ダイキン工業(株)製ユニダインDS−401、
402、スリーエム(株)製フロラードFC−170、
176等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界
面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活
性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いる
こともできる。In the present invention, the photocatalyst-containing layer may contain a surfactant in addition to the above-mentioned photocatalyst and binder. Specifically, NIK manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.
Hydrocarbons such as KOL BL, BC, BO, and BB series, ZONYL FSN and FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141 and 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and Megafax F- manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 141, 14
4. Neogent F-200, F2
51, Unidyne DS-401 manufactured by Daikin Industries, Ltd.
402, 3M Co., Ltd. Florado FC-170,
176 or other nonionic surfactants of fluorine or silicone type, and cationic surfactants, anionic surfactants and amphoteric surfactants can also be used.
【0029】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。In the photocatalyst-containing layer, in addition to the above-mentioned surfactants, polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin Oligomers such as polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, A polymer or the like can be contained.
【0030】カラーフィルタ1,11,21,31を構
成する光触媒含有層3,13,23,33の形成は、光
触媒とバインダーを必要に応じて他の添加剤とともに溶
剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を塗布する
ことにより形成することができる。使用する溶剤として
は、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の
有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコ
ート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等
の公知の塗布方法により行うことができ、バインダーと
して紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を
照射して硬化処理を行うことにより光触媒含有層を形成
することができる。光触媒含有層中の光触媒の含有量
は、5〜60重量%、好ましくは20〜40重量%の範
囲で設定することができる。また、光触媒含有層の厚み
は、0.05〜10μmの範囲内が好ましい。The formation of the photocatalyst containing layers 3, 13, 23, 33 constituting the color filters 1, 11, 21, 31 is performed by dispersing a photocatalyst and a binder in a solvent together with other additives as necessary. Is prepared, and this coating liquid is applied to form a coating liquid. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating.If the coating contains an ultraviolet-curable component as a binder, the coating is cured by irradiation with ultraviolet light. By doing so, a photocatalyst-containing layer can be formed. The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer can be set in the range of 5 to 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. Further, the thickness of the photocatalyst-containing layer is preferably in the range of 0.05 to 10 μm.
【0031】(ブラックマトリックス)カラーフィルタ
1,31を構成するブラックマトリックス4,34は、
それぞれ光触媒含有層3、第1の光触媒含有層33aの
高親水性部位に形成され、着色層5、35の表示画素部
の境界部および着色層の形成領域の外側に位置してい
る。このようなブラックマトリックス4,34は、樹脂
バインダー中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔
料、有機顔料等を含有した層であり、厚みは0.5〜1
0μmの範囲内で設定することができる。樹脂バインダ
ーとしては、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の水性樹脂の1
種または2種以上の混合物を用いることができる。ま
た、樹脂バインダーとして、o/wエマルジョン型の樹
脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化
したもの等も用いることができる。(Black Matrix) The black matrices 4 and 34 constituting the color filters 1 and 31 are:
The colored layers 5 and 35 are formed at the highly hydrophilic portions of the photocatalyst containing layer 3 and the first photocatalyst containing layer 33a, respectively, and are located outside the boundary between the display layers of the colored layers 5 and 35 and the colored layer forming region. Such black matrices 4 and 34 are layers containing carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, organic pigments and the like in a resin binder, and have a thickness of 0.5 to 1
It can be set within the range of 0 μm. Examples of the resin binder include aqueous resins such as polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose.
Species or a mixture of two or more can be used. Also, as the resin binder, an o / w emulsion type resin composition, for example, one obtained by emulsifying reactive silicone can be used.
【0032】また、カラーフィルタ11,21を構成す
るブラックマトリックス14,24は、着色層15、2
5の表示画素部の境界部および着色層の形成領域の外側
に設けられている。このようなブラックマトリックス1
4,24は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚
み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形
成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カー
ボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、
この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン
微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性
樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして
形成したもの等、いずれであってもよい。The black matrices 14 and 24 forming the color filters 11 and 21 are provided with colored layers 15 and 2.
5 is provided outside the boundary between the display pixel portions and the region where the colored layer is formed. Such a black matrix 1
Nos. 4, 24 are formed by forming a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 ° by a sputtering method, a vacuum evaporation method or the like, and patterning the thin film, and a polyimide containing light-shielding particles such as carbon fine particles. Form a resin layer of resin, acrylic resin, epoxy resin, etc.,
This resin layer is formed by patterning, carbon fine particles, a photosensitive resin layer containing light-shielding particles such as metal oxide is formed, and the photosensitive resin layer is formed by patterning. There may be.
【0033】(着色層)着色層5,15,25,35
は、光触媒含有層の高親水性部位に形成されたものであ
り、赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンが
所望のパターン形状で配列されており、無機顔料、有機
顔料、染料等の着色剤からなる層、または、これらの着
色剤を樹脂バインダー中に含有した層である。樹脂バイ
ンダーとしては、ポリアクリルアミド、ポリビニルアル
コール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の水性樹脂
の1種または2種以上の混合物を用いることができる。
また、樹脂バインダーとして、o/wエマルジョン型の
樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン
化したもの等も用いることができる。着色層を構成する
赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンのパタ
ーン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアング
ル型、4画素配置型等の公知のいずれの配列とすること
もできる。(Coloring layer) Coloring layers 5, 15, 25, 35
Is formed in the highly hydrophilic portion of the photocatalyst containing layer, the red pattern, the green pattern and the blue pattern are arranged in a desired pattern shape, and comprises a coloring agent such as an inorganic pigment, an organic pigment, and a dye. A layer or a layer containing these coloring agents in a resin binder. As the resin binder, one or a mixture of two or more aqueous resins such as polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose can be used.
Also, as the resin binder, an o / w emulsion type resin composition, for example, one obtained by emulsifying reactive silicone can be used. The pattern shape of the red pattern, the green pattern, and the blue pattern constituting the colored layer may be any known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type.
【0034】(保護層)保護層6,16,26,36
は、カラーフィルタの表面を平坦化するとともに、着色
層、あるいは、着色層と光触媒含有に含有される成分の
液晶層への溶出を防止するために設けられるものであ
る。この保護層の厚みは、使用される材料の光透過率、
カラーフィルタの表面状態等考慮して設定することがで
き、例えば、0.1〜2.0μmの範囲で設定すること
ができる。保護層は、例えば、公知の透明感光性樹脂、
二液硬化型透明樹脂等のなかから、透明保護層として要
求される光透過率等を有するものを用いて形成すること
ができる。(Protective Layer) Protective Layers 6, 16, 26, 36
Is provided to flatten the surface of the color filter and to prevent the coloring layer or components contained in the coloring layer and the photocatalyst from being eluted into the liquid crystal layer. The thickness of this protective layer depends on the light transmittance of the material used,
It can be set in consideration of the surface condition of the color filter and the like, and for example, can be set in the range of 0.1 to 2.0 μm. The protective layer is, for example, a known transparent photosensitive resin,
The transparent protective layer can be formed from a two-component curable transparent resin or the like having a light transmittance required for the transparent protective layer.
【0035】カラーフィルタの製造 第1の製造例 次に、本発明のカラーフィルタの製造例を、図1に示さ
れたカラーフィルタ1を例に図5を参照しながら説明す
る。The first production example manufacturing color filters Next, an example of producing a color filter of the present invention, the color filter 1 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 5 as an example.
【0036】(第1の工程)まず、第1の工程として、
透明基板2上に濡れ性変化成分層としての光触媒含有層
3を形成する(図5(A))。この光触媒含有層3の形
成は、上述のような光触媒とバインダーを必要に応じて
他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、
この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行
させてバインダー中に光触媒を強固に工程することによ
り形成できる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
く、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。(First Step) First, as a first step,
The photocatalyst containing layer 3 as a wettability changing component layer is formed on the transparent substrate 2 (FIG. 5A). This photocatalyst containing layer 3 is formed by dispersing a photocatalyst and a binder as described above in a solvent together with other additives as necessary to prepare a coating solution,
After the application of the coating solution, hydrolysis and polycondensation reactions are allowed to proceed to form a photocatalyst in the binder, thereby forming the photocatalyst. The solvent used is preferably an alcoholic organic solvent such as ethanol or isopropanol, and the coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating.
【0037】次に、光触媒含有層3のブラックマトリッ
クス形成部位に光照射を行い、光照射部位3′を光触媒
の作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ性
部位を形成する(図5(B))。この光照射は、ブラッ
クマトリックス用のフォトマスクを介した水銀ランプ、
メタルハライドランプ、キセノンランプ等によるパター
ン照射でもよく、また、エキシマ、YAG等のレーザー
を用いてブラックマトリックスのパターン形状に描画照
射してもよい。この光照射に用いる光の波長は400n
m以下の範囲、好ましくは380nm以下の範囲から設
定することができ、また、光照射における照射量は、光
照射部位3′が光触媒の作用により高親水性(水との接
触角が10°以下)を発現するのに必要な照射量とす
る。Next, light is irradiated to the black matrix forming portion of the photocatalyst containing layer 3 to make the light irradiated portion 3 'highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming a specific wettable portion (FIG. 5). (B)). This light irradiation is performed by a mercury lamp through a photomask for black matrix,
Pattern irradiation using a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like may be performed, or drawing irradiation may be performed in a black matrix pattern shape using a laser such as excimer or YAG. The wavelength of light used for this light irradiation is 400 n
m or less, preferably 380 nm or less, and the irradiation amount in light irradiation is such that the light irradiation site 3 ′ is highly hydrophilic (the contact angle with water is 10 ° or less by the action of a photocatalyst). ) Is the irradiation dose necessary to develop
【0038】次に、ブラックマトリックス用の塗料を光
照射部位3′上に付着させ硬化してブラックマトリック
ス4を形成する(図5(C))。光照射部位3′上への
ブラックマトリックス用塗料の付着は、塗料をスプレー
コート、ディップコート、ロールコート、ビードコート
等の公知の塗布方法により光触媒含有層3上に塗布する
ことにより行うことができる。この場合、塗布された塗
料は、高い撥水性を示す非光照射部位ではじかれて除去
され、高親水性を示す光照射部位(特定の濡れ性部位)
3′のみに選択的に付着する。また、光照射部位3′上
へのブラックマトリックス用塗料の付着は、インクジェ
ット等のノズル吐出方式により行ってもよい。この場
合、ノズル吐出により光照射部位3′内に供給されたブ
ラックマトリックス用塗料は、高親水性を示す光照射部
位3′に均一に拡散して付着するとともに、高い撥水性
を示す非光照射部位には拡散することがない。また、仮
にノズル吐出により供給された塗料が光照射部位3′か
らはみだしても、高い撥水性を示す非光照射部ではじか
れて光照射部位3′内に付着する。Next, a coating material for a black matrix is adhered onto the light irradiation site 3 'and cured to form a black matrix 4 (FIG. 5C). The adhesion of the black matrix paint onto the light irradiation site 3 'can be performed by applying the paint onto the photocatalyst containing layer 3 by a known coating method such as spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. . In this case, the applied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portion showing high water repellency, and the light-irradiated portion showing high hydrophilicity (specific wettability portion)
It selectively adheres only to 3 '. Further, the adhesion of the black matrix paint onto the light irradiation site 3 'may be performed by a nozzle discharge method such as an inkjet method. In this case, the black matrix paint supplied into the light-irradiated portion 3 'by nozzle discharge uniformly diffuses and adheres to the highly-irradiated light-irradiated portion 3', and the non-light-irradiated material exhibits high water repellency. It does not spread to the site. Further, even if the paint supplied by the nozzle discharge protrudes from the light irradiation part 3 ', it is repelled by the non-light irradiation part showing high water repellency and adheres to the inside of the light irradiation part 3'.
【0039】さらに、ブラックマトリックス4の形成を
真空薄膜形成方式により行ってもよい。すなわち、光照
射後の光触媒含有層3上に蒸着法等により金属薄膜を形
成し、非光照射部と光照射部位3′の接着力の差を利用
して、粘着テープを用いた剥離、溶剤処理等によりパタ
ーン化してブラックマトリックス4を形成することがで
きる。Further, the black matrix 4 may be formed by a vacuum thin film forming method. That is, a metal thin film is formed on the photocatalyst-containing layer 3 after light irradiation by a vapor deposition method or the like, and separation using an adhesive tape is performed by using a difference in adhesive strength between the non-light-irradiated portion and the light-irradiated portion 3 ′. The black matrix 4 can be formed by patterning by processing or the like.
【0040】(第2の工程)次に、光触媒含有層3上の
赤色パターン5Rの形成部位に光照射を行い、光照射部
位3′を光触媒の作用により高親水性とすることによ
り、特定の濡れ性部位を形成する(図5(D))。この
光照射は、上記のブラックマトリックスの形成工程(第
1の工程)と同様に、パターン照射、光描画照射のいず
れでもよい。次いで、赤色パターン用の塗料を光触媒含
有層3に供給する。この塗料の供給は、上記のブラック
マトリックスの形成工程(第2の工程)と同様に、塗布
方式、インクジェット等のノズル吐出方式、真空薄膜形
成方式等のいずれであってもよい。供給された塗料は、
ブラックマトリックス4および高い撥水性を示す非光照
射部位ではじかれて除去され、高親水性を示す光照射部
位3′のみに選択的に付着する。そして、光照射部位
3′上に付着した赤色パターン用の塗料を硬化して赤色
パターン5Rを形成する(図5(E))。尚、赤色パタ
ーン5Rの形成を真空薄膜形成方式により行う場合、光
照射後の光触媒含有層3上に蒸着法等により赤色パター
ン用の塗料薄膜を形成し、非光照射部と光照射部位3′
の接着力の差を利用して、粘着テープを用いた剥離、溶
剤処理等によりパターン化して赤色パターン5Rを形成
する。(Second Step) Next, the portion where the red pattern 5R is formed on the photocatalyst-containing layer 3 is irradiated with light, and the light-irradiated portion 3 'is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst. A wettability site is formed (FIG. 5D). This light irradiation may be any of pattern irradiation and optical drawing irradiation, as in the above-described black matrix forming step (first step). Next, a paint for a red pattern is supplied to the photocatalyst containing layer 3. The supply of the paint may be any of an application method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film formation method, and the like, similarly to the above-described black matrix forming step (second step). The supplied paint is
The black matrix 4 and the non-light-irradiated portions exhibiting high water repellency are repelled and removed, and selectively adhere to only the light-irradiated portions 3 'exhibiting high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 3 'is cured to form a red pattern 5R (FIG. 5E). In the case where the red pattern 5R is formed by a vacuum thin film forming method, a paint thin film for the red pattern is formed on the photocatalyst containing layer 3 after light irradiation by a vapor deposition method or the like, and the non-light irradiated portion and the light irradiated portion 3 'are formed.
The red pattern 5R is formed by patterning by peeling using an adhesive tape, solvent treatment, or the like, utilizing the difference in the adhesive force of the above.
【0041】上記の赤色パターン形成と同様の操作を繰
り返して、緑色パターン5G、青色パターン5Bを形成
し、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからな
る着色層5を形成し、この着色層5上に保護層6を形成
することにより、図1に示されたカラーフィルタ1が得
られる(図5(F))。尚、第2の工程においてノズル
吐出方式を用いる場合であって各色のパターン(画素)
がブラックマトリックス4により囲まれている場合、第
1の工程でブラックマトリックス4が形成された光触媒
含有層3の全面に対して光照射を行い光触媒の作用によ
り高親水性とし、その後、ノズルから各色のパターン形
成部位ごとに着色パターン用塗料を供給して均一に拡散
付着させ、その後、硬化処理を施して着色層を形成して
もよい。また、濡れ性変化成分層として有機高分子樹脂
層を使用する場合、250nm以下の低波長成分を多く
含む紫外線を用いて光照射を行う。The same operation as that for forming the red pattern is repeated to form a green pattern 5G and a blue pattern 5B, to form a colored layer 5 composed of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern. By forming the protective layer 6, the color filter 1 shown in FIG. 1 is obtained (FIG. 5F). It is to be noted that, in the case where the nozzle discharge method is used in the second step, a pattern (pixel) of each color is used.
Is surrounded by the black matrix 4, the entire surface of the photocatalyst-containing layer 3 on which the black matrix 4 is formed in the first step is irradiated with light to be made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst. The colored pattern paint may be supplied to each of the pattern forming portions to diffuse and adhere uniformly, and then a curing process may be performed to form a colored layer. When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet light containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less.
【0042】第2の製造例 次に、本発明のカラーフィルタの他の製造例について、
図2に示されたカラーフィルタ11を例に図6を参照し
ながら説明する。Second Production Example Next, another production example of the color filter of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. 6 taking the color filter 11 shown in FIG. 2 as an example.
【0043】(第1の工程)まず、第1の工程として、
予めブラックマトリックス14が形成された透明基板1
2上に光触媒含有層13を形成する(図6(A))。こ
の光触媒含有層13の形成は、上述の第1の実施形態に
おける光触媒含有層の形成と同様に行うことができる。
次いで、光触媒含有層13上の赤色パターンの形成部位
に光照射を行い、光照射部位13′を光触媒の作用によ
り高親水性とすることにより、特定の濡れ性部位を形成
する(図6(B))。この光照射は、上述の第1の実施
形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第1の
工程)と同様に、パターン照射、光描画照射のいずれで
もよい。(First Step) First, as a first step,
Transparent substrate 1 on which black matrix 14 has been formed in advance
The photocatalyst-containing layer 13 is formed on the substrate 2 (FIG. 6A). The formation of the photocatalyst containing layer 13 can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer in the first embodiment described above.
Next, a portion where the red pattern is formed on the photocatalyst-containing layer 13 is irradiated with light, and the light-irradiated portion 13 'is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming a specific wettable portion (FIG. 6 (B)). )). This light irradiation may be any of pattern irradiation and optical drawing irradiation, as in the black matrix forming step (first step) in the first embodiment described above.
【0044】(第2の工程)次に、赤色パターン用の塗
料を光触媒含有層13に供給する。この塗料の供給は、
上述の第1の実施形態におけるブラックマトリックスの
形成工程(第2の工程)と同様に、塗布方式、インクジ
ェット等のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいず
れであってもよい。供給された塗料は、高い撥水性を示
す非光照射部位ではじかれて除去され、高親水性を示す
光照射部位13′のみに選択的に付着する。そして、光
照射部位13′上に付着した赤色パターン用の塗料を硬
化して赤色パターン15Rを形成する(図6(C))。
上記の赤色パターン形成と同様の操作を繰り返して、緑
色パターン15G、青色パターン15Bを形成し、赤色
パターン、緑色パターン、青色パターンからなる着色層
15を形成し、この着色層15上に保護層16を形成す
ることにより、図2に示されたカラーフィルタ11が得
られる(図6(D))。(Second Step) Next, a paint for a red pattern is supplied to the photocatalyst containing layer 13. The supply of this paint is
As in the black matrix forming step (second step) in the first embodiment, any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like may be used. The supplied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portions exhibiting high water repellency, and selectively adheres only to the light-irradiated portions 13 'exhibiting high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 13 'is cured to form a red pattern 15R (FIG. 6C).
By repeating the same operation as the above-described red pattern formation, a green pattern 15G and a blue pattern 15B are formed, a colored layer 15 composed of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern is formed. Is obtained, the color filter 11 shown in FIG. 2 is obtained (FIG. 6D).
【0045】尚、第2の工程においてノズル吐出方式を
用いる場合であって各色のパターン(画素)を囲むよう
にブラックマトリックス14がパターン形成されている
場合、第1の工程でブラックマトリックス14を覆うよ
うに透明基板12上に形成された光触媒含有層13の全
面を、図7に示されるようにブラックマトリックス14
の線幅(W)よりも狭い線幅(w)の遮光パターン(図
7に斜線で示)を有するマスクMを介して光照射して光
触媒の作用により高親水性とし、その後、ノズルから各
色のパターン形成部位ごとに着色パターン用塗料を供給
して均一に拡散付着させ、その後、硬化処理を施して着
色層を形成してもよい。また、濡れ性変化成分層として
有機高分子樹脂層を用いる場合、250nm以下の低波
長成分を多く含む紫外線を用いて光照射を行う。In the case where the nozzle discharge method is used in the second step and the black matrix 14 is formed so as to surround the pattern (pixel) of each color, the black matrix 14 is covered in the first step. The entire surface of the photocatalyst containing layer 13 formed on the transparent substrate 12 as shown in FIG.
Light is radiated through a mask M having a light-shielding pattern (shown by oblique lines in FIG. 7) having a line width (w) smaller than the line width (W) to make the surface highly hydrophilic by the action of a photocatalyst. The colored pattern paint may be supplied to each of the pattern forming portions to diffuse and adhere uniformly, and then a curing process may be performed to form a colored layer. When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet light containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less.
【0046】第3の製造例 次に、本発明のカラーフィルタの他の製造例について、
図3に示されたカラーフィルタ21を例に図8を参照し
ながら説明する。まず、予めブラックマトリックス24
が形成された透明基板22上に第1の光触媒含有層23
aを形成し、この光触媒含有層23a上の赤色パターン
の形成部位に光照射を行い、光照射部位23′aを光触
媒の作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ
性部位を形成する(図8(A))。第1の光触媒含有層
23aの形成は、上述の第1の実施形態における光触媒
含有層3の形成と同様に行うことができる。また、第1
の光触媒含有層23aに対する光照射は、上述の第1の
実施形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第
1の工程)と同様に、パターン照射、光描画照射のいず
れでもよい。次いで、赤色パターン用の塗料を第1の光
触媒含有層23aに供給する。この塗料の供給は、上述
の第1の実施形態におけるブラックマトリックスの形成
工程(第1の工程)と同様に、塗布方式、インクジェッ
ト等のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれで
あってもよい。供給された塗料は、高い撥水性を示す非
光照射部位ではじかれて除去され、高親水性を示す光照
射部位23′aのみに選択的に付着する。そして、光照
射部位23′a上に付着した赤色パターン用の塗料を硬
化して赤色パターン25Rを形成する(図8(B))。
これにより、第1の光触媒含有層23aと、この光触媒
含有層23aの光照射部位(高親水性部位)23′aに
形成された赤色パターン25Rとの積層体が、透明基板
22上に形成される。 Third Production Example Next, another production example of the color filter of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. 8 using the color filter 21 shown in FIG. 3 as an example. First, the black matrix 24
The first photocatalyst containing layer 23 is formed on the transparent substrate 22 on which is formed
is formed, a light-irradiated portion is formed on the photocatalyst-containing layer 23a by forming a red pattern on the photocatalyst-containing layer 23a, and the light-irradiated portion 23'a is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming a specific wettable portion. (FIG. 8A). The formation of the first photocatalyst containing layer 23a can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer 3 in the above-described first embodiment. Also, the first
The light irradiation on the photocatalyst containing layer 23a may be any of pattern irradiation and light drawing irradiation, as in the black matrix forming step (first step) in the above-described first embodiment. Next, a paint for a red pattern is supplied to the first photocatalyst containing layer 23a. The supply of the paint may be performed by any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like, similarly to the black matrix forming step (first step) in the first embodiment. Good. The supplied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portion showing high water repellency, and selectively adheres only to the light-irradiated portion 23'a showing high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 23'a is cured to form a red pattern 25R (FIG. 8B).
As a result, a laminate of the first photocatalyst containing layer 23a and the red pattern 25R formed on the light irradiation portion (highly hydrophilic portion) 23'a of the photocatalyst containing layer 23a is formed on the transparent substrate 22. You.
【0047】上記の赤色パターン形成と同様に、第2の
光触媒含有層23bを形成し、この光触媒含有層23b
上の緑色パターン25Gの形成部位に光照射を行い、光
照射部位23′bを光触媒の作用により高親水性とする
ことにより、特定の濡れ性部位を形成とし(図8
(C))、緑色パターン用の塗料を光照射部位23′b
上に付着させ硬化して緑色パターン25Gを形成する
(図8(D))。これにより、第2の光触媒含有層23
bと、この光触媒含有層23bの光照射部位(高親水性
部位)23′bに形成された緑色パターン25Gとの積
層体が、透明基板22上に形成される。In the same manner as in the formation of the red pattern, a second photocatalyst containing layer 23b is formed.
Light is irradiated to the formation portion of the upper green pattern 25G to make the light irradiation portion 23'b highly hydrophilic by the action of a photocatalyst, thereby forming a specific wettability portion (FIG. 8).
(C)) The paint for the green pattern is applied to the light-irradiated portion 23'b.
The green pattern 25G is formed by being adhered on the upper surface and cured (FIG. 8D). Thereby, the second photocatalyst containing layer 23
A laminate of b and the green pattern 25G formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 23'b of the photocatalyst containing layer 23b is formed on the transparent substrate 22.
【0048】同様の操作を繰り返して、第3の光触媒含
有層23cと、この光触媒含有層23cの光照射部位
(高親水性部位)23′cに形成された青色パターン2
5Gとの積層体を、透明基板22上に形成する。これに
より、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンから
なる着色層25を形成し、この着色層25上に保護層2
6を形成することにより、図3に示されたカラーフィル
タ21が得られる(図8(E))。尚、濡れ性変化成分
層として有機高分子樹脂層を用いる場合、250nm以
下の低波長成分を多く含む紫外線を用いて光照射を行
う。By repeating the same operation, the third photocatalyst-containing layer 23c and the blue pattern 2 formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 23'c of this photocatalyst-containing layer 23c are formed.
A laminate with 5G is formed on the transparent substrate 22. Thus, a colored layer 25 composed of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern is formed, and the protective layer 2 is formed on the colored layer 25.
By forming 6, the color filter 21 shown in FIG. 3 is obtained (FIG. 8E). When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet light containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less.
【0049】第4の製造例 次に、本発明のカラーフィルタ製造方法の第4の実施形
態について、図4に示されたカラーフィルタ31を例に
図9を参照しながら説明する。 Fourth Manufacturing Example Next, a fourth embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. 9 taking the color filter 31 shown in FIG. 4 as an example.
【0050】(第1の工程)まず、第1の工程として、
透明基板32上に第1の光触媒含有層33aを形成し、
この光触媒含有層33a上のブラックマトリックスの形
成部位に光照射を行い、光照射部位33′aを光触媒の
作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ性部
位を形成する(図9(A))。この第1の光触媒含有層
33aの形成は、上述の第1の実施形態における光触媒
含有層3の形成と同様に行うことができる。また、第1
の光触媒含有層33aに対する光照射は、上述の第1の
実施形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第
2の工程)と同様に、パターン照射、光描画照射のいず
れでもよい。次いで、ブラックマトリックス用の塗料を
光照射部位33′a上に付着させ硬化してブラックマト
リックス34を形成する(図9(B))。光照射部位3
3′a上へのブラックマトリックス用塗料の付着は、上
述の第1の実施形態におけるブラックマトリックスの形
成工程(第1の工程)と同様に、塗布方式、インクジェ
ット等のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれ
であってもよい。(First Step) First, as a first step,
Forming a first photocatalyst containing layer 33a on a transparent substrate 32,
By irradiating light to the black matrix forming portion on the photocatalyst containing layer 33a and making the light irradiating portion 33'a highly hydrophilic by the action of a photocatalyst, a specific wettable portion is formed (FIG. 9A )). The formation of the first photocatalyst containing layer 33a can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer 3 in the above-described first embodiment. Also, the first
The light irradiation on the photocatalyst containing layer 33a may be either pattern irradiation or light drawing irradiation, as in the black matrix forming step (second step) in the first embodiment described above. Next, a black matrix paint is applied on the light-irradiated portion 33'a and cured to form a black matrix 34 (FIG. 9B). Light irradiation part 3
The coating of the black matrix paint on 3'a is performed in the same manner as the black matrix forming step (first step) in the first embodiment described above, such as a coating method, a nozzle discharge method such as ink jet, and a vacuum thin film formation. Any method may be used.
【0051】(第2の工程)第1の工程で形成されたブ
ラックマトリックス34を覆うように第1の光触媒含有
層33aに第2の光触媒含有層33bを形成し、この光
触媒含有層33b上の赤色パターンの形成部位に光照射
を行い、光照射部位33′bを光触媒の作用により高親
水性とすることにより、特定の濡れ性部位を形成する
(図9(C))。第2の光触媒含有層33aの形成は、
上述の第1の光触媒含有層33aの形成と同様に行うこ
とができる。また、第2の光触媒含有層33bに対する
光照射は、上述の第1の光触媒含有層33aに対する光
照射と同様に、パターン照射、光描画照射のいずれでも
よい。次いで、赤色パターン用の塗料を第2の光触媒含
有層33bに供給する。この塗料の供給は、上述の第1
の実施形態におけるブラックマトリックスの形成工程
(第2の工程)と同様に、塗布方式、インクジェット等
のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれであっ
てもよい。供給された塗料は、ブラックマトリックス3
4および高い撥水性を示す非光照射部位ではじかれて除
去され、高親水性を示す光照射部位33′bのみに選択
的に付着する。そして、光照射部位33′b上に付着し
た赤色パターン用の塗料を硬化して赤色パターン35R
を形成する(図9(D))。これにより、第2の光触媒
含有層33bと、この光触媒含有層33bの光照射部位
(高親水性部位)33′bに形成された赤色パターン3
5Rとの積層体が、第1の光触媒含有層33aに形成さ
れる。(Second Step) A second photocatalyst containing layer 33b is formed on the first photocatalyst containing layer 33a so as to cover the black matrix 34 formed in the first step. Light irradiation is performed on the portion where the red pattern is formed, and the light irradiation portion 33'b is made highly hydrophilic by the action of a photocatalyst, thereby forming a specific wettable portion (FIG. 9C). The formation of the second photocatalyst containing layer 33a is as follows.
It can be performed in the same manner as the formation of the first photocatalyst containing layer 33a described above. The light irradiation on the second photocatalyst containing layer 33b may be any of pattern irradiation and light drawing irradiation similarly to the light irradiation on the first photocatalyst containing layer 33a. Next, the paint for the red pattern is supplied to the second photocatalyst containing layer 33b. The supply of this paint is based on the first
Similarly to the black matrix forming step (second step) in the embodiment, any of a coating method, a nozzle discharge method such as inkjet, a vacuum thin film forming method, and the like may be used. The supplied paint was Black Matrix 3
4 and the non-light-irradiated portion exhibiting high water repellency is repelled and removed, and selectively adheres only to the light-irradiated portion 33'b exhibiting high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 33'b is cured to form a red pattern 35R.
Is formed (FIG. 9D). As a result, the second photocatalyst containing layer 33b and the red pattern 3 formed on the light irradiation portion (highly hydrophilic portion) 33'b of the photocatalyst containing layer 33b are formed.
A laminate with 5R is formed on the first photocatalyst containing layer 33a.
【0052】同様の操作を繰り返すことにより、第3の
光触媒含有層33cと、この光触媒含有層33cの光照
射部位(高親水性部位)33′cに形成された緑色パタ
ーン35Gとの積層体を第1の光触媒含有層33a上に
形成し、さらに、第4の光触媒含有層33dと、この光
触媒含有層33dの光照射部位(高親水性部位)33′
dに形成された青色パターン35Bとの積層体を第1の
光触媒含有層33a上に形成する。これにより、赤色パ
ターン、緑色パターン、青色パターンからなる着色層3
5を形成し、この着色層35上に保護層36を形成する
ことにより、図4に示されたカラーフィルタ31が得ら
れる(図9(E))。By repeating the same operation, a laminate of the third photocatalyst containing layer 33c and the green pattern 35G formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 33'c of this photocatalyst containing layer 33c is obtained. The fourth photocatalyst containing layer 33d is formed on the first photocatalyst containing layer 33a, and a light irradiation portion (highly hydrophilic portion) 33 'of the photocatalyst containing layer 33d is formed.
A laminate with the blue pattern 35B formed in d is formed on the first photocatalyst containing layer 33a. Thereby, the colored layer 3 composed of the red pattern, the green pattern, and the blue pattern
5 and the protective layer 36 is formed on the colored layer 35, whereby the color filter 31 shown in FIG. 4 is obtained (FIG. 9E).
【0053】上述のように、本発明では、ブラックマト
リックス用塗料や着色層用塗料をブラックマトリックス
や着色層を形成する箇所のみに選択的に付着させること
ができるので、塗料の使用効率が極めて高いものとな
る。尚、濡れ性変化成分層として有機高分子樹脂層を用
いる場合、250nm以下の低波長成分を多く含む紫外
線を用いて光照射を行う。上述のカラーフィルタおよび
カラーフィルタの製造方法の実施形態として示した着色
層の色数、形成位置等は例示であり、これに限定される
ものではない。As described above, according to the present invention, the paint for the black matrix and the paint for the colored layer can be selectively adhered only to the portions where the black matrix and the colored layer are to be formed, so that the use efficiency of the paint is extremely high. It will be. When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet light containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less. The number of colors, the formation positions, and the like of the color layers described as the embodiments of the above-described color filter and the method for manufacturing the color filter are examples, and the present invention is not limited thereto.
【0054】[0054]
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。まず、濡れ性変化成分層として光触媒含有層を
用いる実施例を説明する。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. First, an example in which a photocatalyst-containing layer is used as a wettability changing component layer will be described.
【0055】(実施例1)光触媒含有層用塗布液の調製 まず、下記組成の光触媒含有層用の塗布液を調製した。 (光触媒含有層用塗布液の組成) ・光触媒含有組成物(石原産業(株)製ST−K01)… 2重量部 ・オルガノアルコキシシラン … 0.4重量部 (東芝シリコーン(株)製TSL8113) ・フルオロアルコキシシラン … 0.3重量部 (トーケムプロダクツ(株)製MF−160E) ・イソプロピルアルコール … 3重量部Example 1 Preparation of Coating Solution for Photocatalyst-Containing Layer First, a coating solution for a photocatalyst-containing layer having the following composition was prepared. (Composition of coating solution for photocatalyst containing layer) Photocatalyst containing composition (ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 2 parts by weight Organoalkoxysilane 0.4 parts by weight (TSL8113 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) Fluoroalkoxysilane ... 0.3 parts by weight (MF-160E manufactured by Tochem Products Co., Ltd.)-Isopropyl alcohol ... 3 parts by weight
【0056】上記の光触媒含有層用塗布液をスピンコー
ターによりソーダガラス製の透明基板上に塗布し、15
0℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を
進行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固
に固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を
形成した。この光触媒含有層にマスクを介して水銀灯
(波長365nm)により70mW/cm2 の照度で5
0秒間パターン照射を行い、照射部位と非照射部位との
水に対する接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)
製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから水
滴を滴下して30秒後)した結果、非照射部位における
水の接触角は142°であるのに対し、照射部位におけ
る水の接触角は10°以下であり、照射部位が高親水性
部位となり、照射部位と非照射部位との濡れ性の相違に
よるパターン形成が可能なことが確認された。The above coating solution for the photocatalyst-containing layer was coated on a transparent substrate made of soda glass by a spin coater,
After a drying treatment at 0 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation reaction were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. This photocatalyst-containing layer was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) at an illuminance of 70 mW / cm 2 through a mask through a mask.
Perform pattern irradiation for 0 seconds, and measure the contact angle of water between the irradiated part and the non-irradiated part with a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
As a result of measurement using a CA-Z type (30 seconds after dropping a water drop from the microsyringe), the contact angle of water at the non-irradiated part was 142 °, whereas the contact angle of water at the irradiated part was 142 °. Was 10 ° or less, and the irradiated portion became a highly hydrophilic portion, and it was confirmed that pattern formation was possible due to the difference in wettability between the irradiated portion and the non-irradiated portion.
【0057】ブラックマトリックスの形成 次に、上記と同様にして透明基板上に光触媒含有層を形
成した。(図5(A)に相当) この光触媒含有層を、マトリックス状の開口パターン
(開口線幅30μm)を設けたブラックマトリックス用
のマスクを介して水銀灯(波長365nm)により照射
(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位
を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)とし
た。(図5(B)に相当) Formation of Black Matrix Next, a photocatalyst-containing layer was formed on a transparent substrate in the same manner as described above. (Corresponding to FIG. 5A) The photocatalyst-containing layer was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (70 mW / cm 2 ) through a black matrix mask provided with a matrix-shaped opening pattern (opening line width 30 μm). Irradiation was performed for 50 seconds) to make the irradiated portion highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (Corresponding to FIG. 5 (B))
【0058】一方、下記組成の混合物を90℃に加熱し
て溶解し、12000r.p.m.で遠心分離を行い、その
後、1μmのグラスフィルターでろ過した。得られた水
性着色樹脂溶液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウ
ムを1重量%添加して、ブラックマトリックス用の塗布
液を調製した。 (ブラックマトリックス塗布液の組成) ・カーボンブラック(三菱化学(株)製#950) … 4重量部 ・ポリビニルアルコール … 0.7重量部 (日本合成化学(株)製ゴーセノールAH−26) ・イオン交換水 …95.3重量部On the other hand, a mixture having the following composition was dissolved by heating to 90 ° C., centrifuged at 12,000 rpm, and then filtered through a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate was added as a crosslinking agent to the obtained aqueous colored resin solution to prepare a coating liquid for a black matrix. (Composition of black matrix coating solution) ・ Carbon black (# 950, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 4 parts by weight ・ Polyvinyl alcohol: 0.7 parts by weight (Gohsenol AH-26, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) ・ Ion exchange Water: 95.3 parts by weight
【0059】次に、上記のブラックマトリックス用塗布
液をブレードコーターにより光触媒含有層上に全面塗布
した。このように塗布されたブラックマトリックス用塗
布液は、光触媒含有層の非照射部ではじかれ、照射部位
のみに選択的に付着した。その後、60℃、3分間の乾
燥を行い、水銀ランプで露光することにより、ブラック
マトリックス用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、
30分間の加熱処理を施してブラックマトリックスを形
成した。(図5(C)に相当)Next, the above coating solution for black matrix was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a blade coater. The coating liquid for a black matrix applied in this manner was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, drying is performed at 60 ° C. for 3 minutes, and the coating liquid for a black matrix is cured by exposure with a mercury lamp.
A heat treatment was performed for 30 minutes to form a black matrix. (Corresponding to FIG. 5 (C))
【0060】着色層の形成 まず、下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散し
た後、12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1
μmのグラスフィルターでろ過した。得られた水性着色
樹脂溶液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1
重量%添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パター
ン用の塗布液および青色パターン用の塗布液を調製し
た。 (赤色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントレッド168 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) (緑色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントグリーン36 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) (青色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントブルー60 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) Formation of Colored Layer First, a mixture of each of the following compositions was kneaded and dispersed with three rolls, and then centrifuged at 12,000 rpm.
The mixture was filtered through a μm glass filter. To the obtained aqueous colored resin solution, 1 part of ammonium bichromate was used as a crosslinking agent.
The coating liquid for a red pattern, the coating liquid for a green pattern, and the coating liquid for a blue pattern were prepared by adding wt%. (Composition of coating liquid for red pattern) C.I. I. Pigment Red 168: 1 part by weight-5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol: 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol: 1750, degree of saponification: 88 mol%) (Composition of coating liquid for green pattern) I. Pigment Green 36 1 part by weight ・ 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, saponification degree 88 mol%) (Composition of coating solution for blue pattern) I. Pigment Blue 60 1 part by weight ・ 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, degree of saponification 88 mol%)
【0061】次に、上記のようにブラックマトリックス
が形成された光触媒含有層の赤色パターン形成領域に、
150μm×300μmの着色層形成用の開口パターン
を設けたマスクを介して水銀灯(波長365nm)によ
り照射(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照
射部位を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)
とした。(図5(D)に相当) 次いで、上記の赤色パターン用塗布液をブレードコータ
ーにより光触媒含有層上に全面塗布した。このように塗
布された赤色パターン用塗布液は、光触媒含有層の非照
射部ではじかれ、照射部位のみに選択的に付着した。そ
の後、60℃、3分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光
することにより、赤色パターン用塗布液を硬化させ、さ
らに、150℃、30分間の加熱処理を施して赤色パタ
ーンを形成した。(図5(E)に相当)Next, in the red pattern forming region of the photocatalyst containing layer on which the black matrix was formed as described above,
Irradiation (50 msec at an illuminance of 70 mW / cm 2 ) with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask provided with an opening pattern for forming a colored layer of 150 μm × 300 μm to make the irradiated portion highly hydrophilic (contact angle of water) Converted to 10 ° or less)
And (Corresponding to FIG. 5 (D)) Next, the above-mentioned coating liquid for a red pattern was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a blade coater. The coating liquid for red pattern applied in this manner was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, drying was performed at 60 ° C. for 3 minutes, and the coating liquid for red pattern was cured by exposing with a mercury lamp, and further subjected to heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes to form a red pattern. (Equivalent to FIG. 5 (E))
【0062】同様にして、光触媒含有層の緑色パターン
形成領域に光照射を行い、緑色パターン用塗布液を塗布
して照射部位のみに選択的に付着させた後、硬化処理、
加熱処理を施して緑色パターンを形成し、さらに、光触
媒含有層の青色パターン形成領域に光照射を行い、青色
パターン用塗布液を塗布して照射部位のみに選択的に付
着させた後、硬化処理、加熱処理を施して青色パターン
を形成した。次いで、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図1に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。(図5(F)に
相当)Similarly, the green pattern forming area of the photocatalyst-containing layer is irradiated with light, and a green pattern coating solution is applied and selectively adhered only to the irradiated area.
A heat treatment is performed to form a green pattern, and further, a blue pattern forming region of the photocatalyst containing layer is irradiated with light, and a blue pattern coating liquid is applied and selectively adhered only to an irradiated portion, and then cured. Then, a heat treatment was performed to form a blue pattern. Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. A color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 1 was manufactured. (Corresponding to FIG. 5 (F))
【0063】(実施例2)光触媒含有層用塗布液の調製 まず、下記組成の光触媒含有層用の塗布液を調製した。 (光触媒含有層用塗布液の組成) ・光触媒含有組成物(石原産業(株)製STS−01)… 1重量部 ・反応性シリコーン …0.76重量部 (信越化学工業(株)製KM−768) ・触媒 …0.02重量部 (信越化学工業(株)製 CAT-PM6A・CAT-PM6B=4:6 ) ・水 …1.34重量部Example 2 Preparation of Coating Solution for Photocatalyst-Containing Layer First, a coating solution for a photocatalyst-containing layer having the following composition was prepared. (Composition of coating solution for photocatalyst containing layer)-Photocatalyst containing composition (STS-01, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.): 1 part by weight-Reactive silicone: 0.76 parts by weight (KM-, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 768) Catalyst: 0.02 parts by weight (CAT-PM6A / CAT-PM6B = 4: 6 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Water: 1.34 parts by weight
【0064】上記の光触媒含有層用塗布液をスピンコー
ターによりソーダライムガラス製の透明基板上に塗布
し、160℃で1分間加熱処理し、光触媒がオルガノポ
リシロキサン中に強固に固定された透明な光触媒含有層
(厚み0.5μm)を形成した。この光触媒含有層にマ
スクを介して水銀灯(波長365nm)により70mW
/cm2 の照度で100秒間パターン照射を行い、照射
部位と非照射部位との水に対する接触角を実施例1と同
様に測定した結果、非照射部位における水の接触角は1
15°であるのに対し、照射部位における水の接触角は
10°以下であり、照射部位が高親水性部位となり、照
射部位と非照射部位との濡れ性の相違によるパターン形
成が可能なことが確認された。The above-mentioned coating solution for the photocatalyst-containing layer was applied on a transparent substrate made of soda lime glass by a spin coater and heated at 160 ° C. for 1 minute to obtain a transparent solution in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. A photocatalyst containing layer (thickness 0.5 μm) was formed. 70 mW by a mercury lamp (wavelength 365 nm) through the photocatalyst containing layer through a mask.
The pattern irradiation was performed at an illuminance of / cm 2 for 100 seconds, and the contact angle of water between the irradiated part and the non-irradiated part was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the contact angle of water at the non-irradiated part was 1
In contrast to 15 °, the contact angle of water at the irradiated part is 10 ° or less, the irradiated part becomes a highly hydrophilic part, and a pattern can be formed due to the difference in wettability between the irradiated part and the non-irradiated part. Was confirmed.
【0065】ブラックマトリックスの形成 次に、上記と同様にして光触媒含有層を形成し、この光
触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照射
(水銀灯(波長365nm)により70mW/cm2 の
照度で100秒間照射)を行い、ブラックマトリックス
用塗布液を塗布して照射部位のみに選択的に付着させた
後、加熱処理を施してブラックマトリックスを形成し
た。(図5(A)〜(C)に相当) Formation of Black Matrix Next, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as described above, and the black matrix formation region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light (a mercury lamp (wavelength 365 nm) at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 100 seconds) Irradiation), a coating liquid for black matrix was applied and selectively adhered only to the irradiated area, and then subjected to a heat treatment to form a black matrix. (Corresponding to FIGS. 5A to 5C)
【0066】着色層の形成 次に、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の組成の各着色パターン用の塗布液を調製した。 (着色パターン用塗布液の組成) ・顔料 … 3重量部 ・非イオン界面活性剤 …0.05重量部 (日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BO−10TX) ・ポリビニルアルコール … 0.6重量部 (信越化学工業(株)製信越ポバールAT) ・水 … 97重量部 Formation of Colored Layer Next, Pigment Red 168, Pigment Green 36, and Pigment Blue 60 are prepared as pigments of each color.
A coating solution for each colored pattern having the following composition was prepared. (Composition of coating liquid for coloring pattern) ・ Pigment: 3 parts by weight ・ Nonionic surfactant: 0.05 parts by weight (NIKKOL BO-10TX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.) ・ Polyvinyl alcohol ... 0.6 parts by weight (Shin-Etsu Shin-Etsu Poval AT manufactured by Chemical Industry Co., Ltd. ・ Water: 97 parts by weight
【0067】次いで、上述のようにブラックマトリック
スが形成された光触媒含有層の全面に水銀灯(波長36
5nm)により照射(70mW/cm2 の照度で100
秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算し
て10°以下)とした。次に、上記の赤色パターン用塗
布液をノズルからブラックマトリックスに囲まれた各赤
色パターン形成領域の中心部にドット径120μmで滴
下した。同様に、緑色パターン用塗布液をノズルからブ
ラックマトリックスに囲まれた各緑色パターン形成領域
の中心部にドット径120μmで滴下した。さらに、青
色パターン用塗布液をノズルからブラックマトリックス
に囲まれた各青色パターン形成領域の中心部にドット径
120μmで滴下した。このように滴下された各色パタ
ーン用塗布液は、ブラックマトリックスでははじかれ、
ブラックマトリックスに囲まれた高親水性部位である各
色のパターン形成領域内で均一に拡散して選択的に付着
した。その後、100℃、45分間の加熱処理を施して
赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからなる着
色層を形成した。次に、保護層として二液混合型熱硬化
剤(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコー
ターにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化
処理を施して保護層を形成し、図1に示されるような構
成の本発明のカラーフィルタを製造した。Next, a mercury lamp (wavelength: 36) was formed on the entire surface of the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above.
5 nm) (100 mW / cm 2 illuminance).
(Seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). Next, the above-mentioned coating liquid for a red pattern was dropped at a dot diameter of 120 μm from a nozzle to the center of each red pattern forming region surrounded by a black matrix. Similarly, a coating liquid for a green pattern was dropped from a nozzle at a dot diameter of 120 μm to the center of each green pattern forming region surrounded by a black matrix. Further, a blue pattern coating liquid was dropped at a dot diameter of 120 μm from a nozzle to the center of each blue pattern forming region surrounded by a black matrix. The coating liquid for each color pattern thus dropped is repelled by the black matrix,
In the pattern forming region of each color, which is a highly hydrophilic portion surrounded by a black matrix, the dye was uniformly diffused and selectively adhered. Thereafter, a heat treatment was performed at 100 ° C. for 45 minutes to form a colored layer including a red pattern, a green pattern, and a blue pattern. Next, as a protective layer, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. Then, a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 1 was manufactured.
【0068】(実施例3)光触媒含有層の形成 開口部90μm×300μmで線幅30μmのクロム薄
膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソー
ダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒含
有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。(図6(A)に相当)Example 3 Formation of Photocatalyst-Containing Layer The same photocatalyst-containing layer as in Example 1 was formed on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having openings of 90 μm × 300 μm and a line width of 30 μm. Application liquid by a spin coater, 150
After a drying treatment at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. (Corresponding to FIG. 6 (A))
【0069】着色層の形成 次に、この光触媒含有層を、赤色パターン用のマスクを
介して水銀灯(波長365nm)により照射(70mW
/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位を高親水性
(水の接触角に換算して10°以下)とした。(図6
(B)に相当)一方、1gのC.I.ピグメントレッド
168を、水系エマルジョンシリコーン(信越化学工業
(株)製K−768)を水で3倍に希釈した水溶液10
gに混合し、得られた混合物を3本ロールで練肉分散し
た後、12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1
μmのグラスフィルターでろ過した。得られた水性着色
樹脂溶液に、硬化触媒として CatalystPM-6A:Catalyst
PM-6B =4:6(信越化学工業(株)製)を0.1g添
加して、赤色パターン用の塗布液(熱硬化性樹脂組成
物)を調製した。 Formation of Colored Layer Next, the photocatalyst-containing layer was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (70 mW) through a red pattern mask.
/ Cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (FIG. 6
On the other hand, 1 g of C.I. I. Pigment Red 168 is prepared by diluting an aqueous emulsion silicone (K-768, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) three times with water.
g of the resulting mixture, and the resulting mixture is ground and dispersed with three rolls, and then centrifuged at 12,000 rpm.
The mixture was filtered through a μm glass filter. CatalystPM-6A: Catalyst was added to the resulting aqueous colored resin solution as a curing catalyst.
0.1 g of PM-6B = 4: 6 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to prepare a coating liquid (thermosetting resin composition) for a red pattern.
【0070】次に、上記の赤色パターン用塗布液をバー
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布さ
れた赤色パターン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部
ではじかれ、照射部位のみに選択的に付着した。その
後、160℃、30秒間の硬化処理を施して赤色パター
ンを形成した。(図6(C)に相当) 次に、上記のように赤色パターンが形成された光触媒含
有層を、青色パターン用のマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で5
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。Next, the above-mentioned coating solution for red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for red pattern was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, a curing process was performed at 160 ° C. for 30 seconds to form a red pattern. (Corresponding to FIG. 6C) Next, the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a blue pattern mask (at an illuminance of 70 mW / cm 2 ). 5
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).
【0071】一方、1gのC.I.ピグメントブルー6
0を、水系エマルジョンシリコーン(信越化学工業
(株)製K−768)を水で3倍に希釈した水溶液10
gに混合し、上記の赤色パターン用の塗布液と同様にし
て、青色パターン用の塗布液(熱硬化性樹脂組成物)を
調製した。次に、上記の青色パターン用塗布液をバーコ
ーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布され
た青色パターン用塗布液は、赤色パターン形成部および
光触媒含有層の非照射部ではじかれ、照射部位のみに選
択的に付着した。その後、160℃、30秒間の硬化処
理を施して青色パターンを形成した。さらに、上記のよ
うに赤色パターンおよび青色パターンが形成された光触
媒含有層を、緑色パターン用のマスクを介して水銀灯
(波長365nm)により照射(70mW/cm2 の照
度で50秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角
に換算して10°以下)とした。On the other hand, 1 g of C.I. I. Pigment Blue 6
0 is an aqueous solution obtained by diluting an aqueous emulsion silicone (K-768, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) three times with water.
g, and a coating solution (thermosetting resin composition) for a blue pattern was prepared in the same manner as the coating solution for the red pattern. Next, the above-mentioned blue pattern coating solution was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied blue pattern coating liquid was repelled in the red pattern forming portion and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, a curing process was performed at 160 ° C. for 30 seconds to form a blue pattern. Further, the photocatalyst-containing layer on which the red pattern and the blue pattern are formed as described above is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask for a green pattern (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds). The site was made highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).
【0072】一方、1gのリオノールグリーン2Y−3
01(東洋インキ製造(株)製)を、ポリビニルアルコ
ール(平均重合度1750、ケン化度88モル%)の1
0重量%水溶液10gに混合し、得られた混合物を3本
ロールで練肉分散した後、12000r.p.m.で遠心分離
を行い、その後、1μmのグラスフィルターでろ過し
た。得られた水性着色樹脂溶液に、架橋剤として重クロ
ム酸アンモニウムを1重量%添加して、緑色パターン用
の塗布液(感光性樹脂組成物)を調製した。On the other hand, 1 g of Lionol Green 2Y-3
01 (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) in polyvinyl alcohol (average degree of polymerization 1750, saponification degree 88 mol%)
The mixture was mixed with 10 g of a 0% by weight aqueous solution, and the resulting mixture was dispersed in a three-roll mill, followed by centrifugation at 12,000 rpm, followed by filtration through a 1 μm glass filter. To the obtained aqueous colored resin solution, 1% by weight of ammonium bichromate was added as a crosslinking agent to prepare a coating solution (photosensitive resin composition) for a green pattern.
【0073】次に、上記の緑色パターン用塗布液をバー
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布さ
れた緑色パターン用塗布液は、赤色パターン形成部、青
色パターン形成部および光触媒含有層の非照射部ではじ
かれ、照射部位のみに選択的に付着した。その後、60
℃、3分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することに
より、緑色パターン用塗布液を硬化させるとともに、光
触媒含有層を高親水性にした。次いで、150℃、30
分間の加熱処理を施して緑色パターンを形成した。次
に、保護層として二液混合型熱硬化剤(日本合成ゴム
(株)製SS7265)をスピンコーターにて着色層上
に塗布し、200℃、30分間の硬化処理を施して保護
層を形成し、図2に示されるような構成の本発明のカラ
ーフィルタを製造した。Next, the above-mentioned coating solution for a green pattern was coated on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied green pattern coating solution was repelled by the red pattern forming portion, the blue pattern forming portion, and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Then 60
The coating solution for green pattern was cured by exposing to light at 3 ° C. for 3 minutes and exposing with a mercury lamp, and the photocatalyst-containing layer was made highly hydrophilic. Then, at 150 ° C., 30
A green pattern was formed by performing a heat treatment for 5 minutes. Next, as a protective layer, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. Then, a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 2 was manufactured.
【0074】(実施例4)光触媒含有層の形成 開口部140μm×260μmで線幅30μmのクロム
薄膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソ
ーダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒
含有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。(図6(A)に相当)Example 4 Formation of Photocatalyst-Containing Layer The same photocatalyst-containing layer as in Example 1 was formed on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having openings of 140 μm × 260 μm and a line width of 30 μm. Application liquid by a spin coater, 150
After a drying treatment at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. (Corresponding to FIG. 6 (A))
【0075】着色層の形成 次に、ブラックマトリックスの線幅(30μm)よりも
狭い線幅(20μm)の遮光パターン(パターンピッチ
は155μm×275μm)を有するマスクをブラック
マトリックス上に位置合わせした後、このマスクを介し
て水銀灯(波長365nm)により光触媒含有層を照射
(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位
を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)とし
た。(図7参照)上記の各照射部位(高親水性部位)は
150μm×270μmの大きさであり、非照射部位は
ブラックマトリックス上に20μmの幅で存在する。 Formation of Colored Layer Next, a mask having a light-shielding pattern (pattern pitch: 155 μm × 275 μm) having a line width (20 μm) smaller than the line width (30 μm) of the black matrix is aligned on the black matrix. The photocatalyst-containing layer is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through this mask (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). did. (See FIG. 7) Each irradiation site (highly hydrophilic site) has a size of 150 μm × 270 μm, and the non-irradiation site exists on the black matrix with a width of 20 μm.
【0076】次に、各色の顔料としてピグメントレッド
168、ピグメントグリーン36、ピグメントブルー6
0を準備し、下記の組成の各着色パターン用の塗布液を
調製した。 (着色パターン用塗布液の組成) ・顔料 … 3重量部 ・非イオン界面活性剤 …0.05重量部 (日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BO−10TX) ・ポリビニルアルコール … 0.6重量部 (信越化学工業(株)製信越ポバールAT) ・水 … 97重量部Next, pigment red 168, pigment green 36, pigment blue 6
0 was prepared, and a coating solution for each colored pattern having the following composition was prepared. (Composition of coating liquid for coloring pattern) ・ Pigment: 3 parts by weight ・ Nonionic surfactant: 0.05 parts by weight (NIKKOL BO-10TX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.) ・ Polyvinyl alcohol ... 0.6 parts by weight (Shin-Etsu Shin-Etsu Poval AT manufactured by Chemical Industry Co., Ltd. ・ Water: 97 parts by weight
【0077】次に、上記の赤色パターン用塗布液をノズ
ルからブラックマトリックスに囲まれた各赤色パターン
形成領域の中心部にドット径120μmで滴下した。同
様に、緑色パターン用塗布液をノズルからブラックマト
リックスに囲まれた各緑色パターン形成領域の中心部に
ドット径120μmで滴下した。さらに、青色パターン
用塗布液をノズルからブラックマトリックスに囲まれた
各青色パターン形成領域の中心部にドット径120μm
で滴下した。このように滴下された各着色パターン用塗
布液は、ブラックマトリックス上の非照射部位ではじか
れ、ブラックマトリックスに囲まれた高親水性部位であ
る各色のパターン形成領域内で均一に拡散して選択的に
付着した。その後、100℃、45分間の加熱処理を施
して赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからな
る着色層を形成した。次に、保護層として二液混合型熱
硬化剤(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピン
コーターにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の
硬化処理を施して保護層を形成し、図2に示されるよう
な構成の本発明のカラーフィルタを製造した。Next, the above-mentioned red pattern coating solution was dropped at a dot diameter of 120 μm from a nozzle to the center of each red pattern forming region surrounded by a black matrix. Similarly, a coating liquid for a green pattern was dropped from a nozzle at a dot diameter of 120 μm to the center of each green pattern forming region surrounded by a black matrix. Furthermore, a dot diameter of 120 μm was applied to the center of each blue pattern forming region surrounded by the black matrix from the nozzle by applying the blue pattern coating solution.
Was dropped. The coating liquid for each colored pattern thus dropped is repelled at the non-irradiated portion on the black matrix, and is uniformly diffused and selected within the pattern forming region of each color, which is a highly hydrophilic portion surrounded by the black matrix. Attached. Thereafter, a heat treatment was performed at 100 ° C. for 45 minutes to form a colored layer including a red pattern, a green pattern, and a blue pattern. Next, as a protective layer, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. Then, a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 2 was manufactured.
【0078】(実施例5)光触媒含有層の形成 開口部90μm×300μmで線幅30μmのクロム薄
膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソー
ダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒含
有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。Example 5 Formation of Photocatalyst-Containing Layer The same photocatalyst-containing layer as in Example 1 was formed on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having an opening of 90 μm × 300 μm and a line width of 30 μm. Application liquid by a spin coater, 150
After a drying treatment at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane.
【0079】着色層の形成 まず、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散した後、
12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1μmの
グラスフィルターでろ過した。得られた水性着色樹脂溶
液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1重量%
添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パターン用の
塗布液および青色パターン用の塗布液(感光性樹脂組成
物)を調製した。 (混合物の組成) ・顔料 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール10重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) Formation of Colored Layer First, Pigment Red 168, Pigment Green 36, and Pigment Blue 60 are prepared as pigments of each color.
After mixing and dispersing the mixture of the following compositions with three rolls,
Centrifugation was performed at 12000 rpm, and then filtration was performed with a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate as a crosslinking agent was added to the obtained aqueous colored resin solution.
In addition, a coating liquid for a red pattern, a coating liquid for a green pattern, and a coating liquid (a photosensitive resin composition) for a blue pattern were prepared. (Composition of mixture) ・ Pigment 1 part by weight ・ Polyvinyl alcohol 10% by weight aqueous solution 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, degree of saponification 88 mol%)
【0080】次に、上記のようにブラックマトリックス
が形成された光触媒含有層上に、実施例1と同様にして
光触媒含有層を形成し、この光触媒含有層を赤色パター
ン用のマスクを介して水銀灯(波長365nm)により
照射(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射
部位を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)と
した。(図8(A)に相当) 次に、上記の赤色パターン用塗布液をバーコーターによ
り光触媒含有層上に全面塗布した。塗布された赤色パタ
ーン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部ではじかれ、
照射部位のみに選択的に付着した。その後、60℃、3
分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することにより、
赤色パターン用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、
30分間の加熱処理を施して赤色パターンを形成した。
(図8(B)に相当)Next, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer was placed on a mercury lamp through a red pattern mask. (Wavelength 365 nm) (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (Corresponding to FIG. 8 (A)) Next, the above-mentioned coating liquid for a red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for the red pattern is repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst containing layer,
It selectively adhered only to the irradiated site. Then, at 60 ° C, 3
By drying for a minute and exposing with a mercury lamp,
The coating liquid for red pattern is cured,
A heat treatment for 30 minutes was performed to form a red pattern.
(Corresponding to FIG. 8 (B))
【0081】同様にして、上記のように赤色パターンが
形成された光触媒含有層上に、実施例1と同様にして光
触媒含有層を形成し、この光触媒含有層の緑色パターン
形成領域に光照射を行い(図8(C)に相当)、緑色パ
ターン用塗布液を塗布して光照射部位のみに選択的に付
着させた後、硬化処理、加熱処理を施して緑色パターン
を形成した。(図8(D)に相当)Similarly, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above in the same manner as in Example 1, and the green pattern formation region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light. This was performed (corresponding to FIG. 8 (C)), and after applying a green pattern coating liquid and selectively attaching it only to the light irradiation site, a curing process and a heating process were performed to form a green pattern. (Corresponding to FIG. 8 (D))
【0082】さらに、緑色パターンが形成された光触媒
含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成
し、この光触媒含有層の青色パターン形成領域に光照射
を行い、青色パターン用塗布液を塗布して光照射部位の
みに選択的に付着させた後、硬化処理、加熱処理を施し
て青色パターンを形成した。次いで、保護層として二液
混合型熱硬化剤(日本合成ゴム(株)製SS7265)
をスピンコーターにて着色層上に塗布し、200℃、3
0分間の硬化処理を施して保護層を形成し、図3に示さ
れるような構成の本発明のカラーフィルタを製造した。
(図8(E)に相当)Further, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the green pattern was formed in the same manner as in Example 1, and the blue pattern-forming region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light to form a blue pattern. After the solution was applied and selectively adhered only to the light irradiation site, a curing process and a heating process were performed to form a blue pattern. Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) as a protective layer
Is applied on the coloring layer with a spin coater,
A hardening treatment was performed for 0 minutes to form a protective layer, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 3 was manufactured.
(Equivalent to FIG. 8 (E))
【0083】(実施例6)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。(図9(A)、(B)に
相当)(Example 6) Formation of Black Matrix First, a photocatalyst containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and the black matrix forming region of the photocatalyst containing layer was irradiated with light to apply a black matrix coating solution. After that, the film was selectively adhered to the irradiated portion, and then subjected to a heat treatment to form a black matrix. (Corresponding to FIGS. 9A and 9B)
【0084】着色層の形成 まず、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散した後、
12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1μmの
グラスフィルターでろ過した。得られた水性着色樹脂溶
液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1重量%
添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パターン用の
塗布液および青色パターン用の塗布液(感光性樹脂組成
物)を調製した。 (混合物の組成) ・顔料 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール10重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) Formation of Colored Layer First, Pigment Red 168, Pigment Green 36, and Pigment Blue 60 were prepared as pigments of each color.
After mixing and dispersing the mixture of the following compositions with three rolls,
Centrifugation was performed at 12000 rpm, and then filtration was performed with a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate as a crosslinking agent was added to the obtained aqueous colored resin solution.
In addition, a coating liquid for a red pattern, a coating liquid for a green pattern, and a coating liquid (a photosensitive resin composition) for a blue pattern were prepared. (Composition of mixture) ・ Pigment 1 part by weight ・ Polyvinyl alcohol 10% by weight aqueous solution 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, degree of saponification 88 mol%)
【0085】次に、上記のようにブラックマトリックス
が形成された光触媒含有層上に、実施例1と同様にして
光触媒含有層を形成し、この光触媒含有層を赤色パター
ン用のマスクを介して水銀灯(波長365nm)により
照射(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射
部位を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)と
した。(図9(C)に相当) 次に、上記の赤色パターン用塗布液をバーコーターによ
り光触媒含有層上に全面塗布した。塗布された赤色パタ
ーン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部ではじかれ、
照射部位のみに選択的に付着した。その後、60℃、3
分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することにより、
赤色パターン用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、
30分間の加熱処理を施して赤色パターンを形成した。
(図9(D)に相当)Next, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the black matrix had been formed as described above in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer was placed on a mercury lamp through a red pattern mask. (Wavelength 365 nm) (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (Corresponding to FIG. 9 (C)) Next, the above-mentioned coating solution for red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for the red pattern is repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst containing layer,
It selectively adhered only to the irradiated site. Then, at 60 ° C, 3
By drying for a minute and exposing with a mercury lamp,
The coating liquid for red pattern is cured,
A heat treatment for 30 minutes was performed to form a red pattern.
(Corresponding to FIG. 9 (D))
【0086】同様にして、上記のように赤色パターンが
形成された光触媒含有層上に、実施例1と同様にして光
触媒含有層を形成し、この光触媒含有層の緑色パターン
形成領域に光照射を行い、緑色パターン用塗布液を塗布
して光照射部位のみに選択的に付着させた後、硬化処
理、加熱処理を施して緑色パターンを形成し、さらに、
緑色パターンが形成された光触媒含有層上に、実施例1
と同様にして光触媒含有層を形成し、この光触媒含有層
の青色パターン形成領域に光照射を行い、青色パターン
用塗布液を塗布して光照射部位のみに選択的に付着させ
た後、硬化処理、加熱処理を施して青色パターンを形成
した。次いで、保護層として二液混合型熱硬化剤(日本
合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコーターにて
着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処理を施
して保護層を形成し、図4に示されるような構成の本発
明のカラーフィルタを製造した。(図9(E)に相当)Similarly, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above in the same manner as in Example 1, and the green pattern forming region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light. Performing, after applying a green pattern coating solution and selectively attaching only to the light irradiation site, a curing process, a heating process is performed to form a green pattern, and further,
Example 1 was formed on the photocatalyst-containing layer on which the green pattern was formed.
A photocatalyst-containing layer is formed in the same manner as described above, and the blue pattern-forming region of the photocatalyst-containing layer is irradiated with light, and a blue pattern coating solution is applied to selectively adhere only to the light-irradiated portions, followed by a curing treatment. Then, a heat treatment was performed to form a blue pattern. Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. A color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 4 was manufactured. (Equivalent to FIG. 9 (E))
【0087】(実施例7)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。(Example 7) Formation of Black Matrix First, a photocatalyst containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and the black matrix forming region of the photocatalyst containing layer was irradiated with light to apply a black matrix coating solution. After that, the film was selectively adhered to the irradiated portion, and then subjected to a heat treatment to form a black matrix.
【0088】着色層の形成 上記のようにブラックマトリックスが形成された光触媒
含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成
し、この光触媒含有層を、開口部(23μm×12μm
の長方形の開口部)をもつマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で9
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。 Formation of Colored Layer On the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer was formed into an opening (23 μm × 12 μm).
In the rectangular illumination of irradiation (70 mW / cm 2 using a mercury lamp through a mask having an opening) (Wavelength 365 nm) 9
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).
【0089】次に、真空蒸着法にて、下記の構造式で示
されるペリレン系顔料を上記の光触媒含有層上に、真空
度1×10-5Torr、蒸着速度10Å/秒の条件で蒸
着し、光触媒含有層上の全面に赤色顔料薄膜を形成し
た。次いで、この赤色顔料薄膜表面をアセトンにて洗い
流したところ、光触媒含有層の光照射部位と非照射部位
における赤色顔料の接着性の違いにより、非照射部位の
み赤色顔料薄膜が剥離し、照射部位には、23μm×1
2μmの長方形の赤色顔料薄膜(膜厚0.4μm)から
なる赤色パターンが形成された。Next, a perylene pigment represented by the following structural formula was deposited on the photocatalyst-containing layer at a degree of vacuum of 1 × 10 −5 Torr and a deposition rate of 10 ° / sec by a vacuum deposition method. A red pigment thin film was formed on the entire surface of the photocatalyst-containing layer. Next, when the surface of the red pigment thin film was rinsed with acetone, the difference in the adhesiveness of the red pigment between the light-irradiated portion and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer caused the red pigment thin film to peel off only at the non-irradiated portion, and Is 23 μm × 1
A red pattern consisting of a 2 μm rectangular red pigment thin film (0.4 μm thickness) was formed.
【0090】[0090]
【化2】 Embedded image
【0091】(実施例8)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。Example 8 Formation of Black Matrix First, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and the black matrix-forming region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light to apply a black matrix coating solution. After that, the film was selectively adhered to the irradiated portion, and then subjected to a heat treatment to form a black matrix.
【0092】着色層の形成 上記のようにブラックマトリックスが形成された光触媒
含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成
し、この光触媒含有層を、開口部(23μm×12μm
の長方形の開口部)をもつマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で9
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。次に、真空蒸着法にて、下記
の構造式で示されるペリレン系顔料を上記の光触媒含有
層上に、真空度1×10-5Torr、蒸着速度10Å/
秒の条件で蒸着し、光触媒含有層上の全面に青色顔料薄
膜を形成した。次いで、この青色顔料薄膜表面をメタノ
ールにて洗い流したところ、光触媒含有層の光照射部位
と非照射部位における青色顔料の接着性の違いにより、
非照射部位のみ青色顔料薄膜が剥離し、照射部位には、
23μm×12μmの長方形の青色顔料薄膜(膜厚0.
4μm)からなる青色パターンが形成された。 Formation of Colored Layer On the photocatalyst containing layer on which the black matrix was formed as described above, a photocatalyst containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst containing layer was formed into an opening (23 μm × 12 μm).
In the rectangular illumination of irradiation (70 mW / cm 2 using a mercury lamp through a mask having an opening) (Wavelength 365 nm) 9
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). Next, a perylene-based pigment represented by the following structural formula was deposited on the photocatalyst-containing layer by a vacuum deposition method at a degree of vacuum of 1 × 10 −5 Torr and a deposition rate of 10 ° /.
Vapor deposition was performed under the conditions of seconds to form a blue pigment thin film on the entire surface of the photocatalyst containing layer. Next, when the surface of the blue pigment thin film was washed away with methanol, due to the difference in the adhesiveness of the blue pigment between the light irradiation site and the non-irradiation site of the photocatalyst containing layer,
The blue pigment thin film peels off only at the non-irradiated part, and at the irradiated part,
A rectangular blue pigment thin film of 23 μm × 12 μm (thickness of 0.1 μm).
4 μm) was formed.
【0093】[0093]
【化3】 Embedded image
【0094】(評価)実施例1〜8において作製した各
カラーフィルタを光学顕微鏡により観察したところ、ブ
ラックマトリックスおよび着色層において、変色、混
色、白抜け、色むら等の欠陥はみとめられなかった。(Evaluation) When the color filters produced in Examples 1 to 8 were observed with an optical microscope, no defects such as discoloration, color mixture, white spots, and color unevenness were observed in the black matrix and the colored layer.
【0095】[0095]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば特
定の濡れ性部位において、遮光層用塗料や着色層用塗料
に対する濡れ性が高く、遮光層用塗料や着色層用塗料を
供給することにより、特定の濡れ性部位のみに選択的に
確実に付着し、他の領域に接触した塗料ははじかれの
で、高い精度で遮光層や着色層を形成でき、高解像度の
カラーフィルタが可能となり、また、遮光層や着色層を
形成する箇所のみに塗料を付着させるので材料の使用効
率が高く、さらに、現像や洗浄の工程、現像廃液の処理
工程が不要なので工程も簡便なものとなる。また、特定
の濡れ性部位を形成する濡れ性変化成分層を光触媒含有
層や有機高分子樹脂層とすることにより、光照射部位が
光触媒の作用によって臨界表面張力が高くなって高親水
性(特定の濡れ性部位)となり、あるいは、高分子鎖の
切断による低分子化に伴う表面粗化によって高親水性
(特定の濡れ性部位)となり、一方、非照射部位は高い
撥水性を維持したままであり、このような光触媒含有層
や有機高分子樹脂層上に遮光層用塗料や着色層用塗料を
供給することにより、非照射部位に接触した塗料ははじ
かれ、濡れ性の高い光照射部位(高親水性部位)のみに
選択的に確実に付着する。As described above in detail, according to the present invention, a specific wettability portion has high wettability with respect to the light-shielding layer paint and the colored layer paint, and supplies the light-shielding layer paint and the colored layer paint. By doing so, it selectively adheres only to specific wettable parts, paint that comes in contact with other areas is repelled, so it is possible to form a light-shielding layer and a colored layer with high precision, enabling a high-resolution color filter In addition, since the paint is attached only to the portion where the light-shielding layer or the colored layer is formed, the use efficiency of the material is high, and furthermore, the steps of development and washing, and the step of treating the development waste liquid are unnecessary, so that the steps are simplified. . In addition, by making the wettability changing component layer that forms a specific wettability portion a photocatalyst-containing layer or an organic polymer resin layer, the photoirradiation portion increases the critical surface tension due to the action of the photocatalyst and increases the hydrophilicity (specificity). Wettability), or high hydrophilicity (specific wettability) due to surface roughening due to molecular weight reduction due to polymer chain breakage, while non-irradiated parts maintain high water repellency. By supplying a light-shielding layer coating or a coloring layer coating on such a photocatalyst-containing layer or an organic polymer resin layer, the coating in contact with the non-irradiated part is repelled, and the light-irradiated part with high wettability ( Selectively adheres only to the highly hydrophilic site).
【図1】本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示
す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating an example of an embodiment of a color filter of the present invention.
【図2】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.
【図3】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.
【図4】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.
【図5】本発明のカラーフィルタの製造例を説明するた
めの工程図である。FIG. 5 is a process chart for explaining a production example of the color filter of the present invention.
【図6】本発明のカラーフィルタの他の製造例を説明す
るための工程図である。FIG. 6 is a process chart for explaining another example of manufacturing the color filter of the present invention.
【図7】図6に示されるカラーフィルタの製造例におけ
る光触媒含有層の光照射時のマスクの状態を示す平面図
である。FIG. 7 is a plan view showing a state of a mask when irradiating the photocatalyst-containing layer with light in the example of manufacturing the color filter shown in FIG. 6;
【図8】本発明のカラーフィルタの他の製造例を説明す
るための工程図である。FIG. 8 is a process chart for explaining another example of manufacturing the color filter of the present invention.
【図9】本発明のカラーフィルタの他の製造例を説明す
るための工程図である。FIG. 9 is a process chart for explaining another example of manufacturing the color filter of the present invention.
1,11,21,31…カラーフィルタ 2,12,22,32…透明基板 3,13,23a,23b,23c,33a,33b,
33c,33d…光触媒含有層(濡れ性変化成分層) 3′,13′,23′a,23′b,33′a,33′
b…光照射部位(高親水性部位=特定の濡れ性部位) 4,14,24,34…ブラックマトリックス 5,15,25,35…着色層1, 11, 21, 31 ... color filters 2, 12, 22, 32 ... transparent substrates 3, 13, 23a, 23b, 23c, 33a, 33b,
33c, 33d: Photocatalyst containing layer (wetting property changing component layer) 3 ', 13', 23'a, 23'b, 33'a, 33 '
b: Light irradiation site (highly hydrophilic site = specific wettability site) 4, 14, 24, 34: black matrix 5, 15, 25, 35: colored layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上山 弘徳 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 2C056 EA24 FB01 2H048 BA02 BA45 BA55 BA60 BA64 BB02 BB14 BB24 BB37 BB42 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC02 FC12 LA01 LA12 LA15 LA16 4G069 AA02 AA08 BA04A BA04B BA14A BA14B BA22A BA22B BA48A BB04A BB06A BC12A BC22A BC25A BC35A BC50A BC60A BC66A BE32A BE32B CD10 EA07 EA11 ED02 FA03 FB23 FB29 4J035 BA04 BA14 CA131 CA161 CA191 CA261 EA01 LA03 LB02 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hironori Ueyama 1-1-1 Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 2C056 EA24 FB01 2H048 BA02 BA45 BA55 BA60 BA64 BB02 BB14 BB24 BB37 BB42 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC02 FC12 LA01 LA12 LA15 LA16 4G069 AA02 AA08 BA04A BA04B BA14A BA14B BA22A BA22B BA48A BB04A BB06A BC12A BC22A BC25A BC35A BC50A BC60A BC03A03 EB01 CA03A02 EB03 EB14 EB14 EB04
Claims (10)
ーンで形成された複数色からなる着色層と、各着色層の
境界部に位置する遮光層とを有し、前記着色層と前記遮
光層の少なくとも1層が、濡れ性変化成分層の特定の濡
れ性部位を介して前記透明基板上に形成されたものであ
り、前記濡れ性変化成分層は少なくともバインダーと光
触媒からなる光触媒含有層であり、前記特定の濡れ性部
位は高親水性部位であることを特徴とするカラーフィル
タ。1. A transparent substrate, comprising: a plurality of colored layers formed in a predetermined pattern on the transparent substrate; and a light-shielding layer positioned at a boundary between the colored layers. At least one of the light-shielding layers is formed on the transparent substrate through a specific wettability portion of the wettability changing component layer, and the wettability changing component layer is a photocatalyst containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst. Wherein the specific wettability site is a highly hydrophilic site.
濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ
性部位上に所定のパターンで形成された複数色からなる
着色層および各着色層の境界部に位置する遮光層とを有
し、前記濡れ性変化成分層は少なくともバインダーと光
触媒からなる光触媒含有層であり、前記特定の濡れ性部
位は高親水性部位であることを特徴とするカラーフィル
タ。2. A transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, and a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the wettability changing component layer. A layer and a light-shielding layer positioned at a boundary between the colored layers, wherein the wettability changing component layer is a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site is a highly hydrophilic site. A color filter, characterized in that:
板と、該遮光層を覆うように前記透明基板上に設けられ
た濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡
れ性部位上に所定のパターンで形成された複数色からな
る着色層とを備え、各着色層の境界部に前記遮光層が位
置し、前記濡れ性変化成分層は少なくともバインダーと
光触媒からなる光触媒含有層であり、前記特定の濡れ性
部位は高親水性部位であることを特徴とするカラーフィ
ルタ。3. A transparent substrate having a light-shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate so as to cover the light-shielding layer, and a specific wetting property of the wettability changing component layer. A colored layer of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the hydrophilic portion, wherein the light-shielding layer is located at a boundary between the colored layers, and the wettability changing component layer contains a photocatalyst comprising at least a binder and a photocatalyst. A color filter, wherein the specific wettability site is a highly hydrophilic site.
板と、該遮光層を覆うように前記透明基板上に、濡れ性
変化成分層と該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上
に所定のパターンで形成された着色層との積層体を所望
の色数分積層して備え、各着色層の境界部に前記遮光層
が位置し、前記濡れ性変化成分層は少なくともバインダ
ーと光触媒からなる光触媒含有層であり、前記特定の濡
れ性部位は高親水性部位であることを特徴とするカラー
フィルタ。4. A transparent substrate having a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer and a specific wettability portion of the wettability changing component layer on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer. A laminate of a desired number of colors and a laminate with a colored layer formed in a predetermined pattern is provided, and the light-shielding layer is located at the boundary of each colored layer, and the wettability changing component layer has at least a binder and a photocatalyst. Wherein the specific wettability site is a highly hydrophilic site.
濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ
性部位上に所定のパターンで形成された遮光層と、該遮
光層を覆うように前記濡れ性変化成分層上に、濡れ性変
化成分層と該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に
所定のパターンで形成された着色層との積層体を所望の
色数分積層して備え、各着色層の境界部に前記遮光層が
位置し、前記濡れ性変化成分層は少なくともバインダー
と光触媒からなる光触媒含有層であり、前記特定の濡れ
性部位は高親水性部位であることを特徴とするカラーフ
ィルタ。5. A transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, a light shielding layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability portion of the wettability changing component layer, and On the wettability changing component layer, a laminate of a wettability changing component layer and a colored layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the wettability changing component layer to cover the light shielding layer is desired. The light shielding layer is located at the boundary of each colored layer, the wettability changing component layer is a photocatalyst containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the specific wettability site is high. A color filter characterized by being a hydrophilic site.
ンを含有することを特徴とする請求項1乃至請求項5の
いずれかに記載のカラーフィルタ。6. The color filter according to claim 1, wherein the binder contains an organopolysiloxane.
またはアルコキシシランを含む組成物から得られるオル
ガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項6に
記載のカラーフィルタ。7. The color filter according to claim 6, wherein the organopolysiloxane is an organopolysiloxane obtained from a composition containing chloro or alkoxysilane.
シリコーンを含む組成物から得られるオルガノポリシロ
キサンであることを特徴とする請求項6に記載のカラー
フィルタ。8. The color filter according to claim 6, wherein the organopolysiloxane is an organopolysiloxane obtained from a composition containing a reactive silicone.
ロアルキル基を含有することを特徴とする請求項6乃至
請求項8のいずれかに記載のカラーフィルタ。9. The color filter according to claim 6, wherein the organopolysiloxane contains a fluoroalkyl group.
10°以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項
9のいずれかに記載のカラーフィルタ。10. The color filter according to claim 1, wherein the highly hydrophilic portion has a contact angle with water of 10 ° or less.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004273317A (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Tdk Corp | Organic el display device, manufacturing method and manufacturing device of the same |
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2001
- 2001-12-11 JP JP2001377190A patent/JP4073207B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2004273317A (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Tdk Corp | Organic el display device, manufacturing method and manufacturing device of the same |
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