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JP2002286921A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

Info

Publication number
JP2002286921A
JP2002286921A JP2001084202A JP2001084202A JP2002286921A JP 2002286921 A JP2002286921 A JP 2002286921A JP 2001084202 A JP2001084202 A JP 2001084202A JP 2001084202 A JP2001084202 A JP 2001084202A JP 2002286921 A JP2002286921 A JP 2002286921A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
liquid crystal
crystal display
display device
black matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001084202A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kaneda
吉弘 金田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Priority to JP2001084202A priority Critical patent/JP2002286921A/en
Publication of JP2002286921A publication Critical patent/JP2002286921A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device of which the lower order domain is prevented from being generated and which carries out an excellent color display by reducing projection and recession based on construction of a color filter and by increasing uniformity of liquid crystal layer thickness. SOLUTION: The liquid crystal display device is characterized by having peripheral parts of a resin black matrix 4 superposed on peripheral parts of respective color filter patterns 5a, 5b, 5c.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー画像を表示
する液晶表示装置の構造に関し、特にカラーフィルタパ
ターンおよび樹脂ブラックマトリクスを有する液晶表示
装置とその製造方法に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device for displaying a color image, and more particularly to a liquid crystal display device having a color filter pattern and a resin black matrix, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は従来技術における液晶表示装置を
構成するカラーフィルタ基板の断面図である。基板上に
樹脂ブラックマトリクス4を形成した後、レッドのカラ
ーフィルタパターン5aおよびグリーン、ブルーのカラ
ーフィルタパターン5b、5cを各々形成する。カラー
フィルタパターンを形成する際、樹脂ブラックマトリク
ス4との境界部分に隙間ができないように、カラーフィ
ルタパターンの一部を樹脂ブラックマトリクスに重ねて
形成する。その後透明電極パターン2を配置し、配向膜
3の液晶配向処理を行った基板1bと対向基板1aとの
間に液晶物質6を封入している。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a sectional view of a color filter substrate constituting a conventional liquid crystal display device. After the resin black matrix 4 is formed on the substrate, red color filter patterns 5a and green and blue color filter patterns 5b and 5c are respectively formed. When forming the color filter pattern, a part of the color filter pattern is formed so as to overlap with the resin black matrix so that no gap is formed at the boundary with the resin black matrix 4. Thereafter, the transparent electrode pattern 2 is arranged, and the liquid crystal material 6 is sealed between the substrate 1b on which the liquid crystal alignment processing of the alignment film 3 has been performed and the counter substrate 1a.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の技術による液晶
表示装置の製造方法では、表示領域の光漏れを無くすた
めの樹脂ブラックマトリクスと、3色のカラーフィルタ
パターンとを形成する際、樹脂ブラックマトリクスを基
準にして製造しているため位置ズレが起こりにくく、か
つ各カラーフィルタパターンが同一の形状であればフォ
トマスク一版で済む利点がある。しかしながら、樹脂ブ
ラックマトリクス上に重ねられたカラーフィルタパター
ン、特にグリーンのカラーフィルタパターンは樹脂ブラ
ックマトリクスに比べ、光硬化性樹脂の感度領域である
i線を透過しやすいので、感光・硬化しやすく、樹脂ブ
ラックマトリクスと重なり合ったパターン縁部が急峻な
段差を生じてしまう。また、グリーンのカラーフィルタ
パターンのみならず、レッド、ブルーのカラーフィルタ
パターンはいずれも樹脂ブラックマトリクスより、感光
・硬化しやすく、それぞれの縁部で段差構造が形成され
てしまう。
In a conventional method of manufacturing a liquid crystal display device, a resin black matrix for eliminating light leakage in a display area and a resin black matrix for forming three color filter patterns are used. Therefore, there is an advantage that positional deviation hardly occurs because each color filter pattern has the same shape. However, the color filter pattern superposed on the resin black matrix, particularly the green color filter pattern, easily transmits the i-line, which is the sensitivity region of the photocurable resin, as compared with the resin black matrix, so that it is easily exposed and cured, A pattern edge portion overlapping with the resin black matrix causes a steep step. In addition, not only the green color filter pattern but also the red and blue color filter patterns are more easily exposed and cured than the resin black matrix, and a step structure is formed at each edge.

【0004】パターン縁部が急峻になるため、対向基板
との間の液晶層の厚み変化が急激に生じる。その段差部
分を起点に、液晶の旋回角度が狙い値よりも180度減
じたことにより生じる、表示異常の低次ドメインが発生
しやすくなってしまう。またパターン縁部の急峻な側面
へは、配向処理として行われるラビング工程などの物理
的接触が不十分になるため、液晶層を制御する配向力が
低下し表示異常を発生しやすくなる。
Since the edge of the pattern becomes steep, a change in the thickness of the liquid crystal layer between the pattern substrate and the counter substrate occurs rapidly. Starting from the stepped portion, a lower-order domain of display abnormality, which is caused by the rotation angle of the liquid crystal being reduced by 180 degrees from the target value, is likely to occur. In addition, physical contact such as a rubbing step performed as an alignment process is insufficient on the steep side surface of the pattern edge, so that the alignment force for controlling the liquid crystal layer is reduced and display abnormalities are likely to occur.

【0005】また図2に示すように、液晶表示装置が反
射層7を有する反射型液晶表示装置の場合には、観察者
側から入射する光Lは、反射層7で反射し、カラーフィ
ルタパターンの急峻な段差部を通って出射されると、観
察者側ではカラーフィルタパターンの段差がより際だっ
てしまうという、表示品質上の問題点を有していた。
As shown in FIG. 2, when the liquid crystal display device is a reflection type liquid crystal display device having a reflection layer 7, light L incident from an observer side is reflected by the reflection layer 7 and is reflected by a color filter pattern. When the light is emitted through the steep step portion, there is a problem in display quality that the step of the color filter pattern becomes more prominent on the observer side.

【0006】よって、本発明は以上のカラーフィルタ構
造による凹凸を減らし、液晶層の厚みの均一性を増すこ
とにより低次ドメインの発生を防止し、かつ良好なカラ
ー表示を行う液晶表示装置を提供することを目的とす
る。
Accordingly, the present invention provides a liquid crystal display device capable of preventing the occurrence of low-order domains by reducing unevenness due to the above-described color filter structure and increasing the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer, and performing good color display. The purpose is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置は下記記載のカラーフィルタ
構造を採用する。各カラーフィルタパターンの縁部上に
樹脂ブラックマトリクスの縁部が重なっていることを特
徴とする。また、樹脂ブラックマトリクスの厚さが、カ
ラーフィルタパターンの厚さより薄いことが好ましい。
In order to achieve the above object, the liquid crystal display of the present invention employs the following color filter structure. An edge of the resin black matrix overlaps an edge of each color filter pattern. Further, it is preferable that the thickness of the resin black matrix is smaller than the thickness of the color filter pattern.

【0008】さらにカラーフィルタパターンを備える基
板側に反射層を設けた反射型液晶表示装置であることを
特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that it is a reflection type liquid crystal display device in which a reflection layer is provided on a substrate provided with a color filter pattern.

【0009】また、その製造方法は基板上に複数色のカ
ラーフィルタパターンを形成した後に、カラーフィルタ
パターンが形成されていない箇所の樹脂ブラックマトリ
クス厚さが、カラーフィルタパターンより薄くなるよう
に、カラーフィルタパターン上と基板上に樹脂ブラック
マトリクス材料を設置し、樹脂ブラックマトリクス材料
を露光して、カラーフィルタパターンの縁部上に樹脂ブ
ラックマトリクスの縁部が重なるように、カラーフィル
タパターンと樹脂ブラックマトリクスとを形成すること
を特徴としている。
Further, the manufacturing method is such that after forming a color filter pattern of a plurality of colors on a substrate, the color of the resin black matrix at a portion where the color filter pattern is not formed is smaller than that of the color filter pattern. The resin black matrix material is placed on the filter pattern and the substrate, and the resin black matrix material is exposed, and the color filter pattern and the resin black matrix are overlapped so that the edge of the resin black matrix overlaps the edge of the color filter pattern. Are formed.

【0010】[作用]図1は本発明による液晶表示装置
の断面図である。カラーフィルタ側基板1bにブルーの
カラーフィルタパターン5aおよびレッド、グリーンの
カラーフィルタパターン5b、5cを形成し、その後各
カラーフィルタパターンの縁部に重ねるように樹脂ブラ
ックマトリクス4を形成する。その後透明電極2と配向
膜3を形成し対向基板1bとの間に液晶層6を封入した
構成としている。
[Operation] FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device according to the present invention. A blue color filter pattern 5a and red and green color filter patterns 5b and 5c are formed on the color filter side substrate 1b, and then a resin black matrix 4 is formed so as to overlap the edge of each color filter pattern. Thereafter, a transparent electrode 2 and an alignment film 3 are formed, and a liquid crystal layer 6 is sealed between the transparent substrate 2 and the counter substrate 1b.

【0011】樹脂ブラックマトリクスは感光性樹脂を用
いるので、光を照射することによって硬化するが、カラ
ーフィルタパターンよりも露光されにくい。よって、露
光・硬化の工程を経ても、その縁部であるエッジはカラ
ーフィルタパターンのエッジに比べ、なだらかな形状と
なる。よって、先に記述したように、樹脂ブラックマト
リクスを形成した後に重ねてカラーフィルタパターンを
形成すると、カラーフィルタパターンは露光・硬化しや
すいため、そのエッジは切り立ち、縁部が急峻な形状と
なるが、逆にカラーフィルタパターンを形成してから
後、樹脂ブラックマトリクス重ねて形成すれば、エッジ
はなだらかとなるので、重なる箇所には急峻な段差を生
じない。特に、樹脂ブラックマトリクスの厚みをカラー
フィルタパターンより薄くすることによって、より重な
る縁部の段差を小さくすることができる。
Since the resin black matrix uses a photosensitive resin, it is cured by irradiating light, but is harder to be exposed than a color filter pattern. Therefore, even after the exposure and curing steps, the edge, which is the edge, has a gentler shape than the edge of the color filter pattern. Therefore, as described above, when the color filter pattern is formed by overlapping after forming the resin black matrix, the color filter pattern is easily exposed and cured, so that the edge is cut and the edge has a steep shape. On the contrary, if the resin black matrix is formed after forming the color filter pattern, the edge becomes gentle, so that a steep step does not occur at the overlapping portion. In particular, by making the thickness of the resin black matrix thinner than that of the color filter pattern, the step at the overlapping edge can be reduced.

【0012】カラーフィルタパターンの縁部分を樹脂ブ
ラックマトリクスで被う構造にするため、カラーフィル
タパターンの急峻な段差を減じ液晶層の厚みの急激な変
化を防止することができ、さらに凹形状部分を平坦化す
ることでラビング不足による配向不安定性を防止する。
Since the edge portion of the color filter pattern is covered with a resin black matrix, a steep step of the color filter pattern can be reduced to prevent a sudden change in the thickness of the liquid crystal layer. The planarization prevents alignment instability due to insufficient rubbing.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下本発明を実施するための最良
の形態における液晶表示装置を説明する。図3に示すよ
うにカラーフィルタを形成しようとするガラス基板1b
に、1色目のブルーのカラーフィルタ5aとなるカラー
フィルタレジスト材を滴下し、スピンコーターで一定膜
厚になるよう回転塗布する。カラーフィルタレジスト材
はアクリル系の樹脂にブルーの顔料と感光剤を分散させ
溶剤にて粘度6.5mPa・s、固形分濃度19.5%
に調整されたネガ型レジスト材で450rpm15秒の
スピンコートで膜厚1.5μmとして形成した。さらに
90℃2分の焼成にて溶剤成分を蒸発させた後ブルーの
パターンに対応するフォトマスク8aを介して紫外線露
光を行い、該当するパターンを光反応硬化させる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A liquid crystal display device according to the best mode for carrying out the present invention will be described below. As shown in FIG. 3, a glass substrate 1b on which a color filter is to be formed
Then, a color filter resist material to be the first color blue color filter 5a is dropped, and spin-coated with a spin coater to a constant film thickness. The color filter resist material is prepared by dispersing a blue pigment and a photosensitive agent in an acrylic resin, and has a viscosity of 6.5 mPa · s in a solvent and a solid concentration of 19.5%.
The negative resist material was adjusted to a film thickness of 1.5 μm by spin coating at 450 rpm for 15 seconds. Further, after evaporating the solvent component by baking at 90 ° C. for 2 minutes, ultraviolet exposure is performed through a photomask 8a corresponding to the blue pattern, and the corresponding pattern is photoreaction cured.

【0014】その後炭酸ナトリウム0.2%水溶液で、
1分浸漬し、現像を行い、余分のカラーフィルタレジス
トを除去しブルーのカラーフィルタパターン5aが図4
の様に得られる。
Then, with a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate,
After immersion for one minute and development, the excess color filter resist was removed, and the blue color filter pattern 5a was formed as shown in FIG.
It is obtained as follows.

【0015】続けて図5に示すように、2色目のカラー
フィルタパターン5bのカラーフィルタレジスト材を滴
下し、スピンコーターにて回転塗布する。カラーフィル
タレジスト材はアクリル系樹脂にレッドの顔料と感光剤
を分散させ溶剤にて粘度6.0mPa・s、固形分濃度
20.8%に調整されたもので400rpm15秒にて
膜厚1.5μmが形成される。その際カラーフィルタレ
ジスト材がガラス基板1b全面に塗布されるため、1色
目に形成されているカラーフィルタパターン5aに乗り
上げて、2色目のカラーフィルタレジスト材が0.5μ
mから0.7μmの厚みで段差を生じる。2色目のパタ
ーン位置が1色目のカラーフィルタ5aと接して形成す
る場合は、この段差の影響を受けるがフォトマスク8b
が間隔をおいて紫外線露光を行うため段差の影響を受け
ずに済む。
Subsequently, as shown in FIG. 5, a color filter resist material for the second color filter pattern 5b is dropped and spin-coated with a spin coater. The color filter resist material is prepared by dispersing a red pigment and a photosensitizer in an acrylic resin and adjusting the viscosity to 6.0 mPa · s and the solid content concentration of 20.8% with a solvent. The film thickness is 1.5 μm at 400 rpm for 15 seconds. Is formed. At this time, the color filter resist material is applied to the entire surface of the glass substrate 1b.
A step occurs at a thickness of from 0.7 m to 0.7 μm. When the pattern position of the second color is formed in contact with the color filter 5a of the first color, the photomask 8b is affected by this step.
Are exposed to ultraviolet rays at intervals, so that they are not affected by steps.

【0016】1色目同様炭酸ナトリウム0.2%水溶
液、1分浸漬で、現像を行い余分のカラーフィルタレジ
ストを除去しレッドのカラーフィルタパターン5bが図
6に示すように得られる。
As in the case of the first color, a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate is immersed for 1 minute, and development is performed to remove the excess color filter resist, and a red color filter pattern 5b is obtained as shown in FIG.

【0017】さらに図7に示すように3色目のカラーフ
ィルタ5cのカラーフィルタレジスト材を滴下しスピン
コーターにて回転塗布する。カラーフィルタレジスト材
はアクリル系樹脂にグリーンの顔料と感光剤を分散させ
溶剤にて粘度6.5mPa・s、固形分濃度19.0%
に調整されたもので450rpm15秒にて膜厚1.5
μmが形成される。2色目の工程と同様に1色目と2色
目のパターン5a、5bの上に3色目のカラーフィルタ
レジスト材が0.5μmから0.7μmの厚みで段差を
生じるが、フォトマスク8cが1、2色目のパターンと
間隔をおいて紫外線露光するため、段差の影響を受けず
に形成される。
Further, as shown in FIG. 7, a color filter resist material of the third color filter 5c is dropped and spin-coated with a spin coater. The color filter resist material is prepared by dispersing a green pigment and a photosensitive agent in an acrylic resin, and has a viscosity of 6.5 mPa · s in a solvent and a solid content of 19.0%.
The film thickness was adjusted to 1.5 at 450 rpm for 15 seconds.
μm is formed. Similarly to the process of the second color, the color filter resist material of the third color forms a step with a thickness of 0.5 μm to 0.7 μm on the patterns 5 a and 5 b of the first color and the second color. Since ultraviolet light exposure is performed at an interval from the color pattern, the film is formed without being affected by a step.

【0018】図8に示すように、炭酸ナトリウム0.2
%水溶液1分の浸漬で現像を行い、余分のカラーフィル
タレジストを除去し3色のカラーフィルタパターンが得
られる。
As shown in FIG. 8, sodium carbonate 0.2
% Aqueous solution is immersed for 1 minute to remove the excess color filter resist to obtain three color filter patterns.

【0019】次に図9に示すように樹脂ブラックマトリ
クス4のレジスト材を滴下しスピンコーターにて回転塗
布する。樹脂ブラックのレジスト材はアクリル系樹脂に
ブラックの顔料およびカーボン粒子と感光剤を分散させ
溶剤にて粘度5.6mPa・s、固形分濃度24.5%
に調整されたもので1000rpm15秒にて膜厚1.
0μmが形成される。その、際樹脂ブラックは3色のカ
ラーフィルタパターン5a、5b、5cの上に段差を発
生するが、スピンコーターの回転数がカラーフィルタパ
ターンを形成する際の回転数より高いため、乗り上げる
膜厚は0.2μm以下の段差に収まる。90℃2分の焼
成にて溶剤成分を蒸発させた後カラーフィルタパターン
5a、5b、5cとの隙間が発生しないようにフォトマ
スク8dにて紫外線露光する。
Next, as shown in FIG. 9, a resist material for the resin black matrix 4 is dropped and spin-coated with a spin coater. A resin black resist material is prepared by dispersing a black pigment and carbon particles and a photosensitive agent in an acrylic resin, and has a viscosity of 5.6 mPa · s and a solid concentration of 24.5% in a solvent.
The film thickness was adjusted at 1,000 rpm for 15 seconds.
0 μm is formed. The resin black has a step on the three color filter patterns 5a, 5b and 5c. However, since the rotation speed of the spin coater is higher than the rotation speed at the time of forming the color filter pattern, the film thickness on which the resin black rides is limited. It fits within a step of 0.2 μm or less. After evaporating the solvent component by baking at 90 ° C. for 2 minutes, the substrate is exposed to ultraviolet light with a photomask 8d so that no gap is formed between the color filter patterns 5a, 5b and 5c.

【0020】炭酸ナトリウム0.2%水溶液、1分浸漬
で現像を行い、余分の樹脂ブラックのレジスト材を除去
した後200℃90分で焼成することで図10に示す樹
脂ブラックパターン4が得られる。
A 0.2% aqueous solution of sodium carbonate is immersed in the solution for 1 minute to perform development, and an excess resin black resist material is removed, followed by baking at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a resin black pattern 4 shown in FIG. .

【0021】その後図11に示す透明電極パターン2を
形成し、配向膜3を形成することでカラーフィルタ側基
板が完成する。さらに図12に示すように、それぞれの
カラーフィルタパターンと基板1bとの間に反射層7を
設け、反射型液晶表示装置としてもよい。
Thereafter, the transparent electrode pattern 2 shown in FIG. 11 is formed, and the orientation film 3 is formed, thereby completing the color filter side substrate. Further, as shown in FIG. 12, a reflective layer 7 may be provided between each color filter pattern and the substrate 1b to form a reflective liquid crystal display device.

【0022】[0022]

【発明の効果】上記発明により形成したカラーフィルタ
および樹脂ブラックマトリクスでは、表面の凹部分が浅
くなるため、液晶配向処理として行うラビング工程での
接触が均一に行われ、配向不良の発生が無くなり、さら
にカラーフィルタパターンの縁部の急峻な傾きが減ずる
ため、液晶層の厚みの急激な変化が少なくなり、低次ド
メインの発生が防止される。また液晶層の厚みの均一性
が増すことで液晶のシャッター性能が向上し、より質の
高い液晶表示装置を提供することができる。
In the color filter and the resin black matrix formed according to the present invention, since the concave portion on the surface is shallow, the contact in the rubbing step performed as the liquid crystal alignment process is performed uniformly, and the occurrence of defective alignment is eliminated. Further, since the steep inclination of the edge portion of the color filter pattern is reduced, a sharp change in the thickness of the liquid crystal layer is reduced, and the generation of low-order domains is prevented. In addition, since the uniformity of the thickness of the liquid crystal layer is increased, the shutter performance of the liquid crystal is improved, and a higher quality liquid crystal display device can be provided.

【0023】また、反射型液晶表示装置であっても、い
ずれの箇所において、カラーフィルタパターンの厚さが
変わらないので、良好なカラー品質の反射型液晶表示装
置とすることができる。
Further, even in the case of a reflection type liquid crystal display device, the thickness of the color filter pattern does not change at any point, so that a reflection type liquid crystal display device having good color quality can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置における断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】従来例の液晶表示装置における断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【図3】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図4】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 4 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図5】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図6】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 6 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図7】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 7 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図8】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 8 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図9】本発明の液晶表示装置における製造工程を示す
断面図。
FIG. 9 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図10】本発明の液晶表示装置における製造工程を示
す断面図。
FIG. 10 is a sectional view showing a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図11】本発明の液晶表示装置における製造工程を示
す断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【図12】本発明の液晶表示装置における製造工程を示
す断面図。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process in the liquid crystal display device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 対向側基板 1b カラーフィルタ側基板 2 透明電極 3 配向膜 4 樹脂ブラックマトリクス 5a ブルーカラーフィルタパターン 5b レッドカラーフィルタパターン 5c グリーンカラーフィルタパターン 6 液晶層 7 反射膜 8a ブルーカラーフィルタパターン用フォトマスク 8b レッドカラーフィルタパターン用フォトマスク 8c グリーンカラーフィルタパターン用フォトマスク 8d 樹脂ブラックマトリクスパターン用フォトマスク 1a Opposite-side substrate 1b Color filter-side substrate 2 Transparent electrode 3 Alignment film 4 Resin black matrix 5a Blue color filter pattern 5b Red color filter pattern 5c Green color filter pattern 6 Liquid crystal layer 7 Reflective film 8a Photomask for blue color filter pattern 8b Red Photomask for color filter pattern 8c Photomask for green color filter pattern 8d Photomask for resin black matrix pattern

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カラー画像を表示するための複数色のカ
ラーフィルタパターンと各カラーフィルタパターン間に
樹脂ブラックマトリクスとを同一基板上に有する液晶表
示装置であって、前記各カラーフィルタパターンの縁部
上に前記樹脂ブラックマトリクスの縁部が重なっている
ことを特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device comprising a plurality of color filter patterns for displaying a color image and a resin black matrix between each color filter pattern on the same substrate, wherein an edge of each color filter pattern is provided. A liquid crystal display device, wherein an edge of the resin black matrix overlaps the upper portion.
【請求項2】 前記樹脂ブラックマトリクスの厚さが、
前記カラーフィルタパターンの厚さより薄いことを特徴
とする請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The resin black matrix according to claim 1, wherein
The liquid crystal display of claim 1, wherein the thickness of the color filter pattern is smaller than the thickness of the color filter pattern.
【請求項3】 前記カラーフィルタパターンを備える基
板側に反射層を設けていることを特徴とする請求項1に
記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a reflective layer is provided on a substrate provided with the color filter pattern.
【請求項4】 基板上に複数色のカラーフィルタパター
ンを形成した後に、前記カラーフィルタパターンが形成
されていない箇所の樹脂ブラックマトリクス厚さが、前
記カラーフィルタパターンより薄くなるように、前記カ
ラーフィルタパターン上と基板上とに、樹脂ブラックマ
トリクス材料を設置し、前記樹脂ブラックマトリクス材
料を露光して、前記カラーフィルタパターンの縁部上に
樹脂ブラックマトリクスの縁部が重なるように、前記カ
ラーフィルタパターンと前記樹脂ブラックマトリクスと
を形成することを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
4. After forming a color filter pattern of a plurality of colors on a substrate, the color filter is formed such that a resin black matrix at a portion where the color filter pattern is not formed is thinner than the color filter pattern. On the pattern and on the substrate, a resin black matrix material is provided, the resin black matrix material is exposed, and the color filter pattern is exposed so that the edge of the resin black matrix overlaps the edge of the color filter pattern. And a resin black matrix.
JP2001084202A 2001-03-23 2001-03-23 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same Pending JP2002286921A (en)

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