JP2002270674A - Unloading device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カセットから半導体ウェーハ等の板状物を搬
出する場合において、板状物が水平に収容されていない
場合にも板状物を損傷させることなく搬出し、全体の作
業を滞りなく行う。
【解決手段】 カセット30内に収容された板状物を搬
出する搬出装置10において、板状物を吸引保持する保
持部11と、保持部11をカセット内に挿入する屈曲ア
ーム16とを少なくとも備え、保持部11は、板状物を
支持する第一の支持部20と第二の支持部21とを有
し、第一の支持部20及び第二の支持部21には、カセ
ット30内に収容された板状物を検出する第一の検出セ
ンサー24及び第二の検出センサー25をそれぞれ配設
し、板状物が水平に収容されていない場合にはその状態
を検出し、適宜保持部11を屈曲アーム16の進退方向
を回転中心として回転させることにより確実に板状物を
保持して搬出する。
(57) [PROBLEMS] To carry out a plate-like object such as a semiconductor wafer from a cassette without damaging the plate-like object even when the plate-like object is not stored horizontally, and Work without delay. SOLUTION: An unloading device 10 for unloading a plate-like object stored in a cassette 30 includes at least a holding unit 11 for sucking and holding the plate-like object, and a bending arm 16 for inserting the holding unit 11 into the cassette. , The holding portion 11 has a first support portion 20 and a second support portion 21 for supporting the plate-like material, and the first support portion 20 and the second support portion 21 A first detection sensor 24 and a second detection sensor 25 for detecting the accommodated plate-like object are provided, respectively, and when the plate-like object is not housed horizontally, the state is detected, and a holding unit is appropriately provided. By rotating the bending arm 11 about the direction of movement of the bending arm 16 as a rotation center, the plate-shaped object is reliably held and carried out.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カセット内に収容
された半導体ウェーハ等の板状物を搬出する搬出装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an unloading device for unloading a plate-like object such as a semiconductor wafer housed in a cassette.
【0002】[0002]
【従来の技術】IC、LSI等の回路が表面に複数形成
された半導体ウェーハの裏面は、例えば図4に示す研削
装置40を用いて研削され所定の厚さとなる。2. Description of the Related Art A back surface of a semiconductor wafer having a plurality of circuits such as ICs and LSIs formed on a front surface is ground to a predetermined thickness by using, for example, a grinding device 40 shown in FIG.
【0003】この研削装置40は、研削前の半導体ウェ
ーハを収容するカセット30及び研削後の半導体ウェー
ハを収容する31と、カセット30からの半導体ウェー
ハの搬出またはカセット31への半導体ウェーハの搬入
を行う搬出装置41と、半導体ウェーハを一定の位置に
位置合わせする中心合わせテーブル42と、半導体ウェ
ーハWを搬送する第一の搬送手段43及び第二の搬送手
段44と、上部に半導体ウェーハを吸引保持する4つの
チャックテーブル45、46、47、48を備えたター
ンテーブル49と、各チャックテーブルに保持された半
導体ウェーハWを研削する研削手段50、60と、研削
後の半導体ウェーハを洗浄する洗浄手段61とを備えて
いる。The grinding device 40 carries out a cassette 30 for accommodating semiconductor wafers before grinding and a semiconductor wafer 31 for accommodating semiconductor wafers after grinding, and carries out semiconductor wafers from the cassette 30 or carries semiconductor wafers into the cassette 31. The unloading device 41, the centering table 42 for aligning the semiconductor wafer at a predetermined position, the first and second transfer means 43 and 44 for transferring the semiconductor wafer W, and the semiconductor wafer is suction-held on the upper part. A turntable 49 having four chuck tables 45, 46, 47, 48, grinding means 50, 60 for grinding the semiconductor wafer W held on each chuck table, and a cleaning means 61 for cleaning the semiconductor wafer after grinding. And
【0004】図5に示すように、カセット30には研削
前の半導体ウェーハW1、W2、・・・が複数収容され
ており、図4に示した搬出装置41によって1枚ずつピ
ックアップされて中心合わせテーブル42に載置され
る。そして中心合わせテーブル42において半導体ウェ
ーハWの位置合わせが行われた後、第一の搬送手段43
に吸着されると共に第一の搬送手段43が旋回動するこ
とによってチャックテーブル45の位置と同じ位置に位
置付けられたチャックテーブル46に半導体ウェーハW
が載置される。As shown in FIG. 5, a plurality of semiconductor wafers W1, W2,... Before grinding are accommodated in a cassette 30, and are picked up one by one by an unloading device 41 shown in FIG. It is placed on the table 42. After the alignment of the semiconductor wafer W is performed on the centering table 42, the first transfer means 43
The semiconductor wafer W is attached to the chuck table 46 located at the same position as the position of the chuck table 45 by the first transfer means 43 being swiveled while being sucked.
Is placed.
【0005】次に、ターンテーブル49が所要角度(図
示の例の場合は90度)回転してチャックテーブル46
に保持された半導体ウェーハWが研削手段50の直下に
位置付けられる。Next, the turntable 49 is rotated by a required angle (90 degrees in the illustrated example) to rotate the chuck table 46.
Is positioned immediately below the grinding means 50.
【0006】研削手段50はスライド部51と連結され
ており、垂直方向に配設されたガイドレール52にガイ
ドされてスライド部51がパルスモータ53に駆動され
上下動するのに伴って研削手段50も上下動する構成と
なっている。The grinding means 50 is connected to a slide part 51, and is guided by a guide rail 52 provided in a vertical direction. The slide part 51 is driven by a pulse motor 53 and moves up and down. Also move up and down.
【0007】また、研削手段50においては、駆動源5
4と連結され垂直方向に配設されたスピンドル55の先
端にマウンタ56を介して研削ホイール57が装着され
ており、研削ホイール57の下部には粗研削用の研削砥
石58が固着されている。そして、駆動源54に駆動さ
れてスピンドル55が回転することにより研削砥石58
が回転しながら研削手段50が下降し、回転する研削砥
石58が半導体ウェーハWの裏面に接触して当該裏面が
研削される。In the grinding means 50, the driving source 5
A grinding wheel 57 is mounted via a mounter 56 on the tip of a spindle 55 connected to the spindle 4 and disposed vertically, and a grinding wheel 58 for rough grinding is fixed to a lower portion of the grinding wheel 57. The grinding wheel 58 is driven by the drive source 54 and the spindle 55 rotates.
The grinding means 50 descends while rotating, and the rotating grinding wheel 58 contacts the back surface of the semiconductor wafer W to grind the back surface.
【0008】なおこのとき、ターンテーブル49の回転
前にチャックテーブル46が位置していた位置にはチャ
ックテーブル45が自動的に位置付けられる。そして、
カセット30から次に研削する半導体ウェーハが搬出さ
れて中心合わせテーブル42に載置され、位置合わせが
なされた後、第一の搬送手段43によってチャックテー
ブル45に搬送されて載置される。At this time, the chuck table 45 is automatically positioned at the position where the chuck table 46 was located before the rotation of the turntable 49. And
The semiconductor wafer to be ground next is unloaded from the cassette 30 and placed on the centering table 42, and after being aligned, is transported to the chuck table 45 by the first transporting means 43 and placed thereon.
【0009】チャックテーブル46に保持された半導体
ウェーハWは、粗研削の後はターンテーブル49が所要
角度回転することにより研削手段60の直下に位置付け
られ、研削手段60の研削ホイール59に配設された仕
上げ研削用の研削砥石61の作用を受けて裏面が仕上げ
研削される。一方、チャックテーブル45に保持された
半導体ウェーハは研削手段50の直下に位置付けられ、
ここで研削手段50の作用を受けて粗研削が行われる。After the rough grinding, the semiconductor wafer W held on the chuck table 46 is positioned immediately below the grinding means 60 by rotating the turntable 49 by a required angle, and is disposed on the grinding wheel 59 of the grinding means 60. The back surface is subjected to finish grinding by the action of the grinding wheel 61 for finished grinding. On the other hand, the semiconductor wafer held on the chuck table 45 is positioned immediately below the grinding means 50,
Here, rough grinding is performed under the action of the grinding means 50.
【0010】このように、カセット30から順次半導体
ウェーハが取り出され、各チャックテーブルに半導体ウ
ェーハが吸引保持されると共にターンテーブル49が間
欠回転しながら研削手段50、60の作用を受けること
により次々と半導体ウェーハの裏面が研削されていく。As described above, the semiconductor wafers are sequentially taken out of the cassette 30, the semiconductor wafers are suction-held on the respective chuck tables, and the turntable 49 is subjected to the action of the grinding means 50, 60 while intermittently rotating, thereby successively. The back surface of the semiconductor wafer is being ground.
【0011】そして、仕上げ研削が終わった半導体ウェ
ーハは、第二の搬送手段44によって洗浄手段62に搬
送され、洗浄が行われた後、搬出装置41によってカセ
ット31に収容される。こうして研削後の半導体ウェー
ハWはすべてカセット31に収容される。Then, the semiconductor wafer after the finish grinding is transported to the cleaning means 62 by the second transport means 44, and after being cleaned, is stored in the cassette 31 by the unloading device 41. Thus, all the semiconductor wafers W after the grinding are stored in the cassette 31.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】図5に示すように、カ
セット30の内部の両側には半導体ウェーハW1、W
2、・・・の端部を支持する支持溝32が複数形成され
ており、両側の対峙する支持溝32同士はそれぞれが同
じ高さに位置し、当該同じ高さにある2つの支持溝32
によって支持されるように半導体ウェーハW1、W2、
・・・をそれぞれ収容すると、個々の半導体ウェーハW
1、W2、・・・は図5のように水平な状態で支持され
る。そして、すべての半導体ウェーハWが水平な状態で
収容されていれば、カセット30からの搬出もスムーズ
かつ安全に行うことができる。As shown in FIG. 5, semiconductor wafers W1 and W
A plurality of support grooves 32 for supporting the end portions of 2,... Are formed, and the opposing support grooves 32 on both sides are respectively located at the same height, and the two support grooves 32 at the same height are formed.
Semiconductor wafers W1, W2, as supported by
Are individually accommodated, the individual semiconductor wafers W
Are supported in a horizontal state as shown in FIG. If all the semiconductor wafers W are stored in a horizontal state, the unloading from the cassette 30 can be performed smoothly and safely.
【0013】しかしながら、実際には例えば図6に示す
ように半導体ウェーハW1、W2が高さの異なる支持溝
に支持され水平になっていない状態で収容されることが
あり、このような状態の半導体ウェーハW1、W2を搬
出しようとすると、端部が支持溝32に接触して損傷す
ることがある。また、搬出の際に端部が引っかかる等し
て研削装置40における一連の作業が中断し、生産性が
低下することもある。However, in practice, for example, as shown in FIG. 6, the semiconductor wafers W1 and W2 are supported by supporting grooves having different heights and are accommodated in a state where they are not horizontal. When trying to carry out the wafers W1 and W2, the ends may come into contact with the support grooves 32 and be damaged. Further, a series of operations in the grinding device 40 may be interrupted due to the end portion being caught at the time of carrying out, and the productivity may be reduced.
【0014】従って、カセットから半導体ウェーハ等の
板状物を搬出する場合においては、板状物が水平に収容
されていない場合にも板状物を損傷させることなく搬出
し、全体の作業を滞りなく行うことに課題を有してい
る。Therefore, when a plate-like object such as a semiconductor wafer is carried out of the cassette, even if the plate-like object is not stored horizontally, the plate-like object is carried out without being damaged, and the whole work is hindered. There is a problem to do without.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、カセット内に収容された
板状物を搬出する搬出装置であって、板状物を吸引保持
する保持部と、保持部をカセット内に挿入する屈曲アー
ムとを少なくとも備え、保持部は、板状物を支持する第
一の支持部と第二の支持部とを有し、第一の支持部及び
第二の支持部には、カセット内に収容された板状物を検
出する第一の板状物検出センサー及び第二の板状物検出
センサーがそれぞれ配設される搬出装置を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION As a specific means for solving the above-mentioned problems, the present invention relates to an unloading device for unloading a plate-like object accommodated in a cassette, wherein the holding device sucks and holds the plate-like object. Part, and at least a bending arm for inserting the holding part into the cassette, the holding part has a first support part and a second support part for supporting the plate-like material, a first support part and An unloading device provided with a first plate-like object detection sensor and a second plate-like object detection sensor for detecting a plate-like object housed in a cassette is provided on the second support portion.
【0016】そしてこの搬出装置は、保持部が屈曲アー
ムの進退方向を回転中心として所要角度回転可能に構成
され、一方の板状物検出センサーが板状物を検出し他方
の板状物検出センサーが板状物を検出しない場合は、他
方の板状物検出センサーが板状物を検出するまで保持部
を回転させること、カセット内に挿入された保持部がカ
セットに対して相対的に上昇し、双方の板状物検出セン
サーが板状物の存在を確認してから板状物を吸引保持
し、カセット内から板状物を搬出すること、第一の板状
物検出センサー及び第二の板状物検出センサーは、静電
容量の変化によって板状物の存在を検出する静電検出セ
ンサーであることを付加的要件とする。In this carrying-out device, the holding portion is constituted so as to be rotatable by a required angle about the advance / retreat direction of the bending arm, and one plate detection sensor detects the plate and the other plate detection sensor If the plate does not detect the plate, rotate the holder until the other plate sensor detects the plate, and the holder inserted into the cassette rises relative to the cassette. The two plate-shaped object detection sensors confirm the presence of the plate-shaped object, suction-hold the plate-shaped object, and carry out the plate-shaped object from within the cassette, the first plate-shaped object detection sensor and the second An additional requirement is that the plate-like object detection sensor is an electrostatic detection sensor that detects the presence of a plate-like object by a change in capacitance.
【0017】このように構成される搬出装置によれば、
第一の支持部と第二の支持部にそれぞれ板状物検出セン
サーを配設し、双方の板状物検出センサーにより板状物
の存在を検出できるようにしたため、板状物が水平でな
い状態でカセット内に収容されている場合にはそれを確
認することができる。According to the carrying-out device configured as described above,
The plate-like object is not horizontal because a plate-like object detection sensor is provided on each of the first support portion and the second support portion, and the presence of the plate-like object can be detected by both plate-like object detection sensors. If it is stored in a cassette, it can be confirmed.
【0018】また、保持部は屈曲アームの進退方向を回
転中心として所要角度回転可能であり、板状物が水平で
ない状態でカセット内に収容されていて一方の板状物検
出センサーでのみしか板状物の存在を検出できない場合
は保持部を回転させることにより保持部が板状物と平行
になるようにしてからその板状物を保持してカセットか
ら搬出することができるため、板状物が水平でない状態
でカセット内に収容されている場合でも円滑に搬出を行
うことができる。Further, the holding portion is rotatable by a required angle about the direction of advance and retreat of the bending arm. If the presence of a plate-like object cannot be detected, the holding unit is rotated to make the holder parallel to the plate-like object, and then the plate-like object can be held and carried out of the cassette. Can be carried out smoothly even when the is stored in the cassette in a state where it is not horizontal.
【0019】更に、板状物検出センサーとして静電容量
センサーを用いた場合には、誤認識がなくなり、板状物
の検出を確実に行うことができる。Further, when the capacitance sensor is used as the plate-like object detection sensor, erroneous recognition is eliminated, and the plate-like object can be reliably detected.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態として図1に
示す搬出装置10を例に挙げて説明する。この搬出装置
10は、板状物を保持する保持部11と、保持部11を
進退方向であるX軸方向を中心として回転駆動する回転
駆動部12と、第一アーム13及び第二アーム14とこ
れらを連結すると共に第一アーム13を旋回動させる第
一アーム旋回動手段15とからなる屈曲アーム16と、
第二アーム14を旋回動させる第二アーム旋回動手段1
7と、屈曲アーム16を上下方向に駆動する上下動手段
18とから構成される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described by taking a carry-out device 10 shown in FIG. 1 as an example. The unloading device 10 includes a holding unit 11 that holds a plate-like object, a rotation driving unit 12 that drives the holding unit 11 to rotate about an X-axis direction that is an advancing and retreating direction, a first arm 13 and a second arm 14, A bending arm 16 comprising a first arm turning means 15 for connecting these and turning the first arm 13;
Second arm turning means 1 for turning the second arm 14
7 and a vertical moving means 18 for driving the bending arm 16 in the vertical direction.
【0021】保持部11は平面状に形成され、基部19
から第一の支持部20と第二の支持部21とが同方向に
突出した構成となっており、第一の支持部20及び第二
の支持部21の表面には、板状物を吸引保持する第一の
吸引部22及び第二の吸引部23を備えると共に、第一
の板状物検出センサー24及び第二の板状物検出センサ
ー25を備えている。The holding portion 11 is formed in a flat shape, and has a base portion 19.
, The first support portion 20 and the second support portion 21 project in the same direction, and a plate-like material is suctioned on the surfaces of the first support portion 20 and the second support portion 21. A first suction unit 22 and a second suction unit 23 to be held are provided, and a first plate-like object detection sensor 24 and a second plate-like object detection sensor 25 are provided.
【0022】保持部11の基部19の端部は、例えば回
転駆動部12の内部に備えたパルスモータに連結されて
おり、そのパルスモータに駆動されることによりX軸方
向を回転中心として回転可能となっている。The end of the base 19 of the holding unit 11 is connected to, for example, a pulse motor provided inside the rotary drive unit 12, and can be rotated about the X-axis direction by the drive of the pulse motor. It has become.
【0023】また、保持部11及び回転駆動部12は、
第一アーム旋回動手段15に駆動されて第一アーム13
が旋回動すると共に第二アーム旋回動手段17に駆動さ
れて第二アーム14が旋回動し、更に上下動手段18に
よる屈曲アーム16の上下動により所望の位置、高さに
位置付けることができる。The holding unit 11 and the rotation driving unit 12
The first arm 13 is driven by the first arm rotating means 15
Is pivoted and the second arm 14 is driven by the second arm pivoting means 17 to pivot, and the vertical movement of the bending arm 16 by the vertical movement means 18 allows the second arm 14 to be positioned at a desired position and height.
【0024】第一の板状物検出センサー24及び第二の
板状物検出センサー25としては、例えば板状物の接近
によって静電容量が変化し、その変化に基づいて板状物
の存在を検出する静電検出センサーを用いることができ
る。また、フォトカプラ等の発光素子と受光素子との組
からなるフォトセンサーを用いることもできるが、この
場合は板状物の表面輝度または散乱光によって誤認識が
生じることがあるため、このような問題がなく確実に板
状物の存在を検出することができる静電検出センサーを
用いるのが望ましい。As the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25, for example, the capacitance changes when the plate-like object approaches, and the presence of the plate-like object is determined based on the change. An electrostatic detection sensor for detecting can be used. In addition, a photosensor including a pair of a light emitting element and a light receiving element such as a photocoupler can be used, but in this case, erroneous recognition may occur due to surface luminance or scattered light of the plate-like object. It is desirable to use an electrostatic detection sensor that can reliably detect the presence of a plate-like object without any problem.
【0025】カセット30に収容された半導体ウェーハ
を搬出する際は、最下位にある半導体ウェーハから順次
搬出していき最後に最上位にある半導体ウェーハを搬出
するが、カセット30内の所望の半導体ウェーハを搬出
する場合もあるので、所望の半導体ウェーハを搬出する
場合について説明する。まず、図2(A)に示すよう
に、図1に示した上下動手段18の駆動により保持部1
1を搬出しようとする半導体ウェーハW1より少し低い
位置に水平な状態で位置付ける。When unloading the semiconductor wafers stored in the cassette 30, the semiconductor wafers are sequentially unloaded from the lowermost semiconductor wafer and finally the uppermost semiconductor wafer is unloaded. In some cases, a desired semiconductor wafer is carried out. First, as shown in FIG. 2A, the holding unit 1 is driven by the driving of the up / down moving means 18 shown in FIG.
1 is positioned horizontally below the semiconductor wafer W1 to be unloaded.
【0026】そして、図2(B)に示すように、図1に
示した第一アーム旋回動手段15及び第二アーム旋回動
手段17によって第一アーム13及び第二アーム14を
旋回動させることにより保持部11を+X方向に移動さ
せ、半導体ウェーハWの下方に進入させる。Then, as shown in FIG. 2B, the first arm 13 and the second arm 14 are turned by the first arm turning means 15 and the second arm turning means 17 shown in FIG. To move the holding portion 11 in the + X direction and to enter below the semiconductor wafer W.
【0027】次に、上下動手段18の駆動により保持部
11を上昇させることにより第一の板状物検出センサー
24と第二の板状物検出センサー25とが半導体ウェー
ハW1の存在を検出する。このとき、第一の板状物検出
センサー24と第二の板状物検出センサー25とが同時
に半導体ウェーハW1の存在を検出したときは、半導体
ウェーハW1が水平に収容されている場合である。Next, the first plate detecting sensor 24 and the second plate detecting sensor 25 detect the presence of the semiconductor wafer W1 by raising the holding portion 11 by driving the vertical moving means 18. . At this time, when the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 simultaneously detect the presence of the semiconductor wafer W1, it is the case where the semiconductor wafer W1 is stored horizontally.
【0028】このようにして第一の板状物検出センサー
24と第二の板状物検出センサー25とが同時に半導体
ウェーハW1の存在を確認したときは、図2(C)に示
すように、更に保持部11を若干上昇させることにより
保持部11の上に半導体ウェーハWを載置する。そして
次に第一の吸引部22及び第二の吸引部23によって半
導体ウェーハW1を吸引保持し、図2(D)に示すよう
に、第一アーム13及び第二アーム14を−X方向に退
避させることにより保持部11と共に半導体ウェーハW
を搬出する。When the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 simultaneously confirm the presence of the semiconductor wafer W1 in this manner, as shown in FIG. Further, the semiconductor wafer W is mounted on the holding unit 11 by slightly raising the holding unit 11. Then, the semiconductor wafer W1 is suction-held by the first suction unit 22 and the second suction unit 23, and the first arm 13 and the second arm 14 are retracted in the −X direction as shown in FIG. Then, the semiconductor wafer W is held together with the holding portion 11.
Out.
【0029】一方、第一の板状物検出センサー24と第
二の板状物検出センサー25とが同時に半導体ウェーハ
Wの存在を確認できなかったときは、図3(A)のよう
に半導体ウェーハW1が水平でない状態で収容されてい
る場合である。この場合は、第一の板状物検出センサー
24により半導体ウェーハW1の存在が確認された段階
で保持部11の上昇を止め、垂直回転駆動部12の駆動
により保持部11を屈曲アーム16の進退方向であるX
軸方向を回転中心として、双方の板状物検出センサーに
より半導体ウェーハW1の存在を確認できるまで、即ち
図3(B)に示すように保持部11と半導体ウェーハW
とが平行になるまで第二の板状物検出センサー25が上
昇する方向に回転させる。On the other hand, when the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 cannot simultaneously confirm the presence of the semiconductor wafer W, as shown in FIG. This is the case where W1 is stored in a non-horizontal state. In this case, when the presence of the semiconductor wafer W1 is confirmed by the first plate-like object detection sensor 24, the raising of the holding unit 11 is stopped, and the vertical rotation driving unit 12 drives the holding unit 11 to move the bending arm 16 forward and backward. X which is the direction
With the axial direction as the center of rotation, until the presence of the semiconductor wafer W1 can be confirmed by both plate-like object detection sensors, that is, as shown in FIG.
Are rotated in the direction in which the second plate-like object detection sensor 25 moves up until the position becomes parallel.
【0030】そして、第一の板状物検出センサー24及
び第二の板状物検出センサー25が半導体ウェーハW1
の存在を確認したときに保持部11の回転を止め、図3
(C)に示すように保持部11を上昇させて半導体ウェ
ーハW1を載置すると共に、半導体ウェーハWを吸引保
持し、第一アーム13及び第二アーム14を−X方向に
退避させることにより半導体ウェーハWを搬出する。Then, the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 are connected to the semiconductor wafer W1.
The rotation of the holding unit 11 is stopped when the existence of
As shown in (C), the semiconductor wafer W1 is placed by raising the holding unit 11, and the semiconductor wafer W is suction-held, and the first arm 13 and the second arm 14 are retracted in the -X direction. The wafer W is unloaded.
【0031】このように、半導体ウェーハが水平でない
状態で収容されている場合においても、第一の板状物検
出センサー24及び第二の板状物検出センサー25を用
いてそのような状態で収容されていることを確認し、保
持部11を回転させながら保持部11が半導体ウェーハ
と平行になった状態で当該半導体ウェーハを確実に吸引
保持して搬出することができる。As described above, even when the semiconductor wafer is accommodated in a non-horizontal state, the semiconductor wafer is accommodated in such a state by using the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25. After confirming that the semiconductor wafer has been rotated, the semiconductor wafer can be reliably suction-held and carried out while the holding unit 11 is parallel to the semiconductor wafer.
【0032】従って、従来のように半導体ウェーハの端
部がカセットの支持溝に接触して損傷したり、搬出作業
が中断して生産性が低下したりすることがない。Therefore, unlike the related art, the end of the semiconductor wafer does not come into contact with the support groove of the cassette and is damaged, and the unloading operation is not interrupted and the productivity is not reduced.
【0033】図1に示すように搬出装置10にモニター
26を接続しておけば、第一の板状物検出センサー24
または第二の板状物検出センサー25のそれぞれによる
半導体ウェーハWの存在の有無の判断の結果について
は、モニター26に表示させることができる。例えば、
第一の板状物検出センサー24と第二の板状物検出セン
サー25との判断結果が同じ場合は「OK」と表示し、
判断結果が異なる場合は「NG」と表示すれば、半導体
ウェーハが水平に収容されているかどうかをオペレータ
が容易に知ることができる。「NG」の場合には警告音
を発したりするようにしてオペレータに確実に知らせる
ようにすることが望ましい。If a monitor 26 is connected to the unloading device 10 as shown in FIG.
Alternatively, the result of the determination of the presence or absence of the semiconductor wafer W by each of the second plate-like object detection sensors 25 can be displayed on the monitor 26. For example,
When the determination results of the first plate-like object detection sensor 24 and the second plate-like object detection sensor 25 are the same, "OK" is displayed,
If the judgment result is different, "NG" is displayed, so that the operator can easily know whether or not the semiconductor wafer is stored horizontally. In the case of "NG", it is desirable to emit a warning sound so as to surely notify the operator.
【0034】なお、本実施の形態においては、半導体ウ
ェーハを搬出する場合を例に挙げて説明したが、半導体
ウェーハ以外の板状物についても本発明を適用できる。In this embodiment, the case where the semiconductor wafer is carried out has been described as an example. However, the present invention can be applied to a plate-like object other than the semiconductor wafer.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る搬出
装置によれば、第一の支持部と第二の支持部にそれぞれ
板状物検出センサーを配設し、双方の板状物検出センサ
ーにより板状物の存在を検出できるようにしたため、板
状物が水平でない状態でカセット内に収容されている場
合にはそれを確認することができ、板状物を損傷させる
ことがない。As described above, according to the unloading device according to the present invention, the plate-like object detection sensors are provided on the first support portion and the second support portion, respectively. Since the presence of the plate-like object can be detected by the sensor, when the plate-like object is stored in the cassette in a non-horizontal state, it can be confirmed, and the plate-like object is not damaged.
【0036】また、保持部は屈曲アームの進退方向を回
転中心として所要角度回転可能であり、板状物が水平で
ない状態でカセット内に収容されていて一方の板状物検
出センサーでのみしか板状物の存在を検出できない場合
は保持部を回転させることにより保持部が板状物と平行
になるようにしてからその板状物を保持してカセットか
ら搬出することができるため、板状物が水平でない状態
でカセット内に収容されている場合でも円滑に搬出を行
うことができ、生産性を阻害しない。Further, the holding portion is rotatable by a required angle about the advance / retreat direction of the bending arm, and the plate-like object is accommodated in the cassette in a non-horizontal state, and only one plate-like object detection sensor is used. If the presence of the object cannot be detected, the holding unit is rotated so that the holding unit is parallel to the plate, and the plate can be held and carried out of the cassette. Can be carried out smoothly even when the sheet is stored in a cassette in a state where it is not horizontal, and the productivity is not hindered.
【0037】更に、板状物検出センサーとして静電容量
センサーを用いた場合には、誤認識がなくなり、板状物
の検出を確実に行うことができるため、信頼性が高くな
る。Further, when a capacitance sensor is used as the plate-like object detection sensor, erroneous recognition is eliminated, and the plate-like object can be reliably detected, so that the reliability is improved.
【図1】本発明に係る搬出装置の実施の形態の一例を示
す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a carry-out device according to the present invention.
【図2】同搬出装置を用いてカセットから半導体ウェー
ハを搬出する手順を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing a procedure for unloading a semiconductor wafer from a cassette using the unloading device.
【図3】同搬出装置を用いて水平でない状態でカセット
に収容された半導体ウェーハを搬出する手順を示す説明
図である。FIG. 3 is an explanatory view showing a procedure for unloading a semiconductor wafer stored in a cassette in a non-horizontal state using the unloading device.
【図4】搬出装置が搭載される装置の一例である研削装
置を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a grinding device as an example of a device on which the unloading device is mounted.
【図5】カセットに半導体ウェーハが水平な状態で収容
された状態を示す正面図である。FIG. 5 is a front view showing a state where semiconductor wafers are stored in a cassette in a horizontal state.
【図6】カセットに半導体ウェーハが水平でない状態で
収容された状態を示す正面図である。FIG. 6 is a front view showing a state where semiconductor wafers are stored in a cassette in a non-horizontal state.
10…搬出装置 11…保持部 12…回転駆動部 13…第一アーム 14…第二アーム 15…第一アーム旋回動手段 16…屈曲アーム 17…第二アーム旋回動手段 18…上下動手段 19…基部 20…第一の支持部 21…第二の支持部 22…第一の吸引部 23…第二の吸引部 24…第一の板状物検出センサー 25…第二の板状物検出センサー 26…モニター 30、31…カセット 32…支持溝 40…研削装置 41…搬出装置 42…中心合わせテーブル 43…第一の搬送手段 44…第二の搬送手段 45、46、47、48…チャックテーブル 49…ターンテーブル 50、60…研削手段 51…スライド部 52…ガイドレール 53…パルスモータ 54…駆動源 55…スピンドル 56…マウンタ 57…研削ホイール 58…研削砥石 59…研削ホイール 61…研削砥石 62…洗浄手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Unloading device 11 ... Holding part 12 ... Rotation drive part 13 ... First arm 14 ... Second arm 15 ... First arm turning movement means 16 ... Bending arm 17 ... Second arm turning movement means 18 ... Vertical movement means 19 ... Base 20: first support 21: second support 22: first suction unit 23: second suction unit 24: first plate-like object detection sensor 25: second plate-like object detection sensor 26 ... Monitors 30, 31 ... Cassette 32 ... Support groove 40 ... Grinding device 41 ... Unloading device 42 ... Centering table 43 ... First conveying means 44 ... Second conveying means 45, 46, 47, 48 ... Chuck table 49 ... Turntable 50, 60 ... Grinding means 51 ... Slide part 52 ... Guide rail 53 ... Pulse motor 54 ... Drive source 55 ... Spindle 56 ... Mounter 57 ... Grinding wheel 58 ... Grinding grindstone 59: grinding wheel 61: grinding wheel 62: cleaning means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 FA01 FA11 FA12 FA14 FA15 GA08 GA36 GA43 GA47 JA06 JA09 JA13 JA17 JA23 JA25 LA07 MA22 MA23 PA20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5F031 CA02 FA01 FA11 FA12 FA14 FA15 GA08 GA36 GA43 GA47 JA06 JA09 JA13 JA17 JA23 JA25 LA07 MA22 MA23 PA20
Claims (4)
る搬出装置であって、 板状物を吸引保持する保持部と、該保持部をカセット内
に挿入する屈曲アームとを少なくとも備え、 該保持部は、板状物を支持する第一の支持部と第二の支
持部とを有し、該第一の支持部及び該第二の支持部に
は、該カセット内に収容された板状物を検出する第一の
板状物検出センサー及び第二の板状物検出センサーがそ
れぞれ配設される搬出装置。1. An unloading device for unloading a plate-like object stored in a cassette, comprising at least a holding unit for sucking and holding the plate-like object, and a bending arm for inserting the holding unit into the cassette. The holding portion has a first support portion and a second support portion for supporting the plate-like material, and the first support portion and the second support portion are accommodated in the cassette. An unloading device provided with a first plate-shaped object detection sensor and a second plate-shaped object detection sensor for detecting a plate-shaped object.
中心として所要角度回転可能に構成され、一方の板状物
検出センサーが板状物を検出し他方の板状物検出センサ
ーが該板状物を検出しない場合は、該他方の板状物検出
センサーが該板状物を検出するまで該保持部を回転させ
る請求項1に記載の搬出装置。2. The holding section is configured to be rotatable by a required angle about a direction in which the bending arm advances and retreats as a center of rotation. 2. The unloading device according to claim 1, wherein when the plate-shaped object is not detected, the holding unit is rotated until the other plate-shaped object detection sensor detects the plate-shaped object.
ットに対して相対的に上昇し、双方の板状物検出センサ
ーが板状物の存在を確認してから該板状物を吸引保持
し、該カセット内から該板状物を搬出する請求項1また
は2に記載の搬出装置。3. The holding portion inserted into the cassette rises relatively to the cassette, and the two plate detection sensors confirm the presence of the plate, and then hold the plate by suction. The unloading device according to claim 1, wherein the plate-like object is unloaded from the cassette.
状物検出センサーは、静電容量の変化によって板状物の
存在を検出する静電検出センサーである請求項1乃至3
に記載の搬出装置。4. The first plate-like object detection sensor and the second plate-like object detection sensor are electrostatic detection sensors that detect the presence of a plate-like object by a change in capacitance.
The unloading device according to item 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001072086A JP2002270674A (en) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | Unloading device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001072086A JP2002270674A (en) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | Unloading device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002270674A true JP2002270674A (en) | 2002-09-20 |
Family
ID=18929716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001072086A Pending JP2002270674A (en) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | Unloading device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2002270674A (en) |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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