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JP2002246494A - 半導体素子収納用パッケージ - Google Patents

半導体素子収納用パッケージ

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Publication number
JP2002246494A
JP2002246494A JP2001044033A JP2001044033A JP2002246494A JP 2002246494 A JP2002246494 A JP 2002246494A JP 2001044033 A JP2001044033 A JP 2001044033A JP 2001044033 A JP2001044033 A JP 2001044033A JP 2002246494 A JP2002246494 A JP 2002246494A
Authority
JP
Japan
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hole
lead wire
frame
input
thermoelectric cooling
Prior art date
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Application number
JP2001044033A
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English (en)
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Inventor
Emi Koiso
絵美 小磯
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Publication of JP2002246494A publication Critical patent/JP2002246494A/ja
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱電冷却素子のリード線の引っ張りに対する
強度を向上させ、さらに熱電冷却素子のリード線と入出
力端子のメタライズ配線層との接合を強固なものとし、
導通を確実なものとすることにより、半導体素子を長期
間にわたり正常かつ安定に作動させること。 【解決手段】 入出力端子3の接続部が、枠体2内側の
メタライズ配線層11の形成部内の平板部に上下面を貫
通して設けられ、かつ上面側開口から内側にかけて内寸
法が小となる段差部が形成された貫通孔3dと、貫通孔
3dの内面にメタライズ層が形成されて成り、貫通孔3
dにリード線13が挿入されろう付けされている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を収納
するための半導体素子収納用パッケージに関し、特に半
導体素子収納用パッケージに設けられる入出力端子にお
ける熱電冷却素子のリード線の接続部を改善したものに
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、マイクロ波帯やミリ波帯等の高周
波信号を用いる半導体素子を収納するための半導体素子
収納用パッケージ(以下、半導体パッケージという)を
図4〜図7に示す。これらの図において、101は基
体、102は枠体、103は入出力端子、105は蓋
体、106は半導体素子を示す。これら基体101、枠
体102、入出力端子103、蓋体105とで、半導体
素子106を半導体パッケージ内に収容する。
【0003】基体101は、半導体素子106を載置す
る載置部101aを有し、載置部101aには半導体素
子106が熱電冷却素子108を間に介して金(Au)
−シリコン(Si)ロウ材等の接着剤により接着固定さ
れるものであり、鉄(Fe)−ニッケル(Ni)−コバ
ルト(Co)合金や銅(Cu)−タングステン(W)合
金等の金属材料から成る。
【0004】枠体102は、基体101の上面に載置部
101aを囲繞するように銀ロウ等のロウ材で接合さ
れ、側部に入出力端子103を嵌着する取付部102a
が形成されたものであり、Fe−Ni−Co合金やFe
−Ni合金等の金属材料から成る。
【0005】入出力端子103は、アルミナ(Al
23),窒化アルミニウム(AlN),ムライト(3A
23・2SiO2)等のセラミックスから成り、枠体
102の内外に突出する平板部の突出部103a,10
3bと枠体102に嵌着される立壁部103cとを有し
ており、半導体パッケージの内外を導出するようにモリ
ブデン(Mo)−マンガン(Mn),タングステン
(W)等から成る金属ペーストを焼結したメタライズ配
線層111が平板部の上面に被着されて半導体素子10
6と外部電気回路基板とを電気的に接続する。
【0006】また、入出力端子103は、枠体102を
貫通してまたは切り欠いて形成された取付部102aに
銀ロウ等のロウ材で嵌着される。
【0007】その入出力端子103の熱電冷却素子10
8のリード線113の接続部は、図4,図5,図6のよ
うに、入出力端子103のメタライズ配線層111形成
部内に設けられ、平板部の上面から下面にかけて同一の
大きさに切り欠かれた貫通孔103j、切欠部103k
が形成されていることから、リード線113を正確かつ
容易に所定の位置に位置決めすることができ、その結
果、リード線113をメタライズ配線層111に正確か
つ容易に電気的に接続させることができるものが提案さ
れている(特開平8−37247号公報参照)。
【0008】リード端子114は、入出力端子103の
メタライズ配線層111に銀ロウ等のロウ材を介して接
合され、外部電気回路と入出力端子103との高周波信
号の入出力を行うものであり、Fe−Ni−Co合金等
の金属材料から成る。
【0009】シールリング104は、枠体102の上面
に銀ロウ等のロウ材で接合され入出力端子103を上方
より挟持するとともに、上面に蓋体105をシーム溶接
等により接合するための接合媒体として機能する。
【0010】また、メタライズ配線層111の枠体10
2外側には、外部電気回路との高周波信号の入出力を行
うために、導電性を有するFe−Ni−Co合金等の金
属材料から成るリード端子114が銀ロウ等のロウ材で
接合されるとともに、半導体素子106と電気的に接続
するためのボンディングワイヤー112が接合される。
【0011】そして、図7に示すように、基体101の
載置部101aに半導体素子106を熱電冷却素子10
8を間に介して接着固定し、半導体素子106の各電極
をボンディングワイヤー112を介してメタライズ配線
層111に接続するとともに、熱電冷却素子108の電
極に接続されたリード線113をメタライズ配線層11
1に半田を介して電気的に接続する。次に、枠体102
の上面に蓋体105を接合し、基体101と枠体102
と入出力端子103とシールリング104と蓋体105
とから成る容器107の内部に、半導体素子106及び
熱電冷却素子108を気密に収容する。最後に、枠体1
02の光ファイバ固定部材110に光ファイバ109の
一端を挿通させるとともに、これを半田等の接着剤やレ
ーザ溶接によって接合させ、光ファイバ109を枠体1
02に固定することによって最終製品としての半導体装
置となる。そして、この半導体装置において、光ファイ
バ109を介して内部に収容する半導体素子106と外
部との光信号の授受が可能となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平8−37247号公報に提案された半導体パッケ
ージでは、熱電冷却素子108のリード線113を半田
付けするとき、半田が溜まる範囲は入出力端子103の
平板部の上面に施したメタライズ配線層111のみであ
り、その結果リード線113が線方向の引っ張りに対す
る強度が不十分となり、リード線113が外れ易くなっ
て半導体素子106の冷却が不能になったり冷却効率が
大きく低下する場合があった。また、線方向の引っ張り
に対する強度を上げようとして、半田の体積を増やした
としても、隣接するメタライズ配線層111に半田が流
れてしまい、メタライズ配線層111間に半田ブリッジ
が発生し短絡する場合があった。
【0013】また、図6のように、入出力端子103の
平板部に切欠部103kを形成すると、半田の冷熱収縮
の際に接合部分の半田にクラックや割れ等が発生した場
合、熱電冷却素子108のリード線113が切欠部10
3kから外れて、平板部の端面から枠体102の内側へ
移動し、他の配線等と接触し電気的に短絡するという問
題点があった。
【0014】従って、本発明は上記問題点に鑑み完成さ
れたものであり、その目的は、熱電冷却素子のリード線
の線方向への引っ張りに対する強度を向上させ、さらに
そのリード線と入出力端子のメタライズ配線層との接合
を強固なものとし、導通を確実なものとすることによ
り、半導体素子を長期間にわたり正常かつ安定に作動さ
せることである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体パッケー
ジは、上面に半導体素子が熱電冷却素子を介して載置さ
れる載置部を有する基体と、該基体の上面に前記載置部
を囲繞するように取着された金属製の枠体と、該枠体を
貫通してまたは切り欠いて形成された入出力端子の取付
部と、上面の一辺側から対向する他辺側にかけて形成さ
れた複数のメタライズ配線層を有する誘電体から成る平
板部および該平板部の上面に前記複数のメタライズ配線
層を間に挟んで接合された誘電体から成る立壁部から構
成されるとともに前記枠体内側の前記メタライズ配線層
に前記熱電冷却素子のリード線の接続部を有して前記取
付部に嵌着された前記入出力端子とを具備して成り、前
記枠体の上面に蓋体が接合される半導体素子収納用パッ
ケージにおいて、前記入出力端子の前記接続部は、前記
枠体内側の前記メタライズ配線層の形成部内の前記平板
部に上下面を貫通して設けられ、かつ上面側開口から内
側にかけて内寸法が小となる段差部が形成された貫通孔
と、該貫通孔の内面に形成されたメタライズ層とから成
り、前記貫通孔に前記リード線が挿入されろう付けされ
ていることを特徴とする。
【0016】本発明は、上記の構成により、入出力端子
の接続部は、枠体内側のメタライズ配線層の形成部内の
平板部に上下面を貫通して設けられ、かつ上面側開口か
ら内側にかけて内寸法が小となる段差部が形成された貫
通孔と、貫通孔の内面に形成されたメタライズ層とから
成り、貫通孔にリード線が挿入されろう付け接続されて
いることから、貫通孔の内部に半田溜まりを設けること
ができ、半田の体積を増やして接続強度を向上させ得
る。また、組み立て作業中やろう付け後の熱収縮によ
り、リード線を下方に引っ張るような外力が加わること
が多いが、この外力に対する強度がきわめて向上し、リ
ード線の外れを解消することができる。また、ろう材の
断面積が大きくなるため、接合部の電気抵抗値を下げる
ことができ、熱電冷却素子を駆動するための電力を十分
に供給し得、熱電冷却素子及び半導体素子の動作が安定
化する。
【0017】本発明において、好ましくは、前記貫通孔
の上面側開口の幅に対する下面側開口の幅の比が0.4
〜0.9であることを特徴とする。
【0018】本発明は、上記の構成により、半田溜まり
を設け、半田の体積を増やして接続強度を大きくできる
ととともに、リード線を下方に引っ張るような外力に対
する強度がさらに高くなる。また、ろう材とメタライズ
層との接合面積がさらに増えるため、強固に熱電冷却素
子のリード線とメタライズ配線層を半田付けでき、その
結果熱電冷却素子の接続信頼性が向上し、外部からの衝
撃等で接合部が外れることがなくなる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の半導体パッケージについ
て以下に詳細に説明する。図1は本発明の半導体パッケ
ージの実施の形態を示す斜視図であり、図2,図8は図
1の入出力端子を示し、図2,図8において、(a)は
入出力端子の斜視図、(b)は貫通孔の拡大断面図、
(c)は貫通孔の他の例を示す拡大断面図である。ま
た、図3は図1に示す半導体パッケージに半導体素子を
収容したものの断面図である。
【0020】図1において、1は基体、2は枠体、3は
入出力端子、4はシールリング、5は蓋体であり、これ
らで半導体素子6を内部に収容するための容器7(図
3)が主に構成される。
【0021】図1において、1は基体であり、その上面
にはIC,LSI,半導体レーザ(LD),フォトダイ
オード(PD)等の半導体素子6が熱電冷却素子8を間
に介して載置するための載置部1aを有している。
【0022】この基体1は、Fe−Ni−Co合金やC
u−W等の金属材料や、アルミナ,窒化アルミニウム,
ムライト等のセラミックスから成り、金属材料から成る
場合、例えば、Fe−Ni−Co合金のインゴット
(塊)に圧延加工や打ち抜き加工等の従来周知の金属加
工法を施すことによって所定の形状に製作される。一
方、セラミックスから成る場合、その原料粉末に適当な
有機バインダや溶剤等を添加混合しペースト状と成すと
ともに、このペーストをドクターブレード法やカレンダ
ーロール法によってセラミックグリーンシートと成し、
しかる後セラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加
工を施し、これを複数枚積層し焼成することによって作
製される。
【0023】なお、基体1が金属材料からなる場合、そ
の表面に耐蝕性に優れかつロウ材との濡れ性に優れる金
属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と、厚さ
0.5〜5μmのAu層を順次メッキ法により被着させ
ておくのがよく、基体1が酸化腐蝕するのを有効に防止
できるとともに、基体1の上面の載置部1aに半導体素
子6を熱電冷却素子8を間に介して強固に接着固定させ
ることができる。
【0024】一方、基体1がセラミックスから成る場
合、半導体素子6を熱電冷却素子8を間に介して載置す
る載置部1aに耐蝕性に優れかつロウ材との濡れ性に優
れる金属、具体的には厚さ0.5〜9μmのNi層と、
厚さ0.5〜5μmのAu層を順次メッキ法により被着
させておくのがよく、基体1の上面の載置部1aに半導
体素子6を熱電冷却素子8を間に介して強固に接着固定
させることができる。
【0025】枠体2は、基体1上に載置部1aを囲繞す
るように取着され、Fe−Ni−Co合金やFe−Ni
合金等の金属材料から成る。例えば、Fe−Ni−Co
合金のインゴットをプレス加工により所定の枠状となす
ことによって製作される。
【0026】また、枠体2には、内部に収容する半導体
素子6との間で光信号を授受するための光ファイバ9が
挿通固定される光ファイバ固定部材10が枠体2を貫通
して銀ロウ等のロウ材を介して接合される。この光ファ
イバ固定部材10は、Fe−Ni−Co合金やFe−N
i合金等の金属から成り、例えば、Fe−Ni合金のイ
ンゴットをプレス加工することにより所定の筒状に製作
される。
【0027】また、光ファイバ固定部材10は、光ファ
イバ9を挿通可能な軸方向の貫通孔10aを有する筒体
であり、貫通孔10aに光ファイバ9の一端を挿通させ
るとともにこれを半田等の接着剤やレーザ溶接により固
定し、これにより光ファイバ9を介して内部に収容する
半導体素子6と外部との光信号の授受が可能となる。
【0028】入出力端子3は、基体1,枠体2に熱膨張
係数が近似するアルミナセラミックス等のセラミックス
から成り、枠体2の内外に突出する突出部3a,3bを
有する平板部と枠体2に嵌着される立壁部3cとから構
成され、半導体パッケージの内外を導出するようにMo
−Mn等から成る金属ペーストを焼結したメタライズ配
線層11が平板部上面に被着されて、半導体素子6と外
部電気回路基板とを電気的に接続する。
【0029】本発明の熱電冷却素子8のリード線13を
接続するための入出力端子3の平板部に設けた貫通孔3
dについて、実施の形態を図2,図8に示す。これら
は、平板部を2層構造とし、貫通孔3dの内部の内寸法
が上層側が下層側よりも大きくなるように構成したもの
である。
【0030】図2(b)において、3fは、熱電冷却素
子8のリード線13を接続するための入出力端子3の平
板部の上層部であり、3gは下層部を示す。貫通孔3d
は、内側の幅が上層部3fより下層部3gの方で小さい
階段状である。即ち、枠体2内側のメタライズ配線層1
1の形成部内の平板部に上下面を貫通して設けられ、か
つ上面側開口から内側にかけて内寸法が小となる段差部
が形成された貫通孔3dである。また、貫通孔3dの内
面にはメタライズ層を施している。この構成により、貫
通孔3dの内面に半田溜まりを容易に設けることがで
き、半田の体積を増やして接合強度を上げることができ
る。
【0031】なお、貫通孔3dの内側の幅は最大幅を示
すものであり、貫通孔3dの断面が円形の場合内側の直
径に相当する。
【0032】本発明では、貫通孔3dの上面側開口の幅
W1に対する下面側開口の幅W2の比が0.4〜0.9
であることが好ましい。0.4未満になると、貫通孔3
dの下面側開口の幅W2が小さくなることにより、リー
ド線13を貫通孔3d内に挿入させるのが困難になった
り、また下層部3gの半田溜まり量が少なくなることか
らリード線13を上方に突き上げるような外力に対する
強度が低下し易くなる。さらに、上層部3fと下層部3
gとの半田の体積比が大きく異なることにより、半田の
冷熱収縮の際に段差部の角部を起点としてクラックや割
れ等が発生し、リード線13の接合強度が低下し外れ易
くなる。また0.9を超えると、貫通孔3dの内部の段
差部に半田溜まりを設ける部分が少なくなり、半田の体
積を増やすことができず、接続強度を向上させることが
困難となる。
【0033】貫通孔3dの内部の上層部3fの深さは、
貫通孔3dの全体の深さの1/3以上がよく、この場合
半田溜りを大きくして接合強度を大きくすることができ
る。より好ましくは、上層部3fの深さは貫通孔3dの
全体の深さの1/2以下がよい。
【0034】さらに、図2(c)に示す構成とすること
もできる。同図において、3f′はリード線13を接続
するための入出力端子3の平板部の上層部、3g′は下
層部を示し、上層部3f′より下層部3g′の方が小さ
い階段状であり、上層部3f′がさらに2段以上の階段
状になっており、貫通孔3d′の内面にはメタライズ層
を施した構成である。これにより、貫通孔3d′の内面
に半田溜まりをより多く設けることができ、半田の体積
を増やして強度を上げることができる。また、リード線
13をメタライズ配線層11にロウ付け接合する際に発
生する応力は、上層部3f′の2段以上の階段状の貫通
孔部分で分散されて小さいものとなり、割れやクラック
を大幅に減少できる。
【0035】また、図8(b)に示す構成とすることも
できる。同図において、3hはリード線13を接続する
ための入出力端子3の平板部の上層部、3iは下層部で
あり、上層部3hとその上層部3hより内寸法が小さい
直線状の下層部3iとから成り、上層部3hの幅は上面
側開口の幅W3よりも下端側の幅W4が大きいこと、例
えば上層部3hの側断面形状が上方から下方に向かって
広がる台形になっているのが好ましい。この場合、上層
部3hの側面で囲まれる立体形状は半円錐台、角錐台等
の錐台状となる。また、貫通孔3eの内面にはメタライ
ズ層を施している。これにより、リード線13に上方向
の引っ張り力または押し上げ力が加わった場合にも、上
層部3hの傾斜した側面が引っ掛かりの機能を発揮し、
引っ張り力または押し上げ力に対する強度を上げること
ができる。
【0036】さらに、図8(c)の構成とすることもで
きる。同図において、3h′はリード線13を接続する
ための入出力端子3の平板部の上層部、3i′は下層部
であり、上層部3h′の側断面形状が上層から下層に向
かって広がる台形等の錐台状になっていて、さらに上層
部3h′の側断面形状が2段以上の台形になっているこ
とが好ましく、それらの台形の側辺の傾斜角θは同じ角
度であることが好ましい。そして、貫通孔3e′の内面
にはメタライズ層を施している。これにより、リード線
13に上方向の引っ張り力または押し上げ力が加わった
場合に、上層部3h′の側面が引っ掛かりの機能を発揮
し、引っ張り力または押し上げ力に対する強度をさらに
上げることができる。また、リード線13をメタライズ
配線層11にロウ付けする際に発生する応力は、上層部
3h′の2段以上の台形の貫通孔部分で分散されて小さ
いものとなり、割れやクラックを大幅に減少できる。
【0037】さらに、台形の側辺の傾斜角θ、即ち段差
部の上部の側面と平板部の上面とのなす角度θは、45
〜80°の範囲とすることが好ましく、45°未満の場
合、上層部3h′の側面が入出力端子3を製造する際の
セラミック積層工程にて撓んで変形して作製が困難とな
り、また80°を超える場合、リード線13を上方向に
引っ張る力または押し上げ力に対して、上層部3h′の
側面での引っ掛かりの機能を十分に発揮しないという不
具合が生じ易くなる。
【0038】メタライズ層の被覆面積は、図2,図8の
貫通孔3d,3eの内面に対して20%以上が好まし
い。メタライズ層の被覆範囲としては、貫通孔3d,3
eの内面全体に対して、一部分に偏って被覆されている
のではなく、全体的に均一に被覆されている方がリード
線13の引っ張り力または押し上げ力に対する強度は向
上する。また、20%未満になると、半田溜まりの形成
が困難になり、リード線13の引っ張り強度が低下する
不具合を生じ易い。
【0039】なお、貫通孔3d,3eは、入出力端子3
の平板部となるセラミックグリーンシートに予め所定形
状に打ち抜き加工を施すことによって、熱電冷却素子6
の電極と接続されたリード線13が半田付けされる入出
力端子3の部位に形成される。
【0040】また、入出力端子3は、枠体2を貫通して
または切り欠いて形成された取付部2aに銀ロウ等のロ
ウ材で嵌着される。
【0041】リード端子14は、入出力端子3のメタラ
イズ配線層11の枠体2外側に銀ロウ等のロウ材を介し
て接合され、外部電気回路と入出力端子3との高周波信
号の入出力を行うものであり、Fe−Ni−Co合金等
の金属材料から成る。その金属のインゴットを従来周知
の圧延加工法や打ち抜き加工法、エッチング加工法等の
金属加工法を採用することによって、所定の棒状となす
ように製作される。
【0042】シールリング4は、枠体2の上面に銀ロウ
等のロウ材で接合され入出力端子3を上方より挟持する
とともに、上面に蓋体5をシーム溶接等により接合する
ための接合媒体として機能し、Fe−Ni−Co合金等
の金属から成る。
【0043】また、メタライズ配線層11には、外部電
気回路との高周波信号の入出力を行うために、導電性を
有するFe−Ni−Co合金等の金属材料から成るリー
ド端子14が銀ロウ等のロウ材で接合されるとともに、
枠体2内側において半導体素子6と電気的に接続するた
めのボンディングワイヤー12が接合される。
【0044】そして、図3に示すように、基体1の載置
部1aに半導体素子6を熱電冷却素子8を間に介して接
着固定させ、半導体素子6の各電極をボンディングワイ
ヤー12を介してメタライズ配線層11に接続させると
ともに、熱電冷却素子8の電極に接続されたリード線1
3をメタライズ配線層11に半田を介して電気的に接続
し、次に枠体2の上面に蓋体5を接合させ、基体1と枠
体2と入出力端子3とシールリング4と蓋体5とから成
る容器7内部に半導体素子6及び熱電冷却素子8を気密
に収容し、最後に枠体2の光ファイバ固定部材10に光
ファイバ9の一端を挿通させるとともにこれを半田等の
接着剤やレーザ溶接によって接合させ、光ファイバ9を
枠体2に固定することによって、最終製品としての半導
体装置となる。そして、光ファイバ9を介して内部に収
容する半導体素子6と外部との光信号の授受、送受が可
能となる。
【0045】かくして、本発明は、入出力端子のリード
線の接続部が、枠体内側のメタライズ配線層の形成部内
の平板部に上下面を貫通して設けられ、かつ上面側開口
から内側にかけて内寸法が小となる段差部が形成された
貫通孔と、この貫通孔の内面に形成されたメタライズ層
とから成り、貫通孔にリード線が挿入されろう付け接続
されていることから、貫通孔の内部に半田溜まりを設け
ることができ、半田の体積を増やして接続強度を向上さ
せ得る。また、組み立て作業中やろう付け後の熱収縮に
より、リード線を下方に引っ張るような外力が加わるこ
とが多いが、この外力に対する強度がきわめて向上し、
リード線の外れを解消することができる。また、ろう材
の断面積が大きくなるため、接合部の電気抵抗値を下げ
ることができ、熱電冷却素子を駆動するための電力を十
分に供給し得、熱電冷却素子及び半導体素子の動作が安
定化する。
【0046】また、本発明によれば、半田溜まりを設
け、半田の体積を増やして接続強度を大きくできるとと
ともに、リード線を下方に引っ張るような外力に対する
強度がさらに高くなる。また、ろう材とメタライズ層と
の接合面積がさらに増えるため、強固に熱電冷却素子の
リード線とメタライズ配線層を半田付けでき、その結果
熱電冷却素子の接続信頼性が向上し、外部からの衝撃等
で接合部が外れることがなくなる。
【0047】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で
あれば種々の変更は可能である。例えば、下層部3g
{図2(b)}がさらに2段以上の階段状であってもよ
く、貫通孔3dの内面にはメタライズ層が施されている
構成であってもよい。この構成により、貫通孔3dの内
面に半田溜まりをより多く設けることができるため、半
田の体積を増やして強度を上げることができる。また、
熱電冷却素子8のリード線13をメタライズ配線層11
にロウ付け接合する際に発生する応力は、下層部3gの
2段以上の階段状の貫通孔分で分散されてさらに小さい
ものとなり、割れやクラックを大幅に減少できる。
【0048】また、上記実施の形態においては、リード
線を貫通孔に挿入しろう付けする構成について説明した
が、リード線の代わりにピン等の棒状の接続端子を用い
ても本発明と同様の作用効果が得られる。従って、本発
明においては、棒状または線状の接続端子を用いた構成
であれば本発明の作用効果を奏することとなる。
【0049】
【発明の効果】本発明は、入出力端子の接続部が、枠体
内側のメタライズ配線層の形成部内の平板部に上下面を
貫通して設けられ、かつ上面側開口から内側にかけて内
寸法が小となる段差部が形成された貫通孔と、貫通孔の
内面に形成されたメタライズ層とから成り、貫通孔にリ
ード線が挿入されろう付けされていることにより、貫通
孔の内部に半田溜まりを設けることができ、半田の体積
を増やして接続強度を向上させ得る。また、組み立て作
業中やろう付け後の熱収縮により、リード線を下方に引
っ張るような外力が加わることが多いが、この外力に対
する強度がきわめて向上し、リード線の外れを解消する
ことができる。また、ろう材の断面積が大きくなるた
め、接合部の電気抵抗値を下げることができ、熱電冷却
素子を駆動するための電力を十分に供給し得、熱電冷却
素子及び半導体素子の動作が安定化する。
【0050】また本発明は、好ましくは貫通孔の上面側
開口の幅に対する下面側開口の幅の比が0.4〜0.9
であることにより、半田溜まりを設け、半田の体積を増
やして接続強度を大きくできるととともに、リード線を
下方に引っ張るような外力に対する強度がさらに高くな
る。また、ろう材とメタライズ層との接合面積がさらに
増えるため、強固に熱電冷却素子のリード線とメタライ
ズ配線層を半田付けでき、その結果熱電冷却素子の接続
信頼性が向上し、外部からの衝撃等で接合部が外れるこ
とがなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体パッケージについて実施の形態
の例を示す斜視図である。
【図2】図1の半導体パッケージにおける入出力端子の
実施の形態の例を示し、(a)は入出力端子の斜視図、
(b)は入出力端子の貫通孔の拡大断面図、(c)は貫
通孔の他の例を示す拡大断面図である。
【図3】図1の半導体パッケージに半導体素子を収容し
た構成を示す断面図である。
【図4】従来の半導体パッケージの斜視図である。
【図5】図4の半導体パッケージにおける入出力端子を
示し、(a)は入出力端子の斜視図、(b)は入出力端
子の貫通孔の拡大断面図である。
【図6】従来の半導体パッケージの他の例を示す斜視図
である。
【図7】図4の半導体パッケージに半導体素子を収容し
た構成を示す断面図である。
【図8】図1の半導体パッケージにおける入出力端子の
実施の形態の他の例を示し、(a)は入出力端子の斜視
図、(b)は入出力端子の貫通孔の拡大断面図、(c)
は貫通孔の他の例を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
1:基体 1a:載置部 2:枠体 2a:取付部 3:入出力端子 3d:貫通孔 3f:上層部 3g:下層部 5:蓋体 6:半導体素子 8:熱電冷却素子 11:メタライズ配線層 13:リード線

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上面に半導体素子が熱電冷却素子を介し
    て載置される載置部を有する基体と、該基体の上面に前
    記載置部を囲繞するように取着された金属製の枠体と、
    該枠体を貫通してまたは切り欠いて形成された入出力端
    子の取付部と、上面の一辺側から対向する他辺側にかけ
    て形成された複数のメタライズ配線層を有する誘電体か
    ら成る平板部および該平板部の上面に前記複数のメタラ
    イズ配線層を間に挟んで接合された誘電体から成る立壁
    部から構成されるとともに前記枠体内側の前記メタライ
    ズ配線層に前記熱電冷却素子のリード線の接続部を有し
    て前記取付部に嵌着された前記入出力端子とを具備して
    成り、前記枠体の上面に蓋体が接合される半導体素子収
    納用パッケージにおいて、前記入出力端子の前記接続部
    は、前記枠体内側の前記メタライズ配線層の形成部内の
    前記平板部に上下面を貫通して設けられ、かつ上面側開
    口から内側にかけて内寸法が小となる段差部が形成され
    た貫通孔と、該貫通孔の内面に形成されたメタライズ層
    とから成り、前記貫通孔に前記リード線が挿入されろう
    付けされていることを特徴とする半導体素子収納用パッ
    ケージ。
  2. 【請求項2】 前記貫通孔の上面側開口の幅に対する下
    面側開口の幅の比が0.4〜0.9であることを特徴と
    する請求項1記載の半導体素子収納用パッケージ。
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