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JP2002228868A - Manufacturing method of photonic crystal waveguide - Google Patents

Manufacturing method of photonic crystal waveguide

Info

Publication number
JP2002228868A
JP2002228868A JP2001026403A JP2001026403A JP2002228868A JP 2002228868 A JP2002228868 A JP 2002228868A JP 2001026403 A JP2001026403 A JP 2001026403A JP 2001026403 A JP2001026403 A JP 2001026403A JP 2002228868 A JP2002228868 A JP 2002228868A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
rod
rod material
photonic crystal
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001026403A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Tanaka
正俊 田中
Tetsuya Yamamoto
哲也 山本
Moriyuki Fujita
盛行 藤田
Masataka Nakazawa
正隆 中沢
Hirokazu Kubota
寛和 久保田
Satoki Kawanishi
悟基 川西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Cable Industries Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Mitsubishi Cable Industries Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Cable Industries Ltd, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Mitsubishi Cable Industries Ltd
Priority to JP2001026403A priority Critical patent/JP2002228868A/en
Publication of JP2002228868A publication Critical patent/JP2002228868A/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一構造の導波路を大量生産する場合でも、
製造コストが低く且つ各導波路毎の特性のバラツキが小
さいフォトニッククリスタル導波路の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 中実の第1ロッド材2,2,…と屈折率
が相互に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材
3,3,…とをそれぞれ複数本ずつ準備し、複数本の第
1ロッド材2,2,…及び複数本の第2ロッド材3,
3,…を束端面に第1ロッド材2,2,…によって所定
の導波路パターンを形成し且つ第2ロッド材3,3,…
の内側部によって所定の格子パターンを形成するように
束ねてロッド材束4を作製した後、そのロッド材束4を
加熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、その
繊維状体を所定厚さにスライスすることによりフォトニ
ッククリスタル導波路を製造する。
(57) [Abstract] [Problem] Even when mass-producing waveguides having the same structure,
Provided is a method for manufacturing a photonic crystal waveguide having a low manufacturing cost and a small variation in characteristics of each waveguide. A plurality of solid first rod members (2, 2,...) And a plurality of second rod members (3, 3,...) Having inner and outer portions having different refractive indices are prepared. , And a plurality of second rod members 3,
Are formed on the bundle end face by the first rod members 2, 2,... And the second rod members 3, 3,.
After bundling the rod material bundle 4 so as to form a predetermined lattice pattern by the inner portion of the rod material, the rod material bundle 4 is thinned by heating and stretching to produce a fibrous body, and the fibrous body is formed. A photonic crystal waveguide is manufactured by slicing to a predetermined thickness.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトニッククリ
スタル導波路(以下「PC(photonic crystal)導波
路」と称する)の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a photonic crystal waveguide (hereinafter referred to as "PC (photonic crystal) waveguide").

【0002】[0002]

【従来の技術】PC導波路は、図9(a)に示すように
基板a上に多数の誘電体ピラーb,b,…を規則的に配
設することにより又は図9(b)に示すようにガラス板
cに多数のエアロッドd,d,…を規則的に配設するこ
とにより形成された二次元的に屈折率が周期的に変動す
るフォトニッククリスタル構造の領域と、そのフォトニ
ッククリスタル構造領域により囲われた欠陥列により形
成された光導波領域とを有し、光導波領域に入射された
光のうちフォトニッククリスタル構造領域によって閉じ
込められた波長のものだけを伝搬して出力し、光の急激
な曲げを可能とするデバイスとして知られている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 9A, a PC waveguide is formed by regularly arranging a large number of dielectric pillars b on a substrate a as shown in FIG. A region having a photonic crystal structure in which a refractive index periodically changes in two dimensions formed by regularly arranging a large number of air rods d, d,. Having an optical waveguide region formed by a defect array surrounded by the structural region, and propagating and outputting only those having a wavelength confined by the photonic crystal structure region among the light incident on the optical waveguide region, It is known as a device that enables sharp bending of light.

【0003】例えば、図9(b)に示すエアロッドタイ
プのPC導波路としては、図10(a)又は(b)に示
すようにエアロッドで構成されたフォトニッククリスタ
ル構造の領域により囲まれて形成されたT分岐型又はY
分岐型の光導波領域を有する光を2つに分けるデバイ
ス、図10(c)及び(d)に示すようにX字状の光導
波領域を有する結合器、図10(e)及び(f)に示す
ような構成の共振器等がある。
For example, a PC waveguide of the air rod type shown in FIG. 9B is surrounded by a region having a photonic crystal structure constituted by an air rod as shown in FIG. 10A or 10B. Formed T-branch or Y
A device for splitting light having a branch type optical waveguide region into two, a coupler having an X-shaped optical waveguide region as shown in FIGS. 10 (c) and (d), and FIGS. 10 (e) and (f). And the like.

【0004】また、かかるPC導波路の機能は、そのフ
ォトニククリスタル構造によって異なるものであり、例
えば、図11(a)に示すように正方格子を形成するよ
うにエアロッドが配設された構造のもの、図11(b)
に示すように三角格子を形成するようにエアロッドが配
設された構造のもの、図11(c)に示すようにハニカ
ム格子を形成するようにエアロッドが配設された構造の
ものがある。
The function of such a PC waveguide depends on its photonic crystal structure. For example, as shown in FIG. 11 (a), the PC waveguide has a structure in which air rods are arranged so as to form a square lattice. Thing, FIG. 11 (b)
As shown in FIG. 11, there is a structure in which air rods are arranged so as to form a triangular lattice, and as shown in FIG. 11C, a structure in which air rods are arranged so as to form a honeycomb lattice.

【0005】そして、このようなエアロッドタイプのP
C導波路は、図12(a)に示すように基板e上に石英
(SiO2)層fを設けると共にその表面にレジストg
を塗布し、図12(b)に示すように周期的なパターン
による電子線を露光した後、図12(c)に示すように
現像を行い(電子ビームリソグラフィ)、図12(d)
に示すように反応性イオンエッチングにより石英(Si
2)層fの露出部分にエアロッドh,h,…を形成
し、最後に図12(e)に示すようにレジストgを除去
することにより製造される。
The air rod type P
The C waveguide has a quartz (SiO 2 ) layer f provided on a substrate e as shown in FIG.
Is applied, and after exposure to an electron beam in a periodic pattern as shown in FIG. 12B, development is performed as shown in FIG. 12C (electron beam lithography), and FIG.
As shown in the figure, quartz (Si
Are formed by forming air rods h, h,... On exposed portions of the O 2 ) layer f, and finally removing the resist g as shown in FIG.

【0006】ところが、この方法では、直径がサブミク
ロンであるエアロッドを高精度に加工することが困難で
あり、例えば、エアロッドの直径が上部と下部とで異な
ってしまうと、フォトニッククリスタル構造が所定の機
能を果たさないものとなってしまう。
However, in this method, it is difficult to process an air rod having a diameter of submicron with high precision. For example, if the diameter of the air rod differs between the upper part and the lower part, the photonic crystal structure may have a predetermined shape. It does not fulfill the function of.

【0007】これに対し、特開平11−218627号
公報には、PC導波路の製造方法として、基板上に下部
クラッド層、コア層及び上部クラッド層からなるスラブ
光導波路を作製した後、電子ビーム、SOR(synchrot
ron orbital radiation)光、紫外線及び近赤外線のう
ちのいずれかを上部クラッド層を通してコア層に選択的
に照射し、光誘起効果による屈折率変化を生じさせるこ
とにより格子配列状の高屈折領域を形成してフォトニッ
ククリスタル構造を構成するものが開示されており、か
かる構成により、高精度寸法でかつ深さ方向での各部の
寸法が均一な屈折率変化領域(フォトニッククリスタル
構造領域)を製造することができる、と記載されてい
る。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-218627 discloses a method for manufacturing a PC waveguide in which a slab optical waveguide comprising a lower clad layer, a core layer and an upper clad layer is formed on a substrate, and then an electron beam is formed. , SOR (synchrot
(ron orbital radiation) Selectively irradiate the core layer with any one of light, ultraviolet light and near-infrared light through the upper cladding layer, and change the refractive index by the photo-induced effect to form a high-refractive region in a lattice array. A photonic crystal structure is disclosed in which a refractive index change region (photonic crystal structure region) having high precision dimensions and uniform dimensions of each part in the depth direction is manufactured. It is described that it is possible.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
いずれのPC導波路の製造方法も、PC導波路毎の製造
となるため、同一構造のPC導波路を大量生産する場
合、製造コストが高くなると共にPC導波路毎の特性の
バラツキが発生しやすいという問題がある。
However, in any of the above-described methods for manufacturing a PC waveguide, manufacturing is performed for each PC waveguide. Therefore, when mass-producing PC waveguides having the same structure, the manufacturing cost increases. In addition, there is a problem that the characteristics of the PC waveguides tend to vary.

【0009】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、同一構造のPC導波
路を大量生産する場合でも、製造コストが低く且つPC
導波路毎の特性のバラツキが小さいPC導波路の製造方
法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the foregoing, and has as its object to reduce the manufacturing cost and reduce the PC cost even when mass-producing a PC waveguide having the same structure.
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a PC waveguide in which variations in characteristics of each waveguide are small.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、中実の第1ロ
ッド材と屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有す
る第2ロッド材とをそれぞれ複数本ずつ準備し、束端面
に第1ロッド材によって所定の導波路パターンを形成し
且つ第2ロッド材の内側部によって所定の格子パターン
を形成するように第1ロッド材及び第2ロッド材を束ね
てロッド材束を作製した後、そのロッド材束を線引き加
工により細径化して繊維状体を作製し、その繊維状体を
所定厚さにスライスすることでPC導波路を製造するよ
うにしたものである。
According to the present invention, a plurality of solid first rod members and a plurality of second rod members each having an inner portion and an outer portion having mutually different refractive indices are prepared and provided on the bundle end surface. After a first rod material and a second rod material are bundled to form a predetermined waveguide pattern by the first rod material and a predetermined lattice pattern by an inner portion of the second rod material, to produce a rod material bundle The rod bundle is made thin by wire drawing to produce a fibrous body, and the fibrous body is sliced to a predetermined thickness to produce a PC waveguide.

【0011】具体的には、本発明は、PC導波路の製造
方法であって、中実の第1ロッド材と、屈折率が相互に
異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材と、をそ
れぞれ複数本ずつ準備し、上記複数本の第1ロッド材及
び複数本の第2ロッド材を、束端面に該第1ロッド材に
よって所定の導波路パターンを形成し且つ該第2ロッド
材の内側部によって所定の格子パターンを形成するよう
に束ねてロッド材束を作製した後、上記ロッド材束を加
熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、上記繊
維状体を所定厚さにスライスすることでフォトニックク
リスタル導波路を製造する、ことを特徴とする。
Specifically, the present invention is a method of manufacturing a PC waveguide, comprising: a first solid rod material; a second rod material having inner and outer portions having different refractive indices from each other; A plurality of the first rod members and a plurality of the second rod members are formed by forming a predetermined waveguide pattern on the bundle end surface with the first rod members, and After bundling a rod material bundle by forming a predetermined lattice pattern by the inner portion, the rod material bundle is reduced in diameter by heating and stretching to produce a fibrous body, and the fibrous body is formed to a predetermined thickness. A photonic crystal waveguide is manufactured by slicing the substrate.

【0012】上記の構成によれば、第1ロッド材と第2
ロッド材とによって構成されたロッド材束を加熱延伸加
工することにより繊維状体とし、その繊維状体を数μm
〜数十μmの厚さにスライスすることによりPC導波路
が製造されることとなり、繊維状体が1mもあれば数千
個〜数万個もの大量の同一構造のPC導波路を得ること
ができることとなるので、PC導波路毎に製造する場合
に比べて生産性が良好になると共に製造コストが極めて
低くなる。しかも、プリフォームを線引き加工して得ら
れる光ファイバと同様に、加熱延伸加工により得られる
繊維状体は数メートル単位では構造の差が極めて微少と
なるので、同じ繊維状体をスライスして得られるPC導
波路毎の特性のバラツキは極めて小さくなる。
According to the above configuration, the first rod member and the second rod member
The rod material bundle constituted by the rod material is heated and drawn to form a fibrous body, and the fibrous body is several μm
The PC waveguide is manufactured by slicing to a thickness of 〜 to several tens of μm. If the fibrous body has a length of 1 m, it is possible to obtain a large number of PC waveguides having the same structure in the number of thousands to tens of thousands. As a result, the productivity is improved and the manufacturing cost is extremely reduced as compared with the case where each PC waveguide is manufactured. Moreover, similar to an optical fiber obtained by drawing a preform, the difference in structure of a fibrous body obtained by heating and drawing is extremely small in units of several meters. The variation in the characteristics of each PC waveguide is extremely small.

【0013】ここで、第2ロッド材の構成としては、内
側部及び外側部のいずれか一方が屈折率を高める成分で
あるゲルマニウム(Ge)を添加した石英(SiO2
で形成され且つ他方が純粋な(SiO2)で形成された
ロッド材、内側部及び外側部のいずれか一方が屈折率を
低下させる成分であるフッ素(F)やホウ素(B)を添
加した石英(SiO2)で形成され且つ他方が純粋な石
英(SiO2)で形成されたロッド材、内側部及び外側
部のいずれか一方がゲルマニウム(Ge)を添加した石
英(SiO2)で形成され且つ他方がフッ素(F)やホ
ウ素(B)を添加した石英(SiO2)で形成されたロ
ッド材、外側部がゲルマニウム(Ge)を添加した石英
(SiO2)、フッ素(F)やホウ素(B)を添加した
石英(SiO2)及び純粋な石英(SiO2)のうちのい
ずれかで形成され且つ内側部が空孔に形成されたキャピ
ラリ等、屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有す
るものであれば特に限定されるものではない。また、第
1ロッド材の屈折率と、第2ロッド材の内側部及び外側
部のそれぞれの屈折率とは独立した関係にあり、3者共
相互に異なる屈折率を有していてもよく、第1ロッド材
と第2ロッド材の内側部又は外側部とが同一の屈折率を
有していてもよい。さらに、第2ロッド材の内側部の横
断面外郭形状は、円形、楕円形等、特に限定されるもの
ではない。
Here, as a configuration of the second rod material, quartz (SiO 2 ) to which germanium (Ge) which is a component for increasing the refractive index is added to one of the inner portion and the outer portion.
And a rod material made of pure (SiO 2 ), and one of the inner part and the outer part added with fluorine (F) or boron (B) which is a component for lowering the refractive index. rod material formed by formed by (SiO 2) and the other is pure silica (SiO 2), one of the inner portion and the outer portion is formed with a germanium (Ge) silica was added (SiO 2) and The other is a rod material formed of quartz (SiO 2 ) to which fluorine (F) or boron (B) is added, and the outer portion is quartz (SiO 2 ) to which germanium (Ge) is added, or fluorine (F) or boron (B). ) Is added to quartz (SiO 2 ) or pure quartz (SiO 2 ). If you have The present invention is not limited to. Further, the refractive index of the first rod material and the respective refractive indexes of the inner portion and the outer portion of the second rod material are independent, and the three members may have mutually different refractive indexes. The inner part or the outer part of the first rod material and the second rod material may have the same refractive index. Further, the outer shape of the cross section of the inner portion of the second rod member is not particularly limited, such as a circle or an ellipse.

【0014】また、導波路パターンとしては、特に限定
されるものではなく、Y分岐型、T分岐型等を挙げるこ
とができる。
The waveguide pattern is not particularly limited, and may be a Y-branch type, a T-branch type, or the like.

【0015】さらに、格子パターンとしては、線引き加
工後にフォトニッククリスタル構造を構成するものであ
れば特に限定されるものではなく、三角格子、立方格
子、ハニカム格子等を挙げることができる。
The lattice pattern is not particularly limited as long as it constitutes a photonic crystal structure after drawing, and examples thereof include a triangular lattice, a cubic lattice, and a honeycomb lattice.

【0016】また、第1ロッド材及び第2ロッド材を筒
状のサポート管内に充填してロッド材束を形成するよう
にしてもよい。かかる構成によれば、両ロッド材がサポ
ート管によって拘束されることとなるので、各ロッド材
の移動が規制され、加熱延伸加工が容易化されることと
なる。
Further, the first rod material and the second rod material may be filled in a cylindrical support pipe to form a rod material bundle. According to such a configuration, since both rod members are constrained by the support tube, the movement of each rod member is restricted, and the heat stretching process is facilitated.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1ロッド材と第2ロッド材とによって構成されたロッ
ド材束を加熱延伸加工することにより繊維状体とし、そ
の繊維状体を数μm〜数十μmの厚さにスライスするこ
とによりPC導波路が製造されることとなり、繊維状体
が1mもあれば数千個〜数万個もの大量の同一構造のP
C導波路を得ることができることとなるので、PC導波
路毎に製造する場合に比べて生産性を良好にすることが
できると共に製造コストを極めて低くすることができ
る。しかも、加熱延伸加工により得られる繊維状体は数
メートル単位では構造の差が極めて微少となるので、同
じ繊維状体をスライスして得られるPC導波路毎の特性
のバラツキを極めて小さくすることができる。
As described above, according to the present invention,
The rod material bundle constituted by the first rod material and the second rod material is heated and stretched to form a fibrous body, and the fibrous body is sliced to a thickness of several μm to several tens μm to obtain a PC. When a fibrous body is 1 m long, a large number of thousands to tens of thousands of Ps having the same structure are produced.
Since a C waveguide can be obtained, the productivity can be improved and the manufacturing cost can be extremely reduced as compared with the case where each PC waveguide is manufactured. In addition, since the difference in the structure of the fibrous body obtained by the heat drawing process is extremely small in units of several meters, it is possible to minimize the variation in the characteristics of each PC waveguide obtained by slicing the same fibrous body. it can.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】(実施形態1)以下、本発明の実
施形態1に係るPC導波路の製造方法について工程を追
って説明する。
(Embodiment 1) Hereinafter, a method for manufacturing a PC waveguide according to Embodiment 1 of the present invention will be described step by step.

【0019】<準備工程>石英(SiO2)製の円筒状
のサポート管を1本と、石英(SiO2)製の円柱状の
中実ロッド(第1ロッド材)を複数本と、石英(SiO
2)製の円筒状のキャピラリ(第2ロッド材)を複数本
と、を準備する。ここで、キャピラリと中実ロッドとは
同一外径である。また、キャピラリは、外側部が石英
(SiO2)で形成されて屈折率が相対的に高く且つ内
側部が空孔に形成されて屈折率が相対的に低い構成とな
っている。
[0019] <Preparation Step> quartz and one of (SiO 2) made of a cylindrical support tube, quartz (SiO 2) made cylindrical and a plurality of the solid rod (first rod member) in a quartz ( SiO
2 ) Prepare a plurality of cylindrical capillaries (second rod material). Here, the capillary and the solid rod have the same outer diameter. Further, the capillary has a structure in which the outer portion is formed of quartz (SiO 2 ) and has a relatively high refractive index, and the inner portion is formed as a hole and has a relatively low refractive index.

【0020】<ロッド束形成工程>図1に示すように、
サポート管1内にサポート管1の中心軸と平行に中実ロ
ッド2,2,…及びキャピラリ3,3,…を最密に充填
することによりロッド材束4を作製する。このとき、束
端面において中実ロッド2,2,…がY分岐型の導波路
パターンを形成すると共に、残りの領域にキャピラリ
3,3,…の空孔が三角格子パターンを形成するように
する。また、最外層に位置する中実ロッド2,2,…及
びキャピラリ3,3,…とサポート管1の内壁との間に
生じる間隙にはSiO2粉等の充填材を充填し、それら
の位置ずれが生じないようにする。
<Rod bundle forming step> As shown in FIG.
The solid rods 2, 2,... And the capillaries 3, 3,. At this time, the solid rods 2, 2,... Form a Y-branch type waveguide pattern at the bundle end face, and the holes of the capillaries 3, 3,. . The gaps formed between the solid rods 2, 2,... And the capillaries 3, 3,... Located in the outermost layer and the inner wall of the support tube 1 are filled with a filler such as SiO 2 powder. Make sure that no misalignment occurs.

【0021】<加熱延伸工程>ロッド材束4を加熱延伸
して繊維状に細径化した繊維状体5を作製する。このと
き、隣接する中実ロッド2同士、キャピラリ3同士、中
実ロッド2とキャピラリ3、最外層に位置する中実ロッ
ド2及びキャピラリ3とサポート管1とは相互に融着一
体化することとなる。図2に示すように、ロッド材束4
を加熱延伸して作製された繊維状体5は、中実ロッド
2,2,…によって形成されたY分岐型の中実部6a及
びキャピラリ3,3,…によって形成された多数の細孔
6b,6b,…からなる導波路形成部6と、サポート管
1によって形成された導波路形成部6を覆う被覆部7と
により構成される。
<Heating Stretching Step> The rod material bundle 4 is stretched by heating to produce a fibrous body 5 having a fibrous diameter. At this time, the adjacent solid rods 2, the capillaries 3, the solid rods 2 and the capillaries 3, the outermost solid rods 2 and the capillaries 3 and the support tube 1 are fused and integrated with each other. Become. As shown in FIG.
Are made into a Y-branched solid portion 6a formed by solid rods 2, 2,... And a large number of pores 6b formed by capillaries 3, 3,. , 6b,... And a covering portion 7 covering the waveguide forming portion 6 formed by the support tube 1.

【0022】<スライス工程>図3に示すように、繊維
状体5を精密加工用カッター等を用いることにより角柱
状に加工し、次いで、数μm〜数十μmの厚さにスライ
スして導波路本体8を作製する。そして、スライスした
導波路本体8を溶剤(エタノール、アセトン、ジクロロ
メタン等)により洗浄し、切削屑を除去する。このと
き、溶剤での洗浄に代えて又は溶剤での洗浄に加えて超
音波洗浄を行うようにしてもよい。このようにして製造
された導波路本体8は、繊維状体6の中実部6aに対応
するY分岐型の欠陥列に形成された光導波路領域9と、
繊維状体6の細孔6bに対応するエアロッド10a,1
0a,…が三角格子を形成するように配列した二次元的
に屈折率が周期的に変動するフォトニッククリスタル構
造領域10とにより構成される。
<Slicing Step> As shown in FIG. 3, the fibrous body 5 is processed into a prismatic shape by using a precision processing cutter or the like, and then sliced to a thickness of several μm to several tens μm and guided. The waveguide main body 8 is manufactured. Then, the sliced waveguide main body 8 is washed with a solvent (ethanol, acetone, dichloromethane, or the like) to remove cutting chips. At this time, ultrasonic cleaning may be performed instead of or in addition to cleaning with a solvent. The waveguide body 8 manufactured in this manner includes an optical waveguide region 9 formed in a Y-branch type defect row corresponding to the solid portion 6a of the fibrous body 6,
Air rods 10a, 1 corresponding to the pores 6b of the fibrous body 6
Are arranged so as to form a triangular lattice, and a photonic crystal structure region 10 in which the refractive index periodically fluctuates two-dimensionally.

【0023】<上部及び下部クラッド配設工程>図4に
示すように、導波路本体8を、各々、屈折率を低下させ
る成分であるフッ素(F)やホウ素(B)を添加した石
英(SiO2)板で形成された上部クラッド11及び下
部クラッド12で挟んで一体化させることにより、Y分
岐型の光を2つに分けるデバイスとしてのPC導波路1
3が構成される。このとき、導波路本体8と上部クラッ
ド11及び下部クラッド12のそれぞれとを接着剤を用
いて一体化させるようにすればよい。接着剤は、導波路
本体8を構成する石英(SiO2)又は上部クラッド1
1及び下部クラッド12を構成するフッ素(F)やホウ
素(B)を添加した石英(SiO2)と同程度の屈折率
を有するものが好ましく、例えば、市販の紫外線硬化型
樹脂接着剤を好適に用いることができる。
<Upper and Lower Cladding Arrangement Steps> As shown in FIG. 4, the waveguide body 8 is made of quartz (SiO.sub.2) to which fluorine (F) or boron (B), which is a component for lowering the refractive index, is added. 2 ) PC waveguide 1 as a device for splitting Y-branch type light into two by being integrated by being sandwiched between upper clad 11 and lower clad 12 formed of plates.
3 are configured. At this time, the waveguide main body 8 and each of the upper clad 11 and the lower clad 12 may be integrated using an adhesive. The adhesive is made of quartz (SiO 2 ) or the upper clad 1 forming the waveguide body 8.
1 and the lower clad 12 preferably have a refractive index similar to that of quartz (SiO 2 ) to which fluorine (F) or boron (B) is added. For example, a commercially available ultraviolet-curable resin adhesive is preferably used. Can be used.

【0024】上記構成のPC導波路13の製造方法によ
れば、中実ロッド2,2,…とキャピラリ3,3,…と
によって構成されたロッド材束4を加熱延伸加工するこ
とにより繊維状体5とし、その繊維状体5を角柱状に加
工した後に数μm〜数十μmの厚さにスライスした導波
路本体8からPC導波路13が製造されることとなり、
繊維状体5が1mもあれば数千個〜数万個もの大量の同
一構造のPC導波路13を得ることができることとなる
ので、PC導波路毎に製造する場合に比べて生産性が良
好になると共に製造コストが極めて低くなる。しかも、
プリフォームを線引き加工して得られる光ファイバと同
様に、加熱延伸加工により得られる繊維状体5は数メー
トル単位では構造の差が極めて微少となるので、同じ繊
維状体5をスライスして得られるPC導波路13毎の特
性のバラツキは極めて小さくなる。
According to the method of manufacturing the PC waveguide 13 having the above structure, the rod material bundle 4 composed of the solid rods 2, 2,... And the capillaries 3, 3,. The PC waveguide 13 is manufactured from the waveguide main body 8 which is sliced into a thickness of several μm to several tens μm after processing the fibrous body 5 into a prismatic shape as the body 5,
If the length of the fibrous body 5 is 1 m, it is possible to obtain a large number of PC waveguides 13 having the same structure of several thousand to several tens of thousands, so that the productivity is better as compared with the case where each PC waveguide is manufactured. And the production cost becomes extremely low. Moreover,
Similar to the optical fiber obtained by drawing the preform, the difference in the structure of the fibrous body 5 obtained by heating and drawing is extremely small in units of several meters. The variation in the characteristics of each PC waveguide 13 is extremely small.

【0025】また、中実ロッド2,2,…及びキャピラ
リ3,3,…を筒状のサポート管1内に充填してロッド
材束4を形成するようにしているので、両ロッド材2,
3がサポート管1によって拘束されることとなり、各ロ
ッド材2,3の移動が規制されて加熱延伸加工が容易化
されることとなる。
Since the solid rods 2, 2,... And the capillaries 3, 3,... Are filled into the cylindrical support tube 1, the rod material bundle 4 is formed.
3 is restrained by the support tube 1, the movement of each of the rod members 2, 3 is regulated, and the heating and stretching process is facilitated.

【0026】なお、上記実施形態1では、中実ロッド2
によりY分岐型の導波路パターンを形成するようにした
が、特にこれに限定されるものではなく、T分岐型やX
字状の導波路パターンを形成したもの等であってもよ
い。
In the first embodiment, the solid rod 2
Is used to form a Y-branch type waveguide pattern. However, the present invention is not limited to this.
It may be one in which a U-shaped waveguide pattern is formed.

【0027】また、上記実施形態1では、キャピラリ
3,3,…を最密状に束ねることにより、エアロッド1
0a,10a,…が三角格子を形成するように配列した
PC導波路13を製造したが、特にこれに限定されるも
のではなく、キャピラリ束の形態の設定を操作すること
により、エアロッドが正方格子やハニカム格子を形成す
るように配列したものであってもよい。この場合、正方
格子パターンやハニカム格子パターンはキャピラリの最
密充填によっては形成されないので、キャピラリ相互間
に石英ロッド等の充填材を充填することにより格子パタ
ーンの形態維持を図ることができる。
In the first embodiment, the capillaries 3, 3,...
The PC waveguide 13 in which 0a, 10a,... Are arranged so as to form a triangular lattice is manufactured, but the present invention is not particularly limited to this. Or a honeycomb lattice may be arranged. In this case, since the square lattice pattern and the honeycomb lattice pattern are not formed by the closest packing of the capillaries, the shape of the lattice pattern can be maintained by filling a filler such as a quartz rod between the capillaries.

【0028】また、上記実施形態1では、屈折率が相互
に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材として
キャピラリ3を用いたが、特にこれに限定されるもので
はなく、外側部がゲルマニウム(Ge)を添加した石英
(SiO2)又はフッ素(F)やホウ素(B)を添加し
た石英(SiO2)で形成され且つ内側部が空孔に形成
されたキャピラリ、内側部及び外側部のいずれか一方が
屈折率を高める成分であるゲルマニウム(Ge)を添加
した石英(SiO2)で形成され且つ他方が純粋な(S
iO2)で形成されたロッド材、内側部及び外側部のい
ずれか一方が屈折率を低下させる成分であるフッ素
(F)やホウ素(B)を添加した石英(SiO2)で形
成され且つ他方が純粋な石英(SiO2)で形成された
ロッド材、内側部及び外側部のいずれか一方がゲルマニ
ウム(Ge)を添加した石英(SiO2)で形成され且
つ他方がフッ素(F)やホウ素(B)を添加した石英
(SiO2)で形成されたロッド材等であってもよい。
In the first embodiment, the capillary 3 is used as the second rod material having the inner portion and the outer portion having different refractive indexes. However, the present invention is not limited to this, and the outer portion may be made of germanium. (Ge) silica was added (SiO 2) or fluorine (F) or boron (B) quartz added with capillary and the inner portion is formed by (SiO 2) is formed in the pores, of the inner portion and the outer portion Either one is made of quartz (SiO 2 ) to which germanium (Ge) which is a component for increasing the refractive index is added, and the other is pure (S
The rod material formed of iO 2 ), and one of the inner and outer portions is formed of quartz (SiO 2 ) to which fluorine (F) or boron (B) which is a component for lowering the refractive index is added, and pure silica rod material formed by (SiO 2), one is formed by a germanium (Ge) silica was added (SiO 2) and the other is fluorine (F) or boron inner portion and the outer portion ( A rod material made of quartz (SiO 2 ) to which B) is added may be used.

【0029】また、上記実施形態1では、中実ロッド2
を純粋な石英(SiO2)製のものとしたが、屈折率を
高める成分であるゲルマニウム(Ge)を添加した石英
(SiO2)製のものや屈折率を低下させる成分である
フッ素(F)やホウ素(B)を添加した石英(Si
2)製のものであってもよい。
In the first embodiment, the solid rod 2
Pure silica has been a (SiO 2) made of things, a component that raises the refractive index of germanium (Ge) silica was added fluorine is a component lowering the (SiO 2) made of one or refractive index (F) Or boron (B) -added quartz (Si
O 2 ).

【0030】また、上記実施形態1では、繊維状体5を
角柱状に加工した後に、それをスライスして導波路本体
8を作製したが、特にこれに限定されるものではなく、
図5に示すように、まず、繊維状体5をスライスして円
盤状体14を作成し、その中心部から矩形板状の導波路
本体8を切り出すようにしてもよい。但し、実施形態1
で示した方法の方が生産性が良好となり好ましい。
In the first embodiment, the fibrous body 5 is processed into a prism and then sliced to produce the waveguide body 8. However, the present invention is not limited to this.
As shown in FIG. 5, first, the fibrous body 5 may be sliced to form a disc-shaped body 14, and the rectangular plate-shaped waveguide body 8 may be cut out from the center. However, Embodiment 1
The method indicated by is preferred because the productivity becomes better.

【0031】また、上記実施形態1では、導波路本体8
を上部及び下部クラッド11,12で挟んで一体化させ
たが、これはPC導波路13の取り扱い性を良好にする
ためであり、PC導波路としての必須の構成要素ではな
い。
In the first embodiment, the waveguide body 8
Are sandwiched between the upper and lower claddings 11 and 12 to improve the handleability of the PC waveguide 13 and are not an essential component of the PC waveguide.

【0032】(実施形態2)実施形態1と同一の製造方
法によって、図10(a)〜(f)に示すような各種の
導波路パターンの導波路本体を作製する。
(Embodiment 2) Waveguide bodies having various waveguide patterns as shown in FIGS. 10A to 10F are manufactured by the same manufacturing method as in Embodiment 1.

【0033】そして、図6に示すように、各導波路本体
8を1ユニットとし、フッ素(F)やホウ素(B)を添
加した石英(SiO2)板で形成された下側基板15の
上に所定の導波路パターンを有する導波路本体8,8,
…を組み合わせて配設し、その上から上側基板を被せる
ことにより、各導波路本体8の導波路パターンが連結さ
れた大型のPC導波路が構成される。このとき、図7に
示すように、導波路本体8の角部のような光導波領域9
に光学的な影響を与えないところに設けられた位置合わ
せ用のマーカー16,16に基づいて互いに隣接する導
波路本体8,8を配設し、それらの位置ずれを防止す
る。このマーカー16は、着色したガラス、エアホール
(空孔)、石英柱等により構成するようにすればよい。
エアロッドによりフォトニッククリスタル構造領域が構
成される導波路本体8であれば、エアロッド又は光導波
領域がマーカー16となりうる。また、マーカーの代わ
りに、光ファイバを融着接続する際のパワーモニタ法と
同様に、一方の導波路本体8の導波路端から光を入射さ
せ、他方の導波路本体の導波路端での出射光強度が最大
となるように位置合わせを行うようにしてもよい。な
お、各導波路本体8と上側基板及び下側基板15のそれ
ぞれとは、実施形態1と同様の方法で接着一体化され
る。
Then, as shown in FIG. 6, each waveguide main body 8 is made into one unit, and is placed on a lower substrate 15 made of a quartz (SiO 2 ) plate to which fluorine (F) or boron (B) is added. Waveguide bodies 8, 8, having a predetermined waveguide pattern
Are arranged in combination, and the upper substrate is covered from above to form a large-sized PC waveguide in which the waveguide patterns of the respective waveguide main bodies 8 are connected. At this time, as shown in FIG. 7, an optical waveguide region 9 such as a corner of the waveguide main body 8 is formed.
The waveguide main bodies 8, 8 adjacent to each other are arranged on the basis of alignment markers 16, 16 provided at places where optical influence is not exerted on the optical waveguides to prevent their positional deviation. The marker 16 may be made of colored glass, air holes (voids), quartz columns, or the like.
In the case of the waveguide main body 8 in which the photonic crystal structure region is formed by the air rod, the air rod or the optical waveguide region can be the marker 16. Further, instead of the marker, similarly to the power monitoring method at the time of fusion splicing an optical fiber, light is made to enter from the waveguide end of one waveguide main body 8 and the light is incident at the waveguide end of the other waveguide main body. Positioning may be performed so that the intensity of the emitted light is maximized. In addition, each waveguide main body 8 and each of the upper substrate and the lower substrate 15 are bonded and integrated in the same manner as in the first embodiment.

【0034】(実施形態3)実施形態1と同一の製造方
法によって同種又は異種の複数の導波路本体を作製す
る。
(Embodiment 3) A plurality of waveguide bodies of the same type or different types are manufactured by the same manufacturing method as in the first embodiment.

【0035】そして、図8に示すように、それらの複数
の導波路本体8,8,…を積層することにより、3次元
のPC導波路13が構成される。なお、導波路本体8同
士は、実施形態1と同様の方法で接着一体化される。
Then, as shown in FIG. 8, a three-dimensional PC waveguide 13 is formed by laminating the plurality of waveguide bodies 8, 8,. The waveguide bodies 8 are bonded and integrated by the same method as in the first embodiment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ロッド材束の束端面の正面図である。FIG. 1 is a front view of a bundle end surface of a rod material bundle.

【図2】繊維状体の繊維端面の正面図である。FIG. 2 is a front view of a fiber end face of the fibrous body.

【図3】スライス工程の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a slicing step.

【図4】実施形態1において製造されたフォトニックク
リスタル導波路の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of the photonic crystal waveguide manufactured in the first embodiment.

【図5】他の実施形態に係るスライス工程の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a slicing step according to another embodiment.

【図6】実施形態2に係るフォトニッククリスタル導波
路の製造方法の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the method for manufacturing the photonic crystal waveguide according to the second embodiment.

【図7】フォトニッククリスタル導波路の上面図であ
る。
FIG. 7 is a top view of the photonic crystal waveguide.

【図8】実施形態3に係るフォトニッククリスタル導波
路の製造方法の説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of the method for manufacturing the photonic crystal waveguide according to the third embodiment.

【図9】フォトニッククリスタル構造の斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of a photonic crystal structure.

【図10】PC導波路の導波路パターン例を示す説明図
である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing an example of a waveguide pattern of a PC waveguide.

【図11】PC導波路のフォトニッククリスタル構造例
を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing an example of a photonic crystal structure of a PC waveguide.

【図12】従来のPC導波路の製造方法を示す説明図で
ある。
FIG. 12 is an explanatory view showing a conventional method for manufacturing a PC waveguide.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 サポート管 2 中実ロッド 3 キャピラリ 4 ロッド材束 5 繊維状体 6 導波路形成部 6a 中実部 6b 細孔 7 被覆部 8 円盤状体 8 導波路本体 9 光導波領域 10 フォトニッククリスタル構造領域 10a エアロッド 11 上部クラッド 12 下部クラッド 13 PC導波路 14 円盤状体 15 下側基板 16 マーカー a 基板 b 誘電体ピラー c ガラス板 d エアロッド e 基板 f 石英層 g レジスト h エアロッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support pipe 2 Solid rod 3 Capillary 4 Rod bundle 5 Fibrous body 6 Waveguide formation part 6a Solid part 6b Pores 7 Coating part 8 Disc body 8 Waveguide body 9 Optical waveguide area 10 Photonic crystal structure area 10a Air rod 11 Upper clad 12 Lower clad 13 PC waveguide 14 Disc-shaped body 15 Lower substrate 16 Marker a Substrate b Dielectric pillar c Glass plate d Air rod e Substrate f Quartz layer g Resist h Air rod

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 哲也 兵庫県伊丹市池尻4丁目3番地 三菱電線 工業株式会社伊丹製作所内 (72)発明者 藤田 盛行 兵庫県伊丹市池尻4丁目3番地 三菱電線 工業株式会社伊丹製作所内 (72)発明者 中沢 正隆 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 久保田 寛和 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 川西 悟基 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 Fターム(参考) 2H047 KA03 LA12 PA00 PA24 PA26 QA04 TA41  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuya Yamamoto 4-3 Ikejiri, Itami-shi, Hyogo Mitsubishi Cable Industry Co., Ltd. Itami Works (72) Inventor Moriyuki Fujita 4-3 Ikejiri, Itami-shi, Hyogo Mitsubishi Cable Industries Inside the Itami Works (72) Inventor Masataka Nakazawa 2-3-1 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Hirokazu Kubota 2-3-1 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Satoru Kawanishi 2-3-1 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo F-Term (in reference) 2H047 KA03 LA12 PA00 PA24 PA26 QA04 TA41

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中実の第1ロッド材と、屈折率が相互に
異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材と、をそ
れぞれ複数本ずつ準備し、 上記複数本の第1ロッド材及び複数本の第2ロッド材
を、束端面に該第1ロッド材によって所定の導波路パタ
ーンを形成し且つ該第2ロッド材の内側部によって所定
の格子パターンを形成するように束ねてロッド材束を作
製した後、 上記ロッド材束を加熱延伸加工により細径化して繊維状
体を作製し、 上記繊維状体を所定厚さにスライスすることでフォトニ
ッククリスタル導波路を製造する、ことを特徴とするフ
ォトニッククリスタル導波路の製造方法。
1. A plurality of solid first rod members and a plurality of second rod members each having an inner portion and an outer portion having mutually different refractive indices are prepared. A rod material bundle is formed by bundling a plurality of second rod materials such that a predetermined waveguide pattern is formed by the first rod material on the bundle end surface and a predetermined lattice pattern is formed by an inner portion of the second rod material. After manufacturing, the rod material bundle is reduced in diameter by heating and stretching to produce a fibrous body, and the fibrous body is sliced to a predetermined thickness to produce a photonic crystal waveguide. A method for manufacturing a photonic crystal waveguide.
【請求項2】 上記第2ロッド材をキャピラリとするこ
とを特徴とする請求項1に記載のフォトニッククリスタ
ル導波路の製造方法。
2. The method for manufacturing a photonic crystal waveguide according to claim 1, wherein the second rod material is a capillary.
【請求項3】 上記第1ロッド材及び第2ロッド材を筒
状のサポート管内に充填して上記ロッド材束を形成する
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトニック
クリスタル導波路の製造方法。
3. The photonic crystal waveguide according to claim 1, wherein the first rod material and the second rod material are filled in a cylindrical support pipe to form the rod material bundle. Manufacturing method.
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