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JP2002203316A - 磁気転写媒体及び磁気転写方法 - Google Patents

磁気転写媒体及び磁気転写方法

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Publication number
JP2002203316A
JP2002203316A JP2000401636A JP2000401636A JP2002203316A JP 2002203316 A JP2002203316 A JP 2002203316A JP 2000401636 A JP2000401636 A JP 2000401636A JP 2000401636 A JP2000401636 A JP 2000401636A JP 2002203316 A JP2002203316 A JP 2002203316A
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JP
Japan
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magnetic
disk
ferromagnetic layer
medium
magnetic transfer
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JP2000401636A
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Yoshiyuki Kamata
芳幸 鎌田
Katsuyuki Naito
勝之 内藤
Yasuyuki Hieda
泰之 稗田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Priority to JP2000401636A priority Critical patent/JP3648449B2/ja
Publication of JP2002203316A publication Critical patent/JP2002203316A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高い磁気転写効率及び高い耐久性の双方を実現
し得る磁気転写媒体及び磁気転写方法を提供すること。 【解決手段】本発明の磁気転写媒体1は、非磁性体基板
2とその非磁性体基板2上に形成された強磁性層3とを
備え、マスター媒体1からスレーブ媒体5へと情報を磁
気転写する際にそのマスター媒体1として用いられる磁
気転写媒体1であって、強磁性層3の表面は複数の凹部
3bとそれら凹部3bに隣接する少なくとも1つの凸部
3aとで構成され、それら凹部3bは上記少なくとも1
つの凸部3aのそれぞれを取り囲んで孤立化させること
なく上記磁気転写される情報として設けられたことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気転写媒体及び
磁気転写方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ハードディスクドライブ(以下、HDD
という)は、その筐体内部に磁気ディスクを取り外し不
可能に搭載した固定式の記録装置である。HDDの製造
過程では磁気ディスクにプリフォーマット情報が書き込
まれ、HDDはこのプリフォーマット情報を利用して磁
気ディスクに対する磁気ヘッドの位置及び磁気ディスク
の回転速度などを制御している。
【0003】例えば、磁気ディスクの記録膜である強磁
性層は、それぞれディスクの中心部から周縁部に向けて
各トラックを横切るように設けられた複数のサーボ領域
(サーボセクタ)を有しており、それらサーボ領域には
トラッキングサーボ信号が書き込まれている。HDD
は、磁気ヘッドを磁気ディスク上の目標位置(目標トラ
ック)に対して位置決めするのに、それらサーボ領域に
記録されたトラッキングサーボ信号を利用している。
【0004】磁気ディスクへのトラッキングサーボ信号
の記録は、従来、HDDの筐体内部に磁気ヘッドと磁気
ディスクとを組み込んだ後、サーボライタと呼ばれるサ
ーボ信号書込装置を用いて行われていた。具体的には、
磁気ディスクを回転させながらその半径方向に磁気ヘッ
ドを移動させることにより、各トラックのサーボ領域に
トラッキングサーボ情報を順次書き込んでいた。
【0005】しかしながら、このような方法では、トラ
ッキングサーボ情報の書き込みに長時間を要する。そこ
で、上述した方法を用いる代わりに、特開平7−783
37号公報、特開平10−269566号公報、及び米
国特許第3,869,711号が開示するようにトラッ
キングサーボ情報の書き込みに磁気転写方法を利用する
ことが提案されている。
【0006】図10(a)及び(b)は、従来の磁気転
写方法を概略的に示す断面図である。従来の方法では、
まず、磁気転写媒体として、図10(a)に示すマスタ
ーディスク101を準備する。マスターディスク101
は非磁性体基板上に強磁性層が形成された構造を有して
おり、この強磁性層は、パターニングされて非磁性体基
板の表面に凸部を形成している。図10(a)に示すマ
スターディスク101では、これら凸部がトラッキング
サーボ情報に対応している。
【0007】次に、マスターディスク101と磁気記録
媒体であるスレーブディスク105とを重ね合わせる。
スレーブディスク105はHDDに搭載される磁気ディ
スクであり、非磁性体基板106上に強磁性層107が
形成された構造を有している。マスターディスク101
とスレーブディスク105との重ね合わせは、ディスク
101の全ての凸部がディスク105の強磁性層107
に接触するように行う。また、強磁性層107の磁化の
向きは、予め矢印111で示す方向に揃えられている。
【0008】その後、それらディスク101,105に
矢印112で示す方向にバイアス磁界を作用させると、
マスターディスク101の凸部と凹部との間の磁気抵抗
の差に起因して漏洩磁界115が発生する。この漏洩磁
界115は、スレーブディスク105の強磁性層107
内に矢印113で示す方向の磁化を誘起させる。これに
より、スレーブディスク105の強磁性層107内の磁
化は、マスターディスク101の凸部に対応する位置で
下向きとなる。すなわち、図10(b)に示すように、
マスターディスク101からスレーブディスク105に
トラッキングサーボ情報が磁気転写される。
【0009】上述した磁気転写方法を利用した場合、磁
気ヘッドを用いた場合に比べて、トラッキングサーボ情
報のようなプリフォーマット情報の記録に要する時間を
著しく短縮することができる。また、サーボ信号書込装
置のように高価な装置を用いることなくプリフォーマッ
ト情報を記録することができる。さらに、サーボ信号書
込装置では、磁気ヘッドの位置を高精度に制御すること
は極めて困難であるため、記録密度が100Gbpsi
超級の磁気ディスクに対してプリフォーマット信号を書
き込むことは不可能であると考えられるが、そのような
制御に比べればマスターディスクを高精度に作製するこ
とは極めて容易である。
【0010】このように、磁気転写方法を用いたプリフ
ォーマット情報の書き込みは、サーボ信号書込装置を用
いた場合に比べれば様々な点で有利である。しかしなが
ら、磁気転写方法を用いたプリフォーマット情報の書き
込みには、以下に説明するように、解決すべき課題が未
だ残されている。
【0011】HDDにおいて高記録密度化を実現するに
は、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の距離(スペーシ
ング)を低減することが必須である。そのためには、磁
気ディスクの表面を鏡面加工して平滑化すること、例え
ば、20nm以下(グライドの高さ未満)の表面粗さを
実現することなどが必要である。
【0012】しかしながら、磁気転写方法を用いてスレ
ーブディスクにプリフォーマット情報を記録する場合、
マスターディスクの凸部の全てをスレーブディスクの強
磁性層に完全に接触させる必要がある。すなわち、高圧
を印加してマスターディスクとスレーブディスクとを密
着させなければならない。そのため、従来技術では、磁
気転写を繰り返し行うと、マスターディスクが劣化して
マスターディスク及びスレーブディスクの双方が傷いて
しまう。当然の如く、そのような傷は、上記のように高
い平滑性を要求される磁気ディスクにとって致命的であ
る。
【0013】このような問題に対し、特開平11−27
3070号公報は、マスターディスクの凸部を設けた面
に膜厚20nm以下の硬質膜を形成することを記載して
いる。しかしながら、計算機を用いたシミュレーション
によれば、転写される磁気パターンがミクロンサイズ以
下になると、マスターディスクの凸部とスレーブディス
クの強磁性層との間の距離が10nm大きくなるだけで
磁気転写効率は顕著に減少する。そのため、硬質膜を形
成する上記方法では、マスターディスクの耐久性は向上
するものの、磁気転写効率が犠牲となる。このように、
従来の磁気転写技術では、高い磁気転写効率を維持しつ
つ、磁気転写媒体であるマスターディスクの耐久性を向
上させることが困難であった。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたものであり、高い磁気転写効率及び高
い耐久性の双方を実現し得る磁気転写媒体及び磁気転写
方法を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、非磁性体基板と前記非磁性体基板上に形
成された強磁性層とを具備し、マスター媒体からスレー
ブ媒体へと情報を磁気転写する際に前記マスター媒体と
して用いられる磁気転写媒体であって、前記強磁性層の
表面は複数の凹部と前記複数の凹部に隣接する少なくと
も1つの凸部とで構成され、前記複数の凹部は前記少な
くとも1つの凸部のそれぞれを取り囲んで孤立化させる
ことなく前記磁気転写される情報として設けられたこと
を特徴とする磁気転写媒体を提供する。
【0016】また、本発明は、第1の非磁性体基板と前
記第1の非磁性体基板上に形成された第1の強磁性層と
を具備するスレーブ媒体に磁場を作用させて前記第1の
強磁性層の磁化の方向を揃える工程と、第2の非磁性体
基板と前記第2の非磁性体基板上に形成された第2の強
磁性層とを具備し且つ前記第2の強磁性層の表面が複数
の凹部と前記複数の凹部に隣接する少なくとも1つの凸
部とからなる磁気転写媒体をマスター媒体として用い
て、前記マスター媒体から前記スレーブ媒体に情報を磁
気転写する工程とを含み、前記複数の凹部は前記少なく
とも1つの凸部のそれぞれを取り囲んで孤立化させるこ
となく前記磁気転写される情報として設けられたことを
特徴とする磁気転写方法を提供する。
【0017】本発明者らは、従来の磁気転写媒体で高い
耐久性及び高い転写効率の双方を同時に得ることができ
ない理由の1つは、磁気転写媒体に情報が凸部として記
録されていることにあると考えた。情報を凸部として記
録した場合、磁気転写媒体と磁気記録媒体との間の接触
面積が小さいため、凸部に極めて大きな圧力が加えられ
る。しかも、情報を凸部として記録した場合、磁気転写
媒体と磁気記録媒体とを重ね合わせる際にそれらの間に
ズレが生じ易い。そのため、従来技術では、磁気転写媒
体の凸部の剥離や破損が生じ易く、高い耐久性が得られ
なかったものと考えられる。
【0018】そこで、本発明者らは、情報を凹部として
記録すれば、磁気転写媒体と磁気記録媒体との間の接触
面積が増加するため、凸部に加えられる圧力を減少させ
ること及び磁気転写媒体が磁気記録媒体に対してその面
内方向にズレるのを防止することが可能となると考え、
実際に磁気転写媒体に情報を凹部として記録した。その
結果、島状の凸部が形成されないように、換言すれば凸
部がそれら凹部によって取り囲まれないように凹部を設
けた場合、個々の凸部は十分に大きなサイズとなるた
め、磁気転写の際に凸部が剥離或いは劣化するのを顕著
に防止し得ること及びそれによって極めて高い耐久性を
実現し得ることを見出し、本発明を為すに至ったもので
ある。
【0019】本発明において、上述した凹部の底面は強
磁性層で構成されてもよく、或いは、非磁性体基板で構
成されてもよい。すなわち、それら凹部は、強磁性層の
表面領域のみに設けられた窪みであってもよく、或い
は、強磁性層を貫通する孔であってもよい。本発明にお
いて、上記凹部は互いに離間されていてもよく、或い
は、それら凹部の少なくとも一部は互いに連結されてい
てもよい。
【0020】本発明において、通常、スレーブ媒体は、
磁気記録装置に搭載される磁気記録媒体である。この場
合、上記情報は、この磁気記録装置がその磁気ヘッドの
磁気記録媒体に対する相対位置及び相対速度の少なくと
も一方を制御するのに利用するプリフォーマット情報で
あることが好ましい。通常の磁気記録媒体において、プ
リフォーマット情報が占める領域は、ユーザが磁気記録
装置を使用することによって情報が書き込まれる領域に
比べれば遥かに小さい。そのため、この場合、凸部の上
面の面積に対する凹部の底面の面積の比をより小さな
値、例えば1/10以下として、磁気記録媒体と磁気転
写媒体との間の接触面積をさらに高めることができる。
【0021】また、凹部の底面の面積に対する凸部の上
面の面積の比が小さい場合、凸部は爪のように作用する
ため、磁気転写媒体と磁気記録媒体とを位置合わせする
際、磁気転写媒体と磁気記録媒体とを加圧密着させる
際、及び密着した磁気転写媒体と磁気記録媒体とを剥離
する際などに、磁気転写媒体や磁気記録媒体を傷つける
おそれがある。それに対し、凸部の上面の面積に対する
凹部の底面の面積の比が十分に小さい場合、凸部は爪の
ように作用することはないため、磁気転写媒体と磁気記
録媒体との位置合わせ時、加圧密着時、及び剥離時など
に、磁気転写媒体や磁気記録媒体が傷つけられるのを防
止することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明について、図面を参
照しながらより詳細に説明する。なお、各図において、
同様または類似する構成要素には同一の参照符号を付
し、重複する説明は省略する。
【0023】図1は、本発明の一実施形態に係る磁気転
写方法を概略的に示す断面図である。図1には、磁気転
写媒体であるマスターディスク1と磁気記録媒体である
スレーブディスク5とが描かれている。
【0024】マスターディスク1は、非磁性体基板2の
一方の主面に強磁性層3が形成された構造を有してい
る。強磁性層3はパターニングされており、それによっ
て凸部3aと凹部3bとを形成している。このマスター
ディスク1において、HDDのような磁気記録装置がス
レーブディスク5に対する磁気ヘッドの相対位置及び相
対速度などを制御するのに利用するプリフォーマット情
報,例えば、トラッキングサーボ信号、アドレス情報信
号、及び再生クロック信号など,は、それら凹部3bと
して記録されている。
【0025】一方、スレーブディスク5も、非磁性体基
板6の一方の主面に強磁性層7が形成された構造を有し
ている。しかしながら、マスターディスク1とは異な
り、スレーブディスク5の強磁性層7はパターニングさ
れておらず、平滑な表面を有している。
【0026】図1に示すマスターディスク1からスレー
ブディスク5へのプリフォーマット情報の磁気転写は、
例えば、以下の方法で行う。まず、スレーブディスク5
の強磁性層7の磁化の向きを、基板面に垂直な方向或い
は基板面に平行な方向に揃える。ここでは垂直記録を想
定して、強磁性層7の磁化の向きは、強磁性層7に矢印
11に示す方向の直流バイアス磁界を作用させることに
より基板面に垂直な一方向に揃えることとする。
【0027】次に、スレーブディスク5とマスターディ
スク1とを、それらの強磁性層3,7同士が密着するよ
うに重ね合わせる。上述したように、磁気転写効率は、
マスターディスク1の凸部3aとスレーブディスク5の
強磁性層7との間の接触状態に大きく影響される。した
がって、それらディスク1,5の重ね合わせは、減圧雰
囲気下、例えば真空下で、それらに高圧を印加しつつ行
うことが好ましい。なお、この際、強磁性層3の磁化の
向きは、揃えられていなくてもよい。
【0028】次いで、マスターディスク1及びスレーブ
ディスク5に、それらを重ね合わせた状態で、強磁性層
7の磁化の向きとは逆向きの、すなわち、矢印12に示
す方向のバイアス磁界を作用させる。このようなバイア
ス磁界を作用させると、強磁性層3の凸部3aと凹部3
bとの間の磁気抵抗の違いに起因した漏洩磁界が発生
し、その漏洩磁界によって強磁性層7の凸部3aと接触
している部分では磁化が反転して上向きとなる。一方、
強磁性層7の凸部3aと接触していない部分、すなわ
ち、強磁性層7の凹部3bに対応する部分では、磁化は
反転せずに下向きのまま維持される。以上のようにし
て、マスターディスク1からスレーブディスク5にプリ
フォーマット情報が磁気転写される。なお、矢印12に
示す方向のバイアス磁界を作用させる際にスレーブディ
スクを適当な温度に加熱すれば、磁気転写をより効率的
に行うことができる。
【0029】さて、本実施形態に係るマスターディスク
1では、プリフォーマット情報が凹部3bとして記録さ
れているのに加え、凸部3aが凹部3bによって取り囲
まれないように、換言すれば、凸部3aが島状とならな
いように強磁性層3が形成される。図2に、凸部3aと
凹部3bとが形成する凹凸パターンの例を示す。
【0030】図2(a)は図1に示すマスターディスク
1の凸部3a及び凹部3bが形成する凹凸パターンの一
例を示す平面図であり、図2(b)は図1に示すマスタ
ーディスク1の凸部3a及び凹部3bが形成する凹凸パ
ターンの他の例を示す平面図である。図2(a)に示す
凹凸パターンでは、複数の凹部3bは互いに離間されて
配置されている。そのため、凸部3aは凹部3bによっ
て複数の領域へと分割されてはおらず、非磁性体基板2
の全体にわたって連続している。すなわち、図2(a)
に示す凹凸パターンを構成する凸部3aの数は1つであ
る。
【0031】このように、プリフォーマット情報が凹部
3bとして記録され且つ1つの凸部3aのサイズが大き
い場合、凸部3aが強磁性層7と接触する面積及び1つ
の凸部3aが非磁性体基板2と接触する面積の双方が十
分に広くなるため、磁気転写の際に凸部3aが非磁性体
基板2から剥離すること等を防止することができる。し
たがって、図2(a)に示す凹凸パターンを採用するこ
とにより、強磁性層3上に硬質膜を設けなくとも高い耐
久性を実現すること、すなわち、高い磁気転写効率及び
高い耐久性の双方を実現することが可能となる。
【0032】一方、図2(b)に示す凹凸パターンで
は、図2(a)に示す凹凸パターンとは異なり、複数の
凹部3bの一部は直列に連結されており、互いにほぼ平
行な1対の線状領域を形成している。そのため、凸部3
aは凹部3bが形成する1対の線状領域によって3つの
領域へと分割されている。すなわち、図2(b)に示す
凹凸パターンでは、図2(a)に示す凹凸パターンとは
異なり、凸部3aは非磁性体基板2の全体にわたって連
続してはいない。
【0033】しかしながら、図2(b)に示す凹凸パタ
ーンにおいても、凸部3aによって構成される3つの領
域のいずれも、凹部3bが形成する1対の線状領域によ
って取り囲まれておらず(島状に形成されておらず)、
十分に大きなサイズを有している。そのため、図2
(b)に示す凹凸パターンを採用した場合においても、
図2(a)に示す凹凸パターンを採用した場合と同様
に、強磁性層3上に硬質膜を設けなくとも高い耐久性を
実現すること、すなわち、高い磁気転写効率及び高い耐
久性の双方を実現することが可能となる。
【0034】以上説明した磁気転写方法において、強磁
性層3の保磁力は可能な限り小さな値であること、例え
ば数100Oe[数100×(1/4π)×103A/
m]以下であることが好ましく、その飽和磁化は十分に
大きいことが好ましい。また、強磁性層7の保磁力は十
分に大きいことが好ましい。
【0035】また、凹部3bは、強磁性層3の表面領域
のみに設けられた窪みであってもよく、或いは、強磁性
層3を貫通する孔であってもよい。但し、いずれの場合
であっても、凹部3bの開口部近傍は矩形状の断面を有
していることが好ましい。この場合、プリフォーマット
情報に対応する記録マークをスレーブディスク5の強磁
性層7へと鮮明に転写することができる。
【0036】さらに、凹部3b間の間隔の最小値,すな
わち凸部3aの幅の最小値,は、凹部3bの開口幅の1
/2以上であることが好ましい。この場合、凸部3aの
剥離等をより良好に防止することができる。
【0037】上記マスターディスク1において、非磁性
体基板2としては、Si基板などのように、一般的なマ
スターディスクで使用されるのと同様の基板を用いるこ
とができる。
【0038】強磁性層3に用いる磁性材料としては、N
i−Fe及びFe−Al−Siなどの結晶材料、Co−
Zr−NbなどのCoをベースとするアモルファス材
料、Fe−Ta−NなどのFe系微結晶材料、並びにF
e、Co、Fe、Fe−Co、Co−Cr、Ba、及び
フェライトなどの強磁性体を挙げることができる。ま
た、垂直磁気異方性の大きなCoPt、FeCo、及び
FePdなどの規則合金系材料なども好適に使用され得
る。強磁性層3は、真空蒸着法、イオンビームスパッタ
法、及び対向ターゲットスパッタ法などを用いて形成す
ることができる。
【0039】上述したマスターディスク1は、特開平1
1−273070号公報に開示される方法などによって
製造され得る。以下、マスターディスク1の代表的な製
造方法について説明する。
【0040】マスターディスク1を製造するに当たり、
まず、Si基板のような非磁性体基板2上に、強磁性体
からなる強磁性層3をスパッタリング法などによって成
膜する。強磁性層3の厚さは、例えば200nm程度と
する。次に、強磁性層3上に、スピンコート法などを用
いて例えば厚さ1μmの感光性レジスト膜を形成し、そ
のレジスト膜を凸部3aまたは凹部3bに対応して開口
部が設けられたフォトマスクを用いて露光する。なお、
レジスト膜の露光には、紫外線などのように一般に使用
される光に加え、電子ビーム、X線、及び近接場光など
を使用することもできる。次いで、露光後のレジスト膜
を現像することにより、凸部3aに対応してレジストパ
ターンを形成する。その後、レジストパターンをマスク
として用いて、イオンミリング法などにより強磁性層3
をパターニングする。さらに、レジストパターンを除去
することによりマスターディスク1を得る。
【0041】マスターディスク1の製造にはリフトオフ
法を利用することもできる。すなわち、まず、Si基板
のような非磁性体基板2上にスピンコート法などを用い
て感光性レジスト膜を例えば1.5μmの厚さに形成
し、そのレジスト膜を凸部3aまたは凹部3bに対応し
て開口部が設けられたフォトマスクを用いて露光する。
次に、露光後のレジスト膜を現像することにより、凹部
3bに対応してレジストパターンを形成する。次いで、
非磁性体基板2のレジストパターンを形成した面にスパ
ッタリング法などによって強磁性層3を成膜する。その
後、非磁性体基板2の強磁性層3を成膜した面をアセト
ンなどの有機溶剤中で超音波洗浄することなどによっ
て、レジストパターン及び強磁性層3のレジストパター
ン上に形成された部分を除去する。以上のようにして、
マスターディスク1を得ることができる。
【0042】マスターディスク1は、他の方法でも製造
することができる。例えば、ナノインプリンティング・
プロセスによって非磁性体基板2上に記録すべき情報に
対応して凹部を形成し、非磁性体基板2の凹部が形成さ
れた面に強磁性層3を成膜することによりマスターディ
スク1を得ることができる。この方法は、凹部3bを広
面積にわたって均一に形成可能である点で優れている。
また、電子ビーム、X線、及び近接場光などを用いて非
磁性体基板2上に凹部を直接形成してもよい。この方法
によるとマスターディスク1の製造に長時間を要する
が、マスターディスク1の製造に要する時間はスレーブ
ディスク5にプリフォーマット情報を書き込むのに要す
る時間に比べれば重要度が遥かに低いので問題を生ずる
ことはない。
【0043】上述した磁気転写方法を実施するために、
図3乃至図5に示す構造を主要部として有する装置を利
用することができる。図3は、本発明の一実施形態に係
る磁気転写方法を実施するのに利用され得る磁気転写装
置のディスクホルダを概略的に示す断面図である。図3
に示すディスクホルダ31は、支持構造32を有してい
る。支持構造32は載置部33を有しており、この載置
部33上にはマスターディスク1がその強磁性層3が上
向きとなるように載置されている。マスターディスク1
上には、スレーブディスク5がその強磁性層7とマスタ
ーディスク1の強磁性層3とが対向するように配置され
ている。これらマスターディスク1及びスレーブディス
ク5は、載置部33と押え部材34とに挟持されること
によって、支持構造32に対して位置を固定されてい
る。
【0044】押え部材34は、弾性部材35とモータ3
6によって駆動されるアクチュエータ37により載置部
33に対して平行移動され得る。また、押え部材34に
は窓38が設けられている。マスターディスク1に対す
るスレーブディスク5の相対位置は、スレーブディスク
5の裏面に形成した位置合わせマーク(図示せず)を窓
38を介してCCD39で観察しつつ、アクチュエータ
37を駆動することによって高精度に調節され得る。
【0045】なお、載置部33と押え部材34との間に
は弾性体40が配置されている。また、載置部33及び
押え部材34は、マスターディスク1及びスレーブディ
スク5を冷却するための冷却水路41や、それらディス
ク1,5を加熱するための熱電線42を有している。デ
ィスク1,5の加熱や冷却は、後述する磁界印加部での
磁気転写の際に必要に応じて行う。
【0046】図4は、本発明の一実施形態に係る磁気転
写方法を実施するのに利用され得る磁気転写装置の加圧
部を概略的に示す断面図である。図4に示す加圧部45
は、上述したディスクホルダ41を収容する真空チャン
バ46を有している。真空チャンバ46には給排気口4
7が設けられており、真空チャンバ46内を所望の圧力
にまで減圧することができる。また、真空チャンバ46
には、図中、上下に可動なアーム48が設置されてい
る。このアーム48は、真空チャンバ46内に収容され
たディスクホルダ41の押え部材34に対して圧力を印
加することによって、マスターディスク1とスレーブデ
ィスク5との間の密着性を高める。
【0047】図5は、本発明の一実施形態に係る磁気転
写方法を実施するのに利用され得る磁気転写装置の磁界
印加部を概略的に示す図である。磁界印加部50は、互
いに極性の異なる1対のマグネット51を有している。
加圧部45でマスターディスク1とスレーブディスク5
との間の密着性を高めた後、ディスクホルダ41は真空
チャンバ46から取り出され、それらマグネット51間
に配置される。それによって、上述したように、マスタ
ーディスク1からスレーブディスク5へとプリフォーマ
ット情報を磁気転写する。
【0048】以上、スレーブディスク5に垂直記録方式
を採用する場合について説明したが、マスターディスク
1は、スレーブディスク5に長手記録方式を採用した場
合においても利用することができる。但し、スレーブデ
ィスク5に長手記録方式を採用する場合、磁気転写に
は、直流バイアス磁界ではなく交流バイアス磁界を使用
する。
【0049】このように、交流バイアス磁界を用いて磁
気転写を行う場合、マスターディスク1の強磁性層3
は、通常、スレーブディスク5の強磁性層7に対して
2.5乃至3.0倍の保磁力を有している必要がある。
そのため、ギガビット或いはテラビットの記憶容量を実
現するためにスレーブディスク5の強磁性層7に保磁力
の高い磁性材料を使用した場合、マスターディスク1の
強磁性層3には保磁力の極めて高い磁性材料を使用しな
ければならない。
【0050】それに対し、スレーブディスク5に垂直記
録方式を採用する場合、すなわち、直流バイアス磁界を
用いて磁気転写を行う場合、交流バイアス磁界を用いる
場合に関して説明したような制約は存在しない。そのた
め、この場合、スレーブディスク5の強磁性層7に保磁
力の低い磁性材料を使用することができ、したがって、
容易に大記憶容量を実現することが可能となる。
【0051】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。 (実施例1)図6は、本発明の実施例1に係るマスター
ディスク1を概略的に示す切開斜視図である。本実施例
では、以下に説明するように、図6に示すマスターディ
スク1を作製し、その磁気転写効率及び耐久性を調べ
る。
【0052】まず、Siからなる非磁性体基板2の一方
の主面上に、スパッタリング法を用いてFePtからな
る厚さ0.2μmの強磁性層3を成膜した。次に、フォ
トリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、この
強磁性層3に開口部が円形であり且つ深さが0.2μm
の凹部3bを形成した。すなわち、凹部3bと凸部3a
とからなる凹凸パターンを形成した。なお、凹部3b
は、開口部の直径が2μmのものと3μmのものとが互
いに離間し且つ交互に配列するように形成した。また、
それら凹部3bは、スレーブディスク5に記録すべき情
報に対応している。以上のようにして、図6に示すマス
ターディスク1を作製した。
【0053】次に、上述した方法によって作製したマス
ターディスク1と別途準備したスレーブディスク5と
を、それら強磁性層3,7が接するように図3に示すデ
ィスクホルダ31内に配置し、それらディスク1,5の
位置合わせを行った。なお、ディスク1,5は押え部材
34と支持構造32とに挟み込まれており、それらが面
内方向にズレることはない。
【0054】次いで、図4に示す加圧部45で、このデ
ィスクホルダ31に収容したマスターディスク1及びス
レーブディスク5に減圧下で20kg/cm2の圧力を
2秒間印加することにより、それらの密着性を高めた。
その後、ディスクホルダ31を加圧部45の真空チャン
バ46から取り出し、それに図5に示す磁界印加部50
で直流磁界を作用させた。以上のようにして、マスター
ディスク1からスレーブディスク5へと情報を磁気転写
した。
【0055】このスレーブディスク5を磁気力顕微鏡
(MFM)で観察したところ、その強磁性層7にはマス
ターディスク1に形成した凹部3bに対応する磁気パタ
ーンが良好に転写されていた。すなわち、本実施例に係
るマスターディスク1によると高い磁気転写効率が実現
されることが確認された。
【0056】また、1枚のマスターディスク1を用い
て、20枚のスレーブディスク5に対して上述した磁気
転写を行った。その後、マスターディスク1の強磁性層
3を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した。
【0057】図7は、本発明の実施例1に係るマスター
ディスク1の磁気転写を20回繰り返した後の状態を示
すSEM写真である。図7に示すように、本実施例に係
るマスターディスク1は、磁気転写を20回繰り返した
後であっても、傷や凸部3aの剥離などを生じていなか
った。
【0058】(比較例1)図6に示す凸部3aと凹部3
bとの関係を逆としたこと以外は実施例1で説明したの
と同様の方法によりマスターディスクを作製した。すな
わち、本比較例では、スレーブディスクに記録すべき情
報に対応して、凹部ではなく凸部を形成した。なお、本
比較例では、全ての凸部の径を2μmとした。
【0059】このマスターディスクを用いたこと以外は
実施例1で説明したのと同様の方法により、マスターデ
ィスクからスレーブディスクへと情報を磁気転写し、そ
のスレーブディスクをMFMで観察した。その結果、ス
レーブディスクの強磁性層には上記凸部に対応する磁気
パターンは良好には転写されていなかった。
【0060】また、1枚のマスターディスクを用いて、
数枚のスレーブディスクに対して上述した磁気転写を行
った。その後、マスターディスクの強磁性層をSEMで
観察した。
【0061】図11は、比較例1に係るマスターディス
クの磁気転写を数回繰り返した後の状態を示すSEM写
真である。図11において、黒ずんで見える円形部は凸
部が剥離した部分である。このように、本比較例に係る
マスターディスクは、磁気転写を数回繰り返しただけ
で、傷や凸部の剥離などを生じた。これは、本比較例に
係るマスターディスクは個々の凸部が島状に及び小さな
サイズに形成されているため凸部の剥離を生じ易い構造
であること、及び、凹部に比べて凸部が占める面積が過
剰に狭いためにマスターディスクとスレーブディスクと
を密着させる際に高圧が凸部に加えられ且つそれらディ
スク間でのズレを生じ易いことに起因しているものと考
えられる。
【0062】なお、このように、ある凸部で剥離を生じ
た場合、例え、欠落部が凸部上面だけであったとして
も、その凸部の高さは他の凸部の高さよりも低くなる。
そのため、この場合、全ての凸部の上面をスレーブディ
スクの強磁性層に接触させることは極めて困難となる。
すなわち、マスターディスクの凸部の剥離がたとえ僅か
であったとしても、もはや高い磁気転写効率を実現する
ことはできない。
【0063】(実施例2)図8は、本発明の実施例2に
係るマスターディスク1に形成する凹凸パターンを概略
的に示す平面図である。本実施例では、図8に示す凹凸
パターンを形成したこと以外は実施例1で説明したのと
同様の方法によりマスターディスク1を作製した。な
お、本実施例においても、凹部3bは、スレーブディス
ク5に記録すべき情報に対応している。
【0064】このマスターディスク1を用いたこと以外
は実施例1で説明したのと同様の方法により、マスター
ディスク1からスレーブディスク5へと情報を磁気転写
し、そのスレーブディスク5をMFMで観察した。その
結果、スレーブディスク5の強磁性層7には上記凹部3
bに対応する磁気パターンが良好に転写されていた。
【0065】次に、このマスターディスク1の耐久性を
調べた。その結果、磁気転写の繰り返し回数が30回程
度までは非常に良好に磁気パターンを転写することがで
きた。また、磁気転写の繰り返し回数が50回程度から
スレーブディスク5の磁気パターンの輪郭はやや不明瞭
となったが、300回程度までは良好な転写を行うこと
ができた。
【0066】(実施例3)図9は、本発明の実施例3に
係るマスターディスク1を概略的に示す斜視図である。
図9に示すマスターディスク1の強磁性層3は、領域1
5と領域16とを有している。領域15は、プリフォー
マット情報が記録されるプリフォーマット領域に対応し
ており、凸部3aと凹部3bとで構成されている。一
方、領域16は、ユーザが磁気記録装置を使用すること
により情報が書き込まれるユーザ領域に対応しており、
凸部3aのみで構成されている。
【0067】本実施例では、領域15のみに図8に示す
凹凸パターンを形成したこと以外は実施例1で説明した
のと同様の方法によりマスターディスク1を作製した。
なお、本実施例においても、凹部3bは、スレーブディ
スク5に記録すべき情報に対応している。また、本実施
例において、凸部3aの上面の総面積に対する凹部3b
の底面の総面積の比は1/10である。
【0068】このマスターディスク1を用いたこと以外
は実施例1で説明したのと同様の方法により、マスター
ディスク1からスレーブディスク5へと情報を磁気転写
し、そのスレーブディスク5をMFMで観察した。その
結果、スレーブディスク5の強磁性層7には上記凹部3
bに対応する磁気パターンが良好に転写されていた。
【0069】次に、このマスターディスク1の耐久性を
調べた。その結果、磁気転写の繰り返し回数が1000
回を超えても凸部3aの剥離等は生じず、非常に良好に
磁気パターンを転写することができた。
【0070】(比較例2)図12は、比較例2に係るマ
スターディスクに形成する凹凸パターンを概略的に示す
平面図である。図12に示す凹凸パターンにおいて、凸
部103aと凹部103bとは市松模様状に配列してい
る。すなわち、図12に示す凹凸パターンにおいて、凹
部103bは島状の凸部103aが形成されるように設
けられている。
【0071】本比較例では、プリフォーマット領域のみ
に図12に示す凹凸パターンを形成したこと以外は実施
例3で説明したのと同様の方法によりマスターディスク
を作製した。なお、本比較例においても、凹部103b
は、スレーブディスクに記録すべき情報に対応してい
る。また、本比較例において、凸部103aの上面の総
面積に対する凹部103bの底面の総面積の比は1/1
0よりも大きい。
【0072】このマスターディスクの耐久性を調べたと
ころ、磁気転写を数回繰り返しただけで良好な転写がで
きなくなった。そこで、磁気転写を数回繰り返した後の
マスターディスクをSEMで観察したところ、プリフォ
ーマット領域で凸部103aが剥離している箇所が多数
見られた。
【0073】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、磁気
記録媒体へ情報を磁気転写する際にマスター媒体として
用いられる磁気転写媒体において、磁気転写されるべき
情報を凹部として設けるのに加え、それら凹部を島状の
凸部が形成されないように配列させる。そのため、本発
明では、磁気転写媒体と磁気記録媒体との接触面積を十
分に大きくすること、及び、個々の凸部のサイズを十分
に大きくすることができる。したがって、凸部の表面を
硬質膜などで保護することなく十分な耐久性を実現する
ことができる。すなわち、本発明によると、高い磁気転
写効率及び高い耐久性の双方を実現し得る磁気転写媒体
及び磁気転写方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る磁気転写方法を概略
的に示す断面図。
【図2】(a)は図1に示す磁気転写媒体の凸部及び凹
部が形成する凹凸パターンの一例を示す平面図、(b)
は図1に示す磁気転写媒体の凸部及び凹部が形成する凹
凸パターンの他の例を示す平面図。
【図3】本発明の一実施形態に係る磁気転写方法を実施
するのに利用され得る磁気転写装置のディスクホルダを
概略的に示す断面図。
【図4】本発明の一実施形態に係る磁気転写方法を実施
するのに利用され得る磁気転写装置の加圧部を概略的に
示す断面図。
【図5】本発明の一実施形態に係る磁気転写方法を実施
するのに利用され得る磁気転写装置の磁界印加部を概略
的に示す図。
【図6】本発明の実施例に係る磁気転写媒体を概略的に
示す切開斜視図。
【図7】本発明の実施例1に係る磁気転写媒体の磁気転
写を20回繰り返した後の状態を示すSEM写真。
【図8】本発明の実施例2に係る磁気転写媒体に形成す
る凹凸パターンを概略的に示す平面図。
【図9】本発明の実施例3に係る磁気転写媒体を概略的
に示す斜視図。
【図10】(a)及び(b)は、従来の磁気転写方法を
概略的に示す断面図。
【図11】比較例1に係る磁気転写媒体の磁気転写を数
回繰り返した後の状態を示すSEM写真。
【図12】比較例2に係る磁気転写媒体に形成する凹凸
パターンを概略的に示す平面図。
【符号の説明】
1…磁気転写媒体; 2…非磁性体基板; 3…強磁性
層; 3a…凸部;3b…凹部; 5…磁気記録媒体;
6…非磁性体基板; 7…強磁性層;11…矢印;
12…矢印; 15…領域; 16…領域;31…ディ
スクホルダ; 32…支持構造; 33…載置部;34
…押え部材; 35…弾性部材; 36…モータ;37
…アクチュエータ; 38…窓; 39…CCD; 4
0…弾性体;41…冷却水路; 42…熱電線; 45
…加圧部; 46…真空チャンバ;47…給排気口;
48…アーム; 50…磁界印加部;51…マグネッ
ト; 101…マスターディスク; 113…矢印;1
03a…凸部; 103b…凹部 105…スレーブデ
ィスク;106…非磁性体基板; 107…強磁性層;
111…矢印;112…矢印; 115…漏洩磁界;

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性体基板と前記非磁性体基板上に形
    成された強磁性層とを具備し、マスター媒体からスレー
    ブ媒体へと情報を磁気転写する際に前記マスター媒体と
    して用いられる磁気転写媒体であって、 前記強磁性層の表面は複数の凹部と前記複数の凹部に隣
    接する少なくとも1つの凸部とで構成され、前記複数の
    凹部は前記少なくとも1つの凸部のそれぞれを取り囲ん
    で孤立化させることなく前記磁気転写される情報として
    設けられたことを特徴とする磁気転写媒体。
  2. 【請求項2】 前記複数の凹部は互いに離間されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の磁気転写媒体。
  3. 【請求項3】 前記複数の凹部の少なくとも一部は互い
    に連結されていることを特徴とする請求項1に記載の磁
    気転写媒体。
  4. 【請求項4】 前記スレーブ媒体は磁気記録装置に搭載
    される磁気記録媒体であり、前記情報は前記磁気記録装
    置がその磁気ヘッドの前記磁気記録媒体に対する相対位
    置及び相対速度の少なくとも一方を制御するのに利用す
    るプリフォーマット情報であることを特徴とする請求項
    1乃至請求項3のいずれか1項に記載の磁気転写媒体。
  5. 【請求項5】 第1の非磁性体基板と前記第1の非磁性
    体基板上に形成された第1の強磁性層とを具備するスレ
    ーブ媒体に磁場を作用させて前記第1の強磁性層の磁化
    の方向を揃える工程と、 第2の非磁性体基板と前記第2の非磁性体基板上に形成
    された第2の強磁性層とを具備し且つ前記第2の強磁性
    層の表面が複数の凹部と前記複数の凹部に隣接する少な
    くとも1つの凸部とからなる磁気転写媒体をマスター媒
    体として用いて、前記マスター媒体から前記スレーブ媒
    体に情報を磁気転写する工程とを含み、 前記複数の凹部は前記少なくとも1つの凸部のそれぞれ
    を取り囲んで孤立化させることなく前記磁気転写される
    情報として設けられたことを特徴とする磁気転写方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009070473A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Fujifilm Corp 磁気転写用マスター担体及び磁気転写方法、並びに磁気記録媒体
JP2009230826A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Fujifilm Corp 磁気転写方法及び磁気記録媒体
JP2009245559A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp 磁気転写用マスター担体及び磁気記録媒体

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